JP2008088518A - 銅微粒子、銅微粒子製造方法、絶縁材料、配線構造、配線回路板の製造方法、及び電子・電気機器 - Google Patents
銅微粒子、銅微粒子製造方法、絶縁材料、配線構造、配線回路板の製造方法、及び電子・電気機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008088518A JP2008088518A JP2006272120A JP2006272120A JP2008088518A JP 2008088518 A JP2008088518 A JP 2008088518A JP 2006272120 A JP2006272120 A JP 2006272120A JP 2006272120 A JP2006272120 A JP 2006272120A JP 2008088518 A JP2008088518 A JP 2008088518A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper fine
- fine particles
- copper
- unsaturated fatty
- fatty acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
- H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
- H05K1/097—Inks comprising nanoparticles and specially adapted for being sintered at low temperature
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
- B22F1/05—Metallic powder characterised by the size or surface area of the particles
- B22F1/054—Nanosized particles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
- B22F1/10—Metallic powder containing lubricating or binding agents; Metallic powder containing organic material
- B22F1/102—Metallic powder coated with organic material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/16—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes
- B22F9/18—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds
- B22F9/24—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds starting from liquid metal compounds, e.g. solutions
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/02—Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
- H05K2201/0203—Fillers and particles
- H05K2201/0206—Materials
- H05K2201/0224—Conductive particles having an insulating coating
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/4038—Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections
- H05K3/4053—Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections by thick-film techniques
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
Abstract
【解決手段】銅イオンを含む不飽和脂肪酸溶液とアルドース(還元性単糖類)溶液を混合してエマルジョンを形成する1次還元工程と、該エマルジョンにアスコルビン酸水溶液を加える2次還元工程と、銅微粒子分離工程とを有する銅微粒子製造方法によって、平均粒径が100nm以下であり、表面の一部又は全部が不飽和脂肪酸のカルボキシル末端基で修飾された銅微粒子を得る。
【選択図】図1
Description
本発明の方法で、最初に水溶液中のCu2+イオンはオレイン酸の中に抽出した。そして、抽出されたCu2+イオンはグルコースとアスコルピン酸によりそれぞれ酸化銅(I)と金属銅に還元した。オレイン酸は抽出溶媒と銅粒子の表面に吸着できる表面活性剤の両方として働く。安定な金属銅微粒子は酸素が存在している中でも得ることができる。本発明の方法は、高い安定と疎水性のナノ銅粒子を得ることを可能にする。同時に、オレイン酸のC=C結合の存在は潜在的工業プロセスアプリケーションに重要な高分子マトリクスと最終生成物を容易に反応させる。
図2に、上記実施例の反応機構の概念図を示す。
金属銅微粒子の評価は異なるテクニックにより行った。X線回折パターンは、Cu−Ka線を用い、X線回折装置(XRD;XRD−6000,島津製作所製)により得た。最終生成物の形態は、走査型電子顕微鏡(S−700)で撮影した顕微鏡写真により決定した。疎水特性の結果は、浮遊試験(50mLの蒸留水中に5gの最終生成物を投入)により評価した。上記方法で得られた銅微粒子を蒸留水に混合し、勢いよく攪拌した後、浮遊した生成物と試料の全重量の比を測定した。この比は、アクティブ比率と呼ぶ。アクティブ比率が高いと疎水特性はより良いことを意味する。
次に、合成された銅微粒子の疎水特性に及ぼす銅とオレイン酸の重量比の影響を調べるために、オレイン酸量を変化させ、他の実験条件は固定して銅微粒子を合成した。
Claims (16)
- 平均粒径が100nm以下であり、表面の一部又は全部が不飽和脂肪酸のカルボキシル末端基で修飾されたことを特徴とする銅微粒子。
- 前記不飽和脂肪酸がオレイン酸であることを特徴とする請求項1に記載の銅微粒子。
