JP2008044009A - 熱膨張係数が異なる部材の接合方法 - Google Patents
熱膨張係数が異なる部材の接合方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】平均粒子径50nm以下の銀粒子3と、銀箔4または銀よりも縦弾性係数の小さい金属箔4とを、少なくとも一方は銀よりも熱膨張係数が小さい2種の部材1,2間に配置して加熱し、両部材1,2を接合する。平均粒子径50nm以下の銀粒子と、平均粒子径20μm以上の銀粒子または銀よりも縦弾性係数の小さい金属粒子とからなる混合粉末であり、且つ該銀粒子または金属粒子を該混合粉末全体の10〜40%の範囲の体積分率で含むろう材3を、両部材1,2間に配置して加熱し、両部材1,2を接合する。金属箔4、前記金属粒子は、表面に銀被覆層を備える。一方の部材1がSiまたはSiCからなり、他方の部材2がAlまたはCuからなる。
【選択図】 図1
Description
〔比較例1〕
本比較例では、金属箔4として、実施例1で用いたAg箔に代えて、厚さ100μmのSUS304材の箔(以下、SUS304材の箔をSUS箔と略記する)の表面に蒸着によりAgコーティング層(図示せず)を形成したものを用いた以外は、実施例1と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。尚、SUS304材の縦弾性係数は199GPaであり、Agの縦弾性係数82.7GPaより大である。
〔比較例2〕
本比較例では、金属箔4として、実施例1で用いたAg箔に代えて、厚さ100μmのSUS箔の表面に蒸着によりAgコーティング層(図示せず)を形成したものに、機械加工により直径100μmの貫通孔(図示せず)を互いの外周縁からの距離が100μmとなるように穿設したもの(以下、前記貫通孔を穿設したSUS箔を多孔SUS箔と略記する)を用い、200μm厚のスクリーンを用いてろう材3を塗布した以外は、実施例1と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例3〕
本比較例では、金属箔4を全く用いずに、20μm厚のスクリーンを用いてろう材3のみを塗布した以外は、実施例1と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例4〕
本比較例では、金属箔4を全く用いずに、50μm厚のスクリーンを用いてろう材3のみを塗布した以外は、実施例1と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例5〕
本比較例では、金属箔4を全く用いずに、100μm厚のスクリーンを用いてろう材3のみを塗布した以外は、実施例1と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例6〕
本比較例では、金属箔4を全く用いずに、200μm厚のスクリーンを用いてろう材3のみを塗布した以外は、実施例1と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例7〕
本比較例では、ろう材3として、実施例1で用いた平均粒子径15nmのAg粒子に代えて平均粒子径50nmのAg粒子を用いた以外は、比較例1と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例8〕
本比較例では、ろう材3として、実施例1で用いた平均粒子径15nmのAg粒子に代えて平均粒子径50nmのAg粒子を用いた以外は、比較例2と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例9〕
本比較例では、ろう材3として、実施例1で用いた平均粒子径15nmのAg粒子に代えて平均粒子径50nmのAg粒子を用いた以外は、比較例3と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例10〕
本比較例では、ろう材3として、実施例1で用いた平均粒子径15nmのAg粒子に代えて平均粒子径50nmのAg粒子を用いた以外は、比較例5と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例11〕
本比較例では、ろう材3として、実施例1で用いた平均粒子径15nmのAg粒子に代えて平均粒子径50nmのAg粒子を用いた以外は、比較例6と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例12〕
本比較例では、ろう材3として、実施例1で用いた平均粒子径15nmのAg粒子に代えて平均粒子径90nmのAg粒子を用いた以外は、実施例1と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例13〕
本比較例では、ろう材3として、実施例1で用いた平均粒子径15nmのAg粒子に代えて平均粒子径90nmのAg粒子を用いた以外は、実施例3と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例14〕
本比較例では、ろう材3として、実施例1で用いた平均粒子径15nmのAg粒子に代えて平均粒子径90nmのAg粒子を用いた以外は、比較例1と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例15〕
本比較例では、ろう材3として、実施例1で用いた平均粒子径15nmのAg粒子に代えて平均粒子径90nmのAg粒子を用いた以外は、実施例4と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例16〕
