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JP2008163262A - Polycarbonate resin composition and electrophotographic photoreceptor using the same - Google Patents

Polycarbonate resin composition and electrophotographic photoreceptor using the same Download PDF

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JP2008163262A
JP2008163262A JP2006356628A JP2006356628A JP2008163262A JP 2008163262 A JP2008163262 A JP 2008163262A JP 2006356628 A JP2006356628 A JP 2006356628A JP 2006356628 A JP2006356628 A JP 2006356628A JP 2008163262 A JP2008163262 A JP 2008163262A
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Japan
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polycarbonate resin
bis
resin composition
photosensitive layer
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Application number
JP2006356628A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshiaki Yoneda
善紀 米田
Noriyoshi Ogawa
典慶 小川
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Publication date
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Priority to JP2006356628A priority Critical patent/JP2008163262A/en
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Abstract

【課題】金属密着性に優れたポリカーボネート樹脂組成物の提供、及び感光層と金属基材との密着性並びに耐摩耗性が改善された電子写真感光体の提供。
【解決手段】ポリカーボネート樹脂と式(1)で示されるポリイミドシリコーン樹脂とを配合して、ポリカーボネート樹脂組成物とし感光層用バインダー樹脂として用いる。

Figure 2008163262

【選択図】なしThe present invention provides a polycarbonate resin composition having excellent metal adhesion, and an electrophotographic photoreceptor having improved adhesion between a photosensitive layer and a metal substrate and wear resistance.
A polycarbonate resin and a polyimide silicone resin represented by the formula (1) are blended to form a polycarbonate resin composition and used as a binder resin for a photosensitive layer.
Figure 2008163262

[Selection figure] None

Description

本発明は、ポリイミドシリコーン樹脂を含有し金属密着性に優れたポリカーボネート樹脂組成物と、それを感光層用バインダー樹脂として用いた耐摩耗性及び耐久性に優れた電子写真感光体に関するものである。   The present invention relates to a polycarbonate resin composition containing a polyimide silicone resin and excellent in metal adhesion, and an electrophotographic photoreceptor excellent in wear resistance and durability using the polycarbonate resin composition as a binder resin for a photosensitive layer.

ポリカーボネート樹脂は、透明性、光学特性及び機械的強度に優れたエンジニアリングプラスチックとして様々な分野に使用されている。特に特殊な仕様例として、複写機、レーザービームプリンタ(以下、LBPと略称)、ファックス等に使用されている電子写真感光体の感光層バインダー樹脂としての応用が挙げられる。   Polycarbonate resins are used in various fields as engineering plastics having excellent transparency, optical properties, and mechanical strength. As a special specification example, there is an application as a photosensitive layer binder resin of an electrophotographic photosensitive member used in a copying machine, a laser beam printer (hereinafter abbreviated as LBP), a fax machine or the like.

現在は、感光層が電荷発生層と電荷輸送層を有する積層型電子写真感光体が主流であり、これらの感光層はアルミニウムやステンレス鋼製の円筒またはアルミ蒸着ポリエステル製の円筒やベルトなどの金属基材(導電性基材)上に、ポリカーボネート樹脂と電荷発生剤や電荷輸送剤などの薬剤とを溶かした溶液を塗布し、湿式成形することにより形成される。   At present, multilayer electrophotographic photoreceptors in which the photosensitive layer has a charge generation layer and a charge transport layer are the mainstream, and these photosensitive layers are made of metal such as a cylinder made of aluminum or stainless steel or a cylinder or belt made of aluminum-deposited polyester. It is formed by applying a solution in which a polycarbonate resin and a chemical such as a charge generating agent and a charge transporting agent are dissolved on a base material (conductive base material) and performing wet molding.

電子写真感光体の最外層である感光層(積層型電子写真感光体においては電荷輸送層)は、トナー、紙、帯電ローラー、クリーニングブレードなどに接触する機会が多いため、特に耐摩耗性が要求される。そこで従来、耐摩耗性を向上させる手段として、感光層バインダー樹脂にシリコーン系の種々の添加剤を加える手法が報告されている(特許文献1〜3参照)。   The outermost layer of the electrophotographic photosensitive member (the charge transport layer in the case of a laminated electrophotographic photosensitive member) has many opportunities to come into contact with toner, paper, a charging roller, a cleaning blade, etc., and therefore requires particularly wear resistance. Is done. Therefore, conventionally, as a means for improving the wear resistance, a method of adding various silicone-based additives to the photosensitive layer binder resin has been reported (see Patent Documents 1 to 3).

近年、電子写真感光体のリサイクルが盛んに行われており、劣化した感光体表面の電荷輸送層を除去し、新しい電荷輸送層を形成し、リサイクル電子写真感光体とする手法が用いられている。その際、電荷輸送層が電荷発生層の全面に形成されるため、一部はみ出た電荷輸送層が金属基材に直接接触する場合がある。その場合、前記添加剤は電荷輸送層と金属基材との密着性を低下させる傾向にあった。
近年、オフィスや一般家庭ではメンテナンスを専門業者に任せず、購入者が自ら消耗品である電子写真感光体を交換する場合が増えてきており、その場合、電子写真感光体を保護するための保護紙やフィルムを止めてある粘着テープを誤って電子写真感光体表面に付着させてしまうことがある。このような場合、感光層と金属基材との密着性が低いと、特に感光体端部にテープが付着した際、テープと共に感光層が剥がれるなどの問題が生じることがあり、感光層と金属基材との密着性に改善の余地があった。
In recent years, recycling of electrophotographic photoreceptors has been actively performed, and a method of removing a charge transport layer on a deteriorated photoreceptor surface and forming a new charge transport layer to obtain a recycled electrophotographic photoreceptor is used. . At this time, since the charge transport layer is formed on the entire surface of the charge generation layer, the part of the charge transport layer that protrudes may directly contact the metal substrate. In that case, the additive tended to reduce the adhesion between the charge transport layer and the metal substrate.
In recent years, in offices and general households, the number of purchasers who replace consumable electrophotographic photoconductors is increasing without relying on specialized contractors for maintenance, and in that case, protection to protect the electrophotographic photoconductor In some cases, the adhesive tape that stops the paper or film is mistakenly attached to the surface of the electrophotographic photosensitive member. In such a case, if the adhesion between the photosensitive layer and the metal substrate is low, there may be a problem that the photosensitive layer is peeled off together with the tape, particularly when the tape adheres to the edge of the photosensitive member. There was room for improvement in adhesion to the substrate.

特開昭61−219049号公報JP-A-61-219049 特開平1−234854号公報JP-A-1-234854 特開平5−165244号公報JP-A-5-165244

本発明が解決しようとする課題は、金属密着性に優れたポリカーボネート樹脂組成物の提供、及び感光層と金属基材との密着性及び耐摩耗性が改善された電子写真感光体の提供にある。   The problem to be solved by the present invention is to provide a polycarbonate resin composition having excellent metal adhesion, and to provide an electrophotographic photoreceptor having improved adhesion and abrasion resistance between the photosensitive layer and the metal substrate. .

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、感光層に溶媒可溶な特定のポリイミドシリコーン樹脂を少量添加したポリカーボネート樹脂組成物が、優れた金属密着性を有し、これを感光層用バインダー樹脂として用いた電子写真感光体は、従来の感光層用バインダー樹脂を用いた電子写真感光体に比べ、耐摩耗性が向上するとともに、感光層と金属基材との密着性が良好で剥離不良が少ないことを見いだし、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention have a polycarbonate resin composition in which a small amount of a specific polyimide silicone resin that is soluble in a solvent is added to the photosensitive layer, and has excellent metal adhesion, The electrophotographic photoreceptor using this as a binder resin for the photosensitive layer has improved wear resistance and adhesion between the photosensitive layer and the metal substrate, compared to the conventional electrophotographic photoreceptor using the binder resin for the photosensitive layer. The present invention was completed by finding that the property was good and there were few peeling defects.

すなわち、本発明は、以下に示すポリカーボネート樹脂組成物及び電子写真感光体に関する。
(1)ポリカーボネート樹脂を主成分とし、下記一般式(1)で示される繰り返し単位からなる平均分子量5,000〜150,000のポリイミドシリコーン樹脂を含有してなる、ポリカーボネート樹脂組成物。
That is, the present invention relates to the following polycarbonate resin composition and electrophotographic photosensitive member.
(1) A polycarbonate resin composition comprising a polyimide silicone resin having a polycarbonate resin as a main component and having an average molecular weight of 5,000 to 150,000 consisting of repeating units represented by the following general formula (1).

Figure 2008163262
Figure 2008163262

(式中、Xは四価の有機基、Yは二価の有機基、Zはオルガノシロキサン構造を有する二価の有機基であり、p:qの割合は1:99〜99:1の割合である。) (In the formula, X is a tetravalent organic group, Y is a divalent organic group, Z is a divalent organic group having an organosiloxane structure, and the ratio of p: q is a ratio of 1:99 to 99: 1. .)

(2)前記一般式(1)中のZが下記一般式(2)で表されるジアミノシロキサン残基あることを特徴とする、(1)記載のポリカーボネート樹脂組成物。 (2) The polycarbonate resin composition according to (1), wherein Z in the general formula (1) is a diaminosiloxane residue represented by the following general formula (2).

Figure 2008163262
Figure 2008163262

(式中のR1からR4は炭素数1〜8の置換または非置換の一価の炭化水素基であり、これらは同一でも異なっていてもよい。Qは独立に、置換または非置換の炭素原子数1〜8の二価炭化水素基である。aは1以上100以下の整数である。) (Wherein R 1 to R 4 are substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups having 1 to 8 carbon atoms, which may be the same or different. Q is independently substituted or unsubstituted. A divalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, a is an integer of 1 to 100.)

(3)前記ポリイミドシリコーン樹脂が0.05〜5重量%含有されていることを特徴とする、(1)又は(2)記載のポリカーボネート樹脂組成物。
(4)前記ポリカーボネート樹脂が、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、及び1,1‘−ビフェニル−4,4’−ジオールからなる群から選択されるビスフェノール類から誘導されるものである、(1)〜(3)のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物。
(3) The polycarbonate resin composition according to (1) or (2), wherein the polyimide silicone resin is contained in an amount of 0.05 to 5% by weight.
(4) The polycarbonate resin is 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane And a polycarbonate resin composition according to any one of (1) to (3), which is derived from bisphenols selected from the group consisting of 1,1′-biphenyl-4,4′-diol.

(5)前記ポリカーボネート樹脂の極限粘度が0.3〜2.0dl/gである、(1)〜(4)のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物。
(6)導電性基体上に感光層を有する電子写真感光体において、該感光層のバインダー樹脂として(1)〜(5)のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物を用いることを特徴とする、電子写真感光体。
(7)導電性基体上に電荷発生層と電荷輸送層とからなる感光層を有する電子写真感光体において、該電荷輸送層のバインダー樹脂として(1)〜(5)のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物を用いることを特徴とする、電子写真感光体。
(5) The polycarbonate resin composition according to any one of (1) to (4), wherein the intrinsic viscosity of the polycarbonate resin is 0.3 to 2.0 dl / g.
(6) In an electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer on a conductive substrate, the polycarbonate resin composition according to any one of (1) to (5) is used as a binder resin for the photosensitive layer. Electrophotographic photoreceptor.
(7) In the electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer comprising a charge generation layer and a charge transport layer on a conductive substrate, the polycarbonate according to any one of (1) to (5) as a binder resin for the charge transport layer An electrophotographic photosensitive member using a resin composition.

