JP2008083394A - Optically anisotropic film and method for producing the same - Google Patents
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Abstract
【課題】光学異方性が制御された高分子フィルムにおいて、熱に対する安定性が改善された光学異方性フィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 重合性基とメソゲン基の両方を有する繰り返し単位と、光反応性基を有する繰り返し単位とを構成単位として含む高分子重合体を含む組成物を、光照射により光学異方性を発現させた後、前記重合性基を架橋してなることを特徴とする光学異方性フィルム。
【選択図】なしAn optically anisotropic film having improved heat stability in a polymer film with controlled optical anisotropy and a method for producing the same.
SOLUTION: A composition containing a high molecular weight polymer containing a repeating unit having both a polymerizable group and a mesogenic group and a repeating unit having a photoreactive group as constituent units is subjected to optical anisotropy by light irradiation. An optically anisotropic film obtained by allowing the polymerizable group to crosslink after being expressed.
[Selection figure] None
Description
本発明は、光照射によって光学異方性を発現されたフィルム、その製造方法に関する。 The present invention relates to a film that exhibits optical anisotropy by light irradiation and a method for producing the film.
ワードプロセッサやノートパソコン、パソコン用モニターなどのOA機器、携帯端末、テレビなどに用いられる画像表示装置としては、CRT(Cathode Ray Tube)がこれまで主に使用されてきた。近年、液晶表示装置が、薄型、軽量、且つ消費電力が小さいことからCRTの代わりに広く使用されてきている。そして、様々な高分子フィルムが、これらの画像表示装置に様々な用途で用いられるようになってきた。液晶表示装置は、液晶セルおよび偏光板を有する。偏光板は、通常、保護フィルムと偏光子とからなり、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光子をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。また、画像表示装置のコントラスト向上や視野角範囲の拡大を実現するのに、光学補償フィルムや位相差フィルムが、多くの場合に用いられている。そのような光学補償フィルムや位相差フィルムとしては、屈折率異方性を有する延伸フィルムや液晶化合物を配向させて重合したフィルムが用いられている。液晶化合物を配向させて重合したフィルムの例としては、高分子液晶のメソゲン側鎖の末端にスペーサーを介してオキセタニル基等の重合性基を導入した材料の配向状態を固定化して形成したフィルム等が知られている(特許文献1) CRT (Cathode Ray Tube) has been mainly used so far as an image display device used for OA devices such as word processors, notebook personal computers, personal computer monitors, portable terminals, and televisions. In recent years, liquid crystal display devices have been widely used instead of CRTs because of their thinness, light weight, and low power consumption. Various polymer films have been used for various applications in these image display devices. The liquid crystal display device has a liquid crystal cell and a polarizing plate. The polarizing plate is usually composed of a protective film and a polarizer, and is obtained by dyeing a polarizer composed of a polyvinyl alcohol film with iodine, stretching, and laminating both surfaces with a protective film. In addition, optical compensation films and retardation films are used in many cases in order to improve the contrast of image display devices and expand the viewing angle range. As such an optical compensation film or retardation film, a stretched film having refractive index anisotropy or a film obtained by aligning and polymerizing a liquid crystal compound is used. Examples of films obtained by aligning and polymerizing liquid crystal compounds include films formed by fixing the alignment state of a material in which a polymerizable group such as an oxetanyl group is introduced to the end of a mesogenic side chain of a polymer liquid crystal via a spacer. Is known (Patent Document 1)
近年、これらの液晶表示装置に用いられる高分子フィルムに関しては、液晶表示装置の視野角特性やコントラストをさらに高めるために、より精密な屈折率異方性の制御が求められている。同時に、製造面では製造コストの削減が課題となっている。このような現状において、前記延伸フィルムは、製造時の延伸方向が限定され、かつ精密な屈折率異方性の制御が難しいという問題を有している。一方、液晶化合物を配向させて重合したフィルムは、一般に配向膜、あるいは配向基板を用いて液晶化合物を配向させている。したがって、例えば、配向膜や配向基板を別途製造する必要があるため、製造工程が煩雑になるという問題を有している。さらに、精密な屈折率異方性の制御という観点においても、その屈折率異方性は前記配向膜、あるいは配向基板に大きく依存する。 In recent years, regarding polymer films used in these liquid crystal display devices, in order to further improve the viewing angle characteristics and contrast of the liquid crystal display devices, more precise control of refractive index anisotropy is required. At the same time, reducing manufacturing costs is an issue in terms of manufacturing. Under such circumstances, the stretched film has a problem that the stretching direction during production is limited and it is difficult to precisely control the refractive index anisotropy. On the other hand, a film obtained by aligning and polymerizing a liquid crystal compound generally aligns the liquid crystal compound using an alignment film or an alignment substrate. Therefore, for example, since it is necessary to separately manufacture an alignment film and an alignment substrate, there is a problem that the manufacturing process becomes complicated. Furthermore, also from the viewpoint of precise control of refractive index anisotropy, the refractive index anisotropy largely depends on the alignment film or the alignment substrate.
そこで、近年、配向膜や配向基板を必要としない、屈折率異方性を有するフィルムの製造方法が開発されている。例えば、アゾベンゼン等の光異性化基を有する高分子化合物からなるフィルム、あるいは該高分子化合物と液晶化合物からなるフィルムに偏光を斜め方向から照射し、屈折率異方性を有するフィルムを製造する方法が知られている(例えば、特許文献2、3)。しかしながら、このように製造されたフィルムでは、前記光異性化基の配向や前記液晶化合物の配向が固定化されておらず、安定性の面で問題を有していた。 Therefore, in recent years, a method for producing a film having refractive index anisotropy that does not require an alignment film or an alignment substrate has been developed. For example, a method for producing a film having refractive index anisotropy by irradiating a film made of a polymer compound having a photoisomerizable group such as azobenzene, or a film made of the polymer compound and a liquid crystal compound from an oblique direction. Is known (for example, Patent Documents 2 and 3). However, the film produced in this manner has a problem in terms of stability because the orientation of the photoisomerization group and the orientation of the liquid crystal compound are not fixed.
次に、架橋性基を有する液晶性モノマー(あるいはプレポリマー)と光反応性モノマー(あるいはオリゴマー、ポリマー)からなる混合物のフィルム状成形物に偏光を照射し、前記液晶モノマーを光配向させた後、再び光照射により該液晶モノマーを架橋して、その配向状態を固定化する屈折率異方性を有するフィルムの製造方法が知られている(例えば、特許文献4)。しかしながら、この方法では、偏光照射時に前記液晶モノマーの一部が重合してしまい、得られたフィルムの光学特性に問題が生じる問題がおこる場合がある。そのような問題を解決するために、偏光照射時に前記液晶モノマーの重合反応を抑える状態で光反応性モノマーを反応させる方法が採用されるが、このような方法は製造工程が煩雑になるとともに、得られたフィルムの架橋が十分でなく、傷つきやすくなる等の問題があると言われている。 Next, after irradiating polarized light to a film-like molded product of a mixture comprising a liquid crystal monomer (or prepolymer) having a crosslinkable group and a photoreactive monomer (or oligomer or polymer), the liquid crystal monomer is photo-aligned. A method for producing a film having refractive index anisotropy in which the liquid crystal monomer is cross-linked again by light irradiation to fix the alignment state is known (for example, Patent Document 4). However, this method may cause a problem that a part of the liquid crystal monomer is polymerized at the time of irradiation of polarized light, causing a problem in the optical characteristics of the obtained film. In order to solve such a problem, a method of reacting a photoreactive monomer in a state in which the polymerization reaction of the liquid crystal monomer is suppressed at the time of polarized light irradiation is adopted. It is said that there is a problem that the obtained film is not sufficiently crosslinked and easily damaged.
一方、液晶ポリマーと光反応性化合物との混合物のフィルム状成形物を準備し、該フィルム状成形物に光を照射して前記光反応性化合物の分子構造を変化させ、前記液晶ポリマーが液晶状態を示す温度以上に加熱することにより液晶ポリマーを配向させた後、前記液晶ポリマーが液晶状態を示す温度未満に冷却して、その配向状態を固定する光学フィルムの製造方法が報告されている(例えば、特許文献5)。しかしながら、このような方法で製造された光学フィルムは、熱に対する安定性が弱く、液晶状態を示す温度以上に加熱すると屈折率異方性が減少、消失する等の問題を有していた。 On the other hand, a film-like molded product of a mixture of a liquid crystal polymer and a photoreactive compound is prepared, and the film-like molded product is irradiated with light to change the molecular structure of the photoreactive compound, so that the liquid crystal polymer is in a liquid crystal state. A method for producing an optical film in which a liquid crystal polymer is aligned by heating to a temperature higher than or equal to the temperature of the liquid crystal polymer and then cooled below the temperature at which the liquid crystal polymer exhibits a liquid crystal state to fix the alignment state (for example, Patent Document 5). However, the optical film produced by such a method has a problem that the stability to heat is weak and the refractive index anisotropy is reduced and disappears when heated to a temperature higher than the liquid crystal state.
さらに、メソゲン側鎖の末端にスペーサーを介して、あるいは直接シンナモイル基等の光反応性基を導入した高分子液晶において、偏光を照射した後、アニーリングを施すことにより再配向させてなる屈折率異方性を有するフィルムが開示されている(例えば、特許文献6〜8等)。しかしながら、これらの方法に関しても、アニーリングを施すことにより再配向できることから明らかなように、加熱によりその光学特性が大きく変動することから、熱に対する安定性が本質的に低い点が問題となる。 Furthermore, in a polymer liquid crystal in which a photoreactive group such as a cinnamoyl group is directly introduced through a spacer at the end of a mesogenic side chain, the refractive index is changed by reorienting by irradiating polarized light and then annealing. An anisotropic film is disclosed (for example, Patent Documents 6 to 8). However, with respect to these methods as well, as apparent from the fact that reorientation can be carried out by annealing, the optical characteristics greatly fluctuate due to heating, so that the stability to heat is essentially low.
本発明は、上記課題を解決することを目的とするものであって、光学異方性が制御された高分子フィルムにおいて、熱に対する安定性が改善された光学異方性フィルムおよびその製造方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide an optically anisotropic film having improved stability to heat in a polymer film with controlled optical anisotropy, and a method for producing the same, in order to solve the above-described problems. Is to provide.
かかる状況のもと、本発明者が鋭意検討した結果、下記手段により上記課題を解決しうることを見出した。
(1)重合性基とメソゲン基の両方を有する繰り返し単位と、光反応性基を有する繰り返し単位とを構成単位として含む高分子重合体を含む組成物。
(2)前記重合性基とメソゲン基の両方を有する繰り返し単位が下記一般式(1)で表される繰り返し単位である、(1)に記載の組成物。
一般式(1)
Under such circumstances, as a result of intensive studies by the present inventors, it has been found that the above-described problems can be solved by the following means.
(1) A composition comprising a high molecular weight polymer comprising as a constituent unit a repeating unit having both a polymerizable group and a mesogenic group and a repeating unit having a photoreactive group.
(2) The composition according to (1), wherein the repeating unit having both the polymerizable group and the mesogenic group is a repeating unit represented by the following general formula (1).
General formula (1)
(3)前記重合性基が、カチオン重合性基である、(1)または(2)に記載の組成物。
(4)前記重合性基が、環状エーテル基、オキセタニル基またはビニルエーテル基である、(1)または(2)に記載の組成物。
(5)前記光反応性基を有する繰り返し単位が下記一般式(2)で表される繰り返し単位である、(1)〜(4)のいずれか1項に記載の組成物。
一般式(2)
(3) The composition according to (1) or (2), wherein the polymerizable group is a cationic polymerizable group.
(4) The composition according to (1) or (2), wherein the polymerizable group is a cyclic ether group, an oxetanyl group or a vinyl ether group.
(5) The composition according to any one of (1) to (4), wherein the repeating unit having the photoreactive group is a repeating unit represented by the following general formula (2).
General formula (2)
(6)前記光反応性基を有する繰り返し単位が下記一般式(3)で表される繰り返し単位であることを特徴とする、(1)〜(4)のいずれか1項に記載の組成物。
一般式(3)
(6) The composition according to any one of (1) to (4), wherein the repeating unit having a photoreactive group is a repeating unit represented by the following general formula (3): .
