JP2008147683A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008147683A JP2008147683A JP2007330531A JP2007330531A JP2008147683A JP 2008147683 A JP2008147683 A JP 2008147683A JP 2007330531 A JP2007330531 A JP 2007330531A JP 2007330531 A JP2007330531 A JP 2007330531A JP 2008147683 A JP2008147683 A JP 2008147683A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor device
- diode
- semiconductor
- semiconductor element
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H10W72/5363—
-
- H10W72/5524—
-
- H10W72/884—
-
- H10W72/932—
-
- H10W90/734—
-
- H10W90/753—
Landscapes
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
【解決手段】半導体装置8は、第1の導電性接合層を介して放熱板上に固着される絶縁基板20と、第2の導電性接合層を介して絶縁基板上20に実装される第1および第2の半導体素子40a,40bと、第1の半導体素子40aに配置された少なくとも1つの第1の温度検出素子と、第2の半導体素子40bに配置された少なくとも1つの第2の温度検出素子と、を備え、第1の半導体素子40aの発熱量は第2の半導体素子40bの発熱量よりも大きい。
【選択図】図11
Description
図1ないし図4を参照しながら、本発明に係るパワーモジュール(半導体装置)の実施の形態1について以下に説明する。図1に示すパワーモジュール1は、概略、樹脂などの絶縁材料からなるケース11と、良好な熱伝導性を有する銅などの金属板からなる金属ベース板12と、ケース11の上面から内部に延びる複数の主電極13と、を備えている。ケース11は金属ベース板12上に固定され、金属ベース板12は金属放熱フィン14上に固定されている。また図2に示すように、パワーモジュール1のケース11の内部において、金属パターン21,22が両面に形成された絶縁基板20が導電性接合層である半田層30を介して金属ベース板12上に固定されている。また、少なくとも1つの半導体素子40(例えば、絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ(IGBT)40aおよびフリーホイールダイオード(FWD)40b)が導電性接合層である半田層50を介して絶縁基板20上に実装されている。ここで絶縁基板20の下方および上方に配置された半田層を、便宜上、「下側半田層(第1の導電性接合層)」30および「上側半田層(第2の導電性接合層)」50という。
図5を参照しながら、本発明に係るパワーモジュール(半導体装置)の実施の形態2について以下に説明する。実施の形態2のパワーモジュール2は、端部ダイオードDEと中央部ダイオードDCが直列に接続される点を除いて、実施の形態1のパワーモジュール1と同様の構成を有するので、重複する部分に関する詳細な説明を省略する。
こうして、構成された実施の形態2のパワーモジュール2は、実施の形態1と同様、上側半田層50の周辺端部に生じる半田クラックを的確に検出することができる。
図6を参照しながら、本発明に係るパワーモジュール(半導体装置)の実施の形態3について以下に説明する。実施の形態3のパワーモジュール3は、複数(図6では2つ)の端部ダイオードDEが半導体素子の周辺端部に配置される点を除いて、実施の形態1のパワーモジュール1と同様の構成を有するので、重複する部分に関する詳細な説明を省略する。
図7を参照しながら、本発明に係るパワーモジュール(半導体装置)の実施の形態4について以下に説明する。実施の形態4のパワーモジュール4は、第1および第2の端部ダイオードDE1,DE2が直列に接続される点を除いて、実施の形態3のパワーモジュール3と同様の構成を有するので、重複する部分に関する詳細な説明を省略する。
図8を参照しながら、本発明に係るパワーモジュール(半導体装置)の実施の形態5について以下に説明する。実施の形態5のパワーモジュール5は、第1および第2の端部ダイオードDE1,DE2が並列に接続される点を除いて、実施の形態4のパワーモジュール4と同様の構成を有するので、重複する部分に関する詳細な説明を省略する。
図9を参照しながら、本発明に係るパワーモジュール(半導体装置)の実施の形態6について以下に説明する。実施の形態6のパワーモジュール6は、中央部ダイオードDCだけでなく、第2の端部ダイオードDE2が第1の端部ダイオードDE1に直列に接続された点を除いて、実施の形態2のパワーモジュール2と同様の構成を有するので、重複する部分に関する詳細な説明を省略する。
図10を参照しながら、本発明に係るパワーモジュール(半導体装置)の実施の形態7について以下に説明する。実施の形態7のパワーモジュール7は、第1および第2の端部ダイオードDE1,DE2の間の電位(信号レベル)を検出するための電極パッド端子K3を新設した点を除いて、実施の形態4のパワーモジュール4と同様の構成を有するので、重複する部分に関する詳細な説明を省略する。
こうして、構成された実施の形態7のパワーモジュール7は、実施の形態3と同様、上側半田層50の周辺端部に生じる半田クラックを的確に検出することができる。
実施の形態1ないし7は、上側半田層50の周辺端部に生じる半田クラックを検出することを目的としたのに対し、実施の形態8ないし10は、同様の手法を用いて、主に下側半田層30の周辺端部に生じる半田クラックを検出することを目的とする。
