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JP2006324541A - Wiring substrate manufacturing method and semiconductor device - Google Patents

Wiring substrate manufacturing method and semiconductor device Download PDF

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JP2006324541A
JP2006324541A JP2005147603A JP2005147603A JP2006324541A JP 2006324541 A JP2006324541 A JP 2006324541A JP 2005147603 A JP2005147603 A JP 2005147603A JP 2005147603 A JP2005147603 A JP 2005147603A JP 2006324541 A JP2006324541 A JP 2006324541A
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JP
Japan
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wiring board
terminal
terminals
cavity
main surface
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Pending
Application number
JP2005147603A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuhiro Iizuka
勝洋 飯塚
Kenji Koyama
賢治 小山
Toshiyuki Handa
利幸 半田
Takayoshi Yamaguchi
貴義 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Technology Corp
Original Assignee
Renesas Technology Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Technology Corp filed Critical Renesas Technology Corp
Priority to JP2005147603A priority Critical patent/JP2006324541A/en
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    • H10W72/5522
    • H10W74/00
    • H10W90/754

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  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique for securing planarity of terminals formed to a wiring board even if warpage occurs in the wiring board. <P>SOLUTION: The warpage 23 is formed to the rear face region facing a cavity 13 in the wiring board 12. The height of a terminal 19a in the rear face region where the warpage 23 is formed, and that of the surface of each terminal 19b formed to the other parts in the rear face region, are aligned. Concretely, the surface of the terminal 19a and that of each terminal 19b are aligned by respectively adjusting an amount of a conductive material constituting the terminal 19a and the terminals 19b. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、配線基板の製造技術および半導体装置に関し、特に、端子の平坦性が要求される配線基板の製造技術およびその配線基板を用いた半導体装置に適用して有効な技術に関するものである。   The present invention relates to a wiring board manufacturing technique and a semiconductor device, and more particularly to a wiring board manufacturing technique that requires flatness of terminals and a technique that is effective when applied to a semiconductor device using the wiring board.

例えば、特開2004−072035号公報(特許文献1)には、セラミック積層基板の製造方法が開示されている。具体的に、特開2004−072035号公報の図5(a)に示すように、金型11内に焼成温度で焼結しない無機組成物の粉体12(下層)を入れ、その上に所望枚数のグリーンシート10を積み重ねて入れる。そして、さらにその上に、無機組成物の粉体12(上層)を入れた後、加圧成形するセラミック積層基板の製造方法が開示されている。この方法によれば、セラミック積層基板が焼成時に厚み方向だけ収縮し、平面方向には収縮しないという特徴がある。
特開2004−072035号公報(第2頁、図5(a))
For example, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2004-072035 (Patent Document 1) discloses a method for manufacturing a ceramic laminated substrate. Specifically, as shown in FIG. 5A of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-072035, an inorganic composition powder 12 (lower layer) that does not sinter at a firing temperature is placed in a mold 11, and a desired shape is placed thereon. Stack the number of green sheets 10 into the stack. Further, there is disclosed a method for producing a ceramic laminated substrate in which a powder 12 (upper layer) of an inorganic composition is further put thereon and then press-molded. This method is characterized in that the ceramic laminated substrate shrinks only in the thickness direction during firing and does not shrink in the plane direction.
JP 2004-072035 A (2nd page, FIG. 5 (a))

しかし、上記した特許文献1に記載されているように、無機組成物の粉体層を加圧する場合、粉体における圧力の伝播は液体と違って均一に伝わらない問題点がある。このため、加圧された無機組成物の粉体の圧力バランスが崩れて、グリーンシートに均一に圧力が加わらない。したがって、セラミック積層基板の平坦度および厚みの均一性が損なわれる。すなわち、セラミック積層基板に反りが発生する。   However, as described in Patent Document 1 described above, when the powder layer of the inorganic composition is pressurized, there is a problem that the propagation of pressure in the powder is not transmitted uniformly unlike the liquid. For this reason, the pressure balance of the pressurized inorganic composition powder is lost, and pressure is not uniformly applied to the green sheet. Therefore, the flatness and thickness uniformity of the ceramic laminated substrate are impaired. That is, warpage occurs in the ceramic laminated substrate.

例えば、半田を使用して実装基板(PCB基板;printed circuit board)にRF(Radio Frequency)パワーモジュールを実装する際、RFパワーモジュールの端子の半田濡れ性が悪い問題が発生した。これは、RFパワーモジュールを構成する配線基板(セラミック積層基板)の反りによって端子の平坦性が悪化していることが原因であることが判明した。   For example, when an RF (Radio Frequency) power module is mounted on a mounting board (PCB board; printed circuit board) using solder, there has been a problem that solder wettability of terminals of the RF power module is poor. It has been found that this is because the flatness of the terminals is deteriorated due to the warp of the wiring board (ceramic multilayer substrate) constituting the RF power module.

ここで、焼成条件、加圧成形条件や材料添加物配分などの変更によって、セラミック積層基板の反り量を極力少なくしようとすることが行われている。しかし、これには限界があり、キャビティの有無、基板のサイズなどによって反り量も変わってくるため、反り量を個別にコントロールすることは非常に難しい。   Here, attempts have been made to reduce the amount of warpage of the ceramic laminated substrate as much as possible by changing the firing conditions, pressure forming conditions, material additive distribution, and the like. However, there is a limit to this, and the amount of warpage varies depending on the presence or absence of a cavity and the size of the substrate, so it is very difficult to individually control the amount of warpage.

本発明の目的は、配線基板に反りが生じていても、配線基板に形成されている端子の平坦性を確保することのできる技術を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a technique capable of ensuring the flatness of terminals formed on a wiring board even when the wiring board is warped.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。   The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。   Of the inventions disclosed in the present application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.

本発明による半導体装置は、(a)配線基板と、(b)前記配線基板の主面とは反対側の面に形成された複数の端子と、(c)前記配線基板の主面に搭載された半導体チップとを備える。そして、前記配線基板に反りが発生しても、前記複数の端子を構成する導電材料の量をそれぞれ調整することにより、前記複数の端子の表面を揃えることを特徴とするものである。   A semiconductor device according to the present invention is mounted on (a) a wiring board, (b) a plurality of terminals formed on a surface opposite to the main surface of the wiring board, and (c) a main surface of the wiring board. A semiconductor chip. Then, even if the wiring substrate is warped, the surfaces of the plurality of terminals are made uniform by adjusting the amounts of the conductive materials constituting the plurality of terminals, respectively.

また、本発明による配線基板の製造方法は、(a)主面にキャビティを有する配線基板を焼成する工程と、(b)前記(a)工程後、前記配線基板の主面とは反対側の面に印刷マスクを配置する工程と、(c)前記(b)工程後、前記印刷マスクをマスクにして導電材料を印刷することにより、複数の端子を形成する工程とを備えるものである。   The method for manufacturing a wiring board according to the present invention includes (a) a step of firing a wiring board having a cavity on the main surface, and (b) after the step (a), on the side opposite to the main surface of the wiring substrate. A step of arranging a print mask on the surface; and (c) a step of forming a plurality of terminals by printing a conductive material using the print mask as a mask after the step (b).

本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。   Among the inventions disclosed in the present application, effects obtained by typical ones will be briefly described as follows.

配線基板に反りが発生しても、複数の端子を構成する導電材料の量をそれぞれ調整するので、複数の端子の表面を揃えることができる。したがって、複数の端子の平坦性が確保されるので、複数の端子での半田濡れ性を向上させることができる。   Even when the wiring board is warped, the amounts of the conductive materials constituting the plurality of terminals are adjusted, so that the surfaces of the plurality of terminals can be made uniform. Therefore, since the flatness of the plurality of terminals is ensured, the solder wettability at the plurality of terminals can be improved.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that components having the same function are denoted by the same reference symbols throughout the drawings for describing the embodiment, and the repetitive description thereof will be omitted.

本発明の実施の形態を詳細に説明する前に、実施の形態における用語の意味を説明すると次の通りである。   Before describing embodiments of the present invention in detail, the meaning of terms in the embodiments will be described as follows.

GSM(Global System for Mobile Communication)は、デジタル携帯電話機に使用されている無線通信方式の1つまたは規格をいう。GSMには、使用する電波の周波数帯が3つあり、900MHz帯をGSM900または単にGSM、1800MHz帯をGSM1800またはDCS(Digital Cellular System)1800もしくはPCNという。また、1900MHz帯をGSM1900またはDCS1900もしくはPCS(Personal Communication Services)という。なお、GSM1900は主に北米で使用されている。北米では、その他に850MHz帯のGSM850を使用する場合もある。   GSM (Global System for Mobile Communication) is one of radio communication systems or standards used for digital mobile phones. GSM has three frequency bands of radio waves to be used. The 900 MHz band is called GSM900 or simply GSM, and the 1800 MHz band is called GSM1800, DCS (Digital Cellular System) 1800 or PCN. The 1900 MHz band is called GSM1900, DCS1900, or PCS (Personal Communication Services). GSM1900 is mainly used in North America. In North America, GSM850 in the 850 MHz band may also be used.

GMSK変調方式は、音声信号の通信に用いる方式で、搬送波の位相を送信データに応じて位相シフトする方式である。また、EDGE変調方式は、データ通信に用いる方式で位相シフトの他に振幅変調を加えた方式である。   The GMSK modulation method is a method used for audio signal communication, and is a method of shifting the phase of a carrier wave in accordance with transmission data. The EDGE modulation method is a method used for data communication and is a method in which amplitude modulation is added in addition to phase shift.

(実施の形態1)
本実施の形態1では、携帯電話機に使用されるRFパワーモジュールに本実施の形態1の半導体装置を適用した場合について説明する。
(Embodiment 1)
In the first embodiment, a case where the semiconductor device of the first embodiment is applied to an RF power module used in a mobile phone will be described.

図1は、本実施の形態1のRFパワーモジュールを構成する増幅回路1を示した回路ブロック図である。図1には、例えばGSM900とDCS1800の2つの周波数帯が使用可能なデュアルバンド方式の回路ブロック図が例示されており、それぞれの周波数帯でGMSK(Gaussian filtered Minimum Shift Keying)変調方式とEDGE(Enhanced Data GSM Environment)変調方式の2つの通信方式が使用可能になっている。   FIG. 1 is a circuit block diagram showing an amplifier circuit 1 constituting the RF power module of the first embodiment. FIG. 1 illustrates a dual-band circuit block diagram in which two frequency bands, for example, GSM900 and DCS1800, can be used. In each frequency band, a GMSK (Gaussian filtered Minimum Shift Keying) modulation method and an EDGE (Enhanced) are illustrated. (Data GSM Environment) Two communication methods of modulation method can be used.

増幅回路1は、図1に示すように、GSM900用の電力増幅回路2と、DCS1800用の電力増幅回路3と、これら電力増幅回路2、3の増幅動作の制御や補正などを行う周辺回路4とを有している。各電力増幅回路2、3は、それぞれ3つの増幅段2a〜2c、3a〜3cと、3つの整合回路2d〜2f、3d〜3fとを有している。つまり、入力端子5a、5bは、入力用の整合回路2d、3dを介して1段目の増幅段2a、3aの入力と電気的に接続されており、1段目の増幅段2a、3aの出力は、段間用の整合回路2e、3eを介して2段目の増幅段2b、3bの入力と電気的に接続されている。そして、2段目の増幅段2b、3bの出力は、段間用の整合回路2f、3fを介して最後の増幅段2c、3cの入力と電気的に接続され、最後の増幅段2c、3cの出力は、出力端子6a、6bと電気的に接続されている。   As shown in FIG. 1, the amplifier circuit 1 includes a power amplifier circuit 2 for GSM 900, a power amplifier circuit 3 for DCS 1800, and a peripheral circuit 4 that controls and corrects the amplification operation of these power amplifier circuits 2 and 3. And have. Each of the power amplifier circuits 2 and 3 includes three amplification stages 2a to 2c and 3a to 3c, and three matching circuits 2d to 2f and 3d to 3f, respectively. That is, the input terminals 5a and 5b are electrically connected to the inputs of the first amplification stages 2a and 3a via the input matching circuits 2d and 3d, and the first amplification stages 2a and 3a are connected. The output is electrically connected to the inputs of the second amplification stages 2b and 3b via interstage matching circuits 2e and 3e. The outputs of the second amplification stages 2b and 3b are electrically connected to the inputs of the last amplification stages 2c and 3c via interstage matching circuits 2f and 3f, and the last amplification stages 2c and 3c. Are electrically connected to the output terminals 6a and 6b.

