JP2008152896A

JP2008152896A - Manufacturing method of magnetic recording medium, magnetic recording and reproducing device and polishing slurry

Info

Publication number: JP2008152896A
Application number: JP2006343021A
Authority: JP
Inventors: Yuji Murakami; 雄二村上
Original assignee: Showa Denko KK
Current assignee: Resonac Holdings Corp
Priority date: 2006-12-20
Filing date: 2006-12-20
Publication date: 2008-07-03

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a magnetic recording medium by which a minute texture streak can be formed even when texture processing is performed on a surface of a disk substrate such as a glass substrate. <P>SOLUTION: In the manufacturing method of the magnetic recording medium wherein at least a non-magnetic underlayer, a magnetic layer and a protective layer are sequentially layered on the surface of the disk substrate 1 on which the texture processing is performed after the texture processing is performed, when the texture processing is performed, a polishing slurry S including an abrasive formed by sintering and pulverizing cluster diamond is used. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、ハードディスク装置等に用いられる磁気記録媒体の製造方法、磁気記録再生装置、及び研磨スラリーに関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium used in a hard disk device or the like, a magnetic recording / reproducing apparatus, and a polishing slurry.

近年、磁気記録再生装置の１種であるハ−ドディスク装置（ＨＤＤ:Hard Disk Drive）では、高記録密度化の要求によって、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの間の距離が益々狭くなっている。このため、磁気記録媒体の表面はできるだけ平坦化する必要がある。しかしながら、磁気記録媒体の表面を平坦化していくと、回転する磁気記録媒体上を走行するヘッドスライダが媒体表面に吸着するといった問題が生じてしまう。これを防ぐため、ＨＤＤ用の磁気記録媒体では、ディスク基板の表面にテクスチャ加工を施し、このディスク基板の表面に円周方向に沿ったテクスチャ条痕（微細な凹凸）を形成し、媒体表面を適度な表面粗さとすることが行われている。 In recent years, in a hard disk drive (HDD: Hard Disk Drive), which is one type of magnetic recording / reproducing apparatus, the distance between a magnetic recording medium and a magnetic head has become increasingly narrow due to a demand for higher recording density. . For this reason, it is necessary to make the surface of the magnetic recording medium as flat as possible. However, when the surface of the magnetic recording medium is flattened, there arises a problem that the head slider traveling on the rotating magnetic recording medium is attracted to the surface of the medium. In order to prevent this, in the magnetic recording medium for HDD, the surface of the disk substrate is textured to form texture marks (fine irregularities) along the circumferential direction on the surface of the disk substrate. An appropriate surface roughness is performed.

また、最近では、表面に微細なテクスチャ条痕が存在するディスク基板上に磁性層を形成すると、テクスチャ条痕が存在しないディスク基板上に磁性層を形成した場合と比較し、電磁変換特性が向上することが知られている。これは、ディスク基板の表面にテクスチャ加工を施すことによって、このディスク基板の表面上に形成される下地層及び磁性層の結晶配向性が向上するためである。これにより、磁性層の磁気異方性を高め、熱揺らぎ耐性などの磁気特性を向上させることができる。 Also, recently, when a magnetic layer is formed on a disk substrate with fine textured streaks on the surface, the electromagnetic conversion characteristics have improved compared to when a magnetic layer is formed on a disk substrate without textured streak. It is known to do. This is because the crystal orientation of the underlayer and the magnetic layer formed on the surface of the disk substrate is improved by texturing the surface of the disk substrate. Thereby, the magnetic anisotropy of the magnetic layer can be increased and the magnetic characteristics such as thermal fluctuation resistance can be improved.

テクスチャ加工は、ディスク基板を回転させながら、このディスク基板の表面に研磨スラリーを供給し、走行する研磨テープをディスク基板の表面に押し付けることによって行われる（例えば、特許文献１，２を参照）。また、研磨スラリーとして、分散媒にダイヤモンド砥粒などを分散させたものが用いられている。 The texture processing is performed by supplying polishing slurry to the surface of the disk substrate while rotating the disk substrate and pressing a traveling polishing tape against the surface of the disk substrate (see, for example, Patent Documents 1 and 2). Further, a polishing slurry in which diamond abrasive grains are dispersed in a dispersion medium is used.

ディスク基板については、従来よりアルミニウム基板が用いられている。このアルミニウム基板は、通常は表面を硬化するためＮｉＰなどの硬質膜を設け、この硬質膜の表面にテクスチャ加工を施したものが用いられている。また、最近では、アモルファスガラスや結晶化ガラスなどのガラス基板が用いられてきている。このガラス基板は、硬度が高いためヘッドスラップが生じにくく、しかも表面平滑性が高いためグライドハイト特性の点でも有利である。 Conventionally, aluminum substrates have been used for disk substrates. This aluminum substrate is usually provided with a hard film such as NiP in order to harden the surface, and the surface of the hard film is textured. Recently, glass substrates such as amorphous glass and crystallized glass have been used. This glass substrate is advantageous in terms of glide height characteristics because of its high hardness, which makes it difficult for head slaps to occur, and high surface smoothness.

しかしながら、ガラス基板は、その硬度が高いために、上述したＮｉＰを成膜したアルミニウム基板のようにテクスチャ加工によって微細なテクスチャ条痕を形成することが困難である。したがって、このようなガラス基板を使用した磁気記録媒体においても、電磁変換特性の向上、並びにヘッドの浮上特性を良好に保つことができるテクスチャ加工への要望が大きくなっている。
特開２００４−１７８７７７号公報特開２００４−２５９４１７号公報 However, since the glass substrate has high hardness, it is difficult to form fine textured streaks by texture processing like the above-described aluminum substrate on which NiP is formed. Therefore, even in a magnetic recording medium using such a glass substrate, there is a growing demand for texture processing that can improve electromagnetic conversion characteristics and maintain good head flying characteristics.
JP 2004-178777 A JP 2004-259417 A

本発明は、このような従来の事情に鑑みて提案されたものであり、ガラス基板などのディスク基板の表面にテクスチャ加工を施した場合でも、微細なテクスチャ条痕を形成し、その上に形成される磁性層の磁気異方性を高め、熱揺らぎ耐性などの磁気特性を向上させることによって、良好な電磁変換特性を得ると共に、ヘッドの浮上特性を良好に保つことを可能とした磁気記録媒体の製造方法、並びに、そのような方法を用いて作製された磁気記録媒体を備える磁気記録再生装置、そのようなテクスチャ加工を施す際に用いられる研磨スラリーを提供することを目的とする。 The present invention has been proposed in view of such conventional circumstances, and even when texture processing is performed on the surface of a disk substrate such as a glass substrate, a fine texture streak is formed on the surface. Magnetic recording medium that can improve the magnetic anisotropy of the magnetic layer and improve the magnetic characteristics such as thermal fluctuation resistance, thereby obtaining good electromagnetic conversion characteristics and maintaining good flying characteristics of the head It is an object of the present invention to provide a manufacturing method, a magnetic recording / reproducing apparatus including a magnetic recording medium manufactured by using such a method, and a polishing slurry used when performing such texturing.

本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、以下の手段を提供する。
（１）ディスク基板の表面にテクスチャ加工を施した後に、このテクスチャ加工が施されたディスク基板の表面上に、少なくとも非磁性下地層、磁性層、及び保護層を順次積層して形成する磁気記録媒体の製造方法であって、前記テクスチャ加工を施す際に、クラスターダイヤを焼結し、粉砕してなる砥粒を含む研磨スラリーを用いることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
（２）前記テクスチャ加工は、前記ディスク基板を回転させながら、前記ディスク基板の表面に前記研磨スラリーを供給し、走行する研磨テープを前記ディスク基板の表面に押し付けることにより行うことを特徴とする前項（１）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（３）前記砥粒の平均粒径が０．０５〜０．２０μｍであることを特徴とする前項（１）又は（２）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（４）前記砥粒の濃度が０．００１〜０．０５質量％であることを特徴とする前項（１）〜（３）の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（５）前記テクスチャ加工により線密度が３００００本／ｍｍ以上のテクスチャ条痕を形成することを特徴とする前項（１）〜（４）の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（６）前記ディスク基板の表面平均粗さＲａが１．５〜７．０Åの範囲とすることを特徴とする前項（１）〜（５）の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（７）前記ディスク基板が結晶化ガラスからなることを特徴とする前項（１）〜（６）の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（８）前記ディスク基板の表面と前記非磁性下地層との間に配向調整層を形成することを特徴とする前項（１）〜（７）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（９）磁気記録媒体と、この磁気記録媒体に対する情報の記録再生を行う磁気ヘッドとを備えた磁気記録再生装置であって、前記磁気記録媒体が、前項（１）〜（８）の何れか一項に記載の方法を用いて作製されたものであることを特徴とする磁気記録再生装置。
（１０）ディスク基板の表面にテクスチャ加工を施す際に用いられる研磨スラリーであって、少なくとも、クラスターダイヤを焼結し、粉砕してなる砥粒を含むことを特徴とする研磨スラリー。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have completed the present invention. That is, the present invention provides the following means.
(1) Magnetic recording formed by sequentially laminating at least a nonmagnetic underlayer, a magnetic layer, and a protective layer on the surface of the disk substrate that has been textured after the surface of the disk substrate is textured. A method for producing a magnetic recording medium, comprising: using a polishing slurry containing abrasive grains obtained by sintering and pulverizing a cluster diamond when performing the texture processing.
(2) The texture processing is performed by supplying the polishing slurry to the surface of the disk substrate while rotating the disk substrate and pressing a traveling polishing tape against the surface of the disk substrate. The method for producing a magnetic recording medium according to (1).
(3) The method for producing a magnetic recording medium as described in (1) or (2) above, wherein the average grain size of the abrasive grains is 0.05 to 0.20 μm.
(4) The method for producing a magnetic recording medium according to any one of (1) to (3), wherein the concentration of the abrasive grains is 0.001 to 0.05 mass%.
(5) The method for producing a magnetic recording medium according to any one of (1) to (4), wherein a texture stripe having a linear density of 30000 lines / mm or more is formed by the texture processing.
(6) Manufacture of the magnetic recording medium according to any one of (1) to (5) above, wherein an average surface roughness Ra of the disk substrate is in a range of 1.5 to 7.0 mm. Method.
(7) The method for manufacturing a magnetic recording medium according to any one of (1) to (6), wherein the disk substrate is made of crystallized glass.
(8) The method for manufacturing a magnetic recording medium according to any one of (1) to (7) above, wherein an orientation adjustment layer is formed between the surface of the disk substrate and the nonmagnetic underlayer.
(9) A magnetic recording / reproducing apparatus including a magnetic recording medium and a magnetic head for recording / reproducing information with respect to the magnetic recording medium, wherein the magnetic recording medium is any one of (1) to (8) above. A magnetic recording / reproducing apparatus manufactured using the method according to one item.
(10) A polishing slurry used for texturing a surface of a disk substrate, comprising at least abrasive grains obtained by sintering and pulverizing a cluster diamond.

