JP2008037898A - Curable resin composition for inkjet, cured material of the same and printed circuit board by using the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プリント配線板の製造に用いられるソルダーレジストやマーキングインキ材料として有用なインクジェット用硬化性樹脂組成物に関するものであり、詳しくは、低粘度で耐熱性に優れ、且つその硬化塗膜が後から塗布されるレジストインキやマーキングインキとの密着性がよくかつ重ね塗り性に優れたインクジェット用硬化性樹脂組成物に関するものである。 The present invention relates to a curable resin composition for inkjet that is useful as a solder resist or a marking ink material used in the production of printed wiring boards. Specifically, the cured coating film has a low viscosity and excellent heat resistance. The present invention relates to a curable resin composition for inkjet having good adhesion to a resist ink or marking ink applied later and excellent in overcoatability.
現在、一部の民生用プリント配線板並びにほとんどの産業用プリント配線板用のレジストインキ組成物には、高精度、高密度の観点から、紫外線照射後、現像することにより画像形成し、熱及び光照射で仕上げ硬化(本硬化)する液状現像型ソルダーレジストが使用されている。また環境問題への配慮から、現像液として希アルカリ水溶液を用いるアルカリ現像タイプの液状ソルダーレジストが主流になっている。このような希アルカリ水溶液を用いるアルカリ現像タイプのレジストインキ組成物としては、例えば、ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和基含有モノカルボン酸の反応生成物に酸無水物を付加したカルボキシル基含有感光性樹脂、光重合開始剤、希釈剤及びエポキシ樹脂からなるレジストインキ組成物が開示されている(例えば、特許文献1参照)。 At present, resist ink compositions for some consumer printed wiring boards and most industrial printed wiring boards, from the viewpoint of high accuracy and high density, form images by developing after irradiation with ultraviolet rays, heat and A liquid development type solder resist that is finish-cured (mainly cured) by light irradiation is used. In consideration of environmental problems, an alkali development type liquid solder resist using a dilute alkaline aqueous solution as a developing solution is mainly used. Examples of the alkali development type resist ink composition using such a dilute aqueous alkali solution include, for example, a carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by adding an acid anhydride to a reaction product of a novolak type epoxy resin and an unsaturated group-containing monocarboxylic acid. , A resist ink composition comprising a photopolymerization initiator, a diluent and an epoxy resin is disclosed (for example, see Patent Document 1).
しかしながら、これらソルダーレジスト組成物は、カルボキシル基含有感光性樹脂とエポキシ樹脂の反応性が高いため二液型であり、従って使用前に混合し、数日以内に使用しなければならないという欠点がある。 However, these solder resist compositions are disadvantageous in that they are two-pack type due to the high reactivity of the carboxyl group-containing photosensitive resin and the epoxy resin, and therefore must be mixed and used within a few days before use. .
また、これらソルダーレジスト組成物は、塗布、乾燥、露光、現像、熱硬化など、多くの工程が必要であり、またそれらの工程には、塗布機、乾燥機、露光機、現像機、熱硬化炉などの設備が必要となり製造コストがかかるという欠点がある。 In addition, these solder resist compositions require many processes such as coating, drying, exposure, development, and thermal curing. In these processes, a coating machine, a dryer, an exposure machine, a developing machine, and a thermal curing process. There is a drawback in that equipment such as a furnace is required and manufacturing costs are high.
このようなことから、インクジェットプリンタで描画し、乾燥してソルダーレジストパターンを作成することが提案されている(例えば、特許文献2参照)。しかし、スクリーン印刷法のインキの粘度が2,000〜15,000mPa・s(25℃)であるのに比べて、インクジェットのインキの粘度は10〜150mPa・s(25℃)と低い。従って、このような方法では、乾燥中の熱によりインキの粘度がさらに低下し、ニジミが発生するため、十分な精度が得られず実用化には至ってない。 For this reason, it has been proposed to create a solder resist pattern by drawing with an inkjet printer and drying (see, for example, Patent Document 2). However, the viscosity of the ink for inkjet printing is as low as 10 to 150 mPa · s (25 ° C.), compared to the viscosity of 2,000 to 15,000 mPa · s (25 ° C.) for the screen printing method. Therefore, in such a method, the viscosity of the ink further decreases due to heat during drying, and blurring occurs, so that sufficient accuracy cannot be obtained and practical use has not been achieved.
また、低粘度化するために、低分子量の化合物、例えばトリメチロールプロパントリグリシジルエーテルのようなエポキシ樹脂やトリアリルイソシアヌレート(TAIC)などを希釈剤として用いた組成物は、耐熱性や硬化性に欠けるという問題があった。 In addition, in order to reduce the viscosity, a composition using a low molecular weight compound, for example, an epoxy resin such as trimethylolpropane triglycidyl ether or triallyl isocyanurate (TAIC) as a diluent, has heat resistance and curability. There was a problem of lacking.
