JP2007111940A - Near infrared absorbing material - Google Patents
Near infrared absorbing material Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007111940A JP2007111940A JP2005304217A JP2005304217A JP2007111940A JP 2007111940 A JP2007111940 A JP 2007111940A JP 2005304217 A JP2005304217 A JP 2005304217A JP 2005304217 A JP2005304217 A JP 2005304217A JP 2007111940 A JP2007111940 A JP 2007111940A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- layer
- infrared absorbing
- acid
- derivative
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 title claims abstract description 49
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 46
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 41
- 150000005205 dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical class O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 198
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 21
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims description 9
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 8
- MJFITTKTVWJPNO-UHFFFAOYSA-N 3h-dithiole;nickel Chemical compound [Ni].C1SSC=C1 MJFITTKTVWJPNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 4
- GTZAZJLKSXIJOF-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrolidin-3-one Chemical class C1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 GTZAZJLKSXIJOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 14
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 abstract description 10
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 abstract 2
- -1 dithiol metal complex Chemical class 0.000 description 393
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 96
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 95
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 64
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 63
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 63
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 63
- 239000010408 film Substances 0.000 description 56
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 52
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 44
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 41
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 41
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 35
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 35
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 35
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 35
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 35
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 33
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 33
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 32
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 29
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 28
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 27
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 description 25
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 23
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 22
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 22
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 22
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 21
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 21
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 20
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 20
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 18
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 18
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 17
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 15
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 15
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 15
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 15
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 13
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 13
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 12
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 12
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 11
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 11
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 10
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 10
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 10
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 10
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 9
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 9
- 239000012748 slip agent Substances 0.000 description 9
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 8
- 230000006870 function Effects 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 8
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 8
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 7
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 7
- MBAKFIZHTUAVJN-UHFFFAOYSA-I hexafluoroantimony(1-);hydron Chemical compound F.F[Sb](F)(F)(F)F MBAKFIZHTUAVJN-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 6
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 6
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 6
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 5
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 5
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 5
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 5
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 5
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 5
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 5
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 5
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 5
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 5
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 5
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 5
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 5
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethanol Chemical compound OCCC1=CC=CC=C1 WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AJKLCDRWGVLVSH-UHFFFAOYSA-N 4,4-bis(hydroxymethyl)-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(CO)(CO)CN1C1=CC=CC=C1 AJKLCDRWGVLVSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)-4-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(CO)CN1C1=CC=CC=C1 DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 4
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 4
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 4
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N alpha-ketodiacetal Natural products O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 4
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 4
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 description 4
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 description 4
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 4
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 4
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 4
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 4
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 4
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 4
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 4
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IZTBARLEKCMPRU-UHFFFAOYSA-N 4,4-bis(hydroxymethyl)-1-(4-methylphenyl)pyrazolidin-3-one Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1N1NC(=O)C(CO)(CO)C1 IZTBARLEKCMPRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 3
- 235000010443 alginic acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000000783 alginic acid Substances 0.000 description 3
- 229920000615 alginic acid Polymers 0.000 description 3
- 229960001126 alginic acid Drugs 0.000 description 3
- 150000004781 alginic acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 3
- 239000012874 anionic emulsifier Substances 0.000 description 3
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000006309 butyl amino group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 3
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 3
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 3
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N divinyl sulfone Chemical compound C=CS(=O)(=O)C=C AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 3
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005921 isopentoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 3
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 3
- 125000003935 n-pentoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 3
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 125000004592 phthalazinyl group Chemical group C1(=NN=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 3
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002098 pyridazinyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 3
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004306 triazinyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 3
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 2
- JIPBZEFOQFUCIQ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-hydroxyphenyl)-4,4-dimethylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=C(O)C=C1 JIPBZEFOQFUCIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004797 2,2,2-trichloroethoxy group Chemical group ClC(CO*)(Cl)Cl 0.000 description 2
- 125000000453 2,2,2-trichloroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(Cl)(Cl)Cl 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQJBAQRKEKZZRH-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)-4,4-dimethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound OCN1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=CC=C1 OQJBAQRKEKZZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNNASAKNZPXHGB-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)-4-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound OCN1C(=O)C(C)CN1C1=CC=CC=C1 ZNNASAKNZPXHGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(C)=C XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VRRCWMUGXDMPEY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylbenzotriazol-4-ol Chemical compound N1=C2C(O)=CC=CC2=NN1C1=CC=CC=C1 VRRCWMUGXDMPEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=CC=C1 SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AGGISPMMJWRLTC-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-2-(morpholin-4-ylmethyl)-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound O=C1C(C)(C)CN(C=2C=CC=CC=2)N1CN1CCOCC1 AGGISPMMJWRLTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SKNXPYIPQJVMMG-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)-1-(4-methoxyphenyl)-4-methylpyrazolidin-3-one Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1NC(=O)C(C)(CO)C1 SKNXPYIPQJVMMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXJOQCFWCWVVDU-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)-4-methyl-1-(2-methylphenyl)pyrazolidin-3-one Chemical compound CC1=CC=CC=C1N1NC(=O)C(C)(CO)C1 CXJOQCFWCWVVDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UWOZQBARAREECT-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)-4-methyl-1-(4-methylphenyl)pyrazolidin-3-one Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1N1NC(=O)C(C)(CO)C1 UWOZQBARAREECT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KGJCPRYSRICTGT-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-(morpholin-4-ylmethyl)-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound O=C1C(C)CN(C=2C=CC=CC=2)N1CN1CCOCC1 KGJCPRYSRICTGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INKKKAWJTSAIMW-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butyl-2-(2-phenylpropan-2-yl)-6-[5-(trifluoromethyl)benzotriazol-2-yl]phenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=C(C=CC3=N2)C(F)(F)F)=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 INKKKAWJTSAIMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWAVNLQGWZQKHD-UHFFFAOYSA-N 5,5-dimethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound CC1(C)CC(=O)NN1C1=CC=CC=C1 TWAVNLQGWZQKHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 5-Chloro-2-(3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001817 Agar Polymers 0.000 description 2
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 2
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000057 Mannan Polymers 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 2
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 2
- 125000004062 acenaphthenyl group Chemical group C1(CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 2
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000008272 agar Substances 0.000 description 2
- 235000010419 agar Nutrition 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 2
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920006318 anionic polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 2
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 2
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003828 azulenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 2
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 2
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical group CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical compound C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004623 carbolinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 235000010418 carrageenan Nutrition 0.000 description 2
- 229920001525 carrageenan Polymers 0.000 description 2
- 239000000679 carrageenan Substances 0.000 description 2
- 229940113118 carrageenan Drugs 0.000 description 2
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 2
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002933 cyclohexyloxy group Chemical group C1(CCCCC1)O* 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 2
- GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N divanadium pentaoxide Chemical compound O=[V](=O)O[V](=O)=O GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 2
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000031 ethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N([H])[*] 0.000 description 2
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 2
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N glycine betaine Chemical compound C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 2
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001245 hexylamino group Chemical group [H]N([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- FZWBNHMXJMCXLU-BLAUPYHCSA-N isomaltotriose Chemical compound O[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@H]1OC[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C=O)O1 FZWBNHMXJMCXLU-BLAUPYHCSA-N 0.000 description 2
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 2
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 2
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 2
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004888 n-propyl amino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- XTEGVFVZDVNBPF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-disulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1S(O)(=O)=O XTEGVFVZDVNBPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005029 naphthylthio group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)S* 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 2
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 2
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 125000004894 pentylamino group Chemical group C(CCCC)N* 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 2
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 2
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 2
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 2
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 2
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- SYWDUFAVIVYDMX-UHFFFAOYSA-M sodium;4,6-dichloro-1,3,5-triazin-2-olate Chemical compound [Na+].[O-]C1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 SYWDUFAVIVYDMX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 125000004149 thio group Chemical group *S* 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- UHVMMEOXYDMDKI-JKYCWFKZSA-L zinc;1-(5-cyanopyridin-2-yl)-3-[(1s,2s)-2-(6-fluoro-2-hydroxy-3-propanoylphenyl)cyclopropyl]urea;diacetate Chemical compound [Zn+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CCC(=O)C1=CC=C(F)C([C@H]2[C@H](C2)NC(=O)NC=2N=CC(=CC=2)C#N)=C1O UHVMMEOXYDMDKI-JKYCWFKZSA-L 0.000 description 2
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- LUEWUZLMQUOBSB-FSKGGBMCSA-N (2s,3s,4s,5s,6r)-2-[(2r,3s,4r,5r,6s)-6-[(2r,3s,4r,5s,6s)-4,5-dihydroxy-2-(hydroxymethyl)-6-[(2r,4r,5s,6r)-4,5,6-trihydroxy-2-(hydroxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-4,5-dihydroxy-2-(hydroxymethyl)oxan-3-yl]oxy-6-(hydroxymethyl)oxane-3,4,5-triol Chemical compound O[C@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1O[C@@H]1[C@@H](CO)O[C@@H](O[C@@H]2[C@H](O[C@@H](OC3[C@H](O[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H]3O)CO)[C@@H](O)[C@H]2O)CO)[C@H](O)[C@H]1O LUEWUZLMQUOBSB-FSKGGBMCSA-N 0.000 description 1
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STWZWUFRTQEEMW-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloroethene;prop-2-enoic acid Chemical compound ClC(Cl)=C.OC(=O)C=C STWZWUFRTQEEMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001607 1,2,3-triazol-1-yl group Chemical group [*]N1N=NC([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003626 1,2,4-triazol-1-yl group Chemical group [*]N1N=C([H])N=C1[H] 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOCCOC=C CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005918 1,2-dimethylbutyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005926 1,2-dimethylbutyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004726 1,2-dimethylbutylthio group Chemical group CC(C(CC)C)S* 0.000 description 1
- 125000005923 1,2-dimethylpropyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004720 1,2-dimethylpropylthio group Chemical group CC(C(C)C)S* 0.000 description 1
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical class C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC(CN=C=O)=C1 RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004727 1,3-dimethylbutylthio group Chemical group CC(CC(C)C)S* 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYLVUSZHVURAOY-UHFFFAOYSA-N 2,2-dibromoethenylbenzene Chemical compound BrC(Br)=CC1=CC=CC=C1 CYLVUSZHVURAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXZSFWHOSHAKMN-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,4',5-Pentachlorobiphenyl Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1=CC(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1Cl SXZSFWHOSHAKMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEBBLNDVSSWJLL-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(OC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C NEBBLNDVSSWJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJBFVQSGPLGDNX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)COC(=O)C(C)=C JJBFVQSGPLGDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEAHJFGPHPHWND-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-yl)-6-[5-(trifluoromethyl)benzotriazol-2-yl]-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=C(C=CC3=N2)C(F)(F)F)=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 NEAHJFGPHPHWND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVXLLHWEQSZBLW-UHFFFAOYSA-N 2-(4-acetyl-2-methoxyphenoxy)acetic acid Chemical compound COC1=CC(C(C)=O)=CC=C1OCC(O)=O WVXLLHWEQSZBLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSQIWXJOYBPPGF-UHFFFAOYSA-N 2-(5-chlorobenzotriazol-2-yl)-6-(2-phenylpropan-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 GSQIWXJOYBPPGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDQYWNUWKVADJV-UHFFFAOYSA-N 2-[(1-amino-2-methyl-1-oxopropan-2-yl)diazenyl]-2-methylpropanamide;dihydrate Chemical compound O.O.NC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(N)=O LDQYWNUWKVADJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUEZYXHDKNSRDA-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-hydroxyphenyl)methyl]-3-methylphenol Chemical compound CC=1C(=C(C=CC1)O)CC1=C(C=CC=C1)O VUEZYXHDKNSRDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCWJIUAUMAHNDB-UHFFFAOYSA-N 2-[5-(trifluoromethyl)benzotriazol-2-yl]-4,6-bis(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=C(C=CC3=N2)C(F)(F)F)=C1O YCWJIUAUMAHNDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVYWLFZHFQXISL-UHFFFAOYSA-N 2-[5-(trifluoromethyl)benzotriazol-2-yl]-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=C(C=CC3=N2)C(F)(F)F)=C1 FVYWLFZHFQXISL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000143 2-carboxyethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 1
- DDBYLRWHHCWVID-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbut-1-enylbenzene Chemical compound CCC(CC)=CC1=CC=CC=C1 DDBYLRWHHCWVID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBKNKFIRGXQLDB-UHFFFAOYSA-N 2-fluoroethenylbenzene Chemical compound FC=CC1=CC=CC=C1 KBKNKFIRGXQLDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZPOYKXYJOHGCW-UHFFFAOYSA-N 2-iodoethenylbenzene Chemical compound IC=CC1=CC=CC=C1 OZPOYKXYJOHGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethenylbenzene Chemical compound COC=CC1=CC=CC=C1 CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROGIWVXWXZRRMZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1 ROGIWVXWXZRRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQXYBDVZAUEPDL-UHFFFAOYSA-N 2-methylidene-5-phenylpent-4-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(=C)CC=CC1=CC=CC=C1 JQXYBDVZAUEPDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)=CC1=CC=CC=C1 BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIAOLBVUVDXHHL-UHFFFAOYSA-N 2-nitroethenylbenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C=CC1=CC=CC=C1 PIAOLBVUVDXHHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(=O)C=C VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USWINTIHFQKJTR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxynaphthalene-2,7-disulfonic acid Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C=C2C=C(S(O)(=O)=O)C(O)=CC2=C1 USWINTIHFQKJTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTHJQCDAHYOPIK-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)=C(C)C1=CC=CC=C1 ZTHJQCDAHYOPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003542 3-methylbutan-2-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBBQDUFLZGOASY-OWOJBTEDSA-N 4-[(e)-2-(4-carboxyphenyl)ethenyl]benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1\C=C\C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 SBBQDUFLZGOASY-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAXPDWVRLUOOBJ-UHFFFAOYSA-N 4-ethylhex-3-en-3-ylbenzene Chemical compound CCC(CC)=C(CC)C1=CC=CC=C1 YAXPDWVRLUOOBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCGISRHGYLRXSR-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-7-[(5-hydroxy-7-sulfonaphthalen-2-yl)carbamoylamino]naphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound OC1=CC(S(O)(=O)=O)=CC2=CC(NC(=O)NC=3C=C4C=C(C=C(C4=CC=3)O)S(O)(=O)=O)=CC=C21 PCGISRHGYLRXSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enylhepta-1,6-diene Chemical class C=CCC(CC=C)CC=C XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REJHVSOVQBJEBF-OWOJBTEDSA-N 5-azaniumyl-2-[(e)-2-(4-azaniumyl-2-sulfonatophenyl)ethenyl]benzenesulfonate Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC(N)=CC=C1\C=C\C1=CC=C(N)C=C1S(O)(=O)=O REJHVSOVQBJEBF-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- FIARATPVIIDWJT-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound CC1CC(=O)NN1C1=CC=CC=C1 FIARATPVIIDWJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFSKCGGNJDRYJB-UHFFFAOYSA-N 6-(3-methyl-5-oxopyrazol-4-yl)naphthalene-1,3-disulfonic acid Chemical compound O=C1N=NC(C)=C1C1=CC=C(C(=CC(=C2)S(O)(=O)=O)S(O)(=O)=O)C2=C1 KFSKCGGNJDRYJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDQCHHBOZOKELH-UHFFFAOYSA-N 6-amino-2-(4-sulfophenyl)benzotriazole-5-sulfonic acid Chemical compound N1=C2C=C(S(O)(=O)=O)C(N)=CC2=NN1C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 FDQCHHBOZOKELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBZVNWNSRNTWPS-UHFFFAOYSA-N 6-amino-4-hydroxynaphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C=C(O)C2=CC(N)=CC=C21 HBZVNWNSRNTWPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAEDTQBZZXPXLZ-UHFFFAOYSA-N 6-methylheptyl 3-[3-tert-butyl-5-(5-chlorobenzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OCCCCCC(C)C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O MAEDTQBZZXPXLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOBIZWYVJFIYOV-UHFFFAOYSA-N 7-hydroxynaphthalene-1,3-disulfonic acid Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C=C(S(O)(=O)=O)C2=CC(O)=CC=C21 DOBIZWYVJFIYOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDEOXZHCPCPPJG-UHFFFAOYSA-N 8-aminonaphthalene-1,6-disulfonic acid Chemical compound C1=CC(S(O)(=O)=O)=C2C(N)=CC(S(O)(=O)=O)=CC2=C1 YDEOXZHCPCPPJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJNPIHLZSZCGOC-UHFFFAOYSA-N 9,10-dioxoanthracene-1,8-disulfonic acid Chemical compound O=C1C2=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2S(=O)(=O)O IJNPIHLZSZCGOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNIHAPSVIGPAFF-UHFFFAOYSA-N Acrylamide-acrylic acid resin Chemical compound NC(=O)C=C.OC(=O)C=C RNIHAPSVIGPAFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018085 Al-F Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018179 Al—F Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJGRAMVYTAJSJB-UHFFFAOYSA-N C(Cl)(Cl)Cl.O(C1=CC=CC=C1)C(C)O Chemical compound C(Cl)(Cl)Cl.O(C1=CC=CC=C1)C(C)O SJGRAMVYTAJSJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 CN*([N+]([O-])=C)=C Chemical compound CN*([N+]([O-])=C)=C 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YASYEJJMZJALEJ-UHFFFAOYSA-N Citric acid monohydrate Chemical compound O.OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O YASYEJJMZJALEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- REJHVSOVQBJEBF-UHFFFAOYSA-N DSD-acid Natural products OS(=O)(=O)C1=CC(N)=CC=C1C=CC1=CC=C(N)C=C1S(O)(=O)=O REJHVSOVQBJEBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N Docosanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- 239000004908 Emulsion polymer Substances 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001293 FEMA 3089 Substances 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002148 Gellan gum Polymers 0.000 description 1
- 229920002581 Glucomannan Polymers 0.000 description 1
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002907 Guar gum Polymers 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 229920013646 Hycar Polymers 0.000 description 1
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical class OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920000161 Locust bean gum Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAGSSPNVYSGGOX-UHFFFAOYSA-N N-[methylamino(sulfamoyl)methyl]acetamide Chemical compound CNC(S(=O)(=O)N)NC(C)=O OAGSSPNVYSGGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 229920002230 Pectic acid Polymers 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 239000004373 Pullulan Substances 0.000 description 1
- 229920001218 Pullulan Polymers 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003691 SiBr Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910008449 SnF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 1
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001615 Tragacanth Polymers 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007926 ZrCl Inorganic materials 0.000 description 1
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- LXEKPEMOWBOYRF-UHFFFAOYSA-N [2-[(1-azaniumyl-1-imino-2-methylpropan-2-yl)diazenyl]-2-methylpropanimidoyl]azanium;dichloride Chemical compound Cl.Cl.NC(=N)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(N)=N LXEKPEMOWBOYRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQHMGFSAURFQAF-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)COC(=O)C(C)=C OQHMGFSAURFQAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920006397 acrylic thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008431 aliphatic amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005083 alkoxyalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005081 alkoxyalkoxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005078 alkoxycarbonylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003418 alkyl amino alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000278 alkyl amino alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004689 alkyl amino carbonyl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005211 alkyl trimethyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000305 astragalus gummifer gum Substances 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 235000013871 bee wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000012166 beeswax Substances 0.000 description 1
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 125000004618 benzofuryl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000004196 benzothienyl group Chemical group S1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000004541 benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical group C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000440 benzylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- BWHOZHOGCMHOBV-UHFFFAOYSA-N benzylideneacetone Chemical compound CC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 BWHOZHOGCMHOBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 1
- 125000000319 biphenyl-4-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBSPZZSGTIBOFG-UHFFFAOYSA-N bis[2-(4,5-dihydro-1h-imidazol-2-yl)propan-2-yl]diazene;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.N=1CCNC=1C(C)(C)N=NC(C)(C)C1=NCCN1 LBSPZZSGTIBOFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZXSLFQJOZPCJG-UHFFFAOYSA-N bis[2-(5-methyl-4,5-dihydro-1h-imidazol-2-yl)propan-2-yl]diazene;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.N1C(C)CN=C1C(C)(C)N=NC(C)(C)C1=NCC(C)N1 PZXSLFQJOZPCJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- INLLPKCGLOXCIV-UHFFFAOYSA-N bromoethene Chemical compound BrC=C INLLPKCGLOXCIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004799 bromophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N but-1-enylbenzene Chemical compound CCC=CC1=CC=CC=C1 MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006226 butoxyethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004744 butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 description 1
- 229920006319 cationized starch Polymers 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000003889 chemical engineering Methods 0.000 description 1
- 125000004651 chloromethoxy group Chemical group ClCO* 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002303 citric acid monohydrate Drugs 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000006258 conductive agent Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000000000 cycloalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005366 cycloalkylthio group Chemical group 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006639 cyclohexyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUZLJPRHSPEASP-UHFFFAOYSA-N cyclohexylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CCCCC1 UUZLJPRHSPEASP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIMUXQLLGBMSAI-UHFFFAOYSA-N cyclohexylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CCCCC1 FIMUXQLLGBMSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006312 cyclopentyl amino group Chemical group [H]N(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001887 cyclopentyloxy group Chemical group C1(CCCC1)O* 0.000 description 1
- RTVSUIOGXLXKNM-UHFFFAOYSA-N dec-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 RTVSUIOGXLXKNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006612 decyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004984 dialkylaminoalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004986 diarylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004987 dibenzofuryl group Chemical group C1(=CC=CC=2OC3=C(C21)C=CC=C3)* 0.000 description 1
- 125000004988 dibenzothienyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=C(C21)C=CC=C3)* 0.000 description 1
- 125000004188 dichlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- BBLSYMNDKUHQAG-UHFFFAOYSA-L dilithium;sulfite Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]S([O-])=O BBLSYMNDKUHQAG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000006263 dimethyl aminosulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])N(C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000002474 dimethylaminoethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])N(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N dioxazine Chemical compound O1ON=CC=C1 PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZCCUDJHOGOSO-UHFFFAOYSA-N diphenic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1C(O)=O GWZCCUDJHOGOSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZUODNWWWUQRIR-UHFFFAOYSA-L disodium;3-aminonaphthalene-1,5-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C2=CC(N)=CC(S([O-])(=O)=O)=C21 UZUODNWWWUQRIR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940071161 dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004672 ethylcarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 229920005648 ethylene methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006226 ethylene-acrylic acid Polymers 0.000 description 1
- 125000006125 ethylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- IYWCBYFJFZCCGV-UHFFFAOYSA-N formamide;hydrate Chemical compound O.NC=O IYWCBYFJFZCCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003838 furazanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 108010025899 gelatin film Proteins 0.000 description 1
- 235000010492 gellan gum Nutrition 0.000 description 1
- 239000000216 gellan gum Substances 0.000 description 1
- 229940046240 glucomannan Drugs 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 235000010417 guar gum Nutrition 0.000 description 1
- 239000000665 guar gum Substances 0.000 description 1
- 229960002154 guar gum Drugs 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N hex-1-enylbenzene Chemical compound CCCCC=CC1=CC=CC=C1 KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920013821 hydroxy alkyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 235000010979 hydroxypropyl methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000001866 hydroxypropyl methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920003088 hydroxypropyl methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- UFVKGYZPFZQRLF-UHFFFAOYSA-N hydroxypropyl methyl cellulose Chemical compound OC1C(O)C(OC)OC(CO)C1OC1C(O)C(O)C(OC2C(C(O)C(OC3C(C(O)C(O)C(CO)O3)O)C(CO)O2)O)C(CO)O1 UFVKGYZPFZQRLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOCSVLHOTKHEFZ-UHFFFAOYSA-N icosanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O OOCSVLHOTKHEFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000002608 ionic liquid Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001786 isothiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000842 isoxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000015110 jellies Nutrition 0.000 description 1
- 239000008274 jelly Substances 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052808 lithium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000032 lithium hydrogen carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- HQRPHMAXFVUBJX-UHFFFAOYSA-M lithium;hydrogen carbonate Chemical compound [Li+].OC([O-])=O HQRPHMAXFVUBJX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 235000010420 locust bean gum Nutrition 0.000 description 1
- 239000000711 locust bean gum Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006261 methyl amino sulfonyl group Chemical group [H]N(C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000004458 methylaminocarbonyl group Chemical group [H]N(C(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006216 methylsulfinyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)=O 0.000 description 1
- 239000004200 microcrystalline wax Substances 0.000 description 1
- 235000019808 microcrystalline wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 210000003097 mucus Anatomy 0.000 description 1
- IBWNNWNNGQLVNK-UHFFFAOYSA-N n-[3-(ethenylsulfonylamino)-2-hydroxypropyl]ethenesulfonamide Chemical compound C=CS(=O)(=O)NCC(O)CNS(=O)(=O)C=C IBWNNWNNGQLVNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004708 n-butylthio group Chemical group C(CCC)S* 0.000 description 1
- 125000001298 n-hexoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004718 n-hexylthio group Chemical group C(CCCCC)S* 0.000 description 1
- 125000006609 n-nonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006608 n-octyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004712 n-pentylthio group Chemical group C(CCCC)S* 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004706 n-propylthio group Chemical group C(CC)S* 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEWDOWUUTBCVJP-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,6-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC2=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C21 HEWDOWUUTBCVJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRRDCWDFRIJIQZ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,8-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC(C(O)=O)=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 HRRDCWDFRIJIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHARCSTZAGNHOT-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 KHARCSTZAGNHOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000005184 naphthylamino group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)N* 0.000 description 1
- 125000005185 naphthylcarbonyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C(=O)* 0.000 description 1
- 125000005186 naphthyloxy group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)O* 0.000 description 1
- 125000005146 naphthylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 125000005484 neopentoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- KNZIIQMSCLCSGZ-UHFFFAOYSA-N non-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 KNZIIQMSCLCSGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000006611 nonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- RCALDWJXTVCBAZ-UHFFFAOYSA-N oct-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 RCALDWJXTVCBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N octadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940065472 octyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014593 oils and fats Nutrition 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005968 oxazolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 description 1
- 238000012858 packaging process Methods 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- LCLHHZYHLXDRQG-ZNKJPWOQSA-N pectic acid Chemical compound O[C@@H]1[C@@H](O)[C@@H](O)O[C@H](C(O)=O)[C@@H]1OC1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](OC2[C@@H]([C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O2)C(O)=O)O)[C@@H](C(O)=O)O1 LCLHHZYHLXDRQG-ZNKJPWOQSA-N 0.000 description 1
- 229920001277 pectin Polymers 0.000 description 1
- 235000010987 pectin Nutrition 0.000 description 1
- 239000001814 pectin Substances 0.000 description 1
- KHMYONNPZWOTKW-UHFFFAOYSA-N pent-1-enylbenzene Chemical compound CCCC=CC1=CC=CC=C1 KHMYONNPZWOTKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 1
- 125000004675 pentylcarbonyl group Chemical group C(CCCC)C(=O)* 0.000 description 1
- DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N perinone Chemical compound C12=NC3=CC=CC=C3N2C(=O)C2=CC=C3C4=C2C1=CC=C4C(=O)N1C2=CC=CC=C2N=C13 DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-M periodate Chemical compound [O-]I(=O)(=O)=O KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical group CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 229940085991 phosphate ion Drugs 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002587 poly(1,3-butadiene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 239000010318 polygalacturonic acid Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006225 propoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004673 propylcarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019423 pullulan Nutrition 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005400 pyridylcarbonyl group Chemical group N1=C(C=CC=C1)C(=O)* 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005920 sec-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000035807 sensation Effects 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- QPILZZVXGUNELN-UHFFFAOYSA-M sodium;4-amino-5-hydroxynaphthalene-2,7-disulfonate;hydron Chemical compound [Na+].OS(=O)(=O)C1=CC(O)=C2C(N)=CC(S([O-])(=O)=O)=CC2=C1 QPILZZVXGUNELN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007962 solid dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004154 testing of material Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMJCEVKJYRZMIA-UHFFFAOYSA-M thallium(i) iodide Chemical compound [Tl]I CMJCEVKJYRZMIA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical compound S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005691 triesters Chemical class 0.000 description 1
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005034 trifluormethylthio group Chemical group FC(S*)(F)F 0.000 description 1
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 description 1
- 125000000025 triisopropylsilyl group Chemical group C(C)(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)* 0.000 description 1
- WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphate Chemical compound COP(=O)(OC)OC WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229940005605 valeric acid Drugs 0.000 description 1
- HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N valeric aldehyde Natural products CCCCC=O HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 1
- 235000020681 well water Nutrition 0.000 description 1
- 239000002349 well water Substances 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
- 229920001285 xanthan gum Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Description
本発明は、近赤外線吸収材料に関する。 The present invention relates to a near-infrared absorbing material.
従来、プラズマ表示パネル(PDP)は、希ガスをプラズマ状態にして紫外線を放射させ、該紫外線で蛍光体を発光させるが、このとき近赤外線も放射されるので、リモコン等の操作素子の誤作動を防ぐ必要があり、800nm〜1000nmの近赤外線放出の遮蔽に関する要求が高まっている。近赤外線は周辺機器に誤作動等の機能障害を及ぼすものであり、周辺機器ごとに違いがあるが、家電用のテレビやクーラー等のリモコン、その他業務等用特殊なリモコン、および通信用とPDP(プラズマディスプレイ)が各々発する波長が同波長である。 Conventionally, a plasma display panel (PDP) emits ultraviolet rays in a rare gas in a plasma state and emits phosphors with the ultraviolet rays. At this time, near-infrared rays are also emitted. There is a growing demand for shielding near-infrared emission from 800 nm to 1000 nm. Near-infrared rays cause malfunctions such as malfunctions to peripheral devices, and there are differences between peripheral devices, but remote controls for televisions and coolers for home appliances, special remote controls for business use, and communication and PDPs The wavelength emitted by each (plasma display) is the same wavelength.
したがって、PDPが設置されている周辺の機器が、このPDPの発する波長により、誤動作を生じる原因となる。この要求に対して、PDPの前面硝子に近赤外線吸収フィルムを貼る方式は、簡便でコスト面でも有利であることからこの方式が主流となっている。 Therefore, peripheral devices in which the PDP is installed may cause malfunction due to the wavelength emitted by the PDP. In response to this requirement, the method of sticking a near-infrared absorbing film on the front glass of the PDP has become the mainstream because it is simple and advantageous in terms of cost.
しかし、PDPの発熱や紫外線のために、近赤外線吸収フィルムの劣化が課題で、耐熱性のある近赤外線吸収色素の開発や吸収効率のよい紫外線吸収剤の併用等工夫がされているが満足な性能になっていない。 However, due to the heat generation and ultraviolet rays of the PDP, the deterioration of the near-infrared absorbing film is an issue, and the development of heat-resistant near-infrared absorbing pigments and the combined use of UV absorbers with good absorption efficiency are satisfactory. It is not performance.
