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JP2008084544A - Light guide plate, lighting device, and backlight for liquid crystal display device - Google Patents

Light guide plate, lighting device, and backlight for liquid crystal display device Download PDF

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JP2008084544A
JP2008084544A JP2006259625A JP2006259625A JP2008084544A JP 2008084544 A JP2008084544 A JP 2008084544A JP 2006259625 A JP2006259625 A JP 2006259625A JP 2006259625 A JP2006259625 A JP 2006259625A JP 2008084544 A JP2008084544 A JP 2008084544A
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JP
Japan
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light
guide plate
light guide
pattern
control pattern
Prior art date
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Application number
JP2006259625A
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Japanese (ja)
Inventor
Ryuji Tsuchiya
竜二 土屋
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Toshiba Lighting and Technology Corp
Original Assignee
Harison Toshiba Lighting Corp
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Publication date
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Abstract

【課題】バックライトあるいは照明装置として導光板に光源から導光した時にその発光面を輝度ムラがなく一様な輝度にすることができ、導光板の光制御パターン見えの問題も解消できる。
【解決手段】本発明は、一面を反射面１２とし、この反射面に対向する他面を発光面１１とし、少なくとも一側面を光を導入する入光面１３とする導光板であって、反射面には光制御パターン１４が形成され、光制御パターンは、当該導光板内の光を反射散乱させるための独立した多数の単位パターン４０が不規則に、かつ、単位面積当たりのパターン密度が均一になる配置で形成されていることを特徴とする導光板である。
【選択図】図２When a light source is guided from a light source to a light guide plate as a backlight or lighting device, the light emitting surface can be made uniform with no luminance unevenness, and the problem of light control pattern appearance on the light guide plate can be solved.
The present invention is a light guide plate in which one surface is a reflecting surface 12, the other surface facing the reflecting surface is a light emitting surface 11, and at least one side surface is a light incident surface 13 for introducing light. A light control pattern 14 is formed on the surface, and the light control pattern includes a large number of independent unit patterns 40 for reflecting and scattering light in the light guide plate, and the pattern density per unit area is uniform. It is the light-guide plate characterized by being formed by arrangement | positioning to become.
[Selection] Figure 2

Description

本発明は、導光板、これを用いた照明装置及び液晶表示装置用バックライトに関する。   The present invention relates to a light guide plate, an illumination device using the same, and a backlight for a liquid crystal display device.

従来、冷陰極蛍光ランプ（ＣＣＦＬ）あるいはＬＥＤのような光源を導光板の端面に近接対向するように配置するサイドライト型バックライトでは、その導光板として図１２に示すような導光板１Ａ、図１３に示すような導光板１Ｂを用いている。これらの導光板１Ａ，１Ｂでは、表面を発光面１Ａ１，１Ｂ１、裏面を反射面１Ａ２，１Ｂ２とし、一側面である入光面１Ａ３，１Ｂ３から導入した光を、反射面１Ａ２，１Ｂ２に形成された光制御パターン１Ａ４，１Ｂ４にて面全体に均一に拡散させながら発光面１Ａ１，１Ｂ１側に反射させ、輝度分布ができる限り均一な光にして発光面１Ａ１，１Ｂ１から出射するようにしている。   Conventionally, in a sidelight type backlight in which a light source such as a cold cathode fluorescent lamp (CCFL) or LED is disposed so as to face and face the end face of the light guide plate, the light guide plate 1A shown in FIG. A light guide plate 1B as shown in FIG. 13 is used. In these light guide plates 1A and 1B, the front surfaces are the light emitting surfaces 1A1 and 1B1, the back surfaces are the reflective surfaces 1A2 and 1B2, and light introduced from the light incident surfaces 1A3 and 1B3 which are one side surface is formed on the reflective surfaces 1A2 and 1B2. The light control patterns 1A4 and 1B4 are reflected to the light emitting surfaces 1A1 and 1B1 while being uniformly diffused over the entire surface so that the luminance distribution is as uniform as possible and emitted from the light emitting surfaces 1A1 and 1B1.

