JP2007328888A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】（１）平滑性に優れ、（２）高い酸素雰囲気化で硬化可能であり、（３）摩擦係数が低く、（４）電磁変換特性、エラー特性に優れ、（５）走行耐久性、保存安定性に優れた磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】非磁性支持体上に、放射線硬化性単量体及び連鎖移動剤を含む層を放射線照射により硬化させた放射線硬化層を有することを特徴とする磁気記録媒体、又、前記連鎖移動剤が少なくとも１つのチオール基を有するチオール化合物及び／又は少なくとも１つの−Ｓ−Ｓ−結合を有するジスルフィド化合物であることが好ましい。
【選択図】なし

Description

本発明は、高密度記録に適する磁気記録媒体に関する。

磁気記録技術は、媒体の繰り返し使用が可能であること、信号の電子化が容易であり周辺機器との組み合わせによるシステムの構築が可能であること、信号の修正も簡単にできること等の他の記録方式にはない優れた特長を有することから、ビデオ、オーディオ、コンピュータ用途等を始めとして様々な分野で幅広く利用されてきた。

オーディオ用、ビデオ用、コンピュータ用などのテープ状磁気記録媒体及びフレキシブルディスクなどのディスク状磁気記録媒体として、γ−酸化鉄、Ｃｏ含有酸化鉄、酸化クロム、強磁性金属粉末などの強磁性粉末を結合剤中に分散させた磁性層を支持体上に設けた磁気記録媒体が用いられている。磁気記録媒体に用いられている支持体としては、一般にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などが用いられている。これらの支持体は延伸し高度に結晶化されているため機械的強度が強く耐溶剤性に優れている。

強磁性粉末を結合剤中に分散させた塗料を支持体に塗布して得られる磁性層は、強磁性粉末の充填度が高く破断伸びが小さく脆いため、機械的な力を加えることにより簡単に破壊され、支持体から剥離することがある。そこで、支持体上に下塗り層を設けて、磁性層を支持体上に強く接着させることが行われている。

磁気記録媒体への高密度記録化の要求に対し、より一層の電磁変換特性向上のために、磁気記録媒体表面の平滑化が必要とされている。かかる課題に鑑みて、非磁性支持体上に電子線などの放射線により硬化する官能基をもつ単量体、即ち放射線硬化性単量体を用いた放射線硬化層を有する磁気記録媒体が提案されている（特許文献１〜３等参照）。

一方、連鎖移動剤を用いて製造される磁気記録媒体としては、例えば、以下の例が知られている。
特許文献４には、非磁性支持体上に強磁性微粉末を結合剤中に分散せしめた磁性層を設けてなる磁気記録媒体において、該結合剤が、（イ）塩化ビニル単位及び（ロ）側鎖として水酸基含有有機基を有するビニル系単量体単位又は／及びビニルアルコール単位を必須構成成分としてなる、ＳＨ基を有する連鎖移動剤の存在下に共重合させて得られた塩化ビニル系共重合体と、エチレン性不飽和二重結合及びイソシアネート基各々１個を１分子中に有しかつウレタン結合を分子中に持たない単量体とを反応させた変性共重合体を主剤とし、さらに該磁性層が放射線照射により硬化されていることを特徴とする磁気記録媒体が提案されている。
特許文献５には、（ａ）複数のペンダントニトリル基、複数のペンダントヒドロキシル基、および少なくとも１つのペンダント分散基を有する非ハロゲン化ビニルコポリマーを含有する硬質樹脂成分、および（ｂ）ホスホネートジエステル基を包含する少なくとも１つのペンダント分散基を含有するポリウレタンポリマーを含有する軟質樹脂成分、を含む磁気記録媒体に有用なポリマーバインダー系が提案されており、ビニルモノマーの共重合時に時に使用する官能性連鎖移動剤として、メルカプト琥珀酸が例示されている。
特許文献６には、非磁性支持体上の少なくとも一方の面に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層と、強磁性粉末として強磁性六方晶系フェライト粉末および結合剤を含む磁性層とをこの順に有する磁気記録媒体であって、（１）磁性層の厚みが、０．２０μｍ以下０．０１μｍ以上であり、（２）磁性層に含有される強磁性六方晶系フェライト粉末の平均板径が、１０〜４０ｎｍであり、（３）電子線マイクロアナリシスによる上記強磁性六方晶系フェライト粉末に起因する元素の平均強度ａに対する該強度の標準偏差ｂが、０．０３≦ｂ／ａ≦０．４を満たし、かつ（４）磁性層中に含有される結合剤が、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ）₂、−ＯＰＯ（ＯＭ）₂および−ＣＯＯＭ（Ｍは水素原子、アルカリ金属またはアンモニウムを表す）から選ばれる少なくとも一種の極性基を０．２〜０．７ｍｅｑ／ｇ含有するポリウレタン樹脂である、ことを特徴とする磁気記録媒体が提案されており、磁性層中に含有される結合剤の作製時に使用する連鎖移動剤として、片末端に極性基を有するメルカプト化合物が例示されている。

一方、放射線硬化層や磁性層などに放射線硬化性単量体を用いる場合、放射線硬化プロセスにおいて、大気中に含まれる酸素の影響によって、用いる単量体の硬化が不十分となり、生産プロセスや製品性能に対し甚大な影響を与える課題がしばしば発生する。その様な課題に対し、酸素の供給を断つ目的で装置内を不活性ガスである窒素でパージする方法や、放射線硬化性単量体に与える放射線量を大きくする方法等が提案されている。しかし、連続生産プロセスにおいて不活性ガスで装置全体をパージして完全に酸素阻害からシャットアウトすることは設備上非常に難しく、また大量の不活性ガスが必要となるためにコスト負担が甚大であった。一方、放射線硬化性単量体に与える放射線量を大きくする目的でラインスピードを下げる方法が行われているが、この方法は生産性が低下するために好ましくない。さらに、放射線照射装置からの放射線照射を増加させる方法も行われているが、照射量が大きくなると用いる支持体が放射線で劣化する等、磁気記録媒体に含まれる他の構成要素への影響が問題となることがある。

特開２００５−２６７７２８号公報 特開２００５−３１０３１１号公報 特開２００６−４０４７２号公報 特開平０９−１３２７４９号公報 特表平１０−５０３５４３号公報 特開２００３−１４１７１０号公報

本発明が解決しようとする課題は、（１）平滑性に優れ、（２）摩擦係数が低く、（３）電磁変換特性、エラー特性に優れ、（４）走行耐久性、保存安定性に優れた磁気記録媒体、又、（５）高い酸素濃度雰囲気下で残存単量体量の少ない放射線硬化層を提供することである。

前述した課題に対し、本発明者等は、放射線硬化性単量体及び連鎖移動剤を含む層を放射線照射により硬化させた放射線硬化層を有することで当該課題を解決できることを見出した。すなわち、本発明が解決しようとする課題は、下記＜１＞の手段により解決された。好ましい実施形態である＜２＞〜＜６＞と共に以下に記載する。
＜１＞非磁性支持体上に、放射線硬化性単量体及び連鎖移動剤を含む層を放射線照射により硬化させた放射線硬化層を有することを特徴とする磁気記録媒体、
＜２＞非磁性支持体上に、前記放射線硬化層と、強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層とをこの順に有する＜１＞に記載の磁気記録媒体、
＜３＞非磁性支持体上に、前記放射線硬化層と、非磁性粉末を結合剤中に分散した非磁性層と、強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層とをこの順に有する＜１＞に記載の磁気記録媒体、
＜４＞前記連鎖移動剤が少なくとも１つのチオール基を有するチオール化合物及び／又は少なくとも１つの−Ｓ−Ｓ−結合を有するジスルフィド化合物である＜１＞〜＜３＞いずれか１つに記載の磁気記録媒体、
＜５＞前記放射線硬化性単量体がエチレン性不飽和単量体である＜１＞〜＜４＞いずれか１つに記載の磁気記録媒体、
＜６＞前記放射線硬化層の厚みが０．１〜１．５μｍである＜１＞〜＜５＞いずれか１つに記載の磁気記録媒体。

本発明によれば、（１）平滑性に優れ、（２）摩擦係数が低く、（３）電磁変換特性、エラー特性に優れ、（４）走行耐久性、保存安定性に優れた磁気記録媒体、又、（５）高い酸素濃度においても残存単量体量の少ない放射線硬化層を提供することができる。

I．放射線硬化層
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に、放射線硬化性単量体及び連鎖移動剤を含む層を放射線照射により硬化させた放射線硬化層を有することを特徴とする。
以下、本発明を詳細に説明する。

１．放射線硬化性単量体
本発明において、放射線硬化性単量体は紫外線又は電子線などの放射線を照射することにより硬化する低分子化合物である。放射線硬化性単量体は、放射線の照射がない状態では熱的に安定である。このため、放射線硬化性単量体を含む塗布液は、支持体上で塗布溶媒が蒸発すると適度な粘度を有し、支持体上の微小な突起を埋める作用を有し、硬化により高い塗膜平滑性を得ることができる。すなわち、本発明における放射線硬化層は、平滑化層の役割を果たす。

放射性硬化層に用いられる放射線硬化性単量体としては、エチレン性不飽和基を有する単量体（以下、エチレン性不飽和単量体とする）であることが好ましく、層表面の耐擦傷性、基材の表面保護効果を発現させるものとして、１分子中に２個以上の放射線硬化性官能基を含有する多官能の単量体がより好ましい。放射線硬化層は、多官能の単量体を使用した場合には、その３次元架橋反応により、高い塗膜強度を得ることができる。放射線硬化性基としては、（メタ）アクリル基又はビニルエーテル基が好ましく、（メタ）アクリル基がより好ましく、アクリル基が更に好ましい。

