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JP2008021728A - Wiring board - Google Patents

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JP2008021728A
JP2008021728A JP2006190592A JP2006190592A JP2008021728A JP 2008021728 A JP2008021728 A JP 2008021728A JP 2006190592 A JP2006190592 A JP 2006190592A JP 2006190592 A JP2006190592 A JP 2006190592A JP 2008021728 A JP2008021728 A JP 2008021728A
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JP
Japan
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wiring board
insulating layer
metal layer
metal
heat
Prior art date
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Pending
Application number
JP2006190592A
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Japanese (ja)
Inventor
Takaaki Sekine
孝明 関根
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NSK Ltd
Original Assignee
NSK Ltd
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Publication date
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Abstract

【課題】高効率での放熱が可能であるとともに、軽量,薄型,且つ安価な配線基板を提供する。
【解決手段】配線基板は、金属箔からなる金属層1と、ポリイミドフィルムからなる絶縁層2と、が積層されてなり、金属層1には配線パターンが形成されている。そして、自己発熱等による熱を効率良く放熱するために、金属等で構成された放熱材10に固着される。放熱材10には絶縁層2が固着されるので、金属層1と放熱材10との絶縁性が確保される。
【選択図】図1
Provided is a wiring board that can dissipate heat with high efficiency and is lightweight, thin, and inexpensive.
A wiring board is formed by laminating a metal layer 1 made of a metal foil and an insulating layer 2 made of a polyimide film, and a wiring pattern is formed on the metal layer 1. And in order to thermally radiate the heat by self-heating etc. efficiently, it adheres to the heat radiating material 10 comprised with the metal etc. Since the insulating layer 2 is fixed to the heat dissipation material 10, the insulation between the metal layer 1 and the heat dissipation material 10 is ensured.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は配線基板に関する。   The present invention relates to a wiring board.

車載用電子制御ユニットは大電流の制御を必要とする用途に使用されることが多いので、車載用電子制御ユニットに組み込まれる配線基板は、大電流が通電されることが多い。また、高温下で使用されることが多く、特に、エンジンルーム内に配される場合やモータ等に組み込まれる場合は、高温となりやすい。そのため、高温下における大電流の通電に伴う電気的損失が低く、自己発熱等による熱を効率良く放熱可能な配線基板が求められている。   Since an in-vehicle electronic control unit is often used for an application that requires a large current control, a large current is often applied to a wiring board incorporated in the in-vehicle electronic control unit. Further, it is often used at high temperatures, and particularly when it is arranged in an engine room or incorporated in a motor or the like, it tends to be hot. Therefore, there is a need for a wiring board that has low electrical loss due to energization of a large current at high temperatures and can efficiently dissipate heat due to self-heating.

このような配線基板としては、セラミックス板の一方の面にアルミ合金からなる配線金属層を形成し、他方の面に同じアルミ合金からなる裏面金属層を形成したものが知られている(特許文献1を参照)。
この配線基板は、裏面金属層が金属材である放熱材に接着,ネジ等で固着され、この放熱材を介して放熱するようになっている。また、放熱材との絶縁を確保するために、配線金属層は絶縁材であるセラミックス板(例えば窒化アルミ板,窒化ケイ素板)に形成されている。さらに、大電流の通電を必要最小限の面積で実現できるように、配線金属層の厚さは可能な限り大きく設定されている(例えば、配線金属層を構成する金属が銅である場合は500μmである)。
As such a wiring board, one in which a wiring metal layer made of an aluminum alloy is formed on one surface of a ceramic plate and a back metal layer made of the same aluminum alloy is formed on the other surface is known (Patent Document). 1).
In this wiring board, a back surface metal layer is fixed to a heat dissipating material which is a metal material with an adhesive, a screw or the like, and heat is dissipated through the heat dissipating material. Further, in order to ensure insulation from the heat dissipation material, the wiring metal layer is formed on a ceramic plate (for example, an aluminum nitride plate or a silicon nitride plate) which is an insulating material. Furthermore, the thickness of the wiring metal layer is set to be as large as possible so that energization of a large current can be realized in a necessary minimum area (for example, 500 μm when the metal constituting the wiring metal layer is copper). Is).

