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JP2008165914A - Manufacturing method of optical disk - Google Patents

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JP2008165914A
JP2008165914A JP2006354629A JP2006354629A JP2008165914A JP 2008165914 A JP2008165914 A JP 2008165914A JP 2006354629 A JP2006354629 A JP 2006354629A JP 2006354629 A JP2006354629 A JP 2006354629A JP 2008165914 A JP2008165914 A JP 2008165914A
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Japan
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light transmission
transmission layer
curable resin
ultraviolet curable
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JP2006354629A
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Inventor
Masao Yoshimoto
正夫 吉本
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Pioneer Corp
Original Assignee
Pioneer Electronic Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of an optical disk which can form film a light transmission layer with a uniform thickness on an entire surface of an optical disk. <P>SOLUTION: The manufacturing method of the optical disk is used for manufacturing the optical disk D which is formed by sequentially laminating a recording layer 4 and a light transmission layer 6 on a substrate 2 for at least either recording or reproduction an information signal by light incoming from the light transmission layer 6 side. This method comprises steps of; spreading the ultraviolet curing resin on the surface of the recording layer 4 by dropping a liquefied ultraviolet curing resin on the recording layer 4 of the substrate 2 while rotating the substrate 2 around the center of the substrate 2; forming the light transmission layer 6 by curing the spread ultraviolet curing resin, and controlling at least either of a rotation state of the substrate 2 or a temperature distribution state on the substrate 2 according to the result of measurement while measuring the film thickness of the ultraviolet curing film. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本願は、DVD(Digital Versatile Disc)、BD(Blue-Ray Disc)等の光ディスクの製造方法に関する。   The present application relates to a method of manufacturing an optical disc such as a DVD (Digital Versatile Disc) and a BD (Blue-Ray Disc).

近年、データ記憶媒体の一種として、DVD等の光ディスクが存在する。当該光ディスクは、例えば、基板上に記録層及び光透過層が順次積層されて形成され、前記光透過層側から入射される光によって情報信号の記録及び再生の少なくとも一方が行われるものであり、当該光透過層は、紫外線硬化樹脂を用いて記録層が形成された基材の表面に硬化膜が形成されてなる。   In recent years, an optical disk such as a DVD exists as a kind of data storage medium. The optical disc is, for example, formed by sequentially laminating a recording layer and a light transmission layer on a substrate, and at least one of recording and reproduction of an information signal is performed by light incident from the light transmission layer side. The light transmission layer is formed by forming a cured film on the surface of a substrate on which a recording layer is formed using an ultraviolet curable resin.

光透過層は、例えば、スピンコート法、フィルム転写法、シート法などにより製造される。一例として、スピンコート法では、基材を回転させつつ、その基材の表面上に液状樹脂を滴下することで、回転の遠心力によって基材の表面全体に一様に引き延ばされて展延されることにより硬化膜が基材の片面全面に亘って形成されるようになっている(例えば、特許文献1又は2)。   The light transmission layer is manufactured by, for example, a spin coating method, a film transfer method, a sheet method, or the like. As an example, in the spin coating method, a liquid resin is dropped on the surface of the base material while rotating the base material, so that the entire surface of the base material is uniformly stretched by the centrifugal force of rotation. By extending, a cured film is formed over the entire surface of one side of the substrate (for example, Patent Document 1 or 2).

特開2003−33713号公報JP 2003-33713 A 特開2003−233936号公報JP 2003-233936 A

しかしながら、従来のスピンコート法では、製造環境等による紫外線硬化樹脂の粘度変化など種々の事情により、ディスク全面に亘って均等性を維持するのが困難であり、ディスク全面に形成された硬化膜の膜厚が不均一となる傾向がある。そのため、記録再生時において、光学収差が発生し、安定して情報信号の再生又は記録ができないなどの不都合が生じていた。   However, in the conventional spin coating method, it is difficult to maintain uniformity over the entire surface of the disk due to various circumstances such as changes in the viscosity of the ultraviolet curable resin depending on the manufacturing environment, and the like. The film thickness tends to be non-uniform. For this reason, an optical aberration occurs during recording / reproduction, and there is a problem that information signals cannot be reproduced or recorded stably.

そこで、このような課題の一例を解消するために、本願は、光ディスク全面において光透過層の膜厚を均一に形成可能な光ディスクの製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, in order to solve an example of such a problem, an object of the present application is to provide a method of manufacturing an optical disc capable of forming the light transmission layer uniformly over the entire surface of the optical disc.

