JP2008040005A - Method of manufacturing polymer optical waveguide - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、高分子光導波路の製造方法に係わり、特に、加工時間の短縮と低コスト化を図った高分子光導波路の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a polymer optical waveguide, and more particularly, to a method for manufacturing a polymer optical waveguide in which processing time is reduced and costs are reduced.
従来から、例えばフォトリソグラフィ法を用いた代表的な光導波路の製造方法では、導波路コアのコアパターンをパターニング、露光・現像、エッチングなどの様々な薄膜形成プロセスにより作製している。このため、複雑で多くの工程が必要であり、作製コストが高騰するという大きな問題があった。これに対して、シリコーンゴム鋳型を用いたパターン複製法により光導波路を作製する方法がある(例えば、特許文献1参照。)。 Conventionally, in a typical optical waveguide manufacturing method using, for example, a photolithography method, a core pattern of a waveguide core is manufactured by various thin film forming processes such as patterning, exposure / development, and etching. For this reason, there is a big problem that a complicated and many process is required and the production cost is increased. On the other hand, there is a method of producing an optical waveguide by a pattern replication method using a silicone rubber mold (for example, see Patent Document 1).
これらの従来の光導波路の作製技術においては、導波路コアの端面処理をダイシングソーによる切削加工により行うことが一般的である。特に、平面実装した面型受発光素子と光導波路を光結合するために、先端がV字あるいはレ字の形状をなすダイシングブレードを用いたダイシングソーの切削加工により導波路コアの端部を45度ミラー面に形成し、光導波路の下面と受発光素子とを接着することで光学結合が行われる。
ところで、従来の高分子光導波路の製造方法では、導波路コア端部の加工時間がかかり、加工コストが高騰しやすいという問題を有している。つまり、従来の高分子光導波路では、導波路コアの端部を概ね導波光波長の1/10以下の面粗さに仕上げる必要がある。そのため、ブレードを用いたダイシングソーによる精密な切削加工を行うことが必要であり、更には導波路コア端面の研磨加工が別途に必要となる。この種のダイシングソーによる切削加工では、ブレードの送り速度によって加工時間が決まることとなる。しかしながら、ブレードの送り速度を上げ過ぎると、切削面の粗いものしか得られなくなり、光の散乱要因となるので、導波路コアの切削面を平滑に加工するためには、ブレードの送り速度を無闇に上げることは困難であった。また、45度ミラー面を含む導波路コアでは、45度ミラー面用のブレードの他にも、垂直切り落とし用のブレードが別途に必要となる。このため、ブレードの段取り替えも含めて、ダイシング工程における加工時間が増える要因ともなっていた。 By the way, the conventional polymer optical waveguide manufacturing method has a problem that it takes time to process the waveguide core end, and the processing cost tends to increase. That is, in the conventional polymer optical waveguide, it is necessary to finish the end portion of the waveguide core to a surface roughness of approximately 1/10 or less of the waveguide light wavelength. Therefore, it is necessary to perform precise cutting with a dicing saw using a blade, and further, polishing of the end face of the waveguide core is required separately. In this type of dicing saw cutting, the processing time is determined by the blade feed speed. However, if the blade feed rate is increased too much, only a rough cutting surface can be obtained, which causes light scattering. Therefore, in order to process the waveguide core cutting surface smoothly, the blade feed rate must be set to zero. It was difficult to raise. In addition, in the waveguide core including the 45-degree mirror surface, in addition to the blade for the 45-degree mirror surface, a blade for vertical cut-off is required separately. For this reason, the processing time in the dicing process, including the setup change of the blade, has been a factor.
一方、10mm長以下のような小さな導波路ではなく、100mm長以上の大きな光導波路の場合は、必ずしも光学端面並みの面粗さを必要としない導波路フィルムの外形を切り出して所定の寸法に加工すると、導波路コア端部の加工と相まって、ブレードを用いたダイシングソーによる加工時間がかかり、加工コストが高騰しやすいという問題を有している。つまり、ダイシングソーのブレードの送り速度を増速し過ぎると、切断部分の温度が上昇し、熱応力が大きくなる。その結果、高分子光導波路の切断面が溶けて、撓みや反り等の変形を発生してしまい、ブレードにも汚れが付着することとなり、常に安定した品質を得にくいという問題があった。 On the other hand, in the case of a large optical waveguide of 100 mm length or more rather than a small waveguide of 10 mm length or less, the outer shape of the waveguide film that does not necessarily require the same surface roughness as the optical end face is cut out and processed into a predetermined dimension Then, coupled with the processing of the end portion of the waveguide core, there is a problem that processing time by a dicing saw using a blade is long, and the processing cost is likely to increase. That is, if the feed rate of the blade of the dicing saw is increased too much, the temperature of the cut portion rises and the thermal stress increases. As a result, the cut surface of the polymer optical waveguide is melted to cause deformation such as bending and warping, and dirt is also attached to the blade, which makes it difficult to always obtain stable quality.
本発明は、上記従来の課題を解消するためになされたものであり、加工時間の短縮を図ることができるとともに、低コストであり、安定して大量生産することを可能とした高分子光導波路の製造方法を提供することを目的とするものである。 The present invention has been made in order to solve the above-described conventional problems, and can reduce the processing time, and is a polymer optical waveguide that can be stably mass-produced at low cost. An object of the present invention is to provide a manufacturing method.
