JP2008041668A - プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】多機能を有する一つのレイヤを含む前面フィルタを備えることで、従来のプラズマディスプレイパネルに比べて製造費用を減少できるとともに、工程を簡略化できるプラズマディスプレイ及びその方法を提供する。
【解決手段】アドレス電極、誘電体、蛍光体及び隔壁が備えられた第１パネルと、隔壁を挟んで前１パネルと結合され、サステイン電極対、誘電体及び保護膜が備えられた第２パネルと、第２パネル上に直接結合され、導電性物質がパターニングされた電磁波遮蔽膜と、電磁波遮蔽膜の間に充填されたベースポリマとが備えられた前面フィルタと、を含むプラズマディスプレイパネルを構成する。
【選択図】図１

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネルに関し、特に、プラズマディスプレイパネルの前面フィルタに関するものである。

マルチメディア時代の到来とともに、より細密で、より大きく、より自然色に近い色を表現できるディスプレイ装置の登場が要求されている。ところが、４０インチ以上の大画面を構成するには、現在のＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）に限界があり、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ）及びプロジェクションＴＶなどが高画質映像分野への用途拡大のために急速に発展している。

しかしながら、上述したＰＤＰなどの駆動過程では、人体に有害な電磁波などが発生するので、これを遮断するために、画像が表示されるパネルの前面に前面フィルタが備えられている。

以下、上述したディスプレイ装置の一つであるＰＤＰの前面フィルタ及びその問題点について説明する。

ＰＤＰの前面には、ガラス型またはフィルム型の前面フィルタが備えられる。前面フィルタは、電磁波（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ：ＥＭＩ）と近赤外線（Ｎｅａｒ Ｉｎｆｒａｒｅｄ Ｒａｙｓ：ＮＩＲ）を遮蔽し、色補正を行い、外部から入射される光の反射を防止する役割をする膜で構成される。

従来は、ガラス型の前面フィルタが用いられたが、ガラス型の前面フィルタは、外部の衝撃による前面フィルタの損傷を防止できる反面、厚くて重いので、製造費用が上昇するという短所を有する。したがって、上述した問題点を解決するために、フィルム型の前面フィルタが提案された。

前面フィルタに含まれた電磁波遮蔽膜の構成を説明すると、次の通りである。電磁波遮蔽膜は、ベースフィルム上にメッシュ形状に備えられた導電性物質によって構成され、導電性物質はフレームによって支持される。メッシュ形状は、導電性物質をフォトリソグラフィ、エッチング工程、またはスパッタリング法などでガラスまたはＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）ベースフィルム上にパターニングすることで形成される。

しかしながら、従来のプラズマディスプレイパネルの前面フィルタには、次のような問題点があった。

第一に、電磁波遮蔽膜及び近赤外線遮蔽膜などの複数の層からなるので、工程が複雑であり、製造費用が上昇する。

第二に、ガラスまたはフィルム上に備えられ、また前面ガラス上に接合されるので、重さ及び材料費用が増加する。

第三に、プラズマディスプレイパネルの前面ガラスに衝撃が加えられる場合、衝撃吸収力に弱い。

第四に、前面フィルタをプラズマディスプレイパネルの上板ガラス上に接合するとき、格子間隔のずれや格子パターンの変形が頻繁に発生するので、可視光線の透過率が悪化する。

本発明は、上記のような従来の問題点を解決するためのものであり、その目的は、多機能を有する一つのレイヤを含む前面フィルタを備えることで、従来のプラズマディスプレイパネルに比べて製造費用を減少し、工程を簡略化することにある。

上記の目的を達成するために、本発明は、アドレス電極、誘電体、蛍光体及び隔壁が備えられた第１パネルと、前記隔壁を挟んで前記第１パネルと結合され、サステイン電極対、誘電体及び保護膜が備えられた第２パネルと、前記第２パネル上に直接結合され、導電性物質がパターニングされた電磁波遮蔽膜と前記電磁波遮蔽膜の間に充填されたベースポリマが備えられた前面フィルタと、を含んで構成されることを特徴とする。

また、本発明は、アドレス電極、誘電体、蛍光体及び隔壁が備えられた第１パネルと、前記隔壁を挟んで前記第１パネルと結合され、サステイン電極対、誘電体及び保護膜が備えられた第２パネルと、前記第２パネル上に直接結合され、透明導電性物質からなる第１層とベースポリマからなる第２層とが備えられた前面フィルタと、を含んで構成されることを特徴とする。

