JP2008036454A - 塗布装置及び電気光学装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】塗布範囲の制御を容易に行うことができる塗布装置及び電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】溶剤を塗布領域2aに塗布する溶剤吐出ノズル3と、溶剤が配置された塗布領域2aを挟んで一方側から他方側に向けて気体を流動させる気体吐出ノズル4及び吸引ノズル5からなる気体流動手段15とを備え、基板2上に形成された塗布領域2aに溶剤を塗布する。
【選択図】図2
【解決手段】溶剤を塗布領域2aに塗布する溶剤吐出ノズル3と、溶剤が配置された塗布領域2aを挟んで一方側から他方側に向けて気体を流動させる気体吐出ノズル4及び吸引ノズル5からなる気体流動手段15とを備え、基板2上に形成された塗布領域2aに溶剤を塗布する。
【選択図】図2
Description
本発明は、例えば低粘度の溶剤を基板上に塗布する塗布装置及び電気光学装置の製造方法に関するものである。
液晶プロジェクタなどの投射型表示装置に搭載される光変調手段(ライトバルブ)や携帯電話機などに搭載される直視表示装置として用いられる液晶装置は、シール材によって貼り合わされた一対の基板と、この一対の基板及びシール材によって封止された液晶層とを備えている。ここで、基板とシール材との密着性を向上させて液晶装置の耐湿性を改善させることを目的として、基板上のうちシール材を配置する領域に下地用の溶剤を塗布して下地層を形成した後に、シール材の塗布を行っている。
ところで、このような溶剤や接着剤などの液状体の塗布は、一般にディスペンサを用いたノズル方式やスプレー方式などによって行われている(例えば、特許文献1、2参照)。
特開平6−165964号公報
特開平11−333327号公報
ところで、このような溶剤や接着剤などの液状体の塗布は、一般にディスペンサを用いたノズル方式やスプレー方式などによって行われている(例えば、特許文献1、2参照)。
しかしながら、上記従来の塗布方法においても、以下の課題が残されている。すなわち、上述した下地用の溶剤が基板上のうちシール材を配置する領域よりも内側に塗布されると液晶層を構成する液晶に配向不良を生じさせることから、塗布範囲を良好に制御する必要がある。したがって、塗布領域の内側への溶剤の流れ込みや塗布領域における溶剤の未塗布箇所の発生を、効果的に抑制することが望まれている。
本発明は、上記従来の問題に鑑みてなされたもので、塗布範囲の制御を容易に行うことができる塗布装置及び電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。すなわち、本発明にかかる塗布装置は、塗布対象上に設けられた塗布領域に液状体を塗布する塗布装置であって、前記液状体を前記塗布領域に配置する液状体配置手段と、前記液状体が配置された前記塗布領域を挟んで一方側から他方側に向けて気体を流動させる気体流動手段とを備えることを特徴とする。
この発明では、配置した液状体に対して塗布領域を挟んだ一方側から他方側に向けて気体を流動させることで、液状体が一方側に流れ込むことを防止することができるので、塗布範囲の制御が容易となる。
すなわち、液状体の粘性や塗布領域とのヌレ性などに応じて塗布領域上に配置された液状体が塗布領域のみならず一方側の塗布領域外までヌレ広がろうとしても、塗布領域の一方から他方に向けて気体が流動しているので、流動する気体により配置された液状体が他方に向けて押し戻される。そのため、塗布領域上に配置する液状体の量を多くしても、塗布領域の一方側に液状体が流れ込むことを防止できるので、液状体の未塗布箇所の発生を効果的に抑制して液状体の塗布を容易に行える。
すなわち、液状体の粘性や塗布領域とのヌレ性などに応じて塗布領域上に配置された液状体が塗布領域のみならず一方側の塗布領域外までヌレ広がろうとしても、塗布領域の一方から他方に向けて気体が流動しているので、流動する気体により配置された液状体が他方に向けて押し戻される。そのため、塗布領域上に配置する液状体の量を多くしても、塗布領域の一方側に液状体が流れ込むことを防止できるので、液状体の未塗布箇所の発生を効果的に抑制して液状体の塗布を容易に行える。
また、本発明の塗布装置は、前記気体流動手段が、前記塗布領域を挟んで一方側から他方側に向けて気体を吐出する吐出手段を備えることとしてもよい。
この発明では、塗布領域の一方から他方に向けて気体を吐出することで塗布領域上に配置された液状体を塗布領域の一方から他方に向けて吹き流すことにより、塗布領域上に配置された液状体が一方側の塗布領域外までヌレ広がることを抑制する。
この発明では、塗布領域の一方から他方に向けて気体を吐出することで塗布領域上に配置された液状体を塗布領域の一方から他方に向けて吹き流すことにより、塗布領域上に配置された液状体が一方側の塗布領域外までヌレ広がることを抑制する。
また、本発明の塗布装置は、前記気体流動手段が、前記塗布領域の他方側から気体を吸引する吸引手段を備えることとしてもよい。
この発明では、塗布領域の一方から他方に向けて気体を引き込むことにより、塗布領域上に配置された液状体が一方側の塗布領域外までヌレ広がることを抑制する。
この発明では、塗布領域の一方から他方に向けて気体を引き込むことにより、塗布領域上に配置された液状体が一方側の塗布領域外までヌレ広がることを抑制する。
また、本発明の塗布装置は、前記液状体が配置された前記塗布領域を挟んで一方側から他方側に向けて加熱した気体を吐出する加熱気体吐出手段を備えることが好ましい。
