JP2007156011A - フォトスペーサ用感光性樹脂組成物、スペーサ付き基板及びその製造方法並びに液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】露光後のレジスト硬度を高めることができ、耐現像液性に優れ、ドット欠けなどの欠陥のない高品位なフォトスペーサを形成可能なフォトスペーサ用感光性樹脂組成物及びそれを用いたスペーサ付き基板及びその製造方法並びに液晶表示装置の提供。
【解決手段】エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤及びバインダーを少なくとも含有し、二次元状に並んだ空間光変調デバイスを用いて画像データに基づいて３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲内にある単色光又は輝線を変調しながら相対走査することで二次元画像の形成を行う露光方式に使用されるフォトスペーサ用感光性樹脂組成物であって、前記単色光又は輝線の波長におけるＯＤが０．０５〜１．２の範囲であり、前記バインダーが架橋性基を含有することを特徴とするフォトスペーサ用感光性樹脂組成物及びそれを用いたスペーサ付き基板及びその製造方法並びに液晶表示装置。
【選択図】なし

Description

本発明は、フォトスペーサ用感光性樹脂組成物、スペーサ付き基板及びその製造方法並びに液晶表示装置に関する。

近年、種々の表示装置に使用される液晶ディスプレイ（以下、適宜、ＬＣＤと称する）は、非常にコンパクトであり、性能面での向上が著しく、従来のＣＲＴディスプレイに置き換わりつつある。
液晶ディスプレイにおけるカラー画像は、カラーフィルタを通過した光がカラーフィルタの各画素の色相に着色され、それらの色の光が合成されることで形成される。
近年、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の大画面化及び高精細化の技術開発が進み、その用途がパソコン用ディスプレイのみならず、テレビモニターなどにも使用され、それに伴って一層の表示特性向上が求められている。
表示特性向上としては、画素の高精細化、マスク誤差の補正による画面内での表示の均一性の改善、明像と暗像の差をより明確に表示できる高コントラスト化、高速応答化などが検討され、特にＩＴＯ抵抗値の低減が検討されている。

また、液晶表示装置は一般に、一対の基板間に所定の配向により画像表示を可能とする液晶層が配置されており、この基板間隔、すなわち液晶層の厚みを均一に維持することが画質を決定する要素の一つであり、そのために液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサが配設されているが、位置精度向上のため、感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィーにより位置精度の高いスペーサが形成されるようになってきている。このような感光性樹脂組成物を用いて形成されたスペーサは、フォトスペーサと呼ばれている。
ここで用いられる感光性樹脂組成物は、スペーサのみならず、液晶セルの画素を分画する隔壁、ブラックマトリックス、さらには、画素自体の形成などにも有用である。
このような感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタの製造方法としては、一般に、感光性樹脂組成物を露光して露光領域を硬化させ、未露光部を現像により除去することにより微細パターンを形成するフォトリソグラフィー法が知られている。

従来は、マスクパターンを介して露光を行う方法が一般的であったが、近年、レーザ照射装置の発達に伴い、フォトマスクを用いることなく、半導体レーザ、ガスレーザ等のレーザ光を、画素パターン、スペーサパターン等のデジタルデータに基づいて、感光性樹脂組成物層表面に走査露光してパターニングを行う、レーザダイレクトイメージングシステム（以下、「ＬＤＩ」と称することがある）が注目されており、プリント配線板作成などへの応用が進められている。

前記ＬＤＩによる露光装置としては、レーザ光を光源とする光照射手段からの光を受光し出射する描素部をｎ個有する光変調手段により前記光照射手段からの光を各々制御信号に応じて変調する空間光変調素子と、該空間光変調素子により変調された光による像を拡大するための拡大結像光学系と、該拡大結像光学系による結像面に配され空間光変調素子の各描素部にそれぞれ対応してマイクロレンズをアレイ状に有するマイクロレンズアレイと、該マイクロレンズアレイを通過した光をパターン形成材料やスクリーン上に結像する結像光学系とを備えた露光装置が知られている（例えば、非特許文献１及び特許文献１参照）。
ＬＤＩは、高価なフォトマスクが必要でないという利点がある。しかしながら、前述のごとく、ＬＣＤは性能面での向上が著しく求められており、同時に生産性（タクトなど）も厳しく要求されているため、これら要求をＬＤＩで達成するためには、(1)露光によるムラをなくすために、多重露光をおこなう、(2)生産性を高めるために、レーザースキャン速度を高める、などの対応をとることが必要となる。
これらの対応を、従来知られている感光性樹脂組成物に対して実施した場合、感度不足のために、画素表面の荒れ、画素欠け、色ムラの発生、といった諸問題が生じる。

また、フォトスペーサを例に挙げれば、従来公知の感光性樹脂組成物を、ＬＤＩによってパターニングし、アルカリ現像、及びベークを経て作製されたフォトスペーサについては、そのスペーサドットの圧縮強度が弱く、パネル形成時に塑性変形が大きくなる傾向を有している。高画質の画像表示には、これに起因して液晶層の厚みが設計値より小さくなる等して均一性が保持できなかったり、画像ムラを生ずるといった問題がないことが要求される。また、液晶表示装置の高精度化の点では、感光性樹脂組成物のアルカリ現像残渣が生じないことも重要である。

液晶表示装置の表示モードとしては、近年、広視野角のＶＡモードが提案されている（例えば、非特許文献２参照）。ＶＡモードは、リブと呼ばれる低誘電率の突起を上下一対の透明電極の一方又は両方に形成する、あるいは上下一対の透明電極の双方をパターニングして用いる（例えば、非特許文献３参照）等により、電極間に生じる電界に部分的な傾斜を付与し、これにより液晶の配向をマルチドメイン化して、いずれの角度からも同じような明るさで観察可能な表示装置を実現している。リブを用いるものはＭＶＡ、ＡＳＶ、ＣＰＡなどと呼ばれ、上下の透明電極の双方をパターニングして用いるものはＰＶＡと呼ばれている。
このＶＡモードは、液晶セルのセル厚の変動が色ムラとなりやすい表示モードの一つであり、ＩＰＳモードやＯＣＢモード等の他の表示モードについても同様の傾向を示すものがある。
上記に関連して、液晶層の厚さ（セル厚）を一定に保つためのスペーサ形成技術として、スペーサ形成用にアリル基を有する樹脂を用いることが開示されているが（例えば、特許文献１参照）、均一性、成形精度など製造の容易性においてなお改良の余地があるのが現状である。
特開２００４−１２４４号公報 石川明人"マスクレス露光による開発短縮と量産適用化"、「エレクロトニクス実装技術」、株式会社技術調査会、Vol.18、No.6、2002年、p.74-79 「日経マイクロデバイス別冊 フラットパネル・ディスプレイ２００３」実務編、８２〜８５頁、日経ＢＰ社 「日経マイクロデバイス別冊 フラットパネル・ディスプレイ２００３」実務編、１０３頁、日経ＢＰ社

従来のＬＤＩ露光に用いられるフォトスペーサ用感光性樹脂組成物を高感度化するためには、露光波長でのＯＤを高めてやらなければならない。かかる樹脂組成物をＬＤＩ露光した場合、ドット欠けと呼ばれる欠陥が頻発し、高品質なフォトスペーサを作成することが困難であった。
本発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであり、露光後のレジスト硬度を高めることができ、耐現像液性に優れ、ドット欠けなどの欠陥のない高品位なフォトスペーサを形成可能なフォトスペーサ用感光性樹脂組成物及びそれを用いたスペーサ付き基板及びその製造方法並びに液晶表示装置を提供することを目的とする。

即ち、本発明は、
＜１＞ エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤及びバインダーを少なくとも含有し、二次元状に並んだ空間光変調デバイスを用いて画像データに基づいて３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲内にある単色光又は輝線を変調しながら相対走査することで二次元画像の形成を行う露光方式に使用されるフォトスペーサ用感光性樹脂組成物であって、前記単色光又は輝線の波長におけるＯＤが０．０５〜１．２の範囲であり、前記バインダーが架橋性基を含有することを特徴とするフォトスペーサ用感光性樹脂組成物である。

＜２＞ ＜１＞に記載のフォトスペーサ用感光性樹脂組成物を含む感光層を基板上に形成する工程と、二次元状に並んだ空間光変調デバイスを用いて画像データに基づいて３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲内にある単色光又は輝線を変調しながら相対走査することで前記感光層を硬化する工程と、を含むことを特徴とするスペーサ付き基板の製造方法である。

＜３＞ ＜２＞に記載のスペーサ付き基板の製造方法により製造されたことを特徴とするスペーサ付き基板である。

＜４＞ ＜３＞に記載のスペーサ付き基板を有することを特徴とする液晶表示装置である。

本発明によれば、露光後のレジスト硬度を高めることができ、耐現像液性に優れ、ドット欠けなどの欠陥のない高品位なフォトスペーサを形成可能なフォトスペーサ用感光性樹脂組成物及びそれを用いたスペーサ付き基板及びその製造方法並びに液晶表示装置を提供することができる。

以下、本発明のフォトスペーサ用感光性樹脂組成物について詳細に説明する。また、順次、該フォトスペーサ用感光性樹脂組成物を用いたスペーサ付き基板及びその製造方法について詳細に説明し、さらに本発明の液晶表示装置の詳細についても述べる。

本発明のフォトスペーサ用感光性樹脂組成物（以下、「本発明の感光性樹脂組成物」と称することがある。）は、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤及びバインダーを少なくとも含有し、二次元状に並んだ空間光変調デバイスを用いて画像データに基づいて３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲内にある単色光又は輝線を変調しながら相対走査することで二次元画像の形成を行う露光方式に使用されるフォトスペーサ用感光性樹脂組成物であって、前記単色光又は輝線の波長におけるＯＤが０．０５〜１．２の範囲であり、前記バインダーが架橋性基を含有することを特徴とする。

本発明の感光性樹脂組成物においては、露光により光重合開始剤が分解して開始種を発生し、共存するエチレン性不飽和化合物の重合が進行して露光領域が硬化するネガ型感光性樹脂組成物であり、この特性を利用することで、露光条件に応じた高精細なパターンを形成することができる。さらに、本発明の感光性樹脂組成物に係るバインダーは架橋性基を含有するため、露光後の感光性樹脂組成物（硬化物）の架橋率を高めることができる。その結果として、露光波長におけるＯＤの高い高感度レジストにおいても、現像後のドット欠けのない高品位なフォトスペーサを形成することができる。

本発明の感光性樹脂組成物は、３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲内にある単色光又は輝線を露光することにより硬化するため、光重合開始剤として、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物を含有することが好ましい。また、この光重合開始剤に、必要に応じて分光増感剤を共存させることで光重合開始剤の分解及びラジカルなどの活性種の発生を効率よく行わせることができる。さらにこの光重合開始剤に必要に応じて水素供与体を共存させることで、該水素供与体の機能により発生したラジカルを効率よく硬化反応に転換させることができるため、一層の高感度化を達成することができる。

本発明の感光性樹脂組成物の、前記単色光又は輝線の波長におけるＯＤは０．０５〜１．２である。ＯＤが０．０５より小さい場合は感度が低下してしまい、露光によって充分に固めることができず、１．２より大きい場合はＯＤが高すぎて露光時の光がフォトスペーサ下部（光源から離れた基板側）まで到達せず、硬化が不充分となることがあり、フォトスペーサ形状が理想的な型にならない場合がある。前記単色光又は輝線の波長におけるＯＤは０．０７〜１．１が好ましく、最も好ましくは０．１〜１．０である。なお、３５０ｎｍ〜４２０ｎｍに輝線が２つ以上存在する光源を用いる場合、該輝線の少なくとも１つの波長においてＯＤが上記範囲を満たせばよい。

本発明において、ＯＤとは、フォトスペーサとして本発明の感光性樹脂組成物を含む感光層を形成したときの厚みにおいて測定されるＯＤをいう。本発明における透過光学濃度（ＯＤ）は、分光光度計を用いて、基板の濃度Ｄ^０を測定した後、該基板上に本発明の感光性樹脂組成物を含む感光層を形成し、感光層の濃度と基板の濃度との合計濃度Ｄ^１を測定し、得られた濃度の差（Ｄ^１−Ｄ^０）から求めることができる。
光源波長における透過光学濃度（ＯＤ）を前記範囲内にするには、（１）光重合開始剤の濃度を調整する、（２）光重合開始剤の種類を所望により選択する、等の方法が効果的である。

〔光重合開始剤〕
本発明の感光性樹脂組成物には、光重合開始剤としてヘキサアリールビイミダゾール系化合物を含有することが好ましいが、このような化合物としては下記式（Ｉ）で表される化合物を挙げることができる。

（一般式（Ｉ）中、Ｒ^１〜Ｒ^１５は、それぞれ独立して水素原子又は一価の置換基を表す）

前記一般式（Ｉ）におけるＲ^１〜Ｒ^１５としてはより具体的には、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基などが挙げられ、なかでも、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基が好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物の具体的な例としては、例えば、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載のトリアリールイミダゾール二量体や、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−カルボエトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−ブロモフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）ビイミダゾール等を挙げることができ、その中でも２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾールが好適に使用される。

本発明の感光性樹脂組成物には、効果を損なわない範囲で、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物以外の、上記波長の露光に対して感度を有する光重合開始剤を併用することができる。併用可能な光重合開始剤としては、芳香族ケトン、米国特許第２３６７６６０号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書及び同第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジアゾール化合物等を挙げることができる。

上記芳香族ケトンの好ましい例としては、ベンゾフェノン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、４−メトキシベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン、２−エトキシカルボニルベンゾルフェノン、ベンゾフェノンテトラカルボン酸又はそのテトラメチルエステル、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４−ジメチルアミノアセトフェノン、アントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、フェナントラキノン、キサントン、チオキサントン、２−クロルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、フルオレン、アクリドンおよびベンゾイン、ベンゾインエーテル類（例、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンジルジメチルケタール）、４，４’−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン類（例、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビスジシクロヘキシルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジヒドロキシエチルアミノ）ベンゾフェノン）を挙げることができる。特に好ましい例としては、ベンゾフェノンを挙げることができる。

感光性樹脂組成物中の光重合開始剤の含有量（複数種を含有する場合、その総量）は、固形分換算で、０．１〜１０質量％が一般的で、０．５〜５質量％が好ましい。
なお、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物とその他の光重合開始剤との含有量の比率については、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物が全光重合開始剤の含有量に対して２０〜８０質量％をしめることが好ましく、特に３０〜７０質量％であることが好ましい。

〔分光増感剤〕
本発明の感光性樹脂組成物は、前記光重合開始剤の感度向上を目的として、３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲内にある光に適合する分光増感剤を含有してもよい。
分光増感剤としては、上記波長の範囲に感応性を有すれば特に制限はないが、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物から選択される１種以上であることが好ましい。

（一般式（ＩＩ）中、Ａは酸素原子、硫黄原子またはＮＲ^１０を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９及びＲ^１０は、それぞれ独立して水素原子又は一価の置換基を表す。）
また、中でも、下記式（ＩＩＩ）で表される化合物が好ましい。

（一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は、それぞれ独立して水素原子又は一価の置換基を表す。）

一般式（ＩＩ）および（ＩＩＩ）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８で表される一価の置換基としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヒドロキシエチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、スルホプロピル基、ジエチルアミノエチル基、シアノプロピル基、アダマンチル基、ｐ−クロロフェネチル基、エトキシエチル基、エチルチオエチル基、フェノキシエチル基、カルバモイルエチル基、カルボキシエチル基、エトキシカルボニルメチル基、アセチルアミノエチル基等）、アルケニル基（例えば、アリル基、スチリル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−カルボキシフェニル基、３，５−ジカルボキシフェニル基、ｍ−スルホフェニル基、ｐ−アセトアミドフェニル基、３−カプリルアミドフェニル基、ｐ−スルファモイルフェニル基、ｍ−ヒドロキシフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、ｐ−アニシル基、ｏ−アニシル基、ｐ−シアノフェニル基、ｐ−Ｎ−メチルウレイドフェニル基、ｍ−フルオロフェニル基、ｐ−トリル基、ｍ−トリル基等）、ヘテロ環基（例えば、ピリジル基、５−メチル−２−ピリジル基、チエニル基等）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、メルカプト基、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ニトロ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、２−メトキシエトキシ基、２−フェニルエトキシ基等）、アリーロキシ基（例えば、フェノキシ基、ｐ−メチルフェノキシ基、ｐ−クロロフェノキシ基、α−ナフトキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、カプロイルアミノ基等）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等）、スルホニルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、アミノ基（例えば、ジエチルアミノ基、ヒドロキシアミノ基等）、アルキルチオ基又はアリールチオ基（例えば、メチルチオ基、カルボキシエチルチオ基、スルホブチルチオ基、フェニルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基）、アリーロキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基等）などが挙げられる。

これらは、更に置換基を有していてもよい。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及び、Ｒ^８で表される一価の置換基に導入可能な置換基としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヒドロキシエチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、スルホプロピル基、ジエチルアミノエチル基、シアノプロピル基、アダマンチル基、ｐ−クロロフェネチル基、エトキシエチル基、エチルチオエチル基、フェノキシエチル基、カルバモイルエチル基、カルボキシエチル基、エトキシカルボニルメチル基、アセチルアミノエチル基等）、アルケニル基（例えば、アリル基、スチリル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−カルボキシフェニル基、３，５−ジカルボキシフェニル基、ｍ−スルホフェニル基、ｐ−アセトアミドフェニル基、３−カプリルアミドフェニル基、ｐ−スルファモイルフェニル基、ｍ−ヒドロキシフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、ｐ−アニシル基、ｏ−アニシル基、ｐ−シアノフェニル基、ｐ−Ｎ−メチルウレイドフェニル基、ｍ−フルオロフェニル基、ｐ−トリル基、ｍ−トリル基等）、ヘテロ環基（例えば、ピリジル基、５−メチル−２−ピリジル基、チエニル基等）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、メルカプト基、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ニトロ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、２−メトキシエトキシ基、２−フェニルエトキシ基等）、アリーロキシ基（例えば、フェノキシ基、ｐ−メチルフェノキシ基、ｐ−クロロフェノキシ基、α−ナフトキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、カプロイルアミノ基等）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等）、スルホニルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、アミノ基（例えば、ジエチルアミノ基、ヒドロキシアミノ基等）、アルキルチオ基又はアリールチオ基（例えば、メチルチオ基、カルボキシエチルチオ基、スルホブチルチオ基、フェニルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基）、アリーロキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基等）などが挙げられる。
また、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及び、Ｒ^８同士が飽和直鎖、飽和分岐鎖、不飽和直鎖、不飽和分岐鎖などにより連結されて環構造を形成していてもよく、更にそれらが上記の置換基を有していてもよい。

Ｒ^９で表される一価の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アシル基が特に好ましい。なかでも、アルキル基が好ましく、アルキル基の炭素原子数は１〜１２が好ましく、１〜６がより好ましい。
これらは、さらに置換基を有していてもよく、Ｒ^９で表される一価の置換基に導入可能な置換基としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヒドロキシエチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、スルホプロピル基、ジエチルアミノエチル基、シアノプロピル基、アダマンチル基、ｐ−クロロフェネチル基、エトキシエチル基、エチルチオエチル基、フェノキシエチル基、カルバモイルエチル基、カルボキシエチル基、エトキシカルボニルメチル基、アセチルアミノエチル基等）、アルケニル基（例えば、アリル基、スチリル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−カルボキシフェニル基、３，５−ジカルボキシフェニル基、ｍ−スルホフェニル基、ｐ−アセトアミドフェニル基、３−カプリルアミドフェニル基、ｐ−スルファモイルフェニル基、ｍ−ヒドロキシフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、ｐ−アニシル基、ｏ−アニシル基、ｐ−シアノフェニル基、ｐ−Ｎ−メチルウレイドフェニル基、ｍ−フルオロフェニル基、ｐ−トリル基、ｍ−トリル基等）、ヘテロ環基（例えば、ピリジル基、５−メチル−２−ピリジル基、チエニル基等）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、メルカプト基、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ニトロ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、２−メトキシエトキシ基、２−フェニルエトキシ基等）、アリーロキシ基（例えば、フェノキシ基、ｐ−メチルフェノキシ基、ｐ−クロロフェノキシ基、α−ナフトキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、カプロイルアミノ基等）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等）、スルホニルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、アミノ基（例えば、ジエチルアミノ基、ヒドロキシアミノ基等）、アルキルチオ基又はアリールチオ基（例えば、メチルチオ基、カルボキシエチルチオ基、スルホブチルチオ基、フェニルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基）、アリーロキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基等）などが挙げられる。また、Ｒ^９はＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及び、Ｒ^８と飽和直鎖、飽和分岐鎖、不飽和直鎖、不飽和分岐鎖などにより連結されて環構造を形成していてもよく、更にそれらが上記の置換基を有していてもよい。

