JP2008007415A

JP2008007415A - 新規な含フッ素不飽和シリルエーテル化合物及び該化合物を中間体とする含フッ素不飽和アルコール誘導体の製造方法

Info

Publication number: JP2008007415A
Application number: JP2006176126A
Authority: JP
Inventors: Akiyoshi Tanaka; 亮宜田中; Taisuke Sato; 泰輔佐藤; Akio Watabe; 昭雄渡部; Tsunesuke Kawada; 恒佐河田
Original assignee: Tosoh F Tech Inc
Current assignee: Tosoh F Tech Inc
Priority date: 2006-06-27
Filing date: 2006-06-27
Publication date: 2008-01-17
Anticipated expiration: 2026-06-27
Also published as: JP5170987B2

Abstract

【課題】安全かつ容易に、安価なカルボニル化合物に対して直接トリフルオロプロペニル基が導入でき、かつ工業的スケールで効率良く含フッ素不飽和アルコール誘導体を得られることを特徴とする含フッ素不飽和アルコール誘導体の製造方法を提供する。
【解決手段】非プロトン性溶媒中、ルイス塩基触媒存在下、カルボニル化合物をビニルシラン化合物と反応させて、一般式（１）で示される含フッ素不飽和シリルエーテル化合物を含有する反応液を直接脱シリル化、または精製分離した後に脱シリル化して、一般式（２）で示される含フッ素不飽和アルコール誘導体を得ることを特徴とする製造方法。

【選択図】なし

Description

本発明は新規な含フッ素不飽和シリルエーテル化合物及び該化合物を中間体とする含フッ素不飽和アルコール誘導体の製造方法に関する。

含フッ素不飽和アルコール誘導体は医薬、農薬分野における重要な合成中間体である。

一般式（２）

（式中、Ｒ^１は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アルキニル基又はアリール基であり、Ｒ^２は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基を示す。なおＲ^１及びＲ^２が一体となって、ヘテロ原子の介在、若しくは非介在で環状構造の一部を形成してもよい。）
で示される含フッ素不飽和アルコール誘導体の製造方法としては、次に示す方法が挙げられる。

即ち、
（１）２−ブロモ−３，３，３−トリフルオロプロペンをノルマルブチルリチウムでリチオ化した後にアルデヒドと反応させ、反応液を加水分解する方法（非特許文献１）、
（２）塩化銅触媒存在下、アルデヒド化合物、２−ブロモ−３，３，３−トリフルオロプロペン、錫をジメチルホルムアミド若しくはピリジン−テトラヒドロフラン溶媒中で反応させ、反応液を加水分解する方法（非特許文献２）、
（３）２−トリフルオロメチルプロペン酸にメチルリチウムとクロロトリメチルシランを反応させることで得られる２−トリフルオロメチル−１−ブテン−３−オンをイーストにより還元する方法（非特許文献３）、
（４）含フッ素脂肪族基を有するα、β−不飽和ケトンに微生物を作用させ、不飽和アルコールへ選択的に変換する方法（非特許文献４）、等が知られている。

しかしながら、前記（１）の方法ではマイナス９０℃という超低温において反応を実施する必要があり、安全かつ容易に工業的スケールで製造するうえで問題があった。

前記（２）の方法では多量の錫を使用する必要があり、反応後において多量に発生する副生物を除去しなければならないため反応操作が複雑となる点が問題であった。

前記（３）の方法では原料となる２−トリフルオロメチルプロペン酸を得るのに２−ブロモ−３，３，３−トリフルオロプロペンとマグネシウムを反応させなければならず、反応が多段階となり、イーストを作用させる為に収率は低かった。前記（４）の方法では反応時間が２日と長時間であり、さらに熟成時間を延長すると炭素−炭素二重結合も還元されてしまう為、目的とする化合物の収率が低下する、という問題点があった。

前記一般式（２）で示される含フッ素不飽和アルコール誘導体以外の化合物の製造方法として、カルボニル化合物に対してパーフルオロアルキルメチルシランを用いて、パーフルオロアルキル基を導入する方法は公知である（特許文献１）。しかしながら、カルボニル化合物に対してビニルシラン化合物を用いて、トリフルオロプロペニル基を導入した例はこれまでに報告例がない。

従って、安全かつ容易で、安価なアルデヒド化合物に対して直接トリフルオロプロペニル基が導入でき、かつ工業的スケールで効率良く製造し得る前記一般式（２）に示される含フッ素不飽和アルコール誘導体の製造方法が望まれていた。
ドイツ特許第3805534号明細書 J. Org. Chem., 33(1), 280(1967) J. Chem. Soc., Chem. Commun., 3, 289(1994) J. Fluorine Chem., 29(4), 431(1985) Chem. Lett., 587(1985)

