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JP2007199340A - Electrooptical device and electronic equipment - Google Patents

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JP2007199340A
JP2007199340A JP2006017324A JP2006017324A JP2007199340A JP 2007199340 A JP2007199340 A JP 2007199340A JP 2006017324 A JP2006017324 A JP 2006017324A JP 2006017324 A JP2006017324 A JP 2006017324A JP 2007199340 A JP2007199340 A JP 2007199340A
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JP
Japan
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film
light
electro
shielding film
resin film
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2006017324A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshihiro Otake
俊裕 大竹
Katsuhiro Imai
克浩 今井
Takahito Harada
考人 原田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Epson Imaging Devices Corp
Original Assignee
Epson Imaging Devices Corp
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Publication date
Application filed by Epson Imaging Devices Corp filed Critical Epson Imaging Devices Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrooptical device, in such a structure that a light shield film is formed on a substrate where a data line is formed, which can increase the width of the light shield film although the data line is present. <P>SOLUTION: The electrooptical device has a first resin film 22 provided between a first light-transmissive substrate 7a and a liquid crystal layer 12, a second resin film 23 provided between the first resin 22 and liquid crystal layer 12, the data line 19 provided between the substrate 7a and first resin film 22, and the light shield film 28 provided between the first resin film 22 and second resin film 23. This electrooptical device includes the data line 19 and light shield film 28 on different planes, so the width of the light shield film 28 can be made wide up to a region overlapping with the data line 19 in a plane. Transmitted light transmitted through the substrate 7a can, therefore, be prevented from leaking from between light reflective films 24 into a reflection display region R. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示装置等といった電気光学装置に関する。また、本発明は、その電気光学装置を用いて構成する電子機器に関する。   The present invention relates to an electro-optical device such as a liquid crystal display device. The present invention also relates to an electronic apparatus configured using the electro-optical device.

現在、携帯電話機、携帯情報端末機の各種の電子機器では、当該電子機器に関する各種の情報を視覚的に表示するための表示部として、電気光学装置が用いられている。この電気光学装置としては、例えば、電気光学物質である液晶によって光を変調することにより文字、数字、図形等といった像を表示する液晶表示装置等が多く用いられている。液晶表示装置は、一般に、それぞれが電極を有する一対の基板間にシール材によって囲まれた空間を形成し、その空間内に液晶を封止する構造を有する。それらの電極を平面的に重ねて見ると、電極が重なる領域が行方向及び列方向にマトリクス状に並び、これらの各領域でサブ画素を構成する。そして、個々のサブ画素内に存在する液晶に印加する電圧を画素ごとに制御して液晶の配向を制御することにより表示が行われる。   Currently, in various electronic devices such as mobile phones and portable information terminals, electro-optical devices are used as display units for visually displaying various information related to the electronic devices. As this electro-optical device, for example, a liquid crystal display device that displays images such as letters, numbers, and figures by modulating light with a liquid crystal that is an electro-optical material is often used. In general, a liquid crystal display device has a structure in which a space surrounded by a sealing material is formed between a pair of substrates each having an electrode, and liquid crystal is sealed in the space. When these electrodes are viewed in a planar manner, the regions where the electrodes overlap are arranged in a matrix in the row and column directions, and each of these regions constitutes a subpixel. Then, display is performed by controlling the voltage applied to the liquid crystal existing in each sub-pixel for each pixel to control the alignment of the liquid crystal.

この液晶表示装置として、例えば、透光性のガラス基板上にTFD(Thin-Film-Diode)素子等のスイッチング素子や信号線等の導電パターンを形成し、その上に樹脂膜を形成し、その上に光反射膜を形成した構造のものが知られている。このような構造の液晶表示装置として、例えば半透過反射型の液晶表示装置がある。半透過反射型液晶表示装置では、表示が行われるときのその表示の最小単位であるサブ画素内に、光反射膜によって反射された反射光を用いて表示を行う反射表示領域と、透過光を用いて表示を行う透過表示領域とが設けられる。   As this liquid crystal display device, for example, a conductive pattern such as a switching element such as a TFD (Thin-Film-Diode) element or a signal line is formed on a translucent glass substrate, and a resin film is formed thereon, A structure having a light reflecting film formed thereon is known. As a liquid crystal display device having such a structure, for example, there is a transflective liquid crystal display device. In a transflective liquid crystal display device, a reflective display region that performs display using reflected light reflected by a light reflecting film and a transmitted light within a sub-pixel that is the minimum unit of display when display is performed. And a transmissive display area for performing display.

このような電気光学装置として、従来、互いに隣接するサブ画素同士の間の領域に遮光膜を設けたものが知られている(例えば、特許文献1又は特許文献2参照)。   As such an electro-optical device, a device in which a light-shielding film is provided in a region between adjacent sub-pixels is known (for example, see Patent Document 1 or Patent Document 2).

特開2005−241859号公報(第13頁、図5)Japanese Patent Laying-Open No. 2005-241859 (page 13, FIG. 5) 特開平11−212118号公報(第7頁、図1)Japanese Patent Laid-Open No. 11-212118 (page 7, FIG. 1)

電気光学装置において、遮光膜は、互いに隣接する光反射膜の間の領域に設けられ、当該光反射膜で反射した光を用いて表示を行う反射表示領域内に透過光が漏れ出ないように遮光する機能を有する。光反射膜は光反射性の材料をエッチング等によってパターニングすることにより所定の形状に形成されることが多い。また、遮光膜は、電極や信号線等といった導電パターンと同じ金属材料を用いてそれらの導電パターンと同時にパターニングすることにより形成されることが多い。この場合、導電パターンと遮光膜とは同一平面上に形成されることになる。   In the electro-optical device, the light shielding film is provided in a region between the light reflecting films adjacent to each other so that the transmitted light does not leak into the reflective display region where display is performed using the light reflected by the light reflecting film. Has the function of shielding light. The light reflecting film is often formed in a predetermined shape by patterning a light reflecting material by etching or the like. Further, the light shielding film is often formed by using the same metal material as the conductive pattern such as electrodes and signal lines and simultaneously patterning the conductive pattern. In this case, the conductive pattern and the light shielding film are formed on the same plane.

上記の遮光膜は、一般に、互いに隣接する光反射膜の間の領域の幅よりも広い幅に形成される。これは、光反射膜をパターニングする際の製作誤差等によって遮光膜と光反射膜との位置が所定の位置からずれた場合を考慮したものである。   The light shielding film is generally formed to have a width wider than the width of the region between the light reflecting films adjacent to each other. This is in consideration of a case where the positions of the light shielding film and the light reflecting film are shifted from a predetermined position due to a manufacturing error or the like when patterning the light reflecting film.

ところで、特許文献1に開示された電気光学装置において、遮光膜は、基板の表面に直接に設けられている。このような構成の電気光学装置において、遮光膜を導電パターンと同じ金属材料を用いて形成した場合、遮光膜の幅を広く形成したときには、導電パターンと遮光膜とが電気的に短絡するおそれがあった。そのため、遮光膜の幅を広くすることが難しかった。この点を考慮して、遮光膜の幅を狭くすると、仮に遮光膜と光反射膜との相対的な位置がずれた場合、透過光が遮光膜の端部から反射表示領域内に漏れ出て、その結果電気光学装置の表示のコントラストが低下するおそれがあった。   By the way, in the electro-optical device disclosed in Patent Document 1, the light shielding film is provided directly on the surface of the substrate. In the electro-optical device having such a configuration, when the light shielding film is formed using the same metal material as the conductive pattern, the conductive pattern and the light shielding film may be electrically short-circuited when the width of the light shielding film is wide. there were. Therefore, it is difficult to increase the width of the light shielding film. Considering this point, if the width of the light shielding film is reduced, if the relative position between the light shielding film and the light reflecting film is shifted, transmitted light leaks from the edge of the light shielding film into the reflective display area. As a result, the display contrast of the electro-optical device may be reduced.

また、特許文献2に開示された電気光学装置では、樹脂膜上に遮光膜を設けているが、この遮光膜は、主に液晶の配向不良や外部光に対するスイッチング素子の遮光を目的としたものであり、透過光の遮光に関しては考慮されていない。   In the electro-optical device disclosed in Patent Document 2, a light-shielding film is provided on a resin film. This light-shielding film is mainly intended for shielding liquid crystal alignment defects and switching elements against external light. Therefore, no consideration is given to the shielding of transmitted light.

本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、導電パターン等の導電膜が形成される基板上に遮光膜を形成する構成の電気光学装置において、導電膜があるにもかかわらず、遮光膜の幅を広くできるようにすることを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and in an electro-optical device having a configuration in which a light-shielding film is formed on a substrate on which a conductive film such as a conductive pattern is formed. Regardless, the object is to increase the width of the light shielding film.

本発明に係る第1の電気光学装置は、電気光学物質を支持する基板と、該基板と前記電気光学物質との間に設けられた第1樹脂膜と、該第1樹脂膜と前記電気光学物質との間に設けられた第2樹脂膜と、前記基板と前記第1樹脂膜との間に設けられた導電膜と、前記第1樹脂膜と前記第2樹脂膜の間に設けられた遮光膜とを有することを特徴とする。   A first electro-optical device according to the present invention includes a substrate that supports an electro-optical material, a first resin film provided between the substrate and the electro-optical material, the first resin film, and the electro-optical material. A second resin film provided between the substance, a conductive film provided between the substrate and the first resin film, and provided between the first resin film and the second resin film. And a light shielding film.

上記の電気光学装置では、基板と第1樹脂膜との間に導電膜を設け、第1樹脂膜と第2樹脂膜との間に遮光膜を設けることにした。すなわち、導電膜と遮光膜とを、第1樹脂膜を挟んで異なる平面上に設けることにより、導電膜と遮光膜とが接触して電気的に短絡することがなくなり、遮光膜の幅を平面的に見て遮光膜に近接又は重なる位置まで広く設けることができる。その結果、基板を透過する光を遮光膜によって確実に遮光できる。   In the above electro-optical device, a conductive film is provided between the substrate and the first resin film, and a light shielding film is provided between the first resin film and the second resin film. That is, by providing the conductive film and the light shielding film on different planes with the first resin film interposed therebetween, the conductive film and the light shielding film do not come into contact with each other and are electrically short-circuited, and the width of the light shielding film is flat. In view of this, it can be provided widely up to a position close to or overlapping the light shielding film. As a result, light transmitted through the substrate can be reliably shielded by the light shielding film.

また、上記構成の電気光学装置では、一般に、表示を行うための画素を構成する電極が樹脂膜上に設けられる。このような構成の場合、電極と導電膜との間隔が狭いときには、特に、電極とそれに接続されていない方の隣接する導電膜との間に寄生容量が生じることがある。この寄生容量は、例えば縦方向のクロストーク(いわゆる、縦クロストーク)を生じさせる。ここで縦クロストークとは、灰色などを背景色として、赤、青、緑等の単色、あるいは赤、青、緑の各色に対して補色の関係にある、シアン、マゼンタ、イエロー等の色を矩形状に表示したときに、その矩形状の表示領域の上下方向に位置する領域が、本来表示されるべき背景色より明るく表示されてしまい、且つ、微妙に色づいて表示されてしまう現象をいう。   In the electro-optical device having the above-described configuration, generally, an electrode constituting a pixel for display is provided on a resin film. In such a configuration, when the distance between the electrode and the conductive film is narrow, a parasitic capacitance may be generated between the electrode and the adjacent conductive film that is not connected to the electrode. This parasitic capacitance causes, for example, vertical crosstalk (so-called vertical crosstalk). Here, vertical crosstalk refers to colors such as cyan, magenta, and yellow that are complementary to each color of red, blue, and green, or a single color such as red, blue, and green, with gray as the background color. When displayed in a rectangular shape, the region located in the vertical direction of the rectangular display region is displayed brighter than the background color that should be displayed and is displayed in a slightly colored manner. .

本発明の電気光学装置では、基板上に第1樹脂膜と第2樹脂膜の2層の樹脂膜を設けることにより、基板上に厚い樹脂膜を設けることができる。これにより、基板上に設けられた導電膜と樹脂膜上に設けられた電極との間隔を広く設けることができるので、これらの導電膜と電極との間における寄生容量を低減し、クロストークの発生を防止できる。   In the electro-optical device of the present invention, a thick resin film can be provided on the substrate by providing the two resin films of the first resin film and the second resin film on the substrate. As a result, the gap between the conductive film provided on the substrate and the electrode provided on the resin film can be widened, so that the parasitic capacitance between the conductive film and the electrode is reduced and crosstalk is reduced. Occurrence can be prevented.

次に、本発明に係る第1の電気光学装置において、前記基板上にはサブ画素が複数並べて設けられ、個々の前記サブ画素の領域内には光反射膜が設けられ、前記遮光膜は、互いに隣接する前記サブ画素同士の境界であり、互いに隣接する前記光反射膜同士の間の領域に設けられることが望ましい。   Next, in the first electro-optical device according to the present invention, a plurality of subpixels are provided side by side on the substrate, a light reflecting film is provided in a region of each of the subpixels, and the light shielding film includes: It is desirable to provide a boundary between the sub-pixels adjacent to each other and a region between the light reflection films adjacent to each other.

本発明態様の電気光学装置において、サブ画素内の領域には、光反射膜が設けられた部分と光反射膜が設けられない部分とがある。光反射膜が設けられた領域では、例えば室内光等といった外部光を光反射膜によって反射して、その反射光を電気光学装置の表示に利用する、すなわち反射型の表示が行われる。他方、光反射膜が設けられない領域では、例えばバックライト等といった照明手段からの光が基板を透過して電気光学物質に供給されることによって、その透過光を電気光学装置の表示に利用する、いわゆる透過型の表示が行われる。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the region in the sub-pixel includes a portion where the light reflecting film is provided and a portion where the light reflecting film is not provided. In the region where the light reflecting film is provided, external light such as room light is reflected by the light reflecting film and the reflected light is used for display of the electro-optical device, that is, reflective display is performed. On the other hand, in a region where the light reflecting film is not provided, light from an illuminating unit such as a backlight is transmitted through the substrate and supplied to the electro-optical material, and the transmitted light is used for display of the electro-optical device. In other words, so-called transmissive display is performed.