本発明のポリイミドシリコーン樹脂を含有するポリカーボネート樹脂組成物は、耐摩耗性と金属密着性に優れている。そのため、電子写真感光体の感光層用バインダー樹脂として使用した場合、電子写真感光体交換時のテープ付着等に起因する感光層剥離を大幅に防止できるので、耐摩耗性及び耐久性が格段に向上した電子写真感光体を提供することができる。   The polycarbonate resin composition containing the polyimide silicone resin of the present invention is excellent in wear resistance and metal adhesion. Therefore, when used as a binder resin for the photosensitive layer of an electrophotographic photosensitive member, it is possible to greatly prevent the peeling of the photosensitive layer due to adhesion of the tape when replacing the electrophotographic photosensitive member, so the wear resistance and durability are greatly improved. An electrophotographic photosensitive member can be provided.

(1)ポリイミドシリコーン樹脂
本発明で用いられるポリイミドシリコーン樹脂は、上記一般式(1)で示される繰り返し単位からなり、より詳しくは、下記一般式(1a)及び(1b)で示される繰り返し単位とからなるコポリマーである。
(1) Polyimide silicone resin The polyimide silicone resin used in the present invention comprises a repeating unit represented by the above general formula (1), and more specifically, a repeating unit represented by the following general formulas (1a) and (1b): A copolymer consisting of

Figure 2008163262
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本発明のポリイミドシリコーン樹脂を構成する一般式(1a)と(1b)の繰り返し単位は、ランダム共重合及びブロック共重合のいずれの形式で結合していても良いが、通常はランダム共重合体である。   The repeating units of the general formulas (1a) and (1b) constituting the polyimide silicone resin of the present invention may be bonded in any form of random copolymerization and block copolymerization, but are usually random copolymers. is there.

ここで、上記一般式(1a)中、Xは四価の有機基であって、ポリイミドシリコーン樹脂の原料であるテトラカルボン酸二無水物の残基を表す。テトラカルボン酸二無水物残基としては、脂肪族テトラカルボン酸二無水物残基、脂環式テトラカルボン酸二無水物残基又は芳香族テトラカルボン酸二無水物残基が挙げられる。   Here, in said general formula (1a), X is a tetravalent organic group, Comprising: The tetracarboxylic dianhydride residue which is a raw material of a polyimide silicone resin is represented. Examples of the tetracarboxylic dianhydride residue include an aliphatic tetracarboxylic dianhydride residue, an alicyclic tetracarboxylic dianhydride residue, and an aromatic tetracarboxylic dianhydride residue.

脂肪族テトラカルボン酸二無水物残基としては、例えばブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、ペンタン−1,2,4,5−テトラカルボン酸二無水物等の残基が挙げられる。   Examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride residue include residues such as butane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride and pentane-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride. Groups.

脂環式テトラカルボン酸二無水物残基としては、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロヘキサン−1,2,4,5−テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物等の残基が挙げられる。   Examples of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride residue include 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, cyclohexane-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride, and dicyclohexyl-3. , 3 ′, 4,4′-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.1] heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 2,3,4,5-tetrahydrofuran Examples include residues such as tetracarboxylic dianhydride.

芳香族テトラカルボン酸二無水物残基としては、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、4,4’−ヘキサフルオロプロピリデンビスフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物等の残基が挙げられる。   As aromatic tetracarboxylic dianhydride residues, pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetra Carboxylic dianhydride, 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4 '-Benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 4,4'-hexafluoropropylidenebisphthalic dianhydride, 3,3 ', 4 , 4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride and the like.

また、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン等の芳香環を有する脂肪族テトラカルボン酸二無水物の残基を挙げることもできる。   1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, Fragrances such as 3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione Mention may also be made of the residues of aliphatic tetracarboxylic dianhydrides having a ring.

これらのテトラカルボン酸二無水物残基は、単独又は2種以上組み合わされる場合がある。これらのうちでより好ましいものは、芳香族テトラカルボン酸二無水物残基であり、さらに、3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、4,4’−ヘキサフルオロプロピリデンビスフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物の残基が好ましく、4,4’−ヘキサフルオロプロピリデンビスフタル酸二無水物の残基が、樹脂との相溶性という点で特に好ましい。   These tetracarboxylic dianhydride residues may be used alone or in combination of two or more. Of these, more preferred are aromatic tetracarboxylic dianhydride residues, and 3,3 ′, 4,4′-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 4,4′-hexafluoropropylene. Residues of lidenebisphthalic dianhydride and 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride are preferred, and residues of 4,4′-hexafluoropropylidenebisphthalic dianhydride Is particularly preferable in terms of compatibility with the resin.

上記一般式(1a)中、Yは二価の有機基であって、ポリイミドシリコーン樹脂の原料であるジアミンの残基を表す。ジアミン残基としては、脂肪族ジアミン、脂環式ジアミンまたは芳香族ジアミンの残基が挙げられる。   In the general formula (1a), Y is a divalent organic group and represents a residue of a diamine that is a raw material for the polyimide silicone resin. Examples of the diamine residue include aliphatic diamine, alicyclic diamine, and aromatic diamine residues.

脂肪族ジアミン残基としては、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等の残基が挙げられる。
脂環式ジアミン残基としては、1,4−ジアミノシクロヘキサン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン等の残基が挙げられる。
Examples of the aliphatic diamine residue include residues such as trimethylene diamine, tetramethylene diamine, and hexamethylene diamine.
Examples of the alicyclic diamine residue include residues such as 1,4-diaminocyclohexane and bis (4-aminocyclohexyl) methane.

芳香族ジアミン残基としては、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、ビス{4−(3−アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、オルトフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、パラフェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニル−2,2−プロパン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2−ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニル}ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン等の残基が挙げられる。   Examples of aromatic diamine residues include 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenyl sulfone, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, Bis {4- (3-aminophenoxy) phenyl} sulfone, bis {4- (4-aminophenoxy) phenyl} sulfone, orthophenylenediamine, metaphenylenediamine, paraphenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl-2, 2-propane, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 2,2-bis {4- (4-aminophenoxy) phenyl} hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexa Fluoropropane, 2,2-bis (3-aminophenyl) hexa Fluoropropane, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 9,9-bis (4- And residues such as aminophenyl) fluorene.

また、3,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、ジアミノビスフェノールA、3,3’−ジヒドロキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2’−{2−ヒドロキシ−3−(3,5−メチル−4−アミノ)−ベンジル−5−メチル}−ジフェニルメタン等のアミノ基以外の官能基を有するジアミンの残基を挙げることもできる。
これらのジアミン残基は、単独又は2種以上を組み合わされる場合がある。これらのうちでより好ましいものは芳香族ジアミン残基であり、さらに、ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンのジアミンの残基が好ましく、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンのジアミンの残基が樹脂との相溶性という点で特に好ましい。
3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane, diaminobisphenol A, 3,3′-dihydroxy-4,4′-diaminobiphenyl, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxy) Phenyl) hexafluoropropane, 2,2 ′-{2-hydroxy-3- (3,5-methyl-4-amino) -benzyl-5-methyl} -diphenylmethane, and other diamines having functional groups other than amino groups. Residues can also be mentioned.
These diamine residues may be used alone or in combination of two or more. Among these, more preferred are aromatic diamine residues, and bis {4- (4-aminophenoxy) phenyl} sulfone and 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene diamine residues are more preferable. Preferably, the diamine residue of 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene is particularly preferable in terms of compatibility with the resin.

上記一般式(1b)中、Xは一般式(1a)におけるのと同じである。Zはポリイミドシリコーン樹脂の原料であるもうひとつのジアミン(ジアミノシロキサン)の残基であって、オルガノシロキサン構造を有する二価の有機基(ジアミノシロキサン残基)を表す。具体的には、下記一般式(2)で表されるジアミン残基であることが好ましい。   In the general formula (1b), X is the same as in the general formula (1a). Z is a residue of another diamine (diaminosiloxane) which is a raw material of the polyimide silicone resin, and represents a divalent organic group (diaminosiloxane residue) having an organosiloxane structure. Specifically, a diamine residue represented by the following general formula (2) is preferable.

Figure 2008163262
Figure 2008163262

上記一般式(2)中のR1〜R4は炭素数1〜10、好ましくは炭素数1〜8の置換または非置換の一価の炭化水素基であり、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基のいずれでもよい。また、これらは同一でも異なっていてもよい。
1〜R4の具体例は、脂肪族炭化水素基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等のアルキル基;ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基としてはシクロヘキシル基、シクロペンチル基等のシクロアルキル基;シクロヘキセニル基等のシクロアルケニル基等が挙げられる。芳香族炭化水素基としてはフェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基;ベンジル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基等のアラルキル基等が挙げられる。
また、これらの炭化水素基の水素原子の少なくとも一つが、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子や、シアノ基等で置換されていてもよい。そのようなものとしては、例えばクロロメチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、4−フルオロフェニル基、2−シアノエチル基等が挙げられる。
また、R1〜R4は炭素数1〜8のアルコキシ基、アルケノキシ基、又はシクロアルキル基であってもよく、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、オクトキシ基、ビニロキシ基、アリロキシ基、プロペニノキシ基、イソプロペニノキシ基等が挙げられる。
R < 1 > -R < 4 > in the said General formula (2) is C1-C10, Preferably it is a C1-C8 substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic ring Either a formula hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group may be used. These may be the same or different.
Specific examples of R 1 to R 4 include an aliphatic hydrocarbon group such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group. Alkyl groups such as groups; alkenyl groups such as vinyl groups, allyl groups, propenyl groups, isopropenyl groups, butenyl groups, isobutenyl groups, hexenyl groups, and the like.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group include a cycloalkyl group such as a cyclohexyl group and a cyclopentyl group; a cycloalkenyl group such as a cyclohexenyl group, and the like. Aromatic hydrocarbon groups include aryl groups such as phenyl, tolyl and xylyl groups; aralkyl groups such as benzyl, ethylphenyl and propylphenyl groups.
Further, at least one of the hydrogen atoms of these hydrocarbon groups may be substituted with a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom, a cyano group, or the like. Examples of such include chloromethyl group, 3-fluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 4-fluorophenyl group, 2-cyanoethyl group and the like.
R 1 to R 4 may be an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenoxy group, or a cycloalkyl group. Specifically, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, Examples include isobutoxy group, tert-butoxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy group, octoxy group, vinyloxy group, allyloxy group, propeninoxy group, isopropenoxy group and the like.

これらのうちでより好ましいR1〜R4は、メチル基及びフェニル基である。
さらに、メチル基とフェニル基を組み合わせた場合が、ポリカーボネート樹脂との相溶性の点で特に好ましい。メチル基とフェニル基を組み合わせる場合、上記一般式(2)で表される構造中における−(O−Si(CH32)−で表されるジメチルシロキサン基と−(O−Si(Ph)2)−(「Ph」はフェニル基)で表されるジフェニルシロキサン基との比率は、ジメチルシロキサン基:ジフェニルシロキサン基=100:0〜60:40が好ましい。
Of these, more preferred R 1 to R 4 are a methyl group and a phenyl group.
Further, a combination of a methyl group and a phenyl group is particularly preferable from the viewpoint of compatibility with the polycarbonate resin. When combining a methyl group and a phenyl group, a dimethylsiloxane group represented by — (O—Si (CH 3 ) 2 ) — and — (O—Si (Ph)) in the structure represented by the general formula (2). 2 ) The ratio to the diphenylsiloxane group represented by-("Ph" is a phenyl group) is preferably dimethylsiloxane group: diphenylsiloxane group = 100: 0 to 60:40.

