JP2008081728A - Composite fine particles, method for producing the same, and coating composition containing the composite fine particles and optical film - Google Patents
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- 239000010419 fine particle Substances 0.000 title claims abstract description 125
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 104
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title claims description 69
- 239000012788 optical film Substances 0.000 title claims description 15
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims abstract description 62
- 239000007771 core particle Substances 0.000 claims abstract description 59
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 140
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 131
- -1 polysiloxane group Polymers 0.000 claims description 105
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 claims description 80
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 79
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 25
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 18
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 16
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 16
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 16
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 13
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 10
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 claims description 9
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 7
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract description 54
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 88
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 35
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 33
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 30
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 28
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 27
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 27
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 25
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 16
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 15
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 13
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 13
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 13
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 9
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 9
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 9
- DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 2-isocyanatoethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN=C=O DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 8
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 8
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 8
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 8
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 7
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000002585 base Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 7
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 7
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 7
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 7
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanobutan-2-yldiazenyl)-2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CC)C#N AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 6
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 6
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 5
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 4
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- KUGVQHLGVGPAIZ-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-henicosafluorodecan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(F)(C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F KUGVQHLGVGPAIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 3
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 3
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QASBHTCRFDZQAM-UHFFFAOYSA-N (2-isocyanato-2-methyl-3-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)N=C=O QASBHTCRFDZQAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATOUXIOKEJWULN-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-2,2,4-trimethylhexane Chemical compound O=C=NCCC(C)CC(C)(C)CN=C=O ATOUXIOKEJWULN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YZUPZGFPHUVJKC-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-methoxyethane Chemical compound COCCBr YZUPZGFPHUVJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- VGWJKDPTLUDSJT-UHFFFAOYSA-N diethyl dimethyl silicate Chemical compound CCO[Si](OC)(OC)OCC VGWJKDPTLUDSJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 238000010137 moulding (plastic) Methods 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000000985 reflectance spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N triacetyloxysilyl acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YOBOXHGSEJBUPB-MTOQALJVSA-N (z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;zirconium Chemical compound [Zr].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O YOBOXHGSEJBUPB-MTOQALJVSA-N 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical class C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKSUVRWJZCEYQQ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethoxyethylbenzene Chemical compound COC(C)(OC)C1=CC=CC=C1 XKSUVRWJZCEYQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTZUIIAIAKMWLI-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=CC=C1N=C=O MTZUIIAIAKMWLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940058015 1,3-butylene glycol Drugs 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobutane Chemical compound O=C=NCCCCN=C=O OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC(C)=C3SC2=C1 LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUBNJSZGANKUGX-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=C(C)C=C1 PUBNJSZGANKUGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOGPDSATLSAZEK-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(N)=CC=C3C(=O)C2=C1 XOGPDSATLSAZEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHEQEPCAIFTNHE-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(2-hydroxyethyl)amino]ethanol butan-1-olate zirconium(4+) Chemical compound N(CCO)(CCO)CCO.[O-]CCCC.[Zr+4].[O-]CCCC.[O-]CCCC.[O-]CCCC AHEQEPCAIFTNHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTXWGMUMDPYXNN-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-] KTXWGMUMDPYXNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJQMXVDKXSQCDI-UHFFFAOYSA-N 2-ethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3SC2=C1 YJQMXVDKXSQCDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTQHSUHILQWIOM-UHFFFAOYSA-J 2-hydroxypropanoate titanium(4+) dihydroxide Chemical compound O[Ti++]O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O DTQHSUHILQWIOM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSMGLVDZZMBWQB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 BSMGLVDZZMBWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLSFWPFWEPGCJJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoyloxysilicon Chemical compound CC(=C)C(=O)O[Si] NLSFWPFWEPGCJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C(=O)C2=C1 YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXRGSJAOLKBZLU-UHFFFAOYSA-N 3-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CC1CCCCNC1=O MXRGSJAOLKBZLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVQPNKXSWMVRDZ-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCN=C=O HVQPNKXSWMVRDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORTCGSWQDZPULK-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCN=C=O ORTCGSWQDZPULK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUFCMRCMPHIFTR-UHFFFAOYSA-N 5-(dimethylsulfamoyl)-2-methylfuran-3-carboxylic acid Chemical compound CN(C)S(=O)(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C)O1 DUFCMRCMPHIFTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZJANSMXMCEDNT-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=2C(C3=CC=CC=C3C(C2C=C1)=O)=O.ClC=1C(=C(C(=O)C2=CC=CC=C2)C=CC1)Cl Chemical compound CC1=CC=2C(C3=CC=CC=C3C(C2C=C1)=O)=O.ClC=1C(=C(C(=O)C2=CC=CC=C2)C=CC1)Cl MZJANSMXMCEDNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLQSRTKDOLFPQJ-UHFFFAOYSA-M CCCCO[Ti+](OCCCC)OCCCC.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O Chemical compound CCCCO[Ti+](OCCCC)OCCCC.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O KLQSRTKDOLFPQJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XVZXOLOFWKSDSR-UHFFFAOYSA-N Cc1cc(C)c([C]=O)c(C)c1 Chemical group Cc1cc(C)c([C]=O)c(C)c1 XVZXOLOFWKSDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWIUCDPMECCOAF-UHFFFAOYSA-N OC(C(=O)C1=CC=CC=C1)(C)C.C(C)OC(C(=O)C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)OCC Chemical compound OC(C(=O)C1=CC=CC=C1)(C)C.C(C)OC(C(=O)C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)OCC VWIUCDPMECCOAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002656 O–Si–O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical class C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000034189 Sclerosis Diseases 0.000 description 1
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N [(2R,3S,4S,5R,6R)-5-acetyloxy-3,4,6-trihydroxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound CC(=O)OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H]([C@@H](O1)O)OC(=O)C)O)O SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N 0.000 description 1
- MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N [CH2]CN(CC)CC Chemical group [CH2]CN(CC)CC MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APISDPPWBOKQCL-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(dimethoxy)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC)(OC)OC(C)=O APISDPPWBOKQCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(dimethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)OC(C)=O RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXBFLNPZHXDQLV-UHFFFAOYSA-N [cyclohexyl(diisocyanato)methyl]cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1C(N=C=O)(N=C=O)C1CCCCC1 KXBFLNPZHXDQLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFTBEOXZDNOOFG-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methoxy)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC)(OC(C)=O)OC(C)=O SFTBEOXZDNOOFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCOC(=O)C=C RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 229940081735 acetylcellulose Drugs 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N aluminium triethoxide Chemical compound CCO[Al](OCC)OCC JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000002519 antifouling agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFVHVYKVRGKLNK-UHFFFAOYSA-N bis(4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 RFVHVYKVRGKLNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDVNNDYBCWZVTI-UHFFFAOYSA-N bis[4-(ethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(NCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(NCC)C=C1 QDVNNDYBCWZVTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- LGSNSXWSNMARLH-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol titanium Chemical compound C(CCC)O.[Ti].C(CCC)O LGSNSXWSNMARLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFQYHVSLZNFHTP-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate pentane-2,4-dione zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CC(=O)CC(C)=O BFQYHVSLZNFHTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- 125000006226 butoxyethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011246 composite particle Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIQKWYUGPPFMBV-UHFFFAOYSA-N diisocyanatomethane Chemical compound O=C=NCN=C=O KIQKWYUGPPFMBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- UARGAUQGVANXCB-UHFFFAOYSA-N ethanol;zirconium Chemical compound [Zr].CCO.CCO.CCO.CCO UARGAUQGVANXCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITAHRPSKCCPKOK-UHFFFAOYSA-N ethyl trimethyl silicate Chemical compound CCO[Si](OC)(OC)OC ITAHRPSKCCPKOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000006081 fluorescent whitening agent Substances 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- NDJGGFVLWCNXSH-UHFFFAOYSA-N hydroxy(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](O)(OC)OC NDJGGFVLWCNXSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052806 inorganic carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012796 inorganic flame retardant Substances 0.000 description 1
- 229910052816 inorganic phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052920 inorganic sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUEJBAKNYNGFTN-UHFFFAOYSA-N isocyanatomethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCN=C=O BUEJBAKNYNGFTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOVRCVYQPBQVTL-UHFFFAOYSA-N isocyanatomethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCN=C=O FOVRCVYQPBQVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000006078 metal deactivator Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001960 metal nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical class 0.000 description 1
- RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N methacryloyloxyethyl isocyanate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN=C=O RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N methanol;titanium Chemical compound [Ti].OC.OC.OC.OC ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQBCXNQILNPAPX-UHFFFAOYSA-N methoxy(dimethyl)alumane Chemical compound [O-]C.C[Al+]C BQBCXNQILNPAPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTSYWKJYFPPRAP-UHFFFAOYSA-N n-(butoxymethyl)prop-2-enamide Chemical compound CCCCOCNC(=O)C=C UTSYWKJYFPPRAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005004 perfluoroethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N phosphonic acid group Chemical group P(O)(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920006112 polar polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920006290 polyethylene naphthalate film Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N potassium ethoxide Chemical compound [K+].CC[O-] RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N potassium methoxide Chemical compound [K+].[O-]C BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCWYYHBWCZYDNB-UHFFFAOYSA-N propan-2-ol;zirconium Chemical compound [Zr].CC(C)O.CC(C)O.CC(C)O.CC(C)O BCWYYHBWCZYDNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- XAYPAFVCTJKRJU-UHFFFAOYSA-N silyl 2,2,2-trimethoxyacetate Chemical compound COC(C(=O)O[SiH3])(OC)OC XAYPAFVCTJKRJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007767 slide coating Methods 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- MYWQGROTKMBNKN-UHFFFAOYSA-N tributoxyalumane Chemical compound [Al+3].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] MYWQGROTKMBNKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYUZFGQCEXHZQV-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hydroxy)silane Chemical compound CCO[Si](O)(OCC)OCC FYUZFGQCEXHZQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAEJRRZPRZCUBE-UHFFFAOYSA-N trimethoxyalumane Chemical compound [Al+3].[O-]C.[O-]C.[O-]C UAEJRRZPRZCUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHUNJMXHQHHWQP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)C QHUNJMXHQHHWQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 229920001959 vinylidene polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 150000007964 xanthones Chemical class 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
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Abstract
Description
本発明は、複合微粒子およびその製造方法に関する。より詳細には、本発明は、優れた硬化性を有し、かつ、密着性と分散安定性とを両立し得る複合微粒子およびその簡便な製造方法に関する。 The present invention relates to composite fine particles and a method for producing the same. More specifically, the present invention relates to composite fine particles having excellent curability and capable of achieving both adhesion and dispersion stability and a simple production method thereof.
近年、コーティング材料として、耐摩耗性および硬化性に優れ、透明な硬化膜を与える材料が求められている。このような要求に応えるために、種々の無機微粒子(例えば、コロイダルシリカのようなシリカ微粒子)の表面を重合性官能基で修飾した反応性微粒子を配合した材料が数多く提案されている。 In recent years, a material that is excellent in wear resistance and curability and gives a transparent cured film has been demanded as a coating material. In order to meet such a demand, many materials have been proposed in which reactive fine particles obtained by modifying the surface of various inorganic fine particles (for example, silica fine particles such as colloidal silica) with a polymerizable functional group have been proposed.
例えば、特許文献1には、コロイダルシリカの表面をメタクリロキシシランで修飾した粒子とアクリレートとを含む組成物を、光硬化型のコーティング材料として用いることが開示されている。また、特許文献2および3には、シリカ微粒子と重合性不飽和基を有する有機シラン化合物とを反応させて、反応性シリカを製造する方法が開示されている。 For example, Patent Document 1 discloses the use of a composition containing acrylate and particles obtained by modifying the surface of colloidal silica with methacryloxysilane as a photocurable coating material. Patent Documents 2 and 3 disclose a method for producing reactive silica by reacting silica fine particles with an organic silane compound having a polymerizable unsaturated group.
しかし、上記技術はいずれも、微粒子表面に導入できる重合性官能基の量が不十分であり、その結果、得られる反応性微粒子の耐摩耗性および硬化性が不十分である。さらに、従来の技術で得られる反応性微粒子はいずれも、分散安定性が不十分である。
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、優れた硬化性を有し、かつ、密着性と分散安定性とを両立し得る複合微粒子およびその簡便な製造方法を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above-described conventional problems, and the object of the present invention is to have composite fine particles having excellent curability and having both adhesion and dispersion stability, and the same The object is to provide a simple production method.
本発明の複合微粒子は、無機コア粒子と、該コア粒子表面の少なくとも一部に結合した有機ポリマーとを有し、該有機ポリマーは、その側鎖に重合性官能基を有する。 The composite fine particle of the present invention has an inorganic core particle and an organic polymer bonded to at least a part of the surface of the core particle, and the organic polymer has a polymerizable functional group in its side chain.
好ましい実施形態においては、上記重合性官能基は、ウレタン結合を介して上記有機ポリマー主鎖に結合されている。好ましい実施形態においては、上記重合性官能基は、エチレン性不飽和基である。好ましい実施形態においては、上記有機ポリマーはアクリル系ポリマーである。 In a preferred embodiment, the polymerizable functional group is bonded to the organic polymer main chain via a urethane bond. In a preferred embodiment, the polymerizable functional group is an ethylenically unsaturated group. In a preferred embodiment, the organic polymer is an acrylic polymer.
本発明の別の局面によれば、複合微粒子の製造方法が提供される。この製造方法は、活性水素を有する官能基およびポリシロキサン基を側鎖に有する含珪素ポリマーと、重合性官能基を有するイソシアネート化合物とを反応させる工程と;該反応生成物と、加水分解により金属酸化物を生成し得る金属化合物とを反応させる工程と、を含む。 According to another aspect of the present invention, a method for producing composite fine particles is provided. This production method comprises a step of reacting a silicon-containing polymer having a functional group having active hydrogen and a polysiloxane group in the side chain with an isocyanate compound having a polymerizable functional group; the reaction product and a metal by hydrolysis. Reacting with a metal compound capable of forming an oxide.
好ましい実施形態においては、上記重合性官能基は、エチレン性不飽和基である。好ましい実施形態においては、上記含珪素ポリマーはアクリル系ポリマーである。 In a preferred embodiment, the polymerizable functional group is an ethylenically unsaturated group. In a preferred embodiment, the silicon-containing polymer is an acrylic polymer.
本発明のさらに別の局面によれば、コーティング組成物が提供される。このコーティング組成物は、上記複合微粒子と多官能重合性化合物とを含む。あるいは、低屈折率コーティング組成物が提供される。この低屈折率コーティング組成物は、上記複合微粒子と多官能重合性化合物とを含み、該複合微粒子中の有機ポリマーはフッ素原子を含む部分を有する。好ましい実施形態においては、これらのコーティング組成物は、重合開始剤および溶媒をさらに含む。 According to yet another aspect of the invention, a coating composition is provided. This coating composition contains the composite fine particles and a polyfunctional polymerizable compound. Alternatively, a low refractive index coating composition is provided. This low refractive index coating composition contains the composite fine particles and a polyfunctional polymerizable compound, and the organic polymer in the composite fine particles has a portion containing a fluorine atom. In preferred embodiments, these coating compositions further comprise a polymerization initiator and a solvent.
本発明のさらに別の局面によれば、光学フィルムが提供される。この光学フィルムは、上記コーティング組成物の塗布層を含む。1つの実施形態においては、反射防止フィルムが提供される。この反射防止フィルムは、上記低屈折率コーティング組成物の塗布層を含む。別の実施形態においては、偏光板が提供される。この偏光板は、偏光子と、上記反射防止フィルムとを含む。さらに別の実施形態においては、プラズマディスプレイ用光学フィルターが提供される。この光学フィルターは、支持体と、上記反射防止フィルムとを含む。 According to still another aspect of the present invention, an optical film is provided. This optical film includes a coating layer of the coating composition. In one embodiment, an antireflective film is provided. This antireflection film includes a coating layer of the low refractive index coating composition. In another embodiment, a polarizing plate is provided. The polarizing plate includes a polarizer and the antireflection film. In yet another embodiment, an optical filter for a plasma display is provided. The optical filter includes a support and the antireflection film.
本発明のさらに別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は、上記反射防止フィルム、上記偏光板および上記光学フィルターから選択される少なくとも1つを含む。 According to still another aspect of the present invention, an image display device is provided. The image display device includes at least one selected from the antireflection film, the polarizing plate, and the optical filter.
本発明によれば、コア粒子表面に結合した有機ポリマーの側鎖に重合性官能基(好ましくは、エチレン性不飽和基)を導入することにより、複合微粒子への官能基導入量を従来に比べて格段に増大させることができる。さらに、特定の結合(代表的には、ウレタン結合)を介して官能基と有機ポリマー主鎖が結合することにより、主に有機ポリマー主鎖に起因して溶媒への溶解性および分散性が確保され、かつ、主に上記特定の結合に起因して密着性が大幅に改善される。したがって、優れた硬化性(硬度、耐摩耗性、耐擦傷性)を有し、かつ、密着性と分散安定性とを両立し得る複合微粒子が得られる。 According to the present invention, by introducing a polymerizable functional group (preferably, an ethylenically unsaturated group) into the side chain of the organic polymer bonded to the surface of the core particle, the amount of functional group introduced into the composite fine particles can be reduced compared to the conventional amount. Can be greatly increased. Furthermore, functional groups and organic polymer main chains are bonded via specific bonds (typically urethane bonds), ensuring solubility and dispersibility in solvents mainly due to the organic polymer main chains. In addition, adhesion is largely improved mainly due to the specific bond. Therefore, composite fine particles having excellent curability (hardness, wear resistance, scratch resistance) and having both adhesion and dispersion stability can be obtained.
本発明の複合微粒子は、無機コア粒子と、該コア粒子表面の少なくとも一部に結合した有機ポリマーとを有する。本明細書において「コア粒子と有機ポリマーとの結合」とは、物理的な付着ではなく、有機ポリマーとコア粒子との間に化学結合が生成していることを意味する。化学結合が生成しているとは、例えば、複合微粒子を溶剤で洗ったときに洗液中に有機ポリマーが実質的に検出されないことを意味する。上記有機ポリマーは、その側鎖に重合性官能基を有する。言い換えれば、重合性官能基はコア粒子表面に直接結合するのではなく、重合性官能基とコア粒子との間に有機ポリマーが介在している。好ましくは、重合性官能基は、エチレン性不飽和基である。製造容易で、かつ、粒子の硬化性に優れるからである。 The composite fine particle of the present invention has inorganic core particles and an organic polymer bonded to at least a part of the surface of the core particles. In the present specification, “bonding between the core particle and the organic polymer” means that a chemical bond is formed between the organic polymer and the core particle, not physical adhesion. The chemical bond is generated means that, for example, when the composite fine particles are washed with a solvent, the organic polymer is not substantially detected in the washing solution. The organic polymer has a polymerizable functional group in its side chain. In other words, the polymerizable functional group is not directly bonded to the surface of the core particle, but an organic polymer is interposed between the polymerizable functional group and the core particle. Preferably, the polymerizable functional group is an ethylenically unsaturated group. This is because the production is easy and the curability of the particles is excellent.
A.無機コア粒子
上記無機コア粒子は、任意の適切な無機物(例えば、金属単体、無機酸化物、無機炭酸塩、無機硫酸塩、無機リン酸塩)から構成される粒子である。無機物は、好ましくは無機酸化物である。本明細書において「無機酸化物」とは、金属元素が主に酸素原子との結合を介して3次元のネットワークを構成した種々の含酸素金属化合物をいう。無機酸化物を構成する金属元素としては、たとえば、元素周期律表II〜VI族から選ばれる元素が好ましく、III〜V族から選ばれる元素がさらに好ましい。その中でも、Si、Al、Ti、Zrから選ばれる元素が特に好ましい。金属元素がSiであるシリカが最も好ましい。製造し易く、入手が容易だからである。コア粒子は、1種の無機酸化物で構成されてもよく、2種以上の無機酸化物で構成されてもよい。なお、本明細書においては、便宜上、金属および半金属を総称して金属と称することがある。
A. Inorganic Core Particle The inorganic core particle is a particle composed of any appropriate inorganic substance (for example, a simple metal, an inorganic oxide, an inorganic carbonate, an inorganic sulfate, or an inorganic phosphate). The inorganic substance is preferably an inorganic oxide. In the present specification, the “inorganic oxide” refers to various oxygen-containing metal compounds in which a metal element mainly forms a three-dimensional network through bonds with oxygen atoms. As the metal element constituting the inorganic oxide, for example, an element selected from Group II to VI of the Periodic Table of Elements is preferable, and an element selected from Group III to V is more preferable. Among these, an element selected from Si, Al, Ti, and Zr is particularly preferable. Most preferred is silica in which the metal element is Si. It is easy to manufacture and easy to obtain. The core particle may be composed of one kind of inorganic oxide or may be composed of two or more kinds of inorganic oxides. In this specification, for the sake of convenience, metals and semimetals may be collectively referred to as metals.
