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JP2008078464A - Printed wiring board manufacturing method and drilling device - Google Patents

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JP2008078464A
JP2008078464A JP2006257243A JP2006257243A JP2008078464A JP 2008078464 A JP2008078464 A JP 2008078464A JP 2006257243 A JP2006257243 A JP 2006257243A JP 2006257243 A JP2006257243 A JP 2006257243A JP 2008078464 A JP2008078464 A JP 2008078464A
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JP
Japan
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alignment
substrate
hole
drilling
alignment mark
Prior art date
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Application number
JP2006257243A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsutake Iizuka
光勇 飯塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Circuit Solutions Inc
Original Assignee
NEC Toppan Circuit Solutions Inc
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Publication date
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

【課題】コア基板1が伸縮するためアライメントマーク10の位置がずれ、それに合わせて形成したビアホール穴13の位置が、後の工程で基板に形成する外層ランド25に対してずれる問題を解決する。
【解決手段】有機樹脂の絶縁層の基板の金属層に内層ランドとアライメントマークを形成する第1の工程と、前記基板の両面に絶縁樹脂層を形成する第2の工程と、前記アライメントマークの近くの各位置に貫通孔のアライメントホールを形成する第3の工程と、前記アライメントターゲット群内で前記アライメントマークの前記アライメントホールに対する位置ズレ量を測定し、前記位置ズレ量の半分の値で前記基板の伸縮と歪みを補正した穴明け位置座標データを計算し、穴明けすることでビアホール穴を形成する第4の工程と、前記絶縁樹脂層上に金属めっき層から成る外層ランドとビアホールめっきを形成する第5の工程により印刷配線板を製造する。
【選択図】図5
To solve the problem that the position of an alignment mark 10 shifts due to expansion and contraction of a core substrate 1 and the position of a via hole 13 formed in accordance with the alignment mark shifts with respect to an outer layer land 25 formed on the substrate in a later step.
A first step of forming an inner land and an alignment mark on a metal layer of an organic resin insulating layer substrate, a second step of forming an insulating resin layer on both surfaces of the substrate, and the alignment mark A third step of forming an alignment hole of a through-hole in each nearby position; and a positional shift amount of the alignment mark with respect to the alignment hole in the alignment target group; and a value half of the positional shift amount 4th step of calculating the drilling position coordinate data which corrected the expansion and contraction and distortion of the substrate, and forming the via hole by drilling, and the outer layer land and the via hole plating made of the metal plating layer on the insulating resin layer A printed wiring board is manufactured by the 5th process to form.
[Selection] Figure 5

Description

本発明は、印刷配線板の製造方法に関し、特に、その穴明け作業において、穴明け位置の精度を高める印刷配線板の製造方法およびその穴明け作業に用いる穴明け装置に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board, and more particularly to a method for manufacturing a printed wiring board that increases the accuracy of a drilling position in the drilling operation and a punching device used for the drilling operation.

図6は印刷配線板を模式的に示す図であり、図6(a)は平面図で、図6(b)は側面の断面図を示す。従来の印刷配線板の製造方法では、両面に銅箔が貼着されてたコア基板1の両面の金属層をエッチングして所定の内層ランド9とアライメントマーク10を形成する。アライメントマーク10は、図7の平面図のようにコア基板1の四隅に形成する。次に、コア基板1の両面に絶縁樹脂層12を形成し、X線穴明け装置でアライメントホールを形成する。次に、穴明け装置で絶縁樹脂層12の下の金属層のアライメントマーク10の位置を検出して、そのアライメントマーク10の位置の測定結果からコア基板1の伸縮を把握して、その伸縮を補正した穴明け位置座標データを計算する。次に、その穴明け位置座標データにより、内層ランド9上の絶縁樹脂層12にレーザー光線を投影する穴明け作業によりビアホール穴を形成する。次に、その絶縁樹脂層12の表面に金属めっき層を形成しビアホール穴にビアホールめっき27を形成する。次に、その基板の両面に感光性エッチングレジストフィルムを貼り付け、アライメントホールを基準にしてマスクを位置を合わせて設置し、そのパターンを露光・現像することで転写したエッチングレジストパターンを形成する。次に、金属めっき層をエッチングしてこのエッチングレジストパターンを転写した配線パターンと外層ランド25を形成している。   6A and 6B are diagrams schematically showing a printed wiring board. FIG. 6A is a plan view and FIG. 6B is a side sectional view. In the conventional method for manufacturing a printed wiring board, predetermined inner layer lands 9 and alignment marks 10 are formed by etching the metal layers on both sides of the core substrate 1 having copper foil adhered on both sides. The alignment marks 10 are formed at the four corners of the core substrate 1 as shown in the plan view of FIG. Next, insulating resin layers 12 are formed on both surfaces of the core substrate 1, and alignment holes are formed using an X-ray drilling apparatus. Next, the position of the alignment mark 10 on the metal layer under the insulating resin layer 12 is detected by a drilling device, and the expansion / contraction of the core substrate 1 is grasped from the measurement result of the position of the alignment mark 10. Calculate the corrected drilling position coordinate data. Next, via hole holes are formed by a drilling operation in which a laser beam is projected onto the insulating resin layer 12 on the inner land 9 based on the drilling position coordinate data. Next, a metal plating layer is formed on the surface of the insulating resin layer 12, and a via hole plating 27 is formed in the via hole. Next, a photosensitive etching resist film is affixed on both surfaces of the substrate, a mask is aligned with respect to the alignment hole, and the transferred etching resist pattern is formed by exposing and developing the pattern. Next, the metal plating layer is etched to form a wiring pattern and an outer layer land 25 to which the etching resist pattern is transferred.

また、特許文献1の技術では、穴明け装置が、コア基板1の全面の広い範囲で四隅のアライメントマーク10間の長距離を、CCDカメラ又はX線測長方式による測長手段により正確に測定した。そして、その測定した距離の設計値(理論データ)との差を計算しコア基板1の伸縮の位置ズレ量を把握し、その位置ズレ量に係数K(約0.5)を掛けた穴明け位置補正量を計算した。それにより補正した穴明け位置座標データを計算し、その穴明け位置座標データによりビアホール穴を形成していた。   In the technique of Patent Document 1, the drilling device accurately measures the long distance between the alignment marks 10 at the four corners over a wide range of the entire surface of the core substrate 1 using a CCD camera or a length measuring means using an X-ray length measuring method. did. Then, the difference between the measured distance and the design value (theoretical data) is calculated, the amount of positional deviation of the expansion / contraction of the core substrate 1 is grasped, and the position deviation is multiplied by a coefficient K (about 0.5). The amount of position correction was calculated. As a result, corrected drilling position coordinate data was calculated, and via hole holes were formed based on the drilling position coordinate data.

以下に公知文献を記す。
特開2003−8238号公報
The known literature is described below.
JP 2003-8238 A

従来技術では、コア基板1の金属層4に形成したアライメントマーク10に位置を合わせてビアホール穴13を形成した。すなわち、金属層4の内層ランド9に位置を合わせて形成した。一方、コア基板1が伸縮するためアライメントマーク10の位置がずれ、それに合わせて形成したビアホール穴13の位置が、後の工程で基板に形成する外層ランド25に対してずれる問題があった。   In the prior art, the via hole 13 is formed in alignment with the alignment mark 10 formed in the metal layer 4 of the core substrate 1. That is, the metal layer 4 was formed in alignment with the inner land 9. On the other hand, since the core substrate 1 expands and contracts, the position of the alignment mark 10 shifts, and there is a problem that the position of the via hole 13 formed accordingly shifts with respect to the outer layer land 25 formed on the substrate in a later step.