本比較例では、ろう材3として、実施例1で用いた平均粒子径15nmのAg粒子に代えて平均粒子径90nmのAg粒子を用いた以外は、実施例6と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例17〕
本比較例では、ろう材3として、実施例1で用いた平均粒子径15nmのAg粒子に代えて平均粒子径90nmのAg粒子を用いた以外は、比較例2と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例18〕
本比較例では、ろう材3として、実施例1で用いた平均粒子径15nmのAg粒子に代えて平均粒子径90nmのAg粒子を用いた以外は、比較例3と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例19〕
本比較例では、ろう材3として、実施例1で用いた平均粒子径15nmのAg粒子に代えて平均粒子径90nmのAg粒子を用いた以外は、比較例5と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例20〕
本比較例では、ろう材3として、実施例1で用いた平均粒子径15nmのAg粒子に代えて平均粒子径90nmのAg粒子を用いた以外は、比較例6と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例21〕
本比較例では、実施例11で用いた平均粒子径20μmのAg粗粒子に代えて平均粒子径10μmのAg粗粒子を用いてろう材3を調製した以外は、実施例11と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例22〕
本比較例では、実施例12で用いた平均粒子径30μmのAg粗粒子の、前記Ag粒子と該Ag粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を5%としてろう材3を調製した以外は、実施例12と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例23〕
本比較例では、実施例12で用いた平均粒子径30μmのAg粗粒子の、前記Ag粒子と該Ag粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を50%としてろう材3を調製した以外は、実施例12と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例24〕
本比較例では、実施例17で用いた平均粒子径20μmのAu粗粒子に代えて平均粒子径10μmのAu粗粒子を用いてろう材3を調製した以外は、実施例17と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例25〕
本比較例では、実施例18で用いた平均粒子径30μmのAu粗粒子の、前記Ag粒子と該Au粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を5%としてろう材3を調製した以外は、実施例18と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例26〕
本比較例では、実施例18で用いた平均粒子径30μmのAu粗粒子の、前記Ag粒子と該Au粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を50%としてろう材3を調製した以外は、実施例18と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例27〕
本比較例では、実施例1で用いた平均粒子径15nmのAg粒子のみからなるろう材3に代えて、平均粒子径15nmのAg粒子と、平均粒子径10μmのSUS304材の粗粒子(以下、SUS粗粒子と略記する)とを混合した混合粉末からなるろう材3を調製し、金属箔4を全く用いずに、本比較例で調製したろう材3を200μm厚のスクリーンを用いて塗布した以外は、実施例1と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。SUS粗粒子の前記混合粉末全体に対する体積分率は20%とした。尚、室温におけるSUSの縦弾性係数は199GPaであり、Agの縦弾性係数82.7GPaより大である。
〔比較例28〕
本比較例では、比較例27で用いた平均粒子径10μmのSUS粗粒子に代えて平均粒子径20μmのSUS粗粒子を用いてろう材3を調製した以外は、比較例27と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例29〕
本比較例では、比較例27で用いた平均粒子径10μmのSUS粗粒子に代えて平均粒子径30μmのSUS粗粒子を用いてろう材3を調製した以外は、比較例27と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例30〕
本比較例では、比較例29で用いた平均粒子径30μmのSUS粗粒子の、前記Ag粒子と該SUS粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を5%としてろう材3を調製した以外は、比較例29と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例31〕
本比較例では、比較例29で用いた平均粒子径30μmのSUS粗粒子の、前記Ag粒子と該SUS粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を10%としてろう材3を調製した以外は、比較例29と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例32〕
