JP2008160347A - Semiconductor relay device - Google Patents
Semiconductor relay device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008160347A JP2008160347A JP2006345310A JP2006345310A JP2008160347A JP 2008160347 A JP2008160347 A JP 2008160347A JP 2006345310 A JP2006345310 A JP 2006345310A JP 2006345310 A JP2006345310 A JP 2006345310A JP 2008160347 A JP2008160347 A JP 2008160347A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit
- output
- charge
- inductor
- signal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
本発明は、入力信号に応答して出力される制御信号に基づいて、出力用MOSFETをスイッチング動作させる半導体リレー装置に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor relay device that switches an output MOSFET based on a control signal output in response to an input signal.
従来、この種の半導体リレー装置としては、例えば、特許文献1に示されるように、入力信号により電気信号を光信号に変換する発光素子と、この発光素子からの光信号を受光して所定の起電力を発生する受光素子とを備え、この起電力を基に出力用MOSFETをオン、オフするものがある。図11に、このリレー装置の構成を示す。このリレー装置においては、発光素子として発光ダイオード(LED)101と、フォトダイオードアレイ107を有する。入力端子104、106から抵抗105を介して入力される入力信号によりLED101で光信号を発光し、この光信号をフォトダイオードアレイ107で受光して所定の起電力を発生させる。この起電力により得られた所定電圧は、放電用の抵抗111を介してMOSFET115のゲート118とソース117間にスイッチング電圧として印加され、MOSFET115をスイッチングする。
Conventionally, as this type of semiconductor relay device, for example, as shown in
即ち、この半導体リレー装置は、入力信号によるLED101のオン、オフによりフォトダイオードアレイ107で発生する起電力をオン、オフし、出力用MOSFET115をスイッチング駆動して、出力端子121、122を開閉している。
That is, this semiconductor relay device turns on and off the electromotive force generated in the
ところで、上記半導体リレー装置においては、出力用MOSFET115を駆動するには、ある所定電圧以上の制御電圧が必要である。この所定電圧は、受光素子のフォトダイオードアレイ107で発生する起電力の大きさで決まり、さらにこの起電力の大きさは、LED101で発生する光信号の大きさで決まってくる。従って、LED101は常にある一定以上の光信号を発生することが求められる。
By the way, in the semiconductor relay device, in order to drive the
しかしながら、LED101は、100℃以上の高温状態において、一般に発光効率が劣化するため、発光する光信号の大きさが減少し、これに伴いフォトダイオードアレイ107における誘起電力も低下し、出力用MOSFET115を駆動するための所定電圧が得られず、高温時にスイッチング動作が不安定となることがある。このため、出力用MOSFET115自体は100℃以上の温度範囲で動作可能であるにも拘わらず、半導体リレーとしての動作温度範囲が100℃未満に制約される。
However, since the light emission efficiency of the
さらに、フォトダイオードアレイ107は、フォトダイオード単体の光起電力が温度により変化し、一般に常温では0.7ボルト程度である起電力が高温では小さくなり、低温では大きくなる傾向にある。このため、特にダイオードを複数個直列に接続するフォトダイオードアレイ107における全起電力は、接続されるフォトダイオードの個数が多いほど高温における低下量が大きくなり、高温において出力用MOSFET115のスイッチングが不安定になる。従って、この高温における起電力低下を補うため、より多くのフォトダイオードを有するフォトダイオードアレイ107を必要としていた。また、半導体リレー装置を、LSI化する場合、LED101やフォトダイオードアレイ107などの異なるデバイスを含むため半導体プロセスが複雑になると共に、LED101とフォトダイオードアレイ107間で照射のための間隔を必要とするので、半導体基板上でコンパクトに1チップ化することが難しい。
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、発光ダイオード及びフォトダイオードアレイを使用せず、高温状態でも、半導体スイッチ素子を確実に開閉動作することができ、安定したリレー動作が得られる半導体リレー装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and can reliably open and close the semiconductor switch element even in a high temperature state without using a light emitting diode and a photodiode array, and a stable relay operation. An object of the present invention is to provide a semiconductor relay device capable of obtaining the above.
上記目的を達成するために請求項1の発明は、入力信号に応答して半導体スイッチング素子を開閉する半導体リレー装置において、前記入力信号を発振させる発振回路と、前記発振回路の出力を電磁信号に変換する第1のインダクタと、前記第1のインダクタからの電磁信号を受けて電気信号を発生する第2のインダクタと、前記第2のインダクタからの出力を整流する整流回路と、前記整流回路の出力を充放電する充放電回路と、を備え、前記充放電回路の出力に発生する電位差により前記半導体スイッチング素子をオン、オフするものである。 In order to achieve the above object, according to a first aspect of the present invention, in a semiconductor relay device that opens and closes a semiconductor switching element in response to an input signal, an oscillation circuit for oscillating the input signal, and an output of the oscillation circuit as an electromagnetic signal A first inductor that converts, a second inductor that receives an electromagnetic signal from the first inductor and generates an electrical signal, a rectifier circuit that rectifies an output from the second inductor, and A charge / discharge circuit for charging / discharging the output, and turning on / off the semiconductor switching element by a potential difference generated at the output of the charge / discharge circuit.
請求項2の発明は、請求項1に記載の半導体リレー装置において、前記充放電回路は、抵抗により構成されているものである。 According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor relay device according to the first aspect, the charge / discharge circuit is constituted by a resistor.