また、特許文献1の技術では、コア基板1の全面の広い範囲で四隅のアライメントマーク10間の長距離を正確に測定していたので、その位置の測定機構が大掛かりになり、穴明け装置のコストが高くなる問題があった。また、アライメントマーク10の位置の測定に多くの時間を要する問題があった。   Further, in the technique of Patent Document 1, since the long distance between the alignment marks 10 at the four corners is accurately measured over a wide range of the entire surface of the core substrate 1, the measurement mechanism for the position becomes large, and the drilling device There was a problem of high costs. Further, there is a problem that it takes a lot of time to measure the position of the alignment mark 10.

本発明は、この課題を解決するために、有機樹脂の絶縁層の基板に金属層の配線パター
ンと内層ランドと、前記基板の四隅にアライメントマークを形成する第1の工程と、前記基板の両面に絶縁樹脂層を形成する第2の工程と、前記アライメントマークの近くの各位置に貫通孔のアライメントホールを形成し前記アラインメントマークとともにアライメントターゲット群を形成させ、該アライメントホール間の距離を予め定められた距離に形成する第3の工程と、前記アライメントターゲット群内で前記アライメントマークの前記アライメントホールに対する位置ズレ量を測定し、前記位置ズレ量の半分の値で前記基板の伸縮と歪みを補正した穴明け位置座標データを計算し、前記穴明け位置座標データにより穴明けすることでビアホール穴を形成する第4の工程と、前記絶縁樹脂層上に金属めっき層から成る外層ランドと配線パターンとビアホールめっきを形成する第5の工程とを有することを特徴とする印刷配線板の製造方法である。
In order to solve this problem, the present invention provides a first step of forming wiring patterns and inner lands of a metal layer on an insulating layer substrate of an organic resin, alignment marks at four corners of the substrate, and both surfaces of the substrate. A second step of forming an insulating resin layer on the substrate, forming an alignment hole of a through hole at each position near the alignment mark, forming an alignment target group together with the alignment mark, and determining a distance between the alignment holes in advance A third step of forming at a predetermined distance, and measuring a positional shift amount of the alignment mark with respect to the alignment hole in the alignment target group, and correcting expansion / contraction and distortion of the substrate with a value half the positional shift amount. By calculating the drilled position coordinate data and drilling with the drilled position coordinate data, A printed wiring board manufacturing method comprising: a fourth step of forming; and a fifth step of forming an outer layer land made of a metal plating layer, a wiring pattern, and via hole plating on the insulating resin layer. .

また、本発明は、上記第4の工程が、上記アライメントマークの上記アライメントホールに対する位置ズレ量が予め定められた限界長さを超えた場合は基板が不良であると判定し穴明けを中止することを特徴とする上記の印刷配線板の製造方法である。   In the present invention, the fourth step determines that the substrate is defective and stops drilling when the positional deviation amount of the alignment mark with respect to the alignment hole exceeds a predetermined limit length. It is a manufacturing method of said printed wiring board characterized by the above-mentioned.

また、本発明は、基板を設置しXY方向に移動させるXYテーブルと、ガルバノスキャナユニットと、アライメントカメラと、レーザー発振器と、レーザー光を収束する光学系と、レーザー光を基板に投影し穴明けする位置を走査するガルバノスキャナユニットを有し、アライメントカメラの読み取った画像を処理しアライメントターゲットの位置を測定する画像処理手段と、アライメントターゲットの位置により、穴明け位置補正量を計算し、穴明け位置を補正してXYテーブルの移動位置を制御して穴明けを制御する制御手段を有し、前記基板のアライメントマークとアライメントホールから成るアライメントターゲット群毎に、前記アライメントホールに対する前記アライメントマークの位置ズレ量を測定する手段を有し、前記制御手段が、前記位置ズレ量から射影変換を計算することで、前記基板の伸縮と歪みを補正した穴明け位置座標データを計算することを特徴とする穴明け装置である。   In addition, the present invention provides an XY table for installing a substrate and moving it in the XY direction, a galvano scanner unit, an alignment camera, a laser oscillator, an optical system for converging laser light, and projecting a hole by projecting laser light onto the substrate. A galvano scanner unit that scans the position to be scanned, the image processing means that processes the image read by the alignment camera and measures the position of the alignment target, and the position of the alignment target are used to calculate the drilling position correction amount. The position of the alignment mark with respect to the alignment hole is provided for each alignment target group consisting of the alignment mark and the alignment hole of the substrate for controlling the drilling by correcting the position and controlling the movement position of the XY table. Means for measuring the amount of deviation, But, by calculating the projective transformation from the positional displacement amount, a drilling device, characterized in that to calculate the drilling positional coordinate data corrected stretch and distortion of the substrate.

また、本発明は、上記制御手段が、上記基板の四隅のそれぞれの位置での、アライメントマークの位置ズレ量が予め定められた限界長さを超えた場合は基板が不良であると判定し、穴明けを中止することを特徴とする上記の穴明け装置である。   Further, in the present invention, the control means determines that the substrate is defective when the positional deviation amount of the alignment mark at each of the four corners of the substrate exceeds a predetermined limit length, It is said drilling apparatus characterized by stopping drilling.

本発明の穴明け位置座標データにより穴明けしたビアホール穴13の位置は、アライメントマーク10の位置ズレ量の半分の大きさで位置ズレを補正したため、形成されるビアホール穴13の位置は、外層ランド25との位置ズレと内層ランド9との位置ズレが同じ程度に、位置ズレ量が分配され、位置ズレが最小化されたビアホール穴13を形成できる効果がある。   Since the position of the via hole 13 drilled according to the drilling position coordinate data of the present invention is corrected by the position deviation of half the amount of the positional deviation of the alignment mark 10, the position of the via hole 13 to be formed is The positional deviation amount is distributed to the same extent as the positional deviation of 25 and the positional deviation of the inner land 9 and the via hole 13 with the minimized positional deviation can be formed.

穴明け装置によりアライメントマーク10の位置を測定する際に、各アライメントターゲット群毎の狭い範囲内でアライメントホール14の位置を基準にしてアライメントマーク10の位置を測定するのみで穴明け位置補正量を計算できるため、穴明け装置のアライメントマーク10の位置の測定機構を簡易化でき、装置のコストを低減できる効果があり、その測定時間を短縮できる効果がある。   When the position of the alignment mark 10 is measured by the drilling device, the drilling position correction amount can be obtained only by measuring the position of the alignment mark 10 based on the position of the alignment hole 14 within a narrow range for each alignment target group. Since the calculation can be performed, the measurement mechanism of the position of the alignment mark 10 of the drilling device can be simplified, and the cost of the device can be reduced, and the measurement time can be shortened.