General formula (3)
(7)(1)〜(6)のいずれか1項に記載の組成物を、光照射により光学異方性を発現させた後、前記重合性基を架橋してなることを特徴とする光学異方性フィルム。
(8)偏光子と、該偏光子の少なくとも片面に設けられた保護フィルムを有し、該保護フィルムが、(7)に記載の光学異方性フィルムを有する、偏光板。
(9)(7)に記載の光学異方性フィルム、または、(8)に記載の偏光板を有する液晶表示装置。
(10)重合性基とメソゲン基の両方を有する繰り返し単位と、光反応性基を有する繰り返し単位を構成単位として含む高分子重合体を含む組成物を膜状に形成する工程、該膜状に形成した組成物に光を照射する工程、該光を照射した組成物に架橋重合開始剤を塗布する工程、および、重合性基を架橋させる工程を含む、光学異方性フィルムの製造方法。
(11)前記架橋重合開始剤が光酸発生剤である、(10)に記載の光学異方性フィルムの製造方法。
(12)前記光照射工程の後に熱処理を施す工程を含む、(10)または(11)に記載の光学異方性フィルムの製造方法。
(13)前記膜状に成形する工程において、前記組成物を含む溶液を吹き付けることにより膜状とすることを特徴とする(10)〜(12)のいずれか1項に記載の光学異方性フィルムの製造方法。
(14)下記一般式(1)で表される繰り返し単位と、下記一般式(2)で表される繰り返し単位とを構成単位として含む高分子重合体。
一般式(1)
(7) An optical device comprising the composition according to any one of (1) to (6), wherein optical anisotropy is expressed by light irradiation, and then the polymerizable group is crosslinked. Anisotropic film.
(8) A polarizing plate having a polarizer and a protective film provided on at least one surface of the polarizer, and the protective film having the optically anisotropic film according to (7).
(9) A liquid crystal display device having the optically anisotropic film according to (7) or the polarizing plate according to (8).
(10) A step of forming into a film a composition comprising a repeating unit having both a polymerizable group and a mesogenic group, and a polymer comprising a repeating unit having a photoreactive group as a constituent unit. A method for producing an optically anisotropic film, comprising: irradiating a formed composition with light; applying a crosslinking polymerization initiator to the composition irradiated with light; and crosslinking a polymerizable group.
(11) The method for producing an optically anisotropic film according to (10), wherein the crosslinking polymerization initiator is a photoacid generator.
(12) The method for producing an optically anisotropic film according to (10) or (11), including a step of performing a heat treatment after the light irradiation step.
(13) The optical anisotropy according to any one of (10) to (12), wherein in the step of forming into a film, the film is formed by spraying a solution containing the composition. A method for producing a film.
(14) A polymer comprising a repeating unit represented by the following general formula (1) and a repeating unit represented by the following general formula (2) as constituent units.
General formula (1)
一般式(2)
General formula (2)
本発明では、光学特性と安定性に優れた光学異方性フィルムを提供することが可能になった。 In the present invention, it is possible to provide an optically anisotropic film excellent in optical properties and stability.
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
また、本願明細書において、重合体には、1種類のモノマーからなる重合体のほか、2種類以上のモノマーからなるいわゆる共重合体も含む趣旨である。
本発明において、アルキル基等の「基」は、特に述べない限り、置換基を有していてもよいし、置換基を有していなくてもよい。よって、例えば、「炭素数A〜Bのアルキル基」と言う場合、該アルキル基は、置換基を有していてもよいし、有していなくてもよい。また、置換基を有する場合は、該置換基の数も、炭素数AおよびBに含まれると解釈する。
Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail. In the present specification, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.
In the present specification, the polymer includes not only a polymer composed of one type of monomer but also a so-called copolymer composed of two or more types of monomers.
In the present invention, a “group” such as an alkyl group may have a substituent or may not have a substituent unless otherwise specified. Therefore, for example, in the case of “an alkyl group having a carbon number of A to B”, the alkyl group may or may not have a substituent. Moreover, when it has a substituent, it interprets that the number of this substituent is also contained in carbon number A and B.
本発明の光学異方性フィルムは、重合性基とメソゲン基の両方を有する繰り返し単位と、光反応性基を有する繰り返し単位をその構成単位として少なくとも含む高分子重合体(以下、「本発明で用いる高分子重合体」ということがある)からなる組成物において、光照射により光学異方性を発現させた後、該重合性基を架橋してなることを特徴とする。
ここで、本発明で用いる高分子重合体には、重合性基とメソゲン基の両方を有する繰り返し単位と、光反応性基を有する繰り返し単位とが、直接または連結基を介して連結したものを1の繰り返し単位(すなわち、1種類のモノマー由来の繰り返し単位)として含む高分子重合体も含む。
The optically anisotropic film of the present invention comprises a polymer having at least a repeating unit having both a polymerizable group and a mesogenic group and a repeating unit having a photoreactive group as its constituent unit (hereinafter referred to as “in the present invention”). A composition comprising “a high-molecular polymer to be used”) is characterized in that it exhibits optical anisotropy by light irradiation and then crosslinks the polymerizable group.
Here, the high molecular polymer used in the present invention is obtained by connecting a repeating unit having both a polymerizable group and a mesogenic group and a repeating unit having a photoreactive group, directly or via a linking group. Also included is a polymer comprising one repeating unit (that is, a repeating unit derived from one type of monomer).
高分子とは一般に分子量が10000以上のものを指し、分子量が1000以上10000未満の化合物は準高分子として扱われる。また、その重合度が2〜20ぐらいのものをオリゴマーとよび、高分子とは区別されている(岩波理化学辞典、第3版増補版、玉虫文一ら編集、449頁、岩波書店、1982)。しかしながら、本発明において高分子とは、準高分子を含み、分子量が1000以上で、かつ重合度が20以上のものを指すこととする。 A polymer generally refers to a polymer having a molecular weight of 10,000 or more, and a compound having a molecular weight of 1,000 or more and less than 10,000 is treated as a quasi-polymer. Also, those having a degree of polymerization of about 2 to 20 are called oligomers, and are distinguished from polymers (Iwanami Rikagaku Dictionary, 3rd edition supplement edition, edited by Tamamichi Bunichi et al., Page 449, Iwanami Shoten, 1982). . However, in the present invention, a polymer includes a quasi-polymer, a molecular weight of 1000 or more, and a degree of polymerization of 20 or more.
本発明で用いる高分子重合体の、重合性基とメソゲン基の両方を有する繰り返し単位において、重合性基としては特に限定されないが、カチオン重合する重合性基が好ましい。カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、ビニルオキシ基などを挙げることができる。好適なものとして、例えば、オキセタン環を挙げることができる。なかでも脂環式エーテル基、ビニルオキシ基が好適であり、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルオキシ基が特に好ましい。 In the repeating unit having both a polymerizable group and a mesogenic group in the polymer used in the present invention, the polymerizable group is not particularly limited, but a polymerizable group that undergoes cationic polymerization is preferable. As the cationic polymerizable group, generally known cationic polymerizable groups can be used. Specifically, alicyclic ether group, cyclic acetal group, cyclic lactone group, cyclic thioether group, spiro orthoester group, vinyloxy group Examples include groups. As a suitable thing, an oxetane ring can be mentioned, for example. Of these, alicyclic ether groups and vinyloxy groups are preferred, and epoxy groups, oxetanyl groups, and vinyloxy groups are particularly preferred.
本発明で用いる高分子重合体の、重合性基とメソゲン基の両方を有する繰り返し単位において、メソゲン基とは一般に液晶化合物における剛直部位を指す。ただし、本発明で用いる高分子重合体が必ずしも液晶性を有する必要はない。メソゲン基としては、Makromol.Chem.,190巻、2255頁(1989年)、Advanced Materials 5巻、107頁(1993年)などに記載の構造を用いることができる。
より好ましくは、下記一般式(4)にて表されるメソゲン基である。
In the repeating unit having both a polymerizable group and a mesogenic group in the polymer used in the present invention, the mesogenic group generally refers to a rigid site in a liquid crystal compound. However, the polymer used in the present invention does not necessarily have liquid crystallinity. As the mesogenic group, the structures described in Makromol. Chem., 190, 2255 (1989), Advanced Materials, 5, 107 (1993) and the like can be used.
More preferably, it is a mesogenic group represented by the following general formula (4).
一般式(4) General formula (4)
一般式(4)中、L1またはL2は、好ましくは、それぞれ、−O−、−S−、−CO−、−NR4−、二価の鎖状基、二価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基、または、単結合である。上記R4は、炭素数1〜7のアルキル基または水素原子であり、炭素数1〜4のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが最も好ましい。
二価の鎖状基は、アルキレン基、アルケニレン基またはアルキニレン基が好ましく、これらは、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子が好ましい。アルキレン基またはアルケニレン基が好ましく、無置換のアルキレン基または無置換のアルケニレン基がさらに好ましい。アルキレン基は、分岐を有していてもよい。アルキレン基の炭素数は1〜12であることが好ましく、2〜10であることがより好ましく、2〜8であることがさらに好ましい。アルケニレン基は、分岐を有していてもよい。アルケニレン基の炭素数は2〜12であることが好ましく、2〜10であることがより好ましく、2〜8であることがさらに好ましい。
In the general formula (4), L 1 or L 2 is preferably —O—, —S—, —CO—, —NR 4 —, a divalent chain group, a divalent cyclic group and the like, respectively. A divalent linking group selected from the group consisting of: or a single bond. R 4 is an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms or a hydrogen atom, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydrogen atom, and more preferably a methyl group, an ethyl group or a hydrogen atom. The hydrogen atom is most preferred.
The divalent chain group is preferably an alkylene group, an alkenylene group or an alkynylene group, and these may have a substituent. As the substituent, a halogen atom is preferable. An alkylene group or an alkenylene group is preferable, and an unsubstituted alkylene group or an unsubstituted alkenylene group is more preferable. The alkylene group may have a branch. The alkylene group preferably has 1 to 12 carbon atoms, more preferably 2 to 10 carbon atoms, and still more preferably 2 to 8 carbon atoms. The alkenylene group may have a branch. The alkenylene group preferably has 2 to 12 carbon atoms, more preferably 2 to 10 carbon atoms, and still more preferably 2 to 8 carbon atoms.
アルキニレン基は、分岐を有していてもよい。アルキニレン基の炭素数は2〜12であることが好ましく、2〜10であることがより好ましく、2〜8であることがさらに好ましい。
二価の鎖状基の具体例としては、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、2−メチル−テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、2−ブテニレン基、2−ブチニレン基などが挙げられる。
二価の環状基は、後述するCy1、Cy2およびCy3と同義であり、好ましい範囲も同様である。
The alkynylene group may have a branch. The alkynylene group preferably has 2 to 12 carbon atoms, more preferably 2 to 10 carbon atoms, and still more preferably 2 to 8 carbon atoms.
Specific examples of the divalent chain group include ethylene group, trimethylene group, propylene group, tetramethylene group, 2-methyl-tetramethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, octamethylene group, 2-butenylene group, 2-butynylene group etc. are mentioned.
Divalent cyclic group has the same meaning as Cy 1, Cy 2 and Cy 3 to be described later, a preferred range is also the same.
一般式(4)においてpは、0または1であることが好ましい。 In the general formula (4), p is preferably 0 or 1.