上記一般式(2)中、Qは独立に、非置換もしくは置換の炭素原子数1〜8の二価炭化水素基であり、鎖中にエーテル結合を含んでも良い。Qの具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、メチルエチレン基、テトラメチレン基、2−メチルプロピレン基、1−メチルプロピレン基、エチルエチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等のアルキレン基;o−、m−、p−フェニレン基、トリレン基等のアリーレン基;−(Ph)OCH2−、−(Ph)−CH2−、−(Ph)−CH2CH2−等のエーテル結合を含んでいても良いアルキレン・アリーレン基等が挙げられる。これらのうちで特に好ましいものはプロピレン(トリメチレン)基である。
上記一般式(2)中、aは1以上100以下、好ましくは1以上60以下の整数である。aの値がこの範囲より多いと金属基材への密着性が悪くなる場合がある。
In the general formula (2), Q is independently an unsubstituted or substituted divalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and may include an ether bond in the chain. Specific examples of Q include alkylene such as methylene group, ethylene group, propylene group, methylethylene group, tetramethylene group, 2-methylpropylene group, 1-methylpropylene group, ethylethylene group, hexamethylene group and octamethylene group. Groups; arylene groups such as o-, m-, p-phenylene and tolylene groups; ethers such as — (Ph) OCH 2 —, — (Ph) —CH 2 — and — (Ph) —CH 2 CH 2 — Examples thereof include an alkylene / arylene group which may contain a bond. Of these, a propylene (trimethylene) group is particularly preferred.
In the general formula (2), a is an integer of 1 to 100, preferably 1 to 60. When the value of a is more than this range, the adhesion to the metal substrate may be deteriorated.

ポリイミドシリコーン樹脂中における一般式(1a)で示される繰り返し単位の割合(p)と、一般式(1b)で示される繰り返し単位の割合(q)は、p:q=1:99〜99:1であり、好ましくはp:q=10:90〜90:10である。一般式(1a)で示される繰り返し単位の割合(p)が多すぎるとポリカーボネート樹脂との相溶性が悪くなる場合があり、一般式(1b)で示される繰り返し単位の割合(q)が多すぎると耐摩耗性が悪くなる場合がある。   The ratio (p) of the repeating unit represented by the general formula (1a) and the ratio (q) of the repeating unit represented by the general formula (1b) in the polyimide silicone resin are p: q = 1: 99 to 99: 1. Preferably, p: q = 10: 90 to 90:10. If the proportion (p) of the repeating unit represented by the general formula (1a) is too large, the compatibility with the polycarbonate resin may be deteriorated, and the proportion (q) of the repeating unit represented by the general formula (1b) is too large. And wear resistance may deteriorate.

ポリイミドシリコーン樹脂の平均分子量は、5,000〜150,000、好ましくは20,000〜150,000である。この平均分子量は、テトラヒドロフランを溶媒とするゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)によって測定される重量平均分子量(ポリスチレン換算)である。平均分子量が上記範囲より小さすぎると、樹脂がもろくなる場合があり、大きすぎるとポリカーボネート樹脂との相溶性が悪くなる場合がある。   The average molecular weight of the polyimide silicone resin is 5,000 to 150,000, preferably 20,000 to 150,000. This average molecular weight is a weight average molecular weight (polystyrene conversion) measured by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran as a solvent. If the average molecular weight is too smaller than the above range, the resin may become brittle, and if it is too large, the compatibility with the polycarbonate resin may deteriorate.

上記一般式(1)で表される繰り返し単位からなるポリイミドシリコーン樹脂の製造方法は、公知の方法に従えばよい。まず、酸二無水物、ジアミン及びジアミノシロキサンを溶剤中に仕込み、低温、即ち20〜50℃程度で反応させて、ポリイミド樹脂の前駆体であるポリアミック酸を製造する。次に、得られたポリアミック酸の溶液を、好ましくは80〜200℃、特に好ましくは140〜180℃の温度に昇温し、ポリアミック酸の酸アミドを脱水閉環反応させることにより、ポリイミドシリコーン樹脂の溶液を得る。さらに、この溶液を水、メタノール、エタノール、アセトニトリル等の溶剤に投入して沈殿させ、沈殿物を乾燥することにより、ポリイミドシリコーン樹脂を得ることができる。   The manufacturing method of the polyimide silicone resin which consists of a repeating unit represented by the said General formula (1) should just follow a well-known method. First, acid dianhydride, diamine and diaminosiloxane are charged in a solvent and reacted at a low temperature, that is, at about 20 to 50 ° C., to produce a polyamic acid which is a precursor of a polyimide resin. Next, the solution of the obtained polyamic acid is heated to a temperature of preferably 80 to 200 ° C., particularly preferably 140 to 180 ° C. Obtain a solution. Furthermore, this solution is poured into a solvent such as water, methanol, ethanol, acetonitrile or the like to precipitate, and the precipitate is dried, whereby a polyimide silicone resin can be obtained.

ここで、テトラカルボン酸二無水物に対するジアミン及びジアミノシロキサンの合計の割合は、製造するポリイミドシリコーン樹脂の分子量に応じて適宜決められるが、好ましくはモル比([ジアミン及びジアミノシロキサン]/[酸二無水物])で0.95〜1.05、特に好ましくは0.98〜1.02の範囲である。   Here, the total ratio of the diamine and the diaminosiloxane to the tetracarboxylic dianhydride is appropriately determined according to the molecular weight of the polyimide silicone resin to be produced, but is preferably a molar ratio ([diamine and diaminosiloxane] / [acid diacid]. Anhydride]) in the range of 0.95 to 1.05, particularly preferably 0.98 to 1.02.

また、ポリイミドシリコーン樹脂を製造するときに使用される溶剤としては、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、N,N−ジメチルアセトアミド等が挙げられる。また、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類を併用することでイミド化の際に生成する水を共沸により除去しやすくすることも可能である。これらの溶剤は、1種単独でも2種以上組み合わせて用いてもよい。   Moreover, as a solvent used when manufacturing a polyimide silicone resin, N-methyl-2-pyrrolidone, cyclohexanone, (gamma) -butyrolactone, N, N- dimethylacetamide, etc. are mentioned. Moreover, it is also possible to make it easy to remove water generated during imidization by azeotropy by using together aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

なお、ポリイミドシリコーン樹脂の分子量を調整するために、無水フタル酸、アニリン等の一官能基の原料を添加することも可能である。この場合の添加量はポリイミドシリコーン樹脂に対して2モル%以下が好ましい。これによって、本発明の特定範囲の平均分子量をもつポリイミドシリコーン樹脂を製造することができる。   In addition, in order to adjust the molecular weight of the polyimide silicone resin, it is also possible to add a raw material of a monofunctional group such as phthalic anhydride or aniline. The addition amount in this case is preferably 2 mol% or less with respect to the polyimide silicone resin. Thereby, a polyimide silicone resin having an average molecular weight within a specific range of the present invention can be produced.

また、イミド化過程において脱水剤およびイミド化触媒を添加し、必要に応じて50℃前後に加熱することにより、イミド化させる方法を用いてもよい。この方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、ジアミン1モルに対して1〜10モルとするのが好ましい。イミド化触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミンなどの第3級アミンを用いることができる。イミド化触媒の使用量は、使用する脱水剤1モルに対して0.5〜10モルとするのが好ましい。   Moreover, you may use the method of imidating by adding a dehydrating agent and an imidation catalyst in an imidation process, and heating to about 50 degreeC as needed. In this method, as the dehydrating agent, acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and trifluoroacetic anhydride can be used. The amount of the dehydrating agent used is preferably 1 to 10 mol per 1 mol of diamine. As the imidization catalyst, tertiary amines such as pyridine, collidine, lutidine, and triethylamine can be used. The amount of the imidization catalyst used is preferably 0.5 to 10 mol with respect to 1 mol of the dehydrating agent to be used.

ジアミン及びテトラカルボン酸二無水物の少なくとも一方を複数種使用する場合も、反応方法は特に限定されるものではなく、例えば原料を予め全て混合した後に共重縮合させる方法や、用いる2種以上のジアミン又はテトラカルボン酸二無水物を個別に反応させながら順次添加する方法等がある。   When using at least one of diamine and tetracarboxylic dianhydride, the reaction method is not particularly limited, for example, a method of co-condensation after mixing all the raw materials in advance, or two or more types used. There is a method of sequentially adding diamine or tetracarboxylic dianhydride while reacting individually.

本発明で合成されるポリイミドシリコーン樹脂の原料であるテトラカルボン酸二無水物は、上記一般式(1)におけるXで表されるテトラカルボン酸二無水物残基を誘導するものであればよく、好ましくは脂肪族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物または芳香族テトラカルボン酸二無水物が用いられる。   The tetracarboxylic dianhydride that is a raw material of the polyimide silicone resin synthesized in the present invention may be any one that induces a tetracarboxylic dianhydride residue represented by X in the general formula (1), Preferably, aliphatic tetracarboxylic dianhydride, alicyclic tetracarboxylic dianhydride or aromatic tetracarboxylic dianhydride is used.

脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、例えばブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、ペンタン−1,2,4,5−テトラカルボン酸二無水物等が用いられる。   Examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride include butane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride and pentane-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride.

脂環式テトラカルボン酸二無水物としては、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロヘキサン−1,2,4,5−テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物等が用いられる。   Examples of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, cyclohexane-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl-3,3. ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.1] heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 2,3,4,5-tetrahydrofurantetracarboxylic Acid dianhydride or the like is used.

芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、4,4’−ヘキサフルオロプロピリデンビスフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物等が用いられる。   As aromatic tetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetracarboxylic acid Dianhydride, 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′- Benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 4,4′-hexafluoropropylidenebisphthalic dianhydride, 3,3 ′, 4,4 '-Diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride and the like are used.

また、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン等の芳香環を有する脂肪族テトラカルボン酸二無水物を用いることもできる。   1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, Fragrances such as 3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione An aliphatic tetracarboxylic dianhydride having a ring can also be used.

これらのテトラカルボン酸二無水物は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。これらのうちでより好ましいものは、芳香族テトラカルボン酸二無水物であり、さらに、3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、4,4’−ヘキサフルオロプロピリデンビスフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物が好ましく、4,4’−ヘキサフルオロプロピリデンビスフタル酸二無水物が、樹脂との相溶性という点で特に好ましい。   These tetracarboxylic dianhydrides can be used alone or in combination of two or more. Of these, aromatic tetracarboxylic dianhydrides are more preferred, and 3,3 ′, 4,4′-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 4,4′-hexafluoropropylidenebis. Phthalic dianhydride and 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride are preferred, and 4,4′-hexafluoropropylidenebisphthalic dianhydride is said to be compatible with the resin. Particularly preferred in terms.

本発明で合成されるポリイミドシリコーン樹脂の原料であるジアミンは、上記一般式(1)におけるYで表されるジアミン残基を誘導するものであればよく、好ましくは脂肪族ジアミン、脂環式ジアミンまたは芳香族ジアミンの残基が用いられる。   The diamine that is a raw material of the polyimide silicone resin synthesized in the present invention may be any one that induces the diamine residue represented by Y in the general formula (1), and preferably an aliphatic diamine or an alicyclic diamine. Alternatively, an aromatic diamine residue is used.

脂肪族ジアミンとしては、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等が用いられる。脂環式ジアミンとしては、1,4−ジアミノシクロヘキサン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン等が用いられる。   As the aliphatic diamine, trimethylene diamine, tetramethylene diamine, hexamethylene diamine or the like is used. As the alicyclic diamine, 1,4-diaminocyclohexane, bis (4-aminocyclohexyl) methane, or the like is used.

