JP2008166733A - ディスプレイ用フィルター及びその製造方法並びにディスプレイの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに反射防止層等の機能層を積層した積層体で構成され、かつ積層体の周辺部にディスプレイ筐体との導通を取ることができる電極を有するディスプレイ用フィルターを提供する。
【解決手段】プラスチックフィルム上に導電性メッシュからなる導電層を有し、更に導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能の内、少なくとも１つの機能を有する機能層が積層された積層体で構成され、導電性メッシュが、プラスチックフィルム上に接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングし、かつ積層体の周辺部の少なくとも一部に積層体の機能層側表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を有する。
【選択図】図２

Description

本発明は、ディスプレイ用フィルター及びその製造方法、並びにディスプレイの製造方法に関する。

液晶ディスプレイ（以下、ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（以下、ＰＤＰ）などのディスプレイは、明瞭なフルカラー表示が可能な表示装置である。ディスプレイには、通常、外光の反射の防止、ディスプレイから発生する電磁波の遮蔽、ディスプレイの保護などを目的とした前面フィルター（以降、単にフィルターと称す）がディスプレイの視認側に配置される。特にＰＤＰはその構造や動作原理上、強度な電磁波が発生するため、人体や他の機器に与える影響が懸念されており、電磁波遮蔽機能と反射防止機能が付与されたフィルターが通常用いられている。

一般的なフィルターは、反射防止機能、色調整機能、近赤外線遮断機能等を有する光学機能性フィルムと導電層（電磁波遮蔽層）が設けられたプラスチックフィルム（電磁波遮蔽フィルム）とを接着層を介して積層して形成されている。

近年、ディスプレイの低価格化に伴ってフィルターも低価格化を余儀なくされている。上記したような２枚のフィルムからなるフィルターに対して、プラスチックフィルムを１枚のみにすることによって低価格化が可能となる。このような１枚のプラスチックフィルムからなるフィルターとして、例えば、プラスチックフィルムの一方の面に反射防止層を有し、他方の面に導電層（電磁波遮蔽層）を有するフィルター、あるいはプラスチックフィルム上に導電層を設け更にその上に反射防止層を積層したフィルター（特許文献１〜３）が提案されている。

一方、フィルターをディスプレイに装着したときに、フィルターの導電層とディスプレイ筐体（外部電極）とを電気的に接続するための電極がフィルターに設けられている。
導電層に電極を形成する方法として、導電層の外周端縁部を剥き出しにする方法が従来から行われている。この方法では、導電層の外周端縁部の剥き出し部分が電極となる。この導電層の剥き出し部分（以降、剥き出し電極という）の形成は、前述した２枚のフィルムから成るフィルターの場合は、導電層を有する電磁波遮蔽フィルムより小さいサイズの光学機能性フィルムを積層することによって形成され、後者の導電層上に反射防止層をコーティング等によって積層した１枚のフィルムから成るフィルターの場合は、導電層の端部が露出するように反射防止層をコーティングすることによって形成することができる。

十分な電磁波遮蔽性能を確保するためには、長方形状のフィルターの４辺に電極を設けることが好ましいが、上記した剥き出し電極を４辺に設けるためには、前者のフィルターの場合は電磁波遮蔽フィルムと機能性フィルムとをシート同士で積層（シート・ツー・シート積層方式）する必要がある。しかしながら、このシート・ツー・シート積層方式は生産性に劣るという欠点がある。

一方、後者のプラスチックフィルム上に予め形成された導電層の上に更にコーティング等によって反射防止層を積層する場合は、一般的なコーティング生産ラインにおいて４辺に剥き出し電極を形成することは不可能である。一般的なコーティング生産ラインでは、ロール・ツー・ロール方式で連続塗布が行われており、反射防止層の塗布幅を調整し、導電層の幅方向両端部に未塗布部を設けることによって２辺に剥き出し電極を形成することはできるが、コーティングの流れ方向に対して直交する方向については、シート状に切断した後に電極を形成する必要がある。

連続生産ラインで製造したロール状フィルターを最終仕様サイズにシートカットした後に電極を形成する方法が知られている。例えば、レーザー等で切り込み線を入れ、その切り込み線に沿って透明フィルムと接着層を剥離除去して端縁部に剥き出し電極を形成する方法（特許文献４）、レーザー等で５〜２０ｍｍの間隔の２本の切り込み線を入れ、透明フィルムと接着材を帯状に剥離して導電層を露出させる方法、及び露出した部分に粘着材が残留して粘着性が残るのを防止するために露出部分に導電塗料を薄く塗布する方法が提案されている（特許文献５）。

上記特許文献４、５に記載された電極形成方法は、前述したような電磁波遮蔽フィルムと光学機能性フィルム（透明フィルム）とを接着層を介して積層したフィルターを対象としたものである。当該技術は、レーザー等で切り込み線を入れ、この切り込み線に沿って、導電層と接着層との界面から物理的に剥離するというものである。言い換えれば、接着層の介在が物理的剥離を可能にしている。

本発明が対象とするフィルターは、導電層と反射防止機能等を有する機能層とはプラスチックフィルム及び接着層を介さずに積層されたものであり、上記特許文献の電極形成方法では導電層上の機能層を剥離することは困難である。
特開２０００−２１４３２１号公報 特開２００１−２５３００８号公報 特開２００６−５４３７７号公報 特開２００２−４３７９１号公報 特開２００４−３２７７２０号公報

従って、本発明の目的は、低価格化を図るために導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに反射防止層等の機能層を積層した積層体で構成され、かつ積層体の周辺部にディスプレイ筐体との導通を取ることができる電極を有するディスプレイ用フィルター、及びその製造方法を提供することにある。本発明の他の目的は、上記積層体を用いたディスプレイの製造方法を提供することにある。

本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
（１）プラスチックフィルム上に導電性メッシュからなる導電層を有し、
前記導電性メッシュが、プラスチックフィルム上に接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られたものであり、
更に導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも１つの機能を有する機能層が積層された積層体で構成され、
かつ積層体の周辺部の少なくとも一部に積層体の機能層側表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
（２）前記導電層の厚みが０．２〜６μｍの範囲である、上記１に記載のディスプレイ用フィルター
（３）前記機能層の合計の厚みが１〜２０μｍの範囲である、上記１または２に記載のディスプレイ用フィルター。
（４）前記空隙が、破線状もしくは連続直線状であって、かつ幅が０．３〜３ｍｍの溝状空隙である、上記１〜３のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
（５）前記空隙に導電性材料が配置された、上記１〜４のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルター。
（６）前記空隙を覆うように導電性粘着テープが貼り付けられた、上記１〜５のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルター。
（７）更に、近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、及び透過率調整機能の中から選ばれる少なくとも１つの機能を有する、上記１〜６のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルター。
（８）ディスプレイ用フィルターの製造方法であって、
プラスチックフィルム上に、接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られた、導電性メッシュからなる導電層を形成する工程、
次いで導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも１つの機能を有する機能層を塗工して積層体を得る工程、
次いで積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射して、積層体表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成する工程
、を少なくとも有する、ディスプレイ用フィルターの製造方法。
（９）前記積層体を得る工程の中に、更に機能層側の表面にカバーフィルムを積層する工程を有し、前記空隙を形成する工程がカバーフィルム表面からレーザーを照射して導電層に達する空隙を形成する工程である、上記８に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。
（１０）前記空隙を形成する工程に次いで、更に、空隙に導電性材料を配置する工程を有する、上記８または９に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。
（１１）ディスプレイの製造方法であって、
プラスチックフィルム上に、接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られた、導電性メッシュからなる導電層を有し、
更に導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも１つの機能を有する機能層が積層された積層体を、
機能層の反対面がディスプレイ側になるようにディスプレイに装着した後、積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射して積層体表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成する、ディスプレイの製造方法。
（１２）前記機能層の上に更にカバーフィルムを有するカバーフィルム付き積層体をディスプレイに装着した後、積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射してカバーフィルム表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成し、カバーフィルムを剥離除去する、上記１１に記載のディスプレイの製造方法。
（１３）前記空隙を形成した後に、更に、空隙に導電性材料を配置する、上記１１または１２に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。
（１４）前記空隙を覆うように導電性粘着テープを貼り付ける、上記１２に記載のディスプレイの製造方法。
（１５）カバーフィルムを剥離除去した後、空隙を覆うように導電性粘着テープを貼り付ける、上記１３に記載のディスプレイの製造方法。
（１６）ディスプレイの製造方法であって、
プラスチックフィルム上に、接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られた、導電性メッシュからなる導電層を形成する工程、
次いで導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも１つの機能を有する機能層を塗工して積層体を得る工程、積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射して、積層体表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成する工程、
を経て得られたディスプレイ用フィルターを、機能層の反対面がディスプレイ側になるようにディスプレイに装着した後、ディスプレイ用フィルターに形成された空隙を覆うように導電性粘着テープを貼り付ける、ディスプレイの製造方法。
の製造方法。
（１７）前記積層体を得る工程の中に、更に機能層側の表面にカバーフィルムを積層する工程を有し、前記空隙を形成する工程がカバーフィルム表面からレーザーを照射して導電層に達する空隙を形成する工程であり、ディスプレイ用フィルターをディスプレイに装着した後、カバーフィルムを剥離除去し、次いでディスプレイ用フィルターに形成された空隙を覆うように導電性粘着テープを貼り付ける、上記１６に記載のディスプレイの製造方法。

本発明によれば、プラスチックフィルムの数を減らして低価格化を図った積層体を用いたディスプレイ用フィルターであって、かつディスプレイ筐体との導通が容易にかつ十分に得られる電極を有するディスプレイ用フィルターを提供することができる。

本発明のディスプレイ用フィルターを構成する積層体は、少なくともプラスチックフィルム、導電性メッシュからなる導電層、及び機能層をこの順に有し、導電層と機能層との間にはプラスチックフィルム及び接着層は介在しない。ここで、接着層は粘着材あるいは接着材で構成される層を意味する。詳しくは後述するが、本発明は前記導電性メッシュが、プラスチックフィルム上に接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られたものであり、また、機能層は導電層上に塗工方式によって形成されるのが好ましい。

本発明のディスプレイ用フィルターは、ディスプレイに装着したとき、導電層に対してプラスチックフィルムはディスプレイ側に、機能層は視認側に配置される。以下、本発明のディスプレイ用フィルターを構成する積層体について詳しく説明する。

本発明において、機能層は、反射防止機能、防眩機能、及びハードコート機能の中から選ばれる少なくとも１つの機能を有する。機能層は単一層であっても複数層で構成されていてもよく、また複数の機能を併せ持った層であってもよい。以下に機能層を構成する反射防止機能、防眩機能、及びハードコート機能を有する層について具体的に説明する。

反射防止機能を有する層（反射防止層）は、ディスプレイの画像表示に影響を与える蛍光灯などの外光の反射や映り込みを防止するものである。反射防止層は、表面の視感反射率が５％以下であることが好ましく、４％以下がより好ましく、特に３％以下であることが好ましい。ここで視感反射率は、分光光度計等を使用して可視領域波長（３８０〜７８０ｎｍ）の反射率を測定し、ＣＩＥ１９３１システムに準じて計算された視感反射率（Ｙ）である。

