JP2008075063A - 液晶性ポリマー成形体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】[1]流動開始温度が280℃以上であり、平均粒径が0.5〜50μmである液晶性ポリマー微粉末と充填剤とを含む液晶性ポリマー樹脂組成物をプレス成形することにより得られる成形体。
[2]液晶性ポリマーが全芳香族ポリエステルおよび/または全芳香族ポリ(エステル−アミド)である[1]の成形体。
[3]充填剤が高熱伝導性無機物からなる[1]または[2]の成形体。
[4]比誘電率が4.5以上または2.8以下の[1]の成形体。
【選択図】なし
Description
特許文献1では、一旦成形した成形体に、高温下で磁場を印加させることで厚み方向の熱伝導率を著しく向上させることにより、上記のような問題点を解決している。しかしながら、この方法で得られる成形体は一方向に液晶性ポリマーを高配向させることから、配向方向とそれに直交する方向では性能のバランスが崩れやすく、得られる成形体に反りの発生や外観特性の低下が生じやすい。加えて、このような磁場配向技術は、その装置が汎用ではないため、工業的に使用されている例は極めて少ない。
すなわち本発明は、
[1]流動開始温度が280℃以上であり、平均粒径が0.5〜50μmである液晶性ポリマー微粉末と充填剤とを含む液晶性ポリマー樹脂組成物をプレス成形することにより得られる成形体
を提供する。
なお、本発明に適用される液晶性ポリマーの平均粒径は、イソプロピルアルコールを測定溶媒とするレーザー回折散乱法を用いて求められる体積平均粒径である。
[2]液晶性ポリマー微粉末の流動開始温度が280℃以上420℃以下である[1]の成形体
[3]液晶性ポリマー微粉末を構成する液晶性ポリマーが全芳香族ポリエステルおよび/または全芳香族ポリ(エステル−アミド)である、[1]または[2]の成形体
[4]液晶性ポリマーが芳香族ヒドロキシカルボン酸由来の構造単位を、該液晶性ポリマーを構成する構造単位の合計に対して30〜70モル%の範囲で含む、全芳香族ポリエステルおよび/または全芳香族ポリ(エステル−アミド)である、[3]の成形体
[5]液晶性ポリマー微粉末と充填剤の合計重量に対して、充填剤を1〜98重量%の範囲で含む、[1]〜[4]のいずれかの成形体
[6]前記充填剤が、20℃における熱伝導率が10W/mK以上の高熱伝導性無機物からなる充填剤である、[1]〜[5]のいずれかの成形体
[7]高熱伝導性無機物からなる充填剤がアルミナを主成分とする充填剤である[6]の成形体
[8]成形体の比誘電率が測定周波数1GHzにおいて4.5以上である、[1]〜[5]のいずれかにの成形体
[9]成形体の比誘電率が測定周波数1GHzにおいて2.8以下である、[1]〜[5]のいずれかにの成形体
なお、上記[8]または[9]を含めて、本発明における比誘電率とは、測定周波数1GHz、測定温度25℃で測定される比誘電率を意味する。
該液晶性ポリマーは、光学的異方性を有する溶融相を形成する(液晶特性を示すもの)ものであれば特に限定されないが、かかる液晶性ポリマーの中でも全芳香族ポリエステル、全芳香族ポリ(エステル−アミド)が、機械強度や耐熱性に優れることから好ましい。
(I)芳香族ヒドロキシカルボン酸由来の構造単位、芳香族ジカルボン酸由来の構造単位および芳香族ジオール由来の構造単位の組み合わせからなるもの
(II)異種の芳香族ヒドロキシカルボン酸由来の構造単位からなるもの
(III)芳香族ジカルボン酸由来の構造単位と芳香族ジオール由来の構造単位との組み合わせからなるもの
(IV)ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステルに芳香族ヒドロキシカルボン酸を反応させたもの