コア粒子は、任意の適切な形状(例えば、球状、針状、板状、鱗片状、破砕粒状)を有する。コア粒子の平均粒子径は、好ましくは5〜200nm、さらに好ましくは5〜100nm、最も好ましくは5〜50nmである。コア粒子の平均粒子径が5nm未満であると、複合微粒子の表面エネルギーが高くなり、複合微粒子の凝集が起こりやすくなる。コア粒子の平均粒子径が200nmを超えると、得られる被膜の透明性が低下するおそれがある。 The core particle has any suitable shape (for example, spherical shape, needle shape, plate shape, scale shape, and crushed particle shape). The average particle diameter of the core particles is preferably 5 to 200 nm, more preferably 5 to 100 nm, and most preferably 5 to 50 nm. When the average particle diameter of the core particles is less than 5 nm, the surface energy of the composite fine particles becomes high, and the composite fine particles tend to aggregate. If the average particle diameter of the core particles exceeds 200 nm, the transparency of the resulting coating may be reduced.
コア粒子の粒子径の変動係数(粒子径分布)は、好ましくは50%以下、さらに好ましくは40%以下、最も好ましくは30%以下である。変動係数が50%を超えると(コア粒子の粒子径分布が大きすぎると)、得られる被膜表面の凹凸が激しくなり、被膜の平滑性が失われるおそれがある。 The variation coefficient (particle size distribution) of the particle diameter of the core particles is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, and most preferably 30% or less. If the coefficient of variation exceeds 50% (if the particle size distribution of the core particles is too large), the resulting coating film surface becomes uneven and the smoothness of the coating film may be lost.
B.有機ポリマー
上記有機ポリマーは、上記コア粒子の表面の少なくとも一部に結合している。有機ポリマーがコア粒子の表面に結合し、当該ポリマー側鎖に重合性官能基(好ましくは、エチレン性不飽和基)を導入することにより(すなわち、重合性官能基とコア粒子との間に有機ポリマーを介在させることにより)、従来に比べて格段に多量の官能基を複合微粒子に導入することができる。その結果、非常に優れた硬度を有する塗膜を得ることができる。本発明においては、有機ポリマーは、その一部がコア粒子に内包されていてもよい。この場合、コア粒子に適度な柔軟性と靱性を付与することができる。コア粒子内の有機ポリマーの有無は、例えば、複合微粒子を500〜700℃で加熱して有機ポリマーを熱分解した後のコア粒子の比表面積の測定値を、コア粒子の比表面積の理論値(TEM等で測定されるコア粒子の直径より算出される)と比較することにより、確認することができる。具体的には、有機ポリマーがコア粒子に内包されている場合には、有機ポリマーの熱分解によりコア粒子内に多数の細孔が生じるので、熱分解後のコア粒子の比表面積が理論値よりもかなり大きい値となる。
B. Organic polymer The organic polymer is bonded to at least a part of the surface of the core particle. An organic polymer is bonded to the surface of the core particle, and an organic functional group (preferably, an ethylenically unsaturated group) is introduced into the polymer side chain (that is, organic between the polymerizable functional group and the core particle). By interposing a polymer), a much larger amount of functional groups can be introduced into the composite fine particles than in the past. As a result, a coating film having very excellent hardness can be obtained. In the present invention, a part of the organic polymer may be encapsulated in the core particles. In this case, moderate flexibility and toughness can be imparted to the core particles. The presence / absence of the organic polymer in the core particle is determined by, for example, measuring the specific surface area of the core particle after the composite fine particles are heated at 500 to 700 ° C. to thermally decompose the organic polymer, and the theoretical value of the specific surface area of the core particle ( It can be confirmed by comparing with (calculated from the diameter of the core particle measured by TEM or the like). Specifically, when the organic polymer is encapsulated in the core particle, a large number of pores are generated in the core particle due to the thermal decomposition of the organic polymer, so the specific surface area of the core particle after the thermal decomposition is lower than the theoretical value. Is also quite large.
有機ポリマーは、任意の適切な構造(例えば、直鎖状、分枝状、架橋構造)を有し得る。有機ポリマーの具体例としては、アクリル系ポリマー、スチレン系ポリマー、オレフィン系ポリマー(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン)、ポリエステル(例えば、ポリエチレンテレフタレート)、ビニル系ポリマー(ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル)、ポリ塩化ビニリデン、およびこれらの共重合体が挙げられる。これらをアミノ基、エポキシ基、水酸基、カルボキシル基等の官能基で一部変性したポリマーを用いてもよい。アクリル系ポリマーが好ましい。アクリル系ポリマーは、適切な塗膜形成能を有し、塗料等の被膜形成組成物用途に好適である。上記アクリル系ポリマーにおけるアクリル単位(繰り返し単位)としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート単位、エチル(メタ)アクリレート単位が挙げられる。このような繰り返し単位を有するアクリル系ポリマーによれば、被膜の耐汚染性を向上させることができる。 The organic polymer can have any suitable structure (eg, linear, branched, cross-linked structure). Specific examples of organic polymers include acrylic polymers, styrene polymers, olefin polymers (eg, polyethylene, polypropylene), polyesters (eg, polyethylene terephthalate), vinyl polymers (polyvinyl acetate, polyvinyl chloride), polychlorinated polymers. Examples include vinylidene and copolymers thereof. You may use the polymer which modified these partially by functional groups, such as an amino group, an epoxy group, a hydroxyl group, and a carboxyl group. Acrylic polymers are preferred. The acrylic polymer has an appropriate coating film forming ability and is suitable for use in a film forming composition such as a paint. Examples of the acrylic unit (repeating unit) in the acrylic polymer include a methyl (meth) acrylate unit and an ethyl (meth) acrylate unit. According to the acrylic polymer having such a repeating unit, the stain resistance of the coating can be improved.
上記有機ポリマーの分子量(数平均分子量)は、好ましくは200,000以下、さらに好ましくは50,000以下、最も好ましくは3,000〜30,000である。分子量がこのような範囲であれば、多量の官能基を適切な間隔で側鎖に導入することができるので、非常に優れた硬化性を有する複合微粒子が得られ、かつ、当該複合微粒子の分散安定性も良好に維持できる。 The molecular weight (number average molecular weight) of the organic polymer is preferably 200,000 or less, more preferably 50,000 or less, and most preferably 3,000 to 30,000. If the molecular weight is in such a range, a large amount of functional groups can be introduced into the side chain at appropriate intervals, so that composite fine particles having extremely excellent curability can be obtained, and the dispersion of the composite fine particles can be obtained. Stability can be maintained well.
上記有機ポリマーは、その側鎖に重合性官能基を有する。言い換えれば、重合性官能基はコア粒子表面に直接結合するのではなく、重合性官能基とコア粒子との間に有機ポリマーが介在している。このような構造を採用することにより、非常に優れた硬化性を有し、かつ密着性と分散安定性とを両立し得る複合微粒子を得ることができる。好ましくは、重合性官能基は、エチレン性不飽和基である。エチレン性不飽和基の具体例としては、末端ビニル基、アリル基、(メタ)アクリル基、α−置換メタクリル基、エチレン基、アセチレン基が挙げられる。これらのエチレン性不飽和基は、単独で有機ポリマー側鎖に導入されてもよく、2種以上を組み合わせて導入されてもよい。 The organic polymer has a polymerizable functional group in its side chain. In other words, the polymerizable functional group is not directly bonded to the surface of the core particle, but an organic polymer is interposed between the polymerizable functional group and the core particle. By adopting such a structure, it is possible to obtain composite fine particles having extremely excellent curability and capable of achieving both adhesion and dispersion stability. Preferably, the polymerizable functional group is an ethylenically unsaturated group. Specific examples of the ethylenically unsaturated group include a terminal vinyl group, an allyl group, a (meth) acryl group, an α-substituted methacryl group, an ethylene group, and an acetylene group. These ethylenically unsaturated groups may be introduced singly into the organic polymer side chain, or may be introduced in combination of two or more.
上記重合性官能基は、上記有機ポリマーに直接結合していてもよく、任意の適切な結合を介して結合していてもよい。好ましくは、重合性官能基は、ウレタン結合を介して有機ポリマー主鎖に結合されている。この場合には、ゲル化等を起こすことなく、非常に高い反応効率で重合性官能基を導入することができる。 The polymerizable functional group may be directly bonded to the organic polymer, or may be bonded through any appropriate bond. Preferably, the polymerizable functional group is bonded to the organic polymer main chain via a urethane bond. In this case, the polymerizable functional group can be introduced with very high reaction efficiency without causing gelation or the like.
複合微粒子中の重合性官能基の含有量は、複合微粒子1g当たり、好ましくは0.1〜5mmol/g、さらに好ましくは0.7〜3mmol/gである。このような含有量であれば、硬化性と分散安定性とのバランスに優れた複合微粒子を得ることができる。 The content of the polymerizable functional group in the composite fine particles is preferably 0.1 to 5 mmol / g, more preferably 0.7 to 3 mmol / g, per 1 g of the composite fine particles. With such a content, composite fine particles having an excellent balance between curability and dispersion stability can be obtained.
C.複合微粒子の製造方法
本発明の複合微粒子の製造方法は、1つの実施形態においては、活性水素を有する官能基およびポリシロキサン基を側鎖に有する含珪素ポリマーと、重合性官能基(好ましくは、エチレン性不飽和基)を有するイソシアネート化合物とを反応させる工程と;その反応生成物と、加水分解により金属酸化物を生成し得る金属化合物とを反応させる工程と、を含む(方法1)。別の実施形態においては、活性水素を有する官能基およびポリシロキサン基を側鎖に有する含珪素ポリマーと、加水分解により金属酸化物を生成し得る金属化合物とを反応させる工程と;その反応生成物と、重合性官能基(好ましくは、エチレン性不飽和基)を有するイソシアネート化合物とを反応させる工程と、を含む(方法2)。方法1が好ましい。反応効率が高く、重合性官能基を複合微粒子表面の有機ポリマーの側鎖に効率的に導入できるからである。以下、簡単のため、方法1について重点的に説明する。
C. In one embodiment, the method for producing composite fine particles of the present invention comprises a silicon-containing polymer having a functional group having active hydrogen and a polysiloxane group in the side chain, and a polymerizable functional group (preferably, Reacting with an isocyanate compound having an ethylenically unsaturated group); reacting the reaction product with a metal compound capable of producing a metal oxide by hydrolysis (Method 1). In another embodiment, a step of reacting a silicon-containing polymer having a functional group having active hydrogen and a polysiloxane group in a side chain with a metal compound capable of generating a metal oxide by hydrolysis; and a reaction product thereof And a step of reacting an isocyanate compound having a polymerizable functional group (preferably an ethylenically unsaturated group) (Method 2). Method 1 is preferred. This is because the reaction efficiency is high and the polymerizable functional group can be efficiently introduced into the side chain of the organic polymer on the surface of the composite fine particles. Hereinafter, for the sake of simplicity, Method 1 will be mainly described.
上記含珪素ポリマーの主鎖は、炭素を主体とするものであり、主鎖結合にあずかる炭素原子が主鎖の50〜100モル%を占め、残部がN、O、S、Si、P等の元素からなるものが入手の容易さ等の理由で好ましい。含珪素ポリマーの主鎖の構造および具体例については、上記B項で有機ポリマーに関して説明したとおりである。上記B項に記載の有機ポリマーは含珪素ポリマーの主鎖に由来する。 The main chain of the silicon-containing polymer is mainly composed of carbon, and carbon atoms participating in the main chain bond occupy 50 to 100 mol% of the main chain, and the balance is N, O, S, Si, P, or the like. Those composed of elements are preferred for reasons such as availability. The structure and specific examples of the main chain of the silicon-containing polymer are as described for the organic polymer in the above section B. The organic polymer described in the above item B is derived from the main chain of the silicon-containing polymer.
上記活性水素を有する官能基の代表例としては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基が挙げられる。水酸基が好ましい。含珪素ポリマーの側鎖への導入が容易で、かつ、イソシアネート化合物との反応性に優れるからである。当該官能基は、含珪素ポリマーの主鎖に直接結合していてもよく、任意の適切な基(例えば、メチレン基)を介して結合していてもよい。 Representative examples of the functional group having active hydrogen include a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, and a mercapto group. Hydroxyl groups are preferred. This is because the introduction of the silicon-containing polymer into the side chain is easy and the reactivity with the isocyanate compound is excellent. The functional group may be directly bonded to the main chain of the silicon-containing polymer, or may be bonded via any appropriate group (for example, a methylene group).
含珪素ポリマーにおける上記官能基の含有量は、好ましくは10〜80モル%、さらに好ましくは30〜60モル%である。このような範囲であれば、所望の含有量で重合性官能基を有する複合微粒子が得られる。 Content of the said functional group in a silicon-containing polymer becomes like this. Preferably it is 10-80 mol%, More preferably, it is 30-60 mol%. Within such a range, composite fine particles having a polymerizable functional group with a desired content can be obtained.
本明細書において「ポリシロキサン基」とは、本発明の効果が得られるコア粒子を形成し得る数のシロキサン結合を含む基をいう。したがって、「ポリシロキサン基」は、2個以上のSi原子がポリシロキサン結合(Si−O−Si−O結合)により直鎖状または分枝状に連結してなる基のみならず、多官能シロキサン結合を構成する1個のSi原子を含む基(例えば、(連結鎖)−R−Si−(OR)3:Rは任意の適切な置換基)をも包含する。好ましくは、ポリシロキサン基は、ポリシロキサン結合を含み、かつ、少なくとも1個のSi−OR1基を含有する構造を有する。ここで、R1は、水素原子、置換または非置換のアルキル基、ならびに、置換または非置換のアシル基から選ばれる少なくとも一種の基であり、R1が1分子中に複数ある場合、R1は同一であってもよく異なっていてもよい。R1としてのアルキル基またはアシル基の炭素数は、目的に応じて適切な数が採用され得る。当該炭素数は、好ましくは1〜5である。R1O基の加水分解速度が速いからである。炭素数1〜5のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、iso−プロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基が挙げられる。炭素数1〜5のアシル基の具体例としては、アセチル基、プロピオニル基が挙げられる。アルキル基またはアシル基に対する置換基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;アセチル基、プロピオニル基等のアシル基;塩素、臭素等のハロゲンが挙げられる。R1としては、水素原子、メチル基、エチル基が好ましく、メチル基が最も好ましい。R1O基の加水分解・縮合速度がさらに速くなるからである。 In the present specification, the “polysiloxane group” refers to a group containing a number of siloxane bonds that can form core particles capable of obtaining the effects of the present invention. Therefore, the “polysiloxane group” is not only a group in which two or more Si atoms are connected in a linear or branched manner by a polysiloxane bond (Si—O—Si—O bond), but also a polyfunctional siloxane. It also includes a group containing one Si atom constituting a bond (for example, (linking chain) -R-Si- (OR) 3 : R is any suitable substituent). Preferably, the polysiloxane group has a structure containing a polysiloxane bond and containing at least one Si-OR 1 group. Here, R 1 is at least one group selected from a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, and a substituted or unsubstituted acyl group, and when R 1 is plural in one molecule, R 1 May be the same or different. The number of carbon atoms of the alkyl group or acyl group as R 1 may be an appropriate number depending on the purpose. The carbon number is preferably 1-5. This is because the hydrolysis rate of the R 1 O group is fast. Specific examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an iso-propyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and a pentyl group. Specific examples of the acyl group having 1 to 5 carbon atoms include an acetyl group and a propionyl group. Specific examples of the substituent for the alkyl group or acyl group include alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group; acyl groups such as acetyl group and propionyl group; and halogens such as chlorine and bromine. R 1 is preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and most preferably a methyl group. This is because the hydrolysis and condensation rate of the R 1 O group is further increased.
上記ポリシロキサン基に含まれるSi原子の個数は、目的に応じて任意の適切な個数が採用され得る。Si原子の個数は、ポリシロキサン基1個当たりの平均で、4個以上が好ましく、11個以上がさらに好ましい。上記Si−OR1基を数多く含有させることが可能となるからである。Si−OR1基中のR1O基は、含珪素ポリマー1分子当たり平均5個以上あるのが好ましく、20個以上あるのがさらに好ましい。R1O基は加水分解および/または縮合可能な官能基であるので、R1O基の個数が多いほど加水分解・縮合する反応点が増加し、ポリマーとコア粒子の結合が強固となる。 Any appropriate number of Si atoms contained in the polysiloxane group can be adopted depending on the purpose. The average number of Si atoms per polysiloxane group is preferably 4 or more, and more preferably 11 or more. It is because it becomes possible to contain many said Si-OR 1 groups. The average number of R 1 O groups in one Si—OR group is preferably 5 or more, more preferably 20 or more, per molecule of silicon-containing polymer. Since the R 1 O group is a functional group that can be hydrolyzed and / or condensed, the greater the number of R 1 O groups, the more reactive and condensing reaction points, and the stronger the bond between the polymer and the core particles.
上記ポリシロキサン基の具体例としては、ポリメチルメトキシシロキサン基、ポリエチルメトキシシロキサン基、ポリメチルエトキシシロキサン基、ポリエチルエトキシシロキサン基、ポリフェニルメトキシシロキサン基、ポリフェニルエトキシシロキサン基が挙げられる。 Specific examples of the polysiloxane group include a polymethylmethoxysiloxane group, a polyethylmethoxysiloxane group, a polymethylethoxysiloxane group, a polyethylethoxysiloxane group, a polyphenylmethoxysiloxane group, and a polyphenylethoxysiloxane group.
上記ポリシロキサン基中のSi原子は、有機鎖との結合またはポリシロキサン結合(Si−O−Si結合)にあずかるほかはすべてR1O基とのみ結合していることが好ましい。Si原子のイオン性がより高まり、その結果、R1O基の加水分解・縮合速度がより速くなるとともに、含珪素ポリマー中の反応点が増加し、より強固な骨格を有するコア粒子が得られるからである。このようなポリシロキサン基の具体例としては、ポリジメトキシシロキサン基、ポリジエトキシシロキサン基、ポリジiso−プロポキシシロキサン基、ポリn−ブトキシシロキサン基が挙げられる。 It is preferable that all the Si atoms in the polysiloxane group are bonded only to the R 1 O group except for the bond to the organic chain or the polysiloxane bond (Si—O—Si bond). As a result, the ionicity of the Si atom is further increased. As a result, the hydrolysis / condensation rate of the R 1 O group is increased, and the reactive sites in the silicon-containing polymer are increased, thereby obtaining core particles having a stronger skeleton. Because. Specific examples of such a polysiloxane group include a polydimethoxysiloxane group, a polydiethoxysiloxane group, a polydiiso-propoxysiloxane group, and a poly n-butoxysiloxane group.
上記ポリシロキサン基中のSi原子は、有機鎖と直接結合してもよく(例えば、Si−C結合を形成してもよく)、任意の適切な基または原子を介して結合してもよい(例えば、Si−O−C結合を形成してもよい)。好ましくは、Si原子は、有機鎖と直接結合している。当該結合部位が所望でない反応(例えば、加水分解、交換反応)を受けにくくなるからである。 The Si atom in the polysiloxane group may be directly bonded to the organic chain (for example, a Si—C bond may be formed), or may be bonded through any appropriate group or atom ( For example, a Si—O—C bond may be formed). Preferably, the Si atom is directly bonded to the organic chain. This is because the binding site is less susceptible to undesired reactions (for example, hydrolysis and exchange reaction).
含珪素ポリマーにおける上記ポリシロキサン基の含有量は、好ましくは0.5〜10モル%、さらに好ましくは0.5〜5モル%である。このような範囲であれば、所望の強度、形状、サイズ等を有するコア粒子が得られる。 Content of the said polysiloxane group in a silicon-containing polymer becomes like this. Preferably it is 0.5-10 mol%, More preferably, it is 0.5-5 mol%. If it is such a range, the core particle which has desired intensity | strength, a shape, size, etc. will be obtained.
含珪素ポリマーの分子量(数平均分子量)は、好ましくは200,000以下であり、さらに好ましくは50,000以下であり、特に好ましくは10,000〜30,000である。分子量が高すぎると、有機溶剤に溶解しない場合がある。分子量が低すぎると、重合性官能基の導入量が不十分となる場合がある。 The molecular weight (number average molecular weight) of the silicon-containing polymer is preferably 200,000 or less, more preferably 50,000 or less, and particularly preferably 10,000 to 30,000. If the molecular weight is too high, it may not dissolve in the organic solvent. If the molecular weight is too low, the amount of polymerizable functional groups introduced may be insufficient.
含珪素ポリマーは、任意の適切な方法により製造され得る。具体例としては、重合性ポリシロキサンの存在下、ラジカル重合性モノマーをラジカル(共)重合する方法が挙げられる。ここで、重合性ポリシロキサンは、シラン化合物と重合性官能基含有シランカップリング剤とを部分的に加水分解・縮合して得られる。 The silicon-containing polymer can be produced by any appropriate method. Specific examples include a method of radical (co) polymerizing a radically polymerizable monomer in the presence of a polymerizable polysiloxane. Here, the polymerizable polysiloxane is obtained by partially hydrolyzing and condensing a silane compound and a polymerizable functional group-containing silane coupling agent.