本発明態様の電気光学装置は、互いに隣接する光反射膜同士の間の領域に遮光膜を設けることにより、光反射膜が設けられた領域、すなわち反射型の表示が行われる領域に透過光が漏れ出ることを防止できる。また、遮光膜を広い幅に設けることができるので、互いに隣接する光反射膜同士の間隔を広く設定しても、光反射膜の間からの光漏れを遮光膜によって防止できる。このように光反射膜同士の間隔を広くとることができれば、互いに隣接する光反射膜同士が接触して電気的に短絡することを防止できる。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, by providing a light shielding film in a region between adjacent light reflecting films, transmitted light is transmitted to a region where the light reflecting film is provided, that is, a region where a reflective display is performed. Leakage can be prevented. In addition, since the light shielding film can be provided with a wide width, light leakage from between the light reflecting films can be prevented by the light shielding film even if the interval between the light reflecting films adjacent to each other is set wide. Thus, if the space | interval of light reflection films can be taken widely, it can prevent that the light reflection films which mutually adjoin each other contact, and are electrically short-circuited.

次に、本発明に係る第1の電気光学装置において、前記遮光膜の幅をaとし、互いに隣接する前記光反射膜同士の間の領域の幅をbとしたとき、
a>b
であることが望ましい。こうすれば、光反射膜をフォトエッチング処理によってパターニングする際にオーバーエッチングが生じて、それらの光反射膜の間隔が所定の間隔より広く形成された場合であっても、幅が広い遮光膜により透過光を確実に遮光できる。
Next, in the first electro-optical device according to the invention, when the width of the light shielding film is a and the width of the region between the light reflecting films adjacent to each other is b,
a> b
It is desirable that In this case, even when the light reflecting film is patterned by photoetching, overetching occurs, and even if the distance between the light reflecting films is wider than a predetermined distance, Transmitted light can be reliably blocked.

次に、本発明に係る第2の電気光学装置は、電気光学物質を支持する基板と、該基板と前記電気光学物質との間に設けられた第1樹脂膜と、前記第1樹脂膜と前記電気光学物質との間に設けられた第2樹脂膜と、該第2樹脂膜内に設けられた凹部と、前記基板と前記第1樹脂膜との間に設けられた導電膜と、前記基板と前記第1樹脂膜との間の前記凹部に対向して設けられた第1遮光膜と、前記第1樹脂膜と前記第2樹脂膜との間の前記凹部の両側の側面に隣接して設けられた第2遮光膜とを有することを特徴とする。   Next, a second electro-optical device according to the present invention includes a substrate that supports an electro-optical material, a first resin film provided between the substrate and the electro-optical material, and the first resin film. A second resin film provided between the electro-optic material, a recess provided in the second resin film, a conductive film provided between the substrate and the first resin film, A first light-shielding film provided opposite to the recess between the substrate and the first resin film; and adjacent to side surfaces on both sides of the recess between the first resin film and the second resin film. And a second light-shielding film provided.

本発明に係る第2の電気光学装置において、第2樹脂膜内に設けられた凹部は、例えば第2樹脂膜上に設けられる膜要素である配向膜等を均一な膜厚に形成するためのものである。また、凹部の側面に隣接する第2遮光膜は、第2樹脂膜によって完全に覆うこともでき、凹部の側面から凹部の内側に露出するように設けることもできる。   In the second electro-optical device according to the invention, the concave portion provided in the second resin film is used to form, for example, an alignment film, which is a film element provided on the second resin film, with a uniform film thickness. Is. Further, the second light shielding film adjacent to the side surface of the recess can be completely covered with the second resin film, or can be provided so as to be exposed from the side surface of the recess to the inside of the recess.

上記構成の電気光学装置では、第1樹脂膜の凹部に対向して設けられた第1遮光膜に加えて、第1樹脂膜と第2樹脂膜との間であって凹部の両側の側面に隣接して第2遮光膜を設けることにした。これにより、第1樹脂膜の下に設けた導電膜と第1樹脂膜の上に設けた第2遮光膜とが接触して電気的に短絡することがないので、第2遮光膜の幅を広く設けることができる。これにより、基板を透過する光を第1遮光膜と第2遮光膜の両方によって確実に遮光できる。また、基板上に第1樹脂膜と第2樹脂膜の2層の樹脂膜を設けることにより、基板上に厚い樹脂膜を設けることができるので、基板上に設けられた導電膜と樹脂膜上に設けられた電極との間における寄生容量を低減し、クロストーク発生を防止できる。   In the electro-optical device having the above configuration, in addition to the first light shielding film provided to face the concave portion of the first resin film, between the first resin film and the second resin film and on the side surfaces on both sides of the concave portion. The second light-shielding film is provided adjacently. As a result, the conductive film provided under the first resin film and the second light shielding film provided on the first resin film do not come into contact with each other and are not electrically short-circuited. It can be provided widely. Thereby, the light which permeate | transmits a board | substrate can be reliably light-shielded by both a 1st light shielding film and a 2nd light shielding film. Moreover, since a thick resin film can be provided on the substrate by providing two layers of the first resin film and the second resin film on the substrate, the conductive film and the resin film provided on the substrate can be provided. It is possible to reduce the parasitic capacitance between the electrode and the electrode provided on the electrode and to prevent the occurrence of crosstalk.

次に、本発明に係る第2の電気光学装置において、前記基板上にはサブ画素が平面的に複数並べて設けられ、前記凹部は互いに隣接する前記サブ画素同士の境界に沿った溝形状に設けられることが望ましい。本発明態様において、溝形状に設けられた凹部は、互いに隣接するサブ画素同士の境界に沿って、複数のサブ画素にわたって連通する溝として設けられている。このような溝形状の凹部を設ければ、基板上の全域において、第2樹脂膜上の膜要素、例えば配向膜を均一な膜厚に形成できる。   Next, in the second electro-optical device according to the invention, a plurality of subpixels are provided in a plane on the substrate, and the concave portion is provided in a groove shape along a boundary between the adjacent subpixels. It is desirable that In the aspect of the present invention, the concave portion provided in the groove shape is provided as a groove that communicates over a plurality of subpixels along the boundary between adjacent subpixels. If such a groove-shaped recess is provided, a film element on the second resin film, for example, an alignment film, can be formed in a uniform film thickness over the entire area of the substrate.

次に、本発明に係る第2の電気光学装置において、個々の前記サブ画素の領域内には光反射膜が設けられ、前記凹部は互いに隣接する前記光反射膜同士の間の領域に設けられ、前記第1遮光膜は互いに隣接する前記光反射膜同士の間の領域に設けられ、前記第2遮光膜は前記凹部の両側に当該凹部の側面に隣接して設けられることが望ましい。   Next, in the second electro-optical device according to the invention, a light reflecting film is provided in the region of each of the sub-pixels, and the concave portion is provided in a region between the light reflecting films adjacent to each other. Preferably, the first light shielding film is provided in a region between the light reflecting films adjacent to each other, and the second light shielding film is provided on both sides of the recess and adjacent to the side surface of the recess.

本発明態様の電気光学装置は、互いに隣接する光反射膜同士の間の領域に第1遮光膜及び第2遮光膜を有するので、光反射膜が設けられた領域、すなわち反射型の表示が行われる領域に透過光が漏れ出ることを第1遮光膜及び第2遮光膜によって防止できる。また、第1遮光膜と第2遮光膜とを設けることにより、遮光膜全体の幅を広く設けることができるので、互いに隣接する光反射膜同士の間隔を広くした場合でも光漏れを防止できる。光反射膜同士の間隔を広くできれば、互いに隣接する光反射膜同士が接触して電気的に短絡することを防止できる。   Since the electro-optical device according to the aspect of the invention includes the first light-shielding film and the second light-shielding film in the region between the light reflecting films adjacent to each other, the region where the light reflecting film is provided, that is, the reflective display is performed. The first light-shielding film and the second light-shielding film can prevent the transmitted light from leaking into the area. Further, by providing the first light-shielding film and the second light-shielding film, the entire light-shielding film can be widened, so that light leakage can be prevented even when the interval between the light reflecting films adjacent to each other is widened. If the interval between the light reflecting films can be widened, it is possible to prevent the light reflecting films adjacent to each other from contacting each other and being electrically short-circuited.

次に、本発明に係る第2の電気光学装置において、前記第1遮光膜の幅をcとし、互いに隣接する前記第2遮光膜同士の間隔をdとしたとき、
c≧d
であることが望ましい。こうすれば、第1遮光膜と第2遮光膜との間で平面的に見て隙間が空くことがないので、それら第1遮光膜及び第2遮光膜が設けられた領域において透過光を確実に遮光できる。
Next, in the second electro-optical device according to the invention, when the width of the first light shielding film is c and the interval between the second light shielding films adjacent to each other is d,
c ≧ d
It is desirable that By doing so, there is no gap between the first light-shielding film and the second light-shielding film in a plan view, and thus the transmitted light is surely transmitted in the region where the first light-shielding film and the second light-shielding film are provided. Can be shielded from light.

次に、本発明に係る第2の電気光学装置において、前記第1遮光膜及び前記第2遮光膜によって遮光される領域の幅をeとし、互いに隣接する前記光反射膜同士の間の領域の幅をfとしたとき、
e>f
であることが望ましい。こうすれば、光反射膜をフォトエッチング処理によってパターニングする際にオーバーエッチングが生じて、光反射膜の間隔が所定の間隔より広く形成された場合であっても、第1遮光膜と第2遮光膜から成る幅の広い遮光膜により透過光を確実に遮光できる。
Next, in the second electro-optical device according to the invention, the width of the region shielded by the first light shielding film and the second light shielding film is e, and the region between the adjacent light reflecting films is e. When the width is f,
e> f
It is desirable that In this case, even when the light reflecting film is patterned by the photoetching process, overetching occurs, and even when the distance between the light reflecting films is larger than a predetermined distance, the first light shielding film and the second light shielding film are formed. The transmitted light can be reliably shielded by the wide light shielding film made of the film.

次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の液晶表示装置を有することを特徴とする。本発明に係る電気光学装置では、基板と第1樹脂膜との間に導電膜を設け、第1樹脂膜と第2樹脂膜との間に遮光膜を設けることにした。すなわち、導電膜と遮光膜とを第1樹脂膜を挟んで異なる平面上に設けることにした。これにより、導電膜と遮光膜とが接触して電気的に短絡することがないので、遮光膜の幅を広く設けることができる。その結果、基板を透過する光を確実に遮光できることになった。また、基板上に第1樹脂膜と第2樹脂膜の2層の樹脂膜を設けることにより、基板上に厚い樹脂膜を設けることができるので、基板上に設けられた導電膜と樹脂膜上に設けられた電極との間で寄生容量を低減してクロストークを防止できる。従って、この電気光学装置を用いた本発明に係る電子機器においても、透過光の光漏れを確実に防止し、且つクロストークを防止できる。   Next, an electronic apparatus according to the present invention includes the liquid crystal display device having the above-described configuration. In the electro-optical device according to the invention, the conductive film is provided between the substrate and the first resin film, and the light shielding film is provided between the first resin film and the second resin film. That is, the conductive film and the light shielding film are provided on different planes with the first resin film interposed therebetween. As a result, the conductive film and the light shielding film do not come into electrical contact with each other, so that the width of the light shielding film can be widened. As a result, light transmitted through the substrate can be reliably shielded. Moreover, since a thick resin film can be provided on the substrate by providing two layers of the first resin film and the second resin film on the substrate, the conductive film and the resin film provided on the substrate can be provided. The cross capacitance can be prevented by reducing the parasitic capacitance between the electrode and the electrode. Therefore, also in the electronic apparatus according to the present invention using this electro-optical device, light leakage of transmitted light can be reliably prevented, and crosstalk can be prevented.

(電気光学装置の第1実施形態)
以下、電気光学装置の一例として、半透過反射型でTFD(Thin Film Diode)駆動方式でカラー表示が可能な液晶表示装置に本発明を適用した場合を例に挙げて本発明の実施形態を説明する。また、本実施形態では、液晶モードとしてECB(Electrically Controlled Birefringence:電界制御複屈折モード)を採用した液晶表示装置に本発明を適用するものとする。なお、本発明がその実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。また、これからの説明では必要に応じて図面を参照するが、この図面では、複数の構成要素から成る構造のうち重要な構成要素をわかり易く示すため、各要素を実際とは異なった相対的な寸法で示す場合がある。
(First embodiment of electro-optical device)
Hereinafter, as an example of an electro-optical device, an embodiment of the present invention will be described by exemplifying a case where the present invention is applied to a liquid crystal display device capable of color display by a transflective type and a TFD (Thin Film Diode) driving method. To do. In the present embodiment, the present invention is applied to a liquid crystal display device adopting ECB (Electrically Controlled Birefringence) as a liquid crystal mode. Of course, the present invention is not limited to the embodiment. In the following description, reference will be made to the drawings as necessary. In this drawing, in order to clearly show important constituent elements among the structure composed of a plurality of constituent elements, the relative dimensions different from actual ones are shown. It may be indicated by

図1は、本発明に係る液晶表示装置の全体の側面断面構造を示している。また、図2は、図1において矢印Z1で示す部分を拡大して示している。また、図3(a)は、図2の矢印Aに従った平面構造を示している。また、図3(b)は、図3(a)の矢印Z2−Z2線に従った断面を示している。なお、図1は、図3(a)のZ3−Z3線に従った断面図である。   FIG. 1 shows a side sectional structure of the entire liquid crystal display device according to the present invention. FIG. 2 is an enlarged view of a portion indicated by an arrow Z1 in FIG. FIG. 3A shows a planar structure according to the arrow A in FIG. Moreover, FIG.3 (b) has shown the cross section according to the arrow Z2-Z2 line | wire of Fig.3 (a). FIG. 1 is a cross-sectional view taken along line Z3-Z3 in FIG.