請求項3の発明は、請求項1に記載の半導体リレー装置において、前記充放電回路は、前記第1のインダクタと電磁的に結合される磁気抵抗素子により構成されているものである。 According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor relay device according to the first aspect, the charge / discharge circuit includes a magnetoresistive element that is electromagnetically coupled to the first inductor.
請求項4の発明は、請求項1に記載の半導体リレー装置において、前記充放電回路は、抵抗とP型MOSFETにより構成され、前記抵抗は前記P型MOSFETのゲート端子とソース端子間に接続され、前記P型MOSFETのゲート端子とドレイン端子を充放電回路の入力とし、該ソース端子とドレイン端子を充放電回路の出力としたものである。 According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor relay device according to the first aspect, the charge / discharge circuit includes a resistor and a P-type MOSFET, and the resistor is connected between a gate terminal and a source terminal of the P-type MOSFET. The gate terminal and drain terminal of the P-type MOSFET are input to the charge / discharge circuit, and the source terminal and drain terminal are output from the charge / discharge circuit.
請求項5の発明は、請求項1に記載の半導体リレー装置において、前記充放電回路は、抵抗とN型MOSFETとにより構成され、前記抵抗は前記N型MOSFETのゲート端子とソース端子間に接続され、前記N型MOSFETのドレイン端子とゲート端子を充放電回路の入力とし、該ドレイン端子とソース端子を充放電回路の出力としたものである。 According to a fifth aspect of the present invention, in the semiconductor relay device according to the first aspect, the charge / discharge circuit includes a resistor and an N-type MOSFET, and the resistor is connected between a gate terminal and a source terminal of the N-type MOSFET. The drain terminal and gate terminal of the N-type MOSFET are input to the charge / discharge circuit, and the drain terminal and source terminal are output to the charge / discharge circuit.
請求項6の発明は、請求項1に記載の半導体リレー装置において、前記充放電回路は、前記第1のインダクタからの電磁信号を受けて電気信号を発生する第3のインダクタと、前記第3のインダクタのからの電気信号を整流する第2の整流回路と、前記第2の整流回路の出力端に接続された抵抗と、前記抵抗がゲート端子とソース端子間に接続され、ドレイン端子とソース端子とを充放電入出力とするN型MOSFETと、を備えたものである。 According to a sixth aspect of the present invention, in the semiconductor relay device according to the first aspect, the charge / discharge circuit receives the electromagnetic signal from the first inductor and generates an electric signal; and the third inductor A second rectifier circuit for rectifying an electrical signal from the inductor of the first, a resistor connected to an output terminal of the second rectifier circuit, the resistor connected between a gate terminal and a source terminal, a drain terminal and a source And an N-type MOSFET having a terminal as a charge / discharge input / output.
請求項7の発明は請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の半導体リレー装置において、前記半導体スイッチング素子の出力に直列に挿入された抵抗を備え、この抵抗の両端に発生する電位差により前記充放電回路をフィードバック制御するようにしたものである。 A seventh aspect of the present invention is the semiconductor relay device according to any one of the first to sixth aspects, further comprising a resistor inserted in series with the output of the semiconductor switching element, and a potential difference generated across the resistor. Thus, the charge / discharge circuit is feedback-controlled.
請求項8の発明は、請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の半導体リレー装置において、前記発振回路、第1のインダクタ、第2のインダクタ、整流回路及び充放電回路を同一の半導体基板上に形成したものである。 According to an eighth aspect of the present invention, in the semiconductor relay device according to any one of the first to seventh aspects, the oscillation circuit, the first inductor, the second inductor, the rectifier circuit, and the charge / discharge circuit are the same. It is formed on a semiconductor substrate.
請求項9の発明は、請求項8に記載の半導体リレー装置において、前記発振回路、第1のインダクタ、第2のインダクタ、整流回路及び充放電回路を含む回路群を複数個、同一の半導体基板上に形成したものである。 The invention according to claim 9 is the semiconductor relay device according to claim 8, wherein a plurality of circuit groups including the oscillation circuit, the first inductor, the second inductor, the rectifier circuit, and the charge / discharge circuit are provided in the same semiconductor substrate. It is formed above.
請求項10の発明は、請求項1乃至請求項9のいずれか一項に記載の半導体リレー装置において、前記半導体スイッチング素子を出力用MOSFETとしたものである。 According to a tenth aspect of the present invention, in the semiconductor relay device according to any one of the first to ninth aspects, the semiconductor switching element is an output MOSFET.
請求項1の発明によれば、発光素子や受光素子を用いることなく、入力信号に応答する発振信号を基にして得た電気信号を制御信号として半導体スイッチング素子をオン、オフすることができるので、高温状態でも、半導体スイッチング素子を確実に開閉でき、安定したリレー動作を得ることができる。 According to the first aspect of the present invention, the semiconductor switching element can be turned on / off using the electric signal obtained based on the oscillation signal responding to the input signal as a control signal without using a light emitting element or a light receiving element. Even in a high temperature state, the semiconductor switching element can be reliably opened and closed, and a stable relay operation can be obtained.
請求項2の発明によれば、充放電回路を抵抗のみで構成できるので、充放電回路が簡単となり小型化、かつ低コストにできる。 According to the second aspect of the present invention, since the charge / discharge circuit can be configured by only the resistor, the charge / discharge circuit can be simplified and reduced in size and cost.