このような導光板１Ａ，１Ｂでは、光制御パターン１Ａ４，１Ｂ４を構成する個々の単位パターンとして、図４〜図９に示すような円柱形の凹部４１、円錐形の凹部４２、円錐台形の凹部４３、ムーンカット型凹部４４，４５、印刷ドット４６、さらにはマイクロリフレクタ、図１３に示したようなＶ溝等が採用される。そして、これらのいずれかの単位パターンを導光板の反射面の光制御パターンに採用する場合でも、従来では、単位パターンの配列を縦横に等間隔に配列する並列配列パターン、あるいは、図１２に示すようにある列とその隣の列とで単位パターンが互い違いなるように配列する千鳥配列パターンを採用している。   In such light guide plates 1A and 1B, as individual unit patterns constituting the light control patterns 1A4 and 1B4, a cylindrical recess 41, a conical recess 42, and a truncated cone recess as shown in FIGS. 43, moon-cut concave portions 44 and 45, printing dots 46, a micro reflector, and a V-groove as shown in FIG. Even when any one of these unit patterns is adopted as the light control pattern of the reflecting surface of the light guide plate, conventionally, the unit pattern arrangement is arranged in parallel at equal intervals in the vertical and horizontal directions, or as shown in FIG. In this way, a staggered arrangement pattern in which unit patterns are arranged alternately in a certain column and the adjacent column is adopted.

しかしながら、従来の導光板の場合、上述したように種々の形状の単位パターンを多数、規則的に等間隔に配列して光制御パターンを形成しているために次のような問題点があった。液晶表示装置の薄型化に対応してそのバックライトも薄型化の要求が強い。バックライトを薄型化するには、導光板の厚さも薄くする必要がある。導光板の厚さが薄くなると光制御パターンが発光面から見えやすくなり、光制御パターンが規則的である場合にはその傾向はさらに顕著になる。   However, the conventional light guide plate has the following problems because the light control pattern is formed by regularly arranging a large number of unit patterns of various shapes at regular intervals as described above. . In response to the thinning of liquid crystal display devices, there is a strong demand for thinning the backlight. In order to reduce the thickness of the backlight, it is necessary to reduce the thickness of the light guide plate. When the thickness of the light guide plate is reduced, the light control pattern can be easily seen from the light emitting surface, and the tendency becomes more remarkable when the light control pattern is regular.

この問題点を解決するものとして、特開２００２−２０３４１号公報（特許文献１）に記載されているように、Ｖ溝パターンのピッチ及び溝深さをランダムにすることができる。これによりサイドライトからの光の配光制御が容易である。しかしながら、サイドライトがＬＥＤのような点光源になると、光制御パターンを断続的に設けたり、溝深さを部分毎に変化させる加工を施したりすることは困難であり、結果的に、バックライトの発光面の輝度ムラをなくして一様な輝度にすることは困難であった。
特開２００２−２０３４１号公報 As a solution to this problem, the pitch and groove depth of the V-groove pattern can be made random as described in JP-A-2002-20341 (Patent Document 1). This makes it easy to control the light distribution from the sidelights. However, when the sidelight becomes a point light source such as an LED, it is difficult to intermittently provide a light control pattern or to perform processing to change the groove depth for each part. As a result, the backlight It has been difficult to achieve uniform brightness by eliminating the uneven brightness of the light emitting surface.
JP 2002-20341 A

本発明は、上述した従来技術の課題に鑑みてなされたもので、バックライトあるいは照明装置として導光板に光源から導光した時にその発光面を輝度ムラがなく一様な輝度にすることができ、導光板の光制御パターン見えの問題も解消できる導光板、またそれを組み込んだ照明装置及び液晶表示装置用バックライトを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and when light is guided from a light source to a light guide plate as a backlight or an illumination device, the light emitting surface can be made uniform with no luminance unevenness. An object of the present invention is to provide a light guide plate that can solve the problem of light control pattern appearance of the light guide plate, and an illumination device and a backlight for a liquid crystal display device incorporating the light guide plate.

