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JP2008088060A - End-capping compound useful for synthesis of telechelic oligomer by aromatic nucleophilic substitution reaction, telechelic oligomer containing the end-capping compound, and block copolymer of the telechelic oligomer and polyarylene - Google Patents

End-capping compound useful for synthesis of telechelic oligomer by aromatic nucleophilic substitution reaction, telechelic oligomer containing the end-capping compound, and block copolymer of the telechelic oligomer and polyarylene Download PDF

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JP2008088060A
JP2008088060A JP2006266990A JP2006266990A JP2008088060A JP 2008088060 A JP2008088060 A JP 2008088060A JP 2006266990 A JP2006266990 A JP 2006266990A JP 2006266990 A JP2006266990 A JP 2006266990A JP 2008088060 A JP2008088060 A JP 2008088060A
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JP2006266990A
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Japanese (ja)
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Rozhanskii Igor
イーゴリ・ロジャンスキー
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JSR Corp
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JSR Corp
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Abstract

【課題】テレケリックポリアリーレンオリゴマーの末端封止化合物として新規ハロゲン化芳香族化合物を組込むことにより、高強度・高弾性芳香族重合体の延性を改善すること。
【解決手段】下記一般式(1)で表される特定の新規ハロゲン化芳香族化合物が、テレケリック芳香族オリゴマーの調製の際、末端封止化合物として有用である。

Figure 2008088060

上記式中、Xはフッ素を除くハロゲン原子等を示し;Yはフッ素原子または−NO2 で表される基を示し;Zは酸素原子または硫黄原子、−SO2−等からなる群から選ばれる2価の電子吸引基を示し;W1およびW2は独立に水素原子または、−COAr、−CONHAr、-COO、−COOAr、−CN、および−SO2Arからなる群から選ばれる1価の電子吸引基を示し、Arはフェニル基またはナフチル基を示し;R1およびR2は独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはアリーロキシ基を示す。
【選択図】なし[PROBLEMS] To improve the ductility of a high-strength, high-elasticity aromatic polymer by incorporating a novel halogenated aromatic compound as an end-capping compound of a telechelic polyarylene oligomer.
A specific novel halogenated aromatic compound represented by the following general formula (1) is useful as an end-capping compound in the preparation of a telechelic aromatic oligomer.
Figure 2008088060

In the above formula, X represents a halogen atom or the like excluding fluorine; Y represents a fluorine atom or a group represented by —NO 2 ; Z is selected from the group consisting of an oxygen atom, a sulfur atom, —SO 2 — and the like. Represents a divalent electron-withdrawing group; W 1 and W 2 are each independently a hydrogen atom or a monovalent selected from the group consisting of —COAr, —CONHAr, —COO, —COOAr, —CN, and —SO 2 Ar Represents an electron-withdrawing group, Ar represents a phenyl group or a naphthyl group; R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group or an aryloxy group.
[Selection figure] None

Description

本明細書において、“テレケリックオリゴマー”とは、少なくとも1つ、通常2つの反応性官能基を重合体分子の末端に有する、比較的低分子量の重合体を意味する。末端反応基が二つ以上存在する場合、それら末端反応基は同一であっても異なっていてもよい。   As used herein, “telechelic oligomer” means a relatively low molecular weight polymer having at least one, usually two reactive functional groups at the end of the polymer molecule. When two or more terminal reactive groups are present, these terminal reactive groups may be the same or different.

本発明は、芳香族求核置換反応によるテレケリックオリゴマーの合成に有用な新規末端封止化合物、該末端封止化合物を含有するテレケリックオリゴマー、および上記テレケリックオリゴマーとポリアリーレンとのブロック共重合体に関する。   The present invention relates to a novel end-capping compound useful for synthesizing a telechelic oligomer by an aromatic nucleophilic substitution reaction, a telechelic oligomer containing the end-capping compound, and a block copolymer of the telechelic oligomer and polyarylene. Regarding coalescence.

分子レベルの重合体鎖の柔軟性と、弾性率や引張強さなどの巨視的機械的性質との間には直接的な関係がある。すなわち、重合体が十分な分子量を有する場合、主鎖の折り曲げに対するエネルギー障壁が高いほど、重合体はより高剛直性で高強度である。そのような剛直性重合体として、ポリ(1、4−フェニレン−1、4−テレフタルアミド)(PPTA)がよく知られている。該重合体において、パラ−フェニレン基およびアミド結合が存在するため、伸長したポリマー構造がエネルギー的に有利である。また、ポリ(パラ−フェニレン)(PPP)も知られており、該重合体は、ca.20nmの分子長を有する剛直高分
子であると考えられている (B.L. Farmer、B.R. Chapman、D.S. Dudis、and W.W. Adams
、Polymer、34、1588 (1993))。剛直性重合体鎖により非常に優れた弾性率が得られるが
、合成・加工特性も大きく制限される。PPTAは、非常に限られた種類の溶媒にしか溶けず、加工手段も紡糸法に限られる。また、非置換PPPは取り扱いが非常に困難である。
There is a direct relationship between the flexibility of the polymer chain at the molecular level and the macroscopic mechanical properties such as elastic modulus and tensile strength. That is, if the polymer has a sufficient molecular weight, the higher the energy barrier to main chain folding, the higher the stiffness and strength of the polymer. As such a rigid polymer, poly (1,4-phenylene-1,4-terephthalamide) (PPTA) is well known. In the polymer, an elongated polymer structure is energetically advantageous because of the presence of para-phenylene groups and amide bonds. Poly (para-phenylene) (PPP) is also known and the polymer is ca. It is considered to be a rigid polymer with a molecular length of 20 nm (BL Farmer, BR Chapman, DS Dudis, and WW Adams
, Polymer, 34, 1588 (1993)). A very good elastic modulus is obtained by the rigid polymer chain, but synthesis and processing characteristics are greatly limited. PPTA is soluble only in very limited types of solvents, and the processing means is limited to the spinning method. Unsubstituted PPP is also very difficult to handle.

用途により、高強度、高剛直性、化学的および熱的に不活性であり、成形、押し出しおよびフィルム流延など従来の方法で加工できる材料が求められる。機械的および化学的強度を改善するため、比較的軟質の重合体からなるマトリックスと、カーボン、シリカまたはクレーなどの充填剤とから構成される複合材料が広く用いられている。また、重合体マトリックスにガラス繊維や炭素繊維を導入することによって、高剛直性で高強度な複合材料が得られる。   Depending on the application, there is a need for materials that are high-strength, high-rigidity, chemically and thermally inert and that can be processed by conventional methods such as molding, extrusion and film casting. In order to improve the mechanical and chemical strength, composite materials composed of a matrix made of a relatively soft polymer and a filler such as carbon, silica or clay are widely used. Further, by introducing glass fibers or carbon fibers into the polymer matrix, a composite material having high rigidity and high strength can be obtained.

一方、複合材料の調製および加工は、非強化材料に比べてやや時間と労力がかかり、コスト増加につながる。一般に、複合材料は修繕が困難で再利用ができず、予期せぬ崩壊や惨事につながる可能性もある。さらに、フィルム状の複合材料は、フィルムの厚さが充填剤粒子径と同程度の場合、再生特性を維持することが困難である。   On the other hand, the preparation and processing of composite materials takes a little more time and effort than non-reinforced materials, leading to increased costs. In general, composite materials are difficult to repair and cannot be reused, which can lead to unexpected collapse and disaster. Furthermore, it is difficult for the film-like composite material to maintain the reproduction characteristics when the film thickness is about the same as the filler particle diameter.

また、剛直性分子を軟質重合体マトリックスに導入することにより、同様な強化効果が得られる。いわゆる分子複合材料は、ミクロな意味で繊維強化複合材料の同等物と考えることができ、剛直分子が繊維の役割を果たしている。一方、軟質重合体成分は、剛直重合体を分散させる目的を有し、分子の凝集を防止する。分子複合材料は繊維や粒子を含まないため、マクロ複合材料に比べて、容易に低コストで加工でき、再利用も可能である。   A similar reinforcing effect can be obtained by introducing rigid molecules into the soft polymer matrix. A so-called molecular composite material can be considered as an equivalent of a fiber-reinforced composite material in a microscopic sense, and a rigid molecule plays the role of a fiber. On the other hand, the soft polymer component has the purpose of dispersing the rigid polymer and prevents molecular aggregation. Since the molecular composite material does not contain fibers and particles, it can be easily processed at a lower cost than the macro composite material and can be reused.

マクロ複合材料と同様、分子複合材料は剛直重合体成分と軟質重合体成分とをブレンドすることにより得られる。しかしながら、互いに混合が可能な重合体はほとんどないことが知られている。剛直/軟質重合体混合物を含む他の材料は、ブレンドするとマクロ相分離を起こす。また、得られるブレンドの初期物性は好ましいものであるが、特に燃料電池
用プロトン電解質膜や、発光ダイオードなどにおける侵食環境下で、時間の経過とともに予期せぬ劣化が起こる可能性が高い。これらの目的に使用される分子複合材料において、高耐久性は最も重要な課題である。
Similar to macrocomposites, molecular composites are obtained by blending a rigid polymer component and a soft polymer component. However, it is known that few polymers can be mixed with each other. Other materials, including rigid / soft polymer mixtures, undergo macrophase separation when blended. Moreover, although the initial physical properties of the obtained blend are preferable, there is a high possibility that unexpected deterioration will occur with the passage of time, particularly in an erosion environment in a proton electrolyte membrane for a fuel cell or a light emitting diode. In the molecular composite material used for these purposes, high durability is the most important issue.