以下に、図面を参照しながら、本実施形態に係る印刷配線板の製造方法について説明する。なお、以下の説明において同一の要素については同一の符合を付してその説明を省略する。   Below, the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on this embodiment is demonstrated, referring drawings. In the following description, the same elements are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

以下、この印刷配線板の製造方法を示す。
(ステップ1)図1(a)のように、厚さが50μmから100μmで縦横が500mm×600mmの寸法の、ガラス繊維入りのエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂などの有機樹脂の絶縁層3の両面に銅の金属層4を有するコア基板1に、ドリリング装置で、直径200μmから2mmの円筒状の貫通孔2を数千個から数万個穴あけした基板を製造する。また、このステップでは、ガラス繊維入り有機樹脂のコア基板1に円筒状の貫通孔2を開けたが、これ以外にアラミド繊維入りの、あるいは細径のガラス繊維入りの、あるいは扁平なガラス繊維入りの、あるいは、フレーク状の無機のフィラー入りの有機樹脂のコア基板1を用いても良い。また、貫通孔2をあける手段と貫通孔2の形状は、ドリルの他に、炭酸ガスレーザーあるいはYAGレーザなどのレーザー光線による穴あけ装置を用いて円錐状の壁面の貫通孔2を形成しても良い。
Hereinafter, the manufacturing method of this printed wiring board is shown.
(Step 1) As shown in FIG. 1 (a), copper is coated on both surfaces of an insulating layer 3 of an organic resin such as glass fiber epoxy resin or polyimide resin having a thickness of 50 μm to 100 μm and a length and width of 500 mm × 600 mm. A substrate in which thousands to tens of thousands of cylindrical through holes 2 having a diameter of 200 μm to 2 mm are drilled on the core substrate 1 having the metal layer 4 is manufactured using a drilling apparatus. In this step, the cylindrical through-hole 2 is opened in the core substrate 1 made of glass fiber-containing organic resin. In addition to this, aramid fiber, small-diameter glass fiber, or flat glass fiber is contained. Alternatively, an organic resin core substrate 1 containing a flaky inorganic filler may be used. The through-hole 2 and the shape of the through-hole 2 may be formed by using a drilling device with a laser beam such as a carbon dioxide laser or a YAG laser in addition to the drill. .

(ステップ2)次に、図1(b)のように、この基板上に無電解銅めっき処理と、それに続く電解銅めっき処理により、貫通孔2の壁面のスルホールめっき5、および、金属層4に重ねた金属めっき層6を形成した基板を製造する。なお、このスルホールめっき5の形状は、貫通孔2を銅めっきで充填した構造に形成することもできる。
(ステップ3)次に、図1(c)のように、この基板の両面の金属めっき層6上に、感光性エッチングレジストフィルムを貼り付け、それにマスクパターンを転写する露光処理を行い、現像処理しエッチングレジストパターン7を形成する。
(ステップ4)次に、図1(d)のように、この基板の金属めっき層6と金属層4を、エッチングレジストパターン7で保護された部分を残しエッチングすることでそのパターンを転写し、その後にエッチングレジストパターン7を剥離・除去する。これにより、金属層4と金属めっき層6の配線パターン8と内層ランド9と、アライメントマーク10を形成した基板を製造する。アライメントマーク10は、図3の平面図のように、基板の四隅に形成する。図3でアライメントマーク10に記号A、B、C、Dを付して示す。
(Step 2) Next, as shown in FIG. 1B, through the electroless copper plating process and the subsequent electrolytic copper plating process on this substrate, the through-hole plating 5 on the wall surface of the through-hole 2 and the metal layer 4 A substrate on which the metal plating layer 6 overlaid is formed. In addition, the shape of this through-hole plating 5 can also be formed in the structure which filled the through-hole 2 with copper plating.
(Step 3) Next, as shown in FIG. 1 (c), a photosensitive etching resist film is pasted on the metal plating layers 6 on both sides of the substrate, and an exposure process is performed to transfer the mask pattern to the development process. Then, an etching resist pattern 7 is formed.
(Step 4) Next, as shown in FIG. 1 (d), the pattern is transferred by etching the metal plating layer 6 and the metal layer 4 of this substrate, leaving a portion protected by the etching resist pattern 7, Thereafter, the etching resist pattern 7 is peeled off and removed. Thus, a substrate on which the wiring pattern 8 of the metal layer 4 and the metal plating layer 6, the inner layer land 9, and the alignment mark 10 are formed is manufactured. The alignment marks 10 are formed at the four corners of the substrate as shown in the plan view of FIG. In FIG. 3, symbols A, B, C, and D are attached to the alignment mark 10.

(ステップ5)次に、この基板の貫通孔2を樹脂の穴埋め材11で充填する。次に、この基板の両面の配線パターン8と内層ランド9などの金属めっき層6の表面に黒化処理を施す。金属めっき層6の表面に黒化処理を施したことにより、その表面に重ねて設置する絶縁樹脂層12との密着力が向上する。次に、図1(e)のように、この基板の両面に絶縁樹脂層12を形成した基板を製造する。この絶縁樹脂層12の形成方法としては、熱硬化性のフィルム状の絶縁樹脂層12をコア基板1の両面に貼り合わせ、加熱・加圧して積層硬化させて形成する。又は、液状樹脂をコア基板1の両面に塗布して乾燥・硬化させる。あるいは、感光性の樹脂フィルムをコア基板1の両面にラミネートして露光・現像することで形成することもできる。   (Step 5) Next, the through hole 2 of this substrate is filled with a resin filler 11. Next, a blackening process is performed on the surface of the metal plating layer 6 such as the wiring pattern 8 and the inner land 9 on both sides of the substrate. By performing the blackening treatment on the surface of the metal plating layer 6, the adhesion with the insulating resin layer 12 placed on the surface is improved. Next, as shown in FIG. 1E, a substrate having the insulating resin layers 12 formed on both sides of the substrate is manufactured. As a method for forming the insulating resin layer 12, the thermosetting film-like insulating resin layer 12 is bonded to both surfaces of the core substrate 1, and heated and pressed to be laminated and cured. Alternatively, a liquid resin is applied to both surfaces of the core substrate 1 and dried and cured. Alternatively, it may be formed by laminating a photosensitive resin film on both surfaces of the core substrate 1 and exposing and developing.

この絶縁樹脂層12のその他の形成方法としては、予め銅箔に塗布による絶縁樹脂層12が形成された樹脂付き銅箔を、コア基板1の両面に絶縁樹脂層12を内側にして重ね合わせ、加熱・加圧することにより絶縁樹脂層12を硬化させる。その銅箔の銅層の表面上にエッチングレジストパターンを形成し、それで被覆してエッチングすることで、後にビアホール穴13を形成すべき個所の銅箔を選択的に除去するか、あるいは、銅箔を全面的に除去して絶縁樹脂層12を露出させた基板を製造する。   As another method for forming the insulating resin layer 12, a copper foil with resin in which the insulating resin layer 12 is previously formed on the copper foil is overlapped on both surfaces of the core substrate 1 with the insulating resin layer 12 inside, The insulating resin layer 12 is cured by heating and pressing. An etching resist pattern is formed on the surface of the copper layer of the copper foil, and the copper foil is selectively removed at a place where the via hole hole 13 is to be formed later by covering and etching. Is removed entirely to produce a substrate with the insulating resin layer 12 exposed.