さらに、金属材と絶縁材とでは線膨張係数が異なるので、温度の急激な変化による熱衝撃を受けると、機械強度が最も弱い接着層に応力が集中して、接着層が破断するおそれがある。そのため、上記のような従来の配線基板においては、応力の相殺を目的として、絶縁材であるセラミックス板の両面に同種の(すなわち同一の線膨張係数を有する)金属材(すなわち配線金属層及び裏面金属層)を配していた。
特開2003−243803号公報
Furthermore, since the linear expansion coefficient is different between a metal material and an insulating material, stress may concentrate on the adhesive layer with the weakest mechanical strength and the adhesive layer may break when subjected to a thermal shock due to a rapid change in temperature. . Therefore, in the conventional wiring board as described above, the same kind of metal material (that is, the same linear expansion coefficient) (that is, the wiring metal layer and the back surface) is formed on both surfaces of the ceramic plate as an insulating material for the purpose of canceling stress. A metal layer).
JP 2003-243803 A

しかしながら、上記のような従来の配線基板は、熱衝撃の緩和のために裏面金属層を備えているので、コストと質量が増加するという問題点を有していた。特に、大電流を通電する用途においては、配線金属層の厚さを大きくする必要があるので、上記のような問題が顕著であった。
また、材料の製造や配線基板の製造の工法上、平板状の配線基板しか製造することができない。さらに、絶縁材であるセラミックス板は硬く柔軟性がないため、部品を実装した後に配線基板に折り曲げ加工を施すことは不可能である。よって、モータ等の被制御体へ配線基板を組み込む際に、配置の制約が大きくなる傾向にある。
However, the conventional wiring board as described above has a problem that the cost and the mass increase because the backside metal layer is provided to alleviate the thermal shock. In particular, in applications where a large current is applied, the thickness of the wiring metal layer needs to be increased, and thus the above-described problems are significant.
Moreover, only a flat wiring board can be manufactured on the manufacturing method of a material and the manufacturing method of a wiring board. Furthermore, since the ceramic plate as an insulating material is hard and inflexible, it is impossible to bend the wiring board after mounting the components. Therefore, when a wiring board is incorporated into a controlled body such as a motor, the arrangement restriction tends to increase.

さらに、モータ等の被制御体と配線基板との電気的配線は、外部ターミナルを介して行う必要があるため、付随して必要となるワイヤーボンディングを含めて、配線抵抗の増加、工程増に伴う品質確保の困難性、及び部品費の増加が問題となる。
そこで、本発明は上記のような従来技術が有する問題点を解決し、高効率での放熱が可能であるとともに、軽量,薄型,且つ安価な配線基板を提供することを課題とする。
Furthermore, electrical wiring between a controlled body such as a motor and a wiring board must be performed via an external terminal, and accordingly, accompanying wire bonding, which is necessary, the increase in wiring resistance and process increase Difficulties in ensuring quality and an increase in parts costs are problems.
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a wiring board that solves the problems of the prior art as described above and that can dissipate heat with high efficiency and is lightweight, thin, and inexpensive.

前記課題を解決するため、本発明は次のような構成からなる。すなわち、本発明に係る配線基板は、配線パターンが形成された金属層と、絶縁層と、が積層されてなる配線基板において、配線基板が有する熱を放熱するための放熱材に固着されるとともに前記金属層と前記放熱材との絶縁を確保する前記絶縁層を、ポリイミドで構成したことを特徴とする。   In order to solve the above problems, the present invention has the following configuration. That is, the wiring board according to the present invention is a wiring board in which a metal layer on which a wiring pattern is formed and an insulating layer are laminated, and is fixed to a heat dissipation material for radiating the heat of the wiring board. The insulating layer that secures insulation between the metal layer and the heat dissipation material is made of polyimide.