また、本発明は、第１基板上にアドレス電極、誘電体、隔壁及び蛍光体を形成する段階と、第２基板上にサステイン電極対、誘電体及び保護膜を形成する段階と、前記第２基板を隔壁を挟んで前記第１基板と合着する段階と、前記第２基板上に導電性物質及びベースポリマを備えた前面フィルタを形成する段階と、を含んで構成されることを特徴とする。

本発明によると、多機能を有する一つのレイヤを含む前面フィルタを備えることで、従来のプラズマディスプレイパネルに比べて製造費用を減少できるとともに、工程を簡略化できるという効果がある。

本発明の他の目的、特性及び利点は、図面を参照した各実施例の詳細な説明を通して明らかになるだろう。

以下、上記の目的が具体的に実現される本発明の好適な実施例を、図面を参照して説明する。

図面には、多様な層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示しており、図面に示した各層間の厚さ比は、実際の厚さ比を示すものではない。一方、層、膜、領域、板などの部分が他の部分の「上に」形成または位置すると記載したとき、これは、ある部分が他の部分の真上に形成され、これらが直接接触する場合のみならず、ある部分と他の部分との間に更に他の部分が存在する場合も含むものと理解すべきである。

図１は、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの一実施例の一部を示した図である。ここでは、前面基板１１０と、前面基板１１０上に形成された多機能レイヤ１００とを示している。多機能レイヤ１００は、少なくとも二つ以上の機能を有する層を意味し、従来の前面フィルタにおいて電磁波遮蔽膜、近赤外線遮蔽膜、ネオン遮断染料層及び反射防止膜などの機能を果たしていた各層のうち、少なくとも二つ以上が一つの層に合せられたことを意味する。そして、多機能レイヤ１００は、プラズマディスプレイパネルの前面ガラス上に直接形成されるか、ガラスまたはフィルムに付着されてガラス型またはフィルム型の前面フィルタとして製造される。

多機能レイヤ１００は、導電性物質がパターニングされた電磁波遮蔽膜１００ａと、導電性物質の間に充填されたベースポリマ１００ｂとを含んで構成される。図１において、電磁波遮蔽膜１００ａは、メッシュ形状でパターニングされているが、ストライプタイプでパターニングされてもよい。導電性物質としては、銀（Ａｇ）及び銅（Ｃｕ）などを使用してもよい。ここで、導電性物質は、１０〜３０マイクロメートルの線幅を有する。導電性物質の線幅が３０マイクロメートルより広い場合、蛍光体から放出される光を遮断することができる。そして、導電性物質の線幅が１０マイクロメートルより狭い場合、電磁波遮蔽効果が充分ではない。

また、各ラインは、１５０〜５００マイクロメートル、好ましくは、約３００マイクロメートルだけ離隔して配列すべきである。ここで、各ラインの距離を限定する理由は、各ラインの線幅を限定する理由と同一である。そして、ベースポリマ１００ｂは、近赤外線遮蔽材、ネオン光遮断材及び色補正材などを含んでいる。ベースポリマ１００ｂの厚さは、１０〜３０マイクロメートルであれば充分である。すなわち、ベースポリマ１００ｂの厚さが過度に厚い場合、体積及び重さが増加し、ベースポリマ１００ｂの厚さが過度に薄い場合、上述した近赤外線遮蔽材などを充分に含むことができない。

そして、近赤外線遮蔽材としては、ジイモニウム系染料、フタロシアニン系染料、ナフタロシアニン系染料及び金属錯体系染料のうち、一つの物質を用いてもよい。また、ネオン光遮蔽材としては、ポピリン系化合物及びシアニン系化合物のうち、一つの物質を用いてもよい。そして、ベースポリマ１００ｂは、粘着剤を介して前面基板１１０上に合着されるか、粘着剤を含んで構成される。このとき、粘着剤は、アクリル系であり、ブチルアクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体またはブチルアクリレート／アクリル酸共重合体である。そして、多機能レイヤ１００上には反射防止層（図示せず）が形成されるが、この反射防止層によって、外部光の反射を防止してコントラストを向上させることができる。

