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JP2008163282A - Method for producing semiconductive silicone rubber member for electrophotographic apparatus, and roll and belt for electrophotographic apparatus having the silicone rubber member - Google Patents

Method for producing semiconductive silicone rubber member for electrophotographic apparatus, and roll and belt for electrophotographic apparatus having the silicone rubber member Download PDF

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JP2008163282A
JP2008163282A JP2007000578A JP2007000578A JP2008163282A JP 2008163282 A JP2008163282 A JP 2008163282A JP 2007000578 A JP2007000578 A JP 2007000578A JP 2007000578 A JP2007000578 A JP 2007000578A JP 2008163282 A JP2008163282 A JP 2008163282A
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JP
Japan
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silicone rubber
electrophotographic apparatus
roll
belt
rubber member
Prior art date
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Pending
Application number
JP2007000578A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Satao Hirabayashi
佐太央 平林
Tsutomu Nakamura
中村  勉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Publication date
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Priority to CNA2008100019731A priority patent/CN101276167A/en
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Abstract

【課題】低分子シロキサン成分が低減された電子写真装置用シリコーンゴム部材を得る製造方法を提供する。
【解決手段】(A)下記平均組成式(1):
SiO(4−n)/2 (1)
(但し、Rは置換または非置換の1価炭化水素基であり、nは1.95〜2.05の数である)
で示されるオルガノポリシロキサン 100質量部、
(B)導電性材料 半導電性を付与する量、及び
(C)硬化剤 (A)成分を硬化させうる量
を含むシリコーンゴム組成物を成形し硬化させて成形硬化物を得、
得られた成形硬化物を5.0×10Pa以下の圧力下、80〜180℃の温度で処理することを特徴とする電子写真装置用半導電性シリコーンゴム部材の製造方法。
【選択図】なし
A production method for obtaining a silicone rubber member for an electrophotographic apparatus in which a low molecular siloxane component is reduced is provided.
(A) The following average composition formula (1):
R n SiO (4-n) / 2 (1)
(However, R is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, and n is a number from 1.95 to 2.05.)
100 parts by mass of an organopolysiloxane represented by
(B) Conductive material Amount to impart semiconductivity, and (C) Curing agent (A) A silicone rubber composition containing an amount capable of curing the component is molded and cured to obtain a molded cured product,
A method for producing a semiconductive silicone rubber member for an electrophotographic apparatus, wherein the obtained molded cured product is treated at a temperature of 80 to 180 ° C. under a pressure of 5.0 × 10 4 Pa or less.
[Selection figure] None

Description

本発明は、電子写真装置用半導電性シリコーンゴム部材の製造方法、該製造方法により得られたシリコーンゴム部材、該シリコーンゴム部材を有する電子写真装置用ロール及びベルトに関する。   The present invention relates to a method for producing a semiconductive silicone rubber member for an electrophotographic apparatus, a silicone rubber member obtained by the production method, and a roll and belt for an electrophotographic apparatus having the silicone rubber member.

シリコーンゴムは、例えば、複写機、ファクシミリ、プリンター等の電子写真プロセスを利用する各種電子写真装置に使用されるOPC(有機導電体)ドラム回りに配される各種ロール(例えば、現像ロール、トナー搬送スポンジロール、クリーニングスポンジロール、定着ロール)又は各種ベルト(例えば、現像ベルト、定着ベルト)に構成部材として使用されている。   Silicone rubber is used for various rolls (for example, developing rolls, toner transports) arranged around OPC (organic conductor) drums used in various electrophotographic apparatuses using electrophotographic processes such as copying machines, facsimiles, and printers. Sponge roll, cleaning sponge roll, fixing roll) or various belts (for example, developing belt, fixing belt) are used as constituent members.

シリコーンゴム部材には通常原料として用いられたオルガノポリシロキサンに含まれる低分子シロキサン成分が未架橋状態で若干含まれている。低分子シロキサン成分がシリコーンゴム部材からOPCドラムやトナーに移行すると、印刷された画像に白スジやかすれ等の不良等が発生する原因となることがある。このような低分子シロキサン成分の移行を抑える方法として、原料のオルガノポリシロキサンとして低分子シロキサン含有量が極力少ないものを使用するとともに、これに予め低分子シロキサン分を低減したシリコーンゴムパウダーを添加して、得られるシリコーンゴム部材中の低分子シロキサン量を低減する方法が知られている(特許文献1)。また、低分子シロキサンをフィラー等に吸着させることにより低分子シロキサンがシリコーンゴム部材から外部へ移行して他の部材等に付着するのを防止する方法が提案されている(特許文献2)。   The silicone rubber member contains a small amount of a low-molecular siloxane component contained in an organopolysiloxane usually used as a raw material in an uncrosslinked state. When the low molecular weight siloxane component is transferred from the silicone rubber member to the OPC drum or toner, it may cause defects such as white streaks or blurring in the printed image. As a method for suppressing the migration of such low-molecular siloxane components, a raw material organopolysiloxane having a low low-molecular-weight siloxane content is used as much as possible, and silicone rubber powder with a low-molecular-weight siloxane content is added to this. A method of reducing the amount of low molecular siloxane in the obtained silicone rubber member is known (Patent Document 1). In addition, a method has been proposed in which low molecular siloxane is adsorbed to a filler or the like to prevent the low molecular siloxane from moving from the silicone rubber member to the outside and adhering to other members (Patent Document 2).

通常、シリコーンゴムは2次架橋のために加熱処理を行うことが必要とされている。その目的は、付加架橋の場合は、ベースポリマーとして使用されるオルガノポリシロキサンの主鎖に結合した脂肪族不飽和基(ビニル基等)と架橋剤として使用されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンとの付加反応(ヒドロシリル化)により生成するシルエチレン結合の生成率を高め、結果として圧縮永久歪を向上させることである。有機過酸化物架橋の場合は、加熱硬化により生成した有機過酸化物の分解残渣を除去するとともに変色防止等を図ることが挙げられる。また、スポンジ発泡成型物の場合には、発泡剤の分解残渣を除去するとともに、発泡体の内圧を均一化し発泡体の寸法安定性を高める上で必須であるとされている。また、付加架橋および有機過酸化物架橋に共通の目的として、低分子シロキサン成分の低減効果が挙げられる。低分子シロキサン分の低減化は、上述の画像不良の発生防止の他に、スイッチ等の接点障害を抑制し、成型物の寸法安定性を高める上でも重要である。   Usually, silicone rubber is required to be heat-treated for secondary crosslinking. In the case of addition crosslinking, the purpose is to add an aliphatic unsaturated group (such as a vinyl group) bonded to the main chain of an organopolysiloxane used as a base polymer and an organohydrogenpolysiloxane used as a crosslinking agent. It is to increase the production rate of silethylene bonds formed by the reaction (hydrosilylation), and as a result, to improve compression set. In the case of organic peroxide crosslinking, it is possible to remove the decomposition residue of the organic peroxide generated by heat curing and to prevent discoloration. Further, in the case of a sponge foam molded product, it is essential to remove the decomposition residue of the foaming agent and make the internal pressure of the foam uniform to enhance the dimensional stability of the foam. Further, a common purpose for addition crosslinking and organic peroxide crosslinking is to reduce the low molecular siloxane component. The reduction of the low molecular siloxane content is important not only for preventing the occurrence of the above-mentioned image defects, but also for suppressing contact failures such as switches and improving the dimensional stability of the molded product.

通常、2次架橋の温度条件は揮発させて除去したい目的物質の分解温度やその物質の処理温度における蒸気圧に応じて決定されるが、シリコーンゴムの場合も耐熱温度上限に近い温度に設定されることが多かった。文献等に記載される2次架橋の条件としては200℃で4時間程度加熱する条件が推奨されていることが多い(特許文献3)。というのは、200℃を超える温度で2次架橋を行うと、熱劣化によりシリコーンゴム中のSi−O結合が切断されて低分子シロキサンが生成する現象が顕著になるからである。   Normally, the temperature conditions for secondary crosslinking are determined according to the decomposition temperature of the target substance to be removed by volatilization and the vapor pressure at the processing temperature of the target substance. There were many cases. As the conditions for secondary crosslinking described in the literature, the condition of heating at 200 ° C. for about 4 hours is often recommended (Patent Document 3). This is because, when secondary crosslinking is performed at a temperature exceeding 200 ° C., the phenomenon that the Si—O bond in the silicone rubber is broken due to thermal degradation and low molecular siloxane is generated becomes remarkable.

