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JP2008009084A - カラーフィルタの描画方法 - Google Patents

カラーフィルタの描画方法 Download PDF

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JP2008009084A
JP2008009084A JP2006178579A JP2006178579A JP2008009084A JP 2008009084 A JP2008009084 A JP 2008009084A JP 2006178579 A JP2006178579 A JP 2006178579A JP 2006178579 A JP2006178579 A JP 2006178579A JP 2008009084 A JP2008009084 A JP 2008009084A
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Japan
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black matrix
substrate
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exposure
pattern
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JP2006178579A
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Masahiro Tada
昌広 多田
Yasuaki Matsumoto
泰明 松本
Kohei Matsui
浩平 松井
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Toppan Inc
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Toppan Printing Co Ltd
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Abstract

【課題】ステップ露光により形成されたブラックマトリクスパターンの歪みに追随して2層目移行のパターンを高い位置合せ精度で形成することを可能とするカラーフィルターの描画方法を提供すること。
【解決手段】基板上にブラックマトリクスパターンをステップ露光してブラックマトリクスパターンを形成するとともに、その各ショットのブラックマトリクスパターンの4つのコーナー部の外側に4つのアライメントマークを形成する工程、前記基板上のアライメントマークを読み取り、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みの程度を示す歪みデータを得る工程、及び複数の露光ヘッドを備えた基台を有するスキャニング露光装置を用い、スキャン移動する前記基板上に2層目以降のパターンを形成するための露光を行う工程を具備するカラーフィルターの描画方法。
【選択図】図1