上記シラン化合物としては、所望のコア粒子が得られる限りにおいて任意の適切なシラン化合物が採用され得る。シラン化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、エトキシトリメトキシシラン、トリエトキシメトキシシラン、ジエトキシジメトキシシラン、テトラiso−プロポキシシラン、テトラブトキシシラン、トリメトキシヒドロキシシラン、トリエトキシヒドロキシシラン、メトキシトリアセトキシシラン、ジメトキシジアセトキシシラン、トリメトキシアセトキシシラン、テトラアセトキシシランが挙げられる。テトラメトキシシランが特に好ましい。シラン化合物は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Any appropriate silane compound can be adopted as the silane compound as long as desired core particles can be obtained. Specific examples of the silane compound include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, ethoxytrimethoxysilane, triethoxymethoxysilane, diethoxydimethoxysilane, tetraiso-propoxysilane, tetrabutoxysilane, trimethoxyhydroxysilane, and triethoxyhydroxysilane. , Methoxytriacetoxysilane, dimethoxydiacetoxysilane, trimethoxyacetoxysilane, and tetraacetoxysilane. Tetramethoxysilane is particularly preferred. A silane compound may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.
上記重合性官能基含有シランカップリング剤の具体例としては、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリエトキシシランが挙げられる。重合性官能基含有シランカップリング剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Specific examples of the polymerizable functional group-containing silane coupling agent include acryloxypropyltrimethoxysilane, acryloxypropyltriethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, and methacryloxypropyltriethoxysilane. The polymerizable functional group-containing silane coupling agent may be used alone or in combination of two or more.
上記シラン化合物と重合性官能基含有シランカップリング剤との加水分解・縮合反応は、任意の適切な条件下で行われ得る。代表的には、加水分解・縮合反応は溶液中で行われる。ここで、溶液とは、シラン化合物および重合性官能基含有シランカップリング剤を水および/または有機溶媒に溶解した液である。有機溶媒の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルエーテル等のエーテル類;メタノール、エタノール、iso−プロピルアルコール、n−ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類;塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類が挙げられる。有機溶媒は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The hydrolysis / condensation reaction between the silane compound and the polymerizable functional group-containing silane coupling agent may be performed under any appropriate conditions. Typically, the hydrolysis / condensation reaction is performed in a solution. Here, the solution is a solution obtained by dissolving a silane compound and a polymerizable functional group-containing silane coupling agent in water and / or an organic solvent. Specific examples of the organic solvent include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; esters such as methyl acetate and ethyl acetate; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; ethers such as tetrahydrofuran, dioxane and ethyl ether; Examples include alcohols such as methanol, ethanol, iso-propyl alcohol, n-butanol, ethylene glycol and propylene glycol; and halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform. An organic solvent may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.
上記加水分解・縮合反応は、無触媒で行ってもよく、触媒を用いて行ってもよい。好ましくは、触媒が用いられる。触媒としては、酸性触媒および塩基性触媒が挙げられる。酸性触媒の具体例としては、塩酸、硫酸、硝酸、燐酸等の無機酸類;酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、p−トルエンスルホン酸等の有機酸類;酸性イオン交換樹脂が挙げられる。塩基性触媒の具体例としては、アンモニア;トリエチルアミン、トリプロピルアミン等の有機アミン化合物;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属化合物;塩基性イオン交換樹脂等が挙げられる。酸性触媒が好ましい。部分的な加水分解・縮合反応の制御が容易だからである。触媒は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The hydrolysis / condensation reaction may be carried out without a catalyst or using a catalyst. Preferably, a catalyst is used. Examples of the catalyst include an acidic catalyst and a basic catalyst. Specific examples of the acidic catalyst include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, and phosphoric acid; organic acids such as acetic acid, propionic acid, oxalic acid, and p-toluenesulfonic acid; and acidic ion exchange resins. Specific examples of basic catalysts include ammonia; organic amine compounds such as triethylamine and tripropylamine; alkali metal compounds such as sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium methoxide, potassium ethoxide, sodium hydroxide, and potassium hydroxide. A basic ion exchange resin or the like. Acidic catalysts are preferred. This is because it is easy to control partial hydrolysis / condensation reactions. A catalyst may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.
上記加水分解・縮合反応の反応温度は好ましくは60〜100℃であり、総反応時間は好ましくは3〜6時間である。反応温度は、一定に制御してもよく、段階的に変化させてもよい。以上のようにして、重合性ポリシロキサンが得られる。 The reaction temperature of the hydrolysis / condensation reaction is preferably 60 to 100 ° C., and the total reaction time is preferably 3 to 6 hours. The reaction temperature may be controlled to be constant or may be changed stepwise. As described above, a polymerizable polysiloxane is obtained.
次に、上記重合性ポリシロキサンの存在下、ラジカル重合性モノマーをラジカル(共)重合して、含珪素ポリマーが得られる。ラジカル重合性モノマーとしては、例えば、アクリル系モノマー、スチレン系モノマー、オレフィン系モノマー、ビニル系モノマー、ポリエステルを形成するモノマー(例えば、ジカルボン酸とジアミン)が挙げられる。アクリル系モノマーが好ましい。適切な塗膜形成能を有する複合微粒子が得られるからである。アクリル系モノマーの具体例としては、(メタ)アクリル酸等のアクリル系カルボン酸;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸tert−ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリルトリデシル等の(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−ブトキシメチルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、(メタ)アクリル酸2−スルホン酸エチルが挙げられる。アクリル系モノマーは、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明においては、上記アクリル系モノマーと、活性水素を含む官能基を有するアクリル系モノマーとを共重合することが好ましい。活性水素を含む官能基を有するアクリル系モノマーの代表例としては、水酸基含有アクリル系モノマーが挙げられる。水酸基含有アクリル系モノマーの具体例としては、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル、カプロラクトン変性ヒドロキシ(メタ)アクリル酸エステル、フタル酸とプロピレングリコールから得られるエステルジオールの(メタ)アクリル酸モノエステルが挙げられる。 Next, a radically polymerizable monomer is radically (co) polymerized in the presence of the polymerizable polysiloxane to obtain a silicon-containing polymer. Examples of the radical polymerizable monomer include acrylic monomers, styrene monomers, olefin monomers, vinyl monomers, and monomers that form polyester (for example, dicarboxylic acid and diamine). Acrylic monomers are preferred. This is because composite fine particles having an appropriate coating film forming ability can be obtained. Specific examples of acrylic monomers include acrylic carboxylic acids such as (meth) acrylic acid; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, and isopropyl (meth) acrylate. (Meth) acrylic acid such as n-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, lauryl tridecyl (meth) acrylate Esters: Epoxy group-containing (meth) acrylic esters such as glycidyl (meth) acrylate; (meth) acrylonitrile, (meth) acrylamide, N-methylolacrylamide, N-butoxymethylacrylamide, diacetone acrylamide, (meth) acrylic acid 2-ethyl sulfonateAn acrylic monomer may be used independently and may be used in combination of 2 or more type. In the present invention, it is preferable to copolymerize the acrylic monomer and an acrylic monomer having a functional group containing active hydrogen. A typical example of an acrylic monomer having a functional group containing active hydrogen is a hydroxyl group-containing acrylic monomer. Specific examples of the hydroxyl group-containing acrylic monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and caprolactone-modified hydroxy (meth) acrylate. (Meth) acrylic acid monoester of ester diol obtained from phthalic acid and propylene glycol.
共重合におけるアクリル系モノマー/官能基(例えば、水酸基)含有アクリル系モノマーの比率(モル比)は、好ましくは90/10〜20/80、さらに好ましくは70/30〜40/60である。官能基含有アクリル系モノマーの比率が小さすぎる場合には、複合微粒子への重合性官能基の導入量が不十分となり、その結果、複合微粒子の硬化性が不十分となる場合がある。官能基含有アクリル系モノマーの比率が大きすぎる場合には、含珪素ポリマーの安定性が不十分となる場合がある。 The ratio (molar ratio) of acrylic monomer / functional group (for example, hydroxyl group) -containing acrylic monomer in the copolymerization is preferably 90/10 to 20/80, more preferably 70/30 to 40/60. When the ratio of the functional group-containing acrylic monomer is too small, the amount of the polymerizable functional group introduced into the composite fine particles becomes insufficient, and as a result, the curability of the composite fine particles may be insufficient. If the ratio of the functional group-containing acrylic monomer is too large, the stability of the silicon-containing polymer may be insufficient.
ラジカル重合性モノマー(例えば、アクリル系モノマー)の重合条件としては、任意の適切な条件が採用され得る。このようにして、活性水素を含む官能基(例えば、水酸基)とポリシロキサン基とを側鎖に有するポリマー(含珪素ポリマー)が得られる。 Arbitrary appropriate conditions can be employ | adopted as polymerization conditions of a radically polymerizable monomer (for example, acrylic monomer). In this way, a polymer (silicon-containing polymer) having a functional group containing active hydrogen (for example, a hydroxyl group) and a polysiloxane group in the side chain is obtained.
次に、上記含珪素ポリマーと重合性官能基(好ましくは、エチレン性不飽和基)を有するイソシアネート化合物とを反応させ、ポリマー側鎖に重合性官能基を導入する。より具体的には、ポリマー側鎖の活性水素を有する官能基(例えば、水酸基)とイソシアネート基との付加反応により、ポリマー側鎖にイソシアネート化合物由来の重合性官能基が導入される。イソシアネート基に含有される重合性官能基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基が挙げられる。重合性官能基を有するイソシアネート化合物の具体例としては、アクリロキシメチルイソシアネート、メタクリロキシメチルイソシアネート、アクリロキシエチルイソシアネート、メタクリロキシエチルイソシアネート、アクリロキシプロピルイソシアネート、メタクリロキシプロピルイソシアネート、1,1−ビス(アクリロキシメチル)エチルイソシアネートが挙げられる。代表的な反応スキームは下記の通りである。上記付加反応の反応条件としては、任意の適切な条件が採用され得る。このようにして、側鎖に重合性官能基を有する含珪素ポリマーが得られる。
最後に、上記側鎖に重合性官能基を有する含珪素ポリマーと、加水分解により金属酸化物を生成し得る金属化合物とを反応させて、複合微粒子を得る。金属化合物が加水分解により金属酸化物となり、さらに、ポリマー側鎖のポリシロキサン基と縮合することにより、3次元的にネットワークを形成することができる。その結果、強固な骨格を有するコア粒子が形成され、複合微粒子が得られる。このような金属化合物の具体例としては、金属ハロゲン化物、硝酸金属塩、硫酸金属塩、金属アンモニウム塩、有機金属化合物、アルコキシ金属化合物またはこれらの誘導体が挙げられる。金属化合物は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Finally, a composite fine particle is obtained by reacting the silicon-containing polymer having a polymerizable functional group in the side chain with a metal compound capable of generating a metal oxide by hydrolysis. A metal compound can be converted into a metal oxide by hydrolysis and further condensed with a polysiloxane group in a polymer side chain to form a three-dimensional network. As a result, core particles having a strong skeleton are formed, and composite fine particles are obtained. Specific examples of such a metal compound include metal halides, metal nitrates, metal sulfates, metal ammonium salts, organometallic compounds, alkoxy metal compounds, and derivatives thereof. A metal compound may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.
好ましくは、上記金属化合物は、下記の一般式(1)で表される化合物またはその誘導体である:
(R2O)mMR3 3n−m ・・・(1)
式(1)において、Mは、周期律表のIII族、IV族またはV族の金属元素であり、好ましくは、Si、Al、TiおよびZrから選ばれる少なくとも1つの金属元素である。R2は、それぞれ独立して、水素原子、あるいは、置換または非置換のアルキル基またはアシル基である。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、iso−プロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基等が挙げられる。アシル基の具体例としては、アセチル基、プロピオニル基等が挙げられる。R2は、特に好ましくは水素原子、メチル基、エチル基であり、最も好ましくはメチル基である。R2O基の加水分解・縮合速度が速いからである。R3は、それぞれ独立して、置換または非置換のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基である。アルキル基は上記と同様である。シクロアルキル基の具体例としてはシクロヘキシル基が挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基、トリル基、キシリル基が挙げられる。アラルキル基の具体例としては、ベンジル基が挙げられる。上記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基およびアラルキル基に対する置換基としては、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、アミノ基、ニトロ基、エポキシ基、ハロゲンが挙げられる。nは金属元素Mの価数、mは1〜nの整数である。R2および/またはR3が1分子中に複数ある場合、R2および/またはR3は、それぞれ、同一であってもよく異なっていてもよい。
Preferably, the metal compound is a compound represented by the following general formula (1) or a derivative thereof:
(R 2 O) m MR 3 3n-m (1)
In the formula (1), M is a group III, group IV or group V metal element of the periodic table, and is preferably at least one metal element selected from Si, Al, Ti and Zr. Each R 2 is independently a hydrogen atom, or a substituted or unsubstituted alkyl group or acyl group. Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an iso-propyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and a pentyl group. Specific examples of the acyl group include an acetyl group and a propionyl group. R 2 is particularly preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and most preferably a methyl group. This is because the hydrolysis and condensation rate of the R 2 O group is fast. R 3 is each independently a substituted or unsubstituted alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group. The alkyl group is the same as described above. Specific examples of the cycloalkyl group include a cyclohexyl group. Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a tolyl group, and a xylyl group. Specific examples of the aralkyl group include a benzyl group. Examples of the substituent for the alkyl group, cycloalkyl group, aryl group and aralkyl group include alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group, amino group, nitro group, epoxy group and halogen. n is the valence of the metal element M, and m is an integer of 1 to n. When there are a plurality of R 2 and / or R 3 in one molecule, R 2 and / or R 3 may be the same or different.
上記金属化合物の具体例としては、メチルトリアセトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、トリメチルアセトキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラiso−プロキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメトキシジメチルシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、アルミニウムトリメトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリiso−プロポキシド、アルミニウムトリブトキシド、ジメチルアルミニウムメトキシド、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラiso−プロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テトラ(2−エチルヘキシロキシ)チタン、ジエキトシジブトキシチタン、iso−プロキシチタントリオクタレート、ジiso−プロポキシチタンジアクリレート、トリブトキシチタンステアレート、ジルコニウムアセテート、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラiso−プロポキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウムが挙げられる。一般式(1)で示される金属化合物の誘導体の具体例としては、ジiso−プロポキシチタンジアセチルアセトネート、オキシチタンジアセチルアセトネート、ジブトキシチタンビストリエタノールアミネート、ジヒドロキシチタンジラクチート、ジルコニウムアセチルアセトネート、アセチルアセトンジルコニウムブトキシド、トリエタノールアミンジルコニウムブトキシド、アルミニウムアセチルアセトネートが挙げられる。 Specific examples of the metal compound include methyltriacetoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, trimethylacetoxysilane, tetraacetoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraiso-proxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, Phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, dimethoxydimethylsilane, dimethoxymethylphenylsilane, trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethoxydiethoxysilane, aluminum trimethoxide, aluminum triethoxide, aluminum triiso -Propoxide, aluminum tributoxide, dimethylaluminum methoxide, tetramethoxytitanium, tetraeth Xititanium, tetraiso-propoxytitanium, tetrabutoxytitanium, tetra (2-ethylhexyloxy) titanium, diethoxysibutoxytitanium, iso-proxy titanium trioctarate, diiso-propoxytitanium diacrylate, tributoxytitanium stearate, Examples include zirconium acetate, tetramethoxyzirconium, tetraethoxyzirconium, tetraiso-propoxyzirconium, and tetrabutoxyzirconium. Specific examples of the derivative of the metal compound represented by the general formula (1) include diiso-propoxytitanium diacetylacetonate, oxytitanium diacetylacetonate, dibutoxytitanium bistriethanolamate, dihydroxytitanium dilactoate, zirconium acetylacetonate. , Acetylacetone zirconium butoxide, triethanolamine zirconium butoxide, and aluminum acetylacetonate.
上記金属化合物は、特に好ましくは、一般式(1)においてMがSiであるシラン化合物およびその誘導体である。最も好ましくは、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランである。入手が容易で、かつ、ハロゲン等を含まないので製造装置および最終製品の諸物性に悪影響を及ぼさないからである。 The metal compound is particularly preferably a silane compound in which M is Si in the general formula (1) and derivatives thereof. Most preferred are tetramethoxysilane and tetraethoxysilane. This is because it is easily available and does not contain halogen or the like, so that it does not adversely affect the physical properties of the production apparatus and the final product.
上記含珪素ポリマーと上記金属化合物との反応条件としては、任意の適切な条件が採用され得る。代表的には、当該反応は、有機溶媒および/または水の存在下で行われる。したがって、複合微粒子は、代表的には分散体の形態で得られる。溶媒の具体例としては、上記で列挙したとおりである。 Arbitrary appropriate conditions can be employ | adopted as reaction conditions of the said silicon-containing polymer and the said metal compound. Typically, the reaction is performed in the presence of an organic solvent and / or water. Therefore, the composite fine particles are typically obtained in the form of a dispersion. Specific examples of the solvent are as listed above.
上記のようにして得られる複合微粒子におけるコア粒子/有機ポリマーの比率は、好ましくは90/10〜40/60、さらに好ましくは80/20〜50/50である。コア粒子の比率が高すぎる場合には、重合性官能基の導入量が不十分となる場合があり、結果として、複合微粒子の硬化性が不十分となる場合がある。有機ポリマーの比率が高すぎる場合には、得られる塗膜の硬度が不十分となる場合がある。 The ratio of core particles / organic polymer in the composite fine particles obtained as described above is preferably 90/10 to 40/60, more preferably 80/20 to 50/50. When the ratio of the core particles is too high, the introduction amount of the polymerizable functional group may be insufficient, and as a result, the curability of the composite fine particles may be insufficient. When the ratio of the organic polymer is too high, the hardness of the obtained coating film may be insufficient.
D.コーティング組成物
D−1.コーティング組成物
本発明のコーティング組成物は、複合微粒子と、多官能重合性化合物と、必要に応じて、重合開始剤と、溶媒とを含む。複合微粒子の重合性官能基(代表的には、エチレン性不飽和基)および多官能重合性化合物の官能基が重合(硬化)することにより、被膜が形成される。複合微粒子は、上記A項〜C項で説明したとおりである。複合微粒子は、多官能重合性化合物100重量部に対して、好ましくは20〜500重量部、さらに好ましくは50〜300重量部の割合で組成物中に含有される。多官能重合性化合物の具体例としては、多官能(メタ)アクリレートおよびウレタン(メタ)アクリレートが挙げられる。多官能重合性化合物は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
D. Coating composition D-1. Coating Composition The coating composition of the present invention includes composite fine particles, a polyfunctional polymerizable compound, and, if necessary, a polymerization initiator and a solvent. A film is formed by polymerizing (curing) the polymerizable functional group (typically, ethylenically unsaturated group) of the composite fine particles and the functional group of the polyfunctional polymerizable compound. The composite fine particles are as described in the above items A to C. The composite fine particles are contained in the composition at a ratio of preferably 20 to 500 parts by weight, more preferably 50 to 300 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional polymerizable compound. Specific examples of the polyfunctional polymerizable compound include polyfunctional (meth) acrylate and urethane (meth) acrylate. A polyfunctional polymerizable compound may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.
上記多官能(メタ)アクリレートとしては、分子内に(メタ)アクリレート基を2個以上有するものであれば、任意の適切な(メタ)アクリレートが採用され得る。具体例としては、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリ(ブタンジオール)ジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリイソプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート等のジ(メタ)アクリレート類;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールモノヒドロキシトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ(メタ)アクリレート等のトリ(メタ)アクリレート類;ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジ−トリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等のテトラ(メタ)アクリレート類;ジペンタエリスリトール(モノヒドロキシ)ペンタ(メタ)アクリレート等のペンタ(メタ)アクリレート類;ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等のヘキサ(メタ)アクリレート類が挙げられる。 Any appropriate (meth) acrylate may be adopted as the polyfunctional (meth) acrylate as long as it has two or more (meth) acrylate groups in the molecule. Specific examples include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth). ) Acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, poly (butanediol) di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) ) Acrylate, triisopropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate and other di (meth) acrylates; Tri (meth) acrylates such as tri (meth) acrylate, pentaerythritol monohydroxytri (meth) acrylate, trimethylolpropane triethoxytri (meth) acrylate; pentaerythritol tetra (meth) acrylate, di-trimethylolpropane tetra ( Tetra (meth) acrylates such as meth) acrylate; penta (meth) acrylates such as dipentaerythritol (monohydroxy) penta (meth) acrylate; hexa (meth) acrylates such as dipentaerythritol hexa (meth) acrylate Can be mentioned.
