JP2008163407A - Plating apparatus, submerged roll, and film plating method - Google Patents
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Abstract
【課題】低張力でフィルムを搬送させても、特別な外部動力を用いずに、フィルムが液中ロールの外周面上でスリップしてフィルム表面に擦り傷が発生すること防止しながらフィルム表面に連続的にめっきを実施することができるめっき装置を提供する。
【解決手段】少なくとも1つのめっき槽と、少なくとも1つの水洗槽とを有し、該めっき槽内及び該水洗槽内にはそれぞれフィルムの搬送方向を変える液中ロールを設け、フィルムの表面に連続的にめっき処理するめっき装置であって、少なくともめっき槽の一つに設けられた液中ロールの表面に、該ロール内部に供給されためっき浴液循環液を排出して該ロールの表面とフィルムの間に液膜を形成しフィルムを浮上させる、複数の透孔が設けられためっき装置。
【選択図】図2
[PROBLEMS] To prevent a film from slipping on the outer peripheral surface of a submerged roll and causing a scratch on the film surface without using special external power even when the film is conveyed at a low tension. A plating apparatus capable of performing plating automatically.
SOLUTION: At least one plating tank and at least one water washing tank are provided, and in the plating tank and the water washing tank, submerged rolls for changing the film transport direction are provided, and continuous on the surface of the film. A plating apparatus for performing a plating process on the surface of the roll by discharging the plating bath liquid circulating liquid supplied to the inside of the roll on at least the surface of the submerged roll provided in one of the plating tanks A plating apparatus provided with a plurality of through holes for forming a liquid film between them and causing the film to float.
[Selection] Figure 2
Description
本発明は、フィルム表面に連続的にめっき処理するめっき装置に関するものであり、より詳細にはフィルムの搬送方向を変えるために設けられた液中ロールを改良しためっき装置およびフィルムのめっき方法に関するものである。 The present invention relates to a plating apparatus for continuously plating a film surface, and more particularly to a plating apparatus and a film plating method in which a submerged roll provided for changing the film transport direction is improved. It is.
従来、細線状の導電性金属部を持つ光透過性導電性材料には、代表的なものとして光透過性電磁波遮蔽材料などが挙げられる。光透過性を有する電磁波遮蔽材料の製造方法として、例えば、特許文献1には、フィルムなどの支持体上に銀塩含有層が設けられた感光材料を用いて、これに露光・現像処理して金属銀部を形成し、当該金属銀部上にめっきして導電性金属部を形成する方法が開示されている。特許文献1に記載されている方法は、高い電磁波遮蔽性と高い透明性とを同時に有する光透過性電磁波遮蔽材料を製造可能なものである。 Conventionally, as a light-transmitting conductive material having a thin-line-shaped conductive metal portion, a light-transmitting electromagnetic wave shielding material or the like can be cited as a typical example. As a method for producing an electromagnetic wave shielding material having optical transparency, for example, in Patent Document 1, a photosensitive material in which a silver salt-containing layer is provided on a support such as a film is used, and this is exposed and developed. A method of forming a metallic silver portion and plating the metallic silver portion to form a conductive metallic portion is disclosed. The method described in Patent Document 1 can manufacture a light-transmitting electromagnetic wave shielding material having high electromagnetic wave shielding properties and high transparency at the same time.
ところで、上記のようなフィルムにめっきする場合、めっき槽と水洗槽とが多数設けられた連続めっき装置にてめっき処理することが広く行われている。当該めっき槽と水洗槽には、液中でフィルムの搬送方向を変えるための液中ローラーが設けられている。この液中ローラーは非駆動方式のフリーローラーであって、軸受を介して液槽に取付けられ、搬送される樹脂フィルムとの間の摩擦により回転させられるものである。 By the way, when plating on the film as described above, it is widely performed to perform a plating process in a continuous plating apparatus provided with a large number of plating tanks and washing tanks. The plating tank and the washing tank are provided with a submerged roller for changing the film transport direction in the liquid. This submerged roller is a non-driving type free roller that is attached to the liquid tank via a bearing and rotated by friction with the resin film being conveyed.
