JP2007271744A - 光学製品 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 41
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 43
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims abstract description 32
- 150000002291 germanium compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 21
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 150000001491 aromatic compounds Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 150000001924 cycloalkanes Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 10
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 5
- -1 episulfide compound Chemical class 0.000 claims description 48
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 46
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 33
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 19
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 10
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 claims description 10
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 9
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 claims description 4
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 claims description 4
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 claims description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 abstract description 15
- 239000004033 plastic Substances 0.000 abstract description 15
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 abstract description 5
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 3
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 28
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical group C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical group CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- WQJONRMBVKFKOB-UHFFFAOYSA-N cyanatosulfanyl cyanate Chemical compound N#COSOC#N WQJONRMBVKFKOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- RJGHQTVXGKYATR-UHFFFAOYSA-L dibutyl(dichloro)stannane Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(Cl)CCCC RJGHQTVXGKYATR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- DTBDAFLSBDGPEA-UHFFFAOYSA-N 3-Methylquinoline Natural products C1=CC=CC2=CC(C)=CN=C21 DTBDAFLSBDGPEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 8
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical group [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 7
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical class ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QVQGTNFYPJQJNM-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethanamine Chemical compound C1CCCCC1C(N)C1CCCCC1 QVQGTNFYPJQJNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MAMCJGWPGQJKLS-UHFFFAOYSA-N nona-2,7-diene Chemical compound CC=CCCCC=CC MAMCJGWPGQJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BFGSDFHIQPPJOW-UHFFFAOYSA-N CCCSC12SCC(S1)S2 Chemical compound CCCSC12SCC(S1)S2 BFGSDFHIQPPJOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VLCCKNLIFIJYOQ-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] 2,2,3,3-tetrakis(sulfanyl)propanoate Chemical compound OCC(CO)(CO)COC(=O)C(S)(S)C(S)S VLCCKNLIFIJYOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 5
- BYPFICORERPGJY-UHFFFAOYSA-N 3,4-diisocyanatobicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1CC2(N=C=O)C(N=C=O)=CC1C2 BYPFICORERPGJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical group CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 4
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 4
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 4
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- UWHMFGKZAYHMDJ-UHFFFAOYSA-N propane-1,2,3-trithiol Chemical compound SCC(S)CS UWHMFGKZAYHMDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 150000003553 thiiranes Chemical class 0.000 description 4
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002578 polythiourethane polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N tetrachlorogermane Chemical compound Cl[Ge](Cl)(Cl)Cl IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004055 thiomethyl group Chemical group [H]SC([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMLSAISZLJGWPP-UHFFFAOYSA-N 1,3-dithiolane Chemical group C1CSCS1 IMLSAISZLJGWPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LOZWAPSEEHRYPG-UHFFFAOYSA-N 1,4-dithiane Chemical group C1CSCCS1 LOZWAPSEEHRYPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MLGITEWCALEOOJ-UHFFFAOYSA-N 2-(thiiran-2-ylmethylsulfanylmethyl)thiirane Chemical compound C1SC1CSCC1CS1 MLGITEWCALEOOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOMNTHCQHJPVAZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpiperazine Chemical compound CC1CNCCN1 JOMNTHCQHJPVAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OIHIYRYYEMJNPB-UHFFFAOYSA-N 3,6-dihydrodithiine Chemical compound C1SSCC=C1 OIHIYRYYEMJNPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical class C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BXAVKNRWVKUTLY-UHFFFAOYSA-N 4-sulfanylphenol Chemical compound OC1=CC=C(S)C=C1 BXAVKNRWVKUTLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- GCAIEATUVJFSMC-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1C(O)=O GCAIEATUVJFSMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXCKKUIJCYNZAE-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3,5-trithiol Chemical compound SC1=CC(S)=CC(S)=C1 KXCKKUIJCYNZAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N norbornane Chemical compound C1C[C@H]2CC[C@@H]1C2 UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical group 0.000 description 2
- 125000004014 thioethyl group Chemical group [H]SC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N (+-)-Isoprenaline Chemical compound CC(C)NCC(O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzenedithiol Chemical compound SC1=CC=CC=C1S JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXWGKAYMVASWDQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dithiane Chemical group C1CCSSC1 CXWGKAYMVASWDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYMPLPIFKRHAAC-UHFFFAOYSA-N 1,2-ethanedithiol Chemical compound SCCS VYMPLPIFKRHAAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNHFTARXTMQRCF-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(3-sulfanylpropyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound SCCCN1C(=O)N(CCCS)C(=O)N(CCCS)C1=O HNHFTARXTMQRCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQADWIOXOXRPLN-AZXPZELESA-N 1,3-dithiane Chemical group C1CS[13CH2]SC1 WQADWIOXOXRPLN-AZXPZELESA-N 0.000 description 1