近赤外線吸収色素の劣化は、水分の影響が大きいので水の影響を受けないように非水系で塗布する方法(例えば、特許文献1等。)があるが、有機溶媒の揮発物の作業衛生上や製造後に揮発する、残留有機溶媒による劣化変動を受けやすいという問題点があり、無溶媒の疎水性樹脂の重合時に色素を存在させて、モノマーと重合開始剤から形成されたものを成型して使用する方法(例えば、特許文献2等。)があるが、高速塗布が難しく生産性が劣る等の問題点がある。 There is a non-aqueous coating method (for example, Patent Document 1) so that the deterioration of the near-infrared absorbing dye is not affected by water because of the influence of moisture, but in terms of occupational hygiene of organic solvent volatiles. In addition, there is a problem that it is susceptible to deterioration fluctuation due to residual organic solvent that volatilizes after production, and a dye is present during polymerization of a solvent-free hydrophobic resin, and a product formed from a monomer and a polymerization initiator is molded. There are methods to be used (for example, Patent Document 2), but there are problems such as difficulty in high-speed coating and poor productivity.
水系溶媒に色素を微粒子固体分散する方法(例えば、特許文献3等。)が提案されている。しかし、この方法は水分の影響を少なからず受けて保存性が劣る等の問題点がある。 A method (for example, Patent Document 3) in which a pigment is dispersed in a solid fine particle in an aqueous solvent has been proposed. However, this method has problems such as poor storage stability due to the influence of moisture.
また、高速薄膜塗布で高生産性に有利なゼラチン分散水系塗布(例えば、特許文献4等。)は、分散性のよいゼラチン中に近赤外線吸収色素を分散して塗布する水系塗布ということで、高い生産性が得られる反面、保存性に弱いとう欠点を有している。この問題点は、ゼラチンという素材がもつ保水性のために、近赤外線吸収色素の高温高湿保存の劣化が避けられないというのが現状であり、上記の種々の問題点の解決が要望されている。
本発明の目的は、高い近赤外線吸収性能を示し、且つ、保存性も良好な近赤外線吸収材料を提供することである。 An object of the present invention is to provide a near-infrared absorbing material that exhibits high near-infrared absorbing performance and good storage stability.
本発明の上記目的は、下記の構成1〜7により達成された。 The above object of the present invention has been achieved by the following configurations 1 to 7.
1.
支持体上に、少なくとも1層の近赤外線吸収層を有し、該近赤外線吸収層が、極大波長を750nm〜1100nmの範囲に示す化合物を含有し、前記近赤外線吸収層または、前記近赤外線吸収層の隣接層が、ジヒドロキシベンゼン誘導体またはピラゾリドン誘導体を含有することを特徴とする近赤外線吸収材料。
1.
The support has at least one near-infrared absorbing layer, and the near-infrared absorbing layer contains a compound having a maximum wavelength in the range of 750 nm to 1100 nm, and the near-infrared absorbing layer or the near-infrared absorbing layer A near-infrared absorbing material, wherein a layer adjacent to the layer contains a dihydroxybenzene derivative or a pyrazolidone derivative.
2.
前記ジヒドロキシベンゼン誘導体が、1,4−ジヒドロキシベンゼン誘導体であることを特徴とする前記1に記載の近赤外線吸収材料。
2.
2. The near-infrared absorbing material according to 1 above, wherein the dihydroxybenzene derivative is a 1,4-dihydroxybenzene derivative.
3.
前記ピラゾリドン誘導体が、1−フェニル−3−ピロリドン誘導体であることを特徴とする前記1または2に記載の近赤外線吸収材料。
3.
3. The near infrared ray absorbing material according to 1 or 2, wherein the pyrazolidone derivative is a 1-phenyl-3-pyrrolidone derivative.
4.
前記近赤外線吸収層または隣接層中が、アルカリ剤を含有することを特徴とする前記1〜3のいずれか1項に記載の近赤外線吸収材料。
4).
4. The near-infrared absorbing material according to any one of 1 to 3, wherein the near-infrared absorbing layer or an adjacent layer contains an alkali agent.
5.
前記アルカリ剤がアルカリ金属及びアルカリ土類金属から選択される金属群から選択される金属の塩であることを特徴とする前記4に記載の近赤外線吸収材料。
5.
5. The near-infrared absorbing material as described in 4 above, wherein the alkali agent is a metal salt selected from a metal group selected from alkali metals and alkaline earth metals.
6.
前記化合物が、フタロシアニン誘導体、ニッケルジチオール錯体化合物、ジイモニウム誘導体及びスクワリウム誘導体からなる群から選択される少なくとも一つであることを特徴とする前記1〜5のいずれか1項に記載の近赤外線吸収材料。
6).
6. The near-infrared absorbing material according to any one of 1 to 5, wherein the compound is at least one selected from the group consisting of a phthalocyanine derivative, a nickel dithiol complex compound, a diimonium derivative, and a squalium derivative. .
7.
構成層として、反射防止層、高硬度層、粘着層及び電磁波吸収層からなる機能性層群から選択される少なくとも一つの層を有することを特徴とする前記1〜6のいずれか1項に記載の近赤外線吸収材料。
7).
The structure layer has at least one layer selected from a functional layer group consisting of an antireflection layer, a high hardness layer, an adhesive layer, and an electromagnetic wave absorption layer. Near-infrared absorbing material.
本発明により、高い近赤外線吸収性能を示し、且つ、保存性も良好な近赤外線吸収材料を提供することができた。 According to the present invention, a near-infrared absorbing material that exhibits high near-infrared absorbing performance and good storage stability can be provided.
本発明の近赤外線吸収材料においては、請求項1〜7のいずれか1項に記載の構成を用いることにより、高い近赤外線吸収性能を示し、且つ、保存性も良好な近赤外線吸収材料を提供することができた。 In the near-infrared absorbing material of the present invention, by using the configuration according to any one of claims 1 to 7, a near-infrared absorbing material that exhibits high near-infrared absorbing performance and good storage stability is provided. We were able to.
以下、本発明に係る各構成要素の詳細について、順次説明する。 Hereinafter, details of each component according to the present invention will be sequentially described.
《近赤外線吸収層》
本発明に係る近赤外線吸収層について説明する。
<< Near-infrared absorbing layer >>
The near-infrared absorbing layer according to the present invention will be described.
本発明に係る近赤外線吸収層は、極大波長を750nm〜1100nmの範囲に有する化合物を含有するが、該化合物としては、近赤外線吸収色素が好ましく、例えば、ポリメチン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、金属錯体系、アミニウム系、イモニウム系、ジイモニウム系、アンスラキノン系、ジチオール金属錯体系、ナフトキノン系、インドールフェノール系、アゾ系、トリアリルメタン系の化合物などが挙げられる。 The near-infrared absorbing layer according to the present invention contains a compound having a maximum wavelength in the range of 750 nm to 1100 nm, and as the compound, a near-infrared absorbing dye is preferable, for example, polymethine-based, phthalocyanine-based, naphthalocyanine-based, Metal complex, aminium, imonium, diimonium, anthraquinone, dithiol metal complex, naphthoquinone, indolephenol, azo, and triallylmethane compounds.
本発明の近赤外線吸収材料が好ましく用いられる用途の一例としては、PDP(プラズマディスプレイ)用の光学フィルターが挙げられるが、前記フィルタで近赤外線吸収能が要求されるのは、主として熱線吸収や電子機器のノイズ防止である。このためには、最大吸収波長が750nm〜1100nmである近赤外線吸収能を有する色素が好ましく、金属錯体系化合物、アミニウム系化合物(アミニウム誘導体)、フタロシアニン系化合物(フタロシアニン誘導体)、ナフタロシアニン系化合物(ナフタロシアニン誘導体)、ジイモニウム系化合物(ジイモニウム誘導体)、スクワリウム系化合物(スクワリウム誘導体)等が特に好ましく用いられる。 An example of an application in which the near-infrared absorbing material of the present invention is preferably used is an optical filter for PDP (plasma display). The near-infrared absorbing ability of the filter is mainly required for heat ray absorption and electron It is noise prevention of equipment. For this purpose, a dye having a near-infrared absorption ability having a maximum absorption wavelength of 750 nm to 1100 nm is preferable, and a metal complex compound, an aminium compound (aminium derivative), a phthalocyanine compound (phthalocyanine derivative), a naphthalocyanine compound ( Naphthalocyanine derivatives), diimonium compounds (diimonium derivatives), squalium compounds (squalium derivatives) and the like are particularly preferably used.
従来、知られているニッケルジチオール錯体系化合物またはフッ素化フタロシアニン系化合物の吸収極大は、700nm〜900nmであり、実用化するに当たっては、通常、上記化合物よりも長波長域に吸収極大を有するアミニウム系化合物、特に、ジイモニウム系化合物と組み合わせて用いることで、有効な近赤外線吸収効果が得られる。 Conventionally, the absorption maximum of a known nickel dithiol complex compound or a fluorinated phthalocyanine compound is 700 nm to 900 nm, and in practical use, usually an aminium compound having an absorption maximum in a longer wavelength region than the above compound. When used in combination with a compound, particularly a diimonium compound, an effective near-infrared absorption effect can be obtained.
本発明に係るジイモニウム誘導体としては、下記一般式(1)で表される化合物が挙げられる。 Examples of the diimonium derivative according to the present invention include compounds represented by the following general formula (1).
式中、R1〜R8は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表し、直鎖状でもあるいは分岐鎖状のいずれでもよく、R1〜R8は、各々同一でもよく異なっていても良い。また、Xは陰イオンを示す。 In the formula, R 1 to R 8 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group or an aralkyl group, which may be linear or branched, and R 1 to R 8. May be the same or different. X represents an anion.
一般式(1)において、R1〜R8で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、4−ヒドロキシブチル基、2−アセトキシエチル基、カルボキメチル基、2−カルボキシエチル基、3−カルボキシプロピル基、2−スルホエチル基、3−スルホプロピル基、4−スルホブチル基、3−スルフェイトプロピル基、4−スルフェイトブチル基、N−(メチルスルホニル)−カルバミルメチル基、3−(アセチルスルファミル)プロピル基、4−(アセチルスルファミル)ブチル基、シアノメチル基、2−シアノエチル基、3−シアノプロピル基、2−シアノプロピル基、4−シアノブチル基、3−シアノブチル基、2−シアノブチル基、5−シアノペンチル基、4−シアノペンチル基、3−シアノペンチル基、2−シアノペンチル基、6−シアノヘキシル基、5−シアノヘキシル基、4−シアノヘキシル基、3−シアノヘキシル基、2−シアノヘキシル基等が挙げられるが、炭素数1〜10のアルキル基が好ましく用いられる。 In the general formula (1), examples of the alkyl group represented by R 1 to R 8 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group, an iso-butyl group, sec -Butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, iso-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, 2-hydroxyethyl Group, 3-hydroxypropyl group, 4-hydroxybutyl group, 2-acetoxyethyl group, carboxymethyl group, 2-carboxyethyl group, 3-carboxypropyl group, 2-sulfoethyl group, 3-sulfopropyl group, 4-sulfobutyl group Group, 3-sulfatepropyl group, 4-sulfatebutyl group, N- (methylsulfonyl) -carbamylmethy Group, 3- (acetylsulfamyl) propyl group, 4- (acetylsulfamyl) butyl group, cyanomethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-cyanopropyl group, 2-cyanopropyl group, 4-cyanobutyl group, 3 -Cyanobutyl group, 2-cyanobutyl group, 5-cyanopentyl group, 4-cyanopentyl group, 3-cyanopentyl group, 2-cyanopentyl group, 6-cyanohexyl group, 5-cyanohexyl group, 4-cyanohexyl group , 3-cyanohexyl group, 2-cyanohexyl group and the like, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferably used.
一般式(1)において、R1〜R8で表されるシクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 In the general formula (1), examples of the cycloalkyl group represented by R 1 to R 8 include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group.
一般式(1)において、R1〜R8で表されるアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基等が挙げられる。 In the general formula (1), examples of the alkenyl group represented by R 1 to R 8 include a vinyl group, an allyl group, and a propenyl group.
一般式(1)において、R1〜R8で表されるアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、カルボキシベンジル基、スルホベンジル基、ヒドロキシベンジル基等が挙げられる。 In the general formula (1), examples of the aralkyl group represented by R 1 to R 8 include benzyl group, phenethyl group, α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group, carboxybenzyl group, sulfobenzyl group, hydroxy A benzyl group etc. are mentioned.
一般式(1)において、R1〜R8で表される各々の基は、上記の基によってさらに置換されていてもよく、また、これらの基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。 In the general formula (1), each group represented by R 1 to R 8 may be further substituted with the above group, and a plurality of these groups are bonded to each other to form a ring. May be.
一般式(1)において、Xは、1価の陰イオンまたは2価の陰イオンを表す。 In the general formula (1), X represents a monovalent anion or a divalent anion.
一般式(1)において、Xで表される1価の陰イオンとしては、有機酸1価アニオン、無機1価アニオン等があげられる。 In the general formula (1), examples of the monovalent anion represented by X include organic acid monovalent anions and inorganic monovalent anions.
有機酸1価アニオンとしては、酢酸イオン、乳酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酸イオン、安息香酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸イオン、ステアリン酸イオン等の有機カルボン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン、ナフタレンモノスルホン酸イオン、クロロベンゼンスルホン酸イオン、ニトロベンゼンスルホン酸イオン、ドデシルベンゼンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、エタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等の有機スルホン酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、ブチルトリフェニルホウ酸イオン等の有機ホウ酸イオン等があげられ、好ましくは、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン等のハロゲノアルキルスルホン酸イオンもしくはアルキルアリールスルホン酸イオンが挙げられる。 Examples of organic acid monovalent anions include acetate ions, lactate ions, trifluoroacetate ions, propionate ions, benzoate ions, oxalate ions, succinate ions, stearic acid ions, and other organic carboxylate ions, methanesulfonate ions, Organic sulfonate ions such as toluene sulfonate ion, naphthalene monosulfonate ion, chlorobenzene sulfonate ion, nitrobenzene sulfonate ion, dodecylbenzene sulfonate ion, benzene sulfonate ion, ethane sulfonate ion, trifluoromethane sulfonate ion, tetra And organic borate ions such as phenylborate ion and butyltriphenylborate ion, and preferably halogenoalkyl sulfate such as trifluoromethanesulfonate ion and toluenesulfonate ion. Phosphate ion or alkyl arylsulfonate ion.
無機1価アニオンとしては、例えばフッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン等のハロゲンイオン、チオシアン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、過塩素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、硝酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、モリブデン酸イオン、タングステン酸イオン、チタン酸イオン、バナジン酸イオン、リン酸イオン、ホウ酸イオン等があげられ、好ましいものとしては、過塩素酸イオン、ヨウ素イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン等が挙げられる。 Examples of the inorganic monovalent anion include halogen ions such as fluorine ion, chlorine ion, bromine ion and iodine ion, thiocyanate ion, hexafluoroantimonate ion, perchlorate ion, periodate ion, nitrate ion and tetrafluoroboron. Acid ions, hexafluorophosphate ions, molybdate ions, tungstate ions, titanate ions, vanadate ions, phosphate ions, borate ions, and the like. Preferred are perchlorate ions, iodine ions, Tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, hexafluoroantimonate ion and the like can be mentioned.
一般式(1)において、Xで表される2価の陰イオンとしては、ナフタレン−1、5−ジスルホン酸、R酸、G酸、H酸、ベンゾイルH酸、p−クロルベンゾイルH酸、p−トルエンスルホニルH酸、クロルH酸、クロルアセチルH酸、メタニルγ酸、6−スルホナフチル−γ酸、C酸、ε酸、p−トルエンスルホニルR酸、ナフタリン−1,6−ジスルホン酸、1−ナフトール−4,8−ジスルホン酸、等のナフタレンジスルホン酸誘導体、カルボニルJ酸、4,4’−ジアミノスチルベン−2,2’−ジスルホン酸、ジJ酸、ナフタル酸、ナフタリン−2,3−ジカルボン酸、ジフェン酸、スチルベン−4,4’−ジカルボン酸、6−スルホ−2−オキシ−3−ナフトエ酸、アントラキノン−1,8−ジスルホン酸、1,6−ジアミノアントラキノン−2,7−ジスルホン酸、2−(4−スルホフェニル)−6−アミノベンゾトリアゾール−5−スルホン酸、6−(3−メチル−5−ピラゾロニル)−ナフタレン−1,3−ジスルホン酸、1−ナフトール−6−(4−アミノ−3−スルホ)アニリノ−3−スルホン酸等から導出される2価の有機酸のイオンが挙げられる。 In the general formula (1), divalent anions represented by X include naphthalene-1,5-disulfonic acid, R acid, G acid, H acid, benzoyl H acid, p-chlorobenzoyl H acid, p -Toluenesulfonyl H acid, chloro H acid, chloroacetyl H acid, methanyl γ acid, 6-sulfonaphthyl-γ acid, C acid, ε acid, p-toluenesulfonyl R acid, naphthalene-1,6-disulfonic acid, 1 -Naphthalenedisulfonic acid derivatives such as naphthol-4,8-disulfonic acid, carbonyl J acid, 4,4'-diaminostilbene-2,2'-disulfonic acid, diJ acid, naphthalic acid, naphthalene-2,3- Dicarboxylic acid, diphenic acid, stilbene-4,4′-dicarboxylic acid, 6-sulfo-2-oxy-3-naphthoic acid, anthraquinone-1,8-disulfonic acid, 1,6-diaminoan Laquinone-2,7-disulfonic acid, 2- (4-sulfophenyl) -6-aminobenzotriazole-5-sulfonic acid, 6- (3-methyl-5-pyrazolonyl) -naphthalene-1,3-disulfonic acid, Examples thereof include divalent organic acid ions derived from 1-naphthol-6- (4-amino-3-sulfo) anilino-3-sulfonic acid and the like.
これらの陰イオンのうち、好ましいものとしては、例えば、過塩素酸イオン、ヨウ素イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン等が挙げられる。 Among these anions, preferred are, for example, perchlorate ion, iodine ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, hexafluoroantimonate ion, trifluoromethanesulfonate ion, toluenesulfonate ion Etc.
以下に、一般式(1)で表されるジイモニウム誘導体の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
(I−1)N,N,N’,N’−テトラキス(4−ジ−n−ブチルアミノフェニル)−1,4−ベンゾキノン−ビス(イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸)
(I−2)N,N,N’,N’−テトラキス(4−ジ−n−ブチルアミノフェニル)−1,4−ベンゾキノン−ビス(イモニウム・過塩素酸)
(I−3)N,N,N’,N’−テトラキス(4−ジ−アミルアミノフェニル)−1,4−ベンゾキノン−ビス(イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸)
(I−4)N,N,N’,N’−テトラキス(4−ジ−n−プロピルアミノフェニル)−1,4−ベンゾキノン−ビス(イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸)
(I−5)N,N,N’,N’−テトラキス(4−ジ−n−ヘキシルアミノフェニル)−1,4−ベンゾキノン−ビス(イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸)
(I−6)N,N,N’,N’−テトラキス(4−ジ−iso−プロピルアミノフェニル)−1,4−ベンゾキノン−ビス(イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸)
(I−7)7N,N,N’,N’−テトラキス(4−ジ−n−ペンチルアミノフェニル)−1,4−ベンゾキノン−ビス(イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸)
(I−8)N,N,N’,N’−テトラキス(4−ジ−メチルアミノフェニル)−1,4−ベンゾキノン−ビス(イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸)
《ニッケルジチオール錯体化合物》
本発明に係るニッケルジチオール錯体化合物について説明する。
Although the specific example of the diimonium derivative represented by General formula (1) below is shown, this invention is not limited to these.
(I-1) N, N, N ′, N′-tetrakis (4-di-n-butylaminophenyl) -1,4-benzoquinone-bis (imonium hexafluoroantimonic acid)
(I-2) N, N, N ′, N′-tetrakis (4-di-n-butylaminophenyl) -1,4-benzoquinone-bis (imonium / perchloric acid)
(I-3) N, N, N ′, N′-tetrakis (4-di-amylaminophenyl) -1,4-benzoquinone-bis (imonium hexafluoroantimonic acid)
(I-4) N, N, N ′, N′-tetrakis (4-di-n-propylaminophenyl) -1,4-benzoquinone-bis (imonium hexafluoroantimonic acid)
(I-5) N, N, N ′, N′-tetrakis (4-di-n-hexylaminophenyl) -1,4-benzoquinone-bis (imonium hexafluoroantimonic acid)
(I-6) N, N, N ′, N′-tetrakis (4-di-iso-propylaminophenyl) -1,4-benzoquinone-bis (imonium hexafluoroantimonic acid)
(I-7) 7N, N, N ′, N′-Tetrakis (4-di-n-pentylaminophenyl) -1,4-benzoquinone-bis (imonium hexafluoroantimonic acid)
(I-8) N, N, N ′, N′-tetrakis (4-di-methylaminophenyl) -1,4-benzoquinone-bis (imonium hexafluoroantimonic acid)
<Nickel dithiol complex compound>
The nickel dithiol complex compound according to the present invention will be described.
本発明に係るニッケルジチオール錯体化合物としては、下記一般式(2)で表される化合物が好ましく用いられる。 As the nickel dithiol complex compound according to the present invention, a compound represented by the following general formula (2) is preferably used.
一般式(2)において、R9、R10、R11及びR12は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等)、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、トリフルオロメチル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、p−ニトロフェニル基等)、ヒドロキシ基、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、トリルチオ基等)、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、iso−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、iso−ペンチルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、3−メチルフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基、ナフトキシ基等)、アルキルアミノ基(例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、iso−プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、ノニルアミノ基、ベンジルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、ジ−iso−プロピルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、ジ−iso−ブチルアミノ基、ジ−n−ペンチルアミノ基、ジ−iso−ペンチルアミノ基、ジ−n−ヘキシルアミノ基、ジ−n−ヘプチルアミノ基、ジ−n−オクチルアミノ基、ジ−(2−エチルヘキシル)アミノ基、ジベンジルアミノ基等)、ジアリールアミノ基(例えば、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基等)を表す。 In the general formula (2), R 9 , R 10 , R 11 and R 12 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, etc.), an alkyl group (for example, , Methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, trifluoromethyl group, etc.), cycloalkyl group (for example, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), aryl group (for example, phenyl group, p- Nitrophenyl group etc.), hydroxy group, alkylthio group (eg methylthio group, ethylthio group, butylthio group etc.), arylthio group (eg phenylthio group, tolylthio group etc.), nitro group, cyano group, alkoxy group (eg methoxy) Group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, iso-butoxy group, sec -Butoxy group, n-pentyloxy group, iso-pentyloxy group, etc.), aryloxy group (for example, phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 3-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, naphthoxy group, etc.), Alkylamino group (for example, methylamino group, ethylamino group, n-propylamino group, iso-propylamino group, butylamino group, pentylamino group, hexylamino group, heptylamino group, octylamino group, nonylamino group, benzyl) Amino group, dimethylamino group, diethylamino group, di-n-propylamino group, di-iso-propylamino group, di-n-butylamino group, di-iso-butylamino group, di-n-pentylamino group, Di-iso-pentylamino group, di-n-hexylamino group, di-n-heptyl Amino group, di -n- octyl amino group, di - represents a (2-ethylhexyl) amino group, dibenzylamino group, etc.), diarylamino groups (e.g., diphenylamino group, ditolylamino group).
rは、1〜5の整数を表す。rが複数の場合、各R9、R10、R11及びR12は、それらが互いに同一でもよく、異なる置換基でも構わない。 r represents an integer of 1 to 5. When r is plural, each R 9 , R 10 , R 11 and R 12 may be the same or different from each other.
以下に、本発明に係るニッケルジチオール錯体の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。 Although the specific example of the nickel dithiol complex concerning this invention is shown below, this invention is not limited to these.
《フタロシアニン誘導体(フタロシアニン化合物ともいう)》
本発明に係るフタロシアニン誘導体(フタロシアニン化合物)としては、下記一般式(3)で表される化合物が好ましい。
[Phthalocyanine derivative (also called phthalocyanine compound)]
As the phthalocyanine derivative (phthalocyanine compound) according to the present invention, a compound represented by the following general formula (3) is preferable.
一般式(3)において、R13〜R16は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基(芳香族炭化水素基、芳香族炭素環基等ともいう)、芳香族複素環基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、またはアリールチオ基を表す。R13〜R16で表される基が、複数の場合には、それらは、互いに同一でもよく、また、お互いに異なっていてもよい。Mは、2価の金属原子、3価の金属原子、4価の金属原子またはオキシ金属を表す。 In the general formula (3), R 13 to R 16 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group (also referred to as an aromatic hydrocarbon group or an aromatic carbocyclic group), aromatic Represents a heterocyclic group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group. When there are a plurality of groups represented by R 13 to R 16 , they may be the same as each other or different from each other. M represents a divalent metal atom, a trivalent metal atom, a tetravalent metal atom, or an oxymetal.
pは1〜4の整数を表す。また、置換基が隣接する場合、5員または6員の環を形成してもよい。 p represents an integer of 1 to 4. Moreover, when a substituent is adjacent, a 5-membered or 6-membered ring may be formed.
一般式(3)において、R13〜R16で表されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等が挙げられる。 In the general formula (3), examples of the halogen atom represented by R 13 to R 16 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
一般式(3)において、R13〜R16で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、neo−ペンチル基、1,2−ジメチル−プロピル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、1,3−ジメチル−ブチル基、1−iso−プロピルプロピル基、1,2−ジメチルブチル基、ヘプチル基、1,4−ジメチルペンチル基、2−メチル1−iso−プロピルプロピル基、1−エチル−3−メチルブチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、3−メチル−1−iso−プロピルブチル基、2−メチル−1−iso−プロピル基、1−tert−ブチル−2−メチルプロピル基、n−ノニル基等の炭素数1〜20の直鎖又は分岐のアルキル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、γ−メトキシプロピル基、γ−エトキシプロピル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチル基、ジメトキシエチル基、ジエトキシエチル基等のアルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルコキシアルキル基、クロロメチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、1,1,1,3,3,3,−ヘキサフルオロ−2−プロピル基等のハロゲン化アルキル基、アルキルアミノアルキル基、ジアルキルアミノアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルアミノカルボニルアルキル基、アルコキシスルホニルアルキル基等が挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよい。 In the general formula (3), examples of the alkyl group represented by R 13 to R 16 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group, an iso-butyl group, sec -Butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, iso-pentyl group, neo-pentyl group, 1,2-dimethyl-propyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, 1,3-dimethyl-butyl group, 1-iso-propylpropyl group, 1,2-dimethylbutyl group, heptyl group, 1,4-dimethylpentyl group, 2-methyl 1-iso-propylpropyl group, 1-ethyl-3-methylbutyl group, n-octyl Group, 2-ethylhexyl group, 3-methyl-1-iso-propylbutyl group, 2-methyl-1-iso-propyl group, 1-tert-butyl-2-methylpropyl group C1-C20 linear or branched alkyl group such as propyl group, n-nonyl group, methoxymethyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group, propoxyethyl group, butoxyethyl group, γ-methoxypropyl group, γ -Ethoxypropyl group, methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, dimethoxymethyl group, diethoxymethyl group, dimethoxyethyl group, diethoxyethyl group and other alkoxyalkyl groups, alkoxyalkoxyalkyl groups, alkoxyalkoxyalkoxyalkyl groups, chloro Methyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, trifluoromethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl group, etc. Halogenated alkyl group, alkylaminoalkyl group, dialkylaminoal Examples include a kill group, an alkoxycarbonylalkyl group, an alkylaminocarbonylalkyl group, and an alkoxysulfonylalkyl group. These groups may further have a substituent.
一般式(3)において、R13〜R16で表されるアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、iso−プロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、iso−ブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、iso−ペンチルオキシ基、neo−ペンチルオキシ基、1,2−ジメチル−プロピルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、1,3−ジメチル−ブチルオキシ基、1−iso−プロピルプロピルオキシ基、1,2−ジメチルブチルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、1,4−ジメチルペンチルオキシ基、2−メチル−1−iso−プロピルプロピルオキシ基、1−エチル−3−メチルブチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、3−メチル−1−iso−プロピルブチルオキシ基、2−メチル−1−iso−プロピルオキシ基、1−tert−ブチル−2−メチルプロピルオキシ基、n−ノニルオキシ基等の炭素数1〜20の直鎖又は分岐のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシエトキシ基、ブトキシエトキシ基、γ−メトキシプロピルオキシ基、γ−エトキシプロピルオキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、ジメトキシメトキシ基、ジエトキシメトキシ基、ジメトキシエトキシ基、ジエトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、ブチルオキシエトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシアルコキシ基、アルコキシアルコキシアルコキシアルコキシ基、クロロメトキシ基、2,2,2−トリクロロエトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2,2−トリクロロエトキシ基、1,1,1,3,3,3,−ヘキサフルオロ−2− プロピルオキシ基等のハロゲン化アルコキシ基、ジメチルアミノエトキシ基、ジエチルアミノエトキシ基などのアルキルアミノアルコキシ基、ジアルキルアミノアルコキシ基等が挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよい。 In the general formula (3), examples of the alkoxy group represented by R 13 to R 16 include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propyloxy group, an iso-propyloxy group, an n-butyloxy group, and an iso-butyloxy group. , Sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n-pentyloxy group, iso-pentyloxy group, neo-pentyloxy group, 1,2-dimethyl-propyloxy group, n-hexyloxy group, cyclohexyloxy group, 1 , 3-dimethyl-butyloxy group, 1-iso-propylpropyloxy group, 1,2-dimethylbutyloxy group, n-heptyloxy group, 1,4-dimethylpentyloxy group, 2-methyl-1-iso-propyl Propyloxy group, 1-ethyl-3-methylbutyloxy group, n-octyloxy group, 2 Carbon such as -ethylhexyloxy group, 3-methyl-1-iso-propylbutyloxy group, 2-methyl-1-iso-propyloxy group, 1-tert-butyl-2-methylpropyloxy group, n-nonyloxy group A linear or branched alkoxy group of formula 1 to 20, methoxymethoxy group, methoxyethoxy group, ethoxyethoxy group, propoxyethoxy group, butoxyethoxy group, γ-methoxypropyloxy group, γ-ethoxypropyloxy group, methoxyethoxyethoxy Groups, ethoxyethoxyethoxy groups, dimethoxymethoxy groups, diethoxymethoxy groups, dimethoxyethoxy groups, diethoxyethoxy groups, etc. alkoxyalkoxy groups, methoxyethoxyethoxy groups, ethoxyethoxyethoxy groups, butyloxyethoxyethoxy groups, etc. Coxyalkoxy group, alkoxyalkoxyalkoxyalkoxy group, chloromethoxy group, 2,2,2-trichloroethoxy group, trifluoromethoxy group, 2,2,2-trichloroethoxy group, 1,1,1,3,3, Examples include halogenated alkoxy groups such as 3, -hexafluoro-2-propyloxy group, alkylaminoalkoxy groups such as dimethylaminoethoxy group and diethylaminoethoxy group, and dialkylaminoalkoxy groups. These groups may further have a substituent.
一般式(3)において、R13〜R16で表されるアリール基としては、例えば、フェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、フッ素化フェニル基、ヨウ素化フェニル基等のハロゲン化フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、エチルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基等が挙げられる。 In the general formula (3), examples of the aryl group represented by R 13 to R 16 include a halogenated phenyl group such as a phenyl group, a chlorophenyl group, a dichlorophenyl group, a bromophenyl group, a fluorinated phenyl group, and an iodinated phenyl group. Group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, ethylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group and the like.