Description

本発明は、カラーフィルタの製造方法に係り、特に、大型のカラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの製造における露光に関する。
従来より、大型のカラー液晶表示装置に用いられる大型のカラーフィルタの製造において、フォトリソグラフィー工程における課題として、原寸大の大型露光マスクを用いる一括露光方式では大型露光マスク作製のためのコストが大きいことがある。これを解決するため、露光ヘッドを複数個搭載した露光機を用い、それぞれの露光ヘッドに対となる小型露光マスクを用いて、スキャニング露光を行う、大型露光マスクを必要としない露光方法が開発されている。このような露光方法は、例えば、特許文献1及び特許文献2に記載されている。
しかし、ステップアンドリピート方式の露光方法で形成したブラックマトリクス(1層目)は、1回のショット露光ごとにパターン歪みが生ずるという問題がある。例えば、2層目以降のパターンを複数のヘッドを有するスキャニング露光(描画)装置で形成する場合、図8に示すように、基板31上に4点のアライメントマークMを付して、ピッチ補正を行っているが、それだけではブラックマトリクスパターン32の歪みに合わせて2層目以降のパターンを形成するための正確な露光を行うことができない。なお、図中、参照符号33は露光ヘッドを示す。
特開2000−347020号公報 特開2005−331542号公報
本発明は、以上のような事情の下になされ、ステップ露光により形成されたブラックマトリクスパターンの歪みに追随して2層目以降のパターンを高い位置合せ精度で形成することを可能とするカラーフィルターの描画方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明は、基板上にブラックマトリクスパターンをステップ露光してブラックマトリクスパターンを形成するとともに、その各ショットのブラックマトリクスパターンの4つのコーナー部の外側に4つのアライメントマークを形成する工程、前記基板上のアライメントマークを読み取り、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みの程度を示す歪みデータを得る工程、及び複数の露光ヘッドを備えた基台を有するスキャニング露光装置を用い、スキャン移動する前記基板上に2層目以降のパターンを形成するための露光を行う工程を具備するカラーフィルターの描画方法において、前記2層目以降のパターンを形成するための露光を、前記各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みデータに応じて、前記露光ヘッドのそれぞれを個々に、前記基板のスキャン移動方向に直交する方向に移動させつつ行うことを特徴とするカラーフィルターの描画方法を提供する。
なお、前記ブラックマトリクスパターンの4つのコーナー部の外側の4つのアライメントマークに代えて、前記各ショットのブラックマトリクスパターン自体の4つの部分をアライメントマークとして利用することができる。
以上のカラーフィルターの描画方法において、前記基板上のアライメントマークの読み取りは、前記基台の基板の両端部及び中央部に対応する位置に設置された3つの撮像手段により行うことができる。
また、前記各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みの程度を示す歪みデータは、前記撮像手段に取り付けられた位置あわせパターンと前記読み取られたアライメントマークとが一致するように前記撮像手段を移動させ、その移動量を測定することにより得ることができる。
更に、前記撮像手段の傾きを、2方向からのレーザ光の照射により管理することができ、また、基板のスキャン移動の方向を、前記複数の露光ヘッドの配置方向に対し垂直となるように制御することができる。この場合、前記基板のスキャン移動の方向の制御は、前記基板が載置されたステージに設けられたステージマークを、前記基台に取り付けられた他の撮像手段により読み取り、それによって得られたズレ量を補正することにより行うことができる。
本発明によれば、ステップ露光により形成したブラックマトリクスパターン上に、複数の露光ヘッドを備える露光装置によりスキャニング露光を行い、2層目以降のパターンを形成する際に、各ショットのブラックマトリクスパターンに歪みがある場合でも、その歪みに応じて、複数の露光ヘッドが個々に移動することにより、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みに追随して、ブラックマトリクスパターン上に所定のパターンを高い位置合せ精度で形成することができる。
以下、本発明の一実施形態に係るカラーフィルターの描画方法について、図面を参照して説明する。
図1に示すように、大型ガラス基板1上に、ステップ露光法を用いて、ショット1〜ショット6の6回のショットで6つのブラックマトリクスパターン2を形成する。その際、各ショット毎に、その4つのコーナー部の外側にアライメントマークM1〜M4を形成する。図中、参照符号3は露光ヘッドを示す。
次に、このようにして形成されたブラックマトリクスパターン2上に、図9に示すような露光装置を用いてRGBパターンを形成する。図9において、基板1の被露光領域上に、マスク22を介して複数の露光ヘッド3が、一定の方向に平行に並置されている。これらの露光ヘッド3の下を基板がY方向にスキャン移動し、基板1上の被露光領域への露光が行われる。
この露光装置には、基板1に付されたアライメントマークM(例示のため、基板の4隅にのみ形成されているが、実際には各ショイットのブラックマトリクスパターン毎に4つ形成されている。)を読み取るためのアライメントカメラ13、及びステージ23に形成されたアライメントマーク17を読み取るためのステージ−ヘッドキャリブレーションカメラ15が配置されている。
図2は、7個の露光ヘッド11を横一列に配置したヘッドガントリー10を示す上面図である。それぞれの露光ヘッド11は、単独でガラス基板のスキャン方向に垂直な方向に移動可能であり、その移動量は、それぞれの露光ヘッド11に取り付けられたリニアスケール12により測定可能である。
ヘッドガントリー10の一方の側には、左端部近傍に第1のカメラ13a、中央部に第2のカメラ13b、及び右端部近傍に第3のカメラ13cが取り付けられ、それぞれのカメラ13a,13b,13cは、単独でガラス基板のスキャン方向に垂直な方向に移動可能であり、その移動量は、それぞれのカメラ13a,13b,13cに取り付けられたリニアスケール14a〜14cにより測定可能である。