一方、ソルダーレジストを用いて形成された硬化塗膜は、塗膜に入った傷を補修する、マーキングインキを塗布する等の目的で、硬化塗膜上に後からレジストインキまたはマーキングインキを重ね塗りするケースが少なくない。このためソルダーレジスト硬化膜には、レジストインキ又はマーキングインキとの良好な密着性が要求されるが、アクリル系、シリコン系界面活性剤等の一般的なレベリング剤や消泡剤を含有する従来のソルダーレジストでは、重ね塗りするレジストインキ又はマーキングインキの粘度が低いために該インキがはじかれピンホールが生じやすかったり、密着性が充分でないために熱硬化時に剥離しやすいという問題のあることが本発明者等により確認された。
本発明は、前記のような問題に鑑み開発されたものであり、その主たる目的は、プリント配線板の製造に有用な耐熱性及び重ね塗り性に優れる低粘度のインクジェット用硬化性樹脂組成物、及びその硬化物並びにそれを用いたプリント配線板を提供することにある。 The present invention has been developed in view of the above problems, and its main purpose is a low-viscosity curable resin composition for inkjet that is excellent in heat resistance and overcoatability useful for the production of printed wiring boards, And a cured product thereof and a printed wiring board using the cured product.
前記目的を達成するために、本発明の基本的な態様として、(A)下記一般式(1)で表されるビスアリルナジイミド化合物:
(式中、R1は、炭素数2〜18のアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。)、(B)平均粒子径5乃至100nmのシリカまたはアルミナ微粒子を希釈剤に分散してなるディスパージョン、及び(C)希釈剤を含有してなり、粘度が25℃で150mPa・s以下であるインクジェット用硬化性樹脂組成物が提供される。 (Wherein R 1 represents an alkyl group having 2 to 18 carbon atoms, an aryl group or an aralkyl group.), (B) Disperser obtained by dispersing silica or alumina fine particles having an average particle diameter of 5 to 100 nm in a diluent. John and (C) a curable resin composition for inkjet which contains a diluent and has a viscosity of 150 mPa · s or less at 25 ° C. are provided.
好適な態様として、前記ディスパージョン(B)のシリカまたはアルミナ微粒子は、シリコーン系表面処理剤で表面処理されている。 As a preferred embodiment, the silica or alumina fine particles of the dispersion (B) are surface-treated with a silicone-based surface treatment agent.
また、好適な他の態様としては、前記希釈剤(C)が、有機溶剤(C−1)及び/又は重合性モノマー(C−2)であるインクジェット用硬化性樹脂組成物が提供される。ここで、重合性モノマー(C−2)は、アクリロイル基及び/又はメタクリロイル基を有することが更に好ましい。 Moreover, as another suitable aspect, the curable resin composition for inkjets in which the diluent (C) is an organic solvent (C-1) and / or a polymerizable monomer (C-2) is provided. Here, it is more preferable that the polymerizable monomer (C-2) has an acryloyl group and / or a methacryloyl group.
他の態様として、更に(D)下記一般式(2)で表されるビスマレイミド化合物を含有するインクジェット用硬化性樹脂組成物が提供される。
式中、R2は、炭素数2〜32のアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。 Wherein, R 2 represents an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group having 2 to 32 carbon atoms.
更に、本発明の他の側面によれば、上記インクジェット用硬化性樹脂組成物をインクジェットプリンタで所望のパターンに描画し熱硬化し、もしくは紫外線を照射して光硬化させた後更に熱硬化して得られる硬化物、並びにこれら硬化物からなるソルダーレジストを有するプリント配線板が提供される。 Further, according to another aspect of the present invention, the ink-jet curable resin composition is drawn in a desired pattern with an ink-jet printer and thermally cured, or is irradiated with ultraviolet rays and photocured and then further heat-cured. A cured product obtained and a printed wiring board having a solder resist made of these cured products are provided.
本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物は、低粘度であることにより、インクジェットプリンタで塗布することが可能であり、さらに、本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物を熱硬化して得られる硬化物は、耐熱性に優れていることから、プリント配線板用のソルダーレジストやマーキングインクとして使用することが可能となる。このように、インクジェットプリンタでソルダーレジストを形成することにより、生産性が向上し、プリント配線板の低コスト化にも貢献できる。 The ink-jet curable resin composition of the present invention can be applied with an ink-jet printer because of its low viscosity, and is further cured by thermosetting the ink-jet curable resin composition of the present invention. Since the product is excellent in heat resistance, it can be used as a solder resist or marking ink for printed wiring boards. Thus, by forming a solder resist with an inkjet printer, productivity can be improved and it can also contribute to the cost reduction of a printed wiring board.
更に、本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物を用いて、インクジェットプリンタでソルダーレジストを形成することにより、工程が簡略化し、生産性が向上し、また設備の維持費等も低減でき、低コスト化が可能となる。 Furthermore, by using the ink-jet curable resin composition of the present invention to form a solder resist with an ink-jet printer, the process can be simplified, productivity can be improved, and equipment maintenance costs can be reduced. Can be realized.
また、本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物は重ね塗り性に優れるため、その硬化塗膜に生じた傷の補修等のリペアが容易であり、またマーキングインキ塗装においてピンホールや剥離も生じ難い。 Moreover, since the curable resin composition for inkjet of the present invention is excellent in overcoatability, repair such as repair of scratches on the cured coating film is easy, and pinholes and peeling are not easily caused in marking ink coating. .