図1において、液晶表示装置1は、電気光学パネルである液晶パネル2と、この液晶パネル2に付設された照明装置3とを有する。この液晶表示装置1に関しては矢印Aが描かれた側が観察側であり、上記の照明装置3は液晶パネル2に関して観察側と反対側に配置されてバックライトとして機能する。   In FIG. 1, a liquid crystal display device 1 includes a liquid crystal panel 2 that is an electro-optical panel, and a lighting device 3 attached to the liquid crystal panel 2. Regarding the liquid crystal display device 1, the side on which the arrow A is drawn is the observation side, and the illumination device 3 is disposed on the opposite side to the observation side with respect to the liquid crystal panel 2 and functions as a backlight.

液晶パネル2は、矢印A方向から見て長方形又は正方形で環状のシール材6によって互いに貼り合わされた一対の基板7及び8を有する。一方の基板7はスイッチング素子が形成される素子基板である。また、他方の基板8はカラーフィルタが形成されるカラーフィルタ基板である。本実施形態では、観察側にカラーフィルタ基板8が配置され、観察側から見て背面に素子基板7が配置される。   The liquid crystal panel 2 includes a pair of substrates 7 and 8 that are bonded to each other by a rectangular or square and annular sealing material 6 when viewed from the direction of arrow A. One substrate 7 is an element substrate on which a switching element is formed. The other substrate 8 is a color filter substrate on which a color filter is formed. In the present embodiment, the color filter substrate 8 is disposed on the observation side, and the element substrate 7 is disposed on the back as viewed from the observation side.

シール材6は素子基板7とカラーフィルタ基板8との間に間隙、いわゆるセルギャップGを形成する。シール材6はその一部に液晶注入口(図示せず)を有し、この液晶注入口を介して素子基板7とカラーフィルタ基板8との間に電気光学物質である液晶が注入される。注入された液晶はセルギャップG内で電気光学物質の層としての液晶層12を形成する。液晶注入口は液晶の注入が完了した後に樹脂によって封止される。液晶の注入方法としては、上記のような液晶注入口を通して行う方法以外に、液晶注入口を持たない連続する環状のシール材6によって囲まれる領域内に液晶を滴下する方法も採用できる。なお、本実施形態では、液晶として、正の誘電異方性を有するネマティック液晶を用いることができる。   The sealing material 6 forms a gap, so-called cell gap G, between the element substrate 7 and the color filter substrate 8. The sealing material 6 has a liquid crystal injection port (not shown) in a part thereof, and liquid crystal as an electro-optical material is injected between the element substrate 7 and the color filter substrate 8 through the liquid crystal injection port. The injected liquid crystal forms a liquid crystal layer 12 in the cell gap G as a layer of electro-optic material. The liquid crystal injection port is sealed with resin after the liquid crystal injection is completed. As a method for injecting liquid crystal, a method of dropping liquid crystal in a region surrounded by a continuous annular sealing material 6 having no liquid crystal injection port can be adopted in addition to the method of performing through the liquid crystal injection port as described above. In the present embodiment, nematic liquid crystal having positive dielectric anisotropy can be used as the liquid crystal.

セルギャップGの間隔、従って液晶層12の層厚は、セルギャップG内に設けられる複数のスペーサ(図示せず)によって一定に維持される。このスペーサは、複数の球状の樹脂部材を素子基板7又はカラーフィルタ基板8の表面上にランダム(すなわち、無秩序)に置くことによって形成できる。また、スペーサは、フォトリソグラフィ処理によって所定の位置に柱状に形成することもできる。   The distance between the cell gaps G, and hence the thickness of the liquid crystal layer 12 is maintained constant by a plurality of spacers (not shown) provided in the cell gap G. The spacer can be formed by placing a plurality of spherical resin members randomly (that is, disorderly) on the surface of the element substrate 7 or the color filter substrate 8. The spacer can also be formed in a columnar shape at a predetermined position by photolithography.

照明装置3は、光源としてのLED(Light Emitting Diode)13と、導光体14とを有する。光源としては、LEDのような点状光源以外に、冷陰極管のような線状光源を用いることもできる。導光体14は、例えば、透光性を有する樹脂を材料とする成形加工によって形成され、LED13に対向する側面が光入射面14aであり、液晶パネル2に対向する面が光出射面14bである。矢印Aで示す観察側から見て導光体14の背面には、必要に応じて、光反射層16が設けられる。また、導光体14の光出射面14bには、必要に応じて、光拡散層17が設けられる。   The illumination device 3 includes an LED (Light Emitting Diode) 13 as a light source and a light guide body 14. As the light source, in addition to a point light source such as an LED, a linear light source such as a cold cathode tube can be used. The light guide 14 is formed by, for example, a molding process using a light-transmitting resin as a material, the side facing the LED 13 is the light incident surface 14a, and the surface facing the liquid crystal panel 2 is the light emitting surface 14b. is there. A light reflecting layer 16 is provided on the back surface of the light guide body 14 as viewed from the observation side indicated by the arrow A, if necessary. Moreover, the light-diffusion layer 17 is provided in the light-projection surface 14b of the light guide 14 as needed.

素子基板7は、第1の透光性基板7aを有する。この第1透光性基板7aは、例えば、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成される。この第1透光性基板7aの外側表面には偏光板18aが貼り付けられている。必要に応じて、偏光板18a以外の光学要素、例えば位相差板を付加的に設けることもできる。他方、第1透光性基板7aの内側表面には、矢印Z1で示す部分の拡大図である図2にも示すように、導電膜としてのデータ線19が列方向Y(すなわち、図2の左右方向)に延びている。そして、アクティブ素子として機能するスイッチング素子であるTFD(Thin Film Diode)素子21がデータ線19に接続して形成されている。   The element substrate 7 includes a first translucent substrate 7a. The first translucent substrate 7a is formed of, for example, translucent glass or translucent plastic. A polarizing plate 18a is attached to the outer surface of the first light transmissive substrate 7a. If necessary, an optical element other than the polarizing plate 18a, for example, a retardation plate can be additionally provided. On the other hand, on the inner surface of the first translucent substrate 7a, as shown in FIG. 2, which is an enlarged view of the portion indicated by the arrow Z1, a data line 19 as a conductive film is arranged in the column direction Y (that is, in FIG. (Horizontal direction). A TFD (Thin Film Diode) element 21 that is a switching element that functions as an active element is connected to the data line 19.

このデータ線19は、矢印A方向から見て複数本形成されており、それらの複数本が行方向X(すなわち、紙面垂直方向)に沿って互いに等間隔で平行に並べられている。データ線19は、例えば、Cr(クロム)、Mo(モリブデン)等といった金属によって形成されている。また、TFD素子21は複数個が各データ線19に沿って等間隔に設けられている。   A plurality of the data lines 19 are formed as viewed from the direction of the arrow A, and the plurality of the data lines 19 are arranged in parallel at equal intervals along the row direction X (that is, the direction perpendicular to the paper surface). The data line 19 is formed of a metal such as Cr (chromium) or Mo (molybdenum), for example. A plurality of TFD elements 21 are provided at equal intervals along each data line 19.

それらのTFD素子21及びデータ線19の上に、それらを覆う第1樹脂膜22が形成され、その上に遮光膜28が形成され、その上に第2樹脂膜23が形成され、その上に光反射膜24が形成され、その上に画素電極25が形成され、その上に配向膜26aが形成されている。この配向膜26aに配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、素子基板7の近傍における液晶分子の配向が決められる。なお、本実施形態において、液晶分子の配向は、液晶に電界を印加していない状態で水平配向になるように設定されている。   A first resin film 22 is formed on the TFD elements 21 and the data lines 19, a light shielding film 28 is formed thereon, a second resin film 23 is formed thereon, and a second resin film 23 is formed thereon. A light reflection film 24 is formed, a pixel electrode 25 is formed thereon, and an alignment film 26a is formed thereon. This alignment film 26a is subjected to an alignment process, for example, a rubbing process, whereby the alignment of liquid crystal molecules in the vicinity of the element substrate 7 is determined. In the present embodiment, the alignment of the liquid crystal molecules is set to be horizontal alignment in a state where no electric field is applied to the liquid crystal.

第1樹脂膜22及び第2樹脂膜23は、例えば、透光性、感光性、及び絶縁性を有する樹脂、例えばアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等をフォトリソグラフィ処理によってパターニングすることによって形成されている。遮光膜28は、例えば、CrやAl(アルミニウム)等といった金属材料をフォトエッチング処理によってパターニングすることによって形成されている。この遮光膜28に関しては後に詳しく説明する。   The first resin film 22 and the second resin film 23 are formed, for example, by patterning a resin having translucency, photosensitivity, and insulation, such as an acrylic resin or a polyimide resin, by photolithography. The light shielding film 28 is formed, for example, by patterning a metal material such as Cr or Al (aluminum) by a photoetching process. The light shielding film 28 will be described in detail later.

光反射膜24は、例えば、Al(アルミニウム)、Al合金等といった光反射性材料をフォトエッチング処理によってパターニングすることによって形成されている。画素電極25は、例えばITO(Indium Tin Oxide:インジウムスズ酸化物)等といった金属酸化物をフォトエッチング処理によってパターニングして形成される。配向膜26aは、例えばポリイミド等の塗布により形成される。   The light reflecting film 24 is formed, for example, by patterning a light reflecting material such as Al (aluminum), Al alloy or the like by a photoetching process. The pixel electrode 25 is formed by patterning a metal oxide such as ITO (Indium Tin Oxide) with a photoetching process. The alignment film 26a is formed by application of polyimide or the like, for example.

光反射膜24及び画素電極25は、矢印A方向から平面的に見て素子基板7上に行方向X及び列方向Yに沿ってマトリクス状に複数形成される。これらの光反射膜24及び画素電極25は、図3(a)に示すように、個々のTFD素子21に接続されて各データ線19に沿って設けられている。   A plurality of light reflecting films 24 and pixel electrodes 25 are formed in a matrix along the row direction X and the column direction Y on the element substrate 7 when viewed in plan from the arrow A direction. As shown in FIG. 3A, the light reflection film 24 and the pixel electrode 25 are connected to the individual TFD elements 21 and are provided along the data lines 19.

図2において、TFD素子21は、互いに電気的に直列につながれた一対のTFD要素31a及び31bによって形成されている。第1のTFD要素31aは、第1素子電極32、絶縁膜33、そして第2素子電極34aをその順で重ねることによって形成されている。また、第2のTFD要素31bは、第1素子電極32、絶縁膜33、そして第2素子電極34bをその順で重ねることによって形成されている。第1素子電極32は、例えば、Ta(タンタル)又はTa合金によって形成される。Ta合金としては、例えば、TaW(タンタル・タングステン)を用いることができる。絶縁膜33は、例えば、陽極酸化処理によって形成される。第2素子電極34a,34bは、例えばCrによって形成される。   In FIG. 2, the TFD element 21 is formed by a pair of TFD elements 31a and 31b electrically connected in series. The first TFD element 31a is formed by overlapping the first element electrode 32, the insulating film 33, and the second element electrode 34a in that order. The second TFD element 31b is formed by stacking the first element electrode 32, the insulating film 33, and the second element electrode 34b in that order. The first element electrode 32 is formed of, for example, Ta (tantalum) or Ta alloy. As the Ta alloy, for example, TaW (tantalum / tungsten) can be used. The insulating film 33 is formed by, for example, an anodic oxidation process. The second element electrodes 34a and 34b are made of, for example, Cr.

第1樹脂膜22及び第2樹脂膜23には、画素電極25とTFD素子21とを電気的に接続するための開口部としての貫通穴であるコンタクトホール27が形成されている。このコンタクトホール27は、矢印A方向から平面的に見てTFT素子21の素子本体部分に重ならない位置であって、画素電極25と重なる位置に形成される。   In the first resin film 22 and the second resin film 23, a contact hole 27, which is a through hole as an opening for electrically connecting the pixel electrode 25 and the TFD element 21, is formed. The contact hole 27 is formed at a position that does not overlap the element body portion of the TFT element 21 when viewed in plan from the direction of the arrow A and overlaps the pixel electrode 25.

図3(a)において、第1TFD要素31a内の第2素子電極34aはデータ線19から延びている。また、第2TFD要素31b内の第2素子電極34bはコンタクトホール27を介して画素電極25に接続されている。データ線19から画素電極25へ信号が伝送されることを考えたとき、第1TFD要素31aと第2TFD要素31bは電気的に逆極性である2つのTFD要素が直列に接続されることになる。この構造はバック・ツー・バック(Back-to-Back)構造と呼ばれる。本実施形態では、バック・ツー・バック構造のTFD素子を用いたが、単一のTFD要素によってTFD素子を形成しても良い。   In FIG. 3A, the second element electrode 34 a in the first TFD element 31 a extends from the data line 19. Further, the second element electrode 34 b in the second TFD element 31 b is connected to the pixel electrode 25 through the contact hole 27. When considering that a signal is transmitted from the data line 19 to the pixel electrode 25, the first TFD element 31a and the second TFD element 31b are connected in series with two TFD elements having opposite polarities. This structure is called a back-to-back structure. In this embodiment, a TFD element having a back-to-back structure is used. However, the TFD element may be formed by a single TFD element.

本実施形態では、図2に示すように、画素電極25の下に、第1樹脂膜22と第2樹脂膜23とから成る層間絶縁膜を設けることにより画素電極25の層とTFD素子21の層とを別の層に分けている。この構造は、画素電極25とTFD素子21とを同じ層に形成する構造に比べて、以下のような利点を有する。   In the present embodiment, as shown in FIG. 2, an interlayer insulating film composed of a first resin film 22 and a second resin film 23 is provided below the pixel electrode 25, so that the layer of the pixel electrode 25 and the TFD element 21 are formed. The layer is divided into separate layers. This structure has the following advantages over the structure in which the pixel electrode 25 and the TFD element 21 are formed in the same layer.