請求項3の発明によれば、磁気抵抗素子として結合される磁気信号レベルが高いときに高抵抗となり、低いときに高抵抗となる素子を用いれば、磁気抵抗素子の抵抗値を入力信号が高レベル及び低レベルのときに対応して、高抵抗及び低抵抗とすることができる。これにより、入力信号に同期して自動的に充電時に高抵抗に、放電時に低抵抗にできるので、受動素子だけを用いて低コストで容易に充放電の応答を速くすることができる。 According to the third aspect of the present invention, if an element having a high resistance when the magnetic signal level coupled as the magnetoresistive element is high and an element having a high resistance when the magnetic signal level is low is used, the resistance value of the magnetoresistive element is increased. Corresponding to the level and low level, high resistance and low resistance can be achieved. As a result, the high resistance can be automatically set at the time of charging and the low resistance at the time of discharging in synchronization with the input signal, so that the charge / discharge response can be easily accelerated at low cost using only the passive element.
請求項4の発明によれば、充放電回路における充電時及び放電時の各インピーダンスをP型MOSFETである半導体素子をオン、オフさせて得ることができるので、充電時のインピーダンスをより大きく、放電時のインピーダンスをより小さくでき、充放電の応答をより速く確実に行うことができる。
According to the invention of
請求項5の発明によれば、N型MOSFETを用いて充放電回路をスイッチングさせるので、充放電の応答をより速くすることができる。
According to the invention of
請求項6の発明によれば、充放電回路におけるN型MOSFETへの駆動電圧を第3のインダクタと第2の整流回路から別途に得ることができるので、N型MOSFETの駆動回路設計の自由度が増し、N型MOSFETに必要以上に駆動電圧を掛けないように最適に設計できる。従って、必要最小の電流容量を持つ入力容量の小さいN型MOSFETを選んで設計することができるので、N型MOSFETのスイッチング応答を速くして、装置全体のリレー応答をより高速にできる。 According to the sixth aspect of the present invention, since the drive voltage to the N-type MOSFET in the charge / discharge circuit can be obtained separately from the third inductor and the second rectifier circuit, the degree of freedom in designing the drive circuit of the N-type MOSFET Therefore, the N-type MOSFET can be optimally designed so as not to apply a driving voltage more than necessary. Therefore, an N-type MOSFET having a minimum necessary current capacity and a small input capacitance can be selected and designed, so that the switching response of the N-type MOSFET can be made faster and the relay response of the entire device can be made faster.
請求項7の発明によれば、半導体スイッチング素子に流れる電流の大きさにより充放電回路の出力を制御できるので、充放電回路により過電流時に半導体スイッチング素子の電流を制限して半導体スイッチング素子を保護することができる。 According to the invention of claim 7, since the output of the charge / discharge circuit can be controlled by the magnitude of the current flowing through the semiconductor switching element, the current of the semiconductor switching element is limited by the charge / discharge circuit to protect the semiconductor switching element at the time of overcurrent. can do.
請求項8の発明によれば、入出力の各回路を1チップ化することができるので、装置全体を小型化することができる。 According to the eighth aspect of the present invention, since each input / output circuit can be made into one chip, the entire apparatus can be miniaturized.
請求項9の発明によれば、1チップで半導体リレーの複数接点化が可能となるので、小型化と共に高機能化することができる。 According to the ninth aspect of the present invention, since a plurality of contact points of the semiconductor relay can be formed with one chip, it is possible to increase the function while reducing the size.
請求項10の発明によれば、半導体スイッチング素子を出力用MOSFETとしたことにより、高耐圧で信頼性の高い半導体リレーを形成することができる。 According to the invention of claim 10, since the semiconductor switching element is an output MOSFET, a semiconductor relay with high breakdown voltage and high reliability can be formed.
以下、本発明の第1の実施形態に係る半導体リレー装置について図面を参照して説明する。図1は、本実施形態における半導体リレー装置1と、本半導体リレー装置1により開閉される出力用MOSFET20(半導体スイッチング素子)とを示す。本半導体リレー装置1は、発振回路2と、インダクタ部3と、整流回路4と、充放電回路5とを有する。図2は、本半導体リレー装置1の動作を説明するための各種信号波形を示す。ここで、A1は入力信号、A2は発振回路2の発振信号、B1はインダクタ部3のインダクタ出力信号、B2は整流回路4の整流出力信号を示し、B3は充放電回路5の充放電出力信号、B4は出力用MOSFET20のオン、オフ時の出力端子20a、20b間の出力電圧波形を示す。
