JP2008074804A - Method for producing isocyanate group-containing silane compound - Google Patents
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Abstract
【解決手段】下記一般式（１）
（式中、Ｒ1は炭素数１〜８の一価炭化水素基を、Ｒ2は水素原子又は炭素数１〜８の一価炭化水素基を、Ｘはハロゲン原子を示し、ｎは１〜１０の整数を、ａは０、１又は２を示す。）
で示されるハロゲン化シラン化合物を、下記一般式（２）
Ｍ（ＯＣＮ）m （２）
（式中、Ｍはアルカリ金属又はアルカリ土類金属を、ｍは１又は２の整数を示す。）
で示されるシアン酸塩と反応させることを特徴とする下記一般式（３）
（式中、Ｒ1、Ｒ2、ｎ、ａは上記の通り。）
で示されるイソシアネート基含有シラン化合物の製造方法。
【効果】本発明方法によれば、安価かつ毒性の低い出発原料であるハロゲン化シラン化合物とシアン酸塩を用いて、安価かつ安全にイソシアネート基含有シラン化合物を製造でき、工業的利益が発揮される。
【選択図】なしThe following general formula (1)
(Wherein R 1 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, R 2 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, X represents a halogen atom, and n represents 1 to 1) An integer of 10, a represents 0, 1 or 2)
A halogenated silane compound represented by the following general formula (2)
M (OCN) m (2)
(In the formula, M represents an alkali metal or alkaline earth metal, and m represents an integer of 1 or 2.)
The following general formula (3), characterized by reacting with a cyanate represented by
(In the formula, R 1 , R 2 , n and a are as described above.)
The manufacturing method of the isocyanate group containing silane compound shown by these.
[Effect] According to the method of the present invention, an isocyanate group-containing silane compound can be produced inexpensively and safely using a halogenated silane compound and a cyanate, which are inexpensive and less toxic starting materials, and industrial benefits are exhibited. The
[Selection figure] None
Description
本発明は、イソシアネート基含有シラン化合物の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing an isocyanate group-containing silane compound.
イソシアネート基含有シラン化合物は、分子内に活性なイソシアネート基とシリル基の両方を有している。イソシアネート基が活性水素を有する官能基と容易に反応してウレタン結合や尿素結合を形成することから、イソシアネート基含有シラン化合物は活性水素を有する有機化合物のシリル変性剤として有用である。 The isocyanate group-containing silane compound has both an active isocyanate group and a silyl group in the molecule. Since the isocyanate group easily reacts with a functional group having active hydrogen to form a urethane bond or urea bond, the isocyanate group-containing silane compound is useful as a silyl modifier for organic compounds having active hydrogen.
このイソシアネート基含有シラン化合物を製造する方法としては、アミノ基含有シラン化合物を炭酸ジアルキルと反応させてカルバミン酸アルキルを生成し、カルバミン酸アルキルを熱分解する方法がある（例えば、特許文献１，２：特開平１０−１４８６号公報、特開２００１−２６５９３号公報参照）。また、アミノ基含有シラン化合物をホスゲンと反応させる方法がある（例えば、特許文献３：米国特許第３５８４０２４号明細書参照）。更に、ハロアルキルアルキルシランをシアン酸塩と反応させる方法がある（例えば、特許文献４：露国特許第１８７７９１号明細書、非特許文献１：Ｚｈｕｒｎａｌ Ｏｂｓｈｃｈｅｉ Ｋｈｉｍｉｉ （１９６７）， ３７（６）， １３８３−５参照）
しかしながら、カルバミン酸アルキルの熱分解を用いる方法では、出発原料のアミノ基含有シランが高価であり、安価にイソシアネート基含有シラン化合物を製造できない、カルバミン酸アルキルが完全に熱分解せず、製品に混入するといった問題を有している。ホスゲンを使用する方法も同様に出発原料のアミノ基含有シランが高価であり、安価にイソシアネート基含有シラン化合物を製造できない、ホスゲンは毒性、腐食性が高いため工業生産には適さないといった問題を有している。また、ハロアルキルアルキルシランをシアン酸塩と反応させる方法では、生成物はイソシアネートアルキルアルキルシラン類であり、アルキルシリル基が底活性であるため、シラン変性剤として有用ではない。 However, in the method using thermal decomposition of alkyl carbamate, the starting material amino group-containing silane is expensive, and it is not possible to produce an isocyanate group-containing silane compound at a low cost. Have the problem of Similarly, the method using phosgene has a problem that the amino group-containing silane as the starting material is expensive and an isocyanate group-containing silane compound cannot be produced at a low cost. Phosgene is not suitable for industrial production because it is highly toxic and corrosive. is doing. Further, in the method of reacting haloalkylalkylsilane with cyanate, the product is an isocyanate alkylalkylsilane, and the alkylsilyl group is bottom active, so that it is not useful as a silane modifier.