- NTLIFDXPWIJDEB-UHFFFAOYSA-N 1,3-dithiolane-4,5-dithiol Chemical compound SC1SCSC1S NTLIFDXPWIJDEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQUYSHZXSKYCSY-UHFFFAOYSA-N 1,4-diazepane Chemical compound C1CNCCNC1 FQUYSHZXSKYCSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJXTVDOEGWNHLK-UHFFFAOYSA-N 1,4-dithiane-2,3-dithiol Chemical compound SC1SCCSC1S YJXTVDOEGWNHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYZXXEKBDWCGED-UHFFFAOYSA-N 1-n,2-n-diethylbutane-1,2-diamine Chemical compound CCNCC(CC)NCC ZYZXXEKBDWCGED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VECZPMZNUKYYOJ-UHFFFAOYSA-N 1-n,2-n-diethylpropane-1,2-diamine Chemical compound CCNCC(C)NCC VECZPMZNUKYYOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLZRPMGWZLCLGV-UHFFFAOYSA-N 1-n,2-n-dimethylbutane-1,2-diamine Chemical compound CCC(NC)CNC WLZRPMGWZLCLGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCFLRKJSDRTWON-UHFFFAOYSA-N 1-n,3-n-diethylbutane-1,3-diamine Chemical compound CCNCCC(C)NCC XCFLRKJSDRTWON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKZBLXUAJDHZQQ-UHFFFAOYSA-N 1-n,3-n-dimethylbutane-1,3-diamine Chemical compound CNCCC(C)NC DKZBLXUAJDHZQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- MTZVWTOVHGKLOX-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(sulfanylmethyl)propane-1,3-dithiol Chemical compound SCC(CS)(CS)CS MTZVWTOVHGKLOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIPWSBOFSUJCCO-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpiperazine Chemical compound CC1(C)CNCCN1 PIPWSBOFSUJCCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEUQYYYUSUCFKP-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(2-sulfanylethylsulfanyl)propane-1-thiol Chemical compound SCCSCC(CS)SCCS CEUQYYYUSUCFKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRHRHYSCLREHLE-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(isocyanatomethyl)-1,4-dithiane Chemical compound O=C=NCC1CSC(CN=C=O)CS1 YRHRHYSCLREHLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLYCRLGLCUXUPO-UHFFFAOYSA-N 2,6-diaminotoluene Chemical compound CC1=C(N)C=CC=C1N RLYCRLGLCUXUPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFNWESYYDINUHV-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpiperazine Chemical compound CC1CNCC(C)N1 IFNWESYYDINUHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSSFYDMUTATOHG-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethylsulfanyl)-3-[3-sulfanyl-2-(2-sulfanylethylsulfanyl)propyl]sulfanylpropane-1-thiol Chemical compound SCCSC(CS)CSCC(CS)SCCS VSSFYDMUTATOHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSJBMDCFYZKAFH-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethylsulfanyl)ethanethiol Chemical compound SCCSCCS KSJBMDCFYZKAFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLQDZZGEPQYECP-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(thiiran-2-ylmethylsulfanyl)ethylsulfanylmethyl]thiirane Chemical compound C1SC1CSCCSCC1CS1 SLQDZZGEPQYECP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVCUZDCVGAJLGS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[3-[2-(2-sulfanylethylsulfanyl)ethylsulfanyl]-2,2-bis[2-(2-sulfanylethylsulfanyl)ethylsulfanylmethyl]propyl]sulfanylethylsulfanyl]ethanethiol Chemical compound SCCSCCSCC(CSCCSCCS)(CSCCSCCS)CSCCSCCS BVCUZDCVGAJLGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUXZELZSNNYLRE-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-aminoethyl)cyclohexyl]ethanamine Chemical compound NCCC1CCC(CCN)CC1 XUXZELZSNNYLRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQKFQBSUWRZIAR-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-(thiiran-2-ylmethylsulfanylmethyl)cyclohexyl]methylsulfanylmethyl]thiirane Chemical compound C1SC1CSCC(CC1)CCC1CSCC1CS1 WQKFQBSUWRZIAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZZMTSNZRBFGGU-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-7-fluoroquinazolin-4-amine Chemical compound FC1=CC=C2C(N)=NC(Cl)=NC2=C1 FZZMTSNZRBFGGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODGCZQFTJDEYNI-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C)C=CCCC1C(O)=O ODGCZQFTJDEYNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 2-undecylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRPRVQWGKLEFKN-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminopropoxy)propan-1-amine Chemical compound NCCCOCCCN KRPRVQWGKLEFKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POTQBGGWSWSMCX-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(3-aminopropoxy)ethoxy]propan-1-amine Chemical compound NCCCOCCOCCCN POTQBGGWSWSMCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUSNPFGLKGCWGN-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(3-aminopropyl)piperazin-1-yl]propan-1-amine Chemical compound NCCCN1CCN(CCCN)CC1 XUSNPFGLKGCWGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZILQRIKYRNQQDE-UHFFFAOYSA-N 4-(2-piperidin-4-ylethyl)piperidine Chemical compound C1CNCCC1CCC1CCNCC1 ZILQRIKYRNQQDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxybenzoyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXEZLYIDQPBCBB-UHFFFAOYSA-N 4-(3-piperidin-4-ylpropyl)piperidine Chemical compound C1CNCCC1CCCC1CCNCC1 OXEZLYIDQPBCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUTHRJJZMHXMFR-UHFFFAOYSA-N 4-(piperidin-4-ylmethyl)piperidine Chemical compound C1CNCCC1CC1CCNCC1 XUTHRJJZMHXMFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNPURSDMOWDNOQ-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-7h-pyrrolo[2,3-d]pyrimidin-2-amine Chemical compound COC1=NC(N)=NC2=C1C=CN2 CNPURSDMOWDNOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIAAGQAEVGMHPM-UHFFFAOYSA-N 4-methylbenzene-1,2-dithiol Chemical compound CC1=CC=C(S)C(S)=C1 NIAAGQAEVGMHPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHFIAMMRYGQCJH-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OC1CC2OC2CC1 LHFIAMMRYGQCJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFSRCZMWROXXFQ-UHFFFAOYSA-N C(CC)SC12C(SC3=C(S1)C=CC=C3)S2 Chemical compound C(CC)SC12C(SC3=C(S1)C=CC=C3)S2 YFSRCZMWROXXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFZNJTBKMPOFKQ-UHFFFAOYSA-N C(CC)SC12SCCSC1S2 Chemical compound C(CC)SC12SCCSC1S2 RFZNJTBKMPOFKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWSFDTCKXSOQCP-UHFFFAOYSA-N