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JP2008065862A - Semiconductor memory device - Google Patents

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JP2008065862A JP2006239302A JP2006239302A JP2008065862A JP 2008065862 A JP2008065862 A JP 2008065862A JP 2006239302 A JP2006239302 A JP 2006239302A JP 2006239302 A JP2006239302 A JP 2006239302A JP 2008065862 A JP2008065862 A JP 2008065862A
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Yuji Nakaoka
裕司 中岡
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SYSTEM FABRICATION TECHNOLOGIES Inc
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SYSTEM FABRICATION TECHNOLOGIES Inc
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Abstract

【課題】回路規模を抑制しつつ各メモリコアが独立して動作する。
【解決手段】半導体記憶装置は、第1コア100Aに供給するクロックを発生するロウクロック発生器10A及びカラムクロック発生器・バーストカウンタ20Aと、第2コア100Bに供給するクロックを発生するロウクロック発生器10B及びカラムクロック発生器・バーストカウンタ20Bと、第1コア100A及び第2コア100Bに電源を供給する電源系回路201と、を備えている。
【選択図】 図3
Each memory core operates independently while suppressing the circuit scale.
A semiconductor memory device includes a row clock generator for generating a clock to be supplied to a first core and a column clock generator / burst counter, and a row clock for generating a clock to be supplied to a second core. 10B, a column clock generator / burst counter 20B, and a power supply system circuit 201 that supplies power to the first core 100A and the second core 100B.
[Selection] Figure 3

Description

本発明は、複数のメモリコアを備えた半導体記憶装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor memory device having a plurality of memory cores.

従来、複数のDRAM等のメモリユニットと、複数のメモリユニットに共通の動作タイミング信号を出力する動作タイミング制御信号出力回路と、を備えた半導体記憶装置が開示されている(例えば特許文献1参照。)。特許文献1の半導体記憶装置は、メモリユニットの数にかかわらず、1つの動作タイミング制御信号出力回路を備えているので、回路規模を小さく抑えてチップ面積を小さくすることができる。
特開2005−339041号公報
Conventionally, a semiconductor memory device including a plurality of memory units such as DRAMs and an operation timing control signal output circuit that outputs an operation timing signal common to the plurality of memory units has been disclosed (for example, see Patent Document 1). ). Since the semiconductor memory device of Patent Document 1 includes one operation timing control signal output circuit regardless of the number of memory units, the circuit area can be reduced and the chip area can be reduced.
JP 2005-339041 A

しかし、特許文献1では、1つの動作タイミング制御信号出力回路で複数のメモリユニットを制御するために、各メモリユニットのクロック、コマンド、アドレス、データ入出力回路を共通にしなければならない。このため、各メモリユニットのビット構成を変えたり、独立して動作させたりすることができなかった。一方、各メモリユニットを独立させるとしても、半導体記憶装置全体の回路規模をできる限り小さくしたいという要請もある。   However, in Patent Document 1, in order to control a plurality of memory units with one operation timing control signal output circuit, the clock, command, address, and data input / output circuit of each memory unit must be made common. For this reason, the bit configuration of each memory unit cannot be changed or operated independently. On the other hand, even if each memory unit is made independent, there is a demand for making the circuit scale of the entire semiconductor memory device as small as possible.

本発明は、上述した課題を解決するために提案されたものであり、回路規模を抑制しつつ各メモリコアが独立して動作することができる半導体記憶装置を提供することを目的とする。   The present invention has been proposed to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide a semiconductor memory device in which each memory core can operate independently while suppressing the circuit scale.

請求項1の発明は、行方向及び列方向に複数のメモリセルが配列されたメモリセルアレイと、前記メモリセルアレイの行方向のメモリセルを選択する行デコーダと、前記メモリセルアレイの列方向のメモリセルを選択する列デコーダと、を有するm個(mは2以上の自然数。)のメモリバンクと、前記各メモリバンクに対してデータの書き込み又は読み出しを行うデータ制御手段と、を含む複数のメモリコアと、各メモリコアにそれぞれ供給される独立したクロックを発生する複数のクロック発生手段と、各メモリコアに供給するための電圧を発生する単一の電圧発生手段と、を備えている。   The invention of claim 1 is a memory cell array in which a plurality of memory cells are arranged in a row direction and a column direction, a row decoder for selecting a memory cell in the row direction of the memory cell array, and a memory cell in the column direction of the memory cell array A plurality of memory cores including m memory banks (m is a natural number greater than or equal to 2), and data control means for writing or reading data to or from each memory bank. And a plurality of clock generating means for generating independent clocks supplied to the respective memory cores, and a single voltage generating means for generating a voltage to be supplied to each memory core.

メモリコアは、行方向及び列方向に複数のメモリセルが配列されたメモリセルアレイと、メモリセルアレイの行方向のメモリセルを選択する行デコーダと、メモリセルアレイの列方向のメモリセルを選択する列デコーダと、を有するm個(mは2以上の自然数。)のメモリバンクと、各メモリバンクに対してデータの書き込み又は読み出しを行うデータ制御手段と、を有している。   A memory core includes a memory cell array in which a plurality of memory cells are arranged in a row direction and a column direction, a row decoder that selects memory cells in the row direction of the memory cell array, and a column decoder that selects memory cells in the column direction of the memory cell array And m (m is a natural number greater than or equal to 2) memory banks, and data control means for writing / reading data to / from each memory bank.

各メモリコアは、互いに独立して動作可能であり、例えば、互いに異なる動作モード、クロック周波数、入出力データビット数で動作可能である。このようなことを実現するために、複数のクロック発生手段は、それぞれ独立したクロックを発生して、これらのクロックをそれぞれ各メモリコアに供給する。   Each memory core can operate independently of the other, for example, can operate in different operation modes, clock frequencies, and input / output data bits. In order to realize this, the plurality of clock generation means generate independent clocks and supply these clocks to the respective memory cores.