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、カルボニル化合物をビニルシラン化合物と反応させて、安全かつ容易で、安価なカルボニル化合物に対して直接トリフルオロプロペニル基が導入でき、かつ工業的スケールで効率良く製造し得る前記一般式（２）に示される含フッ素不飽和アルコール誘導体の製造方法を提供することである。

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意研究を行った結果、非プロトン性溶媒中、ルイス塩基触媒存在下、カルボニル化合物をビニルシラン化合物と反応させて、得られた含フッ素不飽和シリルエーテル化合物を含有する反応液を直接脱シリル化、または精製分離した後に脱シリル化して前記一般式（２）に示される含フッ素不飽和アルコール誘導体を得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は下記の（１）〜（５）に関するものである。
（１）一般式（１）

（式中、Ｒ^１は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アルキニル基又はアリール基であり、Ｒ^２は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基またはアリールオキシカルボニル基を示す。なおＲ^１及びＲ^２が一体となって、ヘテロ原子の介在若しくは非介在で環状構造の一部を形成してもよい。Ａ^１、Ａ^２及びＡ^３はそれぞれ互いに独立し、同一又は異なって、水素原子又は置換基を有してもよい直鎖状若しくは分岐した炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
で示される含フッ素不飽和シリルエーテル化合物。

（２）非プロトン性溶媒中、ルイス塩基触媒存在下、一般式（３）
Ｒ^１ＣＯＲ^２（３）
（式中、Ｒ^１は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アルキニル基又はアリール基であり、Ｒ^２は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基を示す。なおＲ^１及びＲ^２が一体となって、ヘテロ原子の介在若しくは非介在で環状構造の一部を形成してもよい。）
で示されるカルボニル化合物と一般式（４）

（式中、Ａ^１、Ａ^２及びＡ^３はそれぞれ互いに独立し、同一又は異なって、水素原子又は置換基を有してもよい直鎖状若しくは分岐した炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
で示されるビニルシラン化合物を反応させ、一般式（１）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ａ^１、Ａ^２及びＡ^３は前記定義に同じ。）
で示される含フッ素不飽和シリルエーテル化合物を含有する反応液を直接脱シリル化、または精製分離した後に脱シリル化することを特徴とする一般式（２）

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は前記定義に同じ。）
で示される含フッ素不飽和アルコール誘導体の製造方法。

（３）前記一般式（３）で示されるカルボニル化合物がアルデヒド類であり、一般式
（４）で示されるビニルシラン化合物が（１−トリフルオロメチルビニル）トリメチルシランであることを特徴とする前記（２）に記載の含フッ素不飽和アルコール誘導体の製造方法。

（４）前記非プロトン性溶媒が、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン及びジメチルスルホキシドからなる群より選ばれる少なくとも1種である前記（２）又は（３）に記載の含フッ素不飽和アルコール化合物の製造方法。

（５）前記ルイス塩基触媒が、有機アミン化合物、アルカリ金属フッ化物、アルカリ金属炭酸塩又はアンモニウム塩である前記（２）乃至（４）のいずれか１項に記載の含フッ素不飽和アルコール化合物の製造方法。

従来、前記一般式（２）で示される含フッ素不飽和アルコール誘導体を製造するためには、超低温での反応が必要であったり、使用する重金属量が多く大量の重金属廃棄物が生成したり、多段階での反応工程、収率が低い等の問題があった。従来法と比較して、本発明における製造方法は安全かつ容易に、安価なカルボニル化合物に対して直接トリフルオロプロペニル基が導入でき、かつ工業的スケールで効率良く前記一般式（２）で示される含フッ素不飽和アルコール誘導体を得ることが可能であり、工業的に利用価値は高い。

以下、本発明を詳細に説明する。本発明は前記一般式（２）に示される含フッ素不飽和アルコール誘導体の製造方法に関するものであり、非プロトン性溶媒中、ルイス塩基触媒存在下、カルボニル化合物をビニルシラン化合物と反応させて、前記一般式（１）で示される含フッ素不飽和シリルエーテル化合物を含有する反応液を直接脱シリル化、または精製分離した後に脱シリル化することを特徴とする製造方法である。

前記一般式（１）で示される含フッ素不飽和シリルエーテル化合物は新規化合物であり、前記一般式（２）で示される含フッ素不飽和アルコール誘導体の製造中間体として有用である。