第1のカメラ13aは、基板1上の左側アライメントマークM1,M2を読み取るためのものであり、第2のカメラ13bは、中央部のアライメントマークM3,M4,M1,M2,を読み取るためのものであり、第3のカメラ13cは、右側アライメントマークM3,M4を読み取るためのものであり、いずれも基板アライメントカメラである。
図3に示すように、基板アライメントカメラ13a,13b,13cには、基板1上のアライメントマークとのアライメントのためのパターンPを有するレチクル21が取り付けられており、これらレチクル21のパターンPと基板上のアライメントマークSとが一致するように基板アライメントカメラ13a,13b,13cを移動させて、その移動量をリニアスケールで測定することによりズレ量を求め、それによってブラックマトリクスパターン2の歪みの程度が把握される。図4は、基板アライメントカメラ13a,13b,13cに取り付けられたレチクル21のパターンPと基板1上のアライメントマークMとが一致した状態を示す。
図3に示すように、基板アライメントカメラ13a,13b,13cには2方向からレーザ光が照射され、基板アライメントカメラ13a,13b,13cの傾斜が管理されている。
以上のようにブラックマトリクスパターン2の歪みの程度が把握されるためには、露光ヘッド11の向きに対し、ステージのスキャン方向が垂直である必要がある。このようなステージのスキャン方向を制御する手段として、次のような構成とすることが考えられる。
即ち、ヘッドガントリー10の他方の側に、左端部に第4のカメラ15a、及び右端部に第5のカメラ15bcが取り付けられる。それぞれのカメラ15a,15bは、単独でガラス基板のスキャン方向に垂直な方向に移動可能であり、その移動量は、それぞれのカメラ15a,15bに取り付けられたリニアスケール16a,16bにより測定可能である。
これら第4及び第5のカメラ15a,15bは、ステージ上に形成されたアライメントマークを読み取るための、ステージ−ヘッドキャリブレーションカメラである。即ち、図5に示すように、ステージ23の両側にはスキャン方向に複数のアライメントマーク17a,17bが形成され、またステージ23の前部にもスキャン方向とは垂直の方向に複数のアライメントマーク18a,18bが形成されており、ステージ−ヘッドキャリブレーションカメラ15a,15bは、上述した基板アライメントカメラ13a,13b,13cと同様に、所定のパターンを有するレチクルが取り付けられている。
このような構成において、ステージ23をスキャンしながらステージ23上のアライメントマーク17a,17b,18a,18bとステージ−ヘッドキャリブレーションカメラ15a,15bのレチクルのパターンとを一致させるのに要するステージ−ヘッドキャリブレーションカメラ15a,15bの移動量からアライメントマーク17a,17b,18a,18bのズレ量を把握することで、ステージスキャンの傾き、位置を把握することができ、これを補正をすることで、露光ヘッドに対して完全に垂直な方向にステージをスキャンさせることが可能となる。
以上のようにして、ブラックマトリクスパターン2の歪みの程度を把握した後、そのような歪みに追随して、2層目以降のパターン、例えばRGBのパターンが形成される。その際のスキャニング露光は、図6に示すようにして行われる。
即ち、ブラックマトリクスパターン2の歪み情報を基に、歪みの程度に対応して、7個の露光ヘッド11のそれぞれを個々に、基板のスキャン方向に垂直の方向に移動させる。その結果、露光ヘッド11は、図6に示すように、基板上では31a,31b,31c,31d,31e,31f,31gの軌跡をたどることになる。なお、図6において、実線の矩形は設計値のブラックマトリクスパターンを示し、破線の図形は、ブラックマトリクスパターンの歪みを示す。
図6から明らかなように、露光ヘッド11の軌跡31a,31b,31c,31d,31e,31f,31gは、それぞれ個々に、歪みを有するブラックマトリクスパターンに追随しており、このようにして、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みに適合した2層目以降のパターン、例えばRGBパターンを得ることができる。
以上、各ショットのブラックマトリクスパターンの4つのコーナー部の外側に4つのアライメントマークを形成した場合について説明したが、本発明はこれに限らず、例えば、ブラックマトリクスパターンの外部にアライメントマークを形成せず、ブラックマトリクスパターン自体の一部をアライメントマークとして利用することも可能である。そのような例を図7に示す。
図7(a)は、黒色格子状のブラックマトリクスパターン2の一部を示すが、その部分Aを拡大した図7(b)に示すように、ブラックマトリクスパターン2のコーナー部Bをアライメントマークとみなし、カメラ13a,13b,13cに取り付けられたレチクルのパターンPと合わせることにより、ブラックマトリクスパターンの歪みを測定することができる。なお、アライメントマークとみなす部分は、ブラックマトリクスパターンのコーナー部に限定されないが、ブラックマトリクスパターンの歪みを把握する上では、検出が容易な部位であるコーナー部が好ましい。
大型ガラス基板上にステップ露光法を用いてブラックマトリクスパターン及びアライメントマークが形成された状態を示す上面図。 複数の露光ヘッド及びカメラを備えるヘッドガントリーを示す図。 カメラが基板上のアライメントマークを読み取る状態を示す図。 基板アライメントカメラのパターンをアライメントマークと合わせた状態を示す図。 ステージ−ヘッドキャリブレーションカメラがステージ上のアライメントマークを読み取る状態を示す図。 ブラックマトリクスパターンの歪みに追随する露光ヘッドの軌跡を示す図。 ブラックマトリクスパターンのコーナー部をアライメントマークとして用い、基板アライメントカメラのパターンと合わせた状態を示す図。 従来の大型ガラス基板上にステップ露光法を用いてブラックマトリクスパターン及びアライメントマークが形成された状態を示す上面図。 本発明の一態様に用いる露光装置の概略を示す斜視図。
符号の説明
1,31…大型ガラス基板、2,32…ブラックマトリクスパターン、3,33…露光ヘッド、11…ヘッドガントリー、12,14a〜14c,16a,16b…リニアスケール、13a,13b,13c…基板アライメントカメラ、15a,15b…ステージ−ヘッドキャリブレーションカメラ、17a,17b,18a,18b…アライメントマーク、21…レチクル、22…マスク、23…ステージ。