ポリイミドの線膨張係数は金属とほぼ同等で、温度の急激な変化による熱衝撃を受けたとしても大きな応力は発生しないため、金属層と絶縁層との間の境界部分(例えば接着層)への応力集中が生じにくい。したがって、接着層の破断等による金属層と絶縁層との剥離が生じにくい。
また、熱衝撃を受けた際の応力を相殺するために絶縁層の両面に同種の金属材を配する必要がなく、金属材は配線パターンが形成された金属層のみなので、本発明の配線基板は軽量,薄型,且つ安価である。
The coefficient of linear expansion of polyimide is almost the same as that of metal, and even when subjected to thermal shock due to a sudden change in temperature, large stress does not occur. Therefore, the boundary between the metal layer and the insulating layer (for example, the adhesive layer) Stress concentration is unlikely to occur. Therefore, peeling between the metal layer and the insulating layer due to breakage of the adhesive layer or the like hardly occurs.
Further, it is not necessary to dispose the same kind of metal material on both sides of the insulating layer in order to cancel the stress when subjected to thermal shock, and the metal material is only the metal layer on which the wiring pattern is formed. Is lightweight, thin and inexpensive.

金属層を構成する金属の種類は特に限定されるものではないが、銅,アルミニウム,金,アルミニウム合金等が好ましい。また、ポリイミドの種類は特に限定されるものではないが、金属層を構成する金属の線膨張係数と同等の線膨張係数を有するものを選択することが好ましい。
このような本発明の配線基板においては、絶縁層を略直線的に切断して複数に分断することが好ましい。そうすれば、金属層と絶縁層との間の突っ張り残留荷重の問題が回避できるので、略直線的に切断することにより生じた分断部分に沿って配線基板を自由に折り曲げ加工することが容易となる。このような配線基板は、半導体素子やチップ部品を実装した後に折り曲げ加工することも可能であるので、モータ等の被制御体へ配線基板を組み込む際に配置の制約が小さい。
Although the kind of metal which comprises a metal layer is not specifically limited, Copper, aluminum, gold | metal | money, an aluminum alloy etc. are preferable. Moreover, although the kind of polyimide is not specifically limited, it is preferable to select what has a linear expansion coefficient equivalent to the linear expansion coefficient of the metal which comprises a metal layer.
In such a wiring board of the present invention, it is preferable to divide the insulating layer into a plurality of parts by cutting the insulating layer substantially linearly. Then, since the problem of the residual tensile load between the metal layer and the insulating layer can be avoided, it is easy to freely bend the wiring board along the divided portion generated by cutting substantially linearly. Become. Since such a wiring board can be bent after mounting a semiconductor element or a chip component, there are few restrictions on arrangement when the wiring board is incorporated into a controlled body such as a motor.

また、本発明の配線基板においては、絶縁層の一部分を除去した上、金属層のうち絶縁層の除去により露出した部分の少なくとも一部分を除去することが好ましい。そうすれば、前記除去により金属層に設けられた穴を介して、絶縁層側から金属層に直接的に電気的接合が可能であるので(例えば、ネジ締めによる導通の確保)、モータ等の被制御体と配線基板との電気的接合のために外部ターミナルを設ける必要がなく、したがってワイヤーボンディングも不要となる。そのため、配線抵抗を低減できる、製造工程が少なくなり品質確保が容易となる、部品費が削減できる等の利点がある。   Moreover, in the wiring board of the present invention, it is preferable that a part of the insulating layer is removed and at least a part of the metal layer exposed by the removal of the insulating layer is removed. Then, it is possible to make an electrical connection directly from the insulating layer side to the metal layer through the hole provided in the metal layer by the removal (for example, securing conduction by screw tightening). It is not necessary to provide an external terminal for electrical connection between the controlled body and the wiring board, and therefore wire bonding is not required. Therefore, there are advantages such that the wiring resistance can be reduced, the manufacturing process is reduced, the quality can be easily ensured, and the parts cost can be reduced.