前記一般式（１）、（２）、（３）において、Ｒ^１で示されるアルキル基は、炭素数が１〜２０の枝分かれがあっても良いアルキル基または炭素数が３〜２０のシクロアルキル基が好ましく、炭素数が１〜１０のアルキル基または炭素数が３〜１０のシクロアルキル基がさらに好ましい。アルキル基はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよい。Ｒ^１で示されるアルケニル基は、炭素数が２〜２０の枝分かれがあっても良いアルケニル基または炭素数が３〜２０のシクロアルケニル基が好ましく、炭素数が２〜１０のアルケニル基または炭素数が３〜１０のシクロアルケニル基がさらに好ましい。アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、１−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、アリル基などが挙げられる。アルケニル基はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよい。Ｒ^１で示されるアラルキル基は、例としてベンジル基、ペンタフルオロベンジル基、ｏ−メチルベンジル基、ｍ−メチルベンジル基、ｐ−メチルベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、ナフチルメチル基、フルフリル基、α−フェネチル基等が挙げられる。Ｒ^１で示されるアルキニル基は、例としてエチニル基、フェニルエチニル基、２−プロピニル基等が挙げられる。Ｒ^１で示されるアリール基は、炭素数が６〜２０のアリール基が好ましく、炭素数が６〜１０のアリール基がさらに好ましい。アリール基はアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルコキシ基、アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよい。

前記一般式（１）、（２）、（３）において、Ｒ^２で示されるアルキル基は、炭素数が１〜２０の枝分かれがあっても良いアルキル基または炭素数が３〜２０のシクロアルキル基が好ましく、炭素数が１〜１０のアルキル基または炭素数が３〜１０のシクロアルキル基がさらに好ましい。アルキル基はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよい。Ｒ^２で示されるアルケニル基は、炭素数が２〜２０の枝分かれがあっても良いアルケニル基または炭素数が３〜２０のシクロアルケニル基が好ましく、炭素数が２〜１０のアルケニル基または炭素数が３〜１０のシクロアルケニル基がさらに好ましい。アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、１−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、アリル基などが挙げられる。アルケニル基はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよい。Ｒ^２で示されるアラルキル基は、例としてベンジル基、ペンタフルオロベンジル基、ｏ−メチルベンジル基、ｍ−メチルベンジル基、ｐ−メチルベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、ナフチルメチル基、フルフリル基、α−フェネチル基等が挙げられる。Ｒ^２で示されるアルキニル基は、例としてエチニル基、フェニルエチニル基、２−プロピニル基等が挙げられる。Ｒ^２で示されるアリール基は、炭素数が６〜２０のアリール基が好ましく、炭素数が６〜１０のアリール基がさらに好ましい。アリール基はアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルコキシ基、アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよい。Ｒ^２で示されるアルコキシ基は、炭素数が１〜２０のアルコキシ基が好ましく、炭素数が１〜１０のアルコキシ基がさらに好ましい。アルコキシ基の場合も上記のアルキル基の場合と同様の置換基により置換されていてもよい。Ｒ^２で示されるアリールオキシ基は、炭素数が１〜２０のアリールオキシ基が好ましく、炭素数が１〜１０のアリールオキシ基がさらに好ましい。アリールオキシ基の場合も上記のアリール基の場合と同様の置換基により置換されていてもよい。Ｒ^２で示されるアシル基は、炭素数が１〜２０のアシル基が好ましく、炭素数が１〜１０のアシル基がさらに好ましい。特に制限するわけではないが、例としてホルミル基、アセチル基、マロニル基、ベンゾイル基、シンナモイル基等が挙げられる。Ｒ^２で示されるアルコキシカルボニル基は、炭素数が２〜２０のアルコキシカルボニル基が好ましく、炭素数が２〜１０のアルコキシカルボニル基がさらに好ましい。アルコキシカルボニル基の場合も上記のアルコキシ基の場合と同様の置換基により置換されていてもよい。Ｒ^２で示されるアリールオキシカルボニル基は、炭素数が７〜２０のアリールオキシカルボニル基が好ましく、炭素数が７〜１５のアリールオキシカルボニル基がさらに好ましい。アリールオキシカルボニル基の場合も上記のアリールオキシ基の場合と同様の置換基により置換されていてもよい。

前記一般式（１）、（２）、（３）において、Ｒ^１およびＲ^２が一体となって、ヘテロ原子の介在もしくは非介在で環状構造の一部を形成してもよい。

前記一般式（１）、（４）において、Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３はそれぞれ互いに独立し、同一又は異なって、水素原子又は置換基を有してもよい直鎖状若しくは分岐した炭素数１〜４のアルキル基を表す。アルキル基の例としては、特に制限するわけではないが、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。