このような反射防止層としては、高屈折率層と低屈折率層とを低屈折率層が視認側になるように２層以上積層したものを用いることが好ましい。高屈折率層の屈折率は１．５〜１．７の範囲が好ましく、特に１．５５〜１．６９の範囲が好ましい。低屈折率層の屈折率は１．２５〜１．４９の範囲が好ましく、特に１．３〜１．４５の範囲が好ましい。

高屈折率層を形成する材料としては、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートなどを重合硬化させたもの、あるいはシリコーン系、メラミン系、エポキシ系の架橋性樹脂原料を架橋硬化させたもの等の有機系材料、酸化インジウムを主成分としこれに二酸化チタンなどを少量含ませたもの、あるいはＡｌ₂ Ｏ₃ 、ＭｇＯ、ＴｉＯ₂ 等の無機系材料が挙げられる。これらの中でも、有機系材料が好ましく用いられる。以下に本発明の高屈折率層の好ましい態様を説明する。

本発明において、高屈折率層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂、含リン系樹脂、含スルフィド樹脂、含ハロゲン樹脂などの樹脂成分を単体または混合系で用いることが出来るが、特に、硬度と耐久性などの点から、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂を用いるのが好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点から、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂が好ましい。特に、（メタ）アクリレート系樹脂は、活性エネルギー線照射によって容易にラジカル重合が起こり、形成される膜の耐溶剤性や硬度が向上するので好ましい。かかる（メタ）アクリレート系樹脂として、例えばペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）−イソシアヌル酸エステルトリ（メタ）アクリレート等の３官能（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の４官能以上の（メタ）アクリレート等が挙げられる。

高屈折率層には、更にカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基等の酸性官能基を有する（メタ）アクリレート化合物（モノマー）を使用することができる。具体的には、酸性官能基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸などの不飽和カルボン酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、ジフェニル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチルホスフェート等のリン酸（メタ）アクリル酸エステル、２−スルホエステル（メタ）アクリレート等が挙げられる。その他、アミド結合、ウレタン結合、エーテル結合などの極性を持った結合を有する（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。

高屈折率層には、塗布した樹脂成分の硬化を進めるために開始剤を含有させてもよい。該開始剤としては、塗布した樹脂成分を、ラジカル反応、アニオン反応、カチオン反応等による重合および／または架橋反応を開始あるいは促進せしめるものであり、従来から公知の各種光重合開始剤が使用可能である。

かかる光重合開始剤としては、具体的には、ソジウムメチルジチオカーバメイトサルファイド、ジフェニルモノサルファイド、ジベンゾチアゾイルモノサルファイド及びジサルファイド等のサルファイド類や、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン誘導体や、ヒドラゾン、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物や、ベンゼンジアゾニウム塩等のジアゾ化合物や、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−クロロアントラキノン等の芳香族カルボニル化合物や、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、Ｄ−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸イソプロピル等のジアルキルアミノ安息香酸エステルや、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等の過酸化物や、９−フェニルアクリジン、９−ｐ−メトキシフェニルアクリジン、９−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジン等のアクリジン誘導体や、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、９−メチルベンズフェナジン、１０−メトキシベンズフェナジン等のフェナジン誘導体や、６，４’，４”−トリメトキシ−２、３−ジフェニルキノキサリン等のキノキサリン誘導体や、２，４，５−トリフェニルイミダゾイル二量体、２−ニトロフルオレン、２，４，６−トリフェニルピリリウム四弗化ホウ素塩、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、３，３’−カルボニルビスクマリン、チオミヒラーケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等が挙げられる。

また、高屈折率層には、上記開始剤の酸素阻害による感度の低下を防止するために、光重合開始剤にアミン化合物を共存させてもよい。このようなアミン化合物としては、例えば、脂肪族アミン化合物や、芳香族アミン化合物等の不揮発性のものであれば、特に限定されないが、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等が好ましい。

また、高屈折率層には、金属酸化物微粒子を含有してもよい。これによって帯電防止効果が得られる。金属酸化物微粒子としては錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子等が好ましく、より好ましくは錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）である。

かかる金属酸化物粒子は、平均粒子径（ＢＥＴ法により測定される非表面積（ＪＩＳ Ｒ１６２６：１９９６年）に基づく球相当径分布から計算される算術平均粒子径（ＪＩＳ Ｚ８８１９−１：１９９９年およびＺ８８１９−２：２００１年）が０．５μｍ以下の粒子が好適に使用されるが、より好ましくは、０．００１〜０．３μｍ、更に好ましくは０．００５〜０．２μｍの粒子径のものが用いられる。該平均粒子径が、この範囲を超えると高屈折率層の透明性を低下させ、この範囲未満では、該粒子が凝集し易くヘイズ値が増大する場合がある。金属酸化物粒子の含有量は、樹脂成分に対して、０．１〜２０質量％の範囲が好ましい。

更に、高屈折率層には、重合禁止剤、硬化触媒、酸化防止剤、分散剤等の各種添加剤を含有することができる。

高屈折率層の厚みは、ハードコート層を設けない場合は、０．５〜２０μｍの範囲が好ましく、１〜１０μｍの範囲がより好ましく、２〜６μｍの範囲がより好ましい。ハードコートを設ける場合は、０．０１〜５μｍの範囲が好ましく、０．０５〜２μｍの範囲がより好ましい。

反射防止層を構成する低屈折率層は、含フッ素ポリマー、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル、含フッ素シリコーン等の有機系材料、ＭｇＦ₂ 、ＣａＦ₂ 、ＳｉＯ₂ 等の無機系材料で構成することができる。以下に低屈折率層の好ましい態様を例示する。

低屈折率層の１つの好ましい態様として、ＭｇＦ₂やＳｉＯ₂等の薄膜を真空蒸着法やスパッタリング、プラズマＣＶＤ法等の気相法により形成する方法、或いはＳｉＯ₂ゾルを含むゾル液からＳｉＯ₂ゲル膜を形成する方法等が挙げられる。

低屈折率層の他の好ましい態様として、シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分とする構成を採用することができる。なお、ここで言う「結合」とは、シリカ系微粒子のシリカ成分とマトリックスのシロキサンポリマーが反応して均質化している状態を意味する。シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーは、該シリカ系微粒子の存在下、多官能性シラン化合物を溶剤中、酸触媒により、公知の加水分解反応によって、一旦シラノール化合物を形成し、公知の縮合反応を利用することによって得ることができる。

かかる多官能性シラン化合物としては、多官能性フッ素含有シラン化合物を含むことが低屈折率化、防汚性の点から好ましく、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシランなどの３官能性フッ素含有シラン化合物、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシランなどの２官能性フッ素含有シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点から、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシランが、より好ましい。

かかる多官能性フッ素非含有シラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジグリシジル）アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシシプロピルトリメトキシシランなどの３官能性シラン化合物、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルジメトキシシラン、オクタデシルメチルジメトキシシランなどの２官能性シラン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどの４官能性シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点からビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランが、より好ましい。

また、上述のシリカ系微粒子としては、平均粒子径１ｎｍ〜２００ｎｍのシリカ系微粒子であることが好ましく、特に好ましくは、平均粒子径１ｎｍ〜７０ｎｍである。平均粒子径が１ｎｍを下回ると、マトリックス材料との結合が不十分となり、硬度が低下することがある。一方、平均粒子径が２００ｎｍを越えると、粒子を多く導入して生じる粒子間の空隙の発生が少なくなり、低屈折率化の効果が十分発現しないことがある。さらに、かかるシリカ系微粒子の中でも、内部に空洞を有する構造のものが、屈折率を低下させるために、特に好ましく使用される。

かかる内部に空洞を有するシリカ系微粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ系微粒子、多数の空洞部を有する多孔質のシリカ系微粒子等が挙げられ、いずれも好適に用いられる。このような例としては例えば、特許第３２７２１１１号公報に開示されている方法によって製造でき、微粒子内部の空洞の占める体積、すなわち微粒子の空隙率としては、５％以上が好ましく、３０％以上がさらに好ましい。空隙率は、例えば、水銀ポロシメーター（商品名：ボアサイザー９３２０−ＰＣ２、（株）島津製作所製）を用いて測定することができる。また、該微粒子自体の屈折率は、１．２０〜１．４０であるのが好ましく、１．２０〜１．３５であるのがより好ましい。このようなシリカ系微粒子としては、例えば特開２００１−２３３６１１号公報に開示されているものや、特許第３２７２１１１号公報等の一般に市販されているものを挙げることができる。
低屈折率層の厚みは、０．０１〜０．４μｍの範囲が好ましく、０．０２〜０．２μｍの範囲がより好ましい。

防眩機能を有する層（防眩層）は、画像のギラツキを防止するものであり、表面に微小な凹凸を有する膜が好ましく用いられる。防眩層としては、例えば、熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂に粒子を分散させて支持体上に塗布および硬化させたもの、あるいは、熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂を表面に塗布し、所望の表面状態を有する型を押し付けて凹凸を形成した後に硬化させたものなどが用いられる。防眩層は、ヘイズ値（ＪＩＳ Ｋ ７１３６；２０００年）が０．５〜２０％であることが好ましい。

本発明の機能層として、反射防止機能と防眩機能を併せ持つ層を用いることは好ましい態様の１つである。

ハードコート機能を有する層（ハードコート層）は、傷防止のために設けられる。ハードコート層は硬度が高いことが好ましく、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９年）で定義される鉛筆硬度が１Ｈ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましい。上限は９Ｈ程度である。

ハードコート層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などで構成することができる。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂からなるものが好ましい。

活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。

アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどであり、また、メラミンやイソシアヌール酸などの剛直な骨格にアクリル基を結合したものなども用いることができる。

また、反応性希釈剤とは、塗布剤の媒体として塗布工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。

また、市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社；（商品名“ダイヤビーム（登録商標）”シリーズなど）、長瀬産業株式会社；（商品名“デナコール（登録商標）”シリーズなど）、新中村株式会社；（商品名“ＮＫエステル”シリーズなど）、大日本インキ化学工業株式会社；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ（登録商標）”シリーズなど）、東亜合成化学工業株式会社；（商品名“アロニックス（登録商標）”シリーズなど）、日本油脂株式会社；（商品名“ブレンマー（登録商標）”シリーズなど）、日本化薬株式会社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）”シリーズなど）、共栄社化学株式会社；（商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズなど）などの製品を利用することができる。

ハードコート層形成組成物を構成するアクリル化合物の代表的なものを例示すると、１分子中に３個以上、より好ましくは４個以上、さらに好ましくは５個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの少なくとも１種と、１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の少なくとも１種とからなる混合物を主たる構成成分とし、活性エネルギー線硬化または熱硬化によって得られるハードコート層が、硬度、耐摩耗性および可撓性に優れている点で好ましく用いられる。（メタ）アクリロイルオキシ基が多すぎる場合には、単量体は高粘度となり取り扱いし難くなり、また、高分子量とならざるを得なくなって塗布液として用いることが困難となるので、１分子中の（メタ）アクリロイルオキシ基は好ましくは１０個以下である。