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、安価で高純度なイソシアネート基含有シラン化合物を製造する方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a method for producing an inexpensive and high-purity isocyanate group-containing silane compound.
本発明者は、上記課題を達成するために鋭意検討を行った結果、ハロゲン化シラン化合物とシアン酸塩を反応させる方法を見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventors have found a method of reacting a halogenated silane compound and cyanate, and have completed the present invention.
従って、本発明は、下記イソシアネート基含有シラン化合物の製造方法を提供する。
下記一般式（１）
（式中、Ｒ1は炭素数１〜８の一価炭化水素基を、Ｒ2は水素原子又は炭素数１〜８の一価炭化水素基を、Ｘはハロゲン原子を示し、ｎは１〜１０の整数を、ａは０、１又は２を示す。）
で示されるハロゲン化シラン化合物を、下記一般式（２）
Ｍ（ＯＣＮ）m （２）
（式中、Ｍはアルカリ金属又はアルカリ土類金属を、ｍは１又は２の整数を示す。）
で示されるシアン酸塩と反応させることを特徴とする下記一般式（３）
（式中、Ｒ1、Ｒ2、ｎ、ａは上記の通り。）
で示されるイソシアネート基含有シラン化合物の製造方法。
Therefore, this invention provides the manufacturing method of the following isocyanate group containing silane compound.
The following general formula (1)
(Wherein R 1 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, R 2 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, X represents a halogen atom, and n represents 1 to 1) An integer of 10, a represents 0, 1 or 2)
A halogenated silane compound represented by the following general formula (2)
M (OCN) m (2)
(In the formula, M represents an alkali metal or alkaline earth metal, and m represents an integer of 1 or 2.)
The following general formula (3), characterized by reacting with a cyanate represented by
(In the formula, R 1 , R 2 , n and a are as described above.)
The manufacturing method of the isocyanate group containing silane compound shown by these.
本発明方法によれば、安価かつ毒性の低い出発原料であるハロゲン化シラン化合物とシアン酸塩を用いて、安価かつ安全にイソシアネート基含有シラン化合物を製造でき、工業的利益が発揮される。 According to the method of the present invention, an isocyanate group-containing silane compound can be produced inexpensively and safely using a halogenated silane compound and a cyanate which are inexpensive and low-toxic starting materials, and industrial benefits are exhibited.
本発明において出発原料として使用されるハロゲン化シラン化合物は、下記一般式（１）
（式中、Ｒ1は炭素数１〜８の一価炭化水素基を、Ｒ2は水素原子又は炭素数１〜８の一価炭化水素基を、Ｘはハロゲン原子を示し、ｎは１〜１０の整数を、ａは０、１又は２を示す。）
で示される。
The halogenated silane compound used as a starting material in the present invention is represented by the following general formula (1)
(Wherein R 1 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, R 2 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, X represents a halogen atom, and n represents 1 to 1) An integer of 10, a represents 0, 1 or 2)
Indicated by
ここで、Ｒ1、Ｒ2で示される炭素数１〜８の一価炭化水素基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基：シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基：フェニル基等のアリール基：ベンジル基等のアラルキル基：ビニル基、アリル基等のアルケニル基等が例示され、このＲ1、Ｒ2はそれぞれ同じでも異なってもよいが、メチル基、エチル基であることが好ましい。Ｘで示されるハロゲン原子は、クロロ、ブロモ、ヨード等が例示され、好ましくはクロロが用いられる。また、ｎは１〜１０、特に１もしくは３であることが好ましい。ａは０、１又は２を示す。 Here, the monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms represented by R 1 and R 2 is an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group: a cycloalkyl group such as a cyclopentyl group or a cyclohexyl group. An aryl group such as a phenyl group: An aralkyl group such as a benzyl group: An alkenyl group such as a vinyl group or an allyl group is exemplified, and these R 1 and R 2 may be the same or different, but a methyl group or an ethyl group It is preferable that Examples of the halogen atom represented by X include chloro, bromo and iodo, and chloro is preferably used. Further, n is preferably 1 to 10, particularly 1 or 3. a represents 0, 1 or 2.