本発明の１つの特徴は、一面を反射面とし、この反射面に対向する他面を発光面とし、前記反射面及び発光面に垂直な断面が長方形、台形若しくは楔形をし、少なくとも一側面を光を導入するための入光面とする導光板であって、前記反射面には光制御パターンが形成され、前記光制御パターンは、前記入光面から導光板内に入光した光を反射散乱させるための独立した多数の単位パターンが不揃いに、かつ、単位面積当たりのパターン密度が均一になる配置で形成された導光板である。   One feature of the present invention is that one surface is a reflecting surface, the other surface facing the reflecting surface is a light emitting surface, and the cross section perpendicular to the reflecting surface and the light emitting surface is rectangular, trapezoidal or wedge shaped, and at least one side surface is A light guide plate serving as a light incident surface for introducing light, wherein a light control pattern is formed on the reflective surface, and the light control pattern reflects light incident on the light guide plate from the light incident surface. The light guide plate is formed in an arrangement in which a large number of independent unit patterns for scattering are irregular and the pattern density per unit area is uniform.

上記導光板において、前記光制御パターンは、前記反射面の並列配列若しくは千鳥配列の基準位置それぞれを中心に一定半径の規制範囲を設定し、各基準位置ごとに前記規制範囲内の任意の位置に前記単位パターンを形成したものとすることができる。   In the light guide plate, the light control pattern sets a regulation range having a constant radius around each of the reference positions of the parallel arrangement or the staggered arrangement of the reflecting surfaces, and is set at an arbitrary position within the regulation range for each reference position. The unit pattern may be formed.

また、上記導光板においては、前記単位パターンは、ムーンカットパターンとすることができる。   In the light guide plate, the unit pattern may be a moon cut pattern.

本発明の別の特徴は、複数個の点光源と、上記いずれかの導光板であって、前記点光源からの光を前記入光面から導入し、前記反射面にて反射散乱させて前記発光面からその光を出射するように導光する導光板とを備えた照明装置である。   Another feature of the present invention is a plurality of point light sources and any one of the light guide plates described above, wherein light from the point light sources is introduced from the light incident surface and reflected and scattered by the reflection surface. It is an illuminating device provided with the light-guide plate which guides so that the light may be radiate | emitted from a light emission surface.

本発明のさらに別の特徴は、複数個の点光源と、上記いずれかの導光板であって、前記点光源からの光を前記入光面から導入し、前記反射面にて反射散乱させて前記発光面からその光を出射するように導光する導光板とを備えた液晶表示装置用バックライトユニットである。   Still another feature of the present invention is a plurality of point light sources and any one of the light guide plates described above, wherein light from the point light sources is introduced from the light incident surface and reflected and scattered by the reflection surface. A backlight unit for a liquid crystal display device comprising a light guide plate that guides the light so as to be emitted from the light emitting surface.

本発明の導光板によれば、反射面に、当該導光板内の光を反射散乱させるための独立した多数の単位パターンを不規則に、かつ、単位面積当たりのパターン密度が均一になるように配置した光制御パターンを設けているので、バックライトあるいは照明装置として当該導光板に側方の点光源から導光した時に光制御パターンにて導光板内に一様に拡散しながら発光面側に反射させることができ、その発光面から輝度ムラなく一様な輝度で発光させることができ、また光制御パターン見えの問題も解消できる。   According to the light guide plate of the present invention, a large number of independent unit patterns for reflecting and scattering light in the light guide plate are irregularly formed on the reflection surface, and the pattern density per unit area is uniform. Since the arranged light control pattern is provided, when the light is guided from a side point light source to the light guide plate as a backlight or an illuminating device, the light control pattern is uniformly diffused in the light guide plate on the light emitting surface side. It is possible to reflect light, and light can be emitted from the light emitting surface with uniform brightness without unevenness of brightness, and the problem of light control pattern appearance can be solved.

また、本発明の照明装置及び液晶表示装置用バックライトによれば、上記導光板を組み込んでいるので、発光面から輝度ムラのない一様な輝度の照明光を得ることができる。   Moreover, according to the illumination device and the backlight for a liquid crystal display device of the present invention, since the light guide plate is incorporated, illumination light with uniform luminance without luminance unevenness can be obtained from the light emitting surface.