以上のように、本発明によれば、ガラス基板などのディスク基板の表面にテクスチャ加工を施した場合でも、微細なテクスチャ条痕を形成し、その上に形成される磁性層の磁気異方性を高め、熱揺らぎ耐性などの磁気特性を向上させることが可能である。したがって、本発明を用いて作製された磁気記録媒体を磁気記録再生装置に使用した場合には、良好な電磁変換特性が得られると共に、ヘッドの浮上特性を良好に保つことが可能である。 As described above, according to the present invention, even when textured on the surface of a disk substrate such as a glass substrate, fine textured streaks are formed, and the magnetic anisotropy of the magnetic layer formed thereon is formed. It is possible to improve magnetic characteristics such as resistance to thermal fluctuation. Therefore, when the magnetic recording medium produced by using the present invention is used in a magnetic recording / reproducing apparatus, it is possible to obtain good electromagnetic conversion characteristics and to maintain good head flying characteristics.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
（磁気記録媒体の製造方法）
図１は、本発明を適用して作製される磁気記録媒体の一例を示す断面図である。
この磁気記録媒体は、図１に示すように、テクスチャ加工が施されたディスク基板１の表面上に、配向調整層２、非磁性下地層３、磁性層４、及び保護層５を順次積層して形成したものである。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
(Method of manufacturing magnetic recording medium)
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a magnetic recording medium manufactured by applying the present invention.
In this magnetic recording medium, as shown in FIG. 1, an orientation adjustment layer 2, a nonmagnetic underlayer 3, a magnetic layer 4 and a protective layer 5 are sequentially laminated on the surface of a textured disk substrate 1. Is formed.

この磁気記録媒体を製造する際には、先ず、ディスク基板１の表面にテクスチャ加工を施し、ディスク基板１の円周方向に沿ったテクスチャ条痕を形成する。
図２は、ディスク基板１の表面にテクスチャ加工を施す工程を説明するための図であり、（ａ）は、その装置の一例を示す側面図であり、（ｂ）は、その装置の一例を示す平面図である。 When manufacturing this magnetic recording medium, first, the surface of the disk substrate 1 is textured to form textured striations along the circumferential direction of the disk substrate 1.
2A and 2B are diagrams for explaining the process of applying texture processing to the surface of the disk substrate 1. FIG. 2A is a side view showing an example of the apparatus, and FIG. 2B is an example of the apparatus. FIG.

このテクスチャ加工は、図２（ａ），（ｂ）に示すように、ディスク基板１をスピンドル１０１に固定し、このスピンドル１０１によりディスク基板１を回転させる。そして、この回転するディスク基板１の表面にノズル１０２を通じて研磨スラリーＳを供給し、供給ロール１０３と巻取ロール１０４との間で走行する研磨テープ１０５をディスク基板１の表面に押圧ローラ１０６を介して押し付けることによって行う。これにより、ディスク基板１の表面に微細なテクスチャ条痕を形成することができる。なお、図２（ａ），（ｂ）示す装置では、このディスク基板１の両面に同時にテクスチャ加工を施すことが可能となっている。 In this texture processing, as shown in FIGS. 2A and 2B, the disk substrate 1 is fixed to the spindle 101, and the disk substrate 1 is rotated by the spindle 101. Then, the polishing slurry S is supplied to the surface of the rotating disk substrate 1 through the nozzle 102, and the polishing tape 105 running between the supply roll 103 and the take-up roll 104 is applied to the surface of the disk substrate 1 via the pressing roller 106. By pressing. Thereby, fine texture stripes can be formed on the surface of the disk substrate 1. In the apparatus shown in FIGS. 2A and 2B, it is possible to perform texture processing on both sides of the disk substrate 1 simultaneously.

本発明は、上記テクスチャ加工を施す際に、少なくとも、クラスターダイヤを焼結し、粉砕してなるダイヤモンド砥粒を含む研磨スラリーＳを用いている。これにより、本発明では、ガラス基板などのディスク基板１の表面にテクスチャ加工を施す場合であっても、このディスク基板１の表面に微細なテクスチャ条痕を形成することができる。 The present invention uses a polishing slurry S containing diamond abrasive grains formed by sintering and pulverizing at least a cluster diamond when performing the texture processing. As a result, in the present invention, even when texture processing is performed on the surface of the disk substrate 1 such as a glass substrate, fine textured streaks can be formed on the surface of the disk substrate 1.

具体的に、ディスク基板１には、例えばアモルファスガラスや結晶化ガラスなどのガラス基板を用いることができる。アモルファスガラスとしては、例えば汎用のソーダライムガラスや、アルミノほう珪酸ガラス、アルミノシリケートガラスなどを用いることできる。結晶化ガラスとしては、例えばリチウム系結晶化ガラスなどを用いることができる。なお、本発明は、このようなガラス基板以外にも、表面にＮｉＰ等の硬質膜を設けたアルミニウム基板などにも、表面に微細なテクスチャ条痕を形成することができる。 Specifically, a glass substrate such as amorphous glass or crystallized glass can be used for the disk substrate 1. As the amorphous glass, for example, general-purpose soda lime glass, aluminoborosilicate glass, aluminosilicate glass, or the like can be used. As the crystallized glass, for example, lithium-based crystallized glass can be used. In addition to such a glass substrate, the present invention can form fine textured marks on the surface of an aluminum substrate provided with a hard film such as NiP on the surface.

上記ガラスからなるディスク基板１の表面にテクスチャ加工を施す際は、スピンドル１０１によるディスク基板１の回転速度を、５０〜２０００ｒｐｍの範囲とすることが好ましく、２００〜８００ｒｐｍの範囲とすることがより好ましい。ディスク基板１の回転速度が５０ｒｐｍ未満になると、ディスク基板１の表面にテクスチャ条痕を形成するのに非常に長い時間がかかることになる。一方、ディスク基板１の回転速度が２０００ｒｐｍを超えると、ノズル１０２から供給される研磨スラリーＳがディスク基板１の表面に留まらず、周囲に飛散してしまうため好ましくない。 When texturing the surface of the disk substrate 1 made of glass, the rotational speed of the disk substrate 1 by the spindle 101 is preferably in the range of 50 to 2000 rpm, more preferably in the range of 200 to 800 rpm. . When the rotational speed of the disk substrate 1 is less than 50 rpm, it takes a very long time to form textured stripes on the surface of the disk substrate 1. On the other hand, when the rotational speed of the disk substrate 1 exceeds 2000 rpm, the polishing slurry S supplied from the nozzle 102 does not stay on the surface of the disk substrate 1 and scatters around.

ノズル１０２から供給される研磨スラリーＳの流量は、１０〜１００ｍｌ／分であることが好ましい。この研磨スラリーＳは、ディスク基板１の表面に連続的に供給しても、間隔をあけて供給しても、あるいは不連続的に供給してもよい。また、研磨スラリーＳは、ディスク基板１の表面に供給する以外にも、研磨テープ５の表面に供給したり、ディスク基板１と研磨テープ５との間に供給したりすることも可能である。 The flow rate of the polishing slurry S supplied from the nozzle 102 is preferably 10 to 100 ml / min. The polishing slurry S may be continuously supplied to the surface of the disk substrate 1, may be supplied at intervals, or may be supplied discontinuously. Further, the polishing slurry S can be supplied to the surface of the polishing tape 5 or supplied between the disk substrate 1 and the polishing tape 5 in addition to being supplied to the surface of the disk substrate 1.