本比較例では、比較例29で用いた平均粒子径30μmのSUS粗粒子の、前記Ag粒子と該SUS粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を30%としてろう材3を調製した以外は、比較例29と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例33〕
本比較例では、比較例29で用いた平均粒子径30μmのSUS粗粒子の、前記Ag粒子と該SUS粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を40%としてろう材3を調製した以外は、比較例29と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例34〕
本比較例では、比較例29で用いた平均粒子径30μmのSUS粗粒子の、前記Ag粒子と該SUS粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を50%としてろう材3を調製した以外は、比較例29と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例35〕
本比較例では、金属箔4として、実施例22で用いたAg箔に代えて、厚さ100μmのSUS箔の表面に蒸着によりAgコーティング層(図示せず)を形成したものを用いた以外は、実施例22と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例36〕
本比較例では、金属箔4を全く用いずに、200μm厚のスクリーンを用いてろう材3のみを塗布した以外は、実施例22と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例37〕
本比較例では、実施例24で用いた平均粒子径30μmのAg粗粒子に代えて平均粒子径10μmのAg粗粒子を用いてろう材3を調製した以外は、実施例24と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例22〕
本比較例では、実施例24で用いた平均粒子径30μmのAg粗粒子の、前記Ag粒子と該Ag粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を5%としてろう材3を調製し、本比較例で調製した以外は、実施例24と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例39〕
本比較例では、実施例26で用いた平均粒子径20μmのAu粗粒子に代えて平均粒子径10μmのAu粗粒子を用いてろう材3を調製した以外は、実施例26と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例40〕
本比較例では、実施例26で用いた平均粒子径20μmのAg粗粒子に代えて平均粒子径30μmのAu粗粒子を用い、該Au粗粒子の、前記Ag粒子と該Au粗粒子からなる混合粉末全体に対する体積分率を5%としてろう材3を調製した以外は、実施例26と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例41〕
本比較例では、金属箔4として、実施例28で用いたAg箔に代えて、厚さ100μmのSUS箔の表面に蒸着によりAgコーティング層(図示せず)を形成したものを用いた以外は、実施例28と全く同一にして被接合部材(SiCチップ)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例42〕
本比較例では、金属箔4を全く用いずに、200μm厚のスクリーンを用いてろう材3のみを塗布した以外は、実施例28と全く同一にして被接合部材(SiCチップ)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例43〕
本比較例では、実施例30で用いた平均粒子径30μmのAg粗粒子に代えて平均粒子径10μmのAg粗粒子を用いてろう材3を調製した以外は、実施例30と全く同一にして被接合部材(SiCチップ)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例44〕
本比較例では、実施例30で用いた平均粒子径30μmのAg粗粒子の、前記Ag粒子と該Ag粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を5%としてろう材3を調製した以外は、実施例30と全く同一にして被接合部材(SiCチップ)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例45〕
本比較例では、実施例32で用いた平均粒子径20μmのAu粗粒子に代えて平均粒子径10μmのAu粗粒子を用いてろう材3を調製した以外は、実施例32と全く同一にして被接合部材(SiCチップ)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例46〕
本比較例では、実施例32で用いた平均粒子径20μmのAg粗粒子に代えて平均粒子径30μmのAu粗粒子を用い、該Au粗粒子の、前記Ag粒子と該Au粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を5%としてろう材3を調製した以外は、実施例32と全く同一にして被接合部材(SiCチップ)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例47〕