(ステップ6)次に、図1(f)のように、この基板に、X線穴あけ装置により、図3に平面図にE、F、G、Hと記号を付したアライメントホール14を、その重心を、A、B、C、Dと記号を付したアライメントマーク10の重心に一致させて、基板の四隅に穴明けし形成する。その際に、アライメントマーク10毎に、それから10mm以内の近くの位置に貫通孔のアライメントホール14を形成し、アライメントマーク10と、その近くに形成したアライメントホール14とで、アライメントターゲット群を形成させる。このアライメントホール14間の距離は、アライメントマーク10間の距離の伸縮にかかわらず、予め定められた距離に設定し形成する。   (Step 6) Next, as shown in FIG. 1 (f), an alignment hole 14 with symbols E, F, G, H on the plan view of FIG. The center of gravity is made to coincide with the center of gravity of the alignment mark 10 with the symbols A, B, C, D, and holes are formed in the four corners of the substrate. At that time, for each alignment mark 10, a through hole alignment hole 14 is formed at a position within 10 mm from the alignment mark 10, and an alignment target group is formed by the alignment mark 10 and the alignment hole 14 formed in the vicinity thereof. . The distance between the alignment holes 14 is set to a predetermined distance regardless of expansion / contraction of the distance between the alignment marks 10.

(ステップ7)次に、紫外線レーザやYAG高調波レーザ等のレーザー光線を収束することで穴明けする穴明け装置による以下の手順で、図2(g)のように、その基板の絶縁樹脂層12の内層ランド9の個所にビアホール穴13をあけた基板16を作成する。   (Step 7) Next, as shown in FIG. 2G, the insulating resin layer 12 of the substrate is formed by the following procedure using a drilling device that drills holes by converging a laser beam such as an ultraviolet laser or a YAG harmonic laser. A substrate 16 having a via hole 13 formed in the inner layer land 9 is formed.

(穴明け装置の実施形態)図4に、本実施形態で用いる穴明け装置の構成を示す。穴明け装置は、基板16を設置しXY方向に移動させるXYテーブル17と、ガルバノスキャナユニット18と、CCDカメラやX線観察手段などによるアライメントカメラ19と、レーザー発振器20と、そのレーザー光を収束する光学系21と、レーザー光をガルバノスキャナユニット18へ導く反射ミラー22を有する。ガルバノスキャナユニット18は、レーザー光を収束し基板16に投影し穴明けする位置をガルバノミラーにより走査する。そして、穴明け装置は、アライメントカメラ19の読み取った画像を処理しアライメントターゲットの位置を測定する画像処理手段23と、アライメントターゲットの位置により、穴明け位置補正量を計算し、穴明け位置を補正してXYテーブル17の移動距離を制御して穴明けを制御する制御手段24を有する。画像処理手段23と制御手段24は、異なるハードウェアを用いることもできるが、それぞれを同一のコンピュータの演算プログラムで構成することもできる。   (Embodiment of Drilling Device) FIG. 4 shows the configuration of the drilling device used in this embodiment. The drilling device includes an XY table 17 on which a substrate 16 is installed and moved in the XY direction, a galvano scanner unit 18, an alignment camera 19 using a CCD camera or an X-ray observation means, a laser oscillator 20, and a laser beam converged. An optical system 21 for performing the above operation and a reflection mirror 22 for guiding the laser light to the galvano scanner unit 18. The galvano scanner unit 18 scans the position where the laser light is converged, projected onto the substrate 16 and drilled, with a galvanometer mirror. Then, the drilling device calculates the drilling position correction amount based on the image processing means 23 that processes the image read by the alignment camera 19 and measures the position of the alignment target, and the position of the alignment target, and corrects the drilling position. The control unit 24 controls the movement distance of the XY table 17 to control drilling. The image processing means 23 and the control means 24 can use different hardware, but can also be configured by the same computer calculation program.

穴明け装置によるビアホール穴13の形成は、以下のようにして行う。まず基板を真空吸着方式によりXYテーブル17に固定する。次に、穴明け装置の制御手段24が、予め記憶手段に記憶しているアライメントターゲットであるアライメントマーク10およびアライメントホール14を、それらの位置座標設計値を記憶手段から読み出し、XYテーブル17を駆動することで、アライメントカメラ19の位置とアライメントターゲットの位置を合わせる。次に、アライメントカメラ19が、アライメントターゲットを観察し、その画像データを作成する。次に、画像処理手段23が、その画像データを演算処理することでアライメントターゲットの位置座標を計算する。こうして順次に、アライメントマーク10とアライメントホール14をアライメントカメラ19で観測することで、それらの位置座標を計算する。同じアライメントターゲット群内のアライメントマーク10とアライメントホール14を10mm以内の近くに形成したことにより、両者の観測と位置座標の計算を短時間に行える効果がある。次に、制御手段24が、以下のプログラム手順で、アライメントマーク10の位置ズレ量を、同じアライメントターゲット群内のアライメントホール14の位置座標を基準にして計算する。この処理を、基板16の四隅のアライメントターゲット群に対して行う。そして、制御手段24が、その四隅のアライメントマーク10の位置ズレ量により基板の伸縮と歪みを補正したビアホール穴13の穴明け位置座標データを計算する。   The formation of the via hole 13 by the drilling device is performed as follows. First, the substrate is fixed to the XY table 17 by a vacuum suction method. Next, the control means 24 of the drilling apparatus reads the alignment mark 10 and the alignment hole 14 which are the alignment targets stored in advance in the storage means, their position coordinate design values from the storage means, and drives the XY table 17. By doing so, the position of the alignment camera 19 and the position of the alignment target are matched. Next, the alignment camera 19 observes the alignment target and creates image data thereof. Next, the image processing means 23 calculates the position coordinates of the alignment target by processing the image data. By sequentially observing the alignment mark 10 and the alignment hole 14 with the alignment camera 19 in this way, their position coordinates are calculated. By forming the alignment mark 10 and the alignment hole 14 in the same alignment target group close to within 10 mm, both of them can be observed and the position coordinates can be calculated in a short time. Next, the control means 24 calculates the positional deviation amount of the alignment mark 10 based on the positional coordinates of the alignment hole 14 in the same alignment target group by the following program procedure. This process is performed on the alignment target groups at the four corners of the substrate 16. Then, the control means 24 calculates the drilling position coordinate data of the via hole 13 in which the expansion / contraction and distortion of the substrate are corrected by the positional deviation amount of the alignment marks 10 at the four corners.

この穴明け位置座標データを計算するプログラム手順は具体的には以下のように行う。最初に、穴明け装置の制御手段24が、アライメントターゲット群毎に、アライメントホール14の位置座標を基準にしたアライメントマーク10の位置ズレ量を測定する。ここで、アライメントマーク10のアライメントホール14に対する位置ズレ量が所定の限界長さを超えた場合には、その基板の穴明けを中止する判定をする。これにより、基板16の伸縮が管理範囲を逸脱した場合を検出し、無駄に穴明けを実施することを防止でき、印刷配線板の製造コストを低減できる効果がある。   The program procedure for calculating the drilling position coordinate data is specifically performed as follows. First, the control means 24 of the drilling device measures the positional deviation amount of the alignment mark 10 based on the positional coordinates of the alignment hole 14 for each alignment target group. Here, when the positional shift amount of the alignment mark 10 with respect to the alignment hole 14 exceeds a predetermined limit length, it is determined to stop drilling the substrate. Thereby, it is possible to detect a case where the expansion and contraction of the substrate 16 deviates from the management range, prevent unnecessary drilling, and reduce the manufacturing cost of the printed wiring board.