Ｒ^１０で表される一価の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基が特に好ましい。
これらは、さらに置換基を有していてもよく、Ｒ^１０で表される一価の置換基に導入可能な置換基としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヒドロキシエチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、スルホプロピル基、ジエチルアミノエチル基、シアノプロピル基、アダマンチル基、ｐ−クロロフェネチル基、エトキシエチル基、エチルチオエチル基、フェノキシエチル基、カルバモイルエチル基、カルボキシエチル基、エトキシカルボニルメチル基、アセチルアミノエチル基等）、アルケニル基（例えば、アリル基、スチリル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−カルボキシフェニル基、３，５−ジカルボキシフェニル基、ｍ−スルホフェニル基、ｐ−アセトアミドフェニル基、３−カプリルアミドフェニル基、ｐ−スルファモイルフェニル基、ｍ−ヒドロキシフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、ｐ−アニシル基、ｏ−アニシル基、ｐ−シアノフェニル基、ｐ−Ｎ−メチルウレイドフェニル基、ｍ−フルオロフェニル基、ｐ−トリル基、ｍ−トリル基等）、ヘテロ環基（例えば、ピリジル基、５−メチル−２−ピリジル基、チエニル基等）、

ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、メルカプト基、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ニトロ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、２−メトキシエトキシ基、２−フェニルエトキシ基等）、アリーロキシ基（例えば、フェノキシ基、ｐ−メチルフェノキシ基、ｐ−クロロフェノキシ基、α−ナフトキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、カプロイルアミノ基等）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等）、スルホニルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、アミノ基（例えば、ジエチルアミノ基、ヒドロキシアミノ基等）、アルキルチオ基又はアリールチオ基（例えば、メチルチオ基、カルボキシエチルチオ基、スルホブチルチオ基、フェニルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基）、アリーロキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基等）などが挙げられる。また、Ｒ^１０はＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及び、Ｒ^９と飽和直鎖、飽和分岐鎖、不飽和直鎖、不飽和分岐鎖などにより連結されて環構造を形成していてもよく、更にそれらが上記の置換基を有していてもよい。

以下に、本発明に好適に用いられる一般式（ＩＩ）および（ＩＩＩ）で表される分光増感剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

また、一般式（ＩＩ）および（ＩＩＩ）で表される化合物以外の好ましい分光増感剤の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。

感光性樹脂組成物中の分光増感剤の含有量は、固形分換算で、０．５〜３．０質量％であることが好ましく、１．０〜２．０質量％であることがより好ましい。

〔水素供与体〕
本発明に用いられる水素供与体としては、前記光重合開始剤の分解により発生したラジカルに水素原子を供与しうる化合物であれば特に制限はなく、一般的には酸性プロトンを有する化合物が用いられる。このような化合物は連鎖移動剤としての機能を有し、ラジカル重合の促進に有用であることが知られており、この機能を有する公知の化合物を本発明における水素供与体として使用することができ、例えば、アミン系化合物、メルカプト系化合物などが挙げられ、なかでも、メルカプト基を有する化合物を用いることが好ましい。

メルカプト基を有する化合物としては、分子内にメルカプト基を１つ有する官能基数１の化合物の他、分子内にメルカプト基を２つから４つ有する化合物も用いることができる。
（官能基数１のメルカプト系化合物）
官能基数１のメルカプト系化合物としては、下記一般式（ＩＶ−１）で表される化合物が挙げられる。

前記一般式（ＩＶ−１）中、Ｒ^２５はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ^２６は水素原子またはアルキル基を表す。
Ｒ^２５、Ｒ^２６がアルキル基を表す場合のアルキル基としては、炭素原子数１〜４のものが好ましい。またＲ^２５がアリール基を表す場合のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基のような炭素原子数６〜１０のものが好ましく、置換アリール基としては、上記のようなアリール基に塩素原子のようなハロゲン原子、メチル基のようなアルキル基、メトキシ基、エトキシ基のようなアルコキシ基で置換されたものが含まれる。Ｒ^２５とＲ^２６とが互いに結合し、炭素原子および窒素原子とともに縮合環を有していてもよい複素環を完成するのに必要な原子群となってもよい。この場合の縮合環としてはベンゼン環等が挙げられる。

一般式（ＩＶ−１）で表されるメルカプト系化合物の具体例としては、以下のもの〔（ｅ−１）〜（ｅ−７３）〕が好ましく挙げられる。
ｅ−１．チオホルムアミド、
ｅ−２．チオアセトアミド、
ｅ−３．Ｎ−メチルチオホルムアミド、
ｅ−４．Ｎ−メチルチオアセトアミド、
ｅ−５．Ｎ−フェニルチオプロピオン酸アミド、
ｅ−６．Ｎ−フェニルチオカプロン酸アミド、
ｅ−７．Ｎ−ｏ−クロロ−フェニルチオアセトアミド、
ｅ−８．Ｎ−ｏ−クロロフェニルチオカプロン酸アミド、
ｅ−９．Ｎ−ｐ−トリルチオカプロン酸アミド、
ｅ−１０．Ｎ−ｍ−メトキシフェニルチオアセトアミド、
ｅ−１１．Ｎ−ｍ−メチトキシフェニルチオプロピオン酸アミド、
ｅ−１２．Ｎ−ｐ−エトキシフェニルチオアセトアミド、
ｅ−１３．Ｎ−ｐ−エトキシフェニルチオプロピオン酸アミド、
ｅ−１４．Ｎ−ｏ−メトキシフェニルチオカプロン酸アミド、
ｅ−１５．２−メルカプト−４，５−ジヒドロ−２−チアゾール、
ｅ−１６．２−メルカプト−４−メチル−４，５−ジヒドロ−２−チアゾール、
ｅ−１７．２−メルカプト−５−メチル−４，５−ジヒドロ−２−チアゾール、
ｅ−１８．２−メルカプト−４，４−ジメチル−４，５−ジヒドロ−２−チアゾール、
ｅ−１９．２−メルカプト−５，５−ジメチル−４，５−ジヒドロ−２−チアゾール、
ｅ−２０．２−メルカプト−４，５−ジヒドロ−２−オキサゾール、
ｅ−２１．２−メルカプト−４−メチル−４，５−ジヒドロ−２−オキサゾール、
ｅ−２２．２−メルカプト−４，４−ジメチル−４，５−ジヒドロ−２−オキサゾール、
ｅ−２３．１−メチル−２−メルカプト−１，３−イミダゾール、
ｅ−２４．２−メルカプト−４，５−ジヒドロ−１，３−チアジン、
ｅ−２５．２−メルカプト−６−メチル−４，５−ジヒドロ−１，３−チアジン、

ｅ−２６．２−メルカプト−４，５−ジヒドロ−１，３−オキサジン、
ｅ−２７．２−メルカプト−テトラヒドロ−１−ピリジン、
ｅ−２８．１−［ｐ−（ｎ−ヘキシルアミノカルボニル）フェニル｝−２−メルカプトイミダゾール、
ｅ−２９．１−（ｐ−トリル）−２−メルカプト−４，５，６，７−テトラヒドロ−１，３−ベンズイミダゾール、
ｅ−３０．２−メルカプト−５−メチルチオ−１，３，４−オキサジアゾール、
ｅ−３１．２−メルカプト−３，４，５，６−テトラヒドロ−１−アゼピン、
ｅ−３２．２−メルカプト−１，３−ベンズオキサゾール、
ｅ−３３．３−メルカプト−５−クロロ−１，２−ベンズイソオキサゾール、
ｅ−３４．２−メルカプト−１，３−ベンズイミダゾール、
ｅ−３５．２−メルカプト−６−メトキシ−１，３−ベンズイミダゾール、
ｅ−３６．１−メチル−２−メルカプト−１，３−ベンズイミダゾール、
ｅ−３７．２−メルカプト−６−メチル−１，３−ベンズイミダゾール、
ｅ−３８．２−メルカプト−５，６−ジメチル−１，３−ベンズイミダゾール、
ｅ−３９．２−メルカプト−６−メトキシ−１，３−ベンズイミダゾール、
ｅ−４０．２−メルカプト−５−カプロイルアミノ−１，３−ベンズイミダゾール、
ｅ−４１．１−（ｎ−プロピル）−２−メルカプト−１，３−ベンズイミダゾール、
ｅ−４２．１−イソプロピル−２−メルカプト−１，３−ベンズイミダゾール、
ｅ−４３．２−メルカプト−６−クロロ−１，３−ベンズイミダゾール、
ｅ−４４．１−（ｎ−ヘプチル）−２−メルカプト−１，３−ベンズイミダゾール、
ｅ−４５．１−（ｎ−ヘキシル）−２−メルカプト−５−クロル−１，３−ベンズイミダゾール、
ｅ−４６．２−メルカプト−６−クロロ−１，３−ベンズイミダゾール、
ｅ−４７．１−（ｎ−オクチル）−２−メルカプト−５−メトキシ−１，３−ベンズイミダゾール、
ｅ−４８．１−（ｎ−ヘキシル）−２−メルカプト−５−エトキシカルボニル−１，３−ベンズイミダゾール、
ｅ−４９．１−（２−メトキシエチル）−２−メルカプト−１，３−ベンズイミダゾール、
ｅ−５０．３−メルカプト−６−メチル−１，２−ベンゾチアゾール、

ｅ−５１．１−フェニル−２−メルカプト−１，３−ベンズイミダゾール、
ｅ−５２．１−フェニル−２−メルカプト−５−メチルスルホニル−１，３−ベンズイミダゾール、
ｅ−５３．１−（ｐ−スルホナトメチルフェニル）−２−メルカプト−１，３−ベンズイミダゾール・ナトリウム塩、
ｅ−５４．３−メルカプト−１，２−ベンゾチアゾール、
ｅ−５５．３−メルカプト−６−カプロイルアミノ−１，２−ベンゾチアゾール、
ｅ−５６．３−メルカプト−６−クロロ−１，２−ベンゾチアゾール、
ｅ−５７．３−メルカプト−６−メチル−１，２−ベンゾチアゾール、
ｅ−５８．２−メルカプト−ナフト［２，１］−１，３−イミダゾール、
ｅ−５９．１−（ｎ−ブチル）−２−メルカプト−ナフト［２，１］−１，３−イミダゾール、
ｅ−６０．１−（ｎ−オクチル）−２−メルカプト−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン、
ｅ−６１．１−（ｎ−オクチル）−２−メルカプト−イミダゾ［４，５−ｂ］ピラジン、
ｅ−６２．１−（ｎ−ブチル）−２−メルカプト−１，３−イミダゾ［４，５−ｂ］キノキサリン、
ｅ−６３．１−（ｎ−ヘキシル）−２−メルカプト−６−クロル−１，３−イミダゾ［４，５−ｂ］キノキサリン、
ｅ−６４．１，５−ジエチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、
ｅ−６５．４−（ｎ−ヘキシル）−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、
ｅ−６６．４−フェニル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、
ｅ−６７．４−フェニル−３−メルカプト−５−メチルチオ−１，２，４−トリアゾール、
ｅ−６８．１−（ｎ−ヘキシル）−５−メルカプトテトラゾール、
ｅ−６９．１−（ｎ−オクチル）−５−メルカプトテトラゾール、
ｅ−７０．１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール、
ｅ−７１．２−（ｎ−ヘキシル）−３−メルカプト−１，２，４−オキサジアジン、
ｅ−７２．２−フェニル−３−メルカプト−５−メチル−１，２，４−チアジアジン、
ｅ−７３．３−フェニル−４−メルカプト−６−フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロ−１，３，５−チアジアジン。
これらのなかでも、ｅ−５１．１−フェニル−２−メルカプト−１，３−ベンズイミダゾールが好適に使用できる。

（官能基数２のメルカプト系化合物）
１分子中に２つのメルカプト基を有する水素供与体としては、例えば、１，２−エタンジチオール、１，３−プロパンジチオール、１，４−ブタンジチオール、２，３−ブタンジチオール、１，５−ペンタンジチオール、１，６−ヘキサンジチオール、１，８−オクタンジチオール、１，９−ノナンジチオール、２，３−ジメルカプト−１−プロパノール、ジチオエリスリトール、２，３−ジメルカプトサクシン酸、１，２−ベンゼンジチオール、１，２−ベンゼンジメタンチオール、１，３−ベンゼンジチオール、１，３−ベンゼンジメタンチオール、１，４−ベンゼンジメタンチオール、３，４−ジメルカプトトルエン、４−クロロ−１，３−ベンゼンジチオール、２，４，６−トリメチル−１，３−ベンゼンジメタンチオール、４，４’−チオジフェノール、２−ヘキシルアミノ−４，６−ジ
メルカプト−１，３，５−トリアジン、２−ジエチルアミノ−４，６−ジメルカプト−１，３，５−トリアジン、２−シクロヘキシルアミノ−４，６−ジメルカプト−１，３，５−トリアジン、２−ジ−ｎ−ブチルアミノ−４，６−ジメルカプト−１，３，５−トリアジン、エチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ブタンジオールビスメルカプトアセテート、エチレングリコールビスメルカプトアセテート、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２，２’−（エチレンジチオ）ジエタンチオール、２，２−ビス（２−ヒドロキシ−３−メルカプトプロポキシフェニルプロパン）、１，４−ブタンジオールビス（３−メルカプトブチレート）、さらには、下記構造式（ａ）〜（ｄ）で表される化合物、などが挙げられる。

（官能基数３のメルカプト系化合物）
１分子中に３つのメルカプト基を有する水素供与体としては、例えば、１，２，６−ヘキサントリオールトリチオグリコレート、１，３，５−トリチオシアヌル酸、２，４，６−トリメルカプト−１，３，５−トリアジン、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリスメルカプトアセテート、などが挙げられる。

（官能基数４以上のメルカプト系化合物）
１分子中に４つ以上のメルカプト基を有する化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトアセテート、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキスメルカプトアセテート、などが挙げられる。

これら水素供与体は１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
感光性樹脂組成物中の水素供与体の含有量は、固形分換算で、０．０５〜５．０質量％であることが好ましく、０．１〜２．０質量％であることがより好ましい。

〔バインダー〕
感光性樹脂組成物に含まれるバインダーは、感光性樹脂組成物を含む感光層を基板表面に形成する場合の被膜形成物質として機能するものであり、アルカリ現像が可能な樹脂を用いることができる。硬化感度の観点から、バインダーとして用いられる高分子化合物が架橋性基（或いは重合性基ともいう）を有することが必須である。

−架橋性基の規定−
本発明における「架橋性基を含有する」とは、何らかの化学反応によって周囲のバインダーやエチレン性不飽和化合物と結合を形成しうる基をバインダーポリマー側鎖に有しているという意味であり、かかる機能を有しさえすれば特に限定されない。

バインダーを構成する高分子化合物は、前記の如くそれ自体が架橋性基を有する。高分子化合物は、目的等に応じ適宜選択した、単量体の単独重合体、及び複数の単量体からなる共重合体のいずれであってもよいが、カルボキシル基を有する構造単位と、下記一般式（１）で表される構造単位と、芳香族環及び／又は脂肪族環を１以上有する（メタ）アクリレートからなる構造単位とを少なくとも有する共重合体が好ましいものとして挙げられる。

この共重合体は、例えば、カルボキシル基を有する重合性モノマー、下記式（２）で表されるモノマー、芳香族環及び／又は脂肪族環を１以上有する（メタ）アクリレート、及び必要に応じてこれらと共重合可能なその他のモノマーを公知の方法で共重合させることによって得ることができる。

前記一般式（１）及び式（２）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^２〜Ｒ^６はそれぞれ独立に、水素原子又は、置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基を表す。

前記カルボキシル基を有する重合性モノマーとしては、例えば（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸ダイマーなどが挙げられる。また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の、水酸基を有する単量体と無水マレイン酸や無水フタル酸のような環状無水物との付加反応物も使用できる。また、無水マレイン酸、無水イタコン酸のような無水物モノマーをカルボン酸の前駆体として用いることもできる。これらの中でも重合性や原料価格の点から、（メタ）アクリル酸が特に好ましい。

前記式（２）で表されるモノマーとしては、例えば、アリル（メタ）アクリレート、３−クロル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（ヒドロキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２−ヒドロキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３，４−ジヒドロキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３，４，５−トリヒドロキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３−メトキシ−４−ヒドロキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３，４−ジヒドロキシ−５−メトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（４−エトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２−メトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３，４−ジメトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３−メトキシ−４−プロポキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２，４，６−トリメトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３−メトキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３−（３’−メトキシフェニル）−４−ベンジルオキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（４−メチルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート；

３−フェニル−３−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３，３−〔ジ−（２，４，６−トリメチルフェニル）〕−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−フェニル−３−（４−メチルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３，３−ジフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２−クロルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３−クロルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（４−クロルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２，４−ジクロルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２−ブロムフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−ブロム−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−クロル−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（４−ニトロフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２−ニトロフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３−ニトロフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−メチル−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−メチル−３−（４−クロルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、

２−メチル−３−（４−ニトロフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−メチル−３−（４−アミノフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−メチル−３，３−ジフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−エチル−１，３−ジフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−エトキシメチレン−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−メチル−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２，３−ジフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，２，３−トリフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２，３，３−トリフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，３−ジフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−（４−メチルフェニル）−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−フェニル−３−（４−メチルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−フェニル−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−（４−メトキシフェニル）−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，３−ジ（４−クロルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−（４−ブロムフェニル）−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート；

１−フェニル−３−（４−ニトロフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，３−ジ（２−ニトロフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−（４−ジメチルアミノフェニル）−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−フェニル−３−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，１−ジ（４−ジメチルアミノフェニル）−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，１，３−トリフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，１，３，３−テトラフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−（４−メチルフェニル）−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，２−ジフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−フェニル−２−メチル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−シクロヘキシル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−ベンジル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，１−ジ（４−クロルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−シアノ−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−アニリノ−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２−メチルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２，４−ジメチルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−（２−カルベトキシイソプロピル）−３−メチル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−（１−カルベトキシイソプロピル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−（１−カルベトキシエチル）−３−メチル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−カルベトキシ−３−クロル−３−メチル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−カルベトキシメチレン−３−メチル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−シアノ−３−メチル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−シクロヘキシル−３−（２−ヒドロキシシクロへキシル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−シクロペンチル−２−プロペニル（メタ）アクリレート；

３−フリル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−クロル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−ブロム−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−メチル−３−クロル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−メチル−３−ブロム−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−クロル−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−ブロム−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−ブロム−３−（４−ニトロフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−フルオロ−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−フルオロ−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−シアノ−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−クロル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−ブロム−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−クロル−３，３−ジフルオロ−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−フルオロ−３−クロル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２，３−ジブロム−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−クロル−３−メチル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，１−ジメチル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−ペンテニル（メタ）アクリレート、２−ヘキセニル（メタ）アクリレート、２−ヘプテニル（メタ）アクリレート、等が挙げられる。
これらの中でも、硬化性や原料価格の点で、アリル（メタ）アクリレートが特に好ましい。