本発明においては、以下に示す（メタ）アクリレートの１種あるいは２種以上適宜選んで用いることができる。なお、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート及びメタクリレートを意味するものとし、以下も同様とする。例えば多価アルコールにアクリル酸やメタクリル酸に代表されるカルボン酸と放射線硬化性官能基を有する化合物を反応させて得られる（メタ）アクリレート化合物や、多価アルコールに２−イソシアネートエチルアクリレート、２−イソシアネートエチルメタクリレートに代表される水酸基と反応する基と放射線硬化性官能基を有する化合物を反応させて得られるウレタンアクリレートがある。また、ジイソシアネート化合物や末端イソシアネートプレポリマーにヒドロキシエチル（メタ）アクリレートやヒドロキシブチル（メタ）アクリレートに代表されるイソシアネート基と反応する基と放射線硬化性官能基を有する化合物を反応させて得られるものがある。前記の多価アルコールとしては、従来公知のポリウレタン原料として用いられているジオールのほかポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリオレフィンポリオール、ポリエーテルエステルポリオールを用いることができる。ジイソシアネート化合物もポリウレタン原料として知られているものを用いることができる。

本発明に用いることができる多官能（メタ）アクリレートの例として、２官能のものとしては、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、シクロペンタジエニルアルコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。上記多官能エステル以外の（メタ）アクリレートとしては、ポリエステルポリ（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタンポリ（メタ）アクリレート、ポリシロキサンポリ（メタ）アクリレート、ポリアミドポリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

本発明に用いることができる３官能以上の多官能（メタ）アクリレートの例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートおよびそのエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド変性物等が挙げられる。

また、本願の放射線硬化層には「低エネルギー電子線照射の応用技術（（株）シーエムシー出版発行）」、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術（（株）総合技術センター発行）」などに記載されている公知の（メタ）アクリレート化合物などの放射線硬化性単量体を用いてもよい。

中でも好ましいエチレン性不飽和単量体は２官能以上の多官能単量体であり、さらに官能基としては重合性に優れることからメタクリロイル基よりもアクリロイル基が好ましい。

また、エチレン性不飽和単量体としては、得られる磁気記録媒体の機械的強度と吸湿性とのバランスに優れることから、脂肪族ジアクリレートや脂環族ジアクリレートが好ましい。

脂肪族ジアクリレートの好ましい例としては、ヘキサメチレンジオールジアクリレート、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、３−メチルペンタンジオールジアクリレート、２−メチルオクタンジオールジアクリレート、ノナンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートのウレタンジアクリレート等が例示される。

これらのうち、得られる放射線硬化層の平滑性に優れることから、分岐側鎖を有するものが好ましく、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、３−メチルペンタンジオールジアクリレート、２−メチルオクタンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートのウレタンジアクリレートがより好ましい。

また、脂環族ジアクリレートの好ましい例としては、シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、リモネンアルコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ダイマージオールジアクリレート、５−エチル−２−（２−ヒドロキシ−１，１’−ジメチルエチル）−５−（ヒドロキシメチル）−１，３−ジオキサンジアクリレート、テトラヒドロフランジメタノールジアクリレート、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカンジアクリレート等がある。これらの中でも好ましいものはトリシクロデカンジメタノールジアクリレートである。

上記多官能エステル以外の（メタ）アクリレートとしては、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリシロキサンポリ（メタ）アクリレート、ポリアミドポリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

放射線硬化性単量体の分子量は３００〜５，０００が好ましい。上記の範囲内であると、未反応の放射線硬化性エチレン性不飽和単量体が放射線硬化層や磁気記録媒体の表面に析出せず、塗料が適切な粘度となり、優れた平滑性が得られる。

また、粘度調節、基材との密着性向上等の理由で必要に応じて単官能（メタ）アクリレートを添加してもよい。かかる単官能（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレートや２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。これら単官能（メタ）アクリレートの使用量としては、放射線硬化層固形分１００重量部に対し、０〜４０重量部が好ましく、耐擦傷性等を考慮すると０〜３０重量％がより好ましい。

２．連鎖移動剤
本発明に用いることができる連鎖移動剤は、連鎖移動反応を促進する化合物であればどの様なものでも良く、特に限定されるものではないが、例えば、少なくとも１つのチオール基（−ＳＨ、メルカプト基ともいう。）を有するチオール化合物や、少なくとも１つの−Ｓ−Ｓ−結合を有するジスルフィド化合物等が挙げられる。これらの中でも、本発明に用いることができる連鎖移動剤として、好ましくはチオール化合物及び／又はジスルフィド化合物であり、より好ましくはチオール化合物であり、特に好ましくは分子内に２つ以上のチオール基を有する多官能チオール化合物である。

本発明において用いることができる連鎖移動剤として、アルキルメルカプタン、メルカプト酢酸エステル、アルキルジスルフィド、多官能チオールなど、各種チオール化合物が挙げられる。具体的には、メルカプト酢酸、２−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプトプロピオン酸、メルカプトプロピオン酸メチル、メルカプトプロピオン酸オクチル、メルカプトプロピオン酸メトキシブチル、メルカプトプロピオン酸トリデシル、チオグリコール酸、チオグリコール酸アンモニウム、チオグリコール酸モノエタノールアミン、チオグリコール酸ソーダ、チオグリコール酸メチル、チオグリコール酸オクチル、チオグリコール酸メトキシブチル、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプト−４（３Ｈ）−キナゾリン、β−メルカプトナフタレン等の単官能チオール化合物、１，２−エタンジチオール、１，３−プロパンジチオール、１，４−ブタンジチオール、１，６−へキサンジチオール、１，８−オクタンジチオール、１，２−シクロヘキサンジチオール、デカンジチオール、エチレングリコールビスチオグリコレート、１，４−ブタンジオールジチオグリコレート、エチレングリコールビスメルカプトプロピオネレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、１，４−ブタンジオールビスメルカプトプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスメルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、ジペンタエリスリトールヘキサメルカプトプロピオネート、その他多価アルコールとメルカプトプロピオン酸とのエステル、トリメルカプトプロピオン酸トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、１，４−ジメチルメルカプトベンゼン、２，４，６−トリメルカプト−ｓ−トリアジン、２−（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ）−４，６−ジメルカプト−ｓ−トリアジン、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）等の多官能チオール化合物等が好ましく例示できる。

これらの中でも、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、１，４−ブタンジオールジチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、１，６−へキサンジチオール、トリ（３−メルカプトプロピオン酸）トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（３−メルカプトプロピオネート）、又は、３−メルカプトプロピオン酸４−メトキシブチルであることがより好ましく、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、１，４−ブタンジオールジチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、１，６−へキサンジチオール、トリ（３−メルカプトプロピオン酸）トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、又は、ジペンタエリスリトールヘキサ（３−メルカプトプロピオネート）であることが更に好ましい。

また、ジスルフィド化合物としては、少なくとも１つのジスルフィド結合（−Ｓ−Ｓ−）を有する化合物であればよく、例えば、ジベンゾチアジルジスルフィドや、前記チオール化合物より形成される環状ジスルフィド、前記単官能チオール化合物の２量体であるジスルフィド等が好ましく挙げられる。

連鎖移動剤は、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、硬化後の放射線硬化層に残存する単量体の量（以下、残存単量体量という）が少なくなることから、単官能チオール化合物よりも多官能チオール化合物が好ましい。

また、本発明に用いることができる連鎖移動剤は、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ）₂、−ＯＰＯ（ＯＭ）₂および−ＣＯＯＭ（Ｍは水素原子、アルカリ金属またはアンモニウムを表す）などの極性基を有しないことが好ましい。

本発明の磁気記録媒体における放射線硬化層は、放射線硬化性単量体を硬化して得られる構造中に連鎖移動剤の残基を含むものであり、スルフィド基（−Ｓ−）を含むことが好ましい。

連鎖移動剤の存在下で、放射線硬化性単量体を一定の酸素濃度雰囲気下で重合させた場合、従来よりも残存単量体量を低減できる。更に、酸素濃度が大気中のように高い場合でも、従来よりも残存単量体量を低減することができる。

３．連鎖移動剤の使用量
放射線硬化層に用いる連鎖移動剤の使用量は、放射線硬化層固形分１００重量部に対し、好ましくは１〜８０重量部、より好ましくは２〜５０重量部、さらに好ましくは３〜４０重量部である。上記の範囲内であると、残存単量体量を低減できるため張り付きの発生がなく、硬化性及び耐久性に優れた磁気記録媒体を得ることができる。放射線硬化性単量体を実質的に含まない場合は硬化反応が起こらない。
また、放射線硬化層は、結合剤を含まないことが好ましく、また、連鎖移動剤及び放射線硬化性単量体から実質的になる層を放射線により硬化させた層であることがより好ましい。

４．放射線照射
本発明で用いられる放射線としては、電子線（β線）、紫外線、Ｘ線、γ線、α線などの各種の放射線が含まれる。紫外線を使用する場合には前記の化合物に光重合開始剤を添加することが必要となる。電子線硬化の場合は重合開始剤が不要であり、透過深さも深いので好ましい。

電子線加速器としてはスキャニング方式、ダブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式が採用できるが、好ましいのは比較的安価で大出力が得られるカーテンビーム方式である。電子線特性としては、加速電圧が３０〜１，０００ｋＶ、好ましくは５０〜３００ｋＶであり、吸収線量として５〜２００ｋＧｙ（グレイ）、好ましくは１０〜１００ｋＧｙである。加速電圧が上記の数値範囲内であると、十分なエネルギー透過量が得られ、エネルギー効率も良く、経済的である。

電子線を照射する雰囲気は、一般的には表面近傍での硬化反応が阻害されるのを忌避するために、窒素パージにより酸素濃度を２００ｐｐｍ以下にすることが好ましいとされるが、本発明では高い酸素濃度であっても硬化が可能となることから、その酸素濃度には特に制限されない。しかし、設備や経済的に可能であれば、低い酸素濃度であった方が放射線硬化層の硬化性がより優れるためにより好ましいことは言うまでもない。好ましくは酸素濃度１０％以下、より好ましくは５％以下である。

紫外線光源としては、水銀灯が用いられる。水銀灯は２０〜２４０Ｗ／ｃｍのランプを用い、速度０．３〜２０ｍ／分で使用される。基体と水銀灯との距離は一般に１〜３０ｃｍであることが好ましい。