上述した課題を解決するため、本願請求項1に記載の光ディスクの製造方法は、基板(2)上に記録層(4)及び光透過層(6)が順次積層されて形成され、前記光透過層側から入射される光によって情報信号の記録及び再生の少なくとも一方が行われる光ディスク(D)の製造方法であって、前記基板の記録層上に液状の紫外線硬化樹脂を滴下し、前記基板の中心を回転軸として前記基板を回転させつつ前記紫外線硬化樹脂を前記記録層の表面に拡散させる工程と、前記拡散された紫外線硬化樹脂を硬化させて前記光透過層を形成する工程と、を含んで構成され、前記紫外線硬化樹脂の膜厚を測定しつつ、その測定結果に応じて前記基板の回転状態又は前記基板上の温度分布状態の内の少なくとも1つを制御する制御工程を更に含んでいることを特徴とする。   In order to solve the above-described problem, an optical disk manufacturing method according to claim 1 of the present invention is formed by sequentially laminating a recording layer (4) and a light transmission layer (6) on a substrate (2), and the light transmission A method of manufacturing an optical disc (D) in which at least one of recording and reproduction of an information signal is performed by light incident from a layer side, wherein a liquid ultraviolet curable resin is dropped on the recording layer of the substrate, A step of diffusing the ultraviolet curable resin on the surface of the recording layer while rotating the substrate around a rotation axis; and a step of forming the light transmission layer by curing the diffused ultraviolet curable resin. And a control step of controlling at least one of the rotation state of the substrate or the temperature distribution state on the substrate according to the measurement result while measuring the film thickness of the ultraviolet curable resin. Have And wherein the door.

また、本願請求項2に記載の光ディスクの製造方法は、基板上に記録層及び光透過層が順次積層されて形成され、前記光透過層側から入射される光によって情報信号の記録及び再生の少なくとも一方が行われる光ディスクの製造方法であって、前記基板の記録層上に液状の紫外線硬化樹脂を滴下し、前記基板の中心を回転軸として前記基板を回転させつつ前記紫外線硬化樹脂を前記記録層の表面に拡散させる工程と、前記拡散された紫外線硬化樹脂を硬化させて前記光透過層を形成する工程と、前記光透過層を形成する過程で前記紫外線硬化樹脂の膜厚を測定する工程と、を含んで構成され、先に測定された前記膜厚の測定結果に応じて前記基板の回転状態、前記紫外線硬化樹脂の滴下状態、又は前記基板上の温度分布状態の内の少なくとも1つを制御する制御工程を更に含んでいることを特徴とする。   The optical disk manufacturing method according to claim 2 of the present invention is such that a recording layer and a light transmission layer are sequentially laminated on a substrate, and information signals are recorded and reproduced by light incident from the light transmission layer side. A method of manufacturing an optical disc in which at least one of them is performed, wherein a liquid ultraviolet curable resin is dropped on a recording layer of the substrate, and the substrate is rotated with the center of the substrate as a rotation axis. A step of diffusing to the surface of the layer, a step of curing the diffused ultraviolet curable resin to form the light transmissive layer, and a step of measuring the film thickness of the ultraviolet curable resin in the process of forming the light transmissive layer. And at least one of a rotation state of the substrate, a dripping state of the ultraviolet curable resin, or a temperature distribution state on the substrate according to the measurement result of the film thickness measured previously. Characterized in that further comprises a control step of controlling One.

以下、本願の最良の実施形態について添付図面に基づいて説明する。   Hereinafter, the best embodiment of the present application will be described with reference to the accompanying drawings.

まず、本願の光ディスクの製造方法によって製造される光ディスクについて図1を用いて説明する。   First, an optical disk manufactured by the optical disk manufacturing method of the present application will be described with reference to FIG.

図1に示すように、光ディスクDは、中心に孔部2aを有する環状の基板2を有しており、当該基板2は、アクリル樹脂、ポリカーボネート(PC)樹脂、ポリオレフィン樹脂等の樹脂材料又はガラス材料等にて形成されている。基板2の片面の表面には、射出成形により、情報信号に対応するピット又はグルーブの凹凸2bが形成され、当該ピット又はグルーブが形成されている面が記録面となっている。当該記録面上には、例えば、書換不能な光記録層、追記型光記録層、相変化型光記録層のいずれか1つからなる記録層4を有して構成されている。   As shown in FIG. 1, the optical disc D has an annular substrate 2 having a hole 2a in the center. The substrate 2 is made of resin material such as acrylic resin, polycarbonate (PC) resin, polyolefin resin, or glass. It is made of materials. On one surface of the substrate 2, pits or grooves asperities 2 b corresponding to information signals are formed by injection molding, and the surface on which the pits or grooves are formed is a recording surface. On the recording surface, for example, a recording layer 4 made of any one of an rewritable optical recording layer, a write once optical recording layer, and a phase change optical recording layer is provided.

また、当該記録層4の表面には、例えば、スピンコート法により、光透過層6が形成される。当該光透過層6は、紫外線硬化樹脂が当該光ディスクDの表面の全面に均一の膜厚で形成されている。   Further, the light transmission layer 6 is formed on the surface of the recording layer 4 by, for example, spin coating. In the light transmission layer 6, an ultraviolet curable resin is formed on the entire surface of the optical disk D with a uniform film thickness.