一般式(4)において、Cy1、Cy2およびCy3は、それぞれ独立に二価の環状基である。環状基に含まれる環は、5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることがより好ましく、6員環であることがさらに好ましい。環状基に含まれる環は、単環でも縮合環でもよく、単環が好ましい。環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。ベンゼン環を有する環状基としては、1,4−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−1,5−ジイル基およびナフタレン−2,6−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては1,4−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−2,5−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−2,5−ジイル基が好ましい。
環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜5のアルキル基、ハロゲン原子で置換された炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数1〜5のアルキルチオ基、炭素数2〜6のアシルオキシ基、炭素数2〜6のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素数2〜6のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素数が2〜6のアシルアミノ基が含まれる。
In the general formula (4), Cy 1 , Cy 2 and Cy 3 are each independently a divalent cyclic group. The ring contained in the cyclic group is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring, and even more preferably a 6-membered ring. The ring contained in the cyclic group may be a single ring or a condensed ring, and is preferably a single ring. The ring included in the cyclic group may be an aromatic ring, an aliphatic ring, or a heterocyclic ring. Examples of the aromatic ring include a benzene ring and a naphthalene ring. Examples of the aliphatic ring include a cyclohexane ring. Examples of the heterocyclic ring include a pyridine ring and a pyrimidine ring. As the cyclic group having a benzene ring, a 1,4-phenylene group is preferable. As the cyclic group having a naphthalene ring, a naphthalene-1,5-diyl group and a naphthalene-2,6-diyl group are preferable. The cyclic group having a cyclohexane ring is preferably a 1,4-cyclohexylene group. The cyclic group having a pyridine ring is preferably a pyridine-2,5-diyl group. The cyclic group having a pyrimidine ring is preferably a pyrimidine-2,5-diyl group.
The cyclic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms substituted with a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, carbon An alkylthio group having 1 to 5 carbon atoms, an acyloxy group having 2 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, a carbamoyl group, a carbamoyl group substituted with an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms, and 2 to 2 carbon atoms 6 acylamino groups are included.
より具体的には、重合性基とメソゲン基の両方を有する繰り返し単位は、下記一般式(1)で表される繰り返し単位であることが好ましい。
一般式(1)
More specifically, the repeating unit having both a polymerizable group and a mesogenic group is preferably a repeating unit represented by the following general formula (1).
General formula (1)
R1が置換基を表す場合、アルキル基またはハロゲン基を好ましい例として挙げることができる。
R1は、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、クロロ基が好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、クロロ基がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。
S1、S2は、好ましくは、それぞれ独立して、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、2価の複素環残基、−CO−、−NR5−(R5は炭素数が1〜6のアルキル基または水素原子)、−O−、−S−、−SO−、−SO2−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基であることが好ましい。アルキレン基の炭素数は、1〜12であることが好ましい。アルケニレン基の炭素数は、2〜12であることが好ましい。アリーレン基の炭素数は、6〜10であることが好ましい。アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレン基は、可能であれば、置換基(アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アシルオキシ基等)によって置換されていてもよいが、無置換であることが好ましい。
S1、S2としては、−O−、−CO−、−NR5−(R5は炭素数が1〜6のアルキル基または水素原子)、アルキレン基またはアリーレン基を含んでいることが好ましく、−O−、アルキレン基またはアリーレン基を含んでいることが特に好ましい。さらに、S1、S2は、−O−、アルキレン基またはアリーレン基のみから構成されていることが好ましい。
Mはメソゲン基、P1は重合性基を示す。メソゲン基、重合性基に関しては前述のメソゲン基および重合性基の説明と同義であり、好ましい範囲も同義である。
When R 1 represents a substituent, an alkyl group or a halogen group can be mentioned as a preferred example.
R 1 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a chloro group, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a chloro group, and even more preferably a hydrogen atom.
S 1 and S 2 are preferably each independently an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, a divalent heterocyclic residue, —CO—, —NR 5 — (R 5 has 1 to 6 carbon atoms). A divalent linking group selected from the group consisting of —O—, —S—, —SO—, —SO 2 — and combinations thereof. The alkylene group preferably has 1 to 12 carbon atoms. The alkenylene group preferably has 2 to 12 carbon atoms. The arylene group preferably has 6 to 10 carbon atoms. The alkylene group, alkenylene group and arylene group may be substituted with a substituent (such as an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, an alkoxy group, or an acyloxy group) if possible, but is preferably unsubstituted. .
S 1 and S 2 preferably include —O—, —CO—, —NR 5 — (R 5 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a hydrogen atom), an alkylene group, or an arylene group. , -O-, an alkylene group or an arylene group is particularly preferred. Further, S 1 and S 2 are preferably composed only of —O—, an alkylene group or an arylene group.
M represents a mesogenic group, and P 1 represents a polymerizable group. The mesogenic group and the polymerizable group are the same as those described above for the mesogenic group and the polymerizable group, and the preferred range is also the same.
本発明で用いる高分子重合体の光反応性基を有する繰り返し単位において、光反応性基とは、例えば、単一方向からの光の照射によって官能基の化学構造または該官能基を有する分子の配向状態に変化が起こり、これにより分子の異方性を特定の方向へ変化させることができる官能基を指す。
具体的には、クマリン誘導体、スチリルピリジン誘導体、アゾベンゼン誘導体、桂皮酸誘導体、カルコン誘導体、スチルベン類、α−ヒドラゾノ−β−ケトエステル類、ベンジリデンフタルイミジン類、レチノイン酸誘導体、スピロピラン類、スピロオキサジン類、アントラセン誘導体、ベンゾフェノン誘導体が好ましく用いられ、桂皮酸誘導体、カルコン誘導体がより好ましく、桂皮酸誘導体が特に好ましい。
In the repeating unit having a photoreactive group of the polymer used in the present invention, the photoreactive group is, for example, a chemical structure of a functional group or a molecule having the functional group by irradiation with light from a single direction. It refers to a functional group that can change the orientation state and thereby change the anisotropy of the molecule in a specific direction.
Specifically, coumarin derivatives, styrylpyridine derivatives, azobenzene derivatives, cinnamic acid derivatives, chalcone derivatives, stilbenes, α-hydrazono-β-ketoesters, benzylidenephthalimidines, retinoic acid derivatives, spiropyrans, spirooxazines Anthracene derivatives and benzophenone derivatives are preferably used, cinnamic acid derivatives and chalcone derivatives are more preferable, and cinnamic acid derivatives are particularly preferable.
光反応性基を有する繰り返し単位としては、下記一般式(2)で表される繰り返し単位であることが好ましい。
一般式(2)
The repeating unit having a photoreactive group is preferably a repeating unit represented by the following general formula (2).
General formula (2)
R1が置換基を表す場合、アルキル基、ハロゲン基が好ましい例として挙げることができる。R1は、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、クロロ基が好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、クロロ基がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。 When R 1 represents a substituent, an alkyl group and a halogen group can be mentioned as preferred examples. R 1 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a chloro group, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a chloro group, and even more preferably a hydrogen atom.
Y1は酸素原子または−NR2−(R2は、水素原子またはアルキル基(好ましくは、炭素数1〜6のアルキル基)を示す。)を表し、酸素原子または−NH−であることが好ましく、酸素原子であることがより好ましい。 Y 1 represents an oxygen atom or —NR 2 — (R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms)), and may be an oxygen atom or —NH—. Preferably, it is an oxygen atom.
Ar1は、ベンゼン環、チオフェン環、フラン環、ナフタレン環が好ましく、ベンゼン環がより好ましい。 Ar 1 is preferably a benzene ring, a thiophene ring, a furan ring, or a naphthalene ring, and more preferably a benzene ring.
Ar1が置換基を有する場合、該置換基としては、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシル基、炭素数1〜6のアルキルチオ基、炭素数1〜6のアルキルカルボニル基、炭素数1〜6のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数1〜6のアルキルカルボニルチオ基、炭素数1〜6のアルキルカルボニルアミノ基、ハロゲン基、シアノ基、ニトロ基、シアノ基等を挙げることができ、より好ましい置換基としてはメチル基、エチル基、メトキシ基、フッ素基、クロロ基、ブロモ基、シアノ基を挙げることができる。 When Ar 1 has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms, and an alkylcarbonyl having 1 to 6 carbon atoms. Group, C1-C6 alkylcarbonyloxy group, C1-C6 alkylcarbonylthio group, C1-C6 alkylcarbonylamino group, halogen group, cyano group, nitro group, cyano group, etc. More preferred substituents include methyl, ethyl, methoxy, fluorine, chloro, bromo, and cyano groups.
これらの置換基は、他の置換基によって、置換されていても良く、この場合の好ましい置換基も上述と同義である。また、置換基を2つ以上有する場合は、それぞれの置換基は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には置換基同士が互いに結合して環を形成していてもよい。 These substituents may be substituted with other substituents, and preferred substituents in this case are also as defined above. Moreover, when it has two or more substituents, each substituent may be the same or different. If possible, the substituents may be bonded to each other to form a ring.
Ar2は、ベンゼン環、フラン環、ナフタレン環が好ましく、ベンゼン環がより好ましい。Ar2が置換基を有する場合の置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシル基、アルキルチオ基、アルキルカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキルカルボニルチオ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルキルオキシカルボニルオキシ基、アルキルオキシカルボニルチオ基、アルキルオキシカルボニルアミノ基、アルキルチオカルボニルオキシ基、アルキルアミノカルボニルアミノ基、アルキルアミノカルボニルオキシ基、ハロゲン基、シアノ基、ニトロ基、アリール基等を挙げることができ、より好ましい置換基としては炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシル基、炭素数1〜20のアルキルチオ基、炭素数1〜20のアルキルカルボニル基、炭素数1〜20のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数1〜20のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数1〜20のアルキルオキシカルボニルオキシ基、炭素数1〜20のアルキルオキシカルボニルチオ基、炭素数1〜20のアルキルオキシカルボニルアミノ基、炭素数1〜20のアルキルアミノカルボニルオキシ基、フッ素基、クロロ基、ブロモ基、シアノ基、ニトロ基等を挙げることができる。
これらの置換基は、他の置換基によって、置換されていても良く、この場合の好ましい置換基も上述と同義である。また、置換基を2つ以上有する場合は、それぞれの置換基は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には置換基同士が互いに結合して環を形成していてもよい。
Ar 2 is preferably a benzene ring, a furan ring, or a naphthalene ring, and more preferably a benzene ring. When Ar 2 has a substituent, examples of the substituent include alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, alkoxyl group, alkylthio group, alkylcarbonyl group, alkylcarbonyloxy group, alkylcarbonylthio group, alkylcarbonylamino group, alkyloxy group Examples include carbonyloxy group, alkyloxycarbonylthio group, alkyloxycarbonylamino group, alkylthiocarbonyloxy group, alkylaminocarbonylamino group, alkylaminocarbonyloxy group, halogen group, cyano group, nitro group, and aryl group. More preferred substituents are alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, alkoxyl groups having 1 to 20 carbon atoms, alkylthio groups having 1 to 20 carbon atoms, alkylcarbonyl groups having 1 to 20 carbon atoms, and 1 to 20 carbon atoms. Alkylca A bonyloxy group, an alkylcarbonylamino group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyloxycarbonyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyloxycarbonylthio group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyloxycarbonylamino group having 1 to 20 carbon atoms, Examples thereof include an alkylaminocarbonyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, a fluorine group, a chloro group, a bromo group, a cyano group, and a nitro group.
These substituents may be substituted with other substituents, and preferred substituents in this case are also as defined above. Moreover, when it has two or more substituents, each substituent may be the same or different. If possible, the substituents may be bonded to each other to form a ring.
nは1〜3の整数を表し、1または2であることが好ましい。 n represents an integer of 1 to 3, and is preferably 1 or 2.
上記一般式(2)で表される繰り返し単位のうち、特に好ましいものは、下記一般式(3)で表される繰り返し単位である。
一般式(3)
Among the repeating units represented by the general formula (2), particularly preferred are repeating units represented by the following general formula (3).
General formula (3)
R1、Y1に関する説明は上記一般式(2)で述べたものと同義であり、好ましい範囲も同義である。
R3は、置換基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシル基、炭素数1〜6のアルキルチオ基、炭素数1〜6のアルキルカルボニル基、炭素数1〜6のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数1〜6のアルキルカルボニルチオ基、炭素数1〜6のアルキルカルボニルアミノ基、ハロゲン基、シアノ基、ニトロ基、シアノ基等を挙げることができ、特に好ましい置換基としてはメチル基、エチル基、メトキシ基、フッ素基、クロロ基、ブロモ基、シアノ基を挙げることができる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
The explanation about R 1 and Y 1 is synonymous with that described in the general formula (2), and the preferred range is also synonymous.
R 3 represents a substituent, and preferred substituents include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms, and an alkylcarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms. , An alkylcarbonyloxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylcarbonylthio group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylcarbonylamino group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen group, a cyano group, a nitro group, a cyano group, and the like. Particularly preferred substituents include methyl group, ethyl group, methoxy group, fluorine group, chloro group, bromo group and cyano group.