さらに、電圧発生手段は、各メモリコアに供給するための電圧を発生する。電圧発生手段は、各メモリコアに共通した単一のものである。これにより、各メモリコアにそれぞれ対応する複数の電圧発生手段を設ける場合に比べて、電圧発生手段が1つですむので、回路規模を抑制することができる。   Further, the voltage generating means generates a voltage to be supplied to each memory core. The voltage generating means is a single one common to each memory core. As a result, as compared with the case where a plurality of voltage generating means corresponding to each memory core is provided, only one voltage generating means is required, so that the circuit scale can be suppressed.

ここで、上記発明は、自己診断用アドレス、自己診断用コマンド及び自己診断用データを発生する単一の自己診断制御手段を更に備えてもよい。このとき、前記クロック発生回路は、前記自己診断制御手段により発生された自己診断用コマンドに基づいて自己診断用クロックを発生し、前記各メモリコアは、前記自己診断制御手段により発生された自己診断用アドレス、自己診断用コマンド及び自己診断用データと、前記クロック発生手段により発生された自己診断用クロックと、に基づいて自己診断を行えばよい。   Here, the present invention may further comprise a single self-diagnosis control means for generating a self-diagnosis address, a self-diagnosis command and self-diagnosis data. At this time, the clock generation circuit generates a self-diagnosis clock based on a self-diagnosis command generated by the self-diagnosis control means, and each memory core generates a self-diagnosis generated by the self-diagnosis control means. Self-diagnosis may be performed based on the address, self-diagnosis command and self-diagnosis data, and the self-diagnosis clock generated by the clock generation means.

また、上記発明は、各メモリコアに対して入力されるデータの圧縮を指示するデータ圧縮指示信号を発生する単一のデータ圧縮指示信号発生手段を更に備えてもよい。   The above invention may further comprise a single data compression instruction signal generating means for generating a data compression instruction signal for instructing compression of data input to each memory core.

本発明は、回路規模を抑制しつつ各メモリコアが独立して動作することができる   In the present invention, each memory core can operate independently while suppressing the circuit scale.

以下、本発明の好ましい実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は、本発明の実施の形態に係る半導体記憶装置のチップ構成を示す図である。半導体記憶装置は、配線が形成された回路基板であるシリコンインターポーザ1、図示しないマイクロバンプを介してシリコンインターポーザ1上に配置されたASIC(Application Specific Integrated Circuit)チップ2及びメモリチップ3を有している。   FIG. 1 is a diagram showing a chip configuration of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. The semiconductor memory device includes a silicon interposer 1 which is a circuit board on which wiring is formed, an ASIC (Application Specific Integrated Circuit) chip 2 and a memory chip 3 which are arranged on the silicon interposer 1 through micro bumps (not shown). Yes.

ASICチップ2は、複数のマイクロバンプを介して、シリコンインターポーザ1の配線に接続されている。これらのマイクロバンプは、図1のマイクロバンプ領域2aに設けられている。   The ASIC chip 2 is connected to the wiring of the silicon interposer 1 through a plurality of micro bumps. These micro bumps are provided in the micro bump region 2a of FIG.

メモリチップ3は、複数のマイクロバンプを介して、シリコンインターポーザ1の配線に接続されている。これらのマイクロバンプは、図1のマイクロバンプ領域3a、3b、3cに設けられている。なお、マイクロバンプ領域3aは、0から255ビットのデータが入出力されるバンプの領域であり、マイクロバンプ領域3bは、256から511ビットのデータが入出力されるバンプの領域である。また、マイクロバンプ領域3cは、コマンドやアドレスなどが入力されるマイクロバンプの領域である。   The memory chip 3 is connected to the wiring of the silicon interposer 1 through a plurality of micro bumps. These micro bumps are provided in the micro bump regions 3a, 3b, and 3c in FIG. The micro bump area 3a is a bump area where data of 0 to 255 bits is input / output, and the micro bump area 3b is a bump area where data of 256 to 511 bits is input / output. The micro bump region 3c is a micro bump region into which commands, addresses, and the like are input.

図2は、半導体記憶装置に設けられたメモリチップ2のレイアウト構成を示す図である。メモリチップ2は、第1コア100Aと第2コア100Bとを有している。以下では、第1コア100A内に設けられた回路には数字の符号と共にアルファベット“A”を付すと共に、第2コア100B内に設けられた回路には数字の符号と共にアルファベット“B”を付す。   FIG. 2 is a diagram showing a layout configuration of the memory chip 2 provided in the semiconductor memory device. The memory chip 2 has a first core 100A and a second core 100B. In the following, the circuit provided in the first core 100A is given an alphabet “A” together with a numeric symbol, and the circuit provided in the second core 100B is given an alphabet “B” together with a numeric symbol.

第1コア100Aは、DRAMで構成されたメモリバンク80A、90A、第1コア100Aに関する周辺回路98Aを有している。第2コア100Bは、DRAMで構成されたメモリバンク80B、90B、第2コア100Bに関する周辺回路98Bを有している。なお、第1コア100A及び第2コア100Bの各DRAMは、同一の容量でもよいし、異なる容量であってもよい。   The first core 100A has memory banks 80A and 90A composed of DRAM, and a peripheral circuit 98A related to the first core 100A. The second core 100B has memory banks 80B and 90B made of DRAM and a peripheral circuit 98B related to the second core 100B. Note that the DRAMs of the first core 100A and the second core 100B may have the same capacity or different capacities.

第1コア100A及び第2コア100Bは、独立して動作可能に構成されている。例えば、動作モード、入出力データのビット構成(128ビット又は256ビット)、クロック周波数が異なっていても、第1コア100A及び第2コア100Bは各々動作可能である。   The first core 100A and the second core 100B are configured to be able to operate independently. For example, even if the operation mode, the bit configuration of input / output data (128 bits or 256 bits), and the clock frequency are different, the first core 100A and the second core 100B can operate.