前記「芳香環及び／又は脂肪族環を１以上有する（メタ）アクリレート」としては、例えば、（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステル［例えば、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ノルボルニル、（メタ）アクリル酸アダマンチルなど］、（メタ）アクリル酸アリールエステル［例えば、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸クロロフェニル、（メタ）アクリル酸メトキシフェニル、（メタ）アクリル酸ナフチルなど］、アラルキルエステル［例えば、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸フェネチルなど］、等が挙げられる。
これらの中でも、原料価格、溶解性、顔料分散性等の点で、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシルが好ましい。

また、これらの構造単位と共重合可能な「その他のモノマー」としては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル［例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリルなどの（メタ）アクリル酸（Ｃ^１〜Ｃ^１８）アルキルエステルなど］；

（メタ）アクリル酸アラルキルエステル［例えば（メタ）アクリル酸ベンジルなど］、置換（メタ）アクリル酸アルキルエステル［例えば、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレートなど］、（メタ）アクリルアミド類［例えば、（メタ）アクリルアミド、ジメチル（メタ）アクリルアミド、イソプロピル（メタ）アクリルアミド、ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミドなど］、置換（メタ）アクリルアミド類［例えば、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミドなど］、芳香族ビニル類［例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレンなど］、ヘテロ環ビニル類［例えば、ビニルイミダゾール、ビニルピリジンなど］、ビニルエステル類［例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バーサチック酸ビニルなど］、Ｎ−ビニルアミド類［例えば、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミドなど］、アリルエステル類［例えば酢酸アリルなど］、ハロゲン含有単量体［例えば、塩化ビニリデン、塩化ビニルなど］、シアン化ビニル［例えば（メタ）アクリロニトリルなど］、オレフィン類［例えば、エチレン、プロピレンなど］、等が挙げられる。

これらの中でも、その共重合性や生成する重合体の溶媒溶解性、得られる膜の製膜性などの観点から、（メタ）アクリル酸アルキルエステル［例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルなど］、等が特に好ましい。
これらの共重合可能な他成分は、１種単独でも２種以上の組合せでもよい。

また、アリル基、（メタ）アクリロイル基以外に、スチリル基などのエチレン性不飽和基、エポキシ基、グリシジル基、オキセタニル基などの環状エーテル含有基、チイラン、アジリジンなどの環状ヘテロエーテル含有基、イソシアネート、チオイソシアネートなどのクムレン系官能基などを有してもよく、なかでも、入手容易性、反応性、取り扱い性などの観点からエチレン性不飽和基、環状エーテル基を側鎖に有するバインダーが好適に使用され、その中でもアリル基、（メタ）アクリロイル基、グリシジル基を側鎖に有するバインダーが特に好適に使用される。

前記各成分の共重合組成比については、「カルボキシル基を有する構造単位」は１０〜４０モル％が好ましく、１５〜３５モル％が更に好ましく、２０〜３５モル％が特に好ましい。カルボキシル基を有する構造単位が前記範囲内であると、良好な現像性が得られると共に、画像部の現像液耐性も良好である。また、「一般式（１）で表される構造単位」は２０〜８０モル％が好ましく、２０〜７５モル％が更に好ましく、２５〜７５モル％が特に好ましい。一般式（１）で表される構造単位が前記範囲内であると、良好な硬化性、現像性が得られる。
かかるバインダーポリマー中の架橋性基含有率は１０％〜９０％が好ましく、より好ましくは１５％〜８５％であり、２０％〜８０％が最も好ましい。架橋性基含有率が１０％以下では本発明の効果を得られない場合があり、９０％以上では現像性が著しく低下して、実用的でない。

バインダーとして好適な前記共重合体の重量平均分子量は、５，０００〜２０万が好ましく、１万〜１０万が更に好ましく、１．２万〜８万が特に好ましい。重量平均分子量が前記範囲内であると、共重合体の製造適性、現像性の点で望ましい。

以下、バインダーとして好適な前記共重合体の具体例としては、特開２００３−１３１３７９号公報、同２００３−２０７７８７号公報を参照することができる。

バインダーとして好適な前記共重合体は、それぞれ相当する単量体を公知の方法で常法にしたがって共重合させることで得ることができる。例えば、これらの単量体を適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル重合開始剤を添加して溶液中で重合させることで得られる。

共重合させる際の適当な溶媒の例としては、モノマー及び生成する共重合体の溶解性に応じて任意に選択できるが、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエン、及びこれらの混合物などが挙げられる。また、重合開始剤を用いることができ、該重合開始剤としては、例えば、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２’−アゾビス−（２，４’−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ系、ベンゾイルパーオキシド等の過酸化物系、過硫酸塩等が利用できる。

また、分子量を調整する目的で公知の連鎖移動剤を適宜使用することもできる。さらに、重合濃度、開始剤量、連鎖移動剤、重合温度などを適切に調整することが必要なこともある。例えば、重合濃度としては、５〜５０質量％が好ましく、１０〜４０質量％が更に好ましい。
感光性樹脂組成物中におけるバインダーの含有量としては、固形分換算で、３０〜７０質量％が好ましく、４０〜５０質量％が好ましい。

〔エチレン性不飽和化合物〕
エチレン性不飽和化合物としては、架橋基を有するものが好ましく、特に少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有するものを、特に制限はなく目的に応じて適宜選択することができる。例えば、エステル化合物、アミド化合物、並びにその他の化合物が挙げられる。

前記エステル化合物としては、例えば、単官能（メタ）アクリル酸エステル、多官能（メタ）アクリル酸エステル、イタコン酸エステル、クロトン酸エステル、イソクロトン酸エステル、マレイン酸エステル、その他のエステル化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。中でも、単官能（メタ）アクリル酸エステル、多官能（メタ）アクリル酸エステルが好ましい。

前記単官能（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチルモノ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

前記多官能（メタ）アクリル酸エステルしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、ソルビトールトリ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。中でも特に、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートが好ましい。

前記多官能（メタ）アクリル酸エステルの他の例として、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８−４１７０８号公報、特公昭５０−６０３４号公報、特開昭５１−３７１９３号公報に記載のウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公報、及び特公昭５２−３０４９０号公報に記載のポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類、特開昭６０−２５８５３９号公報に記載の（メタ）アクリル酸エステルやウレタン（メタ）アクリレートやビニルエステル、などが挙げられる。

前記「その他の化合物」としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、日本接着協会誌Ｖｏｌ．２０，Ｎｏ．７，第３００〜３０８頁に記載の光硬化性モノマー及びオリゴマー、などが挙げられる。

また、前記アミド化合物としては、例えば、不飽和カルポン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド（モノマー）などが挙げられ、具体的には、メチレンビス−（メタ）アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、などが挙げられ、また、特開昭６０−２５８５３９号公報に記載の（メタ）アクリル酸アミド、などが挙げられる。
また、前記「その他の化合物」として、例えば、特開昭６０−２５８５３９号公報に記載のアリル化合物などが挙げられる。

エチレン性不飽和化合物は、１種単独で用いる以外に、２種以上を併用するようにしてもよい。
感光性樹脂組成物中におけるエチレン性不飽和化合物の含有量としては、該組成物又は該層の全固形分に対して、１０〜６０質量％が好ましく、２０〜５０質量％がより好ましい。

本発明においては、感光性樹脂組成物中における、前記バインダーの含有量Ｂ（質量％）と前記エチレン性不飽和化合物の含有量Ｍ（質量％）との比（Ｍ／Ｂ）としては０．６〜１．５が好ましい。また、より好ましい比Ｍ／Ｂの範囲は０．７〜１．０である。

〔その他の成分〕
本発明における感光性樹脂組成物には、上記エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤及びバインダーの必須成分に加え、必要に応じて更に、着色剤、界面活性剤、溶媒、熱重合防止剤、紫外線吸収剤等の公知の添加剤を用いることができる。

−着色剤−
着色剤としては、染料、顔料等が挙げられる。これは、感光性樹脂組成物が形成するカラーフィルタの部材の必要に応じて使用される。
スペーサの形成を目的とする場合を例に挙げれば、好ましい顔料の種類、サイズ等については、例えば特開平１１−１４９００８号公報の記載から適宜選択することができる。また、顔料等の着色剤を含有させた場合は、着色画素を形成することができる。使用可能な顔料には、体質顔料又は着色顔料が挙げられる。体質顔料としては、特に制限はなく目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開２００３−３０２６３９号公報の段落番号［００３５］〜［００４１］に記載の体質顔料が好適に挙げられる。着色顔料としては、特開２００３−３０２６３９号公報の段落番号［００４３］に記載の顔料が好適に挙げられる。

−界面活性剤−
界面活性剤としては、感光性樹脂組成物（又は感光層）の構成成分と混ざり合うものであれば使用可能である。好ましい界面活性剤として、特開２００３−３３７４２４号公報の段落番号［００１５］〜［００２４］、特開２００３−１７７５２２号公報の段落番号［００１２］〜［００１７］、特開２００３−１７７５２３号公報の段落番号［００１２］〜［００１５］、特開２００３−１７７５２１号公報の段落番号［００１０］〜［００１３］、特開２００３−１７７５１９号公報の段落番号［００１０］〜［００１３］、特開２００３−１７７５２０号公報の段落番号［００１２］〜［００１５］、特開平１１−１３３６００号公報の段落番号［００３４］〜［００３５］、特開平６−１６６８４号公報に記載の界面活性剤が好適に挙げられる。
より高い効果を得る観点からは、フッ素系界面活性剤及び／又はシリコン系界面活性剤（フッ素系界面活性剤、又は、シリコン系界面活性剤、フッ素原子と珪素原子の両方を含有する界面活性剤を含む。）のいずれか１種、あるいは２種以上を選択するのが好ましく、フッ素系界面活性剤が最も好ましい。

フッ素系界面活性剤を用いる場合、該界面活性剤分子中のフッ素含有置換基のフッ素原子数は１〜３８が好ましく、５〜２５がより好ましく、７〜２０が最も好ましい。フッ素原子数が前記範囲内であると、溶解性が良好であると共にムラの改善効果が得られる点で望ましい。

特に好ましい界面活性剤としては、下記一般式（ａ）で表されるモノマーＡと下記一般式（ｂ）で表されるモノマーＢとを共重合成分として含み、前記モノマーＡと前記モノマーＢとの共重合比（Ａ／Ｂ［質量比］）が２０／８０〜６０／４０である共重合体（以下、「本発明に好適な界面活性剤」ともいう。）が挙げられる。

前記一般式（ａ）及び（ｂ）において、Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、好ましくはＲ^１、Ｒ^２は水素原子であり、Ｒ^３はメチル基である。
また、Ｒ^４は、水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。Ｒ^４で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ、中でも炭素数１〜２のアルキル基が好ましい。Ｒ^４は、特に好ましくは水素原子である。

前記一般式（ａ）中、ｎは１〜１８の整数を表し、好ましくは２〜１０の整数である。ｍは、２〜１４の整数を表し、好ましくは４〜１２の整数である。一般式（ａ）中のＣ_ｍＦ_２ｍ＋１は、直鎖でも分岐鎖でもよく、Ｃ_ｍＦ_２ｍ＋１のモノマーＡに対する比率は、２０〜７０質量％が好ましく、特に好ましくは４０〜６０質量％である。

前記一般式（ｂ）中、ｐ及びｑは、それぞれ独立に０〜１８の整数を表し、好ましくは２〜８である。ｐ及びｑは、同時に０を表す場合はない。
本発明に好適な界面活性剤においては、１分子中に含まれる複数のモノマーＡは互いに同じ構造のものでも異なる構造のものであってもよく、またモノマーＢについても同様である。

本発明に好適な界面活性剤（共重合体）は、該共重合体の全質量に対して、前記モノマーＡを２０〜６０質量％、前記モノマーＢを８０〜４０質量％、及び前記モノマーＡ及びＢ以外の他の任意モノマーをその残りの質量％とした共重合比で共重合されていることが好ましく、更には、モノマーＡを２５〜６０質量％、モノマーＢを６０〜４０質量％、及び前記モノマーＡ及びＢ以外の他の任意モノマーをその残りの質量％とした共重合比で共重合されていることが好ましく、モノマーＡを２５〜６０質量％、モノマーＢを７５〜４０質量％、及び前記モノマーＡ及びＢ以外の他の任意モノマーをその残りの質量％とした共重合比で共重合されていることがより好ましい。

本発明に好適な界面活性剤（モノマーＡ及びモノマーＢが少なくとも共重合されてなる共重合体）のうち、好ましい形態は、前記一般式（ａ）中のＲ^１が水素原子であって、ｎ＝２、ｍ＝６であるモノマーＡと、前記一般式（ｂ）中のＲ^２が水素原子であって、Ｒ^３がメチル基であって、Ｒ^４が水素原子であって、ｐ＝７、ｑ＝０であるモノマーＢ、又は前記一般式（ｂ）中のＲ^２、Ｒ^３、及びＲ^４が水素原子であって、ｐ＝０、ｑ＝７であるモノマーＢと、を２０／８０〜６０／４０の共重合比（Ａ／Ｂ）で共重合させてなる共重合体である。特に好ましくは、２５／６０〜６０／４０の共重合比とした場合である。
前記一般式（ａ）で表されるモノマーＡと前記一般式（ｂ）で表されるモノマーＢとを共重合成分として含む共重合体の具体例は、特開２００３−３３７４２４号公報の段落番号［００６８］の表１に記載されている。

−溶媒−
感光性樹脂組成物の調製には、前記成分以外に有機溶媒を用いることができる。有機溶媒の例としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等を挙げることができる。

−熱重合防止剤−
感光性樹脂組成物には、更に熱重合防止剤を含有できる。熱重合防止剤の例としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−メルカプトベンズイミダゾール、フェノチアジン等が挙げられる。

−紫外線吸収剤−
感光性樹脂組成物には、必要に応じて紫外線吸収剤を含有できる。紫外線吸収剤としては、特開平５−７２７２４号公報に記載の化合物、並びにサリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系などが挙げられる。

具体的には、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２，２’−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピリジン）−セバケート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、サルチル酸フェニル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリデニル）−エステル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、７−｛［４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−５−トリアジン−２−イル］アミノ｝−３−フェニルクマリン等が挙げられる。

また、感光性樹脂組成物は、前記添加剤のほか、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「接着助剤」やその他の添加剤等を含有することもできる。

＜スペーサ付き基板の製造方法＞
以下、前記本発明の感光性樹脂組成物を用いたスペーサ付き基板の製造方法について、本発明に特有の露光方式とともに詳細に説明する。本発明のスペーサ付き基板の製造方法は、本発明のフォトスペーサ用感光性樹脂組成物を含む感光層を基板上に形成する工程と、二次元状に並んだ空間光変調デバイスを用いて画像データに基づいて３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲内にある単色光又は輝線を変調しながら相対走査することで前記感光層を硬化する工程と、を含むものである。
より具体的には、スペーサ付き基板の製造方法における第１の態様は、基板表面に、前記本発明の感光性樹脂組成物を塗布、乾燥して感光性樹脂組成物層を形成する感光層形成工程と、該感光性樹脂組成物層をパターン状に露光する露光工程と、露光後の感光層の未硬化領域を除去する現像工程と、を有することを特徴とする。以下、適宜、この製造方法の第１の態様を塗布法（液レジ法）と称する。
また、第２の態様は、この感光性樹脂組成物を用いた転写材料を使用する方法であり、仮支持体上に、１）熱可塑性樹脂層と、２）前記本発明の感光性樹脂組成物からなる感光層と、をこの順に積層してなる感光性材料を用い、仮支持体とは反対側の面と基板とを当接して基板上にこの加工性材料を積層し、仮支持体を剥離して基板表面に感光層を転写した後、該感光層をパターン状に露光し、露光後の感光層の未硬化領域を除去することを特徴とする。以下、適宜、この製造方法の第２の態様を転写法と称する。この第２の態様において、感光層を形成した後に実施される露光工程と現像工程は、第１の態様におけるのと同様の工程である。

まず、第１の態様である塗布法を用いた感光層形成工程について説明する。この工程では、前記本発明の感光性樹脂組成物を適切な液体に溶解、或いは、分散させて塗布液を調製し、それを基板表面に塗布し、乾燥することで感光層を形成する。
溶媒或いは分散剤は、感光性樹脂組成物の組成に応じて、公知の液体、例えば、水、或いは有機溶剤などから適宜選択して用いることができる。

塗布液を基板表面に塗布する方法には特に制限はなく、公知の塗布法、例えば、スピンコート法、カーテンコート法、スリットコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、あるいは米国特許第２６８１２９４号明細書に記載のポッパーを使用するエクストルージョンコート法等などから目的に応じて選択し、適用することができる。なかでも、液が吐出する部分にスリット状の穴を有するスリットノズルを備えたスリットコーターによる方法が好適である。
前記スリット状ノズルを備えたスリットコーターとしては、特開２００４−８９８５１号公報、特開２００４−１７０４３号公報、特開２００３−１７００９８号公報、特開２００３−１６４７８７号公報、特開２００３−１０７６７号公報、特開２００２−７９１６３号公報、特開２００１−３１０１４７号公報等に記載のスリット状ノズル、及びスリットコーターが好適に用いられる。

基板上に塗布した感光性樹脂組成物を含む塗膜を乾燥する方法としては、公知の方法を適宜使用することができる。乾燥の条件としては、用いた感光性樹脂組成物の処方、溶媒の種類等によって異なるが、一般的には、７０〜１５０℃の温度範囲が好ましい。

感光層を塗布法により形成する場合、その層厚は０．５〜１０．０μｍの範囲であることが好ましく、１〜６μｍの範囲であることがより好ましい。層厚が前記範囲であると、製造時における塗布形成の際のピンホールの発生が防止され、未露光部の現像除去を、露光、硬化した領域に影響を与えることのない、適切な時間内で行なうことができる。
この態様における製造方法では、基板表面に、前記感光性樹脂組成物を塗布して感光層を形成するが、目的に応じて他の層を設けることもできる。任意に設けられる他の層としては、感光層の硬化反応における酸素による重合阻害を抑制するための酸素遮断性を有する保護層、層間の接着を向上させるための接着層、所望の領域に対する光透過性を抑制する光遮断層などが挙げられる。これらの層は、感光層を同様に塗布法により設けることもでき、また、シート状に予め成形された層をラミネート法により積層して設けることもできる。

次に、第２の態様である転写法を用いた感光層形成工程について説明する。この工程では、前記本発明の感光性樹脂組成物を用いて作製した感光性材料を用いる。ここで、感光性材料について説明する。
本発明の感光性材料は、感光性転写材料として機能するものであり、その構成は、特開平５−７２７２４号公報に記載の樹脂転写材料など、一体型に構成された転写用フィルムを用いて好適に形成することができ、一体型の転写用感光性材料の構成例としては、仮支持体上に、まず、１）熱可塑性樹脂層、その後、所望により中間層、さらに２）本発明の感光性樹脂組成物からなる感光層、さらに、所望により保護層を設けてなる積層構造を有する構成が好適である。

＜感光性材料＞
次に、フォトスペーサを製造するための、本発明の感光性材料の層構成について説明する。

−感光層−
本態様における感光層は、前記本発明の感光性樹脂組成物からなる層であり、これを適切な溶媒に、溶解又は分散させた感光性塗布液を、公知の塗布方法により塗布、乾燥させることにより好適に形成することができる。

感光性樹脂組成物の塗布は、前記塗布法において説明したように、公知の塗布法を適宜使用することができるが、本態様においても、液が吐出する部分にスリット状の穴を有するスリット状ノズルによる塗布が好ましい。スリット状ノズル及びスリットコーターについての詳細は既述の通りである。
感光性材料における感光層の層厚は、塗布法において述べたのと同様の理由により、０．５〜１０μｍが好ましく、１〜６μｍがより好ましい。

