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JP2008159858A - Electronic component manufacturing method and electronic component - Google Patents

Electronic component manufacturing method and electronic component Download PDF

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JP2008159858A
JP2008159858A JP2006347289A JP2006347289A JP2008159858A JP 2008159858 A JP2008159858 A JP 2008159858A JP 2006347289 A JP2006347289 A JP 2006347289A JP 2006347289 A JP2006347289 A JP 2006347289A JP 2008159858 A JP2008159858 A JP 2008159858A
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JP
Japan
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hardness
element body
electronic component
marker
lower layer
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Application number
JP2006347289A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiromi Miyoshi
弘己 三好
Kazuhiko Yamano
和彦 山野
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Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electronic component manufacturing method capable of removing burrs in the state of appropriately rounding a corner part, sufficiently exposing the end of an internal electrode and forming a high-contrast marker, and an electronic component. <P>SOLUTION: On a lower layer exterior material 2 on a base 10, insulating layers 31-33 and the internal electrodes 41 and 42 are laminated to form an element body 3 and a marker 5 is formed. Then, after a laminate comprising the lower layer exterior material 2, the element body 3 and the marker 5 is cut into a plurality of chips 6, the base 10 is peeled off and the chips 6 are calcinated. Thereafter, the respective chips 6 are polished in a barrel and an inductor 1 is manufactured. The hardness of the marker 5 is set larger than the hardness of the lower layer exterior material 2 and the hardness of the element body 3. Preferably, the hardness of the lower layer exterior body 2 and the hardness of the element body 3 are made different corresponding to a difference between the edge rounding time of the lower layer exterior material 2 and the exposure time of the outer ends 41b and 42b of the internal electrodes 41 and 42. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

この発明は、積層型の電子部品を製造するための電子部品製造方法及び電子部品に関し、特に、基板レスのインダクタ等の電子部品を製造するための電子部品製造方法及び電子部品に関するものである。   The present invention relates to an electronic component manufacturing method and an electronic component for manufacturing a multilayer electronic component, and more particularly to an electronic component manufacturing method and an electronic component for manufacturing an electronic component such as a boardless inductor.

近年、インダクタ等の電子部品の薄型化と高密度化の点から、厚い基板を用いずに、フォトリソグラフィ等の微細加工で形成したいわゆる基板レスの積層型電子部品が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
この種の電子部品は、次のようにして製造される。
まず、絶縁層等の下層外装材を、キャリアフィルム等のような剥離容易な基材上に形成した後、感光性絶縁ペーストや感光性導体パターンを積層しながら、フォトリソグラフィ工法で露光現像することにより、絶縁層と配線パターンを交互に積層して、積層体を形成する。そして、この積層体をチップに分割した後、基材を各チップから剥離し、基材が剥離された各チップを焼成する。しかる後、バレル工程を実行して、チップ分割時に生じたバリをチップから除去したり、チップのエッジを丸めると共に、チップ内の内部電極の端部をチップ端部に露出させる。そして、チップの両端に外部電極を形成することで、所望特性の電子部品を製造する。
In recent years, from the viewpoint of thinning and high density of electronic components such as inductors, so-called substrate-less multilayer electronic components formed by microfabrication such as photolithography without using a thick substrate have been proposed (for example, Patent Document 1).
This type of electronic component is manufactured as follows.
First, a lower layer exterior material such as an insulating layer is formed on an easily peelable substrate such as a carrier film, and then exposed and developed by a photolithography method while laminating a photosensitive insulating paste or a photosensitive conductor pattern. Thus, an insulating layer and a wiring pattern are alternately stacked to form a stacked body. And after dividing this laminated body into chips, the substrate is peeled from each chip, and each chip from which the substrate has been peeled is fired. Thereafter, a barrel process is performed to remove burrs generated during chip division from the chip, round the chip edge, and expose the end of the internal electrode in the chip to the chip end. And an external part is formed in the both ends of a chip | tip, and the electronic component of a desired characteristic is manufactured.

特開2005−109097号公報JP 2005-109097 A

しかしながら、上記した従来の電子部品製造方法では、バレル工程を実行するバレル時間の調整が非常に難しく、その結果、バリの残存や内部電極の端部の露出不良,方向性マーカーの薄れや、チップ横転のおそれが多い製品が製造されやすいという問題がある。
すなわち、製造工程時に、電子部品の実装方向を示す方向性マーカーを、電子部品の上面に所定厚さで形成し、このマーカーの厚さが薄くならないようにバレル時間を調整するが、このマーカーが薄くならない程度のバレル時間であると、他の部分に対するバレル時間が短くなるため、チップにバリが残ったり、内部電極の端部の露出が十分に行われないという事態が生じる。
かといって、チップのバリの除去や内部電極の端部の露出を確実に実行するように、バレル時間を長く設定すると、マーカーが過研磨状態になり、マーカーの厚みが薄くなって、誤認識が多発し、電子部品の実装不良が頻発するおそれがある。
これに対して、マーカーの厚みを予め大きくしておくことも考えられる。しかし、厚みを大きく加工することが容易でない上、大きな厚さのマーカーを所望厚さになる迄、バレル工程を実行すると、チップの他の部分、特にエッジが過研磨状態になり、チップの下面全体が丸くなって、電子部品が実装時に横転しやすくなる。
However, in the above-described conventional electronic component manufacturing method, it is very difficult to adjust the barrel time for executing the barrel process. As a result, the remaining burr, the poor exposure of the end of the internal electrode, the thinness of the directional marker, the chip There is a problem that products with a high risk of rollover are likely to be manufactured.
That is, during the manufacturing process, a directional marker indicating the mounting direction of the electronic component is formed with a predetermined thickness on the upper surface of the electronic component, and the barrel time is adjusted so that the thickness of the marker does not become thin. If the barrel time is such that it does not become thin, the barrel time with respect to other parts becomes short, so that there are situations in which burrs remain on the chip and the end portions of the internal electrodes are not sufficiently exposed.
However, if the barrel time is set to be long so as to reliably remove the chip burrs and expose the end of the internal electrode, the marker will be over-polished and the marker will be thin, resulting in false recognition. Frequently occur, and mounting failure of electronic parts may occur frequently.
On the other hand, it is also conceivable to increase the thickness of the marker in advance. However, it is not easy to process a large thickness, and when the barrel process is performed until a marker with a large thickness reaches the desired thickness, other parts of the chip, particularly the edges, are over-polished, and the lower surface of the chip The whole is rounded and the electronic component is easy to roll over when mounted.

この発明は、上述した課題を解決するためになされたもので、角部に適度な丸みを持たせた状態でバリを除去することができると共に、内部電極の端部を十分に露出させることができ、しかも、コントラストの高いマーカーを形成可能な電子部品製造方法及び電子部品を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problem, and can remove burrs in a state in which corners are appropriately rounded and can sufficiently expose the end portions of internal electrodes. An object of the present invention is to provide an electronic component manufacturing method and an electronic component capable of forming a marker with high contrast.