本発明者等は、前掲の課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、(A)一般式(1)で表されるビスアリルナジイミド化合物、(B)平均粒子径5乃至100nmのシリカまたはアルミナ微粒子が希釈剤に分散してなるディスパージョン、及び(C)希釈剤を含有してなる化合物が、プリント配線板に用いるソルダーレジストやマーキングインキに必要な耐熱性等の特性を維持した状態において、インクジェットで塗布可能な25℃で150mPa・s以下の粘度にすることができ、更に該組成物からなる硬化塗膜は、後から塗布されるレジストインキやマーキングインキとの密着性にも優れることを見出し、本発明を完成させるに至ったものである。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have obtained (A) a bisallylnadiimide compound represented by the general formula (1), (B) silica having an average particle diameter of 5 to 100 nm, or In a state where the dispersion in which the alumina fine particles are dispersed in the diluent and the compound containing the (C) diluent maintain the characteristics such as heat resistance necessary for the solder resist and the marking ink used for the printed wiring board The viscosity can be 150 mPa · s or less at 25 ° C., which can be applied by inkjet, and the cured coating film made of the composition has excellent adhesion to resist ink and marking ink applied later. And the present invention has been completed.
すなわち、一般式(1)で表されるビスアリルナジイミド化合物(A)は、耐熱性に優れ且つ比較的低分子量であることから、耐熱性に加え低粘度であることが求められるインクジェット用ソルダーレジストインキやマーキングインキ用材料を構成する熱硬化性樹脂成分として好適である。更に、ビスアリルナジイミド化合物(A)は、任意成分であるビスマレイミド化合物(D)と併用することにより、硬化温度を単独での250℃前後からプリント配線板の製造で一般的用いられている100〜200℃、好ましくは140〜180℃にすることが可能となる。また、ビスアリルナジイミド化合物(A)をビスマレイミド化合物(D)と併用することにより、ビスマレイミド化合物(D)の結晶性が低下し、さらに希釈剤(C)を加えることにより、低粘度で保存安定性に優れた液状の組成物を提供することが可能となる。 That is, the bisallyl nadiimide compound (A) represented by the general formula (1) is excellent in heat resistance and has a relatively low molecular weight, so that it is required to have low viscosity in addition to heat resistance. It is suitable as a thermosetting resin component constituting a resist ink or marking ink material. Furthermore, the bisallyl nadiimide compound (A) is generally used in the production of printed wiring boards from about 250 ° C. alone when used together with the optional bismaleimide compound (D). It becomes possible to make it 100-200 degreeC, Preferably it is 140-180 degreeC. Further, by using the bisallylnadiimide compound (A) in combination with the bismaleimide compound (D), the crystallinity of the bismaleimide compound (D) is lowered, and by adding a diluent (C), the viscosity is reduced. It becomes possible to provide a liquid composition having excellent storage stability.
更に、平均粒子径5乃至100nmのシリカまたはアルミナ微粒子が希釈剤に分散してなるディスパージョン(B)を加えることにより、重ね塗り性に優れ、同時にレベリング性に優れはじきが少ない優れた塗布性が得られる。 Furthermore, by adding a dispersion (B) in which silica or alumina fine particles having an average particle size of 5 to 100 nm are dispersed in a diluent, it is excellent in overcoatability, and at the same time has excellent leveling properties and excellent coating properties with little repelling. can get.
以下、本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物の各構成成分について詳しく説明する。
まず、本発明において用いられるビスアリルナジイミド化合物(A)は、下記一般式(1):
First, the bisallyl nadiimide compound (A) used in the present invention has the following general formula (1):
(式中、R1は、炭素数2〜18のアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。)で示される化合物であることが好ましく、特に好ましいものとしては、R1が、下式(3)、(4)及び(5):
で示される化合物のいずれかであり、具体的には、丸善石油化学社製のBANI−M、BANI−H、BANI−X(何れも製品グレード名)などが挙げられる。 Specific examples thereof include BANI-M, BANI-H, and BANI-X (all of which are product grade names) manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.
これらビスアリルナジイミド化合物(A)は、単独または2種類以上を混合して用いても良く、その配合量は、後述の希釈剤(C)に用いられる有機溶剤を除いた組成物中に、30〜96質量%となる範囲が好ましい。 These bisallylnadiimide compounds (A) may be used alone or in combination of two or more, and the blending amount thereof is in the composition excluding the organic solvent used for the diluent (C) described later, The range which becomes 30-96 mass% is preferable.
尚、必要に応じて、希釈効果のあるモノアリルナジイミド、例えば丸善石油化学社製のANI−HP(製品グレード名)などを配合しても良い。 In addition, you may mix | blend monoallyl nadiimide with a dilution effect, for example, ANI-HP (product grade name) by Maruzen Petrochemical Co., Ltd. etc. as needed.
本発明において用いられるビスマレイミド化合物(D)は、下記一般式(2):
(式中、R2は、炭素数2〜32のアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。)
で示される化合物であることが好ましく、特に好ましいものとしては、R2が、下記式(6)、(7)、(8)及び(9):
It is preferable that R 2 is represented by the following formulas (6), (7), (8) and (9):
で示される化合物のいずれかであり、具体的には、ケイ・アイ化成社製のBMI、BMI−70、BMI−80(何れも製品グレード名)、大和化成工業社製のBMI−1000、BMI−3000、BMI−4000、BMI−5000(何れも製品グレード名)などが挙げられる。 Specifically, BMI, BMI-70, BMI-80 (all are product grade names) manufactured by Kay Kasei Co., Ltd., BMI-1000, BMI manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd. -3000, BMI-4000, BMI-5000 (all are product grade names).