本発明は、導波路コアのパターン形状に対応する凹溝部を有する鋳型を用いること、前記凹溝部の両端部を除いて、前記鋳型の成形面側に下クラッドとなるフィルム材を密着すること、前記凹溝部の一端部に導波路コア成形用の硬化性樹脂を滴下して、前記凹溝部の他端部を介して減圧吸引し、前記凹溝部内に前記硬化性樹脂を充填すること、及び前記硬化性樹脂の硬化後、前記鋳型を前記フィルム材から剥離し、前記フィルム材と前記端部に対応する形態を有する導波路コアとを一体成形することを含んでなることを特徴とする高分子光導波路の製造方法にある。 The present invention uses a mold having a groove portion corresponding to the pattern shape of the waveguide core, except for both end portions of the groove portion, and tightly adheres a film material serving as a lower clad to the molding surface side of the mold, Dropping a curable resin for forming a waveguide core into one end of the groove, suctioning the pressure through the other end of the groove, and filling the curable resin in the groove, and After the curing of the curable resin, the mold is peeled off from the film material, and the film material and a waveguide core having a form corresponding to the end portion are integrally formed. It exists in the manufacturing method of a molecular optical waveguide.
上記構成によると、鋳型の凹溝部の両端部に充填された硬化性樹脂の一部が、鋳型上に密着したフィルム材の端部に一体化すると同時に、その一体化した硬化性樹脂上に導波路コア端部を一体形成することができるようになる。これにより、フィルム材に凹溝部の端部に対応する形態を有する導波路コアを一体成形することができるので、導波路コア端部のダイシング工程を排除することができるようになる。加工時間の短縮と低コスト化とを達成することができるとともに、高品位の成形によって安定して大量生産することが可能となる。 According to the above configuration, a part of the curable resin filled in the both end portions of the concave groove portion of the mold is integrated with the end portion of the film material that is in close contact with the mold, and at the same time, is guided onto the integrated curable resin. The waveguide core end can be formed integrally. Thereby, since the waveguide core which has a form corresponding to the edge part of a ditch | groove part can be integrally formed in a film material, it becomes possible to exclude the dicing process of the waveguide core edge part. Reduction of processing time and cost reduction can be achieved, and stable mass production can be achieved by high-quality molding.
本発明の高分子光導波路の製造方法にあっては、前記凹溝部の一端部と対応する部位に前記硬化性樹脂を充填する樹脂充填口を有するとともに、前記凹溝部の他端部と対応する部位に前記硬化性樹脂を減圧吸引する樹脂吸引口を有する補助鋳型を用いること、前記補助鋳型と前記鋳型とを、前記フィルム材を介して密着すること、及び前記樹脂充填口及び前記樹脂吸引口を介して前記硬化性樹脂の充填を行うことにより、導波路コア成形用の硬化性樹脂の充填を容易に行うことができるとともに、下クラッドとなるフィルム材の表面を平坦に仕上げることができる。 In the method for producing a polymer optical waveguide of the present invention, the portion corresponding to one end of the concave groove has a resin filling port for filling the curable resin, and corresponds to the other end of the concave groove. Using an auxiliary mold having a resin suction port for sucking the curable resin under reduced pressure at a site, closely contacting the auxiliary mold and the mold via the film material, and the resin filling port and the resin suction port By filling the curable resin via the guide, the curable resin for forming the waveguide core can be easily filled, and the surface of the film material serving as the lower cladding can be finished flat.
前記補助鋳型の好適な一例としては、前記フィルム材の外周部を押圧して前記鋳型と密着する構造を用いることができる。これにより、空気が型内に混入するのを防止することができる。 As a suitable example of the auxiliary mold, a structure in which the outer peripheral portion of the film material is pressed to be in close contact with the mold can be used. Thereby, it can prevent that air mixes in a type | mold.
前記補助鋳型の好適な他の一例としては、前記凹溝部の端部と対応する部位にマイクロレンズ形状を有する型構造を用いることができる。これにより、簡単な製法で、レンズ機能を付加することができるようになる。 As another preferred example of the auxiliary mold, a mold structure having a microlens shape at a portion corresponding to the end of the concave groove can be used. Thereby, a lens function can be added by a simple manufacturing method.
前記鋳型の好適な一例としては、前記凹溝部が所定の間隔をおいて並列的に複数個形成された型構造を用いることができる。前記フィルム材としては、前記複数個の凹溝部の端部を横断する部位に、上下に貫通した長孔を形成したフィルム材を用いることができる。これにより、アレイ構成の導波路コアを簡単に形成することができる。 As a preferred example of the mold, a mold structure in which a plurality of the concave groove portions are formed in parallel at a predetermined interval can be used. As said film material, the film material which formed the long hole penetrated up and down in the site | part which traverses the edge part of the said several groove part can be used. Thereby, the waveguide core of the array configuration can be easily formed.
前記鋳型の好適な他の一例としては、前記凹溝部の凹端面が、前記導波路コア内を伝搬した光を前記フィルム材の方向へ折り返すミラー形状を有する型構造を用いることができる。これにより、例えば導波路コアの両端部に所定の角度をなすミラー面を有する埋め込み構造の導波路フィルムを簡単に形成することができる。受発光素子に対する集光性能を高めることができる。 As another preferred example of the mold, a mold structure in which the concave end surface of the concave groove portion has a mirror shape that folds the light propagating through the waveguide core in the direction of the film material can be used. Thereby, for example, a waveguide film having a buried structure having mirror surfaces having a predetermined angle at both ends of the waveguide core can be easily formed. The light condensing performance with respect to the light emitting / receiving element can be enhanced.
更に本発明によると、前記導波路コアのミラー形状部分に金属薄膜を着膜し、上クラッドとなる硬化性樹脂を前記導波路コアの全面に覆って硬化することができる。これにより、安定した導波性能を発揮することができるとともに、上クラッドの形成が容易となる。 Furthermore, according to the present invention, a metal thin film can be deposited on the mirror-shaped portion of the waveguide core, and the curable resin serving as the upper cladding can be covered and cured over the entire surface of the waveguide core. As a result, stable waveguide performance can be exhibited and the formation of the upper clad is facilitated.