Hereinafter, a semiconductor relay device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a
半導体リレー装置1において、発振回路2は、入力端子2a、2bからの入力信号A1のオン、オフに応答して発振する電子回路により構成され、入力信号A1がLOWからHIGHになると、インダクタ部3が電磁結合し易く、整流回路4が整流し易い所定の周波数のパルス状の発振信号A2を発生する。このような入力信号A1により発振する発振回路2は、デジタルLSI回路等を用いて形成できるので、温度的に極めて安定した発振信号を容易に得ることができる。この発振回路2で発生された発振信号A2は、インダクタ部3に入力され、電磁信号に変換される。
In the
インダクタ部3は、インダクタ部3の入力側となる第1のインダクタL1と、この第1のインダクタL1からの電磁信号を受けて電気信号を発生する出力側の第2のインダクタL2とを有し、インダクタL1、L2間の巻き線数比に応じて入出力間でインピーダンスを変換するコイルトランスを形成している。このインダクタ部3の第1のインダクタL1に入力された発振信号A2は、電磁信号に変換され、第2のインダクタL2から交流状の矩形波を成すインダクタ出力信号B1として出力され、整流回路4に入力される。
The
整流回路4は、両波整流回路(図示なし)を有し、この両波整流回路により、第2のインダクタL2からのインダクタ出力信号B1を両波整流し、両波整流された整流出力信号B2を出力し、この整流出力信号B2は、充放電回路5に入力される。
The
充放電回路5は、種々の構成を採用することができ、例えば、図3に示すように、抵抗51により構成され、整流回路4に並列に接続されると共に、出力用MOSFET20のゲート端子21とソース端子22端子間に接続されている。整流出力信号B2は、出力用MOSFET20の入力容量によりそのピーク電圧が積分されて、充放電回路5の充放電出力信号B3となり、充放電回路5の両端に電位差を発生させる。
The charging / discharging
出力用MOSFET20は、半導体リレー装置1により開閉される半導体スイッチング素子である。この出力用MOSFET20は、充放電回路5の両端の電位差が出力用MOSFET20のゲート端子21とソース端子22間に印加されることによりスイッチングされ、出力用MOSFET20の出力端子20a、20b間がオン、オフされて開閉される。なお、出力用MOSFET20は、高耐圧で電流容量が大きいため、ゲート端子21とソース端子22間に比較的大きい入力容量(例えば、数1000pF)を持つ。
The
上記のように構成された半導体リレー装置1におけるリレー動作について説明する。発振回路2において、その入力端子2a、2bに印加される入力信号A1がLOWからHIGHになると、所定の周波数のパルス状の発振信号A2を発生する。この発振信号A2は、発振回路2の負荷となっているインダクタ部3のインダクタL1に流れ、電磁信号に変換される。このインダクタL1からの電磁信号は、インダクタL1と電磁的に結合する第2のインダクタL2に誘起されてインダクタ出力信号B1を発生する。そして、このインダクタL2からのインダクタ出力信号B1は、整流回路4で両波整流されて整流出力信号B2となる。この整流出力信号B2は、充放電回路5で充放電され、この充放電回路5から充放電出力信号B3が出力される。この充放電回路5の出力の両端の電位差が出力用MOSFET20のゲート端子21とソース端子22に印加される。この電位差は、出力用MOSFET20の制御信号となり、この制御信号により出力用MOSFET20はスイッチングされ、その出力端子20a、20b間の出力波形B4に示すように、入力信号A1と同期してオン、オフされてリレー動作が行われる。
The relay operation in the
このように、第1の実施形態の半導体リレー装置1によれば、発振回路2が温度的に極めて安定であり、この出力である発振信号A2を基にして生成される整流出力信号B2も安定なものとなるので、この整流出力信号B2に基づく充放電回路5の出力の電位差も安定なものにできる。これにより、従来のように高温で不安定な発光素子や受光素子を用いることなく、入力信号に応答する発振信号を基にして得た制御信号により、高温でも確実にMOSFET20をオン、オフでき、安定したスイッチング動作の半導体リレー装置1を得ることができる。なお、発振回路2の発振信号A2は、整流されて直流の整流出力信号B2に変換されるので、その電圧が出力用MOSFET20を駆動できる所定電圧以上であれば、出力用MOSFET20をスイッチングすることができることから、その発振周波数は多少変動しても問題はない。
Thus, according to the
図4は、本発明の第2の実施形態を示す。以下の実施形態では、充放電回路5の構成が相違するものを示す。本実施形態は、第1の実施形態と同様の構成において、充放電回路5が、抵抗51に代えて、第1のインダクタL1と電磁的に結合される磁気抵抗素子52により構成される。
FIG. 4 shows a second embodiment of the present invention. In the following embodiment, the structure of the charge /
この磁気抵抗素子52は、印加磁界の大きさによって抵抗値が変化する可変抵抗素子である。ここでは、磁気抵抗素子52として、結合される磁気信号レベルが高いときに高抵抗となり、低いときに低抵抗となる可変抵抗素子を用いる。このような磁気抵抗素子52としては、例えば、MR(Magneto Resistive)効果素子や高透磁率を有する鉄ニッケル合金(通称パーマロイ)等がある。
The
上記構成において、入力信号がHIGHのとき、発振回路2の発振信号により第1のインダクタL1で磁界が発生すると、この磁界が磁気抵抗素子52に電磁結合され、磁気抵抗素子52の抵抗が大きくなる。これにより、充放電回路5の充電時のインピーダンスを高くできる。また、入力信号がLOWとなると、発振信号が無くなるので、磁気抵抗素子52に結合する磁界が無くなり、磁気抵抗素子52の抵抗が小さくなり、充放電回路5の放電時のインピーダンスを低くできる。
In the above configuration, when a magnetic field is generated in the first inductor L1 by the oscillation signal of the oscillation circuit 2 when the input signal is HIGH, this magnetic field is electromagnetically coupled to the
このように第2の実施形態によれば、磁気抵抗素子52の抵抗値を入力信号のHIGHとLOWで可変することにより、、充放電回路5を入力信号に同期して出力用MOSFET20の充放電の応答を速くすることができる。また、この充放電回路5は、受動素子だけを用いて構成できるので、低コストにできると共に、半導体能動素子のオン、オフ時に発生するスイッチングノイズがないので、他の回路にノイズ妨害を与えることが少ない。
As described above, according to the second embodiment, by changing the resistance value of the
図5は、本発明の第3の実施形態を示す。本実施形態は、第1の実施形態と同様の構成において、充放電回路5が、抵抗53とP型MOSFET54とにより構成される。ここでは、充放電回路5の構成のみ図示している。
FIG. 5 shows a third embodiment of the present invention. In the present embodiment, the charge /