この発明では、加熱した気体を配置した液状体に吹き当てることで、液状体を乾燥させると共に、塗布領域の一方から他方に向けて吹き流すことができる。これにより、液状体が一方側の塗布領域外までヌレ広がることをより効果的に抑制できる。また、加熱した気体を吹き当てて液状体を乾燥させるため、揮発性の低い液状体を用いることができる。
この発明では、加熱した気体を配置した液状体に吹き当てることで、液状体を乾燥させると共に、塗布領域の一方から他方に向けて吹き流すことができる。これにより、液状体が一方側の塗布領域外までヌレ広がることをより効果的に抑制できる。また、加熱した気体を吹き当てて液状体を乾燥させるため、揮発性の低い液状体を用いることができる。
また、本発明の塗布装置は、前記塗布領域が、平面視で環状を有しており、前記気体流動手段が、前記塗布領域の内側から外側に向けて前記気体を放射状に流動させることとしてもよい。
この発明では、塗布領域の内側から外側に向けて放射状に気体を流動させることで、気体流動手段を移動させることなく液状体が一方側に流れ込むことを防止することができ、塗布範囲の制御がより容易となる。
この発明では、塗布領域の内側から外側に向けて放射状に気体を流動させることで、気体流動手段を移動させることなく液状体が一方側に流れ込むことを防止することができ、塗布範囲の制御がより容易となる。
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、塗布対象上に設けられた塗布領域に液状体を塗布する塗布工程を有する電気光学装置の製造方法であって、前記塗布工程で、前記液状体を前記塗布領域に配置し、前記液状体が配置された前記塗布領域を挟んで一方側から他方側に向けて気体を流動させることを特徴とする。
この発明では、上述と同様に、配置した液状体に対して塗布領域を挟んだ一方側から他方側に向けて気体を流動させることで、液状体が一方側に流れ込むことを防止することができ、塗布範囲の制御が容易となる。これにより、液状体が塗布領域の一方側にヌレ広がることによって塗布対象における非塗布領域の特性が変化して、電気光学装置による表示品質が劣化することを回避できる。
この発明では、上述と同様に、配置した液状体に対して塗布領域を挟んだ一方側から他方側に向けて気体を流動させることで、液状体が一方側に流れ込むことを防止することができ、塗布範囲の制御が容易となる。これにより、液状体が塗布領域の一方側にヌレ広がることによって塗布対象における非塗布領域の特性が変化して、電気光学装置による表示品質が劣化することを回避できる。
[第1の実施形態]
以下、本発明における塗布装置及び電気光学装置の製造方法の第1の実施形態を、図面に基づいて説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするために縮尺を適宜変更している。
以下、本発明における塗布装置及び電気光学装置の製造方法の第1の実施形態を、図面に基づいて説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするために縮尺を適宜変更している。
〔塗布装置〕
まず、本実施形態における塗布装置を、図1及び図2を参照しながら説明する。ここで、図1は塗布装置の概略構成図、図2は図1の部分拡大斜視図である。
塗布装置1は、図1及び図2に示すように、基板(塗布対象)2に溶剤(液状体)を塗布する装置であって、溶剤吐出ノズル(液状体配置手段)3と、気体吐出ノズル(吐出手段)4と、吸引ノズル(吸引手段)5と、加熱気体吐出ノズル(加熱気体吐出手段)6と、これらを移動させる移動機構7と、基板2が載置されるステージ8と、これらを制御する制御部9とを備えている。ここで、溶剤は、後述する液晶装置(電気光学装置)100の下地層101a,102aを形成するために用いられる下地用の溶剤であって、アルコールを溶媒としており、低粘度を示している。
まず、本実施形態における塗布装置を、図1及び図2を参照しながら説明する。ここで、図1は塗布装置の概略構成図、図2は図1の部分拡大斜視図である。
塗布装置1は、図1及び図2に示すように、基板(塗布対象)2に溶剤(液状体)を塗布する装置であって、溶剤吐出ノズル(液状体配置手段)3と、気体吐出ノズル(吐出手段)4と、吸引ノズル(吸引手段)5と、加熱気体吐出ノズル(加熱気体吐出手段)6と、これらを移動させる移動機構7と、基板2が載置されるステージ8と、これらを制御する制御部9とを備えている。ここで、溶剤は、後述する液晶装置(電気光学装置)100の下地層101a,102aを形成するために用いられる下地用の溶剤であって、アルコールを溶媒としており、低粘度を示している。
基板2は、図2に示すように、平面視矩形状を有しており、その表面の周囲に溶剤が塗布される塗布領域2a(図2に示すハッチング領域)が設けられている。したがって、塗布領域2aは、平面視で矩形の環状となっている。
溶剤吐出ノズル3は、図1及び図2に示すように、基板2と対向する先端に溶剤を基板2上に設けられた塗布領域2aに吐出する吐出口3aが設けられており、基端にチューブ11が接続されている。そして、溶剤吐出ノズル3は、内部に溶剤を供給する溶剤供給部(図示略)に接続されている。また、溶剤吐出ノズル3は、後述する支持台35に固定されており、移動機構7の後述するθ回転軸27の軸回りでの回転に伴ってθ回転軸27の軸回りで回転可能となっている。
チューブ11は、制御部9の後述する空気供給制御部41に接続されており、この空気供給制御部41から内部に圧縮空気が供給されることで上記溶剤供給部から溶剤吐出ノズル3の内部に供給された溶剤を吐出口3aから吐出させる。
チューブ11は、制御部9の後述する空気供給制御部41に接続されており、この空気供給制御部41から内部に圧縮空気が供給されることで上記溶剤供給部から溶剤吐出ノズル3の内部に供給された溶剤を吐出口3aから吐出させる。