CC(S)C(S)S Chemical compound CC(S)C(S)S UWSFDTCKXSOQCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDHBPYNDLMIETJ-UHFFFAOYSA-N CC12CCC(CC1)C2.S(OC#N)OC#N Chemical compound CC12CCC(CC1)C2.S(OC#N)OC#N GDHBPYNDLMIETJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTJSCVKZQYZWHT-UHFFFAOYSA-N CC1SCCSC1.N=C=O Chemical compound CC1SCCSC1.N=C=O VTJSCVKZQYZWHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N Glycidol Chemical compound OCC1CO1 CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CJKRXEBLWJVYJD-UHFFFAOYSA-N N,N'-diethylethylenediamine Chemical compound CCNCCNCC CJKRXEBLWJVYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N [2-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1CN GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNJWFWSBENPGEY-UHFFFAOYSA-N [2-(sulfanylmethyl)phenyl]methanethiol Chemical compound SCC1=CC=CC=C1CS NNJWFWSBENPGEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMVARHOIKAZEPF-UHFFFAOYSA-N [3,5-bis(sulfanylmethyl)cyclohexyl]methanethiol Chemical compound SCC1CC(CS)CC(CS)C1 NMVARHOIKAZEPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STWRQBYJSPXXQE-UHFFFAOYSA-N [3,5-bis(sulfanylmethyl)phenyl]methanethiol Chemical compound SCC1=CC(CS)=CC(CS)=C1 STWRQBYJSPXXQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDMCXJRWHDUNRT-UHFFFAOYSA-N [3-(sulfanylmethyl)cyclohexyl]methanethiol Chemical compound SCC1CCCC(CS)C1 IDMCXJRWHDUNRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSNABGZJVWSNOB-UHFFFAOYSA-N [3-(sulfanylmethyl)phenyl]methanethiol Chemical compound SCC1=CC=CC(CS)=C1 JSNABGZJVWSNOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCC(CN)CC1 OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVDGZEKVNVQW-UHFFFAOYSA-N [4-(sulfanylmethyl)cyclohexyl]methanethiol Chemical compound SCC1CCC(CS)CC1 HRPVDGZEKVNVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYPNRTQAOXLCQW-UHFFFAOYSA-N [4-(sulfanylmethyl)phenyl]methanethiol Chemical compound SCC1=CC=C(CS)C=C1 IYPNRTQAOXLCQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COYTVZAYDAIHDK-UHFFFAOYSA-N [5-(sulfanylmethyl)-1,4-dithian-2-yl]methanethiol Chemical compound SCC1CSC(CS)CS1 COYTVZAYDAIHDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- ZWOASCVFHSYHOB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dithiol Chemical compound SC1=CC=CC(S)=C1 ZWOASCVFHSYHOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYLQRHZSKIDFEP-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-dithiol Chemical compound SC1=CC=C(S)C=C1 WYLQRHZSKIDFEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical group C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIDNOXCRFUCAKQ-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1C2C=CC1C(C(=O)O)C2C(O)=O NIDNOXCRFUCAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPRLTFBKWDERLU-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.2]octane Chemical compound C1CC2CCC1CC2 GPRLTFBKWDERLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- IDSLNGDJQFVDPQ-UHFFFAOYSA-N bis(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl) hexanedioate Chemical compound C1CC2OC2CC1OC(=O)CCCCC(=O)OC1CC2OC2CC1 IDSLNGDJQFVDPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.C=CCOC(=O)OCC=C SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGZLGROFYWKSCQ-UHFFFAOYSA-N butane-1,2,3-trithiol Chemical compound CC(S)C(S)CS MGZLGROFYWKSCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULEAQRIQMIQDPJ-UHFFFAOYSA-N butane-1,2-diamine Chemical compound CCC(N)CN ULEAQRIQMIQDPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGTXVXDNHPWPHH-UHFFFAOYSA-N butane-1,3-diamine Chemical compound CC(N)CCN RGTXVXDNHPWPHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDUUPIIJKCJHNP-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diamine;pentane-1,5-diamine Chemical compound NCCCCN.NCCCCCN GDUUPIIJKCJHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCC(C(O)=O)C1 XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical group 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- WQABCVAJNWAXTE-UHFFFAOYSA-N dimercaprol Chemical compound OCC(S)CS WQABCVAJNWAXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000986 disperse dye Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006735 epoxidation reaction Methods 0.000 description 1
- LMWPZRGDGZOPLT-UHFFFAOYSA-N ethane-1,1,2-trithiol Chemical compound SCC(S)S LMWPZRGDGZOPLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diamine Chemical compound NCCCCCCCN PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- PJUIMOJAAPLTRJ-UHFFFAOYSA-N monothioglycerol Chemical compound OCC(O)CS PJUIMOJAAPLTRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHDUKLPCKZTPFY-UHFFFAOYSA-N n,n'-diethylbutane-1,4-diamine Chemical compound CCNCCCCNCC WHDUKLPCKZTPFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDQWVRMGQLAWMN-UHFFFAOYSA-N n,n'-diethylhexane-1,6-diamine Chemical compound CCNCCCCCCNCC LDQWVRMGQLAWMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEPGHZIEOVULBU-UHFFFAOYSA-N n,n'-diethylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCNCCCNCC BEPGHZIEOVULBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPRYVBLOUZRGD-UHFFFAOYSA-N n,n'-dimethylbutane-1,4-diamine Chemical compound CNCCCCNC CZPRYVBLOUZRGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVKFRMCSXWQSNT-UHFFFAOYSA-N n,n'-dimethylethane-1,2-diamine Chemical compound CNCCNC KVKFRMCSXWQSNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFBJWQBNKOIOMJ-UHFFFAOYSA-N n,n'-dimethylheptane-1,7-diamine Chemical compound CNCCCCCCCNC LFBJWQBNKOIOMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDKQJOKKKZNQDG-UHFFFAOYSA-N n,n'-dimethylhexane-1,6-diamine Chemical compound CNCCCCCCNC MDKQJOKKKZNQDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQUPIHHYKUEXQD-UHFFFAOYSA-N n,n′-dimethyl-1,3-propanediamine Chemical compound CNCCCNC UQUPIHHYKUEXQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOGZBMRXLADNEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-diamine Chemical compound C1=C(N)C=CC2=CC(N)=CC=C21 GOGZBMRXLADNEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- GGHDAUPFEBTORZ-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-diamine Chemical compound CCC(N)N GGHDAUPFEBTORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJLMKPKYJBQJNH-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-dithiol Chemical compound SCCCS ZJLMKPKYJBQJNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 235000012424 soybean oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000003549 soybean oil Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N thiodiglycol Chemical compound OCCSCCO YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005628 tolylene group Chemical group 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 description 1
