[go: up one dir, main page]

JP2008098341A - 保護回路 - Google Patents

保護回路 Download PDF

Info

Publication number
JP2008098341A
JP2008098341A JP2006277352A JP2006277352A JP2008098341A JP 2008098341 A JP2008098341 A JP 2008098341A JP 2006277352 A JP2006277352 A JP 2006277352A JP 2006277352 A JP2006277352 A JP 2006277352A JP 2008098341 A JP2008098341 A JP 2008098341A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
terminal
protection circuit
diode
transistor
voltage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2006277352A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroaki Kono
広明 河野
Hironao Yanai
寛直 谷内
Takahiro Yokoyama
隆弘 横山
Tadayoshi Nakatsuka
忠良 中塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2006277352A priority Critical patent/JP2008098341A/ja
Publication of JP2008098341A publication Critical patent/JP2008098341A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Bipolar Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

【課題】安定動作可能な動作電圧の設定に自由度を与えることができる保護回路を提供する。
【解決手段】ドレイン端子と被保護素子2が接続された端子1を接続した電界効果トランジスタ3と、前記電界効果トランジスタ3のゲート端子と一端を接続し、他端を接地した抵抗4と、前記電界効果トランジスタ3のソース端子とアノード端子が接続され、カソード端子が接地された第1のダイオード5とで構成されていることを特徴とする保護回路6であり、入力端子に低電圧信号が印加された場合は前記トランジスタ3が遮断状態となり、高電圧パルスが印加されたときは導通状態となるようにバイアスされる。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体集積回路に関し、特に静電破壊防止を目的とした保護回路に係る。
近年、半導体集積回路では微細化が進むと共に素子の静電耐圧が低下し、外部接続端子から侵入する高電圧パルス(以下、サージパルス)によって素子が破壊される可能性が大きくなっている。そのため、近年の半導体集積回路においては、外部接続端子に付随して、内部回路の静電破壊対策を目的とした保護回路が備えられていることが多い。
図13は従来の実施の形態における保護回路の構成を説明するための図であり、図12は半導体基板とパッケージとの接続例を示す図である。図13において、端子1は被保護回路2に接続された端子であり、例えば図12のようにボンディングワイヤー14や半導体基板上の素子17等を介し、パッケージの外部接続端子13と接続されている。
この外部接続端子13は、例えばデジタルまたはアナログ信号端子や電源端子、接地端子として使用される。図13の保護回路106を構成するトランジスタ3、抵抗4は、静電気に起因して端子1を通して被保護回路に侵入するサージパルスを抑制するために設けられている。
以下に該回路の動作原理を、エンハンスメント型電界効果トランジスタを用いた場合を例に図13を参照して説明する。端子1に正のサージパルスが印加されると、半導体集積回路やボンディングワイヤー14等の寄生成分によって決定される時定数で、トランジスタ3のドレイン電位が指数関数的に上昇する。このとき、ドレイン―ゲート間容量カップリングまたはドレイン―ゲート間リーク電流によってもたらされる、抵抗4での電圧降下により、該トランジスタのゲート電位が上昇する。
ゲート電位がトランジスタ3のオン電圧以上に上昇すれば、該トランジスタは導通状態となり、サージパルスによるチャージは該トランジスタを通し放電される。ここで、トランジスタ3のオン電圧や抵抗4の抵抗値を適当に設定し、該トランジスタのドレイン電位が被保護回路2の破壊耐圧に達する前に該トランジスタを導通状態とせしめることで、被保護回路2をサージパルスによる破壊から保護することができる。
一方、負のサージパルスが入力されると、寄生成分で決定される時定数でドレイン電位が低下する。このとき、ドレイン電位の低下がオン電圧以上になると、トランジスタ3が導通状態となり、被保護回路2をサージパルスより保護することが可能となる。
また、該保護回路106においては、トランジスタ3のオン電圧と抵抗4の抵抗値の最適化により、所望の入力電圧に対し該トランジスタを導通状態とすることが重要となる。すなわち、トランジスタ3は、ノイズや伝達信号などの低電圧信号が印加された際は遮断状態となり、被保護回路2の破壊耐圧を上回るサージパルスに対しては確実に導通状態となることが求められる。
なお、電界効果トランジスタの代わりにバイポーラトランジスタを用いても、同様の原理で保護効果が得られる。この際、上記説明においてドレインがコレクタに、ゲートがベースに、ソースがエミッタに対応する。また、バイポーラトランジスタを用いた場合であっても、トランジスタのオン電圧と、抵抗4の抵抗値を適切に設計する必要がある。このような従来の技術としては、例えば特許文献1や特許文献2に記載されたもの等が知られている。
特開2006−114618号公報 特開平2−41621号公報
図13に示す従来技術の保護回路では、トランジスタ3のオン電圧が低い場合、オン電圧が高い場合に比べ、より低い電圧が端子1に印加されたときに該トランジスタが導通状態となる。したがって、トランジスタ3のオン電圧が低すぎる場合、端子1に印加された電源電圧あるいは伝達信号により該トランジスタが導通状態となり、被保護回路2への信号伝達に支障をきたす。