以下、本発明の実施の形態を図に基づいて詳説する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

（第１の実施の形態）図１、図２は本発明の１つの実施の形態の導光板１を示している。この導光板１は、従来例と同様に透明材あるいは半透明材製で、長方形、台形あるいは楔形断面の平板体であり、表面側を発光面１１とし、底面側を反射面１２とし、点光源に近接対向する側面を入光面１３としている。   (First Embodiment) FIGS. 1 and 2 show a light guide plate 1 according to one embodiment of the present invention. The light guide plate 1 is made of a transparent or semi-transparent material as in the prior art, and is a flat plate having a rectangular, trapezoidal, or wedge-shaped cross section. The light incident surface 13 is a side surface that is close to and faces the light entrance surface.

導光板１の発光面１１は平滑面である。導光板１の反射面１２には、光制御パターン１４が形成してある。この光制御パターン１４は、多数の単位パターン４０を不規則に、かつ、単位面積当たりの分布密度がほぼ均一になる配置で形成したものである。単位パターン４０の形状は、図４〜図９に示すもののいずれをも採用することができ、円柱形の凹部４１、円錐形の凹部４２、円錐台形の凹部４３、ムーンカットパターン４４，４５、印刷ドット４６等を採用できる。   The light emitting surface 11 of the light guide plate 1 is a smooth surface. A light control pattern 14 is formed on the reflective surface 12 of the light guide plate 1. This light control pattern 14 is a pattern in which a large number of unit patterns 40 are irregularly arranged with a substantially uniform distribution density per unit area. The shape of the unit pattern 40 may be any of those shown in FIGS. 4 to 9, and includes a cylindrical recess 41, a conical recess 42, a truncated cone recess 43, moon cut patterns 44 and 45, and printing. The dot 46 etc. can be employ | adopted.

光制御パターン１４は、導光板１の反射面１２に例えばエンボス加工、エンドミル切削加工その他の方法で上記単位パターンを所定の配列、配置に形成することで構成されている。図４〜図６それぞれに示した円柱形の凹部４１、円錐形の凹部４２、あるいは円錐台形の凹部４３にあっては、その点光源１に向かう面（各図で斜線を施した部分）が反射面となり、導光板１の入光面１３から入光した光を散乱させ、その一部を発光面１１から出光させる。例えば、円柱形の凹部４１の場合、その径はφ０．２ｍｍ、深さは０．０６ｍｍ程度である。この光制御パターン１４はまた、図７、図８に示したムーンカットパターン４４，４５にすることもできる。   The light control pattern 14 is configured by forming the unit patterns in a predetermined arrangement and arrangement on the reflecting surface 12 of the light guide plate 1 by, for example, embossing, end mill cutting, or other methods. In the cylindrical concave portion 41, the conical concave portion 42, or the truncated cone-shaped concave portion 43 shown in each of FIGS. 4 to 6, the surface facing the point light source 1 (the hatched portion in each figure). It becomes a reflection surface, scatters light incident from the light incident surface 13 of the light guide plate 1, and emits a part of the light from the light emitting surface 11. For example, in the case of the cylindrical recess 41, the diameter is about 0.2 mm and the depth is about 0.06 mm. The light control pattern 14 can also be the moon cut patterns 44 and 45 shown in FIGS.