一般式(3)において、R13〜R16で表される芳香族複素環基としては、例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、キナゾリニル基、フタラジニル基等が挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよい。 In the general formula (3), examples of the aromatic heterocyclic group represented by R 13 to R 16 include a furyl group, a thienyl group, a pyridyl group, a pyridazinyl group, a pyrimidinyl group, a pyrazinyl group, a triazinyl group, an imidazolyl group, Examples include a pyrazolyl group, a thiazolyl group, a quinazolinyl group, and a phthalazinyl group. These groups may further have a substituent.
一般式(3)において、R13〜R16で表されるアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基等が挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよい。 In the general formula (3), examples of the aryloxy group represented by R 13 to R 16 include a phenoxy group and a naphthoxy group. These groups may further have a substituent.
一般式(3)において、R13〜R16で表されるアルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、iso−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基、iso−ペンチルチオ基、neo−ペンチルチオ基、1,2−ジメチル−プロピルチオ基、n−ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、1,3−ジメチル−ブチルチオ基、1−iso−プロピルプロピルチオ基、1,2−ジメチルブチルチオ基、n−ヘプチルチオ基、1,4−ジメチルペンチルチオ基、2−メチル1−iso−プロピルプロピルチオ基、1−エチル−3−メチルブチルチオ基、n−オクチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基、3−メチル−1−iso−プロピルブチルチオ基、2−メチル−1−iso−プロピルチオ基、1−tert−ブチル−2−メチルプロピルチオ基、n−ノニルチオ基等の炭素数1〜20の直鎖または分岐のアルキルチオ基、メトキシメチルチオ基、メトキシエチルチオ基、エトキシエチルチオ基、プロポキシエチルチオ基、ブトキシエチルチオ基、γ−メトキシプロピルチオ基、γ−エトキシプロピルチオ基、メトキシエトキシエチルチオ基、エトキシエトキシエチルチオ基、ジメトキシメチルチオ基、ジエトキシメチルチオ基、ジメトキシエチルチオ基、ジエトキシエチルチオ基等のアルコキシアルキルチオ基、アルコキシアルコキシアルキルチオ基、アルコキシアルコキシアルコキシアルキルチオ基、クロロメチルチオ基、2,2,2−トリクロロエチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリクロロエチルチオ基、1,1,1,3,3,3,−ヘキサフルオロ−2−プロピルチオ基等のハロゲン化アルキルチオ基、ジメチルアミノエチルシチオ基、ジエチルアミノエチルチオ基等のアルキルアミノアルキルチオ基、ジアルキルアミノアルキルチオ基等が挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよい。 In the general formula (3), examples of the alkylthio group represented by R 13 to R 16 include a methylthio group, an ethylthio group, an n-propylthio group, an iso-propylthio group, an n-butylthio group, an iso-butylthio group, sec -Butylthio group, tert-butylthio group, n-pentylthio group, iso-pentylthio group, neo-pentylthio group, 1,2-dimethyl-propylthio group, n-hexylthio group, cyclohexylthio group, 1,3-dimethyl-butylthio group 1-iso-propylpropylthio group, 1,2-dimethylbutylthio group, n-heptylthio group, 1,4-dimethylpentylthio group, 2-methyl 1-iso-propylpropylthio group, 1-ethyl-3 -Methylbutylthio group, n-octylthio group, 2-ethylhexylthio group, 3-methyl- 1-iso-propylbutylthio group, 2-methyl-1-iso-propylthio group, 1-tert-butyl-2-methylpropylthio group, n-nonylthio group, etc. Alkylthio group, methoxymethylthio group, methoxyethylthio group, ethoxyethylthio group, propoxyethylthio group, butoxyethylthio group, γ-methoxypropylthio group, γ-ethoxypropylthio group, methoxyethoxyethylthio group, ethoxyethoxyethyl Alkoxyalkylthio groups such as thio group, dimethoxymethylthio group, diethoxymethylthio group, dimethoxyethylthio group, diethoxyethylthio group, alkoxyalkoxyalkylthio group, alkoxyalkoxyalkoxyalkylthio group, chloromethylthio group, 2,2,2-trichloro D Halogenated alkylthio groups such as tilthio group, trifluoromethylthio group, 2,2,2-trichloroethylthio group, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propylthio group, dimethylaminoethyl Examples thereof include alkylaminoalkylthio groups such as thio group and diethylaminoethylthio group, and dialkylaminoalkylthio groups. These groups may further have a substituent.
一般式(3)において、R13〜R16で表されるアリールチオ基としては、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、アルキルフェニルチオ基等を挙げることができる。これらの基は更に置換基を有していてもよい。 In the general formula (3), examples of the arylthio group represented by R 13 to R 16 include a phenylthio group, a naphthylthio group, and an alkylphenylthio group. These groups may further have a substituent.
一般式(3)において、Mで表される2価の金属原子(2価の金属ともいう)としては、Cu(II)、Zn(II)、Co(II)、Ni(II)、Ru(II)、Rh(II)、Pd(II)、Pt(II)、Mn(II)、Mg(II)、Ti(II)、Be(II)、Ca(II)、Ba(II)、1d(II)、Hg(II)、Pb(II)、Sn(II)等が挙げられる。 In the general formula (3), as a divalent metal atom represented by M (also referred to as a divalent metal), Cu (II), Zn (II), Co (II), Ni (II), Ru ( II), Rh (II), Pd (II), Pt (II), Mn (II), Mg (II), Ti (II), Be (II), Ca (II), Ba (II), 1d ( II), Hg (II), Pb (II), Sn (II) and the like.
一般式(3)において、Mで表される3価の金属原子(3価の金属ともいい、4価の金属が一つの置換基を有して3価の金属を形成していてもよい)としては、例えば、Al−Cl、Al−Br、Al−F、Al−I、Ga−Cl、Ga−F、Ga−I、Ga−Br、In−Cl、In−Br、In−I、In−F、Tl−Cl、Tl−Br、Tl−I、Tl−F、Al−C6H5(ここで、−C6H5は、フェニル基を表す)、Al−C6H4(CH3)、In−C6H5、In−C6H4(CH3)、In−C6H5、Mn(OH)、Mn(OC6H5)、Mn〔OSi(CH3)3〕、Fe−Cl、Ru−Cl等が挙げられる。 In the general formula (3), a trivalent metal atom represented by M (also referred to as a trivalent metal, a tetravalent metal may have one substituent to form a trivalent metal) As, for example, Al-Cl, Al-Br, Al-F, Al-I, Ga-Cl, Ga-F, Ga-I, Ga-Br, In-Cl, In-Br, In-I, In -F, Tl-Cl, Tl- Br, Tl-I, Tl-F, Al-C 6 H 5 ( wherein, -C 6 H 5 represents a phenyl group), Al-C 6 H 4 (CH 3), In-C 6 H 5, In-C 6 H 4 (CH 3), In-C 6 H 5, Mn (OH), Mn (OC 6 H 5), Mn [OSi (CH 3) 3] Fe-Cl, Ru-Cl and the like.
一般式(3)において、Mで表される4価の金属原子(4価の金属ともいい、6価の金属原子が二つの置換基を有して4価の金属を形成していてもよい)としては、例えば、CrC2、SiCl2、SiBr2、SF2、SiI2、ZrCl2、GeCl2、GeBr2、GeI2、GeF2、SnCl2、SnBr2、SnF2、TiCl2、TiBr2、TiF2、Si(OH)2、Ge(OH)2、Zr(OH)2、Mn(OH)2、Sn(OH)2、TiR2、CrR2、SiR2、SnR2、GeR2〔Rはアルキル基、フェニル基、ナフチル基またはそれらから誘導される基を表す〕、Si(OR’)2、Sn(OR’)2、Ge(OR’)2、Ti(OR’)2、Cr(OR’)2〔R’はアルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基またはそれらから誘導される基を表す〕、Sn(SR”)2、Ge(SR”)2(R”はアルキル基、フェニル基、ナフチル基またはそれらから誘導される基を表す)等が挙げられる。 In the general formula (3), a tetravalent metal atom represented by M (also referred to as a tetravalent metal, and a hexavalent metal atom may have two substituents to form a tetravalent metal. ) May be, for example, CrC 2 , SiCl 2 , SiBr 2 , SF 2 , SiI 2 , ZrCl 2 , GeCl 2 , GeBr 2 , GeI 2 , GeF 2 , SnCl 2 , SnBr 2 , SnF 2 , TiCl 2 , TiBr 2. , TiF 2 , Si (OH) 2 , Ge (OH) 2 , Zr (OH) 2 , Mn (OH) 2 , Sn (OH) 2 , TiR 2 , CrR 2 , SiR 2 , SnR 2 , GeR 2 [R Represents an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group or a group derived therefrom], Si (OR ′) 2 , Sn (OR ′) 2 , Ge (OR ′) 2 , Ti (OR ′) 2 , Cr ( OR ') 2 [R' is an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group, tri Rukirushiriru group, dialkyl alkoxysilyl group or a group derived therefrom], Sn (SR ") 2, Ge (SR") 2 (R " is an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group or a group derived therefrom For example).
一般式(3)において、Mで表されるオキシ金属としては、例えば、VO、MnO、TiOな等を挙げることができる。 In the general formula (3), examples of the oxymetal represented by M include VO, MnO, and TiO.
本発明に係る一般式(3)で表される化合物は、例えば、特開2005−145896号公報を参考にして合成することが出来る。 The compound represented by the general formula (3) according to the present invention can be synthesized with reference to, for example, JP-A-2005-145896.
以下、一般式(3)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。 Hereinafter, although the specific example of a compound represented by General formula (3) is shown, this invention is not limited to these.
《スクワリウム誘導体(スクワリウム化合物ともいう)》
本発明に係るスクワリウム誘導体(スクワリウム化合物)としては、下記一般式(4)で表される化合物が好ましく用いられる。
《Squarium derivative (also referred to as squalium compound)》
As the squalium derivative (squarium compound) according to the present invention, a compound represented by the following general formula (4) is preferably used.
式中、R17〜R27は、各々、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、芳香族複素環基または複素環基を表す。X1〜X4は、各々、−N(R)−、−O−、−S−を表す。Rは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基を表すが、これらの基は、各々、後述する、一般式(4)において、R17〜R27で表されるアルキル基、シクロアルキル基、アリール基と同義である。 In the formula, R 17 to R 27 each represent an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an aromatic heterocyclic group, or a heterocyclic group. X 1 to X 4 each represent —N (R) —, —O—, and —S—. R represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group, and these groups are each an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group represented by R 17 to R 27 in the general formula (4) described later. Synonymous with group.
一般式(4)において、R17〜R27で表されるアルキル基は、炭素数1〜20、より好ましくは1〜12のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、へキシル基、ウンデシル基等)が挙げられる。前記のアルキル基は、ハロゲン原子(例えば、F、Cl、Br等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等)、ヒドロキシ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基、イソブトキシ基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、ブチリルオキシ基、ヘキシリルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、スルホ基(塩でもよい)、カルボキシル基(塩でもよい)等で置換されていてもよい。 In the general formula (4), the alkyl group represented by R 17 to R 27 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, Hexyl group, undecyl group, etc.). The alkyl group includes a halogen atom (for example, F, Cl, Br, etc.), an alkoxycarbonyl group (for example, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc.), a hydroxy group, an alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, phenoxy). Group, isobutoxy group, etc.), acyloxy group (for example, acetyloxy group, butyryloxy group, hexyloxy group, benzoyloxy group, etc.), sulfo group (may be salt), carboxyl group (may be salt), etc. May be.
一般式(4)において、R17〜R27で表されるシクロアルキル基は、シクロペンチル、シクロヘキシルを挙げることが出来る。 In the general formula (4), examples of the cycloalkyl group represented by R 17 to R 27 include cyclopentyl and cyclohexyl.
一般式(4)において、R17〜R27で表されるアリール基としては、例えば、フェニル基、p−クロロフェニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、フェナントリル基、インデニル基、ピレニル基、ビフェニリル基等が挙げられるが、中でも、6から12の炭素数のものが好ましく、特に好ましくは、フェニル基、ナフチル基が挙げられる。 In the general formula (4), examples of the aryl group represented by R 17 to R 27 include a phenyl group, a p-chlorophenyl group, a mesityl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, an anthryl group, an azulenyl group, and an acenaphthenyl group. Group, a fluorenyl group, a phenanthryl group, an indenyl group, a pyrenyl group, a biphenylyl group and the like are preferable, among which a group having 6 to 12 carbon atoms is preferable, and a phenyl group and a naphthyl group are particularly preferable.
これらのアリール基は、炭素数1から8のアルキル基(例えば、メチル、エチル、ブチル)、炭素原子数1から6のアルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ、p−クロロフェノキシ)、ハロゲン原子(F、Cl、Br)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル)、アミノ基(例えば、メチルアミノ、アセチルアミノ、メタンスルホンアミド)、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基(塩でもよい)およびスルホ基(塩でもよい)等によって置換されていてもよい。 These aryl groups are alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms (for example, methyl, ethyl, butyl), alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy, ethoxy), aryloxy groups (for example, phenoxy, p -Chlorophenoxy), halogen atom (F, Cl, Br), alkoxycarbonyl group (for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), amino group (for example, methylamino, acetylamino, methanesulfonamide), cyano group, nitro group, It may be substituted with a carboxyl group (which may be a salt) and a sulfo group (which may be a salt).
一般式(4)において、R17〜R27で表されるアラルキル基は、7から12の炭素数を有するアラルキル基が好ましく(例えば、ベンジル、フェニルエチル)
、置換基(例えば、メチル、メトキシ、クロル原子)を有していてもよい。
In the general formula (4), the aralkyl group represented by R 17 to R 27 is preferably an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl, phenylethyl).
, May have a substituent (for example, methyl, methoxy, chloro atom).
一般式(4)において、R17〜R27で表される芳香族複素環基としては、例えば、ピリジル基、ピリミジニル基、チエニル基、フリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ピラゾリル基、ピラジニル基、トリアゾリル基(例えば、1,2,4−トリアゾール−1−イル基、1,2,3−トリアゾール−1−イル基等)、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、チアゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、フラザニル基、チエニル基、キノリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、インドリル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルバゾリル基(前記カルボリニル基のカルボリン環を構成する炭素原子の一つが窒素原子で置き換わったものを示す)、キノキサリニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、キナゾリニル基、フタラジニル基等が挙げられる。 In the general formula (4), examples of the aromatic heterocyclic group represented by R 17 to R 27 include a pyridyl group, pyrimidinyl group, thienyl group, furyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, benzoimidazolyl group, pyrazolyl group, Pyrazinyl group, triazolyl group (for example, 1,2,4-triazol-1-yl group, 1,2,3-triazol-1-yl group, etc.), oxazolyl group, benzoxazolyl group, thiazolyl group, isoxazolyl group , Isothiazolyl group, furazanyl group, thienyl group, quinolyl group, benzofuryl group, dibenzofuryl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, indolyl group, carbazolyl group, carbolinyl group, diazacarbazolyl group (carboline ring of the above carbolinyl group) Is one in which one of the carbon atoms constituting is replaced by a nitrogen atom) Quinoxalinyl group, pyridazinyl group, triazinyl group, quinazolinyl group, phthalazinyl group and the like.
これらの芳香族複素環基は、上記のアルキル基、アリール基等によって更に置換されていてもよい。 These aromatic heterocyclic groups may be further substituted with the above alkyl group, aryl group or the like.
一般式(4)において、R17〜R27で表される複素環基としては、例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等が挙げられる。 In the general formula (4), examples of the heterocyclic group represented by R 17 to R 27 include a pyrrolidyl group, an imidazolidyl group, a morpholyl group, and an oxazolidyl group.
これらの複素環基は、上記のアルキル基、アリール基等によって更に置換されていてもよい。 These heterocyclic groups may be further substituted with the above alkyl group, aryl group or the like.
また、隣接する置換基がお互いに結合しシクロペンタンまたはシクロヘキサン環を形成してもよい。m、nは0または1〜6の整数を表し、混合物であってもよい。 Further, adjacent substituents may be bonded to each other to form a cyclopentane or cyclohexane ring. m and n represent 0 or an integer of 1 to 6, and may be a mixture.
本発明に係る一般式(4)で表される化合物は、D.J.Gravesteijnetal:Optical Storage Media SPIE−420,p327,1983を参照して合成することが可能である。 The compound represented by the general formula (4) according to the present invention is D.I. J. et al. Gravesteijnetal: Optical Storage Media SPIE-420, p327, 1983 can be synthesized.
以下、一般式(4)で表されるスクワリウム誘導体の具体例(S−1〜S−6、S−12及びS−13)と、一般式(4)のカテゴリーには含まれないが、本発明に用いてもよいスクワリウム化合物の具体例(S−7〜S−11)をを示すが、本発明はこららに限定されない。 Hereinafter, specific examples (S-1 to S-6, S-12, and S-13) of the squalium derivative represented by the general formula (4) and the general formula (4) are not included in the category. Although the specific example (S-7-S-11) of the squalium compound which may be used for invention is shown, this invention is not limited to these.
更に、本発明に係る近赤外線吸収色素として、ジイモニウム誘導体としては、IRG−022、IRG−040(これらは、日本化薬株式会社製商品名である)等、ニッケルジチオール錯体化合物としては、SIR−128、SIR−130、SIR−132、SIR−159、SIR−152、SIR−162(これらは、三井化学株式会社製商品名である)等、フタロシアニン誘導体としては、IR−10、IR−12(以上、日本触媒株式会社商品名)等の市販品を利用することができる。 Furthermore, as a near-infrared absorbing dye according to the present invention, as the diimonium derivative, IRG-022, IRG-040 (these are trade names manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and the like, and as the nickel dithiol complex compound, SIR- 128, SIR-130, SIR-132, SIR-159, SIR-152, SIR-162 (these are trade names manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) and the like, and phthalocyanine derivatives include IR-10, IR-12 ( As described above, commercially available products such as Nippon Shokubai Co., Ltd. trade name) can be used.
上記近赤外線吸収剤は、メタノール、エタノール及びイソプロパノール等のアルコール溶剤、アセトン、メチルエチルケトン及びメチルブチルケトン等のケトン溶媒、ジメチルスルホオキサイド、ジメチルホルムアミド、ジメチルエーテル、トルエン等有機溶解して使用するか、後述する微粒子化機械で平均粒子径0.01μm〜10μmの微粒子にして塗布することが好ましく、添加量としては光学濃度が、極大波長で0.05〜3.0の濃度範囲になるように調整して使用することが好ましい。 The near-infrared absorber may be used after being dissolved in an organic solvent such as alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl butyl ketone, dimethylsulfoxide, dimethylformamide, dimethyl ether and toluene. It is preferable to apply fine particles having an average particle size of 0.01 μm to 10 μm with a fine particle machine, and the amount of addition is adjusted so that the optical density is in the concentration range of 0.05 to 3.0 at the maximum wavelength. It is preferable to use it.
尚、近赤外線吸収能を有する色素を、色調調節層に含有させる場合、上記の色素のうちいずれか1種類を含有させてもよいし、2種以上を含有させてもよい。また、近赤外線吸収色素の紫外線による劣化を避けるために紫外線吸収剤を併用することが好ましい。紫外線吸収剤の使用は、近赤外吸収層内に含有させてもよいが、該層の上層または下層でもよいし、支持体の反対側に設定してもよい。 In addition, when making the color tone control layer contain the pigment | dye which has a near-infrared absorptivity, you may contain any 1 type in said pigment | dye, and may contain 2 or more types. Further, it is preferable to use an ultraviolet absorber in combination in order to avoid deterioration of the near infrared absorbing dye due to ultraviolet rays. The ultraviolet absorber may be used in the near-infrared absorbing layer, but may be the upper layer or lower layer of the layer, or may be set on the opposite side of the support.
本発明に係る近赤外線吸収層または、該近赤外線吸収層の隣接層(隣接層については、後述するが、中間層ともいう)には、ジヒドロキシベンゼン誘導体またはピラゾリドン誘導体が含有される。 The near-infrared absorbing layer according to the present invention or the adjacent layer of the near-infrared absorbing layer (the adjacent layer will be described later but is also referred to as an intermediate layer) contains a dihydroxybenzene derivative or a pyrazolidone derivative.
《ジヒドロキシベンゼン誘導体》
本発明に係るジヒドロキシベンゼン誘導体について説明する。
<Dihydroxybenzene derivative>
The dihydroxybenzene derivative according to the present invention will be described.
本発明に使用されるジヒドロキシベンゼン誘導体は、ベンゼン環に2つのヒドロキシ基を有する化合物であるが、中でも、本発明において好ましく用いられるのは、下記一般式(5)で表される化合物である。 The dihydroxybenzene derivative used in the present invention is a compound having two hydroxy groups in the benzene ring. Among them, a compound represented by the following general formula (5) is preferably used in the present invention.
式中、R11〜R14は、各々水素原子または置換基を表す。 In the formula, R 11 to R 14 each represent a hydrogen atom or a substituent.
一般式(5)において、R11〜R14で、各々表される置換基としては、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、プロパルギル基等)、芳香族炭化水素基(芳香族炭素環基、アリール基等ともいい、例えば、フェニル基、p−クロロフェニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、フェナントリル基、インデニル基、ピレニル基、ビフェニリル基)、芳香族複素環基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、キナゾリニル基、フタラジニル基等)、複素環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、iso−プロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、iso−ブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、iso−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、3−メチルフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、スルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、2−ピリジルスルフィニル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基、メチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、iso−プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、ノニルアミノ基、ベンジルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、ジ−iso−プロピルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、ジ−iso−ブチルアミノ基、ジ−n−ペンチルアミノ基、ジ−iso−ペンチルアミノ基、ジ−n−ヘキシルアミノ基、ジ−n−ヘプチルアミノ基、ジ−n−オクチルアミノ基、ジ−(2−エチルヘキシル)アミノ基、ジベンジルアミノ基、ジナフチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、フッ化炭化水素基(例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基(例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等)、等が挙げられる。 In the general formula (5), each of the substituents represented by R 11 to R 14 is an alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group). Octyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, etc.), cycloalkyl group (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group etc.), alkenyl group (eg, vinyl group, allyl group etc.), alkynyl group (eg, Ethynyl group, propargyl group, etc.), aromatic hydrocarbon group (also called aromatic carbocyclic group, aryl group, etc.), for example, phenyl group, p-chlorophenyl group, mesityl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, anthryl group , Azulenyl group, acenaphthenyl group, fluorenyl group, phenanthryl group, indenyl group, pyrenyl group, Biphenylyl group), aromatic heterocyclic group (for example, furyl group, thienyl group, pyridyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, triazinyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, thiazolyl group, quinazolinyl group, phthalazinyl group, etc.), Heterocyclic group (for example, pyrrolidyl group, imidazolidyl group, morpholyl group, oxazolidyl group, etc.), alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, iso-propyloxy group, n-butyloxy group, iso-butyloxy group) , Sec-butyloxy group, n-pentyloxy group, iso-pentyloxy group, hexyloxy group, octyloxy group, dodecyloxy group, etc.), cycloalkoxy group (for example, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, etc.), aryloxy Group ( For example, phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 3-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, naphthyloxy group, etc.), alkylthio group (for example, methylthio group, ethylthio group, propylthio group, pentylthio group, hexylthio group, octylthio group) Group, dodecylthio group, etc.), cycloalkylthio group (eg, cyclopentylthio group, cyclohexylthio group, etc.), arylthio group (eg, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl, etc.) Group, butyloxycarbonyl group, octyloxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenyloxycarbonyl group, naphthyloxycarbonyl group, etc.), sulfamo Group (for example, aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, octylaminosulfonyl group, dodecylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, naphthyl) Aminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, octylcarbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl group, dodecylcarbonyl group, Phenylcarbonyl group, naphthylcarbonyl group, pyridylcarbonyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetyloxy group, ethylcarbonyloxy group, butyl) Carbonyloxy group, octylcarbonyloxy group, dodecylcarbonyloxy group, phenylcarbonyloxy group, etc.), amide group (eg, methylcarbonylamino group, ethylcarbonylamino group, dimethylcarbonylamino group, propylcarbonylamino group, pentylcarbonylamino group) Cyclohexylcarbonylamino group, 2-ethylhexylcarbonylamino group, octylcarbonylamino group, dodecylcarbonylamino group, phenylcarbonylamino group, naphthylcarbonylamino group, etc., carbamoyl group (for example, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethyl) Aminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, octylaminocarbonyl group, -Ethylhexylaminocarbonyl group, dodecylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, naphthylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), ureido group (for example, methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, Octylureido group, dodecylureido group, phenylureido group naphthylureido group, 2-pyridylaminoureido group, etc.), sulfinyl group (for example, methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, butylsulfinyl group, cyclohexylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, Dodecylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, naphthylsulfinyl group, 2-pyridylsulfinyl group, etc.), alkylsulfonyl group (for example, methyl Sulfonyl group, ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, dodecylsulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group (phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), amino group ( For example, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, anilino group, naphthylamino group, 2-pyridylamino group, methylamino group, n-propyl Amino group, iso-propylamino group, butylamino group, pentylamino group, hexylamino group, heptylamino group, octylamino group, nonylamino group, benzylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, di-n-propyl Propylamino group, di-iso-propylamino group, di-n-butylamino group, di-iso-butylamino group, di-n-pentylamino group, di-iso-pentylamino group, di-n-hexylamino group , Di-n-heptylamino group, di-n-octylamino group, di- (2-ethylhexyl) amino group, dibenzylamino group, dinaphthylamino group, diphenylamino group, ditolylamino group, etc.), halogen atom (for example, Fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), fluorinated hydrocarbon group (eg, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, pentafluorophenyl group, etc.), cyano group, nitro group, hydroxy group, Mercapto group, silyl group (for example, trimethylsilyl group, triisopropylsilyl group, triphenylsilyl group, phenoxy group) Le diethyl silyl group and the like), and the like.
これらの置換基は、上記の置換基によって更に置換されていてもよい。また、これらの置換基は複数が互いに結合して環(5員〜8員環)を形成していてもよい。 These substituents may be further substituted with the above substituents. In addition, a plurality of these substituents may be bonded to each other to form a ring (5- to 8-membered ring).
以下に、本発明に係るジヒドロキシベンゼン誘導体の好ましい具体的を示すが、本発明はこれらに限定されない。 Although the preferable specific example of the dihydroxybenzene derivative which concerns on this invention is shown below, this invention is not limited to these.
《ピラゾリドン誘導体(ピラゾリドン化合物ともいう)》
本発明に係るピラゾリドン誘導体について説明する。
[Pyrazolidone derivatives (also called pyrazolidone compounds)]
The pyrazolidone derivative according to the present invention will be described.
本発明に使用されるピラゾリドン誘導体は、ピラゾリドン骨格構造を母核に有するものであり、好ましい構造は2位、4位または5位が置換された1−フェニル−3−ピロリドン類であり、該置換基としてはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数7〜13のアラルキル基が好ましい。またこれらのアルキル基、アリール基、アラルキル基は各々置換基を有していてもよく、各置換基としてはたとえば、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、アミノ基、ニトロ基、スルホン酸基、カルボキシ基、ハロゲン原子を挙げることができる。以下にこれらの具体的な化合物の例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
(1) 1−フェニル−4,4−ジヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン
(2) 1−p−トリル−4,4−ジヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン
(3) 1−フェニル−4−ヒドロキシメチル−4−メチル−3−ピラゾリドン
(4) 1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン
(5) 1−フェニル−2−ヒドロキシメチル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン
(6) 1−フェニル−2−モルフォリノメチル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン
(7) 1−フェニル−2−モルフォリノメチル−4−メチル−3−ピラゾリドン
(8) 1−フェニル−2−ヒドロキシメチル−4−メチル−3−ピラゾリドン
(9) 1−フェニル−5,5−ジメチル−3−ピラゾリドン
(10)1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリドン
(11)1−p−トリル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン
(12)1−p−ヒドロキシフェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン
(13)1−o−トリル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン
(14)1−p−メトキシフェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン
(15)1−(3,5−ジメチル)フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン
(16)1−フェニル−3−ピラゾリドン
本発明に係るジヒドロキシベンゼン誘導体とピラゾリドン誘導体は、単独または併用して使用することが出来る。併用時には、一般式(5)で表される化合物に対して、一般式(1)で表される化合物はモル比で0.01〜20、好ましくは0.1〜10の範囲になるように調整されることが好ましい。
The pyrazolidone derivative used in the present invention has a pyrazolidone skeleton structure in the mother nucleus, and preferred structures are 1-phenyl-3-pyrrolidones substituted at the 2-position, 4-position or 5-position, As each group, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and an aralkyl group having 7 to 13 carbon atoms are preferable. These alkyl groups, aryl groups, and aralkyl groups may each have a substituent. Examples of each substituent include a hydroxy group, an alkoxy group, a hydroxyalkyl group, an amino group, a nitro group, a sulfonic acid group, A carboxy group and a halogen atom can be mentioned. Although the example of these specific compounds is given to the following, this invention is not limited to these.
(1) 1-phenyl-4,4-dihydroxymethyl-3-pyrazolidone (2) 1-p-tolyl-4,4-dihydroxymethyl-3-pyrazolidone (3) 1-phenyl-4-hydroxymethyl-4- Methyl-3-pyrazolidone (4) 1-phenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone (5) 1-phenyl-2-hydroxymethyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone (6) 1-phenyl-2 -Morpholinomethyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone (7) 1-phenyl-2-morpholinomethyl-4-methyl-3-pyrazolidone (8) 1-phenyl-2-hydroxymethyl-4-methyl- 3-pyrazolidone (9) 1-phenyl-5,5-dimethyl-3-pyrazolidone (10) 1-phenyl-5-methyl-3-pyrazolidone (11 1-p-Tolyl-4-methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone (12) 1-p-hydroxyphenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone (13) 1-o-tolyl-4-methyl- 4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone (14) 1-p-methoxyphenyl-4-methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone (15) 1- (3,5-dimethyl) phenyl-4-methyl-4- Hydroxymethyl-3-pyrazolidone (16) 1-phenyl-3-pyrazolidone The dihydroxybenzene derivative and the pyrazolidone derivative according to the present invention can be used alone or in combination. At the time of combined use, the compound represented by the general formula (1) with respect to the compound represented by the general formula (5) has a molar ratio of 0.01 to 20, preferably 0.1 to 10. It is preferable to adjust.
《アルカリ剤》
本発明に係るアルカリ剤について説明する。
《Alkaline agent》
The alkaline agent according to the present invention will be described.
本発明に係るアルカリ剤は、アルカリ金属塩類またはアルカリ土類金属塩であることが好ましく、塩は、水酸化物、炭酸化物、炭酸水素化物、亜硫酸化物、アンモニウム塩等の塩の形で含有させることができる。好ましいアルカリ剤の具体例は、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム等である。使用量は、近赤外吸収色素に対して、1〜1000モルの範囲で使用することができる。使用に際しては、塗布液において、pHが5〜12の範囲になるように添加することがこのましく、更に好ましい添加量は、pHが6〜11の範囲になるように添加することである。 The alkaline agent according to the present invention is preferably an alkali metal salt or an alkaline earth metal salt, and the salt is contained in the form of a salt such as hydroxide, carbonate, hydrogencarbonate, sulfite oxide, ammonium salt, and the like. be able to. Specific examples of preferable alkali agents include sodium hydroxide, lithium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, lithium hydrogen carbonate, sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite and the like. It is. The usage-amount can be used in 1-1000 mol with respect to a near-infrared absorption pigment | dye. In use, the coating solution is preferably added so that the pH is in the range of 5 to 12, and more preferably added so that the pH is in the range of 6 to 11.