芳香族ジアミンとしては、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、ビス{4−(3−アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、オルトフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、パラフェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニル−2,2−プロパン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2−ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニル}ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン等が用いられる。   Aromatic diamines include 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, bis { 4- (3-aminophenoxy) phenyl} sulfone, bis {4- (4-aminophenoxy) phenyl} sulfone, orthophenylenediamine, metaphenylenediamine, paraphenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl-2,2- Propane, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 2,2-bis {4- (4-aminophenoxy) phenyl} hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane 2,2-bis (3-aminophenyl) hexaful Oropropane, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 9,9-bis (4-amino) Phenyl) fluorene or the like is used.

また、3,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、ジアミノビスフェノールA、3,3’−ジヒドロキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2’−{2−ヒドロキシ−3−(3,5−メチル−4−アミノ)−ベンジル−5−メチル}−ジフェニルメタン等のアミノ基以外の官能基を有するジアミンを用いることもできる。   3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane, diaminobisphenol A, 3,3′-dihydroxy-4,4′-diaminobiphenyl, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxy) Phenyl) hexafluoropropane, 2,2 ′-{2-hydroxy-3- (3,5-methyl-4-amino) -benzyl-5-methyl} -diphenylmethane and other diamines having functional groups other than amino groups It can also be used.

これらのジアミンは、単独又は2種以上を組み合わせて用いても良い。
これらのうちでより好ましいものは芳香族ジアミンであり、さらにビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンのジアミンが好ましく、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンのジアミンが樹脂との相溶性の点で特に好ましい。
These diamines may be used alone or in combination of two or more.
Of these, aromatic diamines are more preferable, and bis {4- (4-aminophenoxy) phenyl} sulfone and 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene diamines are preferable. Bis (4-aminophenoxy) benzene diamine is particularly preferred from the standpoint of compatibility with the resin.

本発明で合成されるポリイミドシリコーン樹脂のもうひとつのジアミン原料であるジアミノシロキサンは、上記一般式(1)におけるZで表されるジアミノシロキサン残基を誘導するものであればよく、特に好ましくは下記一般式(3)で表されるジアミノシロキサンが用いられる。   The diaminosiloxane that is another diamine raw material of the polyimide silicone resin synthesized in the present invention may be any one that induces the diaminosiloxane residue represented by Z in the general formula (1), and particularly preferably Diaminosiloxane represented by the general formula (3) is used.

Figure 2008163262
Figure 2008163262

上記一般式(3)中のR1〜R4は炭素数1〜10、好ましくは炭素数1〜8の置換または非置換の一価の炭化水素基であり、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基のいずれでもよい。また、これらは同一でも異なっていてもよい。
1〜R4の具体例は、脂肪族炭化水素基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等のアルキル基;ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基としてはシクロヘキシル基、シクロペンチル基等のシクロアルキル基;シクロヘキセニル基等のシクロアルケニル基等が挙げられる。芳香族炭化水素基としてはフェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基;ベンジル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基等のアラルキル基等が挙げられる。
また、これらの炭化水素基の水素原子の少なくとも一つが、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子や、シアノ基等で置換されていてもよい。そのようなものとしては、例えばクロロメチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、4−フルオロフェニル基、2−シアノエチル基等が挙げられる。
また、R1〜R4は炭素数1〜8のアルコキシ基、アルケノキシ基、又はシクロアルキル基であってもよく、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、オクトキシ基、ビニロキシ基、アリロキシ基、プロペニノキシ基、イソプロペニノキシ基等が挙げられる。
R 1 to R 4 in the general formula (3) are substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 8 carbon atoms, and are aliphatic hydrocarbon groups and alicyclic rings. Either a formula hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group may be used. These may be the same or different.
Specific examples of R 1 to R 4 include an aliphatic hydrocarbon group such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group. Alkyl groups such as groups; alkenyl groups such as vinyl groups, allyl groups, propenyl groups, isopropenyl groups, butenyl groups, isobutenyl groups, hexenyl groups, and the like.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group include a cycloalkyl group such as a cyclohexyl group and a cyclopentyl group; a cycloalkenyl group such as a cyclohexenyl group, and the like. Aromatic hydrocarbon groups include aryl groups such as phenyl, tolyl and xylyl groups; aralkyl groups such as benzyl, ethylphenyl and propylphenyl groups.
Further, at least one of the hydrogen atoms of these hydrocarbon groups may be substituted with a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom, a cyano group, or the like. Examples of such include chloromethyl group, 3-fluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 4-fluorophenyl group, 2-cyanoethyl group and the like.
R 1 to R 4 may be an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenoxy group, or a cycloalkyl group. Specifically, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, Examples include isobutoxy group, tert-butoxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy group, octoxy group, vinyloxy group, allyloxy group, propeninoxy group, isopropenoxy group and the like.

これらのうちでより好ましいR1〜R4は、メチル基及びフェニル基である。
さらに、メチル基とフェニル基を組み合わせた場合が、ポリカーボネート樹脂との相溶性の点で特に好ましい。メチル基とフェニル基を組み合わせる場合、上記一般式(3)で表される構造中における−(O−Si(CH32)−で表されるジメチルシロキサン基と−(O−Si(Ph)2)−(「Ph」はフェニル基)で表されるジフェニルシロキサン基との比率は、ジメチルシロキサン基:ジフェニルシロキサン基=100:0〜60:40が好ましい。
Of these, more preferred R 1 to R 4 are a methyl group and a phenyl group.
Further, a combination of a methyl group and a phenyl group is particularly preferable from the viewpoint of compatibility with the polycarbonate resin. When a methyl group and a phenyl group are combined, a dimethylsiloxane group represented by — (O—Si (CH 3 ) 2 ) — and — (O—Si (Ph)) in the structure represented by the general formula (3). 2 ) The ratio to the diphenylsiloxane group represented by-("Ph" is a phenyl group) is preferably dimethylsiloxane group: diphenylsiloxane group = 100: 0 to 60:40.

上記一般式(3)中、Qは独立に、非置換もしくは置換の炭素原子数1〜8の二価炭化水素基であり、鎖中にエーテル結合を含んでも良い。Qの具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、メチルエチレン基、テトラメチレン基、2−メチルプロピレン基、1−メチルプロピレン基、エチルエチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等のアルキレン基;o−、m−、p−フェニレン基、トリレン基等のアリーレン基;−(Ph)OCH2−、−(Ph)−CH2−、−(Ph)−CH2CH2−等のエーテル結合を含んでいても良いアルキレン・アリーレン基等が挙げられる。これらのうちで特に好ましいものはプロピレン(トリメチレン)基である。
上記一般式(3)中、aは1以上100以下、好ましくは1以上60以下の整数である。aの値がこの範囲より多いと金属基材への密着性が悪くなる場合がある。
In the general formula (3), Q is independently an unsubstituted or substituted divalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and may include an ether bond in the chain. Specific examples of Q include alkylene such as methylene group, ethylene group, propylene group, methylethylene group, tetramethylene group, 2-methylpropylene group, 1-methylpropylene group, ethylethylene group, hexamethylene group and octamethylene group. Groups; arylene groups such as o-, m-, p-phenylene and tolylene groups; ethers such as — (Ph) OCH 2 —, — (Ph) —CH 2 — and — (Ph) —CH 2 CH 2 — Examples thereof include an alkylene / arylene group which may contain a bond. Of these, a propylene (trimethylene) group is particularly preferred.
In the general formula (3), a is an integer of 1 to 100, preferably 1 to 60. When the value of a is more than this range, the adhesion to the metal substrate may be deteriorated.

上記ジアミノシロキサンは、一般に市販されているものを用いればよく、例えば、商品名「KF−8010」、「X−22−161A」、「X−22−9496」、「X−22−9409」、「X−22−9409S」、「X−22−1660B−3」等(いずれも信越化学工業(株)製)を使用することができる。   What is necessary is just to use what is generally marketed for the said diaminosiloxane, for example, brand name "KF-8010", "X-22-161A", "X-22-9396", "X-22-9409", "X-22-9409S", "X-22-1660B-3" etc. (all are Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product) can be used.

(2)ポリカーボネート樹脂
本発明のポリカーボネート樹脂組成物に用いられるポリカーボネート樹脂としては、電子写真感光体の感光層用バインダー樹脂として従来から使用されている公知の材料を用いることができる。
(2) Polycarbonate resin As the polycarbonate resin used in the polycarbonate resin composition of the present invention, known materials conventionally used as a binder resin for a photosensitive layer of an electrophotographic photoreceptor can be used.

そのようなポリカーボネート樹脂は、ビスフェノール類と炭酸エステル形成化合物からポリカーボネートを製造する際に用いられている公知の方法、例えばビスフェノール類とホスゲンとの直接反応(ホスゲン法)、あるいはビスフェノール類とビスアリールカーボネートとのエステル交換反応(エステル交換法)などの方法によって製造することができる。   Such a polycarbonate resin is a known method used for producing a polycarbonate from a bisphenol and a carbonate ester-forming compound, for example, a direct reaction between a bisphenol and a phosgene (phosgene method), or a bisphenol and a bisaryl carbonate. It can manufacture by methods, such as transesterification reaction (transesterification method).

ポリカーボネート樹脂の製造に使用される原料ビスフェノール類としては、具体的には1,1’−ビフェニル−4,4’−ジオール、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホキシド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルファイド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ケトン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノ−ルA;BPA)、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−t−ブチルフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(ビスフェノ−ルZ;BPZ)、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロデカン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−アリルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスフェノール、4,4’−[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスフェノール、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチチルフェノール)、α,ω−ビス[3−(o−ヒドロキシフェニル)プロピル]ポリジメチルジフェニルランダム共重合シロキサン、α,ω−ビス[3−(o−ヒドロキシフェニル)プロピル]ポリジメチルシロキサンなどが例示される。   Specific examples of raw material bisphenols used for the production of polycarbonate resin include 1,1′-biphenyl-4,4′-diol, bis (4-hydroxyphenyl) methane, bis (4-hydroxyphenyl) ether, Bis (4-hydroxyphenyl) sulfoxide, bis (4-hydroxyphenyl) sulfide, bis (4-hydroxyphenyl) ketone, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) ) Propane (bisphenol A; BPA), 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-tert-butylphenyl) propane, 1,1-bis (4 -Hydroxyphenyl) cyclopentane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane (bi Phenol Z; BPZ), 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclodecane, 2,2-bis (4- Hydroxy-3-allylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, 4,4 ′-[1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisphenol 4,4 ′-[1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisphenol, 4,4′-butyryl Bis (3-methyl-6-t-butyrylphenol), α, ω-bis [3- (o-hydroxyphenyl) propyl] polydimethyldiphenyl random copolymer siloxane, α, ω-bis [3- (o- Hydroxyphenyl) propyl] polydimethylsiloxane and the like.

これらは、2種類以上併用して用いてもよい。また、これらの中でも2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、1,1’−ビフェニル−4,4’−ジオールから選ばれることが好ましく、特に2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンから選ばれることが好ましい。   Two or more of these may be used in combination. Among these, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 1, It is preferably selected from 1′-biphenyl-4,4′-diol, and particularly preferably selected from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane and 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane. .