上記ウレタン(メタ)アクリレートとしては、例えば、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートとポリイソシアネートとを反応させて得られる化合物を挙げることができる。上記ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートの具体例としては、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロール、プロパンジアクリレート等が挙げられる。ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートは、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせてもよい。上記ポリイソシアネートは、脂肪族系、芳香族系および脂環式系のいずれを用いてもよい。上記ポリイソシアネートの具体例としては、メチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、メチレンビスフェニルジイソシアネート等が挙げられる。無黄変ウレタンとなるポリイソシアネートが好ましい。ポリイソシアネートは、単独で用いても良く、2種以上を組み合わせてもよい。 As said urethane (meth) acrylate, the compound obtained by making hydroxyl group containing (meth) acrylate and polyisocyanate react can be mentioned, for example. Specific examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, hydroxyhexyl (meth) acrylate, and pentaerythritol triacrylate. , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylol, propanediacrylate and the like. A hydroxyl group containing (meth) acrylate may be used independently and may combine 2 or more types. As the polyisocyanate, any of aliphatic, aromatic and alicyclic systems may be used. Specific examples of the polyisocyanate include methylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, tolylene diisocyanate, phenylene diisocyanate, and methylene bis. Examples thereof include phenyl diisocyanate. Polyisocyanates that are non-yellowing urethanes are preferred. Polyisocyanate may be used independently and may combine 2 or more types.
上記ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートとポリイソシアネートの組み合わせとしては、目的に応じて任意の適切な組み合わせが採用され得る。好ましくは2−ヒドロキシエチルアクリレートとイソホロンジイソシアネートとの組み合わせ、2−ヒドロキシエチルアクリレートと2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとの組み合わせである。 As the combination of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate and the polyisocyanate, any appropriate combination can be adopted depending on the purpose. Preferred is a combination of 2-hydroxyethyl acrylate and isophorone diisocyanate, and a combination of 2-hydroxyethyl acrylate and 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate.
ウレタン(メタ)アクリレートを製造する方法としては、例えば、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート中のヒドロキシル基とポリイソシアネート中のイソシアネート基との割合(ヒドロキシル基:イソシアネート基)がモル比で1:0.8〜1:1となるように秤取して反応容器に入れ、ジラウリル酸ジn−ブチルスズ等の有機錫化合物を触媒量加え、ハイドロキノン等の重合禁止剤をさらに加え、反応温度30〜120℃、好ましくは50〜90℃で加熱して攪拌する方法を挙げることができる。反応温度は段階的に昇温するのが好ましい。反応生成物中にウレタン(メタ)アクリレートがオリゴマー化したものが含まれてもよい。ウレタン(メタ)アクリレートの市販品としては、例えば、KAYARADウレタンアクリレートシリーズ(日本化薬(株)製)、紫光シリーズ(日本合成化学工業(株)製)、ニューフロンティア R−1000シリーズ(第一工業製薬(株)製)、UA−306H、UF−8001(共栄社化学(株)製)、NKオリゴ Uシリーズ、NKオリゴ UAシリーズ(新中村化学工業(株)製)等が挙げられる。 As a method for producing urethane (meth) acrylate, for example, the ratio of hydroxyl group in hydroxyl group-containing (meth) acrylate to isocyanate group in polyisocyanate (hydroxyl group: isocyanate group) is 1: 0. Weighing to 8 to 1: 1 and placing in a reaction vessel, adding a catalytic amount of an organic tin compound such as di-n-butyltin dilaurate, and further adding a polymerization inhibitor such as hydroquinone, and a reaction temperature of 30 to 120 ° C. A method of heating and stirring at 50 to 90 ° C. is preferable. The reaction temperature is preferably raised stepwise. The reaction product may contain an oligomerized urethane (meth) acrylate. Examples of commercially available urethane (meth) acrylates include KAYARAD urethane acrylate series (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Shimitsu series (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), and New Frontier R-1000 series (Daiichi Kogyo). Pharmaceutical Co., Ltd.), UA-306H, UF-8001 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), NK Oligo U series, NK Oligo UA series (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and the like.
上記重合開始剤としては、目的に応じて任意の適切な種類の開始剤が採用され得る。重合開始剤の具体例としては、熱重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。重合開始剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明のコーティング組成物においては、光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤の具体例としては、ベンゾイン系化合物、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、アントラキノン系化合物、ホスフィンオキサイド系化合物、キサントン系化合物、チオキサントン系化合物、ケタール系化合物が挙げられる。ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオニル)−ベンジル]−フェニル}−2−メチルプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、2−ジメチルアミノ−2−(4−メチルベンジル)−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、ベンゾフェノン、p−フェニルベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−ターシャリーブチルアントラキノン、2−アミノアントラキノン、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、キサントン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタールなどが挙げられる。市販品としては、Irgacure127、184、369、379、500、651、784、819、851、907、1300、1800、1870、2959、OXE01、OXE02、DAROCUR1173(以上、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製)などが挙げられる。重合開始剤は、コーティング組成物の固形分100重量部に対して、好ましくは0.1〜20重量部、さらに好ましくは1〜10重量部の割合で組成物中に含有される。 Any appropriate type of initiator may be employed as the polymerization initiator depending on the purpose. Specific examples of the polymerization initiator include a thermal polymerization initiator and a photopolymerization initiator. A polymerization initiator may be used independently and may be used in combination of 2 or more type. In the coating composition of the present invention, a photopolymerization initiator is preferred. Specific examples of the photopolymerization initiator include benzoin compounds, acetophenone compounds, benzophenone compounds, anthraquinone compounds, phosphine oxide compounds, xanthone compounds, thioxanthone compounds, and ketal compounds. Benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, acetophenone, dimethylacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl) Propionyl) -benzyl] -fe L} -2-methylpropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 2-dimethylamino-2- (4-methylbenzyl) -1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, benzophenone, p-phenylbenzophenone, 4,4′-dimethoxybenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, 4,4′-diethylaminobenzophenone, dichlorobenzophenone 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tertiarybutylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) ) -Phenylphosphine oxide, , 4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, xanthone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, Examples include benzyl dimethyl ketal and acetophenone dimethyl ketal. Examples of commercially available products include Irgacure 127, 184, 369, 379, 500, 651, 784, 819, 851, 907, 1300, 1800, 1870, 2959, OXE01, OXE02, DAROCUR1173 (above, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), etc. Is mentioned. The polymerization initiator is contained in the composition at a ratio of preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 10 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the solid content of the coating composition.
上記溶媒としては、複合微粒子および多官能重合性化合物を分散可能である限りにおいて任意の適切な溶媒が採用され得る。溶媒の具体例としては、上記C項で列挙したものが挙げられる。 Any appropriate solvent can be adopted as the solvent as long as the composite fine particles and the polyfunctional polymerizable compound can be dispersed. Specific examples of the solvent include those listed in the above section C.
本発明のコーティング組成物は、目的に応じて任意の適切な単官能重合性化合物をさらに含有し得る。単官能重合性化合物の具体例としては、アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルホリン、7−アミノ−3,7−ジメチルオクチル(メタ)アクリレート、イソブトキシメチル(メタ)アクリレート、イソボルニルオキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、エチルジエチレングリコール(メタ)アクリレート、t−オクチル(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエン(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、テトラクロロフェニル(メタ)アクリレート、2−テトラクロロフェノキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、テトラブロモフェニル(メタ)アクリレート、2−テトラブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−トリクロロフェノキシエチル(メタ)アクリレート、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、2−トリブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ビニルカプロラクタム、N−ビニルピロリドン、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ペンタクロロフェニル(メタ)アクリレート、ペンタブロモフェニル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、メチルトリエチレンジグリコール(メタ)アクリレートで表される化合物が挙げられる。 The coating composition of the present invention may further contain any appropriate monofunctional polymerizable compound depending on the purpose. Specific examples of the monofunctional polymerizable compound include acrylamide, (meth) acryloylmorpholine, 7-amino-3,7-dimethyloctyl (meth) acrylate, isobutoxymethyl (meth) acrylate, and isobornyloxyethyl (meth). Acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, ethyldiethylene glycol (meth) acrylate, t-octyl (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) Acrylate, lauryl (meth) acrylate, dicyclopentadiene (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, N, N-dimethyl (meth) acrylamide Tetrachlorophenyl (meth) acrylate, 2-tetrachlorophenoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, tetrabromophenyl (meth) acrylate, 2-tetrabromophenoxyethyl (meth) acrylate, 2-trichlorophenoxyethyl (Meth) acrylate, tribromophenyl (meth) acrylate, 2-tribromophenoxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, vinylcaprolactam, N-vinylpyrrolidone, Phenoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, pentachlorophenyl (meth) acrylate, pentabromophenyl (meth) acrylate , Polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, and compounds represented by methyl triethylene diglycol (meth) acrylate.
本発明のコーティング組成物は、目的に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。添加剤の具体例としては、レベリング剤、顔料、顔料分散剤、紫外線吸収剤、抗酸化剤、粘性改質剤、耐光安定剤、金属不活性化剤、過酸化物分解剤、充填剤、補強剤、可塑剤、潤滑剤、防食剤、防錆剤、乳化剤、鋳型脱型剤、蛍光性増白剤、有機防炎剤、無機防炎剤、滴下防止剤、溶融流改質剤、静電防止剤、すべり付与剤、密着性付与剤、防汚剤、界面活性剤、消泡剤、重合禁止剤、光増感剤、表面改良剤、シランカップリング剤が挙げられる。なお、紫外線吸収剤を用いる場合には、複合微粒子および多官能重合性化合物の重合(硬化)反応を阻害しない程度の量で用いられることは言うまでもない。 The coating composition of the present invention may further contain any appropriate additive depending on the purpose. Specific examples of additives include leveling agents, pigments, pigment dispersants, UV absorbers, antioxidants, viscosity modifiers, light stabilizers, metal deactivators, peroxide decomposing agents, fillers, and reinforcement. Agent, plasticizer, lubricant, anticorrosive agent, rust inhibitor, emulsifier, mold release agent, fluorescent whitening agent, organic flame retardant, inorganic flame retardant, anti-dripping agent, melt flow modifier, electrostatic Examples thereof include an inhibitor, a slipping imparting agent, an adhesion imparting agent, an antifouling agent, a surfactant, an antifoaming agent, a polymerization inhibitor, a photosensitizer, a surface improver, and a silane coupling agent. In addition, when using an ultraviolet absorber, it cannot be overemphasized that it is used in the quantity of the grade which does not inhibit the superposition | polymerization (hardening) reaction of composite fine particles and a polyfunctional polymerizable compound.
本発明のコーティング組成物は、任意の適切な有機または無機微粒子をさらに含有してもよい。代表的には、このような有機または無機微粒子は、得られるコーティング層に目的に応じた機能(例えば、屈折率調整、導電性、防眩性)を付与するために用いられる。コーティング層の高屈折率化および導電性付与に有用な微粒子の具体例としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化スズ、スズドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化スズ、インジウムドープ酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アンチモンが挙げられる。コーティング層の低屈折率化に有用な微粒子の具体例としては、フッ化マグネシウム、シリカ、中空シリカが挙げられる。防眩性付与に有用な微粒子の具体例としては、上記の微粒子に加えて、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリンなどの無機粒子;シリコン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアミン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂およびこれらの共重合樹脂などの有機微粒子が挙げられる。これらの微粒子は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The coating composition of the present invention may further contain any appropriate organic or inorganic fine particles. Typically, such organic or inorganic fine particles are used to impart functions (for example, refractive index adjustment, conductivity, antiglare property) according to the purpose to the obtained coating layer. Specific examples of fine particles useful for increasing the refractive index of the coating layer and imparting conductivity include zinc oxide, titanium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, tin oxide, tin-doped indium oxide, antimony-doped tin oxide, indium-doped zinc oxide, Examples include indium oxide and antimony oxide. Specific examples of the fine particles useful for lowering the refractive index of the coating layer include magnesium fluoride, silica, and hollow silica. Specific examples of the fine particles useful for imparting antiglare properties include inorganic particles such as calcium carbonate, barium sulfate, talc and kaolin; silicon resin, melamine resin, benzoguanamine resin, acrylic resin, polystyrene resin and the like in addition to the fine particles described above. Organic fine particles such as these copolymer resins can be mentioned. These fine particles may be used alone or in combination of two or more.
本発明のコーティング組成物は、例えば、転写箔フィルム、プラスチック光学部品、タッチパネル、フィルム型液晶素子、プラスチック成型体等のハードコート剤、反射防止フィルム用低屈折率コーティング剤、光拡散フィルム用コーティング剤として好適に使用され得る。 The coating composition of the present invention is, for example, a hard coating agent such as a transfer foil film, a plastic optical component, a touch panel, a film-type liquid crystal element, a plastic molding, a low refractive index coating agent for an antireflection film, and a coating agent for a light diffusion film. Can be suitably used.
D−2.低屈折率コーティング組成物
上記のように、本発明のコーティング組成物は、低屈折率コーティング剤として好適に使用され得る。本明細書においては、このような組成物を「低屈折率コーティング組成物」という。本発明の低屈折率コーティング組成物により形成される厚さ0.1μmの被膜の波長550nmでの屈折率は、好ましくは1.25〜1.40であり、より好ましくは1.25〜1.35である。本発明の複合微粒子を用いることにより、複合微粒子中の、および/または、複合微粒子を含む低屈折率コーティング組成物から形成される被膜中の空隙により、このような屈折率が発現する。
D-2. Low Refractive Index Coating Composition As described above, the coating composition of the present invention can be suitably used as a low refractive index coating agent. In the present specification, such a composition is referred to as a “low refractive index coating composition”. The refractive index at a wavelength of 550 nm of a film having a thickness of 0.1 μm formed by the low refractive index coating composition of the present invention is preferably 1.25 to 1.40, more preferably 1.25 to 1. 35. By using the composite fine particles of the present invention, such refractive index is expressed by voids in the composite fine particles and / or in the film formed from the low refractive index coating composition containing the composite fine particles.
複合微粒子は、基本的には上記A項〜C項で説明したとおりであるが、低屈折率コーティング組成物に用いる場合には、有機ポリマーがフッ素原子を含む部分を有することが好ましい。複合微粒子の屈折率が低くなり、被膜の屈折率をより低くすることが可能となるからである。このような複合微粒子は、含珪素ポリマーを製造する際、フッ素原子を含むラジカル重合性モノマーを共重合することにより得られ得る。フッ素原子を含むラジカル重合性モノマーは、ラジカル重合性モノマーの全量100重量部に対して、好ましくは3〜95重量部、さらに好ましくは5〜80重量部の割合で共重合され得る。3重量部未満では、低屈折率化に十分に寄与しないおそれがある。95重量部を超えると、粒子が凝集しやすい傾向にある。フッ素原子を含むラジカル重合性モノマーとしては、パーフルオロアルキル基を有するアクリル系モノマーが好ましい。パーフルオロアルキル基としては、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロテトラデシル基が好ましい。このようなモノマーは、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。フッ素原子を有するアクリル系モノマーの具体例としては、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、パーフロロオクチルエチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。 The composite fine particles are basically as described in the above sections A to C, but when used in the low refractive index coating composition, the organic polymer preferably has a portion containing a fluorine atom. This is because the refractive index of the composite fine particles is lowered and the refractive index of the coating film can be further lowered. Such composite fine particles can be obtained by copolymerizing a radical polymerizable monomer containing a fluorine atom when producing a silicon-containing polymer. The radically polymerizable monomer containing a fluorine atom can be copolymerized in a proportion of preferably 3 to 95 parts by weight, more preferably 5 to 80 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of radically polymerizable monomers. If it is less than 3 parts by weight, there is a possibility that it does not sufficiently contribute to lowering the refractive index. If it exceeds 95 parts by weight, the particles tend to aggregate. As the radical polymerizable monomer containing a fluorine atom, an acrylic monomer having a perfluoroalkyl group is preferred. As the perfluoroalkyl group, a perfluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorohexyl group, a perfluorooctyl group, a perfluorodecyl group, a perfluorododecyl group, and a perfluorotetradecyl group are preferable. Such a monomer may be used independently and may be used in combination of 2 or more type. Specific examples of the acrylic monomer having a fluorine atom include 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate and perfluorooctylethyl (meth) acrylate.
低屈折率コーティング組成物においては、上記複合微粒子は、上記多官能重合性化合物100重量部に対して、好ましくは100〜500重量部、さらに好ましくは100〜300重量部の割合で組成物中に含有される。100重量部以下では、被膜中の空隙が多官能重合性化合物によって埋められて屈折率が低くならない可能性がある。500重量部以上では、被膜の耐擦傷性が不十分となる可能性がある。 In the low refractive index coating composition, the composite fine particles are contained in the composition at a ratio of preferably 100 to 500 parts by weight, more preferably 100 to 300 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional polymerizable compound. Contained. If it is 100 parts by weight or less, there is a possibility that voids in the coating are not filled with the polyfunctional polymerizable compound and the refractive index is not lowered. If it is 500 parts by weight or more, the scratch resistance of the film may be insufficient.
E.光学フィルム
E−1.光学フィルムの概略
本発明の光学フィルムは、上記コーティング組成物の塗布層を含む。なお、本明細書において単にコーティング組成物というときは、上記D−1項に記載のコーティング組成物およびD−2項に記載の低屈折率コーティング組成物の両方を包含する。代表的には、この光学フィルムは、基材と塗布層とを含む。塗布層は、代表的には、上記コーティング組成物を塗布した後、乾燥および硬化させることにより形成される。基材としては、代表的にはプラスチックフィルムが挙げられる。具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、アクリル樹脂フィルム等が挙げられる。ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、ポリカーボネートフィルム、アクリル樹脂フィルムが好ましい。入手が容易であり、透明性に優れるからである。なお、基材は、用途に応じてシート状であってもよく板状であってもよい。
E. Optical film E-1. Outline of Optical Film The optical film of the present invention includes a coating layer of the coating composition. In this specification, the term “coating composition” includes both the coating composition described in the above section D-1 and the low refractive index coating composition described in the section D-2. Typically, this optical film includes a substrate and a coating layer. The coating layer is typically formed by applying the coating composition and then drying and curing. A typical example of the substrate is a plastic film. Specific examples include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, diacetyl cellulose film, triacetyl cellulose film, acetyl cellulose butyrate film, polyvinyl chloride film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl Alcohol film, ethylene-vinyl acetate copolymer film, polystyrene film, polycarbonate film, polymethylpentene film, polysulfone film, polyetheretherketone film, polyethersulfone film, polyetherimide film, polyimide film, fluororesin film, nylon A film, an acrylic resin film, etc. are mentioned. A polyethylene terephthalate film, a polyethylene naphthalate film, a triacetyl cellulose film, a polycarbonate film, and an acrylic resin film are preferable. It is because it is easily available and excellent in transparency. The base material may be a sheet shape or a plate shape depending on the application.
好ましくは、上記基材には、目的に応じた任意の適切な表面処理を施すことができる。表面処理の具体例としては、サンドブラスト法、溶剤処理法などによる表面の凹凸化処理;コロナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などの表面の酸化処理;樹脂組成物によるプライマー処理などが挙げられる。 Preferably, the substrate can be subjected to any appropriate surface treatment depending on the purpose. Specific examples of surface treatment include surface concavo-convex treatment by sandblasting, solvent treatment, etc .; surface oxidation treatment such as corona discharge treatment, chromic acid treatment, flame treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment; resin composition For example, primer treatment with a product.
上記コーティング組成物の塗布方法としては、任意の適切な塗布方法が採用され得る。具体例としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、メニスカスコート法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコート法が挙げられる。 Any appropriate application method can be adopted as the application method of the coating composition. Specific examples include spin coating, dipping, spraying, slide coating, bar coating, roll coating, gravure coating, meniscus coating, flexographic printing, screen printing, and bead coating.
上記乾燥および硬化方法としては、任意の適切な方法および条件が採用され得る。代表的には、コーティング組成物塗布後、0〜200℃で溶剤を蒸発させて乾燥し、熱および/または放射線で硬化処理を行う。放射線による場合には、紫外線または電子線を用いることが好ましい。本発明のコーティング組成物を用いる場合、紫外線による硬化処理が特に好ましい。この場合、紫外線の照射量は、好ましくは10〜10000mJ/cm2であり、より好ましくは100〜2000mJ/cm2である。1つの実施形態においては、紫外線照射は、雰囲気の一部または全部を不活性ガスで置換した状態で行われる。その結果、表面での酸素阻害が抑制され得る。不活性ガスとしては、窒素ガスが好ましい。形成される塗布層の厚みは、目的に応じて変化し得るが、好ましくは50nm〜100μmである。 Arbitrary appropriate methods and conditions can be employ | adopted as said drying and hardening method. Typically, after applying the coating composition, the solvent is evaporated and dried at 0 to 200 ° C., and a curing treatment is performed with heat and / or radiation. In the case of radiation, it is preferable to use ultraviolet rays or electron beams. When using the coating composition of this invention, the hardening process by an ultraviolet-ray is especially preferable. In this case, the irradiation amount of ultraviolet rays is preferably 10 to 10,000 mJ / cm 2 , more preferably 100 to 2000 mJ / cm 2 . In one embodiment, the ultraviolet irradiation is performed in a state where part or all of the atmosphere is replaced with an inert gas. As a result, oxygen inhibition at the surface can be suppressed. As the inert gas, nitrogen gas is preferable. The thickness of the coating layer to be formed can vary depending on the purpose, but is preferably 50 nm to 100 μm.