本実施の形態では、図７に示すムーンカットパターン４４を採用している。このムーンカットパターン４４とは、光源方向には平坦斜面４４１を有し、光源方向と反対方向には湾曲面４４２を有している。光源から導光板１の入光面１３を通して入光し、導光板１中を伝播した光は平坦斜面４４１に当たると光路が変化し、導光板１の発光面１１から出射する。ムーンカットパターン４４は、例えば、エンドミルを高速回転状態で、導光板１の反射面１２にその法線方向に対してエンドミル軸方向を所定角度だけ角度を付けて斜めに切削し、エンドミルの半径以内の深さまで挿入することによって形成することができる。このムーンカットパターン４４の場合、光源方向に平坦斜面４４１を向けることで光源からの光を正反射させるため、配光制御が容易であり、かつ、主に全反射を利用して発光面１１に光を導くため、光のロスが少ない特長がある。また、ムーンカットパターン４４は独立パターンであるため、ＬＥＤのような点光源に対しても、パターン形状を個々に調整することで発光面から輝度ムラなく一様な輝度分布で発光させることができる。   In the present embodiment, the moon cut pattern 44 shown in FIG. 7 is adopted. The moon cut pattern 44 has a flat slope 441 in the light source direction and a curved surface 442 in the direction opposite to the light source direction. The light that enters from the light source through the light incident surface 13 of the light guide plate 1 and propagates through the light guide plate 1 changes its optical path when it hits the flat inclined surface 441, and is emitted from the light emitting surface 11 of the light guide plate 1. For example, the moon cut pattern 44 is obtained by cutting the reflecting surface 12 of the light guide plate 1 at an angle of a predetermined angle with respect to the normal direction of the reflecting surface 12 of the light guide plate 1 at a predetermined angle and within an end mill radius. It can be formed by inserting to a depth of. In the case of this moon cut pattern 44, the light from the light source is specularly reflected by directing the flat inclined surface 441 in the light source direction, so that the light distribution control is easy and the total reflection is mainly used on the light emitting surface 11. Since light is guided, there is a feature that there is little loss of light. In addition, since the moon cut pattern 44 is an independent pattern, even a point light source such as an LED can emit light with a uniform luminance distribution from the light emitting surface without uneven brightness by individually adjusting the pattern shape. .

単位パターン４０の配列は次の原理に基づいている。通常、光制御パターン１４をＮＣ加工で形成する場合、切削位置を縦・横・斜め方向のいずれかに規則性を持たせて整列配置にするのが一般的である。ところが、規則性のある整列配置にすれば、この導光板１を組み込んだバックライトにおいて、導光板１の発光面１１に光制御パターン１４の規則性が観測され、パターン見えが発生してしまう。これは、「導光板の厚さが薄い」、「単位パターンが大きい」あるいは「単位パターン間の間隔が広い」のいずれかの場合に発生しやすい。これを防ぐために、導光板１の厚さを厚くすることは近年のバックライトの薄型化の流れから採用できないが、残る２つの方法、「単位パターンを小さくする」あるいは「単位パターン間の間隔を狭くする」ことで対応することができる。しかしながら、パターンを小さくするためには加工精度が要求され、他方、パターン間隔を狭くすると加工点数が増加して加工に時間がかかるようになる。   The arrangement of the unit patterns 40 is based on the following principle. Usually, when the light control pattern 14 is formed by NC processing, the cutting positions are generally arranged in an aligned manner with regularity in any of vertical, horizontal, and diagonal directions. However, if the arrangement is regularly arranged, the regularity of the light control pattern 14 is observed on the light emitting surface 11 of the light guide plate 1 in the backlight incorporating the light guide plate 1 and the pattern appears. This is likely to occur when “the light guide plate is thin”, “the unit pattern is large”, or “the interval between the unit patterns is wide”. In order to prevent this, it is not possible to increase the thickness of the light guide plate 1 due to the recent trend of thinning the backlight, but the remaining two methods, “reducing the unit pattern” or “interval between unit patterns” This can be done by “narrowing”. However, in order to reduce the pattern, processing accuracy is required. On the other hand, if the pattern interval is narrowed, the number of processing points increases and processing takes time.

そこで、本実施の形態では、「導光板の厚さが薄い」、「単位パターンが大きい」あるいは「単位パターン間の間隔が広い」のいずれの場合でもパターン見えがないようにするために、光制御パターン１４のおける単位パターン４０の配列を不規則にし、しかも、単位パターンの分布密度は反射面１２のどこでも同じにすることで解決を図っている。単位パターン４０がムーンカットパターン４４である場合の加工方法を次に説明する。   Therefore, in this embodiment, in order to prevent the pattern from being seen in any of the cases where “the thickness of the light guide plate is thin”, “the unit pattern is large”, or “the interval between the unit patterns is wide”. The solution is achieved by making the arrangement of the unit patterns 40 in the control pattern 14 irregular and making the distribution density of the unit patterns the same everywhere on the reflection surface 12. Next, a processing method when the unit pattern 40 is the moon cut pattern 44 will be described.