まず、TFD素子21とデータ線19とを覆う層間絶縁膜を形成し、その層間絶縁膜上に画素電極25を形成しているため、画素電極25とTFD素子21、及び画素電極25とデータ線19の間の寄生容量を低減することができる。この場合、仮に層間絶縁膜を単層の樹脂膜によって形成すると、高粘度の樹脂材料を用いないと層間絶縁膜の膜厚を厚くすることができない。しかしながら、高粘度の樹脂材料を用いると、層間絶縁膜の膜厚を均一にすることが難しくなる。これに対し、本実施形態のように、層間絶縁膜を第1樹脂膜22と第2樹脂膜23の2つの層を積層して形成することにより、個々の樹脂膜22,23を低粘度の樹脂材料で形成することができ、層間絶縁膜の膜厚の均一性と膜厚を厚くすることの両方を両立できる。層間絶縁膜の膜厚を均一で且つ厚く形成できれば、寄生容量を均一に低減できる。   First, since an interlayer insulating film covering the TFD element 21 and the data line 19 is formed and the pixel electrode 25 is formed on the interlayer insulating film, the pixel electrode 25 and the TFD element 21, and the pixel electrode 25 and the data line are formed. The parasitic capacitance between 19 can be reduced. In this case, if the interlayer insulating film is formed of a single-layer resin film, the thickness of the interlayer insulating film cannot be increased unless a high-viscosity resin material is used. However, when a highly viscous resin material is used, it becomes difficult to make the thickness of the interlayer insulating film uniform. On the other hand, as in this embodiment, the interlayer insulating film is formed by laminating two layers of the first resin film 22 and the second resin film 23, thereby making the individual resin films 22 and 23 low viscosity. It can be formed of a resin material, and both the uniformity of the thickness of the interlayer insulating film and the increase of the thickness can be achieved. If the interlayer insulating film can be formed uniformly and thickly, the parasitic capacitance can be reduced uniformly.

また、層間絶縁膜を介して画素電極25とTFD素子21、及び画素電極25とデータ線19とを積層構造にて形成しているため、TFD素子21及びデータ線19を覆う形にて画素電極25を構成することができ、画素電極25をTFD素子21及びデータ線19と同一平面上に形成する場合に比して、画素電極25を大きく構成することができ、ひいては有効画素領域を大きくとることができるようになる。   Further, since the pixel electrode 25 and the TFD element 21 and the pixel electrode 25 and the data line 19 are formed in a laminated structure via the interlayer insulating film, the pixel electrode is formed so as to cover the TFD element 21 and the data line 19. 25, and the pixel electrode 25 can be made larger than the case where the pixel electrode 25 is formed on the same plane as the TFD element 21 and the data line 19, and thus the effective pixel area can be made larger. Will be able to.

以上のような効果を齎す結果、非常に信頼性の高い電気光学装置を提供することが可能となり、特に表示装置では、開口率の大きい視認性に優れた表示を実現することが可能となる。   As a result of the effects described above, it is possible to provide an electro-optical device with extremely high reliability. In particular, in a display device, it is possible to realize display with a large aperture ratio and excellent visibility.

図1において、素子基板7に対向するカラーフィルタ基板8は、矢印A方向から見て長方形又は正方形の第2の透光性の基板8aを有する。この第2透光性基板8aは、例えば、透光性のガラス、プラスチック等によって形成される。この第2透光性基板8aの外側表面には偏光板18bが貼り付けられている。必要に応じて、偏光板18b以外の光学要素、例えば位相差板を付加的に設けることもできる。なお、本実施形態においては、偏光板18aと18bとをクロスニコル配置としている。そして、液晶表示装置の表示モードは、ノーマリホワイトモード、すなわち電圧無印加時に白表示になり、電圧印加時には黒表示になる表示モードに設定されている。   In FIG. 1, the color filter substrate 8 facing the element substrate 7 includes a second light-transmitting substrate 8 a that is rectangular or square when viewed from the direction of arrow A. The second translucent substrate 8a is made of translucent glass, plastic, or the like, for example. A polarizing plate 18b is attached to the outer surface of the second light transmissive substrate 8a. If necessary, an optical element other than the polarizing plate 18b, for example, a retardation plate may be additionally provided. In the present embodiment, the polarizing plates 18a and 18b are arranged in a crossed Nicols arrangement. The display mode of the liquid crystal display device is set to a normally white mode, that is, a display mode in which white display is performed when no voltage is applied and black display is applied when a voltage is applied.

第2透光性基板8aの内側表面には、図2にも示すように、着色膜41と対向遮光膜42とが形成され、これら着色膜41及び対向遮光膜42の上にオーバーコート膜43が形成され、その上に帯状電極44が形成され、その上に配向膜26bが形成されている。帯状電極44は、図2の行方向X(すなわち、紙面垂直方向)に延びている。配向膜26bは、例えばポリイミド等を塗布することによって形成される。   As shown in FIG. 2, a colored film 41 and a counter light-shielding film 42 are formed on the inner surface of the second translucent substrate 8 a, and an overcoat film 43 is formed on the colored film 41 and the counter light-shielding film 42. Is formed, a strip electrode 44 is formed thereon, and an alignment film 26b is formed thereon. The strip electrode 44 extends in the row direction X of FIG. 2 (that is, the direction perpendicular to the paper surface). The alignment film 26b is formed, for example, by applying polyimide or the like.

着色膜41はカラーフィルタを構成する要素であり、個々の着色膜41は矢印A方向から見て長方形又は正方形のドット状に形成されている。また、着色膜41は複数個が矢印A方向から見て行方向X及び列方向Yにマトリクス状に配列されている。対向遮光膜42は、図3(a)及び図3(b)に示すように、列方向Yに延びる帯状に形成され、その帯状の対向遮光膜42の複数本が、行方向Xに関して互いに隣接する着色膜41の間に設けられている。   The colored film 41 is an element constituting a color filter, and each colored film 41 is formed in a rectangular or square dot shape when viewed from the arrow A direction. A plurality of the colored films 41 are arranged in a matrix in the row direction X and the column direction Y when viewed from the arrow A direction. As shown in FIGS. 3A and 3B, the counter light-shielding film 42 is formed in a strip shape extending in the column direction Y, and a plurality of the strip-shaped counter light-shielding films 42 are adjacent to each other in the row direction X. Between the colored films 41 to be processed.

着色膜41の個々はB(青)、G(緑)、R(赤)の1つを通過させる光学的特性に設定され、それらB,G,Rの着色膜41が所定の配列、例えばストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列で並べられている。着色膜41の光学的特性はB,G,Rの3原色に限られず、C(シアン)、M(マゼンタ)、Y(イエロー)の3原色を通過させる特性とすることもできる。対向遮光膜42は、異なる色の着色膜41を重ねたり、あるいは、所定の材料(例えば、Cr)によって形成される。   Each of the colored films 41 is set to an optical characteristic that allows one of B (blue), G (green), and R (red) to pass therethrough, and the colored films 41 of B, G, and R are arranged in a predetermined arrangement, for example, a stripe. They are arranged in an array, mosaic array, and delta array. The optical characteristics of the colored film 41 are not limited to the three primary colors B, G, and R, and may be a characteristic that allows the three primary colors C (cyan), M (magenta), and Y (yellow) to pass. The counter light-shielding film 42 is formed by overlapping colored films 41 of different colors or by using a predetermined material (for example, Cr).

図2において、着色膜41及び対向遮光膜42の上に形成されたオーバーコート層43は、着色膜41及び対向遮光膜42の表面を平坦化するものであり、帯状電極44はこうして平坦化されたオーバーコート層43の上に形成される。帯状電極44は、例えばITO等といった金属酸化物をフォトエッチング処理によってパターニングすることによって形成される。帯状電極44は、矢印A方向から見てカラーフィルタ基板8上に複数本が互いに平行に並ぶように設けられている。個々の帯状電極44は行方向X(すなわち、紙面垂直方向)に延びている。図2において帯状電極44の上に形成された配向膜26bには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、カラーフィルタ基板8の近傍における液晶分子の配向が決められる。   In FIG. 2, an overcoat layer 43 formed on the colored film 41 and the counter light-shielding film 42 planarizes the surfaces of the colored film 41 and the counter light-shielding film 42, and the strip electrode 44 is thus planarized. Formed on the overcoat layer 43. The strip electrode 44 is formed by patterning a metal oxide such as ITO, for example, by a photoetching process. A plurality of strip electrodes 44 are provided on the color filter substrate 8 so as to be parallel to each other when viewed from the direction of the arrow A. The individual strip electrodes 44 extend in the row direction X (that is, the direction perpendicular to the paper surface). In FIG. 2, the alignment film 26b formed on the strip electrode 44 is subjected to an alignment process, for example, a rubbing process, whereby the alignment of liquid crystal molecules in the vicinity of the color filter substrate 8 is determined.

図1において、素子基板7上に設けられた複数の画素電極25は矢印A方向から平面的に見て、行方向X及び列方向Yにマトリクス状に並んでいる。一方、カラーフィルタ基板8上に設けられた複数の帯状電極44は、行方向Xに並ぶ複数の画素電極25と矢印A方向から平面的に見て重なるようにストライプ状に並んでいる。このように画素電極25と帯状電極44とは矢印A方向から見て重なり合っており、その重なり合った領域が表示のための最小単位であるサブ画素Dを形成している。そして、複数のサブ画素Dが行方向X及び列方向Yにマトリクス状に並ぶことにより、矢印A方向から見て長方形又は正方形状の表示領域Vが形成され、この表示領域Vに文字、数字、図形等といった像が表示される。   In FIG. 1, the plurality of pixel electrodes 25 provided on the element substrate 7 are arranged in a matrix in the row direction X and the column direction Y as seen in a plan view from the arrow A direction. On the other hand, the plurality of strip electrodes 44 provided on the color filter substrate 8 are arranged in stripes so as to overlap with the plurality of pixel electrodes 25 arranged in the row direction X when viewed in a plan view from the arrow A direction. As described above, the pixel electrode 25 and the strip electrode 44 overlap each other when viewed from the direction of the arrow A, and the overlapped region forms a sub-pixel D which is a minimum unit for display. A plurality of sub-pixels D are arranged in a matrix in the row direction X and the column direction Y, thereby forming a rectangular or square display region V as viewed from the direction of the arrow A. In the display region V, letters, numbers, An image such as a graphic is displayed.

本実施形態のように、B,G,Rの3色から成る着色膜41を用いてカラー表示を行う場合は、B,G,Rの3色に対応する3つの着色膜41に対応する3つのサブ画素Dによって1つの画素が形成される。他方、白黒又は任意の2色でモノカラー表示を行う場合は、1つのサブ画素Dによって1つの画素が形成される。   In the case of performing color display using the colored film 41 composed of the three colors B, G, and R as in the present embodiment, 3 corresponding to the three colored films 41 corresponding to the three colors B, G, and R. One subpixel D forms one pixel. On the other hand, when performing monochromatic display in black and white or any two colors, one pixel is formed by one sub-pixel D.

図2において、素子基板7の光反射膜24は、例えばフォトエチング処理によって形成される。この光反射膜24はサブ画素Dのうちの一部の領域Rに設けられており、残りの領域Tには設けられていない。領域Tは図3(a)に示すようにサブ画素D内の一部の長方形状の領域である。一方、領域Rはサブ画素D内の残りの領域であって、本実施形態では領域Tをコ字状に囲む領域である。画素電極25はサブ画素Dの全体にわたって設けられ、光反射膜24はコ字状の領域Rに一致して設けられている。   In FIG. 2, the light reflecting film 24 of the element substrate 7 is formed by, for example, photoetching. The light reflecting film 24 is provided in a partial region R of the sub-pixel D, and is not provided in the remaining region T. The region T is a part of the rectangular region in the sub-pixel D as shown in FIG. On the other hand, the region R is the remaining region in the sub-pixel D, and in this embodiment, the region T surrounds the region T in a U shape. The pixel electrode 25 is provided over the entire subpixel D, and the light reflecting film 24 is provided so as to coincide with the U-shaped region R.

個々のサブ画素Dの中で光反射膜24が存在する領域が反射表示領域Rであり、光反射膜24が存在しない領域Tが透過表示領域である。図2において矢印A方向から入射した外部光L0は反射表示領域R内で光反射膜24で反射する。一方、図1の照明装置3の導光体14から出射した図2の光L1は、透過表示領域Tを透過する。   In each of the sub-pixels D, a region where the light reflecting film 24 exists is a reflective display region R, and a region T where the light reflecting film 24 does not exist is a transmissive display region. In FIG. 2, the external light L0 incident from the direction of arrow A is reflected by the light reflecting film 24 in the reflective display region R. On the other hand, the light L1 in FIG. 2 emitted from the light guide 14 of the illumination device 3 in FIG.

第2樹脂膜23の表面であって個々のサブ画素D内の反射表示領域Rに対応する部分には、複数の凹部及び複数の凸部が矢印A方向から平面的に見てランダムに形成され、これにより凹凸パターンが設けられている。光反射膜24は、凹凸パターンが形成されている第2樹脂膜23の上に形成されていて、それ自身も同じ凹凸パターンの形状を呈している。このように光反射膜24に凹凸パターンを形成することにより、光反射膜24で反射する光L0を、鏡面反射ではなくて、適度の散乱光や適切な指向性を持った光とすることができる。   On the surface of the second resin film 23 and corresponding to the reflective display region R in each sub-pixel D, a plurality of concave portions and a plurality of convex portions are randomly formed when viewed in plan from the arrow A direction. As a result, an uneven pattern is provided. The light reflecting film 24 is formed on the second resin film 23 on which the concave / convex pattern is formed, and itself has the same concave / convex pattern shape. By forming the uneven pattern on the light reflecting film 24 in this way, the light L0 reflected by the light reflecting film 24 is not specularly reflected, but light having appropriate scattered light and appropriate directivity. it can.

