JP2007018558A - Aberration correcting element, optical head, optical disk device, and aberration correcting method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光ヘッドが持つ収差を補正する収差補正素子等に関し、特に、光ヘッドの構成部品の位置ずれなどで生じる矢形収差を抑制する収差補正素子等に関する。 The present invention relates to an aberration correction element or the like that corrects aberrations of an optical head, and more particularly to an aberration correction element or the like that suppresses sagittal aberration caused by misalignment of components of an optical head.
DVD±RW、DVD−RAMを搭載したDVDレコーダが市場を席巻している。しかし、2003年度に地上波デジタル放送が始まり、2005年度にデジタルHD(High Definition)TV放送の開始が予定されている中、映像コンテンツの記録メディアである光ディスクも一層の大容量化が求められている。大容量の光ディスクを実現するには、短波長光源、高NA(開口数)対物レンズを用いることが1つの手段であり、青紫色半導体レーザ(LD)と0.65以上の高NA対物レンズを用いた20GB/片面を越える光ディスクの開発も活発に行われている。 DVD recorders equipped with DVD ± RW and DVD-RAM dominate the market. However, as terrestrial digital broadcasting started in 2003 and digital HD (High Definition) TV broadcasting is scheduled to start in 2005, optical discs, which are recording media for video content, are required to have a larger capacity. Yes. In order to realize a large-capacity optical disk, one means is to use a short wavelength light source and a high NA (numerical aperture) objective lens. A blue-violet semiconductor laser (LD) and a high NA objective lens of 0.65 or more are used. The development of optical discs exceeding 20 GB / single side is also being actively conducted.
上記光ディスク装置では、各光学素子の作製ばらつきを制限することで、光ヘッドの光学系が持つ3次の球面収差、コマ収差、非点収差をある程度に抑制することができる。しかし、光ディスク装置を動作させたとき、光ディスクの基板厚の違いによって球面収差が発生し、光ディスクの傾斜によってコマ収差が発生する。また、光ヘッド組立時の光学部品の傾きや位置ずれによっても、上記3種類の収差は発生する。そこで、前記収差の補正の1つの手段として、光ヘッドの光路中に液晶素子を挿入し、対物レンズへ入射する光束の面内の位相分布を制御する方法が提案されている。例えば、特許文献1には、球面収差とコマ収差の補正手段が開示されている。特許文献2には、非点収差の補正手段が開示されている。
In the above optical disk apparatus, the third-order spherical aberration, coma aberration, and astigmatism of the optical system of the optical head can be suppressed to some extent by restricting the manufacturing variation of each optical element. However, when the optical disk apparatus is operated, spherical aberration is generated due to the difference in the substrate thickness of the optical disk, and coma aberration is generated due to the tilt of the optical disk. In addition, the above three types of aberration also occur due to the inclination and displacement of the optical components during the assembly of the optical head. Therefore, as one means for correcting the aberration, a method has been proposed in which a liquid crystal element is inserted in the optical path of the optical head to control the in-plane phase distribution of the light beam incident on the objective lens. For example,
しかし、光ディスクを再生する場合、上記3次の球面収差、コマ収差、非点収差だけでなく、高次の収差も存在する。図10[2]は3次の球面収差、コマ収差(後述の矢形収差と組み合わせる分は除く)及び非点収差を補正した後の、集光スポットの2次元強度分布の例を示す図である。同図では、明るい部分が光強度の高い部分、暗い部分が光強度の低い部分を示しており、集光スポットの裾部分の光強度を強調している。図10[2]より、前記収差を補正しているにもかかわらず、集光スポットの中心部分の形状が略3角形になっており、それに伴いサイドローブの光強度の強い部分が3方向に現れている。この形状のため、光ディスクの所定のトラックの記録情報を読み出すとき、両隣接トラックの記録情報(記録ピット、記録マーク)も読み出してしまう。よって、所望の再生信号に隣接トラックからの不要な信号が漏れ込み、再生信号のノイズ成分の増大を引き起こす大きな問題となる。前記集光スポット形状の歪みは5次収差の1つである矢形収差と、それと組み合わせる3次のコマ収差によるものであり、光学部品の傾き、光軸からのずれなどで生じるものである。 However, when the optical disk is reproduced, not only the third-order spherical aberration, coma aberration, and astigmatism but also higher-order aberrations exist. FIG. 10 [2] is a diagram showing an example of the two-dimensional intensity distribution of the focused spot after correcting third-order spherical aberration, coma aberration (excluding the combination with arrow aberration described later) and astigmatism. . In the figure, a bright portion indicates a portion with high light intensity, and a dark portion indicates a portion with low light intensity, and the light intensity at the bottom portion of the focused spot is emphasized. From FIG. 10 [2], although the aberration is corrected, the shape of the central portion of the focused spot is a substantially triangular shape, and accordingly, the portion with strong light intensity of the side lobe extends in three directions. Appears. Due to this shape, when the recording information of a predetermined track of the optical disk is read, the recording information (recording pits and recording marks) of both adjacent tracks is also read. Therefore, an unnecessary signal from an adjacent track leaks into a desired reproduction signal, which causes a large problem that causes an increase in the noise component of the reproduction signal. The condensing spot shape distortion is caused by a sagittal aberration which is one of the fifth-order aberrations and a third-order coma aberration combined therewith, and is caused by an inclination of the optical component, a deviation from the optical axis, or the like.
対物レンズの瞳面上における極座標を(r,φ)で表すと、対物レンズの瞳面上の波面収差W(r,φ)は次の式1で表される。
W(r,φ)=W11rcosφ+W20r2+W22r2cos2φ+W31r3cosφ+W33r3cos3φ+W40r4 …(1)
When the polar coordinates on the pupil plane of the objective lens are expressed by (r, φ), the wavefront aberration W (r, φ) on the pupil plane of the objective lens is expressed by the following
W (r, φ) = W 11 rcosφ + W 20
ここで、W11rcosφは像点移動によるものであり、W20r2はデフォーカスによる収差、W31r3cosφは光ディスクの傾斜や光学素子の傾斜、配置ずれによる3次のコマ収差、W40r4は主に光ディスクの基板厚さのずれなどによる3次の球面収差、W22r2cos2φは主に光ヘッド内の光学素子及び半導体レーザに起因する3次の非点収差をそれぞれ表すものである。また、W33r3cos3φは、光学素子に起因する収差であり、光学(岩波書店)315頁に記載されているように、5次の矢形収差を表わすものである。なお、Wijは収差係数である。 Here, W 11 rcos φ is due to image point movement, W 20 r 2 is aberration due to defocus, W 31 r 3 cos φ is third-order coma aberration due to tilt of optical disk, tilt of optical element, misalignment, W 40 r 4 is the third-order spherical aberration mainly due to the deviation of the substrate thickness of the optical disk, and W 22 r 2 cos 2 φ is the third-order astigmatism mainly caused by the optical element in the optical head and the semiconductor laser. Represents each. W 33 r 3 cos 3 φ is an aberration caused by the optical element, and represents a fifth-order arrow aberration as described in Optics (Iwanami Shoten), page 315. Note that W ij is an aberration coefficient.
集光スポットの中心部分の形状が図10[2]に示すようになるのは、5次の矢形収差W33r3cos3φと3次のコマ収差W31r3cosφとが組み合わされた収差WAによるものであり、次の式2で表すことができる。
WA=hr3(4cos3φ−3cosφ) …(2)
The shape of the central portion of the focused spot is as shown in FIG. 10 [2] because the fifth-order arrow aberration W 33 r 3 cos 3 φ and the third-order coma aberration W 31 r 3 cos φ are combined. is due to aberration W a, it can be expressed by the following
W A = hr 3 (4cos 3 φ-3cosφ) (2)
ここでhは係数である。式2の波面収差は、r3に比例するため、光束の中央部で小さく、光束の周辺部で急激に増加する。一方、回転角φに対する波面収差の変化は図11のようになる。同図では、縦軸の波面収差は、0を基準に上側を正の波面収差、下側を負の波面収差としている。同図より、回転角0、60、120、180、240、300[deg]において、正又は負で絶対値が最大となる波面収差を持つ分布となる。この波面収差の補正は、球面収差、コマ収差、非点収差による波面収差と異なるため、背景技術で述べた各収差用の補正素子では不可能である。また、光ヘッドを構成している光学素子の傾きや位置ずれをなくせば、収差WAは低減され、集光スポットの中心部分の2次元形状を円形に、サイドローブのリング状の光強度分布を略均一に近づけることは可能である。しかし、量産を考えた場合、組立精度を向上させると組立工数及び時間の増加につながり、光ヘッドを量産する上で大きな問題となる。
Here, h is a coefficient. Since the wavefront aberration of Formula 2 is proportional to r 3 , it is small at the center of the light beam and increases rapidly at the periphery of the light beam. On the other hand, the change of the wavefront aberration with respect to the rotation angle φ is as shown in FIG. In the figure, the wavefront aberration on the vertical axis is positive wavefront aberration on the upper side with respect to 0, and negative wavefront aberration on the lower side. From the same figure, at the
以上の課題に鑑み、本発明の目的は、5次の矢形収差と3次のコマ収差とが組み合わされた収差WAを補正することによって良好な集光スポット形状を実現し、隣接トラックからのノイズ成分を抑制した再生信号を検出し、集光スポット形状の歪みの原因である収差WAを補正する収差補正素子等を提供することにある。 In view of the above problems, an object of the present invention is to achieve a good light converging spot shape by correcting the aberration W A where the fifth-order arrow-shaped aberration and third-order coma aberration combined, from the adjacent tracks detecting a reproduction signal with suppressed noise component is to provide an aberration correction element for correcting the aberration W a is responsible for the distortion of the focused spot shape.