Landscapes
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
【課題】屈折率およびアッベ数が高く、かつ耐熱性、耐候性、透明性に優れており、プラスチックレンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録媒体基板、着色フィルター、赤外線吸収フィルター等に好適に用いられる光学製品を提供すること。
【解決手段】一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物を必須モノマー成分として得られる重合体からなる光学製品である。
(式中、R1は、メルカプト基、あるいはメルカプト基を有しており、かつ、炭素数1〜3のアルカン残基、炭素数4〜7のシクロアルカン残基、ヘテロ原子が酸素、窒素もしくは硫黄原子である炭素数3〜7のヘテロ環式化合物残基または炭素数6〜10の芳香族化合物残基を示す。R2は、水素原子、メルカプト基、炭素数1〜3のアルカン残基、炭素数4〜7のシクロアルカン残基、ヘテロ原子が酸素、窒素もしくは硫黄原子である炭素数3〜7のヘテロ環式化合物残基または炭素数6〜10の芳香族化合物残基を示し、各残基は置換基を有していてもよい。)
【選択図】なし
【解決手段】一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物を必須モノマー成分として得られる重合体からなる光学製品である。
(式中、R1は、メルカプト基、あるいはメルカプト基を有しており、かつ、炭素数1〜3のアルカン残基、炭素数4〜7のシクロアルカン残基、ヘテロ原子が酸素、窒素もしくは硫黄原子である炭素数3〜7のヘテロ環式化合物残基または炭素数6〜10の芳香族化合物残基を示す。R2は、水素原子、メルカプト基、炭素数1〜3のアルカン残基、炭素数4〜7のシクロアルカン残基、ヘテロ原子が酸素、窒素もしくは硫黄原子である炭素数3〜7のヘテロ環式化合物残基または炭素数6〜10の芳香族化合物残基を示し、各残基は置換基を有していてもよい。)
【選択図】なし
Description
本発明は、有機ゲルマニウム化合物を用いて得られる光学製品に関する。さらに詳しくは、本発明は、屈折率およびアッベ数の高い光学製品に関するものである。
プラスチックは、ガラスに比較して軽量で割れにくく染色が容易であるため、近年、レンズ等の各種光学用途に使用されている。光学用プラスチック材料としては、ポリ(ジエチレングリコールビスアリルカーボネート)(CR−39)やポリ(メチルメタクリレート)が、一般的に用いられている。しかしながら、これらのプラスチックは1.50以下の屈折率を有するため、それらを例えばレンズ材料に用いた場合、度数が強くなるほどレンズが厚くなり、軽量を長所とするプラスチックの優位性が損なわれてしまう。特に強度の凹レンズは、レンズ周辺が肉厚となり、複屈折や色収差が生じることから好ましくない。さらに眼鏡用途において肉厚のレンズは、審美性を悪くする傾向にある。肉薄のレンズを得るためには、材料の屈折率を高めることが効果的である。一般的にガラスやプラスチックは、屈折率の増加に伴いアッベ数が減少し、その結果、それらの色収差は増加する。従って、高い屈折率とアッベ数を兼ね備えたプラスチック材料が望まれている。
このような性能を有するプラスチック材料としては、例えば(1) 分子内に臭素を有するポリオールとポリイソシアネートとの重付加により得られるポリウレタン(特許文献1)、(2) ポリチオールとポリイソシアネートとの重付加により得られるポリチオウレタン(特許文献2、特許文献3)が提案されている。そして、特に(2)のポリチオウレタンの原料となるポリチオールとして、イオウ原子の含有率を高めた分岐鎖(特許文献4、特許文献3)や、イオウ原子の含有率を高めるためジチアン構造を導入したポリチオール(特許文献5、特許文献6)が提案されている。さらに、(3) エピスルフィドを重合官能基としたアルキルスルフィドの重合体が提案されている(特許文献7、特許文献8)。
しかしながら、上記(1)のポリウレタンは、屈折率がわずかに改良されているものの、アッベ数が低く、かつ耐光性に劣る上、比重が高く、軽量性が損なわれるなどの欠点を有している。また(2)のポリチオウレタンのうち、原料のポリチオールとして高イオウ含有率のポリチオールを用いて得られたポリチオウレタンは、例えば屈折率が1.60〜1.68程度に高められているが、同等の屈折率を有する光学用無機ガラスに比べてアッベ数が低く、さらにアッベ数を高めなければならないという課題を有している。さらに、(3)のアルキルスルフィド重合体は、一例としてアッベ数が36において、屈折率が1.70に高められており、この重合体を用いて得られたレンズは、著しく肉薄、軽量化されているが、屈折率とアッベ数を同時に、さらに高めたプラスチック材料が望まれている。
しかしながら、上記(1)のポリウレタンは、屈折率がわずかに改良されているものの、アッベ数が低く、かつ耐光性に劣る上、比重が高く、軽量性が損なわれるなどの欠点を有している。また(2)のポリチオウレタンのうち、原料のポリチオールとして高イオウ含有率のポリチオールを用いて得られたポリチオウレタンは、例えば屈折率が1.60〜1.68程度に高められているが、同等の屈折率を有する光学用無機ガラスに比べてアッベ数が低く、さらにアッベ数を高めなければならないという課題を有している。さらに、(3)のアルキルスルフィド重合体は、一例としてアッベ数が36において、屈折率が1.70に高められており、この重合体を用いて得られたレンズは、著しく肉薄、軽量化されているが、屈折率とアッベ数を同時に、さらに高めたプラスチック材料が望まれている。
本発明は、前記の課題を解決するためになされたものであり、屈折率及びアッベ数が高く、かつ耐熱性、耐候性、透明性にも優れる光学製品を提供することを目的とするものである。
本発明者は、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、ゲルマニウム原子に4つのスルフィドが結合し、かつ、2つ以上のメルカプト基を有しており、これらがゲルマニウム原子を中心に2つの環状構造を形成している有機ゲルマニウム化合物を含むモノマー成分を重合させて得られた重合体が屈折率及びアッベ数が高く、かつ耐熱性、耐候性、透明性にも優れる光学製品を提供できることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、(A)下記一般式(1)
すなわち、本発明は、(A)下記一般式(1)
(式中、R1は、メルカプト基、あるいはメルカプト基を有しており、かつ、炭素数1〜3のアルカン残基、炭素数4〜7のシクロアルカン残基、ヘテロ原子が酸素、窒素もしくは硫黄原子である炭素数3〜7のヘテロ環式化合物残基又は炭素数6〜10の芳香族化合物残基を示す。R2は、水素原子、メルカプト基、炭素数1〜3のアルカン残基、炭素数4〜7のシクロアルカン残基、ヘテロ原子が酸素、窒素もしくは硫黄原子である炭素数3〜7のヘテロ環式化合物残基又は炭素数6〜10の芳香族化合物残基を示し、各残基は置換基を有していてもよい。)
で表される有機ゲルマニウム化合物を必須モノマー成分として得られる重合体からなる光学製品を提供するものである。
で表される有機ゲルマニウム化合物を必須モノマー成分として得られる重合体からなる光学製品を提供するものである。
前記一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物を用いて得られる光学製品は、屈折率及びアッベ数が高く、かつ耐熱性、耐候性、透明性にも優れている。
本発明の光学製品は、一般式(1)
(式中、R1は、メルカプト基、あるいはメルカプト基を有しており、かつ、炭素数1〜3のアルカン残基、炭素数4〜7のシクロアルカン残基、ヘテロ原子が酸素、窒素もしくは硫黄原子である炭素数3〜7のヘテロ環式化合物残基又は炭素数6〜10の芳香族化合物残基を示す。R2は、水素原子、メルカプト基、炭素数1〜3のアルカン残基、炭素数4〜7のシクロアルカン残基、ヘテロ原子が酸素、窒素もしくは硫黄原子である炭素数3〜7のヘテロ環式化合物残基又は炭素数6〜10の芳香族化合物残基を示し、各残基は置換基を有していてもよい。)
で表される有機ゲルマニウム化合物を必須モノマー成分として得られる重合体からなることを特徴とする。
この化合物は、上記一般式(1)から明らかなとおり、ゲルマニウム原子に4つのスルフィドが結合し、かつ、2つ以上のメルカプト基を有しており、これらがゲルマニウム原子を中心に2つの環状構造を形成していることを特徴とするものである。
一般式(1)において、R1およびR2のアルカン残基としては、メタン残基、エタン残基、n−プロパン残基およびイソプロパン残基が挙げられ、メタン残基、エタン残基が好ましく、メタン残基が特に好ましい。前記R1およびR2のシクロアルカン残基としては、例えば、シクロブタン残基、シクロペンタン残基およびシクロヘキサン残基等が挙げられる。
前記R1およびR2のヘテロ環式化合物残基としては、例えば、1,3−ジチオラン残基、1,3−ジチアン残基、1,4−ジチアン残基等が挙げられ、1,3−ジチオラン残基、1,4−ジチアン残基が好ましい。前記R1およびR2の芳香族化合物残基としては、例えば、ベンゼン残基、ナフタレン残基等が挙げられ、ベンゼン残基が好ましい。
また、これらの各残基の置換基としては、メルカプト基、臭素、塩素、ヨウ素等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基等のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基等が挙げられる。
一般に物質の屈折率は、構成元素の屈折率(原子屈折)の増加および分子容の減少と共に増加する。骨格が炭素原子(原子屈折=2.42)で構成されているチオール化合物に比べると、ゲルマニウム原子(原子屈折=4.1)を導入した本発明の有機ゲルマニウム化合物の屈折率は著しく高まり、従って、この化合物を原料として得られた重合体の屈折率も増加する。
本発明に係る有機ゲルマニウム化合物は2官能性であり、その官能基間は硫黄元素のみで構成されているため、それを用いて得られた重合体の屈折率は、架橋密度の増加で引き起こされる分子容の減少に伴って、増加する。高架橋密度を維持しアッベ数を低下させることなく屈折率を高めるためにゲルマニウム原子に、メルカプト基を有する反応性置換基が結合していることが望ましい。従って、本発明に係る有機ゲルマニウム化合物を用いて得られる重合体の光学特性を高めることができる。
で表される有機ゲルマニウム化合物を必須モノマー成分として得られる重合体からなることを特徴とする。
この化合物は、上記一般式(1)から明らかなとおり、ゲルマニウム原子に4つのスルフィドが結合し、かつ、2つ以上のメルカプト基を有しており、これらがゲルマニウム原子を中心に2つの環状構造を形成していることを特徴とするものである。
一般式(1)において、R1およびR2のアルカン残基としては、メタン残基、エタン残基、n−プロパン残基およびイソプロパン残基が挙げられ、メタン残基、エタン残基が好ましく、メタン残基が特に好ましい。前記R1およびR2のシクロアルカン残基としては、例えば、シクロブタン残基、シクロペンタン残基およびシクロヘキサン残基等が挙げられる。
前記R1およびR2のヘテロ環式化合物残基としては、例えば、1,3−ジチオラン残基、1,3−ジチアン残基、1,4−ジチアン残基等が挙げられ、1,3−ジチオラン残基、1,4−ジチアン残基が好ましい。前記R1およびR2の芳香族化合物残基としては、例えば、ベンゼン残基、ナフタレン残基等が挙げられ、ベンゼン残基が好ましい。
また、これらの各残基の置換基としては、メルカプト基、臭素、塩素、ヨウ素等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基等のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基等が挙げられる。
一般に物質の屈折率は、構成元素の屈折率(原子屈折)の増加および分子容の減少と共に増加する。骨格が炭素原子(原子屈折=2.42)で構成されているチオール化合物に比べると、ゲルマニウム原子(原子屈折=4.1)を導入した本発明の有機ゲルマニウム化合物の屈折率は著しく高まり、従って、この化合物を原料として得られた重合体の屈折率も増加する。
本発明に係る有機ゲルマニウム化合物は2官能性であり、その官能基間は硫黄元素のみで構成されているため、それを用いて得られた重合体の屈折率は、架橋密度の増加で引き起こされる分子容の減少に伴って、増加する。高架橋密度を維持しアッベ数を低下させることなく屈折率を高めるためにゲルマニウム原子に、メルカプト基を有する反応性置換基が結合していることが望ましい。従って、本発明に係る有機ゲルマニウム化合物を用いて得られる重合体の光学特性を高めることができる。
上記一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物として具体的には、ビス(メルカプト) −1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナン、ビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナン、ビス(メルカプト)−ビス(メチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナン、ビス(メルカプト)−ビス(エチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナンおよびビス(メルカプトメチル)−ビス(メチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナン等が挙げられるが、これら例示化合物のみに限定されるものではない。