このため、該トランジスタのオン電圧はある一定値以上であることが望ましいが、オン電圧の設計自由度が制約され、十分に大きくできない場合がある。例えば、トランジスタ3にMES(MEtal Semiconductor)型トランジスタを用いる場合、該トランジスタのオン電圧をゲートショットキーダイオードのオン電圧以上にすることが出来ないなどの制約を受ける。
また、保護回路106を被保護回路2と同一基板上に作製し、さらに被保護回路2上のトランジスタのオン電圧がトランジスタ3の最適オン電圧に比べ小さい場合、生産性などの観点からトランジスタ3のオン電圧のみを高くすることが出来ない場合がある。
トランジスタ3のオン電圧が小さい場合、抵抗4の抵抗値を小さくすることで、トランジスタ3のゲートあるいはベース電位の上昇を抑制し、低電圧信号に対し導通状態になりにくくすることも可能である。しかし、製造上均一性の確保が可能な抵抗値には下限があるため、該抵抗の抵抗値設計のみでこの課題を解決することが困難な場合は少なくない。
以上のように、トランジスタ3のオン電圧が小さい場合は、特に電源電圧が高い端子や比較的電圧が大きい大信号が印加される端子に従来の保護回路を適用することが困難である。また、大信号が印加されない端子であっても、広い温度範囲でノイズなどに対して該トランジスタが遮断状態を保ち、安定に動作するためには一定値以上のオン電圧が要求される。しかし、上記の通り、一定値以上のオン電圧を得ることは必ずしも容易ではない。このように、従来技術においては、低電圧入力に対しては確実に遮断状態となり、サージパルス印加時には導通状態となる安定動作が可能な保護回路の動作電圧の設定が、トランジスタのオン電圧によって制限されていた。
本発明は、上記従来の事情に鑑みてなされたものであって、安定動作可能な動作電圧の設定に自由度を与えることができる保護回路を提供することを目的とする。
上記の課題を解決するためになされた本発明は、被保護回路が接続された端子にドレイン端子が接続されたエンハンスメント型電界効果トランジスタと、前記電界効果トランジスタのゲート端子と一端を接続し、他端が接地された抵抗と、前記電界効果トランジスタのソース端子とアノード端子が接続され、カソード端子が接地された第1のダイオードとで構成されていることを特徴とする保護回路を要旨としている。
上記構成によれば、抵抗を介してゲート端子が接地された電界効果トランジスタのソース端子に、カソード端子が接地されたダイオードのアノード端子を接続することでトランジスタが導通状態となるゲート電位を高め、従来、トランジスタのオン電圧によって一意的に決められていた保護回路の動作電圧の設定に自由度を与えることができる。特に、低電圧入力に対して遮断状態を保つことでオン電圧が低いトランジスタを用いた場合の動作安定化に効果を奏するものである。
また、上記の課題を解決するためになされた本発明は、ソース端子が接地されたエンハンスメント型電界効果トランジスタと、前記電界効果トランジスタのゲート端子と一端を接続され、他端を接地された抵抗と、前記電界効果トランジスタのドレイン端子とカソード端子が接続され、被保護回路が接続された端子にアノード端子が接続された第2のダイオードとで構成されていることを特徴とする保護回路を要旨としている。
上記構成によれば、抵抗を介してゲート端子が接地された電界効果トランジスタのドレイン端子に、被保護素子が接続された端子にアノード端子を接続したダイオードのカソード端子を接続し、該ダイオードにおいてサージパルスの電圧を降下させることにより、従来、トランジスタのオン電圧によって一意的に決められていた保護回路の動作電圧の設定に自由度を与えることができる。特に、低電圧入力に対して遮断状態を保つことで、オン電圧が低いトランジスタを用いた場合の動作安定化に効果を奏するものである。
また、上記の課題を解決するためになされた本発明は、端子に接続された被保護回路を過入力から保護するための保護回路であって、前記端子にドレイン端子を接続したエンハンスメント型電界効果トランジスタと、前記電界効果トランジスタのゲート端子に一端を接続した抵抗と、前記抵抗の他端に一端を接続し他端を接地した第1の容量と、前記抵抗と前記第1の容量との接続点に設けられ、前記端子から前記被保護回路への信号伝達を制御するための制御用端子と、前記電界効果トランジスタのソース端子にアノード端子を接続し、カソード端子を接地した第1のダイオードとで構成されていることを特徴とする保護回路を要旨としている。
上記構成によれば、抵抗と第1の容量の接続点に制御用端子を設け、制御用端子からエンハンスメント型電界効果トランジスタの制御信号を入力することで、サージパルスによる被保護回路の破壊を防ぐとともに、端子から入力される信号の被保護回路への伝達を制御することが可能となる。
また、上記の課題を解決するためになされた本発明は、前記第1のダイオードのカソード端子にアノード端子が接続され、前記第1のダイオードのアノード端子にカソード端子が接続された第3のダイオードを備えることを特徴とする保護回路を要旨としている。
上記構成によれば、前記第1のダイオードと並列に、第3のダイオードを前記第1のダイオードと逆向きに接続することで、第1のダイオードの耐圧最適化が困難な場合に、負のサージパルスに対する回路保護動作の安定化に効果を奏するものである。
また、上記の課題を解決するためになされた本発明は、前記第2のダイオードのカソード端子にアノード端子が接続され、前記第2のダイオードのアノード端子にカソード端子が接続された第4のダイオードを備えることを特徴とする保護回路を要旨としている。
上記構成によれば、前記第2のダイオードと並列に、第4のダイオードを前記第2のダイオードと逆向きに接続することで、第2のダイオードの耐圧最適化が困難な場合に、負のサージパルスに対する回路保護動作の安定化に効果を奏するものである。
また、上記の課題を解決するためになされた本発明は、一端が接地され、他端が前記電界効果トランジスタのゲート端子に接続された第2の容量を備えることを特徴とする保護回路を要旨としている。
上記構成によれば、一端を前記電界効果トランジスタのゲート端子に接続された前記抵抗と並列に、容量を接続することで、サージパルスよりも高い周波数の低電圧信号によるゲート電位上昇を抑制し、オン電圧が低いトランジスタを用いた場合の動作安定化に効果を奏するものである。
さらに、上記の課題を解決するためになされた本発明は、端子に接続された被保護回路を過入力から保護するための保護回路であって、前記端子にコレクタ端子が接続されたNPN型バイポーラトランジスタと、前記バイポーラトランジスタのベース端子と一端を接続され、他端が接地された抵抗と、前記バイポーラトランジスタのエミッタ端子とアノード端子が接続され、カソード端子が接地された第5のダイオードとで構成されていることを特徴とする保護回路を要旨としている。