上記課題を解決するために、請求項1は、下層外装材を基材上に載せ、この下層外装材の上に絶縁層及び内部電極を積層して素体を形成する共に、この素体上面にマーカーを形成する第1工程と、基材と下層外装材と素体とマーカーとでなる積層体を複数のチップに切断した後、基材を剥離して、各チップを焼成する第2工程と、焼成された各チップをバレルで研磨した後、外部電極をチップの両端に形成する第3工程とを備え、第2工程における焼成後のチップのマーカーは、主成分の無機材料と硬度調整材と色素とを素材とし、第2工程における焼成後のチップの素体及び下層外装材は、共に主成分の無機材料と硬度調整材とを素材としており、これらマーカー,素体及び下層外装材の硬度を、無機材料に対する硬度調整材の割合で設定する電子部品製造方法であって、マーカーの硬度が下層外装材の硬度及び素体の硬度よりも大きくなるように、硬度調整材の割合を設定した構成とする。
かかる構成により、第1工程を実行することで、基材上に下層外装材と素体とで成る積層体が形成される共に、マーカーが素体上面に形成される。そして、第2工程を実行することで、この積層体がチップに切断された後、各チップが焼成される。かかる焼成後において、チップのマーカーの素材は、主成分の無機材料と硬度調整材と色素とであり、素体及び下層外装材の素材は、共に主成分の無機材料と硬度調整材とである。そして、第3工程を実行することで、各チップがバレルで研磨される。このとき、マーカーの硬度が下層外装材の硬度及び素体の硬度よりも大きくなるように、硬度調整材の割合が設定されているので、所定バレル時間内に、下層外装材と素体とがマーカーよりも先に所望値まで研磨される。この結果、マーカーは所望厚さを保持し、マーカーが明瞭なコントラストを保つので、マーカーの誤認識は生じない。そして、外部電極がこのチップの両端に形成される。
In order to solve the above-mentioned problems, the first aspect of the present invention is to form an element body by placing a lower-layer exterior material on a base material, and laminating an insulating layer and internal electrodes on the lower-layer exterior material. A first step of forming a marker on the substrate, and a second step of cutting each of the chips after peeling the substrate after cutting the laminate made of the substrate, the lower layer exterior material, the element body and the marker into a plurality of chips And a third step of forming external electrodes on both ends of the chip after polishing each fired chip with a barrel, and the marker of the chip after firing in the second process is composed of an inorganic material as a main component and hardness adjustment The base material and lower layer exterior material of the chip after firing in the second step are made of the main component inorganic material and the hardness adjusting material, and the marker, the base body, and the lower layer exterior material. Is set by the ratio of hardness adjusting material to inorganic material That an electronic component manufacturing method, as the hardness of the marker is greater than the hardness of the hardness and body of the lower exterior member, a structure in which to set the percentage of hardness adjusting material.
With this configuration, by executing the first step, a laminate composed of the lower layer exterior material and the element body is formed on the base material, and a marker is formed on the upper surface of the element body. And after performing this 2nd process, after this laminated body is cut | disconnected by the chip | tip, each chip | tip is baked. After such firing, the material of the chip marker is the main component inorganic material, the hardness adjusting material, and the pigment, and the base material and the lower layer exterior material are both the main component inorganic material and the hardness adjusting material. . Then, by executing the third step, each chip is polished by the barrel. At this time, since the ratio of the hardness adjusting material is set so that the hardness of the marker is greater than the hardness of the lower layer exterior material and the hardness of the element body, the lower layer exterior material and the element body are within the predetermined barrel time. Polishing to a desired value prior to the marker. As a result, the marker retains the desired thickness, and the marker maintains a clear contrast, so that no erroneous recognition of the marker occurs. External electrodes are formed on both ends of the chip.

請求項2は、請求項1に記載の電子部品製造方法において、下層外装材の硬度が素体の硬度よりも小さくなるように、硬度調整材の割合を設定した構成とする。
チップにバリがあったり、素体の内部電極の端部が既に露出している場合には、チップのバリを取ってエッジを所望角度まで丸めるに要するバレル時間の方が、内部電極の端部を露出させる迄に要するバレル時間よりも長くなる。このような場合に、内部電極の端部が素体から十分露出するまで研磨しても、素体にバリが残ったりエッジが所望角度まで研磨されない状態になる。しかし、この発明が上記構成をとり、下層外装材の硬度を素体の硬度よりも小さくしているので、チップのエッジが所望角度まで丸まる時間が短縮し、この時間と内部電極が露出する迄の時間とがほぼ等しくなる。この結果、第3工程において、短時間に、内部電極の端部を素体から十分露出させることができると共に、バリを除去し、しかもエッジを所望角度まで丸めることができる。
According to a second aspect of the present invention, in the electronic component manufacturing method according to the first aspect, the ratio of the hardness adjusting material is set so that the hardness of the lower-layer exterior material is smaller than the hardness of the base body.
If there is a burr on the chip or the end of the internal electrode of the element body is already exposed, the barrel time required to deburr the chip and round the edge to the desired angle is greater than the end of the internal electrode. Longer than the barrel time required to expose In such a case, even if the end of the internal electrode is polished until it is sufficiently exposed from the element body, burrs remain on the element body and the edge is not polished to a desired angle. However, since the present invention has the above-described configuration and the hardness of the lower layer exterior material is smaller than the hardness of the base body, the time for the edge of the chip to be rounded to the desired angle is shortened, and this time and the internal electrode are exposed. The time is almost equal. As a result, in the third step, the end portion of the internal electrode can be sufficiently exposed from the element body in a short time, the burr can be removed, and the edge can be rounded to a desired angle.

請求項3は、請求項1に記載の電子部品製造方法において、素体の硬度が下層外装材の硬度よりも小さくなるように、硬度調整材の割合を設定した構成とする。
素体の内部電極の端部が厚い絶縁層で覆われているような場合には、チップの内部電極の端部を露出させる迄に要するバレル時間の方が、チップのエッジを所望角度迄丸める迄に要するバレル時間よりも長くなる。このような場合に、内部電極の端部が素体から十分露出するまで研磨すると、エッジが過研磨状態になり、チップの下面全体が丸くなって実装時に横転しやすくなる。しかし、この発明が上記構成をとり、素体の硬度を下層外装材の硬度よりも小さくしているので、内部電極の端部を露出させる迄の時間が短縮し、この時間とエッジを所望角度まで丸める迄の時間とがほぼ等しくなる。この結果、第3工程において、短時間に、バリを除去し且つエッジを所望角度まで丸めることができると共に、内部電極の端部を素体から十分露出させることができる。
According to a third aspect of the present invention, in the electronic component manufacturing method according to the first aspect, the ratio of the hardness adjusting material is set so that the hardness of the element body is smaller than the hardness of the lower-layer exterior material.
When the end of the internal electrode of the element body is covered with a thick insulating layer, the barrel time required to expose the end of the internal electrode of the chip is rounded to the desired angle. It will be longer than the barrel time required. In such a case, if the end of the internal electrode is polished until it is sufficiently exposed from the element body, the edge becomes overpolished, and the entire lower surface of the chip becomes rounded, so that it tends to roll over during mounting. However, since the present invention has the above configuration and the hardness of the element body is smaller than the hardness of the lower layer exterior material, the time until the end of the internal electrode is exposed is shortened, and this time and the edge are set at a desired angle. The time until rounding is almost equal. As a result, in the third step, the burrs can be removed and the edges can be rounded to a desired angle in a short time, and the end portions of the internal electrodes can be sufficiently exposed from the element body.

請求項4は、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の電子部品製造方法において、下層外装材を、素体の下部の角部に配した構成とする。   According to a fourth aspect of the present invention, in the electronic component manufacturing method according to any one of the first to third aspects, the lower-layer exterior material is arranged at a corner portion of the lower portion of the element body.

請求項5は、下層外装材,絶縁層及び内部電極が下層外装材上に積層された素体,及びこの素体上面に設けられたマーカーを有したチップと、このチップの両端に設けられた外部電極とを備え、チップのマーカーは、主成分の無機材料と硬度調整材と色素とを素材とし、素体及び下層外装材は共に、主成分の無機材料と硬度調整材とを素材としており、これらマーカー,素体及び下層外装材の硬度が、無機材料に対する硬度調整材の割合で設定される電子部品であって、マーカーの硬度が下層外装材の硬度及び素体の硬度よりも大きく設定されている構成とした。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a chip having an element body in which a lower layer exterior material, an insulating layer and an internal electrode are laminated on the lower layer exterior material, and a marker provided on the upper surface of the element body, and provided at both ends of the chip. It has external electrodes, the chip marker is made of the main component inorganic material, the hardness adjusting material, and the pigment, and the element body and the lower layer exterior material are both made of the main component inorganic material and the hardness adjusting material. In addition, the hardness of the marker, the base body, and the lower layer exterior material is an electronic component set by the ratio of the hardness adjusting material to the inorganic material, and the marker hardness is set larger than the hardness of the lower layer exterior material and the base body It was set as the structure.