電源系回路201は、例えば、基準電位発生回路、バイアス電圧発生回路、ワード線昇圧電源発生回路、内部降圧回路等を含んでいる。基準電位発生回路、バイアス電圧発生回路、ワード線昇圧電源発生回路、内部降圧回路等はノイズの伝達経路にはならず、仮にノイズの伝達経路になるとしてもその影響は小さい。そこで、電源系回路201は、第1コア100A及び第2コア100Bにそれぞれ所定の電源を供給する。すなわち、第1コア100A及び第2コア100Bは、電源系回路201を共用する。これにより、メモリチップ2のサイズを小さくすることができる。   The power supply system circuit 201 includes, for example, a reference potential generation circuit, a bias voltage generation circuit, a word line boost power supply generation circuit, an internal voltage reduction circuit, and the like. The reference potential generation circuit, the bias voltage generation circuit, the word line boost power supply generation circuit, the internal voltage reduction circuit, and the like do not serve as a noise transmission path, and even if they serve as a noise transmission path, their influence is small. Therefore, the power supply system circuit 201 supplies predetermined power to each of the first core 100A and the second core 100B. That is, the first core 100A and the second core 100B share the power supply system circuit 201. Thereby, the size of the memory chip 2 can be reduced.

BIST系/TEST系回路202は、詳しくは後述するが、所定の信号を第1コア100A及び第2コア100Bに供給することで、第1コア100A及び第2コア100Bを同時に制御する。すなわち、第1コア100A及び第2コア100Bは、BIST系/TEST系回路202を共用する。これにより、メモリチップ2のサイズを更に小さくすることができる。   As will be described in detail later, the BIST / TEST circuit 202 controls the first core 100A and the second core 100B simultaneously by supplying predetermined signals to the first core 100A and the second core 100B. That is, the first core 100A and the second core 100B share the BIST / TEST circuit 202. Thereby, the size of the memory chip 2 can be further reduced.

ウエハテストパッド97は、第1コア100A及び第2コア100Bに共用されるものであり、外部から入力されるウエハテスト用信号(WFT信号)、外部入力信号を第1コア100A、第2コア100Bに供給する。   The wafer test pad 97 is shared by the first core 100A and the second core 100B, and receives a wafer test signal (WFT signal) and an external input signal from the outside as the first core 100A and the second core 100B. To supply.

入出力用バンプパッド列99A、99Bは、図1に示すマイクロバンプ領域に形成されている。ここで、入出力用バンプパッド列99Aは、第1コア100A専用のものであり、外部から入力されるコマンド、アドレス等を第1コア100Aに供給する。入出力用バンプパッド99列Bは、第2コア100B専用のものであり、外部から入力されるコマンド、アドレス等を第2コア100Bに供給する。   The input / output bump pad rows 99A and 99B are formed in the micro bump region shown in FIG. Here, the input / output bump pad row 99A is dedicated to the first core 100A, and supplies commands, addresses, and the like input from the outside to the first core 100A. The input / output bump pad 99 row B is dedicated to the second core 100B and supplies commands, addresses, and the like input from the outside to the second core 100B.

図3は、本発明の実施の形態に係る半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。半導体記憶装置は、第1コア100A、第2コア100B、テストモード信号発生器51、BIST(Built In Self Test)シーケンサ52を備えている。なお、第1コア100Aと第2コア100Bは同様の構成であるので、以下では主に第1コア100Aの構成について説明する。   FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of the semiconductor memory device according to the embodiment of the present invention. The semiconductor memory device includes a first core 100A, a second core 100B, a test mode signal generator 51, and a BIST (Built In Self Test) sequencer 52. Since the first core 100A and the second core 100B have the same configuration, the configuration of the first core 100A will be mainly described below.

半導体記憶装置は、ロウクロックを発生するロウクロック発生器10Aと、カラムアドレスを発生し又はバーストをカウントするカラムクロック発生器・バーストカウンタ20Aと、ロウアドレスを一時蓄積し又はリフレッシュ回数をカウントするロウアドレスバッファ・リフレッシュカウンタ30Aと、カラムアドレスを一時蓄積するカラムアドレスバッファ40Aと、データマスクを一時蓄積するデータマスクバッファ50Aと、を備えている。   The semiconductor memory device includes a row clock generator 10A that generates a row clock, a column clock generator / burst counter 20A that generates a column address or counts a burst, and a row that temporarily stores a row address or counts the number of refreshes. An address buffer / refresh counter 30A, a column address buffer 40A for temporarily storing column addresses, and a data mask buffer 50A for temporarily storing data masks are provided.

また、上記半導体記憶装置は、データを記憶するメモリバンク80A、90Aと、メモリバンク80A、90Aに対してデータを書き込み又は読み出す制御を行うデータコントロール回路70Aを備えている。   In addition, the semiconductor memory device includes memory banks 80A and 90A for storing data, and a data control circuit 70A for performing control for writing or reading data to or from the memory banks 80A and 90A.

さらに、半導体記憶装置は、外部から入力されるデータDを一時蓄積する入力バッファ61Aと、外部から入力されるテストモード時入力信号TDを一時蓄積する入力バッファ62Aと、データコントロール回路70Aから読み出されたデータQを一時蓄積する出力バッファ66Aと、データコントロール回路70Aから読み出されたテストモード時出力信号TQを一時記憶する出力バッファ62Aと、を備えている。   Further, the semiconductor memory device reads from the input buffer 61A for temporarily accumulating data D inputted from the outside, the input buffer 62A for temporarily accumulating the test mode input signal TD inputted from the outside, and the data control circuit 70A. An output buffer 66A for temporarily accumulating the data Q, and an output buffer 62A for temporarily storing the test mode output signal TQ read from the data control circuit 70A.