光学フィルムの具体例としては、画像表示装置に用いられるハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム、偏光板、光学フィルター、光拡散フィルムなどが挙げられる。画像表示装置の具体例としては、液晶表示装置(LCD)、陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)が挙げられる。以下、代表的な光学フィルムについて具体的に説明する。 Specific examples of the optical film include a hard coat film, an antiglare film, an antireflection film, a polarizing plate, an optical filter, and a light diffusion film used in an image display device. Specific examples of the image display device include a liquid crystal display device (LCD), a cathode ray tube display device (CRT), a plasma display panel (PDP), and an electroluminescence display (ELD). Hereinafter, typical optical films will be specifically described.
E−2.ハードコートフィルム
1つの実施形態においては、本発明の光学フィルムはハードコートフィルムである。ハードコートフィルムは、基材に上記コーティング組成物を塗布後、乾燥・硬化させ、ハードコート層を形成することで物理強度を付与されたフィルムである。
E-2. Hard Coat Film In one embodiment, the optical film of the present invention is a hard coat film. The hard coat film is a film imparted with physical strength by applying the above coating composition to a substrate and then drying and curing to form a hard coat layer.
ハードコート層の厚みは、用途に応じて適切に設計することができる。ハードコート層の厚みは、好ましくは1〜10μmであり、より好ましくは1〜5μmである。ハードコート層の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験で、好ましくはH以上であり、さらに好ましくは2H以上であり、最も好ましくは3H以上である。必要に応じて、ハードコートフィルムは、基材および/またはハードコート層に任意の適切な添加剤を含有してもよく、ハードコート層の表面に任意の適切なコーティング層をさらに有していてもよい。当該コーティング層は、1層であってもよく、2層以上であってもよい。添加剤および/またはコーティング層を用いることにより、例えば、帯電防止性、防汚性、すべり性、防眩性などの性能を付与することができる。あるいは、ハードコート層の表面に凹凸を形成することにより、防眩性を付与することができる。防眩性を付与したハードコート層は、例えば、反射防止フィルムの防眩層として好適に使用され得る。防眩性を付与したハードコート層を有するフィルムは、例えば、防眩フィルムとして好適に使用され得る。さらに、このようなハードコートフィルムは、反射防止フィルムの基材としても用いることができる。 The thickness of the hard coat layer can be appropriately designed according to the application. The thickness of the hard coat layer is preferably 1 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm. The strength of the hard coat layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher in a pencil hardness test according to JIS K5400. If necessary, the hard coat film may contain any appropriate additive in the substrate and / or the hard coat layer, and further has any appropriate coating layer on the surface of the hard coat layer. Also good. The coating layer may be a single layer or two or more layers. By using the additive and / or the coating layer, for example, performance such as antistatic property, antifouling property, slipperiness and antiglare property can be imparted. Alternatively, antiglare properties can be imparted by forming irregularities on the surface of the hard coat layer. The hard coat layer imparted with the antiglare property can be suitably used, for example, as an antiglare layer of an antireflection film. A film having a hard coat layer imparted with an antiglare property can be suitably used as an antiglare film, for example. Furthermore, such a hard coat film can also be used as a base material for an antireflection film.
E−3.反射防止フィルム
別の実施形態においては、本発明の光学フィルムは反射防止フィルムである。反射防止フィルムは、基材の少なくとも一方の側に上記低屈折率コーティング組成物を塗布後、乾燥・硬化させて形成された低屈折率層を有する積層体である。当該低屈折率層は、基材に直接形成されてもよく、他の層を介して形成されてもよい。他の層は、1層であってもよく、2層以上であってもよい。他の層の具体例としては、低屈折率層とは異なる屈折率を有する層が挙げられる。本発明の反射防止フィルムにおいては、他の層の屈折率は、多くの場合低屈折率層の屈折率より大きい。このような層を設けることにより、より広い波長範囲において反射を低減することができる。さらに、低屈折率層は、好ましくは反射防止フィルムの最外層として形成され得る。したがって、反射防止フィルムの好ましい積層構造の具体例としては、基材/低屈折率層、基材/高屈折率層/低屈折率層、基材/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層が挙げられる。なお、本明細書において、高屈折率層とは、低屈折率層よりも高い屈折率を有する層をいい、中屈折率層とは、低屈折率層よりも高く、かつ、高屈折率層よりも低い屈折率を有する層をいう。中屈折率層または高屈折率層の厚みは、好ましくは0.05〜0.20μmである。中屈折率層または高屈折率層の屈折率は、好ましくは1.45〜2.00である。より具体的には、中屈折率層の屈折率は好ましくは1.45〜1.80であり、高屈折率層の屈折率は好ましくは1.60〜2.00である。1つの実施形態においては、中屈折率層または高屈折率層は、多官能重合性化合物と高屈折率微粒子とを含む組成物から形成され得る。多官能重合性化合物の具体例としては、多官能(メタ)アクリレートおよびウレタン(メタ)アクリレートが挙げられる。高屈折率微粒子の代表例としては、金属酸化物微粒子が挙げられる。具体例としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化スズ、スズドープ酸化インジウム、インジウムドープ酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アンチモンが挙げられる。微粒子の含有量を調整することにより、中屈折率層または高屈折率層の屈折率を制御することができる。微粒子に導電性を付与することにより、中屈折率層または高屈折率層は帯電防止層としても機能し得る。別の実施形態においては、中屈折率層または高屈折率層は、化学蒸着法(CVD)や物理蒸着法(PVD)などの蒸着法により形成した酸化チタンや酸化ジルコニウムのような屈折率の高い無機酸化物の蒸着膜とすることができる。
E-3. Antireflection Film In another embodiment, the optical film of the present invention is an antireflection film. The antireflection film is a laminate having a low refractive index layer formed by applying the low refractive index coating composition on at least one side of a substrate, followed by drying and curing. The low refractive index layer may be formed directly on the substrate, or may be formed via another layer. The other layer may be a single layer or two or more layers. Specific examples of the other layer include a layer having a refractive index different from that of the low refractive index layer. In the antireflection film of the present invention, the refractive index of the other layers is often larger than the refractive index of the low refractive index layer. By providing such a layer, reflection can be reduced in a wider wavelength range. Furthermore, the low refractive index layer can be preferably formed as the outermost layer of the antireflection film. Therefore, specific examples of the preferred laminated structure of the antireflection film include base material / low refractive index layer, base material / high refractive index layer / low refractive index layer, base material / medium refractive index layer / high refractive index layer / low. Examples include a refractive index layer. In the present specification, the high refractive index layer means a layer having a higher refractive index than the low refractive index layer, and the middle refractive index layer is higher than the low refractive index layer and has a high refractive index layer. Refers to a layer having a lower refractive index. The thickness of the medium refractive index layer or the high refractive index layer is preferably 0.05 to 0.20 μm. The refractive index of the middle refractive index layer or the high refractive index layer is preferably 1.45 to 2.00. More specifically, the refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.45 to 1.80, and the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.60 to 2.00. In one embodiment, the middle refractive index layer or the high refractive index layer may be formed from a composition comprising a polyfunctional polymerizable compound and high refractive index fine particles. Specific examples of the polyfunctional polymerizable compound include polyfunctional (meth) acrylate and urethane (meth) acrylate. Typical examples of the high refractive index fine particles include metal oxide fine particles. Specific examples include zinc oxide, titanium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, tin oxide, tin-doped indium oxide, indium-doped zinc oxide, indium oxide, and antimony oxide. By adjusting the content of the fine particles, the refractive index of the medium refractive index layer or the high refractive index layer can be controlled. By imparting conductivity to the fine particles, the medium refractive index layer or the high refractive index layer can also function as an antistatic layer. In another embodiment, the medium refractive index layer or the high refractive index layer has a high refractive index such as titanium oxide or zirconium oxide formed by a vapor deposition method such as chemical vapor deposition (CVD) or physical vapor deposition (PVD). It can be set as the vapor deposition film of an inorganic oxide.
本発明の反射防止フィルムは、目的に応じて任意の適切な機能を有するさらに他の層を有していてもよい。当該さらに他の層は、目的に応じて積層体の任意の適切な位置に設けられる。当該さらに他の層の具体例としては、ハードコート層、防眩層、帯電防止層、防汚層が挙げられる。ハードコート層は、好ましくは、多官能重合性化合物を含むコーティング剤を用いて形成される。多官能重合性化合物の具体例としては、多官能(メタ)アクリレートおよびウレタン(メタ)アクリレートが挙げられる。防眩層は、好ましくは、粒子と多官能重合性化合物とを含むコーティング剤を用いて形成される。粒子としては、種々の無機粒子、有機粒子、有機/無機複合粒子を用いることができる。また、ハードコート層、防眩層として上記E−2項で説明したハードコート層、防眩層を用いることもできる。 The antireflection film of the present invention may have still another layer having any appropriate function depending on the purpose. The further other layer is provided at any appropriate position of the laminate according to the purpose. Specific examples of the other layers include a hard coat layer, an antiglare layer, an antistatic layer, and an antifouling layer. The hard coat layer is preferably formed using a coating agent containing a polyfunctional polymerizable compound. Specific examples of the polyfunctional polymerizable compound include polyfunctional (meth) acrylate and urethane (meth) acrylate. The antiglare layer is preferably formed using a coating agent containing particles and a polyfunctional polymerizable compound. Various inorganic particles, organic particles, and organic / inorganic composite particles can be used as the particles. The hard coat layer and the antiglare layer described in the above section E-2 can also be used as the hard coat layer and the antiglare layer.
上記帯電防止層は、静電気の発生を防止することにより、反射防止フィルムへの埃や塵の付着を防止し、および/または、反射防止フィルムが画像表示装置に組み込まれる際に外部からの静電気障害を防止する。帯電防止層の性能としては、反射防止フィルム形成後の表面抵抗が、好ましくは1012Ω/□以下である。なお、表面抵抗が1012Ω/□以上であっても、帯電防止層を設けない場合に比べて、埃や塵の付着性はある程度改善され得る。 The antistatic layer prevents the generation of static electricity, thereby preventing dust and dirt from adhering to the antireflection film, and / or external electrostatic interference when the antireflection film is incorporated in an image display device. To prevent. As the performance of the antistatic layer, the surface resistance after formation of the antireflection film is preferably 10 12 Ω / □ or less. Even if the surface resistance is 10 12 Ω / □ or more, the adhesion of dust and dust can be improved to some extent as compared with the case where no antistatic layer is provided.
帯電防止層は、一般的には、膜形成成分(代表的には樹脂成分)と帯電防止剤とを含む帯電防止樹脂組成物から形成される。樹脂成分としては、膜を形成し得る任意の適切な樹脂が採用され得る。帯電防止剤の具体例としては、第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第1〜第3アミノ基等のカチオン性基を有するカチオン性帯電防止剤;スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などのアニオン性基を有するアニオン系帯電防止剤;アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系などの両性帯電防止剤;アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系などのノニオン性の帯電防止剤;有機金属化合物(例えば、スズまたはチタンのアルコキシド)または金属キレート化合物(例えば、有機金属化合物のアセチルアセトナート塩)などの界面活性剤型帯電防止剤;ならびに、上記帯電防止剤を高分子量化した高分子型帯電防止剤が挙げられる。また、第3級アミノ基、第4級アンモニウム基または金属キレート部と重合性官能基とを有するモノマーあるいはオリゴマー、重合性官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物などの重合性帯電防止剤も使用できる。さらに、金属酸化物の微粒子、例えば、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、スズドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化スズ、インジウムドープ酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アンチモンなどを用いることができる。上記帯電防止剤を上記コーティング組成物に含有させることにより、ハードコート層や防眩層が帯電防止層を兼ねることができる。 The antistatic layer is generally formed from an antistatic resin composition containing a film forming component (typically a resin component) and an antistatic agent. Any appropriate resin capable of forming a film may be employed as the resin component. Specific examples of the antistatic agent include a cationic antistatic agent having a cationic group such as a quaternary ammonium salt, a pyridinium salt, and first to third amino groups; a sulfonate group, a sulfate ester base, and a phosphate ester base. Anionic antistatic agents having an anionic group such as phosphonic acid group; amphoteric antistatic agents such as amino acid type and aminosulfate ester type; nonionic antistatic agents such as amino alcohol type, glycerin type and polyethylene glycol type; Surfactant-type antistatic agents such as organometallic compounds (for example, tin or titanium alkoxides) or metal chelate compounds (for example, acetylacetonate salts of organometallic compounds); and high molecular weights of the above antistatic agents Examples thereof include molecular type antistatic agents. Also, polymerizable antistatic agents such as tertiary amino groups, quaternary ammonium groups or monomers or oligomers having a metal chelate moiety and a polymerizable functional group, and organometallic compounds such as coupling agents having a polymerizable functional group Agents can also be used. Further, metal oxide fine particles such as zinc oxide, titanium oxide, tin oxide, tin-doped indium oxide, antimony-doped tin oxide, indium-doped zinc oxide, indium oxide, and antimony oxide can be used. By containing the antistatic agent in the coating composition, the hard coat layer and the antiglare layer can also serve as the antistatic layer.
本発明の反射防止フィルムは、全光線透過率が高いほど、および/または、ヘイズが低いほど好ましい。したがって、反射防止フィルム(積層体)を構成する各層は、できるだけ透明性に優れるものが望ましい。 The antireflection film of the present invention is preferably as the total light transmittance is higher and / or the haze is lower. Therefore, it is desirable that each layer constituting the antireflection film (laminate) is as excellent as possible in transparency.
E−4.偏光板
さらに別の実施形態においては、本発明の光学フィルムは偏光板である。偏光板は、偏光子と、当該偏光子の少なくとも一方に設けられた上記反射防止フィルムとを有する。上記反射防止フィルムは、偏光板の保護フィルムを兼ねる。偏光子としては、偏光機能(一定方向の偏波面の光だけを通す機能)を有する限りにおいて任意の適切な偏光子を用いることができる。偏光子の代表例としては、ポリビニルアルコール系偏光フィルムが挙げられる。ポリビニルアルコール系偏光フィルムは、代表的には、二色性物質(代表的には、ヨウ素または二色性染料)を含む、ポリビニルアルコール系フィルムの延伸フィルムである。ポリビニルアルコール系偏光フィルムは、ポリビニルアルコール水溶液を成膜し、これを例えばヨウ素溶液中に浸漬して染色しながら一軸延伸させるか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。
E-4. Polarizing plate In yet another embodiment, the optical film of the present invention is a polarizing plate. The polarizing plate has a polarizer and the antireflection film provided on at least one of the polarizers. The antireflection film also serves as a protective film for the polarizing plate. As the polarizer, any appropriate polarizer can be used as long as it has a polarization function (a function of allowing only light having a polarization plane in a certain direction to pass). A typical example of the polarizer is a polyvinyl alcohol polarizing film. The polyvinyl alcohol polarizing film is typically a stretched film of a polyvinyl alcohol film containing a dichroic substance (typically iodine or a dichroic dye). The polyvinyl alcohol polarizing film is formed by forming a polyvinyl alcohol aqueous solution and uniaxially stretching it while immersing it in, for example, an iodine solution, or uniaxially stretching after dyeing, and is preferably subjected to a durability treatment with a boron compound. Is used.
本発明の偏光板は、任意の適切な方法で作製することができる。例えば、本発明の反射防止フィルムをアルカリ処理し、上記ポリビニルアルコール系偏光フィルムの両面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール系接着剤(水溶性接着剤)を用いて貼り合わせる方法が挙げられる。アルカリ処理とは、当該接着剤の濡れを改善して接着性を向上させるために、反射防止フィルムを高温の強アルカリ液中に浸ける処理をいう。このとき、反射防止フィルムの低屈折率層の表面には剥離性の保護フィルム(例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂製フィルム)を設けることにより、汚れやアルカリによる侵食から保護することができる。 The polarizing plate of the present invention can be produced by any appropriate method. For example, the antireflection film of the present invention may be treated with an alkali and bonded to both surfaces of the polyvinyl alcohol polarizing film using a completely saponified polyvinyl alcohol adhesive (water-soluble adhesive). The alkali treatment refers to a treatment in which the antireflection film is immersed in a high-temperature strong alkaline solution in order to improve the wettability of the adhesive and improve the adhesiveness. At this time, by providing a peelable protective film (for example, a polyester resin film such as polyethylene terephthalate) on the surface of the low refractive index layer of the antireflection film, it can be protected from erosion due to dirt or alkali.
E−5.プラズマディスプレイ用光学フィルター
さらに別の実施形態においては、本発明の光学フィルムはプラズマディスプレイ(PDP)用光学フィルターである。PDP用光学フィルターは、代表的には、支持体と、当該支持体上に設けられた反射防止フィルムとを有する。支持体の具体例としては、ガラスが挙げられる。反射防止フィルムは、好ましくは、上記E−3項に記載の反射防止フィルムである。本発明の反射防止フィルムを用いることで、反射防止性能に優れ、かつ耐擦傷性に優れたPDP用光学フィルターが得られ得る。なお、上記低屈折率コーティング組成物を支持体に直接塗布して低屈折率層を形成してもよい。
E-5. Optical Filter for Plasma Display In yet another embodiment, the optical film of the present invention is an optical filter for plasma display (PDP). The optical filter for PDP typically has a support and an antireflection film provided on the support. Specific examples of the support include glass. The antireflection film is preferably the antireflection film described in the above section E-3. By using the antireflection film of the present invention, an optical filter for PDP having excellent antireflection performance and excellent scratch resistance can be obtained. The low refractive index coating composition may be directly applied to a support to form a low refractive index layer.
好ましくは、PDP用光学フィルターは、支持体上に近赤外線吸収フィルム、電磁波遮蔽フィルムおよび/または可視光吸収フィルムをさらに有する。これらのフィルムは、代表的には、支持体と反射防止フィルムとの間に設けられる。PDPはプラズマ放電の際に波長が800nm〜1000nmの近赤外線が発生し、この近赤外線が家電用リモコンの誤作動を誘発することが問題となっている。近赤外線吸収フィルムを設けることにより、このような問題を低減または解消することができる。また、PDPは、パネル内部に封入された希ガス(特にネオン)を主体としたガス中でプラズマ放電を行い、その際に発生する真空紫外線によりパネル内部のセルに設けられたR、G、Bの蛍光体を発光させるので、この発光過程でPDPの作動に不必要な電磁波も同時に放出される。電磁波遮蔽フィルムを設けることにより、このような問題を低減または解消することができる。 Preferably, the PDP optical filter further has a near-infrared absorbing film, an electromagnetic wave shielding film and / or a visible light absorbing film on the support. These films are typically provided between the support and the antireflection film. PDP has a problem that near infrared rays having a wavelength of 800 nm to 1000 nm are generated during plasma discharge, and this near infrared rays cause malfunction of a remote control for home appliances. By providing a near-infrared absorbing film, such a problem can be reduced or eliminated. The PDP performs plasma discharge in a gas mainly composed of a rare gas (particularly neon) sealed inside the panel, and R, G, B provided in the cells inside the panel by vacuum ultraviolet rays generated at that time. In this light emission process, electromagnetic waves unnecessary for the operation of the PDP are simultaneously emitted. By providing an electromagnetic wave shielding film, such a problem can be reduced or eliminated.
上記近赤外線吸収フィルムは、代表的には、近赤外線吸収色素とバインダーとを含む組成物から形成される。近赤外線吸収色素の具体例としては、シアニン系、ポリメチン系、スクアリリウム系、ポルフィリン系、ジチオール金属錯体系、フタロシアニン系、ジイモニウム系などの色素が挙げられる。バインダーとしては、任意の適切な樹脂が採用され得る。透明性の高いフィルムを形成し得る樹脂が好ましい。具体例としては、ポリエチレンなどのポリオレフィン系樹脂;スチレン系樹脂;(メタ)アクリル酸エステル系ポリマーなどのビニル系樹脂;ナイロンなどのポリアミド系樹脂;ポリウレタン系樹脂;ポリエステル系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;エポキシ系樹脂;ポリビニルアセタール系樹脂が挙げられる。 The near infrared absorbing film is typically formed from a composition containing a near infrared absorbing dye and a binder. Specific examples of the near infrared absorbing dye include dyes such as cyanine, polymethine, squarylium, porphyrin, dithiol metal complex, phthalocyanine, and diimonium. Any appropriate resin can be adopted as the binder. A resin capable of forming a highly transparent film is preferred. Specific examples include polyolefin resins such as polyethylene; styrene resins; vinyl resins such as (meth) acrylic acid ester polymers; polyamide resins such as nylon; polyurethane resins; polyester resins; polycarbonate resins; Resin, polyvinyl acetal resin.
上記電磁波遮蔽フィルムの具体例としては、エッチング、印刷等の手法で金属のメッシュをフィルム上にパターニングしたものを樹脂で平滑化したフィルム;繊維メッシュの上に金属を蒸着させたものを樹脂中に抱埋したフィルムが挙げられる。 As a specific example of the electromagnetic wave shielding film, a film obtained by patterning a metal mesh on a film by a technique such as etching or printing and smoothing with a resin; a metal vapor deposited on a fiber mesh in a resin An embedding film is mentioned.