本発明に係る収差補正素子は、光源から出射された光束を対物レンズによって光ディスクに集光し、この光ディスクで反射された光束を対物レンズを介して光検出器によって受光する光ヘッドに用いられるものである。そして、本発明に係る収差補正素子は、光束が透過する入射面及び出射面を有し、入射面及び出射面は、透過する光束の矢形収差を含む収差WAに対して逆極性の収差を与える曲面からなる(請求項1)。従来技術では、矢形収差を含む収差WAを補正するものが無かったため、集光スポット形状に歪みが生じていた。これに対し、本発明では、矢形収差を含む収差WAに対して逆極性の収差を与える曲面によって、収差WAを抑制できる。 The aberration correction element according to the present invention is used for an optical head that collects a light beam emitted from a light source on an optical disk by an objective lens and receives the light beam reflected by the optical disk by a photodetector through the objective lens. It is. The aberration correction element according to the present invention has an incident surface and the exit surface light flux passes, the incident surface and exit surface, the opposite polarity aberration with respect to aberration W A containing dart aberration of the light flux which passes through It consists of a curved surface to be given (claim 1). In the prior art, since there is no corrects the aberration W A containing arrow-shaped aberration, distortion has occurred to the focused spot shape. In contrast, in the present invention, the curved surface providing an aberration of opposite polarity to the aberration W A containing arrow-shaped aberration, it is possible to suppress the aberration W A.
。このとき、入射面を構成する曲面と出射面を構成する曲面とは、どちらか一方を他方に向けて平行移動させると互いに重なり合う形状としてもよい(請求項2)。この場合は、入射面から出射面までの光路差がどこでも同じになるので、不要な収差の発生が抑えられる。入射面が形成された第一の収差補正素子と、出射面が形成された第二の収差補正素子とからなる、としてもよい(請求項3)。この場合は、第一及び第二の収差補正素子をそれぞれ別々に動かせるので、多様な補正方法が得られる。一方の面に入射面が形成され他方の面に出射面が形成された単一の収差補正素子からなる、としてもよい(請求項4)。この場合は、収差補正素子の数を減らせる。曲面は、光束の光軸に垂直な面内にXY軸、光軸の方向にZ軸をとったとき、Z=2πk1(X2+Y2){X2−m(X2+Y2)}(k1は係数、mは1以下の正の数)に従う形状である、としてもよい(請求項5)。曲面は、光束の光軸に垂直な面内にXY軸、光軸の方向にZ軸をとったとき、Z=2πk2(X4−Y4)(k2は係数)に従う形状である、としてもよい(請求項6)。曲面は、光束の光軸に垂直な面内に極座標(r,φ)をとり、光軸の方向にZ軸をとったとき、Z=Ar3{4cos3(π/2−φ)−3cos(π/2−φ)}(Aは係数)に従う形状である、としてもよい(請求項8)。以上のように、入射面及び出射面を特定の曲面形状にすることによって、収差WAに対して逆極性の収差を与えることができる。 . At this time, the curved surface forming the entrance surface and the curved surface forming the exit surface may overlap each other when one of them is translated toward the other (claim 2). In this case, since the optical path difference from the entrance surface to the exit surface is the same everywhere, generation of unnecessary aberrations can be suppressed. It may be composed of a first aberration correction element having an entrance surface and a second aberration correction element having an exit surface. In this case, since the first and second aberration correction elements can be moved separately, various correction methods can be obtained. It may be composed of a single aberration correction element having an incident surface formed on one surface and an output surface formed on the other surface. In this case, the number of aberration correction elements can be reduced. When the XY axis is in the plane perpendicular to the optical axis of the light beam and the Z axis is in the direction of the optical axis, the curved surface is Z = 2πk 1 (X 2 + Y 2 ) {X 2 −m (X 2 + Y 2 )} (k 1 is a coefficient, m is a positive number of 1 or less) is shaped according to, it may be a (claim 5). The curved surface has a shape according to Z = 2πk 2 (X 4 −Y 4 ) (k 2 is a coefficient) when the XY axis is taken in a plane perpendicular to the optical axis of the luminous flux and the Z axis is taken in the direction of the optical axis. (Claim 6). The curved surface takes polar coordinates (r, φ) in a plane perpendicular to the optical axis of the light beam, and Z = Ar 3 {4 cos 3 (π / 2−φ) −3 cos when taking the Z axis in the direction of the optical axis. The shape may conform to (π / 2−φ)} (A is a coefficient). As described above, by the incident and exit surfaces to a particular curved shape, it is possible to provide an aberration of opposite polarity to the aberration W A.
また、本発明に係る収差補正素子は、光束が透過する液晶素子からなるものである。この液晶素子は、独立に電圧を印加可能な複数の領域に分割され、透過する光束の矢形収差を含む収差WAに対して逆極性の収差を与えるように各領域に所定の電圧値が印加される(請求項8)。このとき、複数の領域は、光束の光軸を含む単一の領域と、単一の領域の周囲の周方向に分割された6の整数倍の領域とからなる、としてもよい(請求項19)。各領域の透過光束の位相は、各領域に印加される電圧値に応じて変化する。これを利用することによっても、収差WAに対して逆極性の収差を与えることができる。すなわち、従来技術では、矢形収差を含む収差WAを補正するものが無かったため、集光スポット形状に歪みが生じていた。これに対し、本発明では、矢形収差を含む収差WAに対して逆極性の収差を与える液晶素子によって、収差WAを抑制できる。 The aberration correction element according to the present invention is a liquid crystal element that transmits a light beam. The liquid crystal element is divided voltages independently to a plurality of regions capable of applying a predetermined voltage value in each region to provide an aberration of opposite polarity to the aberration W A containing dart aberration of transmitted light flux is applied (Claim 8). In this case, the plurality of regions may include a single region including the optical axis of the light flux and a region that is an integral multiple of 6 divided in the circumferential direction around the single region. ). The phase of the transmitted light beam in each region changes according to the voltage value applied to each region. By using this, it is possible to provide an aberration of opposite polarity to the aberration W A. In the conventional art, because there is no corrects the aberration W A containing arrow-shaped aberration, distortion has occurred to the focused spot shape. In contrast, in the present invention, a liquid crystal element that gives an aberration of opposite polarity to the aberration W A containing arrow-shaped aberration, it is possible to suppress the aberration W A.
本発明に係る光ヘッドは、光源から出射された光束を対物レンズによって光ディスクに集光し、光ディスクで反射された光束を対物レンズを介して光検出器によって受光するものにおいて、光源から光ディスクまでの光路中に本発明に係る収差補正素子を備えたことを特徴とする(請求項10)。本発明に係る収差補正素子を備えたことにより、集光スポット形状の歪みが抑えられる。 An optical head according to the present invention condenses a light beam emitted from a light source on an optical disk by an objective lens, and receives a light beam reflected by the optical disk by a photodetector through the objective lens. An aberration correction element according to the present invention is provided in the optical path (claim 10). By providing the aberration correction element according to the present invention, distortion of the focused spot shape can be suppressed.
本発明に係る光ディスク装置は、請求項5記載の収差補正素子を備えた光ヘッドと、収差補正素子をX軸方向に移動させる手段とを備えたもの(請求項11)、請求項6記載の収差補正素子を備えた光ヘッドと、収差補正素子をY軸を中心に回転させる手段とを備えたもの(請求項12)、請求項7記載の収差補正素子を備えた光ヘッドと、収差補正素子をZ軸を中心に回転させる手段とを備えたもの(請求項13)、又は、請求項8又は9記載の収差補正素子を備えた光ヘッドと、液晶素子の各領域に電圧を印加する手段とを備えたもの(請求項14)である。本発明に係る収差補正素子を備えたことにより、集光スポット形状の歪みが抑えられるので、データの読み書きエラーが低減する。 An optical disk apparatus according to the present invention includes an optical head including the aberration correction element according to claim 5 and means for moving the aberration correction element in the X-axis direction (claim 11). An optical head provided with an aberration correction element and means for rotating the aberration correction element around the Y axis (Claim 12), an optical head provided with the aberration correction element according to Claim 7, and aberration correction A device having means for rotating the element around the Z axis (Claim 13), an optical head having the aberration correcting element according to Claim 8 or 9, and a voltage applied to each region of the liquid crystal element Means (claim 14). Since the aberration correction element according to the present invention is provided, distortion of the focused spot shape can be suppressed, so that data read / write errors are reduced.