気体吐出ノズル4は、基板2と対向する先端に溶剤吐出ノズル3から吐出されて基板2の塗布領域2aに塗布された溶剤に向けて空気を吹き付ける吐出口4aが設けられており、基端にチューブ12が接続されている。また、気体吐出ノズル4は、溶剤吐出ノズル3と同様に、後述する支持台35に固定されており、移動機構7の後述するθ回転軸27の軸回りでの回転に伴ってθ回転軸27の軸回りで回転可能となっている。
チューブ12は、チューブ11と同様に、制御部9の後述する空気供給制御部42に接続されており、この空気供給制御部42から内部に圧縮空気が供給されることで吐出口4aから空気を吐出させる。
チューブ12は、チューブ11と同様に、制御部9の後述する空気供給制御部42に接続されており、この空気供給制御部42から内部に圧縮空気が供給されることで吐出口4aから空気を吐出させる。
吸引ノズル5は、基板2と対向する先端に空気を吸引する吸引口5aが設けられており、基端にチューブ13が接続されている。また、吸引ノズル5は、溶剤吐出ノズル3及び気体吐出ノズル4と同様に、後述する支持台35に固定されており、移動機構7の後述するθ回転軸27の軸回りでの回転に伴ってθ回転軸27の軸回りで回転可能となっている。
チューブ13は、制御部9の後述する空気吸引制御部44に接続されており、この空気吸引制御部44によって吸引口5aから空気を真空吸引する。
チューブ13は、制御部9の後述する空気吸引制御部44に接続されており、この空気吸引制御部44によって吸引口5aから空気を真空吸引する。
これら気体吐出ノズル4及び吸引ノズル5によって、気体流動手段15が構成される。すなわち、気体吐出ノズル4は、吐出口4aを基板2の塗布領域2aを挟んだ内側(一方側)の近傍に吐出口4aを配置した状態で吐出口4aから圧縮空気を吹き出すことで、塗布領域2aの内側から外側(他方側)に向けて空気を流動させる構成となっている。また、吸引ノズル5は、吸引口5aを基板2の塗布領域2aを挟んだ外側の近傍に吸引口5aを配置した状態で吸引口5aから空気を吸引することで、塗布領域2aの内側から外側に向けて空気を流動させる構成となっている。
加熱気体吐出ノズル6は、基板2と対向する先端に溶剤吐出ノズル3から吐出されて基板2の塗布領域2aに塗布された溶剤に向けて加熱された空気を吹き付ける吐出口6aが設けられており、基端にチューブ17が接続されている。また、後述する支持台35に固定されており、移動機構7の後述するθ回転軸27の軸回りでの回転に伴ってθ回転軸27の軸回りで回転可能となっている。
チューブ17は、内部を流通する高温の空気に対して十分な耐熱性を有する材料によって形成されており、制御部9の後述する空気供給制御部43に接続されて空気供給制御部43から内部に高温の圧縮空気が供給されることで吐出口6aから高温の空気を吐出させる。
チューブ17は、内部を流通する高温の空気に対して十分な耐熱性を有する材料によって形成されており、制御部9の後述する空気供給制御部43に接続されて空気供給制御部43から内部に高温の圧縮空気が供給されることで吐出口6aから高温の空気を吐出させる。
移動機構7は、図1に示すX軸、Y軸及びZ軸とそれぞれ平行に配置された駆動軸21,22,23と、各駆動軸21,22,23に沿って移動可能な支持台24,25,26と、Z軸の軸回りで回転可能なθ回転軸27とを備えている。
駆動軸21,22,23は、例えばボールネジなどで構成されており、それぞれステッピングモータなどで構成された駆動モータ31〜33に接続されている。これら駆動モータ31〜33は、制御部9の後述するX軸移動制御部46、Y軸移動制御部47及びZ軸移動制御部48からの駆動信号によって回転駆動するように構成されている。
駆動軸21,22,23は、例えばボールネジなどで構成されており、それぞれステッピングモータなどで構成された駆動モータ31〜33に接続されている。これら駆動モータ31〜33は、制御部9の後述するX軸移動制御部46、Y軸移動制御部47及びZ軸移動制御部48からの駆動信号によって回転駆動するように構成されている。
支持台24は、駆動軸21に接続されており、駆動軸21が回転することによってX軸に沿って移動可能となっている。また、支持台24には、駆動軸22が固定されている。
支持台25は、支持台24と同様に駆動軸22に接続されており、駆動軸22が回転することによってY軸に沿って移動可能となっている。また、支持台25には、駆動軸23が固定されている。
支持台26は、支持台24,25と同様に駆動軸23に接続されており、駆動軸23が回転することによってZ軸に沿って移動可能となっている。また、支持台26には、θ回転軸27が固定されている。
支持台25は、支持台24と同様に駆動軸22に接続されており、駆動軸22が回転することによってY軸に沿って移動可能となっている。また、支持台25には、駆動軸23が固定されている。
支持台26は、支持台24,25と同様に駆動軸23に接続されており、駆動軸23が回転することによってZ軸に沿って移動可能となっている。また、支持台26には、θ回転軸27が固定されている。
θ回転軸27は、ステッピングモータなどで構成された駆動モータ34に接続されており、後述するθ回転制御部49から駆動モータ34に供給される駆動信号によってZ軸の軸回りで回転可能となっている。また、θ回転軸27には、支持台35が固定されている。
支持台35には、溶剤吐出ノズル3、気体吐出ノズル4、吸引ノズル5及び加熱気体吐出ノズル6が固定されている。これにより、溶剤吐出ノズル3、気体吐出ノズル4、吸引ノズル5及び加熱気体吐出ノズル6は、駆動軸21,22,23及びθ回転軸27によって図1に示すX軸,Y軸,Z軸方向及びθ回転軸27の中心軸の軸回りにおける回転移動が可能となっている。