(V)(I)の芳香族ジオール由来の構造単位の一部または全部がフェノール性水酸基を有する芳香族アミン由来の構造単位ないし芳香族ジアミン由来の構造単位に置き換えたもの
(VI)(I)または(V)の芳香族ヒドロキシカルボン酸由来の構造単位の一部が芳香族アミノカルボン酸由来の構造単位に置き換えたもの
等が挙げられる。
なお、上記構造単位を誘導する芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族アミノカルボン酸、芳香族ジカルボン酸、芳香族ジオール、芳香族ジアミンおよびフェノール性水酸基を有する芳香族アミンは、液晶性ポリマーを製造する際、そのエステル形成性誘導体やアミド形成性誘導体を使用してもよい。
(1)パラヒドロキシ安息香酸由来の構造単位と、4,4’−ジヒドロキシビフェニル由来の構造単位と、テレフタル酸由来の構造単位と、イソフタル酸由来の構造単位とからなる液晶性ポリマー
(2)パラヒドロキシ安息香酸由来の構造単位と、ハイドロキノン由来の構造単位と、4,4’−ジヒドロキシビフェニル由来の構造単位と、テレフタル酸由来の構造単位と、2,6―ナフタレンジカルボン酸由来の構造単位とからなる液晶性ポリマー
(3)パラヒドロキシ安息香酸由来の構造単位と、ハイドロキノン由来の構造単位と、テレフタル酸由来の構造単位と、2,6―ナフタレンジカルボン酸由来の構造単位とからなる液晶性ポリマー
(4)2―ヒドロキシ−6−ナフトエ酸由来の構造単位と、パラヒドロキシ安息香酸由来の構造単位と、4,4’−ジヒドロキシビフェニル由来の構造単位と、テレフタル酸由来の構造単位とからなる液晶性ポリマー
(5)2―ヒドロキシ−6−ナフトエ酸由来の構造単位と、4,4’−ジヒドロキシビフェニル由来の構造単位と、2,6―ナフタレンジカルボン酸由来の構造単位とからなる液晶性ポリマー
(6)2―ヒドロキシ−6−ナフトエ酸由来の構造単位と、ハイドロキノン由来の構造単位と、テレフタル酸由来の構造単位と、2,6―ナフタレンジカルボン酸由来の構造単位とからなる液晶性ポリマー
(7)2―ヒドロキシ−6−ナフトエ酸由来の構造単位と、2,6−ジヒドロキシナフタレン由来の構造単位と、2,6―ナフタレンジカルボン酸由来の構造単位とからなる液晶性ポリマー
(8)2―ヒドロキシ−6−ナフトエ酸由来の構造単位と、2,6−ジヒドロキシナフタレン由来の構造単位と、テレフタル酸由来の構造単位と、2,6―ナフタレンジカルボン酸由来の構造単位とからなる液晶性ポリマー
(9)パラヒドロキシ安息香酸由来の構造単位および2―ヒドロキシ−6−ナフトエ酸由来の構造単位からなる液晶性ポリマー
を挙げることができる。
芳香族ヒドロキシカルボン酸由来の構造単位を上記の範囲で有する液晶性ポリマーはプレス成形において、高度の液晶性が発現し易く、加工性がより向上することから好ましい。
まず、上記構造単位を誘導する化合物のエステル形成性誘導体、アミド形成性誘導体について説明する。
かかる化合物がカルボキシル基を有するカルボン酸である場合、そのエステル形成性・アミド形成性誘導体としては、例えば、カルボキシル基が、エステル生成反応またはアミド生成反応を促進するような、酸塩化物、酸無水物となっているもの、カルボキシル基が、エステル交換・アミド交換反応によりポリエステルまたはポリアミドを生成するように、アルコール類やエチレングリコールなどとエステルを形成しているものが挙げられる。また、フェノール性水酸基を有する化合物のエステル形成性・アミド形成性誘導体としては、例えば、エステル交換・アミド交換反応によりポリエステルまたはポリアミドを生成するように、フェノール性水酸基が、カルボン酸類とエステルを形成しているものが挙げられる。またアミノ基を有する化合物のエステル形成性・アミド形成性誘導体としては、例えば、エステル交換・アミド交換反応によりポリエステルまたはポリアミドを生成するように、アミノ基が、カルボン酸類とアミドを形成しているものが挙げられる。