しかし、フィルム上に連続的にめっきを施してフィルム状導電材料を製造する際は、製品仕様の最重要事項である寸法安定性(めっき前後の樹脂フィルムの伸縮度)を満足させる必要があり、そのために低張力で樹脂フィルムを搬送させる必要がある。一方、寸法安定性を確保するために樹脂フィルムの張力を低下させると、フリーローラーによる液中ローラーとフィルムとの接触面に所々液膜が発生し、摩擦力が低下するために該液中ローラーへ伝達される回転力が低下してしまうことがあり、その結果液中ローラーの回転速度が樹脂フィルムの搬送速度と同期しなくなり該フィルムが液中ローラーの外周面上でスリップし、樹脂フィルム表面に擦り傷が発生するという問題があった。このスリップの発生はめっき液中で顕著に発生している。 However, when producing a film-like conductive material by continuously plating on the film, it is necessary to satisfy the dimensional stability (the degree of expansion and contraction of the resin film before and after plating), which is the most important product specification. Therefore, it is necessary to convey the resin film with low tension. On the other hand, when the tension of the resin film is lowered to ensure dimensional stability, a liquid film is generated on the contact surface between the submerged roller and the film due to the free roller, and the frictional force is lowered. As a result, the rotational speed of the submerged roller is not synchronized with the transport speed of the resin film, and the film slips on the outer peripheral surface of the submerged roller. There was a problem that scratches occurred. The occurrence of this slip is noticeably generated in the plating solution.
これに対して、例えば、特許文献2には、液中ローラーに駆動手段の動力により回転する従動手段を固着し、さらに駆動手段の動力を従動手段に伝えるための動力伝達手段を介在せしめて、駆動ローラーにより液中ローラーをフィルムの搬送速度と同一の速度で回転させるよう構成した竪型めっき装置が記載されている。しかし、この装置では外部からのエネルギーを必要とするものであった。このような特別な外部エネルギーの供給の必要のないスリップ防止手段が求められていた。
本発明の目的は、低張力でフィルムを搬送させても、特別な外部動力を用いずに、フィルムが液中ロールの外周面上でスリップしてフィルム表面に擦り傷が発生すること防止しながらフィルム表面に連続的にめっきを実施することができる、液中ロール、めっき装置およびフィルムのめっき方法を提供することにある。 The object of the present invention is to prevent the film from slipping on the outer peripheral surface of the submerged roll and causing scratches on the film surface without using special external power even when the film is conveyed at a low tension. An object of the present invention is to provide a submerged roll, a plating apparatus, and a film plating method capable of continuously performing plating on a surface.