次に、制御手段24が、四隅のアライメントターゲット群毎に、四隅のアライメントマーク10の位置ズレ量から、基板16の伸縮と歪みを補正する射影変換計算パラメータを計算する。次に、その射影変換計算パラメータを用いた射影変換処理の計算を行うことで、位置ズレを補正した穴明け位置座標データを作成する。ここで、基板16の位置ズレ量を半分のみ補正する。これにより、穴明けしたビアホール穴13の位置の内層ランド9に対する位置ズレと、ビアホール穴13の位置と後の工程で形成する外層ランド25(アライメントホール14に位置を合わせたマスクで形成する)との位置ズレを、均等に配分したバランス良い補正ができる効果がある。また、穴明け装置は10mm以内の短い距離の狭い範囲内のアライメントターゲット群のアライメントマーク10とアライメントホール14の位置を測定するのみでアライメントマーク10の位置ズレ量を得ることができる。そして、その位置ズレ量を4箇所のアライメントターゲット群で取得するのみで、穴明け位置を補正できる。このため、穴明け装置のアライメントターゲットの位置の測定のために必要な機構のコストを低減できる効果があり、また、短い時間でアライメントターゲットの位置を測定できる効果がある。   Next, the control means 24 calculates projective transformation calculation parameters for correcting expansion / contraction and distortion of the substrate 16 from the positional deviation amount of the alignment marks 10 at the four corners for each alignment target group at the four corners. Next, by performing a projective transformation calculation using the projective transformation calculation parameters, drilling position coordinate data with corrected positional deviation is created. Here, only half of the positional deviation amount of the substrate 16 is corrected. As a result, the position of the drilled via hole 13 with respect to the inner land 9 is shifted, and the position of the via hole 13 and the outer land 25 formed in a later process (formed with a mask aligned with the alignment hole 14). There is an effect that it is possible to perform a well-balanced correction in which the positional deviation is uniformly distributed. In addition, the drilling device can obtain the amount of misalignment of the alignment mark 10 only by measuring the positions of the alignment mark 10 and the alignment hole 14 of the alignment target group within a narrow range of a short distance within 10 mm. Then, the drilling position can be corrected only by acquiring the positional deviation amount with the four alignment target groups. For this reason, there is an effect that the cost of the mechanism necessary for measuring the position of the alignment target of the drilling device can be reduced, and the position of the alignment target can be measured in a short time.

以下では、図3に示すように、アライメントホール14を長方形の四隅に設置した場合について、穴明け位置座標データの計算式の実施例を示す。先のステップ6で、図3のように、基板16の四隅の、E、F、G、Hと記号を付したアライメントホール14は、その重心を、記号A、B、C、Dを付したアライメントマーク10の重心に一致させて形成した。そのアライメントホール14の位置座標は、その重心を原点として以下の式であらわす。
左上部アライメントホールEの位置座標=(-Ex,Ey)
右上部アライメントホールFの位置座標=(Ex,Ey)
右下部アライメントホールGの位置座標=(Ex,-Ey)
左下部アライメントホールHの位置座標=(-Ex,-Ey)。
In the following, as shown in FIG. 3, an example of the calculation formula of the drilling position coordinate data is shown for the case where the alignment holes 14 are installed at the four corners of the rectangle. In the previous step 6, as shown in FIG. 3, the alignment holes 14 marked with E, F, G, H at the four corners of the substrate 16 are marked with symbols A, B, C, D at the center of gravity. The alignment mark 10 is formed so as to coincide with the center of gravity. The position coordinates of the alignment hole 14 are expressed by the following equation with the center of gravity as the origin.
Position coordinates of upper left alignment hole E = (-Ex, Ey)
Upper right alignment hole F position coordinates = (Ex, Ey)
Position coordinates of lower right alignment hole G = (Ex, -Ey)
Position coordinates of lower left alignment hole H = (-Ex, -Ey).

アライメントマーク10の位置はアライメントホール14と同じ重心を有するように、長方形の四隅に設置した。この場合は、それぞれにアライメントマーク10の位置座標は、以下のように定義する。
アライメントマークAの位置座標とその設計値=(Ax,Ay),(-Lxo,Lyo)
アライメントマークBの位置座標とその設計値=(Bx,By),(Lxo,Lyo)
アライメントマークCの位置座標とその設計値=(Cx,Cy),(Lxo,-Lyo)
アライメントマークDの位置座標とその設計値=(Dx,Dy),(-Lxo,-Lyo)
アライメントマークAの位置ズレ量=2(Mxm,Mym)=(Ax,Ay)−(-Lxo,Lyo)
アライメントマークBの位置ズレ量=2(Nxm,Nym)=(Bx,By)−(Lxo,Lyo)
アライメントマークCの位置ズレ量=2(Pxm,Pym)=(Cx,Cy)−(Lxo,-Lyo)
アライメントマークDの位置ズレ量=2(Qxm,Qym)=(Dx,Dy)−(-Lxo,-Lyo)
左上部アライメントターゲット穴明け位置補正量=(Mxm,Mym)
右上部アライメントターゲット穴明け位置補正量=(Nxm,Nym)
右下部アライメントターゲット穴明け位置補正量=(Pxm,Pym)
左下部アライメントターゲット穴明け位置補正量=(Qxm,Qym)
これらの、各アライメントターゲット群での穴明け位置補正量は、それぞれのアライメントターゲット群内のみで、アライメントホール14の位置とアライメントマーク10の位置の測定結果のみを用いて計算できる。また、この四隅の穴明け位置補正量は、四隅のアライメントマーク10の位置ズレ量の半分の大きさに設定する。
The alignment marks 10 were placed at the four corners of the rectangle so that they have the same center of gravity as the alignment hole 14. In this case, the position coordinates of the alignment mark 10 are respectively defined as follows.
Position coordinates of alignment mark A and their design values = (Ax, Ay), (-Lxo, Lyo)
Position coordinates of alignment mark B and their design values = (Bx, By), (Lxo, Lyo)
Position coordinates of alignment mark C and their design values = (Cx, Cy), (Lxo, -Lyo)
Position coordinates of alignment mark D and their design values = (Dx, Dy), (-Lxo, -Lyo)
Alignment amount of alignment mark A = 2 (Mxm, Mym) = (Ax, Ay)-(-Lxo, Lyo)
Misalignment amount of alignment mark B = 2 (Nxm, Nym) = (Bx, By) − (Lxo, Lyo)
Position shift amount of alignment mark C = 2 (Pxm, Pym) = (Cx, Cy) − (Lxo, −Lyo)
Position shift amount of the alignment mark D = 2 (Qxm, Qym) = (Dx, Dy) − (− Lxo, −Lyo)
Upper left alignment target drilling position correction amount = (Mxm, Mym)
Upper right alignment target drilling position correction amount = (Nxm, Nym)
Lower right alignment target drilling position correction amount = (Pxm, Pym)
Lower left alignment target drilling position correction amount = (Qxm, Qym)
These drilling position correction amounts in each alignment target group can be calculated using only the measurement results of the position of the alignment hole 14 and the position of the alignment mark 10 only in each alignment target group. Further, the amount of correction for the drilling positions at the four corners is set to be half the amount of positional deviation of the alignment marks 10 at the four corners.