一方、炭酸エステル形成性化合物としては、例えばホスゲン、トリホスゲンや、ジフェニルカーボネート、ジ−p−トリルカーボネート、フェニル−p−トリルカーボネート、ジ−p−クロロフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネートなどのビスアリルカーボネートが挙げられる。これらの化合物は2種類以上併用して使用することも可能である。   On the other hand, examples of the carbonate ester-forming compound include phosgene, triphosgene, and bisallyl carbonate such as diphenyl carbonate, di-p-tolyl carbonate, phenyl-p-tolyl carbonate, di-p-chlorophenyl carbonate, and dinaphthyl carbonate. It is done. Two or more of these compounds can be used in combination.

ホスゲン法においては、通常酸結合剤および溶媒の存在下において、前記ビスフェノール類とホスゲンを反応させる。酸結合剤としては、例えばピリジンや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物などが用いられ、また溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルムなどが用いられる。さらに、縮重合反応を促進するために、トリエチルアミンのような第三級アミン触媒やベンジルトリエチルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩が用いられる。さらに、フェノール、p−t−ブチルフェノール、p-クミルフェノール、長鎖アルキル置換フェノール等一官能基化合物を分子量調節剤として加えることが好ましい。また、所望に応じ亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイトなどの酸化防止剤や、フロログルシン、イサチンビスフェノール、トリスフェノールエタンなど分岐化剤を小量添加してもよい。反応は通常0〜150℃、好ましくは5〜40℃の範囲とするのが適当である。反応時間は反応温度によって左右されるが、通常0.5分〜10時間、好ましくは1分〜2時間である。また、反応中は、反応系のpHを10以上に保持することが望ましい。   In the phosgene method, the bisphenols and phosgene are usually reacted in the presence of an acid binder and a solvent. Examples of the acid binder include pyridine and alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, and examples of the solvent include methylene chloride and chloroform. Further, a tertiary amine catalyst such as triethylamine or a quaternary ammonium salt such as benzyltriethylammonium chloride is used to promote the condensation polymerization reaction. Furthermore, monofunctional compounds such as phenol, pt-butylphenol, p-cumylphenol, and long-chain alkyl-substituted phenols are preferably added as molecular weight regulators. If desired, a small amount of an antioxidant such as sodium sulfite or hydrosulfite, or a branching agent such as phloroglucin, isatin bisphenol, or trisphenol ethane may be added. The reaction is usually in the range of 0 to 150 ° C, preferably 5 to 40 ° C. While the reaction time depends on the reaction temperature, it is generally 0.5 min-10 hr, preferably 1 min-2 hr. Further, during the reaction, it is desirable to maintain the pH of the reaction system at 10 or more.

一方、エステル交換法においては、前記ビスフェノール類とビスアリールカーボネートとを混合し、減圧下で高温において反応させる。反応は通常150〜350℃、好ましくは200〜300℃の範囲の温度において行われ、また減圧度は最終で好ましくは1mmHg以下にして、エステル交換反応により生成した該ビスアリールカーボネートから由来するフェノール類を系外へ留去させる。反応時間は反応温度や減圧度などによって左右されるが、通常1〜24時間程度である。反応は窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましく。また、所望に応じ、分子量調節剤、酸化防止剤や分岐化剤を添加して反応を行ってもよい。   On the other hand, in the transesterification method, the bisphenols and bisaryl carbonate are mixed and reacted at a high temperature under reduced pressure. The reaction is usually carried out at a temperature in the range of 150 to 350 ° C., preferably 200 to 300 ° C., and the degree of vacuum is preferably 1 mmHg or less at the end, and phenols derived from the bisaryl carbonate produced by the transesterification reaction Is distilled out of the system. The reaction time depends on the reaction temperature and the degree of reduced pressure, but is usually about 1 to 24 hours. The reaction is preferably carried out in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon. Moreover, you may react by adding a molecular weight regulator, antioxidant, and a branching agent as needed.

本発明のポリカーボネート樹脂組成物を成形材料として用いる場合は、機械的強度と成形の容易さから、主成分であるポリカーボネート樹脂の極限粘度は0.3〜2.0dl/gの範囲であることが好ましい。特に、湿式成形で成形される電子写真感光体の感光層が十分な膜強度を得るためには、ポリカーボネート樹脂の極限粘度が0.3〜2.0dl/g、さらには0.40〜1.5dl/gであることが好ましい。ポリカーボネート樹脂の極限粘度が低すぎると感光層の膜強度が不十分となる場合があり、高すぎると膜成形が困難となる場合がある。   When the polycarbonate resin composition of the present invention is used as a molding material, the intrinsic viscosity of the polycarbonate resin as the main component is in the range of 0.3 to 2.0 dl / g because of mechanical strength and ease of molding. preferable. In particular, in order for the photosensitive layer of the electrophotographic photoreceptor formed by wet molding to obtain sufficient film strength, the intrinsic viscosity of the polycarbonate resin is 0.3 to 2.0 dl / g, and further 0.40 to 1. It is preferably 5 dl / g. If the intrinsic viscosity of the polycarbonate resin is too low, the film strength of the photosensitive layer may be insufficient, and if it is too high, film formation may be difficult.

(3)ポリカーボネート樹脂組成物
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、上記ポリカーボネート樹脂を主成分とし、これに上記ポリイミドシリコーン樹脂が配合されたものである。ポリイミドシリコーン樹脂の含有量は特に限定されないが、本発明のポリカーボネート樹脂組成物が金属密着性と耐摩耗性を良好に保持する範囲として、前記ポリイミドシリコーン樹脂を0.05〜5重量%含むことが好ましく、さらに0.1〜2重量%含むことが好ましい。
(3) Polycarbonate resin composition The polycarbonate resin composition of this invention has the said polycarbonate resin as a main component, and the said polyimide silicone resin is mix | blended with this. Although the content of the polyimide silicone resin is not particularly limited, 0.05% to 5% by weight of the polyimide silicone resin may be included as a range in which the polycarbonate resin composition of the present invention maintains good metal adhesion and wear resistance. Preferably, it is further preferable to contain 0.1 to 2% by weight.

また、本発明のポリカーボネート樹脂組成物には、その効果を保持する範囲で、他の合成樹脂、例えばポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル等のビニル重合体、及びその共重合体、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルフォン、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の各種の熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を任意にブレンドすることが可能である。また、各種紫外線吸収剤、酸化防止剤、離型剤、滑剤、着色剤等を所望に応じて添加することも可能である。   In addition, the polycarbonate resin composition of the present invention includes other synthetic resins, for example, vinyl polymers such as polymethyl methacrylate, polystyrene, and polyvinyl chloride, and copolymers, polycarbonates, and polyesters as long as the effect is maintained. Various thermoplastic resins and thermosetting resins such as polysulfone, phenoxy resin, epoxy resin, and silicone resin can be arbitrarily blended. Various ultraviolet absorbers, antioxidants, mold release agents, lubricants, colorants and the like can be added as desired.

本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、公知の成形方法、押出成形、圧縮成形、射出成形、ブロー成形、湿式成形等で成形可能である。   The polycarbonate resin composition of the present invention can be molded by a known molding method, extrusion molding, compression molding, injection molding, blow molding, wet molding or the like.

(4)電子写真感光体
本発明の電子写真感光体は、導電性基材(金属基材)上に感光層(光導電層)を設けてなるものである。感光層は、露光により電荷を発生する電荷発生物質と、電荷を輸送する電荷輸送物質とをバインダー樹脂中に分散させたものである。感光層の構造は特に限定されず、電荷発生物質と電荷輸送物質をともにバインダー樹脂に分散させた単層型のものであっても、機能分離した複数の層の組み合わせによる積層型のものであっても良い。
(4) Electrophotographic Photoreceptor The electrophotographic photoreceptor of the present invention is obtained by providing a photosensitive layer (photoconductive layer) on a conductive substrate (metal substrate). The photosensitive layer is obtained by dispersing in a binder resin a charge generation material that generates charges upon exposure and a charge transport material that transports charges. The structure of the photosensitive layer is not particularly limited, and it may be a single layer type in which both a charge generation material and a charge transport material are dispersed in a binder resin, or a laminated type in which a plurality of functionally separated layers are combined. May be.

積層型としては、電荷発生物質を主体とする電荷発生層と、電荷輸送物質を主体とする電荷輸送層との二層からなるものが挙げられる。この場合、電荷発生層と電荷輸送層の積層順序は特に限定されず、導電性基材/電荷発生層/電荷輸送層、及び導電性基材/電荷輸送層/電荷発生層のいずれの積層順序でも良い。一般的には導電性基材上に電荷発生層を形成し、該電荷発生層の上に電荷輸送層が設けられる。   Examples of the laminated type include a layer composed of a charge generation layer mainly composed of a charge generation material and a charge transport layer mainly composed of a charge transport material. In this case, the stacking order of the charge generation layer and the charge transport layer is not particularly limited, and any stacking order of the conductive substrate / charge generation layer / charge transport layer and the conductive substrate / charge transport layer / charge generation layer. But it ’s okay. In general, a charge generation layer is formed on a conductive substrate, and a charge transport layer is provided on the charge generation layer.

本発明では、電荷発生層と電荷輸送層との二層からなる積層型の感光層を設けた電子写真感光体が好ましく、積層順序としては、導電性基材/電荷発生層/電荷輸送層となるのが好ましい。   In the present invention, an electrophotographic photosensitive member provided with a laminate type photosensitive layer composed of two layers of a charge generation layer and a charge transport layer is preferred, and the order of lamination is as follows: conductive substrate / charge generation layer / charge transport layer; Preferably it is.

本発明の電子写真感光体に用いられる導電性基材は、アルミニウム、ステンレス鋼、ニッケル等の金属材料や、表面にアルミニウム、パラジウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛等の導電性層を設けたポリエステルフィルム、フェノール樹脂、紙等が使用される。さらに、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリイミド等の樹脂をコーティングして補強することが可能である。これらのうち、特に好ましいものはアルミニウムである。導電性基材の厚みは特に限定されないが、10μm〜3mm程度である。   The conductive substrate used in the electrophotographic photoreceptor of the present invention is provided with a metal material such as aluminum, stainless steel, or nickel, and a conductive layer such as aluminum, palladium, tin oxide, indium oxide, or zinc oxide on the surface. Polyester film, phenol resin, paper, etc. are used. Further, a resin such as polycarbonate, polyarylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene naphthalate, or polyimide can be coated and reinforced. Of these, aluminum is particularly preferred. Although the thickness of an electroconductive base material is not specifically limited, It is about 10 micrometers-3 mm.

本発明の電子写真感光体において導電性基材上に設けられた感光層は、露光により電荷を発生する電荷発生物質と、電荷を輸送する電荷輸送物質とを分散させたバインダー樹脂により形成される。   In the electrophotographic photosensitive member of the present invention, the photosensitive layer provided on the conductive substrate is formed of a binder resin in which a charge generating material that generates charges upon exposure and a charge transporting material that transports charges are dispersed. .


本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、電子写真感光体の感光層用バインダー樹脂として好適に使用することができる。感光層が積層型の場合は、電荷発生層及び電荷輸送層のいずれのバインダー樹脂として使用しても良いが、本発明では電荷輸送物質を保持するバインダー樹脂の特性が十分発揮しやすい積層型の電荷輸送層に用いることが好ましい。

The polycarbonate resin composition of the present invention can be suitably used as a binder resin for a photosensitive layer of an electrophotographic photoreceptor. When the photosensitive layer is a multilayer type, it may be used as a binder resin for either the charge generation layer or the charge transport layer. However, in the present invention, a multilayer type that sufficiently exhibits the characteristics of the binder resin that holds the charge transport material can be used. It is preferably used for the charge transport layer.