研磨テープ１０５としては、例えば不織布テープや、織布テープ、発泡ポリウレタン製テープなどを用いることができる。このうち、不織布製テープとしては、例えばＴＸ１３９Ｔ（Ｔｅｘｗｉｐｅ社製）を挙げることができる。織布テープとしては、例えばトレーシー（東レ社製）、ＷＯ６００（カネボウ社製）を挙げることができる。また、不織布テープは、スクラッチ等の発生を抑えてディスク基板１の表面平均粗さＲａを極めて小さくすることができるため好ましい。さらに、不織布テープの繊維径は０．０４デニール以下とすることが好ましく、この範囲にすることで、ディスク基板１の表面平均粗さＲａを小さくし、且つ、線密度が緻密で均一なテクスチャ条痕を形成することができる。 As the polishing tape 105, for example, a nonwoven fabric tape, a woven fabric tape, a foamed polyurethane tape, or the like can be used. Among these, examples of the non-woven tape include TX139T (manufactured by Texas Wipe). Examples of the woven tape include Tracy (manufactured by Toray Industries, Inc.) and WO600 (manufactured by Kanebo). Further, the nonwoven fabric tape is preferable because the surface average roughness Ra of the disk substrate 1 can be extremely reduced by suppressing the occurrence of scratches and the like. Furthermore, the fiber diameter of the non-woven tape is preferably 0.04 denier or less, and by making it within this range, the surface average roughness Ra of the disk substrate 1 is reduced, and the line density is dense and uniform. Scratches can be formed.

研磨テープ１０５は、ディスク基板１の回転方向と同一方向又は逆方向に走行させることができる。このとき、研磨テープ１０５の走行速度は、１０〜１５０ｍｍ／分とすることが好ましく、３０〜１００ｍｍ／分とすることがより好ましい。この範囲とすることで、スクラッチ等の発生や研磨スラリーＳ中の砥粒がディスク基板１の表面に突き刺さったり、埋めこまれたりすることなどを抑えることができる。 The polishing tape 105 can run in the same direction as the rotation direction of the disk substrate 1 or in the opposite direction. At this time, the running speed of the polishing tape 105 is preferably 10 to 150 mm / min, and more preferably 30 to 100 mm / min. By setting it as this range, generation | occurrence | production of a scratch etc. and it can suppress that the abrasive grain in the grinding | polishing slurry S is stabbed in the surface of the disc board | substrate 1, or is embedded.

また、研磨テープ１０５は、走行させると同時にディスク基板１の半径方向に揺動させることができる。その際の揺動速度は、０．１〜２０回／秒とすることが好ましく、０．５〜１０回／秒とすることがより好ましい。この範囲であると、充分な研削量が得られ、且つスクラッチ等の発生を抑えた研削状態が均一な表面を得ることができる。 Further, the polishing tape 105 can be swung in the radial direction of the disk substrate 1 at the same time as being run. The rocking speed at that time is preferably 0.1 to 20 times / second, and more preferably 0.5 to 10 times / second. Within this range, a sufficient amount of grinding can be obtained, and a surface with a uniform grinding state in which the occurrence of scratches and the like is suppressed can be obtained.

押圧ローラ１０６による研磨テープ１０５の押し付け圧力は、０．５×９．８×１０^４〜１．５×９．８×１０^４Ｐａが好ましく、０．８×９．８×１０^４〜１．２×９．８×１０^４Ｐａとすることがより好ましい。この範囲であると、スクラッチ等の発生を抑えて、線密度が緻密で均一なテクスチャ条痕を形成することができる。 The pressing pressure of the polishing tape 105 by the pressing roller 106 is preferably 0.5 × 9.8 × 10 ^{4 to} 1.5 × 9.8 × 10 ⁴ Pa, and 0.8 × 9.8 × 10 ⁴ to 1. More preferably, 2 × 9.8 × 10 ⁴ Pa. Within this range, the occurrence of scratches and the like can be suppressed, and a texture stripe having a dense and uniform linear density can be formed.

なお、上述したテクスチャ加工を施した後には、供給ロール１０３と巻取ロール１０４との間で走行するクリーニングテープ（図示せず。）をディスク基板１の表面に押圧ローラ１０６を介して押し付けるクリーニング工程を行うことが好ましい。クリーニングテープとしては、例えば植毛テープや、不織布テープ、発泡ポリウレタン製テープ等を用いることができる。これにより、ディスク基板１の表面から上記テクスチャ加工による残渣を取り除くことができる。 After performing the texture processing described above, a cleaning process of pressing a cleaning tape (not shown) running between the supply roll 103 and the take-up roll 104 against the surface of the disk substrate 1 via the pressing roller 106. It is preferable to carry out. As the cleaning tape, for example, a flocking tape, a nonwoven fabric tape, a foamed polyurethane tape, or the like can be used. Thereby, the residue due to the texture processing can be removed from the surface of the disk substrate 1.

研磨スラリーＳに含まれるダイヤモンド砥粒は、数ｎｍレベルの凝集体で存在するクラスターダイヤを高温高圧で焼結し、これを再粉砕した二次粒子を分級してなるものである。このダイヤモンド砥粒は、このような加工によって強度が増し切れ刃も多くなるため、研削性を高めることが可能である。 The diamond abrasive grains contained in the polishing slurry S are obtained by classifying secondary particles obtained by sintering a cluster diamond present as an aggregate of several nm level at high temperature and high pressure and re-pulverizing it. The diamond abrasive grains are increased in strength and increased in cutting edge by such processing, so that the grindability can be improved.

本発明の研磨スラリーＳは、このようなダイヤモンド砥粒を、有機溶剤、脂肪酸（又はそれらの金属塩）、界面活性剤、又は添加剤の何れか１種又は２種以上と共に、水やアルコールなどの分散媒に分散させてなる。 In the polishing slurry S of the present invention, such diamond abrasive grains are mixed with one or more of organic solvents, fatty acids (or their metal salts), surfactants, or additives, water, alcohol, etc. It is dispersed in a dispersion medium.

ダイヤモンド砥粒の平均粒径は、０．０５〜０．２０μｍであることが好ましく、０．０８〜０．１２μｍであることがより好ましい。この範囲であると、ディスク基板１の表面平均粗さＲａの小さい、なお且つ、線密度が緻密で均一なテクスチャ条痕を形成することができる。 The average particle diameter of the diamond abrasive grains is preferably 0.05 to 0.20 μm, and more preferably 0.08 to 0.12 μm. Within this range, it is possible to form textured traces having a small surface average roughness Ra of the disk substrate 1 and a dense and uniform linear density.

ダイヤモンド砥粒の濃度は、０．００１〜０．０５質量％であることが好ましく、より好ましくは０．００５〜０．０１５質量％であることがより好ましい。この範囲であると、ディスク基板１の表面平均粗さＲａの小さい、なお且つ、線密度が緻密で均一なテクスチャ条痕を形成することができる。 The concentration of the diamond abrasive grains is preferably 0.001 to 0.05% by mass, more preferably 0.005 to 0.015% by mass. Within this range, it is possible to form textured traces having a small surface average roughness Ra of the disk substrate 1 and a dense and uniform linear density.

有機溶剤としては、一般式ＲＯ（Ｃ_ｎＨ２_ｎＯ）_ｍＨ（式中、Ｒは炭素数１〜４の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を示し、ｍは１〜３の整数を示し、ｎは２又は３の整数を示す。）で表されるアルキレングリコールモノアルキルエーテルや、炭素数２〜５の多価アルコール及びこれらの重合物などを挙げることができる。また、有機溶媒の含有量は１〜５０質量％が好ましく、３〜３０質量％であることがより好ましい。 As the organic solvent, in the general formula _{_{_{RO (C n H2 n O)}}} m H ( wherein, R represents a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, m an integer of 1 to 3 N represents an integer of 2 or 3.), an alkylene glycol monoalkyl ether represented by formula (2), a polyhydric alcohol having 2 to 5 carbon atoms, and a polymer thereof. Moreover, 1-50 mass% is preferable and, as for content of an organic solvent, it is more preferable that it is 3-30 mass%.

脂肪酸としては、炭素数１０〜２２の飽和脂肪酸、又はモノ（ｍｏｎｏ−）、ジ（ｄｉ−）、トリ（ｔｒｉ−）の何れかの不飽和脂肪酸等を挙げることができる。また、それらの金属塩としては、Ｎａ、Ａｌ、Ｂａ、Ｃｄ、Ｃａ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｚｎ、Ｓｒの中から選ばれる何れかの飽和脂肪酸又はそれらの金属塩を挙げることができる。また、脂肪酸（又はそれらの金属塩）の含有量は、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜５質量％であることがより好ましい。 Examples of the fatty acid include saturated fatty acids having 10 to 22 carbon atoms, or unsaturated fatty acids such as mono-, di-, and tri-tri. Moreover, as those metal salts, any saturated fatty acid selected from Na, Al, Ba, Cd, Ca, Co, Fe, Li, Mg, Mn, Ni, Pd, Zn, and Sr, or a metal thereof. Mention may be made of salts. Moreover, it is preferable that it is 0.01-20 mass%, and, as for content of a fatty acid (or those metal salts), it is more preferable that it is 0.05-5 mass%.

界面活性剤としては、陰イオン性界面活性剤（アニオン系界面活性剤）や、陽イオン性界面活性剤（カチオン系界面活性剤）、両性界面活性剤、非イオン系界面活性剤などを挙げることができる。また、界面活性剤の添加量は、０．０１〜１０質量％であることが好ましく、０．０５〜５質量％であることがより好ましい。 Examples of the surfactant include an anionic surfactant (anionic surfactant), a cationic surfactant (cationic surfactant), an amphoteric surfactant, and a nonionic surfactant. Can do. Moreover, it is preferable that it is 0.01-10 mass%, and, as for the addition amount of surfactant, it is more preferable that it is 0.05-5 mass%.

その他の添加剤としては、分散剤や、防食剤、防腐剤、消泡剤等を挙げることができる。これら添加剤の添加量は、０．０５〜２０質量％であることが好ましく、０．１〜１０質量％であることがより好ましい。 Examples of other additives include a dispersant, an anticorrosive, an antiseptic, and an antifoaming agent. The addition amount of these additives is preferably 0.05 to 20% by mass, and more preferably 0.1 to 10% by mass.