These substituents may be further substituted with these substituents. Moreover, when it has two or more substituents, they may be the same or different. If possible, they may be bonded to each other to form a ring.
Ar3は、ベンゼン環、フラン環、ナフタレン環を示し、ベンゼン環が好ましい。Ar3が置換基を有する場合、置換基としてはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシル基、アルキルチオ基、アルキルカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキルカルボニルチオ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルキルオキシカルボニルオキシ基、アルキルオキシカルボニルチオ基、アルキルオキシカルボニルアミノ基、アルキルチオカルボニルオキシ基、アルキルアミノカルボニルアミノ基、アルキルアミノカルボニルオキシ基、ハロゲン基、シアノ基、ニトロ基、アリール基等を挙げることができ、特に好ましい置換基としては炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシル基、炭素数1〜20のアルキルチオ基、炭素数1〜20の、炭素数1〜20のアルキルカルボニル基、炭素数1〜20のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数1〜20のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数1〜20のアルキルオキシカルボニルオキシ基、アルキルオキシカルボニルチオ基、アルキルオキシカルボニルアミノ基、炭素数1〜20のアルキルアミノカルボニルオキシ基、フッ素基、クロロ基、ブロモ基、シアノ基、ニトロ基等を挙げることができる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
Ar 3 represents a benzene ring, a furan ring, or a naphthalene ring, and a benzene ring is preferable. When Ar 3 has a substituent, examples of the substituent include alkyl, alkenyl, alkynyl, alkoxyl, alkylthio, alkylcarbonyl, alkylcarbonyloxy, alkylcarbonylthio, alkylcarbonylamino, alkyloxycarbonyl Oxy group, alkyloxycarbonylthio group, alkyloxycarbonylamino group, alkylthiocarbonyloxy group, alkylaminocarbonylamino group, alkylaminocarbonyloxy group, halogen group, cyano group, nitro group, aryl group, etc. Particularly preferred substituents are alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, alkoxyl groups having 1 to 20 carbon atoms, alkylthio groups having 1 to 20 carbon atoms, alkylcarbonyl groups having 1 to 20 carbon atoms and 1 to 20 carbon atoms, 1 to 1 carbon 0 alkylcarbonyloxy group, C1-C20 alkylcarbonylamino group, C1-C20 alkyloxycarbonyloxy group, alkyloxycarbonylthio group, alkyloxycarbonylamino group, C1-C20 alkylamino Examples thereof include a carbonyloxy group, a fluorine group, a chloro group, a bromo group, a cyano group, and a nitro group.
These substituents may be further substituted with these substituents. Moreover, when it has two or more substituents, they may be the same or different. If possible, they may be bonded to each other to form a ring.
mは0〜4の整数を表す。なお、mが2〜4の整数である場合、複数あるR3はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。mは、好ましくは0〜2の整数である。 m represents an integer of 0 to 4. In addition, when m is an integer of 2-4, several R < 3 > may be same or different, respectively. m is preferably an integer of 0 to 2.
本発明で用いる高分子重合体の構成に用いることができる重合性モノマーは、既知の合成方法を用い、合成することができる。例えば下記の合成スキーム1に示す方法を例に挙げることができる。
スキーム1
The polymerizable monomer that can be used in the constitution of the polymer used in the present invention can be synthesized using a known synthesis method. For example, the method shown in the following synthesis scheme 1 can be mentioned as an example.
Scheme 1
上記スキーム1において、X1およびX2は離脱基を示す。好ましい離脱基の例としては、ハロゲン原子、メシル基、トシル基等を挙げることができる。その他、R1、Y1、Ar1、Ar2およびnは、前記一般式(1)の定義と同義である。 In the above scheme 1, X 1 and X 2 represents a leaving group. Examples of preferred leaving groups include halogen atoms, mesyl groups, tosyl groups and the like. In addition, R 1 , Y 1 , Ar 1 , Ar 2 and n have the same definition as in the general formula (1).
工程1において、式S−2で示される化合物を溶媒に溶解し、塩基存在下において式S−1で示される化合物と反応させることにより式S−3で示される中間体を合成する。溶媒としては、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒、ジクロロメタン等のハロゲン系溶媒が好適である。塩基は、無機、有機いずれの塩基が採用できるが、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等の無期塩基が好適である。塩基の使用量は、S−1に対して0.5〜10当量の範囲で用いることが好ましく、0.7〜2量の範囲で用いることがさらに好ましい。反応温度は、通常、−10℃から溶媒の沸点であり、0℃から室温がさらに好ましい。反応温度は、通常、10分〜1日間であり、好ましくは1時間〜12時間である。 In step 1, the compound represented by formula S-2 is dissolved in a solvent and reacted with the compound represented by formula S-1 in the presence of a base to synthesize an intermediate represented by formula S-3. As the solvent, ether solvents such as tetrahydrofuran, amide solvents such as dimethylacetamide, and halogen solvents such as dichloromethane are suitable. As the base, any of inorganic and organic bases can be adopted, but organic bases such as triethylamine and diisopropylethylamine, and indefinite bases such as potassium carbonate and potassium hydrogen carbonate are suitable. The amount of the base used is preferably in the range of 0.5 to 10 equivalents relative to S-1, and more preferably in the range of 0.7 to 2 amounts. The reaction temperature is usually from −10 ° C. to the boiling point of the solvent, more preferably from 0 ° C. to room temperature. The reaction temperature is usually 10 minutes to 1 day, preferably 1 hour to 12 hours.
工程2において、上記で得られた式S−3で示される化合物を溶媒に溶解し、塩基存在下において式S−4で示される化合物と反応させることにより目的とする本発明で用いることができる重合性モノマーを合成できる。溶媒としては、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒、ジクロロメタン等のハロゲン系溶媒が好適である。塩基は、無機、有機いずれの塩基が採用できるが、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基が好適である。塩基の使用量は、S−3に対して0.5から10当量の範囲で用いることが好ましく、0.7から2量の範囲で用いることがさらに好ましい。反応温度は、通常、−10℃から溶媒の沸点であり、0℃から室温がさらに好ましい。反応温度は、通常、10分から1日間であり、好ましくは1時間から12時間である。 In step 2, the compound represented by the formula S-3 obtained above is dissolved in a solvent and reacted with the compound represented by the formula S-4 in the presence of a base, so that it can be used in the intended present invention. A polymerizable monomer can be synthesized. As the solvent, ether solvents such as tetrahydrofuran, amide solvents such as dimethylacetamide, and halogen solvents such as dichloromethane are suitable. As the base, any of inorganic and organic bases can be adopted, but organic bases such as triethylamine and diisopropylethylamine, and inorganic bases such as potassium carbonate and potassium hydrogen carbonate are suitable. The amount of the base used is preferably in the range of 0.5 to 10 equivalents relative to S-3, and more preferably in the range of 0.7 to 2 amounts. The reaction temperature is usually from −10 ° C. to the boiling point of the solvent, more preferably from 0 ° C. to room temperature. The reaction temperature is usually 10 minutes to 1 day, preferably 1 hour to 12 hours.
本発明で用いる高分子重合体としては、前記一般式(1)で表される繰り返し単位と前記一般式(2)で表される繰り返し単位をその構成単位として含む高分子重合体が特に好ましい。
以下にその具体例を挙げるが、本発明は以下の具体例に制限されるものではない。尚、式中のx、y、zは各繰り返し単位のモル百分率を示す。
As the polymer used in the present invention, a polymer containing a repeating unit represented by the general formula (1) and a repeating unit represented by the general formula (2) as its constituent units is particularly preferable.
Although the specific example is given to the following, this invention is not restrict | limited to the following specific examples. In addition, x, y, z in a formula shows the mole percentage of each repeating unit.
本発明で用いる高分子重合体は、好ましいものは前記一般式(1)で表される繰り返し単位と、一般式(2)で表される繰り返し単位とを含む共重合体である。該高分子重合体を構成する繰り返し単位のうち、上記一般式(1)で表される繰り返し単位は、60〜99モル%であるのが好ましく、70〜95モル%であるのがより好ましく、80〜90モル%であるのがさらに好ましい。また, 上記一般式(2)で表される繰り返し単位は、1〜40モル%であるのが好ましく、5〜30モル%であるのがより好ましく、10〜20モル%であるのがさらに好ましい。 The polymer used in the present invention is preferably a copolymer containing the repeating unit represented by the general formula (1) and the repeating unit represented by the general formula (2). Among the repeating units constituting the polymer, the repeating unit represented by the general formula (1) is preferably 60 to 99 mol%, more preferably 70 to 95 mol%, More preferably, it is 80-90 mol%. Moreover, it is preferable that the repeating unit represented by the said General formula (2) is 1-40 mol%, It is more preferable that it is 5-30 mol%, It is further more preferable that it is 10-20 mol%. .
また、本発明で用いる高分子重合体は、上記繰り返し単位の他、一般的に知られている任意の繰り返し単位を含むことができる。使用する任意の繰り返し単位の種類、および、当該任意の繰り返し単位のモル%は、使用するモノマーの種類もしくは、所望の物性等の条件により、適宜選択することとなる。例えば、当該任意の繰り返し単位の含有量は、高分子重合体を構成するモノマー総モル数に対し、好ましくは50モル%以下、より好ましくは40モル%以下、さらに好ましくは30モル%以下である。 Moreover, the high molecular polymer used by this invention can contain the arbitrary repeating units generally known besides the said repeating unit. The type of arbitrary repeating unit to be used and the mol% of the arbitrary repeating unit are appropriately selected depending on the type of monomer to be used or desired physical properties. For example, the content of the arbitrary repeating unit is preferably 50 mol% or less, more preferably 40 mol% or less, and still more preferably 30 mol% or less with respect to the total number of moles of monomers constituting the polymer. .
本発明で用いる高分子重合体の重量平均分子量(Mw)は、1000〜100万であることが好ましく、5000〜20万であることがより好ましく、10000〜10万であることがさらに好ましい。上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて、ポリスチレン(PS)換算の値として測定できる。
また、本発明で用いる高分子重合体のガラス転移温度(Tg)は、室温〜50℃であることが好ましい。
The weight average molecular weight (Mw) of the polymer used in the present invention is preferably 1,000 to 1,000,000, more preferably 5,000 to 200,000, and still more preferably 10,000 to 100,000. The weight average molecular weight can be measured as a value in terms of polystyrene (PS) using gel permeation chromatography (GPC).
Moreover, it is preferable that the glass transition temperature (Tg) of the high molecular polymer used by this invention is room temperature-50 degreeC.
本発明で用いる高分子重合体は、例えば各々の繰り返し単位に相当するモノマーの重合により製造することができる。これらのモノマーは、周知の方法により合成することができる。また、各種市販モノマーを用いることもできる。重合方法としては、ラジカル重合が汎用に利用でき、特に好ましい。ラジカル重合のためのモノマー重合開始剤としては、ラジカル熱重合開始剤やラジカル光重合開始剤などの公知の化合物を使用することができるが、特に、ラジカル熱重合開始剤を使用することが好ましい。ここで、ラジカル熱重合開始剤は、分解温度以上に加熱することにより、ラジカルを発生させる化合物である。このようなラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ジアシルパーオキサイド(アセチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイドなど)、ケトンパーオキサイド(メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイドなど)、ハイドロパーオキサイド(過酸化水素、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイドなど)、ジアルキルパーオキサイド(ジ−tert−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイドなど)、パーオキシエステル類(tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシピバレートなど)、アゾ系化合物(アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリルなど)、過硫酸塩類(過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウムなど)が挙げられる。このようなラジカル熱重合開始剤は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。 The high molecular polymer used in the present invention can be produced, for example, by polymerization of monomers corresponding to each repeating unit. These monomers can be synthesized by a known method. Various commercially available monomers can also be used. As the polymerization method, radical polymerization can be used for general purposes, and is particularly preferable. As the monomer polymerization initiator for radical polymerization, known compounds such as radical thermal polymerization initiators and radical photopolymerization initiators can be used, and it is particularly preferable to use radical thermal polymerization initiators. Here, the radical thermal polymerization initiator is a compound that generates radicals by heating to a decomposition temperature or higher. Examples of such radical thermal polymerization initiators include diacyl peroxide (acetyl peroxide, benzoyl peroxide, etc.), ketone peroxide (methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, etc.), hydroperoxide (hydrogen peroxide, tert. -Butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, etc.), dialkyl peroxides (di-tert-butyl peroxide, dicumyl peroxide, dilauroyl peroxide, etc.), peroxyesters (tert-butyl peroxyacetate, tert) -Butyl peroxypivalate), azo compounds (azobisisobutyronitrile, azobisisovaleronitrile, etc.), persulfates (ammonium persulfate, Sodium sulfate, potassium sulfate) and the like. Such radical thermal polymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.