本発明の電荷発生層は公知の方法により、導電性基材上に形成される。電荷発生物質としては、例えば、アゾキシベンゼン系、ジスアゾ系、トリスアゾ系、ベンズイミダゾール系、多環式キノリン系、インジゴイド系、キナクリドン系、フタロシアニン系、ペリレン系、メチン系等の有機顔料が使用できる。上記電荷発生物質は単独で使用しても、複数種併用しても良い。   The charge generation layer of the present invention is formed on a conductive substrate by a known method. As the charge generation material, for example, organic pigments such as azoxybenzene, disazo, trisazo, benzimidazole, polycyclic quinoline, indigoid, quinacridone, phthalocyanine, perylene, and methine can be used. . The charge generation materials may be used alone or in combination of two or more.

電荷輸送物質としては、例えば、ポリテトラシアノエチレン;2,4,7−トリニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン系化合物;ジニトロアントラセン等のニトロ化合物;無水コハク酸;無水マレイン酸;ジブロモ無水マレイン酸;トリフェニルメタン系化合物;2,5−ジ(4−ジメチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物;9−(4−ジエチルアミノスチリル)アントラセン等のスチリル系化合物;ポリ−N−ビニルカルバゾール等のカルバゾール系化合物;1−フェニル−3−(p−ジメチルアミノフェニル)ピラゾリン等のピラゾリン系化合物;4,4’,4”−トリス(N,N−ジフェニルアミノ)トリフェニルアミン、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)―N,N’−ビス(フェニル)ベンジジン等のアミン誘導体;1,1ービス(4−ジエチルアミノフェニル)−4,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン等の共役不飽和化合物;4−(N,N−ジエチルアミノ)ベンズアルデヒド−N,N−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン系化合物;インドール系化合物、オキサゾール系化合物、イソオキサゾール系化合物、チアゾール系化合物、チアジアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、ピラゾール系化合物、ピラゾリン系化合物、トリアゾール系化合物等の含窒素環式化合物;縮合多環式化合物等が挙げられる。上記電荷輸送物質は単独で使用しても、複数種併用しても良い。   Examples of the charge transport material include polytetracyanoethylene; fluorenone compounds such as 2,4,7-trinitro-9-fluorenone; nitro compounds such as dinitroanthracene; succinic anhydride; maleic anhydride; dibromomaleic anhydride; Triphenylmethane compounds; oxadiazole compounds such as 2,5-di (4-dimethylaminophenyl) -1,3,4-oxadiazole; styryl compounds such as 9- (4-diethylaminostyryl) anthracene Carbazole compounds such as poly-N-vinylcarbazole; pyrazoline compounds such as 1-phenyl-3- (p-dimethylaminophenyl) pyrazoline; 4,4 ′, 4 ″ -tris (N, N-diphenylamino); Triphenylamine, N, N′-bis (3-methylphenyl) -N, N′-bi Amine derivatives such as (phenyl) benzidine; conjugated unsaturated compounds such as 1,1-bis (4-diethylaminophenyl) -4,4-diphenyl-1,3-butadiene; 4- (N, N-diethylamino) benzaldehyde-N Hydrazone compounds such as N-diphenylhydrazone; including indole compounds, oxazole compounds, isoxazole compounds, thiazole compounds, thiadiazole compounds, imidazole compounds, pyrazole compounds, pyrazoline compounds, triazole compounds, etc. Examples thereof include nitrogen cyclic compounds, condensed polycyclic compounds, etc. The above charge transport materials may be used alone or in combination.

本発明の電子写真感光体の感光層が単層型の場合は、該感光層のバインダー樹脂として本発明のポリカーボネート樹脂組成物を用い、これに電荷発生物質及び電荷輸送物質の微粒子を均一に分散させて感光層を形成させることができる。   When the photosensitive layer of the electrophotographic photosensitive member of the present invention is a single layer type, the polycarbonate resin composition of the present invention is used as the binder resin of the photosensitive layer, and fine particles of the charge generation material and the charge transport material are uniformly dispersed therein. Thus, a photosensitive layer can be formed.

積層型の場合は、少なくとも電荷輸送層のバインダー樹脂として本発明のポリカーボネート樹脂組成物を用い、これに電荷輸送物質を均一に分散させて電荷輸送層を形成させるのが好ましい。この場合、電荷発生層のバインダー樹脂は特に限定されず、本発明のポリカーボネート樹脂組成物を用いることもできるが、これに限られず、例えばポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シリコーン系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、その他のポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、各種セルロース等の他のバインダー樹脂を使用することもできる。   In the case of the laminated type, it is preferable to use the polycarbonate resin composition of the present invention as a binder resin for at least the charge transport layer, and form a charge transport layer by uniformly dispersing the charge transport material therein. In this case, the binder resin of the charge generation layer is not particularly limited, and the polycarbonate resin composition of the present invention can be used, but is not limited thereto. For example, polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, silicone resin, polyamide resin, Other binder resins such as polyester resins, polystyrene resins, other polycarbonate resins, polyvinyl acetate resins, polyurethane resins, phenoxy resins, epoxy resins, and various celluloses can also be used.

電荷発生層と電荷輸送層のバインダー樹脂同士の溶解の可能性を考慮すると、電荷発生層には本発明の感光層用バインダー樹脂以外の樹脂を使用するのが好ましい。特に好ましい電荷発生層用バインダー樹脂は、ポリビニルブチラール樹脂である。   In consideration of the possibility of dissolution of the binder resins in the charge generation layer and the charge transport layer, it is preferable to use a resin other than the binder resin for photosensitive layers of the present invention for the charge generation layer. Particularly preferred binder resin for charge generation layer is polyvinyl butyral resin.

感光層は、上記の電荷発生物質及び電荷輸送物質を、本発明のポリカーボネート樹脂組成物とともに適当な溶媒に溶解させ、その溶液を、溶液流延法、キャスト法、スプレー法、浸漬塗布法(ディップ法)等の公知湿式成形法を用いて導電性基材上に塗布し、乾燥させることにより形成することができる。   The photosensitive layer is prepared by dissolving the above charge generating substance and charge transporting substance in a suitable solvent together with the polycarbonate resin composition of the present invention, and dissolving the solution in a solution casting method, a casting method, a spray method, a dip coating method (dip coating). It can be formed by applying onto a conductive substrate using a known wet molding method such as (method) and drying.

湿式成形法に用いられる溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、モノクロロベンゼン、1,1,1−トリクロロエタン、モノクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン系有機溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジエチルエーテル、エチルセロソルブ等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類その他ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルホルムアミド等の非ハロゲン系有機溶媒が挙げられる。本発明では、これらの溶媒を単独でまたは2種以上併せて使用することが可能である。溶媒に本発明のポリカーボネート樹脂組成物を溶解して電荷輸送層を形成する際は、1〜30重量%の濃度範囲の樹脂溶液を作成して用いることが好ましい。
また、市販の使用済み電子写真感光体の感光層を上記の溶媒で溶解し、新たな感光層を形成してリサイクルすることも可能である。
Solvents used in the wet molding method include dichloromethane, chloroform, monochlorobenzene, 1,1,1-trichloroethane, monochloroethane, halogenated organic solvents such as carbon tetrachloride, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, acetone, Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone and isophorone, ethers such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, ethylene glycol diethyl ether and ethyl cellosolve, esters such as methyl acetate and ethyl acetate, and other dimethylformamide, dimethylsulfoxide, diethylformamide and the like Non-halogen organic solvents can be mentioned. In the present invention, these solvents can be used alone or in combination of two or more. When the charge transport layer is formed by dissolving the polycarbonate resin composition of the present invention in a solvent, it is preferable to prepare and use a resin solution having a concentration range of 1 to 30% by weight.
It is also possible to recycle by dissolving a photosensitive layer of a commercially available electrophotographic photosensitive member with the above-mentioned solvent to form a new photosensitive layer.

感光層が単層型の場合、この感光層の厚みは10〜40μm、好ましくは20〜30μmが好適である。また、電荷発生物質及び電荷輸送物質と感光層用バインダー樹脂との混合比は、重量比で10:1〜1:10の範囲内が好ましい。   When the photosensitive layer is a single layer type, the thickness of the photosensitive layer is 10 to 40 μm, preferably 20 to 30 μm. Further, the mixing ratio of the charge generating material and charge transporting material to the photosensitive layer binder resin is preferably in the range of 10: 1 to 1:10 by weight.

感光層が積層型の場合、電荷発生物質とバインダー樹脂の混合比は、10:1〜1:20の範囲内が好ましい。この電荷発生層の厚さは、0.01〜20μm、好ましくは0.1〜2μmが好適である。電荷輸送物質とバインダー樹脂との混合比は、10:1〜1:10の範囲内が好ましい。この電荷輸送層の厚さは、2〜100μm、好ましくは5〜40μmが好適である。   When the photosensitive layer is a laminate type, the mixing ratio of the charge generating material and the binder resin is preferably within the range of 10: 1 to 1:20. The charge generation layer has a thickness of 0.01 to 20 μm, preferably 0.1 to 2 μm. The mixing ratio of the charge transport material and the binder resin is preferably in the range of 10: 1 to 1:10. The thickness of the charge transport layer is 2 to 100 μm, preferably 5 to 40 μm.

以下に本発明の実施例を比較例と共に示し、発明の内容を詳細に示すが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   Examples of the present invention are shown below together with comparative examples, and the contents of the invention are shown in detail. However, the present invention is not limited to these examples.

<合成例1>
(ポリイミドシリコーン樹脂(PI−1)の合成)
撹拌機、温度計及び窒素置換装置を備えたフラスコ内に、4,4’−ヘキサフルオロプロピリデンビスフタル酸二無水物44.4g(0.1モル)、及びn−メチル−2−ピロリドン400gを仕込んだ。次いで、下記式(4)で表されるジアミノシロキサン(商品名「X−22−9496;信越化学工業(株)製)90.9g(0.075モル)及び2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン10.3g(0.025モル)をn−メチル−2−ピロリドン100gに溶解した溶液を、反応系の温度が50℃を超えないように調節しながら、上記フラスコ内に滴下した。滴下終了後、さらに室温で10時間攪拌した。
<Synthesis Example 1>
(Synthesis of polyimide silicone resin (PI-1))
In a flask equipped with a stirrer, a thermometer and a nitrogen displacement device, 44.4 g (0.1 mol) of 4,4′-hexafluoropropylidenebisphthalic dianhydride and 400 g of n-methyl-2-pyrrolidone. Was charged. Next, 90.9 g (0.075 mol) of diaminosiloxane represented by the following formula (4) (trade name “X-22-9396; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 2,2-bis [4- ( While adjusting a solution of 10.3-g (0.025 mol) of 4-aminophenoxy) phenyl] propane in 100 g of n-methyl-2-pyrrolidone so that the temperature of the reaction system does not exceed 50 ° C., the flask After completion of the dropwise addition, the mixture was further stirred at room temperature for 10 hours.

Figure 2008163262
Figure 2008163262

次に、該フラスコに水分受容器付き還流冷却器を取り付けた後、キシレン30gを加え、150℃に昇温させてその温度を6時間保持したところ、黄褐色の溶液が得られた。こうして得られた溶液を室温(25℃)まで冷却した後、メタノール中に投じて再沈澱させた。得られた沈降物を乾燥し、下記式(5)を繰り返し単位とするポリイミドシリコーン樹脂を得た。   Next, after attaching a reflux condenser with a moisture receiver to the flask, 30 g of xylene was added, the temperature was raised to 150 ° C. and the temperature was maintained for 6 hours, and a yellowish brown solution was obtained. The solution thus obtained was cooled to room temperature (25 ° C.) and then poured into methanol for reprecipitation. The obtained sediment was dried to obtain a polyimide silicone resin having the following formula (5) as a repeating unit.