ここで、テストモード時入力信号TDは、テストモードにおいて、メモリバンクに書き込むべきデータであるテストデータと、メモリバンクから読み出されたテストデータの期待値と、含んでいる。また、テストモード時出力信号TQは、メモリバンクから読み出されたテストデータとその期待値との比較結果を示す信号を示している。   Here, the test mode input signal TD includes test data which is data to be written to the memory bank and an expected value of the test data read from the memory bank in the test mode. The test mode output signal TQ indicates a signal indicating a comparison result between the test data read from the memory bank and its expected value.

ロウクロック発生器10Aは、外部から供給されるクロック(CLK)、チップセレクト信号(CSB)、アクトコマンド(ACTB)、リフレッシュ信号(REF)に基づいて、ロウアドレスを同期させるためのロウクロックを発生し、このロウクロックをロウアドレスバッファ・リフレッシュカウンタ30A、メモリバンク80A、90Aに供給する。また、ロウクロック発生器10Aは、後述するBISTシーケンサ52からテストモード時の所定のコマンドが供給されると、テスト診断用ロウクロックを発生する。   The row clock generator 10A generates a row clock for synchronizing row addresses based on an externally supplied clock (CLK), chip select signal (CSB), act command (ACTB), and refresh signal (REF). The row clock is supplied to the row address buffer / refresh counter 30A and the memory banks 80A and 90A. Further, the row clock generator 10A generates a test diagnosis row clock when a predetermined command in the test mode is supplied from a BIST sequencer 52 described later.

カラムクロック発生器・バーストカウンタ20Aは、クロック(CLK)、チップセレクト信号(CSB)、アクトコマンド(ACTB)、リフレッシュ信号(REF)、更にライト・イネーブル信号(WEB)に基づいて、カラムアドレスを同期させるためのカラムクロックを発生し、このカラムクロックをカラムアドレスバッファ40A、メモリバンク80A、90Aに供給する。また、カラムクロック発生器・バーストカウンタ20Aは、後述するBISTシーケンサ52からテストモード時の所定のコマンドが供給されると、テスト診断用カラムクロックを発生する。   The column clock generator / burst counter 20A synchronizes column addresses based on a clock (CLK), a chip select signal (CSB), an act command (ACTB), a refresh signal (REF), and a write enable signal (WEB). A column clock is generated to supply the column clock to the column address buffer 40A and the memory banks 80A and 90A. Further, the column clock generator / burst counter 20A generates a test diagnosis column clock when a predetermined command in the test mode is supplied from a BIST sequencer 52 described later.

ロウアドレスバッファ・リフレッシュカウンタ30Aは、ロウクロック発生器10Aで発生されたロウクロックに同期して、外部から供給されるロウアドレスAi(i=4〜15)を一時蓄積した後、そのロウアドレスをメモリバンク80A、90Aに供給する。また、ロウアドレスバッファ・リフレッシュカウンタ30Aは、メモリバンク80A、90Aのリフレッシュ回数をカウントする。   The row address buffer / refresh counter 30A temporarily stores the row address Ai (i = 4 to 15) supplied from the outside in synchronization with the row clock generated by the row clock generator 10A, and then stores the row address. This is supplied to the memory banks 80A and 90A. The row address buffer / refresh counter 30A counts the number of refreshes of the memory banks 80A and 90A.

カラムアドレスバッファ40Aは、カラムクロック発生器・バーストカウンタ20Aで発生されたカラムクロックに同期して、外部から供給されるカラムアドレスAi(i=0〜3)を一時蓄積した後、そのカラムアドレスをメモリバンク80A、90Aに供給する。   The column address buffer 40A temporarily stores the column address Ai (i = 0-3) supplied from the outside in synchronization with the column clock generated by the column clock generator / burst counter 20A, and then stores the column address. This is supplied to the memory banks 80A and 90A.

データマスクバッファ50Aは、外部から供給されるデータマスクを一時蓄積した後、データマスクをデータコントロール回路70Aに供給する。テストモード制御回路51は、外部から供給されるテストモード制御信号(PTEST)に基づいて、入力バッファ61A、62A、データコントロール回路70Aをテストモードに設定し、又は通常モードに設定する制御を行う。   The data mask buffer 50A temporarily stores a data mask supplied from the outside, and then supplies the data mask to the data control circuit 70A. The test mode control circuit 51 performs control for setting the input buffers 61A and 62A and the data control circuit 70A to the test mode or the normal mode based on a test mode control signal (PTEST) supplied from the outside.

入力バッファ61Aは、通常モードのときに、例えば256本の多ビット入力端子を介して入力される書き込み対象となる256ビットのデータDを一時蓄積した後、このデータDをデータコントロール回路70Aに供給する。入力バッファ62Aは、テストモードのときに、例えば8本のテストデータ入力端子を介して入力される8ビットのテストモード時入力信号TDを一時蓄積した後、このテストモード時入力信号TDをデータコントロール回路70Aに供給する。   In the normal mode, the input buffer 61A temporarily stores, for example, 256-bit data D to be written, which is input via 256 multi-bit input terminals, and then supplies the data D to the data control circuit 70A. To do. In the test mode, the input buffer 62A temporarily stores, for example, an 8-bit test mode input signal TD input via eight test data input terminals, and then performs data control on the test mode input signal TD. Supply to circuit 70A.

一方、出力バッファ66Aは、通常モードのときに、データコントロール回路70Aから出力された256ビットのデータQを一時蓄積し、このデータQを例えば256本の多ビット出力端子を介して外部へ出力する。出力バッファ67Aは、テストモードのときに、データコントロール回路70Aから出力されたテストモード時出力信号TQkを一時蓄積し、このテストモード時出力信号TQkを例えば8本のテストデータ出力端子を介して外部へ出力する。   On the other hand, the output buffer 66A temporarily stores 256-bit data Q output from the data control circuit 70A in the normal mode, and outputs this data Q to the outside through, for example, 256 multi-bit output terminals. . The output buffer 67A temporarily accumulates the test mode output signal TQk output from the data control circuit 70A during the test mode, and the test mode output signal TQk is externally connected via, for example, eight test data output terminals. Output to.