《近赤外線吸収層》
本発明に係る近赤外吸収色素層は全バインダーの30質量%以上が後述するラテックスに由来するポリマーであることが好ましいが、60質量%以上が該ラテックスに由来するポリマーであることが更に好ましい。
<< Near-infrared absorbing layer >>
The near-infrared absorbing dye layer according to the present invention is preferably a polymer in which 30% by mass or more of the total binder is derived from a latex described later, and more preferably 60% by mass or more is a polymer derived from the latex. .
本発明に係る近赤外線吸収層には必要に応じて全バインダーの60質量%以下の範囲でゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースなどの親水性ポリマーを添加しても良い。これらの親水性ポリマーの添加量は感光層の全バインダーの40質量%以下が好ましい。本発明に係る近赤外吸収層または隣接層に用いられるポリビニルアルコール(PVA)としては以下の化合物がある。 If necessary, a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, carboxymethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose or the like is added to the near infrared absorbing layer according to the present invention within a range of 60% by mass or less of the total binder. Also good. The amount of these hydrophilic polymers added is preferably 40% by mass or less of the total binder in the photosensitive layer. Polyvinyl alcohol (PVA) used for the near infrared absorption layer or adjacent layer according to the present invention includes the following compounds.
けん化物としては、PVA−124H[PVA含有率93.5質量%、けん化度99.6±0.3モル%、酢酸ナトリウム含有率1.85質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)61.0±6.0CPS]、PVA−CS[PVA含有率94.0質量%、けん化度97.5±0.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)27.5±3.0CPS]、PVA−CST[PVA含有率94.0質量%、けん化度96.0±0.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)27.0±3.0CPS]、PVA−HC[PVA含有率90.0質量%、けん化度99.85モル%以上、酢酸ナトリウム含有率2.5質量%、揮発分8.5質量%、粘度(4質量%、20℃)25.0±3.5CPS](以上、いずれもクラレ(株)製の商品名)。赤外吸収層や隣接層の最終の塗布液のpHは5.0〜7.8の範囲が好ましく、5.5〜7.2の範囲が特に好ましい。 As the saponified product, PVA-124H [PVA content 93.5% by mass, saponification degree 99.6 ± 0.3 mol%, sodium acetate content 1.85% by mass, volatile matter 5.0% by mass, viscosity ( 4 mass%, 20 ° C.) 61.0 ± 6.0 CPS], PVA-CS [PVA content 94.0 mass%, saponification degree 97.5 ± 0.5 mol%, sodium acetate content 1.0 mass% , Volatile matter 5.0 mass%, viscosity (4 mass%, 20 ° C.) 27.5 ± 3.0 CPS], PVA-CST [PVA content 94.0 mass%, saponification degree 96.0 ± 0.5 mol %, Sodium acetate content 1.0% by mass, volatile matter 5.0% by mass, viscosity (4% by mass, 20 ° C.) 27.0 ± 3.0 CPS], PVA-HC [PVA content 90.0% by mass , Saponification degree 99.85 mol% or more, sodium acetate content 2.5% by mass, volatilization 8.5 wt%, a viscosity (4 mass%, 20 ℃) 25.0 ± 3.5CPS] (trade names manufactured by any Kuraray Co.). The pH of the final coating solution for the infrared absorbing layer or adjacent layer is preferably in the range of 5.0 to 7.8, particularly preferably in the range of 5.5 to 7.2.
《水系の塗布液(溶液及び分散液の状態も含む)》
本発明に係る近赤外線吸収層は水系の塗布液を塗布後乾燥して形成する。但し、ここで言う「水系」とは塗布液の溶媒(分散媒)の30質量%以上が水の場合である。
<< Water-based coating liquid (including solution and dispersion) >>
The near-infrared absorbing layer according to the present invention is formed by applying an aqueous coating solution and then drying it. However, the term “aqueous” as used herein refers to a case where 30% by mass or more of the solvent (dispersion medium) of the coating solution is water.
塗布液の水以外の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチルなどの水混和性の有機溶媒を用いることができる。 As components other than water in the coating solution, water-miscible organic solvents such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, and ethyl acetate can be used.
具体的な溶媒組成の例としては以下のようなものがある。水/メタノール=90/10、水/メタノール=70/30、水/エタノール=90/10、水/イソプロパノール=90/10、水/ジメチルホルムアミド=95/5、水/メタノール/ジメチルホルムアミド=80/15/5、水/メタノール/ジメチルホルムアミド=90/5/5(但し、数字は質量%を表す)。 Specific examples of the solvent composition include the following. Water / methanol = 90/10, water / methanol = 70/30, water / ethanol = 90/10, water / isopropanol = 90/10, water / dimethylformamide = 95/5, water / methanol / dimethylformamide = 80 / 15/5, water / methanol / dimethylformamide = 90/5/5 (however, the number represents mass%).
本発明に係る近赤外線吸収層の1層当たりの全バインダー量は、近赤外線吸収材料1m2当たりの塗布量で示して0.2g/m2〜30g/m2、より好ましくは1g/m2〜15g/m2の範囲が好ましい。近赤外線吸収層の1層当たりの膜厚は0.3μm〜50μmであることが好ましく、より好ましくは1.5μm〜30μmである。 The total binder amount per layer of the near-infrared absorbing layer according to the present invention is 0.2 g / m 2 to 30 g / m 2 , more preferably 1 g / m 2 in terms of the coating amount per 1 m 2 of the near-infrared absorbing material. A range of ˜15 g / m 2 is preferred. The film thickness per layer of the near infrared absorbing layer is preferably 0.3 μm to 50 μm, more preferably 1.5 μm to 30 μm.
本発明に用いられるラテックス(ラテックスについては後に詳細に説明する)は、単独で使用するか、または、ゼラチンと共に使用し、ゼラチンと共に使用する場合でもゼラチンが少ない程よい。ゼラチンの使用質量%比が大きいと耐湿性の劣化が大きく、少ないと塗布が均一となりにくい。故にラテックス樹脂の50%以下が好ましい。本発明では、バインダーとして、ポリビニルブチラルのような酢酸ビニルを鹸化処理をして、アルデヒドで架橋したポリビニルブチラル樹脂をゼラチンに分散して使用してもよい。 The latex used in the present invention (latex will be described in detail later) is preferably used alone or with gelatin, and even when used with gelatin, the less gelatin is better. If the ratio by weight of gelatin used is large, the moisture resistance is greatly deteriorated, and if it is small, the coating is difficult to be uniform. Therefore, 50% or less of the latex resin is preferable. In the present invention, a polyvinyl butyral resin obtained by saponifying vinyl acetate such as polyvinyl butyral and crosslinking with an aldehyde may be dispersed in gelatin as a binder.
《近赤外線吸収層の塗布用分散物の調製》
近赤外線吸収色素は、水溶性の場合には水溶液にして、水不溶性の場合にはアルコール類、エステル類、ケトン類等の水に混和しうる有機溶媒の溶液としてラテックス溶液に添加すればよい。また、これらの有機溶媒に溶けないときには、ボールミル、サンドミル、ビーズミル、ジェットミル等で0.01μm〜10μmの大きさの微粒子にして添加することができる。微粒子分散の方法は、固体分散の技術を好ましく応用することができる。例えば、ボールミル、遊星回転ボールミル、振動ボールミル、ジェットミル等の分散機を使用して所望の粒子径にすることができる。分散時に界面活性剤を使用すると分散後の安定性を向上させることができる。
<< Preparation of dispersion for coating near-infrared absorbing layer >>
The near-infrared absorbing dye may be an aqueous solution when it is water-soluble, and may be added to the latex solution as a solution of an organic solvent miscible with water such as alcohols, esters, and ketones when water-insoluble. Moreover, when it does not melt | dissolve in these organic solvents, it can add to microparticles | fine-particles of 0.01 micrometer-10 micrometers with a ball mill, a sand mill, a bead mill, a jet mill etc., and can add. As a method for fine particle dispersion, a solid dispersion technique can be preferably applied. For example, a desired particle size can be obtained using a dispersing machine such as a ball mill, a planetary rotating ball mill, a vibrating ball mill, or a jet mill. When a surfactant is used at the time of dispersion, stability after dispersion can be improved.
本発明に適した分散装置としては、マイクロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーション社製マイクロフルイダイザーM−110S−EH(G10Zインターラクションチャンバー付き)、M−110Y(H10Zインターラクションチャンバー付き)、M−140K(G10Zインターラクションチャンバー付き)、HC−5000(L30ZまたはH230Zインターラクションチャンバー付き),HC−8000(E230ZまたはL30Zインターラクションチャンバー付き)等が挙げられる。これらの装置を用い、少なくとも近赤外吸収色素を含む水分散液を高圧ポンプ等で加圧して配管内に送入した後、配管内に設けられた細いスリットを通過させることにより所望の圧力を印加し、この後に配管内の圧力を大気圧に急速に戻す等の方法で分散液に急激な圧力降下を生じさせることにより本発明に最適な近赤外吸収色素分散物を得ることが可能である。分散操作に先だって、原料液を予備分散することが好ましい。予備分散する手段としては公知の分散手段(例えば、高速ミキサー、ホモジナイザー、高速衝撃ミル、バンバリーミキサー、ホモミキサー、ニーダー、ボールミル、振動ボールミル、遊星ボールミル、アトライター、サンドミル、ビーズミル、コロイドミル、ジェットミル、ローラーミル、トロンミル、高速ストーンミル)を用いることができる。機械的に分散する以外にも、pHコントロールすることで溶媒中に粗分散し、その後、分散助剤の存在下でpHを変化させて微粒子化させても良い。このとき、粗分散に用いる溶媒として有機溶媒を使用しても良く、通常有機溶媒は微粒子化終了後除去される。 As a dispersion apparatus suitable for the present invention, microfluidizer M-110S-EH (with G10Z interaction chamber), M-110Y (with H10Z interaction chamber), M-140K (manufactured by Microfluidex International Corporation) G10Z interaction chamber), HC-5000 (with L30Z or H230Z interaction chamber), HC-8000 (with E230Z or L30Z interaction chamber) and the like. Using these devices, an aqueous dispersion containing at least a near-infrared absorbing dye is pressurized with a high-pressure pump or the like and fed into a pipe, and then passed through a thin slit provided in the pipe to obtain a desired pressure. It is possible to obtain an optimum near-infrared absorbing dye dispersion for the present invention by applying a pressure drop to the dispersion liquid by a method such as applying pressure and then rapidly returning the pressure in the pipe to atmospheric pressure. is there. Prior to the dispersion operation, the raw material liquid is preferably predispersed. As a pre-dispersing means, known dispersing means (for example, high speed mixer, homogenizer, high speed impact mill, Banbury mixer, homomixer, kneader, ball mill, vibration ball mill, planetary ball mill, attritor, sand mill, bead mill, colloid mill, jet mill) , Roller mill, tron mill, high-speed stone mill). In addition to mechanical dispersion, it may be coarsely dispersed in a solvent by controlling the pH, and then finely divided by changing the pH in the presence of a dispersion aid. At this time, an organic solvent may be used as a solvent used for the coarse dispersion, and the organic solvent is usually removed after the formation of fine particles.
近赤外吸収色素分散においては、流速、圧力降下時の差圧と処理回数の調節によって所望の粒子サイズに分散することが可能であるが、粒子サイズの点から、流速が200m/秒〜600m/秒、圧力降下時の差圧が900kg/cm2〜3000kg/cm2の範囲が好ましく、流速が300m/秒〜600m/秒、圧力降下時の差圧が1500kg/cm2〜3000kg/cm2の範囲であることが更に好ましい。分散処理回数は必要に応じて選択できるが、通常は1回〜10回の処理回数が選ばれるが、生産性の点からは1回〜3回程度の処理回数が選ばれる。高圧下でこのような水分散液を高温にすることは、分散性点から好ましくなく、90℃を越えるような高温では粒子サイズが大きくなりやすくなる。従って、本発明では前記の高圧、高流速に変換する前の工程もしくは、圧力降下させた後の工程、あるいはこれらの両工程に冷却工程を含み、このような水分散の温度が冷却工程により5℃〜90℃の範囲に保たれていることが好ましく、更に好ましくは5℃〜80℃の範囲、特に5℃〜65℃の範囲に保たれていることが好ましい。特に、1500kg/cm2〜3000kg/cm2の範囲の高圧の分散時には前記の冷却工程を設置することが有効である。冷却器は、その所要熱交換量に応じて、二重管や二重管にスタチックミキサーを使用したもの、多管式熱交換器、蛇管式熱交換器等を適宜選択できる。 In the near-infrared absorbing dye dispersion, it is possible to disperse to a desired particle size by adjusting the flow velocity, the differential pressure at the time of pressure drop and the number of treatments. From the viewpoint of the particle size, the flow velocity is 200 m / sec to 600 m. / sec, preferably in the range differential pressure of 900kg / cm 2 ~3000kg / cm 2 during the pressure drop, flow rate 300 meters / sec ~600M / sec, the pressure difference at the pressure drop is 1500kg / cm 2 ~3000kg / cm 2 More preferably, it is the range. The number of distributed treatments can be selected as necessary. Usually, a treatment number of 1 to 10 is selected, but a treatment number of about 1 to 3 is selected from the viewpoint of productivity. It is not preferable to raise the temperature of such an aqueous dispersion under high pressure from the viewpoint of dispersibility, and the particle size tends to increase at a high temperature exceeding 90 ° C. Therefore, the present invention includes a cooling step in the step before the conversion to the high pressure and the high flow rate, the step after the pressure drop, or both of these steps. It is preferable that the temperature is maintained in the range of from 0C to 90C, more preferably in the range of from 5C to 80C, and particularly preferably in the range of from 5C to 65C. In particular, at the time of high pressure dispersion in a range of 1500kg / cm 2 ~3000kg / cm 2 it is effective to install the cooling step. As the cooler, a double tube, a tube using a static mixer for the double tube, a multi-tube heat exchanger, a serpentine heat exchanger, or the like can be appropriately selected according to the required heat exchange amount.
また、熱交換の効率を上げるために、使用圧力を考慮して、管の太さ、肉厚や材質など好適なものを選べばよい。冷却器に使用する冷媒は、熱交換量から、20℃の井水や冷凍機で処理した5℃〜10℃の冷水、また必要に応じて−30℃のエチレングリコール/水等の冷媒を使用することもできる。 Further, in order to increase the efficiency of heat exchange, a suitable tube thickness, wall thickness, material, etc. may be selected in consideration of the operating pressure. As the refrigerant used for the cooler, from the amount of heat exchange, 20 ° C. well water, 5 ° C. to 10 ° C. chilled water treated with a refrigerator, and -30 ° C. ethylene glycol / water refrigerant as necessary You can also
分散操作では、水性溶媒可溶な分散剤(分散助剤)の存在下で近赤外吸収色素を分散することが好ましい。分散助剤としては、例えば、ポリアクリル酸、アクリル酸の共重合体、マレイン酸共重合体、マレイン酸モノエステル共重合体、アクリロメチルプロパンスルホン酸共重合体などの合成アニオンポリマー、カルボキシメチルデンプン、カルボキシメチルセルロースなどの半合成アニオンポリマー、アルギン酸、ペクチン酸などのアニオン性ポリマー、特開平7−350753号公報に記載の化合物、あるいは公知のアニオン性、ノニオン性、カチオン性界面活性剤やその他のポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の公知のポリマー、或いはゼラチン等の自然界に存在する高分子化合物を適宜選択して用いることができるが、ポリビニルアルコール類、水溶性のセルロース誘導体が特に好ましい。分散助剤は、分散前に近赤外吸収色素の粉末またはウェットケーキ状態の近赤外吸収色素と混合し、スラリーとして分散機に送り込むのは一般的な方法であるが、予め近赤外吸収色素と混ぜ合わせた状態で熱処理や溶媒による処理を施して近赤外吸収色素粉末またはウェットケーキとしても良い。分散前後または分散中に適当なpH調整剤によりpHコントロールしても良い。機械的に分散する以外にも、pHコントロールすることで溶媒中に粗分散し、その後、分散助剤の存在下でpHを変化させて微粒子化させても良い。このとき、粗分散に用いる溶媒として有機溶媒を使用しても良く、通常有機溶媒は微粒子化終了後除去される。 In the dispersion operation, it is preferable to disperse the near-infrared absorbing dye in the presence of an aqueous solvent-soluble dispersant (dispersion aid). Examples of the dispersing aid include polyacrylic acid, acrylic acid copolymer, maleic acid copolymer, maleic acid monoester copolymer, acrylomethylpropanesulfonic acid copolymer, and the like, carboxymethyl Semi-synthetic anionic polymers such as starch and carboxymethyl cellulose, anionic polymers such as alginic acid and pectic acid, compounds described in JP-A-7-350753, or known anionic, nonionic, cationic surfactants and other Known polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, carboxymethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, hydroxypropyl methyl cellulose, or naturally occurring polymer compounds such as gelatin can be appropriately selected and used. Vinyl alcohol, particularly preferred water-soluble cellulose derivatives. The dispersion aid is generally mixed with the near-infrared absorbing dye powder or wet cake near-infrared absorbing dye before dispersion and sent to the disperser as a slurry. It is good also as a near-infrared absorption pigment powder or a wet cake by giving the heat processing and the process by a solvent in the state mixed with the pigment | dye. The pH may be controlled with an appropriate pH adjuster before, during or after dispersion. In addition to mechanical dispersion, it may be coarsely dispersed in a solvent by controlling the pH, and then finely divided by changing the pH in the presence of a dispersion aid. At this time, an organic solvent may be used as a solvent used for the coarse dispersion, and the organic solvent is usually removed after the formation of fine particles.
調製された分散物は、保存時の微粒子の沈降を抑える目的で撹拌しながら保存したり、親水性コロイドにより粘性の高い状態(例えば、ゼラチンを使用しゼリー状にした状態)で保存したりすることもできる。また、保存時の雑菌などの繁殖を防止する目的で防腐剤を添加することもできる。 The prepared dispersion is stored with stirring for the purpose of suppressing sedimentation of fine particles during storage, or stored in a highly viscous state (for example, in a jelly state using gelatin) by a hydrophilic colloid. You can also. In addition, a preservative can be added for the purpose of preventing the propagation of various bacteria during storage.
本発明に用いる近赤外吸収色素を含む微粒子分散物は、少なくとも近赤外吸収色素と水から成るものである。近赤外吸収色素と水との割合は特に限定されるものではないが、微粒子分散物中における近赤外吸収色素の全体に占める割合は5質量%〜50質量%であることが好ましく、特に10質量%〜30質量%の範囲が好ましい。 The fine particle dispersion containing a near-infrared absorbing dye used in the present invention comprises at least a near-infrared absorbing dye and water. The ratio of the near-infrared absorbing dye and water is not particularly limited, but the ratio of the near-infrared absorbing dye in the fine particle dispersion is preferably 5% by mass to 50% by mass, particularly A range of 10% by mass to 30% by mass is preferable.
上記の微粒子分散物の調製にあたり、上記の分散助剤を用いることは好ましいが、粒子サイズを最小にするのに適した範囲で最少量使用するのが好ましく、近赤外線吸収色素に対して0.5質量%〜30質量%、特に1質量%〜15質量%の範囲が好ましい。 In the preparation of the above fine particle dispersion, it is preferable to use the above dispersion aid, but it is preferable to use a minimum amount within a range suitable for minimizing the particle size. The range of 5 to 30% by mass, particularly 1 to 15% by mass is preferable.
本発明では近赤外線吸収色素水分散液と紫外線吸収剤水分散液を混合して近赤外線吸収材料を製造することが可能であるが、近赤外線吸収色素と紫外線吸収剤の混合比率は目的に応じて選べるが、近赤外線吸収色素に対する紫外線吸収の割合は0.01〜30モル%の範囲が好ましく、更に0.1モル%〜10モル%、特に0.5モル%〜5モル%の範囲が好ましい。混合する際に2種以上の近赤外線吸収色素と2種以上の紫外線吸収剤を混合することは制限されない。 In the present invention, it is possible to produce a near-infrared absorbing material by mixing a near-infrared absorbing dye aqueous dispersion and an ultraviolet absorber aqueous dispersion, but the mixing ratio of the near-infrared absorbing dye and the ultraviolet absorber depends on the purpose. The ratio of the ultraviolet absorption to the near-infrared absorbing dye is preferably in the range of 0.01 to 30 mol%, more preferably in the range of 0.1 mol% to 10 mol%, particularly 0.5 mol% to 5 mol%. preferable. Mixing two or more near-infrared absorbing dyes and two or more ultraviolet absorbers when mixing is not limited.
近赤外線吸収層を設けるに際しては、支持体上に接着層/帯電防止層/近赤外吸収色素含有層の順にすると帯電防止効果も得られるので好都合である。接着層としてコロナ放電した支持体上に塩化ビニリデン共重合体やスチレン−グリシジルアクリレート共重合体を0.1μm〜1μmの厚さで塗布した後、帯電防止層としてインジウムやリンをドープした平均粒子径0.01μm〜1μmの酸化錫、5酸化バナジウムの微粒子を含むゼラチン層やアクリル又はメタクリルポリマー層或いは非アクリルポリマー層を塗布することができる。 When providing the near-infrared absorbing layer, it is advantageous to obtain an antistatic effect in the order of adhesive layer / antistatic layer / near infrared absorbing dye-containing layer on the support. An average particle size of vinylidene chloride copolymer or styrene-glycidyl acrylate copolymer coated on corona-discharged support as an adhesive layer in a thickness of 0.1 μm to 1 μm, and then doped with indium or phosphorus as an antistatic layer A gelatin layer, an acrylic or methacrylic polymer layer, or a non-acrylic polymer layer containing 0.01 μm to 1 μm fine particles of tin oxide and vanadium pentoxide can be applied.
また、スチレンスルホン酸とマレイン酸共重合体を前述したアジリジンやカルボニル活性型の架橋剤で造膜して設けることができる。これら帯電防止層の上に色素層を設けて近赤外吸収層とする。近赤外吸収層中には、コロイダルシリカ更にはコロイダルシリカの表面をメタクリレートやアクリレートポリマーまたはスチレンポリマーやアクリルアミド等の非アクリレートポリマー、等で被覆した複合コロイダルシリカ等で寸法安定のための無機又は複合充填物や接着防止のシリカやメタクリル酸メチルマット剤、搬送性の制御のためのシリコン系滑り剤或いは剥離剤等を含有させることができる。 Further, a styrene sulfonic acid / maleic acid copolymer can be provided by forming a film with the aforementioned aziridine or a carbonyl active type crosslinking agent. A pigment layer is provided on these antistatic layers to form a near infrared absorption layer. In the near-infrared absorption layer, colloidal silica or inorganic colloidal silica for the purpose of dimensional stability is coated with colloidal silica coated with non-acrylate polymer such as methacrylate, acrylate polymer, styrene polymer or acrylamide, etc. A filler, an anti-adhesion silica, a methyl methacrylate matting agent, a silicon-based slip agent or a release agent for controlling transportability can be contained.
プラズマディスプレイが発する820nm、850nm〜900nmおよび950nm〜1000nmの近赤外線の吸収に必要な前面板の820nm〜1000nmの透過率としては30%以下であることが好ましい。しかし、あまり透過率が低くなりすぎると可視光部分の透過率も下がるので近赤外線の透過率に加え、更に可視光の中心波長である500nm〜620nmの波長での透過率が45%以上であることが好ましい。さらに好ましくは、500nm〜620nmでの透過率が50%以上である。特に好ましいのは、これに加え、ブラズマディスプレイバネルの発光体のブルーの発光領域である450nmの透過率が45%以上である。 The transmittance of 820 nm to 1000 nm of the front plate necessary for absorption of near infrared rays of 820 nm, 850 nm to 900 nm and 950 nm to 1000 nm emitted from the plasma display is preferably 30% or less. However, if the transmittance is too low, the transmittance of the visible light portion also decreases, so that in addition to the near-infrared transmittance, the transmittance at a wavelength of 500 nm to 620 nm, which is the central wavelength of visible light, is 45% or more. It is preferable. More preferably, the transmittance at 500 nm to 620 nm is 50% or more. In particular, in addition to this, the transmittance at 450 nm, which is the blue light emitting region of the light emitter of the plasma display panel, is 45% or more.
また、透明性フィルムに反射防止性能を設けると外光反射が低下し、さらに可視光の透過率が向上してしまうので、透明性フィルムに反射防止性能を設けることは特に好ましい。また、用いる透明性導電性フィルムにこれらの性能を付与しても良いし、さらにこれらの性能を付与したフィルムを片面もしくは両面に積層しても良い。 In addition, when the antireflection performance is provided on the transparent film, the reflection of external light is reduced and the transmittance of visible light is improved. Therefore, it is particularly preferable to provide the antireflection performance on the transparent film. Moreover, you may provide these performances to the transparent conductive film to be used, and you may laminate | stack the film which provided these performances on the single side | surface or both surfaces.
(塗布液調整のための溶媒)
本発明に係る近赤外線吸収色素の溶媒は、特に限定されないが、例えば、水、有機溶媒(例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、ホルムアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、酢酸エチルなどのエステル類、エーテル類等)、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。溶媒に溶解したもを水中に分散する油滴分散を行うことができる。直径10μm以下の微小油滴として分散させた分散物を油滴分散物と呼ぶ。水中に分散された微小油滴の直径は光学顕微鏡、またはレーザー光源から発せられる光が微小油滴によって回折散乱されて得られるパータンから測定することができる。実質的に水に不溶の近赤外吸収色素を微小油滴分散物としてラテックス液中に添加することも好ましく用いられる。近赤外吸収色素を油滴分散するための有機溶媒としてはいかなるものを用いてもよく、具体的にはベンゼン、トルエン、キシレン、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール、ピリジン、フェノキシエタノールクロロホルムなどが挙げられるが、好ましくはベンジルアルコール、フェネチルアルコール、フェノキシエタノールであり、より好ましくはベンジルアルコール、フェノキシエタノールである。近赤外色素の濃厚溶液を水中に分散させるためには、種々の分散機が有効に用いられる。具体的には、高速攪拌機、アトライター、超音波分散機などが用いられる。近赤外吸収色素の濃厚溶液の油滴を水中で微細化する際、界面活性剤を用いることもできる。近赤外吸収色素の濃厚溶液を水に分散する場合の温度は、0℃〜100℃の範囲であり、好ましくは20℃から〜80℃の範囲であり、より好ましくは40℃〜80℃の範囲である。近赤外吸収色素の油滴分散物は、耐沈降性を持たせるために水溶性ポリマーと混合して、例えば30℃以下の温度で長期保存または冷蔵することも可能である。
(Solvent for coating solution adjustment)
The solvent for the near-infrared absorbing dye according to the present invention is not particularly limited. For example, water, organic solvents (for example, alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone, amides such as formamide, etc. , Sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, esters such as ethyl acetate, ethers, etc.), ionic liquids, and mixed solvents thereof. Oil droplet dispersion can be performed in which a solution dissolved in a solvent is dispersed in water. A dispersion dispersed as fine oil droplets having a diameter of 10 μm or less is called an oil droplet dispersion. The diameter of the fine oil droplets dispersed in water can be measured from an optical microscope or a pattern obtained by diffracting and scattering light emitted from a laser light source by the fine oil droplets. It is also preferable to add a near-infrared absorbing dye that is substantially insoluble in water to the latex liquid as a fine oil droplet dispersion. Any organic solvent may be used for dispersing the near-infrared absorbing dye in the form of oil droplets, and specific examples include benzene, toluene, xylene, benzyl alcohol, phenethyl alcohol, pyridine, and phenoxyethanol chloroform. Preferred are benzyl alcohol, phenethyl alcohol, and phenoxyethanol, and more preferred are benzyl alcohol and phenoxyethanol. In order to disperse a concentrated solution of a near-infrared pigment in water, various dispersers are effectively used. Specifically, a high speed stirrer, an attritor, an ultrasonic disperser, or the like is used. A surfactant can also be used when oil droplets of a concentrated solution of a near-infrared absorbing dye are refined in water. The temperature when the concentrated solution of the near-infrared absorbing dye is dispersed in water is in the range of 0 ° C to 100 ° C, preferably in the range of 20 ° C to -80 ° C, more preferably in the range of 40 ° C to 80 ° C. It is a range. The oil droplet dispersion of the near-infrared-absorbing dye can be mixed with a water-soluble polymer so as to have sedimentation resistance, and can be stored or refrigerated for a long time at a temperature of, for example, 30 ° C. or lower.
《塗布液の濾過》
本発明に用いられる塗布液は塗布される前に塗布液中に存在する粗大粒子をろ過で除去することは必要である。ここで述べる「ろ過」とは、ろ過フィルターによるろ過であり、ろ過フィルターの種類や構造の詳細は特に限定されず、2μm〜10μmの孔径を通過しない異物を除去できるろ過フィルターであればどのようなものでもよい。それらのろ過フィルターを用いて粗大粒子を除去するためのシステムも特に限定されず、ろ過に大きな問題を発生しなければ、特に限定されない。
<< Filtration of coating liquid >>
Before the coating solution used in the present invention is coated, it is necessary to remove coarse particles present in the coating solution by filtration. “Filtration” described here is filtration by a filtration filter, and the details of the type and structure of the filtration filter are not particularly limited, and any filtration filter can be used as long as it can remove foreign matters that do not pass through a pore size of 2 μm to 10 μm. It may be a thing. The system for removing coarse particles using these filtration filters is not particularly limited, and is not particularly limited as long as no major problem occurs in filtration.
これらのろ過フィルターの素材例としては、紙、布、セルロースアセテートポリマー、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリアクリロニトリル、ポリエーテル、フッ素(ポリフッ化ビニリデン)ポリマー、ポリアミド、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、ステンレス、セラミックなどを挙げることができる。その形態は、平膜、カートリッジ化膜、中空糸膜などであり、特に限定されない。本発明において好ましく用いられるろ過フィルターは、布、ろ紙による平膜であり、また更に好ましくはカートリッジタイプのろ過フィルター、セラミックろ過フィルターが好ましい。これらの膜(ディスクタイプ)、あるいはカートリッジろ過フィルターで本発明の画像形成層用塗布液をろ過するには、カートリッジろ過フィルターを装着するハウジングを用いることが特に好ましい。 Examples of materials for these filtration filters include paper, cloth, cellulose acetate polymer, polysulfone, polyethersulfone, polyacrylonitrile, polyether, fluorine (polyvinylidene fluoride) polymer, polyamide, polyimide, polyethylene, polypropylene, stainless steel, ceramic And so on. The form is a flat membrane, a cartridge membrane, a hollow fiber membrane and the like, and is not particularly limited. The filtration filter preferably used in the present invention is a flat membrane made of cloth or filter paper, and more preferably a cartridge type filtration filter or a ceramic filtration filter. In order to filter the coating solution for an image forming layer of the present invention with these membranes (disk type) or cartridge filtration filters, it is particularly preferable to use a housing in which the cartridge filtration filters are mounted.