シアン酸塩としては、下記一般式（２）
Ｍ（ＯＣＮ）m （２）
（式中、Ｍはアルカリ金属又はアルカリ土類金属を、ｍは１又は２の整数を示す。）
で示され、具体的にはシアン酸リチウム、シアン酸ナトリウム、シアン酸カリウム、シアン酸ルビジウム、シアン酸セシウム、シアン酸マグネシウム、シアン酸カルシウム、シアン酸ストロンチウム、シアン酸バリウム等が例示され、これらシアン酸塩は単独で用いても２種類以上混合して用いてもよい。特には、シアン酸ナトリウム又はシアン酸カリウムを用いるのが好ましい。
As the cyanate, the following general formula (2)
M (OCN) m (2)
(In the formula, M represents an alkali metal or alkaline earth metal, and m represents an integer of 1 or 2.)
Specific examples include lithium cyanate, sodium cyanate, potassium cyanate, rubidium cyanate, cesium cyanate, magnesium cyanate, calcium cyanate, strontium cyanate, barium cyanate, and the like. The acid salts may be used alone or in combination of two or more. In particular, it is preferable to use sodium cyanate or potassium cyanate.
シアン酸塩はハロゲン化シラン化合物に対して、１〜１０ｍｏｌ等量で用いるのが好ましく、より好ましくは１〜２ｍｏｌ等量で使用する。１ｍｏｌ等量より少ないと未反応のハロゲン化シラン化合物が残存してしまい、１０ｍｏｌ等量よりも多いと経済的ではない場合がある。 The cyanate is preferably used in an amount of 1 to 10 mol, more preferably 1 to 2 mol, relative to the halogenated silane compound. If it is less than 1 mol equivalent, unreacted halogenated silane compound remains, and if it is more than 10 mol equivalent, it may not be economical.
本発明のイソシアネート基含有シラン化合物の製造方法は、ハロゲン化シラン化合物とシアン酸塩を反応させるものであるが、ハロゲン化シラン化合物とシアン酸塩の相溶性を高めるために、非プロトン性極性溶媒を用いるのが好ましい。非プロトン性極性溶媒としては、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルアミド、ジエチレングリコールジメチルエーテル等が例示され、これらを単独で用いても２種類以上混合して用いてもよい。具体的には、ジメチルホルムアミドを用いるのが経済的である。 The method for producing an isocyanate group-containing silane compound of the present invention is a reaction between a halogenated silane compound and cyanate. In order to increase the compatibility between the halogenated silane compound and cyanate, an aprotic polar solvent is used. Is preferably used. Examples of the aprotic polar solvent include acetonitrile, dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidinone, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphoramide, diethylene glycol dimethyl ether, and the like. It may be used. Specifically, it is economical to use dimethylformamide.
非プロトン性極性溶媒の量はハロゲン化シラン化合物に対して１０〜２００質量％で使用するのが好ましい。２００質量％を超えると、後処理工程で操作が煩雑になり、かつ空間収率が悪化する場合があり、１０質量％未満では反応速度が遅くなり工業的に不利な場合がある。 The amount of the aprotic polar solvent is preferably 10 to 200% by mass based on the halogenated silane compound. If it exceeds 200% by mass, the operation becomes complicated in the post-treatment process, and the space yield may be deteriorated. If it is less than 10% by mass, the reaction rate becomes slow, which may be industrially disadvantageous.
本発明では、更に相間移動触媒やヨウ化金属塩より選択された１又は２以上の触媒の存在下で反応を行うことが好ましい。相間移動触媒としては、第４級オニウム塩、クラウンエーテル類、クリプテート類が例示され、好ましくは第４級オニウム塩が用いられる。第４級オニウム塩は、下記一般式（４）
（Ｒ4Ｚ）+Ｘ- （４）
（式中、Ｒは炭素数１〜４０の一価炭化水素基を、Ｚはリン原子又は窒素原子のいずれかを示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）
で示される。
In the present invention, the reaction is preferably carried out in the presence of one or more catalysts selected from phase transfer catalysts and metal iodide salts. Examples of the phase transfer catalyst include quaternary onium salts, crown ethers, and cryptates, and preferably quaternary onium salts are used. The quaternary onium salt has the following general formula (4)
(R 4 Z) + X - (4)
(In the formula, R represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 40 carbon atoms, Z represents either a phosphorus atom or a nitrogen atom, and X represents a halogen atom.)