請求項6は、請求項5に記載の電子部品において、下層外装材の硬度が素体の硬度よりも小さい構成とする。   According to a sixth aspect of the present invention, in the electronic component according to the fifth aspect, the hardness of the lower layer exterior material is smaller than the hardness of the element body.

請求項7は、請求項5に記載の電子部品において、素体の硬度が下層外装材の硬度よりも小さい構成とする。   According to a seventh aspect of the present invention, in the electronic component according to the fifth aspect, the hardness of the element body is smaller than the hardness of the lower layer exterior material.

請求項8は、請求項5ないし請求項7のいずれかに記載の電子部品において、下層外装材は、素体の下部の角部に配設されている構成とした。   According to an eighth aspect of the present invention, in the electronic component according to any one of the fifth to seventh aspects, the lower-layer exterior material is disposed at a corner of the lower portion of the element body.

請求項9は、請求項5ないし請求項8のいずれかに記載の電子部品において、無機材料は、ガラスであり、硬度調整材は、アルミナであり、色素は、コバルトである構成とした。   A ninth aspect is the electronic component according to any one of the fifth to eighth aspects, wherein the inorganic material is glass, the hardness adjusting material is alumina, and the pigment is cobalt.

以上詳しく説明したように、この発明によれば、バレル研磨時において、マーカーが所望厚さを保持し、マーカーと素体とのコントラストを劣化させないので、誤認識による実装不良という事態を防ぐことができるという優れた効果がある。
また、下層外装材の硬度を素体の硬度よりも小さくして、チップのエッジが所望角度まで丸まる時間を短縮することで、通常では、チップのエッジを所望角度まで丸めるに要するバレル時間の方が、内部電極の端部を露出させる迄に要するバレル時間よりも長くなるような場合においても、これらエッジ丸めの時間と内部電極が露出する迄の時間をほぼ等しくすることできる。この結果、内部電極の端部を素体から十分露出させることができると共に、短時間に、バリを除去してエッジを所望角度まで丸めることができるという効果がある。
また、素体の硬度が下層外装材の硬度よりも小さくして、内部電極の端部が露出する迄の時間を短縮することで、通常では、チップの内部電極の端部を露出させる迄に要するバレル時間の方が、チップのエッジを所望角度迄丸める迄に要するバレル時間よりも長くなるような場合においても、これら内部電極露出時間とエッジを所望角度まで丸める迄の時間をほぼ等しくすることができる。この結果、バリを除去し且つエッジを所望角度まで丸めることができると共に、短時間に、内部電極の端部を素体から十分露出させることができ、また、エッジの過研磨による電子部品の横転も防ぐことができるという効果がある。
As described above in detail, according to the present invention, at the time of barrel polishing, the marker retains a desired thickness and does not deteriorate the contrast between the marker and the element body, thereby preventing a mounting failure due to misrecognition. There is an excellent effect of being able to.
Also, the barrel time required to round the chip edge to the desired angle is usually reduced by reducing the hardness of the lower exterior material to be less than the hardness of the element body and shortening the time for the chip edge to round to the desired angle. However, even in the case where the barrel time required to expose the end portion of the internal electrode is longer, the edge rounding time can be made substantially equal to the time until the internal electrode is exposed. As a result, the end portions of the internal electrodes can be sufficiently exposed from the element body, and burrs can be removed and the edges can be rounded to a desired angle in a short time.
Also, by reducing the time until the end of the internal electrode is exposed by making the hardness of the element body smaller than the hardness of the lower packaging material, it is usually necessary to expose the end of the internal electrode of the chip. Even when the barrel time required is longer than the barrel time required to round the edge of the chip to the desired angle, the internal electrode exposure time and the time to round the edge to the desired angle should be approximately equal. Can do. As a result, the burr can be removed and the edge can be rounded to a desired angle, the end of the internal electrode can be sufficiently exposed from the element body in a short time, and the electronic component can be rolled over by over-polishing the edge. Can also be prevented.

以下、この発明の最良の形態について図面を参照して説明する。   The best mode of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は、この発明の第1実施例に係る電子部品であるインダクタの分解斜視図であり、図2は、インダクタを透視して示す斜視図であり、図3は、図2の矢視A−A断面図である。
図1に示すように、この実施例の電子部品1は、所謂基板レスの積層型インダクタであり、下層外装材2,素体3,及びマーカー5を有したチップ6と一対の外部電極7−1,7−2とを具備している。
1 is an exploded perspective view of an inductor which is an electronic component according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view showing the inductor through, and FIG. 3 is a perspective view of FIG. It is -A sectional drawing.
As shown in FIG. 1, an electronic component 1 of this embodiment is a so-called boardless multilayer inductor, a chip 6 having a lower exterior material 2, an element body 3, and a marker 5, and a pair of external electrodes 7- 1 and 7-2.

下層外装材2は、素体3の底部に配される絶縁層であり、無機材料であるガラスを主成分とし、アルミナを硬度調整材としている。   The lower-layer exterior material 2 is an insulating layer disposed on the bottom of the element body 3, and is mainly composed of glass, which is an inorganic material, and alumina as a hardness adjusting material.

素体3は、絶縁層31〜33を積層し、その内部にコイル体4を内包した構造を成す。
素体3を構成する絶縁層31〜33は、下層外装材2と同様に、無機材料であるガラスを主成分とし、アルミナを硬度調整材としている。
コイル体4は、共に銀製の内部電極41と内部電極42とで構成されている。具体的には、内部電極41が絶縁層31上にパターン形成されると共に、内部電極42が絶縁層32上にパターン形成されている。そして、内部電極41の内端部41aと内部電極42の内端部42aとがビアホール43で接続されて、2.5ターンのコイル体4が素体3の内部に形成されている。
The element body 3 has a structure in which insulating layers 31 to 33 are stacked and the coil body 4 is included therein.
The insulating layers 31 to 33 constituting the element body 3 are made of glass, which is an inorganic material, as a main component, and alumina as a hardness adjusting material, like the lower-layer exterior material 2.
The coil body 4 is composed of a silver internal electrode 41 and an internal electrode 42. Specifically, the internal electrode 41 is patterned on the insulating layer 31 and the internal electrode 42 is patterned on the insulating layer 32. The inner end portion 41 a of the internal electrode 41 and the inner end portion 42 a of the internal electrode 42 are connected by the via hole 43, and the 2.5-turn coil body 4 is formed inside the element body 3.

マーカー5は、インダクタ1の実装方向を示す識別部材であり、素体3の最上の絶縁層33の表面にパターン形成されている。マーカー5も、下層外装材2や素体3と同様に、無機材料であるガラスを主成分とし、アルミナを硬度調整材としているが、さらに色素としてのコバルトを含有している。
かかるマーカー5の硬度は、後述するように、製造時にマーカー5が薄くなるのを防止するため、下層外装材2の硬度及び素体3の硬度よりも大きく設定されている。すなわち、マーカー5を構成するガラスに対するアルミナの割合が、下層外装材2を構成するガラスに対するアルミナの割合や素体3を構成するガラスに対するアルミナの割合よりも大きく設定されている。
The marker 5 is an identification member that indicates the mounting direction of the inductor 1, and is patterned on the surface of the uppermost insulating layer 33 of the element body 3. Similarly to the lower layer exterior material 2 and the element body 3, the marker 5 is mainly composed of glass which is an inorganic material and alumina as a hardness adjusting material, but further contains cobalt as a pigment.
As will be described later, the hardness of the marker 5 is set to be larger than the hardness of the lower-layer exterior material 2 and the hardness of the element body 3 in order to prevent the marker 5 from being thinned during manufacturing. That is, the ratio of alumina to the glass constituting the marker 5 is set larger than the ratio of alumina to the glass constituting the lower-layer exterior material 2 and the ratio of alumina to the glass constituting the element body 3.