次に、図1において、素子基板7を構成する第1透光性基板7aはカラーフィルタ基板8の外側へ張り出す張出し部45を有している。この張出し部45の表面には、配線46がフォトエッチング処理等によって形成されている。配線46は矢印A方向から見て複数本形成されており、それらの複数本が紙面垂直方向に沿って互いに等間隔で平行に並べられている。また、張出し部45の辺端には複数の外部接続用端子47が紙面垂直方向に沿って互いに等間隔で平行に並ぶように形成されている。これらの外部接続用端子47が設けられた張出し部45の辺端に、例えば、FPC(Flexible Printed Circuit:可撓性プリント回路)基板(図示せず)が接続される。   Next, in FIG. 1, the first translucent substrate 7 a constituting the element substrate 7 has an overhanging portion 45 that projects outward from the color filter substrate 8. A wiring 46 is formed on the surface of the overhanging portion 45 by a photoetching process or the like. A plurality of wirings 46 are formed when viewed from the direction of arrow A, and the plurality of wirings 46 are arranged in parallel at equal intervals along the direction perpendicular to the paper surface. Further, a plurality of external connection terminals 47 are formed on the side edges of the overhanging portion 45 so as to be arranged in parallel with each other at equal intervals along the direction perpendicular to the paper surface. For example, an FPC (Flexible Printed Circuit) substrate (not shown) is connected to the side edge of the overhanging portion 45 provided with these external connection terminals 47.

複数の配線46は、シール材6に囲まれた領域内に向けて列方向Yに延びるように形成されている。これらの配線46の一部は、シール材6によって囲まれた領域内に向けて列方向Yに延びてデータ線19に繋がっている。また、複数の配線46の他の一部は、シール材6の中に含まれる導通材48を介してカラーフィルタ基板8上の各帯状電極44につながっている。   The plurality of wirings 46 are formed so as to extend in the column direction Y toward the region surrounded by the sealing material 6. A part of these wirings 46 extends in the column direction Y toward the area surrounded by the sealing material 6 and is connected to the data line 19. Further, the other part of the plurality of wirings 46 is connected to each strip electrode 44 on the color filter substrate 8 through a conductive material 48 included in the seal material 6.

張出し部45の表面には、ACF(Anisotropic Conductive Film:異方性導電膜)49を用いたCOG(Chip On Glass)技術によって、駆動用IC50が実装されている。駆動用IC50は、データ線19へデータ信号を伝送し、帯状電極44へ走査信号を伝送する。駆動用IC50は1つのICチップで形成しても良いし、必要に応じて複数のICチップで形成しても良い。駆動用IC50を複数のICチップによって構成する場合には、それらのICチップは張出し部45上で図1の紙面垂直方向に並べて実装される。   A driving IC 50 is mounted on the surface of the overhanging portion 45 by a COG (Chip On Glass) technique using an ACF (Anisotropic Conductive Film) 49. The driving IC 50 transmits a data signal to the data line 19 and transmits a scanning signal to the strip electrode 44. The driving IC 50 may be formed by one IC chip, or may be formed by a plurality of IC chips as necessary. When the driving IC 50 is constituted by a plurality of IC chips, these IC chips are mounted side by side in the direction perpendicular to the paper surface of FIG.

以上のように構成された液晶表示装置1によれば、液晶表示装置1が明るい室外や明るい室内に置かれる場合は、太陽光や室内光等といった外部光を用いて反射型の表示が行われる。一方、液晶表示装置1が暗い室外や暗い室内に置かれる場合は、照明装置3をバックライトとして用いて透過型の表示が行われる。   According to the liquid crystal display device 1 configured as described above, when the liquid crystal display device 1 is placed outdoors or in a bright room, a reflective display is performed using external light such as sunlight or room light. . On the other hand, when the liquid crystal display device 1 is placed outside a dark room or in a dark room, a transmissive display is performed using the lighting device 3 as a backlight.

上記の反射型表示を行う場合、図2において、観察側である矢印Aの方向からカラーフィルタ基板8を通して液晶パネル2内へ入射した外部光L0は、液晶層12を通過して素子基板7内へ入った後、反射表示領域Rにおいて光反射膜24で反射して再び液晶層12へ供給される。他方、上記の透過型表示を行う場合、図1の照明装置3の光源13が点灯し、それからの光が導光体14の光入射面14aから導光体14へ導入され、さらに、光出射面14bから面状の光として出射する。この出射光は、図2の符号L1で示すように透過表示領域T、すなわち光反射膜24が存在しない領域を通って液晶層12へ供給される。   In the case of performing the reflection type display, the external light L0 that has entered the liquid crystal panel 2 through the color filter substrate 8 from the direction of the arrow A on the observation side in FIG. Then, the light is reflected by the light reflection film 24 in the reflective display region R and supplied to the liquid crystal layer 12 again. On the other hand, when the transmissive display is performed, the light source 13 of the illumination device 3 in FIG. The light is emitted from the surface 14b as planar light. The emitted light is supplied to the liquid crystal layer 12 through the transmissive display region T, that is, the region where the light reflection film 24 does not exist, as indicated by reference numeral L1 in FIG.

以上のようにして液晶層12へ光が供給される間、素子基板7側の画素電極25とカラーフィルタ基板8側の帯状電極44との間には、走査信号およびデータ信号によって特定される所定の電圧が印加され、これにより、液晶層12内の液晶分子の配向がサブ画素Dごとに制御され、この結果、液晶層12に供給された光がサブ画素Dごとに変調される。この変調された光が、カラーフィルタ基板8側の偏光板18b(図1参照)を通過するとき、その偏光板18bの偏光特性に従ってサブ画素Dごとに通過を規制され、これにより、素子基板7の表面に文字、数字、図形等といった像が表示され、これが、矢印A方向から視認される。   While light is supplied to the liquid crystal layer 12 as described above, a predetermined gap specified by the scanning signal and the data signal is provided between the pixel electrode 25 on the element substrate 7 side and the strip electrode 44 on the color filter substrate 8 side. Thus, the orientation of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 12 is controlled for each sub-pixel D. As a result, the light supplied to the liquid crystal layer 12 is modulated for each sub-pixel D. When this modulated light passes through the polarizing plate 18b (see FIG. 1) on the color filter substrate 8 side, the passage is restricted for each sub-pixel D according to the polarization characteristics of the polarizing plate 18b. Images such as letters, numbers, figures, etc. are displayed on the surface of the screen, and are visually recognized from the direction of arrow A.

以下、図2の遮光膜28について詳しく説明する。遮光膜28は、図2に示すように、第1樹脂膜22と第2樹脂膜23の間に設けられている。この遮光膜28は、図3(a)において斜線で示す領域、すなわち、互いに隣接するサブ画素D同士の境界で、互いに隣接する光反射膜24同士の間の領域に設けられている。本実施形態において、遮光膜28は、列方向Y(すなわち、図の上下方向)に延びる帯状に形成され、その帯状の遮光膜28の複数本が、行方向Xに関して互いに隣接する光反射膜24の間に設けられている。   Hereinafter, the light shielding film 28 in FIG. 2 will be described in detail. As illustrated in FIG. 2, the light shielding film 28 is provided between the first resin film 22 and the second resin film 23. The light shielding film 28 is provided in a region indicated by oblique lines in FIG. 3A, that is, a region between adjacent light reflecting films 24 at a boundary between adjacent subpixels D. In the present embodiment, the light shielding film 28 is formed in a strip shape extending in the column direction Y (that is, the vertical direction in the drawing), and a plurality of the strip-shaped light shielding films 28 are adjacent to each other in the row direction X. It is provided between.

本実施形態では、図3(b)に示すように、帯状に形成された遮光膜28の幅を「a」とし、互いに隣接する光反射膜24の間の領域の幅を「b」としたとき、
a>b
としている。こうすることにより、図3(a)に示すように、遮光膜28の一部と光反射膜24の一部とが平面的に見て重なるようになっている。
In this embodiment, as shown in FIG. 3B, the width of the light-shielding film 28 formed in a strip shape is “a”, and the width of the region between the light reflecting films 24 adjacent to each other is “b”. When
a> b
It is said. By doing so, as shown in FIG. 3A, a part of the light shielding film 28 and a part of the light reflecting film 24 are overlapped when seen in a plan view.

また、本実施形態において、遮光膜28は遮光性を有した金属材料を、例えばフォトエッチング処理によってパターニングすることにより形成できる。この金属材料としては、例えば、データ線19と同じ材料、例えばCr等を用いることができる。また、光反射膜24と同じ材料、例えばAlやAl合金等を用いることもできる。これらのCr,Al,Al合金等は導電性の材料である。   In the present embodiment, the light shielding film 28 can be formed by patterning a metal material having a light shielding property by, for example, a photoetching process. As this metal material, for example, the same material as the data line 19, for example, Cr or the like can be used. Further, the same material as the light reflecting film 24, for example, Al or Al alloy can be used. These Cr, Al, Al alloy and the like are conductive materials.

ところで、従来の液晶表示装置において、遮光膜は、データ線等の導電膜と同一平面上にある基板の表面に設けられることが多い。そして、このような構造の液晶表示装置においては、遮光膜とデータ線等の導電膜とを同じ金属材料、例えばCr等を用いて同時に形成することが多い。また、基板上に設けられる遮光膜は、当該遮光膜の幅を広くすることが望ましい。これは、遮光膜の幅を広くすることにより、光反射膜と遮光膜とが平面的に重なる領域を設け、照明装置からの透過光が反射表示領域内に漏れ出ることを確実に防止するためである。   By the way, in the conventional liquid crystal display device, the light shielding film is often provided on the surface of the substrate on the same plane as the conductive film such as the data line. In a liquid crystal display device having such a structure, a light shielding film and a conductive film such as a data line are often formed simultaneously using the same metal material, such as Cr. In addition, it is desirable that the light shielding film provided on the substrate has a wider width. This is because, by increasing the width of the light shielding film, an area where the light reflecting film and the light shielding film overlap in a plane is provided, and the transmitted light from the illumination device is reliably prevented from leaking into the reflective display area. It is.

しかしながら、遮光膜とデータ線とを同一平面上において同じ材料を用いて形成した場合、遮光膜の幅を広く形成したときには、データ線と遮光膜とが電気的に短絡するおそれがあった。そのため、遮光膜の幅を広くすることが難しく、その幅を狭くせざるを得なかった。仮に光反射膜をパターニングする際のエッチング処理において、光反射膜の材料であるAlがオーバーエッチングされる等して遮光膜と光反射膜との相対的な位置がずれた場合、透過光が反射表示領域内に漏れ出て、その結果、液晶表示装置の透過表示時の表示のコントラストが低下するおそれがあった。   However, when the light shielding film and the data line are formed using the same material on the same plane, the data line and the light shielding film may be electrically short-circuited when the width of the light shielding film is wide. For this reason, it is difficult to increase the width of the light shielding film, and the width has to be reduced. In the etching process when patterning the light reflecting film, if the relative position between the light shielding film and the light reflecting film is shifted due to the over-etching of Al, which is the material of the light reflecting film, the transmitted light is reflected. As a result, the liquid crystal display device leaks into the display area, and there is a possibility that the display contrast at the time of transmissive display of the liquid crystal display device is lowered.

これに対し、本実施形態の液晶表示装置では、図3(b)において、第1透光性基板7aと第1樹脂膜22との間にデータ線19を設け、第1樹脂膜22と第2樹脂膜23との間に遮光膜28を設けることにした。すなわち、データ線19と遮光膜28とを第1樹脂膜22を挟んで異なる平面上に設けることにした。これにより、データ線19と遮光膜28とが接触して電気的に短絡することがないので、遮光膜28の幅を広く設けることができる。   On the other hand, in the liquid crystal display device of this embodiment, in FIG. 3B, the data line 19 is provided between the first translucent substrate 7a and the first resin film 22, and the first resin film 22 and the first resin film 22 The light shielding film 28 is provided between the two resin films 23. That is, the data line 19 and the light shielding film 28 are provided on different planes with the first resin film 22 interposed therebetween. Thus, the data line 19 and the light shielding film 28 do not come into contact with each other and are not electrically short-circuited, so that the width of the light shielding film 28 can be widened.

また、本実施形態では、遮光膜28は、図3(a)において斜線で示すように、互いに隣接するサブ画素D同士の境界であって互いに隣接する光反射膜24同士の間の領域に設けられている。そしてこの遮光膜28は、列方向Y(すなわち、図3(a)の上下方向)に延びる帯状に形成され、その帯状の遮光膜28の複数本が、行方向X(すなわち、図3(a)の左右方向)に関して互いに隣接する光反射膜24の間に設けられている。そして、帯状に形成された遮光膜28の幅を「a」とし、互いに隣接する光反射膜24の間の領域の幅を「b」としたとき、
a>b
の関係に設定している。
Further, in the present embodiment, the light shielding film 28 is provided in a region between the light reflecting films 24 adjacent to each other at the boundary between the adjacent subpixels D, as indicated by oblique lines in FIG. It has been. The light shielding film 28 is formed in a strip shape extending in the column direction Y (that is, the vertical direction in FIG. 3A), and a plurality of the strip-shaped light shielding films 28 are formed in the row direction X (that is, FIG. 3A). ) Between the light reflecting films 24 adjacent to each other. When the width of the light shielding film 28 formed in a band shape is “a” and the width of the region between the light reflecting films 24 adjacent to each other is “b”,
a> b
The relationship is set.

このように、帯状の遮光膜28の幅aを、互いに隣接する光反射膜24の間の領域の幅bより広くすれば、仮に光反射膜24をパターニングする際のオーバーエッチング等によって光反射膜24と遮光膜28との相対的な位置がずれたとしても、光反射膜24と遮光膜28とが平面視で部分的に重なることができる。従って、基板7aを透過する光L1が光反射膜24同士の間から漏れ出ることを遮光膜28によって確実に防止してコントラストの低下を防止できる。   Thus, if the width a of the band-shaped light-shielding film 28 is made wider than the width b of the region between the light reflecting films 24 adjacent to each other, the light reflecting film may be formed by overetching or the like when the light reflecting film 24 is patterned. Even if the relative position between the light shielding film 24 and the light shielding film 28 is shifted, the light reflecting film 24 and the light shielding film 28 can partially overlap in a plan view. Accordingly, it is possible to reliably prevent the light L1 transmitted through the substrate 7a from leaking between the light reflecting films 24 by the light shielding film 28, thereby preventing a decrease in contrast.