更に本発明にあっては、前記高分子光導波路の外周部を打ち抜き加工することが好適である。導波路コアの両端部に所定の角度をなすミラー部分を作製することができるので、ダイシングブレードを傾斜面用と垂直切り落とし用に付け替える手間や労力などを軽減することができるようになり、ダイシング工程時間を削減することができる。 Furthermore, in the present invention, it is preferable to punch the outer peripheral portion of the polymer optical waveguide. Since the mirror part which makes a predetermined angle at both ends of the waveguide core can be manufactured, it becomes possible to reduce the labor and labor of changing the dicing blade for the inclined surface and for the vertical cut-off, and the dicing process Time can be saved.
本発明は、加工時間の短縮と低コスト化を達成することができるとともに、安定して大量生産することができる。 The present invention can achieve a reduction in processing time and cost reduction, and stable mass production.
以下、本発明の好適な実施の形態を、図1及び図2に基づいて具体的に説明する。 Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be specifically described with reference to FIGS. 1 and 2.
(高分子光導波路の製造方法)
図1は、高分子光導波路の作製工程を概念的に示しており、図2は、図1の作製手順により製造された導波路フィルムの一構造例を示している。
(Method for producing polymer optical waveguide)
FIG. 1 conceptually shows a polymer optical waveguide manufacturing process, and FIG. 2 shows a structural example of a waveguide film manufactured by the manufacturing procedure of FIG.
本実施の形態における高分子光導波路の製造方法は、本出願人等が先に提案した特開2004−86144号公報及び特開2004−109927号公報等の高分子光導波路の製造技術を改良したものである。これらの製造技術は、導波路コア形成用の凹溝部を有するポリジメチルシロキサン等のシリコーンゴム製の鋳型を用いて、導波路フィルムを製造するものである。その鋳型における導波路コア形成用の凹溝部の両端部には、導波路コア端部となる部分を経て鋳型の側方に開放した開口端がそれぞれ形成されている。その凹溝部の開口端の一方は、硬化性樹脂を充填する充填口として利用されるとともに、その凹溝部の開口端の他方は、充填した硬化性樹脂を減圧吸引する吸引口として利用されている。そのため、作製された導波路コアのコアパターンには、余剰な部分が残存するとともに、ミラー面となる導波路コア端部自体が所要な形態に形成されないので、導波路コア端部となる部位にダイシング、場合によってはダイシングに加えて研磨加工を行う必要があった。 The manufacturing method of the polymer optical waveguide in the present embodiment has improved the manufacturing technology of the polymer optical waveguide such as Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2004-86144 and 2004-109927 previously proposed by the present applicants. Is. In these manufacturing techniques, a waveguide film is manufactured by using a mold made of silicone rubber such as polydimethylsiloxane having a groove for forming a waveguide core. Open ends that are open to the side of the mold are formed at both ends of the groove for forming the waveguide core in the mold. One of the open ends of the concave groove is used as a filling port for filling the curable resin, and the other open end of the concave groove is used as a suction port for sucking the filled curable resin under reduced pressure. . For this reason, the core pattern of the manufactured waveguide core has an excessive portion remaining, and the waveguide core end itself that becomes the mirror surface is not formed in a required form. In addition to dicing, in some cases, it was necessary to perform polishing in addition to dicing.
これに対して、この実施の形態における高分子光導波路の製造方法にあっては、図1に示すように、導波路コア端部を含む導波路コア形成用の凹溝部11を有する鋳型10を用いている。これにより、ミラー面となる導波路コア端部の形成と同時に導波路コア61を形成することが可能となる。鋳型10の材質としては、本出願人等が先に提案した鋳型と同一の材料を使用することができる。
On the other hand, in the polymer optical waveguide manufacturing method in this embodiment, as shown in FIG. 1, a
この実施の形態における高分子光導波路の製造方法では、鋳型10の凹溝部11におけるミラー面形成用の両端部を残して、鋳型10の成形面側に下クラッドとなるフィルム材30を密着させることで、その両端部をコア成形用硬化性樹脂の樹脂充填口及び樹脂吸引口の通路として利用することができるとともに、導波路フィルム60の下クラッドとなるフィルム材30側から硬化性樹脂の充填及び吸引を行うことができる。
In the method of manufacturing the polymer optical waveguide in this embodiment, the
鋳型10の凹溝部11の両端部に充填された硬化性樹脂の一部は、図1及び図2に示すように、鋳型10上に密着したフィルム材30の端部に一体化すると同時に、その一体化した硬化性樹脂上に導波路コア端部を一体化することができるようになる。つまり、鋳型10の凹溝部11の一端部に硬化性樹脂を滴下して、その凹溝部11及び凹溝部11の他端部を経由して減圧吸引し、凹溝部11内に硬化性樹脂を充填硬化する。その硬化性樹脂の硬化後、鋳型10をフィルム材30から剥離することで、フィルム材30と導波路コア端部を有する導波路コア61とを一体成形することができる。形成された導波路コア端面の面粗さは、導波路コア61の他の部分の面粗さと同様に、鋳型10における凹溝部11の内面の面粗さを、そのまま転写することができるようになり、導波路コア端部のダイシングや研磨加工が不要となるという利点を有している。
As shown in FIGS. 1 and 2, a part of the curable resin filled in both end portions of the
以上の製造方法によると、導波路コア端面の加工処理を排除することができるようになるが、導波路コア端部には、コア成形用硬化性樹脂の流路が残存することとなるので、この残存部分において導波光閉じ込め構造を確保することが肝要である。そのため、フィルム材30により導波路コア端部を極力覆うことが好適である。しかしながら、フィルム材30により導波路コア端部を完全に覆ってしまうと、鋳型10の凹溝部11内に硬化性樹脂を充填することができなくなる。