図２は、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの一実施例を示した図である。図２には、上述した前面フィルタ（多機能レイヤ）を一つの層１００として簡略に示している。

図２に示すように、本発明に係るプラズマディスプレイパネルにおいて、前面基板１１０上には、通常のＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）からなる一対の透明電極１２０ａ、１３０ａと、通常の金属材料からなるバス電極１２０ｂ、１３０ｂとから構成される表示電極１２０、１３０が一方向に形成され、前面基板１１０の前面には、表示電極１２０、１３０を覆うように上板誘電層１４０及び保護膜１５０が順次形成される。

前面基板１１０は、ディスプレイ基板用ガラスのミリング（ｍｉｌｌｉｎｇ）及びクリーニングなどの加工を通して形成される。ここで、透明電極１２０ａ、１３０ａは、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ―Ｔｉｎ―Ｏｘｉｄｅ）またはＳｎＯ_２などに対して、スパッタリングによるフォトエッチング法またはＣＶＤによるリフトオフ法などを施して形成する。そして、バス電極１２０ｂ，１３０ｂは、銀（Ａg）などを含んで構成される。また、サステイン電極対にはブラックマトリックスが形成されるが、このブラックマトリックスは、低融点ガラス及び黒色顔料などを含んで構成される。

そして、透明電極及びバス電極が形成された前面基板１１０上には、上板誘電層１４０が形成される。ここで、上板誘電層１４０は、透明な低融点ガラスを含んで構成される。そして、上板誘電層１４０上には、酸化マグネシウムなどからなる保護膜１５０が形成され、この保護膜１５０は、放電時に（＋）イオンの衝撃から上板誘電層１４０を保護し、２次電子放出を増加させる役割を果たす。

一方、背面基板２１０の一面には、表示電極１２０、１３０との交差方向に沿ってアドレス電極２２０が形成され、背面基板２１０の前面には、アドレス電極２２０を覆うようにして白色誘電層２３０が形成される。背面基板２１０の前面に形成される白色誘電層２３０は、低融点ガラス及びＴｉＯ_２などのフィラ（充填材）からなる。そして、背面基板２１０の前面に形成される白色誘電層２３０も、印刷法またはフィルムラミネーティング法によって積層された後、焼成工程を経て形成される。

白色誘電層２３０上には、各アドレス電極２２０の間に隔壁２４０が配置される。そして、隔壁２４０には、ストライプ型、ウェル型またはデルタ型などがあり得る。各隔壁２４０の間には、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の蛍光体層２５０が形成される。

背面基板２１０上のアドレス電極２２０と、前面基板１１０上の表示電極１２０、１３０との交差地点は、それぞれ放電セルを構成する部分となる。アドレス電極２２０と一つの表示電極１２０または１３０との間にアドレス電圧を印加してアドレス放電を行うことで、放電が起きたセルに壁電圧を形成し、再び一対の表示電極１２０、１３０の間に維持電圧を印加することで、壁電圧が形成されたセルに維持放電を発生させる。維持放電によって発生する真空紫外線が該当の蛍光体を励起及び発光させることで、透明な前面基板１１０を通して可視光が放出され、プラズマディスプレイパネルの画面が具現される。

図３は、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの他の実施例の一部を示した図である。ここでも、前面基板１１０と、前面基板１１０上に形成された多機能レイヤ１００とを示している。しかしながら、上述した実施例とは異なって、前面基板１１０上にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電性物質が積層されて電磁波遮蔽膜１００ａを形成する。そして、電磁波遮蔽膜１００ａ上には、ベースポリマ１００ｂが積層される。上述したベースポリマ１００ｂの組成などは、上述した実施例と同一である。また、上述したように、電磁波遮蔽膜１００ａは、前面基板１１０の他にもガラスまたはフィルム上に形成される。

上述した本発明に係るプラズマディスプレイパネルの各実施例の作用を説明すると、次の通りである。

多機能を有する一つのレイヤを含む前面フィルタを備えることで、従来のプラズマディスプレイパネルに比べて製造費用を減少し、工程を簡略化することができる。そして、前面フィルタは、前面ガラス上に直接形成することもできる。