これらビスマレイミド化合物(D)は、単独または2種類以上を混合して用いても良く、その配合量は、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して、4〜45質量部、好ましくは15〜35質量部である。ビスマレイミド化合物(D)の配合量が、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して、4質量部未満の場合、硬化性が低下し、好ましくない。一方、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して、45質量部を超えた場合、耐熱性や硬化性が低下したり、結晶性が強くなり、インクジェットノズルの目詰まりの原因となるので、好ましくない。 These bismaleimide compounds (D) may be used alone or in admixture of two or more, and the blending amount thereof is 4 to 45 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the bisallylnadiimide compound (A), Preferably it is 15-35 mass parts. When the amount of the bismaleimide compound (D) is less than 4 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the bisallylnadiimide compound (A), the curability is lowered, which is not preferable. On the other hand, when it exceeds 45 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the bisallylnadiimide compound (A), the heat resistance and curability are lowered, the crystallinity is increased, and the inkjet nozzle is clogged. This is not preferable.
尚、必要に応じて、希釈効果のあるモノマレイミド化合物、例えばフェニルマレイミドやシクロヘキシルマレイミド、硬化性向上効果のあるアニリン樹脂から誘導される多官能マレイミド化合物、例えばBMI−2000(製品グレード名)などを配合しても良い。 In addition, if necessary, a monomaleimide compound having a diluting effect, such as phenylmaleimide or cyclohexylmaleimide, a polyfunctional maleimide compound derived from an aniline resin having an effect of improving curability, such as BMI-2000 (product grade name), etc. You may mix.
本発明において特定範囲の平均粒子径を有するシリカまたはアルミナ微粒子のディスパージョン(B)は、従来用いられているアクリル系、シリコン系界面活性剤等の一般的なレベリング剤や消泡剤に替え、あるいはこれらと共に用いられる。上述したように、該ディスパージョン(B)を添加することにより、その硬化塗膜に後から重ね塗りされるレジストインキやマーキングインキとの密着性が向上し、重ね塗り性に優れた硬化性樹脂組成物を得ることができる。 In the present invention, the dispersion of silica or alumina fine particles having an average particle diameter in a specific range (B) is replaced with a conventional leveling agent or antifoaming agent such as an acrylic or silicon surfactant, Or it is used with these. As described above, by adding the dispersion (B), the adhesiveness with a resist ink or marking ink to be overcoated later on the cured coating film is improved, and a curable resin having excellent overcoatability. A composition can be obtained.
これは、後掲の実施例において示すように、本発明のディスパージョン(B)が添加された樹脂組成物は、塗布液(インキ)の表面張力を下げる一方、塗膜の表面張力は下げないことに起因するものと考えられる。 This is because the resin composition to which the dispersion (B) of the present invention is added lowers the surface tension of the coating liquid (ink), but does not lower the surface tension of the coating film, as shown in the Examples below. This is thought to be caused by this.
本発明においてシリカまたはアルミナ微粒子の平均粒子径は5〜100nmであり、好ましくは10〜30nmである。かかる微粒子は、シリコーンまたはシリコーンにポリエステル変性、ポリエーテル変性などを行い、相溶性をコントロールしたシリコーン系の表面処理剤で表面処理されていることが好ましい。表面処理剤はシリカ又はアルミナ微粒子に強く吸着するようにシラノール基のあるもの、または加水分解でシラノール基を与えるエトキシ基、メトキシ基があるものが望ましい。 In the present invention, the average particle diameter of silica or alumina fine particles is 5 to 100 nm, preferably 10 to 30 nm. Such fine particles are preferably surface-treated with a silicone-based surface treatment agent in which silicone or silicone is modified with polyester, modified with polyether or the like, and the compatibility is controlled. The surface treatment agent is preferably one having a silanol group so as to strongly adsorb to silica or alumina fine particles, or one having an ethoxy group or a methoxy group that gives a silanol group by hydrolysis.
表面処理方法としては、分散前にシリカまたはアルミナ微粒子を攪拌しながらシリコーン系表面処理剤を噴霧してもよいし、シリカまたはアルミナ微粒子と希釈剤の配合時に添加してもよい。 As the surface treatment method, the silicone surface treatment agent may be sprayed while stirring the silica or alumina fine particles before dispersion, or may be added when the silica or alumina fine particles and the diluent are blended.
平均粒子径の測定は、レーザー散乱法やレーザードップラーによる電気泳動法による粒度分布の測定法などがあるが、フィールドエミッションSEMにて10万倍で粒子径を測定し、その平均値を求める方法が好ましい。 The average particle size can be measured by measuring the particle size with a field emission SEM at 100,000 times using a laser scattering method or a laser Doppler electrophoresis method. preferable.