しかしながら、電子写真装置においては、シリコーンゴム部材から低分子シロキサンがブリードアウトしてOPCドラムやトナーに移行することにより起る汚染や画像不良の問題は未だ十分に解決されておらず、一層の改良が求められている。   However, in electrophotographic apparatuses, the problem of contamination and image defects caused by bleeding out of low-molecular-weight siloxane from a silicone rubber member and shifting to an OPC drum or toner has not yet been sufficiently solved, and further improvements are made. Is required.

特許2748215号掲載公報Japanese Patent No. 2748215 特許3324413号掲載公報Japanese Patent No. 3324413 『シリコーンハンドブック』伊藤邦雄編、日刊工業新聞社、1990年8月31日発行、第326頁及び第612頁"Silicone Handbook" edited by Kunio Ito, Nikkan Kogyo Shimbun, August 31, 1990, pages 326 and 612

そこで、本発明の目的は、シリコーンゴム部材の製造方法を改良し、低分子シロキサン成分が一層低減された電子写真装置用シリコーンゴム部材を得ることができる製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a production method capable of obtaining a silicone rubber member for an electrophotographic apparatus in which the production method of the silicone rubber member is improved and the low molecular siloxane component is further reduced.

本発明者らは、シリコーンゴムの2次架橋処理条件について鋭意研究したところ、そもそも2次架橋処理の目的のひとつは1次架橋後のシリコーンゴム中に存在する低分子シロキサン成分を低減することであり、そのために2次架橋温度を200℃を超えないなるべく高く設定することが望まれていたのであるが、そのような条件下ではオルガノポリシロキサンの主鎖に切断が生じ、かえって低分子シロキサンの生成を助長することになることを見出し、そこで2次架橋条件を検討した結果、本発明の製造方法を開発するに到った。   As a result of intensive research on the conditions for secondary cross-linking treatment of silicone rubber, one of the purposes of the secondary cross-linking treatment is to reduce the low-molecular siloxane components present in the silicone rubber after the primary cross-linking. For this reason, it has been desired to set the secondary crosslinking temperature as high as possible not exceeding 200 ° C. Under such conditions, the main chain of the organopolysiloxane is cleaved. As a result of finding that it promotes the formation and studying the secondary cross-linking conditions there, the production method of the present invention has been developed.

即ち、本発明は、上記課題を達成する手段として
(A)下記平均組成式(1):
SiO(4−n)/2 (1)
(但し、Rは置換又は非置換の1価炭化水素基であり、nは1.95〜2.05の数である)
で示されるオルガノポリシロキサン 100質量部、
(B)導電性材料 半導電性を付与する量、及び
(C)硬化剤 (A)成分を硬化させうる量
を含むシリコーンゴム組成物を基材上に中間層を介し又は介さずに成形し硬化させて成形硬化物を得、
得られた成形硬化物を5.0×10Pa以下の圧力下、80〜180℃の温度で処理することを特徴とする電子写真装置用半導電性シリコーンゴム部材の製造方法を提供するものである。
That is, the present invention provides (A) the following average composition formula (1):
R n SiO (4-n) / 2 (1)
(However, R is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, and n is a number from 1.95 to 2.05.)
100 parts by mass of an organopolysiloxane represented by
(B) Conductive material A silicone rubber composition containing an amount that imparts semiconductivity and (C) a curing agent (A) that can cure the component is molded on a substrate with or without an intermediate layer. Cured to obtain a molded cured product,
Provided is a method for producing a semiconductive silicone rubber member for an electrophotographic apparatus, wherein the obtained molded cured product is treated at a temperature of 80 to 180 ° C. under a pressure of 5.0 × 10 4 Pa or less. It is.

本発明の製造方法は2次架橋におけるシリコーンポリマーの熱劣化を抑えつつ、低分子シロキサン等の遊離のシリコーンオイル成分(低分子シロキサンおよびオリゴマー)を効果的に除去することができる。したがって、得られるシリコーンゴム部材はこのような成分が著しく低減されているので、電子写真装置用シリコーンゴム部材として使用したときに、OPCドラムやトナーにシリコーン成分が移行して画像に白スジやかすれ等の不良が発生しにくい。   The production method of the present invention can effectively remove free silicone oil components (low molecular siloxanes and oligomers) such as low molecular siloxane while suppressing thermal degradation of the silicone polymer in secondary crosslinking. Accordingly, since the silicone rubber member obtained has such a component significantly reduced, when it is used as a silicone rubber member for an electrophotographic apparatus, the silicone component migrates to the OPC drum or the toner, and white streaks or fading occurs on the image. Defects such as are unlikely to occur.

本発明の製造方法により得られるシリコーンゴム部材は低分子シロキサン成分が著しく低減されているので、OPCドラム汚染性が低下し汚染対策として従来行なわれているウレタンコート等の汚染防護膜が不必要になったり、またはこのような汚染防護膜を一層薄膜化することが可能である。   Since the silicone rubber member obtained by the production method of the present invention has a significantly reduced low-molecular siloxane component, the contamination of the OPC drum is reduced and a conventional protective film such as a urethane coat is unnecessary as a contamination countermeasure. It is possible to make such a contamination protective film thinner.

以下、本発明について詳細に説明する。
[電子写真装置用半導電性シリコーンゴム部材]
電子写真装置とは、電子写真プロセスにより画像を処理する装置であり、例えば複写機、ファクシミリ、プリンター等が挙げられる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
[Semiconductive silicone rubber member for electrophotographic equipment]
The electrophotographic apparatus is an apparatus that processes an image by an electrophotographic process, and examples thereof include a copying machine, a facsimile, and a printer.

本発明の電子写真装置用半導電性シリコーンゴム部材は電子写真装置において運転中に特にOPC及びトナーに直接又は間接に接触する状態に置かれるものであり、代表的には電子写真装置用ロールまたは電子写真装置用ベルトを構成する一部材である。   The semiconductive silicone rubber member for an electrophotographic apparatus of the present invention is placed in a state where it is in direct or indirect contact with an OPC and a toner during operation in the electrophotographic apparatus. It is a member constituting an electrophotographic belt.

電子写真装置用ロールは、本発明の場合、ロール芯金と、該芯金の外周面に中間層を介し又は介さずに設けられた少なくとも1層の半導電性シリコーンゴム層(半導電性シリコーンゴム部材の例)とを有している。電子写真用ロールとしては、例えば現像ロール、トナー搬送スポンジロール、クリーニングスポンジロール、及び定着ロールが挙げられる。   In the case of the present invention, the roll for an electrophotographic apparatus comprises a roll core metal and at least one semiconductive silicone rubber layer (semiconductive silicone) provided on the outer peripheral surface of the core metal with or without an intermediate layer. Example of rubber member). Examples of the electrophotographic roll include a developing roll, a toner conveying sponge roll, a cleaning sponge roll, and a fixing roll.

電子写真装置用ベルトは、本発明の場合、ベルト状基材と、該基材上に中間層を介し又は介さずに設けられた少なくとも1層のシリコーンゴム層(半導電性シリコーンゴム部材の例)とを有している。電子写真装置用ベルトとしては、例えば現像ベルト及び定着ベルトが挙げられる。   In the case of the present invention, the belt for an electrophotographic apparatus comprises a belt-like base material and at least one silicone rubber layer (an example of a semiconductive silicone rubber member) provided on the base material with or without an intermediate layer. ). Examples of the belt for an electrophotographic apparatus include a developing belt and a fixing belt.