１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーとしては、１分子中に３個以上のアルコール性水酸基を有する多価アルコールの該水酸基が、３個以上の（メタ）アクリル酸のエステル化物となっている化合物などを挙げることができる。具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。これらの単量体およびプレポリマーは、１種または２種以上を混合して使用することができる。特にこれらの内、少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物は、後述するイソシアネートとの併用により、ハードコート層と隣接層との接着性を向上させることができるので特に好ましい。

これらの１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの使用割合は、ハードコート層形成組成物総量に対して２０〜９０質量％が好ましく、より好ましくは３０〜８０質量％、最も好ましくは３０〜７０質量％である。

上記１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して２０質量％未満の場合には、十分な耐摩耗性を有する硬化被膜を得るという点で不十分な場合がある。また、上記１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して９０質量％を超える場合は、硬化による収縮が大きく、硬化被膜に歪が残ったり、被膜の可撓性が低下したり、硬化被膜側に大きくカールするなどの不都合を招く場合がある。

また、これらの内、少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物の使用割合は、ハードコート層形成組成物総量に対して１０〜８０質量％が好ましく、より好ましくは２０〜７０質量％、最も好ましくは３０〜６０質量％である。少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して１０質量％未満の場合には、ハードコート層と隣接層との接着性を向上させる効果が小さい場合がある。少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して８０質量％を超える場合は、ハードコート層内の架橋密度が低下して、硬度が低下する傾向がある。

次に、１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、ラジカル重合性のある通常の単量体ならば特に限定されずに使用することができる。

また、分子内に２個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、下記（ａ）〜（ｆ）の（メタ）アクリレート等を用いることができる。

すなわち、（ａ）炭素数２〜１２のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートなど；
（ｂ）ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリレート酸ジエステル類：ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなど；
（ｃ）多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートなど；
（ｄ）ビスフェノールＡあるいはビスフェノールＡの水素化物のエチレンオキシドおよびプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類：２，２’−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２’−ビス（４−アクリロキシプロポキシフェニル）プロパンなど；
（ｅ）ジイソシアネート化合物と２個以上のアルコール性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端イソシアネート基含有化合物に、さらにアルコール性水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られる分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するウレタン（メタ）アクリレート類など、および；
（ｆ）分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物にアクリル酸またはメタクリル酸を反応させて得られる分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するエポキシ（メタ）アクリレート類など。
分子内に１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−およびｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−、ｓｅｃ−、およびｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−３−メチルピロリドン、Ｎ−ビニル−５−メチルピロリドンなどを用いることができる。これらの単量体は、１種または２種以上混合して使用してもよい。

これらの１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合は、ハードコート層形成組成物総量に対して１０〜５０質量％が好ましく、より好ましくは２０〜４０質量％である。１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合がハードコート層形成組成物総量に対して５０質量％を超える場合には、十分な耐摩耗性を有する硬化被膜が得られにくくなる場合がある。また、１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合がハードコート層形成組成物総量に対して１０質量％未満の場合には、被膜の可撓性が低下したり、基材フィルム上に設けた積層膜との接着性が低下する場合がある。

本発明において、ハードコート形成組成物を硬化させる方法としては、例えば、活性エネルギー線として紫外線を照射する方法や高温加熱法等を用いることができる。これらの方法を用いる場合には、前記ハードコート層形成組成物に、光重合開始剤または熱重合開始剤等を加えることが望ましい。

光重合開始剤の具体的な例としては、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。また、熱重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイドまたはジ−ｔ−ブチルパーオキサイドなどのパーオキサイド化合物などを用いることができる。

光重合開始剤または熱重合開始剤の使用量は、ハードコート層形成組成物総量に対して０．０１〜１０質量％が適当である。電子線またはガンマ線を硬化手段とする場合には、必ずしも重合開始剤を添加する必要はない。また２２０℃以上の高温で熱硬化させる場合には、熱重合開始剤の添加は必ずしも必要ではない。

本発明におけるハードコート層形成組成物は、ポリイソシアネート化合物を含有していることが好ましい。ポリイソシアネート化合物としては、例えば、２，４−および／または２，６−トリレンジイソシアネート、４，４'−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ポリメリックＭＤＩ、１，５−ナフチレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、水添ＸＤＩ、水添ＭＤＩ、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフォスフェート等の少なくとも２量体以上のものが挙げられる。これらポリイソシアネート化合物は、単独または２種以上を混合して使用することができる。

これらのポリイソシアネート化合物および／またはその誘導体は、前記したハードコート層形成組成物に混合されて塗布される。上記ポリイソシアネート化合物および／またはその誘導体の配合量は、接着性、表面硬度、耐湿熱性および虹彩模様低減の点で、ハードコート層形成組成物総量に対し、好ましくは０．５〜５０質量％、より好ましくは１〜３０質量％、さらに好ましくは３〜２０質量％である。上記ポリイソシアネート化合物および／またはその誘導体の配合量が、ハードコート層形成組成物総量に対して０．５質量％未満の場合には、接着性向上効果が不足したり、虹彩模様の低減が不十分な場合があり、また上記配合量が５０質量％を超えると表面硬度が低下する場合がある。

上記ポリイソシアネートを添加したハードコート層形成組成物は、その硬化効率を高める目的で有機金属触媒を含有させることも好ましい。

有機金属触媒は、特に限定されるものではなく、有機錫化合物、有機アルミニウム化合物、有機４Ａ族元素（チタン、ジルコニウムまたはハフニウム）化合物などが挙げられるが、安全性を考慮した場合、非錫系金属触媒である有機ジルコニウム化合物、有機アルミニウム化合物、および、有機チタン化合物から選ばれたものが好ましく適用される。有機錫化合物としては、テトラブチル錫、テトラオクチル錫、ジブチル錫ジクロライド、ジブチル錫ジラウリレートなどのジブチル錫脂肪酸塩、ジオクチル錫ジラウリレートなどのジオクチル錫脂肪酸塩が例示できる。

有機ジルコニウム化合物、有機アルミニウム化合物、有機ハフニウム化合物、有機チタン化合物としては、これらの金属のオルトエステルとβ−ケトエステル（βジケトン）の反応生成物が例示され、具体的にはジルコニウムテトラ−ｎ−プロポキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−ｎ−プロポキシド、チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド、アルミニウムテトラ−ｎ−プロポキシド、アルミニウムテトライソプロポキシド、アルミニウムテトラ−ｎ−ブトキシドなどの金属オルトエステルと、アセチルアセトン、メチルアセテート、エチルアセトアセテート、ｎ−プロピルアセトアセテート、イソプロピルアセトアセテート、ｔ−ブチルアセトアセテートなどのβケトエステル（βジケトン）との反応生成物を挙げることができる。金属オルトエステルとβジケトエステル（βジケトン）の混合モル比率は４：１〜１：４程度が好ましく、より好ましくは２：１〜１：４である。４：１より金属オルトエステルが多い場合は触媒の反応性が高すぎてポットライフが短くなりやすく、１：４よりβジケトエステルが多い場合は触媒活性が低下するため好ましい態様では無い。上記有機金属系触媒の配合量はハードコート形成組成物総量に対して０．００１〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．０１〜５質量％、さらに好ましくは０．０１〜２質量％である。上記の配合比率が０．００１質量％より少ない場合には触媒添加効果が低く、１０質量％より多くすることは経済的見地から好ましくない。

上記したハードコート層形成組成物の好ましい態様としては、少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物１０〜８０質量％、イソシアネート化合物１〜３０質量％および必要に応じて有機金属系触媒０．００１から１０質量％の範囲とするのが望ましい。さらに必要に応じて１〜２個のエチレン性不飽和結合を有する単量体を５０質量％以下添加しても良い。

本発明において、ハードコート層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤および帯電防止剤などを用いることができる。

シリコーン系レベリング剤としては、ポリジメチルシロキサンを基本骨格とし、ポリオキシアルキレン基が付加されたものが好ましく、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体（例えば東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）が好適である。

またハードコート層上にさらに積層膜を設ける場合には、接着性を阻害しないアクリル系レベリング剤を適用するのが好ましい。このようなレベリング剤としては「ＡＲＵＦＯＮ−ＵＰ１０００シリーズ、ＵＨ２０００シリーズ、ＵＣ３０００シリーズ（商品名）：東亜合成化学（株）製）などを好ましく用いることができる。レベリング剤の添加量はハードコート形成組成物総量に対して、０．０１〜５質量％の範囲とするのが望ましい。

本発明で用いられる活性エネルギー線としては、紫外線、電子線および放射線（α線、β線、γ線など）などアクリル系のビニル基を重合させる電磁波が挙げられ、実用的には、紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。またさらに、電子線方式は、装置が高価で不活性気体下での操作が必要ではあるが、塗布層中に光重合開始剤や光増感剤などを含有させなくてもよい点で有利である。

本発明で用いられる熱硬化に必要な熱としては、スチームヒーター、電気ヒーター、赤外線ヒーターあるいは遠赤外線ヒーターなどを用いて温度を少なくとも１４０℃以上に加温された空気、不活性ガスを、スリットノズルを用いて基材、塗膜に吹きあてることにより与えられる熱が挙げられ、中でも２００℃以上に加温された空気による熱が好ましく、さらに好ましくは２００℃以上に加温された窒素による熱であることが、硬化速度が早いので好ましい。

ハードコート層の厚さは、０．５〜２０μｍが好ましく、より好ましくは１〜１０μｍであり、特に２〜６μｍが好ましい。ハードコート層の厚さが０．５μｍ未満の場合には十分硬化していても薄すぎるために、表面硬度が十分でなく、傷が付きやすくなる傾向にある。一方、ハードコート層の厚さが２０μｍを超える場合には、折り曲げなどの応力により、硬化膜にクラックが入りやすくなる傾向にある。

ハードコート層には、前述した反射防止層を構成する高屈折率層としての機能を付与することができる。ハードコート層の高屈折率化は、ハードコート層形成用樹脂組成物中に高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子を添加することにより、あるいは高屈折率成分の分子や原子を含んだ樹脂を用いることにより図られる。

前記高屈折率を有する超微粒子は、その粒径が５〜５０ｎｍで、屈折率が１．６５〜２．７程度のものが好ましく、具体的には、例えば、ＺｎＯ（屈折率１．９０）、ＴｉＯ₂（屈折率２．３〜２．７）、ＣｅＯ₂（屈折率１．９５）、Ｓｂ₂ Ｏ₅（屈折率１．７１）、ＳｎＯ₂、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、Ｙ₂Ｏ₃（屈折率１．８７）、Ｌａ₂Ｏ₃（屈折率１．９５）、ＺｒＯ₂（屈折率２．０５）、Ａｌ₂Ｏ₃（屈折率１．６３）等の微粉末が挙げられる。
前記屈折率を向上させる樹脂に含まれる分子及び原子としては、Ｆ以外のハロゲン原子、Ｓ、Ｎ、Ｐの原子、芳香族環等が挙げられる。