本発明では、上記研磨スラリーＳを用いてテキスチャ加工を施したディスク基板１の表面に、表面平均粗さＲａの小さい、なお且つ、線密度が緻密で均一なテクスチャ条痕を形成することができる。 In the present invention, texture striations having a small surface average roughness Ra and a dense and uniform linear density can be formed on the surface of the disk substrate 1 that has been textured using the polishing slurry S. .

具体的に、ディスク基板１の表面平均粗さＲａが２．５〜８．０Åの範囲とすることが好ましく、より好ましくは１．５〜７．０Åの範囲であり、最も好ましくは３．０〜６．０Åの範囲である。ディスク基板１の表面平均粗さＲａが２．５Å未満であると、ディスク基板１の表面が過度に平滑になり磁性層４の磁気異方性を高める効果が薄れてしまう。一方、ディスク基板１の表面平均粗さＲａが８．０Åを越えると、媒体表面の平滑性が低くなりグライドハイト特性が低下し、記録再生時においてヘッドのフライングハイトを低くするのが難しくなる。 Specifically, the surface roughness Ra of the disk substrate 1 is preferably in the range of 2.5 to 8.0 mm, more preferably in the range of 1.5 to 7.0 mm, and most preferably 3.0. It is in the range of ~ 6.0 mm. If the surface average roughness Ra of the disk substrate 1 is less than 2.5 mm, the surface of the disk substrate 1 becomes excessively smooth and the effect of increasing the magnetic anisotropy of the magnetic layer 4 is diminished. On the other hand, if the surface average roughness Ra of the disk substrate 1 exceeds 8.0 mm, the smoothness of the medium surface is lowered, the glide height characteristic is lowered, and it is difficult to reduce the flying height of the head during recording and reproduction.

また、ディスク基板１の表面には、上記テクスチャ加工により線密度が３００００本／ｍｍ以上のテクスチャ条痕を形成することが好ましく、５００００本／ｍｍ以上とすることがより好ましい。 Further, on the surface of the disk substrate 1, it is preferable to form texture striations having a linear density of 30000 lines / mm or more by the texture processing, and more preferably 50000 lines / mm or more.

ここで、テクスチャ条痕は、ディスク基板１の半径方向に測定したものであり、この半径方向の断面において、山と谷との間の高低の距離が０．０２ｎｍ〜２０ｎｍの範囲内（より好ましくは、０．０５ｎｍ〜１０ｎｍの範囲内）の微細な凹凸のことである。 Here, the texture streak is measured in the radial direction of the disk substrate 1, and in this radial cross section, the height distance between the peak and the valley is in the range of 0.02 nm to 20 nm (more preferably Are fine irregularities in the range of 0.05 nm to 10 nm.

このテクスチャ条痕の線密度を３００００本／ｍｍ以上とすることで、例えば保磁力などの磁気的特性の向上、並びに、例えばＳＮＲ(Signal to Noise Ratio)やＰＷ５０などの電磁変換特性の向上が可能である。 By setting the line density of the texture streaks to 30000 lines / mm or more, it is possible to improve the magnetic characteristics such as coercive force and the electromagnetic conversion characteristics such as SNR (Signal to Noise Ratio) and PW50. It is.

なお、線密度の上限は、７００００本／ｍｍとする。線密度が７００００本／ｍｍを超えると、テクスチャ条痕の線間隔が１４０Å未満となってしまい、非磁性下地層２の粒径の方が大きくなり、磁気記録媒体の磁気異方性を低下させることになる。 The upper limit of the linear density is 70000 lines / mm. When the linear density exceeds 70,000 lines / mm, the line spacing of the texture streaks becomes less than 140 mm, the particle diameter of the nonmagnetic underlayer 2 becomes larger, and the magnetic anisotropy of the magnetic recording medium is reduced. It will be.

本発明を適用した磁気記録媒体の製造方法では、上記ディスク基板１の表面にテクスチャ加工を施した後に、このディスク基板１の表面上に、配向調整層２、非磁性下地層３、磁性層４及び保護膜５を、この順で積層して形成する。 In the method of manufacturing a magnetic recording medium to which the present invention is applied, the surface of the disk substrate 1 is textured, and then the orientation adjustment layer 2, the nonmagnetic underlayer 3, and the magnetic layer 4 are formed on the surface of the disk substrate 1. And the protective film 5 is laminated | stacked and formed in this order.

配向調整層２は、直上に形成される非磁性下地層３の結晶配向性を整え、さらにはその上に形成される磁性層４の結晶配向性を調整し、磁性層４の円周方向の磁気異方性を向上させるためのものである。また、配向調整層２は、結晶配向性を調整するだけでなく、非磁性下地層３及び磁性層４中の結晶粒を微細化する結晶粒微細化膜としても機能する。 The orientation adjusting layer 2 adjusts the crystal orientation of the nonmagnetic underlayer 3 formed immediately thereon, and further adjusts the crystal orientation of the magnetic layer 4 formed thereon, in the circumferential direction of the magnetic layer 4. This is for improving the magnetic anisotropy. The orientation adjusting layer 2 not only adjusts the crystal orientation, but also functions as a crystal grain refinement film that refines crystal grains in the nonmagnetic underlayer 3 and the magnetic layer 4.

配向調整層２には、例えばＣｏ、Ｎｉ、Ｆｅの中から選ばれる何れか１種類以上の成分と、Ｗ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｎｂの中から選ばれる何れか１種類以上の成分とから構成される合金層を用いることができる。この合金層の組成は特に限定されるものではないが、Ｃｏ、Ｎｉ及びＦｅの合計含有率が２５ａｔ％〜７０ａｔ％の範囲のものが好ましい。Ｃｏ、Ｎｉ及びＦｅの合計含有率が２５ａｔ％未満では、非磁性下地層３の結晶配向が十分ではなく保持力を低下させる。Ｃｏ、Ｎｉ及びＦｅの合計含有率が７０ａｔ％超えると、配向調整層２が磁化を持ってしまい好ましくない。また、Ｗ、Ｍｏ、Ｔａ及びＮｂの合計含有率が３０ａｔ％〜７５ａｔ％の範囲のものが好ましい。Ｍｏ、Ｔａ及びＮｂの合計含有率が３０ａｔ％未満では、磁性層４の円周方向の磁気異方性が低下してしまう。Ｍｏ、Ｔａ及びＮｂの合計含有率が７５ａｔ％を超えると、非磁性下地層３の結晶配向が十分ではなく保持力を低下させる。 The orientation adjustment layer 2 is composed of, for example, one or more components selected from Co, Ni, and Fe and one or more components selected from W, Mo, Ta, and Nb. An alloy layer can be used. The composition of the alloy layer is not particularly limited, but it is preferable that the total content of Co, Ni, and Fe is in the range of 25 at% to 70 at%. When the total content of Co, Ni, and Fe is less than 25 at%, the crystal orientation of the nonmagnetic underlayer 3 is not sufficient and the holding power is reduced. If the total content of Co, Ni and Fe exceeds 70 at%, the orientation adjusting layer 2 has magnetization, which is not preferable. Further, the total content of W, Mo, Ta and Nb is preferably in the range of 30 at% to 75 at%. When the total content of Mo, Ta and Nb is less than 30 at%, the magnetic anisotropy in the circumferential direction of the magnetic layer 4 is lowered. If the total content of Mo, Ta and Nb exceeds 75 at%, the crystal orientation of the nonmagnetic underlayer 3 is not sufficient and the holding power is reduced.

また、配向調整層２は、Ｃｏ−Ｗ系合金、Ｃｏ−Ｍｏ系合金、Ｃｏ−Ｔａ系合金、Ｃｏ−Ｎｂ系合金、Ｎｉ−Ｔａ系合金、Ｎｉ−Ｎｂ系合金、Ｆｅ−Ｗ系合金、Ｆｅ−Ｍｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｂ系合金の中から選択される少なくとも１つの合金層を用いることが好ましい。これらの合金層の組成範囲はＦｅ７Ｗ６構造を２５％以上含有することが磁性膜の円周方向の磁気異方性をより向上させるために効果がある。すなわち、ＣｏＷ系合金のＷの組成範囲は３０ａｔ％〜８５ａｔ％が好ましい。ＣｏＭｏ系合金のＭｏの組成範囲は３０ａｔ％〜８５ａｔ％が好ましい。ＣｏＴａ系合金のＴａの組成範囲は３８ａｔ％〜６５ａｔ％が好ましい。ＣｏＮｂ系合金のＮｂの組成範囲は３７ａｔ％〜８６ａｔ％が好ましい。ＮｉＴａ系合金のＴａの組成範囲は３８ａｔ％〜６３ａｔ％が好ましい。ＮｉＮｂ系合金のＮｂの組成範囲は３１ａｔ％〜８６ａｔ％が好ましい。Ｆｅ−Ｗ系合金のＷの組成範囲は３７ａｔ％〜８６ａｔ％が好ましい。Ｆｅ−Ｍｏ系合金のＭｏの組成範囲は３５ａｔ％〜８５ａｔ％が好ましい。Ｆｅ−Ｎｂ系合金のＮｂの組成範囲は４０ａｔ％〜８６ａｔ％が好ましい。 In addition, the orientation adjustment layer 2 includes a Co—W alloy, a Co—Mo alloy, a Co—Ta alloy, a Co—Nb alloy, a Ni—Ta alloy, a Ni—Nb alloy, a Fe—W alloy, It is preferable to use at least one alloy layer selected from an Fe—Mo alloy and an Fe—Nb alloy. In the composition range of these alloy layers, containing at least 25% of the Fe7W6 structure is effective for further improving the magnetic anisotropy in the circumferential direction of the magnetic film. That is, the composition range of W in the CoW-based alloy is preferably 30 at% to 85 at%. The Mo composition range of the CoMo alloy is preferably 30 at% to 85 at%. The Ta composition range of the CoTa-based alloy is preferably 38 at% to 65 at%. The Nb composition range of the CoNb alloy is preferably 37 at% to 86 at%. The Ta composition range of the NiTa alloy is preferably 38 at% to 63 at%. The Nb composition range of the NiNb alloy is preferably 31 at% to 86 at%. The composition range of W in the Fe—W alloy is preferably 37 at% to 86 at%. The Mo composition range of the Fe—Mo alloy is preferably 35 at% to 85 at%. The Nb composition range of the Fe—Nb alloy is preferably 40 at% to 86 at%.