前記一般式（１）で示される含フッ素不飽和シリルエーテル化合物は、例えば２−トリフルオロメチル−３−トリメチルシロキシ−１−ブテン、２−トリフルオロメチル−３−トリメチルシロキシ−１−ペンテン、２−トリフルオロメチル−３−トリメチルシロキシ−１−ヘキセン、２−トリフルオロメチル−３−トリメチルシロキシ−１−ヘプテン、３−フェニル−２−トリフルオロメチル−３−トリメチルシロキシ−１−プロペン、３−（４−メトキシフェニル）−２−トリフルオロメチル−３−トリメチルシロキシ−１−プロペン、３−（４−クロロフェニル）−２−トリフルオロメチル−３−トリメチルシロキシ−１−プロペン等が挙げられる。

前記一般式（２）で示される含フッ素不飽和アルコール誘導体は、例えば
３−トリフルオロメチル−３−ブテン−２−オール、２−トリフルオロメチル−１−ペンテン−３−オール、２−トリフルオロメチル−１−ヘキセン−３−オール、２−トリフルオロメチル−１−ヘプテン−３−オール、１−フェニル−２−トリフルオロメチル−２−プロペン−１−オール、１−（４−メトキシフェニル）−２−トリフルオロメチル−２−プロペン−１−オール、１−（４−クロロフェニル）−２−トリフルオロメチル−２−プロペン−１−オール等
が挙げられる。

前記一般式（３）で示されるカルボニル化合物は、例えばアセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、バレルアルデヒド、ヘキサルデヒド、イソブチルアルデヒド、トリメチルアセトアルデヒド、シクロペンタンカルボキサルデヒド、シクロヘキサンカルボキサルデヒド、アクロレイン、３−ブチル−２−オン、ベンズアルデヒド、４−ニトロベンズアルデヒド、４−メトキシベンズアルデヒド、２−ベンゼンスルホニルアルデヒド、２-ベンゼンスルフィニルアルデヒド、４−クロロベンズアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、２−フェニルプロピオンアルデヒド、アセトン、２−ブタノン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、アセトフェノン、プロピオフェノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸フェニル、ジアセチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等が挙げられる。

本発明のルイス塩基触媒は、電子対を与えて相手と化学結合を形成するルイス塩基であれば特に限定されないが、有機アミン化合物、金属フッ化物、金属炭酸塩又はアンモニウム塩が好ましく、アルカリ金属フッ化物、アルカリ金属炭酸塩、アンモニウム塩性フルオリドがさらに好ましい。触媒は通常の市販品を直接用いることができ、溶媒に均一に溶解した状態、あるいは一部が溶解した状態でも使用可能である。アルキル金属フッ化物はフッ化セシウム、フッ化カリウムが好ましく、溶媒への溶解、分散性の面からフッ化セシウム、比表面積が大きいスプレードライ製法によるフッ化カリウムがさらに好ましい。有機アミン化合物は、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンが好ましい、アルカリ金属炭酸塩は、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムが好ましく、炭酸カリウムがさらに好ましい。アンモニウム塩性フルオリドは、テトラブチルアンモニウムフルオリドが好ましい。

本発明の反応は、反応に関与しない溶媒中で行う必要があり、非プロトン性溶媒が好ましい。プロトン性溶媒は反応に関与するため好ましくない。非プロトン性溶媒の具体例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ヘキサメチルリン酸トリアミド等が挙げられる。この際、非プロトン性溶媒の概念にはヘプタン、ヘキサン、キシレン、トルエン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジイソプロピルエーテル、アセトニトリルを含む。中でも反応収率が高く、取り扱いおよび工業的に入手が容易であることから、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、ジクロロメタン、トルエン、テトラヒドロフラン、アセトニトリルが好ましく、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシドがさらに好ましい。これらは単独で使用し得るのみならず、２種類以上を混合して用いることも可能である。

本発明で用いられる試薬はあらゆる慣用の方法に従って導入することができ、触媒をカルボニル化合物、ビニルシラン化合物、溶媒から成る混合物に投入することができる。またカルボニル化合物、ビニルシラン化合物を同時にまたは混合物として、溶媒および触媒から成る混合物に投入することもできる。またカルボニル化合物を溶媒、触媒、ビニルシラン化合物からなる三成分の混合物中に投入したり、あるいはビニルシラン化合物を溶媒、触媒、カルボニル化合物から成る三成分の混合物中に投入することも可能である。