このような基板2上に記録層4及び光透過層6が順次積層されて形成された光ディスクDは、前記光透過層6側から入射される光によって情報信号の記録及び再生の少なくとも一方が行われるようになっている。また、当該光ディスクDは、その基板2の表面全面に亘って光透過層6が均一な膜厚で形成されているため、当該光ディスクDは、記録再生時において、安定して情報信号の再生又は記録が可能となっている。   The optical disc D formed by sequentially laminating the recording layer 4 and the light transmission layer 6 on the substrate 2 performs at least one of recording and reproduction of information signals by light incident from the light transmission layer 6 side. It has come to be. In addition, since the optical transmission layer 6 is formed with a uniform film thickness over the entire surface of the substrate 2, the optical disc D can stably reproduce or reproduce an information signal during recording and reproduction. Recording is possible.

次に、光透過層を形成するための光ディスク製造装置について図2を用いて説明する。   Next, an optical disk manufacturing apparatus for forming a light transmission layer will be described with reference to FIG.

本実施形態の光ディスク製造装置Sは、記録層4が形成された基板2を回転させつつ、当該基板2の表面に紫外線硬化樹脂からなる液状樹脂を滴下して光透過層6からなる硬化膜を光ディスクDの表面全面に亘って均一な膜厚で形成する装置である。   The optical disk manufacturing apparatus S of the present embodiment rotates the substrate 2 on which the recording layer 4 is formed, and drops a liquid resin made of an ultraviolet curable resin onto the surface of the substrate 2 to form a cured film made of the light transmission layer 6. This is an apparatus for forming a uniform film thickness over the entire surface of the optical disk D.

図2に示すように、この光ディスク製造装置Sは、記録層4が形成された基板2が載置されるステージ11と、このステージ11を回転させる回転機構部14と、基板2上に紫外線硬化樹脂を滴下する樹脂滴下部16と、前記紫外線硬化樹脂を加熱する樹脂加熱部18と、前記紫外線硬化樹脂を硬化させる樹脂硬化部20と、前記紫外線硬化樹脂により形成される光透過層の膜厚を測定する膜厚測定部25と、を含んで構成されている。なお、各部14、16、18、20、25はシステム制御部30により統括してコントロールされる。   As shown in FIG. 2, the optical disc manufacturing apparatus S includes a stage 11 on which a substrate 2 on which a recording layer 4 is formed, a rotating mechanism unit 14 that rotates the stage 11, and UV curing on the substrate 2. A resin dripping part 16 for dripping resin, a resin heating part 18 for heating the ultraviolet curable resin, a resin curing part 20 for curing the ultraviolet curable resin, and a film thickness of the light transmission layer formed by the ultraviolet curable resin. And a film thickness measuring unit 25 that measures the above. Each unit 14, 16, 18, 20, 25 is controlled by the system control unit 30.

ステージ11は略円形状に形成され、その中心には基板2の内径とほぼ同形状に形成された突起が設けられている。この突起には、基板2を固定するための固定手段が設けられており、基板2が着脱可能に固定される。   The stage 11 is formed in a substantially circular shape, and a projection formed in substantially the same shape as the inner diameter of the substrate 2 is provided at the center thereof. The protrusion is provided with a fixing means for fixing the substrate 2, and the substrate 2 is detachably fixed.

回転機構部14は、当該ステージを回転させるためのスピンドルモータを含んで構成され、前記ステージ11と図示しない軸受けを介して接続されている。この回転機構部14は、システム制御部30により管理されて、スピンドルモータの回転速度を制御して当該ステージ11の回転速度を制御するようになっている。これにより基板2の回転状態を制御可能になっている。   The rotation mechanism unit 14 includes a spindle motor for rotating the stage, and is connected to the stage 11 via a bearing (not shown). The rotation mechanism unit 14 is managed by the system control unit 30 and controls the rotation speed of the spindle motor by controlling the rotation speed of the spindle motor. Thereby, the rotation state of the substrate 2 can be controlled.

樹脂滴下部16は、図示しない紫外線硬化樹脂を貯蔵するタンクと、当該紫外線硬化樹脂を基板の規定された位置まで導く供給ノズル16aと、図示しないタンクから所定量の紫外線硬化樹脂を供給ノズル16aへと供給する供給量調整手段と、を含んで構成される。この樹脂滴下部16は、システム制御部30により管理されて、当該供給量調整手段を制御して前記供給ノズル16aから基板2上に滴下される紫外線硬化樹脂の滴下量を制御するようになっている。これにより紫外線硬化樹脂の滴下状態を制御可能になっている。   The resin dripping unit 16 includes a tank for storing an ultraviolet curable resin (not shown), a supply nozzle 16a for guiding the ultraviolet curable resin to a specified position on the substrate, and a predetermined amount of the ultraviolet curable resin from the tank (not shown) to the supply nozzle 16a. And a supply amount adjusting means to be supplied. The resin dropping unit 16 is managed by the system control unit 30 and controls the supply amount adjusting means to control the dropping amount of the ultraviolet curable resin dropped onto the substrate 2 from the supply nozzle 16a. Yes. Thereby, the dripping state of the ultraviolet curable resin can be controlled.

樹脂加熱部18は、例えば、遠赤外線を照射するIRヒータ18aを含んで構成され、前記基板2の上方に配置される。   The resin heating unit 18 includes, for example, an IR heater 18 a that irradiates far infrared rays, and is disposed above the substrate 2.