上記ラジカル重合方法は、特に制限されるものではなく、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法、溶液重合法等の公知の方法により行うことができる。典型的なラジカル重合方法である溶液重合については、さらに具体的に説明する。他の重合方法についても概要は同等であり、その詳細は例えば「高分子化学実験法」高分子学会編(東京化学同人、1981年)などに記載されている。 The radical polymerization method is not particularly limited, and can be performed by a known method such as an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method, a bulk polymerization method, or a solution polymerization method. Solution polymerization, which is a typical radical polymerization method, will be described more specifically. The outlines of other polymerization methods are the same, and details thereof are described in, for example, “Polymer Chemistry Experimental Methods” edited by Polymer Society (Tokyo Kagaku Dojin, 1981).
上記溶液重合を行うためには有機溶媒を使用する。これらの有機溶媒は本発明の目的、効果を損なわない範囲で任意に選択可能である。これらの有機溶媒は通常、大気圧下での沸点が50〜200℃の範囲内の値を有する有機化合物であり、各構成成分を均一に溶解させる有機溶媒が望ましい。好ましい有機溶媒の例を示すと、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール類、ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、γ−ブチロラクトン等のエステル類、ジメチルアミド、ジメチルホルムアミド等のアミド類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられる。なお、これらの有機溶媒は、一種単独または二種以上を組み合わせて用いることができる。さらに、モノマーや生成するポリマーの溶解性の観点から上記有機溶媒に水を併用した水混合有機溶媒も適用可能である。 An organic solvent is used to perform the solution polymerization. These organic solvents can be arbitrarily selected as long as the objects and effects of the present invention are not impaired. These organic solvents are usually organic compounds having a boiling point in the range of 50 to 200 ° C. under atmospheric pressure, and organic solvents that uniformly dissolve each component are desirable. Examples of preferable organic solvents include alcohols such as isopropanol and butanol, ethers such as dibutyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, ethyl acetate and acetic acid. Examples thereof include esters such as butyl, amyl acetate and γ-butyrolactone, amides such as dimethylamide and dimethylformamide, and aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene. In addition, these organic solvents can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Furthermore, a water-mixed organic solvent in which water is used in combination with the above organic solvent is also applicable from the viewpoint of the solubility of the monomer and the polymer to be produced.
また、溶液重合条件も特に制限されるものではないが、例えば、50〜200℃の温度範囲内で10分〜30時間加熱することが望ましい。さらに、発生したラジカルが失活しないように、溶液重合中はもちろんのこと、溶液重合開始前にも不活性ガスパージを行うことが望ましい。不活性ガスとしては通常窒素ガスが好適に用いられる。 Further, the solution polymerization conditions are not particularly limited, but for example, it is desirable to heat within a temperature range of 50 to 200 ° C. for 10 minutes to 30 hours. Furthermore, it is desirable to perform an inert gas purge not only during solution polymerization but also before the start of solution polymerization so that the generated radicals are not deactivated. Usually, nitrogen gas is suitably used as the inert gas.
本発明で用いる高分子重合体を好ましい分子量範囲で得るためには、連鎖移動剤を用いたラジカル重合法が特に有効である。上記連鎖移動剤としては、メルカプタン類(例えば、オクチルメルカプタン、デシルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、tert−ドデシルメルカプタン、オクタデシルメルカプタン、チオフェノール、p−ノニルチオフェノールなど)、ポリハロゲン化アルキル(例えば、四塩化炭素、クロロホルム、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,1−トリブロモオクタンなど)、低活性モノマー類(α−メチルスチレン、α−メチルスチレンダイマーなど)のいずれも用いることができるが、好ましくは炭素数4〜16のメルカプタン類である。これらの連鎖移動剤の使用量は、連鎖移動剤の活性やモノマーの組み合わせ、重合条件などにより著しく影響され、精密な制御が必要である。好ましくは、使用するモノマーの全モル数に対して0.01mol%〜50mol%であり、より好ましくは0.05mol%〜30mol%であり、さらに好ましくは0.08mol%〜25mol%である。これらの連鎖移動剤は、重合過程において重合度を制御するべき対象のモノマーと同時に系内に存在させればよく、その添加方法については特に問わない。モノマーに溶解して添加してもよいし、モノマーと別途に添加することも可能である。 In order to obtain the high molecular polymer used in the present invention within a preferable molecular weight range, a radical polymerization method using a chain transfer agent is particularly effective. Examples of the chain transfer agent include mercaptans (for example, octyl mercaptan, decyl mercaptan, dodecyl mercaptan, tert-dodecyl mercaptan, octadecyl mercaptan, thiophenol, p-nonylthiophenol), polyhalogenated alkyl (for example, carbon tetrachloride). , Chloroform, 1,1,1-trichloroethane, 1,1,1-tribromooctane, etc.) and low-activity monomers (α-methylstyrene, α-methylstyrene dimer, etc.) can be used, but preferably Is a mercaptan having 4 to 16 carbon atoms. The amount of these chain transfer agents to be used is significantly affected by the activity of the chain transfer agent, the combination of monomers, the polymerization conditions, and the like, and requires precise control. Preferably, they are 0.01 mol%-50 mol% with respect to the total number of moles of the monomer to be used, More preferably, it is 0.05 mol%-30 mol%, More preferably, it is 0.08 mol%-25 mol%. These chain transfer agents may be present in the system simultaneously with the target monomer whose degree of polymerization is to be controlled in the polymerization process, and the addition method is not particularly limited. It may be added after being dissolved in the monomer, or may be added separately from the monomer.
本発明で用いる高分子重合体からなる組成物において、該高分子重合体以外に、必要に応じて種々の添加剤を併用することができる。例えば、可塑剤、界面活性剤等を併用することで、塗工膜の均一性、膜の強度、光反応性基を有する高分子化合物の配向性等を向上することができる。これらの添加量の総量は、光反応性基を有する高分子化合物に対して、30質量%以下が好ましく、10質量%以下がより好ましい。 In the composition comprising the polymer used in the present invention, various additives can be used in combination with the polymer as necessary. For example, by using a plasticizer, a surfactant or the like in combination, the uniformity of the coating film, the strength of the film, the orientation of the polymer compound having a photoreactive group, and the like can be improved. 30 mass% or less is preferable with respect to the high molecular compound which has a photoreactive group, and, as for the total amount of these addition amounts, 10 mass% or less is more preferable.
可塑剤としては、従来公知の可塑剤が挙げられる。具体的には、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリールフタレートなどのフタル酸エステル類、ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリールエチルグリコレート、メチルフタリールエチルグリコレート、ブチルフタリールブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステルなどのグリコールエステル類、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェートなどの燐酸エステル類、ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレートなどの脂肪族二塩基酸エステル類、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチルなどが挙げられる。 A conventionally well-known plasticizer is mentioned as a plasticizer. Specifically, phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diaryl phthalate, dimethyl glycol phthalate , Ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, glycol esters such as triethylene glycol dicaprylate, phosphate esters such as tricresyl phosphate, triphenyl phosphate, diisobutyl adipate , Dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioct Ruazereto, aliphatic dibasic acid esters such as dibutyl maleate, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, and the like butyl laurate.
界面活性剤としては、従来公知のアニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤が挙げられる。特にフッ素系化合物が好ましく、パーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基および親水性基含有ポリマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基含有ポリマーなどが挙げられる。 Examples of the surfactant include conventionally known anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Fluorine compounds are particularly preferred, and examples thereof include perfluoroalkylamine oxides, perfluoroalkylethylene oxide adducts, perfluoroalkyl group and hydrophilic group-containing polymers, perfluoroalkyl groups, hydrophilic groups, and lipophilic group-containing polymers.
本発明の光学異方性フィルムは、本発明の組成物を光照射により光学異方性を発現させた後、該組成物に含まれる重合性基を架橋してなるものである。本発明の光学異方性フィルムは、通常、支持体上に形成される。ここで、光学異方性フィルムの厚さは、例えば、1〜4μmとすることができる。支持体は、例えば、特開2002−38157号公報等に記載のもの等を採用できる。特に、支持体上に、本発明の組成物を塗布して光学異方性を発現させた後、剥ぎ取りを行わずに支持体と一体化して用いる場合には、支持体はガラス基板、あるいは光透過率が80%以上であるポリマーフィルムが好ましい。支持体の厚みは10〜500μmが好ましく、20〜200μmがより好ましく、35〜110μmがさらに好ましい。 The optically anisotropic film of the present invention is obtained by causing the composition of the present invention to exhibit optical anisotropy by light irradiation and then crosslinking a polymerizable group contained in the composition. The optically anisotropic film of the present invention is usually formed on a support. Here, the thickness of the optically anisotropic film can be set to 1 to 4 μm, for example. As the support, for example, those described in JP-A-2002-38157 can be adopted. In particular, when the composition of the present invention is applied on a support to develop optical anisotropy, and then used integrally with the support without peeling off, the support is a glass substrate, or A polymer film having a light transmittance of 80% or more is preferred. The thickness of the support is preferably 10 to 500 μm, more preferably 20 to 200 μm, and still more preferably 35 to 110 μm.
本発明の光学異方性フィルムには、必要に応じて配向層、剥離層、粘着層、別なる光学異方性層などを設けてもよい。 The optically anisotropic film of the present invention may be provided with an alignment layer, a release layer, an adhesive layer, another optically anisotropic layer, and the like as necessary.
配向層には例えば一般に液晶分野で用いられるような周知の配向膜を採用することができる。具体的な例としては、ラビング配向処理されたポリイミドやポリビニルアルコールなどの配向膜や光配向処理されたアゾベンゼン誘導体、桂皮酸誘導体、あるいはクマリン誘導体などを採用することができる。 For the alignment layer, for example, a well-known alignment film generally used in the liquid crystal field can be adopted. As specific examples, an alignment film such as polyimide or polyvinyl alcohol subjected to rubbing alignment treatment, an azobenzene derivative, cinnamic acid derivative, or coumarin derivative subjected to photo-alignment treatment can be employed.
剥離層には、周知の剥離剤等を用いることができる。剥離剤には、シリコン系、リン酸エステル系、フッ素系などの剥離剤が挙げられる。 A known release agent or the like can be used for the release layer. Examples of the release agent include silicon-based, phosphate ester-based, and fluorine-based release agents.
粘着層には、周知の粘着剤等を用いることができる。具体的な例としては、例えばアクリル系、シリコン系、ビニルエーテル系などの粘着剤が挙げられる。粘着剤としては、光学的に透明な粘着剤が好ましい。 A well-known adhesive etc. can be used for an adhesion layer. Specific examples include pressure sensitive adhesives such as acrylic, silicon, and vinyl ether. As the adhesive, an optically transparent adhesive is preferable.
別なる光学異方性層には、例えば配向した棒状、あるいは円盤状の液晶化合物の重合体などにより構成される光学異方性層などを挙げることができる。 As another optically anisotropic layer, for example, an optically anisotropic layer composed of a polymer of an oriented rod-like or disk-like liquid crystal compound can be exemplified.