- 疎水特性を示すことを特徴とする請求項1又は2に記載の銅微粒子。
- 銅イオンを含む不飽和脂肪酸溶液とアルドース(還元性単糖類)溶液を混合してエマルジョンを形成する1次還元工程と、該エマルジョンにアスコルビン酸水溶液を加える2次還元工程と、銅微粒子分離工程とを有する銅微粒子製造方法。
- 前記不飽和脂肪酸がオレイン酸であることを特徴とする請求項4に記載の銅微粒子製造方法。
- 前記アルドース(還元性単糖類)がグルコースであることを特徴とする請求項4又は5に記載の銅微粒子製造方法。
- 銅イオンとオレイン酸の重量比が4.3wt%以下であることを特徴とする請求項5又は6に記載の銅微粒子製造方法。
- ポリマーマトリックス中に、平均粒径が100nm以下であり、表面の一部又は全部が不飽和脂肪酸のカルボキシル末端基で修飾された銅微粒子が分散されていることを特徴とする絶縁材料。
- 前記不飽和脂肪酸がオレイン酸であることを特徴とする請求項8に記載の絶縁材料。
- 回路基板内の配線溝、ビアホール、コンタクトホール及び貫通孔から選ばれる凹部又は孔に、平均粒径が100nm以下であり、表面の一部又は全部が不飽和脂肪酸のカルボキシル末端基で修飾された銅微粒子が充填されていることを特徴とする配線構造。
- 前記不飽和脂肪酸がオレイン酸であることを特徴とする請求項10に記載の配線構造。
- 回路基板内の配線溝、ビアホール、コンタクトホール及び貫通孔から選ばれる凹部又は孔に、銅イオンを含む不飽和脂肪酸溶液とグルコース溶液を混合してエマルジョンを形成する1次還元工程と、該エマルジョンにアスコルビン酸水溶液を加える2次還元工程と、銅微粒子分離工程により製造された銅微粒子を充填することを特徴とする配線回路板の製造方法。
- 前記不飽和脂肪酸がオレイン酸であることを特徴とする請求項12に記載の配線回路板の製造方法。
- 回路基板内の配線溝、ビアホール、コンタクトホール及び貫通孔から選ばれる少なくとも一つの凹部又は孔への、銅微粒子の充填方法が、スクリーン印刷法、ディスペンス法、インクジェット法又はスピンコート法である請求項12又は13に記載の配線回路板の製造方法。
- 請求項8又は9に記載の絶縁材料を有する電子・電気機器。
- 請求項10又は11に記載の配線構造を有する電子・電気機器。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006272120A JP4961587B2 (ja) | 2006-10-03 | 2006-10-03 | 銅微粒子、銅微粒子製造方法、絶縁材料、配線構造、配線回路板の製造方法、及び電子・電気機器 |
| PCT/JP2007/069785 WO2008041780A1 (en) | 2006-10-03 | 2007-10-03 | Copper microparticle, method for production of copper microparticle, insulating material, wiring structure, method for production of wiring circuit board, and electronic/electric device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006272120A JP4961587B2 (ja) | 2006-10-03 | 2006-10-03 | 銅微粒子、銅微粒子製造方法、絶縁材料、配線構造、配線回路板の製造方法、及び電子・電気機器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008088518A true JP2008088518A (ja) | 2008-04-17 |
| JP4961587B2 JP4961587B2 (ja) | 2012-06-27 |
Family
ID=39268630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006272120A Active JP4961587B2 (ja) | 2006-10-03 | 2006-10-03 | 銅微粒子、銅微粒子製造方法、絶縁材料、配線構造、配線回路板の製造方法、及び電子・電気機器 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4961587B2 (ja) |
| WO (1) | WO2008041780A1 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011034019A1 (ja) | 2009-09-16 | 2011-03-24 | 日立化成工業株式会社 | 印刷法用インク及びそれに用いられる金属ナノ粒子、並びに配線、回路基板、半導体パッケージ |
| JP2011140635A (ja) * | 2009-12-10 | 2011-07-21 | Riso Kagaku Corp | 導電性エマルジョンインク及びそれを用いた導電性薄膜の形成方法 |
| WO2013035366A1 (ja) * | 2011-09-08 | 2013-03-14 | 学校法人関西大学 | 分散安定性の高い銅ナノ粒子の製造方法 |
| WO2013073199A1 (ja) * | 2011-11-14 | 2013-05-23 | 石原薬品株式会社 | 銅微粒子分散液、導電膜形成方法及び回路基板 |
| WO2013073200A1 (ja) * | 2011-11-14 | 2013-05-23 | 石原薬品株式会社 | 銅微粒子分散液、導電膜形成方法及び回路基板 |
| JP2013167002A (ja) * | 2012-02-16 | 2013-08-29 | Noritake Co Ltd | 金属微粒子分散液およびその製造方法 |
| JP5651113B2 (ja) * | 2009-07-14 | 2015-01-07 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | 金属ナノ粒子を用いた接合材および接合方法 |
| US20150344715A1 (en) * | 2012-11-02 | 2015-12-03 | Korea Institute Of Science And Technology | Oxidation resistant copper nanoparticles and method for producing same |