非相溶の軟質および剛直性ブロックを含有するブロック共重合体を使用することにより、マクロ相分離を防止することができる。このような重合体構造は、ミクロ相分離モルフォロジーを促進する。該モルフォロジーは、剛直ミクロドメインに由来する高強度および高弾性と、軟質マトリックスに由来する高柔軟性および高降伏強度との組み合わせた特性を発現する。剛直PPPセグメントは、高い強度と優れた化学的安定性を有するため、PPPセグメントを分子複合材料に導入することが求められている。側鎖置換PPPは、様々な溶媒に可溶であり、通常、置換1、4−ジハロベンゼンの脱ハロゲン化重縮合反応により得られる (Y. Wang and R.P. Quirk、Macromolecules、28、3495 (1995))。対応するブロック共重合体は、以下の2工程により得ることができる。まず、適当に官能基化された鎖末端を有する剛直あるいは軟質オリゴマー前駆体を合成し、次いで、該官能基化されたオリゴマーを残りのコモノマーと反応させることにより、セグメント化されたマルチブロック構造を有する重合体を得る。   By using a block copolymer containing incompatible soft and rigid blocks, macrophase separation can be prevented. Such a polymer structure promotes microphase separation morphology. The morphology exhibits the combined characteristics of high strength and high elasticity derived from rigid microdomains and high flexibility and high yield strength derived from a soft matrix. Since rigid PPP segments have high strength and excellent chemical stability, it is required to introduce PPP segments into molecular composite materials. Side chain-substituted PPP is soluble in various solvents and is usually obtained by dehalogenation polycondensation reaction of substituted 1,4-dihalobenzene (Y. Wang and RP Quirk, Macromolecules, 28, 3495 (1995)). . The corresponding block copolymer can be obtained by the following two steps. First, a rigid or soft oligomer precursor with appropriately functionalized chain ends is synthesized, and then the functionalized oligomer is reacted with the remaining comonomer to form a segmented multi-block structure. A polymer having is obtained.

特許文献1は、産業用熱可塑性樹脂の改質に有用な、反応性末端基を有する剛直マクロモノマーを開示している。上記マクロモノマーは、式(i)で表される:   Patent Document 1 discloses a rigid macromonomer having a reactive end group, which is useful for modifying an industrial thermoplastic resin. The macromonomer is represented by formula (i):

Figure 2008088060
Figure 2008088060

上記式中、G1ないしG4は独立に可溶化側基または水素原子を示し、Eは反応性官能基を示
し、数平均重合度DPnがおよそ6以上である。
米国特許第5973075号
In the above formula, G 1 to G 4 independently represent a solubilizing side group or a hydrogen atom, E represents a reactive functional group, and the number average degree of polymerization DP n is about 6 or more.
US Pat. No. 5,973,075

ポリ(フェニレン)は、主鎖が全体的に、直接結合したフェニレン基からなる重合体である。この構造により、ポリ(フェニレン)は、重合体主鎖を劣化させる高温、酸、塩基、光、その他の要因に対して耐久性を有する。比較的嵩高な側基を有するポリ(フェニレン)は、公知の方法により高分子量で得ることができる。また、該重合体は、多種の溶媒に可溶であり、フィルム状、繊維状または成形品に加工が可能である。このような特性により、発光ダイオード、オプトエレクトロニクス、高分子電解質膜、保護膜、補強材などの材料といった、侵食環境下での高耐久性が最重要課題である用途に好適に用いることができる。   Poly (phenylene) is a polymer composed of phenylene groups in which the main chain is directly bonded. With this structure, poly (phenylene) is durable to high temperatures, acids, bases, light, and other factors that degrade the polymer backbone. Poly (phenylene) having a relatively bulky side group can be obtained in a high molecular weight by a known method. In addition, the polymer is soluble in various solvents and can be processed into a film, a fiber, or a molded product. Due to such characteristics, it can be suitably used in applications where high durability in an erosive environment is the most important issue, such as materials such as light emitting diodes, optoelectronics, polymer electrolyte membranes, protective membranes, and reinforcing materials.

しかしながら、ポリ(フェニレン)は、剛直性な主鎖を有するため本質的に脆弱であり、用途が制限される。延性を得るためには、脆弱重合体に可塑剤を混合すればよい。可塑剤は、通常低分子量・高沸点の液体であり、重合体と十分に混合して重合体のガラス転移温度を低下させる。しかし、これら低分子量混合物は、使用条件下で分解しやすく、材料の早期劣化を招くため、ほとんどの場合ポリ(フェニレン)の用途に使用することは不可能である。可塑剤としては、重合体由来のものが好ましい。そのような剛直性重合体成分と軟質重合体成分とを組み合わせた材料は、分子複合材料と定義される。分子複合材料は、多くの点において繊維強化プラスチックに類似している。分子複合材料において、剛直
性分子は繊維の役割を果たし、軟質重合体成分は、剛直重合体を分散させる目的を有し、分子の凝集を防止する。
However, poly (phenylene) is inherently fragile because it has a rigid backbone, limiting its use. In order to obtain ductility, a plasticizer may be mixed with the brittle polymer. The plasticizer is usually a liquid having a low molecular weight and a high boiling point, and is sufficiently mixed with the polymer to lower the glass transition temperature of the polymer. However, these low molecular weight mixtures are prone to degradation under the conditions of use and lead to premature deterioration of the material, so in most cases they cannot be used for poly (phenylene) applications. As the plasticizer, those derived from a polymer are preferable. A material combining such a rigid polymer component and a soft polymer component is defined as a molecular composite material. Molecular composites are similar in many respects to fiber reinforced plastics. In the molecular composite material, the rigid molecule serves as a fiber, and the soft polymer component has the purpose of dispersing the rigid polymer and prevents aggregation of the molecules.

ポリ(フェニレン)に高分子可塑剤をブレンドすることにより、分子複合材料を容易に製造することができるが、通常、得られる複合材料は相分離のために均一とはならない。低分子量添加剤の中には、ブレンド成分の相溶性を改善するものがあるが、それらを用いることは、低分子量可塑剤を使用する場合と同様の理由で好ましくない。   By blending a polymeric plasticizer with poly (phenylene), a molecular composite can be easily produced, but the resulting composite is usually not uniform due to phase separation. Some low molecular weight additives improve the compatibility of the blend components, but using them is not preferred for the same reason as using low molecular weight plasticizers.

分子複合材料の軟質セグメントと剛直セグメントとが、グラフト共重合体またはブロック共重合体として化学的に結合されれば、重合体ブレンドの問題点を解決することができる。化学的結合により、成分の性質やサイズによって様々なミクロ相分離モルフォロジーを有する均一な材料を得ることができる。ミクロ相分離を有すると、剛直ポリ(フェニレン)ドメインに由来する高強度および高弾性と、軟質マトリックスに由来する高延性との組み合わせにより、対応する分子複合材料の機械的特性が得られる。化学的観点から、ポリ(フェニレン)をはじめ他の剛直性芳香族重合体と、軟質重合体とのブロック共重合体が、グラフト共重合体と比較して、従来の重縮合反応により容易に製造することができる。さらに、ブロック共重合体主鎖の鎖長が長いほど、主鎖の絡み合い度が増し、その結果弾性特性が向上する。   If the soft segment and the rigid segment of the molecular composite material are chemically bonded as a graft copolymer or block copolymer, the problem of the polymer blend can be solved. By chemical bonding, a uniform material having various microphase separation morphologies depending on the nature and size of the components can be obtained. With microphase separation, the mechanical properties of the corresponding molecular composite material are obtained by the combination of high strength and high elasticity derived from rigid poly (phenylene) domains and high ductility derived from a soft matrix. From a chemical point of view, block copolymers of poly (phenylene) and other rigid aromatic polymers with soft polymers are easier to produce by conventional polycondensation reactions than graft copolymers. can do. Further, the longer the chain length of the block copolymer main chain, the higher the degree of entanglement of the main chain, and as a result, the elastic properties are improved.

剛直−軟質ブロック共重合体を製造する方法として、重縮合反応が注目されている。通常の方法では、2段階で合成が行われる。ランダム共重合を避けるため、軟質ブロックおよび剛直ブロックのいずれか、または両方を、通常重合度が4〜100であり、適当な末端基で官能化されたテレケリックオリゴマーとして、それぞれ独立に製造する。第2工程では、テレケリックオリゴマーを、相補的末端基を有する他方のモノマーあるいは他のテレケリックオリゴマーと反応させ、マルチブロック共重合体が得られる。   As a method for producing a rigid-soft block copolymer, a polycondensation reaction has attracted attention. In a normal method, synthesis is performed in two stages. In order to avoid random copolymerization, either or both of the soft block and the rigid block are produced independently as telechelic oligomers, usually having a degree of polymerization of 4 to 100 and functionalized with appropriate end groups. In the second step, the telechelic oligomer is reacted with the other monomer having a complementary end group or another telechelic oligomer to obtain a multiblock copolymer.