本発明は、導電層からの電極取り出しのために積層体の周辺部に空隙を形成するが、後述するようにレーザーを用いて機能層を燃焼・蒸発して空隙を形成するのが好ましく、機能層はレーザー照射によって燃焼・蒸発が可能な構成にするのが好ましい。従って、機能層は有機物を含む構成にするのが好ましく、機能層を構成する全組成に対して樹脂等の有機系材料を３０質量％以上含有するのが好ましく、５０質量％以上含有するのがより好ましく、特に７０質量％以上含有するのが好ましい。

前述したように本発明の機能層は単一層であっても、複数層であってもよい。複数構成の機能層としては、ａ）ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層、ｂ）高屈折率ハードコート層／低屈折率層、ｃ）ハードコート層／防眩層、ｄ）ハードコート層／防眩性反射防止層、等が例示される。

また、機能層が単一層の場合は、複数の機能を併せ持つのが好ましい。かかる単一層の例としては、ｅ）反射防止性ハードコート層、ｆ）防眩性ハードコート層、ｇ）防眩性反射防止ハードコート層、ｈ）防眩性反射防止層、等が例示される。

本発明において、機能層は導電性メッシュからなる導電層上に塗工形成されるのが好ましく、この場合、導電性メッシュを構成する細線で囲まれた開口部を埋めてかつ細線を被覆するように機能層を塗工形成するのが好ましい。従って、機能層の合計厚みは導電層の厚みより大きくするのが好ましい。

機能層の合計厚みは、導電層の厚み（導電性メッシュの細線部の厚み）に対して１３０％以上が好ましく、１５０％以上がより好ましい。ここで、機能層の合計厚みは、上記したように機能層は導電性メッシュの開口部を埋めてかつ細線を被覆するように塗工形成されるので、導電性メッシュの細線部の厚みと細線部上に形成された機能層の厚みとの和である。

図２の符号（Ｍ）が導電層の厚み、即ち、導電性メッシュの細線部の厚みに相当し、符号（Ｎ）が機能層の合計厚みに相当する（図２については、詳しくは後述する）。但し、後述するように、本発明は、機能層の機能を阻害しない範囲で極薄膜の防汚層等を機能層上に積層することができ、その場合、符号（Ｎ）は、機能層と防汚層等を含む厚みであるが、防汚層の厚みは通常数十ｎｍ以下であるので、厚みに対する影響は無視できる程度である。
上記したように、導電層の厚みに対して機能層合計の厚みを大きくすることによって導電性メッシュの凹凸面を十分に埋めて均一化することができる。

機能層の合計厚みとしては、１〜２０μｍの範囲が好ましく、２〜１０μｍの範囲がより好ましく、特に２〜７μｍの範囲が好ましい。

また、導電性メッシュの細線部上に形成された機能層の厚みは、０．５〜４μｍの範囲が好ましく、１〜４μｍの範囲が好ましい。図２の符号（Ｌ）が、導電性メッシュの細線部上に形成された機能層の厚みに相当する。但し、上述したように、本発明は、機能層の機能を阻害しない範囲で極薄膜の防汚層等を機能層上に積層することができ、その場合、符号（Ｌ）は、導電性メッシュの細線部上に形成された機能層と防汚層等を含む厚みであるが、防汚層の厚みは通常数十ｎｍ以下であるので、厚みに対する影響は無視できる程度である。また、後述するように、符号（Ｌ）は導電層表面からフィルターの機能層側最表面までの距離に相当する。

機能層の合計厚みが２０μｍを超えて大きくなると、塗工速度、乾燥速度あるいは硬化速度が低下することによる生産効率ダウン、及び原材料費の増大によって、本発明の所期の目的である低価格化を実現するのが難しくなる。特に機能層として紫外線重合型のハードコート層を用いる場合は、ハードコート層の厚みが上記範囲を超えて大きくなると、ディスプレイ用フィルターにカールが発生しやすくなり、また機能層自体に亀裂が入りやすくなるという不都合が生じる場合がある。機能層の合計厚みが１μｍより小さくなると、均一な塗工面を得るのが難しくなり、また機能層としての本来の機能を発揮できなくなる場合がある。

また、導電性メッシュの細線部上に形成された機能層の厚みが、０．５μｍより小さくなると導電性メッシュの凹凸を十分に埋めて平滑化することが難しくなり、逆に４μｍより大きくなると後述するように電極取出しのための空隙の幅を小さくするという本発明の技術思想に対して不利益となる。

上記した導電層の厚みや機能層の厚みは、走査型電子顕微鏡によるディスプレイ用フィルターの拡大断面写真から求めることができる。

機能層は、前述したように塗工形成するのが好ましく、塗布方式としては、ディップコーティング法、スピンコート法、スリットダイコート法、グラビアコート法、リーバースコート法、ロッドコート法、バーコート法、スプレー法、ロールコーティング法等の公知のウェットコーティング法を用いることができる。

本発明における導電層は、ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽するための層であり、導電性メッシュからなる。導電層の面抵抗値は、低い方が好ましく、１０Ω／□以下が好ましく、５Ω／□以下がより好ましく、特に３Ω／□以下が好ましい。面抵抗の下限値は０．０１Ω／□程度である。導電層の面抵抗値は、４端子法により測定することができる。

導電性メッシュは、スパッタ法や真空蒸着法等によって形成された金属薄膜あるいは導電性フィラーと樹脂バインダーからなる導電層に比べて、低い面抵抗値が得られるという利点がある。特に、導電性フィラーと樹脂バインダーからなる導電層では本発明が所望する面抵抗値が得られず、スパッタ法や真空蒸着法等によって金属薄膜を形成するためには大がかりな装置が必要であり、高い生産性が得られないという問題がある。

また、導電層上に積層される機能層との密着性（接着力）の観点からも、導電性メッシュが好ましい。本発明においては、導電層上に機能層を塗工形成するのが生産性の観点から好ましいが、スパッタ法や真空蒸着法等によって形成された金属薄膜の上に組成の異なる機能層を塗工形成した場合、密着性が不十分となり機能層が剥離することがある。

これに対して導電性メッシュは、上記した１０Ω／□以下の面抵抗値が容易に得られ、また導電性メッシュの開口部を通して機能層と基材のプラスチックフィルムとが接するので、機能層とプラスチックフィルムとの密着性も十分に確保することができる。導電性メッシュの場合は、ディスプレイ用フィルターの透過率を低下させないために７０％以上の開口率になるように設計するのが好ましく（ここで、導電性メッシュの開口率とは、導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を意味する）、従って導電性メッシュからなる導電層の上に塗工される機能層と導電層との接触面積はわずかであり、上記のような密着性の問題は生じない。

一方、機能層の塗工性の観点から、導電性メッシュの厚みは小さい方が好ましく、本発明においては、導電性メッシュの厚みは６μｍ以下が好ましく、３μｍ以下がより好ましく、特に１μｍ以下が好ましい。導電性メッシュの厚みが、上記範囲を超えて大きくなると導電層表面の凹凸が大きくなり平滑性が低下するので機能層の塗布性が悪化する。導電性メッシュの厚みの下限は電磁波遮蔽性能の観点から０．２μｍ以上が好ましく、０．３μｍ以上がより好ましい。メッシュの線幅及び線間隔（ピッチ）は、開口率が７０％以上となるように設計されるが、線幅としては５〜４０μｍが好ましく、５〜１０μｍがより好ましい。線間隔は１００〜５００μｍの範囲が好ましい。

また、導電性メッシュからなる導電層はプラスチックフィルム上に接着層を介さずに形成するのが好ましい。ここで接着層は、粘着材あるいは接着材で構成される層を意味する。導電層とプラスチックフィルムとの間に接着層が存在すると導電層面の平滑性が更に低下し、機能層の塗布性を悪化させる。また更に、プラスチックフィルム上に接着層を介さずに直接に導電性メッシュを形成することによって、塗工形成された機能層の大部分はプラスチックと接触するので、上述したような樹脂を含む機能層を用いることによってプラスチックフィルムと機能層との密着性が向上する。プラスチックフィルムと機能層との密着性を向上させるために、下引き層（プライマー層、易接着層）を有するプラスチックフィルムを用いるのが好ましい。

上記観点から本発明の導電層に好適な導電性メッシュの形成方法として、金属薄膜をエッチング加工する方法が挙げられる。

金属薄膜をエッチング加工する方法は、プラスチックフィルム上に粘着材あるいは接着材からなる接着層を介さずに金属薄膜を形成し、この金属薄膜をフォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法である。

金属薄膜の形成は、金属（例えば銀、金、パラジウム、銅、インジウム、スズ、あるいは銀とそれ以外の金属の合金など）を、スパッタリング、イオンプレーティング、及び真空蒸着のいずれかの公知の方法を用いて行うことができる。上記金属の中でも銅が好ましく、また真空蒸着法が好ましい。金属薄膜の厚みとしては、０．２〜３μｍの範囲が好ましく、０．３〜３μｍの範囲がより好ましく、特に０．５〜３μｍの範囲が好ましい。

また更に金属薄膜とプラスチックフィルムとの間に、スパッタリング、イオンプレーティングおよび真空蒸着のいずれかで製膜したニッケル層を介在させるのが好ましい。ニッケル層を介在させることによって、金属薄膜とプラスチックフィルムとの密着性を向上させることができる。ニッケル層の厚みは５〜１００ｎｍの範囲が好ましい。

上記のフォトリソグラフ法は、例えば、金属薄膜に紫外線等の照射により感光する感光層を設け、この感光層にフォトマスク等を用いて像様露光し、現像してレジスト像を形成し、次に、金属薄膜をエッチングして導電性メッシュを形成し、最後にレジストを剥離する方法が挙げられる。 感光層としては、紫外線等の照射部分が硬化するネガレジスト、あるいは逆に紫外線等の照射部分が現像によって溶解するポジレジストを用いることができる。

エッチングする方法としては、ケミカルエッチング法等がある。ケミカルエッチングとは、エッチングレジストで保護された導体部分以外の不要導体をエッチング液で溶解し、除去する方法である。エッチング液としては、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、アルカリエッチング液等がある。

上述した方法によって形成された導電性メッシュからなる導電層は、例えば銅を用いた場合、その厚みが０．２μｍ程度であっても３Ω／□以下の面抵抗値が得られ、０．３μｍ程度の厚みでは１Ω／□程度の面抵抗値が得られ、３μｍ程度の厚みでは０．１Ω／□以下の面抵抗値が得られる。即ち、上記の導電性メッシュの作製方法は、厚みが小さく、かつ面抵抗値が低い導電層をプラスチックフィルム上に、粘着剤や接着剤を介さずに形成することができ、従って、機能層を導電層上に直接に塗工形成するディスプレイ用フィルターの製造方法に極めて好適である。

これに対して、従来から一般的に用いられている導電性メッシュは、プラスチックフィルム上に接着材を介して厚みが１０μｍ程度の銅箔を貼り合わせた後に、銅箔をエッチング加工して形成されていたので、この導電性メッシュの上に直接に機能層を均一に塗工形成することはできなかった。