また、上記流動開始温度とは、内径1mm、長さ10mmのダイスを取付けた毛細管型レオメーターを用い、9.8MPa(100kg/cm2)の荷重下において昇温速度4℃/分で液晶性ポリマーをノズルから押出すときに、溶融粘度が4800Pa・s(48000ポイズ)を示す温度であり、当該分野で周知の液晶性ポリマーの分子量を表す指標である(例えば、小出直之編、「液晶性ポリマー合成・成形・応用−」、95〜105頁、シーエムシー、1987年6月5日発行を参照)。上記の製造方法においては、エステル交換・アミド交換による重縮合反応の条件をコントロールすることで、流動開始温度200℃〜270℃の液晶性ポリマーを得ることができる。
該充填剤の使用量は、目的とする用途にもよるが、該液晶性ポリマー微粉末と充填剤の総重量に対して、充填剤が1〜98重量%の範囲であることが好ましく、より好ましくは充填剤が5〜80重量%であり、成形性の向上といった観点から好ましくは20〜70重量%である。なお、本発明によれば、射出成形では比較的困難であった無機充填剤の高充填、すなわち該液晶性ポリマー微粉末と充填剤の総重量に対して、充填剤が60重量%以上の成形体を製造することも可能となる。
一方、粉粒状充填剤としてはカーボンブラック、黒鉛、シリカ、ポーラスシリカ、石英粉末、ガラスビーズ、ミルドガラスファイバー、ガラスバルーン、ガラス粉、硅酸カルシウム、硅酸アルミニウム、カオリン、クレー、硅藻土、ウォラストナイトの如き硅酸塩、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、誘電体セラミック粉末、酸化鉄、酸化チタン、酸化亜鉛、ニッケル酸化物、三酸化アンチモン、酸化マグネシウム、酸化珪素、アルミナの如き金属の酸化物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムの如き金属の炭酸塩、硫酸カルシウム、硫酸バリウムの如き金属の硫酸塩、マンガン亜鉛フェライト、ニッケル亜鉛フェライト、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト等のフェライト、炭化硅素、窒化硅素、窒化硼素、鉄、ニッケル等の各種金属粉末及びそれらの金属を含有する合金粉末、等が挙げられる。
また、板状充填剤としてはマイカ、ガラスフレーク、タルク、板状アルミナ、各種の金属箔等が挙げられる。
有機充填剤の例を示せば芳香族ポリエステル繊維、液晶性ポリマー繊維、芳香族ポリアミド、ポリイミド繊維等の耐熱性高強度合成繊維である。また、ポリアミド、フッ素樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂などの高融点有機質繊維状物質も使用することができる。
これらの無機および有機充填剤は1種または2種以上を併用することができる。繊維状充填剤と粒状または板状充填剤との併用は、特に機械的強度と寸法精度、電気的性質等を兼備する上で好ましい組み合わせである。
なお、前記に例示した充填剤において、液晶性ポリマー微粉末との混合性を向上させる観点から、該充填剤の平均粒径も、0.5〜50μm程度が好ましく、1〜30μmがより好ましい。
例えば、成形体に機械強度を付与する目的では、ガラス繊維、アルミナ繊維、炭素繊維、ホウ酸アルミニウム繊維等の繊維状充填剤やマイカ、ガラスフレーク、タルク、板状アルミナ等の板状充填剤が挙げられ、ガラス繊維、アルミナ繊維、炭素繊維、マイカ、タルクがより好ましい。