本発明に係る収差補正方法は、請求項5記載の収差補正素子をX軸方向へ移動させつつ収差WAを測定し、収差WAが最も小さくなる位置に収差補正素子を固定する(請求項15)、請求項6記載の収差補正素子をY軸を中心に回転させつつ収差WAを測定し、収差WAが最も小さくなる角度に収差補正素子を固定する(請求項16)、請求項7記載の収差補正素子をZ軸を中心に回転させつつ収差WAを測定し、収差WAが最も小さくなる角度に収差補正素子を固定する(請求項17)、又は、請求項8又は9記載の収差補正素子を用い、領域ごとに印加する電圧値を変えつつ収差WAを測定し、収差WAが最も小さくなる電圧値を領域ごとに定める(請求項18)。 Aberration correcting method according to the present invention, the aberration correction device according to claim 5, wherein measuring the X-axis aberration W A while moving in the direction, the aberration W A fixes the aberration correcting element to the smallest position (claim 15), while rotating the aberration correcting element according to claim 6, wherein about the Y axis to measure the aberration W a, aberration W a fixes the aberration correcting element to the smallest angle (claim 16), claim the aberration correcting element 7 according to measured aberration W a while rotating about the Z axis, the aberration W a fixes the aberration correcting element to the smallest angle (claim 17), or, according to claim 8 or 9 with the aberration correcting element described, while changing the voltage applied to each region was measured aberration W a, prescribed in each region a voltage value aberration W a is the smallest (claim 18).
換言すると、本発明の光ヘッドは、光源と、該光源からの出射光束を光ディスクへ集光する対物レンズと、前記光ディスクの反射光束を受光する光検出器からなる光ヘッドにおいて、前記対物レンズと前記光源の間に配置され、前記光源から前記光ディスクまでの光路中で発生する予め設定された範囲内の矢形収差とコマ収差が組み合わされた収差WAに対して補正量を連続的に選択できる補正素子を有することを特徴としている。更に好ましくは、第1に、前記補正素子が、互いに凹凸の関係にある形状同一の二つの曲面を持ち、かつ、二つの素子から構成され、該二つの素子の各々は、入射面、出射面のいずれか一方が前記曲面である、又は、単一の素子から構成され、該素子の入射面、出射面の両方が前記曲面であることを特徴としている。第2に、前記曲面が、光軸に垂直な面内にXY軸、光軸方向にZ軸をとったとき、Z1=2πk1(X2+Y2){X2−m(X2+Y2)}(k1は係数、mは1以下の正の数)に従う曲面、又は、Z2=2πk2(X4−Y4)(k2は係数)に従う曲面であることを特徴としている。また、上記曲面は、光軸に垂直な面内に極座標(r,φ)をとり、光軸方向にZ軸をとったとき、Z3=Ar3{4cos3(π/2−φ)−3cos(π/2−φ)}(A:係数)に従う曲面であっても構わない。第3に、前記補正素子が液晶素子であり、光軸からの距離が近い中心部分は単一領域からなり、光軸からの距離が遠い周辺部は光軸のまわりに6の整数倍の領域に分割されていることを特徴としている。 In other words, the optical head of the present invention is an optical head comprising a light source, an objective lens that condenses the luminous flux emitted from the light source onto an optical disc, and a photodetector that receives the reflected luminous flux of the optical disc. A correction amount can be continuously selected with respect to the aberration WA that is arranged between the light sources and is generated in the optical path from the light source to the optical disc within a preset range and is a combination of sagittal aberration and coma aberration. It has a correction element. More preferably, firstly, the correction element has two curved surfaces having the same shape as each other, and is composed of two elements, and each of the two elements includes an incident surface, an output surface. Any one of the above is the curved surface, or a single element, and both the incident surface and the exit surface of the element are the curved surface. Second, when the curved surface has an XY axis in a plane perpendicular to the optical axis and a Z axis in the optical axis direction, Z 1 = 2πk 1 (X 2 + Y 2 ) {X 2 −m (X 2 + Y 2 )} (k 1 is a coefficient, m is a positive number less than 1), or a curved surface according to Z 2 = 2πk 2 (X 4 −Y 4 ) (k 2 is a coefficient). . The curved surface has polar coordinates (r, φ) in a plane perpendicular to the optical axis, and Z 3 = Ar 3 {4cos 3 (π / 2−φ) − when the Z axis is taken in the optical axis direction. 3cos (π / 2−φ)} (A: coefficient) may be used. Third, the correction element is a liquid crystal element, a central portion that is close to the optical axis is a single region, and a peripheral portion that is far from the optical axis is a region that is an integral multiple of 6 around the optical axis. It is characterized by being divided into two.
また、本発明の光ディスク装置は、前記光ヘッドと、前記補正素子を制御する手段を有することを特徴としている。更に好ましくは、第1に、前記補正素子が、互いに凹凸の関係にある形状同一の二つの曲面を持ち、該曲面形状がZ1,Z2に従う場合、前記制御手段は該素子を光軸に垂直な特定の方向に連続的に移動させる手段、又は、該素子を光軸に垂直な特定の方向の軸のまわりに連続的に回転させる手段を含むことを特徴としている。又は、前記補正素子が、互いに凹凸の関係にある形状同一の二つの曲面を持ち、該曲面形状がZ3に従い、前記制御手段は該素子を光軸のまわりに連続的に回転させる手段を含んでいても構わない。第2に、前記補正素子が液晶素子であり、前記制御手段は前記液晶素子の各領域に電圧を印加する手段を含むことを特徴としている。 In addition, the optical disk apparatus of the present invention is characterized by having means for controlling the optical head and the correction element. More preferably, firstly, when the correction element has two curved surfaces having the same shape in a concave-convex relationship, and the curved surface shape conforms to Z 1 and Z 2 , the control means uses the element as an optical axis. It is characterized in that it includes means for continuously moving in a specific direction perpendicular, or means for continuously rotating the element around an axis in a specific direction perpendicular to the optical axis. Or, the correction element has a shape identical two curved surfaces in the unevenness of each other, in accordance with Z 3 is curved sectional shape, said control means including means for continuously rotating the the element around the optical axis It does not matter. Second, the correction element is a liquid crystal element, and the control means includes means for applying a voltage to each region of the liquid crystal element.
また、本発明の収差補正方法は、互いに凹凸の関係にある形状同一の二つの曲面を有する補正素子における前記二つの曲面の一方又は両方を連続的に移動させることにより、収差WAを補正することを特徴としている。更に好ましくは、第1に、前記補正素子の二つの曲面形状がZ1、Z2に従う場合、該素子を光軸に垂直な特定の方向に相対的に連続的に移動させること、又は、光軸に垂直な特定の方向の軸のまわりに連続的に回転させることにより収差WAを補正することを特徴としている。第2に、前記補正素子の二つの曲面形状がZ3に従い、該素子を光軸のまわりに連続的に回転させても構わない。また、本発明の収差補正方法は、前記補正素子が液晶素子であり、かつ、該素子の光軸からの距離が近い中心部分は単一領域からなり、光軸からの距離が遠い周辺部は光軸のまわりに6の整数倍の領域に分割されており、該素子の各領域へ電圧を印加することにより収差WAを補正することを特徴としている。 Further, the aberration correcting method of the present invention, by continuously moving one or both of the two curved surfaces in the correction element having a shape identical two curved surfaces in the unevenness of each other, to correct the aberration W A It is characterized by that. More preferably, first, when the two curved shapes of the correction element follow Z 1 and Z 2 , the element is moved relatively continuously in a specific direction perpendicular to the optical axis, It is characterized by correcting the aberration W a by continuously rotating around a specific axis perpendicular to the axis. Second, the two curved shapes of the correction element may follow Z 3 and the element may be continuously rotated around the optical axis. In the aberration correction method of the present invention, the correction element is a liquid crystal element, and the central portion of the element that is close to the optical axis is a single region, and the peripheral portion that is far from the optical axis is is divided into an integer multiple of the area of 6 around the optical axis, it is characterized by correcting the aberration W a by applying a voltage to the respective regions of the device.
本発明の光ヘッドにおいては、互いに凹凸の関係にある形状同一の二つの曲面を持つ前記補正素子を用いる場合、該素子を光軸に垂直な面内で連続的に移動させるか、又は、該素子の光軸に垂直な軸のまわりに連続的に回転させるか、又は、該素子を光軸のまわりに連続的に回転させる。複数の領域に分割された液晶素子を前記補正素子として用いる場合、液晶素子の領域ごとにそれに応じた振幅の電圧を印加する。これにより、前記光源から前記光ディスクまでの光路中で発生する収差WAを補正することができる。 In the optical head of the present invention, when using the correction element having two curved surfaces having the same shape in a concave-convex relationship, the element is continuously moved in a plane perpendicular to the optical axis, or Rotate continuously around an axis perpendicular to the optical axis of the element, or rotate the element continuously about the optical axis. When a liquid crystal element divided into a plurality of regions is used as the correction element, a voltage having an amplitude corresponding to the region is applied to each region of the liquid crystal element. Thus, it is possible to correct the aberration W A generated in the optical path from the light source to the optical disc.