紫外線硬化に用いる光重合開始剤として光ラジカル重合開始剤の併用が好ましい。詳細は例えば「新高分子実験学第２巻 第６章 光・放射線重合」（共立出版１９９５年発行、高分子学会編）に記載されているものを使用できる。具体例としては、アセトフエノン、ベンゾフエノン、アントラキノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチルケトン、ヒドロキシジメチルフエニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフエニルケトン、２，２−ジエトキシアセトフエノン、などがある。芳香族ケトンの混合比率は、放射線硬化性単量体１００重量部に対し、好ましくは０．５〜２０重量部、より好ましくは２〜１５重量部、さらに好ましくは３〜１０重量部である。

放射線硬化装置、条件などについては「ＵＶ・ＥＢ硬化技術」（（株）総合技術センター発行）や「低エネルギー電子線照射の応用技術」（２０００、（株）シーエムシー発行）などに記載されている公知のものを用いることができる。

５．放射線硬化層の厚み
本発明で用いられる磁気記録媒体の構成において、放射線硬化層の厚みは、０．１〜１．５μｍが好ましく、０．２〜１．０μｍがより好ましい。上記の範囲内であると、優れた平滑性、支持体との良好な密着性を有する磁気記録媒体が得られる。

II．磁性層
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に、強磁性粉末を結合剤中に分散させた磁性層を有する。
１．強磁性粉末
本発明の磁気記録媒体には、強磁性粉末として、針状強磁性体、平板状磁性体または球状若しくは楕円状磁性体を使用することが好ましい。以下、それぞれについて説明する。

（１）針状強磁性体
本発明の磁気記録媒体に使用される強磁性粉末として、針状強磁性体を使用することができる。針状強磁性体としては、針状であるコバルト含有強磁性酸化鉄又は強磁性合金粉末等の強磁性金属粉末が例示でき、ＢＥＴ比表面積（Ｓ_BET）は４０〜８０ｍ²／ｇが好ましく、５０〜７０ｍ²／ｇがより好ましい。結晶子サイズは１２〜２５ｎｍが好ましく、１３〜２２ｎｍがより好ましく、１４〜２０ｎｍが更に好ましい。長軸長は２０〜５０ｎｍでことが好ましく、２０〜４５ｎｍがより好ましい。

強磁性粉末としては、イットリウムを含むＦｅ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅが挙げられ、強磁性粉末中のイットリウム含有量は、鉄原子に対してイットリウム原子の比、Ｙ／Ｆｅが０．５〜２０原子％が好ましく、５〜１０原子％がより好ましい。
上記の数値の範囲内では、強磁性粉末を高σＳ化できるため、優れた磁気特性、電磁変換特性が得られる。さらに、鉄１００原子％に対して２０原子％以下の範囲内で、アルミニウム、ケイ素、硫黄、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、銅、亜鉛、モリブデン、ロジウム、パラジウム、錫、アンチモン、ホウ素、バリウム、タンタル、タングステン、レニウム、金、鉛、リン、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、テルル、ビスマス等を含むことができる。また、強磁性金属粉末が少量の水、水酸化物または酸化物を含むものなどであってもよい。

本発明に使用する、コバルト、イットリウムを導入した強磁性粉末の製造方法の一例を示す。第一鉄塩とアルカリを混合した水性懸濁液に、酸化性気体を吹き込むことによって得られるオキシ水酸化鉄を出発原料とする例を挙げることができる。このオキシ水酸化鉄の種類としては、α−ＦｅＯＯＨが好ましい。その製法としては、第一鉄塩を水酸化アルカリで中和してＦｅ（ＯＨ）₂の水性懸濁液とし、この懸濁液に酸化性ガスを吹き込んで針状のα−ＦｅＯＯＨとする第一の製法がある。一方、第一鉄塩を炭酸アルカリで中和してＦｅＣＯ₃の水性懸濁液とし、この懸濁液に酸化性気体を吹き込んで紡錘状のα−ＦｅＯＯＨとする第二の製法がある。このようなオキシ水酸化鉄は第一鉄塩水溶液とアルカリ水溶液とを反応させて水酸化第一鉄を含有する水溶液を得て、これを空気酸化等により酸化して得られたものであることが好ましい。この際、第一鉄塩水溶液にＮｉ塩や、Ｃａ塩、Ｂａ塩、Ｓｒ塩等のアルカリ土類元素の塩、Ｃｒ塩、Ｚｎ塩などを共存させても良く、このような塩を適宜選択して用いることによって粒子形状（軸比）などを調製することができる。

第一鉄塩としては、塩化第一鉄、硫酸第一鉄等が好ましい。またアルカリとしては水酸化ナトリウム、アンモニア水、炭酸アンモニウム、炭酸ナトリウム等が好ましい。また、共存させることができる塩としては、塩化ニッケル、塩化カルシウム、塩化バリウム、塩化ストロンチウム、塩化クロム、塩化亜鉛等の塩化物が好ましい。

次いで、鉄にコバルトを導入する場合は、イットリウムを導入する前に、硫酸コバルト、塩化コバルト等のコバルト化合物の水溶液を前記のオキシ水酸化鉄のスラリーに撹拌混合する。コバルトを含有するオキシ水酸化鉄のスラリーを調製した後、このスラリーにイットリウムの化合物を含有する水溶液を添加し、撹拌混合することによって導入することができる。

本発明の強磁性粉末には、イットリウム以外にもネオジム、サマリウム、プラセオジウム、ランタン、ガドリニウム等を導入することができる。これらは、塩化イットリウム、塩化ネオジム、塩化サマリウム、塩化プラセオジウム、塩化ランタン等の塩化物、硝酸ネオジム、硝酸ガドリニウム等の硝酸塩などを用いて導入することができ、これらは、二種以上を併用しても良い。

強磁性金属粉末の抗磁力（Ｈｃ）は、好ましくは１５９．２〜２３８．８ｋＡ／ｍ（２，０００〜３，０００Ｏｅ）であり、さらに好ましくは１６７．２〜２３０．８ｋＡ／ｍ（２，１００〜２，９００Ｏｅ）である。また、飽和磁束密度は、好ましくは１５０〜３００ｍＴ（１，５００〜３，０００Ｇ）であり、さらに好ましくは１６０〜２９０ｍＴ（１，６００〜２，９００Ｇ）である。また飽和磁化（σｓ）は、好ましくは１００〜１７０Ａ・ｍ²／ｋｇ（１００〜１７０ｅｍｕ／ｇ）であり、さらに好ましくは１１０〜１６０Ａ・ｍ²／ｋｇ（１１０〜１６０ｅｍｕ／ｇ）である。磁性体自体のＳＦＤ（ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ ｆｉｅｌｄ ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）は小さい方が好ましく、０．８以下であることが好ましい。ＳＦＤが０．８以下であると、電磁変換特性が良好で、出力が高く、また磁化反転がシャープでピークシフトが小さくなり、高密度デジタル磁気記録に好適である。Ｈｃ分布を小さくするためには、強磁性金属粉末においてはゲータイトの粒度分布を良くする、単分散α−Ｆｅ₂Ｏ₃を使用する、粒子間の焼結を防止するなどの方法がある。

（２）平板状磁性体
本発明で用いることのできる平板状磁性体としては六方晶フェライト粉末が好ましい。六方晶フェライトとしてバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等がある。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｚｒなどの原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｓｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができる。原料・製法によっては特有の不純物を含有するものもある。

粒子サイズは六角板径で１０〜５０ｎｍであることが好ましい。磁気抵抗ヘッドで再生する場合は、低ノイズにする必要があり、板径は４５ｎｍ以下が好ましい。板径が上記の範囲内であると、熱揺らぎがなく安定な磁化が望める。また、ノイズも低くなるため高密度磁気記録に適する。

板状比（板径／板厚）は１〜１５が好ましく、２〜７がより好ましい。上記の範囲内であると配向性が十分であり、粒子間のスタッキングが起こりにくくノイズが小さくなる。この粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による比表面積は１０〜２００ｍ²／ｇを示す。比表面積は概ね粒子板径と板厚からの算術計算値と符合する。結晶子サイズは５０〜４５０Åであることが好ましく、１００〜３５０Åがより好ましい。粒子板径・板厚の分布は通常狭いほど好ましい。数値化は困難であるが粒子ＴＥＭ写真より５００粒子を無作為に測定する事で比較できる。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表すと好ましくはσ／平均サイズ＝０．１〜２．０である。粒子サイズ分布をシャープにするには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われている。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られている。

磁性体で測定される抗磁力Ｈｃは３９．８〜３９８ｋＡ／ｍ（５００〜５，０００Ｏｅ）程度まで作製できる。Ｈｃは高い方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限される。６３．７〜３１８．４ｋＡ／ｍ（８００〜４，０００Ｏｅ）であることが好ましく、１１９．４〜２７８．６ｋＡ／ｍ（３，５００Ｏｅ）がより好ましい。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラを越える場合は、１５９．２ｋＡ／ｍ（２，０００Ｏｅ）以上にすることが好ましい。

Ｈｃは粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。飽和磁化σｓは４０〜８０Ａ・ｍ²／ｋｇ（４０〜８０ｅｍｕ／ｇであることが好ましい。σｓは高い方が好ましいが微粒子になるほど小さくなる傾向がある。σｓ改良のためマグネトプランバイトフェライトにスピネルフェライトを複合すること、含有元素の種類と添加量の選択等が良く知られている。またＷ型六方晶フェライトを用いることも可能である。

磁性体（磁性粉末）を分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理することも行われている。表面処理材は無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ等の酸化物または水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。量は磁性体に対して０．１〜１０％である。磁性体のｐＨも分散に重要である。好ましくは４〜１２程度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６〜１０程度が好ましく選択される。磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが磁性体に対して０．０１〜２．０％が好適に選ばれる。

六方晶フェライトの製法としては、（１）酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法。（２）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後１００℃以上で液相加熱した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法。（３）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１，１００℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。

（３）球状または回転楕円状磁性体
球状または回転楕円状磁性体としては、Ｆｅ₁₆Ｎ₂を主相とする窒化鉄系の強磁性粉末が好ましい。Ｆｅ、Ｎ原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｚｒなどの原子を含んでもかまわない。Ｆｅに対するＮの含有量は１．０〜２０．０原子％が好ましい。