成形体に磁性を付与する目的では、マンガン亜鉛フェライト、ニッケル亜鉛フェライト、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト等のフェライト、鉄、ニッケル等の各種金属粉末及びそれらの合金粉末、が挙げられ、マンガン亜鉛フェライト、ニッケル亜鉛フェライト、鉄、ニッケル等の各種金属粉末及びそれらの金属を含有する合金粉末がより好ましい。
成形体に熱伝導性を付与する目的では、上記例示の中でもアルミナ、シリカ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化マグネシウム、窒化珪素、酸化珪素、炭化硅素、窒化硼素、金属粉末または金属の酸化物を用いることができる。
一方、低誘電材料からなる充填剤としては、いわゆる中空体からなる充填剤や低誘電樹脂であるフッ素樹脂からなる充填剤が挙げられる。
なお、成形体に誘電特性を付与する上で用いる誘電性充填剤は、該成形体に係る所望の比誘電率によって選択することが可能である。例えば、液晶性ポリマーと誘電性充填剤とからなる単純な組成物からなる成形体では、液晶性ポリマーの比誘電率をε1、充填剤の比誘電率をε2であれば、各々の成形体中での体積分率をそれぞれV1、V2とすると、当該成形体の比誘電率(ε)は、
logε=V1・logε1+V2・logε2 (数式1)
により推算することができる。本発明においても誘電特性を付与した成形体を目的とする場合、前記数式1のように、当分野で広範に用いられる対数混合則で、得られる成形体の比誘電率を推算することが可能である。
この熱伝導性を付与する充填剤は前記に例示した範囲で選択されるが、とりわけ20℃における熱伝導率が10W/mK以上の無機充填剤が好ましく、具体的には、アルミナ、シリカ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化マグネシウム、窒化珪素、酸化珪素等が挙げられる。中でも低コストであることからアルミナを主成分とする充填剤が好ましい。
このような充填剤を用いてなる本発明の成形体は、従来の射出成形では製造することが困難であった、厚み方向に高度の熱伝導性を有する板状成形体を容易に実現することができるので、放熱板等の用途に特に好適である。また、かかる成形体を絶縁層とするプリント配線板は、該配線板の稼動に伴う発熱を効率よく放熱することも可能である。
適用する充填剤としては前記のとおり誘電体セラミック粉末が好ましいが、より比誘電率の高い成形体が得られる観点からは、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウムまたはチタン酸マグネシウムからなる粉末は、それ自体の比誘電率が高い傾向にあるから好ましく、チタン酸ストロンチウムまたはチタン酸バリウムからなる粉末が特に好ましい。このような好適な誘電性セラミック粉末を用いてなる成形体は、その比誘電率が4.5以上(測定周波数1GHz)の高誘電率化を達成することが可能であり、さらに充填剤の充填量を調整することにより比誘電率が8.0以上の成形体を得ることもできる。一般に高誘電性を呈する成形体は、例えばアンテナ基板の用途においてはアンテナの小型化に有効であるので、大型成形体から小型部材を分割する製造方法において、1生産ロット単位で得られる部材数を増加させることを可能とし、結果として該小型部材の生産性を上げることができる。前記のようなアンテナの小型化の面から見れば、成形体の比誘電率は10以上であることがより好ましい。ここで、高誘電性の成形体における比誘電率の上限は、使用する充填剤の比誘電率や充填量によって変りうるが、実用的な範囲で100以下が好ましく、50以下がより好ましい。