以下、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法の一実施例を説明する。

まず、前面基板上に透明電極及びバス電極を形成する。ここで、前面基板は、ディスプレイ基板用ガラスまたはソーダ石灰ガラスをミリング及びクリーニングして製造される。そして、透明電極は、ＩＴＯまたはＳｎＯ_２などに対して、スパッタリングによるフォトエッチング法またはＣＶＤによるリフトオフ法などを施して形成する。そして、バス電極は、銀（Ａｇ）などの材料に、スクリーン印刷法または感光性ペースト法などを施して形成する。また、サステイン電極対にはブラックマトリックスが形成されるが、このブラックマトリックスは、低融点ガラス及び黒色顔料などに、スクリーン印刷法または感光性ペースト法を施して形成してもよい。

次いで、透明電極及びバス電極が形成された前面基板上に誘電体を形成する。ここで、誘電体は、低融点ガラスなどを含む材料を、スクリーン印刷法やコーティング法またはグリーンシートのラミネーティング法などで積層することにより形成する。そして、誘電体上に保護膜を蒸着する。ここで、保護膜は、酸化マグネシウムなどに、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法またはイオンめっき法などを施して形成することができる。

そして、背面基板上にアドレス電極を形成する。ここで、背面基板は、ディスプレイ基板用ガラスまたはソーダ石灰ガラスのミリングまたはクリーニングなどの加工を通して形成する。アドレス電極は、銀（Ａｇ）などに、スクリーン印刷法、感光性ペースト法またはスパッタリング後のフォトエッチング法などを施して形成する。そして、アドレス電極が形成された背面基板上に誘電体を形成する。下板に形成された誘電体は、低融点ガラス及びＴｉＯ_２などのフィラを含む材料に、スクリーン印刷法またはグリーンシートのラミネーティング方法などを施して形成する。ここで、背面基板の誘電体は、プラズマディスプレイパネルの輝度を増加させるために白色を示すことが好ましい。

次いで、各放電セルを区分するための隔壁を形成する。このとき、隔壁材料は、母相ガラス及び充填材を含んで構成される。母相ガラスは、ＰｂＯ、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３及びＡｌ_２Ｏ_３を含んで構成され、充填材は、ＴｉＯ_２及びＡｌ_２Ｏ_３を含んで構成される。

そして、隔壁上にブラックトップ材料を塗布する。ここで、ブラックトップ材料は、ソルベント、無機パウダ及び添加剤を含んで構成される。そして、無機パウダは、ガラスフリット及びブラック顔料を含んで構成される。次いで、隔壁材料及びブラックトップ材料をパターニングすることで、隔壁及びブラックトップを形成する。

このとき、隔壁材料及びブラックトップ材料のパターニング工程は、マスクを被せて露光した後、現像して行われる。すなわち、アドレス電極と対応する部分にマスクを位置させて露光すると、現像及び焼成工程後に光の照射を受けた部分のみが残留し、隔壁及びブラックトップを形成する。ここで、ブラックトップ材料にフォトレジスト成分を含ませると、隔壁及びブラックトップ材料のパターニングが容易に行える。また、ブラックトップ材料及び隔壁材料を同時に焼成すると、隔壁材料内の母相ガラスとブラックトップ材料内の無機パウダとの結合力が増大し、耐久性の強化を期待することができる。

次いで、下板誘電体の放電空間に接する面及び隔壁の側面に蛍光体を塗布する。各放電セルによってＲ、Ｇ、Ｂの蛍光体が順に塗布されるが、蛍光体は、スクリーン印刷法または感光性ペースト法で塗布される。

そして、隔壁を挟んで上部パネルと下部パネルとを接合してシーリングし、内部の不純物などを排気した後、放電ガスを注入する。

次いで、前面基板上に前面フィルタを形成する工程を説明する。ここで、前面フィルタは、上部パネルと下部パネルの合着工程後に形成するか、または、上部パネル上に前面フィルタを形成した後で前記上部パネルを下部パネルと合着する。