Indicated by
代表的な第４級オニウム塩を例示すると、塩化セチルトリメチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、塩化テトラプロピルアンモニウム、塩化テトラヘキシルアンモニウム、塩化テトラへプチルアンモニウム、塩化テトラペンチルアンモニウム、塩化テトラメチルアンモニウム、塩化トリオクチルプロピルアンモニウム、塩化ドデシルトリメチルアンモニウム、塩化フェニルトリメチルアンモニウム、塩化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、塩化ベンジルトリブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、臭化ジドデシルジメチルアンモニウム、臭化ジメチルジオクタデシルアンモニウム、臭化セチルジメチルエチルアンモニウム、臭化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラオクチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラプロピルアンモニウム、臭化フェニルトリメチルアンモニウム、臭化ベンジルトリメチルアンモニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウム、ヨウ化テトラブチルアンモニウム、ヨウ化エチルトリフェニルアンモニウム、ヨウ化メチルトリフェニルアンモニウム、塩化テトラブチルホスホニウム、塩化トリフェニルベンジルホスホニウム、塩化テトラフェニルホスホニウム、臭化ヘキサデシルトリブチルホスホニウム、臭化テトラブチルホスホニウム、臭化トリオクチルエチルホスホニウム、ヨウ化テトラブチルホスホニウム、ヨウ化テトラフェニルホスホニウム等が挙げられ、これら第４級オニウム塩は単独で用いても２種類以上混合して用いてもよい。 Examples of typical quaternary onium salts include cetyltrimethylammonium chloride, tetrabutylammonium chloride, tetrapropylammonium chloride, tetrahexylammonium chloride, tetraheptylammonium chloride, tetrapentylammonium chloride, tetramethylammonium chloride, trimethylammonium chloride. Octylpropylammonium chloride, dodecyltrimethylammonium chloride, phenyltrimethylammonium chloride, hexadecyltrimethylammonium chloride, benzyltriethylammonium chloride, benzyltributylammonium chloride, benzyltrimethylammonium chloride, didodecyldimethylammonium bromide, dimethyldioctadecylammonium bromide, odor Cetyldimethylethylammonium bromide, tetraethylammonium bromide, bromide Traoctylammonium bromide, tetrabutylammonium bromide, tetrapropylammonium bromide, phenyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium bromide, tetraethylammonium iodide, tetrabutylammonium iodide, ethyltriphenylammonium iodide, methyltriiodide iodide Phenylammonium, tetrabutylphosphonium chloride, triphenylbenzylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium chloride, hexadecyltributylphosphonium bromide, tetrabutylphosphonium bromide, trioctylethylphosphonium bromide, tetrabutylphosphonium iodide, tetraphenylphosphonium iodide These quaternary onium salts may be used alone or in admixture of two or more.
一方、ヨウ化金属塩としては、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、ヨウ化ルビジウム、ヨウ化セシウム等が例示され、これらヨウ化金属塩は単独で用いても２種類以上混合して用いてもよい。より具体的には、ヨウ化ナトリウム又はヨウ化カリウムを用いるのが好ましい。 On the other hand, examples of the metal iodide salt include lithium iodide, sodium iodide, potassium iodide, rubidium iodide, cesium iodide and the like. These metal iodide salts may be used alone or in combination of two or more. It may be used. More specifically, it is preferable to use sodium iodide or potassium iodide.
これらの触媒はハロゲン化シラン化合物に対して０．１〜２０ｍｏｌ％で用いるのが好ましく、より好ましくは１〜１０ｍｏｌ％で用いる。０．１ｍｏｌ％よりも少ないと反応速度が遅くなり工業的に不利であり、２０ｍｏｌ％よりも多いと経済的ではない場合がある。 These catalysts are preferably used in an amount of 0.1 to 20 mol%, more preferably 1 to 10 mol%, based on the halogenated silane compound. If the amount is less than 0.1 mol%, the reaction rate is slow, which is industrially disadvantageous. If the amount is more than 20 mol%, it is not economical.
反応は、シアン酸塩、触媒を溶媒に懸濁し、これにハロゲン化シラン化合物を滴下する方法が好ましい。なお、反応は、窒素等の不活性ガス雰囲気等の非酸化性雰囲気で行うことが好ましい。 The reaction is preferably carried out by suspending a cyanate salt and a catalyst in a solvent and dropping the halogenated silane compound thereto. The reaction is preferably performed in a non-oxidizing atmosphere such as an inert gas atmosphere such as nitrogen.
