JP2007180089A - Method for manufacturing resin molded part having circuit conductor pattern - Google Patents
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Abstract
【課題】立体形状を有する樹脂成形体の立体表面に高精細な回路導体パターンを形成することができ、その製造コストを低減させることが可能な、回路導体パターンを有する樹脂成形部品の製造方法を提供すること。
【解決手段】樹脂成形体1の表面にレジスト2をコーティングし、所定の回路導体パターンに沿ってレーザ照射によりレジスト2の一部を除去して樹脂表面を露出させ、この露出された樹脂表面3に金属蒸着により銅の下地層4を形成し、しかる後に下地層4の上に銅の電解めっきにより金属層5を形成して所定の厚みの回路導体を形成する方法とする。この場合、レーザ照射により、レジスト2の一部を除去して樹脂表面を露出させると同時にこの露出された樹脂表面3を粗面化および/または活性化させても良い。
【選択図】図1
A method of manufacturing a resin molded part having a circuit conductor pattern, which can form a high-definition circuit conductor pattern on a three-dimensional surface of a resin molded body having a three-dimensional shape and can reduce the manufacturing cost thereof. To provide.
A surface of a resin molded body is coated with a resist, and a portion of the resist is removed by laser irradiation along a predetermined circuit conductor pattern to expose the resin surface. Then, a copper base layer 4 is formed by metal vapor deposition, and then a metal layer 5 is formed on the base layer 4 by copper electroplating to form a circuit conductor having a predetermined thickness. In this case, a part of the resist 2 may be removed by laser irradiation to expose the resin surface, and at the same time, the exposed resin surface 3 may be roughened and / or activated.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、回路導体パターンを有する樹脂成形部品の製造方法に関し、さらに詳しくは、レーザ光を用いて立体形状を有する樹脂成形体の立体表面に回路パターンを形成する、回路導体パターンを有する樹脂成形部品の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for producing a resin molded part having a circuit conductor pattern. More specifically, the present invention relates to a resin molding having a circuit conductor pattern in which a circuit pattern is formed on a three-dimensional surface of a three-dimensional resin molded body using laser light. The present invention relates to a part manufacturing method.
従来、射出成形などにより成形された立体形状を有する樹脂成形体の立体表面に回路導体パターンを形成する方法として、2回成形法や写真法などがある。 Conventionally, as a method of forming a circuit conductor pattern on a three-dimensional surface of a resin molded body having a three-dimensional shape formed by injection molding or the like, there are a two-time molding method and a photographic method.
例えば2回成形法は、金型により所定パターンが形成された一次成形体表面にこの表面をめっきしやすくさせる触媒を付与し、所定パターン表面のみを露出させるようにしてこの一次成形体に液状プラスチックを射出成形した後、この所定パターン表面に無電解めっきを行なう方法である。写真法は、樹脂成形体表面に金属めっき層とフォトレジスト層を下から順に形成し、さらに所定パターンに形成されたフォトマスクをフォトレジスト層の上に配置した後、上から露光して形成された露光パターンに沿って金属めっき層をエッチングする方法である。 For example, in the two-time molding method, a catalyst that makes it easy to plate the surface of the primary molded body on which a predetermined pattern is formed by a mold is applied, and the liquid plastic is applied to the primary molded body so that only the predetermined pattern surface is exposed. This is a method of performing electroless plating on the surface of the predetermined pattern after injection molding. The photographic method is formed by forming a metal plating layer and a photoresist layer in order from the bottom on the surface of the resin molded body, and further placing a photomask formed in a predetermined pattern on the photoresist layer and then exposing from above. In this method, the metal plating layer is etched along the exposed pattern.
これらの方法は、所定の形状に形成された金型やフォトマスクを用いて行なわれる。そのため、回路導体パターンの設計変更をするときは、他の形状を有する金型やフォトマスクを新たに作製する必要があり、設計変更が容易ではない。そこで、設計変更等に容易に対応できるように、レーザ光を用いて、立体形状を有する樹脂成形体に自在に回路パターンを形成する方法が種々提案されている。 These methods are performed using a mold or photomask formed in a predetermined shape. Therefore, when changing the design of the circuit conductor pattern, it is necessary to newly produce a mold or photomask having another shape, and the design change is not easy. In view of this, various methods for freely forming a circuit pattern on a resin molded body having a three-dimensional shape using laser light have been proposed so as to easily cope with a design change or the like.