また、樹脂硬化部20は、紫外線を照射するUVランプ20aを含んで構成され、前記基板2の上方に配置される。   The resin curing unit 20 includes a UV lamp 20 a that irradiates ultraviolet rays, and is disposed above the substrate 2.

前記IRヒータ18a又はUVランプ20aは、図示しないが、所定の光量の遠赤外線又は紫外線を照射する照射手段と、光量を調整する調整手段と、を含んで構成される。また、当該IRヒータ18a又はUVランプ20aは、基板2の一部の領域に所定の光量を照射するタイプと、基板の半径方向全体、又は基板全体に所定の光量を照射するタイプなど複数の種類が存在し、用途に応じて適宜選択されて使用される。   Although not shown, the IR heater 18a or the UV lamp 20a includes an irradiating unit that irradiates far infrared rays or ultraviolet rays having a predetermined light amount and an adjusting unit that adjusts the light amount. Further, the IR heater 18a or the UV lamp 20a has a plurality of types such as a type that irradiates a predetermined amount of light to a partial region of the substrate 2, and a type that irradiates the entire radial direction of the substrate or the entire substrate. Is appropriately selected according to the application and used.

本実施形態のIRヒータ18aは、基板2の半径方向における一部の領域に遠赤外線を照射するタイプのものを使用しているとともに、基板2の内側から外側へとIRヒータ本体を移動する移動手段を更に含んで構成されている。IRヒータ18aは、システム制御部30により管理されて、IRヒータ本体を基板2の内側から外側へと移動しつつ、基板2に対して遠赤外線を所定の光量で照射することで、基板2の半径方向全体に遠赤外線を照射することが可能となっている。これにより、一定の領域毎に分けて基板を所定の温度に加熱することが可能となっており、基板2上の温度分布状態も管理(制御)可能になっている。また、基板2を加熱することで当該基板2上に滴下される紫外線硬化樹脂の流動性を高めることが可能となっている。   The IR heater 18a of the present embodiment uses a type that irradiates far infrared rays to a partial region in the radial direction of the substrate 2 and moves the IR heater main body from the inside to the outside of the substrate 2. The apparatus further includes means. The IR heater 18a is managed by the system control unit 30, and irradiates the substrate 2 with far infrared rays with a predetermined amount of light while moving the IR heater body from the inside to the outside of the substrate 2, thereby It is possible to irradiate far-infrared rays over the entire radial direction. Thus, the substrate can be heated to a predetermined temperature separately for each predetermined region, and the temperature distribution state on the substrate 2 can be managed (controlled). In addition, by heating the substrate 2, the fluidity of the ultraviolet curable resin dropped on the substrate 2 can be increased.

また、本実施形態のUVランプ20aは、基板2の上下方向にUVランプ本体を移動する移動手段を更に含んで構成されている。UVランプ20aは、システム制御部30により管理されて、UVランプ本体を基板2へ近づけたり遠ざけたりしつつ、基板2に対して紫外線を照射することで、基板2への照射領域を変えることが可能となっている。また、紫外線の照射領域を変え、一定の領域毎に分けて紫外線硬化樹脂に紫外線を照射することにより、当該紫外線硬化樹脂をその領域毎に硬化させることが可能となっており、基板2上の温度分布状態も管理(制御)可能になっている。   Further, the UV lamp 20a of the present embodiment further includes a moving means for moving the UV lamp main body in the vertical direction of the substrate 2. The UV lamp 20 a is managed by the system control unit 30, and the irradiation area to the substrate 2 can be changed by irradiating the substrate 2 with ultraviolet rays while moving the UV lamp main body closer to or away from the substrate 2. It is possible. Further, by changing the ultraviolet irradiation region and irradiating the ultraviolet curable resin with ultraviolet rays separately for each predetermined region, the ultraviolet curable resin can be cured for each region. The temperature distribution state can also be managed (controlled).

以上に説明したように、これらIRヒータ18a及びUVランプ20aは、システム制御部30により管理されて、当該IRヒータ18a又はUVランプ20aの位置、光量が制御されて、基板2への紫外線又は遠赤外線の照射範囲や照射量が制御されるようになっている。   As described above, the IR heater 18a and the UV lamp 20a are managed by the system control unit 30, and the position and amount of light of the IR heater 18a or the UV lamp 20a are controlled. The infrared irradiation range and irradiation amount are controlled.

膜厚測定部25は、例えば、赤外光を基板に照射する照射部と、基板から反射される赤外光を受光する受光部と、を含むセンサ25a〜25cによって構成され、光透過層6の膜の表面の反射とその下のスパッタ面との反射の差を読み取ることにより、光透過層6の膜厚を測定するようになっている。   The film thickness measurement unit 25 includes, for example, sensors 25 a to 25 c including an irradiation unit that irradiates a substrate with infrared light and a light receiving unit that receives infrared light reflected from the substrate. The film thickness of the light transmission layer 6 is measured by reading the difference between the reflection of the surface of the film and the reflection of the sputter surface below it.