また、本発明の光ディスク装置においては、前記補正素子の透過光束の位相分布が制御手段によって制御されるので、前記光ディスク装置による光ディスクの再生信号へ含まれる隣接トラックから漏れ込むノイズ成分を低減できる。 Further, in the optical disk apparatus of the present invention, the phase distribution of the transmitted light beam of the correction element is controlled by the control means, so that it is possible to reduce noise components leaking from adjacent tracks included in the reproduction signal of the optical disk by the optical disk apparatus.
また、本発明の収差補正方法においては、前記補正素子における二つの曲面の一方又は両方を光軸に垂直な方向に相対的に連続的に移動させるか又は光軸に垂直な軸のまわりに連続的に回転させる、又は、光軸のまわりに相対的に連続的に回転させる。更には、複数の領域に分割された液晶素子の領域ごとにそれに応じた振幅の電圧を印加するだけで、収差WAを簡便にかつ精度よく補正することができる。 In the aberration correction method of the present invention, one or both of the two curved surfaces of the correction element are moved relatively continuously in a direction perpendicular to the optical axis or continuously around an axis perpendicular to the optical axis. Or rotate relatively continuously around the optical axis. Furthermore, only by applying the amplitude of the voltage corresponding thereto for each area of the liquid crystal element is divided into a plurality of regions, can be corrected well simply and accurately aberration W A.
本発明によれば、光源から光ディスクまでの光路中で発生する矢形収差を含む収差WAに対して逆極性の収差を与えることによって、収差WAを抑制できるので、集光スポット形状の歪みを改善できる。 According to the present invention, by providing an aberration of opposite polarity to the aberration W A containing dart aberration generated in the optical path from the light source to the optical disc, since the aberration W A can be suppressed, the distortion of the focusing spot shape Can improve.
次に、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。ただし、特許請求の範囲における「収差補正素子」は単に「補正素子」と呼ぶことにする。図1は、本発明に係る補正素子及び光ヘッドの第1実施形態を示す光路図である。以下、この図面に基づき説明する。 Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the “aberration correction element” in the claims is simply referred to as “correction element”. FIG. 1 is an optical path diagram showing a first embodiment of a correction element and an optical head according to the present invention. Hereinafter, description will be given based on this drawing.
光ヘッド10は、半導体レーザ11、コリメータレンズ12、補正素子13、偏光ビームスプリッタ14、1/4波長板15、ミラー16、対物レンズ17、再集光レンズ19、円筒レンズ20で、光検出器21等からなる。光ヘッド10は、半導体レーザ11から出射された光束を対物レンズ17によって光ディスク18に集光し、光ディスク18で反射された光束を対物レンズ17を介して光検出器21によって受光するものであり、半導体レーザ11から光ディスク18までの光路中に補正素子13を備えたことを特徴とする。補正素子13は、二つの補正素子13A,13Bからなり、光路中で発生する矢形収差を含む収差WAに対して逆極性の収差を与えることによって、収差WAを抑制できる。そのため、集光スポット形状の歪みが改善される。
The
更に詳しく説明する。半導体レーザ11から出射した直線偏光の光束は、コリメータレンズ12によって平行光束となり、補正素子13A,13Bを透過する。補正素子13A,13Bは光軸(Z軸)に垂直な面内(XY面内)で互いに連続的に移動させることができる。補正素子13A,13Bを透過した光束は偏光ビームスプリッタ14へ入射する。半導体レーザ11の出射光束は、P偏光(X軸方向)となるように調整されているので、偏光ビームスプリッタ14を透過する。偏光ビームスプリッタ14を透過した光束は、1/4波長板15で円偏光となり、ミラー16でその方向が90度曲げられ、対物レンズ17で光ディスク18の記録面上に集光する。光ディスク18で反射した光束は、対物レンズ17で再び平行光束となり、ミラー16を経て、1/4波長板15で直線偏光となる。その偏光方向は往路光束に対して90度回転し、S偏光(Y軸方向)となるので、偏光ビームスプリッタ14で反射し、再集光レンズ19へ入射する。そして、この光束は、再集光レンズ19で集光され、円筒レンズ20で非点収差を加えられ、光検出器21に入射する。光検出器21は図示していない複数の受光素子で構成されており、各々の受光素子からの検出信号を用いて、フォーカス及びトラック誤差信号、そして、再生信号が生成される。
This will be described in more detail. The linearly polarized light beam emitted from the semiconductor laser 11 is converted into a parallel light beam by the
図2は図1の補正素子を示す端面図であり、図2[1]はZX平面での端面図であり、図2[2]はYZ平面での端面図である。以下、図1及び図2に基づき説明する。 2 is an end view showing the correction element of FIG. 1, FIG. 2 [1] is an end view on the ZX plane, and FIG. 2 [2] is an end view on the YZ plane. Hereinafter, a description will be given based on FIG. 1 and FIG.
補正素子13Aは、平面からなる平面22aと、曲面からなる曲面23aとを持つ。補正素子13Bは、平面からなる平面22bと、曲面からなる曲面23bとを持つ。曲面23a,23bは、2πk2(X4−Y4)に従う形状であり(k2は係数)、X軸方向とY軸方向とで曲率の符号が異なる鞍型形状である。図1では、補正素子13A,13Bの平面22a,22bを互いに向かい合わせに配置している。これにより、曲面23a,23bは、互いに凹凸(又は嵌め合い)の関係にある、形状が同一の曲面になっている。
The
また、補正素子13A,13Bが光軸に垂直な面内で移動していない場合(すなわち補正素子13A,13Bの中心軸が光軸と一致している場合)、曲面23a,23bが互いに凹凸の関係にあるため、補正素子13A,13Bを通過する光軸近傍から周辺までの光線の間に光路差が生じることはない。したがって、光ヘッド10の中に補正素子13A,13Bを配置することよって、不要な収差が生じることはない。
In addition, when the
次に、本実施形態における補正の原理について説明する。上述したように、対物レンズ17の瞳面上における波面収差W(r,φ)は式1のように表される。対物レンズ17の瞳面上の波面収差W(r,φ)の標準偏差をWrmsとすると、光ディスク技術(ラジオ技術社出版)の54ページに記載されているように、Wrmsは次の式3で表わせる。
式3においてW0はW(r,φ)の平均値であり、Rは対物レンズ17の半径である。Wrmsは波面収差の評価に用いられ、この値を小さくすれば波面収差の再生信号への影響が少なくなり、良好な光ディスク装置の再生が可能となる。
In
本実施形態では、上記収差WAを補正することを目的としている。したがって、式3は、式2によって次の式4のようになる。
Wrmsを小さくするためには、各r、φにおけるhr3(4cos3φ−3cosφ)の絶対値を小さくすればよい。本実施形態では、補正素子13A,13Bにより対物レンズ17の入射光へ前記収差WAとは逆極性の波面収差を与えることで、Wrmsの低減を行っている。
In order to reduce W rms , the absolute value of hr 3 (4 cos 3 φ- 3 cos φ) at each r and φ may be reduced. In the present embodiment, correcting
次に、本実施形態における補正素子13A,13Bの動作について説明する。図2に示した補正素子13A,13Bを互いに逆方向に移動させる。移動方向をX軸とし、移動量をa1とした場合、補正素子13A,13Bを透過した光束の波面収差W2は次の式5で表すことができる。
W2=2πk2[{(X+a1)4−Y4}−{(X−a1)4−Y4}](n−1)
=16πk2a1X(X2+a1 2)(n−1) …(5)
Next, the operation of the
W 2 = 2πk 2 [{(X + a 1 ) 4 −Y 4 } − {(X−a 1 ) 4 −Y 4 }] (n−1)
= 16πk 2 a 1 X (X 2 + a 1 2 ) (n−1) (5)
ここで、nは補正素子13A,13Bの屈折率である。また、対物レンズ17の瞳面上と同じ極座標で表示(X=rcosφ,Y=rsinφ)とすると、上式は次の式6で表すことができる。
W2=4πk2a1(n−1)(4r3cos3φ+4a1 2rcosφ) …(6)
Here, n is the refractive index of the
W 2 = 4πk 2 a 1 (n−1) (4r 3 cos 3 φ + 4a 1 2 rcos φ) (6)
ここで、h=−4πk2a1(n−1)となるように係数k2及び補正素子13A,13Bの移動量a1を決めれば良い。移動量a1は連続的に選択できる値であるため、予め設定された範囲内の収差WAの矢形収差成分(式2の右辺第一項)を精度よく補正することができる。移動量a1は係数k2にもよるが、200[μm]もあれば十分である。加えて、収差WAのコマ収差成分(式2の右辺第二項)は光ディスク18を傾斜させることで補正する。なお、上記補正のみでは式6の第二項が残る。この項は像点移動の成分であるため、対物レンズ17を光軸方向に垂直な面内で移動させることで補正することができる。
Here, the coefficient k 2 and the movement amount a 1 of the
図10[1]は、以上の補正を行った後の集光スポットの2次元強度分布の例を示す図である。図10[1]では、図10[2]と同様に、集光スポットの裾部分の光強度分布を強調している。同図より、図10[2]で示した略3角形の中心部分の形状が円形に、3方向に光強度の強い部分を持つサイドローブ形状がリング状に略均一の光強度分布になり、良好な集光スポット形状になっている。これにより、収差WAが補正されていることがわかる。なお、本実施形態では、補正素子13A,13Bの平面22a,22bを対面させているが、曲面23a,23bを対面させても収差WAの補正は可能である。
FIG. 10 [1] is a diagram showing an example of the two-dimensional intensity distribution of the focused spot after the above correction. In FIG. 10 [1], as in FIG. 10 [2], the light intensity distribution at the bottom of the focused spot is emphasized. From the figure, the shape of the central part of the substantially triangular shape shown in FIG. 10 [2] is circular, and the sidelobe shape having a strong light intensity in three directions has a substantially uniform light intensity distribution in a ring shape. It has a good condensing spot shape. As a result, it can be seen that the aberration W A is corrected. In the present embodiment, correcting
図3は本発明に係る補正素子の第2実施形態を示す端面図であり、図3[1]はZX平面での端面図であり、図3[2]はYZ平面での端面図である。以下、図1及び図3に基づき説明する。 FIG. 3 is an end view showing a second embodiment of the correction element according to the present invention, FIG. 3 [1] is an end view in the ZX plane, and FIG. 3 [2] is an end view in the YZ plane. . Hereinafter, a description will be given based on FIGS. 1 and 3.
