JP2007111680A - 描画装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 着弾径の大きさにばらつきがあっても、品質の良好なパターンを描画することが可能な描画装置を提供する。
【解決手段】 描画装置は、基板１０Ａを第１走査方向に移動させる第１位置制御装置１０４と、基板１０Ａ上の基準領域に液滴を吐出する液滴吐出ヘッド１１４を搭載するとともに、第１走査方向と略直交する第２走査方向に液滴吐出ヘッド１１４を移動させる第２位置制御装置１０８と、液滴吐出ヘッド１１４から吐出された液滴の着弾径を測定する測定部１４０と、測定部１４０で測定された着弾径の測定結果に基づいて、基準領域の広さを決めるためのグリッドサイズＭを演算する演算部２０６と、第１位置制御装置１０４と、第２位置制御装置１０８と、測定部１４０と、演算部２０６とを制御する制御部１１２と、を備え、制御部１１２が、グリッドサイズＭを決定してから描画を開始する。
【選択図】 図１

Description

本発明は、基板に対して液滴を吐出して、パターンを描画する描画装置に関する。

従来、基板に対して液滴を吐出する装置として、インクジェット式の液滴吐出装置が知られている。例えば特許文献１に示された液滴吐出装置は、複数の吐出ノズルを備えたマルチノズルタイプの液滴吐出ヘッドと、ステージとを備えており、このステージ上に載せた基板に対して液滴を吐出してパターンを描画していた。

特開２００４−９３２号公報

しかしながら、この液滴吐出装置では、滴下する液滴同士が接触しないように間隔を開けながら液滴を滴下し、次に隙間の開いた所に液滴を滴下してパターンを形成させる描画方法を採用している。このため、滴下する液滴の吐出量が多いと、初発の液滴同士が接触（着弾径大）してしまい、液滴が局所的に集中することによって、膜厚分布が不均一になることがあった。また、滴下する液滴の吐出量が少ないと、液滴同士の間隔が広く（着弾径小）なりすぎてしまい、液滴が欠如する箇所ができることがあって、断線などを生じさせることがあった。着弾径の大きさにばらつきが生じると、品質の安定したパターンを形成することが困難であった。そこで、着弾径の大きさにばらつきがあっても、品質の安定したパターンを描画することが可能な描画装置が求められていた。

本発明の目的は、着弾径の大きさにばらつきがあっても、品質の良好なパターンを描画することが可能な描画装置を提供することである。

本発明の描画装置は、基板上の基準領域にパターンを描画する描画装置であって、前記基板を第１走査方向に移動させる第１位置制御装置と、前記基板上に液滴を吐出する液滴吐出ヘッドを搭載するとともに、前記第１走査方向と略直交する第２走査方向に前記液滴吐出ヘッドを移動させる第２位置制御装置と、前記液滴吐出ヘッドから吐出された前記液滴の着弾径を測定する測定部と、前記測定部で測定された前記着弾径の測定結果に基づいて、前記基準領域の広さを演算する演算部と、前記第１位置制御装置と、前記第２位置制御装置と、前記測定部と、前記演算部とを制御する制御部と、を備え、前記制御部が、前記基準領域の広さを決定してから描画を開始することを特徴とする。

この発明によれば、液滴の着弾径を測定し、着弾径の測定結果に基づいて、基準領域の広さを演算してから描画を開始する描画装置なので、液滴の着弾径の大きさに応じて基準領域の広さを決めることができる。そして、基準領域の広さを事前に決めておくので、滴下した液滴同士が重なることや、液滴が欠如する箇所を低減させることができる。したがって、品質の安定したパターンを描画することが可能な描画装置を提供できる。

本発明の描画装置は、前記制御部が、前記着弾径の描画データを蓄積するデータ蓄積部を備えていることを特徴とする。

この発明によれば、制御部に描画データ蓄積部を備えているから、描画データ蓄積部から着弾径のデータを取り出すことができる。そして、描画データ蓄積部に蓄積された描画データをリアルタイムに活用することで、パターンを描画するために必要な最適な描画データを短時間で選択して決定することができるので、効率的に描画をすることが可能な描画装置を提供できる。

本発明の描画装置は、前記制御部が、前記着弾径を測定するときのタイミングを検出する検出部を備えていることを特徴とする。

この発明によれば、制御部に着弾径を測定するときのタイミングを検出する検出部を備えているから、着弾時の着弾径の大きさを精度よく測定できることになるので、必要な基準領域の広さを演算部で演算することによって、着弾径の大きさに応じた基準領域の広さを精度良く設定することができる。しかも、着弾径を計測するタイミングを任意に設定できる。また短時間で設定できるので、効率的で精度の高い描画をすることが可能な描画装置を提供できる。

本発明の描画装置は、前記制御部が、前記液滴の吐出量を調整する駆動電圧調整部を備えていることを特徴とする。

この発明によれば、制御部に液滴の吐出量を調整する駆動電圧調整部を備えていると、基準領域の広さに応じて滴下する液滴の吐出量を調整することができるから、着弾径のばらつきを低減させることができる。したがって、安定した品質のパターンを描画できる描画装置を提供できる。

本発明の回路基板は、基板と、前記基板上に形成されたパターンと、を有する回路基板であって、前述のいずれかに記載の描画装置を用いて形成されたことを特徴とする。

この発明によれば、安定した品質のパターンを描画できる描画装置を用いてパターンを形成するので、品質の安定した回路基板を提供できる。

以下、本発明の描画装置、描画装置を用いて形成した回路基板、について実施形態を挙げ、添付図面に沿って詳細に説明する。
（実施形態）
＜描画装置の構成＞

図１は、本実施形態における描画装置の構成を示す概略図である。

図１に示すように、描画装置１００は、基本的には液滴吐出装置である。より具体的には、液滴吐出装置（描画装置）１００は、機能液１１１を保持するタンク１０１と、チューブ１１０と、グランドステージＧＳと、吐出ヘッド部１０３と、ステージ１０６と、第１位置制御装置１０４と、第２位置制御装置１０８と、測定部１４０と、制御部１１２と、支持部１０９とで構成されている。

吐出ヘッド部１０３は、ヘッド１１４（図２参照）を保持している。このヘッド１１４は、制御部１１２からの信号に応じて、機能液１１１の液滴を吐出する。なお、吐出ヘッド部１０３におけるヘッド１１４は、チューブ１１０によってタンク１０１に連結されており、タンク１０１からヘッド１１４に機能液１１１が供給される。

ステージ１０６は、基板１０Ａを固定するための平面を有している。さらにステージ１０６は、吸引力を用いて基板１０Ａの位置を固定する機能も有する。ここで、基板１０Ａはポリイミドからなるフレキシブル基板であり、その形状はテープ状である。また、基板１０Ａの両端は、図示しない一対のリールに固定されている。

第１位置制御装置１０４は、制御部１１２からの信号に応じて、ステージ１０６をグランドステージＧＳ上でＹ軸方向に移動させる。ここで、Ｙ軸方向は、Ｘ軸方向およびＺ軸方向の双方と直交する方向である。

第２位置制御装置１０８は、支持部１０９によって、グランドステージＧＳから所定の高さの位置に固定されている。この第２位置制御装置１０８は、制御部１１２からの信号に応じて、吐出ヘッド部１０３をＸ軸方向と、Ｘ軸方向に直交するＺ軸方向と、に沿って移動させる機能を有する。さらに、第２位置制御装置１０８は、Ｚ軸に平行な軸の回転方向で吐出ヘッド部１０３を回転させる機能も有する。ここで、Ｚ軸方向は、鉛直方向（つまり重力加速度の方向）に平行な方向である。

上記のような機能を有する第１位置制御装置１０４の構成と第２位置制御装置１０８の構成とは、リニアモータやサーボモータを利用した公知のＸＹロボットを用いて実現できる。このため、ここでは、それらの詳細な構成の説明を省略する。なお、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８を、「ロボット」または「走査部」とも表記する。