さらに、本発明の配線基板においては、絶縁層のうち、発熱を伴う半導体素子又はチップ部品が実装される位置に相対する部分を除去することが好ましい。そうすれば、配線基板(絶縁層)が放熱材に固着された際には、金属層のうち半導体素子又はチップ部品が実装された部分が、放熱材に直接接触することとなるので、配線基板の有する熱を極めて効率的に放熱することができる。   Furthermore, in the wiring board of the present invention, it is preferable to remove a portion of the insulating layer that faces the position where the semiconductor element or chip component that generates heat is mounted. Then, when the wiring board (insulating layer) is fixed to the heat dissipation material, the portion of the metal layer on which the semiconductor element or chip component is mounted directly contacts the heat dissipation material. The heat possessed by can be dissipated very efficiently.

本発明の配線基板は、高効率での放熱が可能であるとともに、軽量,薄型,且つ安価である。   The wiring board of the present invention can dissipate heat with high efficiency, and is lightweight, thin, and inexpensive.

本発明に係る配線基板の実施の形態を、図面を参照しながら詳細に説明する。
〔第一実施形態〕
図1は、本発明に係る配線基板の一実施形態を説明する断面図である。図1の配線基板は、金属箔からなる金属層1と、ポリイミドフィルムからなる絶縁層2と、が積層されてなり、金属層1には配線パターンが形成されている。
このような配線基板は、金属箔とポリイミドフィルムとを熱圧着又は接着剤により固着した後に、エッチング等により金属層1に配線パターンを形成して製造される。あるいは、金属箔にポリイミド溶液又はポリイミド前駆体溶液を塗布して加熱することにより金属箔上にポリイミド被膜を形成した後に、エッチング等により金属層1に配線パターンを形成して製造してもよい。
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Embodiments of a wiring board according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[First embodiment]
FIG. 1 is a cross-sectional view for explaining an embodiment of a wiring board according to the present invention. The wiring board of FIG. 1 is formed by laminating a metal layer 1 made of a metal foil and an insulating layer 2 made of a polyimide film, and a wiring pattern is formed on the metal layer 1.
Such a wiring board is manufactured by forming a wiring pattern on the metal layer 1 by etching or the like after fixing a metal foil and a polyimide film by thermocompression bonding or an adhesive. Alternatively, a polyimide film or a polyimide precursor solution may be applied to a metal foil and heated to form a polyimide film on the metal foil, and then a wiring pattern may be formed on the metal layer 1 by etching or the like.

金属層1は厚さが例えば400μm以上500μm以下の電解銅箔又は圧延銅箔からなり、線膨張係数は17.3ppm/℃である。ポリイミドフィルムの厚さは例えば20μm以上50μm以下であり、線膨張係数は16ppm/℃である。このように、金属層1と絶縁層2との線膨張係数がほぼ同等であるので、温度の急激な変化による熱衝撃を受けたとしても応力がほとんど発生しない。よって、金属層1と絶縁層2との間の境界部分(例えば接着層)への応力集中がほとんど発生しないので、金属層1と絶縁層2との剥離が生じにくい。   The metal layer 1 is made of an electrolytic copper foil or a rolled copper foil having a thickness of, for example, 400 μm or more and 500 μm or less, and has a linear expansion coefficient of 17.3 ppm / ° C. The thickness of the polyimide film is, for example, 20 μm or more and 50 μm or less, and the linear expansion coefficient is 16 ppm / ° C. Thus, since the linear expansion coefficients of the metal layer 1 and the insulating layer 2 are substantially equal, even if a thermal shock is caused by a rapid change in temperature, almost no stress is generated. Therefore, stress concentration hardly occurs at the boundary portion (for example, the adhesive layer) between the metal layer 1 and the insulating layer 2, so that the metal layer 1 and the insulating layer 2 are hardly separated.