According to the above manufacturing method, it becomes possible to eliminate the processing of the waveguide core end face, but the core forming curable resin flow path remains at the waveguide core end, It is important to secure a guided light confinement structure in this remaining portion. Therefore, it is preferable to cover the waveguide core end with the
そこで、本実施の形態における高分子光導波路の製造方法にあっては、図1に示すように、鋳型10のパーティング面とフィルム材30とを密着した状態で、フィルム材30の端縁及び鋳型10の凹溝部11の凹端縁間に形成された隙間を樹脂充填口または樹脂吸引口の通路として用いることができる。その隙間としては、10〜200μm程度に設定することが好ましく、望ましくは20〜100μm程度が特に有利である。
Therefore, in the polymer optical waveguide manufacturing method according to the present embodiment, as shown in FIG. 1, the edge of the
樹脂充填口及び樹脂吸引口は、完成した導波路フィルム60(図2)の下面端部となる位置に対応して配される。導波路フィルム60を光素子などの電子部品などに実装する場合は、導波路フィルム60の下面は平坦であることが望ましい。そこで、少なくとも鋳型10の凹溝部11を覆う大きさを有するシート状の補助鋳型20を用いることが好適である。この補助鋳型20としては、鋳型10の凹溝部11の一端部と対応する部位に、硬化性樹脂を充填する樹脂充填口21を形成することができるとともに、その他端部と対応する部位に硬化性樹脂を減圧吸引する樹脂吸引口22を形成することができる。
The resin filling port and the resin suction port are arranged corresponding to the position which becomes the lower surface end portion of the completed waveguide film 60 (FIG. 2). When the
この補助鋳型20は、鋳型11と同様に、コア成形用硬化性樹脂の硬化後に導波路フィルム60から剥離する必要がある。このため、補助鋳型20の材料としては、少なくともコア成形用硬化性樹脂と接する部分に鋳型10と同様の材質を使用することが好ましく、例えばポリジメチルシロキサンにより構成することが特に望ましい。
Similar to the
鋳型10及び補助鋳型20の成形面以外の不要なパーティング面部分には、硬化性樹脂が多く流れ込まないようにすることが肝要である。鋳型10及び補助鋳型20を密着した状態で、鋳型10の凹溝部11の端部から補助鋳型20の樹脂充填口21または樹脂吸引口22に連通する流路を密閉することができる構成が望ましい。その密閉構造の一例としては、例えば補助鋳型20に形成された流路を閉鎖する型構造、あるいは樹脂充填口21または樹脂吸引口22と対応する部位に貫通して形成された長孔31を有するフィルム材30を用いることができる。このような構造をもつ補助鋳型20あるいはフィルム材30を使用することにより、補助鋳型20と鋳型10とをフィルム材30を介して密着した状態で、樹脂充填口21、樹脂充填口側の鋳型10及び補助鋳型20間に生じる通路、凹溝部11、樹脂吸引口21側の鋳型10及び補助鋳型20間に生じる通路、樹脂吸引口22を通って、導波路コア61となる鋳型10の凹溝部11に硬化性樹脂を充填することができる。これにより、アレイ構成の導波路コア61を形成することができる。この場合は、導波路フィルム60の導波路コア端部の下面は、補助鋳型20の成形面形状を反映したものとなる。このため、補助鋳型20の成形面部分を平坦に仕上げることによって、導波路フィルム60の下面を平坦にすることができる。
It is important to prevent a large amount of curable resin from flowing into unnecessary parting surface portions other than the molding surfaces of the
ところで、導波路コア端部を直角に形成するのではなく、斜め45度に傾斜したミラー面62に形成することにより、導波路コア61内を進行する伝搬光を導波路フィルム60の面外方向に折り返すことができる。折り返された伝搬光の導波路フィルム先端側にVCSEL、LED、PDなどの平面型受発光素子を配置することによって、導波路フィルム60及び受発光素子を平面実装することが可能となる。
By the way, the end of the waveguide core is not formed at a right angle, but is formed on the
上記製造方法で作製された高分子光導波路は、下クラッドとなるフィルム材30上に導波路コア61のコアパターンが形成された導波路フィルムとなる。このままでも、導波路コアパターンの上面及び側面を空気クラッドとした導波光閉じ込め構造が成立するが、安定した導波性能を発揮するためには、導波路コア全体をフィルム材30と同一の屈折率を有するクラッドにて埋め込む構造が望ましい。その埋め込み構造でも、上述の45度ミラー部分の機能を発揮するために、メタルマスク40を用い、金属蒸着手段により45度ミラー部分に反射率の高い金属材を着膜した後、上クラッドとなる硬化性樹脂で導波路コア全体を覆って硬化することができる。着膜金属材としては、例えばアルミ、金、銀、チタンなどの各種の金属が好適に用いられる。メタルマスク40としては、複数本の導波路コアごとに、45度ミラー面に対応した小さな貫通孔を複数個設けたものを用いることができる。それ以外にも、1つの長い貫通長孔構造をもつメタルマスク40を用いることができる。そのメタルマスク40の貫通長孔により複数本の導波路コア61をまとめて着膜してもよい。なお、45度ミラー部分以外に着膜される金属は、受発光素子が正しい位置に実装される限り悪影響を及ぼすことはない。
The polymer optical waveguide produced by the above production method becomes a waveguide film in which the core pattern of the
上記製造方法で作製された45度ミラー面を両端にもつ埋め込み構造の導波路フィルム60において、45度ミラー面の下部位置に実装される受発光素子に対してマイクロレンズ構造を設けることができる。これにより、受発光素子に対する集光性能を高めることができる。マイクロレンズ構造としては、例えば45度ミラーに対応した凸レンズ形状でもよいし、あるいは凸型のシリンドリカルレンズ形状であってもよい。これらのレンズ形状は、補助鋳型20の導波路コア端部に対応する位置にレンズ形成用凹みを備えることによって容易に形成することができる。それと同様に、45度ミラー自体の形状も、曲率を持たせることで、レンズ機能を付加することが容易となる。
In the
上記のごとく構成された導波路フィルム60には、既に光学面が形成されているので、その導波路フィルム60の外形の切り出しには、必ずしも光学的に高い精度を必要としない。そのため、導波路フィルム60の外形をトムソン型またはビク刃型といわれる型刃を用いた打ち抜き加工で一度に形成することができる。ダイシングソーを用いる場合と比べると、導波路フィルム60の大きさに依存することなく、ダイシング工程時間を大幅に短縮することが可能になる。また、光導波路の一部をダイシングソーでダイシング加工しても、特に、本発明の製造方法により45度ミラー部分を作製することができるので、ダイシングブレードを45度用と垂直切り落とし用に付け替える手間や労力などを軽減することができるようになり、ダイシング工程時間を削減することができる。
Since the optical surface is already formed on the
以下に、本発明の更に具体的な実施例について図1〜図10を参照しながら説明する。 Hereinafter, more specific embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS.