また、基板7a上に第1樹脂膜22と第2樹脂膜23の2つの層の樹脂膜を設けた。こうすれば、1つの層で層間絶縁膜を形成する場合に比べて、基板7a上に膜厚が厚い層間絶縁膜を均一な膜厚で設けることができる。その結果、データ線19と画素電極25との間隔を長く設定できるので、データ線19と画素電極25との間の寄生容量を低減できる。それ故、クロストークを防止できる。   Further, two layers of resin films, the first resin film 22 and the second resin film 23, were provided on the substrate 7a. In this case, the thick interlayer insulating film can be provided on the substrate 7a with a uniform film thickness as compared with the case where the interlayer insulating film is formed with one layer. As a result, since the distance between the data line 19 and the pixel electrode 25 can be set long, the parasitic capacitance between the data line 19 and the pixel electrode 25 can be reduced. Therefore, crosstalk can be prevented.

(電気光学装置の第2実施形態)
次に、本発明に係る電気光学装置の他の実施形態を説明する。本実施形態においても、電気光学装置の実施形態として液晶表示装置を例示して説明する。本実施形態に係る液晶表示装置の外観形状は、概ね、図1と同じである。図4は、本発明に係る液晶表示装置の主要部を示しており、図1の液晶表示装置におけるサブ画素部分を拡大して平面的に示す図である。また、図5は、図4の矢印Z4−Z4線に従った断面を示している。
(Second embodiment of electro-optical device)
Next, another embodiment of the electro-optical device according to the invention will be described. Also in this embodiment, a liquid crystal display device will be described as an example of an electro-optical device. The appearance of the liquid crystal display device according to this embodiment is generally the same as that shown in FIG. FIG. 4 shows the main part of the liquid crystal display device according to the present invention, and is an enlarged plan view of a sub-pixel portion in the liquid crystal display device of FIG. FIG. 5 shows a cross section according to the arrow Z4-Z4 line of FIG.

既述の第1実施形態では、図3(b)に示したように、第1樹脂膜22と第2樹脂膜23との間であって互いに隣接する光反射膜24同士の間の領域に遮光膜28が設けられている。この遮光膜28の幅aと互いに隣接する前記光反射膜同士の間の領域の幅bとは、
a>b
の関係に設定されている。
In the first embodiment described above, as shown in FIG. 3B, in the region between the light reflecting films 24 adjacent to each other between the first resin film 22 and the second resin film 23. A light shielding film 28 is provided. The width a of the light shielding film 28 and the width b of the region between the light reflecting films adjacent to each other are as follows:
a> b
The relationship is set.

これに対し本実施形態では、図5に示すように、第2樹脂膜23に溝状の凹部51を設けている。そして、第1透光性基板7aと第1樹脂膜22の間に第1遮光膜52を設け、第1樹脂膜22と第2樹脂膜23の間に第2遮光膜53を設けている。以下、本実施形態を図3(a)及び図3(b)に示した実施形態と異なる点を中心に説明する。なお、本実施形態において、第1実施形態と同じ構成要素は同じ符号を付すことにして、その説明は省略することにする。   On the other hand, in this embodiment, as shown in FIG. 5, a groove-shaped recess 51 is provided in the second resin film 23. A first light shielding film 52 is provided between the first light-transmissive substrate 7 a and the first resin film 22, and a second light shielding film 53 is provided between the first resin film 22 and the second resin film 23. Hereinafter, the present embodiment will be described focusing on differences from the embodiment shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b). In the present embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

本実施形態において、図5の第2樹脂膜23、第1遮光膜52、及び第2遮光膜53以外の液晶表示装置1の構成要素は、図1,図2及び図3で示した第1実施形態の場合と同じとすることできる。   In the present embodiment, the components of the liquid crystal display device 1 other than the second resin film 23, the first light shielding film 52, and the second light shielding film 53 of FIG. 5 are the same as those of the first resin shown in FIGS. It can be the same as in the embodiment.

図5において、第2樹脂膜23内には、凹部51が設けられている。この凹部51は、互いに隣接するサブ画素D同士の境界に設けられている。個々の凹部51は、図4に平面的に示すように、互いに隣接するサブ画素D同士の境界に沿って、列方向Y(すなわち、図4の上下方向)に延びる直線状の溝形状に形成されている。そしてその溝形状に形成された凹部51の複数が、行方向Xに関して互いに隣接するサブ画素Dの境界に設けられている。この凹部51は、例えばフォトリソグラフィ処理によって凹部51に対応する領域の第2樹脂膜23を除去することにより設けることができる。   In FIG. 5, a recess 51 is provided in the second resin film 23. The recess 51 is provided at the boundary between the sub-pixels D adjacent to each other. Each recess 51 is formed in a linear groove shape extending in the column direction Y (that is, the vertical direction in FIG. 4) along the boundary between adjacent sub-pixels D, as shown in a plan view in FIG. Has been. A plurality of the recesses 51 formed in the groove shape is provided at the boundary between the sub-pixels D adjacent to each other in the row direction X. The recess 51 can be provided by removing the second resin film 23 in a region corresponding to the recess 51 by, for example, photolithography.

次に、第1遮光膜52は、図5に示すように、第1透光性基板7aと第1樹脂膜22との間であって、凹部51に対向する位置、すなわち互いに隣接するサブ画素D同士の境界、すなわち互いに隣接する光反射膜24同士の間の領域に設けられている。この第1遮光膜52は、図4において平面的に見た状態で左下がりの斜線で示すように、列方向Y(すなわち、図4の上下方向)に延びる帯状に形成されている。そしてその帯状の第1遮光膜52の複数本が、行方向X(すなわち、図4の左右方向)に関して互いに隣接する光反射膜24の間に設けられている。   Next, as shown in FIG. 5, the first light-shielding film 52 is located between the first light-transmissive substrate 7 a and the first resin film 22, at a position facing the concave portion 51, that is, subpixels adjacent to each other. It is provided at the boundary between D, that is, the region between the light reflecting films 24 adjacent to each other. The first light-shielding film 52 is formed in a strip shape extending in the column direction Y (that is, the vertical direction in FIG. 4), as indicated by the diagonally slanting left line when viewed in plan in FIG. A plurality of the strip-shaped first light shielding films 52 are provided between the light reflecting films 24 adjacent to each other in the row direction X (that is, the horizontal direction in FIG. 4).

次に、第2遮光膜53は、図5に示すように、第1樹脂膜22と第2樹脂膜23との間に設けられている。この第2遮光膜53は、凹部51の両側に、当該凹部51の側面に隣接して設けられている。この第2遮光膜53は、図4において平面的に見た状態で右下がりの斜線で示すように、個々の凹部51の側面に沿って列方向Y(すなわち、図4の上下方向)に延びる帯状に形成されている。   Next, as shown in FIG. 5, the second light shielding film 53 is provided between the first resin film 22 and the second resin film 23. The second light shielding film 53 is provided on both sides of the recess 51 and adjacent to the side surface of the recess 51. The second light-shielding film 53 extends in the column direction Y (that is, the vertical direction in FIG. 4) along the side surface of each concave portion 51 as shown by the diagonally downward slanting line in a plan view in FIG. It is formed in a band shape.

上記の第1遮光膜52及び第2遮光膜53は、遮光性を有した金属材料を、例えばフォトエッチング処理によってパターニングすることによって形成できる。この金属材料としては、例えば、データ線19と同じ材料、例えばCr等を用いることができる。また、光反射膜24と同じ材料、例えばAlやAl合金等を用いることもできる。なお、第1遮光膜52はデータ線19と同一平面上に設けられており、第1遮光膜52とデータ線19とを同じ材料によって同時に形成することが望ましい。   The first light-shielding film 52 and the second light-shielding film 53 can be formed by patterning a light-shielding metal material by, for example, a photoetching process. As this metal material, for example, the same material as the data line 19, for example, Cr or the like can be used. Further, the same material as the light reflecting film 24, for example, Al or Al alloy can be used. Note that the first light shielding film 52 is provided on the same plane as the data line 19, and it is desirable that the first light shielding film 52 and the data line 19 are simultaneously formed of the same material.

(第1遮光膜と第2遮光膜の位置)
ここで、図5において、帯状に形成された第1遮光膜52の幅を「c」とし、凹部51を挟んで互いに隣接する第2遮光膜53同士の間隔を「d」としたとき、
c≧d
であることが望ましい。本実施形態では、
c>d
である場合を例示している。このような関係に設けられた第1遮光膜52と第2遮光膜53とは、図4に示すように、第1遮光膜52の両端部と第2遮光膜53の一方の端部とが平面的に見て重なっている。このように第1遮光膜52と第2遮光膜53とが平面的に重なることにより、第1遮光膜52と第2遮光膜53とによって遮光される領域の幅は、図4及び図5において「e」で示された幅とすることができる。
(Position of the first light shielding film and the second light shielding film)
Here, in FIG. 5, when the width of the first light shielding film 52 formed in a belt shape is “c” and the interval between the second light shielding films 53 adjacent to each other with the concave portion 51 interposed therebetween is “d”,
c ≧ d
It is desirable that In this embodiment,
c> d
The case where it is is illustrated. As shown in FIG. 4, the first light shielding film 52 and the second light shielding film 53 provided in such a relationship have both end portions of the first light shielding film 52 and one end portion of the second light shielding film 53. It overlaps in plan view. As described above, the first light shielding film 52 and the second light shielding film 53 are planarly overlapped, so that the width of the region shielded by the first light shielding film 52 and the second light shielding film 53 is as shown in FIGS. It may be the width indicated by “e”.

また、本実施形態では、図5において、互いに隣接する光反射膜24同士の間隔を「f」としたとき、第1遮光膜52と第2遮光膜53とによって遮光される領域の幅「e」との関係は、
e>f
である。
Further, in the present embodiment, in FIG. 5, when the interval between the light reflecting films 24 adjacent to each other is “f”, the width “e” of the region shielded by the first light shielding film 52 and the second light shielding film 53. "
e> f
It is.

本実施形態においては、第2樹脂膜23に溝形状の凹部51を設けた。これにより、画素電極25上に配向膜26aをローラ転写法に基づく印刷によって形成する際に、配向膜26aを凹部51に流し込むことによって広く均一に行きわたらせることができるので、素子基板7の全域において配向膜26aを均一に設けることができる。   In the present embodiment, a groove-shaped recess 51 is provided in the second resin film 23. As a result, when the alignment film 26a is formed on the pixel electrode 25 by printing based on the roller transfer method, the alignment film 26a can be widely and uniformly distributed by flowing into the recess 51. The alignment film 26a can be provided uniformly.

また、本実施形態では、帯状に形成された第1遮光膜52の幅を「c」とし、凹部51を挟んで互いに隣接する第2遮光膜53同士の間隔を「d」としたとき、それら「c」と「d」の関係が、
c>d
となるように設定した。これにより、第1遮光膜52と第2遮光膜53との間で平面的に見て隙間が空くことがないので、それら第1遮光膜52及び第2遮光膜53が設けられた領域において透過光を確実に遮光できる。
Further, in the present embodiment, when the width of the first light shielding film 52 formed in a belt shape is “c” and the interval between the second light shielding films 53 adjacent to each other with the concave portion 51 interposed therebetween is “d”, The relationship between “c” and “d”
c> d
It set so that it might become. As a result, there is no gap between the first light-shielding film 52 and the second light-shielding film 53 in plan view. The light can be reliably blocked.

またさらに、第1遮光膜52と第2遮光膜53とによって遮光される領域の幅を「e」とし、互いに隣接する光反射膜24同士の間隔を「f」としたとき、それら「e」と「f」の関係が、
e>f
となるように設定した。こうすれば、互いに隣接する光反射膜24同士の間隔eに対して遮光膜が設けられる幅を十分に広くすることができるので、仮に光反射膜24をパターニングする際にオーバーエッチングが生じて、それらの光反射膜24の間隔が所定の間隔より広く形成された場合であっても、第1遮光膜52と第2遮光膜53から成る幅の広い遮光膜により透過光を確実に遮光できる。
Furthermore, when the width of the region shielded by the first light shielding film 52 and the second light shielding film 53 is “e” and the interval between the light reflecting films 24 adjacent to each other is “f”, these “e” And "f"
e> f
It set so that it might become. By doing so, the width of the light shielding film provided for the interval e between the light reflecting films 24 adjacent to each other can be made sufficiently wide, so that over-etching occurs when the light reflecting film 24 is patterned, Even when the distance between the light reflecting films 24 is wider than a predetermined distance, the transmitted light can be reliably shielded by the wide light shielding film including the first light shielding film 52 and the second light shielding film 53.

なお、第1遮光膜52と第2遮光膜53によって遮光される領域の幅「e」は、図4に斜線で示すように、平面的に見て十分に広い幅に設定されている。しかしながら、データ線19と第2遮光膜53とを第1樹脂膜22を挟んで異なる平面上に設けたので、データ線19と第2遮光膜53とが接触して電気的に短絡することはなく、実質的な遮光領域を広く確保できる。   Note that the width “e” of the region shielded by the first light shielding film 52 and the second light shielding film 53 is set to a sufficiently wide width in a plan view, as indicated by hatching in FIG. However, since the data line 19 and the second light-shielding film 53 are provided on different planes with the first resin film 22 in between, the data line 19 and the second light-shielding film 53 are in contact and electrically short-circuited. Therefore, a wide substantial light-shielding area can be secured.