本発明に用いることができる導電性メッシュのメッシュパターンとしては、格子状パターン、５角形以上の多角形からなるパターン、円形パターン、あるいはこれらの複合パターンが挙げられ、更にランダムパターンも好ましく用いられる。

本発明において、導電性メッシュは黒化処理するのが好ましい。黒化処理は、酸化処理や黒色印刷により行うことができる。例えば、特開平１０−４１６８２号、特開２０００−９４８４号、２００５−３１７７０３号公報等に記載の方法を用いることができる。黒化処理は、導電性メッシュの視認側の表面と両側面を行うのが好ましく、更に導電性メッシュの両面及び両側面を黒化処理するのが好ましい。

また、ディスプレイ用フィルターに用いられる積層体を連続生産ラインで効率よく製造するためには、導電層は連続メッシュであることが好ましい。連続メッシュとは、メッシュパターンが途切れることなく形成されていることであり、例えば、導電層を少なくとも有する積層体を長尺ロール状で製造した場合に、ロールの巻き方向にメッシュが連続的に形成されていることである。このような連続メッシュを用いることにより、積層体ロールをカットしてシート状のディスプレイ用フィルターを製造するときに、歩留まり及び生産性が向上する。また、連続メッシュは、様々なサイズのディスプレイへの対応が容易であること、及び、ディスプレイ用フィルターの製造過程において欠陥が発生した場合は、欠陥部分のみの限られた量の廃棄ですむこと等の利点がある。

本発明のディスプレイ用フィルターに用いられるプラスチックフィルムは、１枚のみであることが好ましい。かかるプラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂及びセルロース樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましく用いられる。プラスチックフィルムの厚みとしては、５０〜３００μｍの範囲が適当であるが、コストの観点及びディスプレイ用フィルターの剛性を確保するという観点から９０〜２５０μｍの範囲が特に好ましい。

本発明に用いられるプラスチックフィルムは、導電層あるいは後述する近赤外線遮蔽層との密着性（接着強度）を強化のための下引き層（プライマー層）を設けておくのが好ましい。

本発明のディスプレイ用フィルターは、機能層は視認側の最表面に配置するのが好ましいが、機能層の機能を阻害しない範囲で極薄膜の防汚層等を機能層の上に更に設けることができる。防汚層は、ディスプレイ用フィルターに、人が指で触ることによって油脂性物質が付着するのを防止したり、大気中のごみや埃が付着するのを防止したり、あるいはこれらの付着物が付着しても除去しやすくするための層である。かかる防汚層としては、例えば、フッ素系コート剤、シリコーン系コート剤、シリコン・フッ素系コート剤等が用いられる。防汚層の厚さは、１〜１０ｎｍの範囲が好ましい。

本発明のディスプレイ用フィルターには、更に近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能を付与するのが好ましい。

近赤外線遮蔽機能は、波長８００〜１１００ｎｍの範囲における光線透過率の最大値が１５％以下となるように調整するのが好ましい。近赤外線遮蔽機能は、プラスチックフィルム、機能層、あるいは後述する接着層に近赤外線吸収剤を混錬、分散することによって付与してもよいし、近赤外線遮蔽層を新たに設けてもよい。近赤外線遮蔽機能は、近赤外線吸収剤を用いることによって、あるいは導電性薄膜のような金属の自由電子によって近赤外線を反射する層を設けることによって付与することができる。本発明においては、近赤外線吸収剤を樹脂バインダー中に分散もしくは溶解した塗料を塗布乾燥して形成した近赤外線遮蔽層を用いること、あるいは機能層や接着層に上記近赤外線吸収剤を含有させる態様が好ましく用いられる。近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物等の有機系近赤外線吸収剤、あるいは酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、硫化亜鉛、セシウム含有酸化タングステン等の無機系近赤外線吸収剤を用いることができる。
上記した近赤外線遮蔽層を新たに設ける場合は、プラスチックフィルムと導電層との間、もしくはプラスチックフィルムに対して導電層とは反対面に、プラスチックフィルムに塗工形成して設けることができる。

近赤外線遮蔽機能をプラスチックフィルムより視認側に付与する場合は、耐光性に優れる無機系近赤外線吸収剤を用いるのが好ましい。

色調調整機能は、ディスプレイから発光される特定波長の光を吸収して色純度や白色度を向上させるための機能である。特に赤色発光の色純度を低下させるオレンジ光を遮蔽するのが好ましく、波長５８０〜６２０ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。更に、白色度を向上させるために波長４８０〜５００ｎｍに吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。色調調整機能は、上記した波長の光を吸収する色素を含有する層を新たに設けてもよいし、上述の近赤外線遮蔽層、機能層あるいは接着層に色素を含有させてもよい。

可視光透過率調整機能は、可視光の透過率を調整するための機能であり、染料や顔料を含有させて調整することができる。可視光透過率調整機能は、プラスチックフィルム、近赤外線遮蔽層、機能層、あるいは接着層に付与してもよいし、新たに透過率調整層を設けてもよい。

上述した色調調整機能を有する層及び可視光透過率調整機能を有する層をそれぞれ新たに設ける場合、これらの層はプラスチックフィルムと導電層との間、もしくはプラスチックフィルムに対して導電層とは反対面に設けることができる。

本発明のディスプレイ用フィルターは、ディスプレイに直接、あるいはガラス板、アクリル板、ポリカーボネート板等の公知の高剛性基板を介して装着することができる。本発明のディスプレイ用フィルターには、ディスプレイあるいは高剛性基板に貼り付けるための接着層を設けるのが好ましい。上記高剛性基板としては、厚みが１〜３ｍｍ程度のガラス板が好ましい。

接着層はプラスチックフィルムに対して導電層とは反対面側の最表面に設けられる。接着層には、前述したように近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能を付与することができる。また、接着層に、ディスプレイを衝撃から保護するための衝撃緩和機能を付与することは好ましい態様である。接着層に衝撃緩和機能を付与するには、接着層の厚みを１００μｍ以上にすることが好ましく、３００μｍ以上がより好ましく、特に５００μｍ以上が好ましい。上限の厚みは、接着層のコーティング適性を考慮して３０００μｍ以下が好ましい。

接着層には、公知の接着材あるいは粘着材を用いることができる。粘着材としては、アクリル、シリコン、ウレタン、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニルなどが挙げられる。接着材としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂、天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−１、２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−２−ヘプチル−１、３−ブタジエン、ポリ−１、３−ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート 、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルフォン、フェノキシ樹脂などが挙げられる。

本発明のディスプレイ用フィルターは前述した構成の積層体からなり、積層体の機能層側表面から機能層を貫通して少なくとも導電層に達する空隙を積層体の周辺部の少なくとも一部に有する。ディスプレイ用フィルターの強度や取り扱い性の観点から、空隙は積層体を貫通しないのが好ましい。

本発明が対象とするディスプレイ用フィルターは、ディスプレイ用フィルターをディスプレイに装着し筐体に組み立てたときに導電層と筐体の外部電極とを電気的に接続するための電極を設ける必要がある。上記した空隙は導電層が露出しており、この導電層の露出部が電極となる。

本発明において、空隙は積層体の周辺部の少なくとも一部に設けられるが、ここで、積層体の周辺部とは、かかる積層体からなるディスプレイ用フィルターをディスプレイに設置した際に、ディスプレイの画像表示領域の外周に相当する部分のことを言い、好ましくはディスプレイ用フィルターの端部から１ｍｍ以上内側で、画像表示領域に相当する部分から１ｍｍ以上外側の範囲である。

本発明が対象とするディスプレイ用フィルターは通常長方形であり、それに用いられる積層体も長方形である。空隙は、少なくとも対向する２辺の端縁部に設けるのが好ましく、積層体の４辺の端縁部にそれぞれ形成するのがより好ましい。空隙は、側辺に略平行に直線状に細長く溝状に形成するのが好ましい。なお、ここでいう「直線状」には、曲がりのない一直線の形状のみではなく、多少曲がりのあるほぼ直線の形状も含むものとする。空隙の幅は、３ｍｍ以下が好ましく、２ｍｍ以下がより好ましく、更に１．５ｍｍ以下が好ましい。空隙の幅の下限としては、０．３ｍｍ以上が好ましく、０．４ｍｍ以上がより好ましい。空隙の幅が３ｍｍを越えて大きくなると、導電層の露出面が大きくなり導電層が酸化劣化しやすくなるという問題、後述するように生産効率が低下するという問題、及び後述するように空隙に導電性材料を配置したときに導電性材料が剥離しやすくなるという問題が生じる場合がある。一方、空隙の幅が０．３ｍｍより小さくなるとディスプレイ筐体（外部電極）との導通が不十分になり十分な電磁波遮蔽効果が得られない場合がある。

ディスプレイ用フィルターの１辺における空隙の長さは、辺の長さに対して１０％以上が好ましく、３０％以上がより好ましく、特に５０％以上が好ましい。上記の比率は高い方が電磁波遮蔽性能の観点から好ましい。本発明における空隙は、直線状に連続した空隙であってもよいし、破線状の不連続な空隙であってもよい。後者の不連続な空隙の場合は合計の長さが上記比率の対象となる。

以下、本発明のディスプレイ部材について図面を用いて詳細に説明する。図１は本発明のディスプレイ用フィルターの一例の平面図、図２は図１のＡ−Ａの模式断面図である。ディスプレイ用フィルターの周辺部に、４辺の側辺に略平行に直線状に細長い空隙１が設けられている。このディスプレイ用フィルターは、プラスチックフィルム４の上に導電層３が形成され、導電層３の上に機能層２が積層されている。プラスチックフィルム４の反対面には近赤外線遮蔽層５、及び接着層６が積層されている。図２において、空隙１は機能層側表面から機能層２を貫通して導電層３に達しており、導電層３が露出している。
図３は、空隙を直線状に不連続（破線状）に設けた態様の平面図である。ディスプレイ用フィルターの周辺部に、４辺の側辺に略平行に空隙１が破線状に設けられている。空隙を破線状に設ける場合は、１辺当たりの空隙部分の数は３〜５０個が好ましく、５〜４０個の範囲がより好ましい。１辺当たりの空隙部分の合計の長さ（Ａ）と空隙部分と空隙部分の距離（間隔）の合計長さ（Ｂ）の比率（Ａ／Ｂ）は、０．２〜２０の範囲が好ましく、０．５〜１０の範囲がより好ましい。

次に、空隙の形成方法について説明する。本発明において、導電層の上に位置する機能層等を物理的な方法で剥離することなく空隙を形成することが好ましく、機能層等の有機物を蒸発あるいは燃焼させることによって空隙を形成する方法が好ましく用いられる。かかる方法として、レーザーを照射する方法が好ましく用いられる。レーザーを照射する方法は、積層体に物理的な接触なしに空隙が形成できること、ほぼ一定の幅で空隙を形成できること、及び空隙の深さ方向の制御が精度よくできるという利点がある。このようなレーザーの出力源としては、ヨウ素、ＹＡＧ、ＣＯ_２などがあるが、特にＣＯ_２レーザーは、空隙幅及び空隙深さが精度よく制御できること、及び金属からなる導電層は破壊せずに機能層を蒸発・燃焼させて空隙を形成できる点で好ましい。