例えば特許文献1には、あらかじめ樹脂成形体表面にこの表面をめっきしやすくさせる触媒を付与した後、その上にレジストを全面コーティングし、レーザ照射によりこのレジストの一部を除去して樹脂表面を露出させ、露出した樹脂表面に無電解めっきして回路導体パターンを形成する方法が開示されている。
For example, in
特許文献2には、樹脂成形体の一表面の全面に下地めっきを行ない、このめっきの上にめっきレジストをコーティングし、レーザ照射によりめっきレジストの一部を除去して下地めっきを露出させ、この露出した部分に金属めっきにより回路導体を形成し、この回路導体部分以外の下地めっきをエッチングにより除去して回路導体パターンを形成する方法が開示されている。
In
特許文献3には、上記2つの特許文献と異なり、レジストを使用しない方法が開示されている。すなわち、物理蒸着法により樹脂成形体表面に金属層を形成し、この金属層の回路形成部分と非形成部分との境界をレーザ照射により除去し、金属層の回路形成部分に電解めっきを行なった後、ソフトエッチングにより回路非形成部分の金属層のみを除去して回路導体パターンを形成する方法である。
しかしながら特許文献1では、樹脂成形体表面にコーティングされたレジストの一部を除去するために行なうレーザ照射の前に、めっきしやすくさせる触媒を樹脂成形体表面に付与している。そのため、レーザ照射により、この触媒に損傷を与え、めっきするための表面処理の効果を低減させることがある。これにより、その後行なう無電解めっきにめっきムラ等が発生し、高精細な回路導体パターンを形成することができないという問題がある。
However, in
また特許文献2では、回路導体部分以外の下地めっきをエッチング除去する際、回路導体部分の表面や側面もエッチングされてしまうため、高精細な回路導体パターンを形成することができないという問題がある。
Further,
そして特許文献3では、レーザ照射により、金属層の回路形成部分と非形成部分との境界を除去しているが、金属層の除去には紫外線などの短波長レーザを用いる必要がある。短波長レーザ発生装置は、レジストを除去するために用いる赤外線レーザなどのレーザ発生装置よりも高価であるため、製造設備が高価になるという問題がある。
In
その他、特殊な樹脂を用い、これにレーザ照射した後、レーザ照射した部分に金属めっきを行なって、樹脂成形体表面に回路導体パターンを形成する方法等もあるが、これらの方法は特殊な樹脂を用いるため、材料費が高価になり、また適用範囲も限定される。 In addition, there is a method of using a special resin and irradiating it with a laser, and then performing metal plating on the laser-irradiated part to form a circuit conductor pattern on the surface of the resin molded body. Therefore, the material cost becomes high and the application range is limited.
本発明が解決しようとする課題は、立体形状を有する樹脂成形体の立体表面に高精細な回路導体パターンを形成することができ、その製造コストを低減させることが可能な、回路導体パターンを有する樹脂成形部品の製造方法を提供することにある。 The problem to be solved by the present invention is to have a circuit conductor pattern that can form a high-definition circuit conductor pattern on a three-dimensional surface of a three-dimensionally shaped resin molded body and can reduce the manufacturing cost thereof. It is providing the manufacturing method of a resin molded component.
上記課題を解決するために本発明に係る製造方法は、樹脂成形体の表面にレジストをコーティングし、所定の回路導体パターンに沿ってレーザ照射により前記レジストの一部を除去して樹脂表面を露出させ、この露出された樹脂表面に回路導体を形成するための下地処理を行ない、しかる後に金属めっきによりこの下地処理した部分に回路導体を形成することを要旨とする。 In order to solve the above problems, a manufacturing method according to the present invention comprises coating a resist on the surface of a resin molded body, and removing a part of the resist by laser irradiation along a predetermined circuit conductor pattern to expose the resin surface. The gist is to perform a ground treatment for forming a circuit conductor on the exposed resin surface, and then form a circuit conductor on the ground-treated portion by metal plating.
この場合、前記レーザ照射により、前記レジストの一部を除去して樹脂表面を露出させると同時にこの露出された樹脂表面を粗面化および/または活性化させることが望ましい。 In this case, it is desirable that the resin surface is exposed by removing a part of the resist by the laser irradiation, and at the same time, the exposed resin surface is roughened and / or activated.