窒化鉄は球状または回転楕円状が好ましく、球状磁性体の長軸径／短軸径の軸比は１〜２が好ましく、回転楕円状磁性体の長軸径／短軸径の軸比は２〜４が好ましい。ＢＥＴ比表面積（Ｓ_BET）が３０〜１００ｍ²／ｇであることが好ましく、５０〜７０ｍ²／ｇがより好ましい。結晶子サイズは１２〜２５ｎｍであることが好ましく、１３〜２２ｎｍがより好ましい。飽和磁化σｓは５０〜２００Ａ・ｍ²／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）が好ましく、より好ましくは７０〜１５０Ａ・ｍ²／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）である。

２．結合剤
磁性層に用いる結合剤としてはポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレートなどを共重合したアクリル系樹脂、ニトロセルロースなどのセルロース系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアルキラール系樹脂などから単独あるいは複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいのはポリウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、塩化ビニル系樹脂である。

結合剤には強磁性粉末、非磁性粉体の分散性を向上させるためこれらの粉体表面に吸着する官能基（極性基）を持つことが好ましい。好ましい官能基としては−ＳＯ₃Ｍ、−ＳＯ₄Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ）₂、−ＯＰＯ（ＯＭ）₂、−ＣＯＯＭ、＞ＮＳＯ₃Ｍ、＞ＮＲＳＯ₃Ｍ、−ＮＲ¹Ｒ²、−Ｎ⁺Ｒ¹Ｒ²Ｒ³Ｘ^-などがある。ここでＭは水素又はＮａ、Ｋ等のアルカリ金属、Ｒはアルキレン基、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³はアルキル基又はヒドロキシアルキル基又は水素、ＸはＣｌ、Ｂｒ等のハロゲンである。結合剤中の官能基の量は１０〜２００μｅｑ／ｇが好ましく、３０〜１２０μｅｑ／ｇがより好ましい。この範囲内にあると、良好な分散性が得られる。

結合剤には吸着官能基のほかにイソシアネート硬化剤と反応して架橋構造を形成し塗膜強度を向上させるために−ＯＨ基などの活性水素を持つ官能基を付与することが好ましい。好ましい量は０．１〜２ｍｅｑ／ｇである。

結合剤の分子量は重量平均分子量で１０，０００〜２００，０００が好ましく、２０，０００〜１００，０００がより好ましい。この範囲内にあると、塗膜強度が十分であり、耐久性が良好であり、また分散性が向上するので好ましい。

好ましい結合剤であるポリウレタン樹脂は例えば「ポリウレタン樹脂ハンドブック」（岩田敬治 編、１９８６年 日刊工業新聞社）に詳しく記載されているが、通常、長鎖ジオール、短鎖ジオール（鎖延長剤と呼ばれることもある）とジイソシアネート化合物の付加重合によって得られる。長鎖ジオールは分子量５００〜５，０００のポリエステルジオール、ポリエーテルジオール、ポリエーテルエステルジオール、ポリカーボネートジオール、ポリオレフィンジオールなどが用いられる。この長鎖ポリオールの種類によりポリエステルウレタン、ポリエーテルウレタン、ポリエーテルエステルウレタン、ポリカーボネートウレタンなどと呼ばれる。

ポリエステルジオールとしてはアジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、などの脂肪族二塩基酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、テレフタル酸、ナフタレンジカルボン酸などの芳香族二塩基酸とグリコールとの縮重合によって得られる。グリコール成分としてはエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、水素化ビスフェノールＡなどがある。また、ポリエステルジオールにはこのほかに、ε−カプロラクトン、γ−バレロラクトンなどのラクトンを開環重合したポリカプロラクトンジオール、ポリバレロラクトンジオールなども用いることができる。

ポリエステルジオールは耐加水分解性の観点で分岐側鎖をもつもの、芳香族、脂環族の原料から得られるものが好ましい。ポリエーテルジオールとしてはポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、やビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、ビスフェノールＰ、水素化ビスフェノールＡなどの芳香族グリコールや脂環族ジオールにエチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどのアルキレンオキサイドを付加重合したものなどがある。これらの長鎖ジオールは複数の種類を併用、混合して用いることもできる。

短鎖ジオールとしては上記ポリエステルジオールのグリコール成分に例示したものと同じ化合物群の中から選ぶことができる。また３官能以上の多価アルコール例えばトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなどを少量併用すると分岐構造のポリウレタン樹脂が得られ溶液粘度を低下させたり、ポリウレタンの末端のＯＨ基を増やすことでイソシアネート系硬化剤との硬化性を高めることができる。

ジイソシアネート化合物としてはＭＤＩ（ジフェニルメタンジイソシアネート）、２，４−ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）、２，６−ＴＤＩ、１，５−ＮＤＩ（ナフタレンジイソシアネート）、ＴＯＤＩ（トリジンジイソシアネート）、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ＸＤＩ（キシリレンジイソシアネート）などの芳香族ジイソシアネート、トランスシクロヘキサン−１，４−ジイソシアネート、ＨＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）、ＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）、Ｈ₆ＸＤＩ（水素添加キシリレンジイソシアネート）、Ｈ₁₂ＭＤＩ（水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート）などの脂肪族、脂環族ジイソシアネートなどが用いられる。

ポリウレタン樹脂中の長鎖ジオール／短鎖ジオール／ジイソシアネートの好ましい組成は（８０〜１５重量％）／（５〜４０重量％）／（１５〜５０重量％）である。

ポリウレタン樹脂のウレタン基濃度は１〜５ｍｅｑ／ｇが好ましく、１．５〜４．５がより好ましい。この範囲では、十分な力学強度が得られ、溶液粘度が適度であり、分散性が適度である。

ポリウレタン樹脂のガラス転移温度は０〜２００℃が好ましく、４０〜１６０℃がより好ましい。この範囲では、十分な耐久性、成形性が得られ、優れた電磁変換特性が得られる。

ポリウレタン樹脂に前述した吸着官能基（極性基）を導入する方法としては官能基を長鎖ジオールのモノマーの一部に用いる方法、短鎖ジオールの一部に用いる方法やポリウレタンを重合した後、高分子反応で極性基を導入する方法などがある。

塩化ビニル系樹脂としては塩化ビニルモノマーに種々のモノマーと共重合したものが用いられる。

共重合モノマーとしては酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどの脂肪酸ビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリレート類、アリルメチルエーテル、アリルエチルエーテル、アリルプロピルエーテル、アリルブチルエーテルなどのアルキルアリルエーテル類、その他スチレン、α−メチルスチレン、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、エチレン、ブタジエン、アクリルアミド、更に官能基をもつ共重合モノマーとしてビニルアルコール、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、２−ヒドロキシプロピルアリルエーテル、３−ヒドロキシプロピルアリルエーテル、ｐ−ビニルフェノール、マレイン酸、無水マレイン酸、アクリル酸、メタクリル酸、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル、ホスホエチル（メタ）アクリレート、スルホエチル（メタ）アクリレート、ｐ−スチレンスルホン酸、及びこれらのＮａ塩、Ｋ塩などが用いられる。

塩化ビニル系樹脂中の塩化ビニルモノマーの組成は６０〜９５重量％が好ましい。上記の範囲内であると、良好な力学強度が得られると共に、溶剤溶解性が良好で、好適な溶液粘度のために良好な分散性が得られるので好ましい。

吸着官能基（極性基）、ポリイソシアネート系硬化剤との硬化性を高めるための官能基の好ましい量は前述したとおりである。これらの官能基の導入方法は上記の官能基含有モノマーを共重合しても良いし、塩ビ系樹脂を共重合した後、高分子反応で官能基を導入しても良い。

好ましい重合度は２００〜６００、更に好ましくは２４０〜４５０である。この範囲内にあると、良好な力学強度が得られると共に、好適な溶液粘度のために良好な分散性が得られるので好ましい。

本発明に使用する結合剤を架橋、硬化させ塗膜の力学強度や耐熱性高めるために硬化剤を用いることができる。好ましい硬化剤としてポリイソシアネート化合物がある。ポリイソシアネート化合物は３官能以上のポリイソシアネートが好ましい。

具体的にはトリメチロールプロパン（ＴＭＰ）にＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）を３モル付加した化合物、ＴＭＰにＨＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）を３モル付加した化合物、ＴＭＰにＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）を３モル付加した化合物、ＴＭＰにＸＤＩ（キシリレンジイソシアネート）を３モル付加した化合物、などアダクト型ポリイソシアネート化合物。ＴＤＩの縮合イソシアヌレート型３量体、ＴＤＩの縮合イソシアヌレート５量体、ＴＤＩの縮合イソシアヌレート７量体、及びこれらの混合物。ＨＤＩのイソシアヌレート型縮合物、ＩＰＤＩのイソシアヌレート型縮合物。さらにクルードＭＤＩなどがある。これらの中で好ましいのはＴＭＰにＴＤＩを３モル付加した化合物、ＴＤＩのイソシアヌレート型３量体などである。

イソシアネート系硬化剤以外に電子線あるいは紫外線などの放射線硬化性の硬化剤を用いても良い。この場合放射線硬化性官能基として（メタ）アクリロイル基を分子内に２個以上、好ましくは３個以上有する硬化剤を用いることができる。例えばＴＭＰ（トリメチロールプロパン）のトリアクリレート、ペンタエリスリトールのテトラアクリレート、ウレタンアクリレートオリゴマーなどがある。この場合、硬化剤のほかに結合剤にも（メタ）アクリロイル基を導入するのが好ましい。紫外線硬化の場合はこのほかに光増感剤が併用される。

硬化剤は結合剤１００重量部に対して０〜８０重量部添加するのが好ましい。上記の範囲内であると分散性が良好であるので好ましい。

結合剤の添加量は磁性層の場合は強磁性粉末１００重量部に対して、５〜３０重量部が好ましく、１０〜２０重量部が更に好ましい。

３．添加剤
本発明における磁性層には、必要に応じて添加剤を加えることができる。添加剤としては、研磨剤、潤滑剤、分散剤・分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、溶剤、カーボンブラックなどを挙げることができる。