良好な反応性を有する テレケリックオリゴマー、およびその剛直/軟質マルチブロッ
ク共重合体の製造が試みられてきたが、十分な成果は得られていない。特許文献1には、多環芳香族主鎖、可溶化側基および反応性末端基を有する剛直マクロモノマーの製造方法が記載されている。上記化合物は、市販の熱可塑性樹脂と共重合することにより、樹脂の引張特性を改質する目的で設計されている。しかしながら、上記オリゴマーを使用する際には、末端基に反応性を持たせるために末端基を脱保護する工程がさらに必要となり、好ましくない副反応を伴う場合がある。さらに、この方法では、マクロモノマーの非相溶性のため、比較的少量の剛直成分しか熱可塑性マトリックスに導入することができない。高分子量のマルチブロック共重合体を得るためには、マクロモノマーを正確な量比で供給する必要があるが、該マクロモノマーの反応部位が少なく、分子量が多分散のため、そのような正確な量比を確保することは比較的困難である。
Attempts have been made to produce telechelic oligomers with good reactivity and their rigid / soft multi-block copolymers, but sufficient results have not been obtained. Patent Document 1 describes a method for producing a rigid macromonomer having a polycyclic aromatic main chain, a solubilizing side group, and a reactive end group. The above compounds are designed for the purpose of modifying the tensile properties of the resin by copolymerizing with a commercially available thermoplastic resin. However, when the above oligomer is used, a step of deprotecting the terminal group is further required to make the terminal group reactive, which may be accompanied by an undesirable side reaction. Furthermore, this method allows only a relatively small amount of rigid components to be introduced into the thermoplastic matrix due to the incompatibility of the macromonomer. In order to obtain a high molecular weight multi-block copolymer, it is necessary to supply the macromonomer in an accurate quantitative ratio. However, since the macromonomer has few reactive sites and the molecular weight is polydisperse, It is relatively difficult to ensure the quantity ratio.

本発明者は、下記一般式(1)で表される特定のハロゲン化芳香族化合物が、公知の芳香族求核置換反応により他の重合性化合物と選択的に反応して末端封止基を形成し、ポリアリーレンと高強度・高弾性分子複合材料を形成する前駆体として有用な物性を有する新規なテレケリックオリゴマーが得られることを見出した。上記ハロゲン化芳香族化合物は、下記一般式(1)で表される:   The inventor of the present invention can selectively react a terminal halogenated aromatic compound represented by the following general formula (1) with another polymerizable compound by a known aromatic nucleophilic substitution reaction. The present inventors have found that a novel telechelic oligomer having physical properties useful as a precursor for forming and forming a polyarylene and a high-strength / high-elastic molecular composite material can be obtained. The halogenated aromatic compound is represented by the following general formula (1):

Figure 2008088060
Figure 2008088060

上記式中、Xはフッ素を除くハロゲン原子、−OSO2CH3および−OSO2CF3からなる群から選ばれる基を示し;Yはフッ素原子または−NO2 で表される基を示し;Zは酸素原子または硫黄原子、あるいは−(CF2)k、−C(CF3)2−、−SO−および−SO2−からなる群から選ばれる2価の電子吸引基を示し;W1およびW2は独立に水素原子または−COCkH2k+1、−COAr、−CONHCkH2k+1、−CONHAr、-COOCkH2k+1、−COOAr、−CN、−CHO、−CkF2k+1、−SOCkH2k+1
、−SOAr、−SO2CkH2k+1および−SO2Arからなる群から選ばれる1価の電子吸引基を示し
、ここでkは1〜10の整数であり、Arはフェニル基またはナフチル基を示し;R1およびR2は独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはアリーロキシ基を示す。
In the above formula, X represents a halogen atom excluding fluorine, a group selected from the group consisting of —OSO 2 CH 3 and —OSO 2 CF 3 ; Y represents a fluorine atom or a group represented by —NO 2 ; Z oxygen atom or a sulfur atom, or, the - (CF 2) k, -C (CF 3) 2 -, - SO- and -SO 2 - a divalent electron-withdrawing group selected from the group consisting of; W 1 and W 2 is independently a hydrogen atom or --COC k H 2k + 1 , --COAr, --CONHC k H 2k + 1 , --CONHAr, --COOC k H 2k + 1 , --COOAr, --CN, --CHO, --C k F 2k + 1 , -SOC k H 2k + 1
, -SOAr, a monovalent electron withdrawing group selected from the group consisting of -SO 2 C k H 2k + 1 and -SO 2 Ar, where k is an integer of from 1 to 10, Ar is a phenyl group or Represents a naphthyl group; R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group or an aryloxy group;

上記新規テレケリックオリゴマーを、公知の脱ハロゲン化アリール−アリールカップリング反応により他の重合性化合物と共重合することができ、得られるブロック共重合体は高強度・高弾性の分子複合材料として有用である。
ハロゲン化芳香族化合物
本発明で用いられるハロゲン化芳香族化合物は、下記一般式(1)で表される:
The novel telechelic oligomer can be copolymerized with other polymerizable compounds by a known dehalogenated aryl-aryl coupling reaction, and the resulting block copolymer is useful as a high-strength, high-elastic molecular composite material It is.
Halogenated aromatic compound The halogenated aromatic compound used in the present invention is represented by the following general formula (1):

Figure 2008088060
Figure 2008088060

上記式中、Xはフッ素を除くハロゲン原子、−OSO2CH3および−OSO2CF3からなる群から選ばれる基を示し;Yはフッ素原子または−NO2 で表される基を示し;Zは酸素原子または硫黄原子、あるいは−(CF2)k、−C(CF3)2−、−SO−および−SO2−からなる群から選ばれる2価の電子吸引基を示し;W1およびW2は独立に水素原子または−COCkH2k+1、−COAr、−CONHCkH2k+1、−CONHAr、-COOCkH2k+1、−COOAr、−CN、−CHO、−CkF2k+1、−SOCkH2k+1
、−SOAr、-SO2CkH2k+1および−SO2Arからなる群から選ばれる1価の電子吸引基を示し、ここでkは1〜10の整数であり、Arはフェニル基またはナフチル基を示し;R1およびR2は独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはアリーロキシ基を示す。
In the above formula, X represents a halogen atom excluding fluorine, a group selected from the group consisting of —OSO 2 CH 3 and —OSO 2 CF 3 ; Y represents a fluorine atom or a group represented by —NO 2 ; Z oxygen atom or a sulfur atom, or, the - (CF 2) k, -C (CF 3) 2 -, - SO- and -SO 2 - a divalent electron-withdrawing group selected from the group consisting of; W 1 and W 2 is independently a hydrogen atom or --COC k H 2k + 1 , --COAr, --CONHC k H 2k + 1 , --CONHAr, --COOC k H 2k + 1 , --COOAr, --CN, --CHO, --C k F 2k + 1 , -SOC k H 2k + 1
, -SOAr, a monovalent electron withdrawing group selected from the group consisting of -SO 2 C k H 2k + 1 and -SO 2 Ar, where k is an integer of from 1 to 10, Ar is a phenyl group or Represents a naphthyl group; R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group or an aryloxy group;

上記式(1)のハロゲン化芳香族化合物は、芳香族求核置換反応に対して選択的反応性を有する。該反応において、反応性基Yはアリールエーテルまたはチオエーテル結合へと変換され、置換基X、Z、R1、R2、W1およびW2は反応条件下において変化しない。この選択性のため、ハロゲン化芳香族化合物(1)は、テレケリックオリゴマーを製造するための末端封止化合物として有用である。
テレケリックオリゴマー
テレケリックオリゴマーは、下記一般式(2)で表される:
The halogenated aromatic compound of the above formula (1) has selective reactivity with respect to the aromatic nucleophilic substitution reaction. In the reaction, the reactive group Y is converted to an aryl ether or thioether bond, and the substituents X, Z, R 1 , R 2 , W 1 and W 2 do not change under the reaction conditions. Because of this selectivity, the halogenated aromatic compound (1) is useful as an end-capping compound for producing a telechelic oligomer.
Telechelic oligomer Telechelic oligomer is represented by the following general formula (2):

Figure 2008088060
Figure 2008088060

上記式中、Xはフッ素を除くハロゲン原子、−OSO2CH3および−OSO2CF3からなる群から選ばれる基を示し;Zは酸素原子または硫黄原子、あるいは−(CF2)k、−C(CF3)2−、−SO−および−SO2−からなる群から選ばれる2価の電子吸引基を示し;W1およびW2は独立に水
素原子または−COCkH2k+1、−COAr、-CONHCkH2k+1、−CONHAr、−COOCkH2k+1、−COOAr、−CN、−CHO、−CkF2k+1、−SOCkH2k+1、−SOAr、−SO2CkH2k+1および−SO2Arからなる群から選ばれる1価の電子吸引基を示し、ここでkは1〜10の整数であり、Arはフェニル基またはナフチル基を示し;R1およびR2は独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはアリーロキシ基を示し;Aは酸素原子または硫黄原子を示し;nは2以
上の整数であり;Qは下記式(q1)、(q2)およびこれらの混合物から選ばれる構造
を示し:
In the above formula, X represents a halogen atom excluding fluorine, a group selected from the group consisting of —OSO 2 CH 3 and —OSO 2 CF 3 ; Z represents an oxygen atom or a sulfur atom, or — (CF 2 ) k , — A divalent electron-withdrawing group selected from the group consisting of C (CF 3 ) 2 —, —SO— and —SO 2 —; W 1 and W 2 are each independently a hydrogen atom or —COC k H 2k + 1 , -COAr, -CONHC k H 2k + 1 , -CONHAr, -COOC k H 2k + 1 , -COOAr, -CN, -CHO, -C k F 2k + 1 , -SOC k H 2k + 1 , -SOAr, 1 represents a monovalent electron withdrawing group selected from the group consisting of —SO 2 C k H 2k + 1 and —SO 2 Ar, wherein k is an integer of 1 to 10, and Ar represents a phenyl group or a naphthyl group. R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group or an aryloxy group; A represents an oxygen atom or a sulfur atom; n represents an integer of 2 or more; q1), (q2 ) And mixtures thereof are shown:

Figure 2008088060
Figure 2008088060

Pは下記式(p1)および(p2)から選ばれる構造を示し: P represents a structure selected from the following formulas (p1) and (p2):

Figure 2008088060
Figure 2008088060

上記式中、BおよびCは独立に2価原子、有機電子吸引基または直接結合を示し;R3ないしR25は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、フッ素原子、アルキル基または
芳香族基を示す。アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、アミルおよびヘキシル基が挙げられ、このうちメチルおよびエチル基が好ましい。芳香族基としては、フェニル、ナフチル、ピリジル、フェノキシ、ビフェニルおよびナフトキシフェニル基が挙げられる。上記Bは、好ましくは直接結合、または−CONH−、−(CF2)k−(ここでk
は1〜10の整数である)、−C(CF3)2−、−COO−、−SO−、−SO2−および下記式(b
)で表される基から選ばれる有機基である:
In the above formula, B and C independently represent a divalent atom, an organic electron withdrawing group or a direct bond; R 3 to R 25 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group or an aromatic group. Indicates a group. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, butyl, amyl and hexyl groups, and among them, methyl and ethyl groups are preferable. Aromatic groups include phenyl, naphthyl, pyridyl, phenoxy, biphenyl and naphthoxyphenyl groups. B is preferably a direct bond or —CONH—, — (CF 2 ) k — (where k
Is an integer of 1 to 10), —C (CF 3 ) 2 —, —COO—, —SO—, —SO 2 — and the following formula (b
Is an organic group selected from the group represented by:

Figure 2008088060
Figure 2008088060

上記式中、R26ないしR33は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、フッ素原子
、アルキル基または芳香族基を示す。
上記式(2)で表される新規テレケリックオリゴマーは、芳香族求核置換反応によって得ることができる。
In the above formula, R 26 to R 33 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group or an aromatic group.
The novel telechelic oligomer represented by the above formula (2) can be obtained by an aromatic nucleophilic substitution reaction.

上記式(2)のテレケリックオリゴマーは、脱ハロゲン化アリール−アリールカップリング反応に対して選択的反応性を有する。該反応において、反応性基Xは炭素−炭素直接
結合へと変換され、他の置換基は反応条件下において変化しない。この選択性のため、式(2)のテレケリックオリゴマーは、脱ハロゲン化アリール−アリールカップリング反応によって重合可能な他の化合物とブロック共重合体を形成するための成分として有用である。
ポリアリーレン
本発明のポリアリーレンは、式(2)の新規テレケリックオリゴマーからなる繰り返し単位のみから構成されていてもよく、式(2)の新規テレケリックオリゴマーと、脱ハロゲン化アリール−アリールカップリング反応によって重合可能な他のハロゲン化化合物とのブロック共重合体であってもよい。
The telechelic oligomer of the above formula (2) has selective reactivity for the dehalogenated aryl-aryl coupling reaction. In the reaction, the reactive group X is converted to a carbon-carbon direct bond and the other substituents do not change under the reaction conditions. Because of this selectivity, the telechelic oligomer of formula (2) is useful as a component for forming block copolymers with other compounds that can be polymerized by a dehalogenated aryl-aryl coupling reaction.
Polyarylene The polyarylene of the present invention may be composed only of repeating units composed of the novel telechelic oligomer of formula (2), and the novel telechelic oligomer of formula (2) and dehalogenated aryl-aryl coupling It may be a block copolymer with another halogenated compound that can be polymerized by reaction.

上記ポリアリーレンが、式(2)の繰り返し単位と、上記のハロゲン化化合物とのブロック共重合体である場合、式(2)の繰り返し単位以外の繰り返し単位は、例えば下記式(3)で表される:   When the polyarylene is a block copolymer of the repeating unit of the formula (2) and the halogenated compound, the repeating unit other than the repeating unit of the formula (2) is represented by, for example, the following formula (3). Is:

Figure 2008088060
Figure 2008088060

上記式中、Eは直接結合または−CO−、−CONH−、−(CF2)p−(ここでpは1〜10の整
数である)、−C(CF3)2−、−COO−、−SO−および−SO2−からなる群から選ばれる有機
電子吸引基を示し;Arはフェニル基、ナフチル基、ピリジル基、フェノキシフェニル基、フェニルフェニル基およびナフトキシフェニル基からなる群から選ばれる芳香族基を示し;Lは水素原子、フッ素原子または−CN、−CHO、−CpF2p+1、−OCpH2p+1、−SCpH2p+1
−NHCOCpH2p+1、−NHSO2CpH2p+1、−OCOCpH2p+1、−CONHCpH2p+1、−COOCpH2p+1、−SOCpH2p+1、−SO2CpH2p+1および−SO3CpH2p+1(ここでpは1〜10の整数である)からなる
群から選ばれる1価の有機基を示し;kは0〜3の整数である。
In the above formula, E is a direct bond or —CO—, —CONH—, — (CF 2 ) p — (wherein p is an integer of 1 to 10), —C (CF 3 ) 2 —, —COO—. Represents an organic electron withdrawing group selected from the group consisting of -SO- and -SO 2- ; Ar is selected from the group consisting of phenyl, naphthyl, pyridyl, phenoxyphenyl, phenylphenyl and naphthoxyphenyl groups L represents a hydrogen atom, a fluorine atom or —CN, —CHO, —C p F 2p + 1 , —OC p H 2p + 1 , —SC p H 2p + 1 ,
-NHCOC p H 2p + 1 , -NHSO 2 C p H 2p + 1 , -OCOC p H 2p + 1 , -CONHC p H 2p + 1 , -COOC p H 2p + 1 , -SOC p H 2p + 1 , (where p is is an integer of 1 to 10) -SO 2 C p H 2p + 1 and -SO 3 C p H 2p + 1 represents a monovalent organic group selected from the group consisting of; k is 0 It is an integer of 3.

本発明の新規ハロゲン化芳香族化合物は、特定の公知ポリアリーレンオリゴマーに対して末端封止基を形成してテレケリックオリゴマーを製造するために用いることができる。該テレケリックオリゴマーは、高強度・高弾性の芳香族重合体の製造に適した公知のポリアリーレンと共重合することができ、得られるブロック共重合体は高強度・高弾性の芳香族重合体の製造に有用である。   The novel halogenated aromatic compound of the present invention can be used for producing a telechelic oligomer by forming a terminal blocking group with respect to a specific known polyarylene oligomer. The telechelic oligomer can be copolymerized with a known polyarylene suitable for production of a high-strength, high-elasticity aromatic polymer, and the resulting block copolymer is a high-strength, high-elasticity aromatic polymer. It is useful for the production of

本発明の化合物、およびそれらを用いたテレケリックオリゴマーを実施例により説明するが、本発明はそれら実施例に限定されない。芳香族求核置換反応による共重合に適した特定のポリアリーレンオリゴマーの調製、および従来公知の方法による該ポリアリーレンオリゴマーを用いたブロック共重合体の調製を、以下の比較例により説明する。本発明の新規ハロゲン化芳香族化合物の合成を、実施例1および2により説明する。実施例3において、実施例1の新規ハロゲン化芳香族化合物を末端封止化合物として、ポリ(エーテル)スルホンのポリアリーレンオリゴマーに用いる例を説明する。実施例4において、実施例2の新規ハロゲン化芳香族化合物を末端封止化合物として、ポリ(エーテル)ケトンのポリアリーレンオリゴマーに用いる例を説明する。実施例5において、実施例2の新規ハ
ロゲン化芳香族化合物を用いて、テレケリックポリ(エーテルニトリル)オリゴマーの末端を封止した。実施例6において、新規ハロゲン化化合物を用いて、ポリ(エーテルエーテルケトン)のランダム共重合体のテレケリックオリゴマーの末端を封止した。実施例7および8において、テレケリックオリゴマーと2、5−ジクロロ−4‘−フェノキシベンゾフェノンまたは3、5−ジクロロフェニルイソブチルスルホンとを用いてブロック共重合体を合成する方法をそれぞれ説明する。
The compounds of the present invention and telechelic oligomers using them will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The preparation of a specific polyarylene oligomer suitable for copolymerization by an aromatic nucleophilic substitution reaction and the preparation of a block copolymer using the polyarylene oligomer by a conventionally known method will be described by the following comparative examples. The synthesis of the novel halogenated aromatic compounds of the present invention is illustrated by Examples 1 and 2. In Example 3, an example in which the novel halogenated aromatic compound of Example 1 is used as a terminal blocking compound for a polyarylene oligomer of poly (ether) sulfone will be described. In Example 4, an example in which the novel halogenated aromatic compound of Example 2 is used as a terminal blocking compound in a polyarylene oligomer of poly (ether) ketone will be described. In Example 5, the novel halogenated aromatic compound of Example 2 was used to seal the ends of the telechelic poly (ether nitrile) oligomer. In Example 6, the terminal of the telechelic oligomer of the random copolymer of poly (ether ether ketone) was sealed using the novel halogenated compound. In Examples 7 and 8, a method of synthesizing a block copolymer using a telechelic oligomer and 2,5-dichloro-4′-phenoxybenzophenone or 3,5-dichlorophenylisobutylsulfone will be described, respectively.