[シリコーンゴム組成物]
初めに、本発明の製造方法に使用されるシリコーンゴム組成物について説明する。以下の記載においては、特記しない限り、「部」は「質量部」を意味する。
[Silicone rubber composition]
First, the silicone rubber composition used in the production method of the present invention will be described. In the following description, unless otherwise specified, “part” means “part by mass”.

−(A)オルガノポリシロキサン−
(A)成分のオルガノポリシロキサンは、下記平均組成式(1)で示されるものである
RnSiO(4-n)/2 (1)
-(A) Organopolysiloxane-
The organopolysiloxane of component (A) is represented by the following average composition formula (1):
R n SiO (4-n) / 2 (1)

平均組成式(1)において、R1で表される置換又は非置換の1価炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ドデシル基などのアルキル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基などのアルケニル基、フェニル基、トリル基などのアリール基、β-フェニルプロピル基等のアラルキル基、又はこれらの基の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部をハロゲン原子、シアノ基などで置換したクロロメチル基、トリフルオロプロピル基、シアノエチル基などが挙げられ、炭素原子数1〜12、特に炭素原子数1〜8のものが好ましい。該オルガノポリシロキサン中に存在する複数のRは同一でも異なってもよい。また、aは1.95〜2.05の正数である。このオルガノポリシロキサンは分子鎖末端がトリメチルシリル基、ジメチルビニル基、ジメチルヒドロキシシリル基、トリビニルシリル基などで封鎖されていることが好ましい。 In the average composition formula (1), examples of the substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group represented by R 1 include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group and dodecyl group, and cyclohexyl. A cycloalkyl group such as a group, an alkenyl group such as a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a hexenyl group, an aryl group such as a phenyl group or a tolyl group, an aralkyl group such as a β-phenylpropyl group, or a carbon atom of these groups A chloromethyl group, a trifluoropropyl group, a cyanoethyl group or the like in which a part or all of the hydrogen atoms bonded to is substituted with a halogen atom, a cyano group or the like, and has 1 to 12 carbon atoms, particularly 1 to 8 carbon atoms. Are preferred. A plurality of R 1 present in the organopolysiloxane may be the same or different. Moreover, a is a positive number of 1.95 to 2.05. The organopolysiloxane is preferably end-capped with a trimethylsilyl group, a dimethylvinyl group, a dimethylhydroxysilyl group, a trivinylsilyl group, or the like.

このオルガノポリシロキサンは分子中に少なくとも2個のアルケニル基を有することが好ましく、かつ、R1のうち0.001〜5モル%、特に0.01〜0.5モル%のアルケニル基、特にビニル基であることが好ましい。 The organopolysiloxane preferably has at least two alkenyl groups in the molecule, and preferably 0.001 to 5 mol%, particularly 0.01 to 0.5 mol% of alkenyl groups, particularly vinyl groups, of R 1. .

特に(C)成分の硬化剤として白金触媒とオルガノハイドロジェンポリシロキサンとの組み合わせを使用する場合には、このようなアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサンを通常使用する。   In particular, when a combination of a platinum catalyst and an organohydrogenpolysiloxane is used as the curing agent for the component (C), an organopolysiloxane containing such an alkenyl group is usually used.

このオルガノポリシロキサンは、当業者に周知の方法により、例えば、所要の分子構造及び重合度となるように選択されたオルガノハロゲノシランの1種又は2種以上を共加水分解縮合することによって、あるいは環状ポリシロキサン(シロキサンの3量体あるいは4量体など)をアルカリ性又は酸性の触媒を用いて開環重合することによって得ることができる。このオルガノポリシロキサンは基本的には直鎖状のジオルガノポリシロキサンであるが、一部分岐していてもよい。また、分子構造の異なる2種又はそれ以上の混合物であってもよい。   This organopolysiloxane can be obtained by methods well known to those skilled in the art, for example, by cohydrolytic condensation of one or more organohalogenosilanes selected to have the required molecular structure and degree of polymerization, or It can be obtained by ring-opening polymerization of cyclic polysiloxane (such as siloxane trimer or tetramer) using an alkaline or acidic catalyst. This organopolysiloxane is basically a linear diorganopolysiloxane, but may be partially branched. Further, it may be a mixture of two or more different molecular structures.

また、このオルガノポリシロキサンの粘度は、25℃における粘度が100mm2/s以上のものが好ましい。液状LIMS(射出成形用)材料で好ましい粘度は100〜100,000mm2/sである。重合度では5以上、特に10以上が好ましく、さらに好ましくは50〜1,000である。またミラブル材料で好ましく使用される粘度は100,000〜10,000,000mm2/s、重合度では100以上、特に3,000以上が好ましく、その上限は好ましくは100,000であり、さらに好ましくは10,000である。 The organopolysiloxane preferably has a viscosity at 25 ° C. of 100 mm 2 / s or more. The preferred viscosity for liquid LIMS (for injection molding) material is 100 to 100,000 mm 2 / s. The degree of polymerization is preferably 5 or more, particularly preferably 10 or more, and more preferably 50 to 1,000. The viscosity preferably used in the millable material is 100,000 to 10,000,000 mm 2 / s, the degree of polymerization is preferably 100 or more, particularly preferably 3,000 or more, and the upper limit is preferably 100,000, more preferably 10,000.

−(B)導電性付与剤−
次に (B)成分の導電性付与剤について説明する。導電性付与剤はその種類は制限されないが、導電性カーボンブラック、導電性酸化金属系粒子、例えば、導電性亜鉛華、導電性酸化チタンなどが使用でき、また導電性付与剤は1種単独で使用しても2種以上を併用してもよい。
-(B) Conductivity imparting agent-
Next, the conductivity imparting agent of the component (B) will be described. The type of the conductivity-imparting agent is not limited, but conductive carbon black, conductive metal oxide particles such as conductive zinc white and conductive titanium oxide can be used, and the conductivity-imparting agent can be used alone. Two or more types may be used in combination.

導電性カーボンブラックとしては、通常導電性ゴム組成物に使用されているものを使用することができ、例えばアセチレンブラック、コンダクティブファーネスブラック(CF)、スーパーコンダクティブファーネスブラック(SCF)、エクストラコンダクティブファーネスブラッウ(XCF)、コンダクティブチャンネルブラック(CC)、1500〜3000℃程度の高温で熱処理されたファーネスブラックやチャンネルブラック等を挙げることができる。具体的な市販品(商品名)としては、例えば、アセチレンブラックとしてはデンカブラック(電気化学社製)、シャウニガンアセチレンブラック(シャウニガンケミカル社製)等が挙げられる。コンダクティブファーネスブラックとしてはコンチネックスCF(コンチネンタルカーボン社製)、バルカンC(キャボット社製)等が挙げられる。スーパーコンダクティブファーネスブラックとしてはコンチネックスSCF(コンチネンタルカーボン社製)、パルカンSC(キャボット社製)等が挙げられる。エクストラコンダクティブファーネスブラックとしては旭HS-500(旭カーボン社製)、パルカンXC-72(キャボット社製)等が挙げられる。コンダクティブチャンネルブラックとしてはコウラックスL(デグッサ社製)等が挙げられる。また急冷工程を含まないオイル燃焼法で製造される(MMM Process法)カーボンブラックENSACO260G、ENSACO250G、ENSACO210G(TIMCAL社製)等が挙げられる。また、ファーネスブラックの一種であるケッチェンブラックEC-300JD及びケッチェンブラックEC-600JD(ケッチェンブラックインターナショナル社製)を用いることもできる。ファーネスブラックは不純物、特に硫黄や硫黄化合物の量が硫黄元素の濃度で6000ppm以下、より好ましくは3000ppm以下が望ましい。なお、これらのうちでは、アセチレンブラックは不純物含有率が少ない上、発達した2次ストラクチャー構造を有することから導電性に優れており、本発明において特に好適に用いられる。なおまた、その卓越した比表面積から低充填量でも優れた導電性を示すケッチェンブラック等も好ましく使用できる。   As the conductive carbon black, those usually used in conductive rubber compositions can be used, such as acetylene black, conductive furnace black (CF), super conductive furnace black (SCF), and extra conductive furnace black. (XCF), conductive channel black (CC), furnace black and channel black heat-treated at a high temperature of about 1500 to 3000 ° C. Specific examples of commercially available products (trade names) include Denka Black (manufactured by Electrochemical Co., Ltd.) and Shaunigan Acetylene Black (manufactured by Shaunigan Chemical Co., Ltd.) as acetylene black. Examples of the conductive furnace black include CONTINEX CF (manufactured by Continental Carbon) and Vulcan C (manufactured by Cabot). Examples of super conductive furnace black include CONTINEX SCF (manufactured by Continental Carbon) and Pulcan SC (manufactured by Cabot). Examples of the extra conductive furnace black include Asahi HS-500 (Asahi Carbon Co., Ltd.), Pulcan XC-72 (Cabot Corp.), and the like. Examples of the conductive channel black include Kourax L (manufactured by Degussa). Further, carbon blacks ENSACO260G, ENSACO250G, ENSACO210G (manufactured by TIMCAL) manufactured by an oil combustion method that does not include a quenching process (MMM Process method), and the like can be given. Further, Ketjen Black EC-300JD and Ketjen Black EC-600JD (Ketjen Black International Co., Ltd.), which are a kind of furnace black, can also be used. In furnace black, the amount of impurities, particularly sulfur and sulfur compounds, is 6000 ppm or less, more preferably 3000 ppm or less in terms of the concentration of elemental sulfur. Among these, acetylene black has a low impurity content and has a developed secondary structure structure, so that it has excellent conductivity and is particularly preferably used in the present invention. In addition, ketjen black or the like showing excellent conductivity even at a low filling amount can be preferably used because of its excellent specific surface area.

