JP2007178265A - 温度計測方法および温度計測装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被計測物の温度を変化させ、この被計測物に光を照射したとき、前記被計測物を透過する光の透過率および/または透過光強度の変化を求める特性測定工程と、この特性測定工程で得られた前記被計測物の透過率および/または透過光強度と前記被計測物の温度との相関関係を求める相関演算工程とを具備し、前記被計測物の温度を計測する際、前記被計測物の透過率および/または透過光強度が所定の値になる光の波長を求め、前記相関演算工程で求めた相関関係から前記被計測物の温度を求める温度演算工程を備える。
【選択図】図1
Description
或いは、放射温度計以外の温度計測方法として、被計測物からの放射強度が最大となる波長から温度を算出する方法が提案されている(例えば、特許文献1を参照)。この方法は、ウィーンの変位則を利用して被計測物からの放射強度が最大となる波長から温度を算出するものである。
前記被計測物の温度を変化させ、この被計測物に光を照射したとき、前記被計測物を透過する透過光の透過率および/または透過光の強度の変化を求める特性測定工程と、この特性測定工程で得られた前記被計測物の透過率および/または透過光の強度と前記被計測物の温度との相関関係を求める相関演算工程とを具備し、
前記被計測物の温度を計測する際、前記被計測物の透過率および/または透過光の強度が所定の値になる光の波長を求め、前記相関演算工程で求めた相関関係から前記被計測物の温度を求める温度演算工程を備えることを特徴としている。
前記被計測物の温度を変化させ、この被計測物に光を照射したとき、前記被計測物を透過する透過光の透過率および/または透過光の強度の変化を求める特性測定部と、この特性測定部で得られた前記被計測物の透過率および/または透過光の強度と前記被計測物の温度との相関関係を求める相関演算部とを具備し、
前記被計測物の温度を計測する際、前記被計測物の透過率および/または透過光の強度が所定の値になる前記光の波長を検出する波長検出部と、この波長検出部が検出した波長と前記相関演算部が求めた相関関係から前記被計測物の温度を求める温度演算部とを備えることを特徴としている。
また前記被計測物は、シリコン基板および/またはこのシリコン基板に形成された膜であって、好ましくは、前記吸収バンド特性は、波長8〜17μmに存在する吸収バンドにおける光の透過率とすることが望ましい。
或いは、本発明の温度計測方法を適用した温度計測装置は、前述した被計測物を透過する光の透過率に代えて、被計測物から反射される反射光の強度、或いは被計測物から反射される光の割合を示す反射率を用いて構成してもよい。つまり被計測物は、光が照射されたとき、被計測物から反射される反射光の強度、或いは反射される光の割合を示す反射率が被計測物の温度によって変化する。本発明の温度計測方法および温度計測装置は、この特性を用いることによって前述したように透過率を用いて被計測物の温度を計測した方法と同様に反射光の強度、或いは反射率を用いても被計測物の温度を求める。
或いは、本発明の温度計測方法を適用した温度計測装置は、前記透過光および前記透過率に代えて前記被計測物から反射される反射光および反射率を用いて前記被計測物の温度を計測することもできる等の実用上多大なる効果を奏する。
図1は、本発明の第一の実施形態に係る温度測定方法を適用した温度測定装置の要部概略構成を示す図であって、赤外領域の光を透過する被計測物1の温度を非接触で検出する一実施形態を例示している。この温度計測装置は、被計測物1を気密にして収容し、被計測物1を加熱処理するチャンバ10、赤外領域を含む光を発する光源20、チャンバ10内の被計測物1を透過する光のスペクトルを解析する分光検出器30およびこの分光検出器30から出力される検出信号を受けて被計測物1の温度を求める計測部40を備える。
図2は、本発明の温度計測方法を適用した温度計測装置による温度計測手順の概要を示したフローチャートである。まず、被計測物1の温度計測に先立って、特性測定部41は、被計測物1の温度を変えたとき、この被計測物1の透過率がどのように変化する特性を備えているのかを計測する(ステップS1)。