また、支持台35は、図2に示すように、溶剤吐出ノズル3を介して対向配置した状態で気体吐出ノズル4と吸引ノズル5とを支持している。そして、支持台35は、加熱気体吐出ノズル6を溶剤吐出ノズル3よりも溶剤の塗布時の溶剤吐出ノズル3の移動方向における後方に位置するように支持している。
支持台35には、溶剤吐出ノズル3、気体吐出ノズル4、吸引ノズル5及び加熱気体吐出ノズル6が固定されている。これにより、溶剤吐出ノズル3、気体吐出ノズル4、吸引ノズル5及び加熱気体吐出ノズル6は、駆動軸21,22,23及びθ回転軸27によって図1に示すX軸,Y軸,Z軸方向及びθ回転軸27の中心軸の軸回りにおける回転移動が可能となっている。
また、支持台35は、図2に示すように、溶剤吐出ノズル3を介して対向配置した状態で気体吐出ノズル4と吸引ノズル5とを支持している。そして、支持台35は、加熱気体吐出ノズル6を溶剤吐出ノズル3よりも溶剤の塗布時の溶剤吐出ノズル3の移動方向における後方に位置するように支持している。
ステージ8は、上面が基板2を載置する載置面となっており、上面に基板2を吸引固定する吸引口8aが複数形成されている。また、ステージ8は、吸引口8aから基板2を吸引固定するための後述する空気吸引制御部45に接続されている。
制御部9は、空気供給制御部41,42,43と、空気吸引制御部44,45と、X軸移動制御部46、Y軸移動制御部47、Z軸移動制御部48及びθ回転制御部49とを備えている。この制御部9による塗布装置1の制御については、後述する。
制御部9は、空気供給制御部41,42,43と、空気吸引制御部44,45と、X軸移動制御部46、Y軸移動制御部47、Z軸移動制御部48及びθ回転制御部49とを備えている。この制御部9による塗布装置1の制御については、後述する。
〔液晶装置〕
次に、上述した塗布装置1によって溶剤が塗布された基板2を用いて製造される液晶装置を、図3を参照しながら説明する。ここで、図3は、液晶装置の断面模式図である。
液晶装置100は、図3に示すように、アレイ基板101と、アレイ基板101に対向配置された対向基板102と、アレイ基板101及び対向基板102の間に配置された液晶層103とを備えている。そして、液晶装置100は、アレイ基板101と対向基板102とをシール材104で貼り合わせており、このシール材104によって液晶層103がアレイ基板101と対向基板102との間で封止されている。
次に、上述した塗布装置1によって溶剤が塗布された基板2を用いて製造される液晶装置を、図3を参照しながら説明する。ここで、図3は、液晶装置の断面模式図である。
液晶装置100は、図3に示すように、アレイ基板101と、アレイ基板101に対向配置された対向基板102と、アレイ基板101及び対向基板102の間に配置された液晶層103とを備えている。そして、液晶装置100は、アレイ基板101と対向基板102とをシール材104で貼り合わせており、このシール材104によって液晶層103がアレイ基板101と対向基板102との間で封止されている。
アレイ基板101は、平面視でほぼ矩形状であってガラス基板を基体としており、このガラス基板上に種々の金属膜や絶縁膜、半導体層、不純物層などが形成されている。そして、アレイ基板101には、フォトリソグラフィ法やインクジェット法などの所定の手法を用いてガラス基板上に形成された画素電極、薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)及び蓄積コンデンサなどを含む画素部分と、画素に電気信号などを供給する配線部分とを備えている。さらに、アレイ基板101の内側の面(液晶層103側の面)には、液晶層103を構成する液晶分子の配向を制御する配向膜が形成されている。
また、アレイ基板101の内側の面のうちシール材104が配置される領域は、上述した塗布装置1によって溶剤が塗布される塗布領域2aとなっている。そして、この塗布領域2a上には、上述した溶剤を乾燥させることで下地層101aが形成されている。
また、アレイ基板101の内側の面のうちシール材104が配置される領域は、上述した塗布装置1によって溶剤が塗布される塗布領域2aとなっている。そして、この塗布領域2a上には、上述した溶剤を乾燥させることで下地層101aが形成されている。
対向基板102は、アレイ基板101と同様に、平面視でほぼ矩形状であってガラス基板を基体としており、このガラス基板上にブラックマトリックスやカラーフィルタ層、保護膜及び電極などが形成されている。また、対向基板102の内側の面には、配向膜が形成されている。この配向膜は、液晶分子の配向方向がアレイ基板101に形成された配向膜による配向方向と直交するように形成されている。
また、対向基板102の内側の面のうちシール材104が配置される領域は、アレイ基板101と同様に、上述した塗布装置1によって溶剤が塗布される塗布領域2aとなっている。そして、この塗布領域2a上には、上述した溶剤を乾燥させることで下地層102aが形成されている。
また、対向基板102の内側の面のうちシール材104が配置される領域は、アレイ基板101と同様に、上述した塗布装置1によって溶剤が塗布される塗布領域2aとなっている。そして、この塗布領域2a上には、上述した溶剤を乾燥させることで下地層102aが形成されている。
〔液晶装置の製造方法〕
次に、上述した構成の液晶装置100の製造方法について、図4及び図5を参照しながら説明する。なお、本発明ではアレイ基板及び対向基板のそれぞれに下地層を形成する塗布工程に特徴があるため、塗布工程について主に説明する。ここで、図4は塗布工程における気体吐出ノズル及び吸引ノズルによる空気の流動を示す説明図、図5は塗布工程における各ノズルの移動を示す説明図である。