本比較例では、金属箔4として、実施例34で用いたAg箔に代えて、厚さ100μmのSUS箔の表面に蒸着によりAgコーティング層(図示せず)を形成したものを用いた以外は、実施例34と全く同一にして被接合部材(Al2O3板)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例48〕
本比較例では、金属箔4を全く用いずに、200μm厚のスクリーンを用いてろう材3のみを塗布した以外は、実施例34と全く同一にして被接合部材(Al2O3板)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例49〕
本比較例では、実施例36で用いた平均粒子径30μmのAg粗粒子の、前記Ag粒子と該Ag粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を5%としてろう材3を調製した以外は、実施例36と全く同一にして被接合部材(Al2O3板)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例50〕
本比較例では、実施例37で用いた平均粒子径20μmのAu粗粒子に代えて平均粒子径10μmのAu粗粒子を用いてろう材3を調製した以外は、実施例37と全く同一にして被接合部材(Al2O3板)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例51〕
本比較例では、金属箔4として、実施例38で用いたAg箔に代えて、厚さ100μmのSUS箔の表面に蒸着によりAgコーティング層(図示せず)を形成したものを用いた以外は、実施例38と全く同一にして被接合部材(Al2O3板)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例52〕
本比較例では、金属箔4を全く用いずに、200μm厚のスクリーンを用いてろう材3のみを塗布した以外は、実施例38と全く同一にして被接合部材(Al2O3板)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例53〕
本比較例では、実施例40で用いた平均粒子径30μmのAg粗粒子の、前記Ag粒子と該Ag粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を5%としてろう材3を調製した以外は、実施例40と全く同一にして被接合部材(Al2O3板)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例54〕
本比較例では、実施例41で用いた平均粒子径20μmのAu粗粒子に代えて平均粒子径10μmのAu粗粒子を用いてろう材3を調製した以外は、実施例41と全く同一にして被接合部材(Al2O3板)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例55〕
本比較例では、金属箔4として、実施例42で用いたAg箔に代えて、厚さ100μmのSUS箔の表面に蒸着によりAgコーティング層(図示せず)を形成したものを用いた以外は、実施例42と全く同一にして被接合部材(AlN板)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例56〕
本比較例では、金属箔4を全く用いずに、200μm厚のスクリーンを用いてろう材3のみを塗布した以外は、実施例42と全く同一にして被接合部材(AlN板)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例57〕
本比較例では、実施例44で用いた平均粒子径30μmのAg粗粒子の、前記Ag粒子と該Ag粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を5%としてろう材3を調製した以外は、実施例44と全く同一にして被接合部材(AlN板)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例58〕
本比較例では、実施例45で用いた平均粒子径20μmのAu粗粒子に代えて平均粒子径10μmのAu粗粒子を用いてろう材3を調製した以外は、実施例45と全く同一にして被接合部材(AlN板)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例59〕
本比較例では、金属箔4として、実施例46で用いたAg箔に代えて、厚さ100μmのSUS箔の表面に蒸着によりAgコーティング層(図示せず)を形成したものを用いた以外は、実施例46と全く同一にして被接合部材(AlN板)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例60〕
本比較例では、金属箔4を全く用いずに、200μm厚のスクリーンを用いてろう材3のみを塗布した以外は、実施例46と全く同一にして被接合部材(AlN板)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例61〕
本比較例では、実施例48で用いた平均粒子径30μmのAg粗粒子の、前記Ag粒子と該Ag粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を5%としてろう材3を調製した以外は、実施例48と全く同一にして被接合部材(AlN板)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例62〕
本比較例では、実施例49で用いた平均粒子径20μmのAu粗粒子に代えて平均粒子径10μmのAu粗粒子を用いてろう材3を調製した以外は、実施例49と全く同一にして被接合部材(AlN板)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例63〕