本発明のPDP用光学フィルターは、衝撃吸収層をさらに有していてもよい。あるいは、当該衝撃吸収層は、上記支持体の代わりに用いられてもよい。支持体の代わりに用いるのが好ましい。衝撃吸収層は、PDPを外部からの衝撃から保護するために用いられる。衝撃吸収層を構成する材料としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル、ウレタン系樹脂、シリコン系樹脂が挙げられる。衝撃吸収層を構成する材料の詳細は、例えば、特開2004−246365号公報または特開2004−264416号公報に記載されている。 The optical filter for PDP of the present invention may further have a shock absorbing layer. Alternatively, the shock absorbing layer may be used instead of the support. It is preferable to use it instead of the support. The impact absorbing layer is used to protect the PDP from external impacts. Examples of the material constituting the shock absorbing layer include ethylene-vinyl acetate copolymer, acrylic resin, polyvinyl chloride, urethane resin, and silicon resin. Details of the material constituting the shock absorbing layer are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-246365 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-264416.
本発明のPDP用光学フィルターは、目的に応じて任意の適切な構成(積層構造)を有し得る。代表的な構成としては、反射防止フィルム/近赤外線吸収フィルム/支持体、反射防止フィルム/近赤外線吸収フィルム/電磁波遮蔽フィルム/支持体、反射防止フィルム/電磁波遮蔽フィルム/近赤外線吸収フィルム/支持体が挙げられる。 The optical filter for PDP of the present invention may have any appropriate configuration (laminated structure) depending on the purpose. Typical configurations include antireflection film / near infrared absorption film / support, antireflection film / near infrared absorption film / electromagnetic wave shielding film / support, antireflection film / electromagnetic wave shielding film / near infrared absorption film / support. Is mentioned.
例えば、反射防止フィルム/近赤外線吸収フィルム/支持体の構成を有するPDP用光学フィルターは、以下の方法で作製され得る:(i)反射防止フィルムの支持体側の面に上記組成物を塗布および乾燥して、反射防止フィルム/近赤外線吸収フィルムの積層体を形成し、当該積層体を支持体に積層する方法、または(ii)支持体に上記組成物を塗布および乾燥して、支持体/近赤外線吸収フィルムの積層体を形成し、当該積層体に反射防止フィルムを積層する方法。積層は、積層すべきフィルム同士を粘着剤または接着剤で貼り合わせてもよく、それぞれのフィルムを加熱溶融することにより貼り合わせてもよい。積層に際して、各フィルムの表面に物理的な処理(例えば、コロナ処理、プラズマ処理)を施してもよく、アンカーコート層(例えば、ポリエチレンイミン、オキサゾリン系ポリマー、ポリエステル、セルロース等の高極性ポリマー)を形成してもよい。 For example, an optical filter for PDP having the configuration of an antireflection film / near infrared absorption film / support can be produced by the following method: (i) Applying the above composition on the support side of the antireflection film and drying Forming a laminate of an antireflection film / near-infrared absorbing film and laminating the laminate on a support, or (ii) applying and drying the composition on the support and drying the support / near A method of forming a laminate of infrared absorbing films and laminating an antireflection film on the laminate. In the lamination, the films to be laminated may be bonded with an adhesive or an adhesive, or may be bonded by heating and melting each film. At the time of lamination, the surface of each film may be subjected to physical treatment (for example, corona treatment, plasma treatment), and an anchor coat layer (for example, highly polar polymer such as polyethyleneimine, oxazoline polymer, polyester, cellulose, etc.) It may be formed.
本発明のPDP用光学フィルターは、PDPの前面側に載置して用いてもよく、接着剤または粘着剤を介して貼り合わせて用いてもよい。 The PDP optical filter of the present invention may be used by being placed on the front side of the PDP, or may be used by being bonded via an adhesive or a pressure-sensitive adhesive.
F.画像表示装置
本発明の画像表示装置は、上記光学フィルムを含む。好ましくは、本発明の画像表示装置は、上記反射防止フィルム、上記偏光板および上記光学フィルターから選択される少なくとも1つを含む。1つの実施形態においては、上記画像表示装置は、その最表面に上記反射防止フィルムを有する。このような実施形態によれば、外光反射を良好に低減することができる。別の実施形態においては、上記画像表示装置は、その内部に設けられ、空気との界面を有する部品の1つ以上の面に上記反射防止フィルムを有する。このような実施形態によれば、装置内部の反射光を良好に低減することができる。
F. Image Display Device The image display device of the present invention includes the optical film. Preferably, the image display device of the present invention includes at least one selected from the antireflection film, the polarizing plate, and the optical filter. In one embodiment, the image display device has the antireflection film on the outermost surface. According to such an embodiment, external light reflection can be satisfactorily reduced. In another embodiment, the image display device includes the antireflection film on one or more surfaces of a component that is provided therein and has an interface with air. According to such an embodiment, the reflected light inside the apparatus can be satisfactorily reduced.
以下、本発明の作用について説明する。
本発明によれば、コア粒子表面に結合した有機ポリマーの側鎖に重合性官能基(好ましくは、エチレン性不飽和基)を導入することにより、複合微粒子への重合性官能基導入量を従来に比べて格段に増大させることができる。その結果、優れた硬化性(硬度、耐摩耗性、耐擦傷性)を有する複合微粒子を得ることができる。従来、多官能アクリレート等を用いて側鎖に重合性官能基を導入しようとしても、多量に導入しようとする場合にはゲル化が起こり、官能基を多量に導入することは実質的に不可能であった。これに対し、本発明によれば、含珪素ポリマー(最終的に有機ポリマーとなる)の側鎖の活性水素含有官能基(好ましくは、水酸基)とイソシアネート化合物とを反応させることにより重合性官能基を多量に導入することが可能となる。
さらに、当該重合性官能基は、コア粒子に直接結合しているのではなく、有機ポリマーを介してコア粒子から離れて位置しており、かつ、有機ポリマー主鎖が柔軟であるので、硬化時の重合性官能基の反応率が非常に高い。その結果、非常に優れた硬度を有する被膜が得られる。
好ましい実施形態においては、重合性官能基は、ウレタン結合を介して上記有機ポリマー主鎖に結合されている。その結果、主に有機ポリマー主鎖に起因して溶媒への溶解性および分散性が確保され、かつ、主に上記ウレタン結合に起因して密着性が大幅に改善される。したがって、密着性と分散安定性とを両立し得る複合微粒子が得られる。さらに、優れた密着性を有することにより、硬化後の体積収縮を著しく低減できる。加えて、一般に膜厚が薄い塗膜を形成する場合には硬化時に酸素阻害の影響を受けやすくなるが、本発明によれば、ウレタン基が複合微粒子表面に偏在することにより、酸素阻害の影響を受けにくくなり、薄膜形成時の硬化性が改善される。
The operation of the present invention will be described below.
According to the present invention, by introducing a polymerizable functional group (preferably an ethylenically unsaturated group) into the side chain of the organic polymer bonded to the surface of the core particle, the amount of polymerizable functional group introduced into the composite fine particles is conventionally reduced. Compared to the above, it can be remarkably increased. As a result, composite fine particles having excellent curability (hardness, wear resistance, scratch resistance) can be obtained. Conventionally, even when trying to introduce a polymerizable functional group into a side chain using a polyfunctional acrylate or the like, gelation occurs when a large amount is introduced, and it is practically impossible to introduce a large amount of functional groups. Met. On the other hand, according to the present invention, a polymerizable functional group is obtained by reacting an active hydrogen-containing functional group (preferably a hydroxyl group) in the side chain of a silicon-containing polymer (which finally becomes an organic polymer) with an isocyanate compound. Can be introduced in large quantities.
Furthermore, the polymerizable functional group is not directly bonded to the core particle, but is located away from the core particle via the organic polymer, and the organic polymer main chain is flexible, so that it can be cured. The reaction rate of the polymerizable functional group is very high. As a result, a film having a very excellent hardness can be obtained.
In a preferred embodiment, the polymerizable functional group is bonded to the organic polymer main chain via a urethane bond. As a result, solubility and dispersibility in a solvent are ensured mainly due to the organic polymer main chain, and adhesion is largely improved mainly due to the urethane bond. Therefore, composite fine particles that can achieve both adhesion and dispersion stability can be obtained. Furthermore, volume shrinkage after curing can be significantly reduced by having excellent adhesion. In addition, in general, when a thin film is formed, it is easily affected by oxygen inhibition during curing. However, according to the present invention, the urethane group is unevenly distributed on the surface of the composite fine particles, thereby affecting the oxygen inhibition. It becomes hard to receive, and the sclerosis | hardenability at the time of thin film formation is improved.
以下、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例には限定されない。なお、特に明記しない限り、実施例における部および%は質量基準である。また、実施例における評価項目は以下の通りである。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these Examples. Unless otherwise specified, parts and% in the examples are based on mass. Moreover, the evaluation items in the examples are as follows.
(1)鉛筆硬度
JIS−K5400に準拠して鉛筆引っかき試験を行い、スリ傷による評価を行った。
(2)耐スチールウール性
スガ試験機(株)製学振型耐磨耗試験機を用いて、#0000スチールウールを200gの荷重で10回または20回往復させた後の傷の付き方を目視で評価した。傷がない場合をA、傷が1〜10本の場合をB、傷が11本以上の場合をCとした。
(3)ヘイズ
JIS−K7105に準拠して、ヘイズメーター(日本電色(株)製、NDH2000)を用いて測定した。
(4)全光線透過率
JIS−K7361に準拠して、ヘイズメーター(日本電色(株)製、NDH2000)を用いて測定した。
(5)外観
塗膜表面の外観を目視で観察し、塗膜の塗りむらを評価した。塗りむらが観察されないものを○、塗りむらが観察されるものを△、著しい塗りむらが観察されるものを×とした。
(6)視感反射率
分光光度計(島津製作所社製、UV3700)を用いて反射率を測定し、反射率の測定結果から視感反射率を求めた。
(7)安定性
コーティング組成物30mlを暗所で室温にて保存した。一週間後に凝集物の有無を観察し、凝集物の確認されないものを○、凝集物が確認されたものを×とした。
(8)屈折率
干渉式膜厚測定装置(F20、フィルメトリックス社製)を用いてフィルムの反射率を400〜800nmの範囲で測定し、nk−Cauchyの分散式を引用し、未知のパラメーターを反射率スペクトルの実測値から非線形最小二乗法によって求めて、塗膜(コーティング層)の波長550nmでの屈折率を求めた。
(1) Pencil hardness A pencil scratch test was performed in accordance with JIS-K5400, and evaluation by scratches was performed.
(2) Steel Wool Resistance Using Suga Test Machine Co., Ltd., Gakushin Type Abrasion Resistance Tester, how to scratch # 0000 steel wool after reciprocating 10 or 20 times with a load of 200 g Visually evaluated. The case where there was no scratch was A, the case where the scratch was 1 to 10 was B, and the case where the scratch was 11 or more was C.
(3) Haze It measured using the haze meter (Nippon Denshoku Co., Ltd. product, NDH2000) based on JIS-K7105.
(4) Total light transmittance Based on JIS-K7361, it measured using the haze meter (Nippon Denshoku Co., Ltd. product, NDH2000).
(5) Appearance The appearance of the coating film surface was visually observed to evaluate coating unevenness. The case where no coating unevenness was observed was rated as ◯, the case where coating unevenness was observed as Δ, and the case where remarkable coating unevenness was observed as ×.
(6) Luminous reflectance The reflectance was measured using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, UV3700), and the luminous reflectance was obtained from the reflectance measurement result.
(7) Stability 30 ml of the coating composition was stored at room temperature in the dark. One week later, the presence or absence of aggregates was observed, and those where no aggregates were confirmed were marked with ◯, and those where aggregates were confirmed were marked with x.
(8) Refractive index Using an interference-type film thickness measuring device (F20, manufactured by Filmetrics), the reflectance of the film is measured in the range of 400 to 800 nm, the nk-Cauchy dispersion formula is cited, and the unknown parameters are The refractive index at a wavelength of 550 nm of the coating film (coating layer) was obtained from the measured value of the reflectance spectrum by a non-linear least square method.
参考例1:重合性ポリシロキサン(M−1)の合成
攪拌機、温度計および冷却管を備えた300mlの四つ口フラスコにテトラメトキシシラン144.5g、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン23.6g、水19.0g、メタノール30.0g、アンバーリスト15(商品名、オルガノ社製の陽イオン交換樹脂)5.0gを入れ、65℃で2時間攪拌し、反応させた。反応混合物を室温まで冷却した後、冷却管に代えて蒸留塔、これに接続させた冷却管および流出口を設け、常圧下でフラスコ内温を約80℃まで2時間かけて昇温し、メタノールが流出しなくなるまで同温度で保持した。さらに、2.67×10kPaの圧力、90℃の温度で、メタノールが流出しなくなるまで保持し、反応をさらに進行させた。反応混合物を再び室温まで冷却した後、アンバーリスト15を濾別し、数平均分子量が1,800の重合性ポリシロキサン(M−1)を得た。
Reference Example 1: Synthesis of polymerizable polysiloxane (M-1) In a 300 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser tube, 144.5 g of tetramethoxysilane and 23.6 g of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane 19.0 g of water, 30.0 g of methanol, and 5.0 g of Amberlyst 15 (trade name, cation exchange resin manufactured by Organo) were stirred and reacted at 65 ° C. for 2 hours. After the reaction mixture was cooled to room temperature, a distillation column, a cooling tube connected to the distillation column and an outlet were provided instead of the cooling tube, and the temperature inside the flask was raised to about 80 ° C. over 2 hours under normal pressure. Was kept at the same temperature until no more spilled. Furthermore, the reaction was further proceeded by holding at a pressure of 2.67 × 10 kPa and a temperature of 90 ° C. until methanol did not flow out. After the reaction mixture was cooled again to room temperature, Amberlyst 15 was filtered off to obtain a polymerizable polysiloxane (M-1) having a number average molecular weight of 1,800.
参考例2:含珪素ポリマー(P−1)の合成
攪拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えた1リットルのフラスコに、有機溶剤として酢酸ブチル260gを入れ、窒素ガスを導入し、攪拌しながらフラスコ内温を95℃まで加熱した。次いで、重合性ポリシロキサン(M−1)12g、ブチルアクリレート112g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート187g、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)2.5gを混合した溶液を滴下口より3時間かけて滴下した。滴下後、同温度で1時間攪拌を続けた後、反応混合物に2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)0.2gを30分おきに2回添加し、反応混合物をさらに2時間加熱して共重合を行い、数平均分子量が12,000、重量平均分子量が27,000の含珪素ポリマー(P−1)が酢酸ブチルに溶解した溶液を得た。得られた溶液の固形分は48.2%であった。
Reference Example 2: Synthesis of silicon-containing polymer (P-1) 260 g of butyl acetate as an organic solvent was placed in a 1 liter flask equipped with a stirrer, a dripping port, a thermometer, a condenser tube and a nitrogen gas inlet, and nitrogen gas was added. The temperature inside the flask was heated to 95 ° C. with stirring. Next, a solution prepared by mixing 12 g of polymerizable polysiloxane (M-1), 112 g of butyl acrylate, 187 g of 2-hydroxyethyl methacrylate and 2.5 g of 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile) was added through the dropping port 3 It was added dropwise over time. After the dropwise addition, stirring was continued for 1 hour at the same temperature. Then, 0.2 g of 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile) was added to the reaction mixture twice every 30 minutes, and the reaction mixture was further added for 2 hours. Copolymerization was performed by heating to obtain a solution in which a silicon-containing polymer (P-1) having a number average molecular weight of 12,000 and a weight average molecular weight of 27,000 was dissolved in butyl acetate. The solid content of the obtained solution was 48.2%.
参考例3:不飽和基含有含珪素ポリマー(P−2)の合成
攪拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えた1リットルのフラスコに、含珪素ポリマー(P−1)400gを入れ、窒素ガスを導入し、攪拌しながらフラスコ内温を70℃まで加熱した。次いで、ジブチル錫ラウレート55mgをフラスコに添加した後、アクリロキシエチルイソシアネート(カレンズAOI、昭和電工社製)142gの酢酸ブチル溶液を、攪拌しながら1時間かけて滴下した。滴下終了後、同温度で6時間攪拌を続け反応を進行させた。反応後、系にメタノールを加えて固形分が45%になるように調整し、不飽和基含有含珪素ポリマー(P−2)が酢酸ブチルに溶解した溶液を得た。
Reference Example 3: Synthesis of unsaturated group-containing silicon-containing polymer (P-2) A silicon-containing polymer (P-1) was added to a 1-liter flask equipped with a stirrer, a dripping port, a thermometer, a cooling pipe, and a nitrogen gas inlet. 400 g was added, nitrogen gas was introduced, and the temperature inside the flask was heated to 70 ° C. while stirring. Next, 55 mg of dibutyltin laurate was added to the flask, and then a butyl acetate solution of 142 g of acryloxyethyl isocyanate (Karenz AOI, Showa Denko KK) was added dropwise over 1 hour with stirring. After completion of the dropwise addition, stirring was continued for 6 hours at the same temperature to advance the reaction. After the reaction, methanol was added to the system to adjust the solid content to 45% to obtain a solution in which the unsaturated group-containing silicon-containing polymer (P-2) was dissolved in butyl acetate.
(複合微粒子分散体の調製)
攪拌機、2つの滴下口(滴下口aおよび滴下口b)、温度計を備えた500mlの四つ口フラスコに、酢酸ブチル200gおよびメタノール50gを仕込み、内温を40℃に調整した。次いで、フラスコ内を攪拌しながら、不飽和基含有含珪素ポリマー(P−2)の酢酸ブチル溶液10g、テトラメトキシシラン18gおよび酢酸ブチル5gの混合液(原料液A)を滴下口aから、25%アンモニア水5g、メタノール15gおよび脱イオン水10gの混合液(原料液B)を滴下口bから、2時間かけて滴下した。滴下後、冷却管に代えて蒸留塔、これに接続させた冷却管および流出口を設け、40kPaの圧力下でフラスコ内温を70℃まで昇温し、アンモニア、メタノール、酢酸ブチルを固形分が30%となるまで留去し、複合微粒子が酢酸ブチルに分散した分散体(S−1)を得た。得られた複合微粒子の平均粒子径は22.1nm、無機コア粒子/有機ポリマーの比率は61/39であった。なお、評価は以下の方法により行った。
(Preparation of composite fine particle dispersion)
200 g of butyl acetate and 50 g of methanol were charged into a 500 ml four-necked flask equipped with a stirrer, two dropping ports (dropping port a and dropping port b), and a thermometer, and the internal temperature was adjusted to 40 ° C. Next, while stirring the inside of the flask, 10 g of a butyl acetate solution of unsaturated group-containing silicon-containing polymer (P-2), 18 g of tetramethoxysilane and 5 g of butyl acetate (raw material liquid A) were added from the dropping port a to 25 A mixed liquid (raw material liquid B) of 5 g% ammonia water, 15 g methanol, and 10 g deionized water was dropped from the dropping port b over 2 hours. After dropping, a distillation column, a cooling tube connected to the distillation column and an outlet are provided instead of the cooling tube, and the temperature inside the flask is raised to 70 ° C. under a pressure of 40 kPa. The mixture was distilled off to 30% to obtain a dispersion (S-1) in which composite fine particles were dispersed in butyl acetate. The obtained composite fine particles had an average particle size of 22.1 nm and an inorganic core particle / organic polymer ratio of 61/39. Evaluation was performed by the following method.
(無機コア粒子と有機ポリマーの比率の測定)
複合微粒子分散体(S−1)を1.33×10kPaの圧力下、130℃で24時間乾燥したものについて元素分析を行い、灰分を複合微粒子中の無機コア粒子含有量として求めた。
(平均粒子径の測定)
複合微粒子分散体(S−1)1gを酢酸n−ブチル99gで希釈した液を用いて、透過型電子顕微鏡により粒子を撮影し、無作為に選択した100個の粒子の直径を読み取り、その平均を平均粒子径として求めた。
(Measurement of the ratio of inorganic core particles to organic polymer)
Elemental analysis was performed on the composite fine particle dispersion (S-1) dried at 130 ° C. for 24 hours under a pressure of 1.33 × 10 kPa, and ash was determined as the content of inorganic core particles in the composite fine particles.
(Measurement of average particle size)
Using a solution obtained by diluting 1 g of the composite fine particle dispersion (S-1) with 99 g of n-butyl acetate, the particles were photographed with a transmission electron microscope, the diameters of 100 randomly selected particles were read, and the average Was determined as the average particle size.