上記のような下層外装材2と素体3とマーカー5とで、1つのチップ6が形成され、このチップ6のエッジに丸めが施されている。具体的には、下層外装材2のエッジ2aとマーカー5のエッジ5aとが所望角度で丸められている。
外部電極7−1,7−2は、このようなチップ6の両端部に形成されている。具体的には、外部電極7−1,7−2は、銀,ニッケル,銅,錫等を素材としており、図2及び図3に示すように、外部電極7−1が、素体3の左端面から露出した内部電極41の外端部41bに接続され、外部電極7−2が、素体3の右端面から露出した内部電極42の外端部42bに接続されている。
One chip 6 is formed by the lower layer exterior material 2, the element body 3, and the marker 5 as described above, and the edge of the chip 6 is rounded. Specifically, the edge 2a of the lower packaging material 2 and the edge 5a of the marker 5 are rounded at a desired angle.
The external electrodes 7-1 and 7-2 are formed at both ends of the chip 6. Specifically, the external electrodes 7-1 and 7-2 are made of silver, nickel, copper, tin or the like, and the external electrodes 7-1 are made of the element body 3 as shown in FIGS. The external electrode 7-2 is connected to the outer end portion 42b of the internal electrode 42 exposed from the right end surface of the element body 3, and is connected to the outer end portion 41b of the internal electrode 41 exposed from the left end surface.

次に、上記インダクタ1の製造方法を説明する。
この製造方法は、第1工程〜第3工程の3つの工程から成る。
なお、この製造方法は、請求項1の発明に係る製造方法を具体的に実現するものである。
図4は、第1工程を示す断面図であり、図5は、第2工程を示す断面図であり、図6は、第3工程を示す断面図である。図4及び図5では、理解を容易にするため、1つのウエハに3つのチップ部分を形成する場合を表示した。
Next, a method for manufacturing the inductor 1 will be described.
This manufacturing method includes three steps of a first step to a third step.
In addition, this manufacturing method implement | achieves the manufacturing method based on invention of Claim 1 concretely.
4 is a cross-sectional view showing the first step, FIG. 5 is a cross-sectional view showing the second step, and FIG. 6 is a cross-sectional view showing the third step. 4 and 5, the case where three chip portions are formed on one wafer is shown for easy understanding.

第1工程は、フォトリソグラフィ工法により、3つのチップを載せたウエハを形成する工程である。
具体的には、図4の(a)に示すように、まず、ペースト状の下層外装材2を剥離可能なフィルム状の基材10上に塗布して、紫外線により全面露光する。そして、図4の(b)に示すように、ペースト状の絶縁層31を塗布すると共に全露光して、ペースト状の内部電極41をこの絶縁層31上に塗布し、露光及び現像することで、内部電極41をパターン形成する。以降、図4の(c)に示すように、絶縁層32,内部電極42及び絶縁層33を積層した後、マーカー5を絶縁層33表面にパターン形成する。
すなわち、3つの素体3を下層外装材2上に形成する共に、マーカー5を各素体3上面に形成することにより、3つのチップ部分が載った積層体としてのウエハ100を形成する。
ここで、かかる第1工程において、後述する第2工程における焼成後のマーカー5の硬度が下層外装材2の硬度及び素体3の硬度よりも大きくなるように、ガラスに対するアルミナの割合を設定しておく。
具体的には、マーカー5では、コバルトを含み且つガラスに対するアルミナの割合が5重量%以上45重量%以下であるペーストを絶縁層33上に塗布して、マーカー5の部分を形成する。一方、素体3では、ガラスに対するアルミナの割合が0重量%以上45重量%以下であるペーストを塗布して、絶縁層31〜33を形成し、下層外装材2においても、ガラスに対するアルミナの割合が0重量%以上45重量%以下である絶縁ペーストを基材10上に塗布して、下層外装材2の部分を形成する。好ましくは、マーカー5では、ガラスに対するアルミナの割合を35重量%に設定し、素体3及び下層外装材2では、ガラスに対するアルミナの割合を30重量%以下に設定する。
The first step is a step of forming a wafer on which three chips are placed by a photolithography method.
Specifically, as shown in FIG. 4A, first, the paste-like lower-layer exterior material 2 is applied onto a peelable film-like substrate 10 and exposed to the entire surface with ultraviolet rays. Then, as shown in FIG. 4B, a paste-like insulating layer 31 is applied and fully exposed, and a paste-like internal electrode 41 is applied on the insulating layer 31 and exposed and developed. The internal electrode 41 is patterned. Thereafter, as shown in FIG. 4C, after the insulating layer 32, the internal electrode 42, and the insulating layer 33 are laminated, the marker 5 is patterned on the surface of the insulating layer 33.
That is, the three element bodies 3 are formed on the lower-layer exterior material 2, and the marker 5 is formed on the upper surface of each element body 3, thereby forming the wafer 100 as a stacked body on which the three chip portions are mounted.
Here, in the first step, the ratio of alumina to the glass is set so that the hardness of the marker 5 after firing in the second step, which will be described later, is greater than the hardness of the lower sheath material 2 and the hardness of the element body 3. Keep it.
Specifically, in the marker 5, a paste containing cobalt and having an alumina to glass ratio of 5 wt% or more and 45 wt% or less is applied on the insulating layer 33 to form the marker 5 portion. On the other hand, in the element body 3, the insulating layer 31 to 33 is formed by applying a paste in which the ratio of alumina to glass is 0 wt% or more and 45 wt% or less, and the lower covering material 2 also has a ratio of alumina to glass. Is applied to the base material 10 to form the lower-layer exterior material 2 portion. Preferably, in the marker 5, the ratio of alumina to the glass is set to 35% by weight, and in the element body 3 and the lower packaging material 2, the ratio of alumina to the glass is set to 30% by weight or less.

第2工程は、ウエハを切断して得たチップを焼成する工程である。
具体的には、図5の(a)に示すように、ウエハ100上の隣り合う外端部41bと外端部42bとの境界をカッタ110を用いて所謂ギロチンカットを行う。そして、図5の(b)に示すように、基材10を剥離することで、3つのチップ6を1つのウエハ100から得る。しかる後、図5の(c)に示すように、各チップ6を焼成する。
The second step is a step of firing the chips obtained by cutting the wafer.
Specifically, as shown in FIG. 5A, a so-called guillotine cut is performed using a cutter 110 at the boundary between adjacent outer end portions 41 b and outer end portions 42 b on the wafer 100. Then, as shown in FIG. 5 (b), three chips 6 are obtained from one wafer 100 by peeling the base material 10. Thereafter, as shown in FIG. 5C, each chip 6 is fired.

第3工程は、インダクタ1を完成させるまでの工程である。
第2工程で焼成されたチップ6のエッジに対して所望角度の丸めを施す必要がある。また、図5の(a),(b)に示したように、ウエハ100を切断する際に生じた下層外装材2のエッジのバリ2bを除去する必要がある。さらに、チップ6を焼成すると、絶縁層31〜33と内部電極41,42との間の熱膨張率や収縮率等の違いから、図5の(c)に示すように、内部電極41,42の外端部41b,42bが絶縁層31〜33の一部3a,3bで覆われてしまう。このため、この絶縁層31〜33の一部3a,3bを除去して、内部電極41,42の外端部41b,42bを素体3から露出させる必要がある。
したがって、図6の(a)に示すように、この第3工程では、第2工程で焼成されたチップ6をバレル120を用いて研磨する。これにより、チップ6のエッジを所望角度に丸めると共にバリ2bを除去し、さらに、内部電極41,42の外端部41b,42bを素体3から露出させる。
The third step is a step until the inductor 1 is completed.
It is necessary to round the edge of the chip 6 fired in the second step at a desired angle. Further, as shown in FIGS. 5A and 5B, it is necessary to remove the burrs 2 b at the edge of the lower-layer exterior material 2 generated when the wafer 100 is cut. Further, when the chip 6 is baked, the internal electrodes 41 and 42 as shown in FIG. 5C due to differences in thermal expansion coefficient and shrinkage ratio between the insulating layers 31 to 33 and the internal electrodes 41 and 42. The outer end portions 41b and 42b are covered with the portions 3a and 3b of the insulating layers 31 to 33. Therefore, it is necessary to remove the portions 3 a and 3 b of the insulating layers 31 to 33 and expose the outer end portions 41 b and 42 b of the internal electrodes 41 and 42 from the element body 3.
Therefore, as shown in FIG. 6A, in this third step, the chip 6 baked in the second step is polished using the barrel 120. Thereby, the edge of the chip 6 is rounded to a desired angle, the burr 2 b is removed, and the outer end portions 41 b and 42 b of the internal electrodes 41 and 42 are exposed from the element body 3.