本発明では、かかる無機微粒子を希釈剤に均一に分散させたディスパージョンとして添加するが、ディスパージョンとして添加することの利点の一つは、無機微粒子の二次凝集を抑制することができ、樹脂組成物中に均一に分散させることができることにある。希釈剤は、シリカやアルミナを均一に分散させ得るものであれば、有機溶剤、光重合性モノマー等、特に制限されることなく使用することができ、有機溶剤および光重合性モノマーの具体例としては、以下に掲げるPMAやTPGDA、HDDAの他、後掲の希釈剤(C)において例示した化合物が挙げられる。 In the present invention, the inorganic fine particles are added as a dispersion uniformly dispersed in a diluent. One of the advantages of adding the dispersion as a dispersion is that the secondary aggregation of the inorganic fine particles can be suppressed, and the resin It exists in being able to disperse | distribute uniformly in a composition. The diluent can be used without particular limitation, such as an organic solvent and a photopolymerizable monomer, as long as it can uniformly disperse silica and alumina. As specific examples of the organic solvent and the photopolymerizable monomer, In addition to PMA, TPGDA, and HDDA listed below, the compounds exemplified in the diluent (C) described below can be used.
このようなディスパージョン(B)としては、公知のものを用いることができる。例えば、メトキシプロピルアセテート(PMA)にシリカ微粒子を分散させたBYK Chemie社製のNANOBYK−3650(商品名)や、トリプロピレンジアクリレート(TPGDA)、ヘキサンジオールジアクリレート(HDDA)、またはPMAにアルミナ微粒子を分散させた各々NANOBYK−3601、3602、3610(商品名)、光重合性モノマーにシリカ微粒子を分散させたHanse−Chemie社製のNANOCRYL C145、C146、C350、C140、C150(商品名)などが挙げられる。これらを単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。これらの中でもシリコーン又はその誘導体で表面処理をした微粒子を分散させてなるNANOBYK−3650、NANOBYK−3610が好適に用いられる。 As such a dispersion (B), a well-known thing can be used. For example, BYK Chemie's NANOBYK-3650 (trade name) with silica fine particles dispersed in methoxypropyl acetate (PMA), tripropylene diacrylate (TPGDA), hexanediol diacrylate (HDDA), or PMA with alumina fine particles NANOBYK-3601, 3602, 3610 (trade names) in which NO is dispersed, NANOCRYL C145, C146, C350, C140, C150 (trade names) manufactured by Hanse-Chemie, in which silica fine particles are dispersed in a photopolymerizable monomer, and the like. Can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more. Among these, NANOBYK-3650 and NANOBYK-3610 in which fine particles surface-treated with silicone or a derivative thereof are dispersed are preferably used.
上記ディスパージョン(B)の配合量は、硬化性樹脂組成物100質量部に対して好ましくは0.05〜10質量部であり、より好ましくは0.1〜5質量部である。 The amount of the dispersion (B) is preferably 0.05 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable resin composition.
本発明において用いられる希釈剤(C)としては、有機溶剤(C−1)、及び/又は重合性モノマー(C−2)が用いられ、重合性モノマー(C−2)としてはアクリロイル基及び/又はメタクリロイル基を有するものが好ましい。 As the diluent (C) used in the present invention, an organic solvent (C-1) and / or a polymerizable monomer (C-2) is used, and an acryloyl group and / or a polymerizable monomer (C-2) is used. Or what has a methacryloyl group is preferable.
前記有機溶剤(C−1)としては、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類;セロソルブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、炭酸プロピレン等のエステル類;オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素類;石油エーテル、石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤など、公知慣用の有機溶剤が使用できる。これら有機溶剤は、単独で又は二種類以上組み合わせて用いることができる。 Examples of the organic solvent (C-1) include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and tetramethylbenzene; cellosolve, methyl cellosolve, butyl cellosolve, carbitol, methylcarbitol, butylcarbi Toluene, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether and other glycol ethers; ethyl acetate, butyl acetate, butyl lactate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, butyl Carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether Seteto, esters such as propylene carbonate; octane, aliphatic hydrocarbons decane; petroleum ether, petroleum naphtha, and petroleum solvents such as solvent naphtha, organic solvents conventionally known can be used. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more.