Ｃｏ−Ｗ系合金、Ｃｏ−Ｍｏ系合金、Ｃｏ−Ｔａ系合金、Ｃｏ−Ｎｂ系合金、Ｎｉ−Ｔａ系合金、Ｎｉ−Ｎｂ系合金、Ｆｅ−Ｗ系合金、Ｆｅ−Ｍｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｂ系合金はそれぞれ単独でも特性は発揮するし、これらのいくつかが組み合わさった合金でも同様の特性を発現する。例えば、Ｃｏ−Ｗ−Ｍｏ系合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｎｂ系合金、Ｃｏ−Ｗ−Ｍｏ−Ｔａ系合金などでも同様の特性を発現する。 Co-W alloy, Co-Mo alloy, Co-Ta alloy, Co-Nb alloy, Ni-Ta alloy, Ni-Nb alloy, Fe-W alloy, Fe-Mo alloy, Fe- Each Nb-based alloy exhibits its characteristics even when used alone, and an alloy in which some of these alloys are combined exhibits similar characteristics. For example, the same characteristics are exhibited by a Co—W—Mo alloy, a Co—Ni—Nb alloy, a Co—W—Mo—Ta alloy, and the like.

配向調整層２の膜厚は、１０オングストローム〜３００オングストロームの範囲内であるとことが好ましい。配向調整層２の膜厚が１０オングストローム未満では、非磁性下地層３の結晶配向が十分ではなく保持力を低下させる。配向調整層２の膜厚が３００オングストロームを超えると、磁性層４の円周方向の磁気異方性が低下してしまう。さらに、配向調整層２の膜厚は、２０オングストローム〜１００オングストロームの範囲内である方がより好ましく、磁性膜の円周方向の磁気異方性を更に上げることが可能である。 The thickness of the orientation adjusting layer 2 is preferably in the range of 10 angstroms to 300 angstroms. If the film thickness of the orientation adjusting layer 2 is less than 10 angstroms, the crystal orientation of the nonmagnetic underlayer 3 is not sufficient and the holding power is lowered. When the film thickness of the orientation adjusting layer 2 exceeds 300 angstroms, the magnetic anisotropy in the circumferential direction of the magnetic layer 4 is lowered. Furthermore, the film thickness of the orientation adjusting layer 2 is more preferably in the range of 20 angstroms to 100 angstroms, and the magnetic anisotropy in the circumferential direction of the magnetic film can be further increased.

また、配向調整層２には、補助的効果を有する元素を添加してもよい。添加元素としては、例えばＴｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｒｕ，Ｂ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐなどを挙げることができる。添加元素の合計含有率は、２０ａｔ％以下であることが好ましい。合計含有率が２０ａｔ％を超えると、上述した配向調整層２の効果が低下してしまう。合計含有量の下限は、０．１ａｔ％であり、含有量が０．１ａｔ％未満では、添加元素の効果が無くなる。 In addition, an element having an auxiliary effect may be added to the orientation adjustment layer 2. Examples of the additive element include Ti, V, Cr, Mn, Zr, Hf, Ru, B, Al, Si, and P. The total content of additive elements is preferably 20 at% or less. When the total content exceeds 20 at%, the effect of the orientation adjusting layer 2 described above is lowered. The lower limit of the total content is 0.1 at%. When the content is less than 0.1 at%, the effect of the additive element is lost.

非磁性下地層３は、Ｃｒ層、又は、ＣｒとＴｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｔａ、Ｗ、Ｎｉ、Ｂ、ＳｉおよびＶから選ばれる１種もしくは２種類以上とからなるＣｒ合金層を用いることが好ましい。Ｃｒ層では、格子定数が小さいので、Ｃｒ−Ｍｏ，Ｃｒ−Ｗ，Ｃｒ−Ｖ、Ｃｒ−Ｔｉ系合金などのように、Ｍｏ，Ｗ，Ｖ、Ｔｉなどを添加してＣｒの格子定数を広げ、磁性層４のＣｏ合金と格子定数がマッチングするようにすることが、磁気記録媒体のＳＮＲ特性向上の点から好ましい。また、Ｃｒ層又はＣｒ合金層にＢを添加することは、結晶微細化に効果があり、磁気記録媒体のＳＮＲ特性向上の点から好ましい。 The nonmagnetic underlayer 3 may be a Cr layer or a Cr alloy layer composed of one or more selected from Cr and Ti, Mo, Al, Ta, W, Ni, B, Si and V. preferable. Since the lattice constant of the Cr layer is small, Mo, W, V, Ti, etc. are added to widen the lattice constant of Cr, such as Cr—Mo, Cr—W, Cr—V, Cr—Ti alloys. In order to improve the SNR characteristics of the magnetic recording medium, it is preferable that the Co alloy of the magnetic layer 4 matches the lattice constant. Further, adding B to the Cr layer or the Cr alloy layer is effective in reducing the crystal size and is preferable from the viewpoint of improving the SNR characteristics of the magnetic recording medium.

非磁性下地層３のＣｒ層又はＣｒ合金層の結晶配向は、（１００）面を優先配向面とすることが好ましい。その結果、非磁性下地層３の上に形成した磁性層４のＣｏ合金の結晶配向がより強く（１１・０）を示すので、例えば保持力（Ｈｃ）などの磁気的特性の向上、並びに例えばＳＮＲなどの記録再生特性の向上が可能である。 The crystal orientation of the Cr layer or the Cr alloy layer of the nonmagnetic underlayer 3 is preferably a (100) plane as a preferential orientation plane. As a result, since the crystal orientation of the Co alloy of the magnetic layer 4 formed on the nonmagnetic underlayer 3 is stronger (11.0), improvement of magnetic characteristics such as coercive force (Hc), for example, It is possible to improve recording / reproduction characteristics such as SNR.

なお、結晶面表記の中の「・」は、結晶面を表すミラ−ブラベ−指数の省略形を示す。すなわち、結晶面を表わすのにＣｏのような六方晶系では、通常（ｈｋｉｌ）と４つの指数で表わすが、この中で「ｉ」に関してはｉ＝−（ｈ＋ｋ）と定義されており、この「ｉ」の部分を省略した形式では、（ｈｋ・ｌ）と表記する。 Note that “·” in the crystal plane notation indicates an abbreviation of the Miller-Brabe index representing the crystal plane. That is, in the hexagonal system such as Co to represent the crystal plane, it is represented by normal (hkil) and four indices, and in this, “i” is defined as i = − (h + k). In a format in which “i” is omitted, it is expressed as (hk · l).

磁性層４は、直下の非磁性下地層３の例えば（１００）面と充分に良く格子がマッチングするＣｏを主原料としたＣｏ合金であって、ｈｃｐ構造である材料を用いることが好ましい。このような材料として、例えば、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｔａ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ−Ｔａ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ−Ｃｕ系合金を挙げることができる。 The magnetic layer 4 is preferably made of a Co alloy whose main material is Co whose lattice matches with the (100) plane of the nonmagnetic underlayer 3 just below, and has a hcp structure. Examples of such materials include Co—Cr—Ta, Co—Cr—Pt, Co—Cr—Pt—Ta, Co—Cr—Pt—B—Ta, and Co—Cr—Pt—B—. A Cu-based alloy can be mentioned.