メモリバンク80Aは、DRAMで構成されている。メモリバンク80Aは、マトリクス状に配列された複数のメモリセルからなるメモリセルアレイ81Aと、ロウアドレス(行アドレス)を選択するためのロウデコーダ82Aと、カラムアドレス(列アドレス)を選択するためのカラムデコーダ83Aと、データの読み出し時にメモリセルの電圧を増幅するためのセンスアンプ84Aと、を備えている。   The memory bank 80A is composed of DRAM. The memory bank 80A includes a memory cell array 81A composed of a plurality of memory cells arranged in a matrix, a row decoder 82A for selecting a row address (row address), and a column for selecting a column address (column address). A decoder 83A and a sense amplifier 84A for amplifying the voltage of the memory cell when reading data are provided.

メモリセルアレイ81Aは、マトリクス状に配列された複数のメモリセルで構成され、例えば16Mビット(=64k×256ビット)のメモリ容量を有している。   The memory cell array 81A is composed of a plurality of memory cells arranged in a matrix, and has a memory capacity of 16 M bits (= 64 k × 256 bits), for example.

ロウデコーダ82Aは、図1に示したロウアドレスバッファ・リフレッシュカウンタ30Aからロウアドレスが供給されると、そのロウアドレスに対応するメモリセルを選択するための信号をメモリセルアレイ81Aに供給する。また、カラムデコーダ83Aは、カラムアドレスが供給されると、そのカラムアドレスに対応するメモリセルを選択するためのカラムアドレス選択信号をメモリセルアレイ81Aに供給する。これにより、ロウアドレス及びカラムアドレスに基づくメモリセルアレイ81Aのメモリセルにおいて、データの書き込み又は読み出しが行われる。   When a row address is supplied from the row address buffer / refresh counter 30A shown in FIG. 1, the row decoder 82A supplies a signal for selecting a memory cell corresponding to the row address to the memory cell array 81A. Further, when a column address is supplied, the column decoder 83A supplies a column address selection signal for selecting a memory cell corresponding to the column address to the memory cell array 81A. As a result, data is written or read in the memory cell of the memory cell array 81A based on the row address and the column address.

このような構成のメモリバンク80Aは、多数の入出力ピン、例えば256ビットのデータの同時入力又は同時出力が可能な256本の入力ピン及び出力ピンを有し、通常モードでは、256ビットずつデータを読み出したり、256ビットずつデータを書き込んだりする。なお、メモリバンク90Aは、メモリバンク80Aと同様に構成され、メモリセルアレイ91Aと、ロウアドレス(行アドレス)を選択するためのロウデコーダ92Aと、カラムアドレス(列アドレス)を選択するためのカラムデコーダ93Aと、データの読み出し時にメモリセルの電圧を増幅するためのセンスアンプ94Aと、を備えている。   The memory bank 80A having such a configuration has a large number of input / output pins, for example, 256 input pins and output pins capable of simultaneous input or output of 256-bit data. Or data is written in 256 bits. The memory bank 90A is configured in the same manner as the memory bank 80A, and includes a memory cell array 91A, a row decoder 92A for selecting a row address (row address), and a column decoder for selecting a column address (column address). 93A and a sense amplifier 94A for amplifying the voltage of the memory cell when reading data.

データコントロール回路70Aは、通常モード(いわゆる×2モード)の場合、入力バッファ61Aから256ビットずつ2回に分けて512ビットのデータが供給されると、メモリバンク80A及びメモリバンク90Aにそれぞれ256ビットのデータを一度に書き込む。また、データコントロール回路70Aは、メモリバンク80A、90Aからそれぞれ一度に256ビットのデータを読み出して512ビットのデータを一旦記憶し、256ビットずつ2回に分けてバーストで出力し、この256ビットのデータQを出力バッファ66Aに供給する。   In the normal mode (so-called x2 mode), the data control circuit 70A, when 512-bit data is supplied from the input buffer 61A in 256 bits in two portions, each has 256 bits to the memory bank 80A and the memory bank 90A. Write all data at once. Further, the data control circuit 70A reads 256-bit data at a time from the memory banks 80A and 90A, temporarily stores 512-bit data, and outputs the 256-bit data twice in bursts. Data Q is supplied to the output buffer 66A.

データコントロール回路70Aは、テストモードの場合、入力バッファ62Aから8ビットのテストモード時入力信号TDが供給されると、64ビット分ずつのデータを1ビットずつに圧縮したテストモード時入力信号TDのテストデータをメモリバンク80A、90Aに書き込む。そして、データコントロール回路70Aは、メモリバンク80A、90Aから読み出されたテストデータと、上記テストモード時入力信号TDの期待値と、を比較して、比較結果を表すテストモード時出力信号TQを出力バッファ67Aに供給する。   In the test mode, when the 8-bit test mode input signal TD is supplied from the input buffer 62A in the test mode, the data control circuit 70A receives the test mode input signal TD obtained by compressing 64 bits of data into one bit. Test data is written to the memory banks 80A and 90A. The data control circuit 70A compares the test data read from the memory banks 80A and 90A with the expected value of the test mode input signal TD, and outputs a test mode output signal TQ representing the comparison result. This is supplied to the output buffer 67A.

なお、BIST結果出力バッファ69が、第1コア100Aから出力されるテストモード時出力信号TQと、第2コア100Bから出力されるテストモード時出力信号TQと、を一時蓄積してから出力しても良い。   The BIST result output buffer 69 temporarily stores and outputs the test mode output signal TQ output from the first core 100A and the test mode output signal TQ output from the second core 100B. Also good.