充放電回路5において、抵抗53は、P型MOSFET54のゲート端子54aとソース端子54b間に接続される。また、ゲート端子54aとドレイン端子54cは、充放電回路5の入力側として、整流回路4の出力側に接続され、ドレイン端子54cとソース端子54bは、充放電回路5の出力側として、出力用MOSFET20の入力側に接続される。また、P型MOSFET54は、ゲート電圧がゼロのときは、ソース・ドレイン間に電流が流れるデプレッション形のP型MOSFET54を用いている。
In the charge /
上記構成において、P型MOSFET54のゲート端子54aへの入力電圧がLOWのときは、デプレッション形により、P型MOSFET54は導通状態にあるので、そのソース・ドレイン間は、短絡状態となりインピーダンスが低くなっている。また、ゲート端子54aへの入力電圧がHIGHのときは、抵抗53における電圧降下により、ゲート端子54aの電位の方がソース端子54bの電位より高くなる。このため、P型MOSFET54は、非導通となり、ソース・ドレイン間は開放となるので、そのインピーダンスが高くなる。これにより、充放電回路5のインピーダンスを、入力信号A1がLOWにおける放電時に低く、HIGHにおける充電時に高くできる。
In the above configuration, when the input voltage to the
このように第3の実施形態によれば、ゲート電圧がゼロにおいて導通状態となるデプレッション形のP型MOSFET54を用いて充放電回路5をスイッチングさせるので、充放電回路5の充電時のインピーダンスをより大きく、放電時のインピーダンスをより小さくでき、出力用MOSFET20に対する充放電の応答を速くすることができる。
As described above, according to the third embodiment, since the charging / discharging
図6は、本発明の第4の実施形態を示す。本実施形態は、第1の実施形態と同様の構成において、充放電回路5が、抵抗55とN型MOSFET56とにより構成される。ここでは、充放電回路5の構成のみ図示している。
FIG. 6 shows a fourth embodiment of the present invention. In the present embodiment, the charge /
充放電回路5において、抵抗55はN型MOSFET56のゲート端子56aとソース端子56b間に接続される。また、ドレイン端子56cとゲート端子56aとは、充放電回路5の入力側となり、整流回路4の出力側に接続される。また、ドレイン端子56cとソース端子56bは、充放電回路5の出力側となり、出力用MOSFET20(図1参照)の入力側に接続される。また、N型MOSFET56は、前記P型MOSFET54と同様に、ゲート電圧がゼロでもソース・ドレイン間に電流が流れるデプレッション形としている。
In the charge /
上記構成において、N型MOSFET56のゲート端子56aへの入力電圧がLOWのときは、デプレッション形により、N型MOSFET56は導通状態にあるので、そのソース・ドレイン間は、略短絡状態となりインピーダンスが低くなっている。また、ゲート端子56aへの入力電圧がHIGHのときは、抵抗55における電圧降下により、ゲート端子56aの電位がソース端子56bの電位より低くなる。このため、N型MOSFET56は、非導通となり、ソース・ドレイン間は開放となり、そのインピーダンスが高くなる。これにより、充放電回路5のインピーダンスを、入力信号A1がHIGHにおける充電時に高く、LOWにおける放電時に低くできる。
In the above configuration, when the input voltage to the
このように、第4の実施形態によれば、前記P型MOSFET54より動作速度の速いN型MOSFET56を用いて、充放電回路5のインピーダンスを切替えることができるので、出力用MOSFET20に対する充放電の応答をより速く行うことができる。
Thus, according to the fourth embodiment, since the impedance of the charge /
図7は、本発明の第5の実施形態を示す。本実施形態は、第1の実施形態と同様の構成において、充放電回路5が、インダクタ部3の第3のインダクタL3、第2の整流回路57、抵抗58、及びN型MOSFET59を備える。
FIG. 7 shows a fifth embodiment of the present invention. In the present embodiment, the charge /
第3のインダクタL3は、第2のインダクタL2とは別に、第1のインダクタL1と電磁的に結合されたコイルにより形成される。これにより、第3のインダクタL3は、第1のインダクタL1から独立に電磁信号を受けて電気信号を発生し、この電気信号は第2の整流回路57で整流される。第2の整流回路57の出力側は抵抗58に接続され、この抵抗58の両端はN型MOSFET59のゲート端子59aとソース端子59bに接続される。N型MOSFET59のドレイン端子59cとソース端子59bが、出力用MOSFET20のゲート端子21とソース端子22に接続されている。
The third inductor L3 is formed of a coil that is electromagnetically coupled to the first inductor L1 separately from the second inductor L2. Accordingly, the third inductor L3 receives an electromagnetic signal independently from the first inductor L1 to generate an electric signal, and this electric signal is rectified by the
上記構成により、第2の整流回路57は、入力信号A1のHIGH、LOWに対応する整流出力信号を生成し、この整流出力信号は充放電作用を行う抵抗58に加えられる。この抵抗58からの充放電出力信号によりN型MOSFET59をオン、オフし、出力用MOSFET20を開閉する。これにより、充放電回路5の充電時のインピーダンスを高く、放電時のインピーダンスを低くすることができ、出力用MOSFET20に対する充放電の応答を高速に行うことができる。
With the above configuration, the
このように第5の実施形態によれば、充放電の応答を高速に行うことができると共に、N型MOSFET59への駆動電圧を第3のインダクタと第2の整流回路から独立に得ることができる。このため、N型MOSFET59の駆動回路設計の自由度が増し、N型MOSFET59に必要以上に駆動電圧を掛けない最適設計が可能となる。従って、必要最小の電流容量を持つ入力容量の小さいN型MOSFET59を選んで設計することができ、N型MOSFET59のスイッチング応答を速くして、リレー応答をより高速にできる。
As described above, according to the fifth embodiment, the charge / discharge response can be performed at a high speed, and the drive voltage to the N-
図8は、本発明の第6の実施形態を示す。本実施形態は、第1の実施形態と同様の構成において、出力用MOSFET20(半導体スイッチング素子)の出力に直列に挿入された電流検出用の抵抗23を備え、この抵抗23の両端にに発生する電位差Vsにより充放電回路5をフィードバック制御する。
FIG. 8 shows a sixth embodiment of the present invention. The present embodiment includes a