本発明の新規芳香族化合物を合成することにより、本発明者はポリアリーレンオリゴマーの末端を封止してテレケリックオリゴマーを形成するために有用な化合物を見出した。また、本発明者は、該テレケリックオリゴマーが、延性の改良された高強度・高弾性の芳香族重合体を製造するために有用であることを見出した。   By synthesizing the novel aromatic compound of the present invention, the present inventor has found a compound useful for forming a telechelic oligomer by sealing the end of the polyarylene oligomer. The present inventor has also found that the telechelic oligomer is useful for producing a high-strength and high-elasticity aromatic polymer with improved ductility.

本発明を実施するための最良の形態は、新規芳香族化合物を合成する第1工程を含む。本発明の新規化合物の合成を実施例1および2により説明するが、合成方法はこれら実施例に限定されない。新規ハロゲン化芳香族化合物は、ポリアリーレンオリゴマーの末端封止に用いることができ、末端封止されたオリゴマーは、高強度・高弾性の改善された芳香族重合体を製造するために使用することができる。
[実施例]
[比較例1]水酸基末端ポリ(エーテルエーテルスルホン)オリゴマーの合成
The best mode for carrying out the present invention includes a first step of synthesizing a novel aromatic compound. The synthesis of the novel compounds of the present invention is illustrated by Examples 1 and 2, but the synthesis method is not limited to these Examples. Novel halogenated aromatic compounds can be used for end-capping polyarylene oligomers, and end-capped oligomers can be used to produce aromatic polymers with improved strength and elasticity. Can do.
[Example]
[Comparative Example 1] Synthesis of hydroxyl-terminated poly (ether ether sulfone) oligomer

Figure 2008088060
Figure 2008088060

4、4‘−ジクロロジフェニルスルホン(17.23g、60mmol)、4、4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン(13.01g、52mmol)および
K2CO3(9.67g、60mmol)からなる混合物を、NMP/トルエン(50/40
mL)中で、穏やかに還流させながら窒素雰囲気下で2時間攪拌した。攪拌中、トルエン/水共沸混合物をDean−Starkトラップに回収した。トラップに水が回収されなくなった時点で、余分なトルエンを留去し、180℃でさらに6時間攪拌を継続した。反応混合物を80℃に冷却し、セライト濾過した後、10倍量のメタノール中に沈殿させた。得られた薄赤色の微細懸濁液を、塩酸を用いて慎重に酸性化させた。沈殿物を濾過し、恒量になるまで乾燥させた。その結果、ポリ(エーテルスルホン)オリゴマーを淡黄色の粉末として得た。1H−NMRにより、該オリゴマーがフェノール基で定量的に末端封止され
ていることが確認された。収量:24.57g(91%);GPC:Mn=4220、Mw=8800
[比較例2]4−フルオロベンゾイル末端ポリアリーレンオリゴマーの合成
4,4′-dichlorodiphenylsulfone (17.23 g, 60 mmol), 4,4′-dihydroxydiphenylsulfone (13.01 g, 52 mmol) and
A mixture of K 2 CO 3 (9.67 g, 60 mmol) was added to NMP / toluene (50/40
mL) and stirred under a nitrogen atmosphere for 2 hours with gentle reflux. During stirring, the toluene / water azeotrope was collected in a Dean-Stark trap. When water was no longer collected in the trap, excess toluene was distilled off, and stirring was continued at 180 ° C. for another 6 hours. The reaction mixture was cooled to 80 ° C., filtered through celite, and precipitated in 10 volumes of methanol. The resulting light red fine suspension was carefully acidified with hydrochloric acid. The precipitate was filtered and dried until constant weight. As a result, a poly (ether sulfone) oligomer was obtained as a pale yellow powder. 1 H-NMR confirmed that the oligomer was quantitatively end-capped with a phenol group. Yield: 24.57 g (91%); GPC: M n = 4220, M w = 8800
[Comparative Example 2] Synthesis of 4-fluorobenzoyl-terminated polyarylene oligomer

Figure 2008088060
Figure 2008088060

2、5−ジクロロ−4‘−フェノキシベンゾフェノン(21.10g、61.47mmol)、4−クロロ−4’−フルオロベンゾフェノン(1.60g、6.83mmol)、Ni(PPh3)2Cl2(1.27g、1.94mmol)、PPh3(6.81g、25.96mmol)、NaI(0.30g、1.94mmol)および亜鉛粉(10.61g、162m
mol)からなる混合物に、乾燥窒素気流下で乾燥DMAc(75mL)を加えた。反応混合物を、80℃で4時間機械的に攪拌した。得られた適度な粘度の反応懸濁液を、100mLのDMAcで希釈し、30分間激しく攪拌した後、セライトパッドで濾過して余分な亜鉛を除去した。得られた透明溶液を10倍量のメタノール中で凝固させ、黄色の粉末状オリゴマーを得た。収量:15.20g(84%);GPC:Mn=10500、Mw=21500
[比較例3]ポリ(エーテルスルホン)−ポリ(1、4−フェニレン)ブロック共重合体の製造
比較例1のテレケリックオリゴマー(2.110g、0.50mmol)、比較例2のテレケリックオリゴマー(5.250g、0.50mmol)およびK2CO3(0.173
g、1.25mmol)からなる混合物を、NMP/トルエン(12/8mL)中で、穏やかに還流させながら窒素雰囲気下で4時間攪拌した。攪拌中、トルエン/水共沸混合物をDean−Starkトラップに回収した。余分なトルエンを留去し、粘度上昇が見られなくなるまで165℃でさらに20時間攪拌を継続した。反応混合物を比較例1と同様に処理し、目的組成の重合体をオフホワイトの粉末として得た。収量:6.61g(90%);GPC:Mn=24200、Mw=54200
[実施例1]2−(3−クロロフェノキシ)−6−フルオロベンゾニトリル(1)の製造
2,5-dichloro-4′-phenoxybenzophenone (21.10 g, 61.47 mmol), 4-chloro-4′-fluorobenzophenone (1.60 g, 6.83 mmol), Ni (PPh 3 ) 2 Cl 2 (1 .27 g, 1.94 mmol), PPh 3 (6.81 g, 25.96 mmol), NaI (0.30 g, 1.94 mmol) and zinc powder (10.61 g, 162 m).
mol) was added dry DMAc (75 mL) under a dry nitrogen stream. The reaction mixture was mechanically stirred at 80 ° C. for 4 hours. The obtained suspension of moderate viscosity was diluted with 100 mL of DMAc, stirred vigorously for 30 minutes, and then filtered through a celite pad to remove excess zinc. The obtained transparent solution was coagulated in 10 times the amount of methanol to obtain a yellow powdery oligomer. Yield: 15.20 g (84%); GPC: M n = 10500, M w = 21500
[Comparative Example 3] Production of poly (ether sulfone) -poly (1,4-phenylene) block copolymer Telechelic oligomer (2.110 g, 0.50 mmol) of Comparative Example 1 and Telechelic oligomer of Comparative Example 2 ( 5.250 g, 0.50 mmol) and K 2 CO 3 (0.173
g, 1.25 mmol) was stirred in NMP / toluene (12/8 mL) for 4 hours under a nitrogen atmosphere with gentle reflux. During stirring, the toluene / water azeotrope was collected in a Dean-Stark trap. Excess toluene was distilled off, and stirring was continued at 165 ° C. for another 20 hours until no increase in viscosity was observed. The reaction mixture was treated in the same manner as in Comparative Example 1 to obtain a polymer having the desired composition as an off-white powder. Yield: 6.61 g (90%); GPC: M n = 24200, M w = 54200
Example 1 Production of 2- (3-chlorophenoxy) -6-fluorobenzonitrile (1)

Figure 2008088060
Figure 2008088060

3−クロロフェノール(12.86g、100mmol)を乾燥DMAc(80mL)に溶かした溶液に、水素化ナトリウム(鉱油中に60%濃度で分散、4.00g、100mmol)を、窒素雰囲気下、室温で少量ずつ加えた。室温条件下、固形分が完全に溶解するまで反応混合物を攪拌し、2、6−ジフルオロベンゾニトリル(80.0g、575mmol)を添加した。反応混合物を徐々に120℃に加熱し、フェノラートが完全に消費されるまで3時間攪拌した。無機副生成物を濾過により除去し、DMAcおよび余分な2、6−ジフルオロベンゾニトリルを真空下で留去した。残渣をメタノール、次いでヘキサン/酢酸エチルを用いて再結晶し、化合物1を無色の結晶として得た。収量:17.01g(69%);IR:チャート1;1H−NMR:チャート2
IRおよび1H−NMRスペクトルをそれぞれ図1および2に示す。
[実施例2](3−クロロ−6−メトキシフェニル)(4−フルオロフェニル)スルホン(3)の合成
To a solution of 3-chlorophenol (12.86 g, 100 mmol) in dry DMAc (80 mL) was added sodium hydride (dispersed in mineral oil at a concentration of 60%, 4.00 g, 100 mmol) at room temperature under a nitrogen atmosphere. Added in small portions. The reaction mixture was stirred at room temperature until the solids were completely dissolved and 2,6-difluorobenzonitrile (80.0 g, 575 mmol) was added. The reaction mixture was gradually heated to 120 ° C. and stirred for 3 hours until the phenolate was completely consumed. Inorganic by-products were removed by filtration and DMAc and excess 2,6-difluorobenzonitrile were distilled off under vacuum. The residue was recrystallized from methanol and then hexane / ethyl acetate to obtain Compound 1 as colorless crystals. Yield: 17.01 g (69%); IR: Chart 1; 1 H-NMR: Chart 2
IR and 1 H-NMR spectra are shown in FIGS. 1 and 2, respectively.
Example 2 Synthesis of (3-chloro-6-methoxyphenyl) (4-fluorophenyl) sulfone (3)