また、前記下地処理により、前記露出された樹脂表面に導電性金属を蒸着させて導電性を有する下地層を形成し、しかる後にこの下地層の上に電解めっきすることが望ましい。 Further, it is preferable that a conductive base layer is formed by depositing a conductive metal on the exposed resin surface by the base treatment, and then electrolytic plating is performed on the base layer.
あるいは、前記下地処理により、前記露出された樹脂表面に無電解めっき用触媒を付与し、しかる後に無電解めっきすることが望ましい。 Alternatively, it is desirable to apply an electroless plating catalyst to the exposed resin surface by the base treatment, and then perform electroless plating.
さらに、前記下地処理した部分に金属めっきする前または金属めっきした後に前記回路パターンが形成されたレジストを除去することが望ましい。 Furthermore, it is desirable to remove the resist on which the circuit pattern is formed before or after metal plating on the ground-treated portion.
本発明に係る製造方法によれば、樹脂成形体表面にコーティングされたレジストの一部をレーザ照射により除去して樹脂表面を露出させた後に、その露出された樹脂表面に回路導体を形成させるための下地処理を行なっているため、下地処理された表面がレーザ照射によって荒らされることはない。また、金属層の一部を除去するためのエッチング処理を行わないため、回路導体部分の表面や側面がエッチングにより荒らされることもない。そして、レーザ光を用いて樹脂成形体の表面に自在に高精細な回路パターンを形成し、これに沿って下地処理と金属めっきを行なうため、高精細な回路導体パターンを形成することができる。 According to the manufacturing method of the present invention, after removing a part of the resist coated on the surface of the resin molded body by laser irradiation to expose the resin surface, a circuit conductor is formed on the exposed resin surface. Therefore, the ground surface is not roughened by laser irradiation. Moreover, since the etching process for removing a part of the metal layer is not performed, the surface and side surfaces of the circuit conductor portion are not roughened by the etching. And since a high-definition circuit pattern is freely formed on the surface of a resin molding using a laser beam, and a base treatment and metal plating are performed along this, a high-definition circuit conductor pattern can be formed.
また、金属層を除去する処理がないため、紫外線などの短波長レーザを用いなくても良い。さらに、特殊な樹脂を用いるものではない。そのため、設備費や材料費などが高価にならず、従来の方法と比べて製造コストを低減させることができる。 In addition, since there is no treatment for removing the metal layer, it is not necessary to use a short wavelength laser such as ultraviolet rays. Furthermore, no special resin is used. For this reason, the equipment cost and material cost are not increased, and the manufacturing cost can be reduced as compared with the conventional method.
この場合、レーザ照射によって、レジストの一部を除去して樹脂表面を露出させると同時にこの露出された樹脂表面を粗面化させると、樹脂表面に微細な凹凸が形成され、これによるアンカー効果によって、この露出された樹脂表面に行う金属めっきの密着性を向上させることができる。また、同時にこの露出された樹脂表面を活性化させると、この活性化により、樹脂表面にヒドロキシル基やアミノ基などの極性基が付与され、樹脂表面と金属めっきとの親和性が増すので、樹脂表面への金属めっきの密着性を向上させることができる。さらに、レジストの除去と樹脂表面の粗面化・活性化とを同じレーザ装置で一度に行なうことができるので、製造工程を短縮・簡略化することができる。 In this case, when the resin surface is exposed by removing a part of the resist by laser irradiation and the exposed resin surface is roughened, fine irregularities are formed on the resin surface. The adhesion of metal plating performed on the exposed resin surface can be improved. Moreover, when this exposed resin surface is activated at the same time, polar groups such as hydroxyl groups and amino groups are imparted to the resin surface due to this activation, and the affinity between the resin surface and metal plating is increased. The adhesion of metal plating to the surface can be improved. Furthermore, since the resist removal and the roughening / activation of the resin surface can be performed at the same time with the same laser device, the manufacturing process can be shortened and simplified.
そして、前記下地処理により、露出された樹脂表面に導電性金属を蒸着させて導電性を有する下地層を形成し、しかる後にこの下地層の上に電解めっきするか、または前記下地処理により、露出された樹脂表面に無電解めっき用触媒を付与し、しかる後に無電解めっきすると、より確実に、高精細な回路導体パターンを形成することができる。 Then, by conducting the base treatment, a conductive metal is deposited on the exposed resin surface to form a conductive base layer, and then electroplated on the base layer, or exposed by the base treatment. If a catalyst for electroless plating is applied to the surface of the resin, and then electroless plating is performed, a high-definition circuit conductor pattern can be formed more reliably.