−熱可塑性樹脂層−
本発明の感光性材料（以下、「感光性転写材料」とも言う）は、前記感光層と仮支持体との間に、少なくとも一層の熱可塑性樹脂層を有する。
この熱可塑性樹脂層は、前記感光層を被転写材に転写する際に、被転写材（基板）上に存在する凹凸に起因して発生する転写不良を効果的に防止するクッション材としての機能を有し、感光性転写材料を被転写材に加熱圧着した際の被転写材上の凹凸に対応して変形し得、感光層と被転写材との密着性を高めることができる。
また、転写後は、現像により不要な（未硬化の）感光層とともに除去されるため、アルカリ現像が可能な熱可塑性樹脂を用いることが好ましい。また、転写時にはみ出した熱可塑性樹脂層自身による被転写体の汚染防止を抑制する観点からも、アルカリ可溶性樹脂を用いることが必要である。

熱可塑性樹脂層の層厚としては、０．１〜２０μｍが好ましい。層厚が前記範囲内であると、転写時の仮支持体からの剥離性に優れると共に、被転写材上の凹凸を吸収するのに効果的であり、感光層にレチキュレーションが発生し、転写不良を招来することもない。また、層厚は、より好ましくは１．５〜１６μｍであり、最も好ましくは５〜１５．０μｍの範囲である。
なお、レチキュレーションとは、吸湿等の原因で中間層が伸びた等の際に、柔軟なクッション層が坐屈して感光層の表面に細かい「しわ」が発生することをいい、転写不良の原因となる。

熱可塑性樹脂層は、少なくとも熱可塑性樹脂を用いて構成することができ、必要に応じて適宜他の成分を用いることができる。熱可塑性樹脂は、アルカリ可溶性を有するものであれば、特に制限はなく適宜選択することができるが、実質的な軟化点が８０℃以下であるものが好ましい。

実質的な軟化点が８０℃以下である熱可塑性樹脂としては、例えば、エチレンとアクリル酸エステル共重合体とのケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステルや、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等との（メタ）アクリル酸エステル共重合体等のケン化物、などが好適に挙げられ、また、「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）に記載の軟化点が約８０℃以下である有機高分子の内、アルカリ可溶性のものも挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

また、実質的な軟化点が８０℃以下であるものとして更に、それ自体が軟化点８０℃以上の有機高分子物質であっても、該有機高分子物質にこれと相溶性のある各種可塑剤を添加して実質的な軟化点が８０℃以下とされたものも挙げることができる。前記可塑剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート、などが挙げられる。

アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層には、前記熱可塑性樹脂以外に他の成分として、仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的に軟化点が８０℃を超えない範囲内で各種ポリマー、過冷却物質、密着改良剤、界面活性剤、離型剤等を添加することができる。

−中間層−
感光性転写材料には、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を防止する目的で、中間層を設けることが好ましい。特に、仮支持体上に設けられた前記熱可塑性樹脂層と前記感光層との間に設けることが好ましい。熱可塑性樹脂層と感光層との形成には有機溶剤が用いられるが、中間層を設けることで感光層の塗布時において隣接する両層の相溶による混合を防止できる。

中間層に用いる成分としては、水又はアルカリ水溶液に分散ないし溶解するものが好ましい。中間層の構成材料には公知のものを使用でき、例えば、特開昭４６−２１２１号公報及び特公昭５６−４０８２４号公報に記載のポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド類、水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種澱粉及びその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、などが挙げられる。
これらは、１種単独で用いる以外に２種以上を併用してもよい。

上記の中でも、水溶性樹脂、すなわち水溶性の高分子材料を使用するのが好ましく、この中でも少なくともポリビニルアルコールを使用するのがより好ましく、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの併用が特に好ましい。
前記ポリビニルアルコールとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、その鹸化度が８０ｍｏｌ％以上のものが好ましい。

ポリビニルピロリドンを使用する場合、その含有量は、中間層の固形分に対して、１〜７５体積％が好ましく、１〜６０体積％がより好ましく、１０〜５０体積％が特に好ましい。該含有量が前記範囲内であると、熱可塑性樹脂層との間で充分な密着性が得られ、酸素遮断能も良好である。

中間層は、酸素透過率が小さいことが好ましい。すなわち、酸素遮断機能のある酸素遮断膜で構成されるのが好ましく、露光時の感度がアップし、露光機の時間負荷を低減し得、生産性を向上させ得ると共に、解像度も向上する。

中間層の層厚としては、０．１〜５μｍ程度が好ましく、０．５〜２μｍがより好ましい。中間層の厚みが上記の範囲内であると、酸素遮断性を低下させることがなく、また、現像時の中間層除去時間が増大するのを防止することができる。

−仮支持体−
仮支持体としては、転写の支障とならない程度に前記熱可塑性樹脂層に対する剥離性を有するものが好ましく、化学的・熱的に安定で可撓性を有するものが好ましい。

仮支持体の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリ四フッ化エチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレンなどが挙げられる。

仮支持体の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、単層構造、積層構造のいずれであってもよい。また、仮支持体には、前記熱可塑性樹脂層との間に良好な剥離性を確保する観点から、グロー放電等の表面処理を行なわないことが好ましく、ゼラチン等の下塗り層も設けないことが好ましい。
仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍ程度が好ましく、２０〜１５０μｍが好ましい。

仮支持体としては、その少なくとも一方の表面に導電性層を有する、あるいは仮支持体自体が導電性を有することが好ましい。仮支持体がこのように導電性を有する構成であると、仮支持体を備えた感光性転写材料を被転写体上に密着させた後に仮支持体を剥離する場合に、該仮支持体や該被転写体等が帯電して周囲のゴミ等を引き寄せることがなく、その結果、該仮支持体を剥離した後も熱可塑性樹脂層上にゴミ等が付着せず、その後の露光過程で余分な未露光部ができることに伴うピンホールの形成を効果的に防止することができる。仮支持体上の導電性層又は導電性を有する仮支持体の表面における表面電気抵抗としては、１０^１３Ω以下が好ましい。

導電性を有する仮支持体は、該仮支持体中に導電性物質を含有することで得られる。導電性物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、金属酸化物、帯電防止剤などが挙げられる。
前記金属酸化物としては、例えば、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化バリウム、酸化モリブデンなどが挙げられる。これらは１種単独で用いる以外に２種以上を併用してもよい。また、金属酸化物の形態としては、結晶微粒子、複合微粒子などが挙げられる。

前記帯電防止剤としては、例えば、エレクトロストリッパーＡ（花王（株）製）、エレノンＮｏ．１９（第一工業製薬（株）製）等のアルキル燐酸塩系アニオン界面活性剤、アモーゲンＫ（第一工業製薬（株）製）等のベタイン系両性界面活性剤、ニッサンノニオンＬ（日本油脂（株）製）等のポリオキシエチレン脂肪酸エステル系非イオン界面活性剤、エマルゲン１０６、同１２０、同１４７、同４２０、同２２０、同９０５、同９１０（花王（株）製）やニッサンノニオンＥ（日本油脂（株）製）等のポリオキシエチレンアルキルエーテル系非イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル系、多価アルコール脂肪酸エステル系、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル系、ポリオキシエチレンアルキルアミン系等のその他の非イオン系界面活性剤が挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記導電性層は、公知の導電性物質を用いた構成の中から適宜選択して形成することができ、該導電性物質としては、湿度環境に影響されず安定した導電効果が得られる点で、例えば、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＳｎＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ_３などが好ましい。これらは、１種単独で用いる以外に２種以上を併用してもよい。

前記金属酸化物又は前記導電性物質の体積抵抗値としては、１０^７Ω・ｃｍ以下が好ましく、１０^５Ω・ｃｍ以下がより好ましい。また、前記金属酸化物又は前記導電性物質の粒子径としては、０．０１〜０．７μｍが好ましく、０．０２〜０．５μｍがより好ましい。

前記導電性層には、バインダーとして、例えば、ゼラチン、セルロースナイトレート、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル、塩化ビニリデン、塩化ビニル、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、炭素数１〜４のアルキルアクリレート、ビニルピロリドン等を含むホモポリマー又はコポリマー、可溶性ポリエステル、ポリカーボネート、可溶性ポリアミド、などを使用することができる。

上記以外に、感光性転写材料には、その他の層として保護フィルムなどを更に設けることができる。
保護フィルムは、保管等の際に汚れや損傷等から感光層を保護する機能を有し、仮支持体と同一又は類似の材料で構成することができる。保護フィルムとしては、感光層から容易に剥離可能なものであればよく、例えば、シリコン紙、ポリオレフィンシート、ポリテトラフルオロエチレンシート等が好適に挙げられる。これらの中でも、ポリエチレンシートないしフィルム、ポリプロピレンシートないしフィルムが好ましい。保護フィルムの厚みとしては、５〜１００μｍ程度が好ましく、１０〜３０μｍがより好ましい。

感光性転写材料は、仮支持体上に、熱可塑性の有機高分子（熱可塑性樹脂）と共に添加剤を溶解した溶解液（熱可塑性樹脂層用塗布液）を塗布し、乾燥させて熱可塑性樹脂層を設けた後、この熱可塑性樹脂層上に熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤に樹脂や添加剤を加えて調製した調製液（中間層用塗布液）を塗布し、乾燥させて中間層を積層し、この中間層上に更に、中間層を溶解しない溶剤を用いて既述のように調製した感光性樹脂組成物を塗布し、乾燥させて感光層を積層することによって、好適に作製することができる。

上記による以外に、仮支持体上に該仮支持体側から順に熱可塑性樹脂層及び中間層を設けた第１シートと、保護フィルム上に感光層を設けた第２シートとを用意し、第１シートの中間層表面と第２シートの感光層の表面とが接するように貼り合せることによって作製することもできる。また更に、仮支持体上に熱可塑性樹脂層を設けた第１シートと、保護フィルム上に該保護フィルム側から順に感光層及び中間層を設けた第２シートとを用意し、第２シートの中間層表面と第１シートの熱可塑性樹脂層の表面とが接するように貼り合せることによって作製することもできる。

次に、このような感光性転写材料を用いて、基板表面に感光層を形成する方法について説明する。
転写法による感光層形成工程は、感光性転写材料を、仮支持体とは反対側の面と基板とを当接して基板上に積層し、仮支持体を剥離して基板表面に感光層を転写する工程である。
仮支持体上に膜状に形成された感光層を、表面に保護フィルムを有する場合には、それを剥離して、露出した感光層の表面を被転写材である基板面と当接し、その後、加熱及び／又は加圧したローラー又は平板で圧着又は加熱圧着することによって貼り合せた後、仮支持体を剥離することで、感光性層を基板上に転写する。貼り合わせは、公知のラミネーター（真空ラミネーターなど）を用いて好適に行なうことができ、より生産性を高める観点からは、オートカットラミネーターが好適である。
具体的には、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネーター及びラミネート方法などを適用することができ、異物混入防止の観点からは、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。

感光層を転写法により形成する場合の層厚も、塗布法による場合と同様である。この膜厚は、転写用の感光性材料を調製する際に決定されるため、２）感光性樹脂組成物からなる感光層の形成時に所望の膜厚にて形成すればよい。

感光性層を形成する基板としては、例えば、透明基板（例えばガラス基板やプラスチックス基板）、透明導電膜（例えばＩＴＯ膜）付基板、カラーフィルタ付きの基板（カラーフィルタ基板ともいう。）、駆動素子（例えば薄膜トランジスタ［ＴＦＴ］）付駆動基板、などが挙げられる。基板の厚みとしては、カラーフィルタの使用目的に応じて適宜選択されるが、一般には、７００〜１２００μｍの範囲にあるものが好ましい。
また、基板は、予めカップリング処理を施しておくことにより、感光性樹脂組成物、又は感光性材料の感光層との間の密着を良好にすることができる。カップリング処理としては、特開２０００−３９０３３公報に記載の方法が好適に用いられる。

感光層を形成した後、露光による硬化感度を向上させる目的で、感光層上に、さらに酸素遮断膜性の保護層を設けることができる。該酸素遮断膜としては、前記転写用の感光性材料の中間層の項において説明した構成と同様とすることができる。酸素遮断膜の膜厚としては、０．５〜３．０μｍが好ましい。

［露光工程］
前記感光層形成工程において形成した感光層にパターン露光を行うことで、露光領域が硬化され、この工程、及び、引き続き行われる現像工程によりパターンが形成され、スペーサを所望により形成することができる。本発明における露光工程は、二次元上に並んだ空間光変調デバイスを用いて画像データに基づいて３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲内にある単色光又は輝線を変調しながら相対走査することで二次元画像の形成を行う露光方式により実施される。
以下、本発明に係る露光工程に好適に使用しうる露光方式及びそれに用いる露光装置について説明する。

本発明の露光は、マスクパターンを用いることなく、レーザダイレクトイメージングシステムに代表される如き走査露光を行うため、マスクレス露光とも呼ばれることがある。本発明に適用されるマスクレス露光は、より詳しくは、画像データに基づいて光を変調しながら相対走査することで二次元画像の形成を行う露光ということができる。

（光源の説明）
本発明における露光方式では、光源として超高圧水銀灯や、レーザーが用いられる。
超高圧水銀灯とは、石英ガラスチューブなどに水銀を封入した放電灯であり水銀の蒸気圧を高く設定して発光効率を高めたものである（点灯時の水銀の蒸気圧はおよそ５ＭＰａになるものもある Ｗ． Ｅｌｅｎｂａａｓ ： Ｌｉｇｈｔ Ｓｏｕｒｃｅｓ 、Ｐｈｉｌｉｐｓ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｌｉｂｒａｒｙ １４８−１５０）。輝線スペクトルのうち、ｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）が用いられ、なかでも波長３６５ｎｍのｉ線が主として用いられる。

レーザーは、英語のＬｉｇｈｔ Ａｍｐｌｉｆｉｃａｔｉｏｎ ｂｙ Ｓｔｉｍｕｌａｔｅｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ ｏｆ Ｒａｄｉａｔｉｏｎ（誘導放出による光の増幅）の頭字語である。反転分布を持った物質中で起きる誘導放出の現象を利用し、光波の増幅、発振によって干渉性と指向性が一層強い単色光を作り出す発振器及び増幅器。励起媒質として結晶、ガラス、液体、色素、気体などあり、これらの媒質から固体レーザー（ＹＡＧレーザー）、液体レーザー、気体レーザー（アルゴンレーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、炭酸ガスレーザー、エキシマレーザー）、半導体レーザーなどの公知のレーザーを用いることができる。

半導体レーザーは、搬送子の注入、電子ビームによる励起、衝突によるイオン化、光励起などによって電子と正孔とが接合部に流出する時、ｐｎ接合で可干渉光を誘導放出するような発光ダイオードを用いるレーザーである。この放出される可干渉光の波長は、半導体化合物によって決まる。
レーザーの波長は、３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲から選択される。
半導体励起固体レーザーでは３５５ｎｍが挙げられ、従来のレジスト用光重合開始剤が感度を有すという点で３５５ｎｍが好ましく選ばれる。
これらの光源の中で、表示装置の製造工程で、感光性材料を露光する場合を考えると、露光波長が、４１０ｎｍとなる光源を選択することが、表示領域の透過率を高くする観点で好ましい。

本発明の光を変調しながら相対走査する方法について説明する。
そのひとつの代表的な方法は、ＤＭＤ（デジタル・マイクロミラー・デバイス、例えば、１９８７年、米国テキサス・インスツルメンツのラリー・ホーンベック博士他が開発した光半導体）のような、微小なミラーが二次元に並んだ空間変調素子を用いる方法である。
この場合、光源からの光は、適切な光学系によってＤＭＤ上に照射され、ＤＭＤに二次元に並んだ各ミラーからの反射光が、別の光学系などを経て、感光層上に、二次元に並んだ光点の像を形成する。このままでは光点と光点の間は露光されないが、前記二次元に並んだ光点の像を、二次元の並び方向に対して、やや傾いた方向に移動させると、最初の列の光点と光点の間を、後方の列の光点が露光する、という形で、感光層の全面を露光することができる。ＤＭＤの各ミラーの角度を制御し、前記光点をＯＮ−ＯＦＦする事で、画像パターンを形成することができる。このようなＤＭＤを有す露光ヘッドを並べて用いることで色々な幅の基板に対応することができる。
前記ＤＭＤでは、前記光点の輝度は、ＯＮかＯＦＦの２階調しかないが、ミラー階調型空間変調素子を用いると、２５６階調の露光を行うことができる。

一方、本発明の光を変調しながら相対走査する方法の、別の代表的な方法は、ポリゴンミラーを用いる方法である。ポリゴンミラー（ｐｏｌｙｇｏｎ ｍｉｒｒｏｒ）とは、周囲に一連の平面反射面を持った回転部材の事。感光層上に光源からの光を反射して照射するが、反射光の光点は、該平面鏡の回転によって走査される。この走査方向に対して直角に基板を移動させることで、基板上の感光層の全面を露光することができる。光源からの光の強度を適切な方法でＯＮ−ＯＦＦまたは、中間調に制御することで、画像パターンを形成することができる。光源からの光を複数本とすることで、走査時間を短縮することができる。

本発明に採用される、光を変調しながら相対走査する方法としては、例えば、以下の方法も適用することができる。
特開平５−１５０１７５に記載のポリゴンミラーを用いて描画する例、特表２００４−５２３１０１（ＷＯ２００２／０３９７９３）に記載の下部レイヤの画像の一部を視覚的に取得し、ポリゴンミラーを用いた装置で上部レイヤの位置を下部レイヤ位置に揃えて露光する例、特開２００４−５６０８０に記載のＤＭＤ有する露光する例、特表２００２−５２３９０５に記載のポリゴンミラー備えた露光装置、特開２００１−２５５６６１に記載のポリゴンミラー備えた露光装置、特開２００３−５０４６９に記載のＤＭＤ、ＬＤ、多重露光の組み合わせ例、特開２００３−１５６８５３に記載の基板の部位により露光量を変える露光方法の例、特開２００５−４３５７６に記載の位置ずれ調整を行う露光方法の例等である。

以下、相対走査露光について詳細に説明する。
（相対走査露光）
本発明の露光方法としては超高圧水銀灯を用いる方法とレーザーを用いる方法があるが、好ましいのは後者である。
本発明で用いられるレーザーとしてはアルゴンレーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、半導体レーザー、炭酸ガスレーザー、ＹＡＧレーザーなどの公知のレーザーを用いることができる。
レーザーの波長は、３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲から選択される。この中でも３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲が好ましい。
レーザーのビーム径は、特に限定されないが、中でも、フォトスペーサの解像度の観点から、ガウシアンビームの１／ｅ^２値で５〜３０μｍが好ましく、７〜２０μｍがより好ましい。
レーザービームのエネルギー量としては、特に限定されないが、中でも、露光時間と解像度の観点から、１〜１００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、５〜２０ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。
レーザーのスキャン速度は、カラーフィルタの表示特性を高品位にすることができ、かつ生産性も高いという条件を満たすものなら特に限定されないが、５ｍｍ／秒〜３０００ｍ／秒が好ましく、より好ましくは１０ｍｍ／秒〜２０００ｍ／秒、最も好ましくは１５ｍｍ／秒〜秒１０００ｍ／秒である。５ｍｍ／秒以下は、本発明が目指す生産性の高い露光システムにおいては露光ヘッド数を著しく増やす必要があり、好ましくない。また３０００ｍ／秒以上は、照度を著しく高めなければならず、実用的でない。

本発明ではレーザー光を画像データに応じて空間光変調することが必要である。この目的のため空間光変調素子であるデジタル・マイクロ・デバイスを用いることが好ましい。前記露光工程は、前記感光層に対し、光照射手段、及び光変調手段を備えた露光ヘッドであって、該露光ヘッドの走査方向に対し、前記描素部の列方向が所定の設定傾斜角度θをなすように配置された露光ヘッドを用い、前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部を指定し、前記露光ヘッドについて、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御を行い、前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光を行う工程である。