Figure 2008163262
Figure 2008163262

再沈澱された樹脂の赤外線吸収スペクトルを測定したところ、未反応のポリアミック酸に基づく吸収は現れず、1780cm-1及び1720cm-1にイミド基に基づく吸収を確認した。テトラヒドロフランを溶媒とするゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により、この樹脂の重量平均分子量(ポリスチレン換算)を測定したところ、39,000であった。この樹脂をPI−1とした。 When the infrared absorption spectrum of the reprecipitated resin was measured, absorption based on unreacted polyamic acid did not appear, and absorption based on imide groups was confirmed at 1780 cm −1 and 1720 cm −1 . It was 39,000 when the weight average molecular weight (polystyrene conversion) of this resin was measured by the gel permeation chromatography (GPC) which uses tetrahydrofuran as a solvent. This resin was designated as PI-1.

<合成例2>
(ポリイミドシリコーン樹脂(PI−2)の合成)
撹拌機、温度計及び窒素置換装置を備えたフラスコ内に、4,4’−ヘキサフルオロプロピリデンビスフタル酸二無水物44.4g(0.1モル)、及びn−メチル−2−ピロリドン400gを仕込んだ。次いで、下記式(6)で表されるジアミノシロキサン(商品名「KF−8010」;信越化学工業(株)製)63.0g(0.075モル)及び2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン10.3g(0.025モル)をn−メチル−2−ピロリドン100gに溶解した溶液を、反応系の温度が50℃を超えないように調節しながら、上記フラスコ内に滴下した。滴下終了後、さらに室温で10時間攪拌した。
<Synthesis Example 2>
(Synthesis of polyimide silicone resin (PI-2))
In a flask equipped with a stirrer, a thermometer and a nitrogen displacement device, 44.4 g (0.1 mol) of 4,4′-hexafluoropropylidenebisphthalic dianhydride and 400 g of n-methyl-2-pyrrolidone. Was charged. Next, 63.0 g (0.075 mol) of diaminosiloxane represented by the following formula (6) (trade name “KF-8010”; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 2,2-bis [4- (4 -Aminophenoxy) phenyl] propane In a flask, a solution of 10.3 g (0.025 mol) dissolved in 100 g of n-methyl-2-pyrrolidone was adjusted so that the temperature of the reaction system did not exceed 50 ° C. It was dripped in. After completion of dropping, the mixture was further stirred at room temperature for 10 hours.

Figure 2008163262
Figure 2008163262

次に、該フラスコに水分受容器付き還流冷却器を取り付けた後、キシレン30gを加え、150℃に昇温させてその温度を6時間保持したところ、黄褐色の溶液が得られた。こうして得られた溶液を室温(25℃)まで冷却した後、メタノール中に投じて再沈澱させた。得られた沈降物を乾燥し、下記式(7)を繰り返し単位とするポリイミドシリコーン樹脂を得た。   Next, after attaching a reflux condenser with a moisture receiver to the flask, 30 g of xylene was added, the temperature was raised to 150 ° C. and the temperature was maintained for 6 hours, and a yellowish brown solution was obtained. The solution thus obtained was cooled to room temperature (25 ° C.) and then poured into methanol for reprecipitation. The obtained sediment was dried to obtain a polyimide silicone resin having the following formula (7) as a repeating unit.

Figure 2008163262
Figure 2008163262

再沈澱された樹脂の赤外線吸収スペクトルを測定したところ、未反応のポリアミック酸に基づく吸収は現れず、1780cm-1及び1720cm-1にイミド基に基づく吸収を確認した。テトラヒドロフランを溶媒とするゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により、この樹脂の重量平均分子量(ポリスチレン換算)を測定したところ、37,000であった。この樹脂をPI−2とした。 When the infrared absorption spectrum of the reprecipitated resin was measured, absorption based on unreacted polyamic acid did not appear, and absorption based on an imide group was confirmed at 1780 cm −1 and 1720 cm −1 . It was 37,000 when the weight average molecular weight (polystyrene conversion) of this resin was measured by the gel permeation chromatography (GPC) which uses tetrahydrofuran as a solvent. This resin was designated as PI-2.

<合成例3>
(ポリイミドシリコーン樹脂(PI−3)の合成)
撹拌機、温度計及び窒素置換装置を備えたフラスコ内に、4,4’−ヘキサフルオロプロピリデンビスフタル酸二無水物44.4g(0.1モル)、及びn−メチル−2−ピロリドン400gを仕込んだ。次いで、上記式(4)で表されるジアミノシロキサン60.6g(0.05 モル)及び2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン20.5g(0.05モル)をn−メチル−2−ピロリドン100gに溶解した溶液を、反応系の温度が50℃を超えないように調節しながら、上記フラスコ内に滴下した。滴下終了後、さらに室温で10時間攪拌した。
<Synthesis Example 3>
(Synthesis of polyimide silicone resin (PI-3))
In a flask equipped with a stirrer, a thermometer and a nitrogen displacement device, 44.4 g (0.1 mol) of 4,4′-hexafluoropropylidenebisphthalic dianhydride and 400 g of n-methyl-2-pyrrolidone. Was charged. Next, 60.6 g (0.05 mol) of diaminosiloxane represented by the above formula (4) and 20.5 g (0.05 mol) of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane were added. A solution dissolved in 100 g of n-methyl-2-pyrrolidone was dropped into the flask while adjusting the temperature of the reaction system so as not to exceed 50 ° C. After completion of dropping, the mixture was further stirred at room temperature for 10 hours.

次に、該フラスコに水分受容器付き還流冷却器を取り付けた後、キシレン30gを加え、150℃に昇温させてその温度を6時間保持したところ、黄褐色の溶液が得られた。こうして得られた溶液を室温(25℃)まで冷却した後、メタノール中に投じて再沈澱させた。得られた沈降物を乾燥したところ、下記式(8)を繰り返し単位とするポリイミドシリコーン樹脂を得た。   Next, after attaching a reflux condenser with a moisture receiver to the flask, 30 g of xylene was added, the temperature was raised to 150 ° C. and the temperature was maintained for 6 hours, and a yellowish brown solution was obtained. The solution thus obtained was cooled to room temperature (25 ° C.) and then poured into methanol for reprecipitation. When the obtained sediment was dried, a polyimide silicone resin having the following formula (8) as a repeating unit was obtained.

Figure 2008163262
Figure 2008163262

再沈澱された樹脂の赤外線吸収スペクトルを測定したところ、未反応のポリアミック酸に基づく吸収は現れず、1780cm-1及び1720cm-1にイミド基に基づく吸収を確認した。テトラヒドロフランを溶媒とするゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により、この樹脂の重量平均分子量(ポリスチレン換算)を測定したところ、36,000であった。この樹脂をPI−3とした。 When the infrared absorption spectrum of the reprecipitated resin was measured, absorption based on unreacted polyamic acid did not appear, and absorption based on imide groups was confirmed at 1780 cm −1 and 1720 cm −1 . It was 36,000 when the weight average molecular weight (polystyrene conversion) of this resin was measured by the gel permeation chromatography (GPC) which uses tetrahydrofuran as a solvent. This resin was designated as PI-3.

<実施例1>
市販のビスフェノールA型ポリカーボネート樹脂(三菱瓦斯化学株式会社製、商品名「ユーピロンE−2000」、極限粘度=0.58dl/g、以下「PC−1」と略す)100gにPI−1を0.1g添加し、700gのメチレンクロライドに溶解して樹脂溶液を得た。
得られた樹脂溶液を用いてステンレス板上にコーターでキャストフィルムを作成し、風乾後、120℃で8時間乾燥し、約20μm厚のフィルムを得た。得られたフィルムの表面をメタノールで軽く拭き取り、JIS−K5400に準じた1mm間隔碁盤目テスト(樹脂組成物剥離テスト)を行って、ステンレス板とフィルムとの間の接着性を評価した。
<Example 1>
0.1 g of PI-1 was added to 100 g of commercially available bisphenol A type polycarbonate resin (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., trade name “Iupilon E-2000”, intrinsic viscosity = 0.58 dl / g, hereinafter abbreviated as “PC-1”). 1 g was added and dissolved in 700 g of methylene chloride to obtain a resin solution.
A cast film was prepared with a coater on a stainless steel plate using the obtained resin solution, air-dried and then dried at 120 ° C. for 8 hours to obtain a film having a thickness of about 20 μm. The surface of the obtained film was lightly wiped with methanol, and a 1 mm-interval cross cut test (resin composition peeling test) according to JIS-K5400 was performed to evaluate the adhesion between the stainless steel plate and the film.

次に、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)―N,N’−ビス(フェニル)ベンジジン(以下「TPD型CT剤」と略す:SYNTEC社製)50g、PC−1を50g、PI−1を0.05g、メチレンクロライド450g使用した塗布液を作製し、あらかじめテトラヒドロフランで電荷輸送層を除去した市販LBP感光体(商品名「LPA3ETC4」;セイコーエプソン株式会社製)に、上記塗布液を浸積法で塗布し、風乾後、120℃で8時間乾燥し、厚さ約20μmの電荷輸送層を設けて、積層型電子写真感光体(以下「OPC」と略称)を作製した。
作成したOPCの電荷輸送層端部(エッジ部)とアルミニウム製金属基材との接着部をメタノールで軽く拭いた後、JIS−K5400に準じた1mm間隔碁盤目テストを行い、接着界面部の碁盤目の剥離状態を観察した(感光体エッジ部剥離テスト)。
Next, 50 g of N, N′-bis (3-methylphenyl) -N, N′-bis (phenyl) benzidine (hereinafter abbreviated as “TPD type CT agent”: manufactured by SYNTEC), 50 g of PC-1, PI A coating solution using 0.05 g of -1 and 450 g of methylene chloride was prepared, and the above coating solution was applied to a commercially available LBP photoreceptor (trade name “LPA3ETC4”; manufactured by Seiko Epson Corporation) from which the charge transport layer was previously removed with tetrahydrofuran. The film was applied by an immersion method, air-dried, and then dried at 120 ° C. for 8 hours. A charge transport layer having a thickness of about 20 μm was provided to produce a laminated electrophotographic photosensitive member (hereinafter abbreviated as “OPC”).
After lightly wiping the adhesion part of the created OPC charge transport layer edge (edge part) and the aluminum metal base with methanol, a 1 mm interval cross-cut test according to JIS-K5400 is performed to check the bond interface board The peeling state of the eyes was observed (photosensitive member edge peeling test).

一方、別途作成したOPCを市販LBP(商品名「LBP−8400」;セイコーエプソン株式会社製)に装着し、OA用再生紙(商品名「LBP−190R−A4B」;十千万(株)製)を用いて、連続5000枚全面黒印刷後のOPC摩耗量を測定した。   On the other hand, OPC prepared separately is mounted on a commercially available LBP (trade name “LBP-8400”; manufactured by Seiko Epson Corporation), and recycled paper for OA (trade name “LBP-190R-A4B”; manufactured by 100 million) ) Was used to measure the amount of OPC wear after continuous continuous black printing of 5000 sheets.