本比較例では、金属箔4として、実施例50で用いたAg箔に代えて、厚さ100μmのSUS箔の表面に蒸着によりAgコーティング層(図示せず)を形成したものを用いた以外は、実施例50と全く同一にして被接合部材(Si3N4板)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例64〕
本比較例では、金属箔4を全く用いずに、200μm厚のスクリーンを用いてろう材3のみを塗布した以外は、実施例50と全く同一にして被接合部材(Si3N4板)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例65〕
本比較例では、実施例52で用いた平均粒子径30μmのAg粗粒子の、前記Ag粒子と該Ag粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を5%としてろう材3を調製した以外は、実施例52と全く同一にして被接合部材(Si3N4板)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例66〕
本比較例では、実施例53で用いた平均粒子径20μmのAu粗粒子に代えて平均粒子径10μmのAu粗粒子を用いてろう材3を調製した以外は、実施例53と全く同一にして被接合部材(Si3N4板)1と、被接合部材(Cu板)2との接合を行った。
〔比較例67〕
本比較例では、金属箔4として、実施例54で用いたAg箔に代えて、厚さ100μmのSUS箔の表面に蒸着によりAgコーティング層(図示せず)を形成したものを用いた以外は、実施例54と全く同一にして被接合部材(Si3N4板)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例68〕
本比較例では、金属箔4を全く用いずに、200μm厚のスクリーンを用いてろう材3のみを塗布した以外は、実施例54と全く同一にして被接合部材(Si3N4板)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例69〕
本比較例では、実施例54で用いた平均粒子径30μmのAg粗粒子の、前記Ag粒子と該Ag粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を5%としてろう材3を調製した以外は、実施例54と全く同一にして被接合部材(Si3N4板)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例70〕
本比較例では、実施例57で用いた平均粒子径20μmのAu粗粒子に代えて平均粒子径10μmのAu粗粒子を用いてろう材3を調製した以外は、実施例57と全く同一にして被接合部材(Si3N4板)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例71〕
本比較例では、実施例58で用いた平均粒子径20μmのAu粗粒子に代えて平均粒子径10μmのAu粗粒子を用いてろう材3を調製した以外は、実施例58と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例72〕
本比較例では、実施例59で用いた平均粒子径30μmのAu粗粒子の、前記Ag粒子と該Au粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を5%としてろう材3を調製した以外は、実施例59と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
〔比較例73〕
本比較例では、実施例59で用いた平均粒子径30μmのAu粗粒子の、前記Ag粒子と該Au粗粒子とからなる混合粉末全体に対する体積分率を50%としてろう材3を調製した以外は、実施例59と全く同一にして被接合部材(Siチップ)1と、被接合部材(Al板)2との接合を行った。
Claims (6)
- 互いに熱膨張係数が異なると共に、少なくとも一方は銀よりも熱膨張係数が小さい2種の部材の接合方法であって、
平均粒子径50nm以下の銀粒子と、銀箔または銀よりも縦弾性係数の小さい金属箔とを両部材間に配置して加熱することにより両部材を接合することを特徴とする熱膨張係数が異なる部材の接合方法。 - 請求項1記載の熱膨張係数が異なる部材の接合方法において、
前記金属箔は、表面に銀からなる被覆層を備えることを特徴とする熱膨張係数が異なる部材の接合方法。 - 請求項1または請求項2記載の熱膨張係数が異なる部材の接合方法において、
前記2種の部材のうちの一方の部材がSiまたはSiCからなり、他方の部材がAlまたはCuからなることを特徴とする熱膨張係数が異なる部材の接合方法。 - 互いに熱膨張係数が異なると共に、少なくとも一方は銀よりも熱膨張係数が小さい2種の部材の接合方法であって、
平均粒子径50nm以下の銀粒子と、平均粒子径20μm以上の銀粒子または銀よりも縦弾性係数の小さい金属粒子とからなる混合粉末であり、且つ該銀粒子または金属粒子を該混合粉末全体の10〜40%の範囲の体積分率で含むろう材を、両部材間に配置して加熱することにより両部材を接合することを特徴とする熱膨張係数が異なる部材の接合方法。 - 請求項4記載の熱膨張係数が異なる部材の接合方法において、
前記金属粒子は、表面に銀からなる被覆層を備えることを特徴とする熱膨張係数が異なる部材の接合方法。 - 請求項4または請求項5記載の熱膨張係数が異なる部材の接合方法において、
前記2種の部材のうちの一方の部材がSiまたはSiCからなり、他方の部材がAlまたはCuからなることを特徴とする熱膨張係数が異なる部材の接合方法。
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