充放電回路5は、充放電電流を流す抵抗51(単体でも充放電回路となる)とその両端に接続されるバイポーラトランジスタ61からなる電流制限回路6とを有し、バイポーラトランジスタ61のコレクタ端子61cは出力用MOSFET20のゲート端子21に接続され、エミッタ端子61bは接地されている。出力用MOSFET20は、ソース端子22と接地間に、出力用MOSFET20に流れる電流を検出する抵抗23が接続され、この抵抗23のソース端子22側はバイポーラトランジスタ61のベース端子61aに接続されている。
The charging / discharging
上記構成において、抵抗23の両端に発生する検出電圧Vsは、バイポーラトランジスタ61のベース端子61aにフィードバックされる。これにより、出力用MOSFET20に流れる電流が大きくなると、バイポーラトランジスタ61が導通され、充放電回路5の出力インピーダンスを低下し、出力用MOSFET20の電流を遮断又は低減することができる。
In the above configuration, the detection voltage Vs generated across the
このように、第6の実施形態によれば、出力用MOSFET20に流れる電流の大きさにより充放電回路5の出力を制御できるので、過電流時に充放電回路5により出力用MOSFET20の電流を制限して出力用MOSFET20を保護することができる。なお、本実施形態では、電流制限回路6を充放電回路5と一体化したが、充放電回路5と分離して充放電回路5の前後に構成してもよい。
As described above, according to the sixth embodiment, since the output of the charge /
図9(a)、(b)は、本発明の第7の実施形態に係る半導体リレー装置1の構成を示す。本実施形態は、第1の実施形態と同様の構成において、上述した各回路から成る入力側の回路群32及び出力側の回路群33を同一の半導体基板30上に形成したしたものである。
FIGS. 9A and 9B show the configuration of the
半導体リレー装置1は、発振回路2(図1参照)を有する部分を入力側回路群32とし、インダクタ部3、整流回路4(図1参照)、及び充放電回路5を有する部分を出力側回路群33として、回路群32、33を同一半導体基板30上に絶縁膜である誘電体膜31(31a)で直流的に分離してチップ状に形成したものである。
In the
出力側回路群33は、出力側回路チップ34と出力側回路チップ34のチップ上に形成されたインダクタチップ35から成り、インダクタチップ35は、平面コイルで構成された第1のインダクタL1及び第2のインダクタL2を電磁結合させながら誘電体膜31(31b)で直流的に絶縁分離して構成されている。第1のインダクタL1の両端は、接続パッド33a、33bに接続され、さらに、この接続パッド33a、33bからボンディングワイヤ36a、36bを介して、入力側回路群32の発振回路2の出力パッド32a、32bと接続されている。また、第2のインダクタL2の両端は、誘電体膜31内に形成された導通孔37a、37bに接続され、この導通孔37a、37bを介して、出力側回路チップ34の整流回路4の入力側と接続されている。なお、絶縁膜として、誘電体膜31以外の絶縁部材を用いてもよい。
The output
このように第7の実施形態の半導体リレー装置1によれば、入出力側の各回路群を半導体基板30上に1チップ化で構成することができるので、装置全体を小型化することができる。なお、インダクタ部3は、出力側回路群33でなく、入力側回路群32に構成することもできる。また、誘電体膜31を多層化することにより、ボンディングワイヤ36a、36bを半導体基板30内で配線処理することも可能である。
Thus, according to the
図10は、本発明の第8の実施形態に係る半導体リレー装置1の構成を示す。本実施形態は、第1の実施形態と同様の構成において、複数組の入力側回路群及び出力側回路群の各回路群を同一の半導体基板30上に形成したものである。
FIG. 10 shows a configuration of a
本実施形態の半導体リレー装置1において、半導体基板30は、第1の入力側回路群32と第1の出力側回路群33の入出力対に加え、第2の入力側回路群38と第2の出力側回路群39、第3の入力側回路群40と第3の出力側回路群41の各入出力対を有している。これらの各回路群は、誘電体膜31により半導体基板30において直流的に分離されている。
In the
このように第8の実施態の半導体リレー装置1によれば、複数組の第1乃至第3の各入力側回路群32、38、40及び第1乃至第3の各出力側回路群33、39、41の各回路群を同一の半導体基板上に入出力対として形成したことにより、複数の出力用MOSFET20を同時にスイッチングできるので、複数の半導体リレーを小型に形成することができる。
As described above, according to the
上述した各種実施形態に係る半導体リレー装置1によれば、従来の発光素子と受光素子を用いる光信号による光結合は、光の指向性が狭いため、厳密な位置合わせが必要であるが、インダクタ間の電磁結合は電磁波の指向性が広いため、それらの配設位置に自由度があり、配置設計が簡単となり、製造も容易になる。また、トランス結合により、光結合と同様に入力側と出力側を電気的に絶縁することができる。
According to the
なお、本発明は、上記実施形態に限られるものではなく、様々な変形が可能である。本実施形態では、半導体スイッチング素子として出力用MOSFETを用いたが、炭化珪素静電誘導型トランジスタ(SiC−SIT)などの他の半導体スイッチング素子にも適用することができる。また、出力用MOSFETの過電流防止用の電流制限回路として、バイポーラトランシスタを用いたが他のMOSFET等の半導体素子を用いても同様に行うことができる。また、上記では半導体リレー装置として、半導体スイッチング素子を別部材とした例を示したが、同素子をも含んだものが半導体リレー装置として構成されてもよい。 In addition, this invention is not restricted to the said embodiment, Various deformation | transformation are possible. In the present embodiment, the output MOSFET is used as the semiconductor switching element, but the present invention can also be applied to other semiconductor switching elements such as a silicon carbide static induction transistor (SiC-SIT). Further, although a bipolar transistor is used as a current limiting circuit for preventing overcurrent of the output MOSFET, the same can be achieved by using other semiconductor elements such as MOSFETs. Moreover, although the example which used the semiconductor switching element as another member was shown as the semiconductor relay apparatus in the above, what also contains the same element may be comprised as a semiconductor relay apparatus.