従来のように絶縁層としてセラミックス板を用いた場合は、金属層と絶縁層とで線膨張係数がかけ離れているので(例えば窒化アルミニウム及び窒化ケイ素の線膨張係数は、それぞれ4.6ppm/℃、2.7ppm/℃である)、熱衝撃を受けた際の応力を相殺するために絶縁層の両面に同種の金属材を配する必要がある。しかしながら、本実施形態の配線基板は、線膨張係数が金属層とほぼ同等であるポリイミドフィルムを絶縁層として用いているので、絶縁層の両面に同種の金属材を配する必要がなく、金属材は配線パターンが形成された金属層のみである。よって、本実施形態の配線基板は、従来のものと比べて軽量,薄型,且つ安価である。特に、金属箔とポリイミドフィルムとを熱圧着により固着した場合は、接着剤が不要であるため、部品の構成や製造工程が簡素であるとともに、製造時の品質確保においても有利である。   When a ceramic plate is used as an insulating layer as in the prior art, the linear expansion coefficient is very different between the metal layer and the insulating layer (for example, the linear expansion coefficients of aluminum nitride and silicon nitride are 4.6 ppm / ° C, 2.7 ppm / ° C.), it is necessary to dispose the same kind of metal material on both sides of the insulating layer in order to offset the stress when subjected to thermal shock. However, since the wiring board of this embodiment uses a polyimide film having a linear expansion coefficient substantially equal to that of the metal layer as the insulating layer, it is not necessary to arrange the same kind of metal material on both surfaces of the insulating layer. Is only a metal layer on which a wiring pattern is formed. Therefore, the wiring board of this embodiment is lighter, thinner, and less expensive than the conventional one. In particular, when the metal foil and the polyimide film are fixed by thermocompression bonding, an adhesive is not required, so that the configuration of the parts and the manufacturing process are simple, and it is advantageous in ensuring quality during manufacturing.

なお、金属層1を構成する金属の種類は銅に限定されるものではなく、アルミニウム,金,アルミニウム合金等も使用可能であるが、銅が最も一般的である。また、ポリイミドの種類は特に限定されるものではないが、金属層1を構成する金属の線膨張係数と同等の線膨張係数を有するものを選択することが好ましい。
また、このポリイミドフィルムを構成するポリイミドの材料物性としての熱抵抗は比較的高いが、厚さが前述のように非常に薄いため、配線基板としての熱抵抗は良好な値である。このポリイミドフィルムの熱抵抗を、縦10mm、横10mm、厚さ20μmのサンプルを用いて測定したところ、0.69℃/Wであった。アルミニウムの熱抵抗を、縦10mm、横10mm、厚さ1.0mmのサンプルを用いて測定したところ、0.5℃/Wであったことから、ポリイミドフィルムはアルミニウム板と比べて遜色ない性能を有していると言える。アルミニウムと同サイズのサンプルを用いて測定した窒化アルミニウム及び窒化ケイ素の熱抵抗は、それぞれ0.037℃/W、0.053℃/Wであった。
In addition, the kind of metal which comprises the metal layer 1 is not limited to copper, Aluminum, gold | metal | money, an aluminum alloy etc. can be used, However, Copper is the most common. Moreover, although the kind of polyimide is not specifically limited, it is preferable to select what has a linear expansion coefficient equivalent to the linear expansion coefficient of the metal which comprises the metal layer 1. FIG.
Moreover, although the thermal resistance as a material physical property of the polyimide which comprises this polyimide film is comparatively high, since the thickness is very thin as mentioned above, the thermal resistance as a wiring board is a favorable value. It was 0.69 degreeC / W when the thermal resistance of this polyimide film was measured using the sample of length 10mm, width 10mm, and thickness 20micrometer. The thermal resistance of aluminum was measured using a sample with a length of 10 mm, a width of 10 mm, and a thickness of 1.0 mm. As a result, it was 0.5 ° C./W, so the polyimide film had a performance comparable to that of an aluminum plate. It can be said that it has. The thermal resistance of aluminum nitride and silicon nitride measured using a sample of the same size as aluminum was 0.037 ° C./W and 0.053 ° C./W, respectively.