前記一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物の製造方法は、その化合物が得られる方法であればよく、特に限定されないが、下記の製造方法により製造されることが好ましい。
すなわち、下記反応式で示されるように、メルカプト基を3つ以上有するポリチオール化合物を出発原料とし、これとテトラハロゲノゲルマニウムとを反応させて前記一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物を製造する方法である。
前記一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物の製造方法は、その化合物が得られる方法であればよく、特に限定されないが、下記の製造方法により製造されることが好ましい。
すなわち、下記反応式で示されるように、メルカプト基を3つ以上有するポリチオール化合物を出発原料とし、これとテトラハロゲノゲルマニウムとを反応させて前記一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物を製造する方法である。
(式中、R1は、メルカプト基、あるいはメルカプト基を有しており、かつ、炭素数1〜3のアルカン残基、炭素数4〜7のシクロアルカン残基、ヘテロ原子が酸素、窒素もしくは硫黄原子である炭素数3〜7のヘテロ環式化合物残基又は炭素数6〜10の芳香族化合物残基を示す。R2は、水素原子、メルカプト基、炭素数1〜3のアルカン残基、炭素数4〜7のシクロアルカン残基、ヘテロ原子が酸素、窒素もしくは硫黄原子である炭素数3〜7のヘテロ環式化合物残基又は炭素数6〜10の芳香族化合物残基を示し、各残基は置換基を有していてもよい。Xはハロゲン原子を示す。)
R1およびR2の具体例は、前記のとおりである。Xで示されるハロゲン原子として具体的には、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられる。テトラハロゲノゲルマニウムとしては、四塩化ゲルマニウムが好ましい。
ポリチオール化合物として具体的には、1,1,2-トリメルカプトエタン、1,2,3-トリメルカプトプロパン、1,1,2-トリメルカプトプロパンおよび1,2,3-トリメルカプトブタン等のポリチオール化合物が挙げられるが、これら例示化合物のみに限定されるものではない。
前記一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物は、テトラハロゲノゲルマニウムとポリチオール化合物とを、通常0〜60℃程度、好ましくは10〜30℃の範囲で反応させることにより、効率よく製造することができる。この反応に際し、塩基性化合物を添加することが好ましく、この塩基性化合物を用いた場合は、反応終了後、酸を用いて反応液を中和することが好ましい。
塩基性化合物として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化物、トリエチルアミン、ピリジン、アニリン、キノリン等のアミンを用いるのが好ましい。塩基性化合物の使用量は、テトラハロゲノゲルマニウム中のハロゲン原子1molに対して、通常0.5〜6molであり、1〜4molであると好ましい。また、塩基性化合物を後述する有機溶媒で希釈して用いてもよい。
R1およびR2の具体例は、前記のとおりである。Xで示されるハロゲン原子として具体的には、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられる。テトラハロゲノゲルマニウムとしては、四塩化ゲルマニウムが好ましい。
ポリチオール化合物として具体的には、1,1,2-トリメルカプトエタン、1,2,3-トリメルカプトプロパン、1,1,2-トリメルカプトプロパンおよび1,2,3-トリメルカプトブタン等のポリチオール化合物が挙げられるが、これら例示化合物のみに限定されるものではない。
前記一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物は、テトラハロゲノゲルマニウムとポリチオール化合物とを、通常0〜60℃程度、好ましくは10〜30℃の範囲で反応させることにより、効率よく製造することができる。この反応に際し、塩基性化合物を添加することが好ましく、この塩基性化合物を用いた場合は、反応終了後、酸を用いて反応液を中和することが好ましい。
塩基性化合物として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化物、トリエチルアミン、ピリジン、アニリン、キノリン等のアミンを用いるのが好ましい。塩基性化合物の使用量は、テトラハロゲノゲルマニウム中のハロゲン原子1molに対して、通常0.5〜6molであり、1〜4molであると好ましい。また、塩基性化合物を後述する有機溶媒で希釈して用いてもよい。
前記一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物の製造法として、ビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナンの合成を例として示す。
四塩化ゲルマニウムに1,2,3−トリメルカプトプロパンを加え、塩化水素発生が収まった後、脱水クロロホルムで希釈した脱水ピリジンを滴下する。滴下終了後、20分撹拌した後、塩酸水溶液を加え、過剰のピリジンを中和する。無水硫酸マグネシウムで水分を除去し、クロロホルムを除去することにより、ビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナンの無色透明の高粘性液体が得られる。
四塩化ゲルマニウムに1,2,3−トリメルカプトプロパンを加え、塩化水素発生が収まった後、脱水クロロホルムで希釈した脱水ピリジンを滴下する。滴下終了後、20分撹拌した後、塩酸水溶液を加え、過剰のピリジンを中和する。無水硫酸マグネシウムで水分を除去し、クロロホルムを除去することにより、ビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナンの無色透明の高粘性液体が得られる。
本発明の光学製品は、一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物を必須モノマー成分として得られる重合体からなる。このモノマー成分は、光学製品の物性などを適宜改良するために、前記一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物以外に、(a1)1分子内に2つ以上のメルカプト基を有する化合物、(a2)分子内に2つ以上のヒドロキシル基を有する化合物および(a3)分子内に1つ以上のヒドロキシル基と1つ以上のメルカプト基を有する化合物の中から選ばれる少なくとも1種を含んでいてもよい。
(a1)1分子内に2つ以上のメルカプト基を有する化合物として、具体的にはトリメチロールプロパン、1,2−エタンジチオール、1,3−プロパンジチオール、テトラキスメルカプトメチルメタン、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトアセテート、ビス(2-メルカプトエチル)スルフィド、1,2,3-トリメルカプトプロパン、2,5-ジメルカプトメチル−1,4−ジチアン、5,6−ジメルカプト−1,4−ジチアン、4,5−ジメルカプト−1,3−ジチオラン、4−メルカプトフェノール、1,2−ベンゼンジチオール、1,3−ベンゼンジチオール、1,4−ベンゼンジチオール、1,3,5−ベンゼントリチオール、1,2−ジメルカプトメチルベンゼン、1,3−ジメルカプトメチルベンゼン、1,4−ジメルカプトメチルベンゼン、1,3,5−トリメルカプトメチルベンゼン、トルエン−3,4−ジチオール、4,4'−ジヒドロキシフェニルスルフィド、テトラキス(7−メルカプト−2,5−ジチアへプチル)メタン、トリス(3−メルカプトプロピル)イソシアヌレート、1,3−ビス(メルカプトメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(メルカプトメチル)シクロヘキサン、1、3,5−トリス(メルカプトメチル)シクロヘキサン、2,2−ビス(メルカプトメチル)−1,3−プロパンジチオール、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオ)−3−メルカプトプロパン、4,8−ビス(メルカプトメチル)−3,6,9−トリチア−1,11−ウンデカンジチオール等の化合物、上記化合物の二量体および多量体が挙げられる。これらは単独でも二種以上を組み合わせて用いてもよい。
(a1)1分子内に2つ以上のメルカプト基を有する化合物として、具体的にはトリメチロールプロパン、1,2−エタンジチオール、1,3−プロパンジチオール、テトラキスメルカプトメチルメタン、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトアセテート、ビス(2-メルカプトエチル)スルフィド、1,2,3-トリメルカプトプロパン、2,5-ジメルカプトメチル−1,4−ジチアン、5,6−ジメルカプト−1,4−ジチアン、4,5−ジメルカプト−1,3−ジチオラン、4−メルカプトフェノール、1,2−ベンゼンジチオール、1,3−ベンゼンジチオール、1,4−ベンゼンジチオール、1,3,5−ベンゼントリチオール、1,2−ジメルカプトメチルベンゼン、1,3−ジメルカプトメチルベンゼン、1,4−ジメルカプトメチルベンゼン、1,3,5−トリメルカプトメチルベンゼン、トルエン−3,4−ジチオール、4,4'−ジヒドロキシフェニルスルフィド、テトラキス(7−メルカプト−2,5−ジチアへプチル)メタン、トリス(3−メルカプトプロピル)イソシアヌレート、1,3−ビス(メルカプトメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(メルカプトメチル)シクロヘキサン、1、3,5−トリス(メルカプトメチル)シクロヘキサン、2,2−ビス(メルカプトメチル)−1,3−プロパンジチオール、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオ)−3−メルカプトプロパン、4,8−ビス(メルカプトメチル)−3,6,9−トリチア−1,11−ウンデカンジチオール等の化合物、上記化合物の二量体および多量体が挙げられる。これらは単独でも二種以上を組み合わせて用いてもよい。
(a2)分子内に2つ以上のヒドロキシル基を有する化合物としては、エチレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ジヒドロキシベンゼン、カテコール、4,4‘−ジヒドロキシフェニルスルフィド、2−ヒドロキシエチルスルフィド、ビスフェノールA・プロピレンオキサイド5モル付加体およびグリセリン・プロピレンオキサイド3モル付加体等が挙げられる。これらは単独でも二種以上を組み合わせて用いてもよい。
(a3)分子内に1つ以上のヒドロキシル基と1つ以上のメルカプト基を有する化合物としては、2−メルカプトエタノール、2,3−ジメルカプトプロパノール、1,2−ジヒドロキシ−3−メルカプトプロパンおよび4−メルカプトフェノール等が挙げられる。これらは単独でも二種以上を組み合わせて用いてもよい。
なお一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物の使用量は、状況に応じて適宜選定すればよいが、通常はモノマー成分(以下、A成分と称することがある。)の総量に対して、30〜100mol%であり、好ましくは50〜100mol%である。
なお一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物の使用量は、状況に応じて適宜選定すればよいが、通常はモノマー成分(以下、A成分と称することがある。)の総量に対して、30〜100mol%であり、好ましくは50〜100mol%である。
本発明の光学製品は、前記一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物を必須とするモノマー成分の重合相手のB成分として、(b1)イソ(チオ)シアネート基を有する化合物、さらに好ましくは一分子内に二つ以上のイソ(チオ)シアネート基を有する化合物、(b2)一分子内に少なくとも1つのビニル基を有する化合物(単独重合可能なビニルモノマー)、(b3)一分子内に少なくとも1つのビニル基と少なくとも1つのイソ(チオ)シアネート基とを有する化合物の中から選ばれる少なくとも1種を含むものを用い、これと重合させることにより得ることができる。