そして、第１位置制御装置１０４によって基板１０Ａは、ステージ１０６と共にＹ軸方向に移動する。第２位置制御装置１０８によって吐出ヘッド部１０３は、Ｘ軸方向に移動する。これらの結果、基板１０Ａに対するヘッド１１４の相対位置が変わる。より具体的には、これらの動作によって、吐出ヘッド部１０３、ヘッド１１４、またはノズル１１８（図２参照）は、基板１０Ａに対して、Ｚ軸方向に所定の距離を保ちながら、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に相対的に移動、すなわち相対的に走査する。「相対移動」または「相対走査」とは、機能液１１１を吐出する側と、吐出された機能液１１１が着弾する側の少なくとも一方を他方に対して相対移動することを意味する。

ここで、本実施形態では、Ｙ軸方向が「第１走査方向」である。「第１走査方向」と略直交するＸ軸方向が「第２走査方向」である。

測定部１４０は、グランドステージＧＳに固定されている支持部１４１と、測定装置１４２と、で構成されている。測定装置１４２は、支持部１４１によって、グランドステージＧＳから所定の高さの位置に固定されていて、基板１０Ａ上に滴下された液滴の着弾径の大きさを測定することができる。なお、測定装置１４２は、画像認識可能なカメラである。測定装置１４２は、測定された着弾径のデータを計測部２０３（図４参照）へ送信できる。

制御部１１２は、機能液１１１の液滴Ｄを吐出すべき相対位置を表す吐出データを外部情報処理装置から受け取るように構成されている。制御部１１２は、受け取った吐出データを内部の記憶装置に格納するとともに、格納された吐出データに応じて、第１位置制御装置１０４と、第２位置制御装置１０８と、ヘッド１１４と、測定部１４０とを制御する。本実施形態では、吐出データはビットマップデータの形態を有している。

上記構成を有する液滴吐出装置１００は、吐出データに応じて、ヘッド１１４のノズル１１８（図２参照）を基板１０Ａに対して相対移動させるとともに、基板１０Ａに向けてノズル１１８から機能液１１１を吐出する。そして、基板１０Ａ上に滴下された液滴の着弾径を測定部１４０において測定して、その測定結果に基づいて、着弾径が規格内であれば、液滴吐出装置１００が駆動して描画を開始する機能を有している。また、液滴吐出装置１００は、測定した着弾径が規格内でなければ、必要な広さにグリッドサイズを変更させる機能も有している。さらに、液滴吐出装置１００は、グリッドサイズの広さに応じて液滴の量を調整することができる機能をも有している。なお、液滴吐出装置１００によるヘッド１１４の相対移動と、ヘッド１１４からの機能液１１１の吐出と、をまとめて「吐出走査」と表記することもある。
＜ヘッド＞

図２は、描画装置のヘッドにおけるノズル列を示す模式図である。

図２に示すように、ヘッド１１４は、吐出ヘッド部１０３（図１参照）が有する複数のヘッド１１４の一つである。図２は、ステージ１０６側からヘッド１１４を眺めた図であり、ヘッド１１４の底面を示している。ヘッド１１４は、Ｘ軸方向に延びるノズル列１１６を有している。ノズル列１１６は、Ｘ軸方向にほぼ均等に並んだ複数のノズル１１８からなる。これら複数のノズル１１８は、Ｘ軸方向のノズルピッチＨＸＰが約７０μｍとなるように配置されている。ここで、「Ｘ軸方向のノズルピッチＨＸＰ」は、ヘッド１１４におけるノズル１１８のすべてを、Ｘ軸方向に直交する方向からＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。

ここで、ノズル列１１６が延びる方向を「ノズル列方向ＮＤ」と表記する。本実施形態のノズル列方向ＮＤは、Ｘ軸方向に平行であり、このためＹ軸方向に直交する。ただし、場合によっては、ノズル列方向ＮＤはＸ軸方向ともＹ軸方向とも異なり得る。また、ノズル列１１６におけるノズル１１８の数は１８０個である。ただし、１つのヘッド１１４におけるノズル１１８の数は、１８０個に限定されない。例えば、１つのヘッド１１４に３６０個のノズルが設けられていてもよい。

図３は、ヘッドの構造を示す模式図である。（ａ）は、概略斜視図であり、（ｂ）は、概略断面図である。

図３（ａ）および（ｂ）に示すように、それぞれのヘッド１１４は、インクジェットヘッドである。より具体的には、それぞれのヘッド１１４は、振動板１２６と、複数のノズルが設けられたノズルプレート１２８と、液たまり１２９と、複数の隔壁１２２と、複数のキャビティ１２０と、複数の振動子１２４と、を備えている。液たまり１２９は、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間に位置していて、タンク１０１（図１参照）から孔１３１を介して供給される機能液１１１が常に充填される。

図３（ａ）に示すように、複数の隔壁１２２は、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間に位置している。そして、１対の隔壁１２２と、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、によって囲まれた部分がキャビティ１２０である。キャビティ１２０はノズル１１８に対応して設けられているため、キャビティ１２０の数とノズル１１８の数とは同じである。キャビティ１２０には、１対の隔壁１２２間に位置する供給口１３０を介して、液たまり１２９から機能液１１１が供給される。

図３（ｂ）に示すように、振動子１２４は、それぞれのキャビティ１２０に対応するように振動板１２６上に位置する。振動子１２４は、ピエゾ素子１２４Ｃと、ピエゾ素子１２４Ｃを挟む１対の電極１２４Ａと、１２４Ｂと、を含む。そして、この１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂの間に駆動電圧を与えることで、対応するノズル１１８から機能液１１１が吐出される。なお、ノズル１１８からＺ軸方向に機能液１１１が吐出されるように、ノズル１１８の形状が調整されている。

１つのノズル１１８と、ノズル１１８に対応するキャビティ１２０と、キャビティ１２０に対応する振動子１２４と、を含んだ部分を「吐出部１２７」と表記することもある。この表記によれば、１つのヘッド１１４は、ノズル１１８の数と同じ数の吐出部１２７を有する。吐出部１２７は、ピエゾ素子の代わりに電気熱変換素子を有してもよい。つまり、吐出部１２７は、電気熱変換素子による材料の熱膨張を利用して機能液１１１を吐出する構成を有していてもよい。
＜制御部＞

図４は、液滴吐出装置の制御部を示すブロック図である。

次に、図４を参照しながら、制御部１１２の構成について説明する。制御部１１２は、処理部２０１と、記憶装置２０２と、計測部２０３と、入力バッファメモリ２０４と、走査駆動部２０８と、ヘッド駆動部２０９と、を備えている。これら処理部２０１と、記憶装置２０２と、計測部２０３と、入力バッファメモリ２０４と、走査駆動部２０８と、ヘッド駆動部２０９とは、図示しないバスによって相互に通信可能に接続されている。また、走査駆動部２０８は、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８と相互に通信可能に接続されている。同様に、ヘッド駆動部２０９は、複数のヘッド１１４のそれぞれと相互に通信可能に接続されている。同様に、計測部２０３は、画像認識可能なカメラ１４２と相互に通信可能に接続されている。

そして、処理部２０１は、液滴Ｄの着弾径のデータを記録する記録部２０５と、グリッドサイズを演算する演算部２０６と、機能液の吐出量を調整するためのヘッド駆動電圧調整部２０７とで構成されている。

計測部２０３は、基板１０Ａ上に配置された液滴Ｄの配置位置を検出して、液滴Ｄの着弾径を測定することができる。そして、計測部２０３は、液滴Ｄの着弾径の測定データを処理部２０１に供給し、処理部２０１は着弾径の測定データを記録部２０５に格納する。
記録部２０５は、計測部２０３で測定された着弾径のデータを格納して記録することができる。演算部２０６は、計測部２０３で測定された着弾径の大きさに応じてグリッドサイズの大きさを演算して決めることができる。さらに、ヘッド駆動電圧調整部２０７は、演算部２０６で演算されたグリッドサイズに応じて機能液の吐出量を変更することができる。そして、制御部１１２は、得られたこれらのデータを記憶装置２０２に記憶させることができる。