本発明は、
(1)少なくとも1つのめっき槽と、少なくとも1つの水洗槽とを有し、該めっき槽内及び該水洗槽内にはそれぞれフィルムの搬送方向を変える液中ロールを設け、フィルムの表面に連続的にめっき処理するめっき装置であって、少なくともめっき槽の一つに設けられた液中ロールの表面に、該ロール内部に供給されためっき浴液循環液を排出して該ロールの表面とフィルムの間に液膜を形成しフィルムを浮上させる、複数の透孔が設けられたことを特徴とするめっき装置、
(2)一方の端部に給液口が形成された多孔中空管からなる軸を備えたロールであって、左右一対のサイドシールが前記ロールの表面に設けられ、ロール表面には複数の透孔を有し、前記給液口に供給された液が前記ロール表面の透孔から外部に排出されることを特徴とするフィルム搬送用液中ロール、および、
(3)それぞれフィルムの搬送方向を変える液中ロールを設けた、少なくとも1つのめっき槽と、少なくとも1つの水洗槽にフィルムを搬送してフィルムの表面に連続的にめっき処理するめっき方法であって、少なくともめっき槽の一つに設けられた液中ロールの内部にめっき浴液循環液を供給して該ロールの表面に設けられた複数の透孔からロール外に排出し、該ロールの表面とフィルムの間に液膜を形成してフィルムを浮上させて、フィルムを搬送することを特徴とするフィルムのめっき方法
を提供するものである。
The present invention
(1) It has at least one plating tank and at least one water washing tank, and in the plating tank and the water washing tank, submerged rolls for changing the film transport direction are provided, and the film surface is continuous. A plating apparatus for performing a plating treatment on the surface of the roll and the film surface by discharging the circulating solution of the plating bath supplied to the inside of the roll to at least the surface of the submerged roll provided in one of the plating tanks. A plating apparatus characterized in that a plurality of through holes are provided to form a liquid film in between and float the film;
(2) A roll provided with a shaft composed of a porous hollow tube having a liquid supply port formed at one end, and a pair of left and right side seals are provided on the surface of the roll, and a plurality of rolls are provided on the roll surface. A liquid roll for transporting a film, characterized by having a through-hole, and the liquid supplied to the liquid supply port is discharged to the outside from the through-hole on the roll surface; and
(3) A plating method in which a film is transported to at least one plating tank and at least one water-washing tank, each of which is provided with a submerged roll for changing the film transport direction, and the surface of the film is continuously plated. Supplying a plating bath liquid circulating liquid to at least one of the submerged rolls provided in one of the plating tanks and discharging it from the plurality of through holes provided on the surface of the roll, A film plating method is characterized in that a liquid film is formed between films to float the film, and the film is conveyed.
本発明によれば、液中ロールとフィルム間に液膜を形成してスリップを防止することができる。 According to the present invention, it is possible to prevent slip by forming a liquid film between the submerged roll and the film.
以下に、本発明を図面を参照して説明する。図1は本発明に係るめっき装置の一実施態様の概略正面図である。図1において1a、1b、1c、1dは液中ロール、2は搬送されるフィルム、3および5は水洗槽、4および6はめっき槽、7および9洗浄液は、8および10はめっき液、11a、11b、11c、11d、11e、11f、11gは液外フリーローラー、12および13は電極である。図1の装置は、水洗槽3、5とめっき槽4、6が交互に2組配置されているが、本発明においては、水洗槽とめっき槽の数は、少なくとも1つのめっき槽と、少なくとも1つの水洗槽を有すればよく、例えば水洗槽とめっき槽をそれぞれ10槽以上有するものであっても良い。
The present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic front view of an embodiment of a plating apparatus according to the present invention. In FIG. 1, 1a, 1b, 1c, 1d are submerged rolls, 2 is a film to be transported, 3 and 5 are washing tanks, 4 and 6 are plating tanks, 7 and 9 cleaning liquids, 8 and 10 are plating liquids,