(b1)イソ(チオ)シアネート基を有する化合物、さらに好ましくは一分子内に二つ以上のイソ(チオ)シアネート基を有する化合物としては、具体的にはキシリレンジイソ(チオ)シアネート、3,3'−ジクロロジフェニル−4,4'−ジイソ(チオ)シアネート、4,4'−ジフェニルメタンジイソ(チオ)シアネート、ヘキサメチレンジイソ(チオ)シアネート、2,2',5,5'−テトラクロロジフェニル−4,4'−ジイソ(チオ)シアネート、トリレンジイソ(チオ)シアネート等が挙げられる。さらに、一つ以上のシクロアルカン環を有するものとして、ビス(イソ(チオ)シアネートメチル)シクロヘキサン、ビス(4−イソ(チオ)シアネートシクロヘキシル)メタン、ビス(4−イソ(チオ)シアネートメチルシクロヘキシル)メタン、シクロヘキサンジイソ(チオ)シアネート、イソホロンジイソ(チオ)シアネート、2,5−ビス(イソ(チオ)シアネートメチル)ビシクロ[2.2.2]オクタン、2,5−ビス(イソ(チオ)シアネートメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2−イソ(チオ)シアネートメチル−3−(3−イソ(チオ)シアネートプロピル)−5−イソ(チオ)シアネートメチル−ビシクロ[2.2.1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)シアネートメチル−3−(3−イソ(チオ)シアネートプロピル)−6−イソ(チオ)シアネートメチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2−イソ(チオ)シアネートメチル−2−[3−イソ(チオ)シアネートプロピル]−5−イソ(チオ)シアネートメチル−ビシクロ[2.2.1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)シアネートメチル−2−(3−イソ(チオ)シアネートプロピル)−6−イソ(チオ)シアネートメチル−ビシクロ[2.2.1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)シアネートメチル−3−(3−イソ(チオ)シアネートプロピル)−5−(2−イソ(チオ)シアネートエチル)−ビシクロ[2.2.1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)シアネートメチル−3−(3−イソ(チオ)シアネートプロピル)−6−(2−イソ(チオ)シアネートエチル)−ビシクロ[2.2.1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)シアネートメチル−2−(3−イソ(チオ)シアネートプロピル)−5−(2−イソ(チオ)シアネートエチル)−ビシクロ[2.2.1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)シアネートメチル−2−(3−イソ(チオ)シアネートプロピル)−6−(2−イソ(チオ)シアネートエチル)−ビシクロ[2.2.1]−ヘプタンなどが挙げられる。また、2,5−ビス(イソシアネートメチル)−1,4−ジチアン、イソシアヌル酸トリスイソシアネートヘキシルエステル等も用いることができる。これらは単独もしくは二種以上を組み合わせて用いてもよい。
(b1)イソ(チオ)シアネート基を有する化合物、さらに好ましくは一分子内に二つ以上のイソ(チオ)シアネート基を有する化合物としては、具体的にはキシリレンジイソ(チオ)シアネート、3,3'−ジクロロジフェニル−4,4'−ジイソ(チオ)シアネート、4,4'−ジフェニルメタンジイソ(チオ)シアネート、ヘキサメチレンジイソ(チオ)シアネート、2,2',5,5'−テトラクロロジフェニル−4,4'−ジイソ(チオ)シアネート、トリレンジイソ(チオ)シアネート等が挙げられる。さらに、一つ以上のシクロアルカン環を有するものとして、ビス(イソ(チオ)シアネートメチル)シクロヘキサン、ビス(4−イソ(チオ)シアネートシクロヘキシル)メタン、ビス(4−イソ(チオ)シアネートメチルシクロヘキシル)メタン、シクロヘキサンジイソ(チオ)シアネート、イソホロンジイソ(チオ)シアネート、2,5−ビス(イソ(チオ)シアネートメチル)ビシクロ[2.2.2]オクタン、2,5−ビス(イソ(チオ)シアネートメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2−イソ(チオ)シアネートメチル−3−(3−イソ(チオ)シアネートプロピル)−5−イソ(チオ)シアネートメチル−ビシクロ[2.2.1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)シアネートメチル−3−(3−イソ(チオ)シアネートプロピル)−6−イソ(チオ)シアネートメチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2−イソ(チオ)シアネートメチル−2−[3−イソ(チオ)シアネートプロピル]−5−イソ(チオ)シアネートメチル−ビシクロ[2.2.1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)シアネートメチル−2−(3−イソ(チオ)シアネートプロピル)−6−イソ(チオ)シアネートメチル−ビシクロ[2.2.1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)シアネートメチル−3−(3−イソ(チオ)シアネートプロピル)−5−(2−イソ(チオ)シアネートエチル)−ビシクロ[2.2.1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)シアネートメチル−3−(3−イソ(チオ)シアネートプロピル)−6−(2−イソ(チオ)シアネートエチル)−ビシクロ[2.2.1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)シアネートメチル−2−(3−イソ(チオ)シアネートプロピル)−5−(2−イソ(チオ)シアネートエチル)−ビシクロ[2.2.1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)シアネートメチル−2−(3−イソ(チオ)シアネートプロピル)−6−(2−イソ(チオ)シアネートエチル)−ビシクロ[2.2.1]−ヘプタンなどが挙げられる。また、2,5−ビス(イソシアネートメチル)−1,4−ジチアン、イソシアヌル酸トリスイソシアネートヘキシルエステル等も用いることができる。これらは単独もしくは二種以上を組み合わせて用いてもよい。
(b2)一分子内に少なくとも1つのビニル基を有する化合物としては、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ[4.4]ノナ−2,7−ジエン、一分子内に少なくとも二つ以上の(メタ)アクリロキシ基を含むウレタン変性(メタ)アクリレート、エポキシ変性(メタ)アクリレート、ポリエステル変性(メタ)アクリレート等が挙げられこれらは単独もしくは二種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、上記(メタ)アクリレートはアクリレートとメタクリレートの両者を意味し、(メタ)アクリロキシ基は、アクリロキシ基とメタクリロキシ基の両者を意味する。
(b3)一分子内に少なくとも1つのビニル基と少なくとも1つのイソ(チオ)シアネート基とを有する化合物としては、具体的には、2−(メタ)アクリロキシエチルイソ(チオ)シアネート、(メタ)アクリロイルイソ(チオ)シアネート等が挙げられこれらは単独もしくは二種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明におけるA成分とB成分の使用割合としては、A成分中のメルカプト基および/またはヒドロキシル基の合計量とB成分のイソシアネート基および/またはビニル基の合計量とのモル比(メルカプト基+ヒドロキシル基)/(イソシアネート基+ビニル基)が0.9〜1.2の範囲にあるのが好ましく、さらには0.95〜1.1の範囲にあるのが好ましい。
さらに、これらの成分にC成分として、エピスルフィド化合物及び/またはエポキシ化合物を添加して光学製品を作製することも可能である。そのエピスルフィド化合物としては、ビス(β−エピチオプロピル)スルフィド、ビス(β−エピチオプロピルチオ)メタン、1,2−ビス(β−エピチオプロピルチオ)エタン、1,3−ビス(β−エピチオプロピルチオ)プロパン、1,2−ビス(β−エピチオプロピルチオ)プロパン、1−(β−エピチオプロピルチオ)−2−(β−エピチオプロピルチオメチル)プロパン、1,4−ビス(β−エピチオプロピルチオ)ブタン、1,3−ビス(β−エピチオプロピルチオ)ブタン、1−(β−エピチオプロピルチオ)−3−(β−エピチオプロピルチオメチル)ブタン、1,5−ビス(β−エピチオプロピルチオ)ペンタン、1−(β−エピチオプロピルチオ)−4−(β−エピチオプロピルチオメチル)ペンタン、1,6−ビス(β−エピチオプロピルチオ)ヘキサン、1−(β−エピチオプロピルチオ)−5−(β−エピチオプロピルチオメチル)ヘキサン、1−(β−エピチオプロピルチオ)−2−〔(2−β−エピチオプロピルチオエチル)チオ〕エタン、1−(β−エピチオプロピルチオ)−2−[〔2−(2−β−エピチオプロピルチオエチル)チオエチル〕チオ]エタン等の鎖状有機化合物等;テトラキス(β−エピチオプロピルチオメチル)メタン、1,1,1−トリス(β−エピチオプロピルチオメチル)プロパン、1,5−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−2−(β−エピチオプロピルチオメチル)−3−チアペンタン、1,5−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−2,4−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−3−チアペンタン、1−(β−エピチオプロピルチオ)−2,2−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−4−チアヘキサン、1,5,6−トリス(β−エピチオプロピルチオ)−4−(β−エピチオプロピルチオメチル)−3−チアヘキサン、1,8−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−4−(β−エピチオプロピルチオメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−4,5−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−4,4−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−2,4,5−トリス(β−エピチオプロピルチオメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−2,5−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,9−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−5−(β−エピチオプロピルチオメチル)−5−〔(2−β−エピチオプロピルチオエチル)チオメチル〕−3,7−ジチアノナン、1,10−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−5,6−ビス〔(2−β−エピチオプロピルチオエチル)チオ〕−3,6,9−トリチアデカン、1,11−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−4,8−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−3,6,9−トリチアウンデカン、1,11−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−5,7−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−3,6,9−トリチアウンデカン、1,11−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−5,7−〔(2−β−エピチオプロピルチオエチル)チオメチル〕−3,6,9−トリチアウンデカン、1,11−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−4,7−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−3,6,9−トリチアウンデカン等の分岐状有機化合物およびこれらの化合物のエピスルフィド基の水素の少なくとも1個がメチル基で置換された化合物等;1,3および1,4−ビス(β−エピチオプロピルチオ)シクロヘキサン、1,3および1,4−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)シクロヘキサン、ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)シクロヘキシル〕メタン、2,2−ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)シクロヘキシル〕プロパン、ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)シクロヘキシル〕スルフィド、2,5−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−1,4−ジチアン、2,5−ビス(β−エピチオプロピルチオエチルチオメチル)−1,4−ジチアン、4,5−ビス(エピチオプロピルチオ)−1,3−ジチオラン、2,3−ビス(エピチオプロピルチオ)−1,4−ジチアン、3,4−ビス(エピチオプロピルチオ)−ビシクロ[4,3,0]−2,5,7,9−テトラチアノナン、2,3−ビス(エピチオプロピルチオ)−1,4−ベンゾジチアン等の環状脂肪族や複素環式有機化合物およびこれらの化合物のエピスルフィド基の水素の少なくとも1個がメチル基で置換された化合物;1,3および1,4−ビス(β−エピチオプロピルチオ)ベンゼン、1,3および1,4−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)ベンゼン、ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)フェニル〕メタン、2,2−ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)フェニル〕プロパン、ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)フェニル〕スルフィド、ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)フェニル〕スルフォン、4,4'−ビス(β−エピチオプロピルチオ)ビフェニル等の芳香族有機化合物およびこれらの化合物のエピスルフィド基の水素の少なくとも1個がメチル基で置換された化合物等が挙げられ、これらは単独でも二種以上を組み合わせて用いてもよい。