| EP3150306A4 (en) * | 2014-05-30 | 2018-01-17 | Kyoritsu Chemical Co., Ltd. | Coated copper particles and method for manufacturing same |
| JP7742468B1 (ja) * | 2024-10-03 | 2025-09-19 | 株式会社Uacj | 複合素材 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103464774B (zh) * | 2012-06-07 | 2016-02-24 | 荆门市格林美新材料有限公司 | 低团聚抗氧化纳米铜粉的制备方法 |
| CN104014816B (zh) * | 2014-06-21 | 2015-12-30 | 吉林大学 | 一种具有抗氧化性铜纳米颗粒的制备方法 |
| WO2020204118A1 (ja) * | 2019-04-03 | 2020-10-08 | 東洋製罐グループホールディングス株式会社 | 金属銅微粒子粉末及びその製造方法 |
| JP7643837B2 (ja) * | 2019-04-03 | 2025-03-11 | 東洋製罐グループホールディングス株式会社 | 金属銅微粒子粉末及びその製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004176147A (ja) * | 2002-11-28 | 2004-06-24 | Asahi Kasei Corp | 銅超微粒子の製造方法 |
| JP2004225122A (ja) * | 2003-01-23 | 2004-08-12 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 銅ペースト用の銅粉及びその銅粉の製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005220435A (ja) * | 2003-10-22 | 2005-08-18 | Mitsuboshi Belting Ltd | 金属ナノ粒子及び金属ナノ粒子分散液の製造方法 |
-
2006
- 2006-10-03 JP JP2006272120A patent/JP4961587B2/ja active Active
-
2007
- 2007-10-03 WO PCT/JP2007/069785 patent/WO2008041780A1/ja not_active Ceased
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004176147A (ja) * | 2002-11-28 | 2004-06-24 | Asahi Kasei Corp | 銅超微粒子の製造方法 |
| JP2004225122A (ja) * | 2003-01-23 | 2004-08-12 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 銅ペースト用の銅粉及びその銅粉の製造方法 |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5651113B2 (ja) * | 2009-07-14 | 2015-01-07 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | 金属ナノ粒子を用いた接合材および接合方法 |
| KR20120094157A (ko) | 2009-09-16 | 2012-08-23 | 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 | 인쇄법용 잉크 및 그에 이용되는 금속 나노 입자, 및 배선, 회로 기판, 반도체 패키지 |
| WO2011034019A1 (ja) | 2009-09-16 | 2011-03-24 | 日立化成工業株式会社 | 印刷法用インク及びそれに用いられる金属ナノ粒子、並びに配線、回路基板、半導体パッケージ |
| JP2011140635A (ja) * | 2009-12-10 | 2011-07-21 | Riso Kagaku Corp | 導電性エマルジョンインク及びそれを用いた導電性薄膜の形成方法 |
| WO2013035366A1 (ja) * | 2011-09-08 | 2013-03-14 | 学校法人関西大学 | 分散安定性の高い銅ナノ粒子の製造方法 |
| US9615455B2 (en) | 2011-11-14 | 2017-04-04 | Ishihara Chemical Co., Ltd. | Copper particulate dispersion, conductive film forming method and circuit board |
| WO2013073199A1 (ja) * | 2011-11-14 | 2013-05-23 | 石原薬品株式会社 | 銅微粒子分散液、導電膜形成方法及び回路基板 |
| WO2013073200A1 (ja) * | 2011-11-14 | 2013-05-23 | 石原薬品株式会社 | 銅微粒子分散液、導電膜形成方法及び回路基板 |
| US9120944B2 (en) | 2011-11-14 | 2015-09-01 | Ishihara Chemical Co., Ltd. | Copper particulate dispersion, conductive film forming method and circuit board |
| JP2013167002A (ja) * | 2012-02-16 | 2013-08-29 | Noritake Co Ltd | 金属微粒子分散液およびその製造方法 |
| US20150344715A1 (en) * | 2012-11-02 | 2015-12-03 | Korea Institute Of Science And Technology | Oxidation resistant copper nanoparticles and method for producing same |
| US10141082B2 (en) * | 2012-11-02 | 2018-11-27 | Korea Institute Of Science And Technology | Oxidation resistant copper nanoparticles and method for producing same |