これらのろ過フィルターは、ポール社から市販されているポールエポセル(各種サイズ)、プロファイルフィルター(2、3、5、10μm孔径など)、ミリポア社から市販されているCN03(3μm)、CN06(6μm)なども使用することができる。これらのろ過フィルターは、平膜をプリーツ型にして大面積化したものであり、コンパクトで省スペースである。 These filtration filters include Pole Epochell (various sizes), profile filters (2, 3, 5, 10 μm pore size, etc.) commercially available from Pall, CN03 (3 μm), CN06 (6 μm), etc. commercially available from Millipore. Can also be used. These filtration filters have a flat membrane with a pleated shape and a large area, and are compact and space-saving.
これらのろ過フィルターの使用に当たっては、その使用法に特に限定はなく、塗布液が目詰まりすることなく、かつ粗大粒子を除去できればよい。しかし、一般に上記のろ過フィルターは、ハウジングに装着されて利用することで設置面積もとることなく有効である。これらのハウジングで好ましい装置としては、市販されているステンレス製、ポリプロピレン製などを挙げることができる。ハウジングのサイズや形状は特に限定されず、円形や角型あるいは一本のフィルター装填型でもよく一度に2本以上のフィルターを装填してもよい。さらにまた、フィルターを2本以上接続して、ろ過フィルター面積を大幅にアップすることもできる。さらに本発明においては、平膜タイプも利用できる。これらはごく一般的なろ過方法で使用され、受け部の上にろ過フィルターを設置し、その上に液収納部となる装置をしっかりと固定し、フィルター装着部を締め部材で締め付けてろ過液をもれないようにするものである。この時、フィルター設置部にはパッキンを装填し、液漏れを防ぐことも行われる。 When using these filtration filters, there is no particular limitation on the method of use, and it is sufficient that the coating liquid is not clogged and coarse particles can be removed. However, in general, the above filtration filter is effective without requiring an installation area by being mounted on a housing. Preferred devices for these housings include commercially available stainless steel and polypropylene. The size and shape of the housing are not particularly limited, and may be a circular shape, a square shape, or a single filter loading type, and two or more filters may be loaded at a time. Furthermore, it is possible to greatly increase the filtration filter area by connecting two or more filters. Furthermore, a flat membrane type can also be used in the present invention. These are used in a very common filtration method. A filtration filter is installed on the receiving part, and the device that becomes the liquid storage part is firmly fixed on it. The filter mounting part is tightened with a fastening member, and the filtrate is supplied. It is intended to prevent it from leaking. At this time, packing is installed in the filter installation part to prevent liquid leakage.
次に、本発明の近赤外線吸収材料の形成に用いる塗布液のろ過を実施するに当たっては、送液のための圧力についての限定はないが、一般に加圧あるいは減圧にてろ過フィルターを通過させ粗大粒子を除去することが好ましい。特に加圧は塗布液をポンプなどで送る方法がとられることが多いが、塗布液をろ過フィルターよりも高所に配置して自然圧でろ過することも好ましい。さらにまた、塗布液に気体で圧力をかけることも好ましく、その場合は塗布液の存在するタンクは密閉系であることが実際である。送液時にポンプで圧力をかけたり、自重で加圧やさらには気体での加圧による場合は、その加圧にあたってはろ過フィルターを破損したり目詰まりさせたりして性能を劣化させない限り、特に限定されない。たとえば、ろ過フィルターにかかる圧力としては、490Pa(0.005kg/cm2)〜4.9MPa(50kg/cm2)が好ましく、更に好ましくは、980Pa(0.01kg/cm2)〜0.98MPa(10kg/cm2)が好ましく、特に好ましくは、9806Pa(0.1kg/cm2)〜0.49MPa(5kg/cm2)が特に好ましい。 Next, in carrying out the filtration of the coating solution used for forming the near-infrared absorbing material of the present invention, there is no limitation on the pressure for liquid feeding, but generally the filter is passed through a filtration filter under increased pressure or reduced pressure. It is preferred to remove the particles. In particular, pressurization is often carried out by feeding the coating solution with a pump or the like, but it is also preferable to place the coating solution at a higher position than the filtration filter and filter it with natural pressure. Furthermore, it is also preferable to apply a pressure to the coating liquid with a gas, in which case the tank in which the coating liquid is present is actually a closed system. In the case of applying pressure with a pump at the time of liquid delivery, pressurization with its own weight or even pressurization with gas, especially if the filtration filter is damaged or clogged and the performance is not deteriorated. It is not limited. For example, pressure on the filtration filter, preferably 490Pa (0.005kg / cm 2) ~4.9MPa (50kg / cm 2), more preferably, 980Pa (0.01kg / cm 2) ~0.98MPa ( 10 kg / cm 2 ) is preferable, and 9806 Pa (0.1 kg / cm 2 ) to 0.49 MPa (5 kg / cm 2 ) is particularly preferable.
また、ろ過液受け部を減圧してろ過する場合は、真空度が、100kPa(750mmHg)〜1.33kPa(10mmHg)が好ましく、93kPa(700mmHg)〜13.3kPa(100mmHg)が更に好ましく、特に93kPa(700mmHg)〜53.3kPa(400mmHg)が好ましい。 Further, when the filtrate receiving part is decompressed and filtered, the degree of vacuum is preferably 100 kPa (750 mmHg) to 1.33 kPa (10 mmHg), more preferably 93 kPa (700 mmHg) to 13.3 kPa (100 mmHg), and particularly 93 kPa. (700 mmHg) to 53.3 kPa (400 mmHg) is preferable.
本発明は、好ましい実施態様では塗布液を塗布前にろ過することはハジキ故障や異物故障を少なくすることができるので必要である。ろ過から塗布までの時間は特に限定されない。ろ過された塗布液が粗大粒子を形成しなければ、塗布使用の相当前にろ過しても構わない。しかし、製造効率を考えると一般にろ過は塗布直前から12ヶ月以内であることが好ましく、塗布直前から6ヶ月以内であることがより好ましく、塗布直前から1月以内であることがさらにより好ましく、塗布直前から15日以内であることが特に好ましい。ここで塗布直前とは、塗布液をストックするタンクから塗布ギーサーに到る送液配管の途中に存在している場合を含み、この場合は所謂オンラインろ過となり好ましい。なお、ろ過された塗布液は最終的に塗布される工程以外のストックタンクに、一時的に保管されても問題はない。 In the preferred embodiment of the present invention, it is necessary to filter the coating solution before coating because it can reduce repelling failure and foreign matter failure. The time from filtration to application is not particularly limited. If the filtered coating solution does not form coarse particles, the coating solution may be filtered considerably before use. However, considering the production efficiency, in general, filtration is preferably within 12 months immediately before application, more preferably within 6 months immediately before application, and even more preferably within 1 month immediately before application. Particularly preferably, it is within 15 days from immediately before. Here, the term “immediately before application” includes the case where it exists in the middle of the liquid supply piping from the tank for storing the application liquid to the application Giesser. In this case, so-called online filtration is preferable. It should be noted that there is no problem even if the filtered coating solution is temporarily stored in a stock tank other than the final coating step.
本発明では、少なくとも一層の塗布液をろ過する。このため、複数層ある場合は、そのうちの少なくとも一層の塗布液をろ過する。好ましいのは、すべての層の塗布液をろ過する場合である。本発明において塗布液をろ過する工程を必須要件としているのは、この工程が品質与える影響が最も大きいためである。しかし、更に赤外吸収層の他に塗布面状に影響を与える層として、隣接層、保護層やその他の機能層が挙げられる。したがって、本発明においてはこれらの近赤外線吸収層以外の層を形成するための塗布液も、塗布する前に予めろ過されている事が非常に好ましい。特に、近赤外線吸収層以外の層に添加素材が添加されている場合は、ろ過することが画像のムラやピンホール欠陥を防止する上で好ましい。 In the present invention, at least one layer of the coating solution is filtered. For this reason, when there are a plurality of layers, at least one of the coating liquids is filtered. The case where the coating liquid of all layers is filtered is preferable. The reason why the step of filtering the coating solution is an essential requirement in the present invention is that this step has the greatest influence on the quality. However, in addition to the infrared absorbing layer, examples of the layer that affects the coated surface include an adjacent layer, a protective layer, and other functional layers. Therefore, in this invention, it is very preferable that the coating liquid for forming layers other than these near-infrared absorption layers is filtered beforehand before apply | coating. In particular, when an additive material is added to a layer other than the near-infrared absorbing layer, it is preferable to filter in order to prevent image unevenness and pinhole defects.
後述する、隣接層(中間層や保護層等)、機能層は、一般にラテックスを主体とし、他の水溶性化合物や分散素材を含有している。例えば、紫外線吸収剤、膜質改良剤(例えばコロイダルシリカ等)、界面活性剤、pH調整剤等、多種にわたり、特に限定されない。 Adjacent layers (intermediate layer, protective layer, etc.) and functional layers, which will be described later, are generally composed mainly of latex and contain other water-soluble compounds and dispersion materials. For example, UV absorbers, film quality improvers (such as colloidal silica), surfactants, pH adjusters, and the like are not particularly limited.
中でも、表面特性を付与するために、滑り剤、マット剤、塗布用界面活性剤、帯電防止剤、膜質改良剤(コロイダルシリカなど)が添加されている。 Among them, a slipping agent, a matting agent, a coating surfactant, an antistatic agent, and a film quality improving agent (such as colloidal silica) are added to impart surface characteristics.
これらの層以外の機能性層の塗布液のろ過に当たっては、近赤外吸収層の塗布液のろ過で述べたと同様のろ過フィルターを利用できる。上記以外にも、ミリポア社から市販されているCN25(25μm)なども使用することができる。その際のろ過フィルターのろ過孔径は2μm〜30μmであることが好ましく、より好ましくは2μm〜10μm、特に好ましくは2μm〜5μmであり、場合により2μm〜3μmの孔径を有するろ過フィルターが好ましく用いられる。 In filtering the coating solution of the functional layer other than these layers, the same filtration filter as described in the filtration of the coating solution of the near infrared absorption layer can be used. In addition to the above, CN25 (25 μm) commercially available from Millipore Corporation can also be used. The filtration pore diameter of the filtration filter at that time is preferably 2 μm to 30 μm, more preferably 2 μm to 10 μm, particularly preferably 2 μm to 5 μm, and in some cases, a filtration filter having a pore diameter of 2 μm to 3 μm is preferably used.
尚、特にマット剤は表面の凸部を与えるために、一般に大きいマット剤粒子が添加されているため、ろ過フィルターの孔径はある程度のサイズを必要とし、例えば、2μm〜30μmが好ましく、より好ましくは5μm〜25μmが好ましい。さらにマット剤塗布液を予め作製する場合は、マット剤液のみ大き目の孔径のろ過フィルターで別にろ過しておき、他の素材の塗布液をマット剤に小さい孔径のろ過フィルターでろ過しておいて、一緒に混合して利用することが好ましい。本発明では、塗布液を塗布前にろ過することが必須である。 In particular, the matting agent generally has large matting agent particles added to give a convex portion on the surface. Therefore, the pore size of the filtration filter requires a certain size, for example, preferably 2 μm to 30 μm, more preferably 5 micrometers-25 micrometers are preferable. In addition, when preparing the matting agent coating solution in advance, filter the matting agent solution separately with a filter with a large pore size, and filter the coating solution of other materials with a filtering filter with a small pore size. It is preferable to mix them together. In the present invention, it is essential to filter the coating solution before coating.
《近赤外線吸収層、隣接層(中間層、保護層等)の作製方法》
本発明では、水系の塗布液を塗布後乾燥して調製することが好ましい。ただし、ここで言う「水系」とは塗布液の溶媒(分散媒)の60質量%以上が水であることをいう。塗布液の水以外の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチル、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、ベンジルアルコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、オキシエチルフェニルエーテルなどの水混和性の有機溶媒を用いることができる。
<< Near-infrared absorption layer, production method of adjacent layers (intermediate layer, protective layer, etc.) >>
In the present invention, it is preferable to prepare by applying an aqueous coating solution and drying it. However, “aqueous” as used herein means that 60% by mass or more of the solvent (dispersion medium) of the coating solution is water. Components other than water in the coating solution include methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, ethyl acetate, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, benzyl alcohol, diethylene glycol monoethyl ether, oxyethyl phenyl ether A water miscible organic solvent such as can be used.
近赤外吸収層形成用塗布液および隣接層(例えば、中間層や保護層形成用用塗布液である)を、スライドビードコーターを用いて支持体上に塗布することが好ましい。その際、近赤外吸収層形成用塗布液および隣接層(中間層、保護層等)形成用塗布液の塗布は、スライドビードコーターの塗布幅規制板に沿ってラテックスを含まない液を流しながら行ってもよく、また、スライドビードコーターのスライド面上に、少なくとも2種の塗布液とラテックスを含まない液を順に重ねて送液することにより定常流量にし、次いでラテックスを含まない液の送液を停止した後に塗布液を支持体上に塗布することも好ましい。 It is preferable to apply the near-infrared absorbing layer forming coating solution and the adjacent layer (for example, an intermediate layer or a protective layer forming coating solution) onto the support using a slide bead coater. At that time, the coating solution for forming the near-infrared absorbing layer and the coating solution for forming the adjacent layer (intermediate layer, protective layer, etc.) are applied while flowing a solution not containing latex along the coating width regulating plate of the slide bead coater. In addition, at least two types of coating liquid and latex-free liquid are sequentially stacked on the slide surface of the slide bead coater to obtain a steady flow rate, and then latex-free liquid is fed. It is also preferable to apply the coating solution on the support after stopping the process.
ここでいうラテックスを含まない液の粘度は、塗布液の粘度より低いことが好ましく、また、ラテックスを含まない液の表面張力は、保護層最上層の塗布液の表面張力以下であることが好ましい。 Here, the viscosity of the liquid not containing latex is preferably lower than the viscosity of the coating liquid, and the surface tension of the liquid not containing latex is preferably equal to or lower than the surface tension of the coating liquid on the uppermost layer of the protective layer. .
本発明では、支持体上に、近赤外線吸収層形成層用塗布液および隣接層形成用塗布液を同時に塗布し、次いで、該塗布直後から恒率乾燥期終了までの時間の1/2以下にわたり、塗布膜面上の風速を0.5m/s〜10m/sにして乾燥することが好ましい。 In the present invention, the near-infrared absorbing layer forming layer coating solution and the adjacent layer forming coating solution are simultaneously coated on the support, and then, for a period of ½ or less of the time from immediately after the coating to the end of the constant rate drying period. It is preferable to dry the coating film surface at a wind speed of 0.5 m / s to 10 m / s.
本発明の近赤外線吸収材料は、化学工学における乾燥理論を適用して乾燥する事が好ましい。乾燥するときの湿度の与え方は、適宜選択する必要がある。早い乾燥は、しばしばレチを発生さたり保存性を劣化したりして性能を劣化させるからである。本発明の近赤外線吸収材料は、20%RH以下、30℃〜90℃で10秒から2分以内に乾燥するのが好ましく、更には35℃〜50℃で30秒から50秒以内に乾燥するのが好ましい。 The near-infrared absorbing material of the present invention is preferably dried by applying a drying theory in chemical engineering. It is necessary to appropriately select how to give the humidity when drying. This is because fast drying often deteriorates the performance by generating reticulation or deteriorating storage stability. The near-infrared absorbing material of the present invention is preferably dried at 20% RH or less and 30 ° C. to 90 ° C. within 10 seconds to 2 minutes, and further dried at 35 ° C. to 50 ° C. within 30 seconds to 50 seconds. Is preferred.
特に温度湿度の設定に関しては恒率乾燥と減率乾燥を好ましく制御するのがよい。恒率乾燥はフィルムの表面から水分が蒸発しながら乾燥していくプロセスで、このプロセスの間は表面温度が一定であるので恒率乾燥と呼ばれる。この次のプロセスは、フィルムの内部から水分が蒸発して乾燥していくので湿球温度が、フィルムの表面温度、即ち乾球温度に近づき、最後に同じになるプロセスを減率乾燥と呼ぶ。ゼラチン膜の乾燥は水分がゼラチン質量%の300倍〜400倍含まれている点が恒率乾燥と減率乾燥の堺になっている。300倍以下の水分量の乾燥条件は減率乾燥部分の乾燥条件として重要な意味をもっている。この減率乾燥部分を高い温度と低い湿度で乾燥ができるほど生産性は向上するのでこの部分の性能の変動が少ないか、性能が劣化しないのがよい。乾燥中の膜の含水率が乾量基準で70質量%〜3質量%である領域は、本発明の材料の恒率乾燥の限界含水率が乾量基準で約300質量%である点から、減率乾燥の後期になる。塗布膜の収縮は70質量%近辺より初まるので、それ以後の乾燥条件を制限することが望ましい。含水率乾量基準70質量%〜3質量%の間は乾燥条件によっては表面だけ乾燥して急激且つ不均一な膜の収縮の為塗膜に歪を与えて乾燥レチを生じたり、又、膜内部に湿分が残り付着をおこしたりする。従って70〜3質量%の含水率の間、乾燥条件として10℃≦露点≦33℃,35%≦関係温度≦85%,乾球温度36℃以下の諸条件を満足する条件下で乾燥させるのが好ましい。この範囲内での条件選定はラテックス/ゼラチン,その他乾燥風が塗布膜に当る速度等によって選定されるが、より好ましい範囲としては25℃≦乾球温度≦34℃,55%≦関係温度≦75%,最高露点≦33℃の範囲であり、最適条件としては26℃≦乾球温度≦30℃,60%≦関係温度≦75%である。 In particular, regarding the setting of temperature and humidity, constant rate drying and reduced rate drying should be preferably controlled. Constant rate drying is a process in which moisture is evaporated from the surface of the film and is called constant rate drying because the surface temperature is constant during this process. In this next process, since moisture evaporates from the inside of the film and dries, the process in which the wet bulb temperature approaches the surface temperature of the film, that is, the dry bulb temperature and finally becomes the same, is referred to as reduced rate drying. The drying of the gelatin film is the difference between constant rate drying and reduced rate drying in that the moisture content is 300 to 400 times the gelatin mass%. Drying conditions with a water content of 300 times or less have an important meaning as drying conditions for the reduced rate drying portion. Since the productivity is improved as the reduced rate drying portion can be dried at a high temperature and low humidity, it is preferable that the performance of the portion does not fluctuate little or does not deteriorate. In the region where the moisture content of the membrane during drying is 70% by mass to 3% by mass on a dry basis, the critical moisture content of the constant rate drying of the material of the present invention is about 300% by mass on the basis of the dry amount. It will be later in the rate of drying. Since the shrinkage of the coating film starts from around 70% by mass, it is desirable to limit the drying conditions thereafter. When the moisture content is between 70% and 3% by weight based on the dry weight, only the surface may be dried depending on the drying conditions, and the coating may be distorted due to rapid and non-uniform film shrinkage, resulting in dry reticulation. Moisture remains inside and causes adhesion. Therefore, during the moisture content of 70 to 3% by mass, the drying conditions are 10 ° C. ≦ dew point ≦ 33 ° C., 35% ≦ related temperature ≦ 85%, and dry bulb temperature is 36 ° C. or less. Is preferred. The selection of conditions within this range is selected depending on the rate at which latex / gelatin or other dry air hits the coating film, etc., but a more preferable range is 25 ° C. ≦ dry bulb temperature ≦ 34 ° C., 55% ≦ related temperature ≦ 75. %, Maximum dew point ≦ 33 ° C., and optimum conditions are 26 ° C. ≦ dry bulb temperature ≦ 30 ° C., 60% ≦ relation temperature ≦ 75%.
その意味としては、露点が10℃以下に落ちると乾燥能率が低下して実用的でない。関係湿度が下る程乾燥が促進され、関係湿度が85%以上になると乾燥速度が非常に遅くなるばかりでなく、接着故障を生ずる危険性がある。又乾球温度が高くなる程乾燥速度が早くなり36℃以上になると塗布膜表面が過乾になり、水分も少なくすることができるが、支持体の寸法安定性には好ましくないので70℃以下に設定するのがよい。又、乾燥速度は乾燥風速が被乾燥物にあたる速度によっても大きく影響されるので、乾燥風速100m/秒以下で被乾燥物と乾燥風吹出口間の距離は100mm以上が望ましい。より好ましい条件としては乾燥風速50m/秒以下で,距離30mm以上である。 In that sense, if the dew point falls below 10 ° C., the drying efficiency is lowered, which is not practical. Drying is promoted as the relative humidity decreases, and when the relative humidity is 85% or more, not only the drying rate becomes very slow but also there is a risk of causing an adhesion failure. Also, the higher the dry bulb temperature, the faster the drying speed. When the temperature exceeds 36 ° C., the coating film surface becomes over-dried and moisture can be reduced, but it is not preferable for the dimensional stability of the support. It is good to set to. Further, since the drying speed is greatly influenced by the speed at which the drying air velocity hits the object to be dried, the distance between the object to be dried and the drying air outlet is preferably 100 mm or more at a drying air speed of 100 m / second or less. More preferable conditions are a drying wind speed of 50 m / sec or less and a distance of 30 mm or more.
生産における塗布、乾燥、裁断、包装工程において、塵や埃の汚れは本発明の材料の品質を損なうので、クリーン度が米国連邦基準209dクラス10,000以下の環境において行うことが好ましい。ここでいう米国連邦基準209dクラスとは、クリーンルームの規格を示すものであり、米国連邦基準209dクラス10,000以下の環境とは、粒子サイズ0.5μm以上の粒子の累積個数が10,000個/ft3以下であり、粒子サイズ5.0μm以上の粒子の累積個数が65個/ft3以下である環境であるが、塵埃粒子が宇宙空間のように0に近い値が好ましいが、超クリーンな部屋で生産することは、設備費用が掛かるので、適宜そのクリーン度を選択する必要がある。汚れや傷を防止するために、本発明の近赤外線吸収材料に20μm〜60μmのカバーフィルムを付け、使用するときに剥離して使用することを制限するものではない。この方法は処理しなければならない剥離フィルムが生じるのでできるだけ、剥離フィルムを使用しないことが経済的である。 In the coating, drying, cutting, and packaging processes in production, dust and dirt stains impair the quality of the material of the present invention. Therefore, it is preferable that the cleanliness is performed in an environment of US federal standard 209d class 10,000 or less. The US federal standard 209d class here indicates a clean room standard, and the environment of the US federal standard 209d class 10,000 or less means that the cumulative number of particles having a particle size of 0.5 μm or more is 10,000. / Ft 3 or less and the cumulative number of particles having a particle size of 5.0 μm or more is 65 / ft 3 or less. However, it is preferable that the dust particles have a value close to 0 as in outer space. Production in a simple room requires equipment costs, so it is necessary to select the cleanliness as appropriate. In order to prevent dirt and scratches, the near infrared absorbing material of the present invention is not limited to use with a cover film of 20 μm to 60 μm peeled off when used. Since this method results in a release film that must be treated, it is economical to use as little release film as possible.
尚、塗布後に本発明の近赤外線吸収材料をロールの状態で、10℃〜60℃且つ、40%RH〜80%RH(相対湿度)の環境条件下で少なくとも1日以上シーズニングし、その後製品出荷時において、近赤外吸収層が外側になる様に巻き返して包装することにより、架橋度を進め、カールを防止することにより、PDP(プラズマディスプレイ)の前面パネルに貼り易くすることもできるのでシーズニングを適宜選択することができる。 After application, the near-infrared absorbing material of the present invention is seasoned for at least one day under the environmental conditions of 10 ° C. to 60 ° C. and 40% RH to 80% RH (relative humidity) in a roll state, and then shipped. At times, it is possible to make it easy to stick on the front panel of PDP (Plasma Display) by wrapping it so that the near-infrared absorbing layer is on the outside, thereby increasing the degree of crosslinking and preventing curling. Can be appropriately selected.
例えば、30℃、50%RH(相対湿度)で3日、35℃、40%RH(相対湿度)で2日とか温度と湿度の条件を適宜選択することが出来る。 For example, the conditions of temperature and humidity can be selected as appropriate, such as 3 days at 30 ° C. and 50% RH (relative humidity), 2 days at 35 ° C. and 40% RH (relative humidity).
《バインダー》
本発明の近赤外線吸収材料の製造(作製ともいう)に当たり、近赤外線吸収色素吸収層または、その他の層(隣接層等)を構成するバインダーとして水系用でも有機溶媒系でもよいが、使用する溶媒を可能な限り少なくした水系塗布用のバインダーを使用するのが好ましい。そのようなバインダーとしてラテックスを使用することが好ましいが、これらに限定されるものではない。ラテックス溶液に分散された近赤外色素層とその他の併設塗布される機能性層は、支持体上に塗布され加熱乾燥によって皮膜を形成する。乾燥温度は、通常、室温から約100℃の間であり、この範囲の温度で乾燥が行われる。
"binder"
In the production (also referred to as preparation) of the near-infrared absorbing material of the present invention, the binder used for forming the near-infrared absorbing dye absorbing layer or other layers (adjacent layers, etc.) may be an aqueous solvent or an organic solvent solvent. It is preferable to use a binder for water-based coating with as little as possible. Although it is preferable to use latex as such a binder, it is not limited to these. The near-infrared pigment layer dispersed in the latex solution and other functional layers applied together are coated on a support and form a film by heating and drying. The drying temperature is usually between room temperature and about 100 ° C., and drying is performed at a temperature in this range.
(ラテックス)
ラテックスは水媒体中に安定して分散される樹脂である。ラテックスとはゴムの樹などから採取される白色乳状の樹液をさしていたが、乳化重合物の出現以来、合成高分子の水分散体も含めて”水性媒体の中に高分子物質が安定して分散してるもの”をラテックスと呼ぶようになったのでこの呼称が使用されている。水分散性樹脂としては、例えば、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン−アクリル酸共重合体、塩化ビニリデン−イタコン酸共重合体、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチレンオキシド、アクリル酸アミド−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、場合によってはアクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸及びマレイン酸等のカルボン酸基を含むモノマー或いは、ジメチルアクリルアミドプロパンスルホン酸、スチレンスルホン酸基等のスルホン酸基を持つモノマーを一つ又は複数組み合わせて少量使用したスチレン−ブタジエン系共重合体、スチレンーイソプレン系共重合体等が挙げられる。
(latex)
Latex is a resin that is stably dispersed in an aqueous medium. Latex refers to white milky sap collected from rubber trees, etc., but since the advent of emulsion polymers, including the aqueous dispersions of synthetic polymers, the polymer substance is stable in the aqueous medium. This designation is used because “dispersed” is now called latex. Examples of the water dispersible resin include polyvinylidene chloride, vinylidene chloride-acrylic acid copolymer, vinylidene chloride-itaconic acid copolymer, sodium polyacrylate, polyethylene oxide, acrylic acid amide-acrylic acid ester copolymer, A styrene-maleic anhydride copolymer, an acrylonitrile-butadiene copolymer, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, or a monomer containing a carboxylic acid group such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid and maleic acid, or Examples thereof include styrene-butadiene copolymers and styrene-isoprene copolymers using a small amount of one or more monomers having a sulfonic acid group such as dimethylacrylamidepropanesulfonic acid and styrenesulfonic acid group.
上記ラテックスは、水系塗布の結合剤として広く使用されているが、中でも、結合剤として耐水性を向上させるラテックスが好ましい。結合剤として耐水性を得る目的のラテックス の使用量は、塗布性を勘案して決められるが耐湿性の点から使用量は多いほど好ましく、全結合剤質量に対して30質量%〜100質量%が好ましく、60質量%〜100質量%がより好ましい。このような樹脂を市場から入手することもできる。 The latex is widely used as a binder for aqueous coating, and among them, a latex that improves water resistance is preferable as a binder. The amount of latex used for obtaining water resistance as a binder is determined in consideration of applicability, but the amount used is preferably higher from the viewpoint of moisture resistance, and is preferably 30% by mass to 100% by mass with respect to the total mass of the binder. Is preferable, and 60% by mass to 100% by mass is more preferable. Such resins can also be obtained from the market.
例えば、スチレン樹脂としてはスチレン−ブタジエンコポリマーの業界統一品番で、#1500、#1502、#1507、#1712、#1778などの種々の銘柄の住友SBRラテックス(住友化学(株))やJSRラテックス(日本合成ゴム(株))やNipolラテックス(日本ゼオン(株))を用いることができる。 For example, styrene resin is an industry standard product number of styrene-butadiene copolymer, and various brands such as # 1500, # 1502, # 1507, # 1712, # 1778, Sumitomo SBR latex (Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and JSR latex ( Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) or Nipol Latex (Nippon Zeon Co., Ltd.) can be used.
スチレン−ブタジエンコポリマーは、スチレンとブタジエンの共重合比(質量%)が10/90〜90/10、より好ましくは20/80〜60/40が好ましい。ハイスチレンラテックスと呼ばれる60/40〜90/10の比率のものは、スチレン含率の低い(10/90〜30/70)樹脂と混合して用いるのが、感光層の耐傷性、物理的強度を高める上で好ましい。混合比率は(質量%)は、20/80〜80/20の範囲内が好ましい。 The styrene-butadiene copolymer has a copolymerization ratio (% by mass) of styrene and butadiene of 10/90 to 90/10, more preferably 20/80 to 60/40. A high styrene latex having a ratio of 60/40 to 90/10 is used by mixing with a resin having a low styrene content (10/90 to 30/70), so that the scratch resistance and physical strength of the photosensitive layer are used. It is preferable for increasing the ratio. The mixing ratio (mass%) is preferably in the range of 20/80 to 80/20.
ハイスチレンラテックスとしては、JSR0051や同0061(以上、日本合成ゴム(株)の商品名)、およびNipol 2001,2057,2007(日本ゼオン(株)の商品名)などの市販品が使える。 As the high styrene latex, commercial products such as JSR0051 and 0061 (Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd., trade name) and Nipol 2001, 2057, 2007 (Zeon Corporation, trade name) can be used.
また、スチレン含率の低いラテックスとしては、上記のハイスチレンラテックスとして列挙した以外の常用のものが挙げられ、JSR#1500、#1502、#1507、#1712、#1778等がある。 Examples of the latex having a low styrene content include conventional ones other than those listed as the high styrene latex, such as JSR # 1500, # 1502, # 1507, # 1712, and # 1778.
また、アクリル樹脂として一般に知られるアクリル系ラテックス、例えばNipol AR31,AR32、あるいはHycar 4021(いずれも日本ゼオン(株)の商品名)を用いることができる。 Moreover, acrylic latex generally known as an acrylic resin, for example, Nipol AR31, AR32, or Hycar 4021 (both are trade names of Nippon Zeon Co., Ltd.) can be used.
前記したアクリル樹脂は、次のアクリレートモノマーを原料とする重合体又は共重合体を用いることもできる。なお、以下において、(メタ)アクリロイル基は、アクリロイル基又はメタアクリロイル基の意味で用いる。 As the acrylic resin, a polymer or copolymer using the following acrylate monomer as a raw material can be used. In the following, the (meth) acryloyl group is used to mean an acryloyl group or a methacryloyl group.