また、データコントロール回路70Aは、テストモード信号発生器51からの信号に基づいて、上述した通常モードとテストモードとの切り換えを行う。   The data control circuit 70A switches between the normal mode and the test mode described above based on the signal from the test mode signal generator 51.

テストモード信号発生器51は、64ビットのデータを1ビットに圧縮することを指示する信号(PTEST)を出力して、第1コア100Aのデータ制御回路70A及び第2コア100Bのデータ制御回路70BにPTESTを供給する。テストモード信号発生器51は、具体的には次のように構成されている。   The test mode signal generator 51 outputs a signal (PTEST) instructing to compress 64-bit data into 1 bit, and the data control circuit 70A of the first core 100A and the data control circuit 70B of the second core 100B. To PTEST. The test mode signal generator 51 is specifically configured as follows.

図4は、テストモード信号発生器51の構成を示すブロック図である。テストモード信号発生器51は、DTEST信号を否定する否定演算(NOT)回路51aと、BIST信号を否定するNOT回路51bと、NOT回路51a、51bから出力された信号の否定論理積を演算する否定論理積演算(NAND)回路51cと、NAND回路51cから出力された信号を否定するNOT回路51dと、NOT回路51eから出力された信号を否定する否定回路51eと、を備えている。   FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of the test mode signal generator 51. The test mode signal generator 51 includes a negation (NOT) circuit 51a that negates the DTEST signal, a NOT circuit 51b that negates the BIST signal, and a negation that calculates the negative logical product of the signals output from the NOT circuits 51a and 51b. A logical product (NAND) circuit 51c, a NOT circuit 51d that negates the signal output from the NAND circuit 51c, and a negation circuit 51e that negates the signal output from the NOT circuit 51e are provided.

テストモード信号発生器51は、このような構成により、DTEST信号、BIST信号の少なくとも1つがハイレベルになるとハイレベルのPTEST信号を出力し、DTEST信号、BIST信号のいずれもローレベルになるとローレベルのPTEST信号を出力する。これにより、図3に示すデータ制御回路70A、70Bは、テストモード信号発生器51は、後述するBIST時又はその他のテストモード時になると、64ビットのデータを1ビットに圧縮して、それぞれ所定のテストを実行する。   With such a configuration, the test mode signal generator 51 outputs a high-level PTEST signal when at least one of the DTEST signal and the BIST signal goes high, and the low level when both the DTEST signal and the BIST signal go low. The PTEST signal is output. Thus, the data control circuits 70A and 70B shown in FIG. 3 allow the test mode signal generator 51 to compress the 64-bit data into 1 bit when the BIST or other test mode, which will be described later, is performed. Run the test.

図5は、BISTシーケンサ52の構成を示すブロック図である。BISTシーケンサ52は、BIST(Built In Self Test:自己診断)時に、自己診断用アドレス、自己診断用コマンド、自己診断用データを発生する。具体的には、BISTシーケンサ52は、シーケンサ52aと、自己診断用アドレスを発生するアドレス発生器52bと、自己診断用コマンドを発生するコマンド発生器52cと、自己診断用データを発生するデータ発生器52dと、を備えている。   FIG. 5 is a block diagram showing the configuration of the BIST sequencer 52. The BIST sequencer 52 generates a self-diagnosis address, a self-diagnosis command, and self-diagnosis data during a BIST (Built In Self Test). Specifically, the BIST sequencer 52 includes a sequencer 52a, an address generator 52b that generates a self-diagnosis address, a command generator 52c that generates a self-diagnosis command, and a data generator that generates self-diagnosis data. 52d.

シーケンサ52aは、ハイレベルのBIST信号が入力されるとBIST動作がイネーブルにかり、ローレベルのBIST信号が入力されるとBIST動作がディセーブルになる。そして、BISTシーケンサ52aは、クロックが入力されると、アドレス発生器52bに自己診断用アドレスを発生させ、コマンド発生器52cに自己診断用コマンドを発生させ、自己診断用データ発生器52dにデータを発生させる。   The sequencer 52a enables the BIST operation when a high-level BIST signal is input, and disables the BIST operation when a low-level BIST signal is input. When the clock is input, the BIST sequencer 52a causes the address generator 52b to generate a self-diagnosis address, causes the command generator 52c to generate a self-diagnosis command, and sends data to the self-diagnosis data generator 52d. generate.

テストモード信号発生器51から出力された信号、及びBISTシーケンサ52から出力されたコマンド、アドレス、データは、次に示す入力回路に供給される。   The signal output from the test mode signal generator 51 and the command, address, and data output from the BIST sequencer 52 are supplied to the following input circuit.

図6は、入力回路の構成を示す図である。なお、図6では、入出力用バンプパッド列99A、99Bの代表的なバンプパッドのみを示し、その他のバンプパッドは省略している。   FIG. 6 is a diagram illustrating the configuration of the input circuit. In FIG. 6, only representative bump pads of the input / output bump pad rows 99A and 99B are shown, and other bump pads are omitted.

この入力回路は、BIST時においては、BISTシーケンサ52で発生されたアドレス、データ、コマンドを出力し、BIST時以外の他のテストモード時においては、ウエハテストパッド97、入出力用バンプパッド列99A、99Bから入力された信号を出力する回路である。ここで出力された信号は、第1コア100A、第2コア100Bにそれぞれ供給される。   This input circuit outputs the address, data, and command generated by the BIST sequencer 52 during BIST, and the wafer test pad 97 and the input / output bump pad row 99A in other test modes than during BIST. , 99B is a circuit for outputting a signal inputted from 99B. The signals output here are supplied to the first core 100A and the second core 100B, respectively.