本発明で使用する試薬の量は、カルボニル化合物１ｍｏｌに対してビニルシラン化合物０．１〜１０ｍｏｌであるのが好ましく、さらに好ましくは０．５〜２ｍｏｌである。またカルボニル化合物１ｍｏｌに対してルイス塩基触媒は０．００５〜２ｍｏｌであるのが好ましく、さらに好ましくは０．０２〜０．２ｍｏｌである。溶媒量は特に制限するわけではないが、使用するカルボニル化合物１ｇに対して溶媒１〜１００ｇが好ましく、１〜２０ｇがさらに好ましい。

本発明のトリフルオロプロペニル化反応は、反応温度−２０℃〜１２０℃で可能である。反応器は大気開放型の反応器、またはオートクレーブ等の密閉型の反応器のいずれも可能である。反応圧力は大気圧下、または加圧下のいずれも可能である。

上記一般式（１）で示される含フッ素不飽和シリルエーテル化合物の精製方法は、トリフルオロプロペニル化反応終了液を直接蒸留精製することができる。蒸留精製後の残渣液は直接トリフルオロプロペニル化反応の溶媒として循環使用、または残渣液を精製して反応溶媒として循環使用することが可能である。また精製はカラムクロマトグラフ法、または分取薄層クロマトグラフ法を適用することもできる。吸着剤は、例えばシリカゲル、アルミナ等を選択することができる。展開溶媒は、例えばヘキサン／酢酸エチル（０／１００〜１００／０）、ヘキサン／ジイソプロピルエーテル（０／１００〜１００／０）等を使用することができる。

得られた含フッ素不飽和シリルエーテル化合物を脱シリル化して上記一般式（２）で示される含フッ素不飽和アルコール誘導体が得られる。

またトリフルオロプロペニル化反応液を直接脱シリル化して、上記一般式（２）で示される含フッ素不飽和アルコール誘導体を得ることもできる。直接脱シリル化した後の含フッ素不飽和アルコール誘導体の精製方法は、反応液を脱シリル化後に直接蒸留精製できる。蒸留精製後の残渣液は直接トリフルオロメチル化反応の溶媒として循環使用、または残渣液を精製して反応溶媒として循環使用することが可能である。

脱シリル化反応は、シリル基を脱離できる任意の条件を選択することができ、塩酸、硫酸、酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸等を用いた酸加水分解、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を用いたアルカリ加水分解等が挙げられる。

脱シリル化により得られた上記一般式（２）で示される含フッ素不飽和アルコール誘導体は、一般的な手法によって反応液から単離および精製することができ、例えば反応液から溶剤抽出、乾燥、濃縮した後、蒸留精製またはシリカゲル、アルミナ等の吸着剤を用いたカラムクロマトグラフ法での精製、塩析、晶析、再結晶等が挙げられる。
実施例
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。

還流冷却管、温度計、攪拌機を備えた１００ｍＬフラスコに、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（以下「ＮＭＰ」と略称する）１５ｇ、ベンズアルデヒド１．０ｇ（９．４ｍｍｏｌ）、（１−トリフルオロメチルビニル）トリメチルシラン１．９ｇ（１１ｍｍｏｌ）を加えた。フッ化セシウム６８ｍｇ（０．４５ｍｍｏｌ）を加えて、反応温度５０℃で３７時間反応した。^１９Ｆ−ＮＭＲ内部標準法により定量分析したところ、３−フェニル−２−トリフルオロメチル−３−トリメチルシロキシ−１−プロペン１．５ｇ（５．４ｍｍｏｌ）、１−フェニル−２−トリフルオロメチル−２−プロペン−１−オール０．６５ｇ（３．２ｍｍｏｌ）を含む反応液１８ｇを得た（収率９１％）。

取得した反応液１８ｇに水２７ｇを加えてジイソプロピルエーテル１６ｇで３回抽出した後、水２０ｇで２回水洗した。硫酸マグネシウム１．０ｇで乾燥した後、濾過して濾液を溶媒留去した。溶媒留去して２．１ｇの生成物を得た。そのうち０．９０ｇを分取薄層クロマトグラフ法（ＰＬＣプレートシリカゲル、ＭＥＲＣＫ社、展開溶媒クロロホルム）で精製して、３−フェニル−２−トリフルオロメチル−３−トリメチルシロキシ−１−プロペン０．３１ｇ（１．１ｍｍｏｌ）を得た。そのうち１１０ｍｇ（０．４ｍｍｏｌ）をジイソプロピルエーテル３．５ｇに溶解して、１０％塩酸水溶液２．０ｇを加えて、室温で２７時間攪拌した。水層を除去して、水５．０ｇで３回洗浄した。ジイソプロピルエーテル７．３ｇを加えて硫酸マグネシウム０．７ｇで乾燥した後、濾過して濾液を溶媒留去して無色液体の１−フェニル−２−トリフルオロメチル−２−プロペン−１−オール８０ｍｇ（０．４ｍｍｏｌ）を得た。