しかし、焼成後におけるマーカー5の硬度が下層外装材2の硬度及び素体3の硬度とほぼ同じであると、チップ6のバリ2bの除去や内部電極41,42の外端部41b,42bの露出を確実に実行した場合に、図6の(b)に示すように、マーカー5が過研磨状態になり、マーカー5の厚みが薄くなる。このため、マーカー5と素体3とのコントラストが小さくなって、マーカー5を認識し難くなる。
しかしながら、この実施例では、上記したように、マーカー5において、ガラスに対するアルミナの割合を35重量%に設定し、素体3及び下層外装材2において、ガラスに対するアルミナの割合を30重量%以下に設定して、マーカー5の硬度を下層外装材2の硬度及び素体3の硬度よりも大きくしている。
これにより、図5に示したチップ6のバリ2bや内部電極41,42の外端部41b,42bを覆う絶縁層31〜33の一部3a,3bの除去時間の方がマーカー5の研磨時間よりも短くなる。この結果、図6の(c)に示すように、チップ6のバリ2bや内部電極41,42の外端部41b,42bを覆う絶縁層31〜33の一部3a,3bを除去し、チップ6のエッジを所望角度まで研磨した後でも、所望厚さのマーカー5が素体3の上に残存することとなる。このため、マーカー5と素体3とのコントラストが大きくなるので、マーカー5を容易に認識できるようになる。
However, if the hardness of the marker 5 after firing is substantially the same as the hardness of the lower packaging material 2 and the hardness of the element body 3, the removal of the burr 2b of the chip 6 and the outer end portions 41b and 42b of the internal electrodes 41 and 42 are performed. When exposure is performed reliably, as shown in FIG. 6B, the marker 5 is overpolished and the thickness of the marker 5 is reduced. For this reason, the contrast between the marker 5 and the element body 3 is reduced, making it difficult to recognize the marker 5.
However, in this embodiment, as described above, in the marker 5, the ratio of alumina to glass is set to 35% by weight, and in the element body 3 and the lower-layer exterior material 2, the ratio of alumina to glass is 30% by weight or less. The hardness of the marker 5 is set to be larger than the hardness of the lower-layer exterior material 2 and the hardness of the element body 3.
Accordingly, the removal time of the portions 3a and 3b of the insulating layers 31 to 33 covering the burrs 2b of the chip 6 and the outer ends 41b and 42b of the internal electrodes 41 and 42 shown in FIG. Shorter than. As a result, as shown in FIG. 6C, parts 3a and 3b of the insulating layers 31 to 33 covering the burr 2b of the chip 6 and the outer ends 41b and 42b of the internal electrodes 41 and 42 are removed, and the chip Even after the edge of 6 is polished to a desired angle, the marker 5 having a desired thickness remains on the element body 3. For this reason, since the contrast between the marker 5 and the element body 3 is increased, the marker 5 can be easily recognized.

次に、バレル120で研磨したチップ6の両端部を銀ペーストにディップして焼き付けた後、この銀層の上から、ニッケル,銅,錫等をメッキすることで、図6の(d)に示すように、外部電極7−1,7−2をチップ6の両端部に形成し、インダクタ1の製造を完了する。   Next, after both ends of the chip 6 polished by the barrel 120 are dipped in a silver paste and baked, nickel, copper, tin, etc. are plated from above the silver layer, so that FIG. As shown, external electrodes 7-1 and 7-2 are formed at both ends of the chip 6 to complete the manufacture of the inductor 1.

次いで、インダクタ1の使用例について説明する。
図7は、インダクタ1の使用例を示す斜視図である。
図7に示すように、インダクタ1は、外部電極7−1,7−2を基板200上のランド201,202に載せて接続することで実装することができる。
この際、マーカー5が実装方向の目印となるが、上記したように、インダクタ1の表面のマーカー5は、所定厚さを保ち、素体3との明瞭なコントラストを保っているので、インダクタ1の実装方向を容易に認識することができる。
そして、上記したように、コイル体4の外端部41b,42bが素体3から十分露出されているので、コイル体4と外部電極7−1,7−2との確実な接続が成されている。したがって、例えば、ランド201から外部電極7−1に入力された電流は、外端部41bを通じてコイル体4内に流入し、外端部42bを通じて外部電極7−2からランド202に出力されることとなる。
Next, a usage example of the inductor 1 will be described.
FIG. 7 is a perspective view showing an example of use of the inductor 1.
As shown in FIG. 7, the inductor 1 can be mounted by mounting the external electrodes 7-1 and 7-2 on the lands 201 and 202 on the substrate 200 and connecting them.
At this time, the marker 5 serves as a mark in the mounting direction. As described above, the marker 5 on the surface of the inductor 1 maintains a predetermined thickness and maintains a clear contrast with the element body 3. The mounting direction can be easily recognized.
As described above, since the outer end portions 41b and 42b of the coil body 4 are sufficiently exposed from the element body 3, the coil body 4 and the external electrodes 7-1 and 7-2 are securely connected. ing. Therefore, for example, the current input from the land 201 to the external electrode 7-1 flows into the coil body 4 through the outer end portion 41b, and is output from the external electrode 7-2 to the land 202 through the outer end portion 42b. It becomes.

次に、この発明の第2実施例に係る電子部品製造方法について説明する。
なお、この製造方法は、請求項2の発明に係る製造方法を具体的に実現するものである。
図8は、この発明の第2実施例に係る電子部品製造方法を適用するインダクタのチップの焼成状態を示す断面図である。
上記第1実施例では、第3工程におけるチップ6のバリを除去してエッジを所望角度に丸めるのに要するバレル時間と内部電極41,42の外端部41b,42bを素体3から露出させるのに要するバレル時間がほぼ等しいとの観点から、下層外装材2と素体3との硬度を等しく設定した。
しかしながら、図8に示すように、第2工程で焼成されたチップ6の下層外装材2のバリ2bが大きく、しかも、内部電極41,42の外端部41b,42bを覆う素体3の一部3a,3bが薄いような場合がある。このような場合には、第2工程で焼成された下層外装材2のエッジ2aを所望角度まで丸めるに要するバレル時間が、内部電極41,42の外端部41b,42bを露出させる迄に要するバレル時間よりも長くなる。
したがって、下層外装材2と素体3との硬度を等しく設定しておくと、内部電極41,42の外端部41b,42bが露出しているにも拘わらず、下層外装材2のバリ2bの除去や丸めのために長時間を要し、スループットが劣化する。
Next explained is an electronic component manufacturing method according to the second embodiment of the invention.
This manufacturing method specifically realizes the manufacturing method according to the invention of claim 2.
FIG. 8 is a cross-sectional view showing the firing state of the inductor chip to which the electronic component manufacturing method according to the second embodiment of the present invention is applied.
In the first embodiment, the barrel time required for removing the burrs of the chip 6 in the third step and rounding the edge to a desired angle and the outer ends 41b, 42b of the internal electrodes 41, 42 are exposed from the element body 3. From the standpoint that the barrel time required for this is approximately equal, the lower exterior packaging material 2 and the base body 3 are set to have the same hardness.
However, as shown in FIG. 8, the burr 2b of the lower-layer exterior material 2 of the chip 6 baked in the second step is large, and the element 3 covers the outer ends 41b and 42b of the internal electrodes 41 and 42. The portions 3a and 3b may be thin. In such a case, the barrel time required to round the edge 2a of the lower-layer exterior packaging material 2 baked in the second step to a desired angle is required until the outer ends 41b and 42b of the internal electrodes 41 and 42 are exposed. Longer than barrel time.
Therefore, if the hardness of the lower-layer exterior material 2 and the element body 3 are set to be equal, the burr 2b of the lower-layer exterior material 2 is obtained even though the outer ends 41b and 42b of the internal electrodes 41 and 42 are exposed. It takes a long time for removal and rounding, and the throughput deteriorates.