まず、プラズマディスプレイパネルの前面基板上に電磁波遮蔽膜を形成するが、この電磁波遮蔽膜は、導電性物質をパターニングして形成することが好ましい。そして、導電性物質は、メッシュタイプまたはストライプタイプでパターニングすることが好ましい。次いで、パターニングされた導電性物質の間にベースポリマを形成する。このとき、ベースポリマは、スピンコーティングまたはバーコーティング法などで形成される。そして、上述したように、ベースポリマは、多機能レイヤからなることが好ましく、本実施例では、ＮＩＲ遮蔽材、ネオン光遮蔽材及び色補正材がミキシングされる。そして、ベースポリマを焼成する。本実施例は、上述したプラズマディスプレイパネルの製造方法である。したがって、ベースポリマは、１０〜３０マイクロメートルの厚さで形成され、粘着剤を含んで構成される。そして、ベースポリマ上には、反射防止層が形成されることもある。そして、それぞれの組成などは、上述したプラズマディスプレイパネルと同一である。

上述したように、粘着剤は、ベースポリマに含まれて形成されるか、または、別途、層をなして形成される。別途、層をなす場合の粘着剤の形成工程を説明すると、次の通りである。

粘着剤は、紫外線照射装置及び攪拌装置を有する反応容器に、主モノマーアクリル酸２−エチルヘキシルを７０〜８０％、主モノマーと共重合可能なエチレン不飽和単量体アクリル酸２−ヒドロキシエチルを２０〜３０％、光重合開始剤２．２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンを０．０１〜０．５％入れた後、紫外線照射によって重合処理することで、重合率が約１０ｗｔ％である重合体と単量体の混合物液体を製造する。そして、上述した工程によって製造された液体に、トリメチロールプロパントリアクリレートを０．２％、及び２．２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンを０．１％配合することで光重合性組成物を製造する。

次いで、上述した光重合性組成物をＤＲ−１０１またはＰＳＸなどの材料上に塗布し、その上にカバー用のポリエステル系異型フィルムを被せた後、約２，０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して光重合させることで、粘着剤を形成する。

粘着剤を製造する他の実施例として、シリコン粘着剤の製造方法がある。シリコン粘着剤の実施例として、ポリジメチルシロキサンを４３．１％含む基材に、付着力を増加させる物質を含む所定厚の膜を形成した後、乾燥工程を通して基材との付着力を得る方法がある。

シリコンＰＳＡ（Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｐｒｅｓｓｕｒｅ Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ Ａｄｈｅｓｉｖｅ）の製造方法の一実施例を説明すると、次の通りである。まず、（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ_４と（ＨＯ）_αＳｉＯ_{（４−α）／２}が０．７：１のモル比で含まれ、ヒドロキシルラジカル成分が１％未満であるメチルポリシロキサンをキシレンに６０％の濃度で溶かした溶液と、ビニルラジカル含量が０．０３％未満で、粘度が１０ｋＰａ．Ｓ以上で、ジメチルビニルシロキシ末端を有するポリジメチルシロキサンガムと、Ｍｅ_３ＳｉＯ（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３（ＭｅＨＳｉＯ）_５ＳｉＭｅ_３と、フェニルブチノール（ｐｈｅｎｙｌｂｕｔｙｎｏｌ）（反応抑制剤）と、キシレンとを準備する。次いで、上述した５種類の試料を５５：２５：０．４：０．０６：５７．５の割合で混合する。そして、上述した混合溶液に塩化白金酸−ビニルシロキサン錯体（ｃｈｌｏｒｏ―ｐｌａｔｉｎｉｃ ａｃｉｄ―ｖｉｎｙｌｓｉｌｏｘａｎｅ ｃｏｍｐｌｅｘ）をキシレン溶液の０．９ｗｔ％で添加するが、このとき、ＳｉＨとＳｉＶｉの比率は、２０：１にする。次いで、（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ_１／２と（Ｒ_２Ｏ）_αＳｉＯ_{（４−α）／２}が１．２：１のモル比で組成され、ヒドロキシルラジカルとエトキシラジカルの含量が１％未満であるメチルポリシロキサンをキシレンに７０％の濃度で溶かした溶液を作り、これに上述した５種類の溶液の混合溶液を５〜１５％混合することでシリコンＰＳＡを製造する。

以下、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの前面フィルタの製造方法に関する他の実施例を説明する。

まず、前面基板上にＩＴＯをスパッタリングして電磁波遮蔽膜を形成した後、ＩＴＯ上にベースポリマを形成して焼成することで、前面フィルタを完成する。なお、ベースポリマの組成などは、上述した実施例と同一である。そして、ＩＴＯをスパッタリングして電磁波遮蔽膜が別途、層として形成される点のみが異なる。