次に、上述した構成の液晶装置100の製造方法について、図4及び図5を参照しながら説明する。なお、本発明ではアレイ基板及び対向基板のそれぞれに下地層を形成する塗布工程に特徴があるため、塗布工程について主に説明する。ここで、図4は塗布工程における気体吐出ノズル及び吸引ノズルによる空気の流動を示す説明図、図5は塗布工程における各ノズルの移動を示す説明図である。
まず、アレイ基板101を製造する。ここでは、ガラス基板を基体としてその上面に、画素電極、薄膜トランジスタ及び蓄積コンデンサなどを含む画素部分と、画素に電気信号などを供給する配線部分とをフォトリソグラフィ法やインクジェット法などの所定の手法を用いて形成する。さらに、アレイ基板101の内側の面に配向膜を形成する。そして、塗布工程を行い、塗布した溶剤を例えば24時間高温乾燥させることで、アレイ基板101の表面の一部に下地層101aを形成する。この塗布工程については、後述する。このようにして、アレイ基板101を製造する。
次に、対向基板102を製造する。ここでは、ガラス基板を基体としてその上面に、ブラックマトリックスやカラーフィルタ層、保護膜及び電極などを形成する。さらに、対向基板102の内側の面に配向膜を形成する。そして、アレイ基板101と同様に、塗布工程を行い、塗布した溶剤を例えば24時間高温乾燥させることで、対向基板102の表面の一部に下地層102aを形成する。このようにして、対向基板102を製造する。
その後、アレイ基板101と対向基板102とを貼り合わせて液晶層103を封止する。ここでは、アレイ基板101または対向基板102のうちのいずれかの内側の表面にシール材104を塗布し、アレイ基板101と対向基板102とを貼り合わせる。そして、シール材104が設けられていない注入口(図示略)からアレイ基板101と対向基板102との間の間隙に液晶を注入し、上記注入口を封止することでアレイ基板101と対向基板102との間に液晶層103が封止される。以上のようにして、液晶装置100を製造する。
次に、塗布工程について説明する。ここでは、最初に上述した塗布装置1のステージ8上にアレイ基板101を載置する。そして、空気吸引制御部45により吸引口8aから真空吸引してアレイ基板101をステージ8上に真空吸着させる。ここで、平面視で矩形の環状を有する塗布領域2aの一辺がY軸に沿うようにアレイ基板101を載置する。
続いて、X軸移動制御部46、Y軸移動制御部47、Z軸移動制御部48及びθ回転制御部49から駆動モータ31〜34に対して駆動信号を適宜供給して、溶剤吐出ノズル3、気体吐出ノズル4、吸引ノズル5及び加熱気体吐出ノズル6を適宜移動させることで、溶剤吐出ノズル3の吐出口3aを平面視でアレイ基板101の塗布領域2aと重なるように位置させる。また、気体吐出ノズル4の吐出口4aを平面視でアレイ基板101の塗布領域2aの内側、すなわち平面視で矩形の環状を有する塗布領域2aの内方に配置すると共に、吸引ノズル5の吸引口5aを平面視でアレイ基板101の塗布領域2aの外側に配置する。さらに、加熱気体吐出ノズル6の吐出口6aをアレイ基板101の塗布領域2aの内側に配置する。
この状態で、図4に示すように、空気供給制御部41がチューブ11に圧縮空気を供給することで、上記溶剤供給部から溶剤吐出ノズル3の内部に供給された溶剤Lを吐出口3aから吐出させることで塗布領域2a上に溶剤Lを配置する。ここで、空気供給制御部41から圧縮空気を供給することによって上記溶剤供給部から供給された溶剤を吐出口4aから吐出するため、圧縮空気の供給量を制御することで吐出口4aからの溶剤の吐出量を容易に調整することができる。
そして、空気供給制御部42がチューブ12に圧縮空気を供給することで、気体吐出ノズル4の吐出口4aから塗布領域2a上に配置した溶剤Lに対して空気を吹き当てる。また、空気吸引制御部44がチューブ13内を負圧とすることで、吸引ノズル5の吸引口5aから真空吸引を行う。
このとき、塗布領域2a上に配置された溶剤Lに対して、塗布領域2aの内側から空気が吹き出されて外側から吸引されているので、塗布領域2aの内側から外側に向けた空気の流れが形成される。これにより、塗布領域2a上に配置された溶剤Lが粘性の低くアレイ基板101の表面に対してヌレ性の高い溶剤であっても、溶剤Lの配置後に溶剤が塗布領域2aの内側にヌレ広がることが抑制される。
そして、空気供給制御部42がチューブ12に圧縮空気を供給することで、気体吐出ノズル4の吐出口4aから塗布領域2a上に配置した溶剤Lに対して空気を吹き当てる。また、空気吸引制御部44がチューブ13内を負圧とすることで、吸引ノズル5の吸引口5aから真空吸引を行う。
このとき、塗布領域2a上に配置された溶剤Lに対して、塗布領域2aの内側から空気が吹き出されて外側から吸引されているので、塗布領域2aの内側から外側に向けた空気の流れが形成される。これにより、塗布領域2a上に配置された溶剤Lが粘性の低くアレイ基板101の表面に対してヌレ性の高い溶剤であっても、溶剤Lの配置後に溶剤が塗布領域2aの内側にヌレ広がることが抑制される。
続いて、溶剤の塗布を図5に示す矢印A1方向に沿って行う場合には、Y軸移動制御部47が駆動モータ32に対して駆動信号を適宜供給し、溶剤吐出ノズル3、気体吐出ノズル4、吸引ノズル5及び加熱気体吐出ノズル6を駆動軸22に沿って移動させる。ここで、溶剤吐出ノズル3からの溶剤の吐出と、気体吐出ノズル4からの空気を吹き出し及び吸引ノズル5からの吸引とを行いながら塗布領域2aに沿って溶剤吐出ノズル3、気体吐出ノズル4、吸引ノズル5及び加熱気体吐出ノズル6を移動させる。