入力バッファメモリ２０４は、液滴吐出装置１００の外部に位置するコンピュータ（不図示）から、機能液１１１の液滴Ｄを吐出するための吐出データを受け取る。入力バッファメモリ２０４は、吐出データを処理部２０１に供給し、処理部２０１は吐出データを記憶装置２０２に格納する。なお、記憶装置２０２はＲＡＭである。

処理部２０１は、記憶装置２０２内の吐出データに基づいて、基板１０Ａに対するノズル１１８の相対位置を示すデータを走査駆動部２０８に与える。走査駆動部２０８はこのデータと、吐出周期ＥＰ（図５（ｂ）参照）と、に応じたステージ駆動信号を第２位置制御装置１０８に与える。この結果、基板１０Ａに対してヘッド１１４が相対走査する。一方、処理部２０１は、記憶装置２０２に記憶された吐出データに基づいて、選択信号ＳＣ（ｉ）（図５（ｂ）参照）をヘッド駆動部２０９に与える。そうすると、ヘッド１１４における対応するノズル１１８から、機能液１１１の液滴Ｄが吐出される。

制御部１１２は、ＣＰＵと、ＲＯＭと、ＲＡＭと、外部インターフェース部と、それらを相互に通信可能に接続するバスと、を含んだコンピュータである。したがって、制御部１１２の上記機能は、ＲＯＭまたはＲＡＭに格納されたソフトウェアプログラムがＣＰＵによって実行されることで実現される。もちろん、制御部１１２は、専用の回路（ハードウェア）によって実現されてもよい。

図５（ａ）は、制御部におけるヘッド駆動部を示す模式図であり、（ｂ）は、選択信号と駆動信号と吐出信号を示すタイミングチャートである。

次に、図５（ａ）および（ｂ）を参照しながら、制御部１１２におけるヘッド駆動部２０９の構成と機能とを説明する。

図５（ａ）に示すように、ヘッド駆動部２０９は、１つの駆動信号生成部２１１と、複数のアナログスイッチＡＳと、を有する。駆動信号生成部２１１は駆動信号ＤＳを生成する。駆動信号ＤＳの電位は、基準電位Ｌに対して時間的に変化する。具体的には、駆動信号ＤＳは、吐出周期ＥＰで繰り返される複数の吐出波形Ｐを含む。ここで、吐出波形Ｐは、ノズル１１８から１つの液滴Ｄを吐出するために、対応する振動子１２４（図３参照）に印加されるべき駆動電圧の波形に対応する。

駆動信号ＤＳは、アナログスイッチＡＳのそれぞれの入力端子に供給される。ここで、アナログスイッチＡＳのそれぞれは、吐出部１２７のそれぞれに対応して設けられている。

処理部２０１（図４参照）は、ノズル１１８のオン・オフを表す選択信号ＳＣ（ｉ）を、アナログスイッチＡＳのそれぞれに与える。ここで、選択信号ＳＣ（ｉ）は、アナログスイッチＡＳ毎に独立にハイレベルおよびローレベルのどちらかの状態を取り得る。一方、アナログスイッチＡＳは、駆動信号ＤＳと選択信号ＳＣ（ｉ）とに応じて、振動子１２４の電極１２４Ａに吐出信号ＥＳ（ｉ）を供給する。具体的には、選択信号ＳＣ（ｉ）がハイレベルの場合には、アナログスイッチＡＳは電極１２４Ａに吐出信号ＥＳ（ｉ）として駆動信号ＤＳを伝播する。一方、選択信号ＳＣ（ｉ）がローレベルの場合には、アナログスイッチＡＳが出力する吐出信号ＥＳ（ｉ）の電位は基準電位Ｌとなる。振動子１２４の電極１２４Ａに駆動信号ＤＳが与えられると、その振動子１２４に対応するノズル１１８から機能液１１１が吐出される。なお、それぞれの振動子１２４の電極１２４Ｂには基準電位Ｌが与えられている。

図５（ｂ）に示すように、２つの吐出信号ＥＳ（１）、ＥＳ（２）のそれぞれにおいて、吐出周期ＥＰの２倍の周期２ＥＰで吐出波形Ｐが現れるように、２つの選択信号ＳＣ（１）、ＳＣ（２）のそれぞれにおいてハイレベルの期間とローレベルの期間とが設定されている。これによって、対応する２つのノズル１１８のそれぞれから、周期２ＥＰで機能液１１１が吐出される。ここで、これら２つのノズル１１８に対応する振動子１２４のそれぞれには、共通の駆動信号生成部２１１からの共通の駆動信号ＤＳが与えられている。このため、２つのノズル１１８からほぼ同じタイミングで機能液１１１が吐出される。なお、図５（ｂ）における吐出信号ＥＳ（３）には、なんら駆動波形Ｐが現れないように、対応する選択信号ＳＣ（３）はローレベルに維持されている。

以上の構成によって、液滴吐出装置１００は、制御部１１２に与えられた吐出データに応じて、基板１０Ａの表面に機能液１１１からなる液滴Ｄを配置する。

次に、液滴を検出して着弾径を測定する方法、およびグリッドサイズを変更する方法について説明する。

図６は、グリッドサイズの変更方法を示すフローチャートである。図７は、着弾径の測定方法、およびグリッドサイズの変更方法を説明するための説明図である。

図６のステップＳ１では、図７（ａ）に示すように、基板１０Ａに向けてヘッド１１４の全ノズルから機能液１１１を吐出する。ここで、Ｙ方向は、基板１０Ａが走査する第１走査方向で、Ｘ方向は、ヘッド１１４が走査する第２走査方向である（図１参照）。

次に、図６のステップＳ２では、図７（ｂ）に示すように、基板１０Ａ上に滴下された液滴Ｄの着弾径を測定し、その着弾径が規格内であるかどうかを判定する。なお、着弾径の測定方法は、画像認識可能なカメラ１４２を用いて測定する。ヘッド１１４に有するノズル１１８から吐出された複数の液滴Ｄの着弾径を測定する。ここで、測定された着弾径の大きさが予め決めておいた規格の範囲内であれば、描画を開始する。規格内でなければ、次のステップＳ３に進む。

次に、図６のステップＳ３では、図７（ｃ）に示すように、基準領域の広さを決めるためのグリッドサイズＭを変更する。グリッドサイズＭの変更方法は、ステップＳ２で測定した着弾径の測定データを処理部２０１に送り、処理部２０１は記録部２０５に測定データを記録させ、記録された測定データを演算部２０６で演算する。そして、処理部２０１は、演算して得られたデータを基にしてグリッドサイズＭを変更する。

次に、図６のステップＳ４では、変更したグリッドサイズＭが規格内であるかどうかを判定する。なお、変更したグリッドサイズＭが規格内であれば、ステップＳ６へ進む。グリッドサイズＭが規格内でなければ、ステップＳ５へ進む。

次に、図６のステップＳ５では、ヘッド１１４に印加されるヘッド駆動電圧を調整して、ヘッド１１４から吐出される機能液１１１の吐出量を調整する。例えば液滴Ｄの着弾径が小さければ、印加電圧を大きくして機能液１１１の吐出量を多くする。逆に、液滴Ｄの着弾径が大きければ、印加電圧を少なくして機能液１１１の吐出量を少なくする。

次に、図６のステップＳ６では、基板１０Ａに向けてヘッド１１４の全ノズルから機能液１１１を再度、吐出する。なお、機能液１１１の吐出方法は、ステップＳ１で示した方法と同じであるので説明を省略する。

最後に、図６のステップＳ７では、基板１０Ａ上に滴下された液滴の着弾径を再度、測定し、その着弾径が規格内であるかどうかを判定する。なお、着弾径の測定方法は、ステップＳ２で示した方法と同じであるので説明を省略する。そして、着弾径が規格内であれば、液滴吐出装置１００は、描画を開始する。着弾径が規格内でなければ、ステップＳ３に戻る。