本実施形態の補正素子13C,13Dは、第1実施形態の補正素子13A,13Bに代えて光ヘッド10に使用される。補正素子13C,13Dは、補正素子13A,13Bと同様に、平面22c,22dと曲面23c,23dとを持っている。曲面23c,23dは、2πk1(X2+Y2){X2−m(X2+Y2)}に従う形状であり(k1は係数、mは1以下の正の数)、二つの補正素子13C,13Dの平面22c,22dを向かい合わせに配置する。これにより、二つの補正素子13C,13Dの曲面23c,23dの形状は、互いに凹凸の関係にあり、かつ、同一である。また、補正素子13C,13Dが光軸に垂直な面内で移動していない場合、補正素子13C,13Dを通過する光軸近傍から周辺までの光線の間に光路差が生じることはない。そのため、光ヘッド10の中に補正素子13C,13Dを配置することで、不要な収差が生じることはない。
The
次に本実施形態における補正素子13C,13Dの動作について説明する。補正素子13A,13Bと同様に、補正素子13C,13Dを互いに逆方向に連続的に移動させる。移動方向をX軸とし、移動量をa2とした場合、補正素子13C,13Dを透過した光束の波面収差W1は次の式7で表すことができる。なお、対物レンズ17の瞳面上と同じ極座標表示(X=rcosφ,Y=rsinφ)を用いて表している。
W1=2πk1(n−1){4a2r3cos3φ+4a2(1−2m)r3cosφ+8a2 3(1−m)rcosφ} …(7)
Next, the operation of the
W 1 = 2πk 1 (n−1) {4a 2 r 3 cos 3 φ + 4a 2 (1-2 m) r 3 cos φ + 8a 2 3 (1-m) r cos φ} (7)
mが7/8の場合、式7は次の式8のように表すことができる。
W1=2πk1a2(n−1)(4r3cos3φ−3r3cosφ+a2 2rcosφ) …(8)
When m is 7/8, Expression 7 can be expressed as the following Expression 8.
W 1 = 2πk 1 a 2 (n−1) (4r 3 cos 3 φ-3r 3 cos φ + a 2 2 rcos φ) (8)
ここで、h=−2πk1a2(n−1)となるように係数k1及び補正素子13C,13Dの移動量a2を決めれば良い。移動量a2は連続的に選択できる値であるため、収差WAの矢形収差成分とコマ収差成分とを精度よく補正することができる。なお、上記補正のみでは式8の第三項が残る。この項は像点移動の成分であるため、対物レンズ17を光軸方向に垂直な面内で移動させることで補正することができる。
Here, the coefficient k 1 and the movement amount a 2 of the
また、mが1の場合、式7は次の式9のように表すことができる。
W1=2πk1a2(n−1)r3(4cos3φ−4cosφ) …(9)
Further, when m is 1, Expression 7 can be expressed as the following Expression 9.
W 1 = 2πk 1 a 2 (n−1) r 3 (4 cos 3 φ-4 cos φ) (9)
ここで、h=−2πk1a2(n−1)となるように係数k1及び補正素子13C,13Dの移動量a2を決めれば良い。移動量a2は連続的に選択できる値であるため、収差WAの矢形収差成分とコマ収差成分とを精度よく補正することができる。また、mが7/8の場合と異なり、像点移動による収差を発生させることがなくなる。なお、収差WAのコマ収差成分が残るが、光ディスク18を傾斜させることで補正することができる。
Here, the coefficient k 1 and the movement amount a 2 of the
以上の補正を行うことで、第1実施形態と同様に、図10[1]のような良好な集光スポット形状を得ることができる。なお、第1実施形態と同様に、補正素子13C,13Dの対面させる面を曲面23c,23dとしても、収差WAの補正は可能である。
By performing the above correction, a good condensing spot shape as shown in FIG. 10 [1] can be obtained as in the first embodiment. As in the first embodiment, the
図4は本発明に係る補正素子の第3実施形態を示す端面図であり、図4[1]はZX平面での端面図であり、図4[2]はYZ平面での端面図であり、図4[3]はZX平面での位相補正時の端面図である。以下、図1及び図4に基づき説明する。 FIG. 4 is an end view showing a third embodiment of the correction element according to the present invention, FIG. 4 [1] is an end view in the ZX plane, and FIG. 4 [2] is an end view in the YZ plane. FIG. 4 [3] is an end view at the time of phase correction on the ZX plane. Hereinafter, description will be given based on FIG. 1 and FIG.
補正素子30は、第1実施形態における補正素子13A,13Bに代えて光ヘッド10に使用され、光軸に垂直な特定の軸に対して回転させることができる。また、補正素子30は、二つの曲面31,32を持ち、曲面31,32は、それぞれ、第1実施形態の補正素子13A,13Bの曲面23a,23bと同じ形状である。また、補正素子30を光軸に対して垂直な特定の軸のまわりに回転していない場合、補正素子30を通過する光軸近傍から周辺までの光線の間に光路差が生じることはない。そのため、光ヘッド10の中に補正素子30を配置することによって、不要な収差が生じることはない。
The
次に、第3実施形態における収差WAの補正方法について説明する。図4[3]は、補正素子30による補正方法の一例を示す図である。同図より、補正素子30を、Y軸のまわりに連続的に回転させる。これにより、曲面31,32がX軸方向に相対的にずれることになる。よって、第1実施形態と同様に補正素子30を透過した光束の波面収差は、式6のように表すことができる。傾き角αは連続的に選択できる値であるため、収差WAの矢形収差成分を精度よく補正することができる。補正素子30の傾き角αは、補正素子30の厚さにもよるが0.2度もあれば十分である。上記矢形収差成分の補正に加えて、光ディスク18の傾斜によるコマ収差成分の補正、及び、対物レンズ17の面内移動による像点移動の成分の補正を行い、収差WAを補正することができる。
Next, a description will be given of a correction method of an aberration W A in the third embodiment. FIG. 4 [3] is a diagram illustrating an example of a correction method by the
また、曲面31,32の形状を、第2実施形態の曲面形状のmが7/8の場合、つまり、2πk1(X2+Y2){X2−7/8(X2+Y2)}に従う曲面と同じ形状とした場合、補正素子30をY軸のまわりに所望の角度だけ回転させると、収差WAの矢形収差成分とコマ収差成分とを補正することができる。補正素子30の回転後に残る像点移動の成分は、対物レンズ17を光軸方向に垂直な面内で移動させることで補正することができる。一方、曲面31,32の形状を、第2実施形態の曲面形状のmが1の場合、つまり、−2πk1(X2+Y2)Y2に従う曲面と同じ形状とした場合、補正素子30をY軸のまわりに所望の角度だけ回転させると、収差WAの矢形収差成分と像点移動の成分とを補正することができる。補正素子30の回転後に残るコマ収差成分は、光ディスク18を傾斜させることで補正することができる。
Further, the
以上のような補正を行うことで、第3実施形態においても、図10[1]のような良好な集光スポット形状を得ることができる。また、第3実施形態では、第1及び第2実施形態に比べて補正素子を減らすことができる。加えて、第3実施形態の補正素子では、傾きで矢形収差の補正を実施しているため、二つの補正素子を同量移動させる第1及び第2実施形態に比べて、収差WAの補正手段が簡便である。また、上記第1乃至第3実施形態では光ディスク18の傾斜によってコマ収差の補正を行っているが、代わりに対物レンズ17を傾斜させることでコマ収差の補正を行っても良い。
By performing the correction as described above, a good condensing spot shape as shown in FIG. 10 [1] can be obtained also in the third embodiment. In the third embodiment, the number of correction elements can be reduced as compared with the first and second embodiments. In addition, the correction element of the third embodiment, since the implemented correction of arrow-shaped aberration in slope, as compared with the first and second embodiment is the same amount move two correcting elements, correction of aberration W A Means are simple. In the first to third embodiments, coma is corrected by tilting the
図5は、本発明に係る補正素子の第4実施形態を示す斜視図である。図6は、図5の補正素子の位相補正時の斜視図である。以下、図1、図5及び図6に基づき説明する。 FIG. 5 is a perspective view showing a fourth embodiment of the correction element according to the present invention. FIG. 6 is a perspective view of the correction element of FIG. 5 at the time of phase correction. Hereinafter, description will be given based on FIG. 1, FIG. 5 and FIG.