前記重合性モノマー(C−2)としては、スチレン、クロロスチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン誘導体;酢酸ビニル、酪酸ビニル又は安息香酸ビニルなどのビニルエステル類;ビニルイソブチルエーテル、ビニル−n−ブチルエーテル、ビニル−t−ブチ
ルエーテル、ビニル−n−アミルエーテル、ビニルイソアミルエーテル、ビニル−n−オクタデシルエーテル、ビニルシクロヘキシルエーテル、エチレングリコールモノブチルビニルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルビニルエーテルなどのビニルエーテル類;アクリルアミド、メタクリルアミド、N−ヒドロキシメチルアクリルアミド、N−ヒドロキシメチルメタクリルアミド、N−メトキシメチルアクリルアミド、N−エトキシメチルアクリルアミド、N−ブトキシメチルアクリルアミドなどの(メタ)アクリルアミド類;トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリルなどのアリル化合物;2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、メチルトリグリコール(メタ)アクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、3−メトキシブチル(メタ)アクリレート、メトキシプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、1,3―ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、4−(メタ)アクリロイルオキシメチルー2−メチルー2−エチルー1,3−ジオキソラン、4−(メタ)アクリロイルオキシメチルー2−イソブチルー2−エチルー1,3−ジオキソラン、4−(メタ)アクリロイルオキシメチルー2−シクロヘキシルー1,3−ジオキソラン、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートのなどの1分子中にアクリロイル基及び/又はメタクリロイル基が1個以上有する化合物が挙げられる。
Examples of the polymerizable monomer (C-2) include styrene derivatives such as styrene, chlorostyrene, and α-methylstyrene; vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate; vinyl isobutyl ether, vinyl-n-butyl ether. Vinyl ethers such as vinyl-t-butyl ether, vinyl-n-amyl ether, vinyl isoamyl ether, vinyl-n-octadecyl ether, vinyl cyclohexyl ether, ethylene glycol monobutyl vinyl ether, triethylene glycol monomethyl vinyl ether; acrylamide, methacrylamide, N-hydroxymethylacrylamide, N-hydroxymethylmethacrylamide, N-methoxymethylacrylamide, N-ethoxymethylacrylamide, N-but (Meth) acrylamides such as dimethyl acrylamide; allyl compounds such as triallyl isocyanurate, diallyl phthalate, diallyl isophthalate; 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, 2 -Hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, methyltriglycol (Meth) acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-ethylhexyl carbitol acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, metho Xylidiethylene glycol (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate, methoxypropylene glycol (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol Di (meth) acrylate, 1,5-pentanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6 Hexanediol di (meth) acrylate, 1,9 nonanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate 4- (meth) acryloyloxymethyl-2-methyl-2-ethyl-1,3-dioxolane, 4- (meth) acryloyloxymethyl-2-isobutyl-2-ethyl-1,3-dioxolane, 4- (meth) acryloyloxymethyl Ro-2-cyclohexyl 1,3-dioxolane, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa ( Examples thereof include compounds having one or more acryloyl groups and / or methacryloyl groups in one molecule, such as (meth) acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate.
これらの中で、1分子中に1〜4個のアクリロイル基及び/又はメタクリロイル基を有する化合物が好ましく、さらに粘度が、25℃で300mPa・s以下となる化合物が特に好ましい。 Among these, compounds having 1 to 4 acryloyl groups and / or methacryloyl groups in one molecule are preferable, and compounds having a viscosity of 300 mPa · s or less at 25 ° C. are particularly preferable.
これら重合性モノマー(C−2)は、単独または2種類以上を混合して用いても良い。 These polymerizable monomers (C-2) may be used alone or in admixture of two or more.
なお、本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート、メタクリレート及びそれらの混合物を総称する用語で、他の類似の表現についても同様である。 In addition, in this specification, (meth) acrylate is a term that collectively refers to acrylate, methacrylate, and mixtures thereof, and the same applies to other similar expressions.
これら希釈剤(C)の配合量としては、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して、好ましくは25〜1900質量部、より好ましくは40〜400質量部である。但し、全希釈剤(C)中の重合性モノマー(C−2)の配合量は、ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して25〜200質量部であることが好ましい。希釈剤(C)の配合量が、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して、25質量部未満の場合、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)の溶解不良が起きたり、高粘度化して塗布できなくなるので好ましくない。一方、希釈剤(C)が有機溶剤(C−1)単独であり、その配合量が、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して、1900質量部を超えた場合、固形分の含有量が少なくなり、膜厚確保が困難となる。また、全希釈剤(C)中の重合性モノマー(C−2)の配合量が、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して、200質量部を超えた場合、硬化時に塗膜の割れが出易くなるので好ましくない。 As a compounding quantity of these diluents (C), Preferably it is 25-1900 mass parts with respect to 100 mass parts of said bisallyl nadiimide compounds (A), More preferably, it is 40-400 mass parts. However, it is preferable that the compounding quantity of the polymerizable monomer (C-2) in all the diluents (C) is 25-200 mass parts with respect to 100 mass parts of bisallyl nadiimide compounds (A). When the blending amount of the diluent (C) is less than 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the bisallylnadiimide compound (A), poor dissolution of the bisallylnadiimide compound (A) may occur. It is not preferable because it becomes too viscous to be applied. On the other hand, when the diluent (C) is the organic solvent (C-1) alone and the blending amount thereof exceeds 1900 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the bisallylnadiimide compound (A), the solid content Therefore, it becomes difficult to ensure the film thickness. Moreover, when the compounding quantity of the polymerizable monomer (C-2) in all the diluents (C) exceeds 200 mass parts with respect to 100 mass parts of the said bisallyl nadiimide compound (A), it coats at the time of hardening. It is not preferable because the film easily breaks.
本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物には、硬化性を向上させるために、熱又は活性エネルギー線照射によりラジカルを発生するラジカル重合開始剤(E)を配合しても良い。このようなラジカル重合開始剤(E)としては、銅箔等の金属表面を酸化させる過酸化物を除く公知慣用の重合開始剤が使用でき、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインとベンゾインアルキルエーテル類;アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン等のアセトフェノン類;2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン、N,N−ジメチルアミノアセトフェノン等のアミノアセトフェノン類;2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン等のアントラキノン類;2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;ベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類又はキサントン類;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドや、2−トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−シアノスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール等のハロメチルオキサジアゾール系化合物;2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシ−フェニルビニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−p−メトキシスチリル−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(1−p−ジメチルアミノフェニル−1,3−ブタジエニル)−s−トリアジン等のハロメチル−s−トリアジン系化合物が挙げられる。 In order to improve curability, the curable resin composition for inkjet of the present invention may contain a radical polymerization initiator (E) that generates radicals by irradiation with heat or active energy rays. As such radical polymerization initiator (E), known and conventional polymerization initiators excluding peroxides that oxidize metal surfaces such as copper foil can be used. For example, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl Benzoin and benzoin alkyl ethers such as ether; acetophenones such as acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone; 2-methyl-1 -[4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, N, N-dimethylamino Aminoacetophenones such as acetophenone; 2- Anthraquinones such as tilanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone; 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, etc. Thioxanthones; ketones such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; benzophenones and xanthones such as benzophenone and 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and 2-trichloro Halomethyl esters such as methyl-5-styryl-1,3,4-oxadiazole and 2-trichloromethyl-5- (p-cyanostyryl) -1,3,4-oxadiazole Sadiazole compounds; 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (p-methoxy-phenylvinyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-p-methoxystyryl- and halomethyl-s-triazine compounds such as s-triazine and 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (1-p-dimethylaminophenyl-1,3-butadienyl) -s-triazine.