空隙形成方法として、ナイフ等のカッター刃を用いて積層体表面から切り込みを入れる方法があるが、この方法では本発明が意図する空隙、即ち０．３ｍｍ以上の幅の空隙は形成できないので導通が取れないこと、及び導電性メッシュが切断されて導通が不十分になる場合がある。空隙形成の他の方法として、超音波半田コテを用いて機能層を除去する方法があるが、この方法は高温のコテ先を積層体に接触させるので積層体のプラスチックフィルムが熱変形を起こす可能性があること、及び導電層の露出を完全にかつ安定的に行うことが難しいという問題がある。更に他の方法として、ドライエッチングする方法があるが、この方法は装置が大がかりとなること、及び操作中に高温となり積層体が変形することがある。

上述に鑑み、導電性メッシュの上に積層された機能層を貫通し導電性メッシュが露出するような空隙を形成する方法として、レーザーを用いる方法が極めて有益であることを見いだした。

空隙をレーザー照射で形成する場合、空隙の幅及び深さは、レーザーの焦点位置、レーザーの出力、及びレーザーの走査速度（ヘードスピード）を調整することによって制御することができる。空隙の幅は更に走査回数を調整することによって制御することができるが、１回の走査でも本発明が所望とする空隙を形成することができる。空隙の幅は３ｍｍ以下が好ましいことは前述した通りであるが、幅が３ｍｍを越える空隙を形成するためにはレーザーの操作回数を多くしたり、レーザーの焦点位置をずらしたりする必要があり、前者の場合は生産効率の低下を招き、また後者の場合は空隙の縁部の機能層が十分に除去されずに空隙の縁部に機能層の蒸発あるいは燃焼しきれなかった分解物残渣が付着するという不都合を招く場合がある。

本発明の空隙は、レーザーを用いて機能層を蒸発あるいは燃焼させて形成するので、導電層を完全に露出することが可能となる。

本発明では、上記した空隙を設けることによってアース効率を十分に確保することができる。本発明のディスプレイ用フィルターは、導電層の上にはプラスチックフィルム及び接着層は存在しないので、導電層表面からフィルターの機能層側最表面までの距離が従来の一般的なディスプレイ用フィルターに比べて大幅に小さいので、空隙の幅が３ｍｍ以下であっても外部電極との導通が十分に得られる。即ち、導電層表面から最表面までの距離（Ｌ）を十分に小さくすることによって、電極取出しのための空隙の幅を小さくすることが可能となる。

上記観点から、導電層表面からフィルターの機能層側最表面までの距離（Ｌ）、即ち前述した、導電性メッシュの細線部上に塗工形成された機能層と必要に応じて設けられる防汚層等との合計厚みは、１０μｍ以下が好ましく、７μｍ以下がより好ましく、更に４μｍ以下が好ましい。距離（Ｌ）の下限は０．５μｍ程度である。上記距離（Ｌ）は、機能層の厚みに大きく左右されるので、機能層の合計の厚みを調整することによって上記範囲内に納めることができる。

また、レーザーによる空隙形成の観点からも、導電層表面から最表面までの距離（Ｌ）を小さくすることは有益である。距離（Ｌ）を小さくすることは、即ち機能層等を構成する有機物の絶対量が小さくなることであり、これによってレーザー照射による空隙形成時に発生する有機物の分解物残渣の量が少なくなるので、分解物残渣によるディスプレイ用フィルターの空隙部周辺への汚染や周辺機器のへの汚染が軽減できるという利点がある。更に、上記距離（Ｌ）を小さくすることによって、レーザー照射の出力を小さくできるのでレーザー装置の低価格化が図られる。

一方、レーザーによる空隙形成の精度（空隙の深さ精度）や安定操業の観点からは、レーザーによる加工深さはある程度の厚みがあった方がよい。本発明のディスプレイ用フィルターの製造方法では、積層体を得る工程の中に、機能層上に更にカバーフィルムを積層する工程を有し、また空隙を形成する工程が、カバーフィルム表面からレーザーを照射して少なくとも導電層に達する空隙を形成する工程であることが好ましい。ディスプレイ用フィルターの機能層側表面に更にカバーフィルムを積層し、カバーフィルムの上からレーザー加工することによってレーザーによる加工厚みを稼ぐことでき、レーザー加工の精度が向上するので好ましい。カバーフィルムは機能層を保護する等の目的で設けられるものであり、最終的には剥離除去される。また、カバーフィルムの上からレーザーを照射して空隙形成することによって、空隙形成時に発生する有機物の分解物残渣がディスプレイ用フィルターへ再付着するのを防止するという利点もある。

上述した、レーザー加工による分解物残渣の発生量、レーザー照射装置の低価格化、及び空隙形成の精度を考慮し、カバーフィルムの厚み（積層のための粘着層が必要な場合は粘着層を含む）は２０〜８０μｍの範囲が好ましい。

本発明に用いられるカバーフィルムとしては、各種プラスチックフィルムを用いることができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム、ポリアセチルセルロースフィルム、ポリアクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、エポキシ系フィルム、ポリウレタンフィルム等が挙げられ、これらの中でもポリエステルフィルムやポリオレフィンフィルムが好ましく用いられる。

カバーフィルムは、最終的にはディスプレイ用フィルターから剥離除去されるので、剥離可能な粘着材または接着材が用いられる。あるいは、カバーフィルムとして粘着性を有するフィルムを用いる場合には、粘着材等は不要である。カバーフィルムはディスプレイ用フィルターをディスプレイに装着する前もしくは装着した後に剥離除去するのが好ましい。

図４は、積層体の最表面に更にカバーフィルムを有するカバーフィルム付き積層体の周辺部に形成された空隙部分の模式断面図である。空隙１は、カバーフィルム７から導電層３に達している。

本発明のディスプレイ用フィルターは、前述したように空隙形成のみで十分に導電層と外部電極との導通を取ることができるが、空隙部に導電性材料を配置することによって更に外部電極との導通が安定的に確保することができる。また、前述したように、本発明においては導電層を露出するための空隙は３ｍｍ以下とすることが好ましく、これによって導電層の空気酸化等による劣化を抑制することができるが、空隙部に導電性材料、例えば、後述する導電性ペーストやはんだ等の流動性の導電性材料、あるいは導電性粘着テープを配置することによって更に導電層の空気酸化等による劣化を抑制できるという利点もある。

空隙に導電性材料を配置する１つの態様として、空隙に導電性ペーストやはんだ等の流動性の導電性材料（以降、導電性ペースト等と称す）を塗布あるいは充填する態様がある。導電性ペーストとしては、銀、金、パラジウム、銅、インジウム、スズ、あるいは銀とそれ以外の金属の合金などを含有する金属ペーストを用いることができる。

空隙に導電性材料を配置する他の態様として、空隙に挿入することができるように加工された導電性固体を配置する態様がある。導電性固体としては導電性金属あるいは非導電体の表面に導電性金属を被覆したものが用いられる。

導電層として導電性メッシュを用いた積層体にレーザーで空隙を形成する方法は、導電性メッシュを破壊せずに導電性メッシュの開口部を通して導電層の下側の層まで達する空隙を形成することができる。この空隙に導電性ペースト等の流動性の導電性材料を塗布あるいは充填することによって導電性メッシュの下側にも導電性ペースト等が入り込み、その結果、導電性メッシュと導電性ペースト等の導電性材料との接触面積が増大し、導電層と外部電極との導通を更に安定的に確保することができる。

空隙に導電性材料を配置する更に他の態様として、導電性粘着テープを空隙の上から空隙を覆うように貼り付ける態様がある。導電性粘着テープを貼り付けた後にヒートシーラー等で導電性粘着テープを加熱加圧するのが好ましい。本発明のディスプレイ用フィルターは、フィルター最表面から導電層表面までの距離が短いため、導電性粘着テープを加熱加圧することで、導電性粘着テープを導電層と接触させることができる。導電性粘着テープは、金属箔の一方の面に導電性粒子を分散させた粘着層を設けたものであって、この粘着層には、アクリル系、ゴム系、シリコン系粘着剤や、エポキシ系、フェノール系樹脂に硬化剤を配合したものを用いることができるが、特に架橋型導電粘着剤であるエチレン−酢酸ビニル系共重合体を主成分とするポリマーとその架橋剤とを含む後架橋型接着層であるものが好ましい。

図５は、空隙に導電性材料を配置したディスプレイ用部材の模式断面図である。空隙１に導電性ペースト等からなる導電性材料８が塗布されて、導電層３と電気的に接続された電極が形成されている。
空隙形成及び空隙への導電性材料の配置は、カバーフィルムが存在する状態で行うのが好ましい。空隙に導電性粘着テープを貼り付ける場合は、少なくとも空隙が形成された外周部（画像表示領域の外周）のカバーフィルムが剥離された後に行われる。

次に、本発明のディスプレイ用フィルターおよびディスプレイの製造方法について説明する。かかる製造方法は、プラスチックフィルム上に接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られた、導電性メッシュからなる導電層を形成する工程、導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも１つの機能を有する機能層を塗工して積層体を得る工程、積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射して積層体表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成する工程を少なくとも有する。

上記のそれぞれの工程については前述した通りであるが、プラスチックフィルム上に導電層を形成する工程、及び導電層上に機能層を塗工して積層体を得る工程は、ロール・ツー・ロール方式で連続的に行うのが好ましい。

前述したように、本発明の好ましい態様は、機能層側の表面にカバーフィルムを積層したカバーフィルム付き積層体を用いることである。かかる製造方法は、プラスチックフィルム上に導電層を形成する工程、導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも１つの機能を有する機能層を塗工して積層体を得る工程、前記積層体にカバーフィルムを積層してカバーフィルム付き積層体を得る工程、カバーフィルム付き積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射してカバーフィルム表面からカバーフィルム及び機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成する工程を少なくとも有する。

また、積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射して、積層体表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成する工程は、機能層の反対面がディスプレイ側になるようにディスプレイに装着した後に行ってもよいし、ディスプレイに装着する前に空隙形成工程を行い、それにより得られたディスプレイ用フィルターを、機能層の反対面がディスプレイ側になるようにディスプレイに装着しても構わない。

上記製造方法においても、カバーフィルム付き積層体を得る工程まではロール・ツー・ロール方式で連続的に行うのが好ましい。

本発明の製造方法において、プラスチックフィルムの導電層とは反対面に近赤外線遮蔽層を積層する工程を有するのが好ましく、更に近赤外線遮蔽層の上に接着層を積層する工程を有するのが好ましい。これらの工程もロール・ツー・ロール方式で連続的に行うのが好ましい。

本発明の製造方法は、更に空隙に導電性材料を配置する工程を有するのが好ましい。かかる工程としては、導電性ペースト等をディスペンサー等で空隙に塗布する方法、あるいは導電性粘着テープを空隙に貼り付ける方法が好ましい。空隙に導電性ペースト等を塗布した後、導電性ペースト等の上に導電性粘着テープを貼り付けるのも好ましい態様である。