(a)分子中に(メタ)アクリロイル基を1個有するモノマとしては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、オクチルメタクリレート等の脂肪族アルコールのメタクリル酸エステル、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、オクチルアクリレート等の脂肪族アルコールのアクリル酸エステル、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメチルアクリレート等の脂環式アルコールのアクリル酸エステル、シクロヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメチルメタクリレート等の脂環式アルコールのメタクリル酸エステル、フェニルアクリレート、4−プロモフェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート等の芳香族基を含むアクリル酸エステル、フェニルメタクリレート、4−クロルフェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート等の芳香族基を含むメタクリル酸エステル、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート等のアクリル酸又はメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステル等がある。 (A) Monomers having one (meth) acryloyl group in the molecule include methacrylic acid esters of aliphatic alcohols such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, octyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, octyl acrylate, etc. Aliphatic alcohol acrylic ester, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methyl acrylate and other alicyclic alcohol acrylic ester, cyclohexyl methacrylate, cyclohexyl methyl methacrylate and other alicyclic alcohol methacrylic ester, phenyl acrylate, 4-promophenyl acrylate , Acrylates containing aromatic groups such as benzyl acrylate and benzyl methacrylate, phenyl methacrylate, - chlorophenyl methacrylate, methacrylic acid ester containing an aromatic group such as benzyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, hydroxyalkyl esters of acrylic acid or methacrylic acid such as 2-hydroxyethyl methacrylate.
(b)分子中に(メタ)アクリロイル基を2個以上有するモノマとしては、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,3−ジアクリロキシ−2−プロパノールポリエチレングリコールジアクリレート等のアクリル酸ジエステル、エチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、1,3−ジメタクリロキシ−2−プロパノール等のメタクリル酸ジエステル、グリセリントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート等のアクリル酸トリエステル、グリセリントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート等のメタクリル酸トリエステル等がある。 (B) Monomers having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule include acrylics such as ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, and 1,3-diaacryloxy-2-propanol polyethylene glycol diacrylate. Acrylic acid such as acid diester, ethylene glycol dimethacrylate, propylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, 1,3-dimethacryloxy-2-propanol, etc., glycerin triacrylate, trimethylolpropane triacrylate Such as triester, glycerin trimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate Is methacrylic acid triester or the like.
スチレン樹脂としては、スチレンモノマーとして、メチルスチレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、ヘプチルスチレン、オクチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、ジエチルスチレン、トリエチルスチレンなどのアルキルスチレンモノマー、フロロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、ヨードスチレン、ジブロモスチレンなどのハロゲン化スチレンモノマー、ニトロスチレンモノマー、アセチルスチレンモノマー、メトキシスチレンモノマー等を使用し、単独又は他のモノマーと共重合したものである。 As the styrene resin, alkyl styrene monomers such as methyl styrene, ethyl styrene, propyl styrene, butyl styrene, hexyl styrene, heptyl styrene, octyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, diethyl styrene, triethyl styrene, fluoro styrene, A halogenated styrene monomer such as chlorostyrene, bromostyrene, iodostyrene, dibromostyrene, a nitrostyrene monomer, an acetylstyrene monomer, a methoxystyrene monomer or the like is used alone or copolymerized with another monomer.
ビニル樹脂としては、モノマーとしてビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾール、酢酸ビニル、アクリロニトリル、塩化ビニル、臭化ビニル、塩化ビニリデン、臭化ビニリデンなどのハロゲン化ビニル又はビニリデン等を構成単位として含むものである。又構成単位として分子中に2つ以上のビニル基を有するモノマを含んでもよい。例えば、ジビニルベンゼン、ブタジエン、クロロプレンなどの共役ジエンモノマー、イソプレンアジピン酸ジビニル、ジビニルスルホン、トリエチレングリコールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル等が挙げられる。 The vinyl resin contains vinyl pyridine, vinyl pyrrolidone, vinyl carbazole, vinyl acetate, acrylonitrile, vinyl chloride, vinyl bromide, vinylidene chloride, vinylidene bromide or the like as a structural unit as a monomer. Moreover, you may include the monomer which has a 2 or more vinyl group in a molecule | numerator as a structural unit. Examples thereof include conjugated diene monomers such as divinylbenzene, butadiene, and chloroprene, isoprene adipate divinyl, divinyl sulfone, triethylene glycol divinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol divinyl ether, and the like.
これらのモノマーは、前記したように乳化重合させることができる。この乳化重合に用いる水溶性重合開始剤としては、任意のものが選択できるが例示すると、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)二塩酸塩、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−(5−メチル−2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]二塩酸塩、2,2’−アゾビスイソブチルアミド二水和物等が挙げられる。水溶性重合開始剤の使用量は、全モノマーに対して0.001モル%〜0.5モル%が好ましい。 These monomers can be emulsion polymerized as described above. As the water-soluble polymerization initiator used in this emulsion polymerization, any one can be selected, and examples thereof include 2,2′-azobis (2-methylpropionamidine) dihydrochloride, 4,4′-azobis (4-cyano). Valeric acid), 2,2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2′-azobis [2- (5-methyl-2-imidazolin-2-yl) Propane] dihydrochloride, 2,2′-azobisisobutyramide dihydrate, and the like. The amount of the water-soluble polymerization initiator used is preferably 0.001 mol% to 0.5 mol% with respect to all monomers.
また、前記の乳化重合に用いる分散剤は、系を安定化させるために適宜使用される。分散安定剤又は分散剤としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、ヒドロキシアルキルアクリレートポリマー、ヒドロキシアルキルメタクリレートポリマー、ポリアクリル酸又はその塩、ポリメタクリル酸又はその塩、エチレン−アクリル酸共重合体又はその塩、エチレン−メタクリル酸共重合体又はその塩、エチレン−マレイン酸共重合体又はその塩、スチレン−アクリル酸共重合体又はその塩、スチレン−メタクリル酸共重合体又はその塩、ポリエチレンイミン、ポリアルキレングリコール、ポリアルキレンオキシド、メチロール化ポリアミド、水溶性メラミン樹脂、水溶性フェノール樹脂、水溶性尿素樹脂、カゼイン、ゼラチン、カルボキシメチルセルローズ、メチルセルローズ、ヒドロキシアルキルセルローズ、カルボキシメチルデンプン、カチオン化デンプン、デキストリン、デキストラン、アルギン酸又はその塩、カラギーナン、ジェランガム、ローカストビーンガム、アラビアガム、トラガントガム、グルコマンナン、ザレップマンナン、グアーガム、植物粘液質等の単独または2種以上の混合物が用いられる。分散剤は、使用するモノマーの全量又は分散させる樹脂の全量に対して、0.01質量%〜20質量%使用することが好ましい。 Moreover, the dispersant used for the emulsion polymerization is appropriately used to stabilize the system. Examples of the dispersion stabilizer or dispersant include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide, polymethacrylamide, hydroxyalkyl acrylate polymer, hydroxyalkyl methacrylate polymer, polyacrylic acid or salt thereof, polymethacrylic acid or salt thereof, and ethylene-acrylic acid. Copolymer or salt thereof, ethylene-methacrylic acid copolymer or salt thereof, ethylene-maleic acid copolymer or salt thereof, styrene-acrylic acid copolymer or salt thereof, styrene-methacrylic acid copolymer or salt thereof , Polyethyleneimine, polyalkylene glycol, polyalkylene oxide, methylolated polyamide, water-soluble melamine resin, water-soluble phenol resin, water-soluble urea resin, casein, gelatin, carboxymethylcellulose, methylcell , Hydroxyalkyl cellulose, carboxymethyl starch, cationized starch, dextrin, dextran, alginic acid or salt thereof, carrageenan, gellan gum, locust bean gum, gum arabic, tragacanth gum, glucomannan, zalep mannan, guar gum, plant mucus, etc. A single substance or a mixture of two or more kinds is used. The dispersant is preferably used in an amount of 0.01% by mass to 20% by mass with respect to the total amount of monomers used or the total amount of resin to be dispersed.
さらに、前記の乳化重合に用いる界面活性剤としては、重合反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されず、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性イオン界面活性剤または非イオン界面活性剤のいずれでも使用できる。例えば、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、高級アルコール硫酸エステルナトリウム塩、高級α−オレフィンスルホン化物ナトリウム塩、高級脂肪酸塩、高級アルキルフェノールアルキレンオキシドスルホン酸ナトリウム、高級アルキルアミン塩、高級アルキルトリメチルアンモニウム塩、高級アルキルピリジニウム塩、高級アシルアミノメチルピリジニウム塩、高級アシロキシメチルピリジニウム塩、N,N−ジポリオキシエチレン−N−高級アルキルアミン塩、高級アルキルポリエチレンポリアミン塩、トリメチル高級アルキルアニリンサルフェート、トリメチル高級アルキルベンジルアンモニウム塩、高級アルコールエチレンオキシド付加物、高級アルキルフェノールエチレンオキシド付加物、高級脂肪酸エチレンオキシド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキシド付加物、高級脂肪酸アミドエチレンオキシド付加物、グリセリン高級脂肪酸エステル、ペンタエリスリトール高級脂肪酸エステル、ソルビトールやソルビタンの高級脂肪酸エステル(またはこれらのエチレンオキシド付加物)、ショ糖高級脂肪酸エステル、ポリオールの高級アルキルエーテル、アルカノールアミンの高級脂肪酸アミド、アミノ酸型両性活性剤、ベタイン型両性活性剤等の単独または2種以上の混合物が挙げられる。界面活性剤は、使用するモノマーの全量又は分散させる樹脂の全量に対して、0.01質量%〜20質量%使用することが好ましい。 Furthermore, the surfactant used for the emulsion polymerization is not particularly limited as long as it does not adversely affect the polymerization reaction, and is an anionic surfactant, a cationic surfactant, an amphoteric surfactant or a nonionic surfactant. Any of the agents can be used. For example, sodium alkylbenzene sulfonate, higher alcohol sulfate sodium salt, higher α-olefin sulfonate sodium salt, higher fatty acid salt, higher alkylphenol alkylene oxide sodium sulfonate, higher alkyl amine salt, higher alkyl trimethyl ammonium salt, higher alkyl pyridinium salt Higher acylaminomethylpyridinium salt, higher acyloxymethylpyridinium salt, N, N-dipolyoxyethylene-N-higher alkylamine salt, higher alkylpolyethylenepolyamine salt, trimethyl higher alkylaniline sulfate, trimethyl higher alkylbenzylammonium salt, Higher alcohol ethylene oxide adduct, higher alkylphenol ethylene oxide adduct, higher fatty acid ethylene oxide addition Higher alkylamine ethylene oxide adducts, higher fatty acid amide ethylene oxide adducts, glycerin higher fatty acid esters, pentaerythritol higher fatty acid esters, higher fatty acid esters of sorbitol and sorbitan (or their ethylene oxide adducts), sucrose higher fatty acid esters, polyols Examples thereof include higher alkyl ethers, higher fatty acid amides of alkanolamines, amino acid type amphoteric activators, betaine type amphoteric activators and the like, or a mixture of two or more thereof. The surfactant is preferably used in an amount of 0.01% by mass to 20% by mass with respect to the total amount of monomers used or the total amount of resin to be dispersed.
本発明に用いられるラテックスについては「合成樹脂エマルジョン(奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行(1978))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行(1993))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」などに記載されている。分散粒子の平均粒径は1nm〜500nm、より好ましくは5nm〜100nm程度の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限はなく、広い粒径分布をもつものでも単分散の粒径分布をもつものでもよい。 Regarding the latex used in the present invention, “synthetic resin emulsion (Hiraku Okuda, Hiroshi Inagaki, published by Kobunshi Publishing Co., Ltd. (1978))”, “application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Ikuo Kataoka, Junichi Suzuki, Keiji Kasahara, Published by Polymer Press (1993)), “Synthetic Latex Chemistry (written by Soichi Muroi, published by Polymer Press (1970))” and the like. The average particle size of the dispersed particles is preferably in the range of about 1 nm to 500 nm, more preferably about 5 nm to 100 nm. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution.
本発明に用いられるラテックスとしては通常の均一の構造のラテックス以外、いわゆるコア/シェル型のラテックスでもよい。この場合コアとシェルはガラス転移温度を変えると好ましい場合がある。 The latex used in the present invention may be a so-called core / shell type latex in addition to a normal uniform latex. In this case, it may be preferable to change the glass transition temperature between the core and the shell.
本発明に用いられるラテックスの最低造膜温度(MFT)は−30℃〜90℃、より好ましくは0℃〜70℃程度が好ましい。最低造膜温度をコントロールするために造膜助剤を添加してもよい。造膜助剤は可塑剤ともよばれラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化合物(通常有機溶剤)で、例えば前述の「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」に記載されている。 The minimum film-forming temperature (MFT) of the latex used in the present invention is preferably −30 ° C. to 90 ° C., more preferably about 0 ° C. to 70 ° C. A film-forming auxiliary may be added to control the minimum film-forming temperature. A film-forming aid, also called a plasticizer, is an organic compound (usually an organic solvent) that lowers the minimum film-forming temperature of the latex. For example, “Synthetic latex chemistry (written by Soichi Muroi, published by Kobunshi Shuppankai (1970)) "It is described in.
本発明に用いられるラテックスのポリマーは、近赤外線吸収層を形成した後は25℃、55%RHでの平衡含水率が3質量%以下、より好ましくは1質量%以下のものであることが、高湿下での保存性と耐候性を向上させることができる。この平衡含水率の下限には特に制限はないが、好ましくは0.01質量程度であり、より好ましくは0.03質量%程度である。平衡含水率の定義と測定法については、例えば「高分子工学講座14、高分子材料試験法(高分子学会編、地人書館)」などを参考にすることができる。実際の測定は後記実施例に示すように行うことができる。 The latex polymer used in the present invention has an equilibrium water content of 3% by mass or less, more preferably 1% by mass or less at 25 ° C. and 55% RH after forming the near infrared absorption layer. Preservability and weather resistance under high humidity can be improved. Although there is no restriction | limiting in particular in the minimum of this equilibrium moisture content, Preferably it is about 0.01 mass, More preferably, it is about 0.03 mass%. For the definition and measurement method of the equilibrium moisture content, for example, “Polymer Engineering Course 14, Polymer Material Testing Method (Edited by Polymer Society, Jinshokan)” can be referred to. Actual measurement can be performed as shown in the Examples described later.
《紫外線吸収剤》
紫外線吸収剤としては、公知の紫外線吸収剤、例えばサリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、S−トリアジン系化合物、環状イミノエステル系化合物などを好ましく使用することができる。これらの中、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、環状イミノエステル系化合物が好ましい。ポリエステルに配合するものとしては、特に環状イミノエステル系化合物が好ましい。
好ましい具体例としては、
(U−1)2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−α−クミル)−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−2)5−クロロ−2−(2−ヒドロキシ−3−第三−ブチル−5−メチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−3)5−クロロ−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三−ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール
(U−4)5−クロロ−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−α−クミルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−5)5−クロロ−2−(2−ヒドロキシ−3−α−クミル−5−第三オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−6)2−(3−第三ブチル−2−ヒドロキシ−5−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−7)5−トリフルオロメチル−2−(2−ヒドロキシ−3−α−クミル−5−第三オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−8)5−トリフルオロメチル−2−(2−ヒドロキシ−5−第三オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−9)5−トリフルオロメチル−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−10)5−トリフルオロメチル−2−(2−ヒドロキシ−3−α−クミル−5−第三ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール
(U−11)2,4−ビス(4−ビフェニルイル)−6−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシカルボニルエチリデンオキシフェニル)−s−トリアジン
(U−12)2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−(3−ノニルオキシ※−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−5−α−クミルフェニル]−s−トリアジン(※はオクチルオキシ基、ノニルオキシ基およびデシルオキシ基の混合物を示す。)
(U−13)2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−イソオクチルオキシカルボニルイソプロピリデンオキシフェニル)−s−トリアジン
(U−14)ヒドロキシフェニル−2H−ベンゾトリアゾール
(U−15)2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−16)2−(3,5−ジ−第三ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
<Ultraviolet absorber>
As the ultraviolet absorber, known ultraviolet absorbers such as salicylic acid compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, S-triazine compounds, and cyclic imino ester compounds can be preferably used. Of these, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, and cyclic imino ester compounds are preferred. As what is blended with the polyester, a cyclic imino ester compound is particularly preferable.
As a preferable specific example,
(U-1) 2- (2-hydroxy-3,5-di-α-cumyl) -2H-benzotriazole,
(U-2) 5-chloro-2- (2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl) -2H-benzotriazole,
(U-3) 5-chloro-2- (2-hydroxy-3,5-di-tert-butylphenyl) -2H-benzotriazole (U-4) 5-chloro-2- (2-hydroxy-3) , 5-di-α-cumylphenyl) -2H-benzotriazole,
(U-5) 5-chloro-2- (2-hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-octylphenyl) -2H-benzotriazole,
(U-6) 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5- (2-isooctyloxycarbonylethyl) phenyl) -5-chloro-2H-benzotriazole,
(U-7) 5-trifluoromethyl-2- (2-hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-octylphenyl) -2H-benzotriazole,
(U-8) 5-trifluoromethyl-2- (2-hydroxy-5-tert-octylphenyl) -2H-benzotriazole,
(U-9) 5-trifluoromethyl-2- (2-hydroxy-3,5-di-tert-octylphenyl) -2H-benzotriazole,
(U-10) 5-Trifluoromethyl-2- (2-hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-butylphenyl) -2H-benzotriazole (U-11) 2,4-bis (4-biphenyl) Yl) -6- (2-hydroxy-4-octyloxycarbonylethylideneoxyphenyl) -s-triazine (U-12) 2,4-bis (2,4-dimethylphenyl) -6- [2-hydroxy-4 -(3-nonyloxy * -2-hydroxypropyloxy) -5-α-cumylphenyl] -s-triazine (* represents a mixture of octyloxy group, nonyloxy group and decyloxy group)
(U-13) 2,4,6-Tris (2-hydroxy-4-isooctyloxycarbonylisopropylideneoxyphenyl) -s-triazine (U-14) hydroxyphenyl-2H-benzotriazole (U-15) 2 -(2-hydroxy-5-methylphenyl) -2H-benzotriazole,
(U-16) 2- (3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl) -2H-benzotriazole and the like.
《隣接層(保護層、中間層等ともいう)》
近赤外線吸収色層の上層(最上層または保護層)または、近赤外線吸収層と上層との間にある中間層について述べる。
<< Adjacent layer (also called protective layer, intermediate layer, etc.) >>
The upper layer (uppermost layer or protective layer) of the near-infrared absorbing color layer or an intermediate layer between the near-infrared absorbing layer and the upper layer will be described.
(隣接層を構成するバインダ)
以下に、隣接層の形成に適用可能な、種々のバインダーを示すが、本発明はこれらに限定されない。バインダー用のポリマーとしては例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール、カゼイン、寒天、アラビアゴム、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニル、ポリメタクリル酸、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアセテートなどのポリマーを使用することができる。
(Binder constituting the adjacent layer)
Hereinafter, various binders applicable to the formation of the adjacent layer are shown, but the present invention is not limited thereto. Examples of the polymer for the binder include gelatin, polyvinyl alcohol, casein, agar, gum arabic, hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, polyvinyl chloride, polymethacrylic acid, polyvinylidene chloride, and polyvinyl acetate. can do.
親水性ポリマーとしては中でもゼラチンが最も好ましい。ゼラチンとしては石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチンなど、どのようなものでも良い。さらにゼラチン誘導体を用いてもよい。また、バインダーとしては親水性ポリマーに加えて、スチレン、メタクリル酸メチル、アクリル酸、ブチルアクリレート、エチルアクリレート、などのホモまたはコポリマーのラテックスを加えてもよい。これらのラテックスは、水分性を向上させるためのノニオン基(ポリエチレングリコールとアクリル酸のエステル)、アニオン基(例えば、イタコン酸、アクリル酸等のカルボン酸基を持つモノマー、スルホン酸基(例えば、スチレンスルホン酸、N−ジメチルスルホプロパンアクリルアミド)のあるモノマーを1モル%〜20モル%の範囲で共重合させると水分散性を向上させることができる。 Of these, gelatin is most preferable as the hydrophilic polymer. Any gelatin such as lime-processed gelatin or acid-processed gelatin may be used. Further, a gelatin derivative may be used. Further, as a binder, in addition to a hydrophilic polymer, a homo or copolymer latex such as styrene, methyl methacrylate, acrylic acid, butyl acrylate, ethyl acrylate, or the like may be added. These latexes include nonionic groups (polyesters of polyethylene glycol and acrylic acid) for improving water resistance, anionic groups (for example, monomers having carboxylic acid groups such as itaconic acid and acrylic acid, sulfonic acid groups (for example, styrene). When a monomer having sulfonic acid or N-dimethylsulfopropaneacrylamide) is copolymerized in the range of 1 mol% to 20 mol%, water dispersibility can be improved.
(隣接層の厚み)
本発明に係る隣接層の厚みは1層当たり0.1μm〜10μm、より好ましくは0.5μm〜5μmの範囲が好ましい。本発明に係る隣接層は前述の水系の塗布液を塗布後乾燥して形成することが好ましい。
(Adjacent layer thickness)
The thickness of the adjacent layer according to the present invention is preferably in the range of 0.1 μm to 10 μm, more preferably 0.5 μm to 5 μm per layer. The adjacent layer according to the present invention is preferably formed by applying the aforementioned aqueous coating solution and then drying it.
《マット剤》
本発明に係る隣接層に用いられるマット剤としてはポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、シリカなどの微粒子が好ましい。粒子の形状には特に制限はないが、球形の微粒子は好ましい。マット剤の粒径は0.2μm〜20μm、より好ましくは0.5μm〜10μmの範囲が好ましい。
《Matting agent》
As the matting agent used in the adjacent layer according to the present invention, fine particles such as polystyrene, polymethyl methacrylate, and silica are preferable. The shape of the particles is not particularly limited, but spherical fine particles are preferable. The particle size of the matting agent is preferably 0.2 μm to 20 μm, more preferably 0.5 μm to 10 μm.
マット剤の添加量は本発明の材料の層構成、厚みや使用目的によって一概に言えないが、1m2当たりの塗布量で示して10mg/m2〜200mg/m2、より好ましくは20mg/m2〜100mg/m2程度が好ましい。 The addition amount of the matting agent cannot be generally specified depending on the layer structure, thickness and purpose of use of the material of the present invention, but it is expressed as a coating amount per 1 m 2 and is 10 mg / m 2 to 200 mg / m 2 , more preferably 20 mg / m. About 2 to 100 mg / m 2 is preferable.
最上層に用いられるスベリ剤としてはシリコン化合物(例えば、ジメチルシロキサンポリマー)、高級脂肪酸アミド(例えば、ステアリン酸アミド、ベヘン酸アミド、アラキジン酸アミド等)、高級脂肪酸のフタル酸エステル(例えば、フタル酸ジラウリルエステル)、高級脂肪酸と高級アルコールのエステル、パラフィンなど当業界で公知な化合物を用いてよい。公知の滑り剤として好ましいものは、例えば、米国特許第4,275,146号に記載の高級脂肪族アミド類、米国特許第3,933,516号に記載の高級脂肪酸もしくはその金属塩類、その他高級アルコールおよびその誘導体類、ポリエチレンワックス、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル化合物等を挙げることができる。また、天然物の油脂、ワックス、オイル、例えば、蜜蝋なども併用することができる。さらに、併用できる好ましい公知の滑り剤として、市販または合成によって入手可能なシリコーン系化合物を挙げることができる。シリコーン系化合物にあってもポリオルガノシロキサン類が好ましい。これらの水溶液での利用に当たっては分散体の形で添加させることがこのましい。 Examples of the smoothing agent used in the uppermost layer include silicon compounds (for example, dimethylsiloxane polymer), higher fatty acid amides (for example, stearic acid amide, behenic acid amide, arachidic acid amide, etc.), higher fatty acid phthalates (for example, phthalic acid) Dilauryl ester), higher fatty acid and higher alcohol esters, paraffin, and other compounds known in the art may be used. Preferred examples of known slip agents include higher aliphatic amides described in US Pat. No. 4,275,146, higher fatty acids or metal salts thereof described in US Pat. No. 3,933,516, and other higher slip agents. Examples thereof include alcohol and derivatives thereof, polyethylene wax, paraffin wax, microcrystalline wax, polyoxyethylene alkylphenyl ether compound and the like. Further, natural oils and fats, waxes, oils such as beeswax can be used in combination. Furthermore, examples of preferable known slip agents that can be used in combination include silicone compounds that are commercially available or can be obtained by synthesis. Even in the case of silicone compounds, polyorganosiloxanes are preferred. For use in these aqueous solutions, it is preferable to add them in the form of a dispersion.
《滑り剤》
本発明に用いられる滑り剤は、水溶液中で分散物の形で滑り剤層に添加される。この場合、水分散系で他の有機溶媒を適宜選択して含有することが出来る。その中で利用できる有機溶剤としては、例えばケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど)、アルコール類(炭素数1〜8の低級アルコール、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコールなど)、グリコール誘導体類(セロソルブ、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなど)、炭素数1〜5の低級脂肪酸エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチルなど)、ハロアルカン類(メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、トリクロロメタン、トリクロロエタン、四塩化炭素など)、炭化水素類(オクタン、ソルベントナフサ、テレピン油、石油エーテル、シンナー、石油ベンジン、ベンゼン、トルエン、キシレンなど)、フェノール類(フェノール、レゾルシノールなど)、エーテル類(テトラヒドロフラン、ジオキサンなど)、リン酸エステル類(トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェートなど)、アミド系のDMFその他DMSOなどを挙げることができる。好ましくはアルコール類、ケトン類、グリコール誘導体類、低級脂肪酸エステル類、ハロアルカン類、炭化水素類である。特に、水を混合使用する溶媒系においては、水と均一溶媒となるアルコール類、ケトン類、グリコール誘導体類の中から選ばれる溶媒であり、水不使用の場合の溶媒としては炭化水素類、ケトン類、低級脂肪酸エステル類、ハロアルカン類の使用が好ましい。
《Slip agent》
The slip agent used in the present invention is added to the slip agent layer in the form of a dispersion in an aqueous solution. In this case, other organic solvents can be appropriately selected and contained in the aqueous dispersion. Examples of organic solvents that can be used include ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), alcohols (lower alcohols having 1 to 8 carbon atoms, such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl). Alcohol, hexyl alcohol, octyl alcohol, etc.), glycol derivatives (cellosolve, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, etc.), lower fatty acid esters having 1 to 5 carbon atoms (ethyl acetate, butyl acetate, ethyl propionate, etc.) , Haloalkanes (methylene dichloride, ethylene dichloride, trichlene, trichloromethane, trichloroethane, carbon tetrachloride, etc.), hydrocarbons (octane, solventona) Turpentine oil, petroleum ether, thinner, petroleum benzine, benzene, toluene, xylene, etc., phenols (phenol, resorcinol, etc.), ethers (tetrahydrofuran, dioxane, etc.), phosphate esters (trimethyl phosphate, triethyl phosphate, Tributyl phosphate, etc.), amide-based DMF and DMSO. Preferred are alcohols, ketones, glycol derivatives, lower fatty acid esters, haloalkanes, and hydrocarbons. In particular, in a solvent system in which water is mixed and used, it is a solvent selected from alcohols, ketones and glycol derivatives that are water and a uniform solvent. When water is not used, hydrocarbons, ketones , Lower fatty acid esters and haloalkanes are preferred.
この場合、水と有機溶剤の比率は100〜50:0〜50(容量%)であり、より好ましくは100〜75:0〜25(容量%)である。これらにより水系塗布液中での滑り剤の分散物の安定性、塗布性、得られる塗膜の平滑性、感材屑やゴミ等の付着防止、現像処理時のハジキ改良、耐傷性に優れるものである。なお、上記の有機溶媒は、同一もしくは異なる種類の溶媒と2種以上を混合して用いてもよい。微細分散物は公知の分散技術、例えば、機械的な剪断力による分散、超音波分散、2液混合による析出法などにより得られる。スベリ剤の添加量としては、近赤外線吸収材料1m2当たりの塗布量で示して、0.2mg/m2〜500mg/m2、より好ましくは1mg/m2〜300mg/m2が好ましい。スベリ剤は1種のみ用いても2種以上を併用してもよい。 In this case, the ratio of water to the organic solvent is 100 to 50: 0 to 50 (volume%), more preferably 100 to 75: 0 to 25 (volume%). With these, the stability of the dispersion of the slip agent in the aqueous coating solution, the coating property, the smoothness of the resulting coating film, the prevention of adhesion of photosensitive material debris, dust, etc., the improvement of repellency during development processing, and excellent scratch resistance It is. In addition, you may use said organic solvent in mixture of 2 or more types with the same or different kind of solvent. The fine dispersion can be obtained by a known dispersion technique, for example, dispersion by mechanical shearing force, ultrasonic dispersion, or precipitation by two-liquid mixing. The amount of the slipping agent, indicates the coating amount per near-infrared-absorbing material 1m 2, 0.2mg / m 2 ~500mg / m 2, more preferably 1mg / m 2 ~300mg / m 2 is preferred. Only one type of sliding agent may be used, or two or more types may be used in combination.
すべり剤により、フィルムがステンレスローラーの上を搬送されるときの傷の発生を押させることができるので、動摩擦係数は0.3〜0.1の範囲に調整されることが好ましい。 Since the slipping agent can suppress the generation of scratches when the film is conveyed on the stainless roller, the dynamic friction coefficient is preferably adjusted to a range of 0.3 to 0.1.
近赤外線吸収層を有する形成層側の最外層の滑り性は、より精度の高い搬送を可能にする観点から、動摩擦係数が0.03〜0.4であることが好ましく、より好ましくは0.05〜0.35、さらに好ましくは0.05〜0.3、特に好ましくは0.05〜0.2である。動摩擦係数の評価は、25℃、60%RHの環境下で、100gの荷重をかけた直径5mmのステンレス硬球を近赤外線吸収材料上で、60mm/秒のスピードで動かした際の、ステンレス硬球と近赤外線吸収材料の最外層との動摩擦を測定したものである。 In terms of the slipperiness of the outermost layer on the formation layer side having the near-infrared absorbing layer, the dynamic friction coefficient is preferably 0.03 to 0.4, and more preferably from the viewpoint of enabling highly accurate conveyance. It is 05 to 0.35, more preferably 0.05 to 0.3, and particularly preferably 0.05 to 0.2. Evaluation of the dynamic friction coefficient is as follows: a stainless hard ball having a diameter of 5 mm with a load of 100 g is moved on a near infrared absorbing material at a speed of 60 mm / second in an environment of 25 ° C. and 60% RH. The dynamic friction with the outermost layer of the near-infrared absorbing material is measured.
本発明に係る赤外吸収層の隣接層が最外保護層として設けられる場合、該最外保護層に含まれるラテックスはガラス転移温度が20℃以上70℃未満であり、且つ、該ラテックスの含有量は最外保護層の総バインダー量の65質量%〜100質量%である。このような条件を満たす最外保護層を形成することにより、耐水性が向上し、ブロッキング性が優れた赤外線吸収材料を提供することができる。 When the adjacent layer of the infrared absorption layer according to the present invention is provided as the outermost protective layer, the latex contained in the outermost protective layer has a glass transition temperature of 20 ° C. or higher and lower than 70 ° C., and contains the latex The amount is 65% by mass to 100% by mass of the total binder amount of the outermost protective layer. By forming the outermost protective layer satisfying such conditions, it is possible to provide an infrared absorbing material with improved water resistance and excellent blocking properties.