更には、N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、N,N−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ペンチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の第三級アミン類などの重合開始助剤を加えることができる。 Furthermore, polymerization initiation aids such as tertiary amines such as N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, N, N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, triethylamine, triethanolamine, etc. An agent can be added.
これらラジカル重合開始剤(E)は、単独または2種類以上を混合して用いても良く、その配合量は、前記希釈剤(C)としての有機溶剤(C−1)を除いた組成物中に、10質量%以下であり、好ましくは0.5〜5質量%である。ラジカル重合開始剤(E)の配合量が10質量%を超えた場合、塗膜特性の低下が起こり、好ましくない。 These radical polymerization initiators (E) may be used alone or in admixture of two or more, and the blending amount thereof is in the composition excluding the organic solvent (C-1) as the diluent (C). Furthermore, it is 10 mass% or less, Preferably it is 0.5-5 mass%. When the blending amount of the radical polymerization initiator (E) exceeds 10% by mass, the coating film characteristics are deteriorated, which is not preferable.
さらに、本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、ジシアンジアミド、o−トリルビグアニド、グアナミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン類、メラミンなどの酸化防止剤;アントラキノン系、ペリレン系、ジスアゾ系、イソインドリン系、フタロシアニン系などの有機顔料;消泡剤;密着性付与剤;レベリング剤;顔料分散剤等の各種添加剤類を配合することもができる。 Furthermore, the curable resin composition for inkjet according to the present invention includes, as necessary, guanamines such as dicyandiamide, o-tolylbiguanide, guanamine, acetoguanamine, benzoguanamine, and antioxidants such as melamine; anthraquinone type, perylene type Various additives such as organic pigments such as disazo, isoindoline, and phthalocyanine; antifoaming agents; adhesion-imparting agents; leveling agents; and pigment dispersants can also be blended.
これらの添加剤の配合量は、レジスト組成物の不揮発分100質量部に対して、5質量部以下である。添加剤の配合量が、5質量部を超えた場合、レジスト組成物の粘度が上昇し、インクジェット塗布性を低下したり、塗膜特性が低下するので好ましくない。 The compounding quantity of these additives is 5 mass parts or less with respect to 100 mass parts of non volatile matters of a resist composition. When the compounding amount of the additive exceeds 5 parts by mass, the viscosity of the resist composition is increased, which is not preferable because the ink jet coating property is deteriorated or the coating film property is deteriorated.
以上の成分を配合して得られた本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物は、撹拌機、又は分散機、例えばロールミル、サンドミル、ボールミル、ビーズミルあるいはアトライターのような分散機を使用して均一になるまで、混合・分散して調整する。 The ink-jet curable resin composition of the present invention obtained by blending the above components is uniform using a stirrer or a disperser, for example, a disperser such as a roll mill, sand mill, ball mill, bead mill or attritor. Adjust until mixed.
このようにして得られた本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物は、インクジェットプリンタで塗布できるように、25℃で150mPa・s以下、好ましくは110〜5mPa・sに、希釈剤(C)で粘度調整する。 The curable resin composition for inkjet of the present invention thus obtained is 150 mPa · s or less, preferably 110 to 5 mPa · s at 25 ° C. with a diluent (C) so that it can be applied with an inkjet printer. Adjust the viscosity.
このように調整された本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物は、回路形成されたプリント配線板表面にインクジェットプリンタで所望のパターンに描画し、その後100〜200℃、好ましくは140〜180℃で、10〜60分、熱硬化することにより、耐熱性等に優れた硬化物からなるレジストパターンを得ることができる。また、前記希釈剤(C)として、重合性モノマー(C−2)を用い、活性エネルギー線照射によりラジカルを発生する前記ラジカル重合開始剤(E)を配合した組成物の場合、回路形成されたプリント配線板表面にインキジェットプリンタで所望のパターンに描画した後、紫外線等の活性エネルギー線を照射し光硬化させることにより、ニジミ等の少ないパターンを形成することができ、その後さらにその後100〜200℃、好ましくは140〜180℃で、10〜60分、熱硬化することにより、耐熱性に優れた硬化物からなるレジストパターンを得ることができる。 The ink-jet curable resin composition of the present invention thus adjusted is drawn in a desired pattern with an ink-jet printer on the surface of a printed wiring board on which a circuit is formed, and then at 100 to 200 ° C., preferably 140 to 180 ° C. The resist pattern which consists of hardened | cured material excellent in heat resistance etc. can be obtained by thermosetting for 10 to 60 minutes. In addition, a circuit was formed in the case of a composition in which the polymerizable monomer (C-2) was used as the diluent (C) and the radical polymerization initiator (E) that generated radicals upon irradiation with active energy rays was blended. After drawing a desired pattern on the surface of the printed wiring board with an ink jet printer, a pattern with less blurring can be formed by irradiating with an active energy ray such as ultraviolet rays and photocuring, and then further 100 to 200 after that. A resist pattern made of a cured product having excellent heat resistance can be obtained by heat curing at 10 ° C., preferably 140 to 180 ° C. for 10 to 60 minutes.