次に、本発明の液滴吐出装置を用いた層形成方法について説明する。

図８は、基板の表面に対応付けられたブロックを示す模式図である。図９は、ブロックに液滴を配置する順番を示す図である。
（層形成方法）

本実施形態の層形成方法を具体的に説明する。以下で説明する層形成方法によれば、基板１０Ａの表面に液滴Ｄが配置されて、べた状パターン７（図１６参照）が設けられる。さらに、べた状パターン７が活性化されて最終的にべた状の導電層８（図１７参照）が得られる。ここで、層形成方法において液滴Ｄを配置する方法は、上述の液滴吐出装置１００によって実行される。

（１．ブロック）
図８に示すように、基板１０Ａの表面のうち、少なくとも導電層８（図１７参照）が形成される範囲に、仮想的な複数のブロック１を対応付ける。これら複数のブロック１は、Ｘ軸方向とＹ軸方向とで決まるアレイ状に並んでいる。ここでは、複数のブロック１のそれぞれのＸ軸方向に沿った長さはそれぞれ１１μｍであり、Ｙ軸方向に沿った長さはそれぞれ１５μｍである。なお、以下では、導電層８が形成されるべき範囲を「層形成範囲」とも表記する。

複数のブロック１のそれぞれは、液滴Ｄが配置され得る領域である。本実施形態では、ある１つのブロック１に液滴Ｄが配置される場合には、そのブロック１の中心と、配置される液滴Ｄの中心とがほぼ一致するように、液滴Ｄが配置される。ここで、複数のブロック１のＸ軸方向のピッチは、Ｘ軸方向に隣合う２つの液滴Ｄの中心間距離に対応している。同様に、複数のブロック１のＹ軸方向のピッチは、Ｙ軸方向に隣合う２つの液滴Ｄの最小中心間距離に対応する。なお、図８では、説明の便宜上、１４４個（１２×１２）のブロック１が描かれているが、実際のブロック１の数はこの数に限定されない。

さて、４ブロック×４ブロックで決まる１６個のブロック１の集合ごとに、ブロック群１Ｇが定義されている。そして、１つのブロック群１Ｇにおける１６個のブロック１のそれぞれを識別する目的で、それら１６個のブロック１のそれぞれは、文字「Ｃ」と２桁のサフィックスとからなる符号（例えばＣ１１）で表記されている。ここで、サフィックスの右側の数値はブロック群１ＧにおけるＹ軸方向に沿った位置を表しており、１から４までの整数である。一方、サフィックスの左側の数値はブロック群１ＧにおけるＸ軸方向の位置を表しており、１から４までの整数である。

そして、複数のＣ１１に着目すると、基板１０Ａの表面上では、複数のＣ１１が、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で決まるアレイ状に並んでいる。つまり、複数のＣ１１はアレイを構成している。具体的には、複数のＣ１１が、Ｘ軸方向にも、Ｙ軸方向にも、それらの合成方向Ｕにも、周期的に位置している。本実施形態では、隣合う任意の２つのＣ１１の中心間距離は、Ｘ軸方向では４４．０μｍである。同様に、Ｙ軸方向では６０．０μｍである。さらに、Ｘ軸方向とＹ軸方向との合成方向Ｕでは７４．４μｍである。なお、Ｘ軸方向とＹ軸方向との合成方向Ｕは、ブロック１の対角線の方向である。

複数のＣ３１も、複数のＣ１１と同様に、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で決まるアレイ状に並んでいる。他の種類のブロック１（つまりＣ１３，Ｃ３３）も、Ｃ１１と同様である。要するに、層形成範囲は、複数のＣ１１からなるアレイと、複数のＣ３１からなるアレイと、複数のＣ１３からなるアレイと、複数のＣ３３からなるアレイと、を含んでいる。
（２．機能液）

ここで、導電層８を設ける方法は、機能液１１１の液滴Ｄを配置する工程を含んでいる。「機能液」とは、液滴吐出装置１００のノズル１１８から液滴Ｄとして吐出され得る粘度を有する液状材料をいう。「機能液」が水性であると油性であるとを問わない。ノズル１１８から吐出可能な流動性（粘度）を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。「機能液」の粘度は１ｍＰａ・ｓ以上５０ｍＰａ・ｓ以下であるのが好ましい。粘度が１ｍＰａ・ｓ以上である場合には、「機能液」の液滴Ｄを吐出する際にノズル１１８の周辺部が「機能液」で汚染されにくい。一方、粘度が５０ｍＰａ・ｓ以下である場合は、ノズル１１８における目詰まり頻度が小さく、このため円滑な液滴Ｄの吐出を実現できる。

本実施形態の機能液１１１は、分散媒と、導電材料としての銀と、を含有する。ここで、機能液１１１における銀は、銀粒子の形態をしており、その銀粒子の平均粒径は１０ｎｍ程度である。そして、機能液において、銀粒子はコーティング剤で被覆されていて、コーティング剤で被覆された銀粒子は、分散媒中に安定して分散されている。なお、平均粒径が１ｎｍ程度から数１００ｎｍまでの粒子は、「ナノ粒子」とも表記される。この表記によれば、機能液は銀のナノ粒子を含んでいる。

分散媒（または溶媒）としては、銀粒子などの導電性微粒子を分散できるもので凝集を起こさないものであれば特に限定されない。例えば、水の他に、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、デカン、ドデカン、テトラデカン、トルエン、キシレン、シメン、デュレン、インデン、ジペンテン、テトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン、シクロヘキシルベンゼンなどの炭化水素系化合物、またエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ビス（２−メトキシエチル）エーテル、ｐ−ジオキサンなどのエーテル系化合物、さらにプロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノンなどの極性化合物を例示できる。これらのうち、導電性微粒子の分散性と分散液の安定性、またインクジェットプロセスへの適用の容易さの点で、水、アルコール類、炭化水素系化合物、エーテル系化合物が好ましく、より好ましい分散媒としては、水、炭化水素系化合物を挙げることができる。

また、上述のコーティング剤は、銀原子に配位可能な化合物である。コーティング剤としては、アミン、アルコール、チオールなどが知られている。より具体的には、コーティング剤として、２−メチルアミノエタノール、ジエタノールアミン、ジエチルメチルアミン、２−ジメチルアミノエタノール、メチルジエタノールアミンなどのアミン化合物、アルキルアミン類、エチレンジアミン、アルキルアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、アルキルチオール類、エタンジチオールなどがある。コーティング剤で被覆された銀のナノ粒子は、分散媒中でより安定して分散され得る。
（３．液滴の配置順序）

以下では、図９の右上のブロック１を基準にして９ブロック×９ブロックに対応する層形成範囲（図９の斜線部分）に、べた状パターンを設ける。ここでの「べた状パターン」とは、後述する活性化工程を経て、導電層８になる層である。なお、配置された液滴は表面上で若干濡れ拡がるので、９ブロック×９ブロックに対応する層形成範囲の面積は、９ブロック×９ブロックの面積よりもやや大きい。

もちろん、他の実施形態では層形成範囲が、９ブロック×９ブロック以外に対応してもよい。例えば、層形成範囲が、１００ブロック×１００ブロックに対応する範囲であってもよいし、１ブロック×５ブロックに対応する範囲であってもよい。ただし、層形成範囲は、１）Ｃ１１を含むロウまたはカラムが層形成範囲の最も外側に対応し、および／または、２）Ｃ１１が層形成範囲の隅に対応するように、設定される。なお、ここでの「ロウ」とは、Ｘ軸方向に一列に並んだブロック１の集合を意味し、「カラム」とは、Ｙ軸方向に一列に並んだブロック１の集合を意味する。

図９を参照しながら、層形成範囲に液滴Ｄを配置する方法について説明する。ここで、複数のブロック群１Ｇ（図８参照）のいずれにおいても、液滴Ｄを配置させる順番は同じである。具体的には、図９に示すように、複数のブロック群１Ｇのそれぞれにおいて、液滴Ｄを配置する順番は、Ｃ１１、Ｃ３１，Ｃ１３，Ｃ３３の順番である。