本発明において「Ｎ重露光」とは、前記感光層の被露光面上の露光領域の略すべての領域において、前記露光ヘッドの走査方向に平行な直線が、前記被露光面上に照射されたＮ本の光点列（画素列）と交わるような設定による露光を指す。ここで、「光点列（画素列）」とは、前記描素部により生成された描素単位としての光点（画素）の並びうち、前記露光ヘッドの走査方向となす角度がより小さい方向の並びを指すものとする。なお、前記描素部の配置は、必ずしも矩形格子状でなくてもよく、たとえば平行四辺形状の配置等であってもよい。
ここで、露光領域の「略すべての領域」と述べたのは、各描素部の両側縁部では、描素部列を傾斜させたことにより、前記露光ヘッドの走査方向に平行な直線と交わる使用描素部の描素部列の数が減るため、かかる場合に複数の露光ヘッドをつなぎ合わせるように使用したとしても、該露光ヘッドの取付角度や配置等の誤差により、走査方向に平行な直線と交わる使用描素部の描素部列の数がわずかに増減することがあるため、また、各使用描素部の描素部列間のつなぎの、解像度分以下のごくわずかな部分では、取付角度や描素部配置等の誤差により、走査方向と直交する方向に沿った描素部のピッチが他の部分の描素部のピッチと厳密に一致せず、走査方向に平行な直線と交わる使用描素部の描素部列の数が±１の範囲で増減することがあるためである。なお、以下の説明では、Ｎが２以上の自然数であるＮ重露光を総称して「多重露光」という。さらに、以下の説明では、本発明の露光装置又は露光方法を、描画装置又は描画方法として実施した形態について、「Ｎ重露光」及び「多重露光」に対応する用語として、「Ｎ重描画」及び「多重描画」という用語を用いるものとする。
前記Ｎ重露光のＮとしては、２以上の自然数であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３以上の自然数が好ましく、３以上７以下の自然数がより好ましい。

前記露光装置としては、例えば、下記の装置を用いて露光することができる。
以下にレーザー光を用いた３次元露光装置の一例を示すが、本発明における露光装置はこれに限定されるものではない。
露光ユニットは、図１に示すように、ガラス基板を表面に吸着して感光材料１５０を保持する平板状のステージ１５２を備えている。４本の脚部１５４に支持された厚い板状の設置台１５６の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド１５８が設置されている。ステージ１５２は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド１５８によって往復移動可能に支持されている。なお、この露光装置には、ステージ１５２をガイド１５８に沿って駆動するための図示しない駆動装置が設けられている。

設置台１５６の中央部には、ステージ１５２の移動経路を跨ぐようにコ字状のゲート１６０が設けられている。コ字状のゲート１６０の端部の各々は、設置台１５６の両側面に固定されている。このゲート１６０を挟んで一方の側にはスキャナ１６２が設けられ、他方の側には感光材料１５０の先端及び後端を検知する複数（例えば、２個）の検知センサ１６４が設けられている。スキャナ１６２及び検知センサ１６４はゲート１６０に各々取り付けられて、ステージ１５２の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ１６２及び検知センサ１６４は、これらを制御する図示しないコントローラに接続されている。

スキャナ１６２は、図２及び図３（Ｂ）に示すように、ｍ行ｎ列（例えば、３行５列）の略マトリックス状に配列された複数（例えば、１４個）の露光ヘッド１６６を備えている。この例では、感光材料１５０の幅との関係で、３行目には４個の露光ヘッド１６６を配置した。なお、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッドを示す場合は、露光ヘッド１６６_ｍｎと表記する。

露光ヘッド１６６による露光エリア１６８は、副走査方向を短辺とする矩形状である。従って、ステージ１５２の移動に伴い、感光材料１５０には露光ヘッド１６６毎に帯状の露光済み領域１７０が形成される。なお、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッドによる露光エリアを示す場合は、露光エリア１６８_ｍｎと表記する。

また、図３（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域１７０が副走査方向と直交する方向に隙間無く並ぶように、ライン状に配列された各行の露光ヘッドの各々は、配列方向に所定間隔（露光エリアの長辺の自然数倍、ここでは２倍）ずらして配置されている。このため、１行目の露光エリア１６８_１１と露光エリア１６８_１２との間の露光できない部分は、２行目の露光エリア１６８_２１と３行目の露光エリア１６８_３１とにより露光することができる。

露光ヘッド１６６_１１〜１６６_ｍｎ各々は、図４、図５（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、入射された光ビームを画像データに応じて各画素毎に変調する空間光変調素子として、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）５０を備えている。このＤＭＤ５０は、データ処理部とミラー駆動制御部とを備えた図示しないコントローラに接続されている。このコントローラのデータ処理部では、入力された画像データに基づいて、各露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０の制御すべき領域内の各マイクロミラーを駆動制御する制御信号を生成する。なお、制御すべき領域については後述する。また、ミラー駆動制御部では、画像データ処理部で生成した制御信号に基づいて、各露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０の各マイクロミラーの反射面の角度を制御する。なお、反射面の角度の制御に付いては後述する。

ＤＭＤ５０の光入射側には、光ファイバの出射端部（発光点）が露光エリア１６８の長辺方向と対応する方向に沿って一列に配列されたレーザー出射部を備えたファイバアレイ光源６６、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザー光を補正してＤＭＤ上に集光させるレンズ系６７、レンズ系６７を透過したレーザー光をＤＭＤ５０に向けて反射するミラー６９がこの順に配置されている。

レンズ系６７は、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザー光を平行光化する１対の組合せレンズ７１、平行光化されたレーザー光の光量分布が均一になるように補正する１対の組合せレンズ７３、及び光量分布が補正されたレーザー光をＤＭＤ上に集光する集光レンズ７５で構成されている。組合せレンズ７３は、レーザー出射端の配列方向に対しては、レンズの光軸に近い部分は光束を広げ且つ光軸から離れた部分は光束を縮め、且つこの配列方向と直交する方向に対しては光をそのまま通過させる機能を備えており、光量分布が均一となるようにレーザー光を補正する。

また、ＤＭＤ５０の光反射側には、ＤＭＤ５０で反射されたレーザー光を感光材料１５０の走査面（被露光面）５６上に結像するレンズ系５４、５８が配置されている。レンズ系５４及び５８は、ＤＭＤ５０と被露光面５６とが共役な関係となるように配置されている。

ＤＭＤ５０は、図６に示すように、ＳＲＡＭセル（メモリセル）６０上に、微小ミラー（マイクロミラー）６２が支柱により支持されて配置されたものであり、画素（ピクセル）を構成する多数の（例えば、１０２４個×７６８個）の微小ミラーを格子状に配列して構成されたミラーデバイスである。各ピクセルには、最上部に支柱に支えられたマイクロミラー６２が設けられており、マイクロミラー６２の表面にはアルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。なお、マイクロミラー６２の反射率は９０％以上である。また、マイクロミラー６２の直下には、ヒンジ及びヨークを含む支柱を介して通常の半導体メモリの製造ラインで製造されるシリコンゲートのＣＭＯＳのＳＲＡＭセル６０が配置されており、全体はモノリシック（一体型）に構成されている。

ＤＭＤ５０のＳＲＡＭセル６０にデジタル信号が書き込まれると、支柱に支えられたマイクロミラー６２が、対角線を中心としてＤＭＤ５０が配置された基板側に対して±α度（例えば±１０度）の範囲で傾けられる。図７（Ａ）は、マイクロミラー６２がオン状態である＋α度に傾いた状態を示し、図７（Ｂ）は、マイクロミラー６２がオフ状態である−α度に傾いた状態を示す。従って、画像信号に応じて、ＤＭＤ５０の各ピクセルにおけるマイクロミラー６２の傾きを、図６に示すように制御することによって、ＤＭＤ５０に入射された光はそれぞれのマイクロミラー６２の傾き方向へ反射される。

なお、図６には、ＤＭＤ５０の一部を拡大し、マイクロミラー６２が＋α度又は−α度に制御されている状態の一例を示す。それぞれのマイクロミラー６２のオンオフ制御は、ＤＭＤ５０に接続された図示しないコントローラによって行われる。なお、オフ状態のマイクロミラー６２により光ビームが反射される方向には、光吸収体（図示せず）が配置されている。

また、ＤＭＤ５０は、その短辺が副走査方向と所定角度θ（例えば、１°〜５°）をなすように僅かに傾斜させて配置するのが好ましい。図８（Ａ）はＤＭＤ５０を傾斜させない場合の各マイクロミラーによる反射光像（露光ビーム）５３の走査軌跡を示し、図８（Ｂ）はＤＭＤ５０を傾斜させた場合の露光ビーム５３の走査軌跡を示している。

ＤＭＤ５０には、長手方向にマイクロミラーが多数個（例えば、１０２４個）配列されたマイクロミラー列が、短手方向に多数組（例えば、７６８組）配列されているが、図８（Ｂ）に示すように、ＤＭＤ５０を傾斜させることにより、各マイクロミラーによる露光ビーム５３の走査軌跡（走査線）のピッチＰ_２が、ＤＭＤ５０を傾斜させない場合の走査線のピッチＰ_１より狭くなり、解像度を大幅に向上させることができる。一方、ＤＭＤ５０の傾斜角は微小であるので、ＤＭＤ５０を傾斜させた場合の走査幅Ｗ_２と、ＤＭＤ５０を傾斜させない場合の走査幅Ｗ_１とは略同一である。

また、異なるマイクロミラー列により同じ走査線上が重ねて露光（多重露光）されることになる。このように、多重露光されることで、露光位置の微少量をコントロールすることができ、高精細な露光を実現することができる。また、主走査方向に配列された複数の露光ヘッドの間のつなぎ目を微少量の露光位置制御により段差無くつなぐことができる。
なお、ＤＭＤ５０を傾斜させる代わりに、各マイクロミラー列を副走査方向と直交する方向に所定間隔ずらして千鳥状に配置しても、同様の効果を得ることができる。

ファイバアレイ光源６６は、図９（Ａ）に示すように、複数（例えば、６個）のレーザーモジュール６４を備えており、各レーザーモジュール６４には、マルチモード光ファイバ３０の一端が結合されている。マルチモード光ファイバ３０の他端には、コア径がマルチモード光ファイバ３０と同一で且つクラッド径がマルチモード光ファイバ３０より小さい光ファイバ３１が結合され、図９（Ｃ）に示すように、光ファイバ３１の出射端部（発光点）が副走査方向と直交する主走査方向に沿って１列に配列されてレーザー出射部６８が構成されている。なお、図９（Ｄ）に示すように、発光点を主走査方向に沿って２列に配列することもできる。

光ファイバ３１の出射端部は、図９（Ｂ）に示すように、表面が平坦な２枚の支持板６５に挟み込まれて固定されている。また、光ファイバ３１の光出射側には、光ファイバ３１の端面を保護するために、ガラス等の透明な保護板６３が配置されている。保護板６３は、光ファイバ３１の端面と密着させて配置してもよく、光ファイバ３１の端面が密封されるように配置してもよい。光ファイバ３１の出射端部は、光密度が高く集塵し易く劣化し易いが、保護板６３を配置することにより端面への塵埃の付着を防止することができると共に劣化を遅らせることができる。

ここでは、クラッド径が小さい光ファイバ３１の出射端を隙間無く１列に配列するために、クラッド径が大きい部分で隣接する２本のマルチモード光ファイバ３０の間にマルチモード光ファイバ３０を積み重ね、積み重ねられたマルチモード光ファイバ３０に結合された光ファイバ３１の出射端が、クラッド径が大きい部分で隣接する２本のマルチモード光ファイバ３０に結合された光ファイバ３１の２つの出射端の間に挟まれるように配列されている。

このような光ファイバは、例えば、図１０に示すように、クラッド径が大きいマルチモード光ファイバ３０のレーザー光出射側の先端部分に、長さ１〜３０ｃｍのクラッド径が小さい光ファイバ３１を同軸的に結合することにより得ることができる。２本の光ファイバは、光ファイバ３１の入射端面が、マルチモード光ファイバ３０の出射端面に、両光ファイバの中心軸が一致するように融着されて結合されている。上述した通り、光ファイバ３１のコア３１ａの径は、マルチモード光ファイバ３０のコア３０ａの径と同じ大きさである。

また、長さが短くクラッド径が大きい光ファイバにクラッド径が小さい光ファイバを融着させた短尺光ファイバを、フェルールや光コネクタ等を介してマルチモード光ファイバ３０の出射端に結合してもよい。コネクタ等を用いて着脱可能に結合することで、クラッド径が小さい光ファイバが破損した場合等に先端部分の交換が容易になり、露光ヘッドのメンテナンスに要するコストを低減できる。なお、以下では、光ファイバ３１を、マルチモード光ファイバ３０の出射端部と称する場合がある。

マルチモード光ファイバ３０及び光ファイバ３１としては、ステップインデックス型光ファイバ、グレーテッドインデックス型光ファイバ、及び複合型光ファイバの何れでもよい。例えば、三菱電線工業（株）製のステップインデックス型光ファイバを用いることができる。ここでは、マルチモード光ファイバ３０及び光ファイバ３１は、ステップインデックス型光ファイバであり、マルチモード光ファイバ３０は、クラッド径＝１２５μｍ、コア径＝２５μｍ、ＮＡ＝０．２、入射端面コートの透過率＝９９．５％以上であり、光ファイバ３１は、クラッド径＝６０μｍ、コア径＝２５μｍ、ＮＡ＝０．２である。

一般に、赤外領域のレーザー光では、光ファイバのクラッド径を小さくすると伝搬損失が増加する。このため、レーザー光の波長帯域に応じて好適なクラッド径が決定されている。しかしながら、波長が短いほど伝搬損失は少なくなり、ＧａＮ系半導体レーザーから出射された波長４０５ｎｍのレーザー光では、クラッドの厚み｛（クラッド径−コア径）／２｝を８００ｎｍの波長帯域の赤外光を伝搬させる場合の１／２程度、通信用の１．５μｍの波長帯域の赤外光を伝搬させる場合の約１／４にしても、伝搬損失は殆ど増加しない。従って、クラッド径を６０μｍと小さくすることができる。

但し、光ファイバ３１のクラッド径は６０μｍには限定されない。従来のファイバ光源に使用されている光ファイバのクラッド径は１２５μｍであるが、クラッド径が小さくなるほど焦点深度がより深くなるので、マルチモード光ファイバのクラッド径は８０μｍ以下が好ましく、６０μｍ以下がより好ましく、４０μｍ以下が更に好ましい。一方、コア径は少なくとも３〜４μｍ必要であることから、光ファイバ３１のクラッド径は１０μｍ以上が好ましい。

レーザーモジュール６４は、図１１に示す合波レーザー光源（ファイバ光源）によって構成されている。この合波レーザー光源は、ヒートブロック１０上に配列固定された複数（例えば、７個）のチップ状の横マルチモード又はシングルモードのＧａＮ系半導体レーザーＬＤ１，ＬＤ２，ＬＤ３，ＬＤ４，ＬＤ５，ＬＤ６，及びＬＤ７と、ＧａＮ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７の各々に対応して設けられたコリメータレンズ１１，１２，１３，１４，１５，１６，及び１７と、１つの集光レンズ２０と、１本のマルチモード光ファイバ３０と、から構成されている。なお、半導体レーザーの個数は７個には限定されない。例えば、クラッド径＝６０μｍ、コア径＝５０μｍ、ＮＡ＝０．２のマルチモード光ファイバには、２０個もの半導体レーザー光を入射することが可能であり、露光ヘッドの必要光量を実現して、且つ光ファイバ本数をより減らすことができる。

ＧａＮ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７は、発振波長が総て共通（例えば、４０５ｎｍ）であり、最大出力も総て共通（例えば、マルチモードレーザでは１００ｍＷ、シングルモードレーザーでは３０ｍＷ）である。なお、ＧａＮ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７としては、３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲で、上記の４０５ｎｍ以外の発振波長を備えるレーザーを用いてもよい。

上記の合波レーザー光源は、図１２及び図１３に示すように、他の光学要素と共に、上方が開口した箱状のパッケージ４０内に収納されている。パッケージ４０は、その開口を閉じるように作成されたパッケージ蓋４１を備えており、脱気処理後に封止ガスを導入し、パッケージ４０の開口をパッケージ蓋４１で閉じることにより、パッケージ４０とパッケージ蓋４１とにより形成される閉空間（封止空間）内に上記合波レーザー光源が気密封止されている。

パッケージ４０の底面にはベース板４２が固定されており、このベース板４２の上面には、前記ヒートブロック１０と、集光レンズ２０を保持する集光レンズホルダー４５と、マルチモード光ファイバ３０の入射端部を保持するファイバホルダー４６とが取り付けられている。マルチモード光ファイバ３０の出射端部は、パッケージ４０の壁面に形成された開口からパッケージ外に引き出されている。

また、ヒートブロック１０の側面にはコリメータレンズホルダー４４が取り付けられており、コリメータレンズ１１〜１７が保持されている。パッケージ４０の横壁面には開口が形成され、この開口を通してＧａＮ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７に駆動電流を供給する配線４７がパッケージ外に引き出されている。

なお、図１３においては、図の煩雑化を避けるために、複数のＧａＮ系半導体レーザーのうちＧａＮ系半導体レーザーＬＤ７にのみ番号を付し、複数のコリメータレンズのうちコリメータレンズ１７にのみ番号を付している。

図１４は、上記コリメータレンズ１１〜１７の取り付け部分の正面形状を示すものである。コリメータレンズ１１〜１７の各々は、非球面を備えた円形レンズの光軸を含む領域を平行な平面で細長く切り取った形状に形成されている。この細長形状のコリメータレンズは、例えば、樹脂又は光学ガラスをモールド成形することによって形成することができる。コリメータレンズ１１〜１７は、長さ方向がＧａＮ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７の発光点の配列方向（図１４の左右方向）と直交するように、上記発光点の配列方向に密接配置されている。

一方、ＧａＮ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７としては、発光幅が２μｍの活性層を備え、活性層と平行な方向、直角な方向の拡がり角が各々例えば１０°、３０°の状態で各々レーザービームＢ１〜Ｂ７を発するレーザーが用いられている。これらＧａＮ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７は、活性層と平行な方向に発光点が１列に並ぶように配設されている。

従って、各発光点から発せられたレーザービームＢ１〜Ｂ７は、上述のように細長形状の各コリメータレンズ１１〜１７に対して、拡がり角度が大きい方向が長さ方向と一致し、拡がり角度が小さい方向が幅方向（長さ方向と直交する方向）と一致する状態で入射することになる。つまり、各コリメータレンズ１１〜１７の幅が１．１ｍｍ、長さが４．６ｍｍであり、それらに入射するレーザービームＢ１〜Ｂ７の水平方向、垂直方向のビーム径は各々０．９ｍｍ、２．６ｍｍである。また、コリメータレンズ１１〜１７の各々は、焦点距離ｆ_１＝３ｍｍ、ＮＡ＝０．６、レンズ配置ピッチ＝１．２５ｍｍである。

集光レンズ２０は、非球面を備えた円形レンズの光軸を含む領域を平行な平面で細長く切り取って、コリメータレンズ１１〜１７の配列方向、つまり水平方向に長く、それと直角な方向に短い形状に形成されている。この集光レンズ２０は、焦点距離ｆ_２＝２３ｍｍ、ＮＡ＝０．２である。この集光レンズ２０も、例えば、樹脂又は光学ガラスをモールド成形することにより形成される。