(B)成分の導電性付与剤の添加量は導電性シリコーンゴム組成物の硬化ゴムに所要の半導電性を与えるのに十分な量であり、具体的には、硬化物の体積抵抗率が0.1Ω・m以上1014Ω・m以下となる量である。したがって、適切な添加量は使用する導電性付与剤の種類により異なるが、当業者は簡単な試験を試行することにより容易に決定することができる。 The addition amount of the conductivity imparting agent of the component (B) is an amount sufficient to give the required semiconductivity to the cured rubber of the conductive silicone rubber composition. Specifically, the volume resistivity of the cured product is The amount is 0.1Ω · m to 10 14 Ω · m. Therefore, although an appropriate addition amount changes with kinds of the electroconductivity imparting agent to be used, those skilled in the art can easily determine it by trying a simple test.

導電性付与剤がカーボンブラックの場合は上述した(A)成分のオルガノポリシロキサン100部に対して1〜200部が好ましく、5〜50部とすることがより好ましい。添加量が多すぎると、他の成分、特に(A)成分と物理的に混合することが困難になることがあり、また硬化物の機械的強度が低下したり、目的とするゴム弾性を得られないことがある。   When the conductivity imparting agent is carbon black, it is preferably 1 to 200 parts, more preferably 5 to 50 parts, relative to 100 parts of the organopolysiloxane of the component (A) described above. If the addition amount is too large, it may be difficult to physically mix with other components, particularly the component (A), and the mechanical strength of the cured product may be reduced, or the desired rubber elasticity may be obtained. It may not be possible.

導電性付与剤が導電性酸化金属系粒子の場合は粒子の比重が高いために添加量の推奨値は(A)成分100部当り30部〜200部が好ましく、特に50部〜200部が好ましい。   When the conductivity-imparting agent is conductive metal oxide-based particles, the recommended amount of addition is preferably 30 to 200 parts, particularly 50 to 200 parts per 100 parts of component (A) because the specific gravity of the particles is high. .

−(C)硬化剤−
(C)成分の硬化剤としては、白金系触媒とオルガノハイドロジェンポリシロキサンとの組合わせ(付加架橋型硬化剤)、及び有機過酸化物触媒(ラジカル架橋型硬化剤)を使用し得る。該硬化剤はシリコーンゴム組成物の硬化有効量で配合される。
-(C) Curing agent-
As the curing agent for component (C), a combination of a platinum-based catalyst and an organohydrogenpolysiloxane (addition crosslinking type curing agent) and an organic peroxide catalyst (radical crosslinking type curing agent) can be used. The curing agent is blended in an effective amount for curing the silicone rubber composition.

白金系触媒とオルガノハイドロジェンポリシロキサンとの組合わせは従来付加硬化型シリコーン組成物の硬化剤として公知のものであり、この場合は(A)成分のオルガノポリシロキサンとしては、通常、前述のように分子中にアルケニル基を少なくとも2個有するものを使用する。   The combination of a platinum-based catalyst and an organohydrogenpolysiloxane is conventionally known as a curing agent for addition-curable silicone compositions. In this case, the organopolysiloxane of component (A) is usually as described above. And those having at least two alkenyl groups in the molecule.

このオルガノハイドロジエンポリシロキサンの分子構造は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれであってもよいが、重合度が300以下のものが好ましく、ジメチルハイドロジエンシリル基で末端が封鎖されたジオルガノポリシロキサン、ジメチルシロキサン単位とメチルハイドロジエンシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、ジメチルハイドロジエンシロキサン単位(H(CHSiO0.5単位)とSiO単位とからなる低粘度流体、1,3,5,7−テトラハイドロジエン−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、1−プロピル−3,5,7−トリハイドロジエン−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、1,5−ジハイドロジエン−3,7−ジヘキシル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンなどが例示される。
このオルガノハイドロジエンポリシロキサンの添加量は、(A)成分のオルガノポリシロキサンが有するアルケニル基に対して、ケイ素原子に直結した水素原子が50〜500モル%となる割合であることが望ましい。
The molecular structure of this organohydropolyenepolysiloxane may be linear, branched or cyclic, but preferably has a degree of polymerization of 300 or less, and the end is blocked with a dimethylhydrosilylsilyl group Diorganopolysiloxane, copolymer of dimethylsiloxane unit, methylhydrodienesiloxane unit and terminal trimethylsiloxy unit, dimethylhydrodienesiloxane unit (H (CH 3 ) 2 SiO 0.5 unit) and SiO 2 unit Low viscosity fluid, 1,3,5,7-tetrahydrodiene-1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, 1-propyl-3,5,7-trihydrodiene-1,3,5, 7-tetramethylcyclotetrasiloxane, 1,5-dihydrodiene-3,7-dihexyl-1,3,5,7-tetra Such as chill cyclotetrasiloxane are exemplified.
The addition amount of the organohydropolyenepolysiloxane is desirably such that the hydrogen atom directly connected to the silicon atom is 50 to 500 mol% with respect to the alkenyl group of the organopolysiloxane of the component (A).

該オルガノハイドロジェンポリシロキサンと組み合わせる白金触媒としては、公知のいずれのものも使用することができ、例えば、白金元素単体、白金複合体、塩化白金酸等の白金化合物、塩化白金酸のアルコ−ル化合物、アルデヒド化合物、エ−テル化合物、各種オレフィン類とのコンプレックスなどが挙げられる。白金系触媒の添加量は、(A)成分のオルガノポリシロキサンに対し白金原子として1〜2,000ppm(質量基準)の範囲とすることが望ましい。   As the platinum catalyst to be combined with the organohydrogenpolysiloxane, any known catalyst can be used. For example, platinum element alone, platinum complex, platinum compounds such as chloroplatinic acid, alcohol of chloroplatinic acid, and the like. Examples thereof include compounds, aldehyde compounds, ether compounds, complexes with various olefins, and the like. The addition amount of the platinum-based catalyst is preferably in the range of 1 to 2,000 ppm (mass basis) as platinum atoms with respect to the organopolysiloxane of component (A).

一方、(C)成分の硬化剤として使用される有機過酸化物としては、例えばジ−t−ブチルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジクミルパーオキサイド等のアルキル過酸化物等が挙げられる。有機過酸化物の添加量は、(A)成分のオルガノポリシロキサン100部に対し0.1〜10部とすることが好ましい。   On the other hand, examples of the organic peroxide used as the curing agent for the component (C) include di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, Examples thereof include alkyl peroxides such as mill peroxide. The addition amount of the organic peroxide is preferably 0.1 to 10 parts with respect to 100 parts of the organopolysiloxane of the component (A).