ただし、図９の左上に位置するブロック群１Ｇと、左中央に位置するブロック群１Ｇと、において、Ｃ１１，Ｃ１３は層形成範囲に対応するが、Ｃ３１，Ｃ３３は層形成範囲に対応しない。このため、これらのブロック群１Ｇでは、Ｃ３１，Ｃ３３への液滴の配置はスキップされる。同様に、図９の左下のブロック群１Ｇにおいて、Ｃ１１は層形成範囲に対応するが、Ｃ３１，Ｃ１３，Ｃ３３は層形成範囲に対応しない。このため、このブロック群１Ｇについては、Ｃ３１，Ｃ１３，Ｃ３３への液滴の配置がスキップされる。さらに、図９の中央下に位置するブロック群１Ｇと、右下に位置するブロック群１Ｇと、において、Ｃ１１，Ｃ３１は層形成範囲に対応するが、Ｃ１３，Ｃ３３は層形成範囲に対応しない。このため、これらのブロック群１Ｇについては、Ｃ１３，Ｃ３３への液滴の配置がスキップされる。
（３Ａ．基本ドットの配置工程）

まず、配置された液滴Ｄが走査方向に直交する方向（Ｘ軸方向）に繋がってライン状パターン５（図１２参照）が得られるように、ブロック１の大きさと、ブロック群１Ｇに含まれるブロック１の数と、液滴Ｄの着弾径と、の少なくとも１つを調整する。本実施形態ではこの調整の結果、上述のように、ブロック１の横×縦の大きさが１１μｍ×１５μｍの大きさに設定されており、１つのブロック群１Ｇに含まれるブロック１の数が１６個に設定されている。

このようなブロック１およびブロック群１Ｇに対して、液滴Ｄの着弾径を３０μｍに設定する。着弾径とは、基板１０Ａに配置された液滴Ｄが基板１０Ａ上で濡れ拡がる範囲の直径とも言える。ここで、ノズル１１８から吐出された機能液１１は、吐出方向に関してほぼ軸対称なので、基板１０Ａに着弾後の液滴Ｄの形状は、ほぼ円形になる。基板１０Ａ上に着弾した液滴Ｄを「ドット」とも表記する。

図１０は、液滴を配置する方法を説明するための説明図である。

図１０に示すように、層形成範囲内の複数のＣ１１のそれぞれに、１つの液滴Ｄをそれぞれ配置する。つまり、複数のブロック群１Ｇのそれぞれにおいて、四隅に対応する４つのブロック１の１つに、液滴Ｄを配置する。この際に、Ｃ１１の中心に液滴Ｄの中心が位置するように、液滴Ｄを配置する。なお、１つのブロック群１Ｇに対応する範囲において、最初に配置された液滴Ｄを「基本ドット」とも表記する。

Ｃ１１に液滴Ｄを配置する工程のより詳細は、以下の通りである。

本実施形態では、ノズル列１１６における複数のノズル１１８を利用して、層形成範囲内のＣ１１に液滴Ｄを配置する。より具体的には、ある１つのノズル１１８のＸ座標と、ある１つのカラムにおけるＣ１１のＸ座標と、が一致するように、ヘッド１１４をステージ１０６に対して位置決めする。例えば、図８に示すように、紙面の最も右のノズル１１８のＸ座標と、最も右のカラムのＣ１１のＸ座標と、を一致させる。そして、ヘッド１１４のＸ座標を維持したまま、ステージ１０６を走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動する。そうすると、そのカラムにおける複数のＣ１１のそれぞれに、その１つのノズル１１８が対面する。そこで、適切なタイミングでノズル１１８から液滴Ｄを吐出すると、そのカラムにおける複数のＣ１１に液滴Ｄが配置される。なお、ここでの「カラム」とは、走査方向（Ｙ軸方向）に一列に並んだブロック１の集合のことである。

次に、他の１つのノズル１１８のＸ座標と、他のカラムにおけるＣ１１のＸ座標と、が一致するように、ヘッド１１４をＸ軸方向に相対移動する。例えば、図８に示す右から２番目のノズル１１８のＸ座標と、左から４番目のカラムのＣ１１のＸ座標と、を一致させる（図８ではそれらはまだ一致していない）。そして、先のカラムと同様に、ヘッド１１４のＸ座標を維持したまま、ステージ１０６を走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させる。そうすると、そのカラムにおける複数のＣ１１のそれぞれに、その１つのノズル１１８が対面する。そこで、適切なタイミングでノズル１１８から液滴Ｄを吐出すると、そのカラムにおける複数のＣ１１に液滴Ｄが配置される。

以上の説明から明らかなように、Ｃ１１に液滴Ｄを配置する際に、Ｃ１１からなるアレイにおいて、同じカラムに属する複数のＣ１１のすべてに、同じノズル１１８が割り当てられる。しかしながら、カラムが変われば、割り当てられるノズル１１８が変わり得る。

図１０に戻り、上述のように、液滴Ｄの着弾径が３０μｍなので、Ｃ１１に液滴Ｄが配置されると、Ｃ１１の中心から１５μｍの範囲に液滴Ｄが拡がる。この結果、ドット状パターン４が得られる。ここで、Ｘ軸方向に互いに隣合う２つのＣ１１の中心間の距離は４４μｍであり、そして、Ｙ軸方向に互いに隣合う２つのＣ１１の中心間の距離は６０μｍである。さらに、Ｘ軸方向とＹ軸方向との合成方向Ｕに互いに隣合う２つのＣ１１の中心間の距離は約７４．４μｍである。したがって、任意のＣ１１上のドット状パターン４はいずれも隣のＣ１１上のドット状パターン４に接することはない。つまり、任意のＣ１１上のドット状パターン４はいずれも隣のＣ１１上のドット状パターン４から孤立している。

以上のような結果、基板１０Ａの表面上で、複数のドット状パターン４がＸ軸方向とＹ軸方向とで決まるアレイ状にかつそれぞれ孤立して並ぶ。なお、複数のＣ１１と複数のドット状パターン４とは対応しているので、Ｃ１１の数とドット状パターン４の数とは同じである。

なお、Ｃ１１が「基準領域」の一例である。
（３Ｂ．基本ドットの固定工程）

Ｃ１１に液滴Ｄを配置した後で、複数のＣ１１のそれぞれに配置された液滴Ｄを固定する。具体的には、ドット状パターン４を構成する機能液１１１から溶媒（または分散媒）が気化する程度にドット状パターン４を乾燥させる。本実施形態では、ドライヤーから熱風をドット状パターン４に吹き付ける。通常、撥液性を有する表面上で機能液１１１は移動し易い。しかしながら、本実施形態では、機能液１１１からなるドット状パターン４を、このように乾燥させるのでドット状パターン４が流動性を失う。そのため、ドット状パターン４がＣ１１に固定される。この結果、Ｃ１１上のドット状パターン４が、後にＣ３１，Ｃ１３、およびＣ３３に配置されるそれぞれの液滴Ｄに接しても、Ｃ３１，Ｃ１３、またはＣ３３へ引き寄せられる可能性が低くなる。このため、最終的に得られる導電層８（図１７参照）に穴が開く可能性が低くなる。
（３Ｃ．親液化）

次に、図示はしていないが、基板１０Ａの表面を親液化する。本実施形態では、固定されたドット状パターン４上に液滴Ｄを配置する。つまり、複数のＣ１１のそれぞれに再び１つの液滴Ｄをそれぞれ配置する。そうすると、後にＣ３１に配置される液滴Ｄに対して、Ｃ３１が親液性を呈するようになる。この結果、Ｃ３１に配置された液滴ＤがＣ１１上のドット状パターン４に接しても、Ｃ３１に配置された液滴ＤがＣ１１へ引き寄せられる可能性が低くなる。そしてこのため、最終的に得られる導電層８に穴が開く可能性が低くなる。なお、Ｃ１１に再び液滴Ｄを配置することによって基板１０Ａの表面（Ｃ３１）が親液性を呈することのメカニズムは十分理解されていない。ただし、現時点で発明者らは、再び配置された液滴Ｄがもたらす溶媒雰囲気が、基板１０ＡまたはＣ３１での親液性の発現に寄与している、と推測している。