さらに、下地処理した部分に金属めっきする前または金属めっきした後に回路パターンが形成されたレジストを除去すると、樹脂成形体の回路導体パターンを形成する表面にのみ下地処理および金属めっきが高精細に施されたものとなる。 Furthermore, if the resist on which the circuit pattern is formed is removed before or after metal plating on the ground-treated portion, the ground treatment and metal plating are applied to the surface of the resin molded body on which the circuit conductor pattern is to be formed with high definition. Will be.
以下、本発明に係る製造方法(以下、本製造方法という)について詳細に説明する。本製造方法は、工程1から工程4を有する。
Hereinafter, the production method according to the present invention (hereinafter referred to as the present production method) will be described in detail. This manufacturing method includes
本製造方法において、工程1は、樹脂成形体の回路導体パターンを形成する表面にレジストをコーティングする工程である。
In this manufacturing method,
樹脂成形体は、射出成形や押出成形等の成形方法によって、所定の形状に樹脂を成形して作製することができる。ここで用いる樹脂としては、成形性や耐熱性に優れるものが好ましい。例えば熱可塑性樹脂は、成形性が非常に良いので好適に用いることができるが、熱硬化性樹脂であっても良い。また、この樹脂表面に回路導体を形成した後、この回路にはんだ付け等を行なうことがあるため、はんだ付けに耐えられる程度の耐熱性を有するものが好ましい。例えば、通常の鉛含有のはんだでは200℃以上の耐熱性があれば良く、錫が高含有の鉛フリーはんだでは250℃以上の耐熱性があれば良い。 The resin molded body can be produced by molding a resin into a predetermined shape by a molding method such as injection molding or extrusion molding. As resin used here, what is excellent in a moldability and heat resistance is preferable. For example, a thermoplastic resin can be suitably used because it has a very good moldability, but may be a thermosetting resin. In addition, since a circuit conductor is formed on the resin surface and soldering or the like may be performed on the circuit, it is preferable to have heat resistance enough to withstand soldering. For example, an ordinary lead-containing solder may have a heat resistance of 200 ° C. or higher, and a lead-free solder containing a high amount of tin may have a heat resistance of 250 ° C. or higher.
上述のような成形性と耐熱性の条件に適合する樹脂として、例えば、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー、ポリエステルなどを例示することができる。 Examples of the resin that meets the moldability and heat resistance conditions as described above include polyamide, polyphenylene sulfide, liquid crystal polymer, and polyester.
レジストは、次工程で行なうレーザ照射により照射された一部のものを除去することができるもの、すなわちレーザ光のエネルギーで充分に分解されるものであれば良い。例えば、アクリル系インクなどを例示することができる。なお、レジストは、成形する樹脂の種類や使用するレーザ装置とその照射条件によっても適宜選択することができる。レジストの樹脂成形体表面へのコーティングは、スプレー法や浸漬法など、通常良く用いられる湿式のコーティング方法により行なうことができる。 The resist may be any resist that can remove a part of the resist irradiated by laser irradiation performed in the next step, that is, a resist that can be sufficiently decomposed by the energy of laser light. For example, an acrylic ink etc. can be illustrated. The resist can be appropriately selected depending on the type of resin to be molded, the laser device to be used, and the irradiation conditions. Coating of the resist on the surface of the resin molded body can be performed by a commonly used wet coating method such as spraying or dipping.
工程2は、所定の回路導体パターンに沿って、樹脂成形体表面にコーティングしたレジストの一部をレーザ照射により除去して樹脂表面を露出させる工程である。
回路導体パターンは、コンピュータ等によってあらかじめ定められたものであり、自由に設計変更が可能である。そして、あらかじめ定めた所定の回路導体パターンに基づいて、コンピュータ制御により、樹脂成形体の表面にコーティングされたレジストにレーザ照射を行ない、レジストの一部を除去する。 The circuit conductor pattern is predetermined by a computer or the like, and can be freely changed in design. Then, based on a predetermined circuit conductor pattern determined in advance, laser irradiation is performed on the resist coated on the surface of the resin molded body by computer control, and a part of the resist is removed.