また、本発明のレーザーを用いて電極を形成する方法は、積層体を機能層の反対面がディスプレイ側になるようにディスプレイに装着した後にも適用することができる。即ち、積層体を機能層の反対面がディスプレイ側になるようにディスプレイに装着した後、積層体の周辺部にレーザーを照射して空隙を形成し、本発明のディスプレイ用フィルターを完成させた後、ディスプレイ筐体を組み立てることができる。また、空隙に導電性ペースト等や導電性粘着テープを配置した後、ディスプレイ筐体を組み立てることができる。また、更に空隙に導電性ペースト等の導電性材料を塗布し、導電性ペースト等の導電性材料の上に導電性粘着テープを貼り付けることができる。

また、カバーフィルム付き積層体を用いた場合は、カバーフィルム付き積層体をディスプレイに装着した状態で、カバーフィルム表面からレーザーを照射して、積層体に空隙を形成した後、カバーフィルムを剥離して、本発明のディスプレイ用フィルターを完成させた後、ディスプレイ筐体を組み立てることができる。上記工程の中で、カバーフィルムを剥離する前に空隙に導電性ペースト等を塗布することができる。また、上記工程の中で、空隙に導電性粘着テープを貼り付ける場合は、カバーフィルム剥離後でディスプレイ筐体を組み立てる前に行うのが好ましい。また、上記工程の中で、空隙に導電性ペースト等を塗布し、カバーフィルムを剥離除去した後、導電性ペースト等の上に導電性粘着テープを貼り付けることができる。

本発明において、ディスプレイ筐体を組み立てる前のディスプレイパネルの状態で搬送や取り扱いを行う場合には、カバーフィルム付き積層体をディスプレイパネルに装着後、画像表示領域に相当する部分のみのカバーフィルムを残しておくことが好ましい。即ち、カバーフィルム付き積層体の電極が形成された外周部のみのカバーフィルムを剥離除去して、画像表示領域に相当する部分のカバーフィルムを残すというものである。これによって、画像表示領域がカバーフィルムによって保護される。ここで、電極は、空隙に導電性粘着テープを貼り付けたもの、あるいは空隙に導電性ペースト等を塗布し更に導電性ペースト等の上に導電性粘着テープを貼り付けたものである。電極の形成時期は、カバーフィルム付き積層体をディスプレイパネルに装着する前であっても、装着した後であってもよい。

上記態様において、カバーフィルム付き積層体の外周部のカバーフィルムを剥離除去する時期は、導電性粘着テープを貼り付ける前である。画像表示領域に相当する部分のカバーフィルムを剥離除去する時期は、ディスプレイパネルにディスプレイ筐体を組み立てる前である。カバーフィルム付き積層体の外周部のカバーフィルムを剥離除去して、画像表示領域に相当する部分のみのカバーフィルムを残すのは、カバーフィルム付き積層体をディスプレイパネルに装着する前もしくは装着した後に、画像表示領域に相当する部分と外周部の境界をレーザーでハーフカットしてカバーフィルムのみに切り込み線を入れることによって実現することができる。

本発明の電極形成方法は、予め積層体に電極を形成する態様、及びディスプレイの製造過程の中でディスプレイに積層体を装着した後に電極を形成する態様に適用することができる。

後者のディスプレイの製造過程に適用する場合は、本発明の積層体をロール形状で供給し、ディスプレイの製造工程の中で、ロール状積層体を所定サイズのシート状に切断して用いることが好ましい。

本発明の積層体は、１枚のみのプラスチックフィルムで構成されるので、剛性が比較的弱く、ディスプレイに積層体を装着した後に空隙を形成することは、予め積層体に空隙を形成したディスプレイ用フィルターの取り扱い性を考慮すれば、好ましい態様である。

本発明のディスプレイ用フィルターを構成する積層体は、従来技術では４辺に電極を取り出すことはできなかったが、上述した本発明によって電極の取り出しが可能となった。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
（実施例１）
＜導電層の形成＞
厚み１００μｍのＰＥＴフィルム（東レ（株）製のルミラー；登録商標）の片面に、スパッタリング法によりニッケル層（厚み０．０２μｍ）を形成した。更にその上に、真空蒸着法により銅層（厚み２．５μｍ）を形成した。

その後、この銅層側の表面にフォトレジストネガフィルムを貼り付け、格子状のメッシュパターンのマスクを介してフォトレジストネガフィルムを露光、現像し、次いでエッチング処理を施して、線幅１０μｍ、線ピッチ１５０μｍ、開口率８７％の格子状の導電性メッシュからなる導電層をＰＥＴフィルム上に形成した。導電性メッシュ上のフォトレジストネガフィルムを除去した後、更に、導電性メッシュに酸化処理剤（メルテックス（株）製 エンプレート ＭＢ―４３８Ａ／Ｂ／純水＝８／１３／７９の割合で調整）で黒化処理（酸化処理）を施した。
＜機能層の塗工＞
上記の導電層が形成されたＰＥＴフィルムの導電層上に、下記のハードコート層、高屈折率層、及び低屈折率層を順次塗工した。塗工上の設定厚み（乾燥厚み）は、ハードコート層が約５．５μｍ、高屈折率層が約０．１μｍ、低屈折率層が約０．１μｍとした。
＜ハードコート層＞
市販のハードコート剤（ＪＳＲ製“デソライトＺ７５２８”）をイソプロピルアルコールで固形分濃度３０％に希釈した塗料を、マイクログラビアコーターで塗工し、８０℃で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ^２を照射して硬化させ、ハードコート層を設けた。
＜高屈折率層＞
錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）６質量部、多官能アクリレート２質量部、メタノール１８質量部とポリプロピレングリコールモノエチルエーテル５４質量部、イソプロピルアルコール２０質量部の混合物を攪拌して塗膜屈折率１．６７の高屈折率塗料を調製した。この塗料をハードコート層上にマイクログラビアコーターを用いて塗工し、８０℃で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ^２を照射して、塗工層を硬化させ、高屈折率層を形成した。
＜低屈折率層＞
一次粒子径５０ｎｍの外殻を有する中空シリカ粒子（空隙率４０％）１４４質量部、イソプロピルアルコール５６０質量部からなるシリカスラリーを準備し、メチルトリメトキシシラン２１９質量部、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン１５８質量部、上述シリカスラリー７０４質量部、ポリプロピレングリコールモノエチルエーテル７１３質量部を攪拌混合し、燐酸１質量部と水１３０質量部を配合して、３０℃±１０℃で攪拌しながら６０分加水分解し、さらに温度を８０℃±５℃に上げて６０分攪拌しながら重合し、シリカ粒子含有ポリマーを得た。次に、このシリカ粒子含有ポリマー１２００質量部、イソプロピルアルコール５２４４質量部を攪拌混合した後、硬化触媒としてアセトキシアルミニウムを１５質量部添加して再度攪拌混合し、屈折率１．３５の塗料を調整した。この塗料を高屈折率層上に小径グラビアコーターで塗工し、１３０℃で乾燥、硬化して、低屈折率層を形成した。
＜導電層と機能層との厚みの関係＞
走査型電子顕微鏡による拡大断面写真で求めた、導電層の厚みは２．５μｍ、機能層の合計厚みは６．０μｍで、導電性メッシュの細線部上の機能層の厚みは３．５μｍであった。
＜カバーフィルムの積層＞
低屈折率層の上に、カバーフィルム（日東電工（株）製の「Ｅ−ＭＡＳＫ ＩＰ３００」；３８μｍのＰＥＴフィルムに５μｍの微粘着層を積層）を積層した。
＜近赤外線遮蔽層の積層＞
前記ＰＥＴフィルムの導電層とは反対面に、オレンジ光遮蔽機能を併せ持つ近赤外線遮蔽層（近赤外線吸収色素としてのフタロシアニン系色素とジイモニウム系色素、およびオレンジ光吸収色素としてのテトラアザポルフィリン系色素をアクリル系樹脂に混合した塗料を、乾燥膜厚みが１２μｍになるように塗工した層）を設けた。
＜接着層の積層＞
セパレートフィルム上に紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂（日立化成ポリマー（株）製のハイボン（登録商標））をスリットダイコーターで、厚みが３００μｍになるように塗布した後、ＵＶ照射装置を用いて塗布膜を硬化し、続いてセパレートフィルムを貼り付けて、セパレートフィルムにサンドウィッチされた接着層を得た。次に、上記で作製した積層体の近赤外線遮蔽層の上に、一方のセパレートフィルムを剥離しながら接着層を積層した。

上記のようにして作製したカバーフィルム付き積層体の構成を以下に示す。
＜積層体の構成＞
接着層／近赤外線遮蔽層／ＰＥＴフィルム／導電層／機能層（ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層）／カバーフィルム。
＜空隙の形成＞
上記のようにして作成した積層体を長辺９６４ｍｍ、短辺５５４ｍｍのシート状に切断してシート状積層体を作製した後、このシート状積層体をレーザーカッター（コマックス製のＣＯ_２レーザーカッター）に固定して、積層体の４辺にそれぞれ端部から１０ｍｍ内側に直線状にレーザーを照射して連続した直線状の空隙を形成して、本発明のディスプレイ用フィルターを得た。レーザーのヘッドスピードを１２００ｃｍ／ｍｉｎとし、レーザーの出力、及び焦点位置を調整して、カバーフィルム表面から導電層に達する空隙を形成した。

レーザーの走査回数は１辺当たり２回とした。空隙の長さは、長辺側で９３０ｍｍ、短辺側で５２０ｍｍである。カバーフィルムを剥離除去して測定した空隙の幅は１．５ｍｍであった。
＜ディスプレイ用フィルターのアース性能の評価＞
厚み１ｍｍ、幅２ｃｍのアルミ板の一方の面に、スポンジの周辺に導電性繊維で織った布を巻き付けたガスケットを導電性接着材で接合して、簡易的な筐体（外部電極）を作製した。次に厚み３ｍｍのアクリル板の上に、上記で作製したディスプレイ用フィルターを設置した後、カバーフィルムを剥離し、ディスプレイ用フィルターの４辺の端部に上記の簡易的筐体を配置しクランプでアクリル板に固定した。アクリル板と簡易的筐体の距離が一定になるようにクランプの締め付けを調整した。次に、マルチ計測器（株）製の抵抗測定器「ポケットマルチメーター」を使用し、簡易的筐体のアルミ板に端針を当てて対向する２辺の電極間の導通を確認した。その結果、導通があり、アースがとれることを確認した。
（実施例２）
実施例１と同様にしてシート状積層体を作製し、実施例１と同様に積層体に空隙を形成した。但し、レーザーの走査回数は１回とした。空隙の幅は０．８ｍｍであった。

このようにして作製したディスプレイ用フィルターを実施例１と同様にしてアース性能を評価した。その結果、２辺の電極間に導通があり、アースがとれることを確認した。
（実施例３）
実施例１と同様にしてシート状積層体を作製し、実施例１と同様に積層体に空隙を形成した。但し、レーザーの走査回数は１回とした。空隙の幅は０．８ｍｍであった。

続いて、空隙に導電性ペースト（藤倉化成（株）製の銀ペースト「ドータイト」（登録商標））をディスペンサーで塗布して電極が形成された本発明のディスプレイ用フィルターを得た。