なお、前記アンテナ基板とは、GPSアンテナ、無線LANアンテナ、Bluetoothアンテナ、UWBアンテナ、ミリ波レーダアンテナ等の製造に用いられる基板を意味するものであり、かかる基板に実装技術により、電極等を形成させることによりアンテナは製造される。本発明の成形体によれば、高誘電性であることから電気特性に優れ、さらにはアンテナ基板の工業的製造において優れた生産性を実現することができる。
かかる成形体を製造する充填剤としては、特にポーラスシリカ、ガラスバルーン等のいわゆる中空体充填剤が有効であり、その種類や充填量を適宜最適化することにより、比誘電率が2.8以下(測定周波数1GHz)まで低誘電率化させた成形体を得ることができる。また、従来の射出成形では中空体充填剤の一部が液晶性ポリマーとの混練時に破損しやすいといった問題点を有していたが、本発明では、このような中空体充填剤の破損を著しく低減することを可能とするので、より低誘電性の成形体を得る上で有利である。このように、低誘電化した成形体、特に板状大型成形体に導体層を形成してなるプリント配線板は、電気信号の低伝送損失化に有効である。かかる観点から該成形体の比誘電率は2.6以下であるとより好ましく、2.4以下であると特に好ましい。本発明によれば、前記のとおり低誘電化を阻害する中空体充填剤の破損を著しく低減化できるので、低誘電率化を効率よく達成することができる。なお、低誘電性の成形体における比誘電率の下限は使用する充填剤の比誘電率や充填量によって変りうるが、実用的な範囲で1.8以上が好ましく、2.0以上がより好ましい。
(流動開始温度−10)[℃] ≦ Tp ≦ (流動開始温度+100)[℃]
加工温度(Tp)が(流動開始温度−10)[℃]より低い場合には、液晶性ポリマー樹脂組成物が溶融せず、十分な強度を有する成形体を得ることが困難となる傾向がある。また加工温度(Tp)が(流動開始温度+100)[℃]より高い場合は、液晶性ポリマー自体が熱分解により劣化する傾向がある。
該回路基板は、成形体に導体層を形成することで製造することができ、導体層を形成する手段としては、銅箔などの金属箔を成形体に熱プレスにより貼り合わせる方法、接着剤を介して金属箔を貼り合わせる方法等が、当該分野で広範に使用されている手段が用いられる。
また、成形体にスパッタリング法やイオンプレーティング、真空蒸着法、無電解めっきなどで導体層を形成する方法なども利用してもよい。さらに、上記に例示した方法に導体層を形成した後、電解めっき等を用いて導体層を積層させてもよい。また、導体層を形成する前に成形体表面と導体層との密着性を上げる目的で、紫外線処理、プラズマ処理、コロナ処理、酸アルカリ処理、サンドブラスト処理等の各種の表面処理を成形体に行っても構わない。
このようにして導体層を形成した後、各種の用途に応じて任意の回路形成が可能であり、回路形成により前記のアンテナ基板やプリント配線板を製造することができる。
具体的には、コネクター、ソケット、リレー部品、コイルボビン、光ピックアップ、発振子、、コンピュータ関連部品等の電気・電子部品はもとより、
VTR、テレビ、アイロン、エアコン、ステレオ、掃除機、冷蔵庫、炊飯器、照明器具等の家庭電気製品部品;
ランプリフレクター、ランプホルダー等の照明器具部品;
コンパクトディスク、レーザーディスク、スピーカー等の音響製品部品;
光ケーブル用フェルール、電話機部品、ファクシミリ部品、モデム等の通信機器部品;
分離爪、ヒータホルダー等の複写機、印刷機関連部品;
インペラー、ファン歯車、ギヤ、軸受け、モーター部品及びケース等の機械部品;
自動車用機構部品、エンジン部品、エンジンルーム内部品、電装部品、内装部品等の自動車部品;
マイクロ波調理用鍋、耐熱食器等の調理用器具;
床材、壁材などの断熱、防音用材料、梁、柱などの支持材料、屋根材等の建築資材、または土木建築用材料;
航空機、宇宙機、宇宙機器用部品;