エポキシ化合物としては、ヒドロキノン,カテコール,レゾルシン,ビスフェノールA,ビスフェノールF,ビスフェノールスルフォン,ビスフェノールエーテル,ビスフェノールスルフィド,ハロゲン化ビスフェノールA,ノボラック樹脂等の多価フェノール化合物とエピハロヒドリンの縮合により製造されるフェノール系エポキシ化合物;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、1,3−及び1,4−シクロヘキサンジオール、1,3−及び1,4−シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノールA、ビスフェノールA・エチレンオキサイド付加物、ビスフェノールA・プロピレンオキサイド付加物等の多価アルコール化合物とエピハロヒドリンの縮合により製造されるアルコール系エポキシ化合物;アジピン酸,セバチン酸,ドデカンジカルボン酸,ダイマー酸,フタル酸,イソ,テレフタル酸,テトラヒドロフタル酸,メチルテトラヒドロフタル酸,ヘキサヒドロフタル酸,ヘキサヒドロイソフタル酸,ヘキサヒドロテレフタル酸,ヘット酸,ナジック酸,マレイン酸,コハク酸,フマール酸,トリメリット酸,ベンゼンテトラカルボン酸,ベンゾフェノンテトラカルボン酸,ナフタリンジカルボン酸,ジフェニルジカルボン酸等の多価カルボン酸化合物とエピハロヒドリンの縮合により製造されるグリシジルエステル系エポキシ化合物;エチレンジアミン、1,2−ジアミノプロパン、1,3−ジアミノプロパン、1,2−ジアミノブタン、1,3−ジアミノブタン、1,4−ジアミノブタン、1,5−ジアミノペンタン、1,6−ジアミノヘキサン、1,7−ジアミノヘプタン、1,8−ジアミノオクタン、ビス−(3−アミノプロピル)エーテル、1,2−ビス−(3−アミノプロポキシ)エタン、1,3−ビス−(3−アミノプロポキシ)−2,2'−ジメチルプロパン、1,2−、1,3−又は1,4−ビスアミノシクロヘキサン、1,3−又は1,4−ビスアミノメチルシクロヘキサン、1,3−又は1,4−ビスアミノエチルシクロヘキサン、1,3−又は1,4−ビスアミノプロピルシクロヘキサン、水添4,4'−ジアミノジフェニルメタン、イソホロンジアミン、1,4−ビスアミノプロピルピペラジン、m−又はp−フェニレンジアミン、2,4−又は2,6−トリレンジアミン、m−又はp−キシリレンジアミン、1,5−又は2,6−ナフタレンジアミン、4,4'−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−(4,4'−ジアミノジフェニル)プロパン等の一級ジアミン、N,N'−ジメチルエチレンジアミン、N,N'−ジメチル−1,2−ジアミノプロパン、N,N'−ジメチル−1,3−ジアミノプロパン、N,N'−ジメチル−1,2−ジアミノブタン、N,N'−ジメチル−1,3−ジアミノブタン、N,N'−ジメチル−1,4−ジアミノブタン、N,N'−ジメチル−1,5−ジアミノペンタン、N,N'−ジメチル−1,6−ジアミノヘキサン、N,N'−ジメチル−1,7−ジアミノヘプタン、N,N'−ジエチルエチレンジアミン、N,N'−ジエチル−1,2−ジアミノプロパン、N,N'−ジエチル−1,3−ジアミノプロパン、N,N'−ジエチル−1,2−ジアミノブタン、N,N'−ジエチル−1,3−ジアミノブタン、N,N'−ジエチル−1,4−ジアミノブタン、N,N'−ジエチル−1,6−ジアミノヘキサン、ピペラジン、2−メチルピペラジン、2,5−又は2,6−ジメチルピペラジン、ホモピペラジン、1,1−ジ−(4−ピペリジル)−メタン、1,2−ジ−(4−ピペリジル)−エタン、1,3−ジ−(4−ピペリジル)−プロパン、1,4−ジ−(4−ピペリジル)−ブタン等の第二級ジアミンとエピハロヒドリンの縮合により製造されるアミン系エポキシ化合物;3,4−エポキシシクロヘキシル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクロヘキサンジオキサイド、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)−5,5−スピロ−3,4−エポキシシクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート等の脂環式エポキシ化合物;シクロペンタジエンエポキシド、エポキシ化大豆油、エポキシ化ポリブタジエン、ビニルシクロヘキセンエポキシド等の不飽和化合物のエポキシ化により製造されるエポキシ化合物;上述の多価アルコール、フェノール化合物とジイソシアネート及びグリシドール等から製造されるウレタン系エポキシ化合物等が挙げられる。これらは単独でも二種以上を組み合わせて用いてもよい。
さらに、前記一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物を用いて得られる光学製品の耐候性改良のため、紫外線吸収剤、酸化防止剤、着色防止剤、蛍光染料などの添加剤を適宜加えてもよい。また、重合反応性向上のための触媒を適宜使用してもよく、例えばメルカプト基とビニル基との反応性向上のためには有機過酸化物、アゾ化合物、アミン化合物等の塩基性触媒が効果的であり、メルカプト基とイソシアネート基との反応性向上のためにはアミン化合物、有機金属化合物等の触媒が有効である。
さらに、前記一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物を用いて得られる光学製品の耐候性改良のため、紫外線吸収剤、酸化防止剤、着色防止剤、蛍光染料などの添加剤を適宜加えてもよい。また、重合反応性向上のための触媒を適宜使用してもよく、例えばメルカプト基とビニル基との反応性向上のためには有機過酸化物、アゾ化合物、アミン化合物等の塩基性触媒が効果的であり、メルカプト基とイソシアネート基との反応性向上のためにはアミン化合物、有機金属化合物等の触媒が有効である。
前記一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物を用いて得られる光学製品は、例えば以下に示す方法に従って製造することができる。
まず、上記重合性組成物および必要に応じて用いられる各種添加剤を含む均一な組成物を調製する。次いで、この組成物を公知の注型重合法を用いて、ガラス製または金属製のモールドと樹脂性のガスケットを組み合わせた型の中に注入し、加熱して硬化させる。この際、成形後の樹脂の取り出しを容易にするためにあらかじめモールドを離型処理したり、この組成物に離型剤を混合してもよい。重合温度は、使用する化合物により異なるが、一般には−20〜+150℃で、重合時間は0.5〜72時間程度である。重合後離型された重合体は通常の分散染料を用い、水または有機溶媒中で容易に染色できる。この際さらに染色を容易にするために、染料分散液にキャリアーを加えてもよく、また加熱しても良い。このようにして得られた光学製品は、これに限定されるものではないが、プラスチックレンズ等の光学製品として特に好ましく用いられる。ここで、光学製品として、プラスチックレンズ、光ファイバ−、情報記録用基板、赤外線吸収フィルタ−、着色フィルタ−などが挙げられる。
まず、上記重合性組成物および必要に応じて用いられる各種添加剤を含む均一な組成物を調製する。次いで、この組成物を公知の注型重合法を用いて、ガラス製または金属製のモールドと樹脂性のガスケットを組み合わせた型の中に注入し、加熱して硬化させる。この際、成形後の樹脂の取り出しを容易にするためにあらかじめモールドを離型処理したり、この組成物に離型剤を混合してもよい。重合温度は、使用する化合物により異なるが、一般には−20〜+150℃で、重合時間は0.5〜72時間程度である。重合後離型された重合体は通常の分散染料を用い、水または有機溶媒中で容易に染色できる。この際さらに染色を容易にするために、染料分散液にキャリアーを加えてもよく、また加熱しても良い。このようにして得られた光学製品は、これに限定されるものではないが、プラスチックレンズ等の光学製品として特に好ましく用いられる。ここで、光学製品として、プラスチックレンズ、光ファイバ−、情報記録用基板、赤外線吸収フィルタ−、着色フィルタ−などが挙げられる。
このようなプラスチックレンズは、染料を用いて染色処理を行うことができ、また、耐擦傷性向上のため、有機ケイ素化合物またはアクリル化合物に酸化スズ、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化チタン等の微粒子状無機物等を有するコーティング液を用いて硬化被膜をプラスチックレンズ上に形成してもよい。また、耐衝撃性を向上させるためにポリウレタンを主成分とするプライマー層をプラスチックレンズ上に形成してもよい。
さらに、反射防止の性能を付与するために、前記硬化被膜上に、酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル等の無機物質からなる反射防止膜を形成してもよい。また、撥水性向上のため、前記反射防止膜上にフッ素原子を含有する有機ケイ素化合物からなる撥水膜を反射防止膜上に形成しても良い。
また、このプラスチックレンズを眼鏡用として使用する場合には、紫外線から樹脂または目を保護する目的で紫外線吸収剤、赤外線から目を保護する目的で赤外線吸収剤を添加しても良い。
さらに、樹脂の美観を維持または向上させる目的で、酸化防止剤の添加や少量の色素を用いてブルーイングをすることもできる。
さらに、反射防止の性能を付与するために、前記硬化被膜上に、酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル等の無機物質からなる反射防止膜を形成してもよい。また、撥水性向上のため、前記反射防止膜上にフッ素原子を含有する有機ケイ素化合物からなる撥水膜を反射防止膜上に形成しても良い。
また、このプラスチックレンズを眼鏡用として使用する場合には、紫外線から樹脂または目を保護する目的で紫外線吸収剤、赤外線から目を保護する目的で赤外線吸収剤を添加しても良い。
さらに、樹脂の美観を維持または向上させる目的で、酸化防止剤の添加や少量の色素を用いてブルーイングをすることもできる。
次に、本発明を実施例により、さらに具体的に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。なお、合成例で得られた有機ゲルマニウム化合物の物性、および実施例、比較例で得られた重合体の物性は以下に示す方法にしたがって測定した。
<有機ゲルマニウム化合物の物性>
屈折率 (nD)、アッベ数 (νD): アタゴ社製アッベ屈折率計DR−M4を用いて25℃にて測定した。
<重合体の物性>
1)屈折率 (nD)、アッベ数 (νD): 上記と同様にして測定した。
2)外 観: 肉眼により観察した。
屈折率 (nD)、アッベ数 (νD): アタゴ社製アッベ屈折率計DR−M4を用いて25℃にて測定した。
<重合体の物性>
1)屈折率 (nD)、アッベ数 (νD): 上記と同様にして測定した。
2)外 観: 肉眼により観察した。
合成例1
ビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナンの合成
25℃水浴下にて四塩化ゲルマニウム3.96gに1,2,3−トリメルカプトプロパン5.17gを加える。塩化水素発生が収まった後、脱水クロロホルム8mlで希釈した脱水ピリジン4.5gを滴下した。滴下終了後、20分間撹拌した後、0.2モル/Lの塩酸水溶液を加え、過剰のピリジンを中和した。無水硫酸マグネシウムで水分を除去し、クロロホルムを除去することにより、ビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナン6.44g(収率99.8%)の無色透明の高粘性液体が得られた。
この化合物の構造特定のための1H-NMR(溶媒:CDCl3)の分析結果を以下に示す。
δ:3.65-3.75(2H, m, -S-CH-)、3.2-3.65(4H, m, Ge-S-CH2-)、2.65-3.0(4H, m, -S-CH2-C-)、1.58-1.72(2H, m, -SH)
ビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナンの合成
25℃水浴下にて四塩化ゲルマニウム3.96gに1,2,3−トリメルカプトプロパン5.17gを加える。塩化水素発生が収まった後、脱水クロロホルム8mlで希釈した脱水ピリジン4.5gを滴下した。滴下終了後、20分間撹拌した後、0.2モル/Lの塩酸水溶液を加え、過剰のピリジンを中和した。無水硫酸マグネシウムで水分を除去し、クロロホルムを除去することにより、ビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナン6.44g(収率99.8%)の無色透明の高粘性液体が得られた。
この化合物の構造特定のための1H-NMR(溶媒:CDCl3)の分析結果を以下に示す。
δ:3.65-3.75(2H, m, -S-CH-)、3.2-3.65(4H, m, Ge-S-CH2-)、2.65-3.0(4H, m, -S-CH2-C-)、1.58-1.72(2H, m, -SH)
重合体からなる光学製品の製造
実施例1
合成例1で得られたビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナン(T1)0.1mol、1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ[4.4]ノナ−2,7−ジエン (T2)0.1molおよびジシクロヘキシルメチルアミン (CT1)1.0×10-4molの混合物を60℃にて均一に攪拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入し、60℃で10時間、その後90℃で5時間、さらに110℃で3時間加熱重合させてレンズ形状の重合体を得た。得られた重合体は淡黄色透明であり、屈折率(nD) は1.81と非常に高く、アッベ数 (νD)も26.2と高いものであった。従って、得られた重合体は光学製品として好適であった。
実施例1
合成例1で得られたビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナン(T1)0.1mol、1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ[4.4]ノナ−2,7−ジエン (T2)0.1molおよびジシクロヘキシルメチルアミン (CT1)1.0×10-4molの混合物を60℃にて均一に攪拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入し、60℃で10時間、その後90℃で5時間、さらに110℃で3時間加熱重合させてレンズ形状の重合体を得た。得られた重合体は淡黄色透明であり、屈折率(nD) は1.81と非常に高く、アッベ数 (νD)も26.2と高いものであった。従って、得られた重合体は光学製品として好適であった。
実施例2