ここで図2および図11を参照しながら、本発明に係るパワーモジュール(半導体装置)の実施の形態8について以下に説明する。先の実施の形態1のパワーモジュール1によれば、中央部ダイオードDCおよび端部ダイオードDEが1つの半導体素子40の中央部および周辺端部に配置されていたのに対し、実施の形態8のパワーモジュール8は、絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ40aの中央部に配置された第1のダイオードD1と、フリーホイールダイオード40bの中央部に配置された第2のダイオードD2と、を有する。実施の形態8のパワーモジュール8は、その他の点においては、実施の形態1のパワーモジュール1と同様の構成を有するので、重複する部分に関する詳細な説明を省略する。
図12を参照しながら、本発明に係るパワーモジュール(半導体装置)の実施の形態9について以下に説明する。実施の形態9のパワーモジュール9は、第1および第2のダイオードD1,D2が直列に接続される点を除いて、実施の形態8のパワーモジュール8と同様の構成を有するので、重複する部分に関する詳細な説明を省略する。
図13を参照しながら、本発明に係るパワーモジュール(半導体装置)の実施の形態10について以下に説明する。実施の形態10のパワーモジュール10は、第2のダイオードD2をFWD40bの周辺端部に配置し、第3のダイオードD3をIGBT40aの周辺端部に新設し、第2のダイオードD2と第3のダイオードD3を直列に接続した点を除いて、実施の形態8のパワーモジュール8と同様の構成を有するので、重複する部分に関する詳細な説明を省略する。
Claims (4)
- 半導体装置であって、
第1の導電性接合層を介して放熱板上に固着される絶縁基板と、
第2の導電性接合層を介して前記絶縁基板上に実装される第1および第2の半導体素子と、
前記第1の半導体素子に配置された少なくとも1つの第1の温度検出素子と、
前記第2の半導体素子に配置された少なくとも1つの第2の温度検出素子と、を備え、
前記第1の半導体素子の発熱量が前記第2の半導体素子の発熱量より大きいことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置であって、
前記第1および第2の温度検出素子は、直列に接続されることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置であって、
前記第1の半導体素子は、その周辺端部および中央部のそれぞれに配置された少なくとも1つの第1の端部温度検出素子および中央部温度検出素子を有し、
前記第2の半導体素子は、その周辺端部に配置された少なくとも1つの第2の端部温度検出素子を有し、
前記第1および第2の端部温度検出素子は、直列に接続されることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置であって、
前記第1の半導体素子は絶縁ゲート型バイポーラトランジスタであり、
前記第2の半導体素子はフリーホイールダイオードであることを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007330531A JP4673360B2 (ja) | 2007-12-21 | 2007-12-21 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007330531A JP4673360B2 (ja) | 2007-12-21 | 2007-12-21 | 半導体装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004065341A Division JP4097613B2 (ja) | 2004-03-09 | 2004-03-09 | 半導体装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008147683A true JP2008147683A (ja) | 2008-06-26 |
| JP4673360B2 JP4673360B2 (ja) | 2011-04-20 |
Family
ID=39607431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007330531A Expired - Lifetime JP4673360B2 (ja) | 2007-12-21 | 2007-12-21 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4673360B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011023569A (ja) * | 2009-07-16 | 2011-02-03 | Fuji Electric Systems Co Ltd | パワーモジュール |
| JP2011243909A (ja) * | 2010-05-21 | 2011-12-01 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体モジュール及び半導体モジュールを搭載した回転電機 |
| JP2019186239A (ja) * | 2018-04-02 | 2019-10-24 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
| CN112397496A (zh) * | 2019-08-19 | 2021-02-23 | 尼克森微电子股份有限公司 | 功率模块 |
| DE112013007670B4 (de) | 2013-12-04 | 2023-07-06 | Arigna Technology Ltd. | Halbleitervorrichtung |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09148523A (ja) * | 1995-11-21 | 1997-06-06 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
| JP2003142689A (ja) * | 2001-11-01 | 2003-05-16 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