Figure 2008088060
Figure 2008088060

4−クロロアニソール(36.64g、256mmol)および4−フルオロベンゼンスルホニルクロライド(50.00g、256mmol)をCH2Cl2(200mL)に溶かした溶液に、塩化アルミニウム(42.66g、320mmol)を少量ずつ加え、完全に溶解するまで室温で攪拌した。溶媒を留去し、得られたゴム状混合物を90℃で2時間攪拌し、冷却した。冷却した混合物をCH2Cl2に再溶解させ、氷/HClで急冷した。固形分をデカント法で分離し、残渣をトルエン(500mL)で抽出した。分離した固形分と抽出物とを合わせたものを、トルエン(200mL)を用いて再結晶させ、フェノール2を無色の結晶として得た。収量:55.62g(75%)
得られた粗生成物を、ヨードメタン(50.0g、350mmol)およびK2CO3(3
4.55g)と共に、アセトン(500mL)中で3時間還流させ、濾過した後、溶媒および余分なヨードメタンを留去した。固形残渣を、メタノール(200mL)で再結晶させ、スルホン3を無色の結晶として得た。収量:46.57g(80%);IR:チャート3;1H−NMR:チャート4;19F−NMR:チャート5
IRスペクトルを図3に示す。1H−NMRスペクトルを図4および5に示す。
[実施例3]3−クロロフェノキシ末端ポリ(エーテルスルホン)オリゴマーの合成
To a solution of 4-chloroanisole (36.64 g, 256 mmol) and 4-fluorobenzenesulfonyl chloride (50.00 g, 256 mmol) in CH 2 Cl 2 (200 mL), a small amount of aluminum chloride (42.66 g, 320 mmol) was added. It was added in portions and stirred at room temperature until completely dissolved. The solvent was distilled off, and the resulting rubbery mixture was stirred at 90 ° C. for 2 hours and cooled. The cooled mixture was redissolved in CH 2 Cl 2 and quenched with ice / HCl. Solids were separated by decantation and the residue was extracted with toluene (500 mL). A combination of the separated solid and the extract was recrystallized using toluene (200 mL) to obtain phenol 2 as colorless crystals. Yield: 55.62 g (75%)
The resulting crude product was purified from iodomethane (50.0 g, 350 mmol) and K 2 CO 3 (3
4.55 g) in acetone (500 mL) for 3 hours and filtered, and then the solvent and excess iodomethane were distilled off. The solid residue was recrystallized from methanol (200 mL) to give sulfone 3 as colorless crystals. Yield: 46.57 g (80%); IR: Chart 3; 1 H-NMR: Chart 4; 19 F-NMR: Chart 5
The IR spectrum is shown in FIG. 1 H-NMR spectra are shown in FIGS.
[Example 3] Synthesis of 3-chlorophenoxy-terminated poly (ether sulfone) oligomer

Figure 2008088060
Figure 2008088060

4、4‘−ジクロロジフェニルスルホン(12.92g、45mmol)、4、4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン(12.51g、50mmol)および
K2CO3(8.29g、60mmol)からなる混合物を、NMP/トルエン(50/30
mL)中で、窒素雰囲気下、180℃で8時間、トルエン/水共沸混合物をDean−Starkトラップに回収しながら、水酸基末端オリゴマーの形成が終了するまで攪拌を行った。反応混合物を80℃に冷却し、実施例1の固体状末端封止化合物(4.95g、20mmol)を一度に加え、さらに165℃で4時間攪拌した。重縮合生成物をメタノールに沈殿分離し、THF(300mL)中で攪拌することにより分別した。その結果、テレケリックポリ(エーテルスルホン)オリゴマーを淡黄色の粉末として得た。1H−NMRに
より、該オリゴマーが3−クロロフェノキシ基で定量的に末端封止されていることが確認された。収量:21.67g(89%);GPC:Mn=7160、Mw=12700
[実施例4]3−クロロフェニルスルホン末端ポリ(エーテルエーテルケトン)オリゴマーの合成
4,4′-dichlorodiphenylsulfone (12.92 g, 45 mmol), 4,4′-dihydroxydiphenylsulfone (12.51 g, 50 mmol) and
A mixture of K 2 CO 3 (8.29 g, 60 mmol) was added to NMP / toluene (50/30
In a nitrogen atmosphere, the toluene / water azeotrope was collected in a Dean-Stark trap at 180 ° C. for 8 hours, and stirred until the formation of the hydroxyl-terminated oligomer was completed. The reaction mixture was cooled to 80 ° C., the solid end-capping compound of Example 1 (4.95 g, 20 mmol) was added in one portion, and the mixture was further stirred at 165 ° C. for 4 hours. The polycondensation product was separated by precipitation in methanol and fractionated by stirring in THF (300 mL). As a result, a telechelic poly (ether sulfone) oligomer was obtained as a pale yellow powder. 1 H-NMR confirmed that the oligomer was quantitatively end-capped with a 3-chlorophenoxy group. Yield: 21.67 g (89%); GPC: M n = 7160, M w = 12700
Example 4 Synthesis of 3-chlorophenylsulfone terminated poly (ether ether ketone) oligomer

Figure 2008088060
Figure 2008088060

4、4‘−ジフルオロベンゾフェノン(41.49g、190mmol)、4、4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフェノール(67.25g、200mmol)およびK2CO3(33.17g、240mmol)からなる混合物を、DMAc/トルエン(
250/100mL)中で、窒素雰囲気下、水酸基末端オリゴマーの形成が完了するまで150℃で8時間攪拌した。反応混合物を80℃に冷却し、実施例2の固体状末端封止化合物(10.53g、35mmol)を一度に加え、さらに135℃で4時間攪拌した。得られた生成物を実施例3と同様に処理し、白色粉末状テレケリックオリゴマーを得た。該オリゴマーの1H−NMRスペクトルにより、3−クロロ−6−メトキシフェニルスルホン
単位のみを末端基として有することが確認された。収量:96.03g(96%);GPC:Mn=14000、Mw=19100
[実施例5]3−クロロフェニルスルホン末端ポリ(エーテルエーテルニトリル)オリゴマーの合成
A mixture consisting of 4,4′-difluorobenzophenone (41.49 g, 190 mmol), 4,4 ′-(hexafluoroisopropylidene) diphenol (67.25 g, 200 mmol) and K 2 CO 3 (33.17 g, 240 mmol) DMAc / toluene (
The mixture was stirred at 150 ° C. for 8 hours in a nitrogen atmosphere until the formation of the hydroxyl-terminated oligomer was completed. The reaction mixture was cooled to 80 ° C. and the solid end-capping compound of Example 2 (10.53 g, 35 mmol) was added in one portion and further stirred at 135 ° C. for 4 hours. The obtained product was treated in the same manner as in Example 3 to obtain a white powder telechelic oligomer. From the 1 H-NMR spectrum of the oligomer, it was confirmed that it had only a 3-chloro-6-methoxyphenylsulfone unit as a terminal group. Yield: 96.03 g (96%); GPC: M n = 14000, M w = 19100
[Example 5] Synthesis of 3-chlorophenylsulfone-terminated poly (ether ether nitrile) oligomer

Figure 2008088060
Figure 2008088060

2、6−ジフルオロベンゾニトリル(26.43g、190mmol)、4、4‘−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフェノール(67.25g、200mmol)、K2CO3(33.17g、240mmol)および実施例2の末端封止化合物(10.53g
、35mmol)を用いて、実施例4と同様にしてテレケリックオリゴマーを製造し、白色微粒子として分離した。収量:82.00g(86%);GPC:Mn=9200、Mw=13200
[実施例6]3−クロロフェノキシ末端ポリ(エーテルケトン)オリゴマーの合成
2,6-difluorobenzonitrile (26.43 g, 190 mmol), 4,4 ′-(hexafluoroisopropylidene) diphenol (67.25 g, 200 mmol), K 2 CO 3 (33.17 g, 240 mmol) and examples 2 end-capping compound (10.53 g
35 mmol), telechelic oligomers were produced in the same manner as in Example 4 and separated as white fine particles. Yield: 82.00 g (86%); GPC: M n = 9200, M w = 13200
[Example 6] Synthesis of 3-chlorophenoxy-terminated poly (ether ketone) oligomer