1 半導体リレー装置
2 発振回路
3 インダクタ部(第1のインダクタ、第2のインダクタ、第3のインダクタ)
4 整流回路
5 充放電回路
20 出力用MOSFET(半導体スイチング素子)
30 半導体基板
32 入力側回路群
33 出力側回路群
51、53、55、58 抵抗
52 磁気抵抗素子
54 P型MOSFET
56、59 N型MOSFET
54a、56a ゲート端子
54b、56b ソース端子
54c、56c ドレイン端子
A1 入力信号
L1 第1のインダクタ
L2 第2のインダクタ
L3 第3のインダクタ
DESCRIPTION OF
4
30
56, 59 N-type MOSFET
54a, 56a Gate terminal 54b,
Claims (10)
前記入力信号を発振させる発振回路と、
前記発振回路の出力を電磁信号に変換する第1のインダクタと、
前記第1のインダクタからの電磁信号を受けて電気信号を発生する第2のインダクタと、
前記第2のインダクタからの出力を整流する整流回路と、
前記整流回路の出力を充放電する充放電回路と、
を備え、
前記充放電回路の出力に発生する電位差により前記半導体スイッチング素子をオン、オフすることを特徴とする半導体リレー装置。 In a semiconductor relay device that opens and closes a semiconductor switching element in response to an input signal,
An oscillation circuit for oscillating the input signal;
A first inductor for converting the output of the oscillation circuit into an electromagnetic signal;
A second inductor for receiving an electromagnetic signal from the first inductor and generating an electrical signal;
A rectifier circuit for rectifying the output from the second inductor;
A charge / discharge circuit for charging / discharging the output of the rectifier circuit;
With
A semiconductor relay device, wherein the semiconductor switching element is turned on and off by a potential difference generated at an output of the charge / discharge circuit.
前記抵抗は前記P型MOSFETのゲート端子とソース端子間に接続され、
前記P型MOSFETのゲート端子とドレイン端子を充放電回路の入力とし、該ソース端子とドレイン端子を充放電回路の出力としたことを特徴とする請求項1に記載の半導体リレー装置。 The charge / discharge circuit is composed of a resistor and a P-type MOSFET,
The resistor is connected between a gate terminal and a source terminal of the P-type MOSFET,
2. The semiconductor relay device according to claim 1, wherein the gate terminal and the drain terminal of the P-type MOSFET are input to a charge / discharge circuit, and the source terminal and the drain terminal are output from the charge / discharge circuit.
前記抵抗は前記N型MOSFETのゲート端子とソース端子間に接続され、
前記N型MOSFETのドレイン端子とゲート端子を充放電回路の入力とし、該ドレイン端子とソース端子を充放電回路の出力としたことを特徴とする請求項1に記載の半導体リレー装置。 The charge / discharge circuit includes a resistor and an N-type MOSFET,
The resistor is connected between a gate terminal and a source terminal of the N-type MOSFET,
2. The semiconductor relay device according to claim 1, wherein the drain terminal and the gate terminal of the N-type MOSFET are input to a charge / discharge circuit, and the drain terminal and the source terminal are output to the charge / discharge circuit.