本実施形態の補正素子34,35は、第1実施形態における補正素子13A,13Bに代えて光ヘッド10に使用される。補正素子34,35は光軸のまわりに回転させることができる。補正素子34,35は、それぞれ曲面37、38と、平面36,39とを持つ。曲面37,38は、対物レンズ17の瞳面上における極座標を(r,φ)を用いて、Ar3{4cos3(π/2−φ)−3cos(π/2−φ))(Aは係数)に従う形状である。コリメータレンズ12を透過した光束は光軸(Z軸)方向へ進行する。すなわち、コリメータレンズ12を透過した光束は、補正素子34の平面39から入射し、曲面38,37を経て、補正素子35の平面36から出射する。このとき、曲面37,38は、互いに凹凸の関係にある、形状が同一の曲面になっている。また、補正素子34,35が光軸のまわりに回転していない場合(すなわち曲面37,38が面内で完全に重なりあう場合)、曲面37,38が互いに凹凸の関係にあるため、補正素子34,35を通過する光軸近傍から周辺までの光線の間に光路差が生じることはない。したがって、光ヘッド10の中に補正素子34,35を配置することによって、不要な収差が生じることはない。
The
次に、第4実施形態における収差WAの補正方法について説明する。図6は、補正素子34,35による補正方法の一例を示す図である。同図より、補正素子34,35を光軸(Z軸)方向に僅かに離して配置する。収差WAを補正する場合、補正素子34,35を光軸のまわりに互いに逆方向へ連続的に回転させる。回転させる角度をθとした場合、補正素子34,35を透過した光束の波面収差W3は次の式10で表すことができる。
Next, a description will be given of a correction method of an aberration W A in the fourth embodiment. FIG. 6 is a diagram illustrating an example of a correction method using the
W3=Ar3[4{cos3((π/2−φ)+θ)−cos3((π/2−φ)−θ)}−3{cos((π/2−φ)+θ)−cos((π/2−φ)−θ)}](n−1)
=2Ar3{4sin3(π/2−φ)−3sin(π/2−φ)}(3−4sin2θ)sinθ(n−1)
=2Ar3(n−1)(4cos3φ−3cosφ)(3−4sin2θ)sinθ …(10)
W 3 = Ar 3 [4 {cos 3 ((π / 2−φ) + θ) −cos 3 ((π / 2−φ) −θ)} − 3 {cos ((π / 2−φ) + θ) − cos ((π / 2−φ) −θ)}] (n−1)
= 2Ar 3 {4sin 3 (π / 2-φ) -3sin (π / 2-φ)} (3-4sin 2 θ) sinθ (n−1)
= 2Ar 3 (n−1) (4cos 3 φ-3cosφ) (3-4sin 2 θ) sinθ (10)
ここで、h=−2A(n−1)(3−4sin2θ)sinθとなるように係数A及び補正素子34,35の回転角θを決めれば良い。回転角θは連続的に選択できる値であるため、収差WAを精度よく補正することができ、図10[1]のような良好な集光スポット形状を得ることができる。補正に必要な回転角は±5度もあれば十分であり、その程度の回転角が確保できる程度に補正素子34,35は近接させて配置することができる。このため、光ヘッド10の光学系内における補正素子34,35の配置スペースの点で、実用上問題ない。なお、本実施形態では、補正素子34,35の曲面37,38を対面させているが、平面36,39を対面させても収差WAの補正は可能である。
Here, the coefficient A and the rotation angle θ of the
上記第1乃至第4実施形態における収差WAの補正では、集光スポット形状を観測しながら、図10[1]のような形状になるように各補正素子を調整する。つまり、補正素子13A,13Bでは最適移動量、補正素子30では最適傾き角、補正素子34,35では最適回転角を手動で調整し、その後、固定する。これにより、光ディスク18の再生信号への隣接トラックからの不要な信号の漏れ込みを低減することができ、再生信号の信号品質を改善することができる。
The correction of aberrations W A in the first to fourth embodiments, while observing the condensing spot shape, adjusting each compensation element such that the shape as shown in FIG. 10 [1]. That is, the optimal movement amount is corrected by the
図7及び図8は本発明に係る補正素子の第5実施形態を示し、図7[1]は平面図、図7[2]は断面図、図7[3]は印加電圧の波形図、図8[1]は作用を示すグラフ、図8[2]は効果を示すグラフである。以下、これらの図面に基づき説明する。 7 and 8 show a fifth embodiment of the correction element according to the present invention. FIG. 7 [1] is a plan view, FIG. 7 [2] is a cross-sectional view, and FIG. 7 [3] is a waveform diagram of an applied voltage. FIG. 8 [1] is a graph showing the effect, and FIG. 8 [2] is a graph showing the effect. Hereinafter, description will be given based on these drawings.
本実施形態の補正素子40は、第1実施形態における補正素子13A,13Bに代えて光ヘッド10に用いられる。補正素子40は、液晶素子であり、透過光束の断面内の位相分布を変化させる機能を持っている。
The
図7[1]は補正素子40の光軸方向に垂直な面内のパタンの一例を示す図である。透明電極から成る13個の領域41〜53に分割されており、各々の領域41〜53を透過する光束54の位相を変化させることができる。図7[2]は補正素子40の断面の概略を示す図である。補正素子40は、液晶分子を含んだ液晶層58を配向膜57,59で挟み込み、更に透明電極56,60及びガラス基板55,61で挟み込んだものである。なお、透明電極56,60のいずれか一方が全面電極であり、他方が上述した13分割の電極である。7[3]は、透明電極56,60の間に印加する電圧の波形を示す図である。同図のような電圧を領域41〜53の透明電極56,60の間に独立に印加することで、液晶層58内の液晶分子の配向を変化させ、領域41〜53のそれぞれに対応した液晶層58を透過する光束54の位相を変化させる。
FIG. 7 [1] is a diagram illustrating an example of a pattern in a plane perpendicular to the optical axis direction of the
次に、第5実施形態における収差WAの補正方法について説明する。対物レンズ周辺領域の収差WAは図11に示すようにφに対し周期的に変化し、光軸近傍の収差WAはほぼ0である。今、φが0[deg]となる方向をX軸とする。上記波面収差を補正するために、補正素子40の各領域に印加する電圧を制御する。具体的には、波面収差がほぼ0である領域53に基準となる電圧±VAを与える。そして、領域41,44,45,48,49,52の透過光束に負の波面収差に相当する位相を与えるように各領域へ電圧±VBを印加し、領域42,43,46,47,50,51の透過光束に領域41,44,45,48,49,52と絶対値が同じで逆極性となる正の波面収差に相当する位相を与えるように各領域へ電圧±VCを印加する。このとき、印加される電圧VB,VCの振幅はVAの振幅と異なり、領域41〜52の透過光束と領域53の透過光束との間には(VB−VA)又は(VC−VA)に比例した位相差を生じ、この位相差により収差WAを補正することができる。
Next, a description will be given of a correction method of an aberration W A in the fifth embodiment. The aberration W A of the objective lens peripheral region periodically changes with respect to φ, as shown in FIG. 11, the aberration W A in the vicinity of the optical axis is almost zero. The direction in which φ is 0 [deg] is now the X axis. In order to correct the wavefront aberration, the voltage applied to each region of the
以上のような位相制御を行った場合、各領域における透過光束の波面収差の様子を図8[1]に示す。同図には、図11に示した波面収差の曲線も併記している。同図より、図中太い実線で示しているように、領域41〜52の波面収差の補正量の絶対値は同じであるが、領域によって符号が異なっている。図8[2]は、補正素子40で位相制御を実施し、収差WAが補正された場合の波面収差を示す図である。図中の点線が補正素子40による補正後の波面収差である。同図には、図11の波面収差も併記している。図8[2]から、補正素子40による補正によって、残留する波面収差が若干あるものの、収差WAが抑制できていることが分かる。これにより、図10[1]に示すような集光スポットを得ることができる。
FIG. 8 [1] shows the state of wavefront aberration of the transmitted light beam in each region when the above phase control is performed. In the same figure, the curve of the wavefront aberration shown in FIG. 11 is also shown. As shown by the thick solid line in the figure, the absolute value of the correction amount of the wavefront aberration in the
なお、収差WAは、φが60度間隔でその絶対値が最大値となる特性である。しかし、必ずしも、φが0度で収差WAの絶対値が最大値となる必要はなく、光ヘッド毎に収差WAの絶対値が最大値となるφが異なる場合もある。補正素子40の光軸からの距離が遠い周辺部では、光軸のまわりに透過光束の位相を制御できる領域を12分割、すわなち、6の整数倍の領域に分割することで、光ヘッド毎に異なる収差WAの方向に合わせて、前記領域ごとに透過光束の位相を制御している。例えば、φが30度で収差WAが最大値となる場合、領域41,42,45,46,49,50に電圧±VBを印加し、領域43,44,47,48,51,52に電圧±VCを印加すれば良い。
Note that the aberration W A is, phi is the absolute value at 60 degree intervals are characteristic of the maximum value. However, there is always, phi is no need absolute value is the maximum value of the aberration W A at 0 °, when the absolute value of the aberration W A for each optical head is maximized phi is also different. In the peripheral portion where the distance from the optical axis of the
補正素子40は液晶素子で構成されているため、前述した第1乃至第4実施形態より薄い素子で収差WAを補正することができ、光ヘッドの小型化に有益である。また、液晶素子は電極形状を変えることで、球面収差、コマ収差、非点収差などの波面収差の補正も可能であり、各種収差を補正する素子と補正素子40とを簡単に組み合わせることで、各種収差の補正が可能な小型の補正素子を作り出すことができる。
Correcting