ここで、Ｃ１１に再び配置される液滴Ｄの体積は、Ｃ１１に最初に配置された液滴Ｄの体積よりも小さくてよい。具体的には、Ｃ３１が親液性を発現するとともに、Ｃ１１上のドット状パターン４が隣のＣ１１のドット状パターン４から孤立し続ける程度の体積の液滴ＤをＣ１１に再び配置してよい。もちろん、Ｃ１１に再び配置される液滴Ｄの体積は、Ｃ１１に最初に配置された液滴Ｄの体積以上であってもよい。
（３Ｄ．第１の接続ドットの配置工程）

次に、液滴吐出装置１００から吐出される液滴Ｄの着弾径を３２μｍに設定する。つまり、Ｃ１１に配置された液滴Ｄの体積よりも大きい体積の液滴Ｄを吐出するように、液滴吐出装置１００の駆動信号ＤＳ（図５（ｂ）参照）を変える。なお、駆動信号ＤＳを変える技術（いわゆるバリアブルドットを実現する技術）の詳細は、特開２００１−５８４３３号公報の図５〜図８において説明されているので、ここではその説明を省略する。

図１１は、液滴を配置する方法を説明するための説明図である。

図１１に示すように、複数のＣ３１のそれぞれに、１つの液滴Ｄをそれぞれ配置する。この際に、Ｃ３１の中心に液滴Ｄの中心が位置するように、液滴Ｄを配置する。ここで、Ｃ３１は、Ｘ軸方向に隣合う２つのＣ１１の中間にある。このため、Ｃ３１とＣ３１に最も近いＣ１１との間の距離は２２μｍである。そして、Ｃ１１上のドット状パターン４は、Ｃ１１の中心から１５μｍの範囲に拡がっている。一方、Ｃ３１上では、液滴ＤがＣ３１の中心から１６μｍの範囲に拡がるので、Ｃ３１に配置された液滴Ｄは、Ｃ１１上のドット状パターン４に接する。なお、本明細書では、Ｃ３１，Ｃ１３，Ｃ３３に配置される液滴Ｄを「接続ドット」とも表記する。

Ｃ３１に液滴Ｄを配置する工程のより詳細は、以下の通りである。

本実施形態では、ノズル列１１６における複数のノズル１１８を利用して、Ｃ３１に液滴Ｄを配置する。より具体的には、上述のＣ１１への液滴の配置する方法と同様に、ある１つのノズル１１８のＸ座標と、あるカラムにおけるＣ３１のＸ座標と、が一致するように、ヘッド１１４をステージ１０６に対して位置決めする。そして、ヘッド１１４のＸ座標を維持したまま、ステージ１０６を走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動する。そうすると、そのカラムにおける複数のＣ３１のそれぞれに、その１つのノズル１１８が対面する。そこで、適切なタイミングでノズル１１８から液滴Ｄを吐出すると、そのカラムにおける複数のＣ３１のそれぞれに液滴Ｄが配置される。

次に、他の１つのノズル１１８のＸ座標と、他のカラムにおけるＣ３１のＸ座標と、が一致するように、ヘッド１１４をＸ軸方向に相対移動する。そして、先のカラムと同様に、ヘッド１１４のＸ座標を維持したまま、ステージ１０６を走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動して、そのカラムの複数のＣ３１のそれぞれにそれぞれの液滴Ｄを配置する。

以上の説明から明らかなように、Ｃ３１に液滴Ｄを配置する際に、Ｃ３１からなるアレイにおいて、同じカラムに属する複数のＣ３１のすべてに、同じノズル１１８が割り当てられる。しかしながら、カラムが変われば、割り当てられるノズル１１８が変わり得る。

このように、Ｃ１１に対してＸ軸方向に位置するＣ３１に液滴Ｄを配置する。そして、ドット状パターン４がＸ軸方向に延びる。さらに、Ｘ軸方向に並んだ複数のドット状パターン４がＸ軸方向に繋がる。

図１２は、ライン状パターンを示す図である。

Ｃ３１に液滴Ｄを配置し終えると、図１２に示すように、Ｃ１１に配置された液滴Ｄと、Ｃ３１に配置された液滴Ｄとから構成される複数のライン状パターン５が現れる。これら複数のライン状パターン５のそれぞれは、Ｘ軸方向に形成されているとともに、孤立して形成されている。
（３Ｅ．第２の接続ドットの配置工程）

図１３は、液滴を配置する方法を説明するための説明図である。

層形成範囲内のＣ３１のすべてに液滴Ｄを配置した後で、液滴吐出装置１００から吐出される液滴Ｄの着弾径を３２μｍに設定する。そして、図１３に示すように、複数のＣ１３のそれぞれに、１つの液滴Ｄをそれぞれ配置する。この際に、Ｃ１３の中心に液滴Ｄの中心が位置するように、液滴Ｄを配置する。ここで、Ｃ１３は、Ｙ軸方向に隣合う２つのＣ１１の中間にある。このため、Ｃ１３とＣ１３に最も近いＣ１１との間の距離は３０μｍである。そして、Ｃ１１に配置された液滴Ｄは、Ｃ１１の中心から１５μｍの範囲に拡がっている。一方、Ｃ１３上では、液滴ＤがＣ１３の中心から１６μｍの範囲に拡がるので、Ｃ１３に配置された液滴Ｄは、ライン状パターン５に接する。

Ｃ１３に液滴Ｄを配置する工程のより詳細は、以下の通りである。

本実施形態では、ノズル列１１６における複数のノズル１１８を利用して、Ｃ１３に液滴Ｄを配置する。より具体的には、上述のＣ１１への液滴Ｄの配置する方法と同様に、ある１つのノズル１１８のＸ座標と、あるカラムにおけるＣ１３のＸ座標と、が一致するように、ヘッド１１４をステージ１０６に対して位置決めする。そして、ヘッド１１４のＸ座標を維持したまま、ステージ１０６を走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動する。そうすると、そのカラムにおける複数のＣ１３のそれぞれに、その１つのノズル１１８が対面する。そこで、適切なタイミングでノズル１１８から液滴Ｄを吐出すると、そのカラムにおける複数のＣ１３のそれぞれに液滴Ｄが配置される。

次に、他の１つのノズル１１８のＸ座標と、他のカラムにおけるＣ１３のＸ座標と、が一致するように、ヘッド１１４をＸ軸方向に相対移動する。そして、先のカラムと同様に、ヘッド１１４のＸ座標を維持したまま、ステージ１０６を走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動して、そのカラムの複数のＣ１３のそれぞれにそれぞれの液滴Ｄを配置する。

以上の説明から明らかなように、Ｃ１３に液滴Ｄを配置する際に、Ｃ１３からなるアレイにおいて、同じカラムに属する複数のＣ１３のすべてに、同じノズル１１８が割り当てられる。しかしながら、カラムが変われば、割り当てられるノズル１１８が変わり得る。

このように、Ｃ１１に対してＹ軸方向に位置するＣ１３に液滴Ｄを配置する。そして、複数のライン状パターン５のそれぞれがＹ軸方向に形成されている。

図１４は、格子状パターンを示す図である。

図１４に示すように、Ｃ１３に液滴Ｄを配置し終えると、Ｃ１１に配置された液滴Ｄと、Ｃ３１に配置された液滴Ｄと、Ｃ１３に配置された液滴Ｄと、から構成される格子状パターン６が現れる。
（３Ｆ．第３の接続ドットの配置工程）

図１５は、液滴を配置する方法を説明するための説明図である。

Ｃ１３に液滴Ｄを配置した後で、液滴吐出装置１００から吐出される液滴Ｄの着弾径を３２μｍに設定する。そして、図１５に示すように、複数のＣ３３のそれぞれに、１つの液滴Ｄをそれぞれ配置する。この際に、Ｃ３３の中心に液滴Ｄの中心が位置するように、液滴Ｄを配置する。ここで、Ｃ３３は、Ｘ軸方向とＹ軸方向との合成方向Ｕに隣合う２つのＣ１１の中間にある。そして、Ｃ３３に配置される液滴Ｄは、すでに配置された液滴Ｄから構成される格子状パターン６の穴を埋める。そしてこのため、Ｃ３３への液滴Ｄの配置によって、すでに配置された液滴Ｄから構成された格子状パターン６は、合成方向Ｕに延びる。