これら添加剤としては、例えば、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、グラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基を持つシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホン酸、ベンジルホスホン酸基、フェネチルホスホン酸、α−メチルベンジルホスホン酸、１−メチル−１−フェネチルホスホン酸、ジフェニルメチルホスホン酸、ビフェニルホスホン酸、ベンジルフェニルホスホン酸、α−クミルホスホン酸、トルイルホスホン酸、キシリルホスホン酸、エチルフェニルホスホン酸、クメニルホスホン酸、プロピルフェニルホスホン酸、ブチルフェニルホスホン酸、ヘプチルフェニルホスホン酸、オクチルフェニルホスホン酸、ノニルフェニルホスホン酸等の芳香族環含有有機ホスホン酸およびそのアルカリ金属塩、オクチルホスホン酸、２−エチルヘキシルホスホン酸、イソオクチルホスホン酸、イソノニルホスホン酸、イソデシルホスホン酸、イソウンデシルホスホン酸、イソドデシルホスホン酸、イソヘキサデシルホスホン酸、イソオクタデシルホスホン酸、イソエイコシルホスホン酸等のアルキルホスホン酸およびそのアルカリ金属塩、リン酸フェニル、リン酸ベンジル、リン酸フェネチル、リン酸α−メチルベンジル、リン酸１−メチル−１−フェネチル、リン酸ジフェニルメチル、リン酸ビフェニル、リン酸ベンジルフェニル、リン酸α−クミル、リン酸トルイル、リン酸キシリル、リン酸エチルフェニル、リン酸クメニル、リン酸プロピルフェニル、リン酸ブチルフェニル、リン酸ヘプチルフェニル、リン酸オクチルフェニル、リン酸ノニルフェニル等の芳香族リン酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、リン酸オクチル、リン酸２−エチルヘキシル、リン酸イソオクチル、リン酸イソノニル、リン酸イソデシル、リン酸イソウンデシル、リン酸イソドデシル、リン酸イソヘキサデシル、リン酸イソオクタデシル、リン酸イソエイコシル等のリン酸アルキルエステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキルスルホン酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、エルカ酸等の炭素数１０〜２４の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい一塩基性脂肪酸およびこれらの金属塩、またはステアリン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ラウリル酸ブチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレート等の炭素数１０〜２４の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい一塩基性脂肪酸と炭素数２〜２２の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい１〜６価アルコール、炭素数１２〜２２の不飽和結合を含んでも分岐していてもよいアルコキシアルコールまたはアルキレンオキサイド重合物のモノアルキルエーテルのいずれか一つとからなるモノ脂肪酸エステル、ジ脂肪酸エステルまたは多価脂肪酸エステル、炭素数２〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミンなどが使用できる。また、上記炭化水素基以外にもニトロ基およびＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＣＦ₃、ＣＣｌ₃、ＣＢｒ₃等の含ハロゲン炭化水素等炭化水素基以外の基が置換したアルキル基、アリール基、アラルキル基を持つものでもよい。

また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルホン酸、硫酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸またはリン酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。

上記分散剤、潤滑剤等は必ずしも純粋ではなく主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれても構わない。これらの不純分は３０重量％以下が好ましく、さらに好ましくは１０重量％以下である。

これらの添加物の具体例としては、例えば、日本油脂社製：ＮＡＡ−１０２、ヒマシ油硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２、カチオンＳＡ、ナイミーンＬ−２０１、ノニオンＥ−２０８、アノンＢＦ、アノンＬＧ、竹本油脂社製：ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製：エヌジエルブＯＬ、信越化学社製：ＴＡ−３、ライオンアーマー社製：アーマイドＰ、ライオン社製：デュオミンＴＤＯ、日清製油社製：ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製：プロフアン２０１２Ｅ、ニューポールＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００等が挙げられる。

４．有機溶剤
本発明において、磁性層で用いられる有機溶剤は、公知のものが使用できる。有機溶剤は、任意の比率で、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾールなどの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン、テトラヒドロフラン等を使用することができる。

これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は磁性層と非磁性層でその種類は同じであることが好ましい。その添加量は変えてもかまわない。非磁性層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性を上げる、具体的には上層溶剤組成の算術平均値が非磁性層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５以上の溶剤が５０％以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメータは８〜１１であることが好ましい。

本発明において磁性層で用いられるこれらの分散剤、潤滑剤、界面活性剤は磁性層および後述する非磁性層でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。例えば、無論ここに示した例のみに限られるものではないが、分散剤は極性基で吸着もしくは結合する性質を有しており、磁性層においては主に強磁性粉末の表面に、また後述する非磁性層においては主に非磁性粉末の表面に前記の極性基で吸着もしくは結合し、一度吸着した有機リン化合物は金属あるいは金属化合物等の表面から脱着しがたいと推察される。したがって、本発明の強磁性粉末表面あるいは後述する非磁性粉末表面は、アルキル基、芳香族基等で被覆されたような状態になるので、強磁性粉末あるいは非磁性粉末の結合剤樹脂成分に対する親和性が向上し、さらに強磁性粉末あるいは非磁性粉末の分散安定性も改善される。また、潤滑剤としては遊離の状態で存在するため非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を非磁性層で多くして潤滑効果を向上させるなどが考えられる。また本発明で用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性層あるいは非磁性層用塗料の製造時のいずれの工程で添加してもよい。例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。

５．カーボンブラック
本発明における磁性層には、必要に応じてカーボンブラックを添加することができる。カーボンブラックを添加すると公知の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げることができ、光透過率を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビッカース硬度を得る事ができる。カーボンブラックの種類はゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。

カーボンブラックは単独または組み合わせで使用することができる。カーボンブラックを使用する場合、強磁性粉末の重量に対して０．１〜３０重量％で用いることが好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。したがって本発明で使用されるこれらのカーボンブラックは、磁性層でその種類、量、組み合わせを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性を基に目的に応じて使い分けることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきものである。

カーボンブラックの比表面積は１００〜５００ｍ²／ｇであることが好ましく、より好ましくは１５０〜４００ｍ²／ｇである。ジブチルフタレート（ＤＢＰ）吸油量は好ましくは２０〜４００ｍｌ／１００ｇであり、より好ましくは３０〜２００ｍｌ／１００ｇである。カーボンブラックの粒子径は５〜８０ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１０〜５０ｎｍであり、１０〜４０ｎｍがさらに好ましい。カーボンブラックのｐＨは２〜１０であることが好ましく、含水率は０．１〜１０％であることが好ましく、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌであることが好ましい。

本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００，１３００，１０００，９００，８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業社製＃３０５０Ｂ，＃３１５０Ｂ，＃３２５０Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ−６００，ＭＡ−２３０，＃４０００，＃４０１０、コロンビアカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８００，８０００，７０００，５７５０，５２５０，３５００，２１００，２０００，１８００，１５００，１２５５，１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣ、ケッチェン・ブラック・インターナショナル社製ケッチェンブラックＥＣなどが挙げられる。
また、本発明に用いることができるカーボンブラックは、例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。

III．非磁性層
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に結合剤および非磁性粉末を含む非磁性層を有していてもよい。非磁性層に使用できる非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。また、非磁性層には非磁性粉末と共に、必要に応じてカーボンブラックを混合してもよい。

１．非磁性粉末
次に非磁性層に関する詳細な内容について説明する。本発明の磁気記録媒体は、平滑化層である放射線硬化層を設けた非磁性支持体上に結合剤及び非磁性粉末を含む非磁性層を有していてもよい。非磁性層には、実質的に非磁性である範囲で磁性粉末を使用してもよいが、非磁性粉末を用いることが好ましい。非磁性層に使用できる非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機物質としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物などが挙げられる。具体的には二酸化チタン等のチタン酸化物、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ₂、ＳｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃、α化率９０〜１００％のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、２硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＢａＣＯ₃、ＳｒＣＯ₃、ＢａＳＯ₄、炭化珪素、炭化チタンなどが単独又は２種類以上を組み合わせて使用される。好ましいのは、α−酸化鉄、酸化チタンである。

非磁性粉末の形状は、針状、球状、多面体状、板状のいずれでもあってもよい。非磁性粉末の結晶子サイズは、４ｎｍ〜１μｍが好ましく、４０〜１００ｎｍがさらに好ましい。結晶子サイズが上記の範囲内であれば、分散性が良く、適度な表面粗さを有する。これら非磁性粉末の平均粒径は、５ｎｍ〜２μｍが好ましいが、必要に応じて平均粒径の異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くしたりして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましい非磁性粉末の平均粒径は、１０〜２００ｎｍである。５ｎｍ〜２μｍの範囲内であれば、分散性も良好で、かつ好適な表面粗さを有する。

非磁性粉末の比表面積は、１〜１００ｍ²／ｇが好ましく、５〜７０ｍ²／ｇがより好ましく、１０〜６５ｍ²／ｇが更に好ましい。比表面積が上記の範囲内であると、好適な表面粗さを有し、かつ、所望の結合剤量で分散できる。

ＤＢＰを用いた吸油量は、５〜１００ｍｌ／１００ｇが好ましく、１０〜８０ｍｌ／１００ｇがより好ましく、２０〜６０ｍｌ／１００ｇが更に好ましい。

比重は好ましくは１〜１２、より好ましくは３〜６である。タップ密度は好ましくは０．０５〜２ｇ／ｍｌ、より好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。タップ密度が上記の範囲内であると、飛散する粒子が少なく操作が容易であり、また装置にも固着しにくくなる傾向がある。

非磁性粉末のｐＨは２〜１１であることが好ましいが、ｐＨは６〜９の間が特に好ましい。ｐＨが２〜１１の上記の範囲内であると、高温、高湿下又は脂肪酸の遊離により摩擦係数が大きくなることはない。非磁性粉末の含水率は、好ましくは０．１〜５重量％、より好ましくは０．２〜３重量％、さらに好ましくは０．３〜１．５重量％である。含水量が上記の範囲内であると、分散性も良好で、塗料粘度も安定する。強熱減量は、２０重量％以下であることが好ましく、強熱減量が小さいものが好ましい。