次に、制御手段24が、基板の四隅のそれぞれの位置での、アライメントマーク10のアライメントホール14の位置を基準にした位置ズレ量2(Mxm,Mym)、2(Nxm,Nym)、2(Pxm,Pym)、2(Qxm,Qym)を計算した際に、その位置ズレ量が予め定められた限界長さを超えた場合は基板が不良であると判定し、穴明けを中止する。これにより、基板の規格を外れる伸縮や歪みによりアライメントマーク10の位置が大きくずれた基板を判別し、結局不良品として廃棄する基板16に対して更に穴明け作業を行う無駄な作業を防止できる効果がある。   Next, the control means 24 detects the positional deviation amounts 2 (Mxm, Mym), 2 (Nxm, Nym), 2 (with respect to the position of the alignment hole 14 of the alignment mark 10 at each of the four corners of the substrate. When calculating (Pxm, Pym), 2 (Qxm, Qym), if the amount of positional deviation exceeds a predetermined limit length, it is determined that the substrate is defective, and drilling is stopped. As a result, it is possible to discriminate a substrate in which the position of the alignment mark 10 is greatly displaced due to expansion or contraction or distortion that deviates from the standard of the substrate, and to prevent unnecessary work for further drilling the substrate 16 to be discarded as a defective product. There is.

次に、制御手段24が、四隅のアライメントホール14の重心を原点とする穴明け位置座標設計値(Uxo,Uyo)から、以下の式を計算することで穴明け位置座標データ(Tx,Ty)を
計算する。先ず、アライメントホール14は、アライメントマーク10の原点に位置を合わせて形成したため、以下の式が成り立つ。
(Mxm,Mym)+(Nxm,Nym)+(Pxm,Pym)+(Qxm,Qym)=0
穴明け位置座標設計値=(Uxo,Uyo)
この関係を前提にし、以下の式で、各位置のアライメントマーク10の位置での穴明け位置補正量から、所定の穴あけ位置での穴明け位置補正量を射影変換により計算する。そして、その穴明け位置補正量を穴明け位置座標設計値(Uxo,Uyo)に加えることで穴明け位置座標データ(Tx,Ty)を計算する。
(Tx,Ty)=(Uxo+Uyo)
+(射影変換計算パラメータ1)×Uxo/(2Lxo)
+(射影変換計算パラメータ2)×Uyo/(2Lyo)
+(射影変換計算パラメータ3)×Uxo×Uyo/(2Lxo×Lyo)
射影変換計算パラメータ1=(Nxm,Nym)+(Pxm,Pym)=−(Mxm,Mym)−(Qxm,Qym)
射影変換計算パラメータ2=(Mxm,Mym)+(Nxm,Nym)=−(Pxm,Pym)−(Qxm,Qym)
射影変換計算パラメータ3=(Nxm,Nym)+(Qxm,Qym)=−(Mxm,Mym)−(Pxm,Pym)
この計算により、4箇所のアライメントマーク10位置ズレ量が、射影変換により、各穴明け位置毎に基板の伸縮と歪みの補正をする穴明け位置補正量に反映され、それにより補正された穴明け位置座標データ(Tx,Ty)が計算される。また、この穴明け位置補正量は、基板16の位置ズレ量の半分の大きさで補正する。
Next, the control means 24 calculates the following formula from the drilling position coordinate design value (Uxo, Uyo) with the center of gravity of the alignment hole 14 at the four corners as the origin, thereby producing the drilling position coordinate data (Tx, Ty). Calculate First, since the alignment hole 14 is formed in alignment with the origin of the alignment mark 10, the following equation is established.
(Mxm, Mym) + (Nxm, Nym) + (Pxm, Pym) + (Qxm, Qym) = 0
Drilling position coordinate design value = (Uxo, Uyo)
Based on this relationship, the drilling position correction amount at a predetermined drilling position is calculated by projective transformation from the drilling position correction amount at the position of the alignment mark 10 at each position by the following formula. Then, the drilling position coordinate data (Tx, Ty) is calculated by adding the drilling position correction amount to the drilling position coordinate design value (Uxo, Uyo).
(Tx, Ty) = (Uxo + Uyo)
+ (Projection transformation calculation parameter 1) x Uxo / (2Lxo)
+ (Projection transformation calculation parameter 2) x Uyo / (2Lyo)
+ (Projection transformation calculation parameter 3) x Uxo x Uyo / (2Lxo x Lyo)
Projection transformation calculation parameter 1 = (Nxm, Nym) + (Pxm, Pym) = − (Mxm, Mym) − (Qxm, Qym)
Projection transformation calculation parameter 2 = (Mxm, Mym) + (Nxm, Nym) = − (Pxm, Pym) − (Qxm, Qym)
Projective transformation calculation parameter 3 = (Nxm, Nym) + (Qxm, Qym) = − (Mxm, Mym) − (Pxm, Pym)
By this calculation, the amount of misalignment of the four alignment marks 10 is reflected in the drilling position correction amount for correcting the expansion / contraction and distortion of the substrate for each drilling position by projective transformation, and the drilling corrected thereby. The position coordinate data (Tx, Ty) is calculated. Further, this punching position correction amount is corrected by a half of the positional deviation amount of the substrate 16.

こうして、各アライメントターゲット群毎に、10mm以内の短い距離の狭い範囲内でアライメントホール14の位置を基準にしてアライメントマーク10の位置を測定するのみで基板の伸縮と歪みを補正した穴明け位置座標データ(Tx,Ty)を計算することができ、その位置ズレ量を短時間で測定できる効果がある。この効果が可能になった原因は、ステップ6で形成するアライメントホール14間の距離が、それまでの製造工程による基板の伸縮の影響を受けない一定値に設定したためである。また、これにより、穴明け装置のアライメントマーク10の位置の測定機構を簡略化することができ、それにより穴明け装置のコストを低減できる効果がある。   Thus, for each alignment target group, a drilling position coordinate in which the expansion / contraction and distortion of the substrate are corrected only by measuring the position of the alignment mark 10 with reference to the position of the alignment hole 14 within a narrow range of a short distance of 10 mm or less. Data (Tx, Ty) can be calculated, and the positional deviation amount can be measured in a short time. The reason why this effect is possible is that the distance between the alignment holes 14 formed in step 6 is set to a constant value that is not affected by the expansion and contraction of the substrate in the manufacturing process so far. This also simplifies the measurement mechanism for the position of the alignment mark 10 of the drilling device, thereby reducing the cost of the drilling device.

次に、図2(g)のように、その基板16の絶縁樹脂層12の内層ランド9の位置に、穴明け位置座標データ(Tx,Ty)で指定された位置に、ガルバノスキャナユニット18で穴明け用レーザー光線を走査し収束し投影することでビアホール穴13を形成する。なお、このステップで、ドリルによる穴明け装置でビアホール穴13を穴明けすることもできる。   Next, as shown in FIG. 2G, the position of the inner layer land 9 of the insulating resin layer 12 of the substrate 16 is set at the position specified by the drilling position coordinate data (Tx, Ty) by the galvano scanner unit 18. The via hole 13 is formed by scanning, converging and projecting the drilling laser beam. In this step, the via hole 13 can be drilled with a drilling device.

この穴明け位置座標データにより穴明けしたビアホール穴13の位置は、アライメントマーク10の位置ズレ量の半分の大きさで補正した穴明け位置座標データで穴明けしため、図5のように、後に、アライメントホール14の位置に合わせて形成する外層ランド25の位置と内層ランド9の位置の中間位置にビアホールめっき27が形成される。すなわち、ビアホールめっき27の位置を、外層ランド25とも内層ランド9とも位置ズレが小さい、位置ズレが両者に等分された最善の位置に形成できる効果がある。   The position of the via hole 13 drilled by the drilling position coordinate data is drilled by the drilling position coordinate data corrected by half the displacement amount of the alignment mark 10, and as shown in FIG. Via hole plating 27 is formed at an intermediate position between the position of the outer layer land 25 and the position of the inner layer land 9 formed in accordance with the position of the alignment hole 14. That is, there is an effect that the position of the via hole plating 27 can be formed at the best position where the positional deviation is small in both the outer layer land 25 and the inner layer land 9 and the positional deviation is equally divided between both.