(C)成分の硬化剤として、上記の付加架橋型硬化剤と有機過酸化物とを併用して、付加型架橋とラジカル反応型架橋とがともに生起するようにしてもよい。使用されるシリコーンゴム組成物が液状材料である場合には、(C)成分の硬化剤としては付加架橋型硬化剤が推奨される。   As the curing agent for component (C), the addition crosslinking type curing agent and the organic peroxide may be used in combination to cause both addition type crosslinking and radical reaction type crosslinking. When the silicone rubber composition used is a liquid material, an addition crosslinking type curing agent is recommended as the curing agent for the component (C).

−その他の成分−
本発明に用いられるシリコーンゴム組成物には、本発明の目的及び効果を損なわない限り、必要に応じて以下に説明する他の成分を添加することができる。
-Other ingredients-
As long as the objective and effect of this invention are not impaired, the other component demonstrated below can be added to the silicone rubber composition used for this invention as needed.

・補強性シリカ微粉末:
補強性シリカ微粉末として代表的で好ましいものとしてシリカ微粉末が挙げられる。シリカ微粉末は、機械的強度の優れた硬化ゴムを得るために必要であるが、そのためには比表面積が10m2/g以上であることが好ましく、より好ましくは50〜400m2/gである。このシリカ微粉末としては煙霧質シリカ(乾式シリカ)、沈殿シリカ(湿式シリカ)が例示され、煙霧質シリカ(乾式シリカ)が好ましい。また、これらの表面をオルガノポリシロキサン、オルガノポリシラザン、クロロシラン、アルコキシシラン等で疎水化処理したものでもよい。これらの使用可能な補強性シリカの市販品を例示すると、エアロジル130,200,300,380(商品名、日本エアロジル社製)、Cab-O-sil MS-5,MS-7,HS-5,HS-7(商品名、キャボット社製)、SantocelFRC,CS(商品名、モンサント社製)、ニップシルVN-3(商品名、日本シリカ工業製)などである。これらのシリカは一種単独でも2種以上併用してもよい。なお、このシリカ微粉末の添加量は、厳密なものではないが、補強効果と加工性及び導電性への影響を考慮して、好ましくはオルガノポリシロキサン100部あたり1〜50部の範囲である。
・ Reinforcing silica fine powder:
A typical and preferred reinforcing fine silica powder is a fine silica powder. Silica fine powder is necessary to obtain a cured rubber having excellent mechanical strength. For this purpose, the specific surface area is preferably 10 m 2 / g or more, more preferably 50 to 400 m 2 / g. . Examples of the silica fine powder include fumed silica (dry silica) and precipitated silica (wet silica), and fumed silica (dry silica) is preferable. These surfaces may be hydrophobized with organopolysiloxane, organopolysilazane, chlorosilane, alkoxysilane, or the like. Examples of commercially available reinforcing silica that can be used include Aerosil 130,200,300,380 (trade name, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), Cab-O-sil MS-5, MS-7, HS-5, HS-7 (trade name) , Manufactured by Cabot Corporation), SantocelFRC, CS (trade name, manufactured by Monsanto), Nipsil VN-3 (trade name, manufactured by Nippon Silica Kogyo Co., Ltd.), and the like. These silicas may be used alone or in combination of two or more. Although the amount of silica fine powder added is not strict, it is preferably in the range of 1 to 50 parts per 100 parts of organopolysiloxane in consideration of the reinforcing effect and workability and influence on conductivity. .

・その他の添加剤:
その他に、着色剤、オクチル酸鉄等の耐熱向上剤、難燃性を付与させるハロゲン化合物、受酸剤、酸化鉄、酸化セリウム、熱伝導性向上剤、離型剤、増量材としての充填材(例えば、粉砕結晶性シリカや珪藻土微粉末)等が挙げられる。さらに、アルコキキシラン、重合度が(A)成分のオルガノポリシロキサンよりも低いジメチルシロキサンオイル、シラノール(例えばジフェニルシランジオール等の両末端シラノール封鎖低分子シロキサン)等の分散剤、接着性や成形加工性を向上させるための各種カーボンファンクショナルシラン、本組成物のシリコーン成分の架橋などを阻害しない硬化、未硬化の各種オレフィン系エラストマー等が挙げられる。
・ Other additives:
In addition, colorants, heat resistance improvers such as iron octylate, halogen compounds that impart flame retardancy, acid acceptors, iron oxide, cerium oxide, thermal conductivity improvers, mold release agents, fillers as extenders (For example, pulverized crystalline silica or diatomaceous earth fine powder). Furthermore, dispersants such as alkoxysilane, dimethylsiloxane oil having a polymerization degree lower than that of the organopolysiloxane of component (A), silanol (for example, silanol-blocked low molecular siloxane such as diphenylsilanediol), adhesion and molding processing Examples thereof include various carbon functional silanes for improving the properties, and cured and uncured various olefin elastomers that do not inhibit the crosslinking of the silicone component of the present composition.

−調製−
本発明のシリコーンゴム組成物は、上記した成分を2本ロールミル、バンバリーミキサー、ドゥーミキサー(ニーダー)、品川ミキサー、プラネタリミキサーなどの混合器を用いて均一に混合することにより得ることができる。
-Preparation-
The silicone rubber composition of the present invention can be obtained by uniformly mixing the above-described components using a mixer such as a two-roll mill, a Banbury mixer, a dough mixer (kneader), a Shinagawa mixer, or a planetary mixer.

[シリコーンゴム部材の製造方法]
・1次架橋
本発明の製造方法によれば、上記のようにして調製されたシリコーンゴム組成物はまず基材上に中間層を介し又は介さずに成形され硬化され、成形硬化物とされる。
[Manufacturing method of silicone rubber member]
-Primary cross-linking According to the production method of the present invention, the silicone rubber composition prepared as described above is first molded and cured on a substrate with or without an intermediate layer to obtain a molded cured product. .

ここで使用される成形硬化の方法は公知の方法を用いることができ、特に制限されない。発泡硬化法も用いることができる。加熱、硬化の方法は特に限定されず、組成物のシリコーン成分の架橋に必要な熱を加える方法であれば公知のいずれの方法でもよい。成形方法も押出成形法による連続加硫、プレス成形、射出成形法による型成型など、特に制限されるものではない。この1次架橋のための成形は、加熱温度70〜500℃、特に120〜300℃で、加熱時間は数秒〜1時間、特に10秒〜30分であるが、可能な限り低温、短時間であることが好ましい。   The molding and curing method used here may be a known method and is not particularly limited. A foam curing method can also be used. The method of heating and curing is not particularly limited, and any known method may be used as long as it is a method of applying heat necessary for crosslinking the silicone component of the composition. The molding method is not particularly limited, such as continuous vulcanization by extrusion molding, press molding, and mold molding by injection molding. Molding for the primary crosslinking is performed at a heating temperature of 70 to 500 ° C., particularly 120 to 300 ° C., and a heating time of several seconds to 1 hour, particularly 10 seconds to 30 minutes. Preferably there is.

より具体的には、シリコーンゴム組成物は基材上に中間層を介し又は介さずに層状(シートないしはフィルム状)に成形された後、加熱、硬化される。中間層としては、例えばプライマー、ゴム弾性接着剤等の層挙げられ、予め塗布される。基材は電子写真装置用ロールを作製する場合には芯金、金属ベルト、樹脂ベルト等であり、電子写真装置用ベルトを作製する場合にはベルト状基材である。一次硬化により基材上に層状のシリコーンゴム部材が形成される。   More specifically, the silicone rubber composition is formed into a layer (sheet or film) on a substrate with or without an intermediate layer, and then heated and cured. Examples of the intermediate layer include layers such as a primer and a rubber elastic adhesive, and are applied in advance. The base material is a core metal, a metal belt, a resin belt or the like when producing a roll for an electrophotographic apparatus, and a belt-like base material when producing a belt for an electrophotographic apparatus. A layered silicone rubber member is formed on the substrate by primary curing.