前記第1のインダクタからの電磁信号を受けて電気信号を発生する第3のインダクタと、
前記第3のインダクタのからの電気信号を整流する第2の整流回路と、
前記第2の整流回路の出力端に接続された抵抗と、
前記抵抗がゲート端子とソース端子間に接続され、ドレイン端子とソース端子とを充放電入出力とするN型MOSFETと、
を備えたことを特徴とする請求項1に記載の半導体リレー駆動装置。 The charge / discharge circuit is
A third inductor for receiving an electromagnetic signal from the first inductor and generating an electrical signal;
A second rectifier circuit for rectifying an electrical signal from the third inductor;
A resistor connected to an output terminal of the second rectifier circuit;
An N-type MOSFET in which the resistor is connected between a gate terminal and a source terminal, and the drain terminal and the source terminal are charged and discharged, and
The semiconductor relay drive device according to claim 1, comprising:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006345310A JP2008160347A (en) | 2006-12-22 | 2006-12-22 | Semiconductor relay device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006345310A JP2008160347A (en) | 2006-12-22 | 2006-12-22 | Semiconductor relay device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008160347A true JP2008160347A (en) | 2008-07-10 |
Family
ID=39660788
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006345310A Pending JP2008160347A (en) | 2006-12-22 | 2006-12-22 | Semiconductor relay device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2008160347A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010219120A (en) * | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Renesas Electronics Corp | Semiconductor device |
| WO2012080807A1 (en) * | 2010-12-14 | 2012-06-21 | パナソニック株式会社 | Load control device |
| JP2012124807A (en) * | 2010-12-10 | 2012-06-28 | Panasonic Corp | Semiconductor relay |
| JP2012129729A (en) * | 2010-12-14 | 2012-07-05 | Panasonic Corp | Electronic relay |
| JP2015164291A (en) * | 2014-01-29 | 2015-09-10 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Signal transmission circuit, switching system and matrix converter |
| JP2017216722A (en) * | 2017-07-24 | 2017-12-07 | Tdk株式会社 | Rectifier and transceiver |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54123863A (en) * | 1978-03-17 | 1979-09-26 | Toshiba Corp | Transistor drive circuit |
| JPH0260318A (en) * | 1988-08-26 | 1990-02-28 | Sansha Electric Mfg Co Ltd | Driving circuit for insulated gate type semiconductor for electric power |
| JPH0362612A (en) * | 1989-07-31 | 1991-03-18 | Isao Takahashi | Gate driving circuit |
| JP2001078434A (en) * | 1999-09-03 | 2001-03-23 | Rkc Instrument Inc | Zero cross controller |
| JP2003133925A (en) * | 2001-10-25 | 2003-05-09 | Matsushita Electric Works Ltd | Switching circuit with overheating protection function and semiconductor relay equipped therewith |
-
2006
- 2006-12-22 JP JP2006345310A patent/JP2008160347A/en active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54123863A (en) * | 1978-03-17 | 1979-09-26 | Toshiba Corp | Transistor drive circuit |
| JPH0260318A (en) * | 1988-08-26 | 1990-02-28 | Sansha Electric Mfg Co Ltd | Driving circuit for insulated gate type semiconductor for electric power |
| JPH0362612A (en) * | 1989-07-31 | 1991-03-18 | Isao Takahashi | Gate driving circuit |
| JP2001078434A (en) * | 1999-09-03 | 2001-03-23 | Rkc Instrument Inc | Zero cross controller |
| JP2003133925A (en) * | 2001-10-25 | 2003-05-09 | Matsushita Electric Works Ltd | Switching circuit with overheating protection function and semiconductor relay equipped therewith |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010219120A (en) * | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Renesas Electronics Corp | Semiconductor device |
| JP2012124807A (en) * | 2010-12-10 | 2012-06-28 | Panasonic Corp | Semiconductor relay |
| WO2012080807A1 (en) * | 2010-12-14 | 2012-06-21 | パナソニック株式会社 | Load control device |
| JP2012129729A (en) * | 2010-12-14 | 2012-07-05 | Panasonic Corp | Electronic relay |
| US8779837B2 (en) | 2010-12-14 | 2014-07-15 | Panasonic Corporation | Load control device |
| TWI491174B (en) * | 2010-12-14 | 2015-07-01 | Panasonic Corp | Load control apparatus |
| JP2015164291A (en) * | 2014-01-29 | 2015-09-10 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Signal transmission circuit, switching system and matrix converter |
| JP2017216722A (en) * | 2017-07-24 | 2017-12-07 | Tdk株式会社 | Rectifier and transceiver |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN111193395B (en) | Resonant converter control based on zero current detection | |
| JP4528841B2 (en) | Power converter | |
| TWI621005B (en) | Method and device for generating regulated isolated supply voltage | |
| CN114172123B (en) | Semiconductor device with a semiconductor device having a plurality of semiconductor chips | |
| TW201624924A (en) | Half-bridge power conversion circuit using gallium nitride device | |
| US9711659B2 (en) | Semiconductor device | |
| CN104038084B (en) | Rectification circuit | |
| CN101577420B (en) | Device and method for limiting drain-source voltage of transformer-coupled push pull power conversion circuit | |
| JP2011087260A (en) | Load control apparatus | |
| JP2008160347A (en) | Semiconductor relay device | |
| KR102117719B1 (en) | Power semiconductor circuit | |
| CN110040015B (en) | Control circuit and method of electric vehicle wireless charging system based on LCCL | |
| US6787881B2 (en) | Integrated power device with improved efficiency and reduced overall dimensions | |
| Raisigel et al. | Autonomous, low voltage, high efficiency, CMOS rectifier for three-phase micro generators | |
| EP3982541B1 (en) | Door chime control circuit | |
| US12438540B2 (en) | Switching module | |
| JP5358350B2 (en) | Load control device | |
| JP2007124518A (en) | Semiconductor relay device | |
| CN101567656A (en) | Switching type adjusting circuit and double-coil motor device | |
| US6894421B2 (en) | Circuit configuration and, in particular, a switch-mode power supply | |
| JP2018117507A (en) | Semiconductor switch and semiconductor module | |
| CN113630011A (en) | High-voltage semiconductor device and related power supply | |
| JP2024162317A (en) | Semiconductor Device | |
| JP2007124501A (en) | Semiconductor relay device | |
| CN102738143A (en) | Semiconductor device, dc-dc converter, and protective element |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081201 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20110308 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20110418 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111025 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20120111 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120410 |