このような本実施形態の配線基板は、自己発熱等による熱を効率良く放熱するために、金属等で構成された放熱材10に固着される。放熱材10には絶縁層2が固着されるので、金属層1と放熱材10との絶縁性が確保される。配線基板が有する熱は放熱材10を介して効率良く放熱されるので、配線基板が自己発熱する場合、発熱を伴う半導体素子やチップ部品が実装される場合、高温下で使用される場合でも、熱による問題が生じにくい。よって、高温となりやすい車載用電子制御ユニットにも問題なく使用することができ、特に、エンジンルーム内に配される場合やモータ等に組み込まれる場合でも好適に使用可能である。   Such a wiring board of the present embodiment is fixed to the heat radiating material 10 made of metal or the like in order to efficiently dissipate heat due to self-heating or the like. Since the insulating layer 2 is fixed to the heat dissipation material 10, the insulation between the metal layer 1 and the heat dissipation material 10 is ensured. Since the heat of the wiring board is efficiently radiated through the heat dissipation material 10, even when the wiring board self-heats, when a semiconductor element or chip component with heat generation is mounted, even when used under high temperature, Difficult to cause problems due to heat. Therefore, it can be used without any problem for an on-vehicle electronic control unit that tends to become high temperature, and in particular, it can be suitably used even when it is arranged in an engine room or incorporated in a motor or the like.

〔第二実施形態〕
図2は、本発明の第二実施形態に係る配線基板を説明する図である。第二実施形態の配線基板の構成及び作用効果は第一実施形態とほぼ同様であるので、異なる部分のみ説明し、同様の部分の説明は省略する。なお、図2においては、図1と同一又は相当する部分には、図1と同一の符号を付してある。
[Second Embodiment]
FIG. 2 is a diagram illustrating a wiring board according to the second embodiment of the present invention. Since the configuration and operational effects of the wiring board of the second embodiment are almost the same as those of the first embodiment, only different parts will be described, and description of similar parts will be omitted. In FIG. 2, the same reference numerals as those in FIG. 1 are assigned to the same or corresponding parts as in FIG.

第二実施形態の配線基板は、図2(a)の平面図及び(b)の断面図に示すように、絶縁層2が直線に沿って切断されて2つに分断されており、絶縁層2のない分断部分4が形成されている。これにより、金属層1と絶縁層2との間の突っ張り残留荷重の問題が回避できるので、分断部分4に沿って配線基板を自由に折り曲げ加工することが容易となる。このような配線基板は、半導体素子やチップ部品を実装した後に折り曲げ加工することも可能であるので、モータ等の被制御体へ配線基板を組み込む際に配置の制約が小さい。   As shown in the plan view of FIG. 2A and the cross-sectional view of FIG. 2B, the wiring board of the second embodiment has an insulating layer 2 cut along a straight line and divided into two. A part 4 having no 2 is formed. As a result, the problem of the residual tensile load between the metal layer 1 and the insulating layer 2 can be avoided, so that the wiring board can be easily bent along the divided portion 4. Since such a wiring board can be bent after mounting a semiconductor element or a chip component, there are few restrictions on arrangement when the wiring board is incorporated into a controlled body such as a motor.