・2次架橋
上記のようにして得られた成形硬化物を、次に、5.0×10Pa以下の圧力下、80〜180℃の温度で処理する。
Secondary cross-linking The molded cured product obtained as described above is then treated at a temperature of 80 to 180 ° C. under a pressure of 5.0 × 10 4 Pa or less.

具体的に推奨される条件としては、成形硬化物を5.0×10Pa(380Torr)以下の、好ましくは1.0×10Pa(76Torr)以下の低圧力下かつ80〜180℃、好ましくは80〜150℃の温度下で減圧熱処理することが好ましい。より好ましくは2.0×10Pa(15Torr)以下の低圧力かつ80〜180℃の温度下で減圧熱処理条件がよい。減圧熱処理の時間は圧力と温度に応じて適宜選択すればよいが、一般に10分以上が好ましく、60分以上であることがより好ましい。 As specifically recommended conditions, the molded cured product is under a low pressure of 5.0 × 10 4 Pa (380 Torr) or less, preferably 1.0 × 10 4 Pa (76 Torr) or less, and 80 to 180 ° C., Preferably, heat treatment under reduced pressure is performed at a temperature of 80 to 150 ° C. More preferably, the low pressure heat treatment conditions are good under a low pressure of 2.0 × 10 3 Pa (15 Torr) or less and a temperature of 80 to 180 ° C. The time for the heat treatment under reduced pressure may be appropriately selected according to the pressure and temperature, but is generally preferably 10 minutes or more, and more preferably 60 minutes or more.

減圧度が低ければ低いほど低分子シロキサン等の揮発成分を多く除去することが可能でありシリコーンの酸素による酸化も防止可能である。したがって、圧力については特に下限はないが、実用的には通常1.0×10〜1.0×10Pa程度である。また、処理温度は低温であればよりシリコーンポリマーの劣化はすくなくなるが上記揮発性低分子シリコーン成分の除去性も低下するため、80℃以上で行う。 The lower the degree of vacuum, the more volatile components such as low molecular weight siloxane can be removed, and the oxidation of silicone by oxygen can be prevented. Accordingly, there is no particular lower limit for the pressure, but it is usually about 1.0 × 10 2 to 1.0 × 10 3 Pa in practice. Further, if the treatment temperature is low, the silicone polymer is less deteriorated, but the removability of the volatile low molecular silicone component is also lowered.

上記の減圧熱処理方法は特に指定されるものではないが、具体的には、例えば、輻射熱等を利用した市販の減圧乾燥機、真空乾燥機、熱処理乾燥機、例えばADVANTEC社性真空低温乾燥機DRV420DA(商品名)等が利用可能である。   The above-mentioned reduced pressure heat treatment method is not particularly specified, but specifically, for example, a commercially available reduced pressure dryer, vacuum dryer, heat treatment dryer using radiant heat or the like, for example, a vacuum low temperature dryer DRV420DA manufactured by ADVANTEC Co., Ltd. (Product name) can be used.

こうして形成されたシリコーンゴム部材は半導電性である。即ち、体積抵抗率が0.1〜1014Ω・mの範囲であり、電子写真装置用ロールやベルトの構成部材として有用である。 The silicone rubber member thus formed is semiconductive. That is, the volume resistivity is in the range of 0.1 to 10 14 Ω · m, and it is useful as a constituent member of a roll for an electrophotographic apparatus or a belt.

上記のようにして基材の上に中間層を介し又は介さずに形成されたシリコーンゴム部材としての半導電性シリコーンゴム層の上には、さらに、必要により保護、低分子シロキサン成分ブリード防止、キズ防止、すべり性向上、耐摩耗性付与、その他の目的で別の層、例えばウレタン系コート層、シリコーン系コート層等を形成してもよい。   On the semiconductive silicone rubber layer as a silicone rubber member formed on the substrate with or without an intermediate layer as described above, further, if necessary, protection, prevention of low molecular siloxane component bleed, Another layer such as a urethane-based coating layer, a silicone-based coating layer, or the like may be formed for preventing scratches, improving slipperiness, imparting abrasion resistance, or other purposes.

以下、実施例と比較例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。実施例、比較例において示す部はいずれも質量部を示し、粘度は25℃でブルックフィールド型回転粘度計で測定した値である。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to the following Example. The parts shown in Examples and Comparative Examples all represent parts by mass, and the viscosity is a value measured with a Brookfield rotary viscometer at 25 ° C.

〔実施例1〕
・ジメチルシロキサン単位99.825モル%及びメチルビニルシロキサン単位0.15モル%とからなり、分子鎖両末端がジメチルビニルシリル基0.025モル%で封鎖され、粘度が1×107mm2/sのオルガノポリシロキサン100部、
・比表面積が200m2/gであるヒュームドシリカ(日本エアロジル(株))10部、
・分散剤として平均重合度3〜10の両末端シラノール基停止ジメチルポリシロキサン重合体2部
を、ニーダーを用いて混練した後、160℃にて2時間熱処理を行いベースコンパウンドAを作成した。
Example 1
-Consisting of 99.825 mol% of dimethylsiloxane units and 0.15 mol% of methylvinylsiloxane units, both ends of the molecular chain are blocked with 0.025 mol% of dimethylvinylsilyl groups, and the viscosity is 1 x 10 7 mm 2 / 100 parts of organopolysiloxane,
-10 parts of fumed silica (Nippon Aerosil Co., Ltd.) with a specific surface area of 200 m 2 / g,
-Two parts silanol group-terminated dimethylpolysiloxane polymer having an average degree of polymerization of 3 to 10 as a dispersant was kneaded using a kneader, and then heat treated at 160 ° C for 2 hours to prepare a base compound A.

次にこのベースコンパウンドA100部に、導電性付与剤としてアセチレンブラックであるデンカブラック(平均粒径40nm、電気化学(株)製商品名)12部を2本ロールミルにて添加、分散させて導電ゴムコンパウンドAを作成した。   Next, to 100 parts of this base compound, 12 parts of acetylene black DENKA BLACK (average particle size 40 nm, trade name, manufactured by Electrochemical Co., Ltd.) as a conductivity-imparting agent is added and dispersed in a two-roll mill, and conductive rubber is added. Compound A was created.

次にこの導電ゴムコンパウンドA100部に、架橋剤として、分子鎖の両末端及び途中(即ち、非末端)にケイ素原子結合水素原子(即ち、Si−H基)を有するメチルハイドロジェンポリシロキサン(重合度17、ケイ素原子結合した水素原子量0.0060mol/g)2.1部、反応制御剤として、エチニルシクロヘキサノール0.1部、白金触媒(Pt濃度1%)0.1部を同様に2本ロールミルにて添加し、硬化性シリコーンゴム組成物を調製した。   Next, methyl hydrogen polysiloxane (polymerization) having silicon atom-bonded hydrogen atoms (that is, Si—H groups) at both ends and in the middle (that is, non-terminal) of the molecular chain as a cross-linking agent was added to 100 parts of this conductive rubber compound A. 17 parts, 2.1 parts of silicon atom-bonded hydrogen atom 0.0060 mol / g), 2.1 parts of reaction control agent, 0.1 part of ethynylcyclohexanol, 0.1 part of platinum catalyst (Pt concentration 1%) It added with the roll mill and prepared the curable silicone rubber composition.

こうして得られた組成物を直径6mmの芯金の周囲に厚さ6mmで被覆し、全体で直径18mm、長さ50mmのロール形状に成形し硬化させた。また、該組成物を厚さ2mmのシート状にも成形、硬化させた。なお、この時の成形、硬化の条件はプレスキュアーを120℃で15分間行った後、2次架橋処理の条件は1.0×10Pa(7.5Torr)の減圧下、150℃で4時間の加熱であった。 The composition thus obtained was coated around a core metal having a diameter of 6 mm with a thickness of 6 mm, and formed into a roll shape having a diameter of 18 mm and a length of 50 mm as a whole, and was cured. The composition was also molded into a 2 mm thick sheet and cured. The molding and curing conditions at this time were press-cured at 120 ° C. for 15 minutes, and then the secondary crosslinking treatment was performed at 150 ° C. under a reduced pressure of 1.0 × 10 3 Pa (7.5 Torr). It was heating for hours.