本実施態様において、被めっきフィルム2は、矢印で示す方向に搬送され、めっき槽4及び6でめっきが施される。フィルム2は水洗槽3、5とめっき槽4、6の液内においてその搬送方向を液中ロール1a、1b、1c、1dにより変えられる。
In this embodiment, the to-
図2は、本発明の一実施態様におけるフィルム搬送用液中ロール21が備えられためっき槽22の説明図で、1点破線で示される中央線より左側が概略断面図で、右側は側面図である。また、図2では、理解を容易とするため、搬送されるフィルム23の位置を2点破線で示してある。液中ロール21の表面には透孔24が多数設けられている。透孔24にはロール内部の多孔中空管25を介して液が矢印で示すように供給されて液が外部に排出され、フィルム23に対するロール表面の全面に液膜を形成し、フィルム23は液中ロール21に接触せずに、液中ロール21に対して浮上した状態で、めっき浴液26中で方向が変えられる。透孔24は、液中ロール21の概ね下半分に、液中ロール21の表面に斜めに配置されており、全体として、フィルム23に対して排出する液が均一に当たるように配置されている。また、液中ロール21の軸でもある多孔中空管25は、固定手段27によってめっき槽22の壁面に固定され、それにより液中ロール21も回転せずに固定されている。中空管25の一方の端部は中空部が開放されており給液口29を形成している。
また、左右一対のサイドシール28が液中ロール21の表面に固定して設けられている。サイドシール28の間をフィルム23が通過することで、液中ロール21付近をフィルム23が浮上して搬送されても、フィルム23が左右にずれないで搬送できる。
FIG. 2 is an explanatory view of the
A pair of left and
また、透孔24の直径は好ましくは1〜8mm、さらに好ましくは3〜5mmである。また、透孔24間のピッチは好ましくは15〜50mm、さらに好ましくは20〜30mmである。
透孔24の形状は丸形でなくとも良く、例えば長穴(例えば幅2mm×長さ5mm)などの形状にすることができる。
本発明においては、フィルムの浮上量は、ロールから5mm位であることが好ましい。ロールに流す循環液の液量は、フィルムの搬送のテンションに合わせ調節すればよい。
Moreover, the diameter of the through-
The shape of the through
In the present invention, the flying height of the film is preferably about 5 mm from the roll. What is necessary is just to adjust the liquid quantity of the circulating liquid sent to a roll according to the tension of conveyance of a film.
図3は、図2に示した液中ロール21の概略断面図である。給液口29から送られためっき循環液は中空筒25に設けられた孔からロール21の本体表面と中空管25の間の中空部30に送り出され、さらに、ロール21の表面に設けられた透孔24から液を送り出し、ロール表面とフィルムの間に液膜を作りフィルムを浮かせてロールとの接触を防止し、それによって、スリップの発生を防止することができる。また、サイドシール28が液中ロール21の概ね下半分に固定して設けられている。
中空管25は、例えば、ステンレス製、チタン製ものなどを用いることができる。また、液中ロール21は絶縁されるように樹脂とすることが好ましい。
このような固定式の液中ロール21は構造的にシンプルで、容易に製作することができる。
FIG. 3 is a schematic sectional view of the
As the
Such a fixed submerged
図4は、本発明の別の実施態様における液中ロール31の概略断面図である。この実施態様では、液中ロール31と中空管32とがベアリング33を介して接合され、液中ロール31はベアリング33の作用により回転することができる。また透孔34はロール31表面の全周に亘って設けられており、ロール31が回転してもフィルに対して全面に液膜が形成でき、フィルムを浮上させて搬送させることができる。また、サイドシール35もロール31表面の全周に亘って設けられており、ロール31が回転してもフィルムの蛇行を防止することができる。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of the
また、この態様のロール31では、万一、給水口36に液を送るポンプが止まっても回ってスリップを防ぐことができる。この場合、めっき溶液が透孔34から逆にロール31の内部に入り、完全にロールとフィルムを密着させてスリップを防ぐ効果を高めることができる。
Moreover, in the
次に、図2に示した実施態様におけるめっき装置を用いためっき処理における循環液の流れを図5の説明図を参照して説明する。なお、図2に示した符号と同じ符号は図2におけるものと同じ意味である。めっき槽22からオーバーフローしためっき浴液26はタンク41に蓄えたれた後、配管42によりタンク43に送られる。次いで、タンク43よりポンプ44により循環液を分岐して、一方を流量計45で監視しながら調整バルブ46で流量を調整して、配管47を介し給液口29から中空管25に供給する。中空管25に供給されためっき浴液の循環液は、中空管25に設けられた孔から矢印方向に、ロール内部の中空部30に排出され、さらに透孔24からフィルム23の間に矢印方向に排出され、ロール21とフィルム23の間の全面に液膜を形成し、フィルム23をロール21に対して浮上させて搬送する。また、分岐されたもう一方の循環液は流量計48で監視しながら調整バルブ49で流量を調整して、配管50を介してめっき槽22に戻される。なお、配管42、47、50にはフレキシブルチューブ等適宜用いることができる。
Next, the flow of the circulating liquid in the plating process using the plating apparatus in the embodiment shown in FIG. 2 will be described with reference to the explanatory diagram of FIG. The same reference numerals as those shown in FIG. 2 have the same meaning as in FIG. The plating