-
2007
- 2007-12-21 JP JP2007330531A patent/JP4673360B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09148523A (ja) * | 1995-11-21 | 1997-06-06 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
| JP2003142689A (ja) * | 2001-11-01 | 2003-05-16 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011023569A (ja) * | 2009-07-16 | 2011-02-03 | Fuji Electric Systems Co Ltd | パワーモジュール |
| JP2011243909A (ja) * | 2010-05-21 | 2011-12-01 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体モジュール及び半導体モジュールを搭載した回転電機 |
| DE112013007670B4 (de) | 2013-12-04 | 2023-07-06 | Arigna Technology Ltd. | Halbleitervorrichtung |
| JP2019186239A (ja) * | 2018-04-02 | 2019-10-24 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
| JP7067205B2 (ja) | 2018-04-02 | 2022-05-16 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
| CN112397496A (zh) * | 2019-08-19 | 2021-02-23 | 尼克森微电子股份有限公司 | 功率模块 |
| CN112397496B (zh) * | 2019-08-19 | 2024-10-15 | 尼克森微电子股份有限公司 | 功率模块 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4673360B2 (ja) | 2011-04-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4097613B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JP6727428B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JP6171599B2 (ja) | 半導体装置及びその制御方法 | |
| JP4830993B2 (ja) | 半導体装置の劣化検出方法 | |
| JP5736226B2 (ja) | パワー半導体の温度を決定するための方法 | |
| JPH09148523A (ja) | 半導体装置 | |
| JP6804646B2 (ja) | 半導体モジュール | |
| JP4673360B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JP5909396B2 (ja) | 回路装置 | |
| JP5369868B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JP5578355B2 (ja) | 多層回路基板を含む基板装置および多層回路基板の異常判定方法 | |
| JP3889562B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JP6384406B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JP5549611B2 (ja) | 炭化珪素半導体装置 | |
| JP2020013955A (ja) | 半導体装置、および、抵抗素子 | |
| JP5710995B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JP2007040817A (ja) | 電力用半導体素子の異常検出装置 | |
| WO2011152151A1 (ja) | 素子寿命予測方法及び素子寿命予測機能を備えた回路基板 | |
| JP7247681B2 (ja) | 半導体組立体 | |
| JP2013113638A (ja) | 半導体装置 | |
| JP5020271B2 (ja) | 半導体試験装置および半導体試験方法 | |
| JP7694136B2 (ja) | 半導体モジュール | |
| JP7318493B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JP4736997B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JP2012243801A (ja) | 半導体装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100727 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100916 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110118 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110120 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4673360 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140128 Year of fee payment: 3 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |