JP2007066048A - Ic card - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ICカードに関し、特に接着剤を用いてICチップが固定されるICカードに関する。 The present invention relates to an IC card, and more particularly to an IC card to which an IC chip is fixed using an adhesive.
近年、身分証明書カード(IDカード)やクレジットカードなどの分野において、従来の磁気記録方式によりデータが記録された磁気カードに代わり、ICチップを内蔵したICカードが普及し始めている。 In recent years, in the fields of identification cards (ID cards) and credit cards, IC cards with built-in IC chips have begun to spread in place of magnetic cards on which data is recorded by the conventional magnetic recording method.
ICカードでは、表面に設けられた電気接点やカード内部のループアンテナを介して外部の機器とデータの読み書きが行われており、磁気カードに比べて記憶容量やセキュリティ性が大きく向上している。特にカード内部にICチップと外部との情報のやりとりをするためのアンテナを内蔵し、カード外部に電気接点を持たない非接触式ICカードは、電気接点をカード表面にもつ接触式ICカードに比べてセキュリティ性が優れ、IDカードのようにデータの機密性と偽変造防止性を高く要求する用途に使用されつつある。 In an IC card, data is read / written from / to an external device via an electrical contact provided on the surface or a loop antenna inside the card, and the storage capacity and security are greatly improved compared to a magnetic card. In particular, non-contact type IC cards with built-in antennas for exchanging information between the IC chip and the outside of the card that do not have electrical contacts outside the card are compared to contact type IC cards that have electrical contacts on the card surface. Therefore, it is being used for applications that require high confidentiality of data and prevention of forgery and alteration, such as ID cards.
このようなICカードとして、例えば対向する2枚のシート基材が接着剤などの樹脂を介して貼り合わされ、その樹脂層中にICチップ及びアンテナを有するICモジュールを封入するものがある。その際、ICモジュールでは、ワイヤーボンディング接続やフリップチップ接続などの実装方式を用いてICチップとアンテナとの接続がなされている(特許文献1参照)。
例えば、フリップチップ接続では、一般的に樹脂を介してICチップとアンテナが接続されており、導電性粒子を樹脂に分散したものをテープ化して貼り付けて接続するACF( anisotoropic conductive film )や、導電性粒子を樹脂に分散し、ペースト化して添付した後、硬化させて固定して接続するACP( anisotropic conductive paste )、バンプを介してICチップをアンテナに接続させ、樹脂で固定するNCP( nonconductive paste )などが知られている。
As such an IC card, there is an IC card in which, for example, two opposing sheet base materials are bonded together via a resin such as an adhesive, and an IC module having an IC chip and an antenna is enclosed in the resin layer. At that time, in the IC module, the IC chip and the antenna are connected by using a mounting method such as wire bonding connection or flip chip connection (see Patent Document 1).
For example, in flip chip connection, an IC chip and an antenna are generally connected via a resin, and an ACF (anisotoropic conductive film) in which conductive particles dispersed in a resin are taped and bonded, ACP (anisotropic conductive paste), in which conductive particles are dispersed in a resin, pasted and attached, then cured, fixed and connected, ICP is connected to an antenna via bumps, and NCP (nonconductive) fixed with resin paste) etc. are known.
しかしながら、フリップチップ接続の場合、接続を容易に行うことが可能であるものの、接続部が外れやすいものであった。特に、熱や湿気によりICチップをアンテナに固定する樹脂が膨張した際には、ICチップと当該樹脂の膨張率が異なるために、破断やクラック等を発生し、接続不良による故障が生じていた。また、接続不良が発生しないまでも、膨張により、カード表面上で凹凸が生じ、顔画像や記載情報など記録をする際に、画像欠陥を生じさせていた。 However, in the case of flip-chip connection, although connection can be easily performed, the connection portion is easily detached. In particular, when the resin that fixes the IC chip to the antenna expands due to heat or moisture, the expansion coefficient of the IC chip and the resin is different, which causes breakage, cracks, etc., resulting in failure due to poor connection. . In addition, even if connection failure does not occur, unevenness occurs on the card surface due to expansion, causing image defects when recording face images and written information.
これに対し、特許文献1では、バンプと銀ペーストを用いてICチップとアンテナを電気的に接続し、当該接続部を固定するために前述の樹脂(接着用封止樹脂)を加熱硬化させた後、バンプとアンテナの接続部の周囲に保護用封止樹脂を注入して硬化させるとともに、この保護用封止樹脂の硬化後の熱膨張率を接着用封止樹脂よりも小さくなるように規定することで、前述の膨張による接続不良の防止を試みている。
しかしながら、保護用封止樹脂の硬化後の熱膨張率を接着用封止樹脂よりも小さくなるように規定するだけでは、接着用封止樹脂を大量に使用して固定する場合などでは、保護用封止樹脂は、接着用封止樹脂が膨張した際にバンプ接続部に加わる力に耐え切れず、破断やクラック等を発生させてしまい、膨張による接続不良の防止に十分対応することができなかった。また、カード表面上で生じる凹凸を防げないままであり、記録時に画像欠陥を生じさせていた。 However, if the thermal expansion coefficient after curing of the protective sealing resin is specified to be smaller than that of the adhesive sealing resin, the protective sealing resin is The sealing resin cannot withstand the force applied to the bump connection part when the adhesive sealing resin expands, causes breakage, cracks, etc., and cannot sufficiently cope with prevention of connection failure due to expansion It was. Further, the irregularities generated on the card surface remain unprevented, and image defects are generated during recording.
そこで、本発明は、以上のような課題を解決するためになされたものであり、膨張による接続不良の解消と、カード表面における平滑性の維持を目的とする。 Therefore, the present invention has been made to solve the above-described problems, and aims to eliminate connection failure due to expansion and maintain smoothness on the card surface.
前記課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、
ICチップと、前記ICチップに接続されるアンテナ体とが間隙接着剤を介して対向するシート基材の間に配設されるICカードであって、
前記アンテナ体は、モジュール接着剤を介して前記ICチップに固定されており、
少なくとも前記ICチップの前記アンテナ体との接続面と反対側の面に対向するシート基材と、前記ICチップとの間に、前記モジュール接着剤より膨張率の高い膨張部材を備えることを特徴とする。
In order to solve the above problem, the invention according to
An IC card in which an IC chip and an antenna body connected to the IC chip are disposed between sheet substrates facing each other through a gap adhesive,
The antenna body is fixed to the IC chip via a module adhesive,
A sheet base material facing at least the surface of the IC chip opposite to the connection surface with the antenna body, and an expansion member having a higher expansion coefficient than the module adhesive is provided between the IC chip and the IC chip. To do.
請求項1に記載の発明によれば、加熱等によりICチップとアンテナ体とを固定するモジュール接着剤が膨張しても、膨張部材は当該接着剤よりも膨張してICチップをアンテナ体に対して押し付けることができ、ICモジュールと樹脂との間で膨張率が異なることで発生する破断やクラックを防ぐことができる。また、シート基材のうち、膨張部材を介してICチップとアンテナ体の接続面に対応するシート基材表面上で生じる凹凸の発生を防ぐこともできる。 According to the first aspect of the present invention, even if the module adhesive that fixes the IC chip and the antenna body is expanded by heating or the like, the expansion member expands more than the adhesive and causes the IC chip to move toward the antenna body. It is possible to prevent breakage and cracks that occur due to different expansion coefficients between the IC module and the resin. Moreover, generation | occurrence | production of the unevenness | corrugation which arises on the sheet | seat base material surface corresponding to the connection surface of an IC chip and an antenna body can also be prevented through an expansion member among sheet base materials.
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のICカードにおいて、
前記ICチップと前記アンテナ体は、バンプを介して接続されており、
前記膨張部材は、少なくとも前記バンプと対応するように配置されていることを特徴とする。
The invention according to
The IC chip and the antenna body are connected via bumps,
The expansion member is arranged so as to correspond to at least the bump.
請求項2に記載の発明によれば、膨張部材は、膨張してICチップをアンテナ体に対して押し付ける際に、接続部であるバンプを中心に押し付けることができるので、膨張した際にICチップがアンテナから外れてしまうのを確実に防ぐことができる。 According to the second aspect of the present invention, when the expansion member expands and presses the IC chip against the antenna body, the expansion member can be pressed around the bump as the connection portion. Can be reliably prevented from coming off the antenna.
請求項3に記載の発明は、請求項1又は請求項2に記載のICカードにおいて、
前記膨張部材を複数備えることを特徴とする。
The invention according to
A plurality of the expansion members are provided.
請求項3に記載の発明によれば、膨張部材は、バンプの数に応じて設けることができ、ICチップをアンテナ体に対して押し付ける際に、接続部を確実に押し付けることができ、膨張した際にICチップがアンテナから外れてしまうのを確実に防ぐことができる。
According to the invention described in
請求項4に記載の発明は、請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載のICカードにおいて、
前記膨張部材は、前記ICチップの前記アンテナ体との接続面に対向するシート基材と、前記ICチップとの間に配置されていることを特徴とする。
The invention according to
The expansion member is disposed between the IC chip and a sheet base material facing a connection surface of the IC chip with the antenna body.
請求項4に記載の発明によれば、膨張部材は、ICチップのアンテナ体との接続面に対向するシート基材側からもICチップを押し付けることができる。 According to the fourth aspect of the present invention, the expansion member can press the IC chip from the sheet base material side facing the connection surface of the IC chip with the antenna body.
請求項5に記載の発明は、請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載のICカードにおいて、
前記膨張部材の厚さ寸法は、前記シート基材の厚さ寸法より小さいことを特徴とする。
The invention according to
A thickness dimension of the expansion member is smaller than a thickness dimension of the sheet base material.
請求項5に記載の発明によれば、シート基材間に存在する部材が膨張して直近のシート基材を押し当てる力が生じても、シート基材は、当該力に抵抗することができ、ICチップをアンテナ体に押し付ける力が働くとともに、シート基材表面に凹凸が生じるのを防ぐことができる。
According to the invention described in
請求項6に記載の発明は、請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載のICカードにおいて、
前記膨張部材と前記ICチップとの間に補強部材を備えることを特徴とする。
The invention according to
A reinforcing member is provided between the expansion member and the IC chip.
請求項6に記載の発明によれば、膨張部材はICチップといっしょに補強部材をアンテナ体に対して押し付けることができる。 According to the sixth aspect of the present invention, the expansion member can press the reinforcing member against the antenna body together with the IC chip.
請求項7に記載の発明は、請求項1〜請求項6のいずれか一項に記載のICカードにおいて、
前記対向するシート基材のうち、一方のシート基材の表面に受像層を有し、他方のシート基材の表面に筆記層を有することを特徴とする。
The invention according to
Among the opposing sheet base materials, the image receiving layer is provided on the surface of one sheet base material, and the writing layer is provided on the surface of the other sheet base material.
請求項7に記載の発明によれば、カード表面に受像層と筆記層を備えたICカードとすることができる。
According to invention of
請求項8に記載の発明は、請求項1〜請求項7のいずれか一項に記載のICカ−ドにおいて、
前記接着剤は、反応型接着剤であることを特徴とする。
The invention according to
The adhesive is a reactive adhesive.
請求項8に記載の発明によれば、接着剤として、例えば、光や熱などにより材料が架橋するような特定のトリガーにより反応が開始して接着性を帯びる反応型接着剤を用いることができる。 According to the eighth aspect of the present invention, as the adhesive, for example, a reactive adhesive that exhibits adhesiveness when a reaction is initiated by a specific trigger that crosslinks the material by light or heat can be used. .
請求項1に記載の発明によれば、膨張による接続不良の解消と、カード表面における平滑性を維持することができる。 According to the first aspect of the present invention, it is possible to eliminate connection failure due to expansion and maintain smoothness on the card surface.
請求項2に記載の発明によれば、膨張時にICチップがアンテナから外れて接続不良を引き起こすのを確実に防ぐことができる。 According to the second aspect of the present invention, it is possible to reliably prevent the IC chip from being detached from the antenna at the time of expansion and causing poor connection.
請求項3に記載の発明によれば、膨張時にICチップがアンテナから外れて接続不良を引き起こすのを確実に防ぐことができる。 According to the third aspect of the present invention, it is possible to reliably prevent the IC chip from being detached from the antenna at the time of expansion and causing poor connection.
請求項4に記載の発明によれば、ICチップとアンテナ体との接続面の両側から押し付けることで、対向するシート基材の表面上で生じる凹凸を防ぐことができる。
According to invention of
請求項5に記載の発明によれば、カード表面における平滑性を維持することができる。 According to the fifth aspect of the present invention, the smoothness on the card surface can be maintained.
請求項6に記載の発明によれば、特に補強部材を備えたICカードにおいて、膨張による接続不良の解消と、カード表面における平滑性を維持することができる。 According to the sixth aspect of the present invention, particularly in an IC card provided with a reinforcing member, it is possible to eliminate connection failure due to expansion and maintain smoothness on the card surface.
請求項7に記載の発明によれば、このようなICカードにおいて、膨張してもカード表面における平滑性を維持することができるので、カード表面に記載される写真や文字等の画像の精細性を向上させることができる。 According to the seventh aspect of the invention, in such an IC card, the smoothness on the card surface can be maintained even if it is expanded, so that the fineness of images such as photographs and characters described on the card surface is maintained. Can be improved.
請求項8に記載の発明によれば、取り扱い性を向上させることができる。
According to the invention described in
以下、図1〜図7を参照し、本発明の実施形態について説明する。
図1に示すように、ICカード1は、対向するシート基材2,3の間にICモジュール4を備えている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS.
As shown in FIG. 1, the
シート基材2,3は、剛性部材であり、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート/イソフタレート共重合体等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィレン樹脂、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ4フッ化エチレン、エチレン−4フッ化エチレン共重合等のポリフッ化エチレン系樹脂、ナイロン6、ナイロン6,6等のポリアミド、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、エチレン/ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ビニロン等のビニル重合体、生分解性脂肪族ポリエステル、生分解性ポリカーボネート、生分解性ポリ乳酸、生分解性ポリビニルアルコール、生分解性セルロースアセテート、生分解性ポリカプロラクトン等の生分解性樹脂、三酢酸セルロース、セロファン等のセルロース系樹脂、ポリメタアクリル酸メチル、ポリメタアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のアクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリイミド等の合成樹脂シート、又は上質紙、薄葉紙、グラシン紙、硫酸紙等の紙、金属箔等の単層体或いはこれら2層以上の積層体が挙げられる。シート基材2,3を積層体とする場合には、異なる層厚の単層体を積層して構成させたものであってもよい。
The
また、シート基材2,3の厚さ寸法は、後述の膨張部材12の厚さ寸法より大きいものであることが好ましく、具体的には、30〜300μmが好ましとされ、特に50〜200μmが好ましい。
Further, the thickness dimension of the
また、これらのシート基材2,3には、カップリング剤、ラテックス、親水性樹脂、帯電防止樹脂等の層を形成したり、コロナ処理、プラズマ処理を施したりすることで易接化処理を施してもよい。また,熱収縮を低減するためにアニール処理等を行ってもよい。
In addition, these
また、シート基材2,3には、受像層20及び筆記層30が設けられている。ここでは、対向するシート基材2,3のうち、ICカード1の表面に該当するシート基材2の露出面に対し、受像層20が設けられているとともに、他方のシート基材3の露出面に対し、筆記層30が設けられている。すなわち、シート基材3は、ICカード1の裏面に該当する。なお、受像層20は、ICカードの表面に形成されるのが好ましいが、必ずしもこれに限定されるものではない。
The sheet bases 2 and 3 are provided with an
受像層20は、画像を受容しうる層のことであり、受像層20上には、顔写真や氏名等の画像を熱転写方式、インクジェット方式、電子写真方式等の記録方式により形成することが可能である。
The
画像形成に適用される熱転写方式としては、一般的に知られている昇華型熱転写方式、溶融型熱転写方式等が挙げられる。また、インクジェット方式としては、一般的に知られている方法を用いることができ、具体的には、特開2000−44857号公報、特開平9−71743号公報で記載されている方法を用いることが可能である。 Examples of the thermal transfer method applied to image formation include a generally known sublimation type thermal transfer method and melt type thermal transfer method. In addition, as the ink jet method, a generally known method can be used, and specifically, the methods described in JP 2000-44857 A and JP 9-71743 A are used. Is possible.
また、受像層20は、染料が加熱されて熱拡散するときに、染料をトラップして定着させる素材で構成されているのが好ましく、かかる性質が付与されるためにバインダ及び各種添加剤の種類並びにそれらの配合量を適宜調整して形成する。
受像層用のバインダは、画像形成材料として通常に知られているバインダを用いればよく、例えば、ポリ塩化ビニル樹脂、塩化ビニルと他のモノマー(例えばイソブチルエーテル、プロピオン酸ビニル等)との共重合体樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、三酢酸セルロース、ポリスチレン、スチレンと他のモノマー(例えばアクリル酸エステル、アクリロニトリル、塩化エチレン等)との共重合体、ビニルトルエンアクリレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカプロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、およびそれらの変性物等が挙げられる。中でも好ましいバインダとしては、ポリ塩化ビニル樹脂、塩化ビニルと他のモノマーとの共重合体、ポリエステル樹脂、ポリビニルアセタ−ル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、スチレンと他のモノマーとの共重合体、エポキシ樹脂、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等である。また、これらのバインダに特開平6−286350号、特開平5−64989号公報に記載のような金属イオン化合物やキレート化合物、離型剤の材料等を含有させてもよい。さらに、必要に応じて基材色調剤として染料や顔料、膜強度を向上させるために硬膜剤、カチオン媒染剤、退色防止剤、アニオン、カチオンまたは非イオンの各種界面活性剤、潤滑剤、防腐剤、増粘剤、帯電防止剤、マット剤等の公知の添加剤を各種含有させることもできる。
Further, the
As the binder for the image receiving layer, a binder that is generally known as an image forming material may be used. For example, polyvinyl chloride resin, vinyl chloride and other monomers (for example, isobutyl ether, vinyl propionate, etc.) Combined resin, polyester resin, poly (meth) acrylic acid ester, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl alcohol, polycarbonate, cellulose triacetate, polystyrene, styrene and other monomers (eg acrylic acid ester, acrylonitrile) , Ethylene chloride, etc.), vinyl toluene acrylate resin, polyurethane resin, polyamide resin, urea resin, epoxy resin, phenoxy resin, polycaprolactone resin, polyacrylonitrile resin, and It includes modified products of the. Among them, preferable binders include polyvinyl chloride resins, copolymers of vinyl chloride and other monomers, polyester resins, polyvinyl acetal resins, polyvinyl butyral resins, copolymers of styrene and other monomers, An epoxy resin, a photocurable resin, a thermosetting resin, and the like. These binders may contain a metal ion compound, a chelate compound, a release agent material, etc. as described in JP-A-6-286350 and JP-A-5-64989. In addition, dyes and pigments as base color toning agents as needed, hardeners, cationic mordants, anti-fading agents, various anionic, cationic or nonionic surfactants, lubricants, preservatives to improve film strength Various known additives such as thickeners, antistatic agents and matting agents can also be contained.
このような成分を含有してなる受像層20は、塗工法により形成可能であり、前述の受像層20の構成成分を含有する材料を溶媒若しくは水に分散又は溶解して受像層用塗工液を調製し、当該受像層用塗工液をシート基材2上に塗工した後、乾燥する工程を経ることで形成可能である。なお、受像層20の厚さとしては、好ましくは0.01〜20μmであり、特に0.03〜20μm程度が好ましい。
The
一方、筆記層30は、筆記することができるようにした層であり、例えば、無機微細粉末や多孔質物質等にバインダ、各種の添加剤で形成させることができる。
On the other hand, the
多孔質物質としては、例えば、シリカ(沈降性、またはゲルタイプ)、タルク、カオリン、クレー、アルミナホワイト、ケイソウ土、酸化チタン、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等を使用することができ、前述の化合物等の中から1種、または2種以上を混合して使用されるようにしてもよい。筆記層30には、前述の多孔質物質が含まれているものであれば、特に限定はない。また、多孔質物質の粒径としては、1〜10μmのものを用いることができ、好ましくは平均粒径が1〜8μmであることが好ましい。
As the porous material, for example, silica (precipitation or gel type), talc, kaolin, clay, alumina white, diatomaceous earth, titanium oxide, calcium carbonate, barium sulfate, etc. can be used, and the above-mentioned compounds etc. You may make it use 1 type from 2 or 2 types or more mixed. The
バインダとして、例えばセラック、ロジンおよびその誘導体、硝化綿および繊維素誘導体、ポリアミド樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、石油樹脂、環化ゴム、塩化ゴム、塩素化ポリプロピレン、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ブチラール樹脂、塩化ビニリデン樹脂、水溶性樹脂等を用いることができる。また、紫外線により共重合し硬化するプレポリマーを含有するUV硬化型樹脂を用いてもよい。UV硬化型樹脂に適用可能な共重合性化合物としてはポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、アルキドアクリレートがあげられ、特に、ポリエステル樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスチレン樹脂を用いるのが好ましく、上記化合物等の中から1種、または2種以上を混合して使用されるようにしてもよい。なお、これら樹脂に対する前記多孔質物質の重量比は、固形分比で樹脂100重量部に対し、20重量部〜100重量部であることが好ましい。この他、添加剤としてワックス、界面活性剤、溶剤、水を含んでいてもよく、これらの物質に特に制限はない。 For example, shellac, rosin and derivatives thereof, nitrified cotton and cellulose derivatives, polyamide resin, polyacrylate resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polystyrene resin, petroleum resin, cyclized rubber, chlorinated rubber, chlorinated Polypropylene, urethane resin, epoxy resin, polyester resin, acrylic resin, vinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, butyral resin, vinylidene chloride resin, water-soluble resin, and the like can be used. Further, a UV curable resin containing a prepolymer which is copolymerized and cured by ultraviolet rays may be used. Examples of copolymerizable compounds applicable to UV curable resins include polyol acrylates, polyester acrylates, epoxy acrylates, urethane acrylates, and alkyd acrylates. Particularly, polyester resins, polyacrylate resins, polyvinyl chloride resins, and polyvinyl acetate resins. Polyamide resins and polystyrene resins are preferably used, and one or two or more of the above compounds may be used. In addition, it is preferable that the weight ratio of the said porous substance with respect to these resin is 20 to 100 weight part with respect to 100 weight part of resin in solid content ratio. In addition, wax, surfactant, solvent, and water may be included as additives, and these substances are not particularly limited.
また、筆記層30は、筆記性を有するため少なくとも1層以上からなることが好ましく、特に1〜5層より形成されていることが好ましい。また、その厚さは、5〜40μmであることが好ましく、更に5〜30μmであることが好ましい。
Moreover, since the
筆記層30の表面の粗さ、すなわち、筆記層30の算術平均粗さ(Ra)は、2.0μm以下であることが好ましく、より好ましくは0.2〜2.0μmであり、更に好ましくは0.3〜1.8μmである。筆記層30の表面の粗さが0.2μm以下であると筆記性が劣化し、2.0μm以上であると手作業又は昇華熱転写方式、溶融熱転写方式、インクジェット方式等により筆記層30に氏名の記載等、画像を形成した際に、インクが滲んで画像に欠陥を生じさせてしまうためである。また、この場合において、筆記層30にさらに表面保護材料からなる保護膜を密着させて表面保護層を形成する場合には、筆記層と表面保護層との密着性を低下させてしまう。
The surface roughness of the
また、シート基材2,3には、情報坦持体層(図示せず)を設けることが可能である。情報坦持体層は、具体的には、受像層20及び筆記層30に対し、それぞれシート基材2,3が形成されている側の反対側の面に形成されているフォーマット印刷物である。
The sheet bases 2 and 3 can be provided with an information carrier layer (not shown). Specifically, the information carrier layer is a formatted printed matter formed on the surface opposite to the side on which the
フォーマット印刷物は、大量印刷が可能な共通部分などを定型のプリントパターンとして印刷されたものであり、具体的には、罫線、社名、カード名称、注意事項、発行元電話番号等を表す。また、フォーマット印刷物には、目視による偽造防止の為に透かし印刷、細紋等を施してもよく、さらに偽造変造防止層として印刷物、ホログラム、バーコード、マット調柄、細紋、地紋、凹凸パターン等を施したり、可視光吸収色材、紫外線吸収材、赤外線吸収材、蛍光増白材、ガラス蒸着層、ビーズ層、光学変化素子層、パールインキ層、燐片顔料層、IC隠蔽層、透かし印刷層などを施すことも可能である。 The formatted printed matter is printed as a standard print pattern with a common part that can be printed in large quantities, and specifically represents a ruled line, a company name, a card name, notes, an issuer telephone number, and the like. In addition, the formatted printed material may be subjected to watermark printing, fine prints, etc. to prevent forgery by visual inspection. Further, as a forgery / alteration prevention layer, the printed material, hologram, barcode, mat pattern, fine pattern, ground pattern, uneven pattern Etc., visible light absorbing color material, ultraviolet absorbing material, infrared absorbing material, fluorescent whitening material, glass deposition layer, bead layer, optical change element layer, pearl ink layer, flake pigment layer, IC hiding layer, watermark It is also possible to apply a printing layer or the like.
フォーマット印刷物の形成には、日本印刷技術協会出版の「平版印刷技術」、「新・印刷技術概論」、「オフセット印刷技術」、「製版・印刷はやわかり図鑑」等に記載されている一般的なインキを用いて形成することができ、光硬化型インキ、油溶性インキ、溶剤型インキなどにカーボンなどのインキにより形成される。 For the formation of formatted prints, it is generally described in “Platinum Printing Technology”, “New Printing Technology Overview”, “Offset Printing Technology”, “Plate Making / Printing Guidebook” published by Japan Printing Technology Association. It can be formed using any ink, and it can be formed using a photo-curable ink, an oil-soluble ink, a solvent-type ink, or the like with an ink such as carbon.
フォーマット印刷物の形成に使用することができるバインダ樹脂としては、例えば活性光線硬化性樹脂、ポリメタクリル酸メチル系のアクリル系樹脂、ポリスチレン等のスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル等の塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン等の塩化ビニリデン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、酢酸セルロース等のセルロース系樹脂、ポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール系樹脂、エポキシ系樹脂、アミド系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、アルキッド系樹脂、フェノール系樹脂、フッ素系樹脂、シリコン系樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、カゼイン、ゼラチン等を挙げることができる。好ましいバインダ樹脂としては、活性光線硬化性樹脂を用いることであり、更には、(a)不飽和結合を有するモノマーもしくはオリゴマーを含有するバインダ成分25〜95重量部と、(b)反応開始剤1〜20重量部とを含む活性光線硬化性樹脂を用いることがカード表面強度の点から特に好ましいものである。なお、活性光線硬化樹脂を用いる場合には、水銀灯、UVランプ、キセノン等の光源を用いて100mJ〜500mJの光を照射することで、硬化させることができる。
Examples of the binder resin that can be used for forming the format print include, for example, actinic ray curable resin, polymethyl methacrylate acrylic resin, styrene resin such as polystyrene, polyvinyl chloride resin such as polyvinyl chloride, Vinylidene chloride resins such as vinylidene chloride, polyester resins such as polyethylene terephthalate, cellulose resins such as cellulose acetate, polyvinyl acetal resins such as polyvinyl butyral, epoxy resins, amide resins, urethane resins, melamine resins, Examples include alkyd resins, phenol resins, fluorine resins, silicone resins, polycarbonate, polyvinyl alcohol, casein, and gelatin. A preferable binder resin is to use an actinic ray curable resin. Furthermore, (a) 25 to 95 parts by weight of a binder component containing a monomer or oligomer having an unsaturated bond, and (b) a
また、情報担持体層には、フォーマット印刷物のほかに認証識別画像や属性情報画像が一般的に形成される。本発明においては、情報担持体層にフォーマット印刷物、認証識別画像、属性情報画像のうち、少なくとも1つが形成されていることが好ましく、これら情報担持体は、特に受像層20に形成されていることが好ましい。
In addition to the formatted printed matter, an authentication identification image and an attribute information image are generally formed on the information carrier layer. In the present invention, it is preferable that at least one of a formatted printed material, an authentication identification image, and an attribute information image is formed on the information carrier layer, and these information carriers are particularly formed on the
認証識別画像は、例えば、顔写真、指紋等の写真画像であり、通常の場合、階調を有するフルカラー画像である。これらは、例えば昇華型熱転写記録方式、溶融型感熱転写記録方式、電子写真方式、インクジェット方式等により形成される。また、属性情報画像は、例えば、氏名、住所、生年月日、資格等の書誌情報画像であり、通常文字情報として記録され、溶融型熱転写記録方式での画像形成が一般的であるが、オフセット印刷、グラビア印刷、シルク印刷、スクリーン印刷、凹版印刷、凸版印刷、インクジェット方式、昇華転写方式、熱溶融方式等の方式により画像形成がされてもよい。なお、ここでは、認証識別画像及び属性情報画像は昇華型熱転写記録方式により形成されることが好ましい。 The authentication identification image is, for example, a photographic image such as a face photograph or a fingerprint, and is usually a full-color image having gradation. These are formed by, for example, a sublimation type thermal transfer recording system, a melt type thermal transfer recording system, an electrophotographic system, an ink jet system, or the like. In addition, the attribute information image is, for example, a bibliographic information image such as name, address, date of birth, qualification, etc., and is usually recorded as character information, and image formation by the melt-type thermal transfer recording method is generally used. The image may be formed by a method such as printing, gravure printing, silk printing, screen printing, intaglio printing, letterpress printing, an ink jet method, a sublimation transfer method, or a heat melting method. Here, the authentication identification image and the attribute information image are preferably formed by a sublimation thermal transfer recording method.
かかる情報坦持体層の形成は、2枚のシート基材2,3を張り合わせる工程の前後、いずれかにおいて行えばよい。
The information carrier layer may be formed either before or after the step of bonding the two
さらに、シート基材2,3には、必要に応じて接着層や、クッション層、表面保護層等を設けてもよい。
Furthermore, the
接着層は、シート基材2,3との密着性を良好にするためのものであり、ここでは、受像層20とシート基材2との間、又は、筆記層30とシート基材3との間に形成させることが可能である。
また、クッション層は、印字性を向上させるためのものであり、少なくとも受像層20とシート基材2との間、又は、筆記層30とシート基材3との間に形成されている構成であれば、単層及び多層のいずれの構成であってもよい。その材料としては、例えばウレタン樹脂、アクリル樹脂、エチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ブタジエンラバー、エポキシ樹脂、ポリオレフィン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−水素添加イソプレン−スチレンブロック共重合体、ポリブタジエン、特開2002−222403号公報に記載の光硬化型樹脂等を用いることができる。また、クッション層の厚さは、通常1〜50μmであり、好ましくは3〜30μmである。
表面保護層は、外部からの衝撃や傷に対して内部を保護するためのものであり、ICカード1の最表面に形成される層である。ここでは、受像層20及び筆記層30の露出面に対して形成可能であり、その材料としては光硬化型樹脂を用いることが可能である。また、表面保護層は、樹脂溶液の塗布で設けてもよいし、転写箔を用いてもよい。転写箔にはホログラムの様な光学変化素子を偽変造防止目的で設けても良い。
The adhesive layer is for improving the adhesion between the
The cushion layer is for improving the printability, and is formed at least between the
The surface protective layer is for protecting the inside against external impacts and scratches, and is a layer formed on the outermost surface of the
次に、シート基材2,3間に配設されるICモジュール4について説明する。
ICモジュール4は、ICカード1の利用者の情報を電気的に記憶するICチップ及びICチップに接続されたコイル状のアンテナ体とで構成される。
ここでは、ICモジュール4は、モジュール基板5を備えており、このモジュール基板5の一方の面(ここでは、プリント基板5の上面とする。)に、アンテナコイル6を配設させることでアンテナ体を構成させている。そして、アンテナコイル6の上面には、アンテナコイル6の上面と対向する位置に形成されたバンプ7を介してICチップ8を配設させることで、アンテナコイル6とICチップ8とを電気的に接続している。
Next, the
The
Here, the
なお、ICチップ8はメモリ単体でもよいし、メモリに加えてマイクロコンピュータを搭載して構成されるものであってもよい。必要に応じてコンデンサーを含む構成としてもよく、情報記録部材として必要な電子部品であれば特に限定はない。また、本発明で適用可能なICチップ8の大きさに制限はないが、機械的強度の点からICチップ8の厚さは、5μm以上120μm以下であることが好ましい。好ましくは、10μm〜120μmであり、より好ましくは20μm〜120μmである。ICチップ8の厚さが120μm以上であるとICチップ自身の強度が低下し、点圧強度、衝撃性、曲げ性が劣化してしまうのに対し、5μm以下であると現状の加工技術では、均一に薄膜化できず表面性が劣化するために、点圧強度、衝撃性、曲げ性が劣化してしまう。
The
また、アンテナコイル6の代わりにアンテナパターンを有する場合には、モジュール基板5上に導電性ペースト印刷加工、或いはアルミ箔や銅箔エッチング加工、巻線溶着加工等を施してもよい。モジュール基板5としては、ポリエステル等の熱可塑性のフィルムが適用可能であり、更に耐熱性が要求される場合にはポリイミドが適用可能である。通信性を向上させたい場合には、樹脂、絶縁層などでモジュール基板5を被覆してもよい。また、モジュール基板5の材質は、シート基材2,3と同一であってもよいし、異なっていてもよい。
When an antenna pattern is provided instead of the
また、アンテナコイル6を含む回路パターンはエッチングタイプであることが好ましく、必要に応じて途中のコイルパターンと短絡することがないよう別工程で電気的に接続することも可能である。アンテナコイル6のターン回数は2〜10ターンであることが好ましいが、本発明では特に制限はない。
The circuit pattern including the
ここで、アンテナコイル6とICチップ8との固定には、モジュール接着剤9が用いられている。モジュール接着剤9は、アンテナコイル6とバンプ7との接続面を除いてアンテナコイル6とICチップ8との間に充填されており、モジュール接着剤9としては、例えばNCP( non connected paste )など導電性化合物を含まない樹脂が挙げられる。なお、このモジュール接着剤9は、アンテナコイル6上に滴下されるなどして塗布されており、ICチップ8は、バンプ7を介してアンテナコイル6と一体化され、いわゆるフリップチップ実装方式で形成されたICモジュールとして機能する。
Here, a
そして、ICチップ8の上方には、シート基材2及びICモジュール4上に滴下・塗布された補強部材接着剤10を介して板状の補強部材11が配設されており、この補強部材11は、ICモジュール4の一部を構成している。
A plate-like reinforcing
補強部材11は、ICチップ8の点圧強度を高めてその耐久性を向上させるためのものであり、機械的強度に優れることが好ましく、例えばSUS等の剛性の高い金属や、セラミック、カーボンファイバー、ガラス繊維、アラミド繊維、高弾性樹脂などから適宜選択して形成させることが可能である。特にヤング率が100GPa以上の素材をその主構造に使用しているものが好ましい。また、その厚みは、10〜300μmであり、好ましくは、20〜200μmであり、さらに好ましくは、30〜175μmである。これにより、ICカード1の厚みを増やさずに、シート基材2,3の表面における良好な印字性を保持しつつ、ICカード1の中央部が撓むことでICチップ8が破壊されるのを防ぐことが可能となる。そのため、補強部材11の形状としては、少なくともICチップ8の上面側領域より大きく形成されていることが好ましいが、板状に限らず、本発明の趣旨に反しない限り、自由に形成させることができる。また、補強部材11は、1つ以上具備されることが好ましく、本発明は、補強部材11を具備した場合に、特にその効果を発揮することが可能である。
The reinforcing
また、補強部材11を固定するのに用いられる補強部材接着剤10としては、モジュール接着剤9と同様のものを用いればよい。
The reinforcing
また、補強部材11の上方には、図1及び図2に示すように、補強部材11の外周に内接し、かつ、少なくともICチップ8の上面を覆うように形成された円板状の膨張部材12が配設されている。すなわち、膨張部材12は、少なくとも補強部材11と当該補強部材11と近接するシート基材2との間に配設されるとともに、少なくともICチップ8と対応するように形成されている。また、この膨張部材12は、シート基材2,3間にICモジュール4と共に間隙接着剤13を封入させることで固定されている。
Further, as shown in FIGS. 1 and 2, above the reinforcing
間隙接着剤13は、反応型接着剤であり、本発明の場合、取り扱いしやすさから熱、光などのトリガーにより架橋する材料であることが好ましい。具体的には熱硬化型、光硬化型、湿気硬化型などの樹脂材料であることが好ましい。
The
熱硬化型樹脂材料としては、常温で流動性を示し、加熱により硬化性を示す樹脂であれば特に限定されない。例えば、ポリウレタン、不飽和ポリエステル、フェノール樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリブタジエン、シリコン樹脂等を挙げることができる。特に、発泡が容易で耐衝撃性の高いポリウレタン、エポキシ樹脂が好ましい。 The thermosetting resin material is not particularly limited as long as it is a resin that exhibits fluidity at room temperature and exhibits curability when heated. Examples thereof include polyurethane, unsaturated polyester, phenol resin, urea resin, epoxy resin, acrylic resin, polybutadiene, and silicon resin. In particular, polyurethane and epoxy resin which are easy to foam and have high impact resistance are preferable.
光硬化型樹脂材料としては、ラジカル重合性成分及び光ラジカル重合開始剤、カチオン重合性成分及び光カチオン重合開始剤からなる組成物が用いることができる。本発明では、特に制限はないが、硬化後の膜の柔軟性があることより、カチオン重合性成分及び光カチオン重合開始剤からなる組成物を用いることが好ましい。 As the photocurable resin material, a composition comprising a radical polymerizable component and a photo radical polymerization initiator, a cationic polymerizable component and a photo cationic polymerization initiator can be used. In the present invention, although there is no particular limitation, it is preferable to use a composition comprising a cationically polymerizable component and a photocationic polymerization initiator because the film after curing has flexibility.
上記カチオン重合性成分としては、例えば、ビスフェノール−エポキシ樹脂、フェノリックエポキシ樹脂、ハロゲン化フェノールエポキシ樹脂、ポリアルキレングリコールエポキシ樹脂、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル等のエポキシ化合物が好適に用いられる。さらに、イソプロピルビニルエーテル、セチルビニルエーテル等のビニルエーテル化合物、オキセタンなどを用いることが可能である。具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年大成社);加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」(1985年、高分子刊行会);ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、79頁、(1989年、シーエムシー);滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、日刊工業新聞社)等に記載の市販品もしくは業界で公知のラジカル重合性、カチオン重合成ないし架橋性のモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いることができる。 As the cationically polymerizable component, for example, epoxy compounds such as bisphenol-epoxy resin, phenolic epoxy resin, halogenated phenol epoxy resin, polyalkylene glycol epoxy resin, butyl glycidyl ether, and phenyl glycidyl ether are preferably used. Furthermore, vinyl ether compounds such as isopropyl vinyl ether and cetyl vinyl ether, oxetane and the like can be used. Specifically, Shinzo Yamashita, “Cross-linking agent handbook” (1981 Taiseisha); Kato Kiyomi, “UV / EB curing handbook (raw material)” (1985, Polymer publication society); Commercial editions described in the association edition, “Application and Market of UV / EB Curing Technology”, p. 79, (1989, CMC); Eiichiro Takiyama, “Polyester Resin Handbook”, (1988, Nikkan Kogyo Shimbun) Radically polymerizable, cationic polysynthetic or crosslinkable monomers, oligomers and polymers known in the art or in the industry can be used.
上記光カチオン重合開始剤とは、光によってカチオン種を発生させる重合開始剤のことであり、一般的にはオニウム塩がよく知られている。オニウム塩としては、ルイス酸のジアゾニウム塩、ルイス酸のヨードニウム塩、ルイス酸のスルホニウム塩などが用いられる。これらの化合物の具体例としては、例えば、四フッ化ホウ素のフェニルジアゾニウム塩、六フッ化リンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化アンチモンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化ヒ素のトリ−4−メチルフェニルスルホニウム塩、四フッ化アンチモンのトリ−4−メチルフェニルスルホニウム塩等が挙げられる。しかしながら、オニウム塩は、これらに限定されるものではなく、光照射によってカチオン種を発生させる化合物であれば使用可能である。 The photocationic polymerization initiator is a polymerization initiator that generates cationic species by light, and generally onium salts are well known. As the onium salt, a diazonium salt of Lewis acid, an iodonium salt of Lewis acid, a sulfonium salt of Lewis acid, or the like is used. Specific examples of these compounds include, for example, boron tetrafluoride phenyldiazonium salt, phosphorus hexafluoride diphenyliodonium salt, antimony hexafluoride diphenyliodonium salt, arsenic hexafluoride tri-4-methylphenylsulfonium Salt, tri-4-methylphenylsulfonium salt of antimony tetrafluoride, and the like. However, the onium salt is not limited to these, and any compound that generates a cationic species by light irradiation can be used.
また、湿気硬化型樹脂材料としては、特開平2−16180号公報、特開2000−036026号公報、特開2000−219855号公報、特開平2000−211278号公報、特開平2000−219855号公報、特願平2000−369855号公報で開示されている材料を用いることができる。具体的には、ウレタン系樹脂、アルコキシド基含有シリコン系樹脂などが挙げられる。湿気硬化接着剤の一例としては、分子末端にイソシアネート基を含有するウレタンポリマーを主成分とし、このイソシアネート基が水分と反応して架橋構造を形成するものがある。このような湿気硬化型樹脂材料からなる湿気硬化型接着剤としては、例えば積水化学工業社製9613N、住友スリーエム社製TE030、TE100、日立化成ポリマー社製ハイボン4820、カネボウエヌエスシー社製ボンドマスター170シリーズ、Henkel社製Macroplast QR3460等が挙げられる。 Further, as the moisture curable resin material, JP-A-2-16180, JP-A-2000-036026, JP-A-2000-211985, JP-A-2000-21278, JP-A-2000-21855, The material disclosed in Japanese Patent Application No. 2000-369855 can be used. Specific examples include urethane resins and alkoxide group-containing silicon resins. As an example of the moisture-curing adhesive, there is one in which a urethane polymer containing an isocyanate group at a molecular terminal is a main component, and this isocyanate group reacts with moisture to form a crosslinked structure. Examples of the moisture curable adhesive made of such a moisture curable resin material include 9613N manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., TE030 and TE100 manufactured by Sumitomo 3M, Hibon 4820 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., and Bond Master 170 manufactured by Kanebo UESC. Series, Macroplast QR3460 manufactured by Henkel, and the like.
次に膨張部材12について説明する。
膨張部材12は、少なくともICチップ8とアンテナコイル6とを固定するモジュール接着剤9より膨張率が高い部材であり、特に、ICカード1に使用されている接着剤(モジュール接着剤9、補強部材接着剤10、間隙接着剤13)より膨張率が高い部材であることが好ましい。
Next, the
The
これは、熱や湿気等によりICカード1を構成する部材は各々膨張するが、その際に構成部材に使用される材料に応じて膨張率が異なることに由来する。
This is because the members constituting the
特に、ICチップ8とアンテナコイル6を固定するモジュール接着剤9では、膨張すると、ICチップ8がバンプ7と共にアンテナコイル6の上面に対し離れる方向に力が生じる。
すなわち、ICチップ8には、モジュール接着剤9の膨張により上方に働く力と、これに対して補強部材接着剤10及び間隙接着剤13の膨張により補助する力が加わり、上方に働く力が生じる。一方、補強部材11周縁部周辺においては、ICチップ8や補強部材11の膨張率と間隙接着剤13の膨張率の差により上方に働く力が集中し、全体として上方に働く力が生じる。このとき、モジュール接着剤9の膨張により上方に働く力と、補強部材接着剤10及び間隙接着剤13の膨張により上方へ補助する力に対して、シート基材2,3は、これら上方の力を抑えるよう働いており、これより、図中下方向に働く力が生じる。その結果、ICチップ8には、アンテナコイル6に押し付けられる力が働いているが、モジュール接着剤9の膨張による力と、補強部材11周縁部周辺において上方に働く力により全体として上方に働く力が、下方に働く力を超えるとICチップ8は上方に押し上げられ、ICチップ8がアンテナコイル6から引き剥がされる現象を生じさせる。
In particular, when the
That is, the
同時に、補強部材11は、ICチップ8と共に間隙接着剤13からなる層中を上方、つまり、基材シート2が形成されている方向に浮き上がるために、シート基材2の表面に凹凸を生じさせてしまう。すなわち、ICカード1では、ICチップ8を補強部材11により下方に押し付ける力と、補強部材11周縁部周辺において上方に働く力が集中することにより、当該箇所の上方のシート基材2の表面に凸部を生じさせると同時に、補強部材11の上方に位置して補強部材11と対向する箇所のシート基材2の表面に凹部を生じさせる。
At the same time, since the reinforcing
この現象を防ぐために、本実施形態では、ICカード1において最も膨張率の高い構成部材となる接着剤よりも膨張率の高い部材として膨張部材12を補強部材11の上方に配設させることで、膨張部材12の膨張により増えた体積を接着剤の膨張により増えた体積より大とさせ、ICチップ8がアンテナコイル6から引き剥がされる現象を防止しつつ、当該箇所の上方のシート基材2の表面における凹凸の発生を防止することを可能としている。
In order to prevent this phenomenon, in the present embodiment, by disposing the
なお、本発明における膨張率とは、体積膨張率のことをいう。体積膨張は、熱や吸湿により固相状態で膨張する場合だけでなく、相変化を伴い、固層から液層、または固層から気層変化による膨張でもよい。したがって、体積膨張率には、吸湿膨張率、熱膨張率も含まれており、かかる熱膨張率としては、長さで表す線熱膨張率αと体積で表す体積膨張率βとがある。例えば線熱膨張率αの測定方法としては、JIS K7197の方法により測定される。 In addition, the expansion coefficient in this invention means a volume expansion coefficient. The volume expansion is not limited to expansion in a solid phase state due to heat or moisture absorption, but may be expansion due to a change in phase from a solid layer to a liquid layer, or from a solid layer to a gas layer. Accordingly, the volume expansion coefficient includes a hygroscopic expansion coefficient and a thermal expansion coefficient. Examples of the thermal expansion coefficient include a linear thermal expansion coefficient α expressed by length and a volume expansion coefficient β expressed by volume. For example, the linear thermal expansion coefficient α is measured by the method of JIS K7197.
したがって、膨張部材12は、前述の測定方法により測定される膨張率がICチップ8をアンテナ3に接続固定するためのモジュール接着剤9より大きいものであれば、その数値自体に特に制限はないが、具体的な線熱膨張率としては、5×10−5K−1以上、5000×10−5K−1以下(20℃〜50℃)であることが好ましい。これは、20〜50℃における平均線熱膨張率が5×10−5K−1より小さいと前述のようにICチップ8とアンテナ3の接続信頼性における向上効果が小さくなるためであるが、逆に線熱膨張率が5000×10−5K−1を超えると膨張部材12が膨張して増えた体積によりICカード1の表面に凸部が生じて、ICカード1の表面平滑性効果を小さくさせてしまうためである。
Accordingly, the
ここで、膨張部材12に適用可能な材料としては、例えば、樹脂、セラミック、金属、または、これら複数の素材よりなる複合材等が挙げられる。
樹脂としては、本発明の趣旨より反しない限り、一般に使用されている樹脂材を制限なく用いることができる。エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコン系樹脂、シアノアクリレート系樹脂、ニトリルゴム等の合成ゴム系樹脂、UV硬化型樹脂、ホットメルト樹脂、嫌気性樹脂、セルロース系密着剤、酢酸ビニル系密着剤、パラフィン系ワックス、オレフィン系ワックス、ポリエチレン系ワックス、ポリプロピレン系ワックス、カルナバワックス等を用いることができる。
Here, as a material applicable to the
As the resin, a generally used resin material can be used without limitation unless it is contrary to the spirit of the present invention. Epoxy resins, urethane resins, silicon resins, cyanoacrylate resins, synthetic rubber resins such as nitrile rubber, UV curable resins, hot melt resins, anaerobic resins, cellulose adhesives, vinyl acetate adhesives, Paraffin wax, olefin wax, polyethylene wax, polypropylene wax, carnauba wax and the like can be used.
特に、体積膨張率の大きいゴム系や相変化を伴い大きな膨張率を有するワックス系、樹脂中に気泡を含んだ発泡性樹脂及び吸湿による体積膨張率の大きい吸収率の高いポリビニルアルコール系樹脂などが好ましい。発泡性樹脂に用いられることができるポリマー材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のオレフィン系樹脂、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクレート、エチレン−エチルアクリレート共重合体等のアクリル系樹脂、ブタジエン−スチレン、アクリロニトリル−スチレン、スチレン、スチレン−ブタジエン−スチレン、スチレン−イソプレン−スチレン、スチレン−アクリル酸等のスチレン系樹脂、アクリロニトリル−ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニル−エチレン等の塩化ビニル系樹脂、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン等のフッ化ビニル系樹脂、6−ナイロン、6・6−ナイロン、12−ナイロン等のアミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の飽和エステル系樹脂、ポリカーボネート、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール、ポリフェニレンスルフィド、シリコン樹脂、熱可塑性ウレタン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、各種エラストマーやこれらの架橋体、天然ゴムもしくは合成ゴム、ポリビニルアルコール、セルロース、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。 In particular, a rubber system having a large volume expansion coefficient, a wax system having a large expansion coefficient with phase change, a foamable resin containing bubbles in the resin, a polyvinyl alcohol resin having a high volume expansion coefficient due to moisture absorption and a high absorption coefficient, etc. preferable. Polymer materials that can be used for the foamable resin include olefin resins such as polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-propylene-diene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, and polymethyl acrylate. , Acrylic resins such as polymethyl methacrylate, ethylene-ethyl acrylate copolymer, styrene resins such as butadiene-styrene, acrylonitrile-styrene, styrene, styrene-butadiene-styrene, styrene-isoprene-styrene, styrene-acrylic acid , Vinyl chloride resins such as acrylonitrile-polyvinyl chloride and polyvinyl chloride-ethylene, vinyl fluoride resins such as polyvinyl fluoride and polyvinylidene fluoride, and resins such as 6-nylon, 6-6-nylon, 12-nylon, etc. Resins, saturated ester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycarbonate, polyphenylene oxide, polyacetal, polyphenylene sulfide, silicone resin, thermoplastic urethane resin, polyether ether ketone, polyether imide, various elastomers and cross-linked products thereof Natural rubber or synthetic rubber, polyvinyl alcohol, cellulose, polyamide resin, phenol resin, urea resin, epoxy resin, polyimide resin, and the like.
発泡性樹脂は、これらの樹脂に発泡剤を混合させることで製造可能であり、発泡剤は使用する樹脂により適宜選択できる。例えば、フロン、炭酸ガス、ペンタン等の物理的発泡剤や、特開2003−231875号公報記載の気体発生剤としてアゾ化合物、アジド化合物や、重曹(炭酸水素ナトリウム)、タルク、炭酸カルシウム、クエン酸等の分解型発泡剤や、イソシアネートと水の反応で発生する炭酸ガス等の反応型発泡剤、特開平11−38610号公報に開示されているような光熱変換材料、架橋促進剤などの反応促進型発泡剤が挙げられる。また、発泡剤としての機能が本発明で使用する発泡剤としては、気体発生剤、分解型発泡剤、反応促進型発泡剤が製造の容易さから使用上好ましい。本発明の発泡樹脂材料中には必要に応じて各種公知の添加剤を加えることにより作製することができる。例えば、気泡調整剤、粘着性付与剤、フィラー、粘度調整剤、染料、顔料、帯電防止剤、金属微粒子、難燃剤等が挙げられる。 The foamable resin can be produced by mixing a foaming agent with these resins, and the foaming agent can be appropriately selected depending on the resin used. For example, physical foaming agents such as chlorofluorocarbon, carbon dioxide, pentane, etc., and azo compounds, azide compounds, sodium bicarbonate (sodium bicarbonate), talc, calcium carbonate, citric acid as gas generating agents described in JP-A-2003-231875 Such as decomposition type foaming agent, reactive foaming agent such as carbon dioxide generated by reaction of isocyanate and water, photothermal conversion material as disclosed in JP-A-11-38610, cross-linking accelerator, etc. Mold blowing agents. Moreover, as a foaming agent whose function as a foaming agent is used in the present invention, a gas generating agent, a decomposable foaming agent, and a reaction promoting foaming agent are preferable in terms of ease of production. The foamed resin material of the present invention can be prepared by adding various known additives as required. For example, a bubble regulator, a tackifier, a filler, a viscosity modifier, a dye, a pigment, an antistatic agent, metal fine particles, a flame retardant and the like can be mentioned.
また、発泡剤等の混合方法は公知の混合方法を適宜採用することができる、具体的にはボールミル、メカニカル攪拌機、ホモジナイザー、超音波分散機等の公知技術を使用することができる。 Moreover, the mixing method of a foaming agent etc. can employ | adopt a well-known mixing method suitably, Specifically, well-known techniques, such as a ball mill, a mechanical stirrer, a homogenizer, an ultrasonic disperser, can be used.
次に、ICカード1を製造する過程で使用されるICカード基材製造装置の一例としてICカード基材製造装置40について図3を参照して説明する。
Next, an IC card base
ICカード基材製造装置40には、表面シートとしての枚葉状のシート基材2が第1シート基材供給部41からシート搬送部材42により上流側から下流側に搬送されるように配設されている。
In the IC card base
シート搬送部材42の上方には、接着剤供給部43及びICモジュール供給部44が上流から下流にそれぞれ順に形成されている。接着剤供給部43では、その下方を通過したシート基材2の上面に、窒素下120℃で溶融された間隙接着剤13をTダイ塗布方式で塗布するようになっており、ICモジュール供給部44では、その下方を通過したシート基材2の上面に、膨張部材12が配設されたICモジュール4を搭載するようになっている。
Above the
また、シート搬送部材42のさらに下流側には、上下にローラが配置された1対の貼り合せローラ45及び1対の膜厚制御ローラ46、ICカード基材搬送部材47がそれぞれ順に配設されている。貼り合せローラ45は、その間を通過する物体の貼り合せを行う圧接ローラであり、好ましくは加熱及び加圧を行うように構成されている。一方、膜厚制御ローラ46は、その間を通過する物体の膜厚の制御を行うように構成されている。そして、シート搬送部材42により搬送されたシート基材2は、貼り合せローラ45及び膜厚制御ローラ46の間を通過した後、ICカード基材搬送部材47上に搬送されるようになっている。
Further, on the further downstream side of the
また、貼り合せローラ45のうち、上側に配置されたローラの外周面には、第2シート基材供給部48から裏面シートとして長尺状のシート基材3が所定の速度で搬送されるようになっている。また、貼り合せローラ45の上側に配置されたローラの外周面の上方には、接着剤供給部43と同様の接着剤供給部49が形成されており、シート基材3が該接着剤供給部43の下方を通過した際に、シート基材3の上面に間隙接着剤13が塗布されるようになっている。そして、第2シート基材供給部48から搬送されたシート基材3は、貼り合せローラ45の回転に伴い、貼り合せローラ45及び膜厚制御ローラ46の間を通過してICカード基材搬送部材47上に搬送されるようになっており、シート搬送部材42により搬送されたシート基材2と貼り合わされて、間に膨張部材12及びICモジュール4が封入されたICカード基材が製造されるようになっている。
Further, the long
なお、接着剤供給部43,49は、該接着剤がTダイ塗布方式でシート基材2,3上に塗布されるように形成されているものであるが、Tダイ塗布方式に限らず、ローラー方式、ダイス方式などの通常使用される塗工方式であればどのようなものを用いても構わない。また、貼り合せローラ45の代わりに間隙接着剤13の貼り合わせ温度に加熱したプレス機を用いてもよいし、間隙接着剤13の貼り合わせ時に気泡が入るのを防止するために真空プレスを行うものとしてもよい。
The
また、ICカード1の表面平滑性及び膨張部材12を搭載したICモジュール4を内蔵した際のシート基材2,3と該ICモジュール4との密着性を高めるための加熱・加圧手段として、前述に掲げたものの他に、上下プレス方式、ラミネート方式、キャタピラ方式等の方法が挙げられる。
Further, as heating / pressurizing means for enhancing the surface smoothness of the
その際の加熱温度は、10〜120℃が好ましく、より好ましくは30〜100℃である。加圧は、ICチップ8の破損を避ける観点から、0.05〜300kgf/cm2が好ましく、より好ましくは0.05〜100kgf/cm2である。また、好ましい加熱及び加圧時間としては、0.1〜180secであり、より好ましくは0.1〜120secである。
The heating temperature at that time is preferably 10 to 120 ° C, more preferably 30 to 100 ° C. Pressing, from the viewpoint of avoiding damage to the
次に、ICカード1の製造方法について説明する。
ICカード1の製造に当たり、対向するシート基材2,3間に、ICモジュール4及び膨張部材12が封入されるが、シート基材2,3間に、ICモジュール4及び膨張部材12を封入する方法としては、従来公知の接着剤貼合法を任意に採用できる。ここでは、間隙接着剤13にホットメルト接着剤を使用した場合について説明する。
Next, a method for manufacturing the
In manufacturing the
先ず、ICカード1の表裏となる2枚のシート基材に必要に応じて受像層20、筆記層30、クッション層等を設けておくか、あるいは、これらが具備されたシート基材をシート基材2,3として準備しておく。
First, an
その後、図3に示すICカード基材製造装置40を用いて、このシート基材2,3の一方の面に、接着剤供給部43,49でホットメルト接着剤を所定の厚さに塗工する。その後、ICモジュール供給部44はシート基材2上の所定の位置に膨張部材12が搭載されたICモジュール4を搭載する。
Then, using the IC card base
ここで、膨張部材12が搭載されたICモジュール4を形成する方法について説明する。
Here, a method of forming the
まず、ICモジュール4の形成方法について説明する。
以下は一例であり、本願の趣旨に反しない限り形成方法は特に制限されない。ICモジュール4はモジュール基板5上に予め設けられた金属箔をアンテナ状パターンにエッチング処理を施すことにより回路を形成、あるいは、導電性インクをスクリーン印刷することにより形成する。ICチップ8を接続する部分に熱硬化性接着剤(NCP)、異方導電性樹脂(ACP)等から選ばれる樹脂をポッティング等により配置し、さらに、ICチップ8を加圧、加熱密着させ、固定する。さらにポッティングなどにより補強部材接着剤10を設け、その上に補強部材11を加圧、加熱密着させ固定してICモジュール4を形成する。
First, a method for forming the
The following is an example, and the forming method is not particularly limited unless it is contrary to the spirit of the present application. The
その後、補強部材11の上部にホットメルト接着剤を滴下し、その上に膨張部材12を配置して接着固定を行い、膨張部材12が搭載されたICモジュール4が形成される。
Thereafter, hot melt adhesive is dropped onto the upper portion of the reinforcing
そして、このように膨張部材12がICチップ8周辺に設置されるようにしたICモジュール4が搭載されたシート基材2は、シート搬送部材42により貼り合せローラ45の間に搬送される。
Then, the
なお、膨張部材12の搭載方法は、前述の例に限らず、本願の趣旨に反しない限り、特に限定されない。例えば、ICモジュール4を作成した後、ICモジュール4の補強部材11の上部に膨張部材12を直接インクジェット方式、ポッティング方式や塗布方式等により設ける。自己接着性のない膨張部材の場合、補強部材11の上部に予め、常温接着剤やホットメルト接着剤をポッティングなどにより設け、その上部に加圧、加熱等を行い配置する。また、ICカード1の表裏となる2枚のシート基材2,3上に予め、印刷方式、インクジェット方式、ポッティング方式、塗布方式等を用い、該シート基材2,3を貼り合わせた後、ICチップ8周辺となる部位に一致するように膨張部材12を設けておく方法も挙げられる。
In addition, the mounting method of the
一方、シート基材3は、所定の速度で貼り合せローラ45の間に搬送されており、膨張部材12とICモジュール4が搭載されたシート基材2に対し、ホットメルト接着剤が塗布された面が対向しながら貼り合せローラ45の間を通過して、膨張部材12とICモジュール4が封入された状態でシート基材2とシート基材3が接着する。
On the other hand, the
その後、このシート基材2,3は膜厚制御ローラ46の間を通過し、圧延されて所定の膜厚のICカード基材が形成される。
Thereafter, the
前述のようにして形成されたICカード基材に対し、所定時間放置してホットメルト接着剤の硬化反応を行う。その後、必要に応じて、シート基材2,3上に画像を形成した後、さらに所定のカードサイズに断裁することでICカード1が製造される。
The IC card substrate formed as described above is allowed to stand for a predetermined time to perform a curing reaction of the hot melt adhesive. Thereafter, if necessary, after an image is formed on the
なお、シート基材2,3上への画像形成や、所定のカードサイズへの断裁は、ホットメルト接着剤が硬化して、シート基材2,3間の所定位置に配置された膨張部材12やICモジュール4が該接着剤に十分密着してから行うことが好ましい。
また、所定のカードサイズへの断裁方法としては、打ち抜く方法を選択することもできる。製造されるICカード1の厚さは、300〜1000μmであり、好ましくは300〜900μmである。
Note that the image forming on the
Further, as a cutting method to a predetermined card size, a punching method can be selected. The thickness of the manufactured
以上のようにして形成されるICカード1では、加熱や湿気等によりICチップ8とアンテナコイル6とを固定するモジュール接着剤9が膨張しても、膨張部材12は当該接着剤9よりも膨張してICチップ8をアンテナコイル6に対して押し付けることができ、ICモジュール4とモジュール接着剤9との間で膨張率が異なることで発生する破断やクラックを防ぐことができる。また、シート基材2,3のうち、ICチップ8がアンテナコイル6と接続された面と反対側に位置するシート基材2表面上で生じる凹凸を防ぐこともできる。したがって、膨張による接続不良の解消しつつ、カード表面における平滑性を維持することができる。
In the
また、シート基材2,3に剛性部材を用い、その厚さ寸法を規定することで、シート基材2,3間に存在する部材が膨張して直近のシート基材2,3を押し当てる力が生じても、シート基材2,3は、当該力に抵抗することができ、シート基材2,3表面に凹凸が生じるのを防ぐことができ、カード表面における平滑性を維持することができる。
Further, by using rigid members for the
また、対向するシート基材2,3のうち、一方のシート基材2の表面に受像層20を有し、他方のシート基材3の表面に筆記可能な筆記層30を有することで、カード表面に各種情報が記載されたICカード1とすることができ、このようなICカード1において、膨張してもカード表面における平滑性を維持することができるので、カード表面に記載される写真や文字等の画像の精細性を向上させることができる。
Moreover, it has the
また、ICカード1に用いる接着剤(モジュール接着剤9、補強部材接着剤10、間隙接着剤13)として、例えば、光や熱などにより材料が架橋するような特定のトリガーにより反応が開始して接着性を帯びる反応型接着剤を用いることで、取り扱い性を向上させることができる。
Further, as an adhesive (
なお、本実施形態においては、補強部材11の上方に円板状の膨張部材12を配置させる構成としたが、膨張時にICチップ8がアンテナコイル6から剥がれない位置に配置された膨張部材であればよく、形状については特に問わない。
In the present embodiment, the disk-shaped
例えば、図4及び図5に示すように、補強部材11の上方には、膨張部材12の代わりに、少なくともバンプ7に対応するように形成された膨張部材14を複数備えて、それぞれを各パンプ7に対応するように配設させる構成としてもよい。このように配設させることで、膨張部材14は、膨張してICチップ8をアンテナコイル6に対して押し付ける際に、ICチップ8とアンテナコイル6との接続部であるバンプ7を中心に押し付けるとともに、パンプ7の数、つまり接続部の箇所に応じて押し付けることができるので、膨張した際にICチップ8がアンテナコイル6から外れて接続不良を引き起こすのを確実に防ぐことができる。
For example, as shown in FIGS. 4 and 5, a plurality of
また、図6に示すように、補強部材11の上方には、膨張部材12の代わりに、リング状に形成された膨張部材15を配設させる構成としてもよい。この場合、リング状に形成された膨張部材15とは、ICチップ8を挟んで複数のバンプ7に対応する位置を経由するように、複数のバンプ7相当箇所を連結して形成された部材であり、膨張部材15を配設させることで前述の膨張部材14と同様の効果を奏する。
As shown in FIG. 6, an
さらに、膨張部材12は、補強部材11の上方だけでなく、図7に示すように、モジュール基板5を挟んで下方にも配設させる構成としてもよい。このように配することにより、前述の効果に加え、ICチップ8の上下方向からの衝撃に対しての強度を向上させることができ、対向するシート基材2,3の表面上で生じる凹凸を防ぐこともできる。
Furthermore, the
以下、実施例にてこの発明を説明するが、この発明はこれに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.
〔実施例1の作製〕 [Production of Example 1]
《ICモジュールの作製》
エッチングによりアンテナパターンの形成された厚さ寸法が38μmの透明PET支持体に、図1に示すように、厚さ寸法が50μm、3mm角のICチップとアンテナコイルを電気的に接続し、モジュール接着剤(住友電工社製:スミマック ECR−8015TO(線熱膨張率 8×10−5K−1,20〜50℃))でその厚さ寸法が20μmとなるように固定した。次いでICチップのアンテナコイルとの接続面との反対側に、2液硬化型弾性エポキシ接着剤(東邦化成工業株式会社製:ウルタイト1540セット)を用いた主剤と硬化剤を使用して、その厚さ寸法が10μmとなるようにポッティングし、その上にSUS301からなる厚さ寸法が120μmの4mm角の板状の補強部材を載せた。そして、ICチップを封止するように加圧ロール(0.001kg/cm2)でプレスして接着硬化させ、透明PET支持体にICチップ及びアンテナコイルが接続された回路に補強部材が固定されたICモジュールを得た。
<< Production of IC module >>
As shown in FIG. 1, an IC chip having a thickness of 50 μm and a 3 mm square and an antenna coil are electrically connected to a transparent PET support having a thickness of 38 μm on which an antenna pattern has been formed by etching, and a module is bonded. It was fixed with an agent (manufactured by Sumitomo Electric Industries, Ltd .: Sumimac ECR-8015TO (linear
《ICモジュールへの膨張部材の固定》
湿気硬化型ホットメルト接着剤(Henkel社製:Macroplast QR3460)を120℃に加熱しながら乾燥窒素を吹き込み、混練し、攪拌しながら、20〜50℃での線熱膨張率が100×10−5K−1として、モジュール接着剤より線熱膨張率が高くなるように調整した発泡樹脂を作成した。これをICモジュールの補強部材上にポッティングし、厚さ寸法が50μmとすることで膨張部材を設け、ICモジュール4へ固定した。
<< Fixing of expansion member to IC module >>
Moisture curable hot-melt adhesive (manufactured by Henkel: Macroplast QR3460) was heated to 120 ° C., blown with dry nitrogen, kneaded and stirred, and the linear thermal expansion coefficient at 20 to 50 ° C. was 100 × 10 −5. As K- 1 , a foamed resin adjusted to have a higher linear thermal expansion coefficient than that of the module adhesive was prepared. This was potted on the reinforcing member of the IC module, and an expansion member was provided by setting the thickness to 50 μm, and was fixed to the
《シート基材の作成》
ICカードに用いられるシート基材として、受像層を有するシート基材と、筆記層を有するシート基材をそれぞれ作成した。
<Creation of sheet base material>
As the sheet base material used for the IC card, a sheet base material having an image receiving layer and a sheet base material having a writing layer were prepared.
(受像層を有するシート基材の作成)
表面シート基材として、厚さ寸法が188μmである帝人デュポンフィルム株式会社製U2L98Wの低熱収グレード上に下記組成の第1受像層形成用塗工液、第2受像層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚さ寸法が第1受像層が2.5μm、第2受像層が0.5μmとなるように積層することで受像層20を形成した。
(Creation of a sheet substrate having an image receiving layer)
As a surface sheet base material, a first image-receiving layer-forming coating solution and a second image-receiving-layer-forming coating solution having the following composition are formed on a low heat yield grade of U2L98W manufactured by Teijin DuPont Film Co., Ltd. having a thickness of 188 μm. The
<受像層の形成>
<第1受像層形成用塗工液>
ポリビニルブチラール樹脂(積水化学工業株式会社製:エスレックBX−1) 6部
金属イオン含有化合物(化合物MS) 4部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
なお、化合物MSとは下記に記載の化合物1である。
<First image-receiving layer forming coating solution>
Polyvinyl butyral resin (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd .: ESREC BX-1) 6 parts Metal ion-containing compound (Compound MS) 4 parts Methyl ethyl ketone 80
<第2受像層形成用塗工液>
ポリエチレンワックス(東邦化学工業株式会社製:ハイテックE1000) 2部
ウレタン変性エチレンアクリル酸共重合体
(東邦化学工業株式会社製:ハイテックS6254) 8部
メチルセルロース(信越化学工業株式会社製:SM15) 0.1部
水 90部
<Second image-receiving layer forming coating solution>
Polyethylene wax (Toho Chemical Industries, Ltd .: Hitech E1000) 2 parts Urethane-modified ethylene acrylic acid copolymer
(Toho Chemical Industries, Ltd .: Hitech S6254) 8 parts Methylcellulose (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: SM15) 0.1 parts Water 90 parts
そして、受像層上に樹脂凸版印刷法により、フォーマット印刷(従業員証、氏名)を行い、フォーマット印刷物が形成されたシート基材2を作成した。印刷インキには、UV墨インキを用いた。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。
Then, format printing (employee ID, name) was performed on the image receiving layer by a resin letterpress printing method to produce a
(筆記層を有するシート基材の作成)
裏面シート基材として、厚さ寸法が188μmである帝人デュポンフィルム株式会社製U2L98Wの低熱収グレード上に下記組成の第1筆記層形成用塗工液、第2筆記層形成用塗工液及び第3筆記層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚さ寸法が第1筆記層が5μm、第2筆記層が15μm、第3筆記層が0.2μmとなるように積層することで筆記層を形成した。筆記層の塗布後の最表面のRaは、1.56μmであった。
(Creation of a sheet base material having a writing layer)
As a back sheet base material, a first writing layer forming coating solution, a second writing layer forming coating solution, and a second writing layer forming coating solution having the following composition on a low heat yield grade of U2L98W manufactured by Teijin DuPont Films Ltd. having a thickness of 188 μm The three writing layer forming coating solutions are applied and dried in this order, and are laminated so that the thickness dimensions of the first writing layer are 5 μm, the second writing layer is 15 μm, and the third writing layer is 0.2 μm. Thus, a writing layer was formed. Ra of the outermost surface after application of the writing layer was 1.56 μm.
<筆記層の形成>
<第1筆記層形成用塗工液>
ポリエステル樹脂(東洋紡績株式会社製:バイロン200) 8部
イソシアネート(日本ポリウレタン工業株式会社製:コロネートHX) 1部
カーボンブラック 微量
二酸化チタン粒子(石原産業株式会社製:CR80) 1部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
<第2筆記層形成用塗工液>
ポリエステル樹脂(東洋紡績株式会社製:バイロナールMD1200) 8部
シリカ 6部
二酸化チタン粒子(石原産業株式会社製:CR80) 2部
水 90部
<第3筆記層形成用塗工液>
ポリアミド樹脂(三和化学工業株式会社製:サンマイド55) 5部
メタノール 95部
<Formation of writing layer>
<First writing layer forming coating solution>
Polyester resin (Toyobo Co., Ltd .: Byron 200) 8 parts Isocyanate (Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate HX) 1 part Carbon black Trace amount Titanium dioxide particles (Ishihara Sangyo Co., Ltd .: CR80) 1 part Methyl ethyl ketone 80
<Second writing layer forming coating solution>
Polyester resin (Toyobo Co., Ltd .: Vylonal MD1200) 8
<Third writing layer forming coating solution>
Polyamide resin (manufactured by Sanwa Chemical Industry Co., Ltd .: Sunmide 55) 5 parts Methanol 95 parts
そして、筆記層上に樹脂凸版印刷法により、フォーマット印刷(罫線、発行者名、発行者電話番号)を行い、フォーマット印刷物が形成されたシート基材3を作成した。印刷インキには、UV墨インキを用いた。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。このようにして形成されたシート基材を用いて、下記の製造方法でICカードを作成することが可能である。
Then, format printing (ruled lines, issuer name, issuer telephone number) was performed on the writing layer by the resin letterpress printing method, and the
《ICカードの作成》
まず、前述の過程で作成されたシート基材に対し、図3に示すICカード基材製造装置を用いてICカード基材の作製を行った。
ここで、間隙接着剤に積水化学工業株式会社製:湿気効果型ホットメルト接着剤MK2013を用いており、接着剤供給部は、該接着剤が窒素下120℃で溶融されてTダイ塗布方式でシート基材2,3上に塗布されるようにその供給を行うものとする。また、貼り合せローラでは、ローラ表面温度が65℃,3kg/cm2の圧力で加熱・加圧を行う。また、膜厚制御ローラは、膜厚が760μmとなるように制御を行う。
その後、ICカード基材製造装置で製造されたICカード基材を23℃、湿度55%の環境下で14日間放置して間隙接着剤をはじめとする各種接着剤の硬化を促進させた後、公知のカード打ち抜き機を用いて55×85mmサイズ、厚さ760μmに打ち抜き、所定サイズのICカードを得た。
<Creation of IC card>
First, an IC card substrate was prepared using the IC card substrate manufacturing apparatus shown in FIG. 3 for the sheet substrate prepared in the above process.
Here, Sekisui Chemical Co., Ltd .: Moisture effect type hot melt adhesive MK2013 is used for the gap adhesive, and the adhesive supply section is a T-die coating method in which the adhesive is melted at 120 ° C. under nitrogen. The supply is performed so as to be applied onto the
Thereafter, the IC card substrate manufactured by the IC card substrate manufacturing apparatus was allowed to stand for 14 days in an environment of 23 ° C. and 55% humidity to promote curing of various adhesives including a gap adhesive, An IC card of a predetermined size was obtained by punching to a size of 55 × 85 mm and a thickness of 760 μm using a known card punching machine.
《認証識別画像や属性情報画像の形成》
前述の方法で作成されたICカードに対し、下記記載の昇華型及び溶融型感熱転写記録用インクリボン、表面保護層用転写箔を用い、認証識別画像や属性情報画像を形成した。
<< Formation of authentication identification image and attribute information image >>
An authentication identification image and an attribute information image were formed on the IC card produced by the above-described method using the sublimation type and melt type thermal transfer recording ink ribbons and the surface protective layer transfer foil described below.
(昇華型熱転写記録用インクリボンの作製)
裏面に融着防止加工した厚さ6μmのポリエチレンテレフタレートシートに下記組成のイエローインク層形成用塗工液、マゼンタインク層形成用塗工液、シアンインク層形成用塗工液を厚みが1μmになるように設け、各々イエロー、マゼンタ、シアンのインクリボンを得た。
(Preparation of ink ribbon for sublimation thermal transfer recording)
A 6 μm-thick polyethylene terephthalate sheet with anti-fusing processing on the back surface is coated with a yellow ink layer forming coating liquid, a magenta ink layer forming coating liquid, and a cyan ink layer forming coating liquid having the following composition to a thickness of 1 μm. Thus, yellow, magenta, and cyan ink ribbons were obtained.
〈イエローインク層形成用塗工液〉
イエロー染料(三井東圧染料株式会社製:MS Yellow) 3部
ポリビニルアセタール
(電気化学工業株式会社製:デンカブチラールKY−24) 5.5部
ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン
(東亜合成化学工業株式会社製:レデダGP−200) 1部
ウレタン変性シリコンオイル
(大日精化工業株式会社製:ダイアロマーSP−2105) 0.5部
メチルエチルケトン 70部
トルエン 20部
<Coating liquid for yellow ink layer formation>
Yellow dye (Mitsui Toatsu Dye Co., Ltd .: MS Yellow) 3 parts Polyvinyl acetal (Denka Butyral KY-24) 5.5 parts Polymethylmethacrylate modified polystyrene (Toa Gosei Chemical Co., Ltd.) : Rededa GP-200) 1 part Urethane modified silicone oil (Dairoma Seika Kogyo Co., Ltd .: Dialomer SP-2105) 0.5 part Methyl ethyl ketone 70
〈マゼンタインク層形成用塗工液〉
マゼンタ染料(三井東圧染料株式会社製 MS Magenta) 2部
ポリビニルアセタール
(電気化学工業株式会社製:デンカブチラールKY−24) 5.5部
ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン
(東亜合成化学工業株式会社製:レデダGP−200) 2部
ウレタン変性シリコンオイル
(大日精化工業株式会社製:ダイアロマーSP−2105) 0.5部
メチルエチルケトン 70部
トルエン 20部
<Coating liquid for magenta ink layer formation>
Magenta dye (MS Magenta manufactured by Mitsui Toatsu Dye Co., Ltd.) 2 parts Polyvinyl acetal (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd .: Denka Butyral KY-24) 5.5 parts Polymethylmethacrylate modified polystyrene (manufactured by Toa Gosei Chemical Co., Ltd .: Rededa GP-200) 2 parts Urethane modified silicone oil (Dairoma Seika Kogyo Co., Ltd .: Dialomer SP-2105) 0.5 parts Methyl ethyl ketone 70
〈シアンインク層形成用塗工液〉
シアン染料(日本化薬株式会社製:カヤセットブルー136) 3部
ポリビニルアセタール
(電気化学工業株式会社製:デンカブチラールKY−24) 5.6部
ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン
(東亜合成化学工業株式会社製:レデダGP−200) 1部
ウレタン変性シリコンオイル
(大日精化工業株式会社製:ダイアロマーSP−2105) 0.5部
メチルエチルケトン 70部
トルエン 20部
<Cyan ink layer forming coating solution>
Cyan dye (Nippon Kayaku Co., Ltd .: Kayaset Blue 136) 3 parts Polyvinyl acetal (Denka Butyral KY-24, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) 5.6 parts Polymethyl methacrylate-modified polystyrene (Toa Gosei Chemical Co., Ltd.) Manufactured by: Rededa GP-200) 1 part Urethane modified silicone oil (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd .: Dialomer SP-2105) 0.5 part Methyl ethyl ketone 70
(溶融型熱転写記録用インクリボンの作製)
裏面に融着防止加工した厚さ6μmのポリエチレンテレフタレートシートに下記組成のインク層形成用塗工液を厚みが2μmになる様に塗布乾燥し、スリットしてインクリボンを得た。
(Preparation of melt-type thermal transfer recording ink ribbon)
An ink layer forming coating solution having the following composition was applied and dried to a thickness of 2 μm on a 6 μm thick polyethylene terephthalate sheet that had been processed to prevent fusion on the back side, and slitted to obtain an ink ribbon.
〈溶融インク層形成用塗工液〉
カルナバワックス 1部
エチレン酢酸ビニル共重合体(三井デュポンケミカル社製:EV40Y) 1部
カーボンブラック 3部
フェノール樹脂(荒川化学工業株式会社製:タマノル521) 5部
メチルエチルケトン 90部
<Coating liquid for forming molten ink layer>
(認証識別画像の形成)
ICカード上への認証識別画像の形成は、昇華型感熱転写記録用のインクリボンのインクが付着している側の面を受像層20の上面に重ね合わせ、インクリボン側からサーマルヘッドを用いて出力0.23W/ドット、パルス幅0.3〜4.5m秒、ドット密度16ドット/mmの条件で加熱を行うことにより、画像に階調性のある人物画像を受像層20上に形成した。
(Formation of identification image)
The authentication identification image is formed on the IC card by superimposing the ink-attached surface of the sublimation type thermal transfer recording ink ribbon on the upper surface of the
(属性情報画像の形成)
ICカード上への属性情報画像の形成は、昇華型感熱転写記録用のインクリボンのインクが付着している側の面を受像層20の上面に重ね合わせ、インクリボン側からサーマルヘッドを用いて出力0.5W/ドット、パルス幅1.0m秒、ドット密度16ドット/mmの条件で加熱を行うことにより、文字情報を受像層20上に形成した。
(Formation of attribute information image)
The attribute information image is formed on the IC card by superimposing the ink-attached surface of the sublimation type thermal transfer recording ink ribbon on the upper surface of the
《ICカードへの表面保護層の付与》
表面保護層の材料となる活性光線硬化層使用樹脂を作製して、下記組成の転写箔を作製した後、前述の過程で得られた認証識別画像や属性情報画像が形成されたICカードに対して、各々の画像が形成された面上に表面温度200℃に加熱した、直径5cmゴム硬度85のヒートローラを用いて圧力150kg/cm2で1.2秒間熱をかけて転写を行った。
<Applying a surface protective layer to the IC card>
After preparing an actinic ray curable layer resin as a material for the surface protective layer and preparing a transfer foil having the following composition, the IC card on which the authentication identification image and the attribute information image obtained in the above process are formed Then, transfer was performed by applying heat at a pressure of 150 kg / cm 2 for 1.2 seconds using a heat roller having a diameter of 5 cm and a rubber hardness of 85 heated to a surface temperature of 200 ° C. on the surface on which each image was formed.
(活性光線硬化層使用樹脂の作成)
窒素気流下の三ツ口フラスコに、メタアクリルメチル73部、スチレン15部、メタアクリル酸12部とエタノール500部、貼り合せローラ、貼り合せローラ′−アゾビスイソブチロニトリル3部を入れ、窒素気流中80℃のオイルバスで6時間反応させた。その後、トリエチルアンモニウムクロライド3部、グリシジルメタクリレート1.0部を加え、3時間反応させ目的のアクリル系共重合体の合成バインダである活性光線硬化層使用樹脂を得た。
(Creation of actinic ray cured layer resin)
In a three-necked flask under a nitrogen stream, 73 parts of methacrylic methyl, 15 parts of styrene, 12 parts of methacrylic acid and 500 parts of ethanol, laminating roller, laminating roller '-
(表面保護層用転写箔の作成)
ポリエチレンテレフタレート(ダイアホイルヘキスト株式会社製:S−25)の片面に下記処方でワイヤーバーコーティングにて順次塗工乾燥し転写箔を作成した。
(Create transfer foil for surface protective layer)
One surface of polyethylene terephthalate (manufactured by Diafoil Hoechst Co., Ltd .: S-25) was coated and dried sequentially by wire bar coating according to the following formulation to prepare a transfer foil.
<離型層> 膜厚0.2μm
ポリビニルアルコール(日本合成化学株式会社製:GL−05) 10部
水 90部
離型層は、塗工後90℃で30秒間乾燥を行った。
<活性光線硬化層> 膜厚7.0μm
新中村化学社製:A−9300/新中村化学社製:EA−1020
35/11.75部
反応開始剤(日本チバガイギー社製:イルガキュア184) 5部
活性光線硬化層使用樹脂 48部
大日本インキ界面活性剤F−179
(大日本インキ化学工業株式会社製) 0.25部
トルエン 500部
塗布後の活性光線硬化層は、90℃で30秒間乾燥を行い、次いで水銀灯(300mJ/cm2)で光硬化を行った。
<Release layer> Film thickness 0.2μm
Polyvinyl alcohol (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd .: GL-05) 10 parts Water 90 parts The release layer was dried at 90 ° C. for 30 seconds after coating.
<Actinic ray cured layer> Film thickness 7.0 μm
Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: A-9300 / Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: EA-1020
35 / 11.75 parts Reaction initiator (manufactured by Ciba Geigy Japan, Inc .: Irgacure 184) 5 parts Resin used with actinic ray
(Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd.) 0.25 parts Toluene 500 parts The applied actinic ray cured layer was dried at 90 ° C. for 30 seconds, and then photocured with a mercury lamp (300 mJ / cm 2 ).
<中間層> 膜厚1.0μm
ポリビニルブチラール樹脂(積水化学株式会社製:エスレックBX−1) 3.5部
タフテックスM−1913(旭化成株式会社製) 5部
硬化剤 ポリイソシアネート(日本ポリウレタン製:コロネートHX) 1.5部
メチルエチルケトン 90部
塗布後の中間層は、50℃、24時間乾燥させて硬化させた。
<Intermediate layer> Film thickness 1.0μm
Polyvinyl butyral resin (Sekisui Chemical Co., Ltd .: ESREC BX-1) 3.5 parts Tuftex M-1913 (Asahi Kasei Co., Ltd.) 5 parts Curing agent Polyisocyanate (Nippon Polyurethane: Coronate HX) 1.5 parts Methyl ethyl ketone 90 The intermediate layer after application was dried and cured at 50 ° C. for 24 hours.
<接着層> 膜厚0.5μm
ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体
(東邦化学工業株式会社製:ハイテックS6254B) 8部
ポリアクリル酸エステル共重合体
(日本純薬株式会社製:ジュリマーAT510) 2部
水 45部
エタノール 45部
塗布後の接着層は、70℃、30秒間乾燥を行った。
<Adhesive layer> Film thickness 0.5μm
Urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer (manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254B) 8 parts Polyacrylic acid ester copolymer (manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd .: Jurimer AT510) 2
〔実施例2の作製〕
実施例1の作製過程のうち、《ICモジュールへの膨張部材の固定》において、図4,5に示すように配置して膨張部材を設ける以外は同様にICカードを作製して実施例2を得た。
[Production of Example 2]
In the manufacturing process of the first embodiment, in “Fixing the expansion member to the IC module”, an IC card is similarly manufactured except that the expansion member is provided as shown in FIGS. Obtained.
〔実施例3の作製〕
実施例1の作製過程のうち、《ICモジュールへの膨張部材の固定》において、図6に示すように配置して膨張部材を設ける以外は同様にICカードを作製して実施例3を得た。
[Production of Example 3]
In the manufacturing process of the first embodiment, in the “fixing of the expansion member to the IC module”, an IC card was similarly manufactured except that the expansion member was provided as shown in FIG. .
〔実施例4の作製〕
実施例1の作製過程のうち、《ICモジュールへの膨張部材の固定》において、図7に示すように配置して膨張部材を設ける以外は同様にICカードを作製して実施例4を得た。
[Production of Example 4]
In the manufacturing process of Example 1, an IC card was prepared in the same manner as Example 4 except that the expansion member was provided by arranging as shown in FIG. .
〔実施例5の作製〕
実施例1の作製過程のうち、《ICモジュールへの膨張部材の固定》において、膨張部材にモジュール接着剤より体積熱膨張率の大きい融点60℃のパラフィンワックスを用い、厚さが20μmとなるようにした以外は同様にICカードを作製して実施例5を得た。
[Production of Example 5]
In the manufacturing process of Example 1, in “Fixing of the expansion member to the IC module”, paraffin wax having a melting point of 60 ° C. having a volumetric thermal expansion coefficient larger than that of the module adhesive is used for the expansion member so that the thickness becomes 20 μm. An IC card was produced in the same manner as described above except that the example 5 was obtained.
〔実施例6の作製〕
実施例1の作製過程のうち、《ICモジュールへの膨張部材の固定》において、膨張部材にモジュール接着剤より吸湿膨張率の大きいPVA樹脂(ポリビニルアルコール)を用いた以外は同様にICカードを作製して実施例6を得た。
[Production of Example 6]
In the manufacturing process of Example 1, an IC card is similarly manufactured except that PVA resin (polyvinyl alcohol) having a higher hygroscopic expansion coefficient than the module adhesive is used for the expansion member in << Fixing of expansion member to IC module >>. Example 6 was obtained.
〔比較例の作製〕
実施例1の作製過程のうち、《ICモジュールへの膨張部材の固定》において、膨張部材を設けない以外は同様にICカードを作製して比較例を得た。
[Production of Comparative Example]
In the manufacturing process of Example 1, an IC card was similarly manufactured except that the expansion member was not provided in << Fixing of expansion member to IC module >> to obtain a comparative example.
《耐熱性の評価》
作製された実施例1〜実施例4及び比較例のICカードについて85℃、85%の高温高湿度条件で1000時間暴露し、暴露後のICカードの動作不良率を求め、下記に記載する判定基準で耐熱性の評価を行った。結果を表1に示す。
○・・・動作不良率1%以下
△・・・動作不良率1%より大きく20%以下
×・・・動作不良率20%より大きく100%以下
<Evaluation of heat resistance>
The produced IC cards of Examples 1 to 4 and the comparative example were exposed for 1000 hours at 85 ° C. and 85% high temperature and high humidity, and the malfunction rate of the IC card after the exposure was determined. The heat resistance was evaluated according to the standard. The results are shown in Table 1.
○ ・ ・ ・
《印字性の評価》
作製された実施例1〜実施例4及び比較例のICカードについて40℃、85%の条件で3時間暴露した後、筆記層上に溶融型及び昇華型感熱転写画像を形成し、画像形成後のICカードのかすれ具合を下記に記載する判定基準で判定することで、印字性の評価を行った。結果を表1に示す。
◎・・・問題なく画像形成できる
○・・・一部濃度が低下する部分があるが、濃度が低下した部分は判別できるレベルである
△・・・一部濃度が低下する部分があり、濃度が低下した部分は判別できないレベルである
×・・・完全に色抜けする部分がある
The produced IC cards of Examples 1 to 4 and Comparative Example were exposed for 3 hours under conditions of 40 ° C. and 85%, and then a melt type and sublimation type thermal transfer image was formed on the writing layer, and after image formation The printability was evaluated by determining the degree of fading of the IC card according to the criteria described below. The results are shown in Table 1.
◎ ・ ・ ・ Image can be formed without any problems ○ ・ ・ ・ There is a part where the density is partially reduced, but the part where the density is reduced is a level that can be discriminated △ ・ ・ ・ There is a part where the density is partially reduced, and the density Is a level that cannot be discriminated. × ・ ・ ・ There is a part that completely loses color.
1 ICカード
2,3 シート基材
4 ICモジュール
5 モジュール基板
6 アンテナコイル
7 バンプ
8 ICチップ
9 モジュール接着剤
10 補強部材接着剤
11 補強部材
12,14,15 膨張部材
13 間隙接着剤
20 受像層
30 筆記層
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記アンテナ体は、モジュール接着剤を介して前記ICチップに固定されており、
少なくとも前記ICチップの前記アンテナ体との接続面と反対側の面に対向するシート基材と、前記ICチップとの間に、前記モジュール接着剤より膨張率の高い膨張部材を備えることを特徴とするICカード。 An IC card in which an IC chip and an antenna body connected to one surface side of the IC chip are disposed between sheet substrates facing each other through a gap adhesive,
The antenna body is fixed to the IC chip via a module adhesive,
A sheet base material facing at least the surface of the IC chip opposite to the connection surface with the antenna body, and an expansion member having a higher expansion coefficient than the module adhesive is provided between the IC chip and the IC chip. IC card to do.
前記膨張部材は、少なくとも前記バンプと対応するように配置されていることを特徴とする請求項1に記載のICカード。 The IC chip and the antenna body are connected via bumps,
The IC card according to claim 1, wherein the expansion member is disposed so as to correspond to at least the bump.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005252027A JP2007066048A (en) | 2005-08-31 | 2005-08-31 | Ic card |
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009143112A (en) * | 2007-12-14 | 2009-07-02 | Tohcello Co Ltd | Sticky note comprised of polylactic acid laminated film |
| JP2009230619A (en) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Fujitsu Ltd | Ic tag and manufacturing method of the same |
| JP2011134027A (en) * | 2009-12-24 | 2011-07-07 | Nec Tokin Corp | Wireless communication recording medium |
| JP2015506003A (en) * | 2011-11-10 | 2015-02-26 | エーエムビー アイ.ティー.ホールディング ビーブイ | Tag assembly, tag structure and sports bib |
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2005
- 2005-08-31 JP JP2005252027A patent/JP2007066048A/en active Pending
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