また、非磁性粉末が無機粉末である場合には、モース硬度は４〜１０のものが好ましい。モース硬度が４〜１０の範囲であれば耐久性を確保することができる。非磁性粉末のステアリン酸吸着量は１〜２０μｍｏｌ／ｍ²が好ましく、２〜１５μｍｏｌ／ｍ²が更に好ましい。非磁性粉末の２５℃での水への湿潤熱は、２０〜６０μＪ／ｃｍ²（２００〜６００ｅｒｇ／ｃｍ²）の範囲にあることが好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができる。１００〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０個／１００Åが適当である。水中での等電点のｐＨは、３〜９の間にあることが好ましい。

これらの非磁性粉末の表面にはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＺｎＯで表面処理することが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂であるが、さらに好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂である。これらは組み合わせて使用してもよいし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いてもよいし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。

本発明において非磁性層に用いられる非磁性粉末の具体的な例としては、例えば、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製ＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＢ−５５０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＲＸ、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、ＭＪ−７、α−酸化鉄Ｅ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、チタン工業製ＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、Ｔ−６００Ｂ、Ｔ−１００Ｆ、Ｔ−５００ＨＤなどが挙げられる。堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ₂Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ、５００Ａ、チタン工業製Ｙ−ＬＯＰ及びそれを焼成したものが挙げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。

非磁性層には非磁性粉末と共に、カーボンブラックを混合し表面電気抵抗を下げ、光透過率を小さくすると共に、所望のμビッカース硬度を得ることができる。非磁性層のμビッカース硬度は、好ましくは２５〜６０ｋｇ／ｍｍ²、より好ましくはヘッド当りを調整するために、３０〜５０ｋｇ／ｍｍ²である。μビッカーズ硬度は薄膜硬度計（日本電気製ＨＭＡ−４００）を用いて、稜角８０度、先端半径０．１μｍのダイヤモンド製三角錐針を圧子先端に用いて測定することができる。光透過率は一般に波長９００ｎｍ程度の赤外線の吸収が３％以下、たとえばＶＨＳ用磁気テープでは０．８％以下であることが規格化されている。このためにはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。

本発明において非磁性層に用いられるカーボンブラックの比表面積は好ましくは１００〜５００ｍ²／ｇ、より好ましくは１５０〜４００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は好ましくは２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、より好ましくは３０〜２００ｍｌ／１００ｇである。カーボンブラックの粒子径は好ましくは５〜８０ｎｍ、より好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。

本発明において非磁性層に用いることができるカーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、８００、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業社製＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、コロンビアカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ８８００、８０００、７０００、５７５０、５２５０、３５００、２１００、２０００、１８００、１５００、１２５５、１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣ、ケッチェン・ブラック・インターナショナル社製ケッチェンブラックＥＣなどが挙げられる。

また、カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上記無機質粉末に対して５０重量％を越えない範囲、非磁性層総重量の４０％を越えない範囲で使用することが好ましい。これらのカーボンブラックは単独、または組み合わせで使用することができる。本発明の非磁性層で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。

また非磁性層には目的に応じて有機粉末を添加することもできる。このような有機粉末としては、例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は、特開昭６２−１８５６４号公報、特開昭６０−２５５８２７号公報に記されているようなものが使用できる。

IV．非磁性支持体
本発明に用いることのできる非磁性支持体としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましい。

これらの支持体はあらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理などを行ってもよい。また、本発明に用いることのできる非磁性支持体の表面粗さはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて中心平均粗さＲａが３〜１０ｎｍであることが好ましい。

V．バックコート層
一般に、コンピュータデータ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオテープに比較して繰り返し走行性が強く要求される。このような高い保存安定性を維持させるために、非磁性支持体の非磁性層および磁性層が設けられた面とは反対の面にバックコート層を設けることもできる。バックコート層用塗料は、研磨剤、帯電防止剤などの粒子成分と結合剤とを有機溶媒に分散させたものを用いる。粒状成分として各種の無機顔料やカーボンブラックを使用することができる。また、結合剤としては、例えば、ニトロセルロース、フェノキシ樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン等の樹脂を単独またはこれらを混合して使用することができる。

VI．層構成
非磁性支持体の好ましい厚みは、３〜８０μｍである。また、非磁性支持体の非磁性層および磁性層が設けられた面とは反対側の面に設けられたバックコート層の厚みは、好ましくは０．１〜１．０μｍ、より好ましくは０．２〜０．８μｍである。

磁性層の厚みは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化されるものであるが、好ましくは０．０１〜０．１２μｍであり、更に好ましくは０．０２〜０．１０μｍである。また、磁性層の厚み変動率は±５０％以内が好ましく、さらに好ましくは±４０％以内である。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。

本発明においては非磁性層を有するか否かは任意である。非磁性層を有する構成の場合、非磁性層の厚みは、０．２〜３．０μｍであることが好ましく、０．３〜２．５μｍであることがより好ましく、０．４〜２．０μｍであることがさらに好ましい。なお、本発明の磁気記録媒体の非磁性層は、実質的に非磁性であればその効果を発揮するものであり、例えば不純物として、あるいは意図的に少量の磁性体を含んでいても、本発明の効果を示すものであり、本発明の磁気記録媒体と実質的に同一の構成とみなすことができる。なお、実質的に同一とは、非磁性層の残留磁束密度が１０ｍＴ（１００Ｇ）以下または抗磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であることを示し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力を持たないことを意味する。

VII．製造方法
本発明で用いられる磁気記録媒体の非磁性層や磁性層用塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いられる強磁性粉末または強磁性金属粉末、非磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨材、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。

放射線硬化層を作製する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。例えば、放射線硬化性単量体及び連鎖移動剤を有機溶剤や水等の溶媒に溶解した混合液を非磁性支持体上に塗布した後に乾燥させ、その後に放射線照射して放射線硬化層を硬化させる工程が好ましく挙げられる。

本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。ニーダを用いる場合は磁性粉末または非磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部（但し、全結合剤の３０％以上が好ましい）および強磁性粉末１００重量部に対し１５〜５００重量部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報、特開平１−７９２７４号公報に記載されている。また、磁性層用塗料および非磁性層用塗料を分散させるには、ガラスビーズを用いることができる。このようなガラスビーズは、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。分散機は公知のものを使用することができる。

本発明の磁気記録媒体の製造方法は、例えば、走行下にある非磁性支持体の表面に所定の膜厚となるように平滑化層である放射線硬化層を設け、更にその上に非磁性層用塗料又は磁性層用塗料を所定の膜厚となるように塗布する。ここで複数の磁性層用塗料を逐次あるいは同時に重層塗布してもよく、平滑化層から一層目に磁性層用塗料を、二層目に磁性層用塗料を逐次あるいは同時に重層塗布してもよい。また、平滑化層から一層目に非磁性層用塗料を、二層目には磁性層用塗料を逐次あるいは同時に重層塗布してもよい。上記磁性層用塗料もしくは非磁性層用塗料を塗布する塗布機としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等が利用できる。これらについては例えば（株）総合技術センター発行の「最新コーティング技術」（昭和５８年５月３１日）を参考にできる。

磁性層塗料の塗布層は、磁気テープの場合、磁性層塗料の塗布層中に含まれる強磁性粉末にコバルト磁石やソレノイドを用いて長手方向に磁場配向処理を施す。ディスクの場合、配向装置を用いず無配向でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コバルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用いることが好ましい。等方的な配向とは強磁性金属粉末の場合、一般的には面内２次元ランダムが好ましいが、垂直成分をもたせて３次元ランダムとすることもできる。六方晶フェライトの場合は一般的に面内および垂直方向の３次元ランダムになりやすいが、面内２次元ランダムとすることも可能である。また異極対向磁石など公知の方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方的な磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録を行う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコートを用いて円周配向としてもよい。

乾燥風の温度、風量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御できるようにすることが好ましく、塗布速度は２０〜１，０００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい。また磁石ゾーンに入る前に適度の予備乾燥を行うこともできる。

乾燥された後、塗布層に表面平滑化処理を施す。表面平滑化処理には、例えばスーパーカレンダーロールなどが利用される。表面平滑化処理を行うことにより、乾燥時の溶剤の除去によって生じた空孔が消滅し磁性層中の強磁性粉末の充填率が向上するので、電磁変換特性の高い磁気記録媒体を得ることができる。

カレンダ処理ロールとしてはエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の耐熱性プラスチックロールを使用する。また金属ロールで処理することもできる。本発明の磁気記録媒体は、極めて優れた平滑性を有する表面であることが好ましい。例えば上述したように特定の強磁性粉末と結合剤を選んで形成した磁性層を上記カレンダ処理を施すことにより平滑化処理が行われる。カレンダ処理条件としては、カレンダーロールの温度は好ましくは６０〜１００℃の範囲、より好ましくは７０〜１００℃の範囲、特に好ましくは８０〜１００℃の範囲であり、圧力は好ましくは１００〜５００ｋｇ／ｃｍ、より好ましくは２００〜４５０ｋｇ／ｃｍの範囲、特に好ましくは３００〜４００ｋｇ／ｃｍの範囲の条件で作動させることによって行われることが好ましい。

熱収縮率低減手段として、低テンションでハンドリングしながらウエッブ状で熱処理する方法と、バルクまたはカセットに組み込んだ状態などテープが積層した形態で熱処理する方法（サーモ処理）があり、両者が利用できる。前者は、バックコート層表面の突起写りの影響が少ないが、熱収縮率を大きく下げることができない。一方、後者のサーモ処理は、熱収縮率を大幅に改善できるが、バックコート層表面の突起写りの影響を強く受けると、磁性層が面荒れし、出力低下およびノイズ増加を引き起こす。特に、サーモ処理を伴う磁気記録媒体で、高出力、低ノイズの磁気記録媒体を供給することができる。得られた磁気記録媒体は、裁断機、打抜機などを使用して所望の大きさに裁断して使用することができる。