最外保護層の耐水性は、赤外線吸収材料の表面に水を滴下し、25℃で1分放置した後の赤外線吸収材料の厚さの増加分、すなわち膨潤量で評価することができる。膨潤量が2μm以下であることをいう。後の膨潤量は、より好ましくは1.5μm以下であり、さらに好ましくは1μm以下である。 The water resistance of the outermost protective layer can be evaluated by an increase in the thickness of the infrared absorbing material after water is dropped on the surface of the infrared absorbing material and left at 25 ° C. for 1 minute, that is, the amount of swelling. The swelling amount is 2 μm or less. The later swelling amount is more preferably 1.5 μm or less, and further preferably 1 μm or less.
本発明の近赤外線吸収材料の最外保護層に用いる水溶性ポリマーとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリアクリルアミド、水溶性(メタ)アクリルポリマー、水溶性糖類ポリマーなどを用いることができ、好ましくは、PVA、水溶性糖類ポリマーが用いられる。PVAとしては、けん化度80〜99%、重合度200〜5000の、通常の市販PVA、種々の変性ポリビニルアルコール(アルキル変性PVA、アニオン変性PVA、シラン変性PVA、チオール変性PVA、疎水基変性PVA等)などを用いることができる。水溶性糖類ポリマーとしては、水溶性でんぷん、デキストラン、ペクチン、寒天、マンナン、ザンタン、カラギナン、プルラン、アルギン酸、水溶性セルロース誘導体(メチルセルロース、ヒドロキシセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース)などを用いることができる。 Examples of the water-soluble polymer used in the outermost protective layer of the near-infrared absorbing material of the present invention include gelatin, polyvinyl alcohol (PVA), polyacrylamide, water-soluble (meth) acrylic polymer, and water-soluble saccharide polymer. Preferably, PVA or a water-soluble saccharide polymer is used. As PVA, normal commercial PVA having a saponification degree of 80 to 99% and a polymerization degree of 200 to 5000, various modified polyvinyl alcohols (alkyl-modified PVA, anion-modified PVA, silane-modified PVA, thiol-modified PVA, hydrophobic group-modified PVA, etc. ) Etc. can be used. As the water-soluble saccharide polymer, water-soluble starch, dextran, pectin, agar, mannan, xanthan, carrageenan, pullulan, alginic acid, water-soluble cellulose derivatives (methylcellulose, hydroxycellulose, carboxymethylcellulose, hydroxypropylcellulose) and the like can be used. .
本発明の最外保護層に水溶性ポリマーと併用するラテックスとしては、例えば、メチルメタクリレート/エチルアクリレート/メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/スチレン/アクリル酸コポリマーのラテックス、スチレン/ブタジエン/アクリル酸コポリマーのラテックス、スチレン/ブタジエン/ジビニルベンゼン/メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート/塩化ビニル/アクリル酸コポリマーのラテックス、塩化ビニリデン/エチルアクリレート/アクリロニトリル/メタクリル酸コポリマーのラテックスなどを挙げることができる。 Examples of the latex used in combination with the water-soluble polymer in the outermost protective layer of the present invention include, for example, methyl methacrylate / ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer latex, methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / styrene / acrylic acid copolymer latex, styrene / Mention latex of butadiene / acrylic acid copolymer, latex of styrene / butadiene / divinylbenzene / methacrylic acid copolymer, latex of methyl methacrylate / vinyl chloride / acrylic acid copolymer, latex of vinylidene chloride / ethyl acrylate / acrylonitrile / methacrylic acid copolymer, etc. Can do.
本発明の近赤外線吸収材料の最外保護層に用いるラテックスは、ガラス転移温度(Tg)が20℃以上70℃未満であることが好ましく、より好ましくは20℃以上60℃未満である。ラテックスのTgが低すぎると、重ねて保存したときに接着故障を起こしやすく、耐水性が発現されにくい傾向がある。 The latex used for the outermost protective layer of the near-infrared absorbing material of the present invention preferably has a glass transition temperature (Tg) of 20 ° C. or higher and lower than 70 ° C., more preferably 20 ° C. or higher and lower than 60 ° C. If the Tg of the latex is too low, adhesion failure tends to occur when stored repeatedly, and water resistance tends not to be expressed.
本発明の近赤外線吸収材料の最外保護層において、ラテックスの含有量は最外保護層の総バインダーの65質量%〜100質量%であることが好ましく、より好ましくは70〜90質量%である。ポリマーラテックスの含有量が大きいほど耐水性の発現には好ましいが、含有量が大きすぎると、乾燥の過程で表面の皮張りが起きやすく、レチ、しわ、ひび割れなどの塗布故障が発生し、塗布液粘度の調節もしにくくなる傾向がある。 In the outermost protective layer of the near-infrared absorbing material of the present invention, the latex content is preferably 65% by mass to 100% by mass, more preferably 70-90% by mass of the total binder of the outermost protective layer. . Higher polymer latex content is preferable for water resistance. However, if the content is too high, surface skinning tends to occur during the drying process, causing coating failures such as reticulation, wrinkles, and cracks. It tends to be difficult to adjust the liquid viscosity.
本発明の近赤外線吸収材料の最外保護層において、水溶性ポリマーおよびポリマーラテックスの塗布量は、両者の合計で、最外保護層当たり0.3g/m2〜4.0g/m2であることが好ましく、より好ましくは0.3g/m2〜2.0g/m2である。 In the outermost protective layer of the near infrared absorbing material of the present invention, the coating amount of the water-soluble polymer and polymer latex, the total of both is the outermost protective layer per 0.3g / m 2 ~4.0g / m 2 it is preferred, more preferably from 0.3g / m 2 ~2.0g / m 2 .
保護層は必要に応じて2層以上にすることができる。例えば、保護層を2層にし、赤外吸収層に近い側に、ラテックスを添加した塗布液から形成された層を設けることにより、耐水性と密着を改良することができる。また、赤外吸収層に近い側の層の塗布液のpHを下げ、表面側の層の塗布液のpHを5よりも高くすることで、赤外吸収性能と製造適性の両立をはかることができるなど、赤外吸収特性に関与する添加剤、膜面pH調節剤、帯電調整剤、紫外線吸収剤、滑り剤や、硬膜剤の添加層を選ぶことにより、塗布性、製造適性と赤外吸収性能とが両立できるように設計することができる。 A protective layer can be made into two or more layers as needed. For example, water resistance and adhesion can be improved by providing two layers of protective layers and providing a layer formed from a coating solution to which latex is added on the side close to the infrared absorption layer. In addition, by reducing the pH of the coating solution on the side closer to the infrared absorption layer and making the pH of the coating solution on the surface side layer higher than 5, it is possible to achieve both infrared absorption performance and manufacturing suitability. By selecting the additive layer involved in infrared absorption properties, film surface pH adjuster, charge control agent, ultraviolet absorber, slip agent, hardener, etc. It can be designed to be compatible with absorption performance.
本発明において、最外保護層には、耐ブロッキング性や搬送性改良のためにマット剤を添加することができる。なお、最外保護層として機能する層、または外表面に近い層に添加することもできる。マット剤については、特開平11−65021号公報の段落番号0126〜0127に記載されている。マット剤の使用量は1m2当たり、1mg/m2〜400mg/m2であることが好ましく、より好ましくは5mg/m2〜300mg/m2である。近赤外線吸収層の最外層のマット度はヘイズの発生が問題にならない範囲であれば大きくすることも可能であるが、通常はベック平滑度が30秒〜2000秒であることが好ましく、より好ましくは40秒〜1500秒である。バック面のマット度は、ベック平滑度が10秒〜1200秒であることが好ましく、より好ましくは20秒〜800秒であり、さらに好ましくは40秒〜500秒である。平滑度を別の表現をすれば、近赤外線吸収材料の最表面はJIS−B 0601におけるRaが0.1μm〜10μmの範囲に、好ましくは0.3μm〜5μmの範囲に、さらに好ましくは0.5μm〜3μmの範囲が好適である。このようにRaを一定範囲内にすることにより、指紋が付きにくいことや搬送時の剥離性を制御することができる。 In the present invention, a matting agent can be added to the outermost protective layer in order to improve blocking resistance and transportability. In addition, it can also add to the layer which functions as an outermost protective layer, or the layer close | similar to an outer surface. The matting agent is described in paragraph numbers 0126 to 0127 of JP-A No. 11-65021. Preferably the amount of the matting agent is 1 m 2 per, 1mg / m 2 ~400mg / m 2, more preferably from 5mg / m 2 ~300mg / m 2 . The mat degree of the outermost layer of the near-infrared absorbing layer can be increased as long as the occurrence of haze is not a problem. Usually, the Beck smoothness is preferably 30 seconds to 2000 seconds, more preferably. Is 40 seconds to 1500 seconds. The back surface has a matte degree of preferably Beck smoothness of 10 seconds to 1200 seconds, more preferably 20 seconds to 800 seconds, and further preferably 40 seconds to 500 seconds. In other words, the outermost surface of the near-infrared absorbing material has a Ra in the range of 0.1 μm to 10 μm, preferably in the range of 0.3 μm to 5 μm, and more preferably in the range of 0.3 μm to 5 μm. A range of 5 μm to 3 μm is preferable. Thus, by making Ra within a certain range, it is difficult to attach a fingerprint and the peelability during conveyance can be controlled.
近赤外線吸収層の全バインダー量は、好ましくは0.2〜30g/m2、より好ましくは1.0〜15g/m2の範囲である。保護層の全バインダー量は、好ましくは0.2〜10.0g/m2、より好ましくは0.5〜6.0g/m2の範囲である。赤外吸収層の反対側の層(裏層)の全バインダー量は、好ましくは0.01〜10.0g/m2、より好ましくは0.05〜5.0g/m2の範囲である。 The total binder amount of the near-infrared absorbing layer is preferably in the range of 0.2 to 30 g / m 2 , more preferably 1.0 to 15 g / m 2 . The total binder amount of the protective layer is preferably in the range of 0.2 to 10.0 g / m 2 , more preferably 0.5 to 6.0 g / m 2 . The total binder amount of the layer (back layer) on the opposite side of the infrared absorption layer is preferably in the range of 0.01 to 10.0 g / m 2 , more preferably 0.05 to 5.0 g / m 2 .
これらの各層は、2層以上設けられる場合がある。赤外吸収層が2層以上である場合は、すべての層のバインダーとしてラテックスを用いることが好ましい。また、保護層は画像形成層上に設けられる層であり2層以上存在する場合もあるが、少なくとも1層、特に最外層の保護層にラテックスが用いられることが好ましい。また、裏層は支持体裏面の下塗り層の上部に設けられる層であり2層以上存在する場合もあるが、少なくとも1層、特に最外層の裏層にラテックスを用いることが好ましい。 Each of these layers may be provided in two or more layers. When there are two or more infrared absorbing layers, it is preferable to use latex as a binder for all layers. The protective layer is a layer provided on the image forming layer, and there may be two or more layers, but it is preferable to use latex for at least one, particularly the outermost protective layer. Further, the back layer is a layer provided on the undercoat layer on the back surface of the support, and there may be two or more layers, but it is preferable to use latex for at least one layer, particularly the outermost back layer.
本発明において、それぞれの層には、特開2000−19678号公報の段落番号[0023]〜[0041]に記載の官能基を導入した第一のラテックスとこの第一のラテックスと反応しうる官能基を有する架橋剤及び/または第二のラテックスを用いて形成させることもできる。官能基の具体例としては、カルボキシル基、ヒドロキシル基、イソシアネート基、エポキシ基、N−メチロール基、オキサゾリニル基、アミノ基、ビニルスルホニル基など、架橋剤としては、エポキシ化合物、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化合物、メチロ−ル化合物、ヒドロキシ化合物、カルボキシル化合物、アミノ化合物、エチレンイミン化合物、アルデヒド化合物、ハロゲン化合物などから選ばれる。架橋剤の具体例として、イソシアネート化合物:ヘキサメチレンイソシアネート、デュラネートWB40−80D、WX−1741(旭化成工業(株)製)、バイヒジュール3100(住友バイエルウレタン(株)製)、タケネートWD725(武田薬品工業(株)製)、アクアネート100、200(日本ポリウレタン(株)製)、特開平9−160172号公報記載の水分散型ポリイソシアネート、アミノ化合物:スミテックスレジンM−3(住友化学工業(株)製)、エポキシ化合物:デナコールEX−614B(ナガセ化成工業(株)製)、ハロゲン化合物:2,4ジクロロ−6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジンナトリウムなどを挙げることができる。 In the present invention, each layer has a first latex into which functional groups described in paragraphs [0023] to [0041] of JP-A No. 2000-19678 are introduced, and a functional group capable of reacting with the first latex. It can also be formed using a crosslinking agent having a group and / or a second latex. Specific examples of the functional group include a carboxyl group, a hydroxyl group, an isocyanate group, an epoxy group, an N-methylol group, an oxazolinyl group, an amino group, and a vinylsulfonyl group, and the crosslinking agent includes an epoxy compound, an isocyanate compound, and a blocked isocyanate compound. , Methylol compounds, hydroxy compounds, carboxyl compounds, amino compounds, ethyleneimine compounds, aldehyde compounds, halogen compounds and the like. Specific examples of the crosslinking agent include isocyanate compounds: hexamethylene isocyanate, Duranate WB40-80D, WX-1741 (Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.), Bihijoule 3100 (Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.), Takenate WD725 (Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.) Aquanate 100, 200 (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.), water-dispersed polyisocyanate and amino compound described in JP-A-9-160172: Sumitex Resin M-3 (Sumitomo Chemical Co., Ltd.) Product), epoxy compound: Denacol EX-614B (manufactured by Nagase Kasei Kogyo Co., Ltd.), halogen compound: 2,4 dichloro-6-hydroxy-1,3,5-triazine sodium and the like.
本発明の樹脂の架橋剤としてはエポキシ化合物、イソシアネート化合物、メラミン化合物等の公知の架橋剤が使用できる。またバインダーがゼラチンの場合にはグリオキザル、グルタルアレデヒド等のアルデヒド系、シアヌル酸系、ビニルスルホン系架橋剤を組み合わせて使用できる。架橋剤の添加量は通常バインダーの0.1〜20質量%、より好ましくは1〜10質量%程度が好ましい。架橋剤の使用は、膜の強度や層間接着性を高めるために必要であり、最表面の鉛筆硬度は3H以下、好ましくは2H以下であることが好ましく、このような硬度が得られるように適宜架橋剤の使用量や使用方法を選択するのが好ましい。 As the crosslinking agent for the resin of the present invention, known crosslinking agents such as epoxy compounds, isocyanate compounds and melamine compounds can be used. When the binder is gelatin, aldehyde-based, cyanuric acid-based or vinylsulfone-based crosslinking agents such as glyoxal and glutaraldehyde can be used in combination. The addition amount of the crosslinking agent is usually 0.1 to 20% by mass of the binder, more preferably about 1 to 10% by mass. The use of a crosslinking agent is necessary to increase the strength of the film and interlayer adhesion, and the pencil hardness on the outermost surface is preferably 3H or less, preferably 2H or less. It is preferable to select the amount and method of use of the crosslinking agent.
《支持体》
本発明では、支持体として、プラスチックフィルム、プラスチック板、ガラスなどを用いることができる。プラスチックフィルム及びプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)などのポリエステル類、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート(PC)、トリアセチルセルロース(TAC)などを用いることができる。
<Support>
In the present invention, a plastic film, a plastic plate, glass or the like can be used as the support. Examples of raw materials for plastic films and plastic plates include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), vinyl resins such as polyethylene (PE), polypropylene (PP), and polystyrene, and polycarbonate (PC). Triacetyl cellulose (TAC) or the like can be used.
透明性、耐熱性、取り扱いやすさ及び価格の点から、上記プラスチックフィルムはPET、PEN、TACであることが好ましい。 From the viewpoint of transparency, heat resistance, ease of handling, and price, the plastic film is preferably PET, PEN, or TAC.
ディスプレイ用の赤外線吸収材料では透明性が要求されるため、支持体の透明性は高いことが望ましい。この場合におけるプラスチックフィルム又はプラスチック板の全可視光透過率は好ましくは70〜100%であり、より好ましくは80〜100%であり、さらに好ましくは90〜100%である。また、本発明では、色気調節剤として前記プラスチックフィルム及びプラスチック板を本発明の目的を妨げない程度に着色したものを用いることもできる。 Since the infrared absorbing material for display requires transparency, it is desirable that the support has high transparency. In this case, the total visible light transmittance of the plastic film or plastic plate is preferably 70 to 100%, more preferably 80 to 100%, and still more preferably 90 to 100%. Moreover, in this invention, what colored the said plastic film and the plastic board to the extent which does not interfere with the objective of this invention can also be used as a color tone regulator.
(支持体の厚さ)
本発明の近赤外線吸収材料の支持体の厚さは、5μm〜200μmであることが好ましく、30μm〜150μmであることがさらに好ましい。5μm〜200μmの範囲であれば所望の可視光の透過率が得られ、かつ取り扱いも容易である。
(Thickness of the support)
The thickness of the support of the near-infrared absorbing material of the present invention is preferably 5 μm to 200 μm, and more preferably 30 μm to 150 μm. If it is the range of 5 micrometers-200 micrometers, the transmittance | permeability of a desired visible light is obtained and handling is also easy.
《機能層》
本発明では、必要に応じて、別途、機能性を有する機能層を設けていてもよい。この機能層は、用途ごとに種々の仕様とすることができる。例えば、ディスプレイ用電磁波遮蔽材用途としては、屈折率や膜厚を調整した反射防止機能を付与した反射防止層や、ノングレアー層またはアンチグレアー層(共にぎらつき防止機能を有する)特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層、指紋などの汚れを除去しやすい機能を有した防汚層、傷のつき難いハードコート層、衝撃吸収機能を有する層、ガラス破損時のガラス飛散防止機能を有する層などを設けることができる。
<Functional layer>
In the present invention, a functional layer having functionality may be separately provided as necessary. This functional layer can have various specifications for each application. For example, as an electromagnetic shielding material for display, an antireflection layer provided with an antireflection function with an adjusted refractive index or film thickness, a non-glare layer or an antiglare layer (both having a glare prevention function) in a specific wavelength range Layers that have a color tone adjustment function that absorbs visible light, antifouling layers that have the ability to easily remove dirt such as fingerprints, hard-coat layers that are difficult to scratch, layers that have an impact absorption function, and glass scattering when glass is broken A layer having a prevention function or the like can be provided.
これらの機能性膜はPDPに直接貼合してもよく、プラズマディスプレイパネル本体とは別に、ガラス板やアクリル樹脂板などの透明基板に貼合してもよい。これらの機能性膜を光学フィルター(または単にフィルター)と呼ぶことができる。 These functional films may be directly bonded to the PDP, or may be bonded to a transparent substrate such as a glass plate or an acrylic resin plate separately from the plasma display panel main body. These functional films can be called optical filters (or simply filters).
反射防止機能を付与した反射防止層は、外光の反射を抑えてコントラストの低下を抑えるために、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるいは多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂等の屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させる方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に張り付けることもできる。また、ノングレア処理またはアンチグレア処理をしたフィルムを該フィルター上に張り付けることもできる。更に必要で有ればハードコート層を設けることもできる。 In order to suppress reflection of external light and suppress a decrease in contrast, an antireflection layer provided with an antireflection function contains inorganic substances such as metal oxides, fluorides, silicides, borides, carbides, nitrides and sulfides. , Vacuum deposition method, sputtering method, ion plating method, ion beam assist method, etc., a method of laminating a single layer or a multilayer, such as a method of laminating a resin having different refractive index such as acrylic resin, fluorine resin, etc. There is. Moreover, the film which gave the antireflection process can also be affixed on this filter. Further, a non-glare-treated or anti-glare-treated film can be pasted on the filter. Further, if necessary, a hard coat layer can be provided.
特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層は、PDPが青色を発光する蛍光体が青色以外に僅かであるが赤色を発光する特性を有しているため、青色に表示されるべき部分が紫がかった色で表示されるという問題があり、この対策として発色光の補正を行う層であり、595nm付近の光を吸収する色素を含有する。 A layer having a color tone adjustment function that absorbs visible light in a specific wavelength range is displayed in blue because the PDP has a characteristic that the phosphor that emits blue light emits red light in addition to blue. There is a problem that a portion to be displayed is displayed in a purplish color, and as a countermeasure against this, it is a layer that corrects colored light and contains a dye that absorbs light at around 595 nm.
このような特定波長を吸収する色素としては、具体的には例えば、アゾ系、縮合アゾ系、フタロシアニン系、アンスラキノン系、インジゴ系、ペリノン系、ペリレン系、ジオキサジン系、キナクリドン系、メチン系、イソインドリノン系、キノフタロン系、ピロール系、チオインジゴ系、金属錯体系などの周知の有機顔料および有機色素、無機顔料が挙げられる。これらの中でも、耐候性が良好であることから、フタロシアニン系、アンスラキノン系色素が特に好ましい。 Specific examples of the dye that absorbs such a specific wavelength include, for example, azo, condensed azo, phthalocyanine, anthraquinone, indigo, perinone, perylene, dioxazine, quinacridone, methine, Well-known organic pigments such as isoindolinone-based, quinophthalone-based, pyrrole-based, thioindigo-based, metal complex-based, organic pigments, and inorganic pigments can be used. Among these, phthalocyanine-based and anthraquinone-based dyes are particularly preferable because of their good weather resistance.
本発明の近赤外線吸収材料をPDPに貼るに際しての粘着剤としては透明性の高いものがよい。例えば、酢酸ビニル系、エポキシ系、ウレタン系、エチレン−酢酸ビニル系、ウレタン−アクリレート系、エポキシ−アクリレート系等が好ましい。中でも透明性、及び無色系のエポキシ−アクリレート、エチレン−酢酸ビニル系がより好ましい。本発明における透明性フィルムに反射防止効果を持たせるには、シリカ微粉末、酸化スズ、酸化チタンの微粉末をアクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリエステル樹脂等をトルエン等芳香族炭化水素、グリコールエーテル系、プロピレングリコール系のエステル系有機溶剤に溶解した透明性印刷インキに添加した溶液を透明性フィルムに塗布しても良い。これら微粉末の平均粒径としては、0.01〜10μmが好ましく、更に好ましくはこれら粒径が違うものを複数種混ぜることである。これは、透明性フィルム表面に凹凸形状を持たせることで反射光を乱反射させることにより視感の反射率を低減させることである。次に、薄層を透明性フィルムに設け、薄層の界面における光の反射と屈折の効果を利用する方法がある。すなわち、該薄層の厚みがλ/4(λ:光の波長)の場合には、薄層の上面反射光と下面反射光との光の位相が干渉によって打ち消し合う様にずれ、その反射光を合成すると光の強度が低下すること、及び薄層材の屈折率をnfとし、該薄層を形成するための透明性フィルムの屈折率をnbとしたときにnfとnbの1/2乗値が等しいとき、光の反射が最も低くなる原理を応用する。従って、薄層の厚みは反射を防ぎたい光の波長の1/4が目標となる。すなわち好ましくは薄層の厚みは0.05〜0.25μmである。また、透明性フィルムと薄層1の間にさらに薄層2を設けた場合、薄層2の屈折率が関係し、薄層2の屈折率をnbに用いて上記の計算方法で反射を防止することが出来る。また、一般的にはそれを完全に満足する組み合わせは、得られないが、薄層材の屈折率は透明性フィルムの屈折率よりも極力低いことが必要で、屈折率が1.28〜1.45のフッ素系樹脂を用いるのが好ましい。透明性フィルムがポリエチレンテレフタレートの場合は屈折率が1.64なので適当な例として上げることが出来る。また、三酢酸セルロースの透明性フィルムの場合は屈折率が1.50なので薄層としてフッ素系樹脂を用いる場合には、透明性フィルムと薄層の間に屈折率が1.59のジアリルフタレート樹脂層を設けたり、屈折率が2.00の酸化錫の層を設けたり、酸化錫と屈折率が1.49のアクリル樹脂を混合して屈折率を1.59に調整した層を設けるのも好ましい。 As the pressure-sensitive adhesive for sticking the near-infrared absorbing material of the present invention to a PDP, a highly transparent material is preferable. For example, vinyl acetate, epoxy, urethane, ethylene-vinyl acetate, urethane-acrylate, epoxy-acrylate, and the like are preferable. Among these, transparency and colorless epoxy-acrylate and ethylene-vinyl acetate are more preferable. In order to give an antireflection effect to the transparent film in the present invention, silica fine powder, tin oxide, fine powder of titanium oxide are acrylic resin, styrene resin, polyester resin are aromatic hydrocarbons such as toluene, glycol ether, A solution added to a transparent printing ink dissolved in a propylene glycol-based ester organic solvent may be applied to the transparent film. The average particle size of these fine powders is preferably 0.01 to 10 μm, and more preferably, a plurality of types having different particle sizes are mixed. This is to reduce the reflectance of the visual sensation by irregularly reflecting the reflected light by giving the transparent film surface an uneven shape. Next, there is a method of providing a thin layer on a transparent film and utilizing the effects of light reflection and refraction at the interface of the thin layer. That is, when the thickness of the thin layer is λ / 4 (λ: the wavelength of light), the phase of the light of the upper surface reflected light and the lower surface reflected light of the thin layer shifts so as to cancel each other due to interference, and the reflected light. When the refractive index of the thin film is reduced to nf and the refractive index of the transparent film for forming the thin layer is set to nb, nf and nb are raised to the power of 1/2. Apply the principle that the reflection of light is lowest when the values are equal. Therefore, the target of the thickness of the thin layer is ¼ of the wavelength of light that is desired to prevent reflection. That is, the thickness of the thin layer is preferably 0.05 to 0.25 μm. Moreover, when the thin layer 2 is further provided between the transparent film and the thin layer 1, the refractive index of the thin layer 2 is related, and the refractive index of the thin layer 2 is used as nb to prevent reflection by the above calculation method. I can do it. In general, a combination that completely satisfies this condition cannot be obtained, but the refractive index of the thin layer material is required to be as low as possible as that of the transparent film, and the refractive index is 1.28 to 1. It is preferable to use a .45 fluororesin. When the transparent film is polyethylene terephthalate, the refractive index is 1.64, which can be raised as a suitable example. In the case of a cellulose triacetate transparent film, since the refractive index is 1.50, when a fluorine resin is used as a thin layer, a diallyl phthalate resin having a refractive index of 1.59 between the transparent film and the thin layer. It is also possible to provide a layer, a layer of tin oxide having a refractive index of 2.00, or a layer having a refractive index adjusted to 1.59 by mixing tin oxide and an acrylic resin having a refractive index of 1.49. preferable.
透明性フィルムに帯電防止性能を持たせるには、界面活性剤を塗布もしくはコーティングして設けるのがよい。透明性フィルムに酸化スズ、酸化チタン、ITO等の透明性導電性物質を印刷インキに添加して塗布しても良いし、スパッタリング等で薄層にして設けるのも良い。必要に応じ、先に述べた透明性フィルムに透明性導電剤の層を設けたり、酸化スズの印刷インキを塗布したりした後、フッ素系樹脂を設けることで、帯電防止性能と反射防止性能の両方の性能を設けることもでき、更に好ましい。帯電防止性能付与のために表面の導電性が重要で、表面抵抗が106Ω〜1012Ω/□が好ましい。 In order to give the transparent film antistatic performance, it is preferable to apply or coat a surfactant. A transparent conductive material such as tin oxide, titanium oxide, or ITO may be added to the printing ink and applied to the transparent film, or may be provided as a thin layer by sputtering or the like. If necessary, after providing a layer of transparent conductive agent on the transparent film mentioned above or applying a printing ink of tin oxide, providing a fluororesin, antistatic performance and antireflection performance Both performances can be provided and are more preferred. The surface conductivity is important for imparting antistatic performance, and the surface resistance is preferably 10 6 Ω to 10 12 Ω / □.
以下に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。尚、以下の実施例に示される材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明は以下に示す具体例により限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. In addition, the material, usage-amount, ratio, processing content, processing procedure, etc. which are shown in the following Examples can be changed suitably unless it deviates from the meaning of this invention. Therefore, the present invention is not limited by the specific examples shown below.
《実施例1》
《近赤外線吸収材料106の作製》:本発明
支持体とする厚さ175μmの透明な2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの両面を100W/m2・分コロナ処理した後、両面に屈折率1.55、25℃における弾性率100MPa、ガラス転移温度37℃のスチレン−ブタジエンコポリマーからなるラテックス(日本ゼオン(株)製、LX407C5)を300nmの厚さに塗布し、下塗り層を形成した。この下塗り層の上には屈折率1.50、25℃における弾性率120MPa、ガラス転移温度50℃のアクリル系ラテックス(HA16、日本アクリル(株)製)を乾燥後の厚さ80nmとなるように塗布し、第2下塗り層を形成した。下塗り第2層中には、帯電防止剤として、インジウムを3%ドープした酸化錫の微粒子(12nm)、ガリウムを4%ドープした酸化亜鉛の微粒子(15nm)を各々30mg/m2含有させ帯電防止機能を付与させた。
Example 1
<< Preparation of near-infrared absorbing material 106 >>: After subjecting both sides of a transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 175 μm as a support of the present invention to 100 W / m 2 · min corona treatment, the refractive index is 1.55 on both sides. Latex composed of a styrene-butadiene copolymer having an elastic modulus of 100 MPa at 25 ° C. and a glass transition temperature of 37 ° C. (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., LX407C5) was applied to a thickness of 300 nm to form an undercoat layer. On this undercoat layer, an acrylic latex (HA16, manufactured by Nippon Acrylic Co., Ltd.) having a refractive index of 1.50, an elastic modulus of 120 MPa at 25 ° C., and a glass transition temperature of 50 ° C. is dried to a thickness of 80 nm. This was applied to form a second undercoat layer. The second undercoat layer contains 30 mg / m 2 each of tin oxide fine particles (12 nm) doped with 3% indium and zinc oxide fine particles (15 nm) doped with 4% gallium as antistatic agents. Added functionality.
更に第2の下塗り層の上に近赤外線吸収色素(S−7とI−6が各々等モルになるように調整)(付き量:5×10-4モル/m2)及び紫外線吸収剤(U−1)(付き量:5×10-4モル/m2)、水分散性樹脂(VB)2.7g/m2、ゼラチン0.9g/m2、ジヒドロキシベンゼン誘導体(H−10)(1×10-3モル/m2)、ピラゾリドン誘導体(4))(5×10-4モル/m2)、アルカリ剤(NaOH)(3×10-3モル/m2)を各々含有する近赤外吸収層形成用塗布液(近赤外線吸収色素の分散の詳細は下記に示す)と、下記のゼラチン保護層形成用塗布液とを、まず、調製した。 Furthermore, a near-infrared absorbing dye (adjusted so that S-7 and I-6 are each equimolar) (attachment amount: 5 × 10 −4 mol / m 2 ) and an ultraviolet absorber (on the second undercoat layer) U-1) (attached amount: 5 × 10 −4 mol / m 2 ), water dispersible resin (VB) 2.7 g / m 2 , gelatin 0.9 g / m 2 , dihydroxybenzene derivative (H-10) ( 1 × 10 −3 mol / m 2 ), pyrazolidone derivative (4)) (5 × 10 −4 mol / m 2 ), alkali agent (NaOH) (3 × 10 −3 mol / m 2 ) First, a coating solution for forming an infrared absorbing layer (details of the dispersion of the near infrared absorbing dye are shown below) and a coating solution for forming a gelatin protective layer described below were prepared.