本発明において、めっき処理は、無電解めっき(化学還元めっきや置換めっき)、電解めっき、又は無電解めっきと電解めっきの両方を用いることができる。本発明における無電解めっきは、公知の無電解めっき技術を用いることができ、例えば、プリント配線板などで用いられている無電解めっき技術を用いることができ、電解銅めっきは無電解銅めっきであることが好ましい。電解銅めっき浴液としては、硫酸銅浴やピロリン酸銅浴が挙げられる。無電解銅めっき浴液に含まれる化学種としては、硫酸銅や塩化銅、還元剤としてホルマリンやグリオキシル酸、銅の配位子としてEDTAやトリエタノールアミン等、その他、浴の安定化やめっき皮膜の平滑性を向上させるための添加剤としてポリエチレングリコール、黄血塩、ビピリジン等が挙げられる。また、めっき浴液には、めっき浴液の安定性を高める観点からは、例えば、EDTAなどの配位子など種々の添加剤を用いることもできる。 In the present invention, for the plating treatment, electroless plating (chemical reduction plating or displacement plating), electrolytic plating, or both electroless plating and electrolytic plating can be used. For the electroless plating in the present invention, a known electroless plating technique can be used, for example, an electroless plating technique used for a printed wiring board or the like can be used, and the electrolytic copper plating is an electroless copper plating. Preferably there is. Examples of the electrolytic copper plating bath liquid include a copper sulfate bath and a copper pyrophosphate bath. Chemical species contained in the electroless copper plating bath include copper sulfate and copper chloride, formalin and glyoxylic acid as the reducing agent, EDTA and triethanolamine as the copper ligand, and other bath stabilization and plating films. Examples of additives for improving the smoothness of polyethylene include polyethylene glycol, yellow blood salt, and bipyridine. Moreover, various additives, such as ligands, such as EDTA, can also be used for a plating bath liquid from a viewpoint of improving the stability of a plating bath liquid, for example.
めっき処理を施されたフィルムは、例えば、めっき浴液への入浴後に付着しためっき浴液をエアーナイフにより除去され、水洗槽に搬入され洗浄後防錆処理等が施され乾燥して巻取られる。 The plated film is removed by, for example, removing the plating bath solution adhering after bathing into the plating bath solution with an air knife, carrying it into a water rinsing tank, performing rust-proofing treatment after washing, etc., and drying and winding up. .
本発明においては、フィルムとして、例えば、光透過性支持体上に銀塩(例えばハロゲン化銀)が含有した銀塩含有層を設けた、感光材料からなる長尺幅広フレキシブル基材を好ましい用いることができる。また、銀塩含有層上には保護層が設けられていてもよく、この保護層とは例えばゼラチンや高分子ポリマーといったバインダーからなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために銀塩含有層上に形成される。これらの銀塩含有層や保護層の組成などは、銀塩写真フィルム、印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に適用される銀塩含有層や保護層が適宜適用することができる。 In the present invention, as the film, for example, a long and wide flexible base material made of a photosensitive material in which a silver salt-containing layer containing a silver salt (for example, silver halide) is provided on a light-transmitting support is preferably used. Can do. Further, a protective layer may be provided on the silver salt-containing layer, and this protective layer means a layer made of a binder such as gelatin or a high molecular polymer, and exhibits an effect of preventing scratches and improving mechanical properties. In order to do so, it is formed on the silver salt-containing layer. The composition of these silver salt-containing layers and protective layers may be suitably applied to silver salt-containing layers and protective layers applied to silver salt photographic films, photographic paper, printing plate making films, emulsion masks for photomasks, and the like. it can.