図３に示すように、導光板１の反射面１２のほぼ全面に規則的な並列配列あるいは千鳥配列に加工基準点５１を決め、各加工基準点５１を中心に一定の半径の円５２を設定し、各円５２内の任意の点を中心に切削加工を行うことで、単位パターン４０の配列を不規則にし、しかも、単位パターンの分布密度を反射面１２のどこでも同じにする。   As shown in FIG. 3, processing reference points 51 are determined in a regular parallel arrangement or a staggered arrangement on almost the entire reflecting surface 12 of the light guide plate 1, and a circle 52 having a constant radius is set around each processing reference point 51. Then, by cutting about an arbitrary point in each circle 52, the arrangement of the unit patterns 40 is made irregular, and the distribution density of the unit patterns is the same everywhere on the reflecting surface 12.

例示すれば、光制御パターン１４の加工基準点の配列を千鳥配列とし、図３に示す状態で縦Ｍｍｍ、横Ｎｍｍピッチの千鳥配列とする場合、加工基準点５１に対して、半径ｒ＝（Ｍ２＋Ｎ２）１／２／４の円５２を仮想的に設定し、この円内のいずれかの位置をランダムに選択し、その位置を軸心としてエンドミル加工をする。円５２内のいずれの位置を加工中心とするかは、円内の点を乱数により非確率的に決定したり、円５２の中心からの距離に対して関数的に重み付けをして乱数を発生させてもよい。いまＭ＝０．５ｍｍ、Ｎ＝０．５ｍｍの千鳥配列とした場合、加工基準点５１に対して半径０．１７７ｍｍの円内を切削の中心点として円５２内のいずれかの点をランダムに選択して切削する。 For example, when the processing reference points of the light control pattern 14 are arranged in a staggered arrangement, and in the state shown in FIG. 3, a staggered arrangement having a vertical Mmm and a horizontal Nmm pitch is used, the radius r = ( A circle 52 of (M 2 + N 2 ) 1/2 / 4 is virtually set, any position within this circle is randomly selected, and end milling is performed with that position as the axis. Which position in the circle 52 is the machining center is determined by non-probabilistically determining a point in the circle by a random number, or by generating a random number by functionally weighting the distance from the center of the circle 52 You may let them. If a staggered arrangement with M = 0.5 mm and N = 0.5 mm is selected, any point in the circle 52 is randomly selected with a circle having a radius of 0.177 mm with respect to the machining reference point 51 as a center point of cutting. Select and cut.

また、光制御パターン１４の加工基準点５１の配列を、縦Ｍｍｍ、横Ｎｍｍピッチの並列配列とした場合、各加工基準点に対して、半径ｒ＝Ｍ１／２／２（Ｍ＜Ｎ）、またはｒ＝Ｎ１／２／２（Ｍ＞Ｎ）の円５２を仮想的に設定し、この円内のいずれかの位置をランダムに選択し、その位置を軸心としてエンドミル加工をすることができる。 In addition, when the processing reference points 51 of the light control pattern 14 are arranged in parallel with a vertical Mmm and a horizontal Nmm pitch, the radius r = M 1/2 / 2 (M <N) with respect to each processing reference point. Or a circle 52 of r = N 1/2 / 2 (M> N) is virtually set, any position in the circle is randomly selected, and end milling is performed with the position as the axis. Can do.

このようにして多数個のムーンカットパターン４４を切削することで光制御パターン１４を反射面１２に形成すれば、結果として、単位パターン４０としてのムーンカットパターン４４の配列を縦横、斜めのいずれの方向でも不揃いにし、しかも、単位パターンの分布密度を導光板１の反射面１２のどこでも同じにすることができ、この導光板１の発光面１１から一様な輝度分布の光を出射させることができ、かつ、発光面１１からの光制御パターンの見えをなくすことができる。   If the light control pattern 14 is formed on the reflective surface 12 by cutting a large number of moon cut patterns 44 in this manner, the arrangement of the moon cut patterns 44 as the unit pattern 40 is either vertical, horizontal, or diagonal. Further, the distribution density of the unit patterns can be the same everywhere on the reflection surface 12 of the light guide plate 1, and light having a uniform luminance distribution can be emitted from the light emitting surface 11 of the light guide plate 1. In addition, the light control pattern from the light emitting surface 11 is not visible.