被計測物温度(℃)=−20334+1691.3×ピーク波長(μm)
となる。尚、ここでは、線形一次近似としたが、よく知られているように更に高次の次数の近似式を用いても勿論かまわない。
−20334+1691.3×12.1=130.7℃
と求まる。
また、上述した実施形態は、被計測物1の透過率が極小になるピーク波長が温度によって変化することを利用した温度計測装置を例示したが、その他、被計測物1の透過率が温度によって変化することを利用する方法や透過率が極小になるピークを示す波形の半値幅が温度依存性を有することを利用して被計測物1の温度を計測してもよい。具体的に特性測定部41が検出した透過率が極小になったときの被計測物1の温度との関係が例えば図7に示すようになったとする。この図は、実線が50℃、破線が100℃、一点鎖線が150℃および二点鎖線が200℃の場合の透過率のピークを図示したグラフであって、温度毎に極小となる透過率は、順に43.5%、43.0%、42.5%、41.8%と温度が高くなるにつれて透過率の極小値が低下していく。
また、半値幅を用いて被計測物1の温度を計測する場合、計測部40は、特性測定部41が検出した温度によって変化する光の波長毎の透過率特性を求めた特性曲線を用いる。具体的には、特性測定部41が検出した被計測物1の透過率特性が温度によって変化する透過率変化曲線を求める。次いで特性測定部41は、透過率が極小になる透過率からこの透過率変化曲線の半値幅を求め、この半値幅が被計測物の温度によって変化することを利用して相関関係を求める。例えば、被計測物1の透過率の特性が図8に示すようになったとする。この図は、実線が50℃、破線が100℃、一点鎖線が150℃および二点鎖線が200℃の場合の透過率のピークを図示したグラフであって、温度毎の半値幅は、順に0.32μm、0.36μm、0.40μm、0.44μmと温度が高くなるに従って半値幅の値が増加していく。
尚、特に図示しないが光源20から被計測物1に照射する光を変調し、計測部40がこの変調した光を検出するようにすれば、光源20から放射された光以外の影響を避けることができ、より安定に被計測物1の温度を計測することが可能である。
次に本発明の温度計測方法を適用した温度計測装置の別の実施形態(第二の実施形態)について説明する。この実施形態が前述した第一の実施形態と異なるところは、光源20を用いることなく、被計測物から直接放射される放射光を利用する点にある。
この多重反射光の特性は、被計測物1の透過特性とほぼと同様となる。そこで、本発明の第三の実施形態に係る温度測定装置の要部概略構成は、図14に示すとおり被計測物1を気密にして収容し、この被計測物1を加熱処理するチャンバ10、チャンバ10内に収容された被計測物1にその内部で多重反射を起こさせる位置に配置した光源20、チャンバ10内の被計測物1によって多重反射した光のスペクトルを解析する分光検出器30およびこの分光検出器30から出力される検出信号を受けて被計測物1の温度を求める計測部40を備えて構成される。
次に本発明の温度計測方法を適用した温度計測装置の別の実施形態(第四の実施形態)について説明する。この実施形態が前述した各実施形態と異なるところは、透過性を有する物体に形成された透過性の膜の温度を検出するところにある。
或いは、被計測物は、図16(b)に示すように膜3を二枚の基板2に挟み込まれるように配置されても本発明の温度計測装置で測定することが可能である。同様に被計測物は、図16(c)に示すように基板2の表裏に互いに特性の異なる膜3a,3bがそれぞれ形成された構造をとってもかまわない。この場合は、2枚の膜3および基板2の分子振動に伴う吸収バンドが重ならなれば温度測定が可能である。
また本発明の温度測定方法を適用した温度計測装置は、基板2の表面に形成された膜3や基板2に挟み込まれた膜3、或いは特に図示しないが複数の吸収バンド特性の異なる複数の膜を積層して形成された多層膜中の1つの膜であっても、複数の膜と基板の吸収バンドが互いに重ならなければ、これらの膜の温度を非接触で計測することができる。
10 チャンバ
11a 導入窓
11b 導出窓
20 光源
30 分光検出器
31 回折格子
32 アレイ検出器
40 計測部
41 特性測定部
42 相関演算部
43 波長検出部