上記感光材料としては、銀塩写真フィルム(銀塩感光材料)が好ましく、白黒銀塩写真フィルム(白黒銀塩感光材料)が最もよい。また、銀塩含有層に適用する銀塩としては、特にハロゲン化銀が最も好適である。 As the photosensitive material, a silver salt photographic film (silver salt photosensitive material) is preferable, and a black and white silver salt photographic film (monochrome silver salt photosensitive material) is the best. The silver salt applied to the silver salt-containing layer is most preferably silver halide.
なお、保護層の厚みは0.02〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.05〜5μmであり、さらに好ましくは0.1〜1μmである。 In addition, it is preferable that the thickness of a protective layer is 0.02-10 micrometers, More preferably, it is 0.05-5 micrometers, More preferably, it is 0.1-1 micrometers.
また上記光透過性支持体としては、プラスチックフィルムや、これを2層以上を組み合わせた多層フィルムを適用することができ、その原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、及びポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類;ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン、EVAなどのポリオレフィン類;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂;その他、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリサルホン(PSF)、ポリエーテルサルホン(PES)、ポリカーボネート(PC)、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)などを用いることができる。 In addition, as the light transmissive support, a plastic film or a multilayer film in which two or more layers thereof are combined can be applied. Examples of the raw material include polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate. Polyesters; Polyolefins such as polyethylene (PE), polypropylene (PP), polystyrene, EVA; Vinyl resins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride; Others, polyether ether ketone (PEEK), polysulfone (PSF), poly Ether sulfone (PES), polycarbonate (PC), polyamide, polyimide, acrylic resin, triacetyl cellulose (TAC), and the like can be used.
これらの中でも、透明性、耐熱性、取り扱いやすさ及び価格の点から、支持体としてのプラスチックフィルムは、銀塩写真フィルム(銀塩感光材料)に通常適用されるポリエチレンテレフタレートフィルムやセルロールトリアセテートフィルム、また、その他、ポリイミドフィルムやポリエステルフィルムであることが好ましい。特に、ポリエステルフィルムであることが最も好ましい。 Among these, from the viewpoint of transparency, heat resistance, ease of handling, and cost, the plastic film as the support is a polyethylene terephthalate film or cellulose triacetate film that is usually applied to silver salt photographic films (silver salt photosensitive materials). In addition, it is preferably a polyimide film or a polyester film. In particular, a polyester film is most preferable.
以上説明しためっき装置では、銀塩含有層が設けられた光透過性感光ウエブを用い、これの銀塩含有層に露光・現像を行って被めっき部として所望の細線状金属銀部を形成させた光透過性感光ウエブに対し、めっき処理を施すと、細線状金属銀部上に導電性粒子が担持され、これが導電性金属部となり、非常に細い細線でパターン化された細線状金属部と大面積の光透過部とを有する磁波遮蔽材料を得ることができる。 In the plating apparatus described above, a light-sensitive photosensitive web provided with a silver salt-containing layer is used, and the silver salt-containing layer is exposed and developed to form a desired thin linear metal silver portion as a portion to be plated. When the light-transmitting photosensitive web is plated, conductive particles are supported on the fine-line metal silver part, and this becomes a conductive metal part, and the fine-line metal part patterned with very fine fine lines and A magnetic wave shielding material having a large-area light transmission part can be obtained.
1、1a、1b、1c、1d 液中ロール
2 フィルム
3、5 水洗槽
4、6 めっき槽
7、9 水洗液
8、10 めっき浴液
11a、11b、11c、11d、11e、11f、11g 液外フリーローラー
12、13 電極
21、31 液中ロール
22 めっき槽
23 フィルム
24、34 透孔
25、32 中空管
26 めっき浴液
27 固定手段
28、35 サイドシール
29、36 給水口
30 中空部
33 ベアリング
41、43 タンク
42、47、50 配管
44 ポンプ
45、48 流量計
46、49 調整バルブ
1, 1a, 1b, 1c, 1d Roll in
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