(近赤外線吸収層形成用塗布液の調製)
近赤外線吸収色素の分散は、5mlのクロロホルムに10-2モルの色素を溶解し、これをラウリルアルコールと重合度10のポリエチレングリコールの縮合物及びドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムをそれぞれ0.1g添加され、樹脂が分散された4%ゼラチン水溶液100ml(樹脂とゼラチン比3:1)に加え、真空ポンプで有機溶媒を除去しながら30000rpsの高速攪拌機で30分間分散した。粒子径の測定はコールター社のコールターカウンターマルチサイザーII型を使用し平均粒子径が100nmになるように分散されていることを確認した。塗布時の樹脂とゼラチンの付き量は、塗布液に樹脂またはゼラチンを加えながら調節した。
(Preparation of coating solution for forming near-infrared absorbing layer)
The dispersion of the near-infrared absorbing dye is obtained by dissolving 10 -2 mol of dye in 5 ml of chloroform, and adding 0.1 g each of a condensate of lauryl alcohol and a polyethylene glycol having a polymerization degree of 10 and sodium dodecylbenzenesulfonate, In addition to 100 ml of a 4% gelatin aqueous solution in which the resin was dispersed (resin to gelatin ratio 3: 1), the mixture was dispersed with a high-speed stirrer of 30000 rps for 30 minutes while removing the organic solvent with a vacuum pump. The particle diameter was measured using a Coulter Counter Multisizer II type manufactured by Coulter Co., Ltd., and confirmed to be dispersed so that the average particle diameter was 100 nm. The amount of resin and gelatin applied during coating was adjusted while adding resin or gelatin to the coating solution.
塗布液中に添加する架橋剤は、ゼラチングラム当たり、それぞれ0.1ミリモルのグリオキザル、ビス−1,3−(ビニルスルホン)−2−ヒドロキシプロパン、エピクロルヒドリンとビスフェノールAの縮合物、ジエチルアミノエチルトリエトキシシラン及び2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジンナトリウムを加えた。 The crosslinking agent added to the coating solution was 0.1 mmol of glyoxal, bis-1,3- (vinylsulfone) -2-hydroxypropane, epichlorohydrin and bisphenol A condensate, diethylaminoethyltriethoxy, respectively, per gram of gelatin. Silane and 2,4-dichloro-6-hydroxy-1,3,5-triazine sodium were added.
(ゼラチン保護層形成用塗布液の調製)
近赤外線吸収層の保護層は、アルカリ処理ゼラチンの10%水溶液1Lに、紫外線吸収剤として、6−(2−ベンゾトリアゾリル)−4−t−オクチル−6’−t−ブチル−4’−メチルー2,2’−メチレンビスフェノールを3g、架橋剤として1,3−ビス(ビニルスルホンアミド)−2−ヒドロキシプロパンをゼラチン1g当たり2ミリモル、マット剤(平均粒子径3μm)を添加し、ゼラチンの付き量が0.7g/m2となるように調製した。
(Preparation of coating solution for forming gelatin protective layer)
The protective layer of the near-infrared absorbing layer was prepared by adding 1 L of a 10% aqueous solution of alkali-treated gelatin and 6- (2-benzotriazolyl) -4-t-octyl-6′-t-butyl-4 ′ as an ultraviolet absorber. -3 g of methyl-2,2'-methylenebisphenol, 2 mmol of 1,3-bis (vinylsulfonamido) -2-hydroxypropane as a cross-linking agent per 1 g of gelatin, a matting agent (average particle size of 3 μm), and gelatin It was prepared so that the attached amount of was 0.7 g / m 2 .
また、ゼラチン保護層の塗布液は、フッ素界面活性剤としてジパーフロロヘキシルスルホ琥珀酸エステルを塗布液中に添加して表面張力が0.036N/m2(36±2dyn/cm)となるように調製した。 Further, the coating solution for the gelatin protective layer is such that diperfluorohexyl sulfosuccinate as a fluorine surfactant is added to the coating solution so that the surface tension becomes 0.036 N / m 2 (36 ± 2 dyn / cm). Prepared.
(塗布)
塗布はスライドコーターを用い、近赤外線吸収層形成用塗布液及びゼラチン保護層形成用塗布液を、塗布速度200m/分の同時重層塗布を行い、乾燥は減率乾燥域までを2分以内にとした。塗布直後から恒率乾燥期終了までの時間の1/2以下にわたり、塗布膜面上の風速を2m/sとした。
(Application)
The coating is performed by using a slide coater, and the near-infrared absorbing layer forming coating solution and the gelatin protective layer forming coating solution are applied simultaneously at a coating speed of 200 m / min. did. The wind speed on the coating film surface was set to 2 m / s over a period of ½ or less of the time from immediately after coating to the end of the constant rate drying period.
尚、塗布に際しては、塗布液のろ過はミリポア社のろ過フィルター3μm、10μm、30μmを直列連結した3段ろ過を行った。尚、サンプルの塗布、乾燥、裁断、包装はクリーン度が米国連邦基準209dクラス10,000以下の環境において行った。 In application, the coating solution was filtered by three-stage filtration in which 3 μm, 10 μm, and 30 μm filtration filters manufactured by Millipore were connected in series. The sample was applied, dried, cut, and packaged in an environment where the cleanliness was US Federal Standard 209d class 10,000 or less.
支持体に対して近赤外線吸収層の反対側に反射防止膜、ハードコート膜を塗布した。これらの機能性膜の塗布の詳細は以下に示すが、反射防止膜及びハードコート膜は、反対側の近赤外線吸収の性能を損なうものではなかった。 An antireflection film and a hard coat film were applied to the opposite side of the near infrared absorption layer with respect to the support. Details of the application of these functional films will be described below, but the antireflection film and the hard coat film did not impair the performance of near-infrared absorption on the opposite side.
(ハードコート膜の形成)
紫外線硬化型アクリル樹脂(アロニックスUV−3700:東亜合成化学社)25.0質量%部、インジウムをドーピングした酸化スズ(粒子径:0.2〜2.0μm)8.0質量%部、メチルエチルケトン24.0質量%部及びトルエン33.0質量部からなるハードコート層用塗料をメイヤーバーにて塗布し、高圧水銀灯により紫外線を1秒〜2秒照射して、ハードコートフィルムを得た。
(Hard coat film formation)
UV curable acrylic resin (Aronix UV-3700: Toagosei Co., Ltd.) 25.0 parts by mass, tin oxide doped with indium (particle diameter: 0.2 to 2.0 μm) 8.0 parts by mass, methyl ethyl ketone 24 A hard coat layer coating comprising 0.0 part by mass and 33.0 parts by mass of toluene was applied with a Mayer bar, and irradiated with ultraviolet rays for 1 second to 2 seconds with a high pressure mercury lamp to obtain a hard coat film.
(反射防止膜の形成)
ハードコート層上に、更に、下記に記載の低屈折率層用塗工液を、乾燥後の膜厚が100μmになるように塗工し、120℃で1時間の熱処理を行い、本発明の反射防止フイルムを得た(低屈折率層の屈折率=1.42)。得られた反射防止フイルムの全光線透過率は94.0%、ヘイズ値0.5、可視光線の波長領域での最低反射率は0.5であり、反射防止性に優れていた。
(Formation of antireflection film)
On the hard coat layer, the coating liquid for the low refractive index layer described below was further applied so that the film thickness after drying was 100 μm, and heat treatment was performed at 120 ° C. for 1 hour. An antireflection film was obtained (refractive index of the low refractive index layer = 1.42). The resulting antireflection film had a total light transmittance of 94.0%, a haze value of 0.5, and a minimum reflectance of 0.5 in the visible light wavelength region, and was excellent in antireflection properties.
《低屈折率層形成用塗工液の調製》
テトラエトキシシラン加水分解物A(調製方法は下記に示す) 103質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
(信越化学社製、KBM503) 1質量部
直鎖ジメチルシリコーン−EOブロックコポリマー
(日本ユニカー社製、FZ−2207) 0.1質量部
中空シリカ系微粒子(触媒化成工業社製、P−4) 50質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 270質量部
イソプロピルアルコール 270質量部
〈テトラエトキシシラン加水分解物Aの調製〉
テトラエトキシシラン25gとエタノール222gを混合し、これにクエン酸一水和物の1.5%水溶液54gを添加した後に、室温にて3時間撹拌して調製した。
<< Preparation of coating solution for forming low refractive index layer >>
Tetraethoxysilane hydrolyzate A (preparation method is shown below) 103 parts by mass γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM503) 1 part by mass linear dimethyl silicone-EO block copolymer (manufactured by Nihon Unicar) FZ-2207) 0.1 part by mass Hollow silica-based fine particles (P-4 manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd.) 50 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 270 parts by mass Isopropyl alcohol 270 parts by mass <Preparation of tetraethoxysilane hydrolyzate A >
The mixture was prepared by mixing 25 g of tetraethoxysilane and 222 g of ethanol, adding 54 g of a 1.5% aqueous solution of citric acid monohydrate, and then stirring at room temperature for 3 hours.
《近赤外線吸収材料100〜105、107〜122の作製》
近赤外線吸収材料106の作製において、近赤外線吸収色素、ジヒドロキシベンゼン誘導体(表1では、DHBと記載)またはピラゾリドン誘導体(表1では、PZNと記載)、アルカリ剤、紫外線吸収剤、樹脂分散液の種類を表1に記載のように変更した以外は、同様にして、近赤外線吸収材料100〜105、107〜122を各々作製した。
<< Preparation of near-infrared absorbing materials 100-105, 107-122 >>
In the production of the near-infrared absorbing material 106, a near-infrared absorbing dye, a dihydroxybenzene derivative (described as DHB in Table 1) or a pyrazolidone derivative (described as PZN in Table 1), an alkali agent, an ultraviolet absorber, and a resin dispersion Except having changed the kind as described in Table 1, it carried out similarly and produced near-infrared absorption materials 100-105 and 107-122, respectively.
尚、樹脂分散液の調製は下記のように行った。 The resin dispersion was prepared as follows.
《樹脂分散液の調製》
(アクリル樹脂水分散液(記号AL)の調製)
0.5Lの三つ口フラスコに脱イオン水300g、メタクリル酸メチル(MMA)25g、スチレン25g、アクリル酸エチル(EA)45g、ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)5g、過硫酸アンモニウム250mgを加え、窒素でバブリングさせながら100℃で3時間攪拌をし、室温に戻し、アクリル樹脂水分散液(AL)を調製した。
<< Preparation of resin dispersion >>
(Preparation of acrylic resin aqueous dispersion (symbol AL))
To a 0.5 L three-necked flask, add 300 g of deionized water, 25 g of methyl methacrylate (MMA), 25 g of styrene, 45 g of ethyl acrylate (EA), 5 g of hydroxyethyl methacrylate (HEMA), 250 mg of ammonium persulfate, and bubbling with nitrogen. The mixture was stirred at 100 ° C. for 3 hours and returned to room temperature to prepare an acrylic resin aqueous dispersion (AL).
(スチレン−ブタジエン樹脂水分散液(記号SB)の調製)
上記のアクリル樹脂水分散液と同様に重合した。具体的には、0.5Lの三口フラスコに脱イオン水300g、ブタジエン48g、スチレン40g、イタコン酸12g、アクリル酸2g、アニオン性乳化剤1g、過硫酸カリウム6gを添加し、25℃で30分間撹拌し、次にこの混合物を60℃に加熱し、2gの重亜硫酸ナトリウムを加え3時間重合させた。
(Preparation of styrene-butadiene resin aqueous dispersion (symbol SB))
Polymerization was conducted in the same manner as the above acrylic resin aqueous dispersion. Specifically, 300 g of deionized water, 48 g of butadiene, 40 g of styrene, 12 g of itaconic acid, 2 g of acrylic acid, 1 g of anionic emulsifier and 6 g of potassium persulfate are added to a 0.5 L three-necked flask and stirred at 25 ° C. for 30 minutes. The mixture was then heated to 60 ° C. and 2 g of sodium bisulfite was added and polymerized for 3 hours.
(スチレン−イソプレン樹脂水分散液(記号SI)の調製)
上記のアクリル樹脂水分散液と同様に重合した。具体的には、1Lの三口フラスコに脱イオン水300g、イソプレン40g、スチレン48g、イタコン酸12g、アクリル酸2g、アニオン性乳化剤1g、過硫酸カリウム6gを添加し、25℃で30分間撹拌し、次にこの混合物を60℃に加熱し、2gの重亜硫酸ナトリウムを加え3時間重合させた。
(Preparation of styrene-isoprene resin aqueous dispersion (symbol SI))
Polymerization was conducted in the same manner as the above acrylic resin aqueous dispersion. Specifically, 300 g of deionized water, 40 g of isoprene, 48 g of styrene, 12 g of itaconic acid, 2 g of acrylic acid, 1 g of an anionic emulsifier, and 6 g of potassium persulfate are added to a 1 L three-necked flask and stirred at 25 ° C. for 30 minutes. The mixture was then heated to 60 ° C. and 2 g of sodium bisulfite was added and polymerized for 3 hours.
(ポリビニルブチラール樹脂水分散液(記号VB)の調製)
容積1Lステンレス製のフラスコに、重合度1500、ケン化度99.5モル%のポリビニルアルコール粒子80gと純水300gを仕込み、分散液を95℃まで昇温し、溶解後75℃まで冷却した。同水溶液に10質量%の塩酸を3g、ブチルアルデヒドを20g添加し反応を進めた。反応中はアルデヒドの系外への揮発・流出を防止するために還流を行なった。追加触媒として10%濃度の塩酸を90g添加し、温度を82℃で4時間保った。反応終了後、40℃まで液を冷却し、常温で重曹で中和し、生成樹脂を水洗し乾燥した。この樹脂100gを300gのイソプロパノール15%水溶液に分散させた。
(Preparation of polyvinyl butyral resin aqueous dispersion (symbol VB))
A 1 L stainless steel flask was charged with 80 g of polyvinyl alcohol particles having a polymerization degree of 1500 and a saponification degree of 99.5 mol% and 300 g of pure water, and the dispersion was heated to 95 ° C. and dissolved and then cooled to 75 ° C. 3 g of 10% by mass hydrochloric acid and 20 g of butyraldehyde were added to the aqueous solution to proceed the reaction. During the reaction, reflux was performed to prevent volatilization and outflow of aldehyde out of the system. 90 g of 10% strength hydrochloric acid was added as an additional catalyst and the temperature was kept at 82 ° C. for 4 hours. After completion of the reaction, the liquid was cooled to 40 ° C., neutralized with sodium bicarbonate at room temperature, and the resulting resin was washed with water and dried. 100 g of this resin was dispersed in 300 g of a 15% aqueous solution of isopropanol.
(酢酸ビニル樹脂水分散液(記号VA)の調製)
容積1Lステンレス製のフラスコに水300g、酢酸ビニル100g、アニオン性乳化剤1gを仕込み、この分散液を85まで加熱し、30分後に過硫酸カリウムを3g添加し、85℃で3時間乳化重合を行った。
(Preparation of aqueous dispersion of vinyl acetate resin (symbol VA))
A 1L stainless steel flask was charged with 300 g of water, 100 g of vinyl acetate, and 1 g of an anionic emulsifier, and this dispersion was heated to 85. After 30 minutes, 3 g of potassium persulfate was added, and emulsion polymerization was performed at 85 ° C. for 3 hours. It was.
ウレタン樹脂水分散液(記号UN):1L反応容器に、数平均分子量2000のポリテトラメチレンエーテルグリコール70gを仕込み、窒素気流下100℃にて1時間かけ、85℃まで冷却した後、イソホロンジイソシアネート32gを仕込み、85℃にて3時間反応を行い、ウレタンポリマー102gを得た。ウレタンポリマーのイソプロピルアルコール溶液とした。ついで40℃にて水300gを撹拌下に加え、分散後、ポリウレタン樹脂の水分散液を得た。 Urethane resin aqueous dispersion (symbol UN): 1 L reaction vessel was charged with 70 g of polytetramethylene ether glycol having a number average molecular weight of 2000, cooled to 85 ° C. at 100 ° C. for 1 hour under a nitrogen stream, and then isophorone diisocyanate 32 g. Was reacted at 85 ° C. for 3 hours to obtain 102 g of a urethane polymer. An isopropyl alcohol solution of urethane polymer was used. Subsequently, 300 g of water was added with stirring at 40 ° C., and after dispersion, an aqueous dispersion of polyurethane resin was obtained.
《経時劣化の評価》
得られた近赤外線吸収材料100〜122の各々について、温度70℃、90%RH(相対湿度)の条件下、200時間放置し、400nm〜750nmの可視部の平均透過率吸収、800nm〜1000nmの近赤外部の平均吸収割合%で表示した。作製試料の内容及び評価した性能結果を表1に示す。耐光性劣化試験はスガ試験機株式会社製スーパーキセノンウエザーメーターSX75を使用し、55%RH(相対湿度)、照射強度50W/m2、110時間試験後の吸収劣化の割合を評価し、得られた結果を表2に示す。
<< Evaluation of deterioration over time >>
Each of the obtained near-infrared absorbing materials 100 to 122 is allowed to stand for 200 hours under conditions of a temperature of 70 ° C. and 90% RH (relative humidity), and has an average transmittance absorption of a visible portion of 400 nm to 750 nm, 800 nm to 1000 nm. The average absorption ratio% in the near infrared part was displayed. Table 1 shows the contents of the fabricated samples and the evaluated performance results. The light resistance deterioration test was obtained by using a Super Xenon Weather Meter SX75 manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., and evaluating the rate of absorption deterioration after a 110-hour test at 55% RH (relative humidity), irradiation intensity 50 W / m 2 . The results are shown in Table 2.
表2から、比較に比べて、本発明の試料は、紫外線照射前後において、450nm〜750nmの可視光に対する高い透過率が維持され、且つ、800nm〜1000nmの近赤外線の対する吸収率は高い吸収能を維持していることがわかる。 From Table 2, compared with the comparison, the sample of the present invention maintains a high transmittance for visible light of 450 nm to 750 nm before and after irradiation with ultraviolet light, and has a high absorptivity for near infrared light of 800 nm to 1000 nm. It can be seen that
このことから、本発明の試料は、高温高湿度条件下においても、近赤外吸収性が低下せず、且つ、耐光性の劣化のない近赤外線吸収材料であることが明らかである。 From this, it is clear that the sample of the present invention is a near-infrared-absorbing material in which the near-infrared absorptivity does not decrease and the light resistance does not deteriorate even under high temperature and high humidity conditions.
Claims (7)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005304217A JP2007111940A (en) | 2005-10-19 | 2005-10-19 | Near infrared absorbing material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005304217A JP2007111940A (en) | 2005-10-19 | 2005-10-19 | Near infrared absorbing material |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007111940A true JP2007111940A (en) | 2007-05-10 |
Family
ID=38094569
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005304217A Pending JP2007111940A (en) | 2005-10-19 | 2005-10-19 | Near infrared absorbing material |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2007111940A (en) |
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009020348A (en) * | 2007-07-12 | 2009-01-29 | Fujifilm Corp | Antireflection film manufacturing method and antireflection film |
| JP2010184980A (en) * | 2009-02-10 | 2010-08-26 | Fuji Xerox Co Ltd | Perimidine-based squarilium compound, image-forming material and image-forming method |
| JP2010184975A (en) * | 2009-02-10 | 2010-08-26 | Fuji Xerox Co Ltd | Perimidine-based squarylium compound, and material and method for image formation |
| WO2013054864A1 (en) * | 2011-10-14 | 2013-04-18 | Jsr株式会社 | Optical filter, solid state image-capturing device using same, and camera module using same |
| WO2013089066A1 (en) * | 2011-12-12 | 2013-06-20 | コニカミノルタ株式会社 | Optical laminated film, infrared shielding film and infrared shielding body |
| WO2013115233A1 (en) * | 2012-01-30 | 2013-08-08 | 日東電工株式会社 | Infrared reflective film |
| JP2013218312A (en) * | 2012-03-12 | 2013-10-24 | Jsr Corp | Near-infrared ray cut filter and usage of the same |
| JP2015004838A (en) * | 2013-06-21 | 2015-01-08 | Jsr株式会社 | Near-infrared ray cut filter for solid imaging device, and solid imaging device and camera module using the filter |
| WO2015005447A1 (en) * | 2013-07-12 | 2015-01-15 | 富士フイルム株式会社 | Near infrared absorption composition, near infrared-cut filter and manufacturing method therefor, and solid state image pickup element |
| WO2016088850A1 (en) * | 2014-12-03 | 2016-06-09 | コニカミノルタ株式会社 | Laminated film |
| JP2017088765A (en) * | 2015-11-12 | 2017-05-25 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | Near-infrared absorbing dye and its use |
| JP2017145347A (en) * | 2016-02-18 | 2017-08-24 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | Image forming material |
| WO2018008721A1 (en) * | 2016-07-08 | 2018-01-11 | コニカミノルタ株式会社 | Organic electroluminescent element, display device, and illumination device |
| WO2018230486A1 (en) * | 2017-06-13 | 2018-12-20 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | Squarylium dye and composition containing same |
| JPWO2020196394A1 (en) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | ||
| KR102331455B1 (en) * | 2021-07-16 | 2021-12-01 | 박상진 | Composition for preventing sunburn of plants using absorption dye of the near infrared and method of using the same |
| KR102647141B1 (en) * | 2023-05-23 | 2024-03-14 | (주)에스코 | The composition for the cold-weather and frost damage of the crops using absorption dye of the near infrared and method of using the same. |
| CN118131383A (en) * | 2024-05-08 | 2024-06-04 | 衣金光学科技南通有限公司 | Infrared light absorber, composition containing infrared light absorber and optical filter |
-
2005
- 2005-10-19 JP JP2005304217A patent/JP2007111940A/en active Pending
Cited By (44)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009020348A (en) * | 2007-07-12 | 2009-01-29 | Fujifilm Corp | Antireflection film manufacturing method and antireflection film |
| JP2010184980A (en) * | 2009-02-10 | 2010-08-26 | Fuji Xerox Co Ltd | Perimidine-based squarilium compound, image-forming material and image-forming method |
| JP2010184975A (en) * | 2009-02-10 | 2010-08-26 | Fuji Xerox Co Ltd | Perimidine-based squarylium compound, and material and method for image formation |
| CN103858028B (en) * | 2011-10-14 | 2016-12-28 | Jsr株式会社 | Optical filter for solid-state imaging device, solid-state imaging device and camera module using same |
| KR101969612B1 (en) | 2011-10-14 | 2019-04-16 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | Optical filter, solid state image-capturing device using same, and camera module using same |
| US9791606B2 (en) | 2011-10-14 | 2017-10-17 | Jsr Corporation | Optical filter, and solid-state image pickup device and camera module using the optical filter |
| WO2013054864A1 (en) * | 2011-10-14 | 2013-04-18 | Jsr株式会社 | Optical filter, solid state image-capturing device using same, and camera module using same |
| CN103858028A (en) * | 2011-10-14 | 2014-06-11 | Jsr株式会社 | Optical filter, solid-state imaging device and camera module using same |
| KR20140088559A (en) * | 2011-10-14 | 2014-07-10 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | Optical filter, solid state image-capturing device using same, and camera module using same |
| TWI588192B (en) * | 2011-10-14 | 2017-06-21 | Jsr Corp | Optical filter, solid-state imaging device and camera module using the optical filter |
| US9791596B2 (en) | 2011-10-14 | 2017-10-17 | Jsr Corporation | Optical filter, and solid-state image pickup device and camera module using the optical filter |
| US9575213B2 (en) | 2011-10-14 | 2017-02-21 | Jsr Corporation | Optical filter, and solid-state image pickup device and camera module using the optical filter |
| JPWO2013054864A1 (en) * | 2011-10-14 | 2015-03-30 | Jsr株式会社 | Optical filter, and solid-state imaging device and camera module using the optical filter |
| CN105754367A (en) * | 2011-10-14 | 2016-07-13 | Jsr株式会社 | Optical filter for solid-state image pickup device, and solid-state image pickup device and camera module using the same |
| CN104011569A (en) * | 2011-12-12 | 2014-08-27 | 柯尼卡美能达株式会社 | Optical laminated film, infrared shielding film and infrared shielding body |
| JPWO2013089066A1 (en) * | 2011-12-12 | 2015-04-27 | コニカミノルタ株式会社 | Optical laminated film, infrared shielding film and infrared shielding body |
| US9519081B2 (en) | 2011-12-12 | 2016-12-13 | Konica Minolta, Inc. | Optical laminate film, infrared shielding film and infrared shielding body |
| CN104011569B (en) * | 2011-12-12 | 2017-09-22 | 柯尼卡美能达株式会社 | Optics stacked film, infrared shielding films and infrared baffle |
| WO2013089066A1 (en) * | 2011-12-12 | 2013-06-20 | コニカミノルタ株式会社 | Optical laminated film, infrared shielding film and infrared shielding body |
| WO2013115233A1 (en) * | 2012-01-30 | 2013-08-08 | 日東電工株式会社 | Infrared reflective film |
| JP2013218312A (en) * | 2012-03-12 | 2013-10-24 | Jsr Corp | Near-infrared ray cut filter and usage of the same |
| JP2015004838A (en) * | 2013-06-21 | 2015-01-08 | Jsr株式会社 | Near-infrared ray cut filter for solid imaging device, and solid imaging device and camera module using the filter |
| JP2016014845A (en) * | 2013-07-12 | 2016-01-28 | 富士フイルム株式会社 | Near infrared absorbing composition, near infrared cut filter, method for manufacturing the same, and solid-state image sensing device |
| WO2015005447A1 (en) * | 2013-07-12 | 2015-01-15 | 富士フイルム株式会社 | Near infrared absorption composition, near infrared-cut filter and manufacturing method therefor, and solid state image pickup element |
| CN107003450A (en) * | 2014-12-03 | 2017-08-01 | 柯尼卡美能达株式会社 | Stack membrane |
| JPWO2016088850A1 (en) * | 2014-12-03 | 2017-09-14 | コニカミノルタ株式会社 | Laminated film |
| CN107003450B (en) * | 2014-12-03 | 2020-02-21 | 柯尼卡美能达株式会社 | Laminated film |
| WO2016088850A1 (en) * | 2014-12-03 | 2016-06-09 | コニカミノルタ株式会社 | Laminated film |
| JP2017088765A (en) * | 2015-11-12 | 2017-05-25 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | Near-infrared absorbing dye and its use |
| JP2017145347A (en) * | 2016-02-18 | 2017-08-24 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | Image forming material |
| JPWO2018008721A1 (en) * | 2016-07-08 | 2019-04-25 | コニカミノルタ株式会社 | Organic electroluminescent device, display device, lighting device |
| WO2018008721A1 (en) * | 2016-07-08 | 2018-01-11 | コニカミノルタ株式会社 | Organic electroluminescent element, display device, and illumination device |
| CN109417131A (en) * | 2016-07-08 | 2019-03-01 | 柯尼卡美能达株式会社 | Organic electroluminescent device, display device, lighting device |
| WO2018230486A1 (en) * | 2017-06-13 | 2018-12-20 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | Squarylium dye and composition containing same |
| KR20200018790A (en) * | 2017-06-13 | 2020-02-20 | 토요잉크Sc홀딩스주식회사 | Squarylium pigments and compositions comprising them |
| JP2019001983A (en) * | 2017-06-13 | 2019-01-10 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | SQUARYLIUM DYE AND USE THEREOF |
| US11512204B2 (en) | 2017-06-13 | 2022-11-29 | Toyo Ink Sc Holdings Co., Ltd. | Squarylium dye and composition containing same |
| KR102583220B1 (en) | 2017-06-13 | 2023-09-27 | 토요잉크Sc홀딩스주식회사 | Squarylium pigment and composition containing same |
| JPWO2020196394A1 (en) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | ||
| WO2020196394A1 (en) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | 富士フイルム株式会社 | Resin composition, film, near-infrared cut filter, near-infrared pass filter, solid-state imaging device, image display apparatus and infrared sensor |
| JP7112592B2 (en) | 2019-03-28 | 2022-08-03 | 富士フイルム株式会社 | Resin composition, film, near-infrared cut filter, near-infrared transmission filter, solid-state imaging device, image display device, and infrared sensor |
| KR102331455B1 (en) * | 2021-07-16 | 2021-12-01 | 박상진 | Composition for preventing sunburn of plants using absorption dye of the near infrared and method of using the same |
| KR102647141B1 (en) * | 2023-05-23 | 2024-03-14 | (주)에스코 | The composition for the cold-weather and frost damage of the crops using absorption dye of the near infrared and method of using the same. |
| CN118131383A (en) * | 2024-05-08 | 2024-06-04 | 衣金光学科技南通有限公司 | Infrared light absorber, composition containing infrared light absorber and optical filter |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2007111940A (en) | Near infrared absorbing material | |
| JPWO2007029508A1 (en) | Near-infrared absorbing material and manufacturing method thereof | |
| CN100501462C (en) | Filter and cyanine compound | |
| JP5601768B2 (en) | Near-infrared absorbing composition, near-infrared absorbing coating material, and production method thereof | |
| TWI374872B (en) | ||
| KR101011964B1 (en) | Near Infrared Absorption Pigment-containing Adhesive | |
| EP1846423B1 (en) | Borate and near-infrared ray absorption material | |
| JP2011213969A (en) | Near infrared rays-absorbing adhesive composition | |
| JP2010060617A (en) | Near-infrared absorption filter | |
| CN101124287A (en) | Adhesive composition, adhesive film and optical filter | |
| JP2007334325A (en) | Near-infrared absorbing filter and manufacturing method thereof | |
| WO2017170182A1 (en) | Photosensitive composition and novel compound | |
| JP4942320B2 (en) | Near-infrared absorbing adhesive film and optical filter using the same | |
| JP5250837B2 (en) | Novel squarylium metal complex compound, dye and composition containing the same, color toner, ink, optical recording medium, color filter, and front filter for display | |
| CN102395642A (en) | Near infrared ray-absorbable adhesive composition | |
| CN101395501B (en) | Near-infrared absorbing film and optical filter for plasma display panel using same | |
| JP4436888B1 (en) | Near-infrared absorbing adhesive composition | |
| JP2001174626A (en) | Near infrared ray absorption film | |
| JP2008074922A (en) | New squarylium metal complex compound, pigment, and composition containing the same, color toner, ink, optical recording medium, color filter, and front surface filter for display | |
| WO2007097368A1 (en) | Diimmonium salt compound, near-infrared absorbing composition containing same, near-infrared absorbing filter and front plate for display | |
| JP2004161792A (en) | Near-infrared ray shielding resin composition and near-infrared ray shielding laminated product | |
| CN101511962A (en) | Salt for near infrared ray absorbing composition and near infrared ray absorbing pressure sensitive adhesive composition | |
| JP2009203301A (en) | Near-infrared ray absorbing adhesive composition | |
| JP2012007038A (en) | Near infrared ray absorption pigment and near infrared ray absorption pigment-containing adhesive | |
| CN101107258A (en) | Borate and near-infrared absorbing materials |