上記構成によれば、抵抗を介してベース端子が接地されたバイポーラトランジスタのエミッタ端子に、カソード端子が接地されたダイオードのアノード端子を接続することでトランジスタが導通状態となるベース電位を高め、従来、トランジスタのオン電圧によって一意的に決められていた保護回路の動作電圧の設定に自由度を与えることができる。特に、低電圧入力に対して遮断状態を保つことでオン電圧が低いトランジスタを用いた場合の動作安定化に効果を奏するものである。
さらに、上記の課題を解決するためになされた本発明は、端子に接続された被保護回路を過入力から保護するための保護回路であって、エミッタ端子が接地されたNPN型バイポーラトランジスタと、前記バイポーラトランジスタのベース端子と一端を接続され、他端を接地された抵抗と、前記バイポーラトランジスタのコレクタ端子とカソード端子が接続され、前記端子にアノード端子が接続された第6のダイオードとで構成されていることを特徴とする保護回路を要旨としている。
上記構成によれば、抵抗を介してベース端子が接地されたバイポーラトランジスタのコレクタ端子に、被保護素子が接続された端子にアノード端子を接続したダイオードのカソード端子を接続し、該ダイオードにおいてサージパルスの電圧を降下させることにより、従来、トランジスタのオン電圧によって一意的に決められていた保護回路の動作電圧の設定に自由度を与えることができる。特に、低電圧入力に対して遮断状態を保つことで、オン電圧が低いトランジスタを用いた場合の動作安定化に効果を奏するものである。
さらに、上記の課題を解決するためになされた本発明は、端子に接続された被保護回路を過入力から保護するための保護回路であって、前記端子にコレクタ端子を接続したNPN型バイポーラトランジスタと、前記バイポーラトランジスタのベース端子に一端を接続した抵抗と、前記抵抗の他端に一端を接続し、他端を接地した第1の容量と、前記抵抗と前記第1の容量の接続点に設けられ、前記端子から前記被保護回路への信号伝達を制御するための制御用端子と、前記バイポーラトランジスタのエミッタ端子にアノード端子を接続し、カソード端子を接地した第5のダイオードとで構成されていることを特徴とする保護回路を要旨としている。
上記構成によれば、抵抗と第1の容量との接続点に制御用端子を設け、制御用端子からNPN型バイポーラトランジスタの制御信号を入力することで、サージパルスによる被保護回路の破壊を防ぐとともに、端子から入力される信号の被保護回路への伝達を制御することが可能となる。
さらに、上記の課題を解決するためになされた本発明は、前記第5のダイオードのカソード端子にアノード端子が接続され、前記第5のダイオードのアノード端子にカソード端子が接続された第7のダイオードを備えることを特徴とする保護回路を要旨としている。
上記構成によれば、前記第5のダイオードと並列に、第7のダイオードが前記第5のダイオードと逆向きに接続することで、第5のダイオードの耐圧最適化が困難な場合に、負のサージパルスに対する回路保護動作の安定化に効果を奏するものである。
さらに、上記の課題を解決するためになされた本発明は、前記第6のダイオードのカソード端子にアノード端子が接続され、前記第6のダイオードのアノード端子にカソード端子が接続された第8ダイオードを備えることを特徴とする保護回路を要旨としている。
上記構成によれば、前記第6のダイオードと並列に、第8のダイオードが前記第6のダイオードと逆向きに接続することで、第6のダイオードの耐圧最適化が困難な場合に、負のサージパルスに対する回路保護動作の安定化に効果を奏するものである。
さらにまた、上記の課題を解決するためになされた本発明は、一端が接地され、他端が前記バイポーラトランジスタのベース端子に接続された第2の容量を備えることを特徴とする保護回路を要旨としている。
上記構成によれば、一端を前記バイポーラトランジスタのベース端子に接続された前記抵抗と並列に、容量を接続することで、サージパルスよりも高い周波数の低電圧信号によるベース電位上昇を抑制し、オン電圧が低いトランジスタを用いた場合の動作安定化に効果を奏するものである。
さらにまた、上記の課題を解決するためになされた本発明は、前記第1〜第8のダイオードの少なくとも1つが、同方向に直列接続された少なくとも2つ以上のダイオードから構成されていることを特徴とする保護回路を要旨としている。
上記構成によれば、前記第1〜第8のダイオードの少なくとも1つを、同方向に直列接続された少なくとも2つ以上のダイオードで構成し、トランジスタが導通状態となる時のゲート(またはベース)電位を調整することにより、オン電圧が低いトランジスタを用いた場合の動作安定化に効果を奏するものである。
以上説明したように、本発明にかかる保護回路によれば、従来、トランジスタのオン電圧によって一意的に決められていた保護回路の動作電圧の設定に自由度を与えることができる。特に、低電圧入力に対して遮断状態を保つことでオン電圧が低いトランジスタを用いた場合の動作安定化に効果を奏するものである。
本発明はオン電圧が低いトランジスタを用いた保護回路の動作安定化に効果を奏するものである。現在、無線通信用機器に用いられる高周波回路では高周波特性に優れるGaAs基板が多く用いられるが、GaAs基板上集積回路ではオン電圧を大きくすることが困難な接合型電界効果トランジスタが多用される。そのため、特に限定はされないが、本発明はGaAs半導体基板上集積回路において特に好適である。以下で本発明の実施の形態を具体的に説明する。
(第1の実施の形態)
本発明の第1の実施の形態を説明する。図1は本発明の第1の実施の形態における保護回路の構成を説明するための図である。図1に示す保護回路6は、被保護回路2が接続された端子1にドレイン端子が接続されたエンハンスメント型電界効果トランジスタ3と、前記電界効果トランジスタ3のゲート端子と一端を接続し、他端が接地された抵抗4と、前記電界効果トランジスタ3のソース端子とアノード端子が接続され、カソード端子が接地された第1のダイオード5とで構成される。
図1において、端子1に電圧が印加されない場合は電界効果トランジスタ3のソース電位およびゲート電位は接地電位に保たれる。端子1に正のサージパルスが印加されると、例えば端子1に接続される半導体回路およびボンディングワイヤー等の寄生成分で決定される時定数で、該トランジスタ3のドレイン電位が指数関数的に上昇する。
この時、該トランジスタ3のゲート―ドレイン間の容量カップリングまたはドレイン―ゲート間リーク電流による抵抗4での電圧降下により、ゲート電位が上昇する。ゲート―ソース間電位差がトランジスタ3のオン電圧以上になると該トランジスタが導通状態となり、サージパルスのチャージを放電する経路が形成され、被保護回路2に印加される電圧が減少する。