レーザ照射に用いるレーザ光は、YAGレーザや炭酸ガスレーザ等、レジストを分解除去することができるものであれば良い。このようなレーザ光により、レジストの回路パターン形成部分を選択的に照射する。 The laser beam used for laser irradiation may be any laser beam that can decompose and remove the resist, such as a YAG laser or a carbon dioxide laser. Such a laser beam selectively irradiates the circuit pattern forming portion of the resist.
レーザ照射によりレジストの一部を除去するときに、レーザ照射条件を最適化し、レジストが除去されて露出した樹脂表面を粗面化および/または活性化させても良い。この樹脂表面の粗面化や活性化は、次工程で行なう下地処理をしやすくするためのものである。例えば下地処理として、樹脂表面に金属層やめっき用触媒などを形成させる場合、これらが樹脂表面に密着形成されやすいようにする効果がある。 When a part of the resist is removed by laser irradiation, the laser irradiation conditions may be optimized, and the exposed resin surface may be roughened and / or activated. The roughening or activation of the resin surface is for facilitating the base treatment performed in the next step. For example, when a metal layer, a plating catalyst, or the like is formed on the resin surface as a base treatment, there is an effect that these are easily formed in close contact with the resin surface.
樹脂表面の粗面化は、レーザ照射により樹脂表面の物質を一部飛散させて、表面を粗化することにより行なうことができる。なお、粗化した後の表面上には、金属めっきにより回路導体を形成するので、回路導体の表面凹凸に影響のない程度の粗さに表面を粗化すれば良い。 Roughening of the resin surface can be performed by roughening the surface by partially scattering the resin surface material by laser irradiation. Since the circuit conductor is formed by metal plating on the roughened surface, the surface may be roughened to such a degree that the surface irregularities of the circuit conductor are not affected.
また、樹脂表面の活性化は、レーザ照射により発生するプラズマによって、プラズマ中の酸素や窒素などのイオンを樹脂表面に作用させ、酸素極性基や窒素極性基などの極性官能基を樹脂表面の分子に付与することにより行なうことができる。その結果、樹脂表面と金属の親和性が増し、樹脂表面への金属の密着性が高まることになる。 In addition, activation of the resin surface is achieved by causing plasma generated by laser irradiation to cause ions such as oxygen and nitrogen in the plasma to act on the resin surface and causing polar functional groups such as oxygen polar groups and nitrogen polar groups to form molecules on the resin surface. It can be performed by giving to. As a result, the affinity between the resin surface and the metal increases, and the adhesion of the metal to the resin surface increases.
この粗面化および/または活性化は、レジストを除去して樹脂表面を露出させると同時に行なうものであっても良いし、レジスト除去後、レジスト除去における照射条件と照射条件を変えて行なうものであっても良い。 This roughening and / or activation may be performed at the same time as removing the resist to expose the resin surface, or after removing the resist, changing the irradiation conditions and irradiation conditions in resist removal. There may be.
例えば、樹脂表面を粗面化および/または活性化させるだけのエネルギー密度にレーザ光のパワーをあらかじめ調節して、レジストの除去と樹脂表面の粗面化および/または活性化とを同時に行なうようにコンピュータで制御するようにしても良い。また、レジスト除去時には迅速にレジストを除去できるようにレーザ光のパワーを高めに設定しておき、樹脂表面の粗面化および/または活性化を行なう段階でレーザ光のパワーを下げて、連続的なレーザ照射によってレジスト除去と樹脂表面の粗面化および/または活性化とをコンピュータで制御して行なうようにしても良い。 For example, the power of the laser beam is adjusted in advance to an energy density sufficient to roughen and / or activate the resin surface so that the resist removal and the roughening and / or activation of the resin surface can be performed simultaneously. It may be controlled by a computer. In addition, when removing the resist, the laser beam power is set to be high so that the resist can be removed quickly, and the laser beam power is lowered at the stage of roughening and / or activating the resin surface. The resist removal and the roughening and / or activation of the resin surface may be controlled by a computer by laser irradiation.
工程3は、この露出された樹脂表面に回路導体を形成するための下地処理を行なう工程である。
下地処理としては、この露出された樹脂表面に導電性金属を蒸着させて導電性を有する下地層を形成する処理や、この露出された樹脂表面に無電解めっき用触媒を付与する処理などを例示することができる。 Examples of the base treatment include a process for forming a conductive base layer by depositing a conductive metal on the exposed resin surface, and a process for applying an electroless plating catalyst to the exposed resin surface. can do.