(コーティング組成物の調製および評価)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPE−6A、共栄社化学社製)7gをメチルエチルケトン20gに溶解した溶液に、光重合開始剤(イルガキュア907、チバスペシャルティケミカルズ社製)0.7gをメチルエチルケトン8gに溶解した溶液、および複合微粒子分散体(S−1)50gを混合し、コーティング組成物を調製した。組成物の処方を後述の実施例2〜11および比較例1〜3の組成物の処方と併せて下記表1に示す。
A solution of 7 g of dipentaerythritol hexaacrylate (DPE-6A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) dissolved in 20 g of methyl ethyl ketone, a solution of 0.7 g of photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) dissolved in 8 g of methyl ethyl ketone, And 50 g of the composite fine particle dispersion (S-1) were mixed to prepare a coating composition. The formulation of the composition is shown in Table 1 below together with the formulation of the compositions of Examples 2 to 11 and Comparative Examples 1 to 3 described later.
ポリエチレンテレフタレートフィルム(コスモシャインA4300、東洋紡績社製:厚み188μm)に、上記コーティング組成物を、バーコーターを用いて塗布した。塗布層を100℃で15分乾燥した後、高圧水銀灯で250mJ/cm2の紫外線を照射することにより硬化させ、膜厚2.8μmのハードコート層を形成した。得られたハードコート層について、鉛筆硬度、耐スチールウール性、ヘイズ、全光線透過率および外観を評価した。評価結果を、後述の実施例2〜11および比較例1〜3の結果と併せて表2に示す。
(比較例1)
乾燥空気中、メルカプトプロピルトリメトキシシラン110部およびジブチル錫ラウレート0.5部からなる溶液に対し、ヘキサメチレンジイソシアネート96部を攪拌しながら50℃で1時間かけて滴下し、その後70℃で3時間加熱攪拌した。これにペンタエリスリトールトリアクリレート(PE−3A、共栄社化学社製)277部を30℃で1時間かけて滴下し、その後60℃で10時間加熱攪拌して、シラン化合物Aを得た。窒素気流下、得られたシラン化合物A30部、MEK−ST(日産化学社製、メチルエチルケトン分散コロイダルシリカ、シリカ濃度30%)233部、イソプロピルアルコール5部およびイオン交換水3部の混合液を、80℃で3時間攪拌し、次いでオルト蟻酸メチルエステル18部を添加し、さらに1時間同一温度で加熱攪拌して、無色透明の分散体(S−2)を得た。
この分散体(S−2)を用いて表1の処方としたこと以外は実施例1と同様にして、コーティング組成物を調製し、ハードコート層を形成した。このハードコート層を実施例1と同様の評価に供した。結果を表2に示す。
(Comparative Example 1)
In a dry air, 96 parts of hexamethylene diisocyanate was added dropwise at 50 ° C. over 1 hour with stirring to a solution consisting of 110 parts of mercaptopropyltrimethoxysilane and 0.5 parts of dibutyltin laurate, and then at 70 ° C. for 3 hours. Stir with heating. To this, 277 parts of pentaerythritol triacrylate (PE-3A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) was added dropwise at 30 ° C. over 1 hour, and then heated and stirred at 60 ° C. for 10 hours to obtain silane compound A. Under a nitrogen stream, a mixed solution of 30 parts of the resulting silane compound A, 233 parts of MEK-ST (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., methyl ethyl ketone-dispersed colloidal silica, silica concentration 30%), 5 parts of isopropyl alcohol and 3 parts of ion-exchanged water was added. The mixture was stirred at 0 ° C. for 3 hours, 18 parts of orthoformate methyl ester was added, and the mixture was further heated and stirred at the same temperature for 1 hour to obtain a colorless transparent dispersion (S-2).
A coating composition was prepared and a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that this dispersion (S-2) was used and the formulation shown in Table 1 was used. This hard coat layer was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Table 2.
(比較例2)
窒素気流下、2−アクリロイルオキシエチルイソシアネート(カレンズAOI、昭和電工社製)30部に、MEK−ST(日産化学社製、メチルエチルケトン分散コロイダルシリカ、シリカ濃度30%)400部およびジブチル錫ラウレート0.05部を加え、20℃で24時間攪拌した。反応後、メタノールで固形分が30%となるように希釈し、分散体(S−3)を得た。
この分散体(S−3)を用いて表1の処方としたこと以外は実施例1と同様にして、コーティング組成物を調製し、ハードコート層を形成した。このハードコート層を実施例1と同様の評価に供した。結果を表2に示す。
(Comparative Example 2)
Under a nitrogen stream, 30 parts of 2-acryloyloxyethyl isocyanate (Karenz AOI, Showa Denko), 400 parts of MEK-ST (Nissan Chemical Co., Ltd., methyl ethyl ketone-dispersed colloidal silica, silica concentration 30%) and dibutyltin laurate 05 parts were added and stirred at 20 ° C. for 24 hours. After the reaction, the mixture was diluted with methanol so that the solid content was 30% to obtain a dispersion (S-3).
A coating composition was prepared and a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that this dispersion (S-3) was used and the formulation shown in Table 1 was used. This hard coat layer was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Table 2.
(比較例3)
窒素気流下、3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学工業社製)28部に、MEK−ST(日産化学社製、メチルエチルケトン分散コロイダルシリカ、シリカ濃度30%)400部および0.002規定の塩酸8部を加え、24時間攪拌し、分散体(S−4)を得た。
この分散体(S−4)を用いて表1の処方としたこと以外は実施例1と同様にして、コーティング組成物を調製し、ハードコート層を形成した。このハードコート層を実施例1と同様の評価に供した。結果を表2に示す。
(Comparative Example 3)
Under a nitrogen stream, 28 parts of 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 400 parts of MEK-ST (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., methyl ethyl ketone-dispersed colloidal silica, silica concentration 30%) and 0 8 parts of 0.002N hydrochloric acid was added and stirred for 24 hours to obtain a dispersion (S-4).
A coating composition was prepared and a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that this dispersion (S-4) was used and the formulation shown in Table 1 was used. This hard coat layer was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Table 2.
不飽和基含有含珪素ポリマー(P−2)の酢酸ブチル溶液の使用量を10gから4gに変更したこと以外は実施例1と同様にして、複合微粒子分散体(S−5)を得た。得られた複合微粒子の平均粒子径は15.3nm、無機コア粒子/有機ポリマーの比率は80/20であった。
この分散体(S−5)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、コーティング組成物を調製し、ハードコート層を形成した。このハードコート層を実施例1と同様の評価に供した。結果を表2に示す。
A composite fine particle dispersion (S-5) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of the butyl acetate solution of the unsaturated group-containing silicon-containing polymer (P-2) was changed from 10 g to 4 g. The average particle diameter of the obtained composite fine particles was 15.3 nm, and the ratio of inorganic core particles / organic polymer was 80/20.
A coating composition was prepared and a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that this dispersion (S-5) was used. This hard coat layer was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Table 2.
2−ヒドロキシエチルメタクリレートの代わりにラクトン変性メタクリレート(ダイセル化学工業社製、プラクセルFM−1)を用いたこと以外は参考例2と同様にして、含珪素ポリマーを得た。この含珪素ポリマーの数平均分子量は15,000、重量平均分子量は29,000であった。この含珪素ポリマーを用いたこと以外は参考例3と同様にして、不飽和基含有含珪素ポリマーが酢酸ブチルに溶解した溶液を得た。この不飽和基含有含珪素ポリマー溶液を用いたこと以外は実施例1と同様にして、複合微粒子分散体(S−6)を得た。得られた複合微粒子の平均粒子径は23.5nm、無機コア粒子/有機ポリマーの比率は61/39であった。
この分散体(S−6)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、コーティング組成物を調製し、ハードコート層を形成した。このハードコート層を実施例1と同様の評価に供した。結果を表2に示す。
A silicon-containing polymer was obtained in the same manner as in Reference Example 2 except that lactone-modified methacrylate (Daicel Chemical Industries, Plaxel FM-1) was used instead of 2-hydroxyethyl methacrylate. This silicon-containing polymer had a number average molecular weight of 15,000 and a weight average molecular weight of 29,000. A solution in which the unsaturated group-containing silicon-containing polymer was dissolved in butyl acetate was obtained in the same manner as in Reference Example 3 except that this silicon-containing polymer was used. A composite fine particle dispersion (S-6) was obtained in the same manner as in Example 1 except that this unsaturated group-containing silicon-containing polymer solution was used. The obtained composite fine particles had an average particle size of 23.5 nm and an inorganic core particle / organic polymer ratio of 61/39.
A coating composition was prepared and a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that this dispersion (S-6) was used. This hard coat layer was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Table 2.
アクリロキシエチルイソシアネートの代わりに1,1−ビス(アクリロキシメチル)エチルイソシアネート(カレンズBEI、昭和電工社製)を用いたこと以外は参考例3と同様にして、不飽和基含有含珪素ポリマーが酢酸ブチルに溶解した溶液を得た。この不飽和基含有含珪素ポリマー溶液を用いたこと以外は実施例1と同様にして、複合微粒子分散体(S−7)を得た。得られた複合微粒子の平均粒子径は25.2nm、無機コア粒子/有機ポリマーの比率は61/39であった。
この分散体(S−7)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、コーティング組成物を調製し、ハードコート層を形成した。このハードコート層を実施例1と同様の評価に供した。結果を表2に示す。
An unsaturated group-containing silicon-containing polymer was prepared in the same manner as in Reference Example 3 except that 1,1-bis (acryloxymethyl) ethyl isocyanate (Karenz BEI, Showa Denko) was used instead of acryloxyethyl isocyanate. A solution dissolved in butyl acetate was obtained. A composite fine particle dispersion (S-7) was obtained in the same manner as in Example 1 except that this unsaturated group-containing silicon-containing polymer solution was used. The average particle diameter of the obtained composite fine particles was 25.2 nm, and the ratio of inorganic core particles / organic polymer was 61/39.
A coating composition was prepared and a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that this dispersion (S-7) was used. This hard coat layer was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Table 2.
不飽和基含有含珪素ポリマー(P−2)の酢酸ブチル溶液の使この用量を10gから17gに変更したこと以外は実施例1と同様にして、複合微粒子分散体(S−8)を得た。得られた複合微粒子の平均粒子径は34.0nm、無機コア粒子/有機ポリマーの比率は50/50であった。
この分散体(S−8)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、コーティング組成物を調製し、ハードコート層を形成した。このハードコート層を実施例1と同様の評価に供した。結果を表2に示す。
Use of butyl acetate solution of unsaturated group-containing silicon-containing polymer (P-2) A composite fine particle dispersion (S-8) was obtained in the same manner as in Example 1 except that this dose was changed from 10 g to 17 g. . The average particle diameter of the obtained composite fine particles was 34.0 nm, and the ratio of inorganic core particles / organic polymer was 50/50.
A coating composition was prepared and a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that this dispersion (S-8) was used. This hard coat layer was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Table 2.
ブチルアクリレートの使用量を112gから62gに、2−ヒドロキシエチルメタクリレートの使用量を187gから237gに変更したこと以外は参考例2と同様にして、含珪素ポリマー(P−3)を得た。この含珪素ポリマー(P−3)の数平均分子量は14,000、重量平均分子量は29,000であった。この含珪素ポリマー(P−3)を用いたこと、および、アクリロキシエチルイソシアネートの使用量を142gから159gに変更したこと以外は参考例3と同様にして、不飽和基含有含珪素ポリマー(P−4)が酢酸ブチルに溶解した溶液を得た。この不飽和基含有含珪素ポリマー(P−4)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、複合微粒子分散体(S−9)を得た。得られた複合微粒子の平均粒子径は32.0nm、無機コア粒子/有機ポリマーの比率は61/39であった。
この分散体(S−9)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、コーティング組成物を調製し、ハードコート層を形成した。このハードコート層を実施例1と同様の評価に供した。結果を表2に示す。
A silicon-containing polymer (P-3) was obtained in the same manner as in Reference Example 2, except that the amount of butyl acrylate used was changed from 112 g to 62 g, and the amount of 2-hydroxyethyl methacrylate used was changed from 187 g to 237 g. This silicon-containing polymer (P-3) had a number average molecular weight of 14,000 and a weight average molecular weight of 29,000. Similar to Reference Example 3, except that this silicon-containing polymer (P-3) was used and the amount of acryloxyethyl isocyanate used was changed from 142 g to 159 g, the unsaturated group-containing silicon-containing polymer (P -4) was dissolved in butyl acetate. A composite fine particle dispersion (S-9) was obtained in the same manner as in Example 1 except that this unsaturated group-containing silicon-containing polymer (P-4) was used. The average particle diameter of the obtained composite fine particles was 32.0 nm, and the ratio of inorganic core particles / organic polymer was 61/39.
A coating composition was prepared and a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that this dispersion (S-9) was used. This hard coat layer was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Table 2.
ブチルアクリレートの使用量を112gから149gに、2−ヒドロキシエチルメタクリレートの使用量を187gから150gに変更したこと以外は参考例2と同様にして、含珪素ポリマー(P−5)を得た。この含珪素ポリマー(P−5)の数平均分子量は10,000、重量平均分子量は22,000であった。この含珪素ポリマー(P−5)を用いたこと、および、アクリロキシエチルイソシアネートの使用量を142gから100gに変更したこと以外は参考例3と同様にして、不飽和基含有含珪素ポリマー(P−6)が酢酸ブチルに溶解した溶液を得た。この不飽和基含有含珪素ポリマー(P−6)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、複合微粒子分散体(S−10)を得た。得られた複合微粒子の平均粒子径は18.6nm、無機コア粒子/有機ポリマーの比率は61/39であった。
この分散体(S−10)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、コーティング組成物を調製し、ハードコート層を形成した。このハードコート層を実施例1と同様の評価に供した。結果を表2に示す。
A silicon-containing polymer (P-5) was obtained in the same manner as in Reference Example 2 except that the amount of butyl acrylate used was changed from 112 g to 149 g and the amount of 2-hydroxyethyl methacrylate used was changed from 187 g to 150 g. This silicon-containing polymer (P-5) had a number average molecular weight of 10,000 and a weight average molecular weight of 22,000. Similar to Reference Example 3, except that this silicon-containing polymer (P-5) was used and the amount of acryloxyethyl isocyanate used was changed from 142 g to 100 g, the unsaturated group-containing silicon-containing polymer (P A solution in which -6) was dissolved in butyl acetate was obtained. A composite fine particle dispersion (S-10) was obtained in the same manner as in Example 1 except that this unsaturated group-containing silicon-containing polymer (P-6) was used. The average particle diameter of the obtained composite fine particles was 18.6 nm, and the ratio of inorganic core particles / organic polymer was 61/39.
A coating composition was prepared and a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that this dispersion (S-10) was used. This hard coat layer was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Table 2.
2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)の使用量を2.5gから1.8gに変更したこと以外は参考例2と同様にして、含珪素ポリマー(P−7)を得た。この含珪素ポリマー(P−7)の数平均分子量は23,000、重量平均分子量は39,000であった。この含珪素ポリマー(P−7)を用いたこと以外は参考例3と同様にして、不飽和基含有含珪素ポリマー(P−8)が酢酸ブチルに溶解した溶液を得た。この不飽和基含有含珪素ポリマー(P−8)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、複合微粒子分散体(S−11)を得た。得られた複合微粒子の平均粒子径は30.5nm、無機コア粒子/有機ポリマーの比率は61/39であった。
この分散体(S−11)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、コーティング組成物を調製し、ハードコート層を形成した。このハードコート層を実施例1と同様の評価に供した。結果を表2に示す。
A silicon-containing polymer (P-7) was obtained in the same manner as in Reference Example 2, except that the amount of 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile) used was changed from 2.5 g to 1.8 g. . This silicon-containing polymer (P-7) had a number average molecular weight of 23,000 and a weight average molecular weight of 39,000. A solution in which the unsaturated group-containing silicon-containing polymer (P-8) was dissolved in butyl acetate was obtained in the same manner as in Reference Example 3 except that this silicon-containing polymer (P-7) was used. A composite fine particle dispersion (S-11) was obtained in the same manner as in Example 1 except that this unsaturated group-containing silicon-containing polymer (P-8) was used. The average particle diameter of the obtained composite fine particles was 30.5 nm, and the ratio of inorganic core particles / organic polymer was 61/39.
A coating composition was prepared and a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that this dispersion (S-11) was used. This hard coat layer was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Table 2.
2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)の使用量を2.5gから3.5gに変更したこと以外は参考例2と同様にして、含珪素ポリマー(P−9)を得た。この含珪素ポリマー(P−9)の数平均分子量は6,000、重量平均分子量は15,000であった。この含珪素ポリマー(P−9)を用いたこと以外は参考例3と同様にして、不飽和基含有含珪素ポリマー(P−10)が酢酸ブチルに溶解した溶液を得た。この不飽和基含有含珪素ポリマー(P−10)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、複合微粒子分散体(S−12)を得た。得られた複合微粒子の平均粒子径は17.4nm、無機コア粒子/有機ポリマーの比率は61/39であった。
この分散体(S−12)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、コーティング組成物を調製し、ハードコート層を形成した。このハードコート層を実施例1と同様の評価に供した。結果を表2に示す。
A silicon-containing polymer (P-9) was obtained in the same manner as in Reference Example 2, except that the amount of 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile) used was changed from 2.5 g to 3.5 g. . This silicon-containing polymer (P-9) had a number average molecular weight of 6,000 and a weight average molecular weight of 15,000. A solution in which the unsaturated group-containing silicon-containing polymer (P-10) was dissolved in butyl acetate was obtained in the same manner as in Reference Example 3 except that this silicon-containing polymer (P-9) was used. A composite fine particle dispersion (S-12) was obtained in the same manner as in Example 1 except that this unsaturated group-containing silicon-containing polymer (P-10) was used. The average particle diameter of the obtained composite fine particles was 17.4 nm, and the ratio of inorganic core particles / organic polymer was 61/39.
A coating composition was prepared and a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that this dispersion (S-12) was used. This hard coat layer was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Table 2.
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート15gをメチルエチルケトン22gに溶解した溶液、光重合開始剤(イルガキュア907)1.4gをメチルエチルケトン16gに溶解した溶液、および、上記複合微粒子分散体(S−1)50gを混合してコーティング組成物を調製し、ハードコート層を形成した。このハードコート層を実施例1と同様の評価に供した。結果を表2に示す。 A solution in which 15 g of dipentaerythritol hexaacrylate was dissolved in 22 g of methyl ethyl ketone, a solution in which 1.4 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907) was dissolved in 16 g of methyl ethyl ketone, and 50 g of the composite fine particle dispersion (S-1) were mixed. A coating composition was prepared to form a hard coat layer. This hard coat layer was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Table 2.
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの代わりにウレタンアクリレート(DPHA−40H、日本化薬社製)を用いて表1の処方としたこと以外は実施例1と同様にして、コーティング組成物を調製し、ハードコート層を形成した。このハードコート層を実施例1と同様の評価に供した。結果を表2に示す。 A coating composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that urethane acrylate (DPHA-40H, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was used instead of dipentaerythritol hexaacrylate, and a hard coating was prepared. A layer was formed. This hard coat layer was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Table 2.
(含珪素ポリマー(P−11)の合成)
攪拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えた1リットルのフラスコに、有機溶剤として酢酸ブチル260gを入れ、窒素ガスを導入し、攪拌しながらフラスコ内温を95℃まで加熱した。次いで、上記重合性ポリシロキサン(M−1)15g、ブチルアクリレート140g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート84g、パーフロロオクチルエチルメタクリレート60g、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)2.5gを混合した溶液を滴下口より3時間かけて滴下した。滴下後、同温度で1時間攪拌を続けた後、反応混合物に2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)0.2gを30分おきに2回添加し、反応混合物をさらに2時間加熱して共重合を行い、数平均分子量が12,000、重量平均分子量が27,000の含珪素ポリマー(P−11)が酢酸ブチルに溶解した溶液を得た。得られた溶液の固形分は48.5%であった。
(Synthesis of silicon-containing polymer (P-11))
Into a 1 liter flask equipped with a stirrer, dripping port, thermometer, cooling pipe and nitrogen gas inlet port, 260 g of butyl acetate as an organic solvent was introduced, nitrogen gas was introduced, and the flask internal temperature was heated to 95 ° C. while stirring. did. Next, 15 g of the above polymerizable polysiloxane (M-1), 140 g of butyl acrylate, 84 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 60 g of perfluorooctyl ethyl methacrylate, 2.5 g of 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile) The mixed solution was dropped from the dropping port over 3 hours. After the dropwise addition, stirring was continued for 1 hour at the same temperature. Then, 0.2 g of 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile) was added to the reaction mixture twice every 30 minutes, and the reaction mixture was further added for 2 hours. Copolymerization was conducted by heating to obtain a solution in which a silicon-containing polymer (P-11) having a number average molecular weight of 12,000 and a weight average molecular weight of 27,000 was dissolved in butyl acetate. The solid content of the obtained solution was 48.5%.