入出力用バンプパッド列99Aは、否定論理積演算回路106の入力端子に接続されている。入出力用バンプパッド列99Bは、否定論理積演算回路105の入力端子に接続されている。入出力用バンプパッド列99A、99Bは、スイッチ素子104を介して接続されている。スイッチ素子104の一方のゲートには、NOT回路101、102を介して、コア選択信号が供給される。また、スイッチ素子104の他方のゲートには、NOT回路101、102、103を介して、コア選択信号が供給される。   The input / output bump pad row 99A is connected to the input terminal of the NAND circuit 106. The input / output bump pad row 99 </ b> B is connected to the input terminal of the NAND circuit 105. The input / output bump pad rows 99A and 99B are connected via the switch element 104. A core selection signal is supplied to one gate of the switch element 104 via the NOT circuits 101 and 102. A core selection signal is supplied to the other gate of the switch element 104 via NOT circuits 101, 102, and 103.

ここで、ハイレベルのコア選択信号は、入出力用バンプパッド列99A又は99Bに入力された信号を、2つのコア(第1コア100A、第2コア100B)に同一信号として供給することを示す信号である。ローレベルのコア選択信号は、入出力用バンプパッド列99A、99Bに入力された信号をそれぞれのコアに供給することを示す信号である。   Here, the high-level core selection signal indicates that the signal input to the input / output bump pad row 99A or 99B is supplied to the two cores (the first core 100A and the second core 100B) as the same signal. Signal. The low-level core selection signal is a signal indicating that a signal input to the input / output bump pad rows 99A and 99B is supplied to each core.

否定論理和演算(NOR)回路112は、NOT回路107、108を介して入力されるBIST信号と、NOT回路111を介して入力されるウエハテストパッド97からのWFT信号と、の否定論理和を演算する。NOR回路109は、NOT回路107、108を介して入力されるBIST信号と、NOR回路112から入力される信号と、の否定論理和を演算する。   A negative OR operation (NOR) circuit 112 calculates a negative logical sum of the BIST signal input via the NOT circuits 107 and 108 and the WFT signal from the wafer test pad 97 input via the NOT circuit 111. Calculate. The NOR circuit 109 calculates a negative OR of the BIST signal input via the NOT circuits 107 and 108 and the signal input from the NOR circuit 112.

NAND回路113は、ウエハテストパッド97から入力される信号Aと、NOR回路112から入力される信号と、否定論理積を演算する。NAND回路114は、NOT回路110を介して入力されるBISTシーケンサ52の発生信号(アドレス、コマンド、データ)と、NAND回路113から入力される信号と、の否定論理積を演算する。   The NAND circuit 113 calculates a negative logical product of the signal A input from the wafer test pad 97 and the signal input from the NOR circuit 112. The NAND circuit 114 calculates a negative logical product of the signal (address, command, data) generated by the BIST sequencer 52 input via the NOT circuit 110 and the signal input from the NAND circuit 113.

NAND回路116は、NAND回路105から入力される信号と、NOT回路115を介して、NAND回路114から入力される信号と、の否定論理積を演算する。そして、NAND回路116の出力信号は、NOT回路117、118を介して、第2コア100Bに供給される。   The NAND circuit 116 calculates a negative logical product of the signal input from the NAND circuit 105 and the signal input from the NAND circuit 114 via the NOT circuit 115. The output signal of the NAND circuit 116 is supplied to the second core 100B via the NOT circuits 117 and 118.

NAND回路119は、NAND回路106から入力される信号と、NOT回路115を介して、NAND回路114から入力される信号と、の否定論理積を演算する。そして、NAND回路119の出力信号は、NOT回路120、121を介して、第1コア100Aに供給される。   The NAND circuit 119 calculates a negative logical product of the signal input from the NAND circuit 106 and the signal input from the NAND circuit 114 via the NOT circuit 115. The output signal of the NAND circuit 119 is supplied to the first core 100A via the NOT circuits 120 and 121.

このように構成された入力回路において、コア選択信号がロー(L)レベル(1コア選択時)になると、コア選択信号は、否定回路101、102、103を介して、スイッチ素子104に供給される。このとき、スイッチ素子104はオンになり、入出力用バンプパッド列99A、99Bのバンプパッドは等電位になる。この結果、入出力用バンプパッド列99A、99Bのいずれかのバンプパッドに信号Aが入力されたとしても、入出力用バンプパッド列99A、99Bの両方に同一の信号Aが入力されることになる。   In the input circuit configured as described above, when the core selection signal becomes low (L) level (when one core is selected), the core selection signal is supplied to the switch element 104 via the negation circuits 101, 102, and 103. The At this time, the switch element 104 is turned on, and the bump pads in the input / output bump pad rows 99A and 99B are equipotential. As a result, even if the signal A is input to any bump pad of the input / output bump pad rows 99A and 99B, the same signal A is input to both the input / output bump pad rows 99A and 99B. Become.

したがって、第1コア100A、第2コア100Bのいずれか一方のみを動作させる場合(シングルコアの場合)、入出力用バンプパッド列99A、99Bのいずれかのバンプパッドに信号Aを入力すればよい。   Therefore, when only one of the first core 100A and the second core 100B is operated (in the case of a single core), the signal A may be input to one of the bump pads 99A and 99B for input / output. .

一方、コア選択信号がハイ(H)レベル(2コア選択時)になると、スイッチ素子104はオフになる。この結果、入出力用バンプパッド列99A、99Bのバンプパッドは互いに独立した状態になり、入出力用バンプパッド列99A、99Bの各バンプパッドに入力された信号は、それぞれ第1コア100A、第2コア100Bに用いられる。したがって、第1コア100A及び第2コア100Bを同時に動作させる場合(ダブルコアの場合)、入出力用バンプパッド列99A、99Bのそれぞれのバンプパッドに信号を入力すればよい。   On the other hand, when the core selection signal becomes a high (H) level (when two cores are selected), the switch element 104 is turned off. As a result, the bump pads in the input / output bump pad rows 99A and 99B are independent from each other, and the signals input to the bump pads in the input / output bump pad rows 99A and 99B are sent to the first core 100A and the first core 100A, respectively. Used for 2-core 100B. Therefore, when the first core 100A and the second core 100B are operated simultaneously (in the case of a double core), a signal may be input to each bump pad of the input / output bump pad rows 99A and 99B.