図1(a)〜図1(d)は、本発明における実施例1である高分子光導波路の作製手順を概念的に示す説明図であり、図2(a)は、導波路フィルムの上面図、図2(b)は、導波路フィルムの側面図である。 FIG. 1A to FIG. 1D are explanatory views conceptually showing a production procedure of a polymer optical waveguide which is Example 1 in the present invention, and FIG. 2A is an upper surface of a waveguide film. FIG. 2 and FIG. 2B are side views of the waveguide film.
この実施例1である導波路フィルムの作製工程においては、先ず、図1(a)に示すように、鋳型10、補助鋳型20及びフィルム材30を予め準備しておく。この鋳型10は、定法に従いSiウエハー上に厚膜レジスト(マイクロケミカル社製のSU−8)の層を形成し、コア断面寸法60μm角、長さ120mmであり、長さ方向の両端面に45度ミラー形状をもつ4本の直線導波路コア形成用の凸部が並列に配された原盤を用いることにより作製する。この原盤の作製にあっては、厚膜レジストを用いたプロセス以外にも、例えば従来のフォトリソグラフィー法、本出願人等が既に提案した電着法または光電着法により作製する方法(特願2002−10240号)、特開2004−29507号公報や上記特許文献1に記載された原盤の作製技術などを用いることができる。また直線導波路コアに対応する凸部の両端部分を45度ミラー形状にするには、ダイシングソーを用いた加工により作製する。また、グラデーションマスクを用いた露光現像でも容易に作製することができる。
In the waveguide film manufacturing process of Example 1, first, as shown in FIG. 1A, a
鋳型10としては、直線導波路コア形成用の原盤上に離型剤を塗布した後、定法に従い原盤上にポリジメチルシロキサン(ダウケミカル社製のSYLGARD184)を流し込み、120℃で20分間かけて加熱することで硬化させ、図1(a)に示すように、原盤の直線導波路コア形成用の4本の凸部と対応する形態の凹溝部11をもつシリコーンゴム鋳型10を作製する。なお、鋳型の作製にあっても、直線導波路コアに対応する凹溝部11の両端部分の処理を除いて本出願人等が先に提案した上記特許文献1などに記載された鋳型の作製技術などを用いることができる。
As the
一方、補助鋳型20としては、図1(a)に示すように、鋳型10と同一の材料を用いて、鋳型10の凹溝部11の一端部と対応する部位に樹脂充填口21を、その凹溝部11の他端部と対応する部位に樹脂吸引口22をそれぞれ有するシリコーンゴム製の補助鋳型20を作製する。なお、補助鋳型の作製にあっても、本出願人等が先に提案した上記特許文献1などに記載された鋳型の作製技術と実質的に同じ製法によって得ることができる。
On the other hand, as the
更に、下クラッドとなるフィルム材30としては、図1(a)に示すように、トムソン型刃を用いて、厚みが50μmであるアートンフィルム(JSR社製、屈折率1.51)を打ち抜くことで作製する。その下クラッドは、鋳型10及び補助鋳型20と略同一の大きさの外形形態に形成されるとともに、下クラッドの両端部のそれぞれには、鋳型10の4つの凹溝部11にわたって延びた幅300μmの長孔31,31が貫通して形成されている。長孔31,31のそれぞれは、鋳型10の凹溝部11の端部と補助鋳型20の樹脂充填口21または樹脂吸引口22とに対応する部位に形成されている。
Further, as the
(導波路コアの作製)
導波路コア61の作製にあたっては、図1(a)及び図1(b)に示すように、作製した鋳型10の凹溝部11を上方に向けて設置し、鋳型10の凹溝部11上にフィルム材30を重ね合わせて密着させる。このとき、フィルム材30の両端縁が、鋳型10の凹溝部11の両端部に40〜80μm程度の隙間間隔をおいて収まるように配置する。次に、補助鋳型20を、フィルム材30を介して鋳型10上に重ね合わせて密着させる。このとき、補助鋳型20の樹脂充填口21及び樹脂吸引口22のそれぞれが、フィルム材30の長孔31,31と対応する位置にあって、鋳型10の凹溝部11の外側に配されるように配置する。
(Production of waveguide core)
In producing the
次に、補助鋳型20の樹脂充填口21内に導波路コア61となるエポキシ系の紫外線硬化樹脂50(硬化後の屈折率1.55、粘度500cPs)を満たし、補助鋳型20の樹脂吸引口22を介して−30kPaで減圧吸引する。紫外線硬化樹脂50は、図1(b)に示すように、毛細管現象を利用して、約10分間でフィルム材30の長孔31内及び鋳型10の凹溝部11内に充填される。次いで、波長365nmであり、強度50mW/cm2の紫外線を、鋳型20を通して15分間照射して硬化させ、フィルム材30上に、両端部が45度ミラー面を有する4本の導波路コア61を形成する。フィルム材30の長孔31内に充填された紫外線硬化樹脂50を、導波路コア端部の下面の一部を構成するように一体形成できる。
Next, the
導波路コア端部の45度ミラー面62に反射膜を着膜するにあたっては、図1(c)に示すように、幅60μmである一対の貫通長孔41,41をもつメタルマスク40を使用することができる。フィルム材30から補助鋳型20及び鋳型10を剥離し、フィルム材30の導波路コア形成面を上方に向けた状態で配置した後、導波路コア61の45度ミラー面62にメタルマスク40の貫通長孔41を合わせた状態で、蒸着源42を介してメタルマスク40側から導波路コア61の45度ミラー面62に向けて金を厚み100nm程度に着膜することができる。
When depositing a reflective film on the 45-
(上クラッドの作製)
上クラッドの作製にあたっては、図1(d)に示すように、側面及び上部クラッドとなるアクリル系の紫外線硬化樹脂70(屈折率1.51、粘度500cPs)を導波路コア61の上部に塗布する。その導波路コア61のコアパターン上に50μm厚のフィルム80を重ね合わせ、重ね合わせた状態で波長365nm、強度50mW/cm2の紫外線を10分間照射して硬化させ、全体の厚みが170μmとなるように導波路フィルムを形成する。そして、トムソン型刃を用いて打ち抜き加工を行い、図2に示すように、長さ120mmであり、導波路コア61が2本入った双方向通信用導波路フィルム60を作製することができる。導波路コア61の両端面には、金が着膜された45度ミラー面62が形成されており、受発光素子との平面実装が容易な光インターコネクション用導波路フィルムを作製することができる。
(Preparation of upper cladding)
In producing the upper clad, as shown in FIG. 1 (d), an acrylic ultraviolet curing resin 70 (refractive index 1.51, viscosity 500 cPs) serving as the side and upper clad is applied to the upper portion of the
図2に示す導波路フィルム60の挿入損失は、3dB以下となり、良好な性能を発揮することができる。導波路コア上部のフィルム80を省略して、全体の厚みが120μmになるように作製した場合は、導波路フィルム全体の曲げ剛性が低下するので、フレキシブル性を向上させることができる。また、導波路フィルムの厚さが薄くなるため、打ち抜き加工をより容易に行うことができる。
The insertion loss of the