この実施例は、第2工程における各種作業条件から、焼成されたチップ6の下層外装材2のエッジを所望角度まで丸めるに要するバレル時間が内部電極41,42の外端部41b,42bを露出させる迄に要するバレル時間よりも長くなると判断される場合に適用する方法であり、下層外装材2の硬度を素体3の硬度よりも小さく設定して、第1工程〜第3工程を実行するものである。
具体的には、マーカー5では、コバルトを含み且つガラスに対するアルミナの割合が5重量%以上45重量%以下であるペーストを絶縁層33上に塗布する。一方、素体3では、ガラスに対するアルミナの割合が3重量%以上45重量%以下であるペーストを絶縁層31〜33として塗布し、下層外装材2では、ガラスに対するアルミナの割合が0重量%以上40重量%以下であるペーストを基材10上に塗布する。
そして、上記範囲で、下層外装材2の硬度を素体3の硬度よりも小さく設定し、素体3の硬度をマーカー5の硬度よりも小さく設定する。
好ましくは、マーカー5では、ガラスに対するアルミナの割合を35重量%に設定する。そして、素体3では、ガラスに対するアルミナの割合を25重量%に設定し、下層外装材2では、ガラスに対するアルミナの割合を20重量%に設定する。
In this embodiment, the barrel time required to round the edge of the lower-layer exterior material 2 of the fired chip 6 to a desired angle is exposed from the various working conditions in the second step, and the outer ends 41b and 42b of the internal electrodes 41 and 42 are exposed. This is a method applied when it is determined that the barrel time required to be longer is set. The hardness of the lower-layer exterior material 2 is set to be smaller than the hardness of the element body 3, and the first to third steps are executed. Is.
Specifically, in the marker 5, a paste containing cobalt and having an alumina to glass ratio of 5 wt% or more and 45 wt% or less is applied on the insulating layer 33. On the other hand, in the element body 3, a paste having an alumina ratio of 3 wt% or more and 45 wt% or less is applied as insulating layers 31 to 33, and in the lower sheath material 2, the alumina ratio of glass is 0 wt% or more. A paste of 40% by weight or less is applied on the substrate 10.
And in the said range, the hardness of the lower-layer exterior material 2 is set smaller than the hardness of the element | base_body 3, and the hardness of the element | base_body 3 is set smaller than the hardness of the marker 5. FIG.
Preferably, in the marker 5, the ratio of alumina to glass is set to 35% by weight. And in the element | base_body 3, the ratio of the alumina with respect to glass is set to 25 weight%, and in the lower layer exterior material 2, the ratio of the alumina with respect to glass is set to 20 weight%.

かかる構成により、第3工程において、下層外装材2のバリ2bの除去や丸めのために要するバレル時間が、薄い素体3の一部3a,3bを研磨して内部電極41,42の外端部41b,42bを露出させるに要する短いバレル時間とほぼ等しくなる。この結果、内部電極41,42に対する短いバレル時間で、下層外装材2のバリ2bの除去や丸めをも行うことができ、作業時間の短縮化とスループットの向上を図ることができる。
その他の構成,作用及び効果は上記第1実施例と同様であるので、その記載は省略する。
With this configuration, in the third step, the barrel time required for removal and rounding of the burr 2b of the lower layer exterior material 2 is such that the portions 3a and 3b of the thin element body 3 are polished to the outer ends of the internal electrodes 41 and 42. This is almost equal to the short barrel time required to expose the portions 41b and 42b. As a result, the burr 2b of the lower-layer exterior material 2 can be removed and rounded in a short barrel time with respect to the internal electrodes 41 and 42, and the working time can be shortened and the throughput can be improved.
Since other configurations, operations, and effects are the same as those of the first embodiment, description thereof is omitted.

次に、この発明の第3実施例に係る電子部品製造方法について説明する。
なお、この製造方法は、請求項3の発明に係る製造方法を具体的に実現するものである。
図9は、この発明の第3実施例に係る電子部品製造方法を適用するインダクタのチップの焼成状態を示す断面図である。
図9に示すように、第2工程で焼成されたチップ6の下層外装材2のバリ2bは小さいが、内部電極41,42の外端部41b,42bを覆う素体3の一部3a,3bが厚いような場合がある。このような場合には、第2工程で焼成されたチップ6の内部電極41,42の外端部41b,42bを露出させる迄に要するバレル時間が、下層外装材2のエッジを所望角度まで丸めるに要するバレル時間よりも長くなる。
したがって、上記第1及び第2実施例のように、下層外装材2の硬度を素体3の硬度よりも小さく設定したり、あるいは等しく設定しておくと、下層外装材2のバリ2bが除去され所望角度に丸まっているにも拘わらず、内部電極41,42の外端部41b,42bが未だ露出していないとう状態が生じ、コイル体4と外部電極7−1,7−2との断線を招くおそれがある。かといって、内部電極41,42の外端部41b,42bが露出するまでバレル時間を延ばすと、下層外装材2のエッジが過研磨状態になり、インダクタ1が実装時に横転するおそれもある。
Next explained is an electronic component manufacturing method according to the third embodiment of the invention.
This manufacturing method specifically realizes the manufacturing method according to the invention of claim 3.
FIG. 9 is a sectional view showing the firing state of the inductor chip to which the electronic component manufacturing method according to the third embodiment of the present invention is applied.
As shown in FIG. 9, the burr 2b of the lower-layer exterior material 2 of the chip 6 fired in the second step is small, but a part 3a of the element body 3 covering the outer ends 41b, 42b of the internal electrodes 41, 42, 3b may be thick. In such a case, the barrel time required to expose the outer ends 41b, 42b of the internal electrodes 41, 42 of the chip 6 fired in the second step is rounded to the desired angle. Longer than the barrel time required.
Therefore, as in the first and second embodiments, if the hardness of the lower-layer exterior material 2 is set smaller than or equal to the hardness of the element body 3, the burrs 2b of the lower-layer exterior material 2 are removed. In spite of being rounded to a desired angle, the outer end portions 41b and 42b of the internal electrodes 41 and 42 are not yet exposed, and the coil body 4 and the external electrodes 7-1 and 7-2 are disconnected. May be incurred. However, if the barrel time is extended until the outer ends 41b, 42b of the internal electrodes 41, 42 are exposed, the edge of the lower-layer exterior material 2 becomes over-polished, and the inductor 1 may roll over during mounting.