当該センサ25a〜25cは、基板2の半径方向において、複数の任意の地点における光透過層6の膜厚を測定するために設けられ、例えば、図2に示すように、基板2の半径方向において、内周領域、中央領域、外周領域の上方にそれぞれ設けられる。そして、各センサ25a〜25cは、システム制御部30により管理されて、それぞれが起動され、各センサ25a〜25cによって内周領域、中央領域、外周領域の3領域に対応する光透過層6の膜厚が測定されるようになっている。   The sensors 25a to 25c are provided to measure the film thickness of the light transmission layer 6 at a plurality of arbitrary points in the radial direction of the substrate 2, for example, in the radial direction of the substrate 2 as shown in FIG. Are provided above the inner peripheral region, the central region, and the outer peripheral region, respectively. And each sensor 25a-25c is managed by the system control part 30, and each is started, Each film | membrane of the light transmissive layer 6 corresponding to three area | regions of an inner peripheral area | region, a center area | region, and an outer peripheral area | region by each sensor 25a-25c. The thickness is measured.

なおセンサ25a〜25cを基板2の半径方向に移動する移動手段を備え、1つのセンサを所定の速度で制御して内側から外側に移動させ、内周領域、中央領域、外周領域の順に光透過層6の膜厚を測定するようにしてもよい。   The sensor 25a-25c is provided with a moving means for moving the sensor 25 in the radial direction of the substrate 2, and one sensor is controlled at a predetermined speed to move from the inside to the outside. The film thickness of the layer 6 may be measured.

システム制御部30は、主として演算機能を有するCPU(Central Processing Unit)、作業用RAM、及び各種データやプログラムを記憶するROMを備えて構成されている。当該CPUが、例えばROMに記憶された各種プログラムを実行することにより、各部を制御するとともに光ディスク製造装置S全体を統括制御する。   The system control unit 30 includes a central processing unit (CPU) having a calculation function, a working RAM, and a ROM that stores various data and programs. The CPU executes various programs stored in the ROM, for example, thereby controlling each part and overall controlling the entire optical disc manufacturing apparatus S.

システム制御部30は、膜厚測定部25の各センサ25a〜25cにより測定した膜厚に基づいて、光ディスクD全面に亘って均一な膜厚にすべく、IRヒータやUVランプの光量、位置、動作速度、動作時間を決定するパラメータや基板2上に滴下される紫外線硬化樹脂の供給量や滴下のタイミングを決定するパラメータ、スピンドルモータの回転速度、動作時間、動作タイミングを決定するパラメータを最適な値に補正し、その補正値を用いて各部14、16、18、20、25を制御する。   Based on the film thickness measured by each of the sensors 25a to 25c of the film thickness measurement unit 25, the system control unit 30 determines the light amount, position, and position of the IR heater and UV lamp so as to obtain a uniform film thickness over the entire surface of the optical disc D. Parameters that determine the operating speed and operating time, parameters that determine the amount of UV-curing resin dripped onto the substrate 2 and timing of dropping, parameters that determine the rotational speed, operating time, and operating timing of the spindle motor are optimal. It corrects to a value and controls each part 14, 16, 18, 20, 25 using the correction value.

具体的には、本実施形態では、システム制御部30は、予め定められた規定値でステージ11を回転制御しつつ、基板2上に滴下する紫外線硬化樹脂の供給量を調整するとともに、IRヒータを用いて基板2を加熱するとともに、基板2の半径方向の内周領域から外周領域に向かって設けられるセンサ25a〜25cを順々に駆動して紫外線硬化樹脂により形成される光透過層6の膜厚を測定する。そして、光透過層6の膜厚状態に基づいて、当該光透過層6の膜厚が光ディスク全体に亘って均一となるように、各パラメータの値を補正して、その補正値を用いて各部14、16、18、20、25を制御するようになっている。   Specifically, in this embodiment, the system control unit 30 adjusts the supply amount of the ultraviolet curable resin dripped onto the substrate 2 while controlling the rotation of the stage 11 with a predetermined value, and the IR heater. Of the light-transmitting layer 6 formed of an ultraviolet curable resin by sequentially driving the sensors 25a to 25c provided from the radially inner peripheral region to the outer peripheral region of the substrate 2. Measure the film thickness. Then, based on the film thickness state of the light transmission layer 6, the values of the respective parameters are corrected so that the film thickness of the light transmission layer 6 is uniform over the entire optical disk, and each part is used using the correction value. 14, 16, 18, 20, 25 are controlled.

このように形成された光ディスクDは、光透過層6の膜厚を測定し、その測定結果に応じて各パラメータの値を補正して、その補正値を用いて各部14、16、18、20、25を制御して製造されるので、光ディスクDの全面に亘って光透過層6の膜厚を均一に形成可能であるとともに、製造作業所の室内温度や樹脂の粘度によって品質が左右されることなく品質を均一にできる。   The optical disk D formed in this way measures the film thickness of the light transmission layer 6, corrects the value of each parameter according to the measurement result, and uses the correction value to each of the parts 14, 16, 18, 20 25, the thickness of the light transmission layer 6 can be uniformly formed over the entire surface of the optical disc D, and the quality depends on the room temperature of the manufacturing work place and the viscosity of the resin. The quality can be made uniform without any problems.