ここで、トランジスタ3のソース―接地端子間に第1のダイオード5を挿入することで、回路動作が安定することを説明する。トランジスタ3のソース、ゲート電位をそれぞれVs、Vg、該トランジスタのオン電圧をVon、第1のダイオード5のアノード端子電位をVfとすると、
Vs=Vf ・・・(1)
であるから、
Vg−Vs=Vg−Vf>Von ・・・(2)
すなわち、
Vg>Von+Vf ・・・(3)
の時に該トランジスタが導通状態となる。したがって、第1のダイオード5での電圧降下によって、該トランジスタが導通状態となるゲート電位が上昇し、低電圧入力に対し遮断状態を保つことが容易になる。
ここで、図2を用いてトランジスタ3の動作を更に詳しく説明する。図2は該保護回路6における端子1の電位Voltageと、トランジスタ3の各端子電位およびドレイン電流との関係を示す。なお、比較のために従来保護回路(図13参照)の特性も合わせて記載している。また、図2のVdはドレイン電位、Vgはゲート電位、Vsはソース電位、Idはドレイン電流である。
まず、従来技術では、端子1の電位が約12V以下の範囲では、端子1の電位の増加とともにゲート電位が上昇する。これは、上記説明の通り、ドレイン―ゲート間電流による抵抗4での電圧降下に起因する。さらにゲート電位が上昇し、トランジスタ3のオン電圧(Von=約0.3V)を超えると、ドレイン電流が増加し、トランジスタ3が導通状態となる。
一方、本発明では端子1の電位が約12V以下のときは、端子1の電位の増加とともにゲート電位だけでなくソース電位も上昇している。さらに、端子1の電位が12V以上になりゲート電圧が約0.3V以上になっても、第1のダイオード5によりソース電位が上昇しているため、ゲート―ソース間電位がVon以下であり、該トランジスタは遮断状態を保っている。さらに端子1の電位が上昇し、20V以上になると、ゲート―ソース間電位がVon以上になり、該トランジスタが導通状態となることが分かる。すなわち、従来技術では端子1の電位が約12V以上になるとトランジスタが導通状態となるのに対し、本実施の形態によれば端子1の電位が約20Vになるまで遮断状態を保つことが可能になり、トランジスタのオン電圧に制限されることなく、保護回路の動作電圧を自由に設定することができる。
このように、本発明の第1の実施の形態によれば、ダイオードのオン電圧により、トランジスタが導通状態となる電位を高めることが出来る。例えば、接合型電界効果トランジスタにおいて、ゲートショットキーダイオードのオン電圧が0.5〜0.6V程度の場合、該トランジスタのしきい値電圧は実用上高くとも0.4〜0.5V程度となることが多い。ゆえに、該トランジスタが導通状態となるゲート電位が、ダイオードのオン電圧と同等分上昇することは、保護動作の安定化を図る上で意義深い。
なお、該ダイオードに印加される電圧Vfが該ダイオードのオン電圧以上になると、該ダイオードのインピーダンスは急激に低下するため、該ダイオードによってサージパルス印加時のチャージ放電が阻害されることはない。
一方、負のサージパルスが印加された場合、トランジスタ3は導通状態にバイアスされ、第1のダイオード5は逆バイアスに印加される。該ダイオードに印加される電圧が耐圧を越えると、該ダイオードのインピーダンスが急激に低下し、サージパルスによるチャージを放電することが出来る。したがって、例えばツェナーダイオードを用いるなどして該ダイオードの耐圧を被保護回路2の破壊耐圧以下に設計することで、被保護回路の破壊を防止することが出来る。
以上のように、第1の実施の形態の回路構成により、低電圧印加時にトランジスタ3を遮断状態に保ちやすくなることが分かる。
以上説明したように、本実施の形態によれば、従来、トランジスタのオン電圧によって一意的に決められていた保護回路の動作電圧の設定に自由度を与えることができる。特に、低電圧入力に対して遮断状態を保つことでオン電圧が低いトランジスタを用いた場合の動作安定化に効果を奏することができる。すなわち、オン電圧が低いエンハンスメント型トランジスタを用いた場合であっても、低電圧入力に対しては確実に遮断状態となり、サージパルス印加時には導通状態となる安定動作可能となる。
ここで、回路シミュレーション結果を用いて上記説明を補足する。
図3は本発明の第1の実施の形態における保護回路の電流電圧特性を示す図であり、端子1の電圧とトランジスタ3のドレイン電流との関係を示している。また、比較のために図13に示す従来保護回路の電流電圧特性も合わせて記載している。なお、図3中のGSM(Global System for Mobile comunications)信号(振幅:約−17〜+17V)は、本保護回路の有望な応用用途の一つである携帯電話向け高周波アナログ回路に印加される低電圧信号の一例である(電圧は50Ω系で換算)。
図3において、従来保護回路が遮断状態となるのは約−0.3〜14Vの範囲である。したがって、この範囲外の振幅のGSM信号が印加された場合、トランジスタ3が導通状態となるので、GSM信号を被保護回路に伝達することが出来ない。
一方、本実施の形態の回路では、GSM信号振幅である−17〜+17Vの入力の全範囲において、トランジスタ3は遮断状態にあり、GSM信号を被保護回路に伝送することが可能である。すなわち、低電圧信号が印加される端子に対して、本発明の保護回路が有用であることが分かる。
なお、第1のダイオード5が、少なくとも二つ以上のダイオードの直列接続で構成されていても同様の原理で回路保護効果が得られる。この時、直列に接続するダイオード数を調整することで、ソース電位の上昇幅を制御し、トランジスタ3が遮断状態となる端子1の電圧範囲を設計することも可能である。すなわち、ダイオードの段数を増加させることでソース電位をより上昇させ、導通状態となるゲート電位を高めることによって、該トランジスタが遮断状態となる端子1の電圧範囲を広げることが出来る。
(第2の実施の形態)
次に本発明の第2の実施の形態について説明する。図4は本発明の第2の実施の形態における保護回路の構成を説明するための図である。図4に示す保護回路6は、ソース端子が接地されたエンハンスメント型電界効果トランジスタ3と、前記電界効果トランジスタ3のゲート端子と一端を接続され、他端を接地された抵抗4と、前記電界効果トランジスタ3のドレイン端子とカソード端子が接続され、被保護回路2が接続された端子1にアノード端子が接続された第2のダイオード7とで構成される。
図4において、端子1に正の電圧が印加されると、従来回路構成と同様に、同端子電圧は、例えば端子1に接続される半導体集積回路およびボンディングワイヤー等の寄生成分で決定される時定数で上昇する。この時、第2のダイオード7における電圧降下によって、トランジスタ3のドレイン端子電圧は端子1の電圧に比べ低下する。したがって、従来構成に比べ該トランジスタ3に印加される電圧が低下し、遮断状態となる端子1の上限電圧が上昇する。すなわち、低電圧入力に対し導通状態となりにくくすることが可能である。