露出された樹脂表面に導電性を有する下地層を形成する場合、樹脂表面に導電性金属を蒸着させる方法としては、スパッタリング・真空蒸着・イオンプレーティングなどの物理的蒸着方法などを例示することができる。物理的蒸着方法においては、下地層を形成させる樹脂成形体をチャンバー内に配置し、チャンバー内を真空引きして減圧した後、上記の各種公知の蒸着方法によって行なうことができる。なお、これらの蒸着方法は、公知の蒸着装置を用いて行なうことができるため、詳細説明を省略する。 In the case of forming a conductive underlayer on the exposed resin surface, examples of methods for depositing a conductive metal on the resin surface include physical vapor deposition methods such as sputtering, vacuum deposition, and ion plating. it can. In the physical vapor deposition method, a resin molded body for forming an underlayer is placed in a chamber, the inside of the chamber is evacuated and depressurized, and then the above various known vapor deposition methods can be used. In addition, since these vapor deposition methods can be performed using a well-known vapor deposition apparatus, detailed description is abbreviate | omitted.
下地層を形成する導電性金属としては、銅・ニッケル・金・銀・アルミニウム・チタン・クロム・モリブデン・タングステン・錫・鉛などの単体あるいは合金を例示することができる。導電性やコストなどを考慮すると、銅やニッケルなどが好ましい。この下地層は、次工程で行なう電解めっきが可能となる程度の厚みに形成するものであれば良い。例えば、数十nm程度以上の厚みがあれば良い。 Examples of the conductive metal forming the base layer include simple substances or alloys such as copper, nickel, gold, silver, aluminum, titanium, chromium, molybdenum, tungsten, tin, and lead. In consideration of conductivity and cost, copper and nickel are preferable. This underlayer may be formed to a thickness that enables electrolytic plating performed in the next step. For example, a thickness of about several tens of nanometers or more is sufficient.
一方、露出された樹脂表面に無電解めっき用触媒を付与する場合、樹脂を触媒液に浸漬し表面にパラジウム−錫コロイドを吸着させた後、過剰の錫を除去し、パラジウムを露出させる方法などがある。 On the other hand, when an electroless plating catalyst is applied to the exposed resin surface, the resin is immersed in a catalyst solution to adsorb palladium-tin colloid on the surface, and then excess tin is removed to expose palladium. There is.
工程4は、工程3で下地処理した部分に金属めっきする工程である。
工程3において下地処理として導電性を有する下地層を形成する場合、工程4において、この下地処理した部分に電解めっきを行なう。電解めっきに用いる金属としては、金・銀・銅・ニッケルなどを例示することができるが、導電性の良いものであれば特に限定されるものではない。なお、材料コストなどを考慮すると、銅を用いるのが好ましい。この電解めっきにより、所定の厚さの回路導体パターンが形成される。例えば、10μm以上の厚みの回路導体を短時間で形成できる。
In the case where a conductive ground layer is formed as a ground treatment in
一方、工程3において下地処理として無電解めっき用触媒を付与する場合、工程4において、この下地処理した部分に無電解めっきを行なう。無電解めっきに用いる金属としては、同様に、銅・ニッケルなどを例示することができるが、導電性の良いものであれば特に限定されるものではない。
On the other hand, when an electroless plating catalyst is applied as a base treatment in
無電解めっきによる場合、めっきの形成速度があまり速くないときには、電解めっき可能な厚さまで無電解めっきした後、電解めっきにより所定の厚さにめっき形成しても良い。このとき、無電解めっきする金属と電解めっきする金属は、同じものであっても良いし、異なるものであっても良い。無電解めっきのみ、または無電解めっきと電解めっきの組み合わせにより、所定の厚さの回路導体パターンが形成される。 In the case of electroless plating, when the formation rate of plating is not so high, after electroless plating to a thickness capable of electrolytic plating, plating may be formed to a predetermined thickness by electrolytic plating. At this time, the metal to be electrolessly plated and the metal to be electroplated may be the same or different. A circuit conductor pattern having a predetermined thickness is formed by only electroless plating or a combination of electroless plating and electrolytic plating.