３−フェニル−２−トリフルオロメチル−３−トリメチルシロキシ−１−プロペン
分析値
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，内部基準ＴＭＳ）δ０．０６（ｓ，９Ｈ），５．３５（ｓ，１Ｈ），５．６９（ｍ，１Ｈ），５．８４（ｍ，１Ｈ），７．２７−７．３７（ｍ，５Ｈ）
^１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，内部基準ＣＦＣｌ_３）δ−６５．３（ｓ，ＣＦ_３）
マススペクトル（ｍ／ｚ）２７４

１−フェニル−２−トリフルオロメチル−２−プロペン−１−オール
分析値
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，内部基準ＴＭＳ）δ２．１６（ｂｒｄ，１Ｈ），５．４３（ｂｒｄ，１Ｈ），５．８０（ｍ，１Ｈ），５．９３（ｍ，１Ｈ），７．３０−７．４０（ｍ，５Ｈ）
^１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，内部基準ＣＦＣｌ_３）δ−６５．７（ｓ，ＣＦ_３）
マススペクトル（ｍ／ｚ）２０２

還流冷却管、温度計、攪拌機を備えた１００ｍＬフラスコに、ＮＭＰ１４ｇ、ベンズアルデヒド１．１ｇ（１０ｍｍｏｌ）、（１−トリフルオロメチルビニル）トリメチルシラン２．０ｇ（１２ｍｍｏｌ）を加えた。炭酸カリウム７０ｍｇ（０．５１ｍｍｏｌ）を加えて、反応温度５０℃で１２０時間反応した。^１９Ｆ−ＮＭＲ内部標準法により定量分析したところ、３−フェニル−２−トリフルオロメチル−３−トリメチルシロキシ−１−プロペン０．５５ｇ（２．０ｍｍｏｌ）、１−フェニル−２−トリフルオロメチル−２−プロペン−１−オール０．９５ｇ（４．７ｍｍｏｌ）を含む反応液を得た（収率６７％）。

還流冷却管、温度計、攪拌機を備えた１００ｍＬフラスコに、テトラヒドロフラン（以下「ＴＨＦ」と略称する）１８ｇ、ベンズアルデヒド１．１ｇ（１０ｍｍｏｌ）、（１−トリフルオロメチルビニル）トリメチルシラン２．２ｇ（１３ｍｍｏｌ）を加えた。テトラブチルアンモニウムフルオリドのＴＨＦ溶液（１Ｍ）１．５ｍＬ（１．５ｍｍｏｌ）を加えて、反応温度５０℃で１２０時間反応した。１０％塩酸水溶液１０ｇを加えて、室温で２４時間攪拌した。水３０ｇを加えて、ジイソプロピルエーテル２０ｇで３回抽出して、水２０ｇで２回洗浄した。有機層を溶媒留去して無色液体の１−フェニル−２−トリフルオロメチル−２−プロペン−１−オール０．５７ｇ（２．８ｍｍｏｌ）を含む生成物を得た（収率２８％）。

還流冷却管、温度計、攪拌機を備えた１００ｍＬフラスコに、ＮＭＰ１４ｇ、ｐ−クロロベンズアルデヒド１．４ｇ（１０ｍｍｏｌ）、（１−トリフルオロメチルビニル）トリメチルシラン２．０ｇ（１２ｍｍｏｌ）を加えた。フッ化カリウム（スプレードライ品）１２ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ）を加えて、反応温度５０℃で１６６時間反応した。^１９Ｆ−ＮＭＲ内部標準法により定量分析したところ、３−（４−クロロフェニル）−２−トリフルオロメチル−３−トリメチルシロキシ−１−プロペン１．５ｇ（４．８ｍｍｏｌ）、１−（４−クロロフェニル）−２−トリフルオロメチル−２−プロペン−１−オール０．７０ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を含む反応液１７ｇを得た（収率７８％）。