このうち、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系合金の場合、Ｃｒの含有量は１０ａｔ％〜２５ａｔ％の範囲、Ｐｔの含有量は８ａｔ％〜１６ａｔ％の範囲とすることが、ＳＮＲ向上の点から好ましい。Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ系合金の場合、Ｃｒの含有量は１０ａｔ％〜２５ａｔ％の範囲、Ｐｔの含有量は８ａｔ％〜１６ａｔ％の範囲、Ｂの含有量は１ａｔ％〜２０ａｔ％の範囲とすることが、ＳＮＲ向上の点から好ましい。Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ−Ｔａ系合金の場合、Ｃｒの含有量は１０ａｔ％〜２５ａｔ％の範囲、Ｐｔの含有量は８ａｔ％〜１６ａｔ％の範囲、Ｂの含有量は１ａｔ％〜２０ａｔ％の範囲、Ｔａの含有量は１ａｔ％〜４ａｔ％の範囲とすることが、ＳＮＲ向上の点から好ましい。Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ−Ｃｕ系合金の場合、Ｃｒの含有量は１０ａｔ％〜２５ａｔ％の範囲、Ｐｔの含有量は８ａｔ％〜１６ａｔ％の範囲、Ｂの含有量は２ａｔ％〜２０ａｔ％の範囲、Ｃｕの含有量は１ａｔ％〜４ａｔ％の範囲とすることが、ＳＮＲ向上の点から好ましい。 Among these, in the case of a Co—Cr—Pt-based alloy, the Cr content is preferably in the range of 10 at% to 25 at%, and the Pt content is preferably in the range of 8 at% to 16 at% from the viewpoint of improving SNR. In the case of a Co-Cr-Pt-B alloy, the Cr content ranges from 10 at% to 25 at%, the Pt content ranges from 8 at% to 16 at%, and the B content ranges from 1 at% to 20 at%. Is preferable from the viewpoint of improving the SNR. In the case of a Co—Cr—Pt—B—Ta alloy, the Cr content ranges from 10 at% to 25 at%, the Pt content ranges from 8 at% to 16 at%, and the B content ranges from 1 at% to 20 at%. The Ta content is preferably in the range of 1 at% to 4 at% from the viewpoint of improving the SNR. In the case of a Co-Cr-Pt-B-Cu alloy, the Cr content ranges from 10 at% to 25 at%, the Pt content ranges from 8 at% to 16 at%, and the B content ranges from 2 at% to 20 at%. From the viewpoint of improving the SNR, it is preferable that the Cu content is in the range of 1 at% to 4 at%.

磁性層４の膜厚は、１５ｎｍ以上であれば熱揺らぎの観点から問題ないが、高記録密度への要求から４０ｎｍ以下とすることが好ましい。膜厚が４０ｎｍを越えると、磁性層４の結晶粒径が増大してしまい、良好な記録再生特性が得られなくなる。また、磁性層４は、多層構造としてもよく、その場合、上記の中から選ばれる何れかを組み合わせることができる。多層構造とした場合、非磁性下地層３の直上は、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ−Ｔａ系合金、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ−Ｃｕ系合金、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ系合金の何れかとすることが、ＳＮＲ特性の改善の点から好ましい。最上層は、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ−Ｃｕ系合金又はＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ系合金とすることが、ＳＮＲ特性の改善の点から好ましい。 If the film thickness of the magnetic layer 4 is 15 nm or more, there is no problem from the viewpoint of thermal fluctuation, but it is preferable to set it to 40 nm or less because of the demand for high recording density. If the film thickness exceeds 40 nm, the crystal grain size of the magnetic layer 4 increases, and good recording / reproduction characteristics cannot be obtained. Further, the magnetic layer 4 may have a multilayer structure, and in this case, any one selected from the above can be combined. In the case of a multi-layer structure, any one of a Co—Cr—Pt—B—Ta alloy, a Co—Cr—Pt—B—Cu alloy, and a Co—Cr—Pt—B alloy is directly above the nonmagnetic underlayer 3. It is preferable to improve the SNR characteristics. The uppermost layer is preferably a Co—Cr—Pt—B—Cu alloy or a Co—Cr—Pt—B alloy from the viewpoint of improving the SNR characteristics.

また、非磁性下地層３と磁性層４との間には、Ｃｏ合金のエピタキシャル成長を助長する目的として、非磁性中間層を設けることができる。これにより、例えば保磁力などの磁気的特性の向上、並びに例えばＳＮＲなどの記録再生特性の向上の効果が得られる。この非磁性中間層は、ＣｏやＣｒを含むものとすることができる。具体的に、Ｃｏ−Ｃｒ系合金としたとき、Ｃｒの含有量は２５ａｔ％〜４５ａｔ％の範囲とすることがＳＮＲ向上の点から好ましい。また、非磁性中間層の膜厚は、０．５ｎｍ〜３ｎｍの範囲とすることがＳＮＲ向上の点から好ましい。 Further, a nonmagnetic intermediate layer can be provided between the nonmagnetic underlayer 3 and the magnetic layer 4 for the purpose of promoting the epitaxial growth of the Co alloy. Thereby, it is possible to obtain an effect of improving magnetic characteristics such as coercive force and improving recording and reproducing characteristics such as SNR. This nonmagnetic intermediate layer may contain Co or Cr. Specifically, when a Co—Cr alloy is used, the Cr content is preferably in the range of 25 at% to 45 at% from the viewpoint of improving SNR. Moreover, it is preferable from the point of SNR improvement that the film thickness of a nonmagnetic intermediate | middle layer shall be 0.5 nm-3 nm.

また、非磁性下地層３と磁性層４との間には、磁気記録媒体の熱減磁を改善するために、反強磁性結合層を設けることもできる。反強磁性結合層は、安定化層と非磁性結合層から形成される。安定化層には、磁性を有したＣｏ−Ｒｕ系合金、Ｃｏ−Ｃｒ系合金、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系合金、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ系合金、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系合金などを用いることができる。非磁性結合層には、Ｒｕを用いることが好ましい。Ｒｕの膜厚は０．８ｎｍ前後であると、反強磁性結合強度が極大値になるので好ましい。 In addition, an antiferromagnetic coupling layer may be provided between the nonmagnetic underlayer 3 and the magnetic layer 4 in order to improve thermal demagnetization of the magnetic recording medium. The antiferromagnetic coupling layer is formed of a stabilization layer and a nonmagnetic coupling layer. For the stabilization layer, a magnetic Co—Ru alloy, Co—Cr alloy, Co—Cr—Pt alloy, Co—Cr—Pt—B alloy, Co—Cr—Ta alloy, or the like is used. be able to. It is preferable to use Ru for the nonmagnetic coupling layer. A film thickness of Ru of around 0.8 nm is preferable because the antiferromagnetic coupling strength becomes a maximum value.

磁性層４にＢを含む場合には、非磁性下地層３と磁性層４との境界付近において、Ｂ濃度が１ａｔ％以上の領域におけるＣｒ濃度は４０ａｔ％以下とすることが好ましい。これにより、ＣｒとＢとが高濃度で共存するのを防ぎ、ＣｒとＢとの共有結合性化合物の生成を極力抑え、その結果、磁性層４中の配向の低下を防ぐことができる。 When the magnetic layer 4 contains B, the Cr concentration in the region where the B concentration is 1 at% or more is preferably 40 at% or less near the boundary between the nonmagnetic underlayer 3 and the magnetic layer 4. Thereby, it is possible to prevent Cr and B from coexisting at a high concentration, to suppress the generation of a covalently bonded compound of Cr and B as much as possible, and as a result, to prevent a decrease in orientation in the magnetic layer 4.

保護層５は、従来の公知の材料、例えば、カ−ボンやＳｉＣの単体、又はそれらを主成分とした材料を用いることができる。保護層５の膜厚は、１ｎｍ〜１０ｎｍの範囲内であることが、高記録密度状態で使用した場合の磁気的スペ−シングの低減又は耐久性の向上の点から好ましい。磁気的スペーシングとは、ヘッドのリードライト素子と磁性層４との距離を表す。磁気的スペーシングが狭くなるほど、電磁変換特性は向上する。なお、保護層５は、ヘッドのリードライト素子と磁性層４の間に存在するので、磁気的スペーシングを広げる要因となる。また、保護膜５上には、例えばパ−フルオロポリエ−テルのフッ素系潤滑剤などからなる潤滑層を設けることが好ましい。 For the protective layer 5, a conventionally known material, for example, carbon or SiC alone, or a material mainly composed of them can be used. The thickness of the protective layer 5 is preferably in the range of 1 nm to 10 nm from the viewpoint of reducing magnetic spacing or improving durability when used in a high recording density state. Magnetic spacing represents the distance between the read / write element of the head and the magnetic layer 4. The narrower the magnetic spacing, the better the electromagnetic conversion characteristics. Since the protective layer 5 exists between the read / write element of the head and the magnetic layer 4, it becomes a factor for expanding the magnetic spacing. On the protective film 5, it is preferable to provide a lubricating layer made of, for example, a perfluoropolyether fluorine-based lubricant.

以上のように、本発明を適用して作製される磁気記録媒体では、ガラス基板などのディスク基板１の表面にテクスチャ加工を施した場合でも、微細なテクスチャ条痕を形成することが可能なことから、その上に形成される磁性層４の磁気異方性を高め、熱揺らぎ耐性などの磁気特性を向上させることが可能である。 As described above, in the magnetic recording medium manufactured by applying the present invention, even when the surface of the disk substrate 1 such as a glass substrate is textured, fine textured streaks can be formed. Therefore, it is possible to increase the magnetic anisotropy of the magnetic layer 4 formed thereon and to improve the magnetic characteristics such as the thermal fluctuation resistance.

（磁気記録再生装置）
図３は、上記磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置の一例を示す断面図である。
この磁気記録再生装置は、上記図１に示す構成の磁気記録媒体１０と、磁気記録媒体１０を回転駆動させる媒体駆動部１１と、磁気記録媒体１０に対する情報の記録再生動作を行う磁気ヘッド１２と、この磁気ヘッド１２を磁気記録媒体１０に対して相対運動させるヘッド駆動部１３と、記録再生信号処理系１４とを備えている。記録再生信号処理系１４は、外部から入力されたデ−タを処理して記録信号を磁気ヘッド１２に送ったり、磁気ヘッド１２からの再生信号を処理してデ−タを外部に送ることができるようになっている。磁気ヘッド１２には、再生素子として異方性磁気抵抗効果（ＡＭＲ）を利用したＭＲ（ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ）素子や、巨大磁気抵抗効果（ＧＭＲ）を利用したＧＭＲ素子などを高記録密度に適したヘッドとして用いることができる。 (Magnetic recording / reproducing device)
FIG. 3 is a sectional view showing an example of a magnetic recording / reproducing apparatus using the magnetic recording medium.
The magnetic recording / reproducing apparatus includes a magnetic recording medium 10 having the configuration shown in FIG. 1, a medium driving unit 11 that rotationally drives the magnetic recording medium 10, and a magnetic head 12 that performs an information recording / reproducing operation on the magnetic recording medium 10. A head drive unit 13 for moving the magnetic head 12 relative to the magnetic recording medium 10 and a recording / reproducing signal processing system 14 are provided. The recording / reproducing signal processing system 14 can process data input from the outside and send the recording signal to the magnetic head 12, or can process the reproducing signal from the magnetic head 12 and send the data to the outside. It can be done. As the magnetic head 12, an MR (magnetic resistance) element using an anisotropic magnetoresistive effect (AMR) or a GMR element using a giant magnetoresistive effect (GMR) is used as a reproducing element as a head suitable for high recording density. Can be used.