合成例1で得られたビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナン(T1)0.14mol、1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ[4.4]ノナ−2,7−ジエン(T2)0.10mol、4,5−ビス(エピチオプロピルチオ)−1,3−ジチオラン(T3)0.33mol、およびジシクロヘキシルメチルアミン (CT1)1.0×10-4molの混合物を30℃にて均一に攪拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入し、60℃で10時間、その後90℃で5時間、さらに110℃で3時間加熱重合させてレンズ形状の重合体を得た。得られた重合体は無色透明であり、屈折率(nD) は1.77と非常に高く、アッベ数 (νD)も29.3と高いものであった。従って、得られた重合体は光学製品として好適であった。
合成例1で得られたビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナン(T1)0.14mol、1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ[4.4]ノナ−2,7−ジエン(T2)0.10mol、4,5−ビス(エピチオプロピルチオ)−1,3−ジチオラン(T3)0.33mol、およびジシクロヘキシルメチルアミン (CT1)1.0×10-4molの混合物を30℃にて均一に攪拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入し、60℃で10時間、その後90℃で5時間、さらに110℃で3時間加熱重合させてレンズ形状の重合体を得た。得られた重合体は無色透明であり、屈折率(nD) は1.77と非常に高く、アッベ数 (νD)も29.3と高いものであった。従って、得られた重合体は光学製品として好適であった。
実施例3
合成例1で得られたビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナン(T1)0.1mol、キシレンジイソシアネート(T4)0.1molおよびジブチルスズクロライド (CT2)1.0×10-4molの混合物を30℃にて均一に攪拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入し、60℃で10時間、その後90℃で5時間、さらに120℃で3時間加熱重合させてレンズ形状の重合体を得た。得られた重合体は無色透明であり、屈折率(nD) は1.71と非常に高く、アッベ数 (νD)も29.0と高いものであった。従って、得られた重合体は光学製品として好適であった。
合成例1で得られたビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナン(T1)0.1mol、キシレンジイソシアネート(T4)0.1molおよびジブチルスズクロライド (CT2)1.0×10-4molの混合物を30℃にて均一に攪拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入し、60℃で10時間、その後90℃で5時間、さらに120℃で3時間加熱重合させてレンズ形状の重合体を得た。得られた重合体は無色透明であり、屈折率(nD) は1.71と非常に高く、アッベ数 (νD)も29.0と高いものであった。従って、得られた重合体は光学製品として好適であった。
実施例4
合成例1で得られたビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナン(T1)0.1mol、2,5−ビス(イソシアネートメチル)−1,4−ジチアン(T5)0.1molおよびジブチルスズクロライド (CT2) 1.0×10-4molの混合物を30℃にて均一に攪拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入し、60℃で10時間、その後90℃で5時間、さらに120℃で3時間加熱重合させてレンズ形状の重合体を得た。得られた重合体は無色透明であり、屈折率(nD) は1.71と非常に高く、アッベ数 (νD)も31.5と高いものであった。従って、得られた重合体は光学製品として好適であった。
合成例1で得られたビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナン(T1)0.1mol、2,5−ビス(イソシアネートメチル)−1,4−ジチアン(T5)0.1molおよびジブチルスズクロライド (CT2) 1.0×10-4molの混合物を30℃にて均一に攪拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入し、60℃で10時間、その後90℃で5時間、さらに120℃で3時間加熱重合させてレンズ形状の重合体を得た。得られた重合体は無色透明であり、屈折率(nD) は1.71と非常に高く、アッベ数 (νD)も31.5と高いものであった。従って、得られた重合体は光学製品として好適であった。
実施例5
合成例1で得られたビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナン(T1)0.1mol、ノルボルネンジイソシアネート (T6)0.1molおよびジブチルスズクロライド (CT2)1.0×10-4molの混合物を30℃にて均一に攪拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入し、60℃で10時間、その後90℃で5時間、さらに120℃で3時間加熱重合させてレンズ形状の重合体を得た。得られた重合体は無色透明であり、屈折率(nD) は1.67と非常に高く、アッベ数 (νD)も33.7と高いものであった。従って、得られた重合体は光学製品として好適であった。
合成例1で得られたビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナン(T1)0.1mol、ノルボルネンジイソシアネート (T6)0.1molおよびジブチルスズクロライド (CT2)1.0×10-4molの混合物を30℃にて均一に攪拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入し、60℃で10時間、その後90℃で5時間、さらに120℃で3時間加熱重合させてレンズ形状の重合体を得た。得られた重合体は無色透明であり、屈折率(nD) は1.67と非常に高く、アッベ数 (νD)も33.7と高いものであった。従って、得られた重合体は光学製品として好適であった。
比較例1
重合体からなる光学製品の製造
第1表に示すようにペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート(T7)0.1 mol、キシレンジイソシアネート(T4)0.2 molおよびジブチルスズジクロライド(CT2)1.0×10-4 molの混合物を均一に撹拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入し、50℃で10時間、その後60℃で5時間、さらに120℃で3時間加熱重合させてレンズ形状の重合体を得た。得られた重合体の諸物性を第1表に示す。第1表から分かるように、得られた重合体は無色透明で光学歪みも観察されなかったが、nD/νDが1.59/36と屈折率が低くかった。
重合体からなる光学製品の製造
第1表に示すようにペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート(T7)0.1 mol、キシレンジイソシアネート(T4)0.2 molおよびジブチルスズジクロライド(CT2)1.0×10-4 molの混合物を均一に撹拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入し、50℃で10時間、その後60℃で5時間、さらに120℃で3時間加熱重合させてレンズ形状の重合体を得た。得られた重合体の諸物性を第1表に示す。第1表から分かるように、得られた重合体は無色透明で光学歪みも観察されなかったが、nD/νDが1.59/36と屈折率が低くかった。
比較例2および比較例3
重合体からなる光学製品の製造
第1表に示した原料組成物を使用した以外は、比較例1と同様の操作を行ない、レンズ形状の重合体を得た。これらの重合体の諸物性を第1表に示す。第1表から分かるように、比較例2の重合体はnD/νDが1.67/28といずれも低く、着色が見られ、光学歪が観察された。また、比較例3の重合体は、νDが36と比較的高く、無色透明で光学歪は観察されなかったが、nDが1.70とそれほど高くなく、また、重合体は脆弱であった。
重合体からなる光学製品の製造
第1表に示した原料組成物を使用した以外は、比較例1と同様の操作を行ない、レンズ形状の重合体を得た。これらの重合体の諸物性を第1表に示す。第1表から分かるように、比較例2の重合体はnD/νDが1.67/28といずれも低く、着色が見られ、光学歪が観察された。また、比較例3の重合体は、νDが36と比較的高く、無色透明で光学歪は観察されなかったが、nDが1.70とそれほど高くなく、また、重合体は脆弱であった。
第1表に示す略号は、下記のものを表す。
T1:ビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナン
T2:1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ[4.4]ノナ−2,7−ジエン
T3:4,5−ビス(エピチオプロピルチオ)−1,3−ジチオラン
T4:キシレンジイソシアネート
T5:2,5−ビス(イソシアネートメチル)−1,4−ジチアン
T6:ノルボネンジイソシアネート
T7:ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート
T8:1,3,5−トリメルカプトベンゼン
T9:2,3−エピチオプロピルスルフィド
CT1:ジシクロヘキシルメチルアミン
CT2:ジブチルスズジクロライド
CT3:テトラ(n−ブチル)フォスフォニウムブロマイド
T1:ビス(メルカプトメチル)−1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ−スピロ[4.4]ノナン
T2:1,4,6,9−テトラチア−5−ゲルマ[4.4]ノナ−2,7−ジエン
T3:4,5−ビス(エピチオプロピルチオ)−1,3−ジチオラン
T4:キシレンジイソシアネート
T5:2,5−ビス(イソシアネートメチル)−1,4−ジチアン
T6:ノルボネンジイソシアネート
T7:ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート
T8:1,3,5−トリメルカプトベンゼン
T9:2,3−エピチオプロピルスルフィド
CT1:ジシクロヘキシルメチルアミン
CT2:ジブチルスズジクロライド
CT3:テトラ(n−ブチル)フォスフォニウムブロマイド
ゲルマニウム原子にメルカプト基含有の反応性置換基が2個結合したイオウ含有量の高い有機ゲルマニウム化合物を必須モノマー主成分として用いて得られる本発明の光学製品は、屈折率及びアッベ数が高く、耐候性,透明性に優れている。このため、例えば、眼鏡レンズ,カメラレンズ等のレンズ、プリズム、光ファイバー、光ディスク、磁気ディスク等に用いられる情報記録媒体基板、着色フィルター、赤外線吸収フィルター等の光学製品として好適である。
Claims (4)
- 一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物を必須モノマー成分として得られる重合体からなる光学製品。
(式中、R1は、メルカプト基、あるいはメルカプト基を有しており、かつ、炭素数1〜3のアルカン残基、炭素数4〜7のシクロアルカン残基、ヘテロ原子が酸素、窒素もしくは硫黄原子である炭素数3〜7のヘテロ環式化合物残基または炭素数6〜10の芳香族化合物残基を示す。R2は、水素原子、メルカプト基、炭素数1〜3のアルカン残基、炭素数4〜7のシクロアルカン残基、ヘテロ原子が酸素、窒素もしくは硫黄原子である炭素数3〜7のヘテロ環式化合物残基または炭素数6〜10の芳香族化合物残基を示し、各残基は置換基を有していてもよい。) - 前記一般式(1)で表される有機ゲルマニウム化合物と、ポリイソシアネートおよび/またはポリイソチオシアネートとの混合物、前記有機ゲルマニウム化合物と、エピスルフィド化合物および/またはエポキシ化合物、ポリオールおよび/またはポリチオールとポリイソシアネートおよび/またはポリイソチオシアネートとの混合物、または前記有機ゲルマニウム化合物と、単独重合可能なビニルモノマーから選ばれる一種または二種以上の化合物との混合物を重合させて得られた重合体からなる請求項1に記載の光学製品。
- 光学的に透明である請求項1または2に記載の光学製品。
- 眼鏡レンズである請求項1〜3のいずれかに記載の光学製品。
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| JP (1) | JP2007271744A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2009087717A1 (ja) | 2008-01-10 | 2009-07-16 | Mitsui Chemicals, Inc. | 重合性組成物用添加剤、これを含む重合性組成物およびその用途 |
| JP2010037304A (ja) * | 2008-08-07 | 2010-02-18 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 新規な含金属化合物 |
| JP2010043145A (ja) * | 2008-08-11 | 2010-02-25 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 新規な含金属化合物 |
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2006
- 2006-03-30 JP JP2006094843A patent/JP2007271744A/ja active Pending
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