一般的なフレキシブル基板は、金属層の厚さが9〜35μmと薄いので、突っ張り残留荷重の問題は生じないが、厚さが400μm以上500μm以下であると、絶縁層を外側にして折り曲げた場合は、ポリイミドフィルムの伸び率の限界によって基板の折り曲げ角度にも限界が生じ、金属層を外側にして折り曲げた場合は、ポリイミドフィルムの部分収縮によって金属層の配線パターンに損傷が生じるおそれがあった。
なお、絶縁層2のない分断部分4を形成する方法は特に限定されるものではないが、例えばエッチングによる絶縁層2の除去があげられる。また、分断部分4は1箇所に限定されるものではなく、2箇所以上設けて絶縁層2を3つ以上に分断してもよい。さらに、分断部分4の幅は、特に限定されるものではない。
In general flexible boards, the metal layer thickness is as thin as 9 to 35 μm, so there is no problem of residual tensile load. In the case of bending with the metal layer facing outside, there is a possibility that the wiring pattern of the metal layer may be damaged due to partial shrinkage of the polyimide film when the bending angle of the substrate is limited due to the limit of the elongation rate of the polyimide film. .
The method for forming the divided portion 4 without the insulating layer 2 is not particularly limited, and for example, the insulating layer 2 can be removed by etching. Moreover, the dividing part 4 is not limited to one place, You may divide the insulating layer 2 into three or more by providing two or more places. Furthermore, the width of the divided portion 4 is not particularly limited.

〔第三実施形態〕
図3は、本発明の第三実施形態に係る配線基板を説明する図である。第三実施形態の配線基板の構成及び作用効果は第一及び第二実施形態とほぼ同様であるので、異なる部分のみ説明し、同様の部分の説明は省略する。なお、図3においては、図1,2と同一又は相当する部分には、図1,2と同一の符号を付してある。
[Third embodiment]
FIG. 3 is a view for explaining a wiring board according to the third embodiment of the present invention. Since the configuration and operational effects of the wiring board of the third embodiment are almost the same as those of the first and second embodiments, only different parts will be described, and description of similar parts will be omitted. In FIG. 3, the same reference numerals as those in FIGS. 1 and 2 are given to the same or corresponding parts as those in FIGS.

第三実施形態の配線基板は、図3(a)の平面図及び(b)の裏面図に示すように、絶縁層2の一部分が除去されている。そして、その絶縁層2の除去により裏面側に露出した金属層1aの一部分が除去されて穴5が形成されている。これにより、穴5を介して、裏面側(すなわち絶縁層2側)から金属層1に直接的に電気的接合が可能であるので(例えば、ネジ締めによる導通の確保)、モータ等の被制御体と配線基板との電気的接合のために外部ターミナルを設ける必要がなく、したがってワイヤーボンディングも不要となる。そのため、配線抵抗を低減できる、製造工程が少なくなり品質確保が容易となる、部品費が削減できる等の利点がある。
なお、絶縁層2の除去方法や穴5の形成方法は特に限定されるものではないが、例えばエッチングによる絶縁層2や金属層1の除去があげられる。
In the wiring board of the third embodiment, as shown in the plan view of FIG. 3A and the back view of FIG. 3B, a part of the insulating layer 2 is removed. The hole 5 is formed by removing a part of the metal layer 1a exposed on the back side by removing the insulating layer 2. As a result, electrical connection can be made directly from the back surface side (that is, the insulating layer 2 side) to the metal layer 1 through the hole 5 (for example, ensuring conduction by screw tightening), so that the motor or the like is controlled. It is not necessary to provide an external terminal for electrical connection between the body and the wiring board, and therefore wire bonding is also unnecessary. Therefore, there are advantages such that the wiring resistance can be reduced, the manufacturing process is reduced, the quality can be easily ensured, and the parts cost can be reduced.
Note that the method for removing the insulating layer 2 and the method for forming the holes 5 are not particularly limited, and examples thereof include removal of the insulating layer 2 and the metal layer 1 by etching.