次に、光ディスク製造装置を用いて光ディスクに光透過層を形成する一例について説明する。   Next, an example of forming a light transmission layer on an optical disc using an optical disc manufacturing apparatus will be described.

〈実施例1〉
本実施例1は、予め各部14、16、18、20、25を制御するためのパラメータを規定しておき、そのパラメータに基づいて各部14、16、18、20、25を制御して光ディスクDの光透過層6を形成する場合において、当該光透過層6の形成過程において、光透過層6の膜厚を測定し、この測定結果に基づいて、前記光透過層6を基板2の全面に亘って均一な膜厚にすべく前記パラメータを補正し、その補正した値によって各部14、16、18、20、25を制御して光ディスクDを製造するようになっている。
<Example 1>
In the first embodiment, parameters for controlling the respective units 14, 16, 18, 20, 25 are defined in advance, and the respective units 14, 16, 18, 20, 25 are controlled based on the parameters to control the optical disc D. When the light transmission layer 6 is formed, the thickness of the light transmission layer 6 is measured in the formation process of the light transmission layer 6, and the light transmission layer 6 is applied to the entire surface of the substrate 2 based on the measurement result. The above parameters are corrected so as to obtain a uniform film thickness, and the optical disk D is manufactured by controlling the respective parts 14, 16, 18, 20, and 25 according to the corrected values.

まず、図2において、表面に凹凸部が形成された記録層4が成膜された基板2を、その成膜面を上にしてステージ11に取り付けた状態で、システム制御部30は、予め規定された回転数(低速)でスピンドルモータを駆動させ、基板2を回転させながら、樹脂滴下部16によって記録面上に滴下される液状の紫外線硬化樹脂の滴下量及びIRヒータの光量や赤外線の照射時間を制御する。これにより、基板2の記録層4上に液状の紫外線硬化樹脂が滴下され、基板2の回転による遠心力によって前記紫外線硬化樹脂が前記記録層4の表面に拡散される。   First, in FIG. 2, the system control unit 30 defines in advance a state in which the substrate 2 on which the recording layer 4 having a concavo-convex portion is formed is attached to the stage 11 with the film formation surface facing upward. While the spindle motor is driven at the rotated speed (low speed) and the substrate 2 is rotated, the dropping amount of the liquid UV curable resin dropped on the recording surface by the resin dropping portion 16, the light amount of the IR heater, and the irradiation of infrared rays Control the time. Thereby, a liquid ultraviolet curable resin is dropped on the recording layer 4 of the substrate 2, and the ultraviolet curable resin is diffused on the surface of the recording layer 4 by the centrifugal force generated by the rotation of the substrate 2.

次に、システム制御部30は、予め規定された回転数(高速)でモータを駆動させ、更に紫外線硬化樹脂を基板2の外側へと拡散させつつ、膜厚測定部25の各センサ25a〜25cを制御して光透過層6の膜厚測定を開始する。具体的には、各センサ25a〜25cにより、基板2の内周領域、中央領域、外周領域の順に光透過層6の膜厚を測定する。   Next, the system control unit 30 drives the motor at a predetermined number of rotations (high speed), and further diffuses the ultraviolet curable resin to the outside of the substrate 2, while the sensors 25 a to 25 c of the film thickness measurement unit 25. Is controlled to start measuring the film thickness of the light transmission layer 6. Specifically, the film thickness of the light transmission layer 6 is measured in the order of the inner peripheral region, the central region, and the outer peripheral region of the substrate 2 by the sensors 25a to 25c.

次に、システム制御部30は、その測定結果に基づいて、光透過層6の膜厚を均一にすべく、各部14、16、18、20、25を制御するためのパラメータを最適な補正値に補正し、その補正値でもって各部14、16、18、20、25を制御し、拡散された紫外線硬化樹脂を硬化させて光透過層6を形成して、処理を終了する。   Next, based on the measurement result, the system control unit 30 sets the parameters for controlling the units 14, 16, 18, 20, and 25 to the optimum correction values so as to make the film thickness of the light transmission layer 6 uniform. The portions 14, 16, 18, 20, and 25 are controlled by the correction values, the diffused ultraviolet curable resin is cured to form the light transmission layer 6, and the process is terminated.

具体的には、まず基板2の内周領域における光透過層6の膜厚を測定し、当該膜厚が所定の基準値に達したらUVランプによって当該内周領域に紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂を硬化させる。これにより、基板2が回転してつづけても紫外線硬化樹脂が外側に流れ出すことがないため、内周領域の光透過膜6は紫外線硬化樹脂が硬化した時の膜厚が維持される。同様に、中央領域、外側領域の順に光透過層6が形成されることにより、光ディスクD全面に亘ってその膜厚を均一にすることが可能となる。   Specifically, first, the film thickness of the light transmission layer 6 in the inner peripheral region of the substrate 2 is measured, and when the film thickness reaches a predetermined reference value, the inner peripheral region is irradiated with ultraviolet rays by a UV lamp, and ultraviolet curing is performed. The resin is cured. Thereby, even if the substrate 2 continues to rotate, the ultraviolet curable resin does not flow outward, so that the light transmission film 6 in the inner peripheral region maintains the film thickness when the ultraviolet curable resin is cured. Similarly, by forming the light transmission layer 6 in the order of the central region and the outer region, it becomes possible to make the film thickness uniform over the entire surface of the optical disc D.