本発明の光学異方性フィルムは、例えば、本発明で用いる高分子重合体からなる組成物の膜を形成する工程(膜形成工程)、光を照射して光学異方性を発現する工程(光照射工程)、光を照射した膜に架橋重合開始剤を塗布する工程(開始剤塗布工程)、重合性基を架橋する工程(架橋工程)を経て製造することができる。以下に、本発明の光学異方性フィルムの製造方法の各工程に関し、具体的な例により説明する。 The optically anisotropic film of the present invention is, for example, a step of forming a film of a composition comprising the polymer used in the present invention (film forming step), a step of irradiating light to develop optical anisotropy ( It can be produced through a light irradiation step), a step of applying a crosslinking polymerization initiator to the film irradiated with light (initiator application step), and a step of crosslinking the polymerizable group (crosslinking step). Below, it demonstrates by a specific example regarding each process of the manufacturing method of the optically anisotropic film of this invention.
(膜形成工程)
本発明で用いる高分子重合体を溶媒に溶解しドープとして用い、適切な支持体上に前記ドープを塗布した後に乾燥する方法により高分子フィルムを作製することができる。塗布方式としては、公知の方法、例えば、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、インクジェット法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法等が採用される。また、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成するソルベントキャスト法を用いてもよい。一般的なソルベントキャスト法については、米国特許2336310号の各明細書、特公昭45−4554号の公報等に記載がある。
(Film formation process)
The polymer film used in the present invention can be prepared by dissolving the polymer in a solvent and using it as a dope, applying the dope on a suitable support and then drying. As the coating method, known methods such as curtain coating method, extrusion coating method, roll coating method, spin coating method, ink jet method, dip coating method, bar coating method, spray coating method, slide coating method, print coating method, etc. Is adopted. Moreover, you may use the solvent cast method which casts on a drum or a band, evaporates a solvent, and forms a film. A general solvent casting method is described in each specification of US Pat. No. 2,336,310, Japanese Patent Publication No. 45-4554, and the like.
ドープの調製において、溶解させる溶媒は特に限定されないが、例えば酢酸エチル等のエステル類系溶剤、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン系溶媒、またはシクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド等の溶媒、およびこれらの混合溶剤等が挙げられる。ドープは、固形分量が10〜40重量%となるように濃度を調整することが好ましい。固形分量は18〜35重量%であることがさらに好ましい。ドープは必要に応じて、ろ過工程を加えてもよい。 In the preparation of the dope, the solvent to be dissolved is not particularly limited. For example, ester solvents such as ethyl acetate, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, ether solvents such as tetrahydrofuran, halogen solvents such as chloroform and dichloromethane, or cyclohexanone, Examples thereof include solvents such as dimethylformamide, and mixed solvents thereof. The concentration of the dope is preferably adjusted so that the solid content is 10 to 40% by weight. The solid content is more preferably 18 to 35% by weight. The dope may be subjected to a filtration step if necessary.
ドープを2層以上流延することもできる。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。得られたフィルムは、ドラムまたはバンドから剥ぎ取り、高分子フィルムを作製する。前記剥ぎ取り工程は、必要に応じて次工程である光照射後、あるいは後工程の塗布工程、架橋工程の後に行ってもよい。また、剥ぎ取りを行わず、支持体と一体化して光学異方性フィルムとして提供してもよい。 Two or more dopes can be cast. The surface of the drum or band is preferably finished in a mirror state. The obtained film is peeled off from the drum or band to produce a polymer film. The stripping step may be performed after light irradiation, which is a subsequent step, or after a coating step and a crosslinking step, which are subsequent steps, as necessary. Moreover, without peeling off, it may be integrated with the support and provided as an optically anisotropic film.
また、パーターニングの観点から、本発明で用いる高分子重合体を含む組成物を含む溶液を基板に吹き付けて膜を形成する方法(スプレーコーティング法やインクジェット法等)も好ましい例として挙げられる。インクジェット法について説明すると、インクジェット法は塗液の小滴をノズルから噴出させて支持体上に所定量付着させる方法である。前記溶液の調製において、固形分量が0.5〜40重量%となるように濃度を調整することが好ましい。固形分量は1〜30重量%であることがさらに好ましい。調液には必要に応じて、ろ過工程を加えてもよい。塗布する際の温度は、通常、室温から溶液に用いる溶媒の沸点より低い温度である。 In addition, from the viewpoint of patterning, a method (spray coating method, ink jet method, etc.) for forming a film by spraying a solution containing the composition containing the polymer used in the present invention on a substrate is also preferable. The ink jet method will be described. The ink jet method is a method in which a small amount of a coating liquid is ejected from a nozzle to adhere a predetermined amount on a support. In the preparation of the solution, the concentration is preferably adjusted so that the solid content is 0.5 to 40% by weight. The solid content is more preferably 1 to 30% by weight. A filtration step may be added to the preparation as necessary. The temperature at the time of application is usually a temperature lower than the boiling point of the solvent used in the solution from room temperature.
(光照射工程)
前記で得られた高分子フィルム、あるいは支持体上に形成した高分子フィルムに光照射を施し、該高分子フィルムの屈折率異方性を発現させ、光学異方性が制御された高分子フィルムを製造する。光照射は、必要に応じて高分子フィルムに延伸を施しながら照射してもかまわない。
(Light irradiation process)
The polymer film obtained above or the polymer film formed on the support is irradiated with light to develop the refractive index anisotropy of the polymer film and the optical anisotropy is controlled. Manufacturing. Light irradiation may be performed while stretching the polymer film as necessary.
本発明における光照射とは、前記光反応性化合物に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光反応性化合物により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。好ましくは、光照射に用いる光のピーク波長が200nm〜700nmであり、より好ましくは光のピーク波長が400nm以下の紫外光である。光強度は、必要とされる光学特性、本発明で用いる高分子重合体の種類により異なり、特に限定されない。通常、1mJ/cm2〜600J/cm2の範囲が好ましく、10mJ/cm2〜300J/cm2の範囲がより好ましい。 The light irradiation in the present invention is an operation for causing a photoreaction in the photoreactive compound. The wavelength of light used varies depending on the photoreactive compound used, and is not particularly limited as long as it is a wavelength necessary for the photoreaction. Preferably, the peak wavelength of light used for light irradiation is 200 nm to 700 nm, more preferably ultraviolet light having a peak wavelength of light of 400 nm or less. The light intensity varies depending on the required optical properties and the type of the polymer used in the present invention, and is not particularly limited. Usually, the range of 1 mJ / cm 2 to 600 J / cm 2 is preferable, and the range of 10 mJ / cm 2 to 300 J / cm 2 is more preferable.
光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー(例えば、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、YAGレーザー)、発光ダイオード、陰極線管などを挙げることができる。 The light source used for light irradiation is a commonly used light source such as a tungsten lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, a xenon flash lamp, a mercury lamp, a mercury xenon lamp, a carbon arc lamp, or various lasers (for example, a semiconductor laser, Helium neon laser, argon ion laser, helium cadmium laser, YAG laser), light emitting diode, cathode ray tube, and the like.
光照射は非偏光でも偏光でもよいが、偏光を用いることが好ましく、直線偏光を用いることがさらに好ましい。直線偏光を得る手段としては、偏光板を(例えば、ヨウ素偏光板、二色色素偏光板、ワイヤーグリッド偏光板)用いる方法、プリズム系素子(例えば、グラントムソンプリズム)やブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルターや波長変換素子等を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。 The light irradiation may be non-polarized light or polarized light, but it is preferable to use polarized light, more preferably linearly polarized light. As means for obtaining linearly polarized light, a method using a polarizing plate (for example, an iodine polarizing plate, a dichroic dye polarizing plate, a wire grid polarizing plate), a reflection using a prism-based element (for example, a Glan-Thompson prism) or a Brewster angle. A method using a type polarizer or a method using light emitted from a laser light source having polarization can be employed. Moreover, you may selectively irradiate only the light of the required wavelength using a filter, a wavelength conversion element, etc.
照射する光は、前記高分子フィルムに対して上面、あるいは裏面から該高分子フィルムに対して垂直、あるいは斜めから光を照射する方法が採用される。好ましくは垂直照射である。光照射後、必要に応じて加熱操作を行ってもよく、さらに前記と同じ、あるいは異なる光を照射してもよい。 As the light to be irradiated, a method of irradiating the polymer film with light from the upper surface or the back surface is perpendicular or oblique to the polymer film. Vertical irradiation is preferable. After the light irradiation, a heating operation may be performed as necessary, and the same or different light as described above may be irradiated.
(加熱処理工程)
前記、偏光照射工程の後、必要に応じて加熱処理を施してもよい。架橋温度、加熱時間は特に限定されないが、必要とする光学特性を損なわない範囲、あるいは必要とする光学特性を発現できる範囲で設定される。通常、加熱温度は、0〜300℃の範囲が好ましく、室温から150℃の範囲がより好ましい。加熱時間は、通常、1秒間〜1日間の範囲が好ましく、10秒間〜6時間の範囲がさらに好ましい。
(Heat treatment process)
You may heat-process as needed after the said polarized light irradiation process. The crosslinking temperature and heating time are not particularly limited, but are set in a range that does not impair the required optical characteristics or in a range that can exhibit the required optical characteristics. Usually, the heating temperature is preferably in the range of 0 to 300 ° C, more preferably in the range of room temperature to 150 ° C. The heating time is usually preferably in the range of 1 second to 1 day, and more preferably in the range of 10 seconds to 6 hours.
(開始剤塗布工程)
前記で得られた光学異方性を発現させたフィルムに架橋重合開始剤の溶液を塗布する。架橋重合開始剤を溶解させる溶媒は特に限定されないが、前記光学異方性を発現させたフィルムを溶解しない溶媒が採用される。具体的には、例えば酢酸エチル等のエステル類系溶剤、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン系溶媒、またはメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、アクリロニトリル等のニトリル溶媒およびこれらの混合溶剤等が挙げられる。メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、アクリロニトリル等のニトリル溶媒が特に好ましい。また、必要に応じて必要な添加剤を加えてもよい。用いる溶液の固形分量は、0.1〜35重量%であることが好ましく、0.5〜25重量%であることがさらに好ましい。用いる溶液は必要に応じて、ろ過工程を加えてもよい。塗布方式としては、公知の方法、例えば、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、インクジェット法、印刷コーティング法等が採用される。
(Initiator application process)
A solution of a cross-linking polymerization initiator is applied to the film obtained above that exhibits optical anisotropy. The solvent for dissolving the crosslinking polymerization initiator is not particularly limited, but a solvent that does not dissolve the film exhibiting the optical anisotropy is employed. Specifically, for example, ester solvents such as ethyl acetate, ketone solvents such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone, ether solvents such as tetrahydrofuran, halogen solvents such as chloroform and dichloromethane, or alcohol solvents such as methanol and ethanol, Examples thereof include nitrile solvents such as acrylonitrile and mixed solvents thereof. Alcohol solvents such as methanol and ethanol, and nitrile solvents such as acrylonitrile are particularly preferred. Moreover, you may add a required additive as needed. The solid content of the solution used is preferably 0.1 to 35% by weight, more preferably 0.5 to 25% by weight. The solution to be used may add a filtration process as needed. As the coating method, known methods such as curtain coating method, extrusion coating method, roll coating method, spin coating method, dip coating method, bar coating method, spray coating method, slide coating method, ink jet method, print coating method, etc. Is adopted.