取得した反応液１７ｇに水３０ｇを加えてジイソプロピルエーテル１５ｇで３回抽出した後、水２０ｇで２回水洗した。有機層を溶媒留去して２．３ｇの生成物を得た。そのうち０．９０ｇを分取薄層クロマトグラフ法（ＰＬＣプレートシリカゲル、ＭＥＲＣＫ社、展開溶媒クロロホルム）で精製して、３−（４−クロロフェニル）−２−トリフルオロメチル−３−トリメチルシロキシ−１−プロペン０．１１ｇを得た。そのうち６３ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌ）をジイソプロピルエーテル２．０ｇに溶解して、１０％塩酸水溶液１．５ｇを加えて、室温で２７時間攪拌した。水層を除去して、水５．０ｇで３回洗浄した。ジイソプロピルエーテル７．３ｇを加えて硫酸マグネシウム０．７ｇで乾燥した後、濾過して濾液を溶媒留去して１−（４−クロロフェニル）−２−トリフルオロメチル−２−プロペン−１−オール４０ｍｇ（０．１７ｍｍｏｌ）を得た。

３−（４−クロロフェニル）−２−トリフルオロメチル−３−トリメチルシロキシ−１−プロペン
分析値
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，内部基準ＴＭＳ）δ０．０７（ｓ，９Ｈ），５．３１（ｓ，１Ｈ），５．７０（ｍ，１Ｈ），５．８５（ｍ，１Ｈ），７．２６−７．３４（ｍ，４Ｈ）
^１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，内部基準ＣＦＣｌ_３）δ−６５．２（ｓ，ＣＦ_３）
マススペクトル（ｍ／ｚ）３０８

１−（４−クロロフェニル）−２−トリフルオロメチル−２−プロペン−１−オール
分析値
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，内部基準ＴＭＳ）δ２．１６（ｂｒｄ，１Ｈ），５．４３（ｂｒｄ，１Ｈ），５．８０（ｍ，１Ｈ），５．９４（ｍ，１Ｈ），７．２８−７．３８（ｍ，４Ｈ）
^１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，内部基準ＣＦＣｌ_３）δ−６５．７（ｓ，ＣＦ_３）
マススペクトル（ｍ／ｚ）２３６

還流冷却管、温度計、攪拌機を備えた１００ｍＬフラスコに、ＮＭＰ１４ｇ、ｎ−ブチルアルデヒド０．７２ｇ（１０ｍｍｏｌ）、（１−トリフルオロメチルビニル）トリメチルシラン２．０ｇ（１２ｍｍｏｌ）を加えた。フッ化カリウム（スプレードライ品）１２ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ）を加えて、反応温度５０℃で１６６時間反応した。^１９Ｆ−ＮＭＲ内部標準法により定量分析したところ、２−トリフルオロメチル−３−トリメチルシロキシ−１−ヘキセン０．７６ｇ（３．２ｍｍｏｌ）、２−トリフルオロメチル−１−ヘキセン−３−オール０．４９ｇ（２．９ｍｍｏｌ）を含む反応液を得た（収率６１％）。

還流冷却管、温度計、攪拌機を備えた１００ｍＬフラスコに、ＮＭＰ１４ｇ、ｐ−メトキシベンズアルデヒド１．４ｇ（１０ｍｍｏｌ）、（１−トリフルオロメチルビニル）トリメチルシラン２．０ｇ（１２ｍｍｏｌ）を加えた。フッ化カリウム（スプレードライ品）１２ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ）を加えて、反応温度５０℃で１６６時間反応した。^１９Ｆ−ＮＭＲ内部標準法により定量分析したところ、３−（４−メトキシフェニル）−２−トリフルオロメチル−３−トリメチルシロキシ−１−プロペン１．４ｇ（４．５ｍｍｏｌ）、１−（４−メトキシフェニル）−２−トリフルオロメチル−２−プロペン−１−オール０．５３ｇ（２．３ｍｍｏｌ）を含む反応液を得た（収率６８％）。

還流冷却管、温度計、攪拌機を備えた２Ｌフラスコに、ＮＭＰ１３５０ｇ、ベンズアルデヒド１００ｇ（０．９５ｍｏｌ）、（１−トリフルオロメチルビニル）トリメチルシラン１９０ｇ（１．１ｍｏｌ）を加えた。フッ化セシウム７．１ｇ（４７ｍｍｏｌ）を加えて、反応温度５０℃で１８時間反応した。^１９Ｆ−ＮＭＲ内部標準法により定量分析したところ、３−フェニル−２−トリフルオロメチル−３−トリメチルシロキシ−１−プロペン１３７ｇ（０．５０ｍｏｌ）、１−フェニル−２−トリフルオロメチル−２−プロペン−１−オール７５ｇ（０．３７ｍｏｌ）を含む反応液１６４７ｇを得た（収率９２％）。
１０％塩酸水溶液１００ｇを加えて、室温で１８時間攪拌した。取得した反応液に水２０００ｇを加えてジイソプロピルエーテル７００ｇで２回抽出した後、水５００ｇで２回水洗した。硫酸マグネシウム５０ｇで乾燥した後、濾過して濾液を溶媒留去した。溶媒留去して１９０ｇの生成物を得た。減圧下、精密蒸留精製して無色液体の１−フェニル−２−トリフルオロメチル−２−プロペン−１−オール１１４ｇ（０．５６ｍｏｌ）を取得した。沸点９８〜１００℃（２ｋＰａ）。