Ｃ３３に液滴Ｄを配置する工程のより詳細は、以下の通りである。

本実施形態では、ノズル列１１６における複数のノズル１１８を利用して、Ｃ３３に液滴Ｄを配置する。具体的には、上述のＣ１１への液滴Ｄの配置する方法と同様に、ある１つのノズル１１８のＸ座標と、あるカラムにおけるＣ３３のＸ座標と、が一致するように、ヘッド１１４をステージ１０６に対して位置決めする。そして、ヘッド１１４のＸ座標を維持したまま、ステージ１０６を走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動する。そうすると、そのカラムにおける複数のＣ３３のそれぞれに、その１つのノズル１１８が対面する。そこで、適切なタイミングでノズル１１８から液滴Ｄを吐出すると、そのカラムにおける複数のＣ３３のそれぞれに液滴Ｄが配置される。

次に、他の１つのノズル１１８のＸ座標と、他のカラムにおけるＣ３３のＸ座標と、が一致するように、ヘッド１１４をＸ軸方向に相対移動する。そして、先のカラムと同様に、ヘッド１１４のＸ座標を維持したまま、ステージ１０６を走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動して、そのカラムの複数のＣ３３のそれぞれにそれぞれの液滴Ｄを配置する。

以上の説明から明らかなように、Ｃ３３に液滴Ｄを配置する際に、Ｃ３３からなるアレイにおいて、同じカラムに属する複数のＣ３３のすべてに、同じノズル１１８が割り当てられる。しかしながら、カラムが変われば、割り当てられるノズル１１８が変わり得る。

図１６は、べた状パターンを示す図である。

Ｃ３３に液滴Ｄを配置し終えると、図１６に示すように、Ｃ１１に配置された液滴Ｄと、Ｃ３１に配置された液滴Ｄと、Ｃ１３に配置された液滴Ｄと、Ｃ３３に配置された液滴Ｄと、から構成されるべた状パターン７が現れる。本実施形態では、基板１０Ａの表面上の９ブロック×９ブロックに対応する層形成範囲は、隙間無くべた状パターン７に覆われる。なお、上述のように、液滴Ｄは表面上で拡がるので、べた状パターン７が覆う面積（層形成範囲の面積）は、９ブロック×９ブロックの面積よりも若干大きくなる。

このように、複数のブロック群１Ｇのそれぞれにおいて、Ｃ１１、Ｃ３１、Ｃ１３、Ｃ３３の順番で、それぞれの液滴Ｄを配置する。そうすれば、たとえ基板１０Ａの表面が撥液性を有していても、これら４つのブロック１に配置された液滴Ｄによって、Ｃ１１からＸ軸方向、Ｙ軸方向、および合成方向Ｕのそれぞれに連続したべた状パターン７が形成できる。つまり、穴のないべた状パターン７が形成される。
（３Ｇ．活性化工程）

図１７は、導電層を示す図である。

次に、べた状パターン７を活性化する。具体的には、べた状パターン７における銀粒子が焼結または融着するように、べた状パターン７を加熱する。そうすると、焼結または融着した銀粒子によってべた状パターン７において導電性が発現し、この結果、図１７に示すような、導電層８が得られる。

図１８は、ブロックに液滴を配置する他の方法を説明するための説明図である。

ここで、得られる導電層８の厚さの均一性が十分ではない場合には、活性化に先立って、図１８に示すように、それぞれのブロック群１Ｇにおいて、さらに１２個の液滴Ｄを配置してもよい。具体的には、Ｃ１１、Ｃ３１、Ｃ１３、Ｃ３３の４つのブロック１に加えて、Ｃ２１、Ｃ４１、Ｃ２３、Ｃ４３、Ｃ１２、Ｃ３２、Ｃ１４、Ｃ３４、Ｃ２２、Ｃ４２、Ｃ２４、Ｃ４４の１２個のブロック１のそれぞれにこの順番で、液滴Ｄを配置してもよい。つまり、ブロック群１Ｇにおけるブロック１の全てに液滴Ｄを配置してもよい。そうすれば、より均一な厚さの導電層８が得られる。なお、追加で配置される１２個の液滴Ｄの体積は、先に配置された４つの液滴Ｄの体積よりも小さくてもよい。

このように、本実施形態によれば、まず、基板１０Ａ上に複数のドット状パターン４が配置される。その後、Ｘ軸方向に複数のライン状パターン５が形成される。その次に、複数のライン状パターン５がＹ軸方向に繋がって、格子状パターン６が現れる。最後に、残ったスペースに液滴Ｄが配置されて、２次元的に連続なべた状パターン７が形成される。そして、べた状パターン７を活性化することで、穴のない導電層８が得られる。

さて、ブロック群１Ｇ内の液滴Ｄの配置順序が上述の順序である限り、複数のブロック群１Ｇ間の順番になんら制限はない。例えば、Ｘ軸方向において、１つの列を構成する複数のブロック群１Ｇがほぼ同時に処理されてよい。同様に、Ｙ軸方向においても、１つの列を構成する複数のブロック群１Ｇがほぼ同時に処理されてもよい。また、１つのブロック群１Ｇづつが順番に処理されてもよい。

以上の説明から明らかなように、本実施形態の層形成方法では、最初の２種類のブロック１に液滴Ｄが配置され終えた時点で、Ｘ軸方向に複数の孤立したライン状パターン５が形成される。具体的には、このようなライン状パターン５が得られるように、１）液滴Ｄの配置の順番と、２）ブロック１の大きさと、３）ブロック群１Ｇに含まれるブロック１の数と、４）液滴Ｄの着弾径と、の少なくとも１つが設定されている。このように、走査方向に直交する方向（Ｘ軸方向）に延びる複数の孤立したライン状パターン５が得られれば、良好なべた状パターン７が得られる可能性が高い。なお、本実施形態では、最初の２種類のブロック１は、Ｃ１１とＣ３１である。

上述のように、１つのカラムにおける複数のブロック１に液滴Ｄを配置する場合、１つのカラムに対して１つのノズル１１８が割り当てられる。このため、たとえ複数のノズル１１８の間で飛行経路のばらつきがあっても、配置された液滴Ｄの走査方向に沿った間隔は一定になる。なお、この場合、配置された液滴Ｄの走査方向に沿った間隔は、吐出周期ＥＰ（図５（ｂ）参照）と、ステージ１０６の相対移動速度と、の積の整数倍で決まる。

一方で、１つのロウにおける複数のブロック１に液滴Ｄを配置する場合、１つのロウに対して複数のノズル１１８が割り当てられる。ここでの「ロウ」とは、Ｘ軸方向に一列に並んだブロック１の集合のことである。このように複数のノズル１１８が割り当てられるので、複数のノズル１１８間に飛行経路のばらつきがあると、配置された液滴ＤのＸ軸方向の間隔が、一定にならないことがある。もちろん、Ｘ軸方向でのこのような飛行経路のばらつきが許容範囲内に収まるように、ヘッド１１４は調整されている。ところがそれでも、Ｘ軸方向の飛行経路のばらつきは、ノズル１１８内での機能液１１１の付着などによって、時間とともに変化し得るし、偶発的な飛行経路の曲がりも生じるかもしれない。Ｘ軸方向でのそのような飛行経路のばらつきがあると、配置された液滴Ｄによって得られるドットがＸ軸方向に繋がらないことがあるので、ライン状パターン５が得られないこともある。

したがって、べた状パターン７を形成する過程では、Ｘ軸方向に複数の孤立したライン状パターン５が形成されることを確認できたほうがよい。本実施形態の層形成方法によれば、最初の２種類のブロック１へ液滴Ｄを配置し終えた時点で、Ｘ軸方向にライン状パターン５を得られる。もし、最初の２種類のブロック１へ液滴Ｄを配置し終えた時点で、ライン状パターン５を得られることができなかった場合には、その基板１０Ａは不良品としてラベルされる。しかしながら、ライン状パターン５が得られないため不良品となる場合でも、残りの２種類のブロック１への液滴Ｄの配置をしていないので、機能液１１１の無駄な消費が抑えられ得る。