Claims (7)

  1. 基板上にブラックマトリクスパターンをステップ露光してブラックマトリクスパターンを形成するとともに、その各ショットのブラックマトリクスパターンの4つのコーナー部の外側に4つのアライメントマークを形成する工程、
    前記基板上のアライメントマークを読み取り、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みの程度を示す歪みデータを得る工程、及び
    複数の露光ヘッドを備えた基台を有するスキャニング露光装置を用い、スキャン移動する前記基板上に2層目以降のパターンを形成するための露光を行う工程
    を具備するカラーフィルターの描画方法において、
    前記2層目以降のパターンを形成するための露光を、前記各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みデータに応じて、前記露光ヘッドのそれぞれを個々に、前記基板のスキャン移動方向に直交する方向に移動させつつ行うことを特徴とするカラーフィルターの描画方法。
  2. 前記ブラックマトリクスパターンの4つのコーナー部の外側の4つのアライメントマークに代えて、前記各ショットのブラックマトリクスパターン自体の4つの部分をアライメントマークとして利用することを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルターの描画方法。
  3. 前記基板上のアライメントマークの読み取りは、前記基台の基板の両端部及び中央部に対応する位置に設置された3つの撮像手段により行われることを特徴とする請求項1または2に記載のカラーフィルターの描画方法。
  4. 前記各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みの程度を示す歪みデータを、前記撮像手段に取り付けられた位置あわせパターンと前記読み取られたアライメントマークとが一致するように前記撮像手段を移動させ、その移動量を測定することにより得ることを特徴とする請求項3に記載のカラーフィルターの描画方法。
  5. 2方向からのレーザ光の照射により前記撮像手段の傾きを管理することを特徴とする請求項4に記載のカラーフィルターの描画方法。
  6. 前記複数の露光ヘッドの配置方向に対し垂直となるように、前記基板のスキャン移動の方向を制御することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のカラーフィルターの描画方法。
  7. 前記基板のスキャン移動の方向の制御は、前記基板が載置されたステージに設けられたステージマークを、前記基台に取り付けられた他の撮像手段により読み取り、それによって得られたズレ量を補正することにより行われることを特徴とする請求項6に記載のカラーフィルターの描画方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN110147002A (zh) * 2019-04-28 2019-08-20 武汉华星光电技术有限公司 对位测试键、液晶显示面板及对位组立方法

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