また、塗布装置1は、上述した溶剤の吐出や空気の吹き出し及び吸引と共に、空気供給制御部43がチューブ17に高温の圧縮空気を供給することで、加熱気体吐出ノズル6の吐出口6aから塗布領域2a上に配置された溶剤に対して加熱された空気を吹き当てる。これにより、塗布領域2a上に配置された溶剤中の溶媒の少なくとも一部が蒸発して溶剤の粘度を低くすることで、塗布領域2aの内側への溶剤の進行をより確実に防止する。このとき、加熱気体吐出ノズル6の吐出口6aが溶剤吐出ノズル3の吐出口3aに対して溶剤吐出ノズル3の移動方向の後方に配置されており、吐出口6aからの加熱空気の吹き出し方向が吐出口3aよりも移動方向の後方を向いているため、加熱された空気が吐出口3aに直接当たることを回避して溶剤が吐出口3aで乾燥することを防止して溶剤の構成物質により吐出口3aが塞がれることを回避する。
その後、溶剤吐出ノズル3の吐出口3aが平面視で塗布領域2aの一辺の端部に到達したら、θ回転制御部49が駆動モータ34に対して駆動信号を適宜供給し、図5に示す矢印A2のように、溶剤吐出ノズル3、気体吐出ノズル4、吸引ノズル5及び加熱気体吐出ノズル6をθ回転軸27の中心軸の軸回りで適宜回転させる。さらに、X軸移動制御部46が駆動モータ31に対して駆動信号を適宜供給し、図5に示す矢印A3のように、溶剤吐出ノズル3、気体吐出ノズル4、吸引ノズル5及び加熱気体吐出ノズル6を駆動軸21に沿って移動させる。そして、上述と同様に、塗布領域2aの他の一辺に沿って溶剤の配置や空気の吹き出し及び吸引、加熱空気の吹き出しを行いながら、溶剤の塗布を行う。この後、同様に塗布領域2aの他の二辺に対しても同様に溶剤の塗布を行う。そして、X軸移動制御部46、Y軸移動制御部47、Z軸移動制御部48及びθ回転制御部49から駆動モータ31〜34に対して駆動信号を適宜供給して、溶剤吐出ノズル3、気体吐出ノズル4、吸引ノズル5及び加熱気体吐出ノズル6を適宜移動させることで、溶剤吐出ノズル3の吐出口3aをアレイ基板101から十分に離間させる。この後、アレイ基板101をステージ8から離間させる。
以上のようにして、アレイ基板101上に形成された塗布領域2a上に溶剤を塗布する塗布工程を行う。なお、対向基板102に対する塗布工程も、アレイ基板101に対する塗布工程と同様である。
以上のようにして、アレイ基板101上に形成された塗布領域2a上に溶剤を塗布する塗布工程を行う。なお、対向基板102に対する塗布工程も、アレイ基板101に対する塗布工程と同様である。
以上のように、本実施形態における塗布装置1及び液晶装置の製造方法によれば、平面視で矩形の環状を有する塗布領域2a上に配置した溶剤に対して塗布領域2aの内側から外側に向けて空気を吹き流すと共に外側から空気を吸引することによって空気を流動させることで、配置された溶剤が塗布領域2aの内側に流れ込むことを防止し、溶剤の塗布範囲の制御が容易に行える。そして、塗布領域2a上に配置する溶剤の量を多くした場合であっても、塗布領域2aの内側に溶剤が流れ込むことを回避できるため、溶剤の未塗布箇所が発生することを効果的に抑制できる。
また、塗布領域2a上に配置した溶剤に対して加熱空気を吹き当てることで、溶剤の吹き流し及び乾燥を行うことができ、溶剤が塗布領域2aの内側にヌレ広がることをより効果的に抑制できる。
また、塗布領域2a上に配置した溶剤に対して加熱空気を吹き当てることで、溶剤の吹き流し及び乾燥を行うことができ、溶剤が塗布領域2aの内側にヌレ広がることをより効果的に抑制できる。
[第2の実施形態]
次に、本発明における塗布装置及び電気光学装置の製造方法の第2の実施形態を、図面に基づいて説明する。なお、本実施形態では、第1の実施形態と気体吐出ノズルが異なるため、この点を中心に説明すると共に、上記実施形態で説明した構成要素には同一符号を付し、その説明を省略する。
次に、本発明における塗布装置及び電気光学装置の製造方法の第2の実施形態を、図面に基づいて説明する。なお、本実施形態では、第1の実施形態と気体吐出ノズルが異なるため、この点を中心に説明すると共に、上記実施形態で説明した構成要素には同一符号を付し、その説明を省略する。
〔塗布装置〕
本実施形態における塗布装置を、図6及び図7を参照しながら説明する。ここで、図6は塗布装置の部分拡大図、図7は図6の部分拡大斜視図である。
塗布装置150は、図6及び図7に示すように、溶剤吐出ノズル3と、気体吐出ノズル151とを備えており、吸引ノズル及び加熱気体吐出ノズルが設けられていない。
溶剤吐出ノズル3は、上述した駆動軸21,22,23によってX軸,Y軸及びZ軸に沿って移動可能となっている。
気体吐出ノズル151は、基板2と対向する先端に外形がほぼ直方体形状であるヘッド部151aが設けられている。そして、このヘッド部151aの先端には、端辺に沿って吐出口151bが設けられている。すなわち、気体吐出ノズル151は、ヘッド部151aの先端から周囲の4方向に向けて空気を吹き出す構成となっている。また、気体吐出ノズル151は、上述した駆動軸21,22,23によってX軸,Y軸及びZ軸に沿って、溶剤吐出ノズル3と独立して移動可能となっている。なお、本実施形態では、気体吐出ノズル151のみによって気体流動手段152が構成されている。
本実施形態における塗布装置を、図6及び図7を参照しながら説明する。ここで、図6は塗布装置の部分拡大図、図7は図6の部分拡大斜視図である。
塗布装置150は、図6及び図7に示すように、溶剤吐出ノズル3と、気体吐出ノズル151とを備えており、吸引ノズル及び加熱気体吐出ノズルが設けられていない。
溶剤吐出ノズル3は、上述した駆動軸21,22,23によってX軸,Y軸及びZ軸に沿って移動可能となっている。