また、本実施形態の液晶素子では、周辺部の領域を12分割しているが、分割数が6の整数倍であればそれに限るものではない。収差WAの補正において、実用上問題ないように分割された液晶素子であるならば、上記分割数より少なく、又は、多くしても問題ない。また、周方向の領域分割を必ずしも等間隔とする必要もなく、領域毎に周方向の間隔を変えても良い。 Further, in the liquid crystal element of the present embodiment, the peripheral region is divided into twelve, but the number of divisions is not limited thereto as long as the number of divisions is an integral multiple of six. In the correction of aberration W A, if a liquid crystal element which is divided as no practical problem, less than the number of divisions, or not be problematic. Further, it is not always necessary to divide the circumferential region into equal intervals, and the circumferential interval may be changed for each region.
図9は、本発明に係る光ディスク装置の第1実施形態を示すブロック図である。以下、この図面に基づき説明する。 FIG. 9 is a block diagram showing a first embodiment of an optical disc apparatus according to the present invention. Hereinafter, description will be given based on this drawing.
本実施形態の光ディスク装置70は、光ヘッド10、制御回路71及び光ディスク18で構成されている。光ヘッド10は、図1及びその説明に示した構成を持っている。制御回路71は、本発明に係る補正素子の第1乃至第5実施形態で述べた補正素子13A,13B,13C,13D,30,34,35,40を制御する回路である。
The optical disk device 70 according to the present embodiment includes the
次に、本実施形態における補正素子の制御方法について説明する。光ディスク18の再生信号の信号品質指標(例えば、ビットエラーレートなど)を観測しながら、最適な信号品質になるように各補正素子へ補正量に応じた信号Aを送信する。図示していないが、補正素子は、必要に応じ、可動機構に搭載されている。例えば、補正素子13A,13B,13C,13Dは光軸に垂直な面内で移動できる可動機構、補正素子30は光軸に垂直な面に対して煽ることができる機構、補正素子34,35は光軸のまわりに回転できる機構に搭載されている。制御回路71から送信された信号Aにより、補正素子13A,13B,13C,13D,30,34,35を搭載している機構部が稼動し、補正素子の透過光束の位相分布が変化する。また、補正素子40においても、各領域に印加された電圧に応じ透過光束の位相分布が変化する。なお、集光スポット形状を観測しながら補正素子を透過する光束の位相分布を変化させても良い。これにより、所望の収差の補正を行い、再生信号に含まれる、隣接トラックから漏れ込むノイズ成分を低減することができる。
Next, the control method of the correction element in this embodiment will be described. While observing a signal quality index (for example, bit error rate) of the reproduction signal of the
上述した本発明に係る各実施形態では、5次の矢形収差成分と3次のコマ収差成分を持つ収差WAを補正する形態を説明したが、5次以上の矢形収差成分と3次以上のコマ収差成分を持つ収差の補正も可能である。その場合、補正素子を、それに応じた波面収差を考慮した形状とすれば、問題なく補正が可能である。 In the embodiments according to the present invention described above, the fifth-order dart has been described in the form of correcting aberration W A with aberration component and the third-order coma aberration components, the fifth-order higher dart aberration component and the third order or more Correction of aberrations having coma aberration components is also possible. In that case, if the correction element has a shape that takes into account the corresponding wavefront aberration, correction can be performed without any problem.
また、本発明に係る各実施形態における誤差信号検出方式としては、上記では言及していないが、フォーカス誤差信号検出方式としてナイフエッジ法、非点収差法など、トラック誤差信号検出方式としてプッシュプル法、位相差法など、従来の光ヘッドに適用されている方式を用いることができる。本発明の光ヘッド及び光ディスク装置の実施形態は、相変化光ディスク、光磁気ディスクなどの記録再生ディスクに限らず、追記型光ディスク、再生専用光ディスクに対応できる。 Further, as an error signal detection method in each embodiment according to the present invention, although not mentioned above, a push-pull method as a track error signal detection method such as a knife edge method or an astigmatism method as a focus error signal detection method. A method applied to a conventional optical head, such as a phase difference method, can be used. Embodiments of the optical head and the optical disc apparatus of the present invention are not limited to recording / reproducing discs such as phase change optical discs and magneto-optical discs, but can be applied to write-once optical discs and read-only optical discs.
次に、本発明の効果について詳しく説明する。本発明の第1の効果は、光ヘッド内の光学素子の傾き、位置ずれなどで生じる5次の矢形収差と3次のコマ収差が組み合わされた収差WAを補正できることである。その理由は、互いに凹凸の関係にある形状同一の二つの曲面を有する補正素子における曲面形状が、光軸に垂直な面内にXY軸、光軸方向にZ軸をとったとき、Z1=2πk1(X2+Y2){X2−m(X2+Y2)}(k1は係数、mは1以下の正の数)、又は、Z2=2πk2(X4−Y4)(k2は係数)に従う曲面である場合、補正素子を光軸に垂直な特定の方向に相対的に連続的に移動させるか又は光軸に垂直な特定の方向の軸のまわりに連続的に回転させることで上記収差WAを補正するからである。また、互いに凹凸の関係にある形状同一の二つの曲面を有する補正素子の曲面形状が、光軸に垂直な面内に極座標(r、φ)をとり、光軸方向にZ軸をとったとき、Z3=Ar3{4cos3(π/2−φ)−3cos(π/2−φ)}(A:係数)に従う曲面である場合、補正素子を光軸のまわりに連続的に回転させて、上記収差WAを補正するからである。また、補正素子が複数に分割された領域を有する液晶素子である場合、液晶素子の領域ごとにそれに応じた振幅の電圧を印加することで各領域を透過する光束の位相分布を変化させて、前記収差WAを補正するからである。 Next, the effect of the present invention will be described in detail. The first effect of the present invention, the inclination of the optical elements in the optical head is to be corrected aberration W A five-order arrow-shaped aberration and third-order coma aberration occurring are combined in such positional deviation. The reason for this is that when the curved surface shape of the correction element having two curved surfaces having the same shape in a concave-convex relationship takes the XY axis in the plane perpendicular to the optical axis and the Z axis in the optical axis direction, Z 1 = 2πk 1 (X 2 + Y 2 ) {X 2 −m (X 2 + Y 2 )} (k 1 is a coefficient, m is a positive number less than 1), or Z 2 = 2πk 2 (X 4 −Y 4 ) In the case of a curved surface according to (k 2 is a coefficient), the correction element is moved relatively continuously in a specific direction perpendicular to the optical axis or continuously around an axis in a specific direction perpendicular to the optical axis. be rotated because correcting the aberration W a. In addition, when the curved surface shape of the correction element having two curved surfaces having the same shape, which are in a concave-convex relationship, takes polar coordinates (r, φ) in a plane perpendicular to the optical axis and takes the Z axis in the optical axis direction , Z 3 = Ar 3 {4 cos 3 (π / 2−φ) −3 cos (π / 2−φ)} (A: coefficient), the correction element is continuously rotated around the optical axis. Te, because correcting the aberration W a. In addition, when the correction element is a liquid crystal element having a region divided into a plurality of regions, the phase distribution of the light beam transmitted through each region is changed by applying a voltage with an amplitude corresponding to each region of the liquid crystal element, This is because to correct the aberration W a.