また、基板7a上に第1樹脂膜22と第2樹脂膜23の2層の樹脂膜を設けたことにより、1つの層で層間絶縁膜を形成する場合に比べて、基板7a上に膜厚が厚い層間絶縁膜を均一に設けることができる。その結果、データ線19と画素電極25との間の距離を長く設定できるので、データ線19と画素電極25との間の寄生容量を低減できる。それ故、クロストークを防止できる。   In addition, since the two resin films of the first resin film 22 and the second resin film 23 are provided on the substrate 7a, the film thickness is formed on the substrate 7a as compared with the case where the interlayer insulating film is formed with one layer. A thick interlayer insulating film can be provided uniformly. As a result, since the distance between the data line 19 and the pixel electrode 25 can be set long, the parasitic capacitance between the data line 19 and the pixel electrode 25 can be reduced. Therefore, crosstalk can be prevented.

(電気光学装置の第3実施形態)
次に、本発明に係る電気光学装置のさらに他の実施形態を説明する。本実施形態においても、電気光学装置の実施形態として液晶表示装置を例示して説明する。本実施形態に係る液晶表示装置の外観形状は、概ね、図1と同じである。図6は、本発明に係る液晶表示装置の主要部を示しており、図1の液晶表示装置におけるサブ画素部分を拡大して平面的に示す図である。また、図7(a)は、図6の矢印Z5−Z5線に従った断面を示している。また、図7(b)は、図6の矢印Z6−Z6線に従った断面を示している。
(Third embodiment of electro-optical device)
Next, still another embodiment of the electro-optical device according to the invention will be described. Also in this embodiment, a liquid crystal display device will be described as an example of an electro-optical device. The appearance of the liquid crystal display device according to this embodiment is generally the same as that shown in FIG. FIG. 6 shows the main part of the liquid crystal display device according to the present invention, and is an enlarged plan view of a sub-pixel portion in the liquid crystal display device of FIG. Moreover, Fig.7 (a) has shown the cross section according to the arrow Z5-Z5 line | wire of FIG. FIG. 7B shows a cross section according to the arrow Z6-Z6 line of FIG.

既述の第1実施形態では、図3(a)に平面的に示したように、光反射膜24は個々のサブ画素Dの領域内にコ字状に設けられて反射表示領域Rを形成している。そして、コ字状の光反射膜24に囲まれて透過表示領域Tを形成している。そして、遮光膜28は、互いに隣接する光反射膜24同士の間の領域に、サブ画素Dの複数個にわたって帯状に設けられている。   In the first embodiment described above, as shown in FIG. 3A in plan view, the light reflecting film 24 is provided in a U shape in the area of each sub-pixel D to form the reflective display area R. is doing. A transmissive display region T is formed surrounded by a U-shaped light reflecting film 24. The light shielding film 28 is provided in a band shape over a plurality of subpixels D in a region between the light reflecting films 24 adjacent to each other.

これに対し本実施形態では、図6に示すように、光反射膜64は個々のサブ画素Dの領域内の一部に長方形状に設けられて反射表示領域Rを形成している。そして、サブ画素Dの領域内の他の長方形状の領域が透過表示領域Tとなっている。そして、遮光膜68は、互いに隣接する光反射膜64同士の間の領域、すなわち、互いに隣接するサブ画素Dの境界の一部に設けられている。以下、本実施形態を図3(a)及び図3(b)に示した実施形態と異なる点を中心に説明する。なお、本実施形態において、第1実施形態と同じ構成要素は同じ符号を付すことにして、その説明は省略することにする。   On the other hand, in this embodiment, as shown in FIG. 6, the light reflecting film 64 is provided in a rectangular shape in a part of the area of each sub-pixel D to form a reflective display area R. The other rectangular area in the area of the sub-pixel D is a transmissive display area T. The light shielding film 68 is provided in a region between the light reflecting films 64 adjacent to each other, that is, in a part of the boundary between the sub pixels D adjacent to each other. Hereinafter, the present embodiment will be described focusing on differences from the embodiment shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b). In the present embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

本実施形態において、遮光膜68は、反射表示領域Rの断面、すなわち図6のZ5−Z5線に従った断面である図7(a)に示すように、第1樹脂膜22と第2樹脂膜23の間に設けられている。そして遮光膜68は、列方向Y(すなわち、図7(a)の紙面垂直方向)に延びる帯状に形成され、その帯状の遮光膜68の複数本が、行方向X(すなわち、図7(a)の左右方向)に関して互いに隣接する光反射膜64の間に設けられている。   In the present embodiment, the light shielding film 68 includes the first resin film 22 and the second resin as shown in FIG. 7A which is a cross section of the reflective display region R, that is, a cross section according to the Z5-Z5 line of FIG. It is provided between the films 23. The light shielding film 68 is formed in a strip shape extending in the column direction Y (that is, the direction perpendicular to the paper surface of FIG. 7A), and a plurality of the strip-shaped light shielding films 68 are arranged in the row direction X (that is, FIG. 7A). ) Between the light reflection films 64 adjacent to each other.

本実施形態において光反射膜64は、図6において列方向Yに長い長方形状に形成されたサブ画素Dのうちの上側に長方形状に設けられ反射表示領域Rが形成されている。他方、サブ画素Dの下側には光反射膜64は設けられずに透過表示領域Tが形成されている。そして遮光膜68は、図6において斜線で示す領域に設けられている。この領域は、互いに隣接するサブ画素D同士の境界であって互いに隣接する光反射膜64同士の間の領域である。すなわち、互いに隣接する反射表示領域R同士の間の領域である。このように遮光膜68を反射表示領域Rに対応する位置に設ければ、照明装置3(図1参照)からの透過光L1(図2参照)が反射表示領域R内に漏れ出ることを防止できる。   In this embodiment, the light reflection film 64 is provided in a rectangular shape on the upper side of the sub-pixels D formed in a rectangular shape that is long in the column direction Y in FIG. 6, and a reflective display region R is formed. On the other hand, the transmissive display region T is formed on the lower side of the sub-pixel D without providing the light reflecting film 64. The light shielding film 68 is provided in a region indicated by oblique lines in FIG. This region is a boundary between the adjacent sub-pixels D and between the light reflection films 64 adjacent to each other. That is, it is a region between the reflective display regions R adjacent to each other. Thus, if the light shielding film 68 is provided at a position corresponding to the reflective display region R, the transmitted light L1 (see FIG. 2) from the illumination device 3 (see FIG. 1) is prevented from leaking into the reflective display region R. it can.

他方、透過表示領域Tの断面、すなわち図6のZ6−Z6線に従った断面である図7(b)に示すように、互いに隣接する透過表示領域T同士の間には遮光膜は設けられていない。これにより、透過表示領域Tの開口率を高くすることができるので、より明るい透過型の表示を行うことができる。   On the other hand, as shown in FIG. 7B, which is a cross section of the transmissive display area T, that is, a cross section according to the Z6-Z6 line of FIG. 6, a light shielding film is provided between the transmissive display areas T adjacent to each other. Not. As a result, the aperture ratio of the transmissive display region T can be increased, so that brighter transmissive display can be performed.

図6の実施形態においては、遮光膜68を互いに隣接する光反射膜64同士の間、すなわち互いに隣接する反射表示領域Rの間にのみ設けるようにした。しかしながら、遮光膜68は互いに隣接する透過表示領域Tの間、すなわち光反射膜64が無い領域にわたって連続して設けることもできる。この場合、互いに隣接する透過表示領域Tの間においては、遮光膜68の幅を狭く、具体的には、カラーフィルタ基板8上の対向遮光膜42と同じかそれより狭い幅に形成することにより、透過表示領域Tにおける開口率を高く維持できる。   In the embodiment of FIG. 6, the light shielding film 68 is provided only between the light reflecting films 64 adjacent to each other, that is, between the reflective display regions R adjacent to each other. However, the light shielding film 68 can also be provided continuously between the transmissive display regions T adjacent to each other, that is, over the region where the light reflecting film 64 is not provided. In this case, between the transmissive display regions T adjacent to each other, the width of the light shielding film 68 is narrow, specifically, by forming the width to be the same as or narrower than the opposing light shielding film 42 on the color filter substrate 8. The aperture ratio in the transmissive display region T can be kept high.

(電気光学装置に関するその他の実施形態)
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明に係る電気光学装置を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。例えば、図5に示す実施形態において、第2樹脂膜23内の凹部51は、列方向Yにストライプ状に設けている。しかしながら、凹部51はサブ画素Dを囲む格子状に設けることもできる。
(Other Embodiments Regarding Electro-Optical Device)
The electro-optical device according to the present invention has been described with reference to the preferred embodiments. However, the present invention is not limited to the embodiments, and various modifications can be made within the scope of the invention described in the claims. For example, in the embodiment shown in FIG. 5, the recesses 51 in the second resin film 23 are provided in a stripe shape in the column direction Y. However, the recess 51 can also be provided in a lattice shape surrounding the sub-pixel D.

また、上記の各実施形態は、2端子型のスイッチング素子であるTFD素子を用いる電気光学装置に本発明を適用したものであるが、本発明は、TFT素子等といった3端子型のスイッチング素子を用いる電気光学装置にも適用できる。例えば、本発明は、チャネルエッチ型あるいは、それ以外の構造のアモルファスシリコンTFT素子を用いる液晶表示装置にも適用できる。また、本発明は、アモルファスシリコンTFT素子以外のTFT素子、例えば高温ポリシリコンTFT素子や、低温ポリシリコンTFT素子等をスイッチング素子として用いるアクティブマトリクス方式の液晶表示装置にも適用できる。   In each of the above embodiments, the present invention is applied to an electro-optical device using a TFD element that is a two-terminal switching element. However, the present invention is not limited to a three-terminal switching element such as a TFT element. It can also be applied to the electro-optical device used. For example, the present invention can be applied to a liquid crystal display device using an amorphous silicon TFT element having a channel etch type or other structure. The present invention can also be applied to an active matrix liquid crystal display device using a TFT element other than an amorphous silicon TFT element, for example, a high-temperature polysilicon TFT element or a low-temperature polysilicon TFT element as a switching element.

また、上記の各実施形態では、ECB方式の液晶モードを採用した液晶表示装置に本発明を適用したものであるが、本発明は、例えばSTN(Super Twisted Nematic)モードや、VA(Vertically Aligned)モード等の液晶モードを採用した液晶表示装置にも適用できる。   In each of the above embodiments, the present invention is applied to a liquid crystal display device that adopts an ECB liquid crystal mode. However, the present invention can be applied to, for example, an STN (Super Twisted Nematic) mode or a VA (Vertically Aligned) mode. It can also be applied to a liquid crystal display device adopting a liquid crystal mode such as a mode.

(電子機器の第1実施形態)
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。なお、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
(First Embodiment of Electronic Device)
Hereinafter, an electronic device according to the present invention will be described with reference to embodiments. In addition, this embodiment shows an example of this invention and this invention is not limited to this embodiment.

図8は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、液晶表示装置101と、これを制御する制御回路102とを有する。制御回路102は、表示情報出力源105、表示情報処理回路106、電源回路107及びタイミングジェネレータ108によって構成される。そして、液晶表示装置101は液晶パネル103及び駆動回路104を有する。   FIG. 8 shows an embodiment of an electronic apparatus according to the invention. The electronic device shown here includes a liquid crystal display device 101 and a control circuit 102 that controls the liquid crystal display device 101. The control circuit 102 includes a display information output source 105, a display information processing circuit 106, a power supply circuit 107, and a timing generator 108. The liquid crystal display device 101 includes a liquid crystal panel 103 and a drive circuit 104.

表示情報出力源105は、RAM(Random Access Memory)等といったメモリや、各種ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ108により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路106に供給する。   The display information output source 105 includes a memory such as a RAM (Random Access Memory), a storage unit such as various disks, a tuning circuit that tunes and outputs a digital image signal, and various clock signals generated by the timing generator 108. The display information processing circuit 106 is supplied with display information such as a predetermined format image signal.

次に、表示情報処理回路106は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号CLKと共に駆動回路104へ供給する。ここで、駆動回路104は、走査線駆動回路やデータ線駆動回路と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路107は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。   Next, the display information processing circuit 106 includes a number of well-known circuits such as an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, a clamp circuit, and the like, executes processing of input display information, and outputs an image signal. It is supplied to the drive circuit 104 together with the clock signal CLK. Here, the drive circuit 104 is a generic term for an inspection circuit and the like together with a scanning line drive circuit and a data line drive circuit. The power supply circuit 107 supplies a predetermined power supply voltage to each of the above components.

液晶表示装置101は、例えば、図1に示した液晶表示装置1を用いて構成できる。図1の液晶表示装置1は、図2において、基板7aと第1樹脂膜22との間にデータ線19を設け、第1樹脂膜22と第2樹脂膜23との間に遮光膜28を設けることにした。すなわち、データ線19と遮光膜28とを第1樹脂膜22を挟んで異なる平面上に設けることにした。これにより、データ線19と遮光膜28とが接触して電気的に短絡することがなくなるので、遮光膜28の幅を広く設けることができる。その結果、基板7aを透過する光を確実に遮光できることになった。   The liquid crystal display device 101 can be configured using, for example, the liquid crystal display device 1 shown in FIG. The liquid crystal display device 1 of FIG. 1 includes a data line 19 between the substrate 7a and the first resin film 22 and a light shielding film 28 between the first resin film 22 and the second resin film 23 in FIG. I decided to provide it. That is, the data line 19 and the light shielding film 28 are provided on different planes with the first resin film 22 interposed therebetween. As a result, the data line 19 and the light shielding film 28 do not come into contact with each other to be electrically short-circuited, so that the width of the light shielding film 28 can be widened. As a result, light transmitted through the substrate 7a can be reliably shielded.