なお、レーザ照射により回路パターンを形成した後の残りのレジストは、工程3において下地処理した後、工程4において金属めっきする前か金属めっきした後の適当な段階で、アルカリ溶液中に浸漬するなどして除去すると良い。
The remaining resist after the circuit pattern is formed by laser irradiation is immersed in an alkaline solution after the base treatment in
次に、本製造方法の第一実施形態について図1を用いて説明する。図1(a)に示されるように、所定の形状に樹脂を射出成形して、樹脂成形体1を作製する。次いで、図1(b)に示されるように、この樹脂成形体1の表面にレジスト2を均一にコーティングする。次いで、図1(c)に示されるように、照射条件を最適化して、YAGレーザのレーザ照射により所定の回路導体パターンに沿ってレジスト2の一部を除去し、樹脂表面を露出させる。このとき、レーザ照射により、露出した樹脂表面3の粗面化と活性化も行なう。次いで、図1(d)に示されるように、銅の金属蒸着を行なって、露出した樹脂表面3に導電性の下地層4を形成する。このとき、レジスト2の上にも銅が蒸着され、蒸着膜4’が形成される。次いで、図1(e)に示されるように、アルカリ溶液中に浸漬して、残りのレジスト2をその上に付着した蒸着膜4’ごと剥離除去する。次いで、図1(f)に示されるように、電解めっきにより下地層4の上に所定の厚みとなるように銅めっき5を析出させる。以上のようにして、樹脂成形体1の立体表面に回路導体パターンを形成する。
Next, a first embodiment of the manufacturing method will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 1A, a resin molded
また、本製造方法の第二実施形態について図2を用いて説明する。図2(a)から図2(c)は、図1(a)から図1(c)と同じ工程であるため、説明を省略する。図2(c)に示される工程の後、図2(d)に示されるように、露出した樹脂表面3にパラジウム触媒6を吸着させる。次いで、図2(e)に示されるように、無電解めっきにより、パラジウム触媒6を吸着させた樹脂表面3の上に所定の厚みの銅めっき7を析出させる。次いで、図2(f)に示されるように、アルカリ溶液中に浸漬して、残りのレジスト2を剥離除去する。以上のようにして、樹脂成形体1の立体表面に回路導体パターンを形成する。
Moreover, 2nd embodiment of this manufacturing method is described using FIG. Since FIG. 2A to FIG. 2C are the same steps as FIG. 1A to FIG. 1C, description thereof will be omitted. After the step shown in FIG. 2 (c), the
以上、このような構成の製造方法によれば、樹脂成形体表面にコーティングされたレジストの一部をレーザ照射により除去して樹脂表面を露出させた後に、その露出された樹脂表面に回路導体を形成させるための下地処理を行なっているため、下地処理された表面がレーザ照射によって荒らされることはない。また、金属層の一部を除去するためのエッチング処理を行わないため、回路導体部分の表面や側面がエッチングにより荒らされることもない。そして、レーザ光を用いて樹脂成形体の表面に自在に高精細な回路パターンを形成し、これに沿って下地処理と金属めっきを行なうため、高精細な回路導体パターンを形成することができる。 As described above, according to the manufacturing method having such a configuration, after removing a part of the resist coated on the surface of the resin molded body by laser irradiation to expose the resin surface, the circuit conductor is applied to the exposed resin surface. Since the ground treatment for forming is performed, the ground surface is not roughened by laser irradiation. Moreover, since the etching process for removing a part of the metal layer is not performed, the surface and side surfaces of the circuit conductor portion are not roughened by the etching. And since a high-definition circuit pattern is freely formed on the surface of a resin molding using a laser beam, and a base treatment and metal plating are performed along this, a high-definition circuit conductor pattern can be formed.
また、金属層を除去する処理がないため、紫外線などの短波長レーザを用いなくても良い。さらに、特殊な樹脂を用いるものではない。そのため、設備費や材料費などが高価にならず、従来の方法と比べて製造コストを低減させることができる。 In addition, since there is no treatment for removing the metal layer, it is not necessary to use a short wavelength laser such as ultraviolet rays. Furthermore, no special resin is used. For this reason, the equipment cost and material cost are not increased, and the manufacturing cost can be reduced as compared with the conventional method.