以上の実施形態では、以下の効果が得られる。

（１）液滴Ｄの着弾径を測定し、着弾径の測定結果に基づいて、基準領域の広さを決めるためのグリッドサイズＭを演算してから描画を開始する描画装置１００なので、液滴Ｄの着弾径の大きさに応じてグリッドサイズＭを決めることができる。そして、グリッドサイズＭを事前に決めておくので、滴下した液滴Ｄ同士が重なることや、液滴Ｄが欠如する箇所を低減させることができる。したがって、品質の安定した導電層８を描画することが可能な描画装置１００を提供できる。
（２）制御部１１２は、描画データ蓄積部としての記録部２０５を備えているから、記録部２０５から着弾径のデータを取り出すことができる。そして、記録部２０５に蓄積された描画データをリアルタイムに活用することで、導電層８を描画するために必要な描画データを短時間で選択して決定することができるので、効率的に描画をすることが可能な描画装置１００を提供できる。
（３）制御部１１２は、着弾径を測定するときのタイミングを検出する検出部としての計測部２０３を備えているから、着弾時の着弾径の大きさを精度よく測定できることになるので、必要なグリッドサイズＭを演算部２０６で演算することによって、着弾径の大きさに応じた広さを精度良く設定することができる。しかも、着弾径を計測するタイミングを任意に設定できる。また、短時間で設定できるので、効率的で精度の高い描画をすることが可能な描画装置１００を提供できる。
（４）制御部１１２は、液滴の吐出量を調整する駆動電圧調整部２０７を備えているから、グリッドサイズＭに応じて滴下する機能液１１１の吐出量を調整することができるので、着弾径のばらつきを低減させることができる。着弾径のばらつきを低減できれば、安定した品質の導電層８を描画できる描画装置１００を提供できる。
（５）安定した品質の導電層８を描画できる描画装置１００を用いてパターンを形成するので、品質の安定した回路基板８０を提供できる。

以上、好ましい実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、以下に示すような変形をも含み、本発明の目的を達成できる範囲で、他のいずれの具体的な構造および形状に設定できる。

（変形例１）上記実施形態の機能液には、銀のナノ粒子が含まれている。しかしながら、銀のナノ粒子に代えて、他の金属のナノ粒子が用いられてもよい。ここで、他の金属として、例えば、金、白金、銅、パラジウム、ロジウム、オスミウム、ルテニウム、イリジウム、鉄、錫、亜鉛、コバルト、ニッケル、クロム、チタン、タンタル、タングステン、インジウムのいずれか１つが利用されてもよいし、または、いずれか２つ以上が組合せられた合金が利用されてもよい。ただし、銀であれば比較的低温で還元できるため、扱いが容易であり、この点で、液滴吐出装置を利用する場合には、銀のナノ粒子を含有する機能液を利用することは好ましい。

また、機能液が、金属のナノ粒子に代えて、有機金属化合物を含んでいてもよい。ここでいう有機金属化合物は、加熱による分解によって金属が析出するような化合物である。このような有機金属化合物には、クロロトリエチルホスフィン金（Ｉ）、クロロトリメチルホスフィン金（Ｉ）、クロロトリフェニルフォスフィン金（Ｉ）、銀（Ｉ）２，４−ペンタンヂオナト錯体、トリメチルホスフィン（ヘキサフルオロアセチルアセトナート）銀（Ｉ）錯体、銅（Ｉ）ヘキサフルオロペンタンジオナトシクロオクタジエン錯体、などがある。

このように、機能液に含まれる金属の形態は、ナノ粒子に代表される粒子の形態でもよいし、有機金属化合物のような化合物の形態でもよい。

さらに、機能液は、金属に代えて、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリフェニレンビニレン、ポリ（３，４エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）などの導電性高分子の可溶性材料を含んでいてもよい。

（変形例２）上記実施形態で、ポリイミドからなる基板１０Ａ上に液滴Ｄが配置される構成としたが、これに限らない。例えばポリイミドに代えて、セラミック基板、ガラス基板、エポキシ基板、ガラスエポキシ基板、またはシリコン基板などが利用されてもよい。このようにすれば、上記実施形態で得られた効果と同様の効果が得られる。また、液滴Ｄが配置される表面は、基板の表面に限定されない。ほぼ平坦な絶縁層の表面またはほぼ平坦な導電層の表面でもよい。

本実施形態の描画装置の構成を示す概略図。 描画装置のヘッドにおけるノズル列を示す模式図。 ヘッドの構造を示す模式図であり、（ａ）は、概略斜視図であり、（ｂ）は、概略断面図。 液滴吐出装置の制御部を示すブロック図。 （ａ）は、制御部におけるヘッド駆動部を示す模式図であり、（ｂ）は、選択信号と駆動信号と吐出信号を示すタイミングチャート。 グリッドサイズの変更方法を示すフローチャート。 着弾径の測定方法、およびグリッドサイズの変更方法を説明するための説明図。 基板の表面に対応付けられたブロックを示す模式図。 ブロックに液滴を配置する順番を示す図。 液滴を配置する方法を説明するための説明図。 液滴を配置する方法を説明するための説明図。 液滴が配置された後に得られるライン状パターンを示す模式図。 液滴を配置する方法を説明するための説明図。 液滴が配置された後に得られる格子状パターンを示す模式図。 液滴を配置する方法を説明するための説明図。 液滴が配置された後に得られるべた状パターンを示す模式図。 図１４のべた状パターンを活性して得られる導電層を示す模式図。 ブロックに液滴を配置する他の方法を説明するための説明図。

符号の説明

Ｄ…液滴、Ｕ…合成方向、１…ブロック、１Ｇ…ブロック群、４…ドット状パターン、５…ライン状パターン、６…格子状パターン、７…べた状パターン、８…導電層、１０Ａ…基板、８０…回路基板、１００…液滴吐出装置、１０４…第１位置制御装置、１０６…ステージ、１０８…第２位置制御装置、１１１…機能液、１１２…制御部、１１４…ヘッド、１１６…ノズル列、１１８…ノズル、１４０…測定部、１４２…測定装置としての画像認識可能なカメラ、２０１…処理部、２０３…検出部としての計測部、２０５…データ蓄積部としての記録部、２０６…演算部、２０７…ヘッド駆動電圧調整部、２０８…走査駆動部、２０９…ヘッド駆動部、Ｃ１１…基準領域、Ｍ…基準領域の広さを決めるためのグリッドサイズ。

Claims (5)

1. 基板上の基準領域にパターンを描画する描画装置であって、
   前記基板を第１走査方向に移動させる第１位置制御装置と、
   前記基板上に液滴を吐出する液滴吐出ヘッドを搭載するとともに、前記第１走査方向と略直交する第２走査方向に前記液滴吐出ヘッドを移動させる第２位置制御装置と、
   前記液滴吐出ヘッドから吐出された前記液滴の着弾径を測定する測定部と、
   前記測定部で測定された前記着弾径の測定結果に基づいて、前記基準領域の広さを演算する演算部と、
   前記第１位置制御装置と、前記第２位置制御装置と、前記測定部と、前記演算部とを制御する制御部と、を備え、
   前記制御部が、前記基準領域の広さを決定してから描画を開始することを特徴とする描画装置。
2. 請求項１に記載の描画装置において、
   前記制御部が、前記着弾径の描画データを蓄積するデータ蓄積部を備えていることを特徴とする描画装置。
3. 請求項１または請求項２に記載の描画装置において、
   前記制御部が、前記着弾径を測定するときのタイミングを検出する検出部を備えていることを特徴とする描画装置。
4. 請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の描画装置において、
   前記制御部が、前記液滴の吐出量を調整する駆動電圧調整部を備えていることを特徴とする描画装置。
5. 基板と、
   前記基板上に形成されたパターンと、を有する回路基板であって、
   請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載の描画装置を用いて形成されたことを特徴とする回路基板。
   

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