図3は、本発明の実施例2である高分子光導波路の作製工程を概念的に示す説明図である。図4は、図3の作製工程により製造された導波路フィルムの一構造例を示しており、図4(a)は、導波路フィルムの上面図であり、図4(b)は、導波路フィルムの側面図である。これらの図において上記実施例1と大きく異なるところは、上記実施例1では、フィルム材30の長孔31を樹脂充填口21または樹脂吸引口22の通路とする構成となっていたが、この実施例2にあっては、鋳型10のパーティング面とフィルム材30とを密着した状態で、フィルム材30の端縁及び鋳型10の凹溝部11の凹端縁間に形成された隙間を樹脂充填口21または樹脂吸引口22の通路として用いている点にある。なお、これらの図において上記実施例1と実質的に同じ部材には同一の部材名と符号を付している。従って、これらの部材に関する詳細な説明は省略する。
FIG. 3 is an explanatory view conceptually showing a production process of a polymer optical waveguide that is
この実施例2である高分子光導波路の作製工程においては、図3(a)に示すように、上記実施例1に記載された原盤、鋳型及び補助鋳型の作製技術と同様に、原盤、鋳型10及び補助鋳型20を作製することができる。導波路コア長さ120mmに合わせて長孔31をあけたフィルム材30の代わりに、鋳型10のパーティング面の大きさよりも一回り小さく、かつ鋳型10の凹溝部11の長さであるフィルム長120mmよりも若干短くしたフィルム材30を予め用意しておく。一方、補助鋳型20の型面側には、フィルム材30の厚さ寸法と略同一の深さに形成された凹陥部を有している。その凹陥部の外周部には、約100μm程度に四角枠状に張り出したパーティング面23が形成されている。そのパーティング面23は、フィルム材30が密着した状態の鋳型10に対して密着するようになっている。
In the manufacturing process of the polymer optical waveguide according to the second embodiment, as shown in FIG. 3A, the master, the mold and the auxiliary mold are manufactured in the same manner as the master, the mold and the auxiliary mold described in the first embodiment. 10 and the
この実施例2である高分子光導波路の作製工程にあっても、図3(a)〜図3(c)に示すように、鋳型10、補助鋳型20及びフィルム材30を用いて、上記実施例1と同様の作製工程により、図4に示す高品質の導波路フィルム60を作製することができる。実施例2の導波路作製では、上記実施例1に比べて、フィルム材30の使用量を削減することができる。
Even in the manufacturing process of the polymer optical waveguide according to the second embodiment, as shown in FIGS. 3A to 3C, the above-described implementation is performed using the
図5は、本発明の実施例3である高分子光導波路の作製工程を概念的に示す説明図である。図6は、図5の作製工程にて製造された導波路フィルムの一構造例を示しており、図6(a)は、導波路フィルムの上面図、図6(b)は、導波路フィルムの側面図である。これらの図において上記実施例1と大きく異なるところは、45度ミラー面に対する蒸着工程を省略した点、すなわち導波路コアと空気の屈折率差を利用したミラー構造を作製している点にある。従って、これらの図において上記実施例1と実質的に同じ部材には同一の部材名と符号を付し、これらの部材に関する詳細な説明は省略する。
FIG. 5 is an explanatory view conceptually showing a production process of a polymer optical waveguide that is
この実施例3である高分子光導波路の作製工程にあっても、図5(a)に示すように、上記実施例1における原盤、鋳型、補助鋳型及び長孔付フィルムの作製技術と同様に、原盤、鋳型10、補助鋳型20及びフィルム材30を作製することができる。この実施例3の導波路作製では、図5(a)〜図5(c)に示すように、導波路コア61の作製のうち45度ミラー面62に対する蒸着工程を省略している。更に、側面及び上部クラッドの作製工程において、45度ミラー面62に対して、側面及び上部クラッドとなる紫外線硬化樹脂70が接触しないように、紫外線硬化樹脂70の滴下量及び滴下位置を最適化している。これにより、45度ミラー面62が導波路コア61と空気の屈折率差による全反射条件を備えたミラー構造を作製することができる。
Even in the production process of the polymer optical waveguide of Example 3, as shown in FIG. 5A, as in the production technique of the master, the mold, the auxiliary mold, and the long hole film in Example 1 above. The master, the
この実施例3である高分子光導波路の作製工程にあっても、上記実施例1における鋳型10、補助鋳型20及びフィルム材30を用いて、図6に示す高品質の導波路フィルム60を作製することができる。その導波路フィルム60の挿入損失は、3dB以下であり、良好な性能を発揮することができる。側面及び上部クラッドの形成を省略しても、上記実施例1と同等の性能をもつ導波路フィルム60を形成することができる。ただし、側面及び上部クラッドの形成を省略すると、使用環境の変化、例えばゴミの付着や結露があった場合は、著しく性能が低下することがある。
Even in the production process of the polymer optical waveguide of Example 3, the high-
図7は、本発明の実施例4である高分子光導波路の作製工程を概念的に示す説明図である。図8は、図7の作製工程にて製造された導波路フィルムの一構造例を示しており、図8(a)は、導波路フィルムの上面図、図8(b)は、導波路フィルムの側面図である。図9は、図8の導波路フィルムの実装形態を説明するための説明図である。これらの図において上記実施例3と大きく異なるところは、導波路における導波光の入出力部にシリンドリカルレンズ構造を作製している点にある。なお、これらの図において上記実施例3と実質的に同じ部材には同一の部材名と符号を付している。 FIG. 7 is an explanatory view conceptually showing a production process of a polymer optical waveguide that is Embodiment 4 of the present invention. 8 shows an example of the structure of the waveguide film manufactured in the manufacturing process of FIG. 7, FIG. 8 (a) is a top view of the waveguide film, and FIG. 8 (b) is the waveguide film. FIG. FIG. 9 is an explanatory diagram for explaining a mounting form of the waveguide film of FIG. In these figures, a significant difference from the third embodiment is that a cylindrical lens structure is fabricated at the input / output portion of the guided light in the waveguide. In these drawings, substantially the same members as those in the third embodiment are given the same member names and symbols.