なお、負のサージパルスが印加された場合、第2のダイオード7は逆バイアスに印加される。該ダイオードに耐圧以上の電圧が印加されると、該ダイオードのインピーダンスが急激に低下し、サージパルスによるチャージを放電することが出来る。したがって、ツェナーダイオードを用いるなどして該ダイオードの耐圧を被保護回路2の破壊耐圧以下に設計することで、被保護回路2の破壊を防止することが出来る。
また、第2のダイオード7が、少なくとも二つ以上のダイオードの直列接続で構成されていても同様の原理で回路保護効果が得られる。この時、直列に接続するダイオード数を調整することで、ソース電位の上昇幅を制御し、トランジスタ3が遮断状態となる端子1の電圧範囲を設計することも可能である。また、本実施の形態で説明した構成(第2のダイオード7)は第1の実施の形態の回路構成と組み合わせて用いてもよい。
(第3の実施の形態)
次に本発明の第3の実施の形態について説明する。図5は本発明の第3の実施の形態における保護回路の構成を説明するための図である。図5に示す保護回路は、第1の実施の形態で説明した回路において、抵抗4と接地端子との間に第1の容量9を直列接続している。さらに、前記抵抗4と第1の容量9との接続点に、制御用端子8を設けた構成である。
なお、第3の実施の形態は、特に限定はしないが、例えば低電圧高周波信号が印加される端子に適用される。また、特に制限されないが、第1の容量9にMIM(Metal-Insulator-Metal)容量や可変容量ダイオード等を用いてもよい。
図5に示す回路において、端子8は、トランジスタ3を制御することで端子1から被保護回路2への信号伝達を制御するために設けている。第1の容量9の容量値は該容量のインピーダンスが端子8から入力される制御信号に対しては十分に大きく、サージパルスによりドレイン端子からゲート端子に伝わる信号に対しては十分に小さくなるように設定する。容量値をこのように設定することで、サージパルスが印加された時、第1の実施の形態と同様に、トランジスタ3がサージによるチャージを放電する経路となり、サージパルスによる被保護回路2の破壊を防ぐことが可能である。
さらに、制御端子8から該トランジスタ3の制御信号を入力することで、端子1から入力される信号の被保護回路への伝達を制御することが可能となる。すなわち、本実施の形態では、低電圧信号が印加される場合においても保護回路6が安定して遮断状態となることを利用し、回路保護機能に加え制御端子8による被保護回路2への信号伝達制御を可能とすることを要旨としている。なお、本実施の形態で説明した構成(第1のダイオード5、制御端子8、第1の容量9)は第2の実施の形態の回路構成と組み合わせてもよい。
(第4の実施の形態)
次に本発明の第4の実施の形態について説明する。図6は本発明の第4の実施の形態における保護回路の構成であり、第1の実施の形態の回路構成において、前記第1のダイオード5と並列に、前記第1のダイオード5と逆向きに第3のダイオード10が接続された構成となっている。
この回路は、第1のダイオード5の耐圧が被保護回路2の破壊耐圧よりも高いために、負のサージパルスから被保護回路2を保護できない場合や、逆に耐圧が低すぎるために負の低電圧入力に対しトランジスタ3が導通状態となる場合においても、安定した回路保護動作の実現を意図したものである。正のサージパルス印加時の動作原理は第1の実施の形態と同じであるので、説明は省略する。
負のサージパルスが印加されると、寄生容量で決まる時定数でトランジスタ3のドレイン電圧が低下し、第3のダイオード10は順方向にバイアスされる。第3のダイオード10における電圧降下をVf、トランジスタ3のドレイン電位をVd、ソース電位をVs、ゲート電位をVg、オン電圧をVonとすると、該トランジスタが導通状態となる条件は
Vg―Vd > Von ・・・(4)
Vs > Vd ・・・(5)
Vs < −Vf ・・・(6)
である。
すなわち、
Vd < Vg−Von ・・・(7)
Vd < −Vf ・・・(8)
の時にサージによる電荷が第3のダイオード10を介して放電される。したがって、第3のダイオード10を挿入することで、少なくとも−Vf < Vdの負の低電圧信号に対してトランジスタ3を遮断状態に保つことが出来る。
回路シミュレーション結果を用いて上記説明を補足する。図7は本発明の第4の実施の形態における保護回路の電流電圧特性であり、端子1に正電圧が印加された時の電圧とトランジスタ3のドレイン電流の関係を示したものである。なお、オン電圧Vonは0.3Vとした。
従来技術では約13Vの入力で該トランジスタが導通状態となっているのに対し、本実施例の保護回路では約20Vの入力まで該トランジスタは遮断状態であり、第1の実施の形態で示した図1の回路と同様に保護動作の安定化がなされていることが分かる。
次に、負電圧印加時のトランジスタ3の電流電圧特性を説明する。図8は本発明の第4の実施の形態における保護回路の電流電圧特性であり、端子1に負電圧が印加された時の電圧とトランジスタ3のドレイン電流の関係を示したものである。オン電圧Vonは0.1Vと0.3Vの二水準である。
従来技術では、Vd=−Von程度の低い電圧でトランジスタ3が導通状態となっており、特にVonが小さい場合にトランジスタ3が導通状態となりやすいことが分かる。そのため、ノイズなどに対して回路動作が不安定になりやすく、また、一般にオン電圧Vonは温度依存性を有するため、広い温度範囲での動作保障はさらに困難である。
一方、本実施の形態における回路ではVonの大小に関わらずVd=−1.2V以上の入力に対してトランジスタ3は遮断状態を保っており、回路動作の安定化がなされている。したがって、印加される負電圧が比較的小さい端子において、ノイズなどに対する安定性向上が期待される。
なお、第3のダイオード10が、少なくとも二つ以上のダイオードの直列接続で構成されていても同様の原理で回路保護効果が得られる。この時、直列に接続するダイオード数を調整することで、ソース電位の上昇幅を制御し、トランジスタ3が遮断状態となる入力電圧を設計することも可能である。また、本実施の形態で説明した構成(第1のダイオード5、第3のダイオード10)は第2および第4の実施の形態の回路構成と併用してもよい。
(第5の実施の形態)
次に本発明の第5の実施の形態について説明する。図9は本発明の第5の実施の形態における保護回路の構成を説明するための図である。図9に示す保護回路6は、第2の実施の形態の回路構成において、前記第2のダイオード7と並列に、前記第2のダイオード7と逆向きに第4のダイオード11が接続された構成である。