架橋重合開始剤は、本発明で用いる高分子重合体の重合性基の種類等により、適切な架橋重合開始剤が採用される。例えば、重合性基が環状エーテル基、オキセタニル基、またはビニルエーテル基等のカチオン重合性基である場合、周知の光酸発生剤、光カチオン開始剤が特に好ましい例として挙げられる。光酸発生剤としては、ジアゾジスルホン系、トリアリールスルホニウム系の光酸発生剤等を用いることができる。具体的には、WPAG-145、WPAG-170、WPAG-199(いずれも和光純薬製)等のジアゾジスルホン系光酸発生剤、WPAG-281、WPAG-336、WPAG-367(いずれも和光純薬製)、SB 1A、SB 2B、SB 2B F、SB 3C(いずれも日本シイベルヘグナー製)、UVI-6974, UVI-6990(Union Carbide製)、FX512(3M製)、KI-85(Degussa製)等のトリアリールスルホニウム系光酸発生剤等、市販の光酸発生剤を用いることができる。光カチオン開始剤としては、ジフェニルヨードニウム塩等を用いることができる。具体的には、WPI-113(和光純薬製)、MC AA、MC BB、MC CC、MC CC PF、MC CC F(いずれも日本シイベルヘグナー製)等の光カチオン開始剤を用いることができる。 As the crosslinking polymerization initiator, an appropriate crosslinking polymerization initiator is employed depending on the type of the polymerizable group of the polymer used in the present invention. For example, when the polymerizable group is a cationic polymerizable group such as a cyclic ether group, an oxetanyl group, or a vinyl ether group, known photoacid generators and photocation initiators are particularly preferable examples. As the photoacid generator, diazodisulfone or triarylsulfonium photoacid generators can be used. Specifically, diazodisulfone photoacid generators such as WPAG-145, WPAG-170, and WPAG-199 (all manufactured by Wako Pure Chemical), WPAG-281, WPAG-336, and WPAG-367 (all Wako Pure) Medicinal product), SB 1A, SB 2B, SB 2B F, SB 3C (all manufactured by Nippon Shibel Hegner), UVI-6974, UVI-6990 (made by Union Carbide), FX512 (made by 3M), KI-85 (made by Degussa) Commercially available photoacid generators such as triarylsulfonium photoacid generators can be used. As the photocationic initiator, diphenyliodonium salt or the like can be used. Specifically, a photocation initiator such as WPI-113 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), MC AA, MC BB, MC CC, MC CC PF, MC CC F (all manufactured by Nippon Siebel Hegner) or the like can be used.
(架橋工程)
架橋重合開始剤を塗布した光学異方性を発現させたフィルムに対し、再び光を照射して架橋を施す。光照射は非偏光でも偏光でもよいが、非偏光を用いることが好ましい。用いる光の波長は、用いる光酸発生剤により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。好ましくは光のピーク波長が400nm以下の紫外光である。架橋温度、加熱時間は特に限定されないが、必要とする光学特性を損なわない範囲、あるいは必要とする光学特性を発現できる範囲で設定される。通常、加熱温度は、0℃から300℃の範囲が好ましく、室温から150℃の範囲がより好ましい。加熱時間は、通常、1秒間から1日間の範囲が好ましく、10秒間から6時間の範囲がさらに好ましい。
(Crosslinking process)
The film on which optical anisotropy has been applied to which the crosslinking polymerization initiator has been applied is irradiated with light again to perform crosslinking. The light irradiation may be non-polarized light or polarized light, but non-polarized light is preferably used. The wavelength of light used varies depending on the photoacid generator used, and is not particularly limited as long as it is a wavelength necessary for the photoreaction. Preferably, it is ultraviolet light having a peak wavelength of 400 nm or less. The crosslinking temperature and heating time are not particularly limited, but are set in a range that does not impair the required optical characteristics or in a range that can exhibit the required optical characteristics. Usually, the heating temperature is preferably in the range of 0 ° C to 300 ° C, more preferably in the range of room temperature to 150 ° C. The heating time is usually preferably in the range of 1 second to 1 day, and more preferably in the range of 10 seconds to 6 hours.
以上の工程を経て、本発明の光学異方性フィルムが製造できる。 Through the above steps, the optically anisotropic film of the present invention can be produced.
〈光学異方性フィルムの用途〉
本発明の光学異方性フィルムは、例えば、偏光子と組み合わせて偏光板(楕円偏光板)の用途に供することができる。また、透過型液晶表示装置に、偏光子と組み合わせて適用することにより、視野角の拡大に寄与する。本発明の偏光板は、偏光子と該偏光子の少なくとも片面に設けられた保護フィルムとからなり、該保護フィルムが、本発明の光学異方性フィルムであることを特徴とするものである。また、本発明の液晶表示装置は、上記本発明の光学異方性フィルムを有することを特徴するものである。以下に、本発明の光学異方性フィルムを利用した楕円偏光板および液晶表示装置について詳述する。
<Applications of optically anisotropic films>
The optically anisotropic film of the present invention can be used for, for example, a polarizing plate (elliptical polarizing plate) in combination with a polarizer. Moreover, it contributes to expansion of a viewing angle by applying to a transmissive liquid crystal display device in combination with a polarizer. The polarizing plate of the present invention comprises a polarizer and a protective film provided on at least one surface of the polarizer, and the protective film is the optically anisotropic film of the present invention. The liquid crystal display device of the present invention is characterized by having the optically anisotropic film of the present invention. Hereinafter, an elliptically polarizing plate and a liquid crystal display device using the optically anisotropic film of the present invention will be described in detail.
[楕円偏光板]
上記楕円偏光板は、本発明の光学異方性フィルムと偏光子とを積層することによって作製することができる。本発明の光学異方性フィルムを利用することにより、液晶表示装置の視野角を拡大しうる楕円偏光板を提供することができる。上記偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。偏光子の偏光軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
[Elliptically polarizing plate]
The elliptically polarizing plate can be produced by laminating the optically anisotropic film of the present invention and a polarizer. By using the optically anisotropic film of the present invention, an elliptically polarizing plate capable of expanding the viewing angle of a liquid crystal display device can be provided. Examples of the polarizer include an iodine polarizer, a dye polarizer using a dichroic dye, and a polyene polarizer. In general, iodine-based polarizers and dye-based polarizers can be produced using polyvinyl alcohol-based films. The polarization axis of the polarizer corresponds to a direction perpendicular to the stretching direction of the film.
上記偏光子は上記光学異方性フィルムの光学異方性層側に積層する。偏光子の光学異方性フィルムを積層した側と反対側の面には、保護膜として、光透過率が80%以上の保護膜(透明保護膜)を設けることが好ましい。透明保護膜としては、好ましくはセルロースエステルフィルム、より好ましくはトリアセチルセルロースフィルムが用いられる。セルロースエステルフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。保護膜の厚さは、20〜500μmであることが好ましく、50〜200μmであることがさらに好ましい。 The polarizer is laminated on the optically anisotropic layer side of the optically anisotropic film. It is preferable to provide a protective film (transparent protective film) having a light transmittance of 80% or more as a protective film on the surface of the polarizer opposite to the side on which the optically anisotropic film is laminated. As the transparent protective film, a cellulose ester film is preferably used, more preferably a triacetyl cellulose film. The cellulose ester film is preferably formed by a solvent cast method. The thickness of the protective film is preferably 20 to 500 μm, and more preferably 50 to 200 μm.
[液晶表示装置]
本発明の光学異方性フィルムの利用により、視野角が拡大された液晶表示装置を提供することができる。また、表示ムラのない高品位の画像を表示し得る液晶表示装置を提供することができる。Twisted Nematic(TN)モードの液晶セル用光学異方性フィルムとしては、例えば、特開平6−214116号公報、米国特許第5,583,679号、同第5,646,703号の明細書、ドイツ特許公報3911620A1号公報等の記載に従って利用することができる。また、In−Plane Switching(IPS)モードまたはFerroelectric Liquid Crystal(FLC)モードの液晶セル用光学異方性フィルムとしては、特開平10−54982号公報の記載に従って利用することができる。さらに、Optically Compensatory Bend(OCB)モードまたはHybrid Aligned Nematic(HAN)モードの液晶セル用光学異方性フィルムとしては、米国特許第5,805,253号明細書および国際公開WO96/37804号パンフレット等の記載に従って利用することができる。さらにまた、Super Twisted Nematic(STN)モードの液晶セル用光学異方性フィルムとしては、特開平9−26572号公報の記載に従って利用することができる。そして、Vertically Aligned(VA)モードの液晶セル用光学異方性フィルムとしては、特許番号第2866372号公報の記載に従って利用することができる。
[Liquid Crystal Display]
By using the optically anisotropic film of the present invention, a liquid crystal display device having an enlarged viewing angle can be provided. In addition, a liquid crystal display device that can display a high-quality image without display unevenness can be provided. As an optically anisotropic film for a liquid crystal cell of Twisted Nematic (TN) mode, for example, JP-A-6-214116, U.S. Pat. Nos. 5,583,679 and 5,646,703, It can be used in accordance with the description in German Patent Publication 3911620A1. Moreover, it can utilize according to description of Unexamined-Japanese-Patent No. 10-54982 as an optically anisotropic film for liquid crystal cells of an In-Plane Switching (IPS) mode or a Ferroelectric Liquid Crystal (FLC) mode. Further, optically anisotropic films for liquid crystal cells in Optically Compensatory Bend (OCB) mode or Hybrid Aligned Nematic (HAN) mode include US Pat. No. 5,805,253 and International Publication WO96 / 37804. Available as described. Furthermore, as an optically anisotropic film for a liquid crystal cell in Super Twisted Nematic (STN) mode, it can be used according to the description in JP-A-9-26572. As an optically anisotropic film for a liquid crystal cell in a vertically aligned (VA) mode, it can be used in accordance with the description in Japanese Patent No. 2866372.
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。 The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below.
合成例1 光反応性基を有するモノマー(LM−1)の合成
2L三つ口フラスコに、ヒドロキノン134g(1.22mol)、トリエチルアミン54mL(0.39mol)をテトラヒドロフラン1200mLに溶解し、氷冷下、アクリル酸クロリド27.18g(0.3mol)を100mLのテトラヒドロフランに溶かした溶液を滴下した。常温に戻して5時間攪拌した後、500mLの水を加え、分液して、水層から300mLのヘキサンで3回抽出した。有機層と抽出層を合わせて、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶剤を減圧で留去した。得られた化合物をヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒(容量比でヘキサン−酢酸エチル=3/1)を展開溶媒としたシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、16gのアクリル酸4−ヒドロキシフェニルを得た(収率32%)。
Synthesis Example 1 Synthesis of monomer (LM-1) having a photoreactive group In a 2 L three-necked flask, 134 g (1.22 mol) of hydroquinone and 54 mL (0.39 mol) of triethylamine were dissolved in 1200 mL of tetrahydrofuran, and the mixture was ice-cooled. A solution prepared by dissolving 27.18 g (0.3 mol) of acrylic acid chloride in 100 mL of tetrahydrofuran was added dropwise. After returning to normal temperature and stirring for 5 hours, 500 mL of water was added, liquid separation was performed, and the aqueous layer was extracted three times with 300 mL of hexane. The organic layer and the extraction layer were combined and dried over magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained compound was purified by silica gel chromatography using a mixed solvent of hexane-ethyl acetate (volume ratio of hexane-ethyl acetate = 3/1) as a developing solvent to obtain 16 g of 4-hydroxyphenyl acrylate (yield). Rate 32%).
1H-NMR(CDCl3、δ)7.00(2H,d)、6.80(2H,d),6.60(1H,dd),6.35(1H,dd),6,00(1H,dd),5.20(1H,s) 1 H-NMR (CDCl 3 , δ) 7.00 (2H, d), 6.80 (2H, d), 6.60 (1H, dd), 6.35 (1H, dd), 6,000 (1H, dd), 5.20 (1H, s)
1L三つ口フラスコに、前記で得られたアクリル酸4−ヒドロキシフェニル13g(79mmol)、トリエチルアミン22mL(158mmol)、ニトロベンゼン0.1gをテトラヒドロフラン200mLに溶解し、氷冷下、桂皮酸クロリド14.5g(87mmol)を50mLのテトラヒドロフランに溶かした溶液をゆっくり加えた。常温に戻して3時間攪拌した後、100mLの飽和食塩水と100mLの酢酸エチルを加えて分液を行い、水層から100mLの酢酸エチルで2回抽出した。有機層と抽出層を合わせて、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶剤を減圧で留去した。得られた化合物をヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒(容量比でヘキサン−酢酸エチル=3/1)を展開溶媒としたシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、13gの光反応性基を有するモノマー(LM−1)を得た(収率57%)。 In a 1 L three-necked flask, 13 g (79 mmol) of 4-hydroxyphenyl acrylate obtained above, 22 mL (158 mmol) of triethylamine and 0.1 g of nitrobenzene were dissolved in 200 mL of tetrahydrofuran, and 14.5 g of cinnamic acid chloride was cooled with ice. A solution of (87 mmol) in 50 mL of tetrahydrofuran was slowly added. After returning to normal temperature and stirring for 3 hours, 100 mL of saturated brine and 100 mL of ethyl acetate were added to perform liquid separation, and the aqueous layer was extracted twice with 100 mL of ethyl acetate. The organic layer and the extraction layer were combined and dried over magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained compound was purified by silica gel chromatography using a mixed solvent of hexane-ethyl acetate (volume ratio of hexane-ethyl acetate = 3/1) as a developing solvent, and 13 g of a monomer having a photoreactive group (LM-1 ) Was obtained (yield 57%).