上記インクジェットプリンタとしては、オンデマンド・ピエゾ方式のインクジェットプリンタが好適に用いられ、ノズルを室温、又は約60℃以下に加温して塗布することができる。 As the ink jet printer, an on-demand piezo ink jet printer is preferably used, and the nozzle can be applied at a room temperature or about 60 ° C. or less.
また、前記活性エネルギー線の照射光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ又はメタルハライドランプなどが適当であり、レーザー光線なども活性エネルギー線として利用できる。 Moreover, as the irradiation light source of the active energy ray, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, or the like is suitable, and a laser beam or the like can also be used as the active energy ray.
このようにアルカリ現像型ソルダーレジストのような複雑な工程を必要としないことから、低価格で、かつイオン性物質等の付着が無い、信頼性の高いプリント配線板を提供することが可能となる。 Thus, since a complicated process such as an alkali development type solder resist is not required, it is possible to provide a highly reliable printed wiring board at a low price and free from adhesion of an ionic substance or the like. .
以下、本発明の実施例等により具体的に説明するが本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、以下において特に断りのない限り、「部」は質量部を意味するものとする。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples and the like, but the present invention is not limited to these examples. In the following description, “part” means part by mass unless otherwise specified.
次の表1に示す配合成分を、混合・撹拌して、1μmのフィルターで濾過し、インクジェット用硬化性樹脂組成物を得た。
上記のようにして得られた硬化性樹脂組成物各々について粘度、表面張力を測定した後、回路形成されたプリント配線板(FR−4)上に、オンデマンド・ピエゾ方式のインクジェットプリンタで全面に厚み20μmになるよう均一に塗布し、塗布性を評価した。UVコンベア炉で2000mJ/cm2露光した後、熱風循環式乾燥炉で160℃、30分間、熱硬化した。得られた硬化膜に同様に塗布を繰り返し重ね塗り性を評価した。結果を、表2に示す。
上記表2中の性能試験の評価方法は、以下の通りである。 The evaluation method of the performance test in Table 2 is as follows.
(1)粘度
上記のようにして得られたインクジェット用硬化性樹脂組成物の粘度は、振動式粘度計(株)製 ビスコメイトVM−100A プローブLを使用し、23℃で測定した。
(1) Viscosity The viscosity of the curable resin composition for inkjet obtained as described above was measured at 23 ° C. using Viscomate VM-100A probe L manufactured by Vibrating Viscometer Co., Ltd.
(2)インキの表面張力
ビックガードナー社製 ダイノメーターによる白金リング法に準拠し測定した。
(2) Ink surface tension Measured according to the platinum ring method using a dynamometer manufactured by Big Gardner.
(3)塗膜の表面張力
関東化学社製 表面張力指示薬の27mN/mから37mN/mの各種を綿棒で塗膜表面に塗布し直後の液の広がりを観察し、広がりが見られる最大の数値を記録することにより測定した。
(3) Surface tension of the coating film Kanto Kagaku Co., Ltd. Surface tension indicators of 27mN / m to 37mN / m are applied to the surface of the coating film with a cotton swab. Was recorded.
(4)塗布性
○:はじきピンホールがなく均一に塗布できている。
(4) Application property ○: There is no repelling pinhole, and it can be applied uniformly.
×:はじきピンホールが発生している。 X: A repelling pinhole has occurred.
(5)重ね塗り性
○:はじきピンホールがなく均一に塗布できている。
(5) Overcoatability ○: There is no repelling pinhole and it can be applied uniformly.
△:はじきピンホールが部分的に発生している。 Δ: Repelling pinholes are partially generated.
×:はじきピンホールが激しく発生している。 X: A repelling pinhole is intensely generated.
表2の結果から、実施例1のみ重ね塗り性に優れることがわかった。表面張力に注目すると、実施例1は比較例1に比しインキの表面張力は同じであるが、塗膜の表面張力は低く、一方、比較例2および3に比し塗膜の表面張力は同じであるがインキの表面張力は低いことがわかる。 From the results in Table 2, it was found that only Example 1 was excellent in overcoatability. When attention is paid to the surface tension, the surface tension of the ink in Example 1 is the same as that in Comparative Example 1, but the surface tension of the coating film is low, whereas the surface tension of the coating film is lower than in Comparative Examples 2 and 3. Although it is the same, it turns out that the surface tension of ink is low.
Claims (9)
を含有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のインクジェット用硬化性樹脂組成物。 Further, (D) a bismaleide compound represented by the following general formula (2):
The curable resin composition for inkjet according to any one of claims 1 to 4, comprising:
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2006
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