なお、上記に示すように、1枚毎に光ディスクDを製造する際に適宜パラメータを補正する変わりに、所定のロット数を予め規定しておき、そのロット数ごとにパラメータを補正するようにしても構わない。   As described above, instead of correcting the parameters as appropriate when manufacturing the optical disc D for each sheet, a predetermined number of lots is defined in advance, and the parameters are corrected for each number of lots. It doesn't matter.

〈実施例2〉
実施例1が光透過層を形成する際に各部14、16、18、20、25を制御するためのパラメータを光ディスクD毎に随時適切なパラメータに補正するのに対して、本実施例2は、光透過層6の形成過程における当該光透過層6の膜厚分布を測定しつつ、予め規定されたパラメータを用いて光ディスクDを製造した後、当該光透過層6の膜厚分布の測定結果に基づいて、前記光透過層6を基板2の全面に亘って均一な膜厚にすべく前記パラメータを最適な値に補正し、その補正した値によって各部14、16、18、20、25を制御して、以後の光ディスクDを製造するようになっている。
<Example 2>
While the first embodiment corrects the parameters for controlling the units 14, 16, 18, 20, and 25 to appropriate parameters for each optical disc D when the light transmission layer is formed, the second embodiment Then, after measuring the film thickness distribution of the light transmission layer 6 in the formation process of the light transmission layer 6 and manufacturing the optical disc D using parameters specified in advance, the measurement result of the film thickness distribution of the light transmission layer 6 Based on the above, the parameter is corrected to an optimum value so that the light transmission layer 6 has a uniform film thickness over the entire surface of the substrate 2, and the respective parts 14, 16, 18, 20, 25 are changed according to the corrected value. The subsequent optical disc D is manufactured under control.

まず、図2において、表面に凹凸部が形成された記録層4が成膜された基板2を、その成膜面を上にしてステージ11に取り付けた状態で、システム制御部30は、予め規定された回転数(低速)でスピンドルモータを駆動させ、基板2を回転させながら、樹脂滴下部16によって記録面上に滴下される液状の紫外線硬化樹脂の滴下量及びIRヒータの光量や赤外線の照射時間を制御する。これにより、基板2の記録層上に液状の紫外線硬化樹脂が滴下され、基板2の回転による遠心力によって前記紫外線硬化樹脂が前記記録層4の表面に拡散される。   First, in FIG. 2, the system control unit 30 defines in advance a state in which the substrate 2 on which the recording layer 4 having a concavo-convex portion is formed is attached to the stage 11 with the film formation surface facing upward. While the spindle motor is driven at the rotated speed (low speed) and the substrate 2 is rotated, the dropping amount of the liquid UV curable resin dropped on the recording surface by the resin dropping portion 16, the light amount of the IR heater, and the irradiation of infrared rays Control the time. Thereby, a liquid ultraviolet curable resin is dropped on the recording layer of the substrate 2, and the ultraviolet curable resin is diffused on the surface of the recording layer 4 by the centrifugal force generated by the rotation of the substrate 2.

次に、システム制御部30は、予め規定された回転数(高速)でモータを駆動させ、更に紫外線硬化樹脂を基板2の外側へと拡散させつつ、膜厚測定部25の各センサ25a〜25cを制御して光透過層6の膜厚測定を開始する。具体的には、各センサ25a〜25cにより、基板2の内周領域、中央領域、外周領域の順に光透過層6の膜厚を測定する。   Next, the system control unit 30 drives the motor at a predetermined number of rotations (high speed), and further diffuses the ultraviolet curable resin to the outside of the substrate 2, while the sensors 25 a to 25 c of the film thickness measurement unit 25. Is controlled to start measuring the film thickness of the light transmission layer 6. Specifically, the film thickness of the light transmission layer 6 is measured in the order of the inner peripheral region, the central region, and the outer peripheral region of the substrate 2 by the sensors 25a to 25c.

次に、システム制御部30は、UVランプを制御して、基板2上に拡散された紫外線硬化樹脂を硬化させて光透過層6を形成する。   Next, the system control unit 30 controls the UV lamp to cure the ultraviolet curable resin diffused on the substrate 2 to form the light transmission layer 6.

次に、システム制御部30は、各センサ25a〜25cによる光透過層6の膜厚の測定結果に基づいて、光透過層6の膜厚を基板2の全体に亘って均一にすべく、各部14、16、18、20、25を制御するためのパラメータを最適な補正値に補正して処理を終了する。なお、以後の光ディスクDは、その最適な補正値でもって各部14、16、18、20、25を制御して、光透過層6が形成される。   Next, the system control unit 30 is configured to make each film thickness of the light transmission layer 6 uniform over the entire substrate 2 based on the measurement results of the film thickness of the light transmission layer 6 by the sensors 25a to 25c. The parameters for controlling 14, 16, 18, 20, and 25 are corrected to optimum correction values, and the process is terminated. In the subsequent optical disk D, the light transmission layer 6 is formed by controlling the respective parts 14, 16, 18, 20, 25 with the optimum correction value.