LM−1 LM-1
1H-NMR(CDCl3、δ):7.90(1H,d),7.60(2H,m),7.40(3H,m),7.30〜7.10(4H,m),6.62(2H,m)、6.35(1H,dd),6,00(1H,dd)。 1 H-NMR (CDCl 3 , δ): 7.90 (1H, d), 7.60 (2H, m), 7.40 (3H, m), 7.30 to 7.10 (4H, m) , 6.62 (2H, m), 6.35 (1H, dd), 6,000 (1H, dd).
上記の方法に準じて、下記の光反応性基を有するモノマー(LM−2)〜(LM−4)を合成した。 In accordance with the above method, monomers (LM-2) to (LM-4) having the following photoreactive groups were synthesized.
LM−2 LM-2
1H-NMR(CDCl3、δ):7.90(1H,d),7.60(2H,m),7.40(3H,m),7.20〜7.10(4H,m),6.60(1H,d)、6.35(1H,s),5.78(1H,s)、2.05(3H,s)。 1 H-NMR (CDCl 3 , δ): 7.90 (1H, d), 7.60 (2H, m), 7.40 (3H, m), 7.20 to 7.10 (4H, m) , 6.60 (1H, d), 6.35 (1H, s), 5.78 (1H, s), 2.05 (3H, s).
LM−3 LM-3
1H-NMR(CDCl3、δ):7.90(1H,d),7.65(6H,m),7.58(2H,m),7.40(1H,t),7.20〜7.10(4H,m),6.60(2H,m)、6.35(1H,dd),6,00(1H,dd)。 1 H-NMR (CDCl 3 , δ): 7.90 (1H, d), 7.65 (6H, m), 7.58 (2H, m), 7.40 (1H, t), 7.20 -7.10 (4H, m), 6.60 (2H, m), 6.35 (1H, dd), 6,000 (1H, dd).
LM−4 LM-4
1H-NMR(CDCl3、δ):7.84(1H,d),7.55(2H,d),7.20〜7.10(4H,m),6.92(2H,d),6.50(1H,d)、6.35(1H,s),5.75(1H,s)、3.85(3H,s),2.05(3H,s)。 1 H-NMR (CDCl 3 , δ): 7.84 (1H, d), 7.55 (2H, d), 7.20-7.10 (4H, m), 6.92 (2H, d) 6.50 (1H, d), 6.35 (1H, s), 5.75 (1H, s), 3.85 (3H, s), 2.05 (3H, s).
合成例2 重合性基とメソゲン基の両方を有するモノマーの合成
特開2004−315736号公報(段落番号0075〜0087)に記載の方法に準じて、下記の重合性基とメソゲン基の両方を有するモノマー(MM−1)〜(MM−13)を合成した。
Synthesis Example 2 Synthesis of monomer having both polymerizable group and mesogenic group According to the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-315736 (paragraph numbers 0075 to 0087), it has both the following polymerizable group and mesogenic group. Monomers (MM-1) to (MM-13) were synthesized.
合成例3
重合性基とメソゲン基の両方を有するモノマー(MM−1)の9部(モル比)と光反応性基を有するモノマー(LM−1)1部(モル比)とから、2,2−アゾビスイソブチロニトリルを開始剤(2モル%)、無水N,N−ジメチルアセチルアミドを溶媒として、窒素下、70℃、10時間、ラジカル重合を行い、メタノールに再沈して精製することで、本発明の化合物P−1を合成した。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)により測定したP−1の重量平均分子量は、14,000であった。示差走査熱測定(DSC測定、Differential Scanning Calorimetry)により、ガラス転移温度(Tg)は40℃であった。
Synthesis example 3
From 9 parts (molar ratio) of the monomer (MM-1) having both a polymerizable group and a mesogenic group and 1 part (molar ratio) of the monomer (LM-1) having a photoreactive group, 2,2-azo By using bisisobutyronitrile as an initiator (2 mol%) and anhydrous N, N-dimethylacetylamide as a solvent, carrying out radical polymerization at 70 ° C. for 10 hours under nitrogen, reprecipitation in methanol and purification. The compound P-1 of the present invention was synthesized.
The weight average molecular weight of P-1 measured by gel permeation chromatography (GPC) was 14,000. The glass transition temperature (Tg) was 40 ° C. by differential scanning calorimetry (DSC measurement, Differential Scanning Calorimetry).
合成例4
モノマー(MM−1)を、MM−2〜MM−13に、変更し他は合成例3と同様に行って、化合物P−2〜P−13を合成した。
Synthesis example 4
Monomers (MM-1) were changed to MM-2 to MM-13, and others were carried out in the same manner as in Synthesis Example 3 to synthesize compounds P-2 to P-13.
実施例1 光学異方性フィルムの作製
上記合成例において合成した本発明で用いる高分子重合体3gを、10gのテトラヒドロフランに溶解して、孔経0.45μmのポリテトラフルオロエチレン製フィルターで不溶分をろ過して塗布液を調製した。1mmの厚さを有するガラス基板を支持体とし、調製した塗布液をスピンコーティング法により支持体上に塗布した。室温で120秒間乾燥した後、紫外線照射器(HOYA CANDEO OPTRONICS社製、EXECURE3000)より出射される紫外光より出射される光を、偏光板を介して直線偏光に変換し、支持体に対して垂直の方向から100mW/cm2(365nm)の強度で300秒間照射し、ガラス基板上に光異性フィルムを作製した。この時の光学異方性フィルムの厚さは2.0μmであった。
この光学異方性フィルムの上に、さらに1質量%光酸発生剤 (Chiba製、UVI-6974)のメタノール溶液を塗布した後、紫外線照射器(HOYA CANDEO OPTRONICS社製、EXECURE3000)より出射される紫外光を支持体に対して垂直の方向から260mW/cm2(365nm)の強度で120秒間照射し、本発明の光学異方性フィルムを作製した。
Example 1 Production of Optically Anisotropic Film 3 g of the polymer used in the present invention synthesized in the above synthesis example was dissolved in 10 g of tetrahydrofuran, and insoluble matter was filtered with a polytetrafluoroethylene filter having a pore diameter of 0.45 μm. Was applied to prepare a coating solution. A glass substrate having a thickness of 1 mm was used as a support, and the prepared coating solution was applied onto the support by a spin coating method. After drying for 120 seconds at room temperature, the light emitted from the ultraviolet light emitted from the UV irradiator (HOCANDO OPTRONICS, EXECURE3000) is converted into linearly polarized light through the polarizing plate and perpendicular to the support The film was irradiated with an intensity of 100 mW / cm 2 (365 nm) from the direction of 300 seconds to produce a photoisomer film on a glass substrate. At this time, the thickness of the optically anisotropic film was 2.0 μm.
On this optically anisotropic film, a 1% by mass photoacid generator (Chiba, UVI-6974) in methanol is applied, and then emitted from an ultraviolet irradiator (HOYA CANDEO OPTRONICS, EXECURE3000). Ultraviolet light was irradiated for 120 seconds at an intensity of 260 mW / cm 2 (365 nm) from a direction perpendicular to the support to produce an optically anisotropic film of the present invention.
実施例1と同様にして下記化合物からなる光学異方性フィルム比較例1を作製し、評価した。下記化合物中xは0.1を、yは0.9を示す。 In the same manner as in Example 1, an optically anisotropic film comparative example 1 comprising the following compounds was prepared and evaluated. In the following compounds, x represents 0.1 and y represents 0.9.
実施例2 光学異方性の評価と直交偏光照射による光耐久性の評価
本明細書において、Re(λ)は波長λにおける面内のレターデーション(正面レターデーション)を表す。得られたフィルムの589nmにおける正面レターデーションReはKOBRA 21ADHまたはWR(王子計測機器(株)製)において波長λnmの光をフィルム法線方向に入射させて測定した。
次に、その作製した光学異方性フィルムに対して、紫外線照射器(HOYA CANDEO OPTRONICS社製、EXECURE3000)より出射される紫外光より出射される光を、偏光板を介して直線偏光に変換し、支持体に対して垂直の方向から100mW/cm2(365nm)の強度で1200秒間照射した。この時の偏光方向が光異方性発現時の場合に対して、直交方向に照射し、その589nmにおける正面レターデーションReを、KOBRA 21ADH(王子計測機器(株)製)により、測定した。
これらの結果を表1に示す。その結果、本発明の光学異方性フィルムは比較例1と比較して直交偏光照射に対して高い光安定性を有していることが明らかとなった。
Example 2 Evaluation of Optical Anisotropy and Evaluation of Light Durability by Irradiation with Crossed Polarization In this specification, Re (λ) represents in-plane retardation (front retardation) at wavelength λ. The front retardation Re at 589 nm of the obtained film was measured by making light of wavelength λ nm incident in the film normal direction in KOBRA 21ADH or WR (manufactured by Oji Scientific Instruments).
Next, for the optically anisotropic film thus produced, the light emitted from the ultraviolet light emitted from the ultraviolet irradiator (EXECURE3000, manufactured by HOYA CANDEO OPTRONICS) is converted into linearly polarized light through the polarizing plate. The sample was irradiated for 1200 seconds at an intensity of 100 mW / cm 2 (365 nm) from a direction perpendicular to the support. The polarization direction at this time was irradiated in an orthogonal direction with respect to the case where the optical anisotropy was exhibited, and the front retardation Re at 589 nm was measured with KOBRA 21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments).
These results are shown in Table 1. As a result, it became clear that the optically anisotropic film of the present invention has higher light stability with respect to irradiation of orthogonally polarized light as compared with Comparative Example 1.
実施例3 熱耐久性の評価
実施例1および2で作製した光学異方性フィルムを150℃において、10分間静置した後、その589nmにおける正面レターデーションReを、KOBRA 21ADH(王子計測機器(株)製)により測定し、熱安定性を評価した。
これらの結果を表2に示す。その結果、本発明の光学異方性フィルムは比較例1と比較して高い熱安定性を有していることが明らかとなった。
Example 3 Evaluation of Thermal Durability The optically anisotropic film produced in Examples 1 and 2 was allowed to stand at 150 ° C. for 10 minutes, and then the front retardation Re at 589 nm was measured using KOBRA 21ADH (Oji Scientific Instruments Co., Ltd.). )) And the thermal stability was evaluated.
These results are shown in Table 2. As a result, it was revealed that the optically anisotropic film of the present invention has high thermal stability as compared with Comparative Example 1.
本発明により、製造適性が優れ、かつ安定性が改善された光学異方性フィルムを提供することができる。特に、本発明では、光反応基と光学特性に大きく影響するメソゲン基を分離することでより精密に複雑な屈折率異方性の制御が可能であり、該メソゲン基の配向を重合により固定できることから、光学特性と安定性に優れた光学異方性フィルムが得られる。
本発明の光学異方性フィルムは、平面方向の最大屈折率をnx、平面方向の最小屈折率をny、厚さ方向の屈折率をnzとした場合、nx>nz>nyの関係式を有し、VAモードやIPSモード用の光学補償フィルムに適用できる。
According to the present invention, an optically anisotropic film having excellent production suitability and improved stability can be provided. In particular, in the present invention, it is possible to control the refractive index anisotropy more precisely by separating a photoreactive group and a mesogenic group that greatly affects optical properties, and the orientation of the mesogenic group can be fixed by polymerization. Thus, an optically anisotropic film excellent in optical properties and stability can be obtained.
The optically anisotropic film of the present invention has a relational expression of nx>nz> ny, where nx is the maximum refractive index in the plane direction, ny is the minimum refractive index in the plane direction, and nz is the refractive index in the thickness direction. It can be applied to an optical compensation film for VA mode or IPS mode.
Claims (14)
一般式(1)
General formula (1)
一般式(2)
General formula (2)
一般式(3)
General formula (3)
一般式(1)
一般式(2)
General formula (1)
General formula (2)
Priority Applications (1)
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