(ステップ8)次に、図2(h)のように、絶縁樹脂層12上に無電解銅めっき処理と、それに続く電解銅めっき処理により、絶縁樹脂層12上に約20μmの厚さの銅の金属めっき層26を形成しビアホール穴13を電解銅めっきの層で充填したビアホールめっき27を形成する。
(ステップ9)次に、金属めっき層26の上に感光性エッチングレジストフィルムを貼り付け、その上にアライメントホール14を基準にして位置を合わせたマスクを設置する。マスクとしては有機樹脂フィルムのマスクも、ガラス乾板のマスクも用いることができる。そのマスクの上から露光し現像することで、図2(i)のようにマスクのパターンを転
写したエッチングレジストパターン15を形成する。ここで、ステップ6で形成するアライメントホール14間の距離が、それまでの製造工程による基板の伸縮の影響を受けない一定値に設定したことで、このステップ9では、このアライメントホール14の位置を基準にしてエッチングレジストパターン15形成用のマスクを正確に位置合わせすることができる効果がある。
(Step 8) Next, as shown in FIG. 2 (h), copper having a thickness of about 20 μm is formed on the insulating resin layer 12 by electroless copper plating treatment on the insulating resin layer 12 and subsequent electrolytic copper plating treatment. The metal plating layer 26 is formed, and the via hole plating 27 in which the via hole 13 is filled with the electrolytic copper plating layer is formed.
(Step 9) Next, a photosensitive etching resist film is affixed on the metal plating layer 26, and a mask aligned with the alignment hole 14 as a reference is placed thereon. As the mask, an organic resin film mask or a glass dry plate mask can be used. By exposing and developing from above the mask, an etching resist pattern 15 to which the mask pattern is transferred is formed as shown in FIG. Here, since the distance between the alignment holes 14 formed in step 6 is set to a constant value that is not affected by the expansion and contraction of the substrate in the manufacturing process so far, in this step 9, the position of the alignment hole 14 is set. There is an effect that the mask for forming the etching resist pattern 15 can be accurately aligned with respect to the reference.

(ステップ10)次に、図2(j)のように、金属めっき層26をエッチングし、エッチングレジストパターン15を剥離することで、エッチングレジストパターン15を転写しビアホールめっき27を残した外層ランド25と配線パターン28を形成する。
以後、積層数に応じて同様の作製作業を行う。
(Step 10) Next, as shown in FIG. 2 (j), the metal plating layer 26 is etched and the etching resist pattern 15 is peeled off to transfer the etching resist pattern 15 and leave the via hole plating 27. And a wiring pattern 28 is formed.
Thereafter, the same manufacturing operation is performed according to the number of stacked layers.

このようにエッチングレジストパターン15は、アライメントホール14を基準にして位置を合わせ、そして、ビアホール穴13は、内層ランド9を形成した金属めっき層6のアライメントマーク10の位置ズレを半分補正して形成した。そのため、図5(a)に平面図を示し、図5(b)に側面の断面図を示すように、ビアホールめっき27は外層ランド25と内層ランド9の中間位置に形成された。そして、そのように位置を合わせられない程外層ランド25と内層ランド9の位置がずれている場合は、先のステップ5の処理で穴明け作業を中止されているので、ビアホールめっき27の位置は外層ランド25とも内層ランド9とも許容限度内で一致させることができた。そして、ビアホールめっき27の位置が、外層ランド25と内層ランド9の中間位置に形成され、両者に対する位置ズレ量が両者に均等に分配された適正な位置に形成された。
(ステップ11)次に、図2(k)のように、ソルダーレジストパターン29を印刷し、外形加工を行い印刷配線板を製造する。
As described above, the etching resist pattern 15 is aligned with the alignment hole 14 as a reference, and the via hole 13 is formed by correcting the positional deviation of the alignment mark 10 of the metal plating layer 6 on which the inner layer land 9 is formed by half correction. did. Therefore, as shown in a plan view in FIG. 5A and a cross-sectional side view in FIG. 5B, the via-hole plating 27 is formed at an intermediate position between the outer land 25 and the inner land 9. If the positions of the outer layer land 25 and the inner layer land 9 are so shifted that they cannot be aligned as described above, the drilling operation has been stopped in the processing of the previous step 5, so the position of the via hole plating 27 is Both the outer land 25 and the inner land 9 could be matched within an allowable limit. And the position of the via-hole plating 27 was formed in the intermediate position of the outer layer land 25 and the inner layer land 9, and the position shift amount with respect to both was formed in the appropriate position equally distributed to both.
(Step 11) Next, as shown in FIG. 2 (k), the solder resist pattern 29 is printed and the outer shape is processed to produce a printed wiring board.

なお、以上の実施形態では、ステップ6で、アライメントホール14の重心をアライメントマーク10の重心に一致させて形成した場合の例を示したが、アライメントホール14を、その重心をアライメントマーク10の重心に一致させて形成しない場合も、以下のようにして本発明の効果が得られる。先ず、ステップ6で、アライメントホール間の距離は予め定められた距離に形成する。ステップ7において、四隅の穴明け位置補正量は、基板16の四隅の位置ズレ量の半分の大きさにする。そして、ステップ7における射影変換の計算では、四隅の穴明け位置補正量を用いた、重心移動の補正も含めた射影変換の計算を行う。これにより穴明けしたビアホール穴13の位置、すなわちビアホールめっき27の位置を、外層ランド25と内層ランド9の中間の位置に形成することが可能である。また、以上の実施形態のステップ9でエッチングレジストパターン15を形成するために用いるマスクは、アライメントマーク10間の伸縮量の段階に合わせて伸縮補正量を変えた複数のマスクを用いても良い。その場合は、ステップ6において、X線穴あけ装置でアライメントマーク10間の距離の伸縮量を測定し、その伸縮量に応じてステップ9で用いる予定のマスクを定めても良い。そして、ステップ9で用いる予定のマスクに合わせて、ステップ6で形成するアライメントホール14間の距離を変えても良い。   In the above embodiment, the example in which the center of gravity of the alignment hole 14 is formed in step 6 so as to coincide with the center of gravity of the alignment mark 10 has been described. However, the center of gravity of the alignment hole 14 is the center of gravity of the alignment mark 10. Even when not formed in conformity with the above, the effects of the present invention can be obtained as follows. First, in step 6, the distance between the alignment holes is formed at a predetermined distance. In step 7, the four corner drilling position correction amounts are set to half the positional deviation amount of the four corners of the substrate 16. Then, in the calculation of the projective transformation in step 7, the projective transformation including the correction of the center of gravity is calculated using the four corner drilling position correction amounts. As a result, the position of the drilled via hole 13, that is, the position of the via hole plating 27 can be formed at an intermediate position between the outer layer land 25 and the inner layer land 9. Further, as the mask used for forming the etching resist pattern 15 in Step 9 of the above embodiment, a plurality of masks in which the expansion / contraction correction amount is changed in accordance with the expansion / contraction amount stage between the alignment marks 10 may be used. In that case, in step 6, the amount of expansion / contraction of the distance between the alignment marks 10 may be measured with an X-ray drilling apparatus, and the mask to be used in step 9 may be determined according to the amount of expansion / contraction. Then, the distance between the alignment holes 14 formed in step 6 may be changed according to the mask to be used in step 9.