VIII．物理特性等
１．放射線硬化層
（１）残存単量体量
ポリエチレンナフタレート支持体上に放射線硬化層用混合液を塗布後に乾燥させ、さらに放射線照射により硬化させ、放射線硬化層のサンプルを得た。得られたサンプル中に含まれる未硬化の単量体をメチルエチルケトン溶媒中で４０℃で２時間抽出した。抽出された単量体を高速液体クロマトグラフィーを用いて定量化し、放射線硬化層固形分１００重量部中の残存単量体量として算出した。残存単量体量は８％未満が好ましい。より好ましくは６％未満、さらに好ましくは４％未満である。上記の範囲内であると、低摩擦係数であり、耐久性に優れた磁気記録媒体が得られる。残存単量体は用いるチオール化合物と放射線硬化性単量体のいずれかかこれらの混合物である。

（２）平均粗さ
本発明において、カットオフ値０．２５ｍｍにおける放射線硬化層の平均粗さ（Ｒａ）は１〜３ｎｍであることが好ましい。上記の範囲内であると、塗布工程でパスロールに張り付き故障が無く、十分な平滑性が得られる。

（３）ガラス転移温度
本発明において、放射線硬化層のガラス転移温度は８０〜１５０℃であることが好ましく、１００〜１３０℃であることがより好ましい。ガラス転移温度が上記の範囲内であると、塗布工程で粘着故障を生じることがなく優れた塗膜強度が得られる。

（４）弾性率
本発明において、放射線硬化層の弾性率は１．５〜１０ＧＰａであることが好ましく、２〜１０ＧＰａであることがより好ましい。弾性率が上記の範囲内であると、粘着故障がなく、優れた塗膜強度の放射線硬化層が得られる。

２．磁性層・非磁性層
（１）残留のび、熱収縮率
磁性層、非磁性層の残留のびは、好ましくは０．５％以下である。１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は、好ましくは１％以下、より好ましくは０．５％以下、さらに好ましくは０．１％以下である。

（２）ガラス転移温度、損失弾性率、損失正接
磁性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０〜１８０℃が好ましく、非磁性層のそれは０〜１８０℃が好ましい。損失弾性率は１×１０⁷〜８×１０⁸Ｐａ（１×１０⁸〜８×１０⁹ｄｙｎｅ／ｃｍ²）の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が０．２以下であると粘着故障が発生し難いので好ましい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各方向において１０％以内でほぼ等しいことが好ましい。

（３）弾性率、破断強度
磁性層の０．５％伸びでの弾性率は、面内各方向で好ましくは０．９８〜１９．６ＧＰａ（１００〜２，０００ｋｇ／ｍｍ²）である。破断強度は、好ましくは９８〜６８６ＭＰａ（１０〜７０ｋｇ／ｍｍ²）である。

（４）磁性層の表面形状
磁性層のデジタルオプティカルプロフィメーターＴＯＰＯ−３Ｄ（ＷＡＫＯ製）で測定した中心面表面粗さＲａは、好ましくは４．０ｎｍ以下であり、より好ましくは３．０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは２．０ｎｍ以下である。磁性層の最大高さＳＲ_maxは、０．５μｍ以下、十点平均粗さＳＲｚは０．３μｍ以下、中心面山高さＳＲｐは０．３μｍ以下、中心面谷深さＳＲｖは０．３μｍ以下、中心面面積率ＳＳｒは２０〜８０％、平均波長Ｓλａは５〜３００μｍが好ましい。磁性層の表面突起は０．０１〜１μｍの大きさのものを１００μｍ²当たり０〜２，０００個の範囲で任意に設定することが可能であり、これにより電磁変換特性、摩擦係数を最適化することが好ましい。これらは支持体のフィラーによる表面性のコントロールや磁性層に添加する粉末の粒径と量、カレンダ処理のロール表面形状などで容易にコントロールすることができる。カールは±３ｍｍ以内とすることが好ましい。

（５）飽和磁束密度
本発明に用いられる磁気記録媒体の磁性層の飽和磁束密度は、１００〜３００ｍＴ（１，０００〜３，０００Ｇ）であることが好ましい。

（６）抗磁力
磁性層の抗磁力（Ｈｒ）は、１４３．３〜３１８．４ｋＡ／ｍ（１，８００〜４，０００Ｏｅ）であることが好ましく、１５９．２〜２７８．６ｋＡ／ｍ（２，０００〜３，５００Ｏｅ）がより好ましい。抗磁力の分布は狭い方が好ましく、ＳＦＤおよびＳＦＤｒは好ましくは０．６以下、さらに好ましくは０．２以下である。

（７）帯電位
磁性層の帯電位は−５００〜＋５００Ｖ以内が好ましい。

（８）残留溶媒、空隙率
磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²以下である。塗布層が有する空隙率は非磁性層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるディスク媒体では空隙率が大きい方が保存安定性は好ましいことが多い。

本発明の磁気記録媒体における非磁性層と磁性層と間では、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし保存安定性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りをよくするなどである。

３．磁気記録媒体
（１）摩擦係数
２３℃、５０％ＲＨ環境にて、磁性層面をＳＵＳ４２０部材に接触させて荷重５０ｇをかけ、１４ｍｍ／ｓｅｃで繰り返し１０パス摺動させ、１０パス目の摩擦係数を測定値とする。好ましい摩擦係数の値は０．３２以下、より好ましくは０．３以下である。上記の数値範囲内であると、走行耐久性に優れる。

（２）飽和磁化量
本発明の磁気記録媒体は、磁気記録媒体に磁気記録された信号を再生するヘッドについては特に制限はないが、ＭＲヘッドのために用いることが好ましい。本発明の磁気記録媒体の再生にＭＲヘッドを用いる場合、ＭＲヘッドには特に制限はなく、例えばＧＭＲヘッドやＴＭＲヘッドを用いることもできる。また、磁気記録に用いるヘッドは特に制限されないが、飽和磁化量が好ましくは１．０Ｔ以上であり、１．５Ｔ以上であることがより好ましい。

（３）弾性率
磁気記録媒体の弾性率は、面内各方向で好ましくは０．９８〜１４．７ＧＰａ（１００〜１，５００ｋｇ／ｍｍ²）である。

以下、実施例に基づき本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。実施例中の「部」の表示は「重量部」を示す。

＜実施例１＞
１，４−ブタンジオールジアクリレート ８５部
トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）（Ｔ−１） １５部
メチルエチルケトン（以下、ＭＥＫという） ４００部
を混合し、２０分間撹拌したものを平均孔径１μｍのフィルターで濾過し、放射線硬化層用の混合液を調製した。

＜磁性層用磁性塗料の調整＞
強磁性合金粉末Ａ（組成：Ｆｅ １００原子％に対して、Ｃｏ ２０％、Ａｌ ９％、Ｙ ６％、Ｈｃ １７５ｋＡ／ｍ、結晶子サイズ １１ｎｍ、ＢＥＴ比表面積 ７０ｍ²／ｇ、長軸長 ４５ｎｍ、σｓ １１１ｅｍｕ／ｇ） １００部
をオープンニーダーで１０分間粉砕し、
塩化ビニル系共重合体（日本ゼオン（株）製ＭＲ１１０）のシクロヘキサノン３０％溶液 ３０部
ポリウレタン樹脂（東洋紡製ＵＲ８２００）のＭＥＫ／トルエン＝１／１ ３０％溶液
３０部
を添加して６０分間混練し、次いで、
α−アルミナ（住友化学（株）製ＨＩＴ５５） １０部
カーボンブラック（旭カーボン（株）製＃５０） ３部
ＭＥＫ／トルエン＝１／１ ２００部
を加えてサンドミルで１２０分間分散した。
これに、
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン工業（株）製コロネート３０４１） ＭＥＫ／トルエン＝１／１ ３０％溶液 １５部
ステアリン酸 １部
ミリスチン酸 １部
イソヘキサデシルステアレート ３部
ＭＥＫ １００部
を加え、さらに２０分間撹拌混合したあと、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性塗料を調製した。

＜非磁性用非磁性塗料の調整＞
針状α酸化鉄（長軸長１００ｎｍ、表面処理層；アルミナ、Ｓ_BET ５２ｍ²／ｇ、ｐＨ ９．４） ８５部
及び、
カーボンブラック（ケッチェン・ブラック・インターナショナル社製ケッチェンブラックＥＣ） １５部
をオープンニーダーで１０分間粉砕し、次いで、
塩化ビニル系共重合体（日本ゼオン（株）製ＭＲ１１０）のシクロヘキサノン３０％溶液 ３０部
ポリウレタン樹脂（東洋紡製ＵＲ８２００） ＭＥＫ／トルエン＝１／１ ３０％溶液
３０部
シクロヘキサノン ２０部
を添加して６０分間混練し、次いで、
ＭＥＫ／シクロヘキサノン＝６／４ ２００部
を加えてサンドミルで１２０分間分散した。これに、
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン工業（株）製コロネート３０４１） ＭＥＫ／トルエン＝１／１の３０％溶液 １５部
ステアリン酸 １部
ミリスチン酸 １部
イソオクチルステアレート ３部
ＭＥＫ ５０部
を加え、さらに２０分間撹拌混合した後、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性塗料を調製した。

放射線硬化層用の混合液を乾燥後の厚みが０．５μｍになる様にコイルバーを用いてポリエチレンナフタレート支持体（厚み７μｍ、中心平均表面粗さＲａ６．２ｎｍ）の表面に塗布した後、１００℃で９０秒乾燥させ、酸素濃度４％の雰囲気下、加速電圧１００ｋＶの電子線を吸収線量が２０ｋＧｙ（グレイ）になるように照射し硬化させた。

引き続き放射線硬化層の上に非磁性塗料を、さらにその上に磁性塗料を、乾燥後の厚みがそれぞれ１．０μｍ、０．１μｍになる様にリバースロールを用いて同時重層塗布した。磁性塗料が未乾燥の状態で５，０００ガウスのＣｏ磁石と４，０００ガウスのソレノイド磁石で磁場配向を行ない、溶剤を乾燥させたものを金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロールの組み合わせによるカレンダ処理を速度１００ｍ／ｍｉｎ、線圧３００ｋｇ／ｃｍ、温度９０℃で行い、更に５０℃で７日間熱処理し、３．８ｍｍ幅にスリットした。