<実施例2>
PC−1の代わりに1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン型ポリカーボネート樹脂(三菱瓦斯化学株式会社製、商品名「ユピゼータPCZ−500」、極限粘度=0.97dl/g、以下「PC−2」と略す)を使用し、PI−1の代わりにPI−2を1.0g使用し、さらにメチレンクロライドの代わりにトルエン500gを用いた以外は実施例1と同様に行い、ステンレス板上のフィルム碁盤目テストを行った。
また、PC−1の代わりにPC−2を使用し、PI−1の代わりにPI−2を0.5g使用し、メチレンクロライドの代わりにトルエン300gを用いた以外は実施例1と同様にOPCを作成し、碁盤目テストとOPC摩耗量を測定した。
<Example 2>
1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane type polycarbonate resin (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., trade name “Iupizeta PCZ-500”, intrinsic viscosity = 0.97 dl / g, hereinafter “PC” 2 ”), 1.0 g of PI-2 was used instead of PI-1, and 500 g of toluene was used instead of methylene chloride. The film cross-cut test was conducted.
Further, OPC was used in the same manner as in Example 1 except that PC-2 was used in place of PC-1, 0.5 g of PI-2 was used in place of PI-1, and 300 g of toluene was used in place of methylene chloride. The cross cut test and the OPC wear amount were measured.

<実施例3>
PC−1の代わりにビスフェノールAと1,1’−ビフェニル−4,4’−ジオールとの共重合型ポリカーボネート樹脂(出光興産株式会社製、商品名「タフゼットB−300」、極限粘度=0.72dl/g、以下「PC−3」と略す)を使用し、PI−1の代わりにPI−3を0.5g使用し、さらにメチレンクロライドの代わりにテトラヒドロフラン500gを用いた以外は実施例1と同様に行い、ステンレス板上のフィルム碁盤目テストを行った。
また、PC−1の代わりにPC−3を、PI−1の代わりにPI−3を0.25g使用し、メチレンクロライドの代わりにテトラヒドロフラン300gを用いた以外は実施例1と同様にOPCを作成し、碁盤目テストとOPC摩耗量を測定した。
<Example 3>
Copolymerization type polycarbonate resin of bisphenol A and 1,1′-biphenyl-4,4′-diol instead of PC-1 (made by Idemitsu Kosan Co., Ltd., trade name “Tufzette B-300”, limiting viscosity = 0. 72 dl / g (hereinafter abbreviated as “PC-3”), 0.5 g of PI-3 was used instead of PI-1, and 500 g of tetrahydrofuran was used instead of methylene chloride. In the same manner, a film grid test on a stainless steel plate was performed.
Further, OPC was prepared in the same manner as in Example 1 except that PC-3 was used instead of PC-1, PI-3 was used instead of PI-1, and 300 g of tetrahydrofuran was used instead of methylene chloride. The cross-cut test and the OPC wear amount were measured.

<実施例4>
PC−1の代わりにビスフェノールAと2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパンとの共重合型ポリカーボネート樹脂(三菱瓦斯化学株式会社製、商品名「ユピゼータFPC−2136」、極限粘度=0.55dl/g、以下「PC−4」と略す)を使用し、PI−1を0.5g使用し、メチレンクロライドの代わりにテトラヒドロフラン500gを用いた以外は実施例1と同様に行い、ステンレス板上のフィルム碁盤目テストを行った。
また、PC−1の代わりにPC−4を使用し、PI−1を0.25g使用し、メチレンクロライドの代わりにテトラヒドロフラン300gを用いた以外は実施例1と同様にOPCを作成し、碁盤目テストとOPC摩耗量を測定した。
<Example 4>
Copolymer-type polycarbonate resin of bisphenol A and 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane instead of PC-1 (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., trade name “Iupizeta FPC-2136”, limit Viscosity = 0.55 dl / g (hereinafter abbreviated as “PC-4”), 0.5 g of PI-1 was used, and 500 g of tetrahydrofuran was used instead of methylene chloride. A film grid test on a stainless steel plate was performed.
Further, OPC was prepared in the same manner as in Example 1 except that PC-4 was used instead of PC-1, PI-1 was used in an amount of 0.25 g, and methylene chloride was used in an amount of 300 g of tetrahydrofuran. Tests and OPC wear were measured.

<実施例5>
PC−1の代わりにPC−2を使用し、PI−1を0.5g使用し、メチレンクロライドの代わりにテトラヒドロフラン500gを用いた以外は実施例1と同様に行い、ステンレス板上のフィルム碁盤目テストを行った。
また、PC−1の代わりにPC−2を使用し、PI−1を0.25g使用し、メチレンクロライドの代わりにテトラヒドロフラン300gを用いた以外は実施例1と同様にOPCを作成し、碁盤目テストとOPC摩耗量を測定した。
<Example 5>
Example 1 except that PC-2 was used instead of PC-1, PI-1 0.5 g was used, and tetrahydrofuran 500 g was used instead of methylene chloride. Tested.
Further, OPC was prepared in the same manner as in Example 1 except that PC-2 was used in place of PC-1, 0.25 g of PI-1 was used, and 300 g of tetrahydrofuran was used in place of methylene chloride. Tests and OPC wear were measured.

<比較例1>
PI−1を用いなかった以外は実施例1と同様に行なった。
<Comparative Example 1>
The same procedure as in Example 1 was carried out except that PI-1 was not used.

<比較例2>
PI−2を用いなかった以外は実施例2と同様に行なった。
<Comparative example 2>
The same procedure as in Example 2 was performed except that PI-2 was not used.

<比較例3>
PI−1の代わりに市販シリコーンオイル(信越化学工業株式会社製、商品名「KF50」、以下「KF50」と略す)を用いた以外は実施例1と同様に行った。
<Comparative Example 3>
It carried out similarly to Example 1 except having used commercially available silicone oil (The Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. make, brand name "KF50", abbreviated as "KF50") instead of PI-1.

<比較例4>
PI−1の代わりに市販シリコーングラフトアクリレート樹脂(東亜合成(株)製、商品名「サイマックUS−270」、以下「US−270」と略す)を用いた以外は実施例5と同様に行った。
<Comparative Example 4>
The same procedure as in Example 5 was performed except that a commercially available silicone graft acrylate resin (trade name “Symac US-270”, hereinafter abbreviated as “US-270”) was used instead of PI-1. .

Figure 2008163262
Figure 2008163262

なお、表1中の記号及び測定値に関する説明は以下の通りである。
(1)極限粘度
20℃、0.5g/dlのポリカーボネートメチレンクロライド溶液、ハギンズ定数0.45でウベローデ毛管粘度計を用いて測定した。
(2)添加量
ポリカーボネート樹脂組成物全量に対する添加剤の割合(重量%)
(3)剥離テスト
JIS−K5400に準じた1mm間隔碁盤目テストを行った。碁盤目剥離が10%以下を○、碁盤目剥離が10〜50%を△、碁盤目剥離が50%を超えた場合を×とした。
(4)摩耗量
連続5000枚全面黒印刷後のOPC重量を測定し、試験前の重量からの減少分を摩耗量とした。
In addition, the description regarding the symbol and measured value in Table 1 is as follows.
(1) Intrinsic viscosity The intrinsic viscosity was measured using an Ubbelohde capillary viscometer at a polycarbonate methylene chloride solution of 20 g, 0.5 g / dl, and a Huggins constant of 0.45.
(2) Addition ratio of additive to the total amount of the polycarbonate resin composition (% by weight)
(3) Peel test A 1 mm-interval cross-cut test according to JIS-K5400 was performed. When the cross-cut peel is 10% or less, the cross mark peel is 10% or less, and the cross-cut peel is over 50%.
(4) Amount of wear The OPC weight after continuous continuous printing of 5,000 sheets was measured, and the decrease from the weight before the test was taken as the amount of wear.

本発明のポリカーボネート樹脂組成物は金属密着性が高いため、電子写真感光体の感光層用バインダー樹脂として使用した場合、感光体交換時やメンテナンス時に誤って感光体表面に粘着テープが付着しても、該感光体表面(感光層)の剥離による不良発生が格段に抑制される。また、耐摩耗性も良好であるから、耐久性に優れた電子写真感光体への応用が可能である。   Since the polycarbonate resin composition of the present invention has high metal adhesion, when used as a binder resin for a photosensitive layer of an electrophotographic photosensitive member, even if the adhesive tape is accidentally attached to the surface of the photosensitive member during replacement or maintenance of the photosensitive member. The occurrence of defects due to peeling of the surface of the photoreceptor (photosensitive layer) is remarkably suppressed. In addition, since it has good wear resistance, it can be applied to an electrophotographic photoreceptor excellent in durability.

Claims (7)

ポリカーボネート樹脂を主成分とし、下記一般式(1)で示される繰り返し単位からなる平均分子量5,000〜150,000のポリイミドシリコーン樹脂を含有してなる、ポリカーボネート樹脂組成物。
Figure 2008163262
(式中、Xは四価の有機基、Yは二価の有機基、Zはオルガノシロキサン構造を有する二価の有機基であり、p:qの割合は1:99〜99:1の割合である。)
A polycarbonate resin composition comprising a polyimide silicone resin having an average molecular weight of 5,000 to 150,000 comprising a repeating unit represented by the following general formula (1) as a main component.
Figure 2008163262
(In the formula, X is a tetravalent organic group, Y is a divalent organic group, Z is a divalent organic group having an organosiloxane structure, and the ratio of p: q is a ratio of 1:99 to 99: 1. .)
前記一般式(1)中のZが下記一般式(2)で表されるジアミノシロキサン残基あることを特徴とする、請求項1記載のポリカーボネート樹脂組成物。
Figure 2008163262
(式中のR1からR4は炭素数1〜8の置換または非置換の一価の炭化水素基であり、これらは同一でも異なっていてもよい。Qは独立に、置換または非置換の炭素原子数1〜8の二価炭化水素基である。aは1以上100以下の整数である。)
2. The polycarbonate resin composition according to claim 1, wherein Z in the general formula (1) is a diaminosiloxane residue represented by the following general formula (2).
Figure 2008163262
(Wherein R 1 to R 4 are substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups having 1 to 8 carbon atoms, which may be the same or different. Q is independently substituted or unsubstituted. A divalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, a is an integer of 1 to 100.)
前記ポリイミドシリコーン樹脂が0.05〜5重量%含有されていることを特徴とする、請求項1又は2記載のポリカーボネート樹脂組成物。   The polycarbonate resin composition according to claim 1 or 2, wherein the polyimide silicone resin is contained in an amount of 0.05 to 5% by weight. 前記ポリカーボネート樹脂が、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、及び1,1‘−ビフェニル−4,4’−ジオールからなる群から選択されるビスフェノール類から誘導されるものである、請求項1〜3のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物。   The polycarbonate resin is 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, and 1 The polycarbonate resin composition according to any one of claims 1 to 3, which is derived from bisphenols selected from the group consisting of 1,1'-biphenyl-4,4'-diol. 前記ポリカーボネート樹脂の極限粘度が0.3〜2.0dl/gである、請求項1〜4のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物。   The polycarbonate resin composition in any one of Claims 1-4 whose intrinsic viscosity of the said polycarbonate resin is 0.3-2.0 dl / g. 導電性基体上に感光層を有する電子写真感光体において、該感光層のバインダー樹脂として請求項1〜5のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物を用いることを特徴とする、電子写真感光体。   An electrophotographic photosensitive member having a photosensitive layer on a conductive substrate, wherein the polycarbonate resin composition according to any one of claims 1 to 5 is used as a binder resin for the photosensitive layer. 導電性基体上に電荷発生層と電荷輸送層とからなる感光層を有する電子写真感光体において、該電荷輸送層のバインダー樹脂として請求項1〜5のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物を用いることを特徴とする、電子写真感光体。   In an electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer comprising a charge generation layer and a charge transport layer on a conductive substrate, the polycarbonate resin composition according to any one of claims 1 to 5 is used as a binder resin for the charge transport layer. An electrophotographic photoreceptor characterized by the above.
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