原子炉等の放射線施設部材、海洋施設部材、洗浄用治具、光学機器部品、バルブ類、パイプ類、ノズル類、フィルター類、膜、医療用機器部品及び医療用材料、センサー類部品、サニタリー備品、スポーツ用品、レジャー用品等にも、用いることができる。
攪拌装置、トルクメータ、窒素ガス導入管、温度計及び還流冷却器を備えた反応器に、p―ヒドロキシ安息香酸 911g(6.6モル)、4,4’−ジヒドロキシビフェニル 409g(2.2モル)、テレフタル酸 274g(1.65モル)、イソフタル酸91g(0.55モル)及び無水酢酸 1235g(12.1モル)を仕込んだ。反応器内を十分に窒素ガスで置換した後、窒素ガス気流下で15分かけて150℃まで昇温し、温度を保持して3時間還流させた。その後、留出する副生酢酸及び未反応の無水酢酸を留去しながら2時間50分かけて300℃まで昇温し、トルクの上昇が認められる時点を反応終了とみなし、溶融状態で内容物をバットの中に取り出して冷却した。得られた液晶ポリエステルの収量は1430gであった。室温程度まで冷却した液晶性ポリマーをセイシン企業製・オリエントVM−16竪型粉砕機で1mm以下の粗粉砕品に粉砕した後、流動開始温度を測定したところ239℃であり、280℃以上の温度では溶融状態で光学異方性を示した。この粗粉砕品の平均粒径は500μmであった。
製造例1により得られた粗粉砕品(平均粒径500μm)を窒素雰囲気下に室温から250℃まで1時間かけて上げ、250℃から285℃まで5時間かけて上げ、285℃で3時間熱処理した後、冷却して取り出した。得られた粗粉砕品の流動開始温度は327℃であった。
製造例1で得られた流動開始温度239℃の粗粉砕品(平均粒径500μm)を、セイシン企業(株)製STJ−200ジェットミルにて微粉砕した結果、平均粒径5.2μmの液晶性ポリマーの微粉砕品が得られた。得られた微粉砕品を窒素雰囲気下に、室温から250℃まで1時間かけて上げる熱処理を行い、次いで250℃から292℃まで5時間かけて上げ、さらに292℃で3時間熱処理した後、冷却して取り出した。得られた液晶性ポリマー微粉末の流動開始温度は326℃であった。
(プレス成形体の反り量の測定)
成形体を定盤上におき、成形体の左端を固定し、成形体と定盤上との高さ方向において最も離れた距離を反り量とし、その反り量が0.1mm以下であれば低反りとした。
得られた成形体より試験片(寸法サイズ;50mm×50mm×1mm)を作製し、ハンダ発泡試験用サンプルとした。本試験片を280℃のH60Aハンダ(スズ60%、鉛40)に60秒浸漬し、かかるサンプルの発泡、膨れの有無を確認した。
得られた成形体より各サンプルについて試験片(寸法サイズ;10mm×10mm×1mm)を作製し、熱伝導率評価用サンプルとした。このサンプルを用いて、レーザーフラッシュ法熱定数測定装置(アルバック理工株式会社製、TC−7000)により試験片厚み方向の熱拡散率を測定した。比熱はDSC(PERKIN ELMER製DSC7)、比重は自動比重測定装置(関東メジャー株式会社 ASG−320K)により測定した。熱伝導率は熱拡散率と比熱の積から求めた。本測定の熱伝導率は立体成形体の厚み方向について測定した。
得られた成形体より各サンプルについて試験片(寸法サイズ;10mm×10mm×1mm)を作製し、比誘電率評価用サンプルとした。このサンプルを用いて、インピーダンスアナライザー(HP製4291A)を用いて比誘電率を測定周波数1GHzで測定した(測定環境25℃、50%RH)。
製造例1〜3で得られた、液晶性ポリマー粗粉砕品または液晶性ポリマー微粉末を、表1の割合でアルミナ粒子(アドバンスドアルミナAA−2、住友化学(株)製、数平均粒径2μm、アルミナ含量99.6重量%)とブレンドした後、プレス機を用いて表1の加工条件にて成形を行い立体成形体(寸法サイズ;150mm×150mm×1mm)を得た。立体成形体の表面外観を観察後、反り量を測定し、次いでハンダ発泡試験および熱伝導測定用の試験片を作製し、物性評価を行った。