次に、上記露光装置の動作について説明する。
スキャナ１６２の各露光ヘッド１６６において、ファイバアレイ光源６６の合波レーザー光源を構成するＧａＮ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７の各々から発散光状態で出射したレーザービームＢ１，Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４，Ｂ５，Ｂ６，及びＢ７の各々は、対応するコリメータレンズ１１〜１７によって平行光化される。平行光化されたレーザービームＢ１〜Ｂ７は、集光レンズ２０によって集光され、マルチモード光ファイバ３０のコア３０ａの入射端面に収束する。

ここでは、コリメータレンズ１１〜１７及び集光レンズ２０によって集光光学系が構成され、その集光光学系とマルチモード光ファイバ３０とによって合波光学系が構成されている。即ち、集光レンズ２０によって上述のように集光されたレーザービームＢ１〜Ｂ７が、このマルチモード光ファイバ３０のコア３０ａに入射して光ファイバ内を伝搬し、１本のレーザービームＢに合波されてマルチモード光ファイバ３０の出射端部に結合された光ファイバ３１から出射する。

各レーザーモジュールにおいて、レーザービームＢ１〜Ｂ７のマルチモード光ファイバ３０への結合効率が０．８５で、ＧａＮ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７の各出力が３０ｍＷの場合には、アレイ状に配列された光ファイバ３１の各々について、出力１８０ｍＷ（＝３０ｍＷ×０．８５×７）の合波レーザービームＢを得ることができる。従って、６本の光ファイバ３１がアレイ状に配列されたレーザー出射部６８での出力は約１Ｗ（＝１８０ｍＷ×６）である。

ファイバアレイ光源６６のレーザー出射部６８には、この通り高輝度の発光点が主走査方向に沿って一列に配列されている。単一の半導体レーザーからのレーザー光を１本の光ファイバに結合させる従来のファイバ光源は低出力であるため、多数列配列しなければ所望の出力を得ることができなかったが、合波レーザー光源は高出力であるため、少数列、例えば１列でも所望の出力を得ることができる。

例えば、半導体レーザーと光ファイバを１対１で結合させた従来のファイバ光源では、通常、半導体レーザーとしては出力３０ｍＷ（ミリワット）程度のレーザーが使用され、光ファイバとしてはコア径５０μｍ、クラッド径１２５μｍ、ＮＡ（開口数）０．２のマルチモード光ファイバが使用されているので、約１Ｗ（ワット）の出力を得ようとすれば、マルチモード光ファイバを４８本（８×６）束ねなければならず、発光領域の面積は０．６２ｍｍ^２（０．６７５ｍｍ×０．９２５ｍｍ）であるから、レーザー出射部６８での輝度は１．６×１０^６（Ｗ／ｍ^２）、光ファイバ１本当りの輝度は３．２×１０^６（Ｗ／ｍ^２）である。

これに対して上述した通り、マルチモード光ファイバ６本で約１Ｗの出力を得ることができ、レーザー出射部６８での発光領域の面積は０．００８１ｍｍ^２（０．３２５ｍｍ×０．０２５ｍｍ）であるから、レーザー出射部６８での輝度は１２３×１０^６（Ｗ／ｍ^２）となり、従来に比べ約８０倍の高輝度化を図ることができる。また、光ファイバ１本当りの輝度は９０×１０^６（Ｗ／ｍ^２）であり、従来に比べ約２８倍の高輝度化を図ることができる。

ここで、図１５（Ａ）及び（Ｂ）を参照して、露光ヘッドによる焦点深度の違いについて説明する。図１５（Ａ）において、露光ヘッドのバンドル状ファイバ光源の発光領域の副走査方向の径は０．６７５ｍｍであり、図１５（Ｂ）において、露光ヘッドのファイバアレイ光源の発光領域の副走査方向の径は０．０２５ｍｍである。図１５（Ａ）に示すように、この露光ヘッドでは、光源（バンドル状ファイバ光源）１の発光領域が大きいので、ＤＭＤ３へ入射する光束の角度が大きくなり、結果として走査面５へ入射する光束の角度が大きくなる。このため、集光方向（ピント方向のずれ）に対してビーム径が太りやすい。

一方、図１５（Ｂ）に示すように、この露光ヘッドでは、ファイバアレイ光源６６の発光領域の副走査方向の径が小さいので、レンズ系６７を通過してＤＭＤ５０へ入射する光束の角度が小さくなり、結果として走査面５６へ入射する光束の角度が小さくなる。即ち、焦点深度が深くなる。この例では、発光領域の副走査方向の径は従来の約３０倍になっており、略回折限界に相当する焦点深度を得ることができる。従って、微小スポットの露光に好適である。この焦点深度への効果は、露光ヘッドの必要光量が大きいほど顕著であり、有効である。この例では、露光面に投影された１画素サイズは１０μｍ×１０μｍである。なお、ＤＭＤは反射型の空間変調素子であるが、図１５（Ａ）及び（Ｂ）は、光学的な関係を説明するために展開図とした。

露光パターンに応じた画像データが、ＤＭＤ５０に接続された図示しないコントローラに入力され、コントローラ内のフレームメモリに一旦記憶される。この画像データは、画像を構成する各画素の濃度を２値（ドットの記録の有無）で表したデータである。

感光材料１５０を表面に吸着したステージ１５２は、図示しない駆動装置により、ガイド１５８に沿ってゲート１６０の上流側から下流側に一定速度で移動される。ステージ１５２がゲート１６０下を通過する際に、ゲート１６０に取り付けられた検知センサ１６４により感光材料１５０の先端が検出されると、フレームメモリに記憶された画像データが複数ライン分ずつ順次読み出され、データ処理部で読み出された画像データに基づいて各露光ヘッド１６６毎に制御信号が生成される。そして、ミラー駆動制御部により、生成された制御信号に基づいて各露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０のマイクロミラーの各々がオンオフ制御される。

ファイバアレイ光源６６からＤＭＤ５０にレーザー光が照射されると、ＤＭＤ５０のマイクロミラーがオン状態のときに反射されたレーザー光は、レンズ系５４、５８により感光材料１５０の被露光面５６上に結像される。このようにして、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザー光が画素毎にオンオフされて、感光材料１５０がＤＭＤ５０の使用画素数と略同数の画素単位（露光エリア１６８）で露光される。また、感光材料１５０がステージ１５２と共に一定速度で移動されることにより、感光材料１５０がスキャナ１６２によりステージ移動方向と反対の方向に副走査され、各露光ヘッド１６６毎に帯状の露光済み領域１７０が形成される。

図１６（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、ＤＭＤ５０には、主走査方向にマイクロミラーが１０２４個配列されたマイクロミラー列が、副走査方向に７６８組配列されているが、ここではコントローラにより一部のマイクロミラー列（例えば、１０２４個×１２８列）だけが駆動されるように制御する。

図１６（Ａ）に示すように、ＤＭＤ５０の中央部に配置されたマイクロミラー列を使用してもよく、図１６（Ｂ）に示すように、ＤＭＤ５０の端部に配置されたマイクロミラー列を使用してもよい。また、一部のマイクロミラーに欠陥が発生した場合は、欠陥が発生していないマイクロミラー列を使用するなど、状況に応じて使用するマイクロミラー列を適宜変更してもよい。

ＤＭＤ５０のデータ処理速度には限界があり、使用する画素数に比例して１ライン当りの変調速度が決定されるので、一部のマイクロミラー列だけを使用することで１ライン当りの変調速度が速くなる。一方、連続的に露光ヘッドを露光面に対して相対移動させる露光方式の場合には、副走査方向の画素を全部使用する必要はない。

例えば、７６８組のマイクロミラー列の内、３８４組だけ使用する場合には、７６８組全部使用する場合と比較すると１ライン当り２倍速く変調することができる。また、７６８組のマイクロミラー列の内、２５６組だけ使用する場合には、７６８組全部使用する場合と比較すると１ライン当り３倍速く変調することができる。即ち、副走査方向に５００ｍｍの領域を１７秒で露光できる。更に、１２８組だけ使用する場合には、１ライン当り６倍速く変調することができる。即ち、副走査方向に５００ｍｍの領域を９秒で露光できる。

使用するマイクロミラー列の数、即ち、副走査方向に配列されたマイクロミラーの個数は、１０以上で且つ２００以下が好ましく、１０以上で且つ１００以下がより好ましい。１画素に相当するマイクロミラー１個当りの面積は１５μｍ×１５μｍであるから、ＤＭＤ５０の使用領域に換算すると、１２ｍｍ×１５０μｍ以上で且つ１２ｍｍ×３ｍｍ以下の領域が好ましく、１２ｍｍ×１５０μｍ以上で且つ１２ｍｍ×１．５ｍｍ以下の領域がより好ましい。

使用するマイクロミラー列の数が上記範囲にあれば、図１７（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザー光をレンズ系６７で略平行光化して、ＤＭＤ５０に照射することができる。ＤＭＤ５０によりレーザー光を照射する照射領域は、ＤＭＤ５０の使用領域と一致することが好ましい。照射領域が使用領域よりも広いとレーザー光の利用効率が低下する。

一方、ＤＭＤ５０上に集光させる光ビームの副走査方向の径を、レンズ系６７により副走査方向に配列されたマイクロミラーの個数に応じて小さくする必要があるが、使用するマイクロミラー列の数が１０未満であると、ＤＭＤ５０に入射する光束の角度が大きくなり、走査面５６における光ビームの焦点深度が浅くなるので好ましくない。また、使用するマイクロミラー列の数が２００以下が変調速度の観点から好ましい。なお、ＤＭＤは反射型の空間変調素子であるが、図１７（Ａ）及び（Ｂ）は、光学的な関係を説明するために展開図とした。

スキャナ１６２による感光材料１５０の副走査が終了し、検知センサ１６４で感光材料１５０の後端が検出されると、ステージ１５２は、図示しない駆動装置により、ガイド１５８に沿ってゲート１６０の最上流側にある原点に復帰し、再度、ガイド１５８に沿ってゲート１６０の上流側から下流側に一定速度で移動される。

以上説明した通り、露光ユニット（露光装置）は、主走査方向にマイクロミラーが１０２４個配列されたマイクロミラー列が、副走査方向に７６８組配列されたＤＭＤを備えているが、コントローラにより一部のマイクロミラー列だけが駆動されるように制御するので、全部のマイクロミラー列を駆動する場合に比べて、１ライン当りの変調速度が速くなる。これにより高速での露光が可能になる。

このような装置を用いることでパターン状に露光を行った後、現像処理して、未露光部、即ち、未硬化の感光層を現像により除去してパターンが形成される。前記転写法により感光層を形成した場合には、感光層表面に存在する熱可塑性樹脂層を、或いは、さらに中間層がある場合には熱可塑性樹脂層と中間層とを、感光層における可溶性の領域（未露光部領域）とともに除去する。このことで、基板表面に硬化樹脂によるパターン状の構造体が形成される。

（現像工程）
現像は、公知のアルカリ現像方法にしたがって行なうことができ、例えば、溶剤若しくは水性の現像液、特にアルカリ水溶液（アルカリ現像液）等を用いて、露光後の感光性転写材料を、現像液を収容した現像浴中に浸漬させるか、感光性転写材料に対してスプレー等で噴霧する等すると共に、更に回転ブラシ、湿潤スポンジ等で擦ったり、超音波を照射させながら処理する等により行なうことができる。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。また、現像後には、水洗処理を行なうのが好ましい。

現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディプ現像等、公知の方法を用いることができる。
シャワー現像による場合、露光後の感光層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。なお、現像前に予め、感光層の溶解性が低いアルカリ水溶液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層などを除去しておくことが好ましい。

なお、露光後の現像や不要部分の除去の過程において、感光層及び熱可塑性樹脂層や中間層の溶解に用いるアルカリ性水溶液としては、例えば、アルカリ性物質の希薄水溶液が好ましく、更に水混和性のある有機溶剤を少量添加したものも好ましい。
アルカリ性物質には、特に制限はなく目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩類、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のアルカリ金属ケイ酸塩類、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム等のアルカリ金属メタケイ酸塩類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のテトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類又は燐酸三ナトリウムなどが挙げられる。これらは、１種単独で用いる以外に２種以上を併用してもよい。
アルカリ性水溶液としては、アルカリ性物質の濃度が０．０１〜３０質量％であるのが好ましく、ｐＨが８〜１４であるのが好ましい。

現像槽中にはローラーコンベアなどが設置され、基板は水平に移動する。前記ローラーコンベアの傷を防止する意味で、感光層は基板の上面に形成されるのが好ましい。基板サイズが１メートルを超える場合は、基板を水平に搬送すると、基板中央付近に現像液が滞留し、基板中央と周辺部分での現像の差が問題となる。これを回避するため、基板は斜めに傾斜させるのが望ましい。傾斜角度は、５°から３０°が好ましい。
また、現像前に純水を噴霧し、感光層を湿らせておくと均一な現像結果となり好ましい。
また、現像後は、基板にエアを軽く吹きつけ、余分な液を略除去した上で、シャワー水洗を実施すると、より均一な現像結果となる。また水洗の前に、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて３から１０ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行うと、残渣の無い高品質の像が得られる。基板に水滴が付着したまま後工程へ搬送すると、工程を汚したり、基板にシミが残ったりするので、エアーナイフにて水切りを行い余分な水や水滴を除去するのが好ましい。

（ポスト露光）
現像と熱処理の間に、ポスト露光を実施すると、画像の断面形状のコントロール、画像の硬度のコントロール、画像の表面凹凸のコントロール、画像の膜減りのコントロールなどの観点で好ましい。ポスト露光に用いる光源としては、特開２００５−３８６１号公報の段落番号００７４に記載の超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。ポスト露光は、超高圧水銀灯やメタルハライド等の光源からの光を露光マスクなどを介さず直接基板に照射する事が、設備の簡素化と省電力の観点で好ましい。必要に応じて、両面から実施する。また、露光量も、上面：１００から２０００ｍＪ／平方センチメートル、下面：１００から２０００ｍＪ／平方センチメートルの範囲で、上記コントロール目的に応じ、適宜調整する。

前記水混和性のある有機溶剤は、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドンなどが挙げられる。水混和性を有する有機溶剤の添加量は、０．１〜３０質量％が好ましい。

なお、アルカリ性水溶液には、公知の種々の界面活性剤を添加することができ、該界面活性剤を添加する場合の添加量は、０．０１〜１０質量％であるのが好ましい。

［熱処理工程］
前記工程によりパターニングされた感光層には、硬化領域の重合、或いは、架橋反応を促進させ、パターンの強度を向上させる目的で、架橋反応率が８６〜１００％となるように加熱処理する熱処理工程を施すことができる。本工程により、層中の樹脂部分（高分子物質やモノマー、オリゴマー等の重合性モノマーなど）の架橋性基の架橋を促進させて硬い膜とする。このとき、加熱温度、加熱時間を調整することにより、架橋反応率が８６〜１００％の範囲となるように調整することができる。
前記架橋反応率としては、９０〜１００％がより好ましく、最も好ましくは９５〜１００％である。

加熱温度、加熱時間は、熱処理による黄ばみの発生が少なく、かつ生産タクトを落さないように、高めの温度で短めの時間に設定して行なうことができる。
熱処理の温度は、１５０℃から２５０℃の範囲が好ましい。１５０℃以下では硬度が不十分となり、２５０℃以上では樹脂が着色することがある。熱処理の時間は、１０分から１５０分が好ましい。１０分未満では、硬度が不足し、１５０分以上では、樹脂が着色することがある。
以上により、高強度で、塑性変形した際の変形回復性に優れたパターンを形成することができる。このようなパターンは、フォトスペーサの形成に有用である。

フォトスペーサを作製するには、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、バインダーを含有する感光性樹脂組成物で構成された感光層を有する感光性材料を用意し、その保護フィルムを取除いて露出した感光層の表面を基板面に重ね合せてラミネートして貼り合わせ、仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離除去することにより基板上に感光層を転写する（感光層形成工程）。その後、感光層に対して、熱可塑性樹脂層及び中間層を介して所定のマスクを通して露光を行ない、感光層の未露光部をアルカリ性水溶液を用いて現像除去し、スペーサーパターンを形成する（パターニング工程）。形成されたスペーサーパターンに加熱処理を施して架橋反応率が８６〜１００％となるように露光部を硬化させる（熱処理工程）ことによって、フォトスペーサーを得ることができる。

＜液晶表示装置＞
本発明の液晶表示装置は、前記本発明のスペーサ付き基板の製造方法により得られたスペーサ付き基板を有するものである。液晶表示装置の１つとして、少なくとも一方が光透過性の一対の基板（本発明のスペーサ付き基板を含む。）間に液晶層と液晶駆動手段（単純マトリックス駆動方式及びアクティブマトリックス駆動方式を含む。）とを少なくとも備えたものが挙げられる。

このスペーサ付き基板には、高さ均一で変形回復性に優れたフォトスペーサが設けられるため、該スペーサ付き基板を備えた液晶表示装置は、スペーサ付き基板と対向基板との間にセルギャップムラ（セル厚変動）の発生が抑えられ、色ムラ等の表示ムラの発生を効果的に防止することができる。これにより、作製された液晶表示装置は鮮やかな画像を表示できる。
本発明のスペーサ付き基板においては、フォトスペーサは、基板上に形成されたブラックマトリクス等の表示用遮光部の上やＴＦＴ等の駆動素子上に形成されることが好ましく、必要に応じてブラックマトリクス等の表示用遮光部やＴＦＴ等の駆動素子とフォトスペーサとの間にＩＴＯ等の透明導電層（透明電極）やポリイミド等の液晶配向膜が存在していてもよい。

例えば、フォトスペーサが表示用遮光部や駆動素子の上に設けられる場合、該基板に予め配設された表示用遮光部（ブラックマトリクスなど）や駆動素子を覆うようにして、例えば感光性転写材料の感光層を基板面にラミネートし、剥離転写して感光層を形成した後、これに露光、現像、加熱処理等を施してフォトスペーサを形成することによって、本発明のスペーサ付き基板（液晶表示装置用基板）を作製することができる。

また、液晶表示装置の別の態様として、少なくとも一方が光透過性の一対の基板（本発明のスペーサ付き基板を含む。）間に液晶層と液晶駆動手段とを少なくとも備え、前記液晶駆動手段がアクティブ素子（例えばＴＦＴ）を有し、かつ一対の基板間が高さ均一で変形回復性に優れたフォトスペーサにより所定幅に規制して構成されたものである。この場合も、本発明のスペーサ付き基板は、複数のＲＧＢ画素群を有し、該画素群を構成する各画素が互いにブラックマトリックスで離画されたカラーフィルタ基板として構成されている。

本発明において使用可能な液晶としては、ネマチック液晶、コレステリック液晶、スメクチック液晶、強誘電液晶が挙げられる。
また、前記スペーサ付き基板はカラーフィルタとして着色画素を有することが好ましく、前記画素群は、互いに異なる色を呈する２色の画素からなるものでも、３色の画素、４色以上の画素からなるものであってもよい。例えば３色の場合、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の３つの色相で構成される。ＲＧＢ３色の画素群を配置する場合には、モザイク型、トライアングル型等の配置が好ましく、４色以上の画素群を配置する場合にはどのような配置であってもよい。カラーフィルタの作製は、例えば２色以上の画素群を形成した後にブラックマトリックスを形成してもよいし、逆にブラックマトリックスを形成した後に画素群を形成するようにしてもよい。ＲＧＢ画素の形成については、特開２００４−３４７８３１号公報等を参考にすることができる。

本発明の液晶表示装置はＬＥＤ表示装置に好適に用いられる。液晶表示装置における液晶表示モードとしては、ＳＴＮ型、ＴＮ型、ＧＨ型、ＥＣＢ型、強誘電性液晶、反強誘電性液晶、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＯＣＢ型、ＡＳＭ型、その他種々のものが好適に挙げられる。本発明の液晶表示装置として、本発明の方法によりスペーサを形成することにより、液晶セルのセル厚の変動により表示ムラを起こし易い表示モード、例えば、セル厚が２〜４μｍであるＶＡ型表示モード、ＩＰＳ型表示モード、ＯＣＢ型表示モードの表示モードに用いた場合、効果的な表示ムラ発生抑制が達成されるため好ましい。