（第２の実施の形態）図１０、図１１を用いて、本発明の第２の実施の形態としての液晶表示装置用バックライトユニット２を示している。本実施の形態のバックライトユニット２は、第１の実施の形態の導光板１をフレーム３内に組み込み、細長いＬＥＤ光源４を導光板１の入光面１３に近接対向するようにしてフレーム３内に組み込み、フレーム３の上面開口部に発光面１１から出射する光を拡散させ、また集光するための光学シート群５を設置した構成である。   (Second Embodiment) A backlight unit 2 for a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention is shown with reference to FIGS. In the backlight unit 2 of the present embodiment, the light guide plate 1 of the first embodiment is incorporated in the frame 3, and the elongated LED light source 4 is placed close to and opposed to the light incident surface 13 of the light guide plate 1. In this configuration, an optical sheet group 5 for diffusing and condensing light emitted from the light emitting surface 11 is installed in the upper surface opening of the frame 3.

本実施の形態のバックライトユニット２では、上述したように反射面１２に形成した光制御パターン１４を構成する多数の単位パターン４０の配列を縦横、斜めのいずれの方向でも不揃いにし、しかも、単位パターンの分布密度を反射面１２のどこでも同じにした導光板１を採用していて、この導光板１の発光面１１から一様な輝度分布の光を出射させることができるので、液晶表示装置を背面から照らすのにその全面を輝度ムラなく照らすことができ、輝度ムラのない表示が可能な液晶表示装置を実現できる。   In the backlight unit 2 of the present embodiment, as described above, the arrangement of the many unit patterns 40 constituting the light control pattern 14 formed on the reflecting surface 12 is uneven in both the vertical and horizontal directions, and the unit Since the light guide plate 1 having the same pattern distribution density everywhere on the reflection surface 12 is employed and light having a uniform luminance distribution can be emitted from the light emitting surface 11 of the light guide plate 1, the liquid crystal display device is Even when illuminated from the back, the entire surface can be illuminated without uneven brightness, and a liquid crystal display device capable of displaying without uneven brightness can be realized.

尚、第２の実施の形態の液晶表示装置用バックライトユニット２は、これ単体で平面形照明装置として用いることもできる。   Note that the backlight unit 2 for a liquid crystal display device according to the second embodiment can be used alone as a flat illumination device.

本発明の第１の実施の形態の導光板の平面図。The top view of the light-guide plate of the 1st Embodiment of this invention. 上記実施の形態の導光板の底面図。The bottom view of the light-guide plate of the said embodiment. 上記実施の形態の導光板において、光制御パターンの形成方法を示す説明図。Explanatory drawing which shows the formation method of a light control pattern in the light-guide plate of the said embodiment. 上記実施の形態の導光板において、光制御パターンに採用できる単位パターンとしての円柱形の凹部の説明図。In the light guide plate of the said embodiment, explanatory drawing of the cylindrical recessed part as a unit pattern which can be employ | adopted as a light control pattern. 上記実施の形態の導光板において、光制御パターンに採用できる単位パターンとしての円錐形の凹部の説明図。In the light guide plate of the said embodiment, explanatory drawing of the conical recessed part as a unit pattern which can be employ | adopted as a light control pattern. 上記実施の形態の導光板において、光制御パターンに採用できる単位パターンとしての円錐台形の凹部の説明図。In the light guide plate of the said embodiment, explanatory drawing of the truncated cone-shaped recessed part as a unit pattern employable as a light control pattern. 上記実施の形態の導光板において、光制御パターンに採用できる単位パターンとしてのムーンカットパターンの説明図。In the light-guide plate of the said embodiment, explanatory drawing of the moon cut pattern as a unit pattern which can be employ | adopted as a light control pattern. 上記実施の形態の導光板において、光制御パターンに採用できる単位パターンとしての別のムーンカットパターンの説明図。In the light-guide plate of the said embodiment, explanatory drawing of another moon cut pattern as a unit pattern which can be employ | adopted as a light control pattern. 上記実施の形態の導光板において、光制御パターンに採用できる単位パターンとしての印刷ドットの説明図。In the light guide plate of the said embodiment, explanatory drawing of the printing dot as a unit pattern which can be employ | adopted as a light control pattern. 本発明の第２の実施の形態の液晶表示装置用バックライトユニットの断面図。Sectional drawing of the backlight unit for liquid crystal display devices of the 2nd Embodiment of this invention. 上記第２の実施の形態の液晶表示装置用バックライトユニットの平面図。The top view of the backlight unit for liquid crystal display devices of the said 2nd Embodiment. 従来例の導光板の説明図。Explanatory drawing of the light-guide plate of a prior art example. 別の従来例の導光板の説明図。Explanatory drawing of the light-guide plate of another prior art example.