44 温度演算部
Claims (10)
- 分子振動に基づく吸収バンド特性が温度によって変化する被計測物の温度を非接触で求める温度計測方法であって、
前記被計測物の温度を変化させ、この被計測物に光を照射したとき、前記被計測物を透過する透過光の透過率および/または透過光の強度の変化を求める特性測定工程と、
この特性測定工程で得られた前記被計測物の透過率および/または透過光の強度と前記被計測物の温度との相関関係を求める相関演算工程と
を具備し、
前記被計測物の温度を計測する際、前記被計測物の透過率および/または透過光の強度が所定の値になる光の波長を求め、前記相関演算工程で求めた相関関係から前記被計測物の温度を求める温度演算工程を備えることを特徴とする温度計測方法。 - 前記温度演算工程は、前記被計測物の透過率および/または透過光の強度がピークとなる透過率の値、透過光の強度、前記光の波長、この波長近傍の透過率または透過光の強度を示す特性曲線から導かれる半値幅の少なくともいずれか一つを用いて前記被計測物の温度を求めるものである請求項1に記載の温度計測方法。
- 前記被計測物は、シリコン基板および/または基板に形成された膜である請求項1または2に記載の温度計測方法。
- 前記特性測定工程は、波長8〜17μmの範囲に存在する吸収バンドにおける前記被計測物の透過率を用いるものである請求項1に記載の温度計測方法。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の温度計測方法であって、
前記透過光および前記透過率に代えて前記被計測物から反射される反射光および反射率を用いて前記被計測物の温度を計測する温度計測方法。 - 分子振動に基づく吸収バンド特性が温度によって変化する被計測物の温度を非接触で求める温度計測装置であって、
前記被計測物の温度を変化させ、この被計測物に光を照射したとき、前記被計測物を透過する透過光の透過率および/または透過光の強度の変化を求める特性測定部と、
この特性測定部で得られた前記被計測物の透過率および/または透過光の強度と前記被計測物の温度との相関関係を求める相関演算部と
を具備し、
前記被計測物の温度を計測する際、前記被計測物の透過率および/または透過光の強度が所定の値になる前記光の波長を検出する波長検出部と、
この波長検出部が検出した波長と前記相関演算部が求めた相関関係から前記被計測物の温度を求める温度演算部と
を備えることを特徴とする温度計測装置。 - 前記温度測定部は、前記被計測物の透過率および/または透過光の強度がピークとなる透過率の値、透過光の強度、前記光の波長、この波長近傍の透過率または透過光の強度を示す特性曲線から導かれる半値幅の少なくともいずれか一つを用いて前記被計測物の温度を求めるものである請求項6に記載の温度計測装置。
- 前記被計測物は、シリコン基板および/または基板に形成された膜である請求項6または7に記載の温度計測装置。
- 前記特性測定部は、波長8〜17μmの範囲に存在する吸収バンドにおける前記被検出物の透過率を求めるものである請求項6または7に記載の温度計測装置。
- 請求項6〜9のいずれかに記載の温度計測装置であって、
前記透過光および前記透過率に代えて前記被計測物から反射される反射光および反射率を用いて前記被計測物の温度を計測する温度計測装置。
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| JP2005377273A JP2007178265A (ja) | 2005-12-28 | 2005-12-28 | 温度計測方法および温度計測装置 |
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| JP2007178265A true JP2007178265A (ja) | 2007-07-12 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2005-12-28 JP JP2005377273A patent/JP2007178265A/ja active Pending
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