Figure 2008088060
Figure 2008088060

実施例3〜5と同様にしてテレケリックオリゴマーを調製した。すなわち、4、4‘−ジフルオロベンゾフェノン(104.74g、480mmol)、レゾルシノール(44.59g、405mmol)9、9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン(47.31g、135mmol)およびK2CO3(89.56g、648mmol)からなる混
合物を、DMAc/トルエン中、145℃で6時間攪拌した後、実施例1の末端封止化合
物(49.53g、180mmol)を加えてさらに2時間攪拌した。収量:141.30g(86%);GPC:Mn=3860、Mw=5400
[実施例7]ポリ(エーテルスルホン)−ポリ(1、4−フェニレン)ブロック共重合体の合成
2、5−ジクロロ−4‘−フェノキシベンゾフェノン(16.79g、48.93mmol)、実施例3の3−クロロフェノキシ末端ポリ(エーテルスルホン)オリゴマー(7.55g、1.16mmol)、Ni(PPh3)2Cl2(0.98g、1.50mmol)、PPh3(5.26g、20.04mmol)、NaI(0.23g、1.50mmol)および亜
鉛粉(8.19g、125.23mmol)からなる混合物に、乾燥DMAc(57mL)を、乾燥窒素気流下で添加し、反応混合物を80℃で40分機械的に攪拌したところ、溶液の粘度が大幅に上昇し、高重合体が生成したと推測された。反応混合物をさらに1時間攪拌し、200mLのDMAcで希釈し、均一な懸濁液になるまで激しく攪拌した後、セライトパッドを通して濾過することにより、余分な亜鉛を除去した。得られた透明溶液を6倍量のメタノール中で凝固させ、黄色の繊維状重合体を得た。収量:19.75g(95%);GPC:Mn=43800、Mw=137000
本実施例から分かるように、本発明によるポリ(エーテルスルホン)−ポリ(1、4−フェニレン)ブロック共重合体は、新規ハロゲン化芳香族化合物を用いずに芳香族求核置換反応を行うことにより合成された類似組成の比較例3のブロック共重合体と比較して、高い分子量を有し短い反応時間で得ることができる。
[実施例8]ポリ(エーテルエーテルケトン)−ポリ(1、3−フェニレン)ブロック共重合体の合成
3、5−ジクロロフェニルイソブチルスルホン(12.00g、44.93mmol)、実施例6の3−クロロフェノキシ末端ポリ(エーテルケトン)オリゴマー(23.41g、6.07mmol)、Ni(PPh3)2Cl2(1.00g、1.53mmol)、PPh3(5.35g、20.40mmol)、NaI(0.23g、1.53mmol)および亜鉛粉(
8.33g、127.5mmol)を使用して、実施例7と同様に乾燥DMAc(60mL)中で重合を行った。収量:28.61g(90%);GPC:Mn=29400、Mw=65200
Telechelic oligomers were prepared in the same manner as in Examples 3-5. That is, 4,4′-difluorobenzophenone (104.74 g, 480 mmol), resorcinol (44.59 g, 405 mmol) 9, 9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene (47.31 g, 135 mmol) and K 2 CO 3 ( A mixture consisting of 89.56 g (648 mmol) was stirred in DMAc / toluene at 145 ° C. for 6 hours, and then the end-capping compound of Example 1 (49.53 g, 180 mmol) was added, followed by further stirring for 2 hours. Yield: 141.30 g (86%); GPC: M n = 3860, M w = 5400
[Example 7] Synthesis of poly (ether sulfone) -poly (1,4-phenylene) block copolymer 2,5-dichloro-4'-phenoxybenzophenone (16.79 g, 48.93 mmol) of Example 3 3-Chlorophenoxy-terminated poly (ether sulfone) oligomer (7.55 g, 1.16 mmol), Ni (PPh 3 ) 2 Cl 2 (0.98 g, 1.50 mmol), PPh 3 (5.26 g, 20.04 mmol) , NaI (0.23 g, 1.50 mmol) and zinc powder (8.19 g, 125.23 mmol) were added dry DMAc (57 mL) under a stream of dry nitrogen and the reaction mixture was heated at 80 ° C. at 40 ° C. When the mixture was mechanically stirred, it was estimated that the viscosity of the solution increased significantly and a high polymer was produced. The reaction mixture was stirred for an additional hour, diluted with 200 mL of DMAc, stirred vigorously until a uniform suspension, then filtered through a celite pad to remove excess zinc. The resulting transparent solution was coagulated in 6 times the amount of methanol to obtain a yellow fibrous polymer. Yield: 19.75 g (95%); GPC: M n = 43800, M w = 137000
As can be seen from this example, the poly (ether sulfone) -poly (1,4-phenylene) block copolymer according to the present invention performs an aromatic nucleophilic substitution reaction without using a novel halogenated aromatic compound. Compared with the block copolymer of Comparative Example 3 having a similar composition synthesized by the above, it has a high molecular weight and can be obtained in a short reaction time.
[Example 8] Synthesis of poly (ether ether ketone) -poly (1,3-phenylene) block copolymer 3,5-Dichlorophenylisobutylsulfone (12.00 g, 44.93 mmol), 3-chloro of Example 6 Phenoxy-terminated poly (ether ketone) oligomer (23.41 g, 6.07 mmol), Ni (PPh 3 ) 2 Cl 2 (1.00 g, 1.53 mmol), PPh 3 (5.35 g, 20.40 mmol), NaI ( 0.23 g, 1.53 mmol) and zinc powder (
8.33 g, 127.5 mmol) was used for polymerization in dry DMAc (60 mL) as in Example 7. Yield: 28.61 g (90%); GPC: M n = 29400, M w = 65200

実施例1で得られた化合物のIRスペクトルを示す。The IR spectrum of the compound obtained in Example 1 is shown. 実施例1で得られた化合物の1H−NMRスペクトルを示す。1 shows the 1 H-NMR spectrum of the compound obtained in Example 1. 実施例2で得られた化合物のIRスペクトルを示す。The IR spectrum of the compound obtained in Example 2 is shown. 実施例2で得られた化合物の1H−NMRスペクトルを示す。 1 shows the 1 H-NMR spectrum of the compound obtained in Example 2. 実施例2で得られた化合物の1H−NMRスペクトルを示す。 1 shows the 1 H-NMR spectrum of the compound obtained in Example 2.

Claims (10)