製造例3で得られた、液晶性ポリマー微粉末を、表3または表4に示す割合でチタン酸ストロンチウム(ST:富士チタン工業(株)製 数平均粒径1μm)またはガラスバルーン(S60HS:住友3M(株)製 数平均粒径27μm)とブレンドした後、プレス機を用いて表1の加工条件にて成形を行い立体成形体(寸法サイズ;150mm×150mm×1mm)を得た。立体成形体の表面外観を観察後、反り量を測定し、次いで比誘電率測定用の試験片を作製し、物性評価を行った。なお、充填剤を用いず、製造例3で得られた、液晶性ポリマー微粉末のみで同形状の成形体を得て、その比誘電率を同様にして測定したところ、3.0であった。
製造例1〜2で得られた液晶性ポリマー粗粉砕品をアルミナ粒子(アドバンスドアルミナAA−2、住友化学(株)製、数平均粒径2μm、アルミナ含量99.6重量%)とブレンドした後、二軸押出機を用いて表2に示す割合で混錬を行い、ペレットを作製した。得られたペレットについて射出成形機(PS40EASE(日精樹脂工業製))にて成形を行い、立体成形体(寸法サイズ;64mm×64mm×1mm)を得た後、ハンダ発泡試験および熱伝導測定用の試験片を作製し、物性評価を実施した。
製造例2で得られた液晶性ポリマー粗粉砕品を用い、アルミナ粒子(アドバンスドアルミナAA−2、住友化学(株)製、数平均粒径2μm、アルミナ含量99.6重量%)とブレンドした後、二軸押出機を用いて表2に示す割合で混錬を行い、ペレットを作製した。得られたペレットについて射出成形機(PS40EASE(日精樹脂工業製))にて、上記サイズより大型の立体成形体(寸法サイズ;100mm×100mm×1mm)の作製を試みたが十分に流動せずサンプルを作製することができなかった。
製造例3で得られた、表5の割合でチタン酸ストロンチウム(ST:富士チタン工業(株)製 数平均粒径1μm)とブレンドした後、プレス機を用いて表1の加工条件にて成形を行い立体成形体(寸法サイズ;250mm×250mm×1mm)を得た。
Claims (10)
- 流動開始温度が280℃以上であり、平均粒径が0.5〜50μmである液晶性ポリマー微粉末と充填剤とを含む液晶性ポリマー樹脂組成物をプレス成形することにより得られる成形体。
- 液晶性ポリマー微粉末の流動開始温度が280℃以上420℃以下である請求項1記載の成形体。
- 液晶性ポリマー微粉末を構成する液晶性ポリマーが全芳香族ポリエステルおよび/または全芳香族ポリ(エステル−アミド)である請求項1または2に記載の成形体。
- 液晶性ポリマーが、芳香族ヒドロキシカルボン酸由来の構造単位を、該液晶性ポリマーを構成する構造単位の合計に対して30〜70モル%の範囲で含む、全芳香族ポリエステルおよび/または全芳香族ポリ(エステル−アミド)である請求項3記載の成形体。
- 液晶性ポリマー微粉末と充填剤の合計重量に対して、充填剤を1〜98重量%の範囲で含む、請求項1〜4のいずれかに記載の成形体。
- 前記充填剤が、20℃における熱伝導率が10W/mK以上の高熱伝導性無機物からなる充填剤である請求項1〜5のいずれかに記載の成形体。
- 高熱伝導性無機物からなる充填剤がアルミナを主成分とする充填剤である請求項6に記載の成形体。
- 成形体の比誘電率が測定周波数1GHzにおいて4.5以上である請求項1〜5のいずれかに記載の成形体。
- 成形体の比誘電率が測定周波数1GHzにおいて2.8以下である請求項1〜5のいずれかに記載の成形体。
- 請求項6〜9のいずれかに記載の成形体に導体回路層を形成してなる回路基板。
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