以上説明した内容を通して、当業者であれば、本発明の技術思想を逸脱しない範囲で多様な変更及び修正が可能であることを理解できるだろう。

したがって、本発明の技術的範囲は、実施例に記載された内容によって限定されるものでなく、特許請求の範囲によって定められるべきである。

本発明に係るプラズマディスプレイパネルの一実施例の一部を示した図である。 本発明に係るプラズマディスプレイパネルの一実施例を示した図である。 本発明に係るプラズマディスプレイパネルの他の実施例の一部を示した図である。

符号の説明

１００ 多機能レイヤ
１００ａ 電磁波遮蔽膜
１００ｂ ベースポリマ
１１０ 前面基板

Claims (20)

1. アドレス電極、誘電体、蛍光体及び隔壁が備えられた第１パネルと、
   前記隔壁を挟んで前記第１パネルと結合され、サステイン電極対、誘電体及び保護膜が備えられた第２パネルと、
   前記第２パネル上に直接結合され、導電性物質がパターニングされた電磁波遮蔽膜と、前記電磁波遮蔽膜の間に充填されたベースポリマとが備えられた前面フィルタと、を含んで構成されることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
2. 前記ベースポリマは、
   近赤外線遮蔽材、色補正材及びネオン光遮蔽材のうち、少なくとも一つを含んで構成されることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
3. 前記近赤外線遮蔽材は、ジイモニウム系染料、フタロシアニン系染料、ナフタロシアニン系染料及び金属錯体系染料から選択されることを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
4. 前記ネオン光遮蔽材は、ポピリン系化合物及びシアニン系化合物から選択されることを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
5. 前記ベースポリマ上に形成された反射防止層をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
6. 前記ベースポリマは、粘着剤をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
7. 前記粘着剤は、アクリル系であり、ブチルアクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体またはブチルアクリレート／アクリル酸共重合体であることを特徴とする請求項６に記載のプラズマディスプレイパネル。
8. 前記電磁波遮蔽膜は、１０〜３０マイクロメートルの線幅を有することを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
9. 前記ベースポリマは、厚さが１０〜３０マイクロメートルであることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
10. 前記前面フィルタは、フィルム型またはガラス型のフィルタであることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
11. アドレス電極、誘電体、蛍光体及び隔壁が備えられた第１パネルと、
    前記隔壁を挟んで前記第１パネルと結合され、サステイン電極対、誘電体及び保護膜が備えられた第２パネルと、
    前記第２パネル上に直接結合され、透明導電性物質からなる第１層と、ベースポリマからなる第２層とが備えられた前面フィルタと、を含んで構成されることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
12. 前記透明導電性物質は、ＩＴＯであることを特徴とする請求項１１に記載のプラズマディスプレイパネル。
13. 第１基板上にアドレス電極、誘電体、隔壁及び蛍光体を形成する段階と、
    第２基板上にサステイン電極対、誘電体及び保護膜を形成する段階と、
    前記第２基板を、隔壁を挟んで前記第１基板と合着する段階と、
    前記第２基板上に導電性物質及びベースポリマを備えた前面フィルタを形成する段階と、を含んで構成されることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
14. 前記前面フィルタを形成する段階は、前記第２基板上に導電性物質をパターニングして電磁波遮蔽膜を形成し、前記電磁波遮蔽膜の間にベースポリマを注入して前面フィルタを形成する段階を含んで構成されることを特徴とする請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
15. 前記電磁波遮蔽膜は、前記第２基板上にマスクを被せ、スパッタリングしてパターニングされていることを特徴とする請求項１４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
16. 前記電磁波遮蔽膜は、インクジェット法またはオフセット法の印刷法で形成されていることを特徴とする請求項１４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
17. 前記前面フィルタを形成する段階では、前記第２基板上に透明導電性物質からなる第１層を形成し、前記第１層上にベースポリマからなる第２層を形成することを特徴とする請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネル。
18. 前記前面フィルタは、粘着剤を介して前記第２基板と結合されることを特徴とする請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
19. 前記前面フィルタは、フィルム型またはガラス型で前記第２基板と結合されることを特徴とする請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
20. 前記ベースポリマ上に反射防止層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。