下記一般式(1)で表されることを特徴とするハロゲン化芳香族化合物:
Figure 2008088060
上記式中、Xはフッ素を除くハロゲン原子、−OSO2CH3および-OSO2CF3からなる群から選
ばれる基を示し;Yはフッ素原子または-NO2 で表される基を示し;Zは酸素原子または硫
黄原子、あるいは−(CF2)k、−C(CF3)2−、−SO−および−SO2−からなる群から選ばれる2価の電子吸引基を示し;W1およびW2は独立に水素原子または−COCkH2k+1、−COAr、-CONHCkH2k+1、−CONHAr、-COOCkH2k+1、−COOAr、−CN、−CHO、−CkF2k+1、-SOCkH2k+1
−SOAr、-SO2CkH2k+1および−SO2Arからなる群から選ばれる1価の電子吸引基を示し、ここでkは1〜10の整数であり、Arはフェニル基またはナフチル基を示し;R1およびR2は独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはアリーロキシ基を示す。
A halogenated aromatic compound represented by the following general formula (1):
Figure 2008088060
In the above formula, X represents a halogen atom excluding fluorine, a group selected from the group consisting of —OSO 2 CH 3 and —OSO 2 CF 3 ; Y represents a fluorine atom or a group represented by —NO 2 ; oxygen atom or a sulfur atom, or, the - (CF 2) k, -C (CF 3) 2 -, - SO- and -SO 2 - a divalent electron-withdrawing group selected from the group consisting of; W 1 and W 2 is independently a hydrogen atom or --COC k H 2k + 1 , --COAr, --CONHC k H 2k + 1 , --CONHAr, --COOC k H 2k + 1 , --COOAr, --CN, --CHO, --C k F 2k + 1 , -SOC k H 2k + 1 ,
1 represents a monovalent electron-withdrawing group selected from the group consisting of —SOAr, —SO 2 C k H 2k + 1 and —SO 2 Ar, wherein k is an integer of 1 to 10, and Ar is a phenyl group or naphthyl R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group or an aryloxy group.
上記式(1)で表されるハロゲン化芳香族化合物であって、Zが、置換基XおよびYに対
してメタ位である酸素原子または硫黄原子であることを特徴とするハロゲン化芳香族化合物。
A halogenated aromatic compound represented by the above formula (1), wherein Z is an oxygen atom or a sulfur atom which is meta to the substituents X and Y, .
上記式(1)で表されるハロゲン化芳香族化合物であって、Zが−SO2−を示し、R1がアルコキシ基であり、置換基YがZに対してパラ位であることを特徴とするハロゲン化芳香族化合物。 A halogenated aromatic compound represented by the above formula (1), wherein Z represents —SO 2 —, R 1 is an alkoxy group, and the substituent Y is para to Z. A halogenated aromatic compound. 下記一般式(2)で表されることを特徴とするテレケリックオリゴマー化合物:
Figure 2008088060
上記式中、Xはフッ素を除くハロゲン原子、−OSO2CH3および−OSO2CF3からなる群から選ばれる基を示し;Zは酸素原子または硫黄原子、あるいは−(CF2)k、−C(CF3)2−、−SO−および−SO2−からなる群から選ばれる2価の電子吸引基を示し;W1およびW2は独立に水
素原子または−COCkH2k+1、−COAr、-CONHCkH2k+1、−CONHAr、-COOCkH2k+1、−COOAr、
−CN、−CHO、−CkF2k+1、−SOCkH2k+1、−SOAr、-SO2CkH2k+1および−SO2Arからなる群
から選ばれる1価の電子吸引基を示し、ここでkは1〜10の整数であり、Arはフェニル基またはナフチル基を示し;R1およびR2は独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはアリーロキシ基を示し;Aは酸素原子または硫黄原子を示し;nは2以
上の整数であり;Qは下記式(q1)、(q2)およびこれらの混合物から選ばれる構造
を示し:
Figure 2008088060
Pは下記式(p1)および(p2)から選ばれる構造を示し:
Figure 2008088060
上記式中、BおよびCは独立に2価原子、有機電子吸引基または直接結合を示し;R3ないしR25は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、フッ素原子、アルキル基または
芳香族基を示す。
Telechelic oligomer compound represented by the following general formula (2):
Figure 2008088060
In the above formula, X represents a halogen atom excluding fluorine, a group selected from the group consisting of —OSO 2 CH 3 and —OSO 2 CF 3 ; Z represents an oxygen atom or a sulfur atom, or — (CF 2 ) k , — A divalent electron-withdrawing group selected from the group consisting of C (CF 3 ) 2 —, —SO— and —SO 2 —; W 1 and W 2 are each independently a hydrogen atom or —COC k H 2k + 1 , -COAr, -CONHC k H 2k + 1 , -CONHAr, -COOC k H 2k + 1 , -COOAr,
-CN, -CHO, -C k F 2k + 1, -SOC k H 2k + 1, -SOAr, 1 monovalent electron withdrawing selected from the group consisting of -SO 2 C k H 2k + 1 and -SO 2 Ar Wherein k is an integer of 1 to 10, Ar represents a phenyl group or a naphthyl group; R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group or an aryloxy group A represents an oxygen atom or a sulfur atom; n represents an integer of 2 or more; Q represents a structure selected from the following formulas (q1), (q2) and a mixture thereof:
Figure 2008088060
P represents a structure selected from the following formulas (p1) and (p2):
Figure 2008088060
In the above formula, B and C independently represent a divalent atom, an organic electron withdrawing group or a direct bond; R 3 to R 25 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group or an aromatic group. Indicates a group.
上記式(q1)で表される構造におけるBが、直接結合、または−CONH−、−(CF2)k
(ここでkは1〜10の整数である)、−C(CF3)2−、−COO−、−SO−、−SO2−および
下記式(b)で表される基から選ばれる有機基であることを特徴とする、請求項4に記載の化合物:
Figure 2008088060
上記式中、R26ないしR33は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、フッ素原子、アルキル基または芳香族基を示す。
B in the structure represented by the above formula (q1) is a direct bond, or -CONH -, - (CF 2) k -
(Where k is an integer of 1 to 10), —C (CF 3 ) 2 —, —COO—, —SO—, —SO 2 — and an organic group selected from the group represented by the following formula (b) Compound according to claim 4, characterized in that it is a group:
Figure 2008088060
In the above formula, R 26 to R 33 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group or an aromatic group.
上記式(p1)で表される構造におけるCが、直接結合、または−CO−、−SO−、−SO2−、−CO(CH2)kCO−、−CO(CF2)kCO−(ここでkは1〜10の整数である)、および下記式(c)で表される基から選ばれる有機基であることを特徴とする、請求項4に記載の化合物:
Figure 2008088060
上記式中、Dは直接結合、硫黄原子または酸素原子を示し;mは0〜2の整数であり;R34ないしR41は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、フッ素原子、アルキル基
または芳香族基を示す。
C in the structure represented by the formula (p1) is a direct bond or -CO -, - SO -, - SO 2 -, - CO (CH 2) k CO -, - CO (CF 2) k CO- (Wherein k is an integer of 1 to 10) and an organic group selected from the group represented by the following formula (c):
Figure 2008088060
In the above formula, D represents a direct bond, a sulfur atom or an oxygen atom; m is an integer of 0 to 2; R 34 to R 41 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a fluorine atom or an alkyl group. Or an aromatic group is shown.
上記式(q1)で表される構造(Q1)および上記式(q2)で表される構造(Q2)からなる構造を有することを特徴とする、請求項4に記載の化合物。   5. The compound according to claim 4, which has a structure consisting of a structure (Q1) represented by the above formula (q1) and a structure (Q2) represented by the above formula (q2). 上記構造(Q1)および構造(Q2)の合計100モル%に対して、構造(Q1)および構造(Q2)をそれぞれ99〜20モル%、1〜80モル%の量で含有することを特徴とす
る、請求項7に記載の化合物。
The structure (Q1) and the structure (Q2) are contained in amounts of 99 to 20 mol% and 1 to 80 mol%, respectively, with respect to a total of 100 mol% of the structures (Q1) and (Q2). The compound according to claim 7.
下記式(2’)で表される繰り返し単位からなることを特徴とするポリアリーレン:
Figure 2008088060
上記式中、Zは酸素原子または硫黄原子、あるいは−(CF2)k−、−C(CF3)2−、−SO−および−SO2−からなる群から選ばれる2価の電子吸引基を示し;W1およびW2は独立に水素原
子または−COCkH2k+1、−COAr、−CONHCkH2k+1、−CONHAr、−COOCkH2k+1、−COOAr、−CN、−CHO、−CkF2k+1、−SOCkH2k+1、−SOAr、−SO2CkH2k+1および−SO2Arからなる群か
ら選ばれる1価の電子吸引基を示し、ここでkは1〜10の整数であり、Arはフェニル基またはナフチル基を示し;R1およびR2は独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはアリーロキシ基を示し;Aは酸素原子または硫黄原子を示し;nは2以上
の整数であり;Pは下記式(p1)および(p2)から選ばれる構造を示し:
Figure 2008088060
上記式中、BおよびCは独立に2価原子、有機電子吸引基または直接結合を示し;R3ないしR25は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、フッ素原子、アルキル基または
芳香族基を示し;Qは下記式(q1)、(q2)およびこれらの混合物から選ばれる構造
を示す:
Figure 2008088060
A polyarylene comprising a repeating unit represented by the following formula (2 ′):
Figure 2008088060
In the above formula, Z is an oxygen atom or a sulfur atom, or a divalent electron withdrawing group selected from the group consisting of — (CF 2 ) k —, —C (CF 3 ) 2 —, —SO— and —SO 2 —. W 1 and W 2 independently represent a hydrogen atom or —COC k H 2k + 1 , —COAr, —CONHC k H 2k + 1 , —CONHAr, —COOC k H 2k + 1 , —COOAr, —CN, A monovalent electron withdrawing group selected from the group consisting of —CHO, —C k F 2k + 1 , —SOC k H 2k + 1 , —SOAr, —SO 2 C k H 2k + 1 and —SO 2 Ar is shown. Where k is an integer of 1 to 10, Ar represents a phenyl group or a naphthyl group; R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group or an aryloxy group; N represents an integer of 2 or more; P represents a structure selected from the following formulas (p1) and (p2):
Figure 2008088060
In the above formula, B and C independently represent a divalent atom, an organic electron withdrawing group or a direct bond; R 3 to R 25 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group or an aromatic group. Q represents a structure selected from the following formulas (q1), (q2) and mixtures thereof:
Figure 2008088060
下記一般式(3)で表される繰り返し単位からなることを特徴とする請求項9に記載のポリアリーレン:
Figure 2008088060
上記式中、Eは直接結合または−CO−、−CONH−、−(CF2)p−(ここでpは1〜10の整
数である)、−C(CF3)2−、−COO−、−SO−および−SO2−からなる群から選ばれる有機
電子吸引基を示し;Arはフェニル基、ナフチル基、ピリジル基、フェノキシフェニル基、フェニルフェニル基およびナフトキシフェニル基からなる群から選ばれる芳香族基を示し;Lは水素原子、フッ素原子または−CN、−CHO、−CpF2p+1、−OCpH2p+1、-SCpH2p+1、-NHCOCpH2p+1、−NHSO2CpH2p+1、-OCOCpH2p+1、-CONHCpH2p+1、-COOCpH2p+1、-SOCpH2p+1、−SO2CpH2p+1および−SO3CpH2p+1(ここでpは1〜10の整数である)からなる群から選ばれる1価の有機基を示し;kは0〜3の整数である。
The polyarylene according to claim 9, comprising a repeating unit represented by the following general formula (3):
Figure 2008088060
In the above formula, E is a direct bond or —CO—, —CONH—, — (CF 2 ) p — (wherein p is an integer of 1 to 10), —C (CF 3 ) 2 —, —COO—. Represents an organic electron withdrawing group selected from the group consisting of -SO- and -SO 2- ; Ar is selected from the group consisting of phenyl, naphthyl, pyridyl, phenoxyphenyl, phenylphenyl and naphthoxyphenyl groups It indicates the aromatic group; L is a hydrogen atom, a fluorine atom or a -CN, -CHO, -C p F 2p + 1, -OC p H 2p + 1, -SC p H 2p + 1, -NHCOC p H 2p +1 , -NHSO 2 C p H 2p + 1 , -OCOC p H 2p + 1 , -CONHC p H 2p + 1 , -COOC p H 2p + 1 , -SOC p H 2p + 1 , -SO 2 C p 1 represents a monovalent organic group selected from the group consisting of H 2p + 1 and —SO 3 C p H 2p + 1 (where p is an integer of 1 to 10); k is an integer of 0 to 3 .
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JP2016141762A (en) * 2015-02-04 2016-08-08 株式会社日本触媒 Resin composition

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105732972A (en) * 2014-12-26 2016-07-06 罗门哈斯电子材料有限责任公司 Pore-fill composition
JP2016128568A (en) * 2014-12-26 2016-07-14 ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC Pore filling composition
JP2016141762A (en) * 2015-02-04 2016-08-08 株式会社日本触媒 Resin composition

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