以上のように、本発明の実施の形態に係る半導体記憶装置は、第1コア100A及び第2コア100Bにそれぞれ専用のクロック発生器を備えると共に、単一の電源系回路201で発生された電源を第1コア100A、第2コア100Bにそれぞれ供給している。これにより、上記半導体記憶装置は、第1コア100A、第2コア100Bをそれぞれ独立に動作させることができると共に、2つのメモリコアで電源系回路を共用しない場合に比べて、チップサイズを小さくすることができる。   As described above, the semiconductor memory device according to the embodiment of the present invention includes the dedicated clock generators for the first core 100A and the second core 100B, respectively, and the power generated by the single power system circuit 201. Are supplied to the first core 100A and the second core 100B, respectively. As a result, the semiconductor memory device can operate the first core 100A and the second core 100B independently of each other and reduce the chip size compared to the case where the power supply circuit is not shared by the two memory cores. be able to.

また、半導体記憶装置は、テストモード信号発生器51、BISTシーケンサ52で発生された信号をそれぞれ第1コア100A、第2コア100Bに供給することにより、2つのメモリコアでテストモード信号発生器、BISTシーケンサを共用しない場合に比べて、更にチップサイズを小さくすることができる。   In addition, the semiconductor memory device supplies the signals generated by the test mode signal generator 51 and the BIST sequencer 52 to the first core 100A and the second core 100B, respectively. The chip size can be further reduced as compared with the case where the BIST sequencer is not shared.

なお、本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された範囲内で設計上の変更をされたものにも適用可能であるのは勿論である。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and it is needless to say that the present invention can also be applied to a design modified within the scope of the claims.

例えば、上述した実施形態では、第1コア100A及び第2コア100Bを使用する「2コア(ダブルコア)」の場合を例に挙げて説明したが、メモリコアの数は3以上であってもよいのは勿論である。   For example, in the above-described embodiment, the case of “two cores (double core)” using the first core 100A and the second core 100B has been described as an example, but the number of memory cores may be three or more. Of course.

本発明の実施の形態に係る半導体記憶装置のチップ構成を示す図である。1 is a diagram showing a chip configuration of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. 半導体記憶装置に設けられたメモリチップのレイアウト構成を示す図である。1 is a diagram showing a layout configuration of a memory chip provided in a semiconductor memory device. 本発明の実施の形態に係る半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. テストモード信号発生器51の構成を示すブロック図である。3 is a block diagram showing a configuration of a test mode signal generator 51. FIG. BISTシーケンサ52の構成を示すブロック図である。3 is a block diagram showing a configuration of a BIST sequencer 52. FIG. 入力回路の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of an input circuit.

符号の説明Explanation of symbols

1 シリコンインターポーザ
2 ASICチップ
3 メモリチップ
51 テストモード信号発生器
52 BISTシーケンサ
100A 第1コア
100B 第2コア
201 電源系回路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Silicon interposer 2 ASIC chip 3 Memory chip 51 Test mode signal generator 52 BIST sequencer 100A 1st core 100B 2nd core 201 Power supply system circuit

Claims (3)

行方向及び列方向に複数のメモリセルが配列されたメモリセルアレイと、前記メモリセルアレイの行方向のメモリセルを選択する行デコーダと、前記メモリセルアレイの列方向のメモリセルを選択する列デコーダと、を有するm個(mは2以上の自然数。)のメモリバンクと、前記各メモリバンクに対してデータの書き込み又は読み出しを行うデータ制御手段と、を含む複数のメモリコアと、
各メモリコアにそれぞれ供給される独立したクロックを発生する複数のクロック発生手段と、
各メモリコアに供給するための電圧を発生する単一の電圧発生手段と、
を備えた半導体記憶装置。
A memory cell array in which a plurality of memory cells are arranged in a row direction and a column direction; a row decoder that selects memory cells in the row direction of the memory cell array; a column decoder that selects memory cells in the column direction of the memory cell array; A plurality of memory cores including m memory banks (where m is a natural number of 2 or more) and data control means for writing or reading data to or from each of the memory banks;
A plurality of clock generating means for generating independent clocks respectively supplied to each memory core;
A single voltage generating means for generating a voltage to be supplied to each memory core;
A semiconductor memory device.
自己診断用アドレス、自己診断用コマンド及び自己診断用データを発生する単一の自己診断制御手段を更に備え、
前記クロック発生回路は、前記自己診断制御手段により発生された自己診断用コマンドに基づいて自己診断用クロックを発生し、
前記各メモリコアは、前記自己診断制御手段により発生された自己診断用アドレス、自己診断用コマンド及び自己診断用データと、前記クロック発生手段により発生された自己診断用クロックと、に基づいて自己診断を行う
請求項1に記載の半導体記憶装置。
A single self-diagnosis control means for generating a self-diagnosis address, a self-diagnosis command and self-diagnosis data;
The clock generation circuit generates a self-diagnosis clock based on a self-diagnosis command generated by the self-diagnosis control means;
Each of the memory cores performs self-diagnosis based on a self-diagnosis address, a self-diagnosis command and self-diagnosis data generated by the self-diagnosis control unit, and a self-diagnosis clock generated by the clock generation unit. The semiconductor memory device according to claim 1.
各メモリコアに対して入力されるデータの圧縮を指示するデータ圧縮指示信号を発生する単一のデータ圧縮指示信号発生手段を更に備えた
請求項1または請求項2に記載の半導体記憶装置。
The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a single data compression instruction signal generating unit that generates a data compression instruction signal instructing compression of data input to each memory core.
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