本発明の印刷配線板の製造方法を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing method of the printed wiring board of this invention. 本発明の印刷配線板の製造方法を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing method of the printed wiring board of this invention. 本発明の印刷配線板のアライメントマークとアライメントホールの位置を示す平面図である。It is a top view which shows the position of the alignment mark and alignment hole of the printed wiring board of this invention. 本発明の穴明け装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the drilling apparatus of this invention. 本発明の印刷配線板の内層ランドと外層ランドとビアホールめっきの配置位置を示す平面図および側面断面図である。It is the top view and side sectional drawing which show the arrangement | positioning position of the inner layer land of the printed wiring board of this invention, an outer layer land, and via-hole plating. 従来技術の印刷配線板の内層ランドと外層ランドとビアホールめっきの配置位置を示す平面図および側面断面図である。It is the top view and side surface sectional view which show the arrangement | positioning position of the inner layer land of the prior art printed wiring board, the outer layer land, and via-hole plating. 従来技術の印刷配線板のアライメントマークの位置を示す平面図である。It is a top view which shows the position of the alignment mark of the printed wiring board of a prior art.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・コア基板
2・・・貫通孔
3・・・絶縁層
4・・・金属層
5・・・スルホールめっき
6・・・金属めっき層
7・・・エッチングレジストパターン
8・・・配線パターン
9・・・内層ランド
10・・・アライメントマーク
11・・・穴埋め材
12・・・絶縁樹脂層
13・・・ビアホール穴
14・・・アライメントホール
15・・・エッチングレジストパターン
16・・・基板
17・・・XYテーブル
18・・・ガルバノスキャナユニット
19・・・アライメントカメラ
20・・・レーザー発振器
21・・・光学系
22・・・反射ミラー
23・・・画像処理手段
24・・・制御手段
25・・・外層ランド
26・・・金属めっき層
27・・・ビアホールめっき
28・・・配線パターン
29・・・ソルダーレジストパターン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Core substrate 2 ... Through-hole 3 ... Insulating layer 4 ... Metal layer 5 ... Through-hole plating 6 ... Metal plating layer 7 ... Etching resist pattern 8 ... Wiring pattern DESCRIPTION OF SYMBOLS 9 ... Inner-layer land 10 ... Alignment mark 11 ... Filler material 12 ... Insulating resin layer 13 ... Via-hole hole 14 ... Alignment hole 15 ... Etching resist pattern 16 ... Substrate 17 XY table 18 Galvano scanner unit 19 Alignment camera 20 Laser oscillator 21 Optical system 22 Reflecting mirror 23 Image processing means 24 Control means 25 ... Outer land 26 ... Metal plating layer 27 ... Via hole plating 28 ... Wiring pattern 29 ... Solder resist pattern

Claims (4)

有機樹脂の絶縁層の基板に金属層の配線パターンと内層ランドと、前記基板の四隅にアライメントマークを形成する第1の工程と、前記基板の両面に絶縁樹脂層を形成する第2の工程と、前記アライメントマークの近くの各位置に貫通孔のアライメントホールを形成し前記アラインメントマークとともにアライメントターゲット群を形成させ、該アライメントホール間の距離を予め定められた距離に形成する第3の工程と、前記アライメントターゲット群内で前記アライメントマークの前記アライメントホールに対する位置ズレ量を測定し、前記位置ズレ量の半分の値で前記基板の伸縮と歪みを補正した穴明け位置座標データを計算し、前記穴明け位置座標データにより穴明けすることでビアホール穴を形成する第4の工程と、前記絶縁樹脂層上に金属めっき層から成る外層ランドと配線パターンとビアホールめっきを形成する第5の工程とを有することを特徴とする印刷配線板の製造方法。   A metal layer wiring pattern and inner lands on an organic resin insulating layer substrate; a first step of forming alignment marks at four corners of the substrate; and a second step of forming insulating resin layers on both sides of the substrate. A third step of forming an alignment hole of a through hole at each position near the alignment mark, forming an alignment target group together with the alignment mark, and forming a distance between the alignment holes at a predetermined distance; Measure the positional deviation amount of the alignment mark with respect to the alignment hole in the alignment target group, calculate the drilling position coordinate data in which expansion and contraction and distortion of the substrate are corrected by a value half the positional deviation amount, and the hole A fourth step of forming a via hole by drilling a hole based on the position coordinate data; and the insulating resin Method of manufacturing a printed wiring board characterized by having a fifth step of forming an outer layer land and the wiring pattern and via-hole plating comprising a metal plating layer thereon. 前記第4の工程が、前記アライメントマークの前記アライメントホールに対する位置ズレ量が予め定められた限界長さを超えた場合は基板が不良であると判定し穴明けを中止することを特徴とする請求項1記載の印刷配線板の製造方法。   The fourth step is characterized in that when the amount of positional deviation of the alignment mark with respect to the alignment hole exceeds a predetermined limit length, it is determined that the substrate is defective and the drilling is stopped. Item 2. A method for producing a printed wiring board according to Item 1. 基板を設置しXY方向に移動させるXYテーブルと、ガルバノスキャナユニットと、アライメントカメラと、レーザー発振器と、レーザー光を収束する光学系と、レーザー光を基板に投影し穴明けする位置を走査するガルバノスキャナユニットを有し、アライメントカメラの読み取った画像を処理しアライメントターゲットの位置を測定する画像処理手段と、アライメントターゲットの位置の測定データにより、穴明け位置補正量を計算し、穴明け位置を補正してXYテーブルの移動位置を制御して穴明けを制御する制御手段を有し、前記基板のアライメントマークとアライメントホールから成るアライメントターゲット群毎に、前記アライメントホールに対する前記アライメントマークの位置ズレ量を測定する手段を有し、前記制御手段が、前記位置ズレ量から射影変換を計算することで、前記基板の伸縮と歪みを補正した穴明け位置座標データを計算することを特徴とする穴明け装置。   An XY table for installing the substrate and moving it in the XY direction, a galvano scanner unit, an alignment camera, a laser oscillator, an optical system for converging the laser beam, and a galvano for scanning the position where the laser beam is projected onto the substrate and drilled. It has a scanner unit, calculates the drilling position correction amount based on the image processing means that processes the image read by the alignment camera and measures the position of the alignment target, and the measurement data of the alignment target position, and corrects the drilling position. Control means for controlling the movement position of the XY table to control drilling, and for each alignment target group consisting of the alignment mark and the alignment hole of the substrate, the positional deviation amount of the alignment mark with respect to the alignment hole is set. Means for measuring, the control means Wherein the position by calculating the projective transformation from the shift amount, piercing apparatus characterized by calculating a drilling position coordinate data corrected stretch and distortion of the substrate. 前記制御手段が、前記基板の四隅のそれぞれの位置での、アライメントマークの位置ズレ量が予め定められた限界長さを超えた場合は基板が不良であると判定し、穴明けを中止することを特徴とする請求項3記載の穴明け装置。   The control means determines that the substrate is defective when the amount of misalignment of the alignment mark at each of the four corners of the substrate exceeds a predetermined limit length, and stops drilling. The drilling device according to claim 3.
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