このようにして作製したディスプレイ用フィルターを実施例１と同様にしてアース性能を評価した。その結果、２辺の電極間に導通があり、アースがとれることを確認した。
（実施例４）
実施例１と同様にしてシート状積層体を作製し、空隙を破線状（詳細を以下に示す）にする以外は実施例２と同様にして幅０．８ｍｍの空隙を形成し、空隙に導電性ペースト（藤倉化成（株）製の銀ペースト「ドータイト」（登録商標））を塗布して電極が形成された本発明のディスプレイ用フィルターを得た。

破線状の空隙；１個当たりの空隙部分の長さ２ｃｍ、空隙部分と空隙部分の間隔が１ｃｍ。積層体の長辺側の空隙部分は３１個で、長辺の１辺当たりの空隙部分の合計長さ（Ａ）は６２ｃｍ、空隙部分と空隙部分の間隔の合計長さ（Ｂ）は３０ｃｍ。積層体の短辺側の空隙部分は１７個で、短辺の１辺当たりの空隙部分の合計長さ（Ａ）は３４ｃｍ、空隙部分と空隙部分の間隔の合計長さ（Ｂ）は１６ｃｍ。

上記のようにして作製した本発明のディスプレイ用フィルターについて、実施例１と同様にしてアース性能を評価したところ、対抗する２辺の電極間に導通があり、アースがとれることを確認した。
（実施例５）
実施例１と同様にしてシート状積層体を作製し、実施例１と同様に積層体に空隙を形成した。但し、レーザーの走査回数は１回とした。空隙の幅は０．８ｍｍであった。続いて、カバーフィルムを剥離除去し、空隙に導電性粘着テープを貼り付け、ヒートシーラーで加熱加圧して電極が形成された本発明のディスプレイ用フィルターを得た。

このようにして作製したディスプレイ用フィルターを実施例１と同様にしてアース性能を評価した。その結果、２辺の電極間に導通があり、アースがとれることを確認した。
（比較例１）
実施例１と同様にしてシート状積層体を作製した。カバーフィルムを剥離後、機能層の上からレーザーを照射して、端部から５ｍｍの位置と１０ｍｍの位置に２本の切り込み線を入れた。この５ｍｍの間隔で設けた２本の切り込み線に沿って機能層を物理的に剥離し、導電層を露出させることを試みたが、機能層のみを剥離することはできなかった。また、強引に機能層を剥離すると導電層も一緒に剥離し、導電層から電極を取り出すことができなかった。
（比較例２）
実施例１と同様にしてシート状積層体を得た。このシート状積層体の４辺にそれぞれ端部から１０ｍｍ内側に、カッターナイフで直線状の切り込みを入れた。切り込みの長さは、長辺側で９３０ｍｍ、短辺側で５２０ｍｍである。次に、この切り込みの上に実施例３と同様にして導電性ペーストを塗布した。実施例１と同様にしてアース性能を評価した。その結果、対向する２辺の電極間に導通はなく、アースをとることができなかった。
（実施例６）
実施例１と同様にして、ＰＥＴフィルム上に導電性メッシュからなる導電層を形成した。更に、導電層上に下記組成のハードコート層用塗料をマイクログラビアコーターで塗工し、８０℃で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ^２を照射して、塗工層を硬化させ、設定厚みが約５μｍのハードコート層を形成した。
＜ハードコート層組成＞
ウレタンアクリレートＡ（根上工業（株）製のＵＮ−３２２０ＨＡ）；２．７５部
ウレタンアクリレートＢ（新中村化学（株））製のＵ４ＨＡ；２．７５部
光重合開始剤（チバガイギー社製のイルガキュウアー１８４）；０．３部
イソプロピルアルコール；１．２５部
メチルエチルケトン；１．２５部
＜導電層と機能層との厚みの関係＞
走査型電子顕微鏡による拡大断面写真で求めた、導電層の厚みは２．５μｍ、機能層の合計厚みは５．３μｍで、導電性メッシュの細線部上の機能層の厚みは２．８μｍであった。

次に、上記ＰＥＴフィルムの導電層とは反対面に実施例１と同様にして近赤外線遮蔽層と接着層を積層して積層体を得た。
＜積層体の構成＞
接着層／近赤外線遮蔽層／ＰＥＴフィルム／導電層／機能層（ハードコート層）。

次に、上記積層体を実施例１と同様にしてシート状に切断してシート状積層体とし、このシート状積層体に実施例１と同様にレーザーを照射して（但し、操作回数は１回）、幅が０．８ｍｍの空隙を４辺に形成した。実施例１と同様にしてアース性能を評価したところ、対向する２辺の電極間に導通があり、アースがとれることを確認した。
（実施例７）
実施例１と同様にして作製したロール状積層体を、長辺９６４ｍｍ、短辺５５４ｍｍのシート状に切断して得られたシート状積層体を、プラズマディスプレイの前面板ガラス（日本電気硝子（株）製「ＰＰ−８」、厚み１．８ｍｍ）に、積層体の接着層を介して貼り付けた。続いて、積層体のカバーフィルムの上から実施例２と同様にして幅が０．８ｍｍの空隙を形成し、更に空隙に導電性ペースト（藤倉化成（株）製の銀ペースト「ドータイト」（登録商標））を塗布して電極を形成した。

次に、積層体からカバーフィルムを剥離後、実施例１で用いた簡易的筐体を積層体の４辺の端部に配置しクランプで前面板に固定した。前面板と簡易的筐体の距離が一定になるようにクランプの締め付けを調整した。次に、マルチ計測器（株）製の抵抗測定器「ポケットマルチメーター」を使用し、簡易的筐体のアルミ板に端針を当てて対向する２辺の電極間の導通を確認した。その結果、導通があり、アースがとれることを確認した。
（実施例８）
実施例６と同様にして作製したロール状積層体を、長辺９６４ｍｍ、短辺５５４ｍｍのシート状に切断して得られたシート状積層体を、プラズマディスプレイの前面板ガラス（日本電気硝子（株）製「ＰＰ−８」、厚み１．８ｍｍ）に、積層体の接着層を介して貼り付けた。続いて、積層体のカバーフィルムの上から実施例２と同様にして幅が０．８ｍｍの空隙を形成し、次いでカバーフィルムを剥離除去し、空隙に導電性粘着テープを貼り付け、ヒートシーラーで加熱加圧して電極が形成された本発明のディスプレイ用フィルターを得た。次に実施例１で用いた簡易的筐体を積層体の４辺の端部に配置しクランプで前面板に固定した。前面板と簡易的筐体の距離が一定になるようにクランプの締め付けを調整した。次に、マルチ計測器（株）製の抵抗測定器「ポケットマルチメーター」を使用し、簡易的筐体のアルミ板に端針を当てて対向する２辺の電極間の導通を確認した。その結果、導通があり、アースがとれることを確認した。

本発明のディスプレイ用フィルターの一例の平面図。 図１のＡ−Ａの模式断面図。 本発明のディスプレイ用フィルターの他の例の平面図。 本発明のカバーフィルム付き積層体の空隙部分の模式断面図。 空隙に導電体を配置した態様の模式断面図。

符号の説明

１ 空隙
２ 機能層
３ 導電層
４ プラスチックフィルム
５ 近赤外線遮蔽層
６ 接着層
７ カバーフィルム
８ 導電性材料

Claims (17)

1. プラスチックフィルム上に導電性メッシュからなる導電層を有し、
   前記導電性メッシュが、プラスチックフィルム上に接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られたものであり、
   更に導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも１つの機能を有する機能層が積層された積層体で構成され、
   かつ積層体の周辺部の少なくとも一部に積層体の機能層側表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
2. 前記導電層の厚みが０．２〜６μｍの範囲であることを特徴とする、請求項１に記載のディスプレイ用フィルター
3. 前記機能層の合計の厚みが１〜２０μｍの範囲であることを特徴とする、請求項１または２に記載のディスプレイ用フィルター。
4. 前記空隙が、破線状もしくは連続直線状であって、かつ幅が０．３〜３ｍｍの溝状空隙であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
5. 前記空隙に導電性材料が配置されたことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルター。
6. 前記空隙を覆うように導電性粘着テープが貼り付けられたことを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルター。
7. 更に、近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、及び透過率調整機能の中から選ばれる少なくとも１つの機能を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルター。
8. ディスプレイ用フィルターの製造方法であって、
   プラスチックフィルム上に、接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られた、導電性メッシュからなる導電層を形成する工程、
   次いで導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも１つの機能を有する機能層を塗工して積層体を得る工程、
   次いで積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射して、積層体表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成する工程、
   を少なくとも有する、ディスプレイ用フィルターの製造方法。
9. 前記積層体を得る工程の中に、更に機能層側の表面にカバーフィルムを積層する工程を有し、
   前記空隙を形成する工程がカバーフィルム表面からレーザーを照射して導電層に達する空隙を形成する工程である、
   請求項８に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。
10. 前記空隙を形成する工程に次いで、更に、空隙に導電性材料を配置する工程を有する、請求項８または９に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。
11. ディスプレイの製造方法であって、
    プラスチックフィルム上に、接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られた、導電性メッシュからなる導電層を有し、
    更に導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも１つの機能を有する機能層が積層された積層体を、
    機能層の反対面がディスプレイ側になるようにディスプレイに装着した後、積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射して積層体表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成する、ディスプレイの製造方法。
12. 前記機能層の上に更にカバーフィルムを有するカバーフィルム付き積層体をディスプレイに装着した後、
    積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射してカバーフィルム表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成し、
    カバーフィルムを剥離除去する、請求項１１に記載のディスプレイの製造方法。
13. 前記空隙を形成した後に、更に、空隙に導電性材料を配置する、請求項１１または１２に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。
14. 前記空隙を覆うように導電性粘着テープを貼り付ける、請求項１２に記載のディスプレイの製造方法。
15. カバーフィルムを剥離除去した後、空隙を覆うように導電性粘着テープを貼り付ける、請求項１３に記載のディスプレイの製造方法。
16. ディスプレイの製造方法であって、
    プラスチックフィルム上に、接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られた、導電性メッシュからなる導電層を形成する工程、
    次いで導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも１つの機能を有する機能層を塗工して積層体を得る工程、
    積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射して、積層体表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成する工程、
    を経て得られたディスプレイ用フィルターを、機能層の反対面がディスプレイ側になるようにディスプレイに装着した後、ディスプレイ用フィルターに形成された空隙を覆うように導電性粘着テープを貼り付ける、ディスプレイの製造方法。
    の製造方法。
17. 前記積層体を得る工程の中に、更に機能層側の表面にカバーフィルムを積層する工程を有し、
    前記空隙を形成する工程がカバーフィルム表面からレーザーを照射して導電層に達する空隙を形成する工程であり、
    ディスプレイ用フィルターをディスプレイに装着した後、カバーフィルムを剥離除去し、次いでディスプレイ用フィルターに形成された空隙を覆うように導電性粘着テープを貼り付ける、請求項１６に記載のディスプレイの製造方法。

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