＜実施例２〜実施例７＞
実施例１に記載の例において、化合物（Ｔ−１）を化合物（Ｔ−２）〜（Ｔ−７）に変更した以外は同様にして行った。
（Ｔ−２） １，４−ブタンジオールジチオグリコレート（２官能）
（Ｔ−３） ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）（４官能）
（Ｔ−４） １，６−へキサンジチオール（２官能）
（Ｔ−５） トリ（３−メルカプトプロピオン酸）トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート（３官能）
（Ｔ−６） ジペンタエリスリトールヘキサ（３−メルカプトプロピオネート）（６官能）
（Ｔ−７） ３−メルカプトプロピオン酸４−メトキシブチル（１官能）

＜実施例８〜実施例２３＞
表１に示す条件を用いた以外は同様にして実施した。

＜比較例１＞
実施例１記載の例において、放射線硬化層を適用せず、非磁性層の厚みを１．０μｍから１．５μｍに変更した以外は同様にして行った。

＜比較例２＞
実施例１に記載の例において、放射線硬化層を構成する化合物（Ｔ−１）を適用せずに単量体を全量１，４−ブタンジオールジアクリレートとした以外は同様にして行った。

＜比較例３＞
実施例１に記載の例において、放射線硬化層を全量化合物（Ｔ−１）とした以外は同様にして行った。

＜測定方法＞
（１）放射線硬化層の厚み測定
磁気記録媒体の切片を５つ作製し、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いてそれぞれの切片における放射線硬化層の厚みを測定して平均値を算出し、放射線硬化層の厚みとした。

（２）残存単量体量
ポリエチレンナフタレート支持体上に放射線硬化層用混合液を塗布後に乾燥させ、さらに放射線照射により硬化させ、放射線硬化層のサンプルを得た。得られたサンプル中に含まれる未硬化の単量体をメチルエチルケトン溶媒中で４０℃で２時間抽出した。抽出された単量体を高速液体クロマトグラフィーを用いて定量化し、放射線硬化層固形分１００部中の残存単量体量（重量％）として算出した。

（３）磁性層表面粗さＲａ
デジタルオプティカルプロフィメーター（ＷＹＫＯ製）を用い光干渉法によりカットオフ０．２５ｍｍの条件で中心線平均粗さＲａを測定した。

（４）摩擦係数
２３℃・５０％ＲＨ環境にて磁性層面をＳＵＳ４２０部材に接触させて荷重５０ｇをかけ、１４ｍｍ／ｓｅｃで繰り返し１０パス摺動させ、１０パス目の摩擦係数を測定した。

（５）密着力
ガラス板上に両面接着テープを貼り、その上に磁性層面が接着テープに接するようにテープサンプルを貼り、角度１８０°剥離法で引きはがしたときの力をバネ秤で測定した。

（６）電磁変換特性
ＤＤＳ３ドライブにて４．７ＭＨｚの単一周波数信号を最適記録電流で記録し、その再生出力を測定した。比較例１の再生出力を０ｄＢとした相対値で示した。

（７）エラー回数
上記の磁気記録再生システムを用いて１トラック９０ｍ長で再生を行い、出力落ちが３５％以上かつ４ビット以上の長さの信号欠陥をエラーとして発生回数を測定した。

（８）走行耐久性
テープを４０℃・３０％ＲＨ環境下で前記（６）のＤＤＳ３ドライブで１分長を繰り返し１，０００回走行させた後のヘッド汚れを観察した。ヘッド汚れが確認されなかったものを○、やや汚れが確認されたものを△、汚れが確認されたものを×とした。また、走行後のテープエッジ部を観察し、クラック発生が見られたものを△、クラック発生部から磁性層が脱落しているものを×、クラックも脱落も起きなかったものを○とした。

（９）保存安定性
６０℃・９０％ＲＨ環境下で１週間保存したテープを上記と同様の条件で走行させ、ヘッド汚れを観察した。ヘッド汚れが確認されなかったものを○、やや汚れが確認されたものを△、汚れが確認されたものを×とした。

以下、表１に実施例１〜２３及び比較例１〜３の評価結果を示す。ここで、放射線硬化性単量体の略称は以下の通りである。ＢＤＤＡは１，４−ブタンジオールジアクリレート、ＴＭＴＡはトリメチロールプロパントリアクリレート、ＰＥＴＡはペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＢＰＡは、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、ＵＲは、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとヒドロキシエチルアクリレートとが縮合したウレタンジアクリレート（ダイセル・サイテック（株）製Ｅｂｅｃｒｙｌ４８５８）又、ＴＣＤＡはトリシクロデカンジメタノールジアクリレート（共栄社化学（株）製ＤＣＰ−Ａ）を示す。

実施例１の磁気記録媒体は、酸素濃度が４％と高い環境にも関わらず、放射線処理後の残存単量体量が少なく充分に硬化しており、また表面平滑性が高いために電磁変換特性やエラー特性に優れ、摩擦係数が低く耐久性にも優れていた。

放射線硬化層を含まない比較例１の磁気記録媒体は、表面粗さの測定値が高くなり、走行耐久試験後のエッジダメージが発生し、エラー回数も満足できるレベルに無い。

連鎖移動剤を含まない比較例２の磁気記録媒体は、残存単量体量が非常に多いために摩擦係数が非常が高く、その結果としてエラー回数や走行耐久性、保存性が劣った。

放射線硬化性単量体を含まない比較例３の磁気記録媒体は、放射線処理後には全く硬化していなかったために、磁気記録媒体とすることが出来なかった。

連鎖移動剤を（Ｔ−１）から（Ｔ−２）〜（Ｔ−７）に変更した実施例２〜７の磁気記録媒体は、放射線による硬化後の残存単量体量が少なく、また表面平滑性が高いために電磁変換特性やエラー特性に優れ、摩擦係数が低く耐久性にも優れていた。これらのうち、単官能チオールである（Ｔ−７）を用いた磁気記録媒体は残存単量体量が多くなる傾向が見られ、逆にチオールの官能基数の増加に伴い残存単量体量がより少なくなる傾向が見られた。

実施例１の放射線硬化性単量体ＢＤＤＡを表１に示すものに変更することにより、実施例８〜１２の磁気記録媒体を作製した。
ＢＤＤＡは１，４−ブタンジオールジアクリレート、ＴＭＴＡはトリメチロールプロパントリアクリレート、ＰＥＴＡはペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＰＢＡは２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、ＵＲはトリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとヒドロキシエチルアクリレートとが縮合したウレタンジアクリレート、ＴＣＤＡはトリシクロデカンジメタノールジアクリレートを示す。単量体を変更した結果、磁気記録媒体の表面平滑性や電磁変換特性、耐久性、保存性等、いずれの項目においても大きな変化は無かった。このように放射線硬化性単量体を変更してもほぼ同様の結果が得られることがわかった。

用いる連鎖移動剤（Ｔ−１）の使用比率を表１に示すように変更し、実施例１３〜実施例１７の磁気記録媒体を得た。使用比率を変更した結果、いずれも放射線硬化層の残存単量体量が少なく、磁気記録媒体の表面平滑性が高いために電磁変換特性やエラー特性に優れ、摩擦係数が低く耐久性にも優れていた。ただし、用いる連鎖移動剤（Ｔ−１）の使用比率に応じて残存単量体量は変化しており、放射線硬化層固形分１００部中に２部の場合、および５０部の場合には残存単量体量が増加し、その結果、摩擦係数の上昇や走行耐久試験後のヘッド汚れや保存安定性が悪化する傾向が見られた。

非磁性層を適用しない実施例１８の磁気記録媒体は、放射線硬化後の残存単量体量が少なく、また表面平滑性が高いために電磁変換特性やエラー特性に優れ、摩擦係数が低く耐久性にも優れていた。実施例１と結果を併せて、本発明の目的を解決する手段としては非磁性層の適用については任意である。

放射線照射により放射線硬化層を形成する際の酸素濃度は残存単量体量に大きく影響を与えることは無く、大気（酸素濃度約２１％）においても実用上は充分硬化可能であるが、残存単量体良を低減させるとの命題に対してはやはり酸素濃度が低い方が好ましく、より好ましい酸素濃度は１０％以下、さらに好ましくは５％以下である。

放射線硬化層の厚みが０．３〜１．４μｍにおいては、良好な結果が得られた。放射線硬化層を設けない場合や、厚みが薄くなる場合は表面粗さが増大する傾向にあり、厚くなる場合には磁気記録媒体としての密着力が低下する傾向にあったため、好ましい放射線硬化層の厚みは０．１〜１．５μｍである。

以上の結果より、非磁性支持体上に、放射線硬化性単量体及び連鎖移動剤を含む層を放射線照射により硬化させた放射線硬化層を有することを特徴とする磁気記録媒体は、平滑性に優れ、摩擦係数が低く、電磁変換特性、エラー特性に優れ、走行耐久性、保存安定性に優れていた。また、高い酸素濃度雰囲気下で残存単量体量の少ない放射線硬化層が得られた。

Claims (6)

1. 非磁性支持体上に、放射線硬化性単量体及び連鎖移動剤を含む層を放射線照射により硬化させた放射線硬化層を有することを特徴とする
   磁気記録媒体。
2. 非磁性支持体上に、前記放射線硬化層と、強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層とをこの順に有する請求項１に記載の磁気記録媒体。
3. 非磁性支持体上に、前記放射線硬化層と、非磁性粉末を結合剤中に分散した非磁性層と、強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層とをこの順に有する請求項１に記載の磁気記録媒体。
4. 前記連鎖移動剤が少なくとも１つのチオール基を有するチオール化合物及び／又は少なくとも１つの−Ｓ−Ｓ−結合を有するジスルフィド化合物である請求項１〜３いずれか１つに記載の磁気記録媒体。
5. 前記放射線硬化性単量体がエチレン性不飽和単量体である請求項１〜４いずれか１つに記載の磁気記録媒体。
6. 前記放射線硬化層の厚みが０．１〜１．５μｍである請求項１〜５いずれか１つに記載の磁気記録媒体。