気体吐出ノズル151は、基板2と対向する先端に外形がほぼ直方体形状であるヘッド部151aが設けられている。そして、このヘッド部151aの先端には、端辺に沿って吐出口151bが設けられている。すなわち、気体吐出ノズル151は、ヘッド部151aの先端から周囲の4方向に向けて空気を吹き出す構成となっている。また、気体吐出ノズル151は、上述した駆動軸21,22,23によってX軸,Y軸及びZ軸に沿って、溶剤吐出ノズル3と独立して移動可能となっている。なお、本実施形態では、気体吐出ノズル151のみによって気体流動手段152が構成されている。
〔液晶装置の製造方法〕
次に、液晶装置の製造方法について、図8を参照しながら説明する。なお、本実施形態では、第1の実施形態と塗布工程が異なるため、この点を中心に説明する。ここで、図8は、気体吐出ノズル及び吸引ノズルによる空気の流動を示す説明図である。
まず、上述した実施形態と同様に、アレイ基板101をステージ8上に載置する。そして、溶剤吐出ノズル3の吐出口3aを平面視でアレイ基板101の塗布領域2aと重なるように位置させる。また、気体吐出ノズル4を平面視で塗布領域2aの内側に位置すると共に、ヘッド部151aの先端の端辺に沿って形成された吐出口151bがそれぞれX軸またはY軸に沿うように配置する。
次に、液晶装置の製造方法について、図8を参照しながら説明する。なお、本実施形態では、第1の実施形態と塗布工程が異なるため、この点を中心に説明する。ここで、図8は、気体吐出ノズル及び吸引ノズルによる空気の流動を示す説明図である。
まず、上述した実施形態と同様に、アレイ基板101をステージ8上に載置する。そして、溶剤吐出ノズル3の吐出口3aを平面視でアレイ基板101の塗布領域2aと重なるように位置させる。また、気体吐出ノズル4を平面視で塗布領域2aの内側に位置すると共に、ヘッド部151aの先端の端辺に沿って形成された吐出口151bがそれぞれX軸またはY軸に沿うように配置する。
この状態で、溶剤吐出ノズル3が吐出口3aから溶剤を塗布領域2a上に配置する。そして、気体吐出ノズル151の吐出口151bから空気を吐出する。ここで、ヘッド部151aの先端の端辺に沿って吐出口151bが複数設けられているため、ヘッド部151aの先端から周囲の4方向に向けて空気が吹き出される。このため、塗布領域2a上に配置された溶剤に対して、塗布領域2aの内側から外側に向けた空気の流れが放射状に形成される。これにより、溶剤の配置後に溶剤が塗布領域2aの内側にヌレ広がることが抑制される。
続いて、溶剤吐出ノズル3を塗布領域2aに沿って適宜移動させながら塗布領域2a上への溶剤の配置を行う。このとき、気体吐出ノズル151の吐出口151bから空気が4方向に吹き出されており、塗布領域2aのいずれの箇所においても塗布領域2aの内側から外側に向けた空気の流動が生じている。このため、気体吐出ノズル151を溶剤吐出ノズル3の移動に応じて移動させることなく、溶剤吐出ノズル3によって配置された溶剤の塗布領域2aの内側への進行が抑制される。
以上のように、本実施形態における塗布装置150及び液晶装置の製造方法においても、上述した実施形態と同様の作用、効果を奏するが、気体吐出ノズル151から複数の方向に向けて放射状に空気を吹き出させることで、気体吐出ノズル151を溶剤吐出ノズル3の移動に合わせることなく溶剤吐出ノズル3によって配置された溶剤が塗布領域2aの内側にヌレ広がることを防止できる。
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上述した第1の実施形態における溶剤吐出装置では、気体流動手段が気体吐出ノズル及び吸引ノズルを備えているが、塗布領域上に配置された溶剤が塗布領域の内側にヌレ広がることを有効に抑制できれば、いずれか一方のみによって構成されてもよい。同様に、上述した第2の実施形態における溶剤吐出装置では、気体流動手段が4方向に空気を吹き出す気体吐出ノズルによって構成されているが、基板の周囲に配置されて塗布領域の内側から外側に向けて4方向から吸引する吸引ノズルによって構成されてもよく、気体吐出ノズル及び吸引ノズルによって構成されてもよい。このようにしても、気体吐出ノズルや吸引ノズルにより複数の方向に向けて放射状に空気の流動を形成することで、溶剤吐出ノズルの移動に合わせて気体吐出ノズルや吸引ノズルを移動させる必要がなくなる。
例えば、上述した第1の実施形態における溶剤吐出装置では、気体流動手段が気体吐出ノズル及び吸引ノズルを備えているが、塗布領域上に配置された溶剤が塗布領域の内側にヌレ広がることを有効に抑制できれば、いずれか一方のみによって構成されてもよい。同様に、上述した第2の実施形態における溶剤吐出装置では、気体流動手段が4方向に空気を吹き出す気体吐出ノズルによって構成されているが、基板の周囲に配置されて塗布領域の内側から外側に向けて4方向から吸引する吸引ノズルによって構成されてもよく、気体吐出ノズル及び吸引ノズルによって構成されてもよい。このようにしても、気体吐出ノズルや吸引ノズルにより複数の方向に向けて放射状に空気の流動を形成することで、溶剤吐出ノズルの移動に合わせて気体吐出ノズルや吸引ノズルを移動させる必要がなくなる。
また、上述した実施形態において、塗布領域が平面視で矩形の環状を有しているが、他の環状であってもよく、環状でなくてもよい。そして、塗布領域の内側から外側に向けて空気を流動させることで塗布領域の内側に溶剤がヌレ広がることを防止しているが、塗布領域の外側に溶剤がヌレ広がることを防止する場合には塗布領域の外側から内側に向けて空気を流動させてもよい。すなわち、配置した溶剤がヌレ広がることを防止したい一方側から塗布領域を挟んだ他方側に向けて空気を流動させながら、溶剤の塗布を行えばよい。
さらに、溶剤吐出ノズルは、空気供給制御部から圧縮空気を供給することによって溶剤供給部から供給された溶剤を吐出口から吐出する構成となっているが、塗布領域上に溶剤を配置する構成であれば、例えば吐出口から溶剤の液滴を配置するような液滴吐出手段など、他の方法によって塗布領域上に溶剤を配置する液状体配置手段であってもよい。