液晶表示装置の基本的な構成態様としては、（ａ）薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等の駆動素子と画素電極（導電層）とが配列形成された駆動側基板と、対向電極（導電層）を備えた対向基板とをフォトスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成したもの、（ｂ）駆動基板と、対向電極（導電層）を備えた対向基板とをフォトスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成したもの、等が挙げられ、本発明の液晶表示装置は、各種液晶表示機器に好適に適用することができる。

液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、側工業調査会、１９９４年発行）」に記載がある。本発明の液晶表示装置には、本発明のスペーサ付き基板を有する以外に特に制限はなく、例えば前記「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載された種々の方式の液晶表示装置に構成することができる。中でも特に、カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置を構成するのに有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については、例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）、１９９６年発行）」に記載がある。

液晶表示装置は、前記本発明のスペーサ付き基板を有する以外は、電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、視野角補償フィルム、反射防止フィルム、光拡散フィルム、防眩フィルムなどの様々な部材を用いて一般的に構成できる。これら部材については、例えば「’９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島健太郎、（株）シーエムシー、１９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表良吉、（株）富士キメラ総研、２００３等発行）」に記載されている。

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。また、本文中の「重量平均分子量」とは、特に断りのない限り、ＳＥＣ（Size Exclusion Chromatography、サイズ排除クロマトグラフィー）法にて測定したものである。

本実施例では、転写法及びＬＥＤバックライトの組合せを中心に詳細に述べるが、本発明においてはスリットコーターなどを用いた塗布法により実施してもよく、また、バックライトは冷陰極管を用いて構成してもよい。

（実施例１）：転写法
以下に示すようにして、図１８に示すように構成されたＭＶＡモードの液晶表示装置を作製した。
−カラーフィルタ基板の作製−
〈感光性転写材料の作製〉
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体（ＰＥＴ仮支持体）の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させて熱可塑性樹脂層を形成した。次に、この熱可塑性樹脂層上に下記処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させて中間層を積層した。この中間層上に更に、下記表１（転写法）に記載の組成よりなる着色感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布、乾燥させて感光層を積層した。このようにして、ＰＥＴ仮支持体の上に、乾燥膜厚が１５μｍの熱可塑性樹脂層と乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と乾燥膜厚が２．４μｍの感光層を設け、感光層上には保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。

注１）・Ｂ−ＣＩＭ（２，２´−ビス（２−クロロフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、保土谷化学工業社製）
注２）・ＮＢＣＡ（１０−ｎ−ブチル−２−クロロアクリドン、黒金化成社製）

上記のようにして、仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とブラック（Ｋ）の感光層とが積層されて積層体に構成された感光性転写材料を作製した（以下、感光性転写材料Ｋ１と称する）。

〔熱可塑性樹脂層用塗布液の処方Ｈ１〕
・メタノール １１．１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ６．４部
・メチルエチルケトン ５２．４部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジル
メタクリレート／メタクリル酸共重合体 ５．８３部
〔共重合比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、
重量平均分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃〕
・スチレン／アクリル酸共重合体 １３．６部
〔共重合比（モル比）＝６３／３７、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃〕
・２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン
（新中村化学工業（株）製） ９．１部
・界面活性剤１ ０．５４部

＊界面活性剤１：
メガファックＦ−７８０−Ｆ（大日本インキ化学工業（株）製）
〔組成〕
・Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２（４０部）とＨ（ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２）_７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２（５５部）とＨ（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２（５部）との共重合体（重量平均分子量３万） ３０部
・メチルエチルケトン ７０部

〔中間層用塗布液の処方Ｐ１〕
・ポリビニルアルコール ２．１部
（ＰＶＡ−２０５（鹸化率＝８８％）、（株）クラレ製）
・ポリビニルピロリドン ０．９５部
（ＰＶＰ、Ｋ−３０；アイエスピー・ジャパン製）
・メタノール ４４部
・蒸留水 ５３部

次に、得られた感光性転写材料Ｋ１の作製において用いた前記着色感光性樹脂組成物Ｋ１を、前記表１（転写法）に記載の組成よりなる着色感光性樹脂組成物Ｒ１、Ｇ１及びＢ１に代えたこと以外は、上記と同様の方法により、感光性転写材料Ｒ１、Ｇ１及びＢ１を作製した。

〈カラーフィルタ基板の作製〉
−ブラック（Ｋ）画像の形成−
６８０×８８０ｍｍサイズの無アルカリガラス基板を、シャワーにより２５℃に調整したガラス洗浄剤液を２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄した後、シャワーによりシランカップリング液（Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液；商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）を２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。洗浄後、このガラス基板を基板予備加熱装置で１００℃で２分間加熱した。

次に、感光性転写材料Ｋ１の保護フィルムを剥離後、露出した感光層が上記の１００℃で２分間加熱したガラス基板の表面と接するように重ね合わせ、ラミネーターＬａｍｉｃＩＩ型〔（株）日立インダストリイズ製〕を用いて、ゴムローラ温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分の条件にてラミネートした。次いで、ＰＥＴ仮支持体を剥離してガラス基板上に転写した。

次に、基板上の前記感光層に対し、３０ｍＪ／ｃｍ^２相当で露光を行った。その際、以下に説明するパターン形成装置を用い、４０５ｎｍで行った。

−パターン形成装置−
図１９に記載の露光ヘッドを備えたパターン形成装置を用いた。図１９は、ＤＭＤ５０、ＤＭＤ５０にレーザ光を照射する光照射手段１４４、ＤＭＤ５０で反射されたレーザ光を拡大して結像するレンズ系（結像光学系）４５４、４５８、ＤＭＤ５０の各描素部に対応して多数のマイクロレンズ４７４が配置されたマイクロレンズアレイ４７２、マイクロレンズアレイ４７２の各マイクロレンズに対応して多数のアパーチャ４７８が設けられたアパーチャアレイ４７６、アパーチャを通過したレーザ光を被露光面５６（突起用組成物層）に結像するレンズ系（結像光学系）４８０、４８２で構成される露光ヘッドを表す。
図１９において、光照射手段１４４としては、図９〜１４に示す合波レーザ光源を用いた。ＤＭＤ５０としては、図１６に示す主走査方向にマイクロミラーが１０２４個配列されたマイクロミラー列が、副走査方向に７６８組配列された前記光変調手段の内、８００個×使用領域の列数のみを駆動するように制御されたＤＭＤを用いた。また、マイクロレンズアレイ４７２の集光位置近傍に配置されるアパーチャアレイ４７６は、その各アパーチャ４７８に、それと対応するマイクロレンズ４７４を経た光のみが入射するように配置されている。

前記マイクロレンズ４７４としては、トーリックレンズが用いられており、ｘ方向に光学的に対応する方向の曲率半径Ｒｘ＝−０．１２５ｍｍ、ｙ方向に対応する方向の曲率半径Ｒｙ＝−０．１ｍｍである。
このパターン形成装置を、以下「本発明に係るＤＩ露光装置」と称することがある。

次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％、ポリプロピレングリコール、グリセロールモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ステアリルエーテルを合計で０．１質量％、残部純水の組成で調合し、保管しておいた原液を、純水で１２倍（該原液を１質量部と純水を１１質量部の割合で混合）に希釈した液）にて３０℃で５０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去した。引き続き、この基板上面にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけて基板上の液だまりを減らした。

次に、炭酸Ｎａ系現像液（０．３８モル／リットルの炭酸水素ナトリウム、０．４７モル／リットルの炭酸ナトリウム、５質量％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士写真フイルム（株）製を純水で５倍に希釈した液）を用いて、２９℃で３０秒間、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し、パターン画素を得た。

次に、洗浄剤（燐酸塩、珪酸塩、ノニオン界面活性剤、消泡剤、及び安定剤含有；商品名：Ｔ−ＳＤ１、富士写真フイルム（株）製）を用いて、３３℃で２０秒間、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシを用いて残渣除去を行なうことにより、図１８に示すように、ガラス基板９１１上にブラック（Ｋ）画像９１６を形成した。その後さらに、この基板に対し、Ｋ画像が形成されている側から超高圧水銀灯により５００ｍＪ／ｃｍ^２の光でポスト露光した後、２２０℃で１５分間熱処理した。

その後、Ｋ画像９１６が形成されたガラス基板９１１を再び、上記のようにブラシ洗浄し、純水シャワー洗浄した後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により１００℃で２分間加熱した。

−レッド（Ｒ）画素の形成−
前記Ｋ画像９１６が形成されたガラス基板９１１に、上記より得た感光性転写材料Ｒ１を用い、前記Ｋ画像９１６の形成と同様の工程を行ない、ガラス基板９１１のＫ画像９１６が形成されている側にレッド画素（Ｒ画素）を形成した。但し、露光工程での露光量は１５ｍＪ／ｃｍ^２とし、炭酸Ｎａ系現像液によるシャワー現像は３５℃で３５秒間とした。
なお、Ｒ画素の厚みは２．０μｍであり、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．）２５４、Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．１７７の塗布量はそれぞれ０．８８ｇ／ｍ^２、０．２２ｇ／ｍ^２であった。
その後、Ｒ画素が形成されたガラス基板９１１を再び、上記のように洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、純水でシャワー洗浄した後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により１００℃で２分間加熱した。

−グリーン（Ｇ）画素の形成−
次に、上記より得た感光性転写材料Ｇ１を用い、前記Ｋ画像９１６の形成と同様の工程を行ない、ガラス基板９１１のＫ画像９１６及びＲ画素等が形成されている側にグリーン画素（Ｇ画素）を形成した。但し、露光工程での露光量は１５ｍＪ／ｃｍ^２、炭酸Ｎａ系現像液によるシャワー現像は３４℃で４５秒間とした。
なお、Ｇ画素の厚みは２．０μｍであり、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｇ．）３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．）１５０の塗布量はそれぞれ１．１２ｇ／ｍ^２、０．４８ｇ／ｍ^２であった。
その後、Ｒ画素及びＧ画素が形成されたガラス基板９１１を再び、上記のように洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、純水でシャワー洗浄した後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により１００℃で２分間加熱した。

−ブルー（Ｂ）画素の形成−
次に、上記より得た感光性転写材料Ｂ１を用い、前記Ｋ画像９１６の形成と同様の工程を行ない、ガラス基板９１１のＫ画像９１６並びにＲ画素及びＧ画素が形成されている側にブルー画素（Ｂ画素）を形成した。但し、露光工程での露光量は１５ｍＪ／ｃｍ^２、炭酸Ｎａ系現像液によるシャワー現像は３６℃で４０秒間とした。
なお、Ｂ画素の厚みは２．０μｍであり、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｂ．）１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｖ．）２３の塗布量はそれぞれ０．６３ｇ／ｍ^２、０．０７ｇ／ｍ^２であった。

その後、Ｒ、Ｇ，Ｂの各画素が形成されたガラス基板９１１を、２４０℃で５０分間ベークして、カラーフィルタ９１２を得た。
更にその上に透明電極として、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）膜９１３をスパッタリングにより形成し、カラーフィルタ基板９１０を得た。

ここで、前記表１に記載の着色感光性樹脂組成物Ｋ１、Ｒ１、Ｇ１、Ｂ１の調製について説明する。
〈着色感光性樹脂組成物Ｋ１の調製〉
着色感光性樹脂組成物Ｋ１は、前記表１に記載の量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒ．ｐ．ｍ．で１０分間攪拌し、次いで、前記表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー１、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、増感色素（Ａ−２） （ＮＢＣＡ）、Ｎ−フェニル−２−メルカプトベンズイミダゾール、界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）、１５０ｒ．ｐ．ｍ．で３０分間攪拌することによって得た。

前記表１に記載の組成物中の各組成の詳細は以下の通りである。なお、界面活性剤１については既述の通りである。
＊Ｋ顔料分散物１の組成
・カーボンブラック １３．１部
（Ｓｐｅｃｉａｌ Ｂｌａｃｋ ２５０、デグッサ社製）
・５−［３−オキソ−２−［４−［３，５−ビス（３−ジエチルアミノプロピルアミノカルボニル）フェニル］アミノカルボニル］フェニルアゾ］−ブチロイルアミノベンズイミダゾロン ０．６５部
・ポリマー〔ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８［モル比］）のランダム共重合物（重量平均分子量３７，０００）〕 ６．７２部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７９．５３部

＊バインダー１の組成
・ポリマー〔ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７８／２２［モル比］）のランダム共重合物（重量平均分子量４０，０００）〕 ２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３部
＊ＤＰＨＡ液の組成
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合禁止剤ＭＥＨＱを５００ｐｐｍ含有、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製） ７６部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル ２４部

〈着色感光性樹脂組成物Ｒ１の調製〉
着色感光性樹脂組成物Ｒ１は、前記表１（転写法）に記載の量のＲ顔料分散物１、Ｒ顔料分散物２、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒ．ｐ．ｍ．で１０分間攪拌し、次いで、前記表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ＤＰＨＡ液、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、増感色素（Ａ−２） （ＮＢＣＡ）、Ｎ−フェニル−２−メルカプトベンズイミダゾール、及びフェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒ．ｐ．ｍ．で１０分間攪拌し、次いで前記表１に記載の量の添加剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒ．ｐ．ｍ．で２０分間攪拌し、更に、前記表１に記載の量の界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒ．ｐ．ｍ．で３０分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得た。

なお、前記表１に記載の組成物Ｒ１中の各組成の詳細は以下の通りである。また、ＤＰＨＡ液及び界面活性剤１の組成は各々、前記着色感光性樹脂組成物Ｋ１の場合と同様である。
＊Ｒ顔料分散物１の組成
・Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４ ８．０部
・５−［３−オキソ−２−［４−［３，５−ビス（３−ジエチルアミノプロピルアミノカルボニル）フェニル］アミノカルボニル］フェニルアゾ］−ブチロイルアミノベンズイミダゾロン ０．８部
・ポリマー〔ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８［モル比］）のランダム共重合物（重量平均分子量３７，０００）〕 ８．０部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ８３．２部

＊Ｒ顔料分散物２の組成
・Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７ １８部
・ポリマー〔ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８［モル比］）のランダム共重合物（重量平均分子量３７，０００）〕 １２部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７０部
＊バインダー２の組成
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート（＝３８／２５／３７［モル比］）のランダム共重合物（重量平均分子量３０，０００） ２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３部
＊添加剤１：燐酸エステル系特殊活性剤（ＨＩＰＬＡＡＤ ＥＤ１５２、楠本化成（株）製）

〈着色感光性樹脂組成物Ｇ１の調製〉
着色感光性樹脂組成物Ｇ１は、前記表１（転写法）に記載の量のＧ顔料分散物１、Ｙ顔料分散物１、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒ．ｐ．ｍ．で１０分間攪拌し、次いで、前記表１に記載の量のメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、バインダー１、ＤＰＨＡ液、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、増感色素（Ａ−２） （ＮＢＣＡ）、Ｎ−フェニル−２−メルカプトベンズイミダゾール、及びフェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒ．ｐ．ｍ．で３０分間攪拌し、更に、前記表１に記載の量の界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒ．ｐ．ｍ．で５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得た。

なお、前記表１に記載の組成物Ｇ１中の各組成の詳細は以下の通りである。また、バインダー１、ＤＰＨＡ液、及び界面活性剤１の組成は、前記着色感光性樹脂組成物Ｋ１の場合と同様である。
＊Ｇ顔料分散物１の組成
・Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６ １８部
・ポリマー〔ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８［モル比］）のランダム共重合物（重量平均分子量３７，０００）〕 １２部
・シクロヘキサノン ３５部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ３５部
＊Ｙ顔料分散物１
商品名：ＣＦエローＥＸ３３９３（御国色素社製）

〈着色感光性樹脂組成物Ｂ１の調製〉
着色感光性樹脂組成物Ｂ１は、前記表１（転写法）に記載の量のＢ顔料分散物１、Ｂ顔料分散物２、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒ．ｐ．ｍ．で１０分間攪拌し、次いで、前記表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー３、ＤＰＨＡ液、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、増感色素（Ａ−２） （ＮＢＣＡ）、Ｎ−フェニル−２−メルカプトベンズイミダゾール、及びフェノチアジンをはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒ．ｐ．ｍ．で３０分間攪拌し、更に、前記表１に記載の量の界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒ．ｐ．ｍ．で５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得た。

なお、前記表１に記載の組成物Ｂ１中の各組成の詳細は以下の通りである。また、ＤＰＨＡ液及び界面活性剤１の組成は、前記着色感光性樹脂組成物Ｋ１の場合と同様である。
＊Ｂ顔料分散物１
商品名：ＣＦブルーＥＸ３３５７（御国色素社製）
＊Ｂ顔料分散物２
商品名：ＣＦブルーＥＸ３３８３（御国色素社製）
＊バインダー３の組成
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート（＝３６／２２／４２［モル比］）のランダム共重合物（重量平均分子量３０，０００） ２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３部

−スペーサ用感光性転写シートの作製−
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体（ＰＥＴ仮支持体）上に、上記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥層厚６．０μｍの熱可塑性樹脂層を形成した。

次に、形成した熱可塑性樹脂層上に、上記処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させて、乾燥層厚１．５μｍの中間層を積層した。

次に、形成した中間層上に更に、スペーサ形成用の下記感光層用塗布液（１）を塗布、乾燥させて、乾燥層厚４．１μｍの感光層を積層した。

〔感光層用塗布液（１）〕
・顔料 ９３．３部
・１−メトキシ−２−プロピルアセテート ４８５．２部
・メチルエチルケトン ２７８．２部
・メタノール ４．５部
・バインダー４ ５６．５部
・ＤＰＨＡ液 ５５．８部
・２−（ｏ−ｃｈｌｏｒｏｐｈｅｎｙｌ）−４，５−ｄｉｐｈｅｎｙｌｉｍｉｄａｚｏｌｅ ｄｉｍｍｅｒ
（開始剤：ロフィンダイマー） ９．８部
・増感色素（Ａ−２）（ＮＢＣＡ） １．５１部
・水素供与体 ＮＰｈＭＢＩ（N-フェニルメルカプトベンズイミダゾール）０．８４部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル ０．０２部
・前記界面活性剤１ ０．６７部
・消色染料 １３．６部

なお、前記処方中の各組成の詳細は以下の通りである。
＊顔料
・シリカゾルの３０％メチルイソブチルケトン分散物
（商品名：ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製）
＊バインダー４
・メタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体
（＝２０／８０［モル比］、重量平均分子量３６０００；高分子物質）
＊消色染料
・ビクトリアピュアブルーＢＯＨ−Ｍ（保土ヶ谷化学（株）製）

以上のようにして、ＰＥＴ仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光層の積層構造（３層の合計層厚は１１．６μｍ）に構成した後、感光層の表面に更に、カバーフィルムとして厚み１２μｍのポリプロピレン製フィルムを加熱・加圧して貼り付け、スペーサ用感光性転写シート（１）を得た。

−フォトスペーサの作製−
得られたスペーサ用感光性転写シート（１）のカバーフィルムを剥離し、露出した感光層の表面を、上記で作製したＩＴＯ膜がスパッタ形成されたカラーフィルタ基板９１０のＩＴＯ膜９１３上に重ね合わせ、ラミネーターＬａｍｉｃＩＩ型〔（株）日立インダストリイズ製〕を用いて、線圧１００Ｎ／ｃｍ、１３０℃の加圧・加熱条件下で搬送速度２ｍ／分にて貼り合わせた。その後、ＰＥＴ仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離除去し、感光層を熱可塑性樹脂層及び中間層と共に転写した（感光層形成工程）。

（露光工程）
基板上の前記感光層に対し、１０ｍＪ／ｃｍ^２相当のスペーサーパターンの露光を行った。その際、上述した本発明に係るＤＩ露光装置を用い、４０５ｎｍで行った。