本発明の磁気記録再生装置では、上記ガラス基板１の表面にテクスチャー加工を施して製造した磁気記録媒体１０を用いているので、安価で高記録密度な磁気記録再生装置とすることができる。また、本発明の磁気記録再生装置では、平均粗さが小さく、微小うねりも小さい磁気記録媒体１０を用いているので、電磁変換特性の向上が可能であるのに加えて、スペーシングロスを低減させるため、ヘッドを低浮上状態で使用しても、エラー特性が良好である磁気記録再生装置とすることができる。したがって、本発明では、上記ガラス基板１の表面にテクスチャー加工を施して製造した磁気記録媒体１０を用いることによって、高記録密度に適した磁気記録再生装置を得ることが可能である。 In the magnetic recording / reproducing apparatus of the present invention, since the magnetic recording medium 10 manufactured by subjecting the surface of the glass substrate 1 to texture processing is used, a magnetic recording / reproducing apparatus having a low recording density and a high recording density can be obtained. Further, in the magnetic recording / reproducing apparatus of the present invention, since the magnetic recording medium 10 having a small average roughness and a small waviness is used, the electromagnetic conversion characteristics can be improved and the spacing loss can be reduced. Therefore, even if the head is used in a low flying state, a magnetic recording / reproducing apparatus having good error characteristics can be obtained. Therefore, in the present invention, it is possible to obtain a magnetic recording / reproducing apparatus suitable for high recording density by using the magnetic recording medium 10 manufactured by texturing the surface of the glass substrate 1.

以下、実施例により本発明の効果をより明らかなものとする。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することができる。 Hereinafter, the effects of the present invention will be made clearer by examples. In addition, this invention is not limited to a following example, In the range which does not change the summary, it can change suitably and can implement.

（実施例）
実施例では、ディスク基板として、ＫＭＧ社製の結晶化ガラスを使用した。ディスク基板のサイズは、外径４８ｍｍ、内径１２ｍｍ、板厚０．５０８ｍｍである。そして、このディスク基板の表面にテクスチャ加工を施した。テクスチャ加工の条件は以下の通りである。すなわち、スラリーに含まれる砥粒については、クラスターダイヤを焼結し粉砕してなる粒径０．１２μｍ、濃度０．０２５質量％のクラスターダイヤの二次粒子を用いた。クーラントには、ネオス社製ＳＧ１を用いた。スラリーは、５０ｍｌ／分で加工が開始される前に２秒間滴下した。研磨テープにはポリエステル製の織物布を使用した。研磨テープの送りは７５ｍｍ／分とした。ディスク基板の回転数は６００ｒｐｍとした。ディスク基板の揺動は１２０回／分とした。テープの押し付け力は２．０ｋｇｆ（１９．６Ｎ）とした。加工時間は１０秒とした。 (Example)
In the examples, crystallized glass manufactured by KMG was used as the disk substrate. The size of the disk substrate is an outer diameter of 48 mm, an inner diameter of 12 mm, and a plate thickness of 0.508 mm. The surface of the disk substrate was textured. The conditions for texture processing are as follows. That is, for the abrasive grains contained in the slurry, secondary particles of cluster diamond having a particle size of 0.12 μm and a concentration of 0.025% by mass obtained by sintering and pulverizing the cluster diamond were used. SG1 manufactured by Neos was used as the coolant. The slurry was dropped for 2 seconds before processing started at 50 ml / min. A polyester fabric cloth was used for the polishing tape. The polishing tape was fed at 75 mm / min. The rotational speed of the disk substrate was 600 rpm. The disk substrate was swung 120 times / minute. The pressing force of the tape was 2.0 kgf (19.6 N). The processing time was 10 seconds.

そして、このテクスチャ加工が施されたディスク基板の表面を、ディジタル・インストゥルメント(Degital Instrument)社製（米国）のＡＦＭ(Atomic Force Microscope)で測定したところ、表１に示すように、平均粗さＲａが５．１オングストローム、線密度が３０３００本／ｍｍのテクスチャ条痕を有するディスク基板が得られた。 Then, when the surface of the disk substrate subjected to the texture processing was measured with an AFM (Atomic Force Microscope) manufactured by Digital Instrument (USA), as shown in Table 1, the average roughness was measured. A disk substrate having textured striations having a thickness Ra of 5.1 angstroms and a linear density of 30300 lines / mm was obtained.

なお、具体的な測定条件については、スキャン幅を１μｍ、スキャンレートを１Ｈｚ、測定数を２５６、モードをタッピングモードとした。先ず、試料となるディスク基板の半径方向にプローブを走査し、ＡＦＭのスキャン画像を得た。次に、ＦｌａｔｔｅｎＯｒｄｅｒの次数を２として平滑化処理のひとつであるＰｌａｎｅＦｉｔＡｕｔｏ処理を、Ｓｃａｎ画像に対してＸ軸とＹ軸とに実施し、画像の平滑化補正を行った。次に、平滑化補正済みの画像に対して、約０．５μｍ×約０．５μｍのボックスを設定してその範囲の線密度を算出した。線密度はＸ軸中心線とＹ軸中心線の両方に沿ったゼロ交差点の総数を１ｍｍ当りに換算して算出する。すなわち、線密度は半径方向１ｍｍ当りのテクスチャ条痕の山と谷の数となる。そして、試料面内の各箇所を測定し、その測定値の平均値及び標準偏差を求め、その平均値をもってテクスチャ条痕の線密度とした。なお、測定箇所の個数は、平均値及び標準偏差を求めるのに必要な個数、例えば測定数を１０点とすることができる。また、そのうちの最大値と最小値を除いた８点で平均値及び標準偏差を求めると、測定異常値を除くことができるので、測定精度の向上を図ることができる。 As specific measurement conditions, the scan width was 1 μm, the scan rate was 1 Hz, the number of measurements was 256, and the mode was a tapping mode. First, the probe was scanned in the radial direction of a disk substrate as a sample to obtain an AFM scan image. Next, Plane FitAuto processing, which is one of the smoothing processes, is performed on the X-axis and the Y-axis with the order of Flatten Order being 2, and smoothing correction of the image is performed. Next, a box having a size of about 0.5 μm × about 0.5 μm was set for the smoothed image, and the linear density in that range was calculated. The line density is calculated by converting the total number of zero crossings along both the X axis center line and the Y axis center line per mm. That is, the linear density is the number of texture streaks and valleys per 1 mm in the radial direction. And each location in a sample surface was measured, the average value and the standard deviation of the measured value were calculated | required, and the average value was made into the line density of a texture stripe. Note that the number of measurement points can be set to the number necessary for obtaining the average value and standard deviation, for example, 10 points. Further, when the average value and the standard deviation are obtained at 8 points excluding the maximum value and the minimum value, the measurement abnormal value can be removed, so that the measurement accuracy can be improved.

次に、このディスク基板を十分に洗浄し乾燥した後、ＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社（日本）製Ｃ３０１０）内にセットした。真空到達度を２×１０−７Ｔｏｒｒ（２．７×１０−５Ｐａ）まで排気した後、配向調整層として、Ｃｏ―Ｗ合金（Ｃｏ：４５ａｔ％、Ｗ：５５ａｔ％）からなるタ−ゲットも用いて常温にて１ｎｍ積層した。その後、基板を２５０℃に加熱した。加熱後、酸素暴露を０．０５Ｐａで５秒間実施した。次に、非磁性下地層として、Ｃｒ−Ｔｉ―Ｂ合金（Ｃｒ：８３ａｔ％、Ｔｉ：１５ａｔ％、Ｂ：２ａｔ％）からなるタ−ゲットを用いて８ｎｍ積層した。次に、非磁性中間層として、Ｃｏ―Ｃｒ合金（Ｃｏ：６５ａｔ％、Ｃｒ：３５ａｔ％）からなるタ−ゲットを用いて２ｎｍ積層した。次に、磁性層として、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ合金（Ｃｏ：６０ａｔ％、Ｃｒ：２２ａｔ％、Ｐｔ：１２ａｔ％、Ｂ：６ａｔ％）からなるタ−ゲットを用いてＣｏＣｒＰｔＢ合金層を２０ｎｍの膜厚で積層した。次に、保護層として、カ−ボンを５ｎｍの膜厚で積層した。なお、成膜時のＡｒ圧は３ｍＴｏｒｒ（０．４Ｐａ）とした。最後に、パ−フルオロポリエ−テルをディップ法で塗布し膜厚２０ｎｍの潤滑層を形成した。以上のようにして、実施例の磁気記録媒体を作製した。 Next, the disk substrate was sufficiently washed and dried, and then set in a DC magnetron sputtering apparatus (C3010 manufactured by Anerva Corporation (Japan)). After exhausting the vacuum to 2 × 10 −7 Torr (2.7 × 10 −5 Pa), a target made of a Co—W alloy (Co: 45 at%, W: 55 at%) is also used as the orientation adjustment layer. 1 nm at room temperature. Thereafter, the substrate was heated to 250 ° C. After heating, oxygen exposure was performed at 0.05 Pa for 5 seconds. Next, 8 nm was laminated | stacked using the target which consists of Cr-Ti-B alloy (Cr: 83at%, Ti: 15at%, B: 2at%) as a nonmagnetic base layer. Next, 2 nm was laminated | stacked using the target which consists of a Co-Cr alloy (Co: 65at%, Cr: 35at%) as a nonmagnetic intermediate | middle layer. Next, using a target made of a Co—Cr—Pt—B alloy (Co: 60 at%, Cr: 22 at%, Pt: 12 at%, B: 6 at%) as the magnetic layer, the CoCrPtB alloy layer is formed to a thickness of 20 nm. Laminated with a film thickness. Next, carbon was laminated | stacked with the film thickness of 5 nm as a protective layer. The Ar pressure during film formation was 3 mTorr (0.4 Pa). Finally, perfluoropolyether was applied by a dip method to form a lubricating layer having a thickness of 20 nm. The magnetic recording medium of the example was manufactured as described above.