なお、本実施形態は一形態であって、この形態に限定されるものではない。例えば、膜厚測定部25は、本実施形態では、センサ25a〜25cにより、基板2の内側、中央、外側の3点を測定するようになっているが、もっと多くのセンサを配置し、基板2の半径方向の膜厚を数多く測定すれば、膜厚を均一に制御できる精度を上げることが可能となる。また、適宜、各部を組み合わせて一体化したり、一般的に用いられている部品などに変更したりしても構わない。   In addition, this embodiment is one form and is not limited to this form. For example, in the present embodiment, the film thickness measuring unit 25 measures three points on the inside, the center, and the outside of the substrate 2 by the sensors 25a to 25c. If many film thicknesses in the radial direction 2 are measured, it is possible to increase the accuracy with which the film thickness can be controlled uniformly. In addition, the components may be appropriately combined and integrated, or may be changed to a commonly used component.

本願の光ディスク製造方法により製造される光ディスクを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the optical disk manufactured by the optical disk manufacturing method of this application. 光ディスク製造装置の概略構成例を示す図である。It is a figure which shows the schematic structural example of an optical disk manufacturing apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

D 光ディスク
2 基板
4 記録層
6 光透過層
D Optical disk 2 Substrate 4 Recording layer 6 Light transmission layer

Claims (3)

基板上に記録層及び光透過層が順次積層されて形成され、前記光透過層側から入射される光によって情報信号の記録及び再生の少なくとも一方が行われる光ディスクの製造方法であって、
前記基板の記録層上に液状の紫外線硬化樹脂を滴下し、前記基板の中心を回転軸として前記基板を回転させつつ前記紫外線硬化樹脂を前記記録層の表面に拡散させる工程と、
前記拡散された紫外線硬化樹脂を硬化させて前記光透過層を形成する工程と、
を含んで構成され、
前記紫外線硬化樹脂の膜厚を測定しつつ、その測定結果に応じて前記基板の回転状態又は前記基板上の温度分布状態の内の少なくとも1つを制御する制御工程を更に含んでいることを特徴とする光ディスクの製造方法。
A method of manufacturing an optical disc, wherein a recording layer and a light transmission layer are sequentially laminated on a substrate, and at least one of recording and reproduction of an information signal is performed by light incident from the light transmission layer side,
Dropping a liquid ultraviolet curable resin on the recording layer of the substrate and diffusing the ultraviolet curable resin on the surface of the recording layer while rotating the substrate around the center of the substrate;
Curing the diffused ultraviolet curable resin to form the light transmission layer;
Comprising
The method further includes a control step of controlling at least one of the rotation state of the substrate or the temperature distribution state on the substrate according to the measurement result while measuring the film thickness of the ultraviolet curable resin. An optical disc manufacturing method.
基板上に記録層及び光透過層が順次積層されて形成され、前記光透過層側から入射される光によって情報信号の記録及び再生の少なくとも一方が行われる光ディスクの製造方法であって、
前記基板の記録層上に液状の紫外線硬化樹脂を滴下し、前記基板の中心を回転軸として前記基板を回転させつつ前記紫外線硬化樹脂を前記記録層の表面に拡散させる工程と、
前記拡散された紫外線硬化樹脂を硬化させて前記光透過層を形成する工程と、
前記光透過層を形成する過程で前記紫外線硬化樹脂の膜厚を測定する工程と、
を含んで構成され、
先に測定された前記膜厚の測定結果に応じて前記基板の回転状態、前記紫外線硬化樹脂の滴下状態、又は前記基板上の温度分布状態の内の少なくとも1つを制御する制御工程を更に含んでいることを特徴とする光ディスクの製造方法。
A method of manufacturing an optical disc, wherein a recording layer and a light transmission layer are sequentially laminated on a substrate, and at least one of recording and reproduction of an information signal is performed by light incident from the light transmission layer side,
Dropping a liquid ultraviolet curable resin on the recording layer of the substrate and diffusing the ultraviolet curable resin on the surface of the recording layer while rotating the substrate around the center of the substrate;
Curing the diffused ultraviolet curable resin to form the light transmission layer;
Measuring the film thickness of the ultraviolet curable resin in the process of forming the light transmission layer;
Comprising
The method further includes a control step of controlling at least one of the rotation state of the substrate, the dripping state of the ultraviolet curable resin, or the temperature distribution state on the substrate according to the measurement result of the film thickness measured previously. A method of manufacturing an optical disc, wherein
前記膜厚の測定は、基板の内周領域、中央領域、外周領域の内の少なくとも3点であることを特徴とする請求項1、又は2に記載の光ディスクの製造方法。   3. The method of manufacturing an optical disk according to claim 1, wherein the measurement of the film thickness is at least three points out of an inner peripheral area, a central area, and an outer peripheral area of the substrate.
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