（現像工程）
露光が終了した前記感光層を室温にて１０分間静置した後、感光層の全面に、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製のＫＯＨ現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１）を用い、２５℃にて６０秒間フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し、未硬化の領域を溶解除去した。その後、引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、更に超純水をシャワーノズルで両面から吹き付けて、付着している現像液や前記感光層溶解物を除去し、エアーナイフにて液切りを行い、スペーサパターンを得た。得られたスペーサパターンは、直径１６μｍ、平均高さ３．７μｍの透明な柱状であった。

次に、スペーサパターンが設けられたカラーフィルタ基板９１０を、２３０℃下で３０分間加熱処理を行ない（熱処理工程）、フォトスペーサ９１４を作製した。

−突起用感光性転写材料の作製−
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体（ＰＥＴ仮支持体）上に、前記処方Ｈ１と同様の処方からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が１５μｍの熱可塑性樹脂層を設けた。次いで、形成した熱可塑性樹脂層上に、前記処方Ｐ１と同様の処方からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させて、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層を設けた。次に、下記処方Ｃからなる突起形成用塗布液を調製し、この突起形成用塗布液を中間層上に塗布し、乾燥させて、乾燥膜厚が２．０μｍである液晶配向制御用の突起用感光層を塗設した。この感光層の表面に更に、厚さ１２μｍのポリプロピレン製のフィルムを保護フィルムとして貼り付けた。このようにして、ＰＥＴ仮支持体上に、該ＰＥＴ仮支持体側から順に熱可塑性樹脂層、中間層、突起用感光層、及び保護フィルムが積層されてなる突起用感光性転写材料を作製した。

〔突起形成用塗布液の処方Ｃ〕
・ポジ型レジスト液ＦＨ−２４１３Ｆ ５３．３部
（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）
・メチルエチルケトン ４６．７部
・前記界面活性剤１ ０．０４部

−突起の形成−
上記より得た突起用感光性転写材料から保護フィルムを剥がし、露出した突起用感光層の露出面とカラーフィルタ基板９１０のＩＴＯ膜９１３が設けられた側（カラーフィルタ上）の表面とを重ね合わせ、ラミネーターＬａｍｉｃＩＩ型〔（株）日立インダストリイズ製〕を用い、線圧１００Ｎ／ｃｍ、温度１３０℃、搬送速度２．２ｍ／分の条件にて貼り合わせた（ラミネート）。その後、突起用感光性転写材料のＰＥＴ仮支持体のみを熱可塑性樹脂層との界面で剥離除去した。このとき、カラーフィルタ基板の上に、該基板側から順に感光層、中間層、熱可塑性樹脂層が積層された状態にある。

次に、最表層である熱可塑性樹脂層の上方より、上述したフォトスペーサの作製における露光工程と同様にしてパターン露光した。その後、前記と同様にして現像し、熱可塑性樹脂層及び中間層を溶解除去した。この段階では、突起用感光層は実質的に現像されていなかった。続いて、０．０８５ｍｏｌ／Ｌの炭酸ナトリウムと０．０８５ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウムと１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウムとを含む水溶液を、シャワー式現像装置にて３３℃で３０秒間更に噴霧しながら現像し、突起用感光層の不要部（未硬化部）を現像除去した。これにより、カラーフィルタ（ＲＧＢ画素）上に、所望形状にパターニングされた突起用感光層からなる突起９１５を形成した。次いで、突起９１５が形成されたカラーフィルタ基板を２４０℃下で５０分間ベーク処理することにより、カラーフィルタ（ＲＧＢ画素）上には高さ１．５μｍで縦断面形状が蒲鉾様の液晶配向制御用の突起が形成された。

上記とは別に、対向基板としてＴＦＴ基板９２１を用意した。このＴＦＴ基板の一方の表面は、スパッタリングによりＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）膜９２２が形成されている。続いて、ＴＦＴ基板のＩＴＯ膜９２２上及びカラーフィルタ基板９１０のフォトスペーサー９１４が設けられた側のＩＴＯ膜９１３上に、ポリイミドよりなる配向膜９２４を設けた。

その後、カラーフィルタの画素群を取り囲むように周囲に設けられているブラックマトリクス９１６の外枠に相当する位置にエポキシ樹脂のシール剤を印刷すると共に、カラーフィルタ基板９１０をＴＦＴ基板９２１と貼り合わせた。次いで、貼り合わされた２枚の基板を熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚の基板の積層体を得た。この積層体を真空下で脱気した後、大気圧に戻して２枚のガラス基板の間隙に液晶を注入した。注入終了後、注入口部分を接着剤を付与し、紫外線照射して封止することにより液晶セルを得た。

このようにして得た液晶セルの両面に、偏光板（ＨＬＣ２−２５１８、（株）サンリツ製）９２５，９２３を貼り付けた。次いで、図示しないが、赤色（Ｒ）ＬＥＤとしてＦＲ１１１２Ｈ、緑色（Ｇ）ＬＥＤとしてＤＧ１１１２Ｈ、及び青色（Ｂ）ＬＥＤとしてＤＢ１１１２Ｈ（いずれもスタンレー（株）製のチップ型ＬＥＤ）を用いてサイドライト方式のバックライトを構成し、前記偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置して、本発明のＭＶＡモード液晶表示装置を作製した。

（評価）
上述のようにして作製した液晶表示装置を用いて下記の評価を行なった。結果は下記表２に示す。
−１．ドット欠け−
作製したフォトスペーサを目視によって評価した。目標ドット数に対して、現像後残存しているドット数をカウントし、この割合をドット残存率とした。
〈評価基準〉
◎：ドット欠けは全く認められなかった（ドット残存率９９％以上）；非常に良い
○：ドット欠けが微かに認められた（ドット残存率９５％以上）；良い
△：ドット欠けが僅かに認められた（ドット残存率９０％以上）；普通
×：ドット欠けが認められた（ドット残存率８０％以上）；やや悪い
××：ドット欠けが顕著に認められた（ドット残存率７０％以上）；悪い

−２．表示ムラ−
液晶表示装置について、グレイのテスト信号を入力させたときのグレイ表示を目視及びルーペにて観察し、表示ムラの発生の有無を下記評価基準にしたがって評価した。
〈評価基準〉
Ａ：まったくムラがみられない（非常に良い）
Ｂ：ガラス基板の縁部分にかすかにムラが見られるが、表示部に問題なし（良い）
Ｃ：表示部にかすかにムラが見られるが実用レベル（普通）
Ｄ：表示部にムラがある（やや悪い）
Ｅ：表示部に強いムラがある（非常に悪い）

表２に示すように、フォトスペーサ形成後のドット欠けがなく、完成後のカラーフィルタによれば、表示ムラのない高画質の表示が行われることがわかった。

（実施例２）：塗布（液レジ）法
−カラーフィルタの作製（スリットノズルによる塗布）−
−ブラック（Ｋ）画像の形成−
６８０×８８０ｍｍサイズの無アルカリガラス基板（以下、単にガラス基板という。）をＵＶ洗浄装置で洗浄した後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。このガラス基板を１２０℃で３分間熱処理して表面状態を安定化した。その後、ガラス基板を冷却して２３℃に調温後、スリット状ノズルを有するガラス基板用コーターＭＨ−１６００（エフ・エー・エス・アジア社製）にて、前記の組成よりなる着色感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布した。引き続き、真空乾燥機ＶＣＤ（東京応化工業（株）製）を用いて３０秒間溶媒の一部を乾燥させて塗布膜の流動性をなくした後、１２０℃で３分間プリベークして膜厚２．４μｍの感光層Ｋ１を形成した。

次に、基板上の前記感光層に対し、１００ｍＪ／ｃｍ^２相当で露光を行った。その際、本発明に係るＤＩ露光装置を用い、４０５ｎｍで行った。
また、テストの意味で本発明に係るＤＩ露光装置を用いて、波長が４０５ｎｍのレーザー光を、１５段ステップウエッジパターン（ΔｌｏｇＥ＝０．１５）、及び直径の異なる多数の穴部が形成されるパターンが得られるように照射して露光し、前記感光層の一部の領域を硬化させた。

次に、純水をシャワーノズルから噴霧し、感光層Ｋ１の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロマテリアルズ（株）製）を、フラットノズルから２３℃、ノズル圧力０．０４ＭＰａにて８０秒間噴射してシャワー現像し、黒色パターンを得た（現像工程）。続いて、ガラス基板の黒色パターンが形成された側に超純水を超高圧洗浄ノズルにより９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣を除去し、無アルカリガラス基板上にブラック（Ｋ）画像を形成した。その後、２２０℃で３０分間熱処理（ベーク）した。

−レッド（Ｒ）画素の形成−
前記Ｋ画像が形成されたガラス基板に、前記表１（液レジ法）に示す組成よりなる着色感光性樹脂組成物Ｒ２を用い、前記Ｋ画像の形成と同様にして塗布、露光、現像、及びベークを行ない、ガラス基板のＫ画像が形成されている側にレッド画素（Ｒ画素）を形成した。但し、露光工程での露光量は８０ｍＪ／ｃｍ^２とし、現像工程でのシャワー現像は２３℃で６０秒間とした。
なお、Ｒ画素の厚みは１．６μｍであり、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．）２５４、Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．１７７の塗布量はそれぞれ０．８８ｇ／ｍ^２、０．２２ｇ／ｍ^２であった。

−グリーン（Ｇ）画像の形成−
次に、前記Ｋ画像及びＲ画素が形成されたガラス基板に、前記表１（液レジ法）に示す組成よりなる着色感光性樹脂組成物Ｇ２を用い、前記Ｋ画像の形成と同様にして塗布、露光、現像、及びベークを行ない、ガラス基板のＫ画像及びＲ画素等が形成されている側にグリーン画素（Ｇ画素）を形成した。但し、露光工程での露光量は８０ｍＪ／ｃｍ^２とし、現像工程でのシャワー現像は２３℃で６０秒間とした。
なお、Ｇ画素の厚みは１．６μｍであり、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｇ．）３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．）１５０の塗布量はそれぞれ１．１２ｇ／ｍ^２、０．４８ｇ／ｍ^２であった。

−ブルー（Ｂ）画像の形成−
次に、前記Ｋ画像並びにＲ画素及びＧ画素等が形成されたガラス基板に、前記表１（液レジ法）に示す組成よりなる着色感光性樹脂組成物Ｂ２を用い、前記Ｋ画像の形成と同様にして塗布、露光、現像、及びベークを行ない、ガラス基板のＫ画像並びにＲ画素及びＧ画素等が形成されている側にブルー画素（Ｂ画素）を形成した。但し、露光工程での露光量は８０ｍＪ／ｃｍ^２とし、現像工程でのシャワー現像は２３℃で６０秒間とした。
なお、Ｂ画素の厚みは１．６μｍであり、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｂ．）１５：６及びＣ．Ｉ．ピグメント・バイオレット（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｖ．）２３の塗布量はそれぞれ０．６３ｇ／ｍ^２、０．０７ｇ／ｍ^２であった。

なお、着色感光性樹脂組成物Ｇ２、Ｂ２の調製は、前記着色感光性樹脂組成物Ｇ１、Ｂ１の調製に準じて行なうものとし、着色感光性樹脂組成物Ｒ２の調製について以下に説明する。
着色感光性樹脂組成物Ｒ２は、前記表１（液レジ法）に記載の量のＲ顔料分散物１、Ｒ顔料分散物２、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒ．ｐ．ｍ．で１０分間攪拌し、次いで、前記（液レジ法）に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ＤＰＨＡ液、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、増感色素（Ａ−２） （ＮＢＣＡ）、Ｎ−フェニル−２−メルカプトベンズイミダゾール、及びフェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒ．ｐ．ｍ．で３０分間攪拌し、更に前記の量の界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒ．ｐ．ｍ．で３０分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得た。
なお、着色感光性樹脂組成物Ｒ２中のＲ顔料分散物１、Ｒ顔料分散物２、バインダー２、ＤＰＨＡ液、及び界面活性剤１については既述の通りである。

上記のように作製したカラーフィルタ上に、透明電極として、ＩＴＯ膜をスパッタリングにより形成し、カラーフィルタ基板を得た。

−フォトスペーサーの作製（液レジ法）−
上記で作製したＩＴＯ膜がスパッタ形成されたカラーフィルタ基板のＩＴＯ膜上に、スリット状ノズルを有するガラス基板用コーターＭＨ−１６００（エフ・エー・エス・アジア社製）にて前記感光層用塗布液（１）を塗布した。引き続き、真空乾燥機ＶＣＤ（東京応化工業（株）製）を用いて３０秒間溶媒の一部を乾燥させて塗布膜の流動性をなくした後、１２０℃で３分間プリベークして膜厚２．４μｍの感光層を形成した（層形成工程）。
続いて、実施例１と同様のパターニング工程及び熱処理工程により、カラーフィルタ基板上にフォトスペーサを作製した。但し、露光量は５０ｍＪ／ｃｍ^２、現像液による現像は２３℃、６０秒間とした。

フォトスペーサーの作製後、このカラーフィルタ基板を用い、実施例１と同様にして、本発明のＭＶＡモード液晶表示装置（図１８参照）を作製した。実施例２で得られたＭＶＡモード液晶表示装置について、実施例１と同様にして評価を行った。その結果を表２に示す。本実施形態においても、フォトスペーサー形成後のドット欠けがなく、完成後のカラーフィルタによれば、表示ムラのない高画質の表示が行われることがわかった。

（実施例３）
実施例１において、バインダー４を下記バインダー５に変更した他は、同様の処方および手順にて作成したＲＧＢＫおよびスペーサ形成用感光性転写材料を用い、実施例１と同様の手順にて本発明のＭＶＡモード液晶表示装置を作製した。このＭＶＡモード液晶表示装置について、実施例１と同様にして評価を行った。その結果を表２に示す。

バインダー５
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／グリシジルメタクリレート（＝４７／２１／３２［モル比］）のランダム共重合物（重量平均分子量４００００） ２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３部
表２に明らかなように、本実施例においても、実施例１又は２と同様にフォトスペーサー形成後のドット欠けがなく、完成後のカラーフィルタによれば、表示ムラのない高画質の表示が行われることがわかった。

（実施例４）
実施例１において、バインダー４を下記バインダー６に変更し、感光層用塗布液（１）の増感色素（Ａ−２）（ＮＢＣＡ）の添加量を下記表２に規定の添加量に変更した他は、同様の処方および手順にて作成したＲＧＢＫおよびスペーサ形成用感光性転写材料を用い、実施例１と同様の手順にて本発明のＭＶＡモード液晶表示装置を作製した。このＭＶＡモード液晶表示装置について、実施例１と同様にして評価を行った。その結果を表２に示す。

バインダー６
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／２−メタクリロイロキシエチルメタクリレート（＝５３／２０／２７［モル比］）のランダム共重合物（重量平均分子量４２０００） ２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３部
表２に明らかなように、本実施例においても、実施例１〜３と同様にフォトスペーサ形成後のドット欠けがなく、完成後のカラーフィルタによれば、表示ムラのない高画質の表示が行われることがわかった。

（実施例５〜１０）
実施例１において、スペーサ形成用の感光層用塗布液（１）の増感色素（Ａ−２）（ＮＢＣＡ）の添加量を下記表２に記載の添加量に変更した以外は、実施例１と同様の方法で本発明のＭＶＡモード液晶表示装置を作製した。このＭＶＡモード液晶表示装置について、実施例１と同様にして評価を行った。その結果を表２に示す。

（比較例１）
実施例１において、バインダー４を上記バインダー１に変更した他は、同様の処方および手順にて作成したＲＧＢＫおよびスペーサ形成用感光性転写材料を用い、実施例１と同様の手順にてＭＶＡモード液晶表示装置を作製した。このＭＶＡモード液晶表示装置について、実施例１と同様にして評価を行った。その結果を表２に示す。

（比較例２、３）
実施例１において、スペーサ形成用の感光層用塗布液（１）の増感色素（Ａ−２）（ＮＢＣＡ）の添加量を下記表２に記載の添加量に変更した以外は、実施例１と同様の方法でＭＶＡモード液晶表示装置を作製した。このＭＶＡモード液晶表示装置について、実施例１と同様にして評価を行った。その結果を表２に示す。

また、表２に、スペーサ形成用の感光層中のバインダーに含まれる架橋性基の種類、この感光層の形成方法、この感光層のＯＤ及びこの感光層に含まれるＮＢＣＡの含有量を合わせて記載する。

＊１・・・ドットは基板上に殆ど残っていなかった
＊２・・・形成されたスペーサ形状は柱状とはいえないものであった

前記表２に示すように、実施例１では、フォトスペーサ形成後のドット欠けがなく、完成後のカラーフィルタによれば、表示ムラのない高画質の表示が行われることがわかった。
また、表２に明らかなように、本比較例においてはフォトスペーサ形成後のドット欠けが顕著であり、完成後のカラーフィルタによれば、表示ムラの発生により高画質とはいえないものであった。

本発明に係る露光ユニットの外観を示す斜視図である。 本発明に係る露光ユニットのスキャナの構成を示す斜視図である。 （Ａ）は感光材料に形成される露光済み領域を示す平面図であり、（Ｂ）は各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す図である。 本発明に係る露光ヘッドの概略構成を示す斜視図である。 （Ａ）は図４に示す露光ヘッドの構成を示す光軸に沿った副走査方向の断面図であり、（Ｂ）は（Ａ）の側面図である。 デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）の構成を示す部分拡大図である。 （Ａ）及び（Ｂ）はＤＭＤの動作を説明するための説明図である。 （Ａ）及び（Ｂ）は、ＤＭＤを傾斜配置しない場合と傾斜配置する場合とで、露光ビームの配置及び走査線を比較して示す平面図である。 （Ａ）はファイバアレイ光源の構成を示す斜視図であり、（Ｂ）は（Ａの部分拡大図であり、（Ｃ）及び（Ｄ）はレーザ出射部における発光点の配列を示す平面図である。 マルチモード光ファイバの構成を示す図である。 合波レーザ光源の構成を示す平面図である。 レーザモジュールの構成を示す平面図である。 図１２に示すレーザモジュールの構成を示す側面図である。 図１２に示すレーザモジュールの構成を示す部分側面図である。 （Ａ）及び（Ｂ）は、露光装置における焦点深度を示す断面図である。 （Ａ）及び（Ｂ）は、ＤＭＤの使用領域の例を示す図である。 （Ａ）はＤＭＤの使用領域が適正である場合の側面図であり、（Ｂ）は（Ａ）の光軸に沿った副走査方向の断面図である。 ＭＶＡモードの液晶表示装置を表す概略的構成図である。 実施例に用いたパターン形成装置を説明するための図である。

符号の説明

９１０ カラーフィルタ基板
９１２ 着色画素
９１４ フォトスペーサ
９１６ ブラックマトリクス
９２１ ＴＦＴ基板（対向基板）

Claims (4)

1. エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤及びバインダーを少なくとも含有し、二次元状に並んだ空間光変調デバイスを用いて画像データに基づいて３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲内にある単色光又は輝線を変調しながら相対走査することで二次元画像の形成を行う露光方式に使用されるフォトスペーサ用感光性樹脂組成物であって、
   前記単色光又は輝線の波長におけるＯＤが０．０５〜１．２の範囲であり、前記バインダーが架橋性基を含有することを特徴とするフォトスペーサ用感光性樹脂組成物。
2. 請求項１に記載のフォトスペーサ用感光性樹脂組成物を含む感光層を基板上に形成する工程と、
   二次元状に並んだ空間光変調デバイスを用いて画像データに基づいて３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲内にある単色光又は輝線を変調しながら相対走査することで前記感光層を硬化する工程と、
   を含むことを特徴とするスペーサ付き基板の製造方法。
3. 請求項２に記載のスペーサ付き基板の製造方法により製造されたことを特徴とするスペーサ付き基板。
4. 請求項３に記載のスペーサ付き基板を有することを特徴とする液晶表示装置。

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