この実施例は、第2工程における各種作業条件から、焼成されたチップ6の内部電極41,42の外端部41b,42bを露出させる迄に要するバレル時間が、下層外装材2のエッジを所望角度まで丸めるに要するバレル時間よりも長くなると判断される場合に適用する方法であり、素体3の硬度を下層外装材2の硬度よりも小さく設定して、第1工程〜第3工程を実行するものである。
具体的には、マーカー5では、コバルトを含み且つガラスに対するアルミナの割合が5重量%以上45重量%以下であるペーストを絶縁層33上に塗布する。一方、素体3では、ガラスに対するアルミナの割合が3重量%以上45重量%以下であるペーストを絶縁層31〜33として塗布し、下層外装材2では、ガラスに対するアルミナの割合が5重量%以上40重量%以下であるペーストを基材10上に塗布する。
そして、上記範囲で、素体3の硬度を下層外装材2の硬度よりも小さく設定し、下層外装材2の硬度をマーカー5の硬度よりも小さく設定する。
好ましくは、マーカー5におけるガラスに対するアルミナの割合を35重量%、素体3におけるガラスに対するアルミナの割合を25重量%に設定すると共に、下層外装材2におけるガラスに対するアルミナの割合を30重量%に設定する。
In this embodiment, the barrel time required to expose the outer end portions 41b, 42b of the internal electrodes 41, 42 of the fired chip 6 from the various working conditions in the second step is desired for the edge of the lower layer exterior material 2 This method is applied when it is determined that the barrel time required for rounding to an angle is longer. The hardness of the element body 3 is set to be smaller than the hardness of the lower-layer exterior material 2, and the first to third steps are executed. To do.
Specifically, in the marker 5, a paste containing cobalt and having an alumina to glass ratio of 5 wt% or more and 45 wt% or less is applied on the insulating layer 33. On the other hand, in the element body 3, a paste having a ratio of alumina to glass of 3 wt% or more and 45 wt% or less is applied as insulating layers 31 to 33, and in the lower sheathing material 2, the ratio of alumina to glass is 5 wt% or more. A paste of 40% by weight or less is applied on the substrate 10.
Then, within the above range, the hardness of the element body 3 is set smaller than the hardness of the lower-layer exterior material 2, and the hardness of the lower-layer exterior material 2 is set smaller than the hardness of the marker 5.
Preferably, the ratio of alumina to glass in the marker 5 is set to 35% by weight, the ratio of alumina to glass in the element body 3 is set to 25% by weight, and the ratio of alumina to glass in the lower sheathing material 2 is set to 30% by weight. To do.

かかる構成により、第3工程において、厚い素体3の一部3a,3bを研磨して内部電極41,42の外端部41b,42bを露出させるに要するバレル時間が、下層外装材2のバリ2bの除去や丸めのために要する短いバレル時間とほぼ等しくなる。この結果、下層外装材2のバリ2bの除去や丸めるためのバレル時間で、内部電極41,42の外端部41b,42bの露出作業をも同時に行うことができる。このため、断線がなくまた実装時に横転のおそれがない高品質のインダクタ1を提供することができると共に、作業時間の短縮化とスループットを向上を図ることができる。
その他の構成,作用及び効果は上記第1及び第2実施例と同様であるので、その記載は省略する。
With this configuration, in the third step, the barrel time required to polish the portions 3a and 3b of the thick element body 3 and expose the outer ends 41b and 42b of the internal electrodes 41 and 42 is reduced. It is approximately equal to the short barrel time required for 2b removal and rounding. As a result, the exposure work of the outer end portions 41b and 42b of the internal electrodes 41 and 42 can be performed simultaneously with the barrel time for removing or rounding the burrs 2b of the lower-layer exterior material 2. For this reason, it is possible to provide a high-quality inductor 1 that is free of disconnection and that does not cause a rollover during mounting, and it is possible to shorten the working time and improve the throughput.
Since other configurations, operations, and effects are the same as those of the first and second embodiments, description thereof is omitted.

次に、この発明の第3実施例に係る電子部品について説明する。
図10は、この発明の第3実施例に係る電子部品製造方法を示す断面図であり、図11は、第3実施例の要部を示す斜視図である。
図10及び図11に示すように、この実施例のインダクタ1′は、下層外装材の構造が上記第1〜第3実施例と異なる。
具体的には、図10及び図11に示すように、4つの小さな矩形状の下層外装材2′を素体3の下部の配設した。
かかる構成により、第3工程のバレル時に最も摩耗が激しい箇所に下層外装材2′が位置することとなる。
Next explained is an electronic component according to the third embodiment of the invention.
FIG. 10 is a sectional view showing an electronic component manufacturing method according to the third embodiment of the present invention, and FIG. 11 is a perspective view showing the main part of the third embodiment.
As shown in FIGS. 10 and 11, the inductor 1 ′ of this embodiment is different from the first to third embodiments in the structure of the lower-layer exterior material.
Specifically, as shown in FIGS. 10 and 11, four small rectangular lower layer exterior materials 2 ′ are arranged below the element body 3.
With this configuration, the lower-layer exterior material 2 ′ is located at a location where the wear is most severe during the barreling in the third step.

次に、上記インダクタ1′の製造方法について説明する。
なお、この製造方法は、請求項4の発明に係る製造方法を具体的に実現するものである。
図12は、インダクタ1′の製造工程を示す断面図である。
この方法の第1工程では、図12の(a)に示すように、上記第1実施例の下層外装材2と同素材の大きな下層外装材2′を、基材10上であって且つ各チップの角部を跨る位置に配置する。
しかる後、図12の(b)に示すように、上記第1〜第3実施例と同様にして、フォトリソグラフィ工法を用いて、下層外装材2′上に素体3とマーカー5とを積層する。
そして、第2工程において、図12の(c)に示すように、ウエハ上の隣り合う外端部41bと外端部42bとの境界をカッタ110を用いてギロチンカットを行った後、基材10を剥離することで、下層外装材2′が下部の4つの角部に位置した3つのチップ6′を得る。
以降は、上記第1〜第3実施例と同様にして、各チップ6′を焼成した後、第3工程を実行し、バレル研磨及び外部電極7−1,7−2の形成を行うことで、インダクタ1′の製造が完了する。
その他の構成,作用及び効果は上記第1ないし第3実施例と同様であるので、その記載は省略する。
Next, a method for manufacturing the inductor 1 ′ will be described.
This manufacturing method specifically realizes the manufacturing method according to the invention of claim 4.
FIG. 12 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the inductor 1 ′.
In the first step of this method, as shown in FIG. 12 (a), a large lower layer exterior material 2 'made of the same material as the lower layer exterior material 2 of the first embodiment is formed on the base material 10 and each It arrange | positions in the position straddling the corner | angular part of a chip | tip.
Thereafter, as shown in FIG. 12 (b), the element body 3 and the marker 5 are laminated on the lower-layer exterior material 2 'using the photolithography method in the same manner as in the first to third embodiments. To do.
Then, in the second step, as shown in FIG. 12C, the boundary between the adjacent outer end 41b and the outer end 42b on the wafer is guillotine cut using the cutter 110, and then the base material By peeling 10, three chips 6 ′ in which the lower-layer exterior material 2 ′ is located at the lower four corners are obtained.
Thereafter, in the same manner as in the first to third embodiments, after firing each chip 6 ', the third step is performed to perform barrel polishing and formation of external electrodes 7-1 and 7-2. Thus, the manufacture of the inductor 1 'is completed.
Since other configurations, operations, and effects are the same as those in the first to third embodiments, description thereof is omitted.

この発明の第1実施例に係る電子部品であるインダクタの分解斜視図である。1 is an exploded perspective view of an inductor which is an electronic component according to a first embodiment of the present invention. インダクタを透視して示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing the inductor through. 図2の矢視A−A断面図である。It is arrow AA sectional drawing of FIG. 第1工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a 1st process. 第2工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a 2nd process. 第3工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a 3rd process. インダクタの使用例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the usage example of an inductor. この発明の第2実施例に係る電子部品製造方法を適用するインダクタのチップの焼成状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the baking state of the chip | tip of the inductor to which the electronic component manufacturing method concerning 2nd Example of this invention is applied. この発明の第3実施例に係る電子部品製造方法を適用するインダクタのチップの焼成状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the baking state of the chip | tip of the inductor which applies the electronic component manufacturing method concerning 3rd Example of this invention. この発明の第3実施例に係る電子部品製造方法を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the electronic component manufacturing method which concerns on 3rd Example of this invention. 第3実施例の要部を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the principal part of 3rd Example. 第3実施例のインダクタの製造工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing process of the inductor of 3rd Example.