符号の説明Explanation of symbols

１ 導光板
２ バックライトユニット
３ フレーム
４ ＬＥＤ光源
５ 光学シート群
１１ 発光面
１２ 反射面
１３ 入光面
１４ 光制御パターン
４０ 単位パターン
４４ ムーンカットパターン
５１ 加工基準点
５２ 円 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Light guide plate 2 Backlight unit 3 Frame 4 LED light source 5 Optical sheet group 11 Light emission surface 12 Reflective surface 13 Light incident surface 14 Light control pattern 40 Unit pattern 44 Moon cut pattern 51 Processing reference point 52 yen

Claims (5)

一面を反射面とし、この反射面に対向する他面を発光面とし、前記反射面及び発光面に垂直な断面が長方形、台形若しくは楔形をし、少なくとも一側面を光を導入するための入光面とする導光板であって、
前記反射面には光制御パターンが形成され、
前記光制御パターンは、前記入光面から導光板内に入光した光を反射散乱させるための独立した多数の単位パターンが不揃いに、かつ、単位面積当たりのパターン密度が均一になる配置で形成されたものであることを特徴とする導光板。 One surface is a reflecting surface, the other surface facing the reflecting surface is a light emitting surface, and the cross section perpendicular to the reflecting surface and the light emitting surface is rectangular, trapezoidal, or wedge shaped, and at least one side is incident light for introducing light. A light guide plate as a surface,
A light control pattern is formed on the reflective surface,
The light control pattern is formed in an arrangement in which a large number of independent unit patterns for reflecting and scattering light entering the light guide plate from the light incident surface are uneven and the pattern density per unit area is uniform. A light guide plate characterized by being made. 前記光制御パターンは、前記反射面の並列配列若しくは千鳥配列の基準位置それぞれを中心に一定半径の規制範囲を設定し、各基準位置ごとに前記規制範囲内の任意の位置に前記単位パターンを形成したものであることを特徴とする請求項１に記載の導光板。   The light control pattern sets a restriction range with a fixed radius around each reference position of the parallel arrangement or staggered arrangement of the reflecting surfaces, and forms the unit pattern at an arbitrary position within the restriction range for each reference position. The light guide plate according to claim 1, wherein 前記単位パターンは、ムーンカットパターンであることを特徴とする請求項１又は２に記載の導光板。   The light guide plate according to claim 1, wherein the unit pattern is a moon cut pattern. 複数個の点光源と、
請求項１〜３のいずれかに記載の導光板であって、前記点光源からの光を前記入光面から導入し、前記反射面にて反射散乱させて前記発光面からその光を出射するように導光する導光板とを備えた照明装置。 A plurality of point light sources;
The light guide plate according to any one of claims 1 to 3, wherein light from the point light source is introduced from the light incident surface, reflected and scattered by the reflective surface, and emitted from the light emitting surface. The illuminating device provided with the light-guide plate which guides light. 複数個の点光源と、
請求項１〜３のいずれかに記載の導光板であって、前記点光源からの光を前記入光面から導入し、前記反射面にて反射散乱させて前記発光面からその光を出射するように導光する導光板とを備えた液晶表示装置用バックライトユニット。 A plurality of point light sources;
The light guide plate according to any one of claims 1 to 3, wherein light from the point light source is introduced from the light incident surface, reflected and scattered by the reflective surface, and emitted from the light emitting surface. A liquid crystal display backlight unit comprising a light guide plate for guiding light.
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