この実施例4である高分子光導波路の作製工程にあっても、図7(a)に示すように、上記実施例3における原盤、鋳型、補助鋳型及び長孔付フィルムの作製技術と同様に、原盤、鋳型10、補助鋳型20及びフィルム材30を作製することができる。この実施例4によると、補助鋳型20としては、図7(a)に示すように、導波路コア端部に対応する部分に幅60μm、曲率半径100μmのシリンドリカルレンズ形状に対応する半円筒面形状の凹み24を作製したものを予め用意しておく。この実施例4である高分子光導波路の作製工程にあっても、図7(a)〜図7(c)に示すように、上記実施例3と同様な工程で、図8に示す高品質の導波路フィルム60を作製することができる。
Even in the production process of the polymer optical waveguide of Example 4, as shown in FIG. 7A, as in the production technique of the master, the mold, the auxiliary mold, and the long hole film in Example 3 above. The master, the
図7(a)〜図7(c)に示す工程により作製された導波路フィルム60の導波路コア端部には、図8(b)に示すように、シリンドリカル型マイクロレンズ63を形成することができる。この導波路フィルム60については、図9に示すように、VCSEL90(富士ゼロックスAM0001)を用いて測定を行ったところ、シリンドリカル型のマイクロレンズ63により入力光が円筒形状に対応した方向に関してコリメートする。このため、導波路フィルム60の45度面ミラー62部分の過剰損失を低下することができるとともに、その挿入損失が2.5dB以下であり、良好な性能を発揮することができる。
As shown in FIG. 8B, a
図10は、本発明の実施例5である高分子光導波路の作製工程を概念的に示す説明図である。図11は、図10の作製工程にて製造された導波路フィルムの一構造例を示しており、図11(a)は、導波路フィルムの上面図であり、図11(b)は、導波路フィルムの側面図である。なお、これらの図において上記実施例4と実質的に同じ部材には同一の部材名と符号を付している。
FIG. 10 is an explanatory view conceptually showing a production process of a polymer optical waveguide which is
この実施例5である高分子光導波路の作製工程にあっても、図10(a)〜図10(c)に示すように、上記実施例4と同様な工程で、図11(a)及び(b)に示す高品質の導波路フィルム60を作製することができる。この実施例5は、上記実施例4のごときシリンドリカル型マイクロレンズ63ではなく、アレイ構成の球面型マイクロレンズ64のそれぞれを45度ミラー面62に対応した位置に設けた構成となっている。図示例のごとく球面型マイクロレンズ64を設ければ、さらに良好な性能が発揮できる。ただし、この場合は、球面型マイクロレンズアレイ64の位置を45度ミラー面62に合わせるためのアライメント調整を確実に行う必要がある。そのため、球面型マイクロレンズの形状に対応する半球面形状の凹み25をもつ補助鋳型20のセッティングに若干時間が余計にかかる。
Even in the manufacturing process of the polymer optical waveguide of Example 5, as shown in FIGS. 10A to 10C, the process similar to that of Example 4 described above is performed. A high-
図12は、本発明の実施例6である高分子光導波路の作製工程を概念的に示す説明図である。図13は、図12の作製工程により製造された導波路フィルムの一構造例を示しており、図13(a)は、導波路フィルムの上面図、図13(b)は、導波路フィルムの側面図である。これらの図において上記実施例1と大きく異なるところは、打ち抜き工程の代わりに垂直切り落とし加工で導波路フィルム60を作製している点にある。なお、これらの図において上記実施例1と実質的に同じ部材には同一の部材名と符号を付している。
FIG. 12 is an explanatory view conceptually showing a production process of a polymer optical waveguide that is Embodiment 6 of the present invention. FIG. 13 shows an example of the structure of the waveguide film manufactured by the manufacturing process of FIG. 12, FIG. 13 (a) is a top view of the waveguide film, and FIG. 13 (b) is the waveguide film. It is a side view. In these figures, the difference from the first embodiment is that the
この実施例6である高分子光導波路の作製工程にあっても、図13(a)に示すように、上記実施例1における原盤、鋳型、補助鋳型及び長孔付フィルムの作製技術と同様に、原盤、鋳型10、補助鋳型20及びフィルム材30を作製することができる。この実施例6の導波路作製では、図13(d)に示すように、上クラッド作製後の打ち抜き加工の代わりに、垂直切り落とし用のブレードを用いたダイシングソーの切削加工によって、導波路フィルム60の外形及び導波路コア61の長さのそれぞれを2等分する位置で切断し、導波路長さを40mmに形成している。
Even in the production process of the polymer optical waveguide of Example 6, as shown in FIG. 13A, as in the production technique of the master, the mold, the auxiliary mold, and the long hole film in Example 1 above. The master, the
この実施例6である高分子光導波路の作製工程にあっても、図13(a)〜図13(d)に示すように、上記実施例1における鋳型10、補助鋳型20及びフィルム材30を用いて、図11に示す高品質の導波路フィルム60を作製することができる。これにより、平面実装したVCSELやPDと光ファイバーを接続できる導波路フィルム60を形成することができる。VCSELから光ファイバーに対する挿入損失は、1.5dB以下であり、高品質の性能を発揮することができる。
Even in the manufacturing process of the polymer optical waveguide of Example 6, as shown in FIGS. 13A to 13D, the