第2の効果は、光ディスク装置における再生信号のノイズ成分を低減できることである。その理由は、光ヘッドに上記補正素子を組み込むことにより、前記補正素子の透過光束の位相分布が制御手段によって制御され、光ディスク装置の再生信号へ含まれる隣接トラックから漏れ込むノイズ成分を抑制できるからである。 The second effect is that the noise component of the reproduction signal in the optical disc apparatus can be reduced. The reason is that by incorporating the correction element in the optical head, the phase distribution of the transmitted light beam of the correction element is controlled by the control means, and the noise component leaking from the adjacent track included in the reproduction signal of the optical disk apparatus can be suppressed. It is.
第3の効果は、上記収差WAを補正する手段が簡便で、かつ、精度のよいことである。その理由は、補正素子の曲面形状がZ1,Z2に従う場合、その素子を光軸に垂直な特定の方向に連続的に移動させるか又は光軸に垂直な特定の方向の軸のまわりに連続的に回転させ、補正素子の曲面形状がZ3に従う場合、その素子を光軸のまわりに相対的に連続的に回転させるだけでよいからである。また、補正素子が上記液晶素子である場合、その素子を透過する光束の位相分布を変化させるだけでよいからである。 The third effect is a convenient means for correcting the aberration W A, and is that good precision. The reason is that when the curved surface shape of the correction element conforms to Z 1 and Z 2 , the element is continuously moved in a specific direction perpendicular to the optical axis, or around an axis in a specific direction perpendicular to the optical axis. continuously rotated, if the curved shape of the correction element according to Z 3, because the device need only be relatively continuously rotated around the optical axis. Further, when the correction element is the liquid crystal element, it is only necessary to change the phase distribution of the light beam transmitted through the element.
10 光ヘッド
11 半導体レーザ
12 コリメータレンズ
13A,13B,13C,13D,30,34,35,40 補正素子
14 偏光ビームスプリッタ
15 1/4波長板
16 ミラー
17 対物レンズ
18 光ディスク
19 再集光レンズ
20 円筒レンズ
21 光検出器
23a,23b,23c,23d,31,32,36,38 曲面
22a,22b,22c,22d,37,39 平面
41,42,43,44,45,46,47,48,49,50,51,52,53 領域
54 光束
55,61 ガラス基板
56,60 透明電極
57,59 配向膜
58 液晶層
70 光ディスク装置
71 制御回路
DESCRIPTION OF
Claims (18)
前記光束が透過する入射面及び出射面を有し、
当該入射面及び出射面は、透過する前記光束の矢形収差を含む収差WAに対して逆極性の収差を与える曲面からなる、
ことを特徴とする収差補正素子。 In an aberration correction element used in an optical head that collects a light beam emitted from a light source on an optical disk by an objective lens and receives the light beam reflected by the optical disk by a photodetector through the objective lens,
Having an entrance surface and an exit surface through which the luminous flux is transmitted;
The entrance and exit surfaces is composed of a curved surface to provide an aberration of opposite polarity to the aberration W A containing dart aberration of the light flux which passes,
An aberration correction element characterized by the above.
請求項1記載の収差補正素子。 The curved surface that constitutes the incident surface and the curved surface that constitutes the emission surface are shapes that overlap each other when one of them is translated toward the other.
The aberration correction element according to claim 1.
請求項2記載の収差補正素子。 The first aberration correction element on which the incident surface is formed and the second aberration correction element on which the emission surface is formed.
The aberration correction element according to claim 2.
請求項2記載の収差補正素子。 A single aberration correction element having the incident surface formed on one surface and the exit surface formed on the other surface,
The aberration correction element according to claim 2.
請求項1乃至4のいずれか一つに記載の収差補正素子。 When the XY axis is in the plane perpendicular to the optical axis of the luminous flux and the Z axis is in the direction of the optical axis, the curved surface is Z = 2πk 1 (X 2 + Y 2 ) {X 2 −m (X 2 + Y 2 )} (k 1 is a coefficient, m is a positive number of 1 or less),
The aberration correction element according to claim 1.
請求項1乃至4のいずれか一つに記載の収差補正素子。 The curved surface has a shape according to Z = 2πk 2 (X 4 −Y 4 ) (k 2 is a coefficient) when the XY axis is taken in a plane perpendicular to the optical axis of the luminous flux and the Z axis is taken in the direction of the optical axis. Is,
The aberration correction element according to claim 1.
請求項1乃至4のいずれか一つに記載の収差補正素子。 The curved surface takes polar coordinates (r, φ) in a plane perpendicular to the optical axis of the luminous flux, and Z = Ar 3 {4cos 3 (π / 2−φ) when the Z axis is taken in the direction of the optical axis. ) -3cos (π / 2-φ)} (A is a coefficient),
The aberration correction element according to claim 1.
前記光束が透過する液晶素子からなり、
この液晶素子は、独立に電圧を印加可能な複数の領域に分割され、透過する前記光束の矢形収差を含む収差WAに対して逆極性の収差を与えるように前記各領域に所定の電圧値が印加される、
ことを特徴とする収差補正素子。 In an aberration correction element used in an optical head that collects a light beam emitted from a light source on an optical disk by an objective lens and receives the light beam reflected by the optical disk by a photodetector through the objective lens,
A liquid crystal element through which the luminous flux passes,
The liquid crystal element is divided voltage to the plurality of regions capable of applying independently the light flux of arrow-shaped predetermined voltage value to the respective regions so as to provide an aberration of opposite polarity to the aberration W A which includes an aberration that transmits Is applied,
An aberration correction element characterized by the above.
請求項8記載の収差補正素子。 The plurality of regions are composed of a single region including the optical axis of the light flux and a region that is an integral multiple of 6 divided in the circumferential direction around the single region.
The aberration correction element according to claim 8.
前記光源から前記光ディスクまでの光路中に、請求項1乃至9のいずれか一つに記載の収差補正素子を備えた、
ことを特徴とする光ヘッド。 In an optical head that collects a light beam emitted from a light source on an optical disk by an objective lens and receives the light beam reflected by the optical disk by a photodetector through the objective lens,
In the optical path from the light source to the optical disc, the aberration correction element according to any one of claims 1 to 9 is provided.
An optical head characterized by that.
前記収差補正素子を前記X軸方向に移動させる手段と、
を備えたことを特徴とする光ディスク装置。 An optical head comprising the aberration correction element according to claim 5;
Means for moving the aberration correction element in the X-axis direction;
An optical disc apparatus comprising:
前記収差補正素子を前記Y軸を中心に回転させる手段と、
を備えたことを特徴とする光ディスク装置。 An optical head comprising the aberration correction element according to claim 6;
Means for rotating the aberration correction element about the Y axis;
An optical disc apparatus comprising:
前記収差補正素子を前記Z軸を中心に回転させる手段と、
を備えたことを特徴とする光ディスク装置。 An optical head comprising the aberration correction element according to claim 7;
Means for rotating the aberration correction element about the Z axis;
An optical disc apparatus comprising:
前記液晶素子の各領域に電圧を印加する手段と、
を備えたことを特徴とする光ディスク装置。 An optical head comprising the aberration correction element according to claim 8 or 9,
Means for applying a voltage to each region of the liquid crystal element;
An optical disc apparatus comprising:
ことを特徴とする収差補正方法。 While the aberration correcting element according to claim 5, wherein moving to the X-axis direction to measure the aberration W A, to fix the aberration correcting element this aberration W A is the smallest position,
An aberration correction method characterized by the above.
ことを特徴とする収差補正方法。 The aberration W A measured aberration correcting element according to claim 6, wherein while rotating about the Y axis, to fix the aberration correcting element to the angle formed by the aberration W A is the smallest,
An aberration correction method characterized by the above.
ことを特徴とする収差補正方法。 The aberration W A measure an aberration correcting device according to claim 7, wherein while rotating about the Z axis, to fix the aberration correcting element to the angle formed by the aberration W A is the smallest,
An aberration correction method characterized by the above.
ことを特徴とする収差補正方法。 With the aberration correcting device according to claim 8 or 9, wherein, while changing the voltage applied to each of said areas to measure the aberration W A, defining a voltage value that this aberration W A is the smallest in each of said areas,
An aberration correction method characterized by the above.
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010050589A1 (en) * | 2008-10-31 | 2010-05-06 | 旭硝子株式会社 | Aberration correction device, optical device, and optical head device |
| JP2013093080A (en) * | 2011-10-26 | 2013-05-16 | Asahi Glass Co Ltd | Optical element and optical head device |
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2005
- 2005-07-05 JP JP2005196304A patent/JP2007018558A/en not_active Withdrawn
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