（比較例）
比較例では、スラリーに含まれる砥粒として、粒径０．１２μｍ、濃度０．０２５質量％の単結晶ダイヤ（非クラスターダイヤ）を用いた以外は、実施例と同様の条件でディスク基板の表面にテクスチャ加工を施した。そして、このテクスチャ加工が施されたディスク基板の表面を、ＤｅｇｉｔａｌＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社製のＡＦＭで測定したところ、表１に示すように、平均粗さＲａが３．２オングストローム、線密度が２３０００本／ｍｍのテクスチャ条痕を有するディスク基板が得られた。そして、このディスク基板を用いて、実施例と同様の条件で磁気記録媒体を作製した。 (Comparative example)
In the comparative example, the surface of the disk substrate was subjected to the same conditions as in the example except that a single crystal diamond (non-cluster diamond) having a particle size of 0.12 μm and a concentration of 0.025 mass% was used as the abrasive contained in the slurry. Textured. Then, when the surface of the disk substrate subjected to this texture processing was measured with an AFM manufactured by Digital Instrument, as shown in Table 1, the average roughness Ra was 3.2 angstroms, and the linear density was 23,000 / mm. A disk substrate with textured streaks was obtained. Then, using this disk substrate, a magnetic recording medium was produced under the same conditions as in the example.

以上のように作製された実施例及び比較例の磁気記録媒体について、浮上特性について調べた。浮上特性の測定については以下の通りである。すなわち、米国Ｇｕｚｉｋ社製の測定装置を用い、１５０ｋＦＣＩでの出力をＳ、９００ｋＦＣＩでの出力をＮとし、ＳＮＲ＝２０ｌｏｇ（Ｓ／Ｎ）で測定した。 The flying characteristics of the magnetic recording media of Examples and Comparative Examples manufactured as described above were examined. The measurement of flying characteristics is as follows. That is, using a measuring device manufactured by Guzik, USA, the output at 150 kFCI was S, the output at 900 kFCI was N, and the measurement was performed at SNR = 20 log (S / N).

磁気記録媒体を４２００ｒｐｍで回転させ、その上の半径１５ｍｍの位置に、ＴＤＫ社製のＭＲヘッドを浮上させた状態で雰囲気を１．０ａｔｍ〜０．３ａｔｍに徐々に減圧する。ヘッドの浮上力は徐々に低下し、ヘッドが磁気記録媒体上にタッチダウンする気圧（大気圧を１ａｔｍとした場合の気圧）をタッチダウン特性（ＴＤ）とする。タッチダウンした状態で、雰囲気を徐々に増圧し、ヘッドがテイクオフする圧力をテイクオフ特性（ＴＯ）とする。なお、ＴＤとＴＯは、その差が小さいほどよい。さらに、ＴＤとＴＯは、その値が小さいほど好ましい。
以下、浮上特性の測定した測定結果を表１に示す。なお、表１中のＩＤは、基板の内周部分、ＭＤは、基板の中周部分、ＯＤは、基板の外周部分での測定結果である。 The magnetic recording medium is rotated at 4200 rpm, and the atmosphere is gradually reduced to 1.0 atm to 0.3 atm with the MR head made by TDK levitated at a position of a radius of 15 mm above the magnetic recording medium. The flying force of the head gradually decreases, and the pressure at which the head touches down on the magnetic recording medium (atmospheric pressure when the atmospheric pressure is 1 atm) is defined as the touch-down characteristic (TD). In the touched-down state, the atmosphere is gradually increased and the pressure at which the head takes off is defined as a take-off characteristic (TO). Note that the smaller the difference between TD and TO, the better. Furthermore, TD and TO are more preferable as their values are smaller.
The measurement results obtained by measuring the flying characteristics are shown in Table 1. In Table 1, ID is an inner peripheral portion of the substrate, MD is a central peripheral portion of the substrate, and OD is a measurement result at the outer peripheral portion of the substrate.

表１に示す測定結果から、実施例のように本発明のクラスターダイヤを用いた場合には、比較例のように単結晶ダイヤを用いた場合よりも、表面平均粗さＲａが高いことから、ディスク基板の表面に対する加工性が高いことがわかる。
また、実施例のように本発明のクラスターダイヤを用いた場合には、比較例のように単結晶ダイヤを用いた場合よりも、ＴＤとＴＯの差が小さいことから、ヘッドを低浮上状態で使用することが可能である。
また、実施例のように本発明のクラスターダイヤを用いた場合には、比較例のように単結晶ダイヤを用いた場合よりも、ＳＮＲが高いことから、良好な電磁変換特性を得ることが可能である。 From the measurement results shown in Table 1, when the cluster diamond of the present invention is used as in the example, the surface average roughness Ra is higher than when the single crystal diamond is used as in the comparative example. It can be seen that the processability of the disk substrate surface is high.
Further, when the cluster diamond of the present invention is used as in the embodiment, the difference between TD and TO is smaller than in the case of using a single crystal diamond as in the comparative example. It is possible to use.
In addition, when the cluster diamond of the present invention is used as in the example, the SNR is higher than in the case of using a single crystal diamond as in the comparative example, so it is possible to obtain good electromagnetic conversion characteristics. It is.

図１は、本発明を適用して作製される磁気記録媒体の一例を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a magnetic recording medium manufactured by applying the present invention. 図２は、ディスク基板の表面にテクスチャ加工を施す工程を説明するための図であり、（ａ）はその装置の一例を示す側面図であり、（ｂ）はその装置の一例を示す平面図である。2A and 2B are diagrams for explaining a process of texturing the surface of the disk substrate. FIG. 2A is a side view showing an example of the apparatus, and FIG. 2B is a plan view showing an example of the apparatus. It is. 図３は、本発明を適用した磁気記録再生装置の一例を示す側面図である。FIG. 3 is a side view showing an example of a magnetic recording / reproducing apparatus to which the present invention is applied.

Explanation of symbols

１…ディスク基板２…配向調整層３…非磁性下地層４…磁性層５…保護層１０…磁気記録媒体１１…媒体駆動部１２…磁気ヘッド１３…ヘッド駆動部１４…記録再生信号系１０１…スピンドル１０２…ノズル１０３…供給ロール１０４…巻取ロール１０５…研磨テープ１０６…押圧ローラ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Disk substrate 2 ... Orientation adjustment layer 3 ... Nonmagnetic underlayer 4 ... Magnetic layer 5 ... Protective layer 10 ... Magnetic recording medium 11 ... Medium drive part 12 ... Magnetic head 13 ... Head drive part 14 ... Recording / reproducing signal system 101 ... Spindle 102 ... Nozzle 103 ... Supply roll 104 ... Winding roll 105 ... Polishing tape 106 ... Pressing roller

Claims

Manufacture of a magnetic recording medium in which at least a nonmagnetic underlayer, a magnetic layer, and a protective layer are sequentially laminated on the surface of the disk substrate that has been textured after the surface of the disk substrate is textured A method,
A method of manufacturing a magnetic recording medium, wherein a polishing slurry containing abrasive grains obtained by sintering and pulverizing a cluster diamond is used when the texture processing is performed.

The texture processing is performed by supplying the polishing slurry to the surface of the disk substrate while rotating the disk substrate and pressing a traveling polishing tape against the surface of the disk substrate. A method for producing the magnetic recording medium according to claim.

The method for producing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the abrasive grains have an average particle diameter of 0.05 to 0.20 μm.

The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the concentration of the abrasive grains is 0.001 to 0.05 mass%.

The method for producing a magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 4, wherein a texture striation having a linear density of 30000 lines / mm or more is formed by the texture processing.

6. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the surface average roughness Ra of the disk substrate is in a range of 1.5 to 7.0 mm.

The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the disk substrate is made of crystallized glass.

8. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein an orientation adjustment layer is formed between the surface of the disk substrate and the nonmagnetic underlayer.

A magnetic recording / reproducing apparatus comprising a magnetic recording medium and a magnetic head for recording / reproducing information on the magnetic recording medium,
A magnetic recording / reproducing apparatus, wherein the magnetic recording medium is manufactured using the method according to claim 1.

A polishing slurry used when texturing the surface of a disk substrate,
A polishing slurry comprising abrasive grains obtained by sintering and pulverizing a cluster diamond.