〔第四実施形態〕
図4は、本発明の第四実施形態に係る配線基板を説明する図である。第四実施形態の配線基板の構成及び作用効果は第一〜第三実施形態とほぼ同様であるので、異なる部分のみ説明し、同様の部分の説明は省略する。なお、図4においては、図1〜3と同一又は相当する部分には、図1〜3と同一の符号を付してある。
[Fourth embodiment]
FIG. 4 is a view for explaining a wiring board according to the fourth embodiment of the present invention. Since the configuration and operational effects of the wiring board of the fourth embodiment are substantially the same as those of the first to third embodiments, only different parts will be described, and description of the same parts will be omitted. In FIG. 4, the same reference numerals as those in FIGS.

第四実施形態の配線基板は、金属層1上に半導体素子(又はチップ部品)20が実装されているが、図4の裏面図に示すように、絶縁層2のうち半導体素子20が実装された位置に相対する部分が除去されている。これにより、配線基板(絶縁層2)が放熱材10に固着された際には、金属層1のうち半導体素子20が実装された部分が放熱材10に直接接触することとなるので、半導体素子20が発する熱を絶縁層2を介することなく極めて効率的に放熱することができる。
なお、絶縁層2の除去方法は特に限定されるものではないが、例えばエッチングがあげられる。
In the wiring board of the fourth embodiment, the semiconductor element (or chip component) 20 is mounted on the metal layer 1, but the semiconductor element 20 is mounted in the insulating layer 2 as shown in the rear view of FIG. The part opposite the position has been removed. Thereby, when the wiring board (insulating layer 2) is fixed to the heat radiating material 10, the portion of the metal layer 1 on which the semiconductor element 20 is mounted is in direct contact with the heat radiating material 10. The heat generated by 20 can be dissipated very efficiently without going through the insulating layer 2.
Note that the method for removing the insulating layer 2 is not particularly limited, and examples thereof include etching.

本発明の第一実施形態に係る配線基板を説明する図である。It is a figure explaining the wiring board which concerns on 1st embodiment of this invention. 本発明の第二実施形態に係る配線基板を説明する図である。It is a figure explaining the wiring board which concerns on 2nd embodiment of this invention. 本発明の第三実施形態に係る配線基板を説明する図である。It is a figure explaining the wiring board which concerns on 3rd embodiment of this invention. 本発明の第四実施形態に係る配線基板を説明する図である。It is a figure explaining the wiring board which concerns on 4th embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 金属層
2 絶縁層
4 分断部分
5 穴
10 放熱材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Metal layer 2 Insulating layer 4 Dividing part 5 Hole 10 Heat dissipation

Claims (4)

配線パターンが形成された金属層と、絶縁層と、が積層されてなる配線基板において、配線基板が有する熱を放熱するための放熱材に固着されるとともに前記金属層と前記放熱材との絶縁を確保する前記絶縁層を、ポリイミドで構成したことを特徴とする配線基板。   In a wiring board in which a metal layer on which a wiring pattern is formed and an insulating layer are laminated, the wiring board is fixed to a heat dissipating material for dissipating heat, and the metal layer and the heat dissipating material are insulated. A wiring board characterized in that the insulating layer for ensuring the resistance is made of polyimide. 配線基板が屈曲可能なように、前記絶縁層を略直線的に切断して複数に分断したことを特徴とする請求項1に記載の配線基板。   The wiring board according to claim 1, wherein the insulating layer is cut substantially linearly and divided into a plurality of pieces so that the wiring board can be bent. 前記絶縁層の一部分を除去した上、前記金属層のうち前記絶縁層の除去により露出した部分の少なくとも一部分を除去することにより、前記絶縁層側から前記金属層に電気的接合が可能になっていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の配線基板。   By removing a part of the insulating layer and removing at least a part of the metal layer exposed by removing the insulating layer, electrical connection from the insulating layer side to the metal layer becomes possible. The wiring board according to claim 1, wherein the wiring board is provided. 前記絶縁層のうち、発熱を伴う半導体素子又はチップ部品が実装される位置に相対する部分を除去したことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の配線基板。   The wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein a portion of the insulating layer corresponding to a position where a semiconductor element or chip component that generates heat is mounted is removed.
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