この回路は、第2ダイオード6の耐圧が被保護回路2の破壊耐圧よりも高いために、負のサージパルスから被保護回路2を保護できない場合や、耐圧が低すぎるために負の低電圧入力に対しトランジスタ3が導通状態となる場合において、保護動作の安定化を意図したものである。正のサージパルス印加時の動作原理は第2の実施の形態と同じであるので、説明は省略する。
図9において、端子1に負の電圧が印加されると、第4のダイオード11における電圧降下によって、トランジスタ3のドレイン端子電圧が端子1の電圧に比べ上昇する。したがって、従来構成に比べ該トランジスタが遮断状態となる端子1の下限電圧が低下し、負の低電圧入力に対し導通状態となりにくくすることが出来る。
なお、第4のダイオード11が、少なくとも二つ以上のダイオードの直列接続で構成されていても同様の原理で回路保護効果が得られる。この時、直列に接続するダイオード数を調整することで、ソース電位の上昇幅を制御し、トランジスタ3が遮断状態となる入力電圧を設計することも可能である。また、本実施の形態で説明した構成(第2のダイオード7、第4のダイオード11)は第1、第3および第4の実施の形態の回路構成と併用してもよい。
(第6の実施の形態)
次に本発明の第6の実施の形態について説明する。図10は本発明の第6の実施の形態における保護回路の構成を説明するための図である。図10に示す保護回路6は、第1の実施の形態の回路において、一端を電界効果トランジスタ3のゲート端子に接続された抵抗4と並列に、第2の容量12が接続された構成である。
第6の実施の形態は、特に限定はされないが、サージパルスに比べ高い周波数、例えば1GHz以上の高周波信号が印加される端子に適用される。また、特に制限はされないが、第2の容量12にMIM容量や可変容量ダイオードを用いてもよい。
前記の通り、該保護回路6においてトランジスタ3のゲート電位の上昇を抑制することで低電圧信号印加時にトランジスタ3を遮断状態に保つことが容易になる。抵抗4の抵抗値を低くすることで、信号印加時のゲート電位上昇を抑制することは出来るが、前記の通り、抵抗値の設計可能範囲には下限が存在する。
そこで、第2の容量12を抵抗4と並列に挿入した回路構成とした。この構成にすることで、サージパルスの周波数に比べ低電圧信号の周波数の方が高い場合、ゲート端子―接地端子間のインピーダンスをサージパルスに対しては大きく、低電圧高周波信号に対して小さくすることが出来る。
したがって、低電圧高周波信号によるゲート電位の上昇を抑制されると期待される。これにより、低電圧高周波信号によってトランジスタ3が導通状態にバイアスされにくくなり、高周波信号が印加される端子での保護動作安定化に貢献すると考えられる。なお、特に制限されないが、第2の容量12にMIM容量や可変容量ダイオードを用いてもよい。また、本実施の形態で説明した構成(第1のダイオード5、第2の容量12)は第2〜第5の実施の形態の回路構成と併用してもよい。
(第7の実施の形態)
次に本発明の第7の実施の形態について説明する。図11は本発明の第7の実施の形態における保護回路の構成を説明するための図である。図11に示す保護回路6は、被保護回路2が接続された端子1にアノード端子が接続された第2のダイオード7と、前記第2のダイオード7のカソード端子にドレイン端子が接続されたエンハンスメント型電界効果トランジスタ3と、前記電界効果トランジスタ3のゲート端子と一端が接続され、他端が接地された抵抗4と、前記電界効果トランジスタ3のゲート端子と一端が接続され、他端が接地された第2の容量12と、前記電界効果トランジスタのソース端子とアノード端子が接続され、カソード端子が接地された第1のダイオード5と、前記電界効果トランジスタ3のソース端子とカソード端子が接続され、アノード端子が接地された第3のダイオード10と、端子1にカソード端子が接続され、前記電界効果トランジスタ3のドレイン端子にアノード端子が接続された第4のダイオード11とで構成される。この保護回路は、前述の第1〜第7の実施の形態で説明した保護回路の構成を全て備えるものである。
まず、前記第1の実施の形態で説明したとおり、第1のダイオード5によってトランジスタ3が導通状態となるオン電圧が上昇する。さらに、前記第2の実施の形態で説明したとおり、第2のダイオード7によってトランジスタ3に印加される電圧が減少するため、第1、第2の実施の形態に比べトランジスタ3を遮断状態に保つのが容易になる。
また、第3、第4のダイオード10、11を付加することで、ダイオードの耐圧調整が困難な場合においても、負のサージパルスに対応可能となる。またさらに、第2の容量12を加えることで、端子1に印加されるサージパルスよりも周波数が高い信号によるゲート電位の上昇を抑制することが出来る。なお、これらの構成は第3の実施の形態の保護回路の構成と併用してもよい。
上記第1〜第7の実施の形態においては、サージパルスのチャージを放電する能力を確保する観点から、第1〜第4のダイオードの電流駆動能力を電界効果トランジスタ3の電流駆動能力と同等以上となるように設計する必要がある。また、自明ではあるが、各実施形態で説明した回路構成を任意に組み合わせることで、保護回路の動作安定化においてより高い効果を得ることが出来る。
また、上記第1〜第7の実施の形態における説明ではMIS(Metal Insulator Semiconductor)型、MES型、ヘテロ接合型を初めとする電界効果トランジスタを用いた場合を例に説明したが、ヘテロ接合型などのバイポーラトランジスタを用いた場合においても同様の効果が得られる。その際、本説明におけるドレインがコレクタに、ゲートがベースに、ソースがエミッタに対応する。
また、特に限定はされないが、上記説明におけるダイオードとして、PN接合ダイオードやショットキーダイオード、接合型電界効果トランジスタのゲートショットキーダイオードを用いてもよい。さらに、特に制限されないが、上記第1〜第7の実施の形態の保護回路は例えば接合型電界効果トランジスタを用いた論理回路、アナログ回路等に含まれる。
またさらに、特に制限されないが、上記第1〜第7の実施の形態の保護回路は、例えば化合物半導体基板上に被保護回路と共に形成してもよい。保護回路と被保護回路とを同一基板上に作製することで、半導体回路装置の小型化や製造コスト低減などの利点が得られる。
本発明の保護回路は、安定動作可能な動作電圧の設定に自由度を与えることができる効果を有し、制限はされないが、特にオン電圧が小さいトランジスタで構成された半導体集積回路における保護回路等として有用である。