還流冷却管、温度計、攪拌機を備えた２Ｌフラスコに、ＮＭＰ１３５０ｇ、ｎ−ブチルアルデヒド６８ｇ（０．９４ｍｏｌ）、（１−トリフルオロメチルビニル）トリメチルシラン１９０ｇ（１．１ｍｏｌ）を加えた。フッ化セシウム７．１ｇ（４７ｍｍｏｌ）を加えて、反応温度５０℃で４時間反応した。^１９Ｆ−ＮＭＲ内部標準法により定量分析したところ、２−トリフルオロメチル−３−トリメチルシロキシ−１−ヘキセン０．７６ｇ（３．２ｍｍｏｌ）、２−トリフルオロメチル−１−ヘキセン−３−オール０．４９ｇ（２．９ｍｍｏｌ）を含む反応液１５９０ｇを得た（収率５８％）。反応液１１２０ｇに１０％塩酸水溶液１００ｇを加えて、室温で３時間攪拌した。取得した反応液に水１２００ｇを加えてジイソプロピルエーテル６００ｇで２回抽出した後、水３００ｇで２回水洗した。硫酸マグネシウム３０ｇで乾燥した後、濾過して濾液を溶媒留去した。溶媒留去して９８ｇの生成物を得た。減圧下、精密蒸留精製して無色液体の２−トリフルオロメチル−１−ヘキセン−３−オール６３ｇ（０．３８ｍｏｌ）を取得した。沸点６８〜７０℃（５ｋＰａ）。

安全かつ容易に、安価なカルボニル化合物に対して直接トリフルオロプロペニル基が導入でき、かつ工業的スケールで効率良く前記一般式（２）で示される含フッ素不飽和アルコール誘導体を得ることが可能であり、工業的に利用価値は高い。

Claims

一般式（１）

（式中、Ｒ^１は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アルキニル基又はアリール基であり、Ｒ^２は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基を示す。なおＲ^１及びＲ^２が一体となって、ヘテロ原子の介在若しくは非介在で環状構造の一部を形成してもよい。Ａ^１、Ａ^２及びＡ^３はそれぞれ互いに独立し、同一又は異なって、水素原子又は置換基を有してもよい直鎖状若しくは分岐した炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
で示される含フッ素不飽和シリルエーテル化合物。
非プロトン性溶媒中、ルイス塩基触媒存在下、一般式（３）
Ｒ^１ＣＯＲ^２（３）
（式中、Ｒ^１は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アルキニル基又はアリール基であり、Ｒ^２は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基を示す。なおＲ^１及びＲ^２が一体となって、ヘテロ原子の介在若しくは非介在で環状構造の一部を形成してもよい。）
で示されるカルボニル化合物と一般式（４）

（式中、Ａ^１、Ａ^２及びＡ^３はそれぞれ互いに独立し、同一又は異なって、水素原子又は置換基を有してもよい直鎖状若しくは分岐した炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
で示されるビニルシラン化合物を反応させ、一般式（１）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ａ^１、Ａ^２及びＡ^３は前記定義に同じ。）
で示される含フッ素不飽和シリルエーテル化合物を含有する反応液を直接脱シリル化、または精製分離した後に脱シリル化することを特徴とする一般式（２）

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は前記定義に同じ）
で示される含フッ素不飽和アルコール誘導体の製造方法。
前記一般式（３）で示されるカルボニル化合物がアルデヒド類であり、一般式（４）で示されるビニルシラン化合物が（１−トリフルオロメチルビニル）トリメチルシランであることを特徴とする請求項２に記載の含フッ素不飽和アルコール誘導体の製造方法。
前記非プロトン性溶媒が、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン及びジメチルスルホキシドからなる群より選ばれる少なくとも1種である請求項２又は３に記載の含フッ素不飽和アルコール化合物の製造方法。
前記ルイス塩基触媒が、有機アミン化合物、アルカリ金属フッ化物、アルカリ金属炭酸塩又はアンモニウム塩である請求項２乃至４のいずれか１項に記載の含フッ素不飽和アルコール化合物の製造方法。