この場合、レーザ照射によって、レジストの一部を除去して樹脂表面を露出させると同時にこの露出された樹脂表面を粗面化させると、樹脂表面に微細な凹凸が形成され、これによるアンカー効果によって、この露出された樹脂表面に行う金属めっきの密着性を向上させることができる。樹脂表面の粗面化は、通常、クロム酸/硫酸・水酸化カリウム・フッ化水素酸/硝酸・酸性フッ化アンモニウム/硝酸等のエッチング液を用いて行なわれるが、このような操作を減らして工程を短縮・簡略化することができるとともに、化学物質の使用や廃液を減らすことができる。 In this case, when the resin surface is exposed by removing a part of the resist by laser irradiation and the exposed resin surface is roughened, fine irregularities are formed on the resin surface. The adhesion of the metal plating performed on the exposed resin surface can be improved. Roughening of the resin surface is usually performed using an etching solution such as chromic acid / sulfuric acid / potassium hydroxide / hydrofluoric acid / nitric acid / acidic ammonium fluoride / nitric acid. The process can be shortened and simplified, and the use of chemical substances and waste liquid can be reduced.
また、同時にこの露出された樹脂表面を活性化させると、この活性化により、樹脂表面にヒドロキシル基やアミノ基などの極性基が付与される。これにより、樹脂表面と金属めっきとの親和性が増して密着性を向上させることができる。 Further, when the exposed resin surface is activated at the same time, polar groups such as hydroxyl groups and amino groups are imparted to the resin surface by the activation. Thereby, the affinity between the resin surface and the metal plating is increased, and the adhesion can be improved.
さらに、レジストの除去と樹脂表面の粗面化・活性化とを同じレーザ発生装置で一度に行なうことができるので、製造工程を短縮・簡略化することができる。 Furthermore, since the resist removal and the roughening / activation of the resin surface can be performed at the same time with the same laser generator, the manufacturing process can be shortened and simplified.
そして、前記下地処理により、露出された樹脂表面に導電性金属を蒸着させて導電性を有する下地層を形成し、しかる後にこの下地層の上に電解めっきするか、または前記下地処理により、露出された樹脂表面に無電解めっき用触媒を付与し、しかる後に無電解めっきすると、より確実に、高精細な回路導体パターンを形成することができる。 Then, by conducting the base treatment, a conductive metal is deposited on the exposed resin surface to form a conductive base layer, and then electroplated on the base layer, or exposed by the base treatment. If a catalyst for electroless plating is applied to the surface of the resin, and then electroless plating is performed, a high-definition circuit conductor pattern can be formed more reliably.
下地処理で金属蒸着を行ない、その後電解めっきを行なう場合、所定の厚さの回路導体パターンを迅速に形成することができる。一方、下地処理で無電解めっき用触媒を付与し、その後無電解めっきを行なう(電解めっきを組み合わせても良い)場合、めっきラインにより湿式法のみで簡単に所定の厚さの回路導体パターンを形成することができる。 When metal deposition is performed in the base treatment, and then electrolytic plating is performed, a circuit conductor pattern having a predetermined thickness can be rapidly formed. On the other hand, when a catalyst for electroless plating is applied in the base treatment and then electroless plating is performed (electroplating may be combined), a circuit conductor pattern with a predetermined thickness can be easily formed by a wet method only on the plating line. can do.
さらに、下地処理した部分に金属めっきする前または金属めっきした後に回路パターンが形成されたレジストを除去すると、樹脂成形体の回路導体パターンを形成する表面にのみ下地処理および金属めっきが高精細に施されたものとなる。 Furthermore, if the resist on which the circuit pattern is formed is removed before or after metal plating on the ground-treated portion, the ground treatment and metal plating are applied to the surface of the resin molded body on which the circuit conductor pattern is to be formed with high definition. Will be.
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。 As mentioned above, although embodiment of this invention was described in detail, this invention is not limited to the said embodiment at all, A various change is possible in the range which does not deviate from the summary of this invention.
例えば、工程3の後、適当な段階で残りのレジストを除去しているが、使用状況によって問題がなければ、このレジスト除去工程を省略するものであっても構わない。
For example, the remaining resist is removed at an appropriate stage after
本発明に係る回路導体パターンを有する樹脂成形部品の製造方法は、例えば、携帯電子機器や自動車用電子機器などにおいて、電子素子を実装したハウジングや機構部品の製造方法等として使用することができる。 The method for producing a resin molded part having a circuit conductor pattern according to the present invention can be used, for example, as a method for producing a housing in which an electronic element is mounted or a mechanical part in a portable electronic device or an automotive electronic device.
1 樹脂成形体
2 レジスト
3 露出された樹脂表面
4 下地層
5 銅めっき
6 パラジウム触媒
7 銅めっき
DESCRIPTION OF
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