上記の硬化処理で表面に硬化シリコーンゴム層が形成されたロール(シリコーンゴムロールという)を研磨機にて直径が16mmになるまで削り込み、表面荒さが10μm以下となるように研磨を行って表面が平滑なロールを得た。次に、このシリコーンゴムロールの汚染性と圧縮による凹みを以下の方法で評価した。   A roll having a cured silicone rubber layer formed on the surface by the above curing treatment (referred to as a silicone rubber roll) is shaved with a polishing machine until the diameter becomes 16 mm, and the surface is polished to have a surface roughness of 10 μm or less. A smooth roll was obtained. Next, the contamination property of this silicone rubber roll and the depression due to compression were evaluated by the following methods.

・汚染性:
シリコーンゴムロールの汚染性、即ちロールの硬化シリコーンゴム層からブリードする恐れのあるシリコーン成分によるOPCドラムの汚染を次のようにして評価した。
Canon製レーザープリンター(LaserPress4150PS)からトナーカートリッジを一旦外し、OPCドラムの表面に、上記のシリコーンゴムロール両端に1kgの力を加えることにより該ロールのシリコーンゴム層表面を押しつけた状態で24時間放置した。その後、にトナーカートリッジをプリンターに戻し印刷用紙に全面グレー印刷を行った。押し付けによりシリコーンゴムロールからシリコーン成分がブリードしてOPCドラムに移行すると、印刷された紙上にシリコーンロールの押しつけた跡が反映される形で汚染が生じる。連続印字を行って、この押しつけ跡が目視にて印刷紙から無くなるまでの印字枚数を測定した。
・ Contamination:
The contamination property of the silicone rubber roll, that is, the contamination of the OPC drum by the silicone component that may bleed from the cured silicone rubber layer of the roll was evaluated as follows.
The toner cartridge was once removed from the Canon laser printer (LaserPress 4150PS), and the surface of the OPC drum was left for 24 hours in a state where the surface of the silicone rubber layer of the roll was pressed by applying a force of 1 kg to both ends of the silicone rubber roll. Thereafter, the toner cartridge was returned to the printer, and the entire surface was printed with gray. When the silicone component is bleed from the silicone rubber roll and transferred to the OPC drum due to the pressing, contamination occurs in a form in which the pressed surface of the silicone roll is reflected on the printed paper. Continuous printing was performed, and the number of printed sheets until the pressing trace disappeared visually from the printing paper was measured.

・凹み:
上記のようにしてOPCドラムに押しつけたシリコーンゴムロールを取外し、押し付けによる圧縮から解放後1時間後に、OPCドラムの押しつけによりシリコーンゴムロール上に生じた凹み量(即ち、凹みの深さ)を測定した。凹み量は該シリコーンゴムロールを現像ロールとして使用した場合に重要な特性である。凹みにトナーが付着するとその部分のトナー層が周囲に比較して厚くなるためトナー層の厚さが不均一となり、印字濃度がばらつく原因となるためである。したがって、凹みは小さいほど良好な現像ロールとなる。
・ Dent:
The silicone rubber roll pressed against the OPC drum as described above was removed, and one hour after releasing from the compression by pressing, the amount of dent (that is, the depth of the dent) generated on the silicone rubber roll by pressing the OPC drum was measured. The amount of dents is an important characteristic when the silicone rubber roll is used as a developing roll. This is because when toner adheres to the dent, the toner layer in that portion becomes thicker than the surrounding area, resulting in non-uniform thickness of the toner layer and variations in print density. Therefore, the smaller the dent, the better the developing roll.

また、上記で作製した厚さ2mmのシリコーンゴムシートを用いて物理特性及び低分子シロキサン含有量を次のようにして評価した。   In addition, physical properties and low molecular siloxane content were evaluated as follows using the 2 mm thick silicone rubber sheet prepared above.

・物理特性:
JIS K 6249に従って、硬さ(デュロメータタイプA)、及び180℃/22h圧縮永久歪を測定した。反発弾性率はJIS K 6255に従って測定した。
・ Physical characteristics:
According to JIS K 6249, hardness (durometer type A) and 180 ° C./22 h compression set were measured. The rebound resilience was measured according to JIS K 6255.

・低分子シロキサン含有量:
シリコーンゴムシートの小片1gを20ppmのn−テトラデカン含有アセトン溶液に8時間浸漬して抽出を行った後に、FID昇温型ガスクロマトグラフィーにより50℃から270℃まで、昇温速度10℃/minで昇温する条件にて測定した。使用カラムはJ&W社製DB1701を使用し、キャリアガスはHeを使用した。低分子シロキサンの濃度はn−テトラデカンを標準物質としてピーク面積換算して算出した。
以上の評価結果を表1に示す。
・ Low molecular siloxane content:
After 1 g of a small piece of a silicone rubber sheet was immersed in an acetone solution containing 20 ppm of n-tetradecane for 8 hours and extracted, the temperature was increased from 50 ° C. to 270 ° C. at a temperature increase rate of 10 ° C./min. It measured on the conditions to heat up. The column used was DB1701 manufactured by J & W and He was used as the carrier gas. The concentration of the low molecular siloxane was calculated by converting the peak area using n-tetradecane as a standard substance.
The above evaluation results are shown in Table 1.

〔実施例2〕
実施例1記載の2次架橋条件の減圧度を1.0×10Pa(7.5Torr)から1.0×10Pa(76Torr)に変更した以外は実施例1同様にシート、ロールを得た。
[Example 2]
The sheet and rolls were removed in the same manner as in Example 1 except that the degree of vacuum in the secondary crosslinking conditions described in Example 1 was changed from 1.0 × 10 3 Pa (7.5 Torr) to 1.0 × 10 4 Pa (76 Torr). Obtained.

〔実施例3〕
実施例1記載の2次架橋条件の減圧度を1.0×10Pa(7.5Torr)から5.0×10Pa(380Torr)に変更した以外は実施例1同様にシート、ロールを得た。
Example 3
The sheet and rolls were removed in the same manner as in Example 1 except that the degree of vacuum in the secondary crosslinking conditions described in Example 1 was changed from 1.0 × 10 3 Pa (7.5 Torr) to 5.0 × 10 4 Pa (380 Torr). Obtained.

〔実施例4〕
実施例1記載の2次架橋条件の温度を150℃から80℃に変更した以外は実施例1同様にシート、ロールを得た。
(Example 4)
A sheet and a roll were obtained in the same manner as in Example 1 except that the temperature of the secondary crosslinking conditions described in Example 1 was changed from 150 ° C to 80 ° C.

〔比較例1〕
実施例1記載の2次架橋条件を行わずに実施例1同様にシート、ロールを得た。
(Comparative Example 1)
A sheet and a roll were obtained in the same manner as in Example 1 without carrying out the secondary crosslinking conditions described in Example 1.

〔比較例2〕
実施例1記載の2次架橋条件を減圧熱処理する変わりに常圧にて230℃/4h熱処理に変更した以外は実施例1同様にシート、ロールを得た。
[Comparative Example 2]
Sheets and rolls were obtained in the same manner as in Example 1 except that the secondary crosslinking conditions described in Example 1 were changed to 230 ° C / 4h heat treatment at normal pressure instead of heat treatment under reduced pressure.

〔比較例3〕
実施例1記載の2次架橋条件を減圧熱処理する変わりに常圧にて200℃/4h熱処理に変更した以外は実施例1同様にシート、ロールを得た。
[Comparative Example 3]
Sheets and rolls were obtained in the same manner as in Example 1 except that the secondary crosslinking conditions described in Example 1 were changed to 200 ° C / 4h heat treatment at normal pressure instead of heat treatment under reduced pressure.