なお、本発明に係わる高分子光導波路の製造方法は、上記実施の形態、実施例及び図示例に限定されるものではなく、その発明の趣旨を逸脱しない範囲内で様々な設計変更が可能である。 The method for producing a polymer optical waveguide according to the present invention is not limited to the above-described embodiments, examples, and illustrated examples, and various design changes can be made without departing from the spirit of the invention. is there.
10 鋳型
11 凹溝部
20 補助鋳型
21 樹脂充填口
22 樹脂吸引口
23 パーティング面
24,25 凹み
30 フィルム材
31 長孔
40 メタルマスク
41 貫通長孔
42 蒸着源
50,70 紫外線硬化樹脂
60 導波路フィルム
61 導波路コア
62 45度ミラー面
63 シリンドリカル型マイクロレンズ
64 球面型マイクロレンズ
80 フィルム
90 VCSEL
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記凹溝部の両端部を除いて、前記鋳型の成形面側に下クラッドとなるフィルム材を密着すること、
前記凹溝部の一端部に導波路コア成形用の硬化性樹脂を滴下して、前記凹溝部の他端部を介して減圧吸引し、前記凹溝部内に前記硬化性樹脂を充填すること、及び
前記硬化性樹脂の硬化後、前記鋳型を前記フィルム材から剥離し、前記フィルム材と前記端部に対応する形態を有する導波路コアとを一体成形することを含んでなることを特徴とする高分子光導波路の製造方法。 Using a mold having a concave groove corresponding to the pattern shape of the waveguide core;
Excluding both end portions of the concave groove portion, closely adhering a film material serving as a lower clad to the molding surface side of the mold,
Dropping a curable resin for forming a waveguide core into one end of the groove, suctioning the pressure through the other end of the groove, and filling the curable resin in the groove, and After the curing of the curable resin, the mold is peeled off from the film material, and the film material and a waveguide core having a form corresponding to the end portion are integrally formed. Manufacturing method of molecular optical waveguide.
前記補助鋳型と前記鋳型とを、前記フィルム材を介して密着すること、及び
前記樹脂充填口及び前記樹脂吸引口を介して前記硬化性樹脂の充填を行うことを含んでなることを特徴とする請求項1記載の高分子光導波路の製造方法。 In addition to having a resin filling port for filling the curable resin in a portion corresponding to one end portion of the concave groove portion, a resin suction port for sucking the curable resin under reduced pressure in a portion corresponding to the other end portion of the concave groove portion Using auxiliary molds,
The auxiliary mold and the mold are brought into close contact with each other through the film material, and the curable resin is filled through the resin filling port and the resin suction port. The method for producing a polymer optical waveguide according to claim 1.
前記フィルム材は、前記複数個の凹溝部の端部を横断する部位に、上下に貫通した長孔を形成したフィルム材を用いることを含んでなることを特徴とする請求項1または2記載の高分子光導波路の製造方法。 The mold uses a mold structure in which a plurality of the recessed groove portions are formed in parallel at a predetermined interval,
The said film material comprises using the film material which formed the long hole penetrated up and down in the site | part which cross | intersects the edge part of the said several groove part. A method for producing a polymer optical waveguide.
上クラッドとなる硬化性樹脂を前記導波路コアの全面に覆って硬化することを含んでなることを特徴とする請求項6記載の高分子光導波路の製造方法。 7. A method comprising: depositing a metal thin film on a mirror-shaped portion of the waveguide core; and covering the entire surface of the waveguide core with a curable resin serving as an upper clad. The manufacturing method of the polymer optical waveguide of description.
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Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
| JPS63301007A (en) * | 1987-05-31 | 1988-12-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of optical circuit substrate |
| JPH05264833A (en) * | 1991-12-24 | 1993-10-15 | Hitachi Maxell Ltd | Optical surface mounting substrate and method for manufacturing the same |
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2006
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Patent Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
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