また、塗布装置は、溶剤吐出ノズルから塗布領域上に溶剤を配置しているが、溶剤に限らず、他の液状体であってもよい。
そして、気体吐出ノズルは、吐出口から空気を吹き出しているが、空気に限らず、他の気体を吹き出す構成としてもよい。
さらに、移動機構は、溶剤吐出ノズルなど各ノズルを移動させることによって溶剤の塗布を行っているが、ステージを移動させることによって溶剤の塗布を行ってもよく、双方を移動させることによって溶剤の塗布を行ってもよい。
さらに、溶剤吐出ノズルは、空気供給制御部から圧縮空気を供給することによって溶剤供給部から供給された溶剤を吐出口から吐出する構成となっているが、塗布領域上に溶剤を配置する構成であれば、例えば吐出口から溶剤の液滴を配置するような液滴吐出手段など、他の方法によって塗布領域上に溶剤を配置する液状体配置手段であってもよい。
また、塗布装置は、溶剤吐出ノズルから塗布領域上に溶剤を配置しているが、溶剤に限らず、他の液状体であってもよい。
そして、気体吐出ノズルは、吐出口から空気を吹き出しているが、空気に限らず、他の気体を吹き出す構成としてもよい。
さらに、移動機構は、溶剤吐出ノズルなど各ノズルを移動させることによって溶剤の塗布を行っているが、ステージを移動させることによって溶剤の塗布を行ってもよく、双方を移動させることによって溶剤の塗布を行ってもよい。
また、第1の実施形態における溶剤吐出装置では、加熱気体吐出ノズルを設けているが、加熱気体吐出ノズルを設けなくてもよい。加熱気体吐出ノズルを設けなくても、塗布領域上に配置された溶剤が塗布領域の内側にヌレ広がることが気体流動手段によって良好に行われる。
そして、溶剤吐出ノズル、気体吐出ノズル、吸引ノズル及び加熱気体吐出ノズルが支持台に固定されており、各ノズルが一体となって移動する構成となっているが、それぞれ独立して移動する構成としてもよい。
そして、溶剤吐出ノズル、気体吐出ノズル、吸引ノズル及び加熱気体吐出ノズルが支持台に固定されており、各ノズルが一体となって移動する構成となっているが、それぞれ独立して移動する構成としてもよい。
また、第2の実施形態における溶剤吐出装置では、気体吐出ノズルが4方向に空気を吹き出す構成となっているが、塗布領域の内側から外側に向けて空気が吹き出されればよく、3方向であっても5方向以上であってもよい。同様に、基板の周囲に配置されて塗布領域の内側から外側に向けて複数の方向から空気を吸引する吸引ノズルによって気体流動手段を構成する場合においても、空気を吸引する方向は3方向であっても5方向以上であってもよい。
そして、第1の実施形態における溶剤吐出装置と同様に、加熱気体吐出ノズルを有する構成としてもよい。
そして、第1の実施形態における溶剤吐出装置と同様に、加熱気体吐出ノズルを有する構成としてもよい。
また、液晶装置は、アレイ基板と対向基板とにそれぞれ電極を形成して液晶層の厚さ方向に電圧を印加することで液晶を駆動する構成となっているが、アレイ基板に一対の電極を形成してアレイ基板の面方向に電圧を印加することで液晶を駆動する構成としてもよい。
また、塗布装置を用いて液晶装置を製造しているが、基板の表面に形成された塗布領域上に溶剤を塗布する塗布工程を備えていれば、液晶装置に限らず、例えば有機EL装置など、他の電気光学装置を製造してもよい。
また、塗布装置を用いて液晶装置を製造しているが、基板の表面に形成された塗布領域上に溶剤を塗布する塗布工程を備えていれば、液晶装置に限らず、例えば有機EL装置など、他の電気光学装置を製造してもよい。
1,150 塗布装置、2 基板(塗布対象)、2a 塗布領域、3 溶剤吐出ノズル(液状体配置手段)、4,151 気体吐出ノズル(気体吐出手段)、5 吸引ノズル(吸引手段)、6 加熱気体吐出ノズル(加熱気体吐出手段)、15,152 気体流動手段、100 液晶装置(電気光学装置)、101 アレイ基板(塗布対象)、102 対向基板(塗布対象)、L 溶剤(液状体)
Claims (6)
- 塗布対象上に設けられた塗布領域に液状体を塗布する塗布装置であって、
前記液状体を前記塗布領域に配置する液状体配置手段と、
前記液状体が配置された前記塗布領域を挟んで一方側から他方側に向けて気体を流動させる気体流動手段とを備えることを特徴とする塗布装置。 - 前記気体流動手段が、前記塗布領域を挟んで一方側から他方側に向けて気体を吐出する吐出手段を備えることを特徴とする請求項1に記載の塗布装置。
- 前記気体流動手段が、前記塗布領域の他方側から気体を吸引する吸引手段を備えることを特徴とする請求項1または2に記載の塗布装置。
- 前記液状体が配置された前記塗布領域を挟んで一方側から他方側に向けて加熱した気体を吐出する加熱気体吐出手段を備えることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の塗布装置。
- 前記塗布領域が、平面視で環状を有しており、
前記気体流動手段が、前記塗布領域の内側から外側に向けて気体を放射状に流動させることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の塗布装置。 - 塗布対象上に設けられた塗布領域に液状体を塗布する塗布工程を有する電気光学装置の製造方法であって、
前記塗布工程で、前記液状体を前記塗布領域に配置し、前記液状体が配置された前記塗布領域を挟んで一方側から他方側に向けて気体を流動させることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
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