〔比較例4〕
実施例1記載の2次架橋条件を減圧熱処理する変わりに常圧にて180℃/4h熱処理に変更した以外は実施例1同様にシート、ロールを得た。
[Comparative Example 4]
Sheets and rolls were obtained in the same manner as in Example 1 except that the secondary crosslinking conditions described in Example 1 were changed to 180 ° C./4 h heat treatment at normal pressure instead of heat treatment under reduced pressure.

〔比較例5〕
実施例1記載の2次架橋条件を減圧熱処理する変わりに常圧にて200℃/24h熱処理に変更した以外は実施例1同様にシート、ロールを得た。
[Comparative Example 5]
Sheets and rolls were obtained in the same manner as in Example 1 except that the secondary crosslinking conditions described in Example 1 were changed to 200 ° C./24 h heat treatment at normal pressure instead of heat treatment under reduced pressure.

〔比較例6〕
実施例1記載の2次架橋条件を減圧熱処理する変わりに常圧にて150℃/24h熱処理に変更した以外は実施例1同様にシート、ロールを得た。
[Comparative Example 6]
Sheets and rolls were obtained in the same manner as in Example 1 except that the secondary crosslinking conditions described in Example 1 were changed to 150 ° C./24 h heat treatment at normal pressure instead of heat treatment under reduced pressure.

実施例2−4及び比較例1−6で得られたシリコーンゴムロール及びシリコーンゴムシートと用いて実施例1と同様の評価を行った。結果を表1及び2に示す。   Evaluation similar to Example 1 was performed using the silicone rubber roll and silicone rubber sheet obtained in Example 2-4 and Comparative Example 1-6. The results are shown in Tables 1 and 2.

Figure 2008163282
Figure 2008163282

〔表1の注〕
1)材料硬さ、反発弾性率、圧縮永久歪み、及び低分子シロキサン量は2次架橋後のデータである。
2)Dn:n個の[(CH3)2SiO]単位からなる環状シロキサン
[Notes on Table 1]
1) Material hardness, impact resilience, compression set, and amount of low molecular siloxane are data after secondary crosslinking.
2) Dn: Cyclic siloxane composed of n [(CH 3 ) 2 SiO] units

Figure 2008163282
Figure 2008163282

〔表2の注〕
1)材料硬さ、反発弾性率、圧縮永久歪み、及び低分子シロキサン量は、比較例1以外は、2次架橋後のデータである。
2)Dn:n個の[(CH3)2SiO]単位からなる環状シロキサン
[Notes on Table 2]
1) Material hardness, impact resilience, compression set, and amount of low molecular siloxane are data after secondary crosslinking except for Comparative Example 1.
2) Dn: Cyclic siloxane composed of n [(CH 3 ) 2 SiO] units

表1,2のように2次架橋条件を本発明の製造方法により減圧熱処理したロールは低分子シロキサンが効率的に除去されており、OPCドラムへのシリコーン成分の移行によるOPCドラム汚染(印字汚れ枚数)が低減され、凹みも小さく良好な低減したロールとなっていることが明確である。   As shown in Tables 1 and 2, the low-molecular siloxane was efficiently removed from the roll subjected to the heat treatment under the secondary crosslinking conditions by the production method of the present invention, and the OPC drum contamination (printing stains) due to the migration of the silicone component to the OPC drum. It is clear that the number of sheets) is reduced, the dents are small, and the rolls are well reduced.

本発明の製造方法により得られる電子写真装置用半導電性シリコーンゴム部材は、特にOPCドラムやトナーに直接または間接に接触する形で使用されるゴム部材として有用であり、例えば電子写真装置用の各種ロールおよび各種ベルトの構成部材が代表的である。具体的には、現像ロール、現像ベルト、トナー搬送スポンジロール、転写ロール、転写ベルト、定着ロール、定着ベルト等の構成部材に有用である。   The semiconductive silicone rubber member for an electrophotographic apparatus obtained by the production method of the present invention is particularly useful as a rubber member used in direct or indirect contact with an OPC drum or toner, for example, for an electrophotographic apparatus. The constituent members of various rolls and various belts are typical. Specifically, it is useful for constituent members such as a developing roll, a developing belt, a toner conveying sponge roll, a transfer roll, a transfer belt, a fixing roll, and a fixing belt.

Claims (9)

(A)下記平均組成式(1):
SiO(4−n)/2 (1)
(但し、Rは置換または非置換の1価炭化水素基であり、nは1.95〜2.05の数である)
で示されるオルガノポリシロキサン 100質量部、
(B)導電性材料 半導電性を付与する量、及び
(C)硬化剤 (A)成分を硬化させうる量
を含むシリコーンゴム組成物を基材上に中間層を介し又は介さずに層状に成形し硬化させて成形硬化物を形成し、
得られた成形硬化物を5.0×10Pa以下の圧力下、80〜180℃の温度で処理することを特徴とする電子写真装置用半導電性シリコーンゴム部材の製造方法。
(A) The following average composition formula (1):
R n SiO (4-n) / 2 (1)
(However, R is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, and n is a number from 1.95 to 2.05.)
100 parts by mass of an organopolysiloxane represented by
(B) Conductive material Amount to impart semiconductivity and (C) Curing agent (A) A silicone rubber composition containing an amount capable of curing the component is layered on the substrate with or without an intermediate layer Molded and cured to form a molded cured product,
A method for producing a semiconductive silicone rubber member for an electrophotographic apparatus, wherein the obtained molded cured product is treated at a temperature of 80 to 180 ° C. under a pressure of 5.0 × 10 4 Pa or less.
前記の基材が電子写真装置用ロールの芯金または電子写真装置用ベルトのベルト状基材である請求項1に係る製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein the substrate is a core metal of a roll for an electrophotographic apparatus or a belt-shaped substrate of a belt for an electrophotographic apparatus. 基材である芯金の外周面に中間層を介し又は介さずに前記シリコーンゴム組成物を層状に成形し硬化させて硬化シリコーンゴム層を形成し、該硬化シリコーンゴム層を前記の条件で減圧下で熱処理することを含み、特徴とする請求項1に係る製造方法。   The silicone rubber composition is formed into a layer on the outer peripheral surface of the core metal as a base material with or without an intermediate layer and cured to form a cured silicone rubber layer, and the cured silicone rubber layer is decompressed under the above conditions. The manufacturing method according to claim 1, comprising heat-treating under. 前記電子写真装置用ロールが現像ロール、トナー搬送スポンジロール、クリーニングスポンジロール、又は定着ロールであることを特徴とする請求項2又は3に係る製造方法。   4. The manufacturing method according to claim 2, wherein the roll for an electrophotographic apparatus is a developing roll, a toner conveying sponge roll, a cleaning sponge roll, or a fixing roll. 前記電子写真装置用ベルトが、ベルト状基材と、該基材上に中間層を介し又は介さずに設けられた少なくとも1層のシリコーンゴム層とを有してなり、前記半導電性シリコーンゴム部材が該シリコーンゴム層であることを特徴とする請求項2に係る製造方法。   The belt for an electrophotographic apparatus comprises a belt-like base material and at least one silicone rubber layer provided on the base material with or without an intermediate layer, and the semiconductive silicone rubber The manufacturing method according to claim 2, wherein the member is the silicone rubber layer. 前記電子写真装置用ベルトが現像ベルト又は定着ベルトである請求項2又は5に係る製造方法。   6. The method according to claim 2, wherein the electrophotographic belt is a developing belt or a fixing belt. 請求項1〜6のいずれか1項に係る製造方法により製造された電子写真装置用半導電性シリコーンゴム部材。   A semiconductive silicone rubber member for an electrophotographic apparatus produced by the production method according to claim 1. 請求項7に記載の半導電性シリコーンゴム部材を有する電子写真装置用ロール。   A roll for an electrophotographic apparatus, comprising the semiconductive silicone rubber member according to claim 7. 請求項7に記載の半導電性シリコーンゴム部材を有する電子写真装置用ベルト。   A belt for an electrophotographic apparatus comprising the semiconductive silicone rubber member according to claim 7.
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