また、基板7a上に第1樹脂膜22と第2樹脂膜23の2層の樹脂膜を設けることにより、基板7a上に厚い樹脂膜を均一な膜厚で設けることができるので、データ線19と樹脂膜上に設けられる画素電極25との間における寄生容量を低減できる。従って、この液晶表示装置を用いた本実施形態の電子機器においても、透過光を遮光すべき領域で確実に遮光してコントラストの高い表示を行うことができ、且つ寄生容量を低減してクロストークのない鮮明な表示を行うことができる。   Further, by providing two resin films of the first resin film 22 and the second resin film 23 on the substrate 7a, it is possible to provide a thick resin film with a uniform film thickness on the substrate 7a. And the parasitic capacitance between the pixel electrode 25 provided on the resin film can be reduced. Therefore, also in the electronic apparatus of this embodiment using this liquid crystal display device, it is possible to display light with high contrast by surely blocking the transmitted light in the area where the transmitted light should be blocked, and reducing the parasitic capacitance and crosstalk. A clear display without any problem can be achieved.

(電子機器の第2実施形態)
図9は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯電話機110は、本体部111と、これに開閉可能に設けられた表示体部112とを有する。液晶表示装置等といった電気光学装置によって構成された表示装置113は、表示体部112の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部112において表示画面114によって視認できる。本体部111には操作ボタン115が配列されている。
(Second Embodiment of Electronic Device)
FIG. 9 shows a mobile phone which is another embodiment of the electronic apparatus according to the present invention. A cellular phone 110 shown here includes a main body 111 and a display body 112 that can be opened and closed. A display device 113 configured by an electro-optical device such as a liquid crystal display device is disposed inside the display body portion 112, and various displays relating to telephone communication can be visually recognized on the display body portion 112 on the display screen 114. Operation buttons 115 are arranged on the main body 111.

表示体部112の一端部にはアンテナ116が伸縮自在に取付けられている。表示体部112の上部に設けられた受話部117の内部には、図示しないスピーカが配置される。また、本体部111の下端部に設けられた送話部118の内部には図示しないマイクが内蔵されている。表示装置113の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部111又は表示体部112の内部に格納される。   An antenna 116 is attached to one end of the display body 112 so as to be extendable and contractible. A speaker (not shown) is arranged inside the receiver unit 117 provided at the upper part of the display body unit 112. Further, a microphone (not shown) is built in the transmitter 118 provided at the lower end of the main body 111. A control unit for controlling the operation of the display device 113 is stored inside the main body unit 111 or the display body unit 112 as a part of the control unit that controls the entire mobile phone or separately from the control unit. The

表示装置113は、例えば、例えば、図1に示した液晶表示装置1を用いて構成できる。図1の液晶表示装置1は、図2において、基板7aと第1樹脂膜22との間にデータ線19を設け、第1樹脂膜22と第2樹脂膜23との間に遮光膜28を設けることにした。すなわち、データ線19と遮光膜28とを第1樹脂膜22を挟んで異なる平面上に設けることにした。これにより、データ線19と遮光膜28とが接触して電気的に短絡することがなくなるので、遮光膜28の幅を広く設けることができる。その結果、基板7aを透過する光を確実に遮光できることになった。   The display device 113 can be configured using, for example, the liquid crystal display device 1 shown in FIG. The liquid crystal display device 1 of FIG. 1 includes a data line 19 between the substrate 7a and the first resin film 22 and a light shielding film 28 between the first resin film 22 and the second resin film 23 in FIG. I decided to provide it. That is, the data line 19 and the light shielding film 28 are provided on different planes with the first resin film 22 interposed therebetween. As a result, the data line 19 and the light shielding film 28 do not come into contact with each other to be electrically short-circuited, so that the width of the light shielding film 28 can be widened. As a result, light transmitted through the substrate 7a can be reliably shielded.

また、基板7a上に第1樹脂膜22と第2樹脂膜23の2層の樹脂膜を設けることにより、基板7a上に厚い樹脂膜を均一な膜厚で設けることができるので、データ線19と樹脂膜上に設けられる画素電極25との間における寄生容量を低減できる。従って、この液晶表示装置を用いた本実施形態の電子機器においても、透過光を遮光すべき領域で確実に遮光してコントラストの高い表示を行うことができ、且つ寄生容量を低減してクロストークのない鮮明な表示を行うことができる。   Further, by providing two resin films of the first resin film 22 and the second resin film 23 on the substrate 7a, it is possible to provide a thick resin film with a uniform film thickness on the substrate 7a. And the parasitic capacitance between the pixel electrode 25 provided on the resin film can be reduced. Therefore, also in the electronic apparatus of this embodiment using this liquid crystal display device, it is possible to display light with high contrast by surely blocking the transmitted light in the area where the transmitted light should be blocked, and reducing the parasitic capacitance and crosstalk. A clear display without any problem can be achieved.

なお、電子機器としては、以上に説明した携帯電話機等の他にも、パーソナルコンピュータ、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、POS端末器等が挙げられる。   In addition to the above-described mobile phones and the like as electronic devices, personal computers, liquid crystal televisions, viewfinder type or monitor direct view type video tape recorders, car navigation devices, pagers, electronic notebooks, calculators, word processors, Examples include workstations, video phones, and POS terminals.

本発明に係る電気光学装置の一実施形態を示す側面断面図。1 is a side cross-sectional view showing an embodiment of an electro-optical device according to the invention. 図1において矢印Z1で示す部分を拡大して示す断面図。Sectional drawing which expands and shows the part shown by the arrow Z1 in FIG. サブ画素近傍の構造を示す図であり、(a)は、図2の矢印Aに従って示す平面図であり、(b)は、(a)のZ2−Z2線に従った断面図。It is a figure which shows the structure of a subpixel vicinity, (a) is a top view shown according to arrow A of FIG. 2, (b) is sectional drawing according to the Z2-Z2 line | wire of (a). 本発明に係る電気光学装置の他の実施形態の要部を示す平面図。FIG. 10 is a plan view showing a main part of another embodiment of the electro-optical device according to the invention. 図4のZ4−Z4線に従った断面図。Sectional drawing according to the Z4-Z4 line | wire of FIG. 本発明に係る電気光学装置のさらに他の実施形態の要部を示す平面図。FIG. 10 is a plan view showing a main part of still another embodiment of the electro-optical device according to the invention. (a)は、図5のZ5−Z5線に従った断面図であり、(b)は、図5のZ6−Z6線に従った断面図。(A) is sectional drawing according to the Z5-Z5 line of FIG. 5, (b) is sectional drawing according to the Z6-Z6 line of FIG. 本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図。1 is a block diagram illustrating an embodiment of an electronic apparatus according to the invention. 本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示す斜視図。The perspective view which shows the mobile telephone which is other Embodiment of the electronic device which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1.液晶表示装置(電気光学装置)、 2.液晶パネル、 3.照明装置、
6.シール材、 7.素子基板、 7a.第1透光性基板、 8.カラーフィルタ基板、
8a.第2透光性基板、 12.液晶層、 13.LED、 14.導光体、
14a.光入射面、 14b.光出射面、 16.光反射層、 17.光拡散層、
18a,18b.偏光板、 19.データ線(導電膜)、 21.TFD素子、
22.第1樹脂膜、 23.第2樹脂膜、 24,64.光反射膜、 25.画素電極、
26a,26b.配向膜、 27.コンタクトホール、 28,68.遮光膜、
31a.第1TFD要素、 31b.第2TFD要素、 32.第1素子電極、
33.絶縁膜、 34a,34b.第2素子電極、 41.着色膜、
42.対向遮光膜、 43.オーバーコート膜、 44.帯状電極、 45.張出し部、
50.駆動用IC、 51.凹部、 52.第1遮光膜、 53.第2遮光膜、
101.液晶表示装置(電気光学装置)、 102.制御回路、 103.液晶パネル、
104.駆動回路、 110.携帯電話機(電子機器)、 111.本体部、
112.表示体部、 113.表示装置、 114.表示画面、 D.サブ画素、
G.セルギャップ、 L0,L1.光、 R.反射表示領域、 T.透過表示領域、
V.表示領域

1. 1. liquid crystal display device (electro-optical device), 2. Liquid crystal panel Lighting equipment,
6). 6. sealing material Element substrate, 7a. 7. a first translucent substrate; Color filter substrate,
8a. Second translucent substrate, 12. Liquid crystal layer, 13. LED, 14. Light guide,
14a. Light incident surface, 14b. Light exit surface, 16. Light reflecting layer, 17. Light diffusion layer,
18a, 18b. Polarizing plate, 19. 20. Data line (conductive film) TFD element,
22. First resin film, 23. Second resin film 24,64. Light reflecting film, 25. Pixel electrodes,
26a, 26b. Alignment film, 27. Contact hole 28,68. Light shielding film,
31a. First TFD element, 31b. Second TFD element, 32. A first element electrode;
33. Insulating films 34a, 34b. Second element electrode, 41. Colored film,
42. Opposing light shielding film, 43. Overcoat film, 44. Strip electrode, 45. Overhang,
50. Driving IC, 51. Recess, 52. First light-shielding film, 53. A second light shielding film,
101. Liquid crystal display device (electro-optical device), 102. Control circuit, 103. LCD panel,
104. Drive circuit, 110. Mobile phone (electronic device), 111. Body part,
112. Display body part, 113. Display device, 114. Display screen; Sub-pixel,
G. Cell gap, L0, L1. Light, R.A. Reflective display area, T.I. Transparent display area,
V. Indicated Area

Claims (9)

電気光学物質を支持する基板と、該基板と前記電気光学物質との間に設けられた第1樹脂膜と、該第1樹脂膜と前記電気光学物質との間に設けられた第2樹脂膜と、前記基板と前記第1樹脂膜との間に設けられた導電膜と、前記第1樹脂膜と前記第2樹脂膜の間に設けられた遮光膜とを有することを特徴とする電気光学装置。   A substrate that supports an electro-optical material, a first resin film provided between the substrate and the electro-optical material, and a second resin film provided between the first resin film and the electro-optical material And an electroconductive film provided between the substrate and the first resin film, and a light shielding film provided between the first resin film and the second resin film. apparatus. 請求項1記載の電気光学装置において、前記基板上にはサブ画素が複数並べて設けられ、個々の前記サブ画素の領域内には光反射膜が設けられ、前記遮光膜は、互いに隣接する前記サブ画素同士の境界であって、互いに隣接する前記光反射膜同士の間の領域に設けられることを特徴とする電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, wherein a plurality of subpixels are provided side by side on the substrate, a light reflecting film is provided in a region of each of the subpixels, and the light shielding film is adjacent to the subpixels. An electro-optical device, which is provided in a region between the light reflection films adjacent to each other at a boundary between pixels. 請求項1又は請求項2記載の電気光学装置において、前記遮光膜の幅をaとし、互いに隣接する前記光反射膜同士の間の領域の幅をbとしたとき、
a>b
であることを特徴とする電気光学装置。
In the electro-optical device according to claim 1 or 2, when a width of the light shielding film is a and a width of a region between the light reflecting films adjacent to each other is b,
a> b
An electro-optical device characterized by the above.
電気光学物質を支持する基板と、該基板と前記電気光学物質との間に設けられた第1樹脂膜と、前記第1樹脂膜と前記電気光学物質との間に設けられた第2樹脂膜と、該第2樹脂膜内に設けられた凹部と、前記基板と前記第1樹脂膜との間に設けられた導電膜と、前記基板と前記第1樹脂膜の間であって前記凹部に対向して設けられた第1遮光膜と、前記第1樹脂膜と前記第2樹脂膜の間であって前記凹部の両側の側面に隣接して設けられた第2遮光膜とを有することを特徴とする電気光学装置。   A substrate that supports an electro-optic material, a first resin film provided between the substrate and the electro-optic material, and a second resin film provided between the first resin film and the electro-optic material And a recess provided in the second resin film, a conductive film provided between the substrate and the first resin film, and the recess between the substrate and the first resin film. A first light-shielding film provided oppositely, and a second light-shielding film provided between the first resin film and the second resin film and adjacent to both side surfaces of the recess. Electro-optical device characterized. 請求項4記載の電気光学装置において、前記基板上にはサブ画素が平面的に複数並べて設けられ、前記凹部は互いに隣接する前記サブ画素同士の境界に沿った溝形状に設けられることを特徴とする電気光学装置。   5. The electro-optical device according to claim 4, wherein a plurality of sub-pixels are provided in a plane on the substrate, and the concave portion is provided in a groove shape along a boundary between the adjacent sub-pixels. An electro-optical device. 請求項5記載の電気光学装置において、個々の前記サブ画素の領域内には光反射膜が設けられ、前記凹部は互いに隣接する前記光反射膜同士の間の領域に設けられ、前記第1遮光膜は互いに隣接する前記光反射膜同士の間の領域に設けられ、前記第2遮光膜は前記凹部の両側に当該凹部の側面に隣接して設けられることを特徴とする電気光学装置。   6. The electro-optical device according to claim 5, wherein a light reflecting film is provided in a region of each of the sub-pixels, and the concave portion is provided in a region between the light reflecting films adjacent to each other, and the first light shielding film. 2. The electro-optical device according to claim 1, wherein a film is provided in a region between the light reflection films adjacent to each other, and the second light shielding film is provided on both sides of the recess and adjacent to a side surface of the recess. 請求項4から請求項6のいずれか1つに記載の電気光学装置において、前記第1遮光膜の幅をcとし、互いに隣接する前記第2遮光膜同士の間隔をdとしたとき、
c≧d
であることを特徴とする電気光学装置。
In the electro-optical device according to any one of claims 4 to 6, when the width of the first light shielding film is c and the interval between the second light shielding films adjacent to each other is d,
c ≧ d
An electro-optical device characterized by the above.
請求項4から請求項7のいずれか1つに記載の電気光学装置において、前記第1遮光膜及び前記第2遮光膜によって遮光される領域の幅をeとし、互いに隣接する前記光反射膜同士の間の領域の幅をfとしたとき、
e>f
であることを特徴とする電気光学装置。
8. The electro-optical device according to claim 4, wherein a width of a region shielded by the first light shielding film and the second light shielding film is e, and the light reflecting films adjacent to each other are arranged. When the width of the region between is f,
e> f
An electro-optical device characterized by the above.
請求項1から請求項8のいずれか1つに記載の電気光学装置を有することを特徴とする電子機器。

An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1.

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