本反応の反応温度は溶媒の選択によって異なるが、０℃から本反応で得られる反応生成液の沸点までの温度範囲内で実施できる。より具体的には、３０〜１５０℃の範囲で実施することが好ましい。反応時間は、特に限定されるものではないが、通常１〜３０時間である。 Although the reaction temperature of this reaction varies depending on the choice of the solvent, it can be carried out within a temperature range from 0 ° C. to the boiling point of the reaction product liquid obtained by this reaction. More specifically, it is preferably carried out in the range of 30 to 150 ° C. Although reaction time is not specifically limited, Usually, it is 1 to 30 hours.
なお、本発明の製造方法においては、必要に応じて脱水工程等の前処理工程、中間工程又は精製工程及び回収工程等の後処理工程等、公知の工程を含んでもよい。 In addition, in the manufacturing method of this invention, you may include well-known processes, such as pre-processing processes, such as a dehydration process, an intermediate process, or a post-processing process, such as a refinement | purification process and a collection process, as needed.
以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example is shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example.
［実施例１］
還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた５００ｍｌフラスコを窒素置換した後、シアン酸カリウム３３．５ｇ、ヨウ化カリウム３．４０ｇ、ジメチルホルムアミド１５４ｇを仕込んだ。フラスコ内を撹拌しながら、３−クロロプロピルトリエトキシシラン９７．２ｇを室温で滴下した。滴下終了後、フラスコをオイルバスで加熱し、反応液を１３０℃に昇温し、３時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、生成した塩を濾別した。
[Example 1]
A 500 ml flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, and a dropping funnel was replaced with nitrogen, and then 33.5 g of potassium cyanate, 3.40 g of potassium iodide, and 154 g of dimethylformamide were charged. While stirring the inside of the flask, 97.2 g of 3-chloropropyltriethoxysilane was added dropwise at room temperature. After completion of the dropping, the flask was heated with an oil bath, and the reaction solution was heated to 130 ° C. and reacted for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature, and the produced salt was filtered off.
キャピラリー、温度計、ビグリュウ塔、冷却器を備えた３００ｍｌ蒸留釜を窒素置換し、先に得られた濾液を仕込んだ。フラスコ内を１．３ｋＰａに減圧し、ジメチルホルムアミドを回収した後、減圧度を０．４ｋＰａにして生成物を蒸留回収した。生成物をガスクロマトグラフィーで定量した結果、得られた３−イソシアネートプロピルトリエトキシシランは、純度９７．７％、収率５６．９％であった。 A 300 ml distillation kettle equipped with a capillary, a thermometer, a Bigru tower and a cooler was purged with nitrogen, and the filtrate obtained previously was charged. After reducing the pressure in the flask to 1.3 kPa and recovering dimethylformamide, the degree of vacuum was 0.4 kPa and the product was recovered by distillation. As a result of quantifying the product by gas chromatography, the resulting 3-isocyanatopropyltriethoxysilane had a purity of 97.7% and a yield of 56.9%.
［実施例２］
還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた１００ｍｌフラスコを窒素置換した後、シアン酸カリウム４．０ｇ、ヨウ化カリウム０．４０ｇ、ジメチルホルムアミド１８．５ｇを仕込んだ。フラスコ内を撹拌しながら、３−クロロプロピルトリメトキシシラン９．７ｇを室温で滴下した。滴下終了後、フラスコをオイルバスで加熱し、反応液を１３０℃に昇温し、２時間反応させた。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、３−クロロプロピルトリメトキシシランの反応率は９９％であった。ＧＣ−ＭＳ測定により、主生成物は３−イソシアネートプロピルトリエトキシシランと確認した。
[Example 2]
A 100 ml flask equipped with a reflux condenser, a thermometer and a dropping funnel was purged with nitrogen, and then charged with 4.0 g of potassium cyanate, 0.40 g of potassium iodide and 18.5 g of dimethylformamide. While stirring the inside of the flask, 9.7 g of 3-chloropropyltrimethoxysilane was added dropwise at room temperature. After completion of dropping, the flask was heated with an oil bath, the temperature of the reaction solution was raised to 130 ° C., and the reaction was allowed to proceed for 2 hours. As a result of analyzing the reaction solution by gas chromatography, the reaction rate of 3-chloropropyltrimethoxysilane was 99%. By GC-MS measurement, the main product was identified as 3-isocyanatopropyltriethoxysilane.