符号の説明Explanation of symbols

1,1′…インダクタ、 2,2′…下層外装材、 2a,5a…エッジ、 2b…バリ、 3…素体、 3a,3b…一部、 4…コイル体、 5…マーカー、 6,6′…チップ、 7−1,7−2…外部電極、 31〜33…絶縁層、 41,42…内部電極、 41a,42a…内端部、 41b,42b…外端部、 43…ビアホール、 100…ウエハ、 110…カッタ、 120…バレル、 200…基板、 201,202…ランド。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,1 '... Inductor 2, 2' ... Lower layer exterior material, 2a, 5a ... Edge, 2b ... Burr, 3 ... Element body, 3a, 3b ... Part, 4 ... Coil body, 5 ... Marker, 6, 6 '... chip, 7-1, 7-2 ... external electrode, 31-33 ... insulating layer, 41, 42 ... internal electrode, 41a, 42a ... inner end, 41b, 42b ... outer end, 43 ... via hole, 100 ... wafer, 110 ... cutter, 120 ... barrel, 200 ... substrate, 201,202 ... land.

Claims (9)

下層外装材を基材上に載せ、この下層外装材の上に絶縁層及び内部電極を積層して素体を形成する共に、この素体上面にマーカーを形成する第1工程と、
上記基材と下層外装材と素体とマーカーとでなる積層体を複数のチップに切断した後、上記基材を剥離して、各チップを焼成する第2工程と、
焼成された各チップをバレルで研磨した後、外部電極をチップの両端に形成する第3工程とを備え、
上記第2工程における焼成後の上記チップのマーカーは、主成分の無機材料と硬度調整材と色素とを素材とし、
上記第2工程における焼成後の上記チップの素体及び下層外装材は、共に主成分の無機材料と硬度調整材とを素材としており、
これらマーカー,素体及び下層外装材のス硬度を、上記無機材料に対する上記硬度調整材の割合で設定する電子部品製造方法であって、
上記マーカーのビッカース硬度(以下、「ビッカース硬度」を単に「硬度」と記す)が上記下層外装材の硬度及び上記素体の硬度よりも大きくなるように、上記硬度調整材の割合を設定した、
ことを特徴とする電子部品製造方法。
A first step of placing a lower layer exterior material on a substrate, laminating an insulating layer and internal electrodes on the lower layer exterior material to form an element body, and forming a marker on the upper surface of the element body;
A second step of cutting the laminate composed of the base material, the lower layer exterior material, the element body, and the marker into a plurality of chips, then peeling the base material and firing each chip;
A third step of forming external electrodes on both ends of the chip after polishing each baked chip with a barrel;
The marker of the chip after firing in the second step is made of a main component inorganic material, a hardness adjusting material, and a pigment,
Both the base body and the lower layer exterior material of the chip after firing in the second step are made of a main component inorganic material and a hardness adjusting material,
The electronic component manufacturing method of setting the hardness of these markers, element body and lower layer exterior material in the ratio of the hardness adjusting material to the inorganic material,
The ratio of the hardness adjusting material was set so that the Vickers hardness of the marker (hereinafter, “Vickers hardness” is simply referred to as “hardness”) is greater than the hardness of the lower layer exterior material and the hardness of the element body,
An electronic component manufacturing method characterized by the above.
請求項1に記載の電子部品製造方法において、
上記下層外装材の硬度が上記素体の硬度よりも小さくなるように、上記硬度調整材の割合を設定した、
ことを特徴とする電子部品製造方法。
In the electronic component manufacturing method according to claim 1,
The ratio of the hardness adjusting material was set so that the hardness of the lower layer exterior material was smaller than the hardness of the element body,
An electronic component manufacturing method characterized by the above.
請求項1に記載の電子部品製造方法において、
上記素体の硬度が上記下層外装材の硬度よりも小さくなるように、上記硬度調整材の割合を設定した、
ことを特徴とする電子部品製造方法。
In the electronic component manufacturing method according to claim 1,
The ratio of the hardness adjusting material was set so that the hardness of the element body was smaller than the hardness of the lower layer exterior material,
An electronic component manufacturing method characterized by the above.
請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の電子部品製造方法において、
上記下層外装材を、上記素体の下部の角部に配した、
ことを特徴とする電子部品製造方法。
In the electronic component manufacturing method according to any one of claims 1 to 3,
The lower layer exterior material was arranged at the lower corner of the element body,
An electronic component manufacturing method characterized by the above.
下層外装材,絶縁層及び内部電極が下層外装材上に積層された素体,及びこの素体上面に設けられたマーカーを有したチップと、このチップの両端に設けられた外部電極とを備え、
上記チップのマーカーは、主成分の無機材料と硬度調整材と色素とを素材とし、
上記素体及び下層外装材は共に、主成分の無機材料と硬度調整材とを素材としており、
これらマーカー,素体及び下層外装材の硬度が、上記無機材料に対する上記硬度調整材の割合で設定される電子部品であって、
上記マーカーの硬度が上記下層外装材の硬度及び上記素体の硬度よりも大きく設定されている、
ことを特徴とする電子部品。
A lower body packaging material, an insulating layer, and an element body in which internal electrodes are laminated on the lower layer outer packaging material, a chip having a marker provided on the upper surface of the element body, and external electrodes provided at both ends of the chip ,
The marker of the chip is made of a main component inorganic material, a hardness adjusting material and a pigment,
Both the element body and the lower layer exterior material are made of a main component inorganic material and a hardness adjusting material,
The hardness of these marker, element body and lower layer exterior material is an electronic component set by the ratio of the hardness adjusting material to the inorganic material,
The hardness of the marker is set larger than the hardness of the lower layer exterior material and the hardness of the element body,
An electronic component characterized by that.
請求項5に記載の電子部品において、
上記下層外装材の硬度が上記素体の硬度よりも小さい、
ことを特徴とする電子部品。
The electronic component according to claim 5,
The hardness of the lower layer exterior material is smaller than the hardness of the element body,
An electronic component characterized by that.
請求項5に記載の電子部品において、
上記素体の硬度が上記下層外装材の硬度よりも小さい、
ことを特徴とする電子部品。
The electronic component according to claim 5,
The hardness of the element body is smaller than the hardness of the lower layer exterior material,
An electronic component characterized by that.
請求項5ないし請求項7のいずれかに記載の電子部品において、
上記下層外装材は、上記素体の下部の角部に配設されている、
ことを特徴とする電子部品。
The electronic component according to any one of claims 5 to 7,
The lower layer exterior material is disposed at the lower corner of the element body,
An electronic component characterized by that.
請求項5ないし請求項8のいずれかに記載の電子部品において、
上記無機材料は、ガラスであり、上記硬度調整材は、アルミナであり、上記色素は、コバルトである、
ことを特徴とする電子部品。
The electronic component according to any one of claims 5 to 8,
The inorganic material is glass, the hardness adjusting material is alumina, and the pigment is cobalt.
An electronic component characterized by that.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9071211B1 (en) * 2011-12-15 2015-06-30 Anadigics, Inc. Compact doherty combiner
US20170352467A1 (en) * 2016-06-01 2017-12-07 Taiyo Yuden Co., Ltd. Electronic component

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9071211B1 (en) * 2011-12-15 2015-06-30 Anadigics, Inc. Compact doherty combiner
US20170352467A1 (en) * 2016-06-01 2017-12-07 Taiyo Yuden Co., Ltd. Electronic component
JP2017216409A (en) * 2016-06-01 2017-12-07 太陽誘電株式会社 Electronic components
CN107452462A (en) * 2016-06-01 2017-12-08 太阳诱电株式会社 Electronic unit
KR101926252B1 (en) * 2016-06-01 2018-12-06 다이요 유덴 가부시키가이샤 Electronic component
TWI668712B (en) * 2016-06-01 2019-08-11 太陽誘電股份有限公司 Electronic parts
US10636557B2 (en) 2016-06-01 2020-04-28 Taiyo Yuden Co., Ltd. Electronic component
CN107452462B (en) * 2016-06-01 2021-02-26 太阳诱电株式会社 Electronic component

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