(不飽和基含有含珪素ポリマー(P−12)の合成)
攪拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えた1リットルのフラスコに、含珪素ポリマー(P−11)400gを入れ、窒素ガスを導入し、攪拌しながらフラスコ内温を70℃まで加熱した。次いで、ジブチル錫ラウレート18mgをフラスコに添加した後、アクリロキシエチルイソシアネート(カレンズAOI、昭和電工社製)59gの酢酸ブチル溶液を、攪拌しながら1時間かけて滴下した。滴下終了後、同温度で6時間攪拌を続け反応を進行させた。反応後、系にメタノールを加えて固形分が45%になるように調整し、不飽和基含有含珪素ポリマー(P−12)が酢酸ブチルに溶解した溶液を得た。
(Synthesis of unsaturated group-containing silicon-containing polymer (P-12))
Into a 1 liter flask equipped with a stirrer, a dripping port, a thermometer, a cooling pipe and a nitrogen gas introduction port, 400 g of silicon-containing polymer (P-11) was introduced, nitrogen gas was introduced, and the flask internal temperature was increased to 70 with stirring. Heated to ° C. Next, 18 mg of dibutyltin laurate was added to the flask, and then a butyl acetate solution of 59 g of acryloxyethyl isocyanate (Karenz AOI, Showa Denko KK) was added dropwise over 1 hour with stirring. After completion of the dropwise addition, stirring was continued for 6 hours at the same temperature to advance the reaction. After the reaction, methanol was added to the system to adjust the solid content to 45% to obtain a solution in which the unsaturated group-containing silicon-containing polymer (P-12) was dissolved in butyl acetate.
(複合微粒子分散体の調製)
攪拌機、2つの滴下口(滴下口aおよび滴下口b)、温度計を備えた500mlの四つ口フラスコに、酢酸ブチル200gおよびメタノール50gを仕込み、内温を40℃に調整した。次いで、フラスコ内を攪拌しながら、不飽和基含有含珪素ポリマー(P−12)の酢酸ブチル溶液10g、テトラメトキシシラン13gおよび酢酸ブチル5gの混合液(原料液A)を滴下口aから、25%アンモニア水2g、メタノール15gおよび脱イオン水5gの混合液(原料液B)を滴下口bから、2時間かけて滴下した。滴下後、冷却管に代えて蒸留塔、これに接続させた冷却管および流出口を設け、40kPaの圧力下でフラスコ内温を70℃まで昇温し、アンモニア、メタノール、酢酸ブチルを固形分が30%となるまで留去し、複合微粒子が酢酸ブチルに分散した分散体(S−13)を得た。得られた複合微粒子の平均粒子径は15.5nm、無機コア粒子/有機ポリマーの比率は61/39であった。
(Preparation of composite fine particle dispersion)
200 g of butyl acetate and 50 g of methanol were charged into a 500 ml four-necked flask equipped with a stirrer, two dropping ports (dropping port a and dropping port b), and a thermometer, and the internal temperature was adjusted to 40 ° C. Next, while stirring the flask, 10 g of a butyl acetate solution of unsaturated group-containing silicon-containing polymer (P-12), 13 g of tetramethoxysilane and 5 g of butyl acetate (raw material liquid A) were added from the dropping port a to 25 A mixed liquid (raw material liquid B) of 2 g of aqueous ammonia, 15 g of methanol and 5 g of deionized water was dropped from the dropping port b over 2 hours. After dropping, a distillation column, a cooling tube connected to the distillation column and an outlet are provided instead of the cooling tube, and the temperature inside the flask is raised to 70 ° C. under a pressure of 40 kPa. The mixture was distilled off to 30% to obtain a dispersion (S-13) in which composite fine particles were dispersed in butyl acetate. The average particle diameter of the obtained composite fine particles was 15.5 nm, and the ratio of inorganic core particles / organic polymer was 61/39.
(低屈折率コーティング組成物の調製および評価)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPE−6A、共栄社化学社製)7gをメチルエチルケトン20gに溶解した溶液に、光重合開始剤(イルガキュア907、チバスペシャルティケミカルズ社製)1gをメチルエチルケトン8gに溶解した溶液、および複合微粒子分散体(S−13)50gを混合し、低屈折率コーティング組成物を調製した。組成物の処方を後述の実施例13〜17および比較例4〜5の組成物の処方と併せて下記表3に示す。
A solution in which 7 g of dipentaerythritol hexaacrylate (DPE-6A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) is dissolved in 20 g of methyl ethyl ketone, a solution of 1 g of photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) in 8 g of methyl ethyl ketone, and a composite 50 g of the fine particle dispersion (S-13) was mixed to prepare a low refractive index coating composition. The formulation of the composition is shown in Table 3 below together with the formulation of the compositions of Examples 13 to 17 and Comparative Examples 4 to 5 described later.
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート7gをメチルエチルケトン14gに溶解した溶液と、光重合開始剤(イルガキュア907)0.3gをメチルエチルケトン3gに溶解した溶液とを混合し、コーティング組成物を調製した。このコーティング組成物をポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(コスモシャインA4300、東洋紡績社製:厚み188μm)に、実施例1と同様の方法で塗布し、ハードコート層を形成した。このPETフィルム/ハードコート層の積層体のハードコート層側に、上記低屈折率コーティング組成物を、バーコーターを用いて塗布した。塗布層を100℃で15分乾燥した後、高圧水銀灯で750mJ/cm2の紫外線を照射することにより硬化させ、膜厚約100nmの低屈折率層を形成した。膜厚は、波長400nm〜800nmの間での反射率スペクトルが波長550nmで最も小さくなるように90〜120nmの間で調整した。得られた低屈折率層について、屈折率、視感反射率、ヘイズ、全光線透過率、耐スチールウール性および鉛筆硬度を評価した。評価結果を、後述の実施例13〜17および比較例4〜5の結果と併せて表4に示す。
複合微粒子分散体(S−13)の代わりに(S−1)を用いたこと以外は実施例12と同様にして、低屈折率コーティング組成物を調製した。この低屈折率コーティング組成物を用いたこと以外は実施例12と同様にして、低屈折率層を形成した。得られた低屈折率層を実施例12と同様の評価に供した。結果を表4に示す。 A low refractive index coating composition was prepared in the same manner as in Example 12 except that (S-1) was used instead of the composite fine particle dispersion (S-13). A low refractive index layer was formed in the same manner as in Example 12 except that this low refractive index coating composition was used. The obtained low refractive index layer was subjected to the same evaluation as in Example 12. The results are shown in Table 4.
(比較例4)
不飽和基含有含珪素ポリマー(P−12)の代わりに含珪素ポリマー(P−11)を用いたこと以外は実施例12と同様にして、複合微粒子分散体(S−14)を得た。複合微粒子分散体(S−14)を用いたこと以外は実施例12と同様にして、低屈折率層を形成した。得られた低屈折率層を実施例12と同様の評価に供した。結果を表4に示す。
(Comparative Example 4)
A composite fine particle dispersion (S-14) was obtained in the same manner as in Example 12 except that the silicon-containing polymer (P-11) was used instead of the unsaturated group-containing silicon-containing polymer (P-12). A low refractive index layer was formed in the same manner as in Example 12 except that the composite fine particle dispersion (S-14) was used. The obtained low refractive index layer was subjected to the same evaluation as in Example 12. The results are shown in Table 4.
(比較例5)
複合微粒子分散体(S−4)を用いたこと以外は実施例12と同様にして、低屈折率層を形成した。得られた低屈折率層を実施例12と同様の評価に供した。結果を表4に示す。
(Comparative Example 5)
A low refractive index layer was formed in the same manner as in Example 12 except that the composite fine particle dispersion (S-4) was used. The obtained low refractive index layer was subjected to the same evaluation as in Example 12. The results are shown in Table 4.
ブチルアクリレートの使用量を140gから50gに変更したこと、および、パーフロロオクチルエチルメタクリレートの使用量を60gから150gに変更したこと以外は実施例12と同様にして、含珪素ポリマーを得た。この含珪素ポリマーの数平均分子量は14,000、重量平均分子量は28,000であった。この含珪素ポリマーを用いたこと以外は実施例12と同様にして、複合微粒子分散体(S−15)を得た。複合微粒子分散体(S−15)を用いたこと以外は実施例12と同様にして、低屈折率層を形成した。得られた低屈折率層を実施例12と同様の評価に供した。結果を表4に示す。 A silicon-containing polymer was obtained in the same manner as in Example 12 except that the amount of butyl acrylate used was changed from 140 g to 50 g, and that the amount of perfluorooctylethyl methacrylate was changed from 60 g to 150 g. This silicon-containing polymer had a number average molecular weight of 14,000 and a weight average molecular weight of 28,000. A composite fine particle dispersion (S-15) was obtained in the same manner as in Example 12 except that this silicon-containing polymer was used. A low refractive index layer was formed in the same manner as in Example 12 except that the composite fine particle dispersion (S-15) was used. The obtained low refractive index layer was subjected to the same evaluation as in Example 12. The results are shown in Table 4.
ブチルアクリレートを用いなかったこと、および、パーフロロオクチルエチルメタクリレートの使用量を60gから200gに変更したこと以外は実施例12と同様にして、含珪素ポリマーを得た。この含珪素ポリマーの数平均分子量は13,000、重量平均分子量は27,000であった。この含珪素ポリマーを用いたこと以外は実施例12と同様にして、複合微粒子分散体(S−16)を得た。複合微粒子分散体(S−16)を用いたこと以外は実施例12と同様にして、低屈折率層を形成した。得られた低屈折率層を実施例12と同様の評価に供した。結果を表4に示す。 A silicon-containing polymer was obtained in the same manner as in Example 12 except that butyl acrylate was not used and the amount of perfluorooctylethyl methacrylate was changed from 60 g to 200 g. This silicon-containing polymer had a number average molecular weight of 13,000 and a weight average molecular weight of 27,000. A composite fine particle dispersion (S-16) was obtained in the same manner as in Example 12 except that this silicon-containing polymer was used. A low refractive index layer was formed in the same manner as in Example 12 except that the composite fine particle dispersion (S-16) was used. The obtained low refractive index layer was subjected to the same evaluation as in Example 12. The results are shown in Table 4.
ブチルアクリレートの使用量を140gから80gに変更したこと、および、2−ヒドロキシエチルメタクリレートの使用量を84gから204gに変更したこと以外は実施例12と同様にして、含珪素ポリマーを得た。この含珪素ポリマーの数平均分子量は15,000、重量平均分子量は29,000であった。この含珪素ポリマーを用いて、アクリロキシエチルイソシアネートの使用量を59gから201gに変更したこと以外は実施例12と同様にして、不飽和基含有含珪素ポリマーを得た。この不飽和基含有含珪素ポリマーを用いたこと以外は実施例12と同様にして、複合微粒子分散体(S−17)を得た。複合微粒子分散体(S−17)を用いたこと以外は実施例12と同様にして、低屈折率層を形成した。得られた低屈折率層を実施例12と同様の評価に供した。結果を表4に示す。 A silicon-containing polymer was obtained in the same manner as in Example 12, except that the amount of butyl acrylate used was changed from 140 g to 80 g, and the amount of 2-hydroxyethyl methacrylate used was changed from 84 g to 204 g. This silicon-containing polymer had a number average molecular weight of 15,000 and a weight average molecular weight of 29,000. Using this silicon-containing polymer, an unsaturated group-containing silicon-containing polymer was obtained in the same manner as in Example 12 except that the amount of acryloxyethyl isocyanate used was changed from 59 g to 201 g. A composite fine particle dispersion (S-17) was obtained in the same manner as in Example 12 except that this unsaturated group-containing silicon-containing polymer was used. A low refractive index layer was formed in the same manner as in Example 12 except that the composite fine particle dispersion (S-17) was used. The obtained low refractive index layer was subjected to the same evaluation as in Example 12. The results are shown in Table 4.
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの代わりにウレタンアクリレート(DPHA−40H、日本化薬社製)を用いて表3の処方としたこと以外は実施例12と同様にして、低屈折率コーティング組成物を調製した。この低屈折率コーティング組成物を用いたこと以外は実施例12と同様にして、低屈折率層を形成した。得られた低屈折率層を実施例12と同様の評価に供した。結果を表4に示す。 A low refractive index coating composition was prepared in the same manner as in Example 12 except that urethane acrylate (DPHA-40H, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was used instead of dipentaerythritol hexaacrylate, and the formulation shown in Table 3 was used. . A low refractive index layer was formed in the same manner as in Example 12 except that this low refractive index coating composition was used. The obtained low refractive index layer was subjected to the same evaluation as in Example 12. The results are shown in Table 4.
(評価)
表2から明らかなように、本発明の複合微粒子を用いて得られるハードコート層は、硬度、耐擦傷性および外観(むら、ヘイズ、光線透過率)のバランスに優れる。また、表4から明らかなように、本発明の複合微粒子を用いて得られる低屈折率層は、良好な低屈折率が実現され、かつ、硬度、反射率および透過率のバランスに優れる。さらに、本発明の複合微粒子は、上記のような優れた特性を有する塗膜が得られることに加えて、分散体の状態で凝集等を起こさず、分散安定性に優れている。
(Evaluation)
As is apparent from Table 2, the hard coat layer obtained using the composite fine particles of the present invention is excellent in the balance of hardness, scratch resistance and appearance (unevenness, haze, light transmittance). Further, as is apparent from Table 4, the low refractive index layer obtained using the composite fine particles of the present invention achieves a good low refractive index and is excellent in the balance of hardness, reflectance and transmittance. Furthermore, the composite fine particles of the present invention are excellent in dispersion stability because they do not cause aggregation in the state of dispersion, in addition to obtaining a coating film having excellent properties as described above.
本発明の複合微粒子およびコーティング組成物は、転写箔フィルム、プラスチック光学部品、タッチパネル、フィルム型液晶素子、プラスチック成型体等のハードコート剤、反射防止フィルム用低屈折率コーティング剤、光拡散フィルム用コーティング剤として好適に利用され得る。
The composite fine particles and coating composition of the present invention are a transfer foil film, a plastic optical component, a touch panel, a film type liquid crystal element, a hard coating agent such as a plastic molding, a low refractive index coating agent for an antireflection film, and a coating for a light diffusion film. It can be suitably used as an agent.
Claims (16)
該有機ポリマーが、その側鎖に重合性官能基を有する
複合微粒子。 Having an inorganic core particle and an organic polymer bonded to at least a part of the surface of the core particle;
Composite fine particles in which the organic polymer has a polymerizable functional group in its side chain.
該反応生成物と、加水分解により金属酸化物を生成し得る金属化合物とを反応させる工程と
を含む、複合微粒子の製造方法。 Reacting a silicon-containing polymer having a functional group having active hydrogen and a polysiloxane group in the side chain with an isocyanate compound having a polymerizable functional group;
Reacting the reaction product with a metal compound capable of generating a metal oxide by hydrolysis.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007172006A JP2008081728A (en) | 2006-09-01 | 2007-06-29 | Composite fine particles, method for producing the same, and coating composition containing the composite fine particles and optical film |
| PCT/JP2007/066545 WO2008026539A1 (en) | 2006-09-01 | 2007-08-27 | Composite fine particle, method for producing the same, coating composition containing the composite fine particle, and optical film |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006237379 | 2006-09-01 | ||
| JP2007172006A JP2008081728A (en) | 2006-09-01 | 2007-06-29 | Composite fine particles, method for producing the same, and coating composition containing the composite fine particles and optical film |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008081728A true JP2008081728A (en) | 2008-04-10 |
Family
ID=39135822
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007172006A Pending JP2008081728A (en) | 2006-09-01 | 2007-06-29 | Composite fine particles, method for producing the same, and coating composition containing the composite fine particles and optical film |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2008081728A (en) |
| WO (1) | WO2008026539A1 (en) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010513601A (en) * | 2006-12-13 | 2010-04-30 | ノバルティス アーゲー | Actinic radiation curable silicone hydrogel copolymers and uses thereof |
| US8329849B2 (en) | 2008-05-16 | 2012-12-11 | Nec Corporation | Organic silicon compound and material for forming silica-based fine particle |
| JP2013095776A (en) * | 2011-10-28 | 2013-05-20 | Dic Corp | Fluorine-containing polymerizable resin, active-energy ray-curable composition including the same, and cured product obtained therefrom |
| US8507095B2 (en) | 2008-05-16 | 2013-08-13 | Nec Corporation | Metal oxide-based fine particle and method for manufacturing the same, and resin composition |
| JP2014016607A (en) * | 2012-06-13 | 2014-01-30 | Ube Exsymo Co Ltd | Antireflection material |
| KR20160045230A (en) * | 2014-10-16 | 2016-04-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | Window for display device and display device including the window |
| WO2016190427A1 (en) * | 2015-05-28 | 2016-12-01 | 大日本印刷株式会社 | Transfer foil |
| JP2016216740A (en) * | 2016-08-25 | 2016-12-22 | レッド・スポット・ペイント・アンド・ヴァーニッシュ・カンパニー・インコーポレーテッド | UV curable coating composition comprising aliphatic urethane acrylate resin |
| JP2017016029A (en) * | 2015-07-03 | 2017-01-19 | 富士フイルム株式会社 | Optical film, polarizing plate and liquid crystal display device using the same |
| KR20200115070A (en) * | 2019-03-29 | 2020-10-07 | 주식회사 엘지화학 | Reddening-resistant layer |
| JP2020164743A (en) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 太陽ホールディングス株式会社 | Polymer-coated inorganic fillers and resin compositions containing them, dry films, cured products, electronic components |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102007049B (en) * | 2008-03-20 | 2013-05-08 | Inmat公司 | Collection container assembly with nanocomposite barrier coating |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3848434B2 (en) * | 1997-05-30 | 2006-11-22 | 株式会社日本触媒 | Curable resin composition |
| JP3813034B2 (en) * | 1999-05-18 | 2006-08-23 | 三井化学株式会社 | Optical filter |
| JP2003283182A (en) * | 2002-03-20 | 2003-10-03 | Mitsui Chemicals Inc | Electromagnetic wave shield and optical filter employing it |
| JP3963759B2 (en) * | 2002-04-01 | 2007-08-22 | 株式会社日本触媒 | Low refractive index composition and antireflection film |
| JP4914585B2 (en) * | 2004-08-12 | 2012-04-11 | 富士フイルム株式会社 | Antireflection film, polarizing plate, and image display device using the same |
| JP2006220733A (en) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | Antireflection film, polarizing plate and image display device using the same |
-
2007
- 2007-06-29 JP JP2007172006A patent/JP2008081728A/en active Pending
- 2007-08-27 WO PCT/JP2007/066545 patent/WO2008026539A1/en not_active Ceased
Cited By (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010513601A (en) * | 2006-12-13 | 2010-04-30 | ノバルティス アーゲー | Actinic radiation curable silicone hydrogel copolymers and uses thereof |
| JP2014015622A (en) * | 2006-12-13 | 2014-01-30 | Novartis Ag | Actinically curable silicone hydrogel copolymers and uses thereof |
| US8329849B2 (en) | 2008-05-16 | 2012-12-11 | Nec Corporation | Organic silicon compound and material for forming silica-based fine particle |
| US8507095B2 (en) | 2008-05-16 | 2013-08-13 | Nec Corporation | Metal oxide-based fine particle and method for manufacturing the same, and resin composition |
| JP2013095776A (en) * | 2011-10-28 | 2013-05-20 | Dic Corp | Fluorine-containing polymerizable resin, active-energy ray-curable composition including the same, and cured product obtained therefrom |
| JP2014016607A (en) * | 2012-06-13 | 2014-01-30 | Ube Exsymo Co Ltd | Antireflection material |
| KR20160045230A (en) * | 2014-10-16 | 2016-04-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | Window for display device and display device including the window |
| KR102293731B1 (en) * | 2014-10-16 | 2021-08-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | Window for display device and display device including the window |
| US11332587B2 (en) | 2014-10-16 | 2022-05-17 | Samsung Display Co., Ltd. | Window for display device and display device including the window |
| WO2016190427A1 (en) * | 2015-05-28 | 2016-12-01 | 大日本印刷株式会社 | Transfer foil |
| JP2016221967A (en) * | 2015-05-28 | 2016-12-28 | 大日本印刷株式会社 | Transfer foil |
| US10576711B2 (en) | 2015-05-28 | 2020-03-03 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Transfer film |
| JP2017016029A (en) * | 2015-07-03 | 2017-01-19 | 富士フイルム株式会社 | Optical film, polarizing plate and liquid crystal display device using the same |
| JP2016216740A (en) * | 2016-08-25 | 2016-12-22 | レッド・スポット・ペイント・アンド・ヴァーニッシュ・カンパニー・インコーポレーテッド | UV curable coating composition comprising aliphatic urethane acrylate resin |
| JP2020164743A (en) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 太陽ホールディングス株式会社 | Polymer-coated inorganic fillers and resin compositions containing them, dry films, cured products, electronic components |
| KR20200115070A (en) * | 2019-03-29 | 2020-10-07 | 주식회사 엘지화학 | Reddening-resistant layer |
| KR102416811B1 (en) * | 2019-03-29 | 2022-07-06 | 주식회사 엘지화학 | Reddening-resistant layer |
| JP7360249B2 (en) | 2019-03-29 | 2023-10-12 | 太陽ホールディングス株式会社 | Polymer-coated inorganic filler, and resin compositions containing it, dry films, cured products, electronic components |
| US12253703B2 (en) | 2019-03-29 | 2025-03-18 | Lg Chem, Ltd. | Reddening-resistant layer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2008026539A1 (en) | 2008-03-06 |
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