| EP3150306A4 (en) * | 2014-05-30 | 2018-01-17 | Kyoritsu Chemical Co., Ltd. | Coated copper particles and method for manufacturing same |
| JP7742468B1 (ja) * | 2024-10-03 | 2025-09-19 | 株式会社Uacj | 複合素材 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4961587B2 (ja) | 2012-06-27 |
| WO2008041780A1 (en) | 2008-04-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2008041780A1 (en) | Copper microparticle, method for production of copper microparticle, insulating material, wiring structure, method for production of wiring circuit board, and electronic/electric device | |
| Wu | Preparation of fine copper powder using ascorbic acid as reducing agent and its application in MLCC | |
| TWI351982B (ja) | ||
| CN101583449B (zh) | 银微粉及其制造方法以及油墨 | |
| JP4399799B2 (ja) | 高結晶性フレーク状銀粉末の製造方法 | |
| KR101276237B1 (ko) | 저온소결 전도성 금속막 및 이의 제조방법 | |
| Park et al. | Fabrication of dendritic silver-coated copper powders by galvanic displacement reaction and their thermal stability against oxidation | |
| JP5213420B2 (ja) | 液中分散性および耐食性に優れた銅粉並びにその製造法 | |
| KR101541930B1 (ko) | 유기 아민 안정화 은 나노입자 및 그의 제조 방법 | |
| WO2011052966A2 (en) | Method for manufacturing conductive metal thin film using carboxylic acid | |
| Zhang et al. | Fabrication of flexible copper patterns by electroless plating with copper nanoparticles as seeds | |
| WO2012043267A1 (ja) | 導電性ペースト用銅粉およびその製造方法 | |
| US20130323115A1 (en) | Method of manufacturing silver platelets | |
| JP5486886B2 (ja) | 銅−ニッケルナノ粒子とその製造方法 | |
| TWI661012B (zh) | 核殼型金屬微粒子之製造方法、核殼型金屬微粒子、導電性墨水及基板之製造方法 | |
| WO2010001496A1 (ja) | 微小金属粒子含有組成物及びその製造方法 | |
| Yang et al. | Preparation of oleic acid-capped copper nanoparticles | |
| CN103079726A (zh) | 银粒子及其制备方法 | |
| CN103314413A (zh) | 导电颗粒及其制备方法 | |
| WO2007040195A1 (ja) | 微粒銀粒子付着銀銅複合粉及びその微粒銀粒子付着銀銅複合粉製造方法 | |
| JP2007031835A (ja) | 金属ナノ粒子およびその製造方法並びに導電性インク | |
| JP2006118010A (ja) | Agナノ粒子及びその製造方法、Agナノ粒子の分散溶液 | |
| Yokoyama et al. | Environmentally friendly synthesis and formation mechanism of copper nanowires with controlled aspect ratios from aqueous solution with ascorbic acid | |
| US8834957B2 (en) | Preparation method for an electroconductive patterned copper layer | |
| Gu et al. | Comparison of thermal decomposition and chemical reduction of particle-free silver ink for inkjet printing |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080403 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110628 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110829 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120207 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20120302 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120306 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20120302 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150406 Year of fee payment: 3 |