［実施例３］
還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた１００ｍｌフラスコを窒素置換した後、シアン酸カリウム３．４ｇ、ヨウ化カリウム０．３４ｇ、ジメチルホルムアミド２３．３ｇを仕込んだ。フラスコ内を撹拌しながら、クロロメチルメチルジブトキシシラン９．７ｇを室温で滴下した。滴下終了後、フラスコをオイルバスで加熱し、反応液を１３０℃に昇温し、２時間反応させた。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、クロロメチルメチルジブトキシシランの反応率は９７％であった。ＧＣ−ＭＳ測定により、主生成物はイソシアネートメチルメチルジブトキシシランと確認した。
[Example 3]
A 100 ml flask equipped with a reflux condenser, a thermometer and a dropping funnel was purged with nitrogen, and then charged with 3.4 g of potassium cyanate, 0.34 g of potassium iodide, and 23.3 g of dimethylformamide. While stirring the inside of the flask, 9.7 g of chloromethylmethyldibutoxysilane was added dropwise at room temperature. After completion of dropping, the flask was heated with an oil bath, the temperature of the reaction solution was raised to 130 ° C., and the reaction was allowed to proceed for 2 hours. As a result of analyzing the reaction solution by gas chromatography, the reaction rate of chloromethylmethyldibutoxysilane was 97%. The main product was identified as isocyanate methylmethyldibutoxysilane by GC-MS measurement.
［実施例４］
還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた１００ｍｌフラスコを窒素置換した後、シアン酸カリウム３．８ｇ、ヨウ化カリウム０．３８ｇ、ジメチルホルムアミド２６．２ｇを仕込んだ。フラスコ内を撹拌しながら、クロロメチルトリエトキシシラン９．７ｇを室温で滴下した。滴下終了後、フラスコをオイルバスで加熱し、反応液を１３０℃に昇温し、４時間反応させた。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、クロロメチルトリエトキシシランの反応率は９５％であった。ＧＣ−ＭＳ測定により、主生成物はイソシアネートメチルトリエトキシシランと確認した。
[Example 4]
A 100 ml flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, and a dropping funnel was purged with nitrogen, and then charged with 3.8 g of potassium cyanate, 0.38 g of potassium iodide, and 26.2 g of dimethylformamide. While stirring the inside of the flask, 9.7 g of chloromethyltriethoxysilane was added dropwise at room temperature. After completion of the dropwise addition, the flask was heated with an oil bath, and the reaction solution was heated to 130 ° C. and reacted for 4 hours. As a result of analyzing the reaction solution by gas chromatography, the reaction rate of chloromethyltriethoxysilane was 95%. The main product was confirmed to be isocyanate methyltriethoxysilane by GC-MS measurement.
Claims (7)
（式中、Ｒ1は炭素数１〜８の一価炭化水素基を、Ｒ2は水素原子又は炭素数１〜８の一価炭化水素基を、Ｘはハロゲン原子を示し、ｎは１〜１０の整数を、ａは０、１又は２を示す。）
で示されるハロゲン化シラン化合物を、下記一般式（２）
Ｍ（ＯＣＮ）m （２）
（式中、Ｍはアルカリ金属又はアルカリ土類金属を、ｍは１又は２の整数を示す。）
で示されるシアン酸塩と反応させることを特徴とする下記一般式（３）
（式中、Ｒ1、Ｒ2、ｎ、ａは上記の通り。）
で示されるイソシアネート基含有シラン化合物の製造方法。 The following general formula (1)
(Wherein R 1 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, R 2 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, X represents a halogen atom, and n represents 1 to 1) An integer of 10, a represents 0, 1 or 2)
A halogenated silane compound represented by the following general formula (2)
M (OCN) m (2)
(In the formula, M represents an alkali metal or alkaline earth metal, and m represents an integer of 1 or 2.)
The following general formula (3), characterized by reacting with a cyanate represented by
(In the formula, R 1 , R 2 , n and a are as described above.)
The manufacturing method of the isocyanate group containing silane compound shown by these.
（Ｒ4Ｚ）+Ｘ- （４）
（式中、Ｒは炭素数１〜４０の一価炭化水素基を、Ｚはリン原子又は窒素原子のいずれかを示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）
で示される第４級オニウム塩であることを特徴とする請求項５記載のイソシアネート基含有シラン化合物の製造方法。 The phase transfer catalyst is represented by the following general formula (4)
(R 4 Z) + X - (4)
(In the formula, R represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 40 carbon atoms, Z represents either a phosphorus atom or a nitrogen atom, and X represents a halogen atom.)
The method for producing an isocyanate group-containing silane compound according to claim 5, wherein the quaternary onium salt is represented by the formula:
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