本発明の第1の実施の形態における保護回路の構成を説明するための図 本発明の第1の実施の形態における端子1の電位とトランジスタ3の各端子電位およびドレイン電流の関係を示す図 本発明の第1の実施の形態における保護回路の電流電圧特性を示す図 本発明の第2の実施の形態における保護回路の構成を説明するための図 本発明の第3の実施の形態における保護回路の構成を説明するための図 本発明の第4の実施の形態における保護回路の構成を説明するための図 本発明の第4の実施の形態における保護回路の電流電圧特性を示す図 本発明の第4の実施の形態における保護回路の電流電圧特性を示す図 本発明の第5の実施の形態における保護回路の構成を説明するための図 本発明の第6の実施の形態における保護回路の構成を説明するための図 本発明の第7の実施の形態における保護回路の構成を説明するための図 半導体基板とパッケージとの接続例を示す図 従来の実施の形態における保護回路の構成を説明するための図
符号の説明
1 端子
2 被保護回路
3 電界効果トランジスタ
4 抵抗
5 第1のダイオード
6 保護回路
7 第2のダイオード
8 制御用端子
9 第1の容量
10 第3のダイオード
11 第4のダイオード
12 第2の容量
13 外部接続端子
14 ボンディングワイヤー
15 パッケージ
16 半導体基板
17 半導体基板上の素子
106 保護回路

Claims (18)

  1. 端子に接続された被保護回路を過入力から保護するための保護回路であって、
    前記端子にドレイン端子が接続されたエンハンスメント型電界効果トランジスタと、
    前記電界効果トランジスタのゲート端子と一端を接続し他端が接地された抵抗と、
    前記電界効果トランジスタのソース端子とアノード端子が接続され、カソード端子が接地された第1のダイオードとで
    構成されていることを特徴とする保護回路。
  2. 端子に接続された被保護回路を過入力から保護するための保護回路であって、
    ソース端子が接地されたエンハンスメント型電界効果トランジスタと、
    前記電界効果トランジスタのゲート端子と一端を接続され、他端を接地された抵抗と、
    前記電界効果トランジスタのドレイン端子とカソード端子が接続され、前記端子にアノード端子が接続された第2のダイオードとで
    構成されていることを特徴とする保護回路。
  3. 端子に接続された被保護回路を過入力から保護するための保護回路であって、
    前記端子にドレイン端子を接続したエンハンスメント型電界効果トランジスタと、
    前記電界効果トランジスタのゲート端子に一端を接続した抵抗と、
    前記抵抗の他端に一端を接続し他端を接地した第1の容量と、
    前記抵抗と前記第1の容量との接続点に設けられ、前記端子から前記被保護回路への信号伝達を制御するための制御用端子と、
    前記電界効果トランジスタのソース端子にアノード端子を接続し、カソード端子を接地した第1のダイオードとで
    構成されていることを特徴とする保護回路。
  4. 請求項1記載の保護回路において、
    前記第1のダイオードのカソード端子にアノード端子が接続され、前記第1のダイオードのアノード端子にカソード端子が接続された第3のダイオードを備えることを特徴とする保護回路。
  5. 請求項2記載の保護回路において、
    前記第2のダイオードのカソード端子にアノード端子が接続され、前記第2のダイオードのアノード端子にカソード端子が接続された第4のダイオードを備えることを特徴とする保護回路。
  6. 請求項1〜5のいずれか一項記載の保護回路において、
    一端が接地され、他端が前記電界効果トランジスタのゲート端子に接続された第2の容量を備えることを特徴とする保護回路。
  7. 請求項1〜6のいずれか一項記載の保護回路において、
    前記エンハンスメント型電界効果トランジスタが接合型電界効果トランジスタであることを特徴とする保護回路。
  8. 請求項1〜6のいずれか一項記載の保護回路において、
    前記エンハンスメント型電界効果トランジスタがMES型トランジスタであることを特徴とする保護回路。
  9. 端子に接続された被保護回路を過入力から保護するための保護回路であって、
    前記端子にコレクタ端子が接続されたNPN型バイポーラトランジスタと、
    前記バイポーラトランジスタのベース端子と一端を接続され、他端が接地された抵抗と、
    前記バイポーラトランジスタのエミッタ端子とアノード端子が接続され、カソード端子が接地された第5のダイオードとで
    構成されていることを特徴とする保護回路。
  10. 端子に接続された被保護回路を過入力から保護するための保護回路であって、
    エミッタ端子が接地されたNPN型バイポーラトランジスタと、
    前記バイポーラトランジスタのベース端子と一端を接続され、他端を接地された抵抗と、
    前記バイポーラトランジスタのコレクタ端子とカソード端子が接続され、前記端子にアノード端子が接続された第6のダイオードとで
    構成されていることを特徴とする保護回路。
  11. 端子に接続された被保護回路を過入力から保護するための保護回路であって、
    前記端子にコレクタ端子を接続したNPN型バイポーラトランジスタと、
    前記バイポーラトランジスタのベース端子に一端を接続した抵抗と、
    前記抵抗の他端に一端を接続し、他端を接地した第1の容量と、
    前記抵抗と前記第1の容量との接続点に設けられ、前記端子から前記被保護回路への信号伝達を制御するための制御用端子と、
    前記バイポーラトランジスタのエミッタ端子にアノード端子を接続し、カソード端子を接地した第5のダイオードとで
    構成されていることを特徴とする保護回路。
  12. 請求項9記載の保護回路において、
    前記第5のダイオードのカソード端子にアノード端子が接続され、前記第5のダイオードのアノード端子にカソード端子が接続された第7のダイオードを備えることを特徴とする保護回路。
  13. 請求項10記載の保護回路において、
    前記第6のダイオードのカソード端子にアノード端子が接続され、前記第6のダイオードのアノード端子にカソード端子が接続された第8ダイオードを備えることを特徴とする保護回路。
  14. 請求項9〜13のいずれか一項記載の保護回路において、
    一端が接地され、他端が前記バイポーラトランジスタのベース端子に接続された第2の容量を備えることを特徴とする保護回路。
  15. 請求項9〜14のいずれか一項記載の保護回路において、
    前記バイポーラトランジスタがヘテロ接合型バイポーラトランジスタであることを特徴とする保護回路。
  16. 請求項1〜15のいずれか一項記載の保護回路において、
    前記第1〜第8のダイオードの少なくとも1つが、同方向に直列接続された少なくとも2つ以上のダイオードから構成されていることを特徴とする保護回路
  17. 請求項1〜16のいずれか一項記載の保護回路において、
    前記被保護回路と同一半導体基板上に形成されていることを特徴とする保護回路。
  18. 請求項17記載の保護回路において、
    前記半導体基板が化合物半導体基板であることを特徴とする保護回路。
JP2006277352A 2006-10-11 2006-10-11 保護回路 Withdrawn JP2008098341A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006277352A JP2008098341A (ja) 2006-10-11 2006-10-11 保護回路

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006277352A JP2008098341A (ja) 2006-10-11 2006-10-11 保護回路

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008098341A true JP2008098341A (ja) 2008-04-24

Family

ID=39380888

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006277352A Withdrawn JP2008098341A (ja) 2006-10-11 2006-10-11 保護回路

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008098341A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2019145827A1 (ja) * 2018-01-25 2021-01-28 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体材料、および半導体装置
JP2021141317A (ja) * 2020-03-02 2021-09-16 アナパス インコーポレーテッドAnapass Inc. 電気的ストレス保護回路、及びそれを備えた電子装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2019145827A1 (ja) * 2018-01-25 2021-01-28 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体材料、および半導体装置
JP2024124441A (ja) * 2018-01-25 2024-09-12 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
US12317600B2 (en) 2018-01-25 2025-05-27 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor material and semiconductor device
JP2021141317A (ja) * 2020-03-02 2021-09-16 アナパス インコーポレーテッドAnapass Inc. 電気的ストレス保護回路、及びそれを備えた電子装置
JP7155462B2 (ja) 2020-03-02 2022-10-19 アナパス インコーポレーテッド 電気的ストレス保護回路、及びそれを備えた電子装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11990467B2 (en) Low capacitance bidirectional transient voltage suppressor
TWI446520B (zh) 用於配置超低電壓瞬態電壓抑制器的底部源極n型金屬氧化物半導體觸發的齊納箝位
KR100621273B1 (ko) 정전 방전 보호회로
CN107528304B (zh) 瞬态电压保护电路、装置和方法
US6633063B2 (en) Low voltage transient voltage suppressor and method of making
US11411395B2 (en) Electrostatic discharge protection circuit and operation method
CN102195280B (zh) 静电放电保护电路和半导体设备
US20100172059A1 (en) Over-limit electrical condition protection circuits for integrated circuits
US20150270255A1 (en) Semiconductor device
US7978451B2 (en) Circuit arrangement comprising an electronic component and an ESD protection arrangement
JP2009087962A (ja) 保護回路及び半導体集積回路
US11303118B2 (en) Overvoltage protection
CN112242696A (zh) 静电放电保护电路以及操作方法
US10249608B1 (en) ESD protection circuit
US8625239B2 (en) Semiconductor device
US10475782B2 (en) ESD protection diode and electronic device including the same
KR20040090480A (ko) 내부 회로를 보호하는 보호 회로를 구비한 반도체 장치
JP2008098341A (ja) 保護回路
EP1482554B1 (en) Electrostatic discharge protection device
US20150062764A1 (en) Esd protection circuit
US7087968B1 (en) Electrostatic discharge protection circuit and semiconductor circuit therewith
JP2006100386A (ja) 静電気保護回路
CN113345881A (zh) 控制电路
CN116259624B (zh) 一种低容硅控整流器
CN115244682A (zh) 半导体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20100105