周辺回路4は、制御回路4aと、増幅段2a〜2c、3a〜3cにバイアス電圧を印加するためのバイアス回路4bなどを有している。制御回路4aは、電力増幅回路2、3に印加する所定の電圧を発生する回路であり、電源制御回路4cおよびバイアス電圧生成回路4dを有している。電源制御回路4cは、増幅段2a〜2c、3a〜3cにおいて、各出力用のパワーMISFET(Metal Insulator Semiconductor Field Effect Transistor)のドレイン電極に印加される第1電源電圧を生成する回路である。また、バイアス電圧生成回路4dは、バイアス回路4bを制御するための第1制御電圧を生成する回路である。   The peripheral circuit 4 includes a control circuit 4a and a bias circuit 4b for applying a bias voltage to the amplification stages 2a to 2c and 3a to 3c. The control circuit 4a is a circuit that generates a predetermined voltage to be applied to the power amplifier circuits 2 and 3, and includes a power supply control circuit 4c and a bias voltage generation circuit 4d. The power supply control circuit 4c is a circuit that generates a first power supply voltage applied to the drain electrode of each output power MISFET (Metal Insulator Semiconductor Field Effect Transistor) in the amplification stages 2a to 2c and 3a to 3c. The bias voltage generation circuit 4d is a circuit that generates a first control voltage for controlling the bias circuit 4b.

本実施の形態1では、電源制御回路4cが増幅回路1の外部にあるベースバンド回路から供給される出力レベル指定信号に基づいて、第1電源電圧を生成すると、バイアス電圧生成回路4dが電源制御回路4cで生成された第1電源電圧に基づいて、第1制御電圧を生成するようになっている。ベースバンド回路は、出力レベル指定信号を生成する回路である。ベースバンド回路で生成される出力レベル指定信号は、電力増幅回路2、3の出力レベルを指定する信号で、携帯電話機と基地局との間の距離、すなわち、電波の強弱に応じた出力レベルに基づいて生成されるようになっている。   In the first embodiment, when the power supply control circuit 4c generates the first power supply voltage based on the output level designation signal supplied from the baseband circuit outside the amplifier circuit 1, the bias voltage generation circuit 4d controls the power supply. A first control voltage is generated based on the first power supply voltage generated by the circuit 4c. The baseband circuit is a circuit that generates an output level designation signal. The output level designation signal generated by the baseband circuit is a signal that designates the output level of the power amplifier circuits 2 and 3 and has an output level corresponding to the distance between the mobile phone and the base station, that is, the strength of the radio wave. It is generated based on.

次に、図2は、電力増幅回路2およびバイアス回路4bの回路構成の一例を示した図である。図2において、本実施の形態における電力増幅回路2は、3段の増幅段2a〜2cとして、3つのMISFETQ1〜Q3を順次接続した回路構成をしている。この電力増幅回路2の出力レベルは電源制御回路4cから供給される第1電源電圧Vdd1とバイアス回路4bから供給されるゲートバイアス電圧によって制御される。第1電源電圧Vdd1は、3つのMISFETQ1〜Q3のドレイン電極に供給されるようになっている。   Next, FIG. 2 is a diagram showing an example of the circuit configuration of the power amplifier circuit 2 and the bias circuit 4b. In FIG. 2, the power amplifying circuit 2 in the present embodiment has a circuit configuration in which three MISFETs Q1 to Q3 are sequentially connected as three amplifying stages 2a to 2c. The output level of the power amplifier circuit 2 is controlled by the first power supply voltage Vdd1 supplied from the power supply control circuit 4c and the gate bias voltage supplied from the bias circuit 4b. The first power supply voltage Vdd1 is supplied to the drain electrodes of the three MISFETs Q1 to Q3.

整合回路2d〜2fは、インダクタ(受動部品)とコンデンサ(受動部品)とを有しており、増幅段2aの入力および各段間でのインピーダンス整合をとる機能を有している。また、コンデンサは、インダクタと各段のMISFETQ1〜Q3の入力との間に接続されており、インピーダンス整合をとる機能と、第1電源電圧Vdd1とゲートバイアス電圧との直流電圧を遮断する機能とを有している。   The matching circuits 2d to 2f include an inductor (passive component) and a capacitor (passive component), and have a function of matching the input of the amplification stage 2a and impedance between the stages. The capacitor is connected between the inductor and the inputs of the MISFETs Q1 to Q3 of each stage, and has a function of impedance matching and a function of cutting off the DC voltage between the first power supply voltage Vdd1 and the gate bias voltage. Have.

バイアス回路4bは、複数の分圧回路を有している。各分圧回路は、一対の抵抗R1、R2より構成されている。各一対の抵抗R1、R2はバイアス回路4bの入力端子5cと、基準電位(例えば、接地電位で0V)との間に直列に接続されている。そして、一対の抵抗R1、R2間を繋ぐ配線部分と各段のMISFETQ1〜Q3のゲート電極とは、電気的に接続されている。したがって、バイアス回路4bの入力端子5cに第1制御電圧が入力されると、その電圧が一対の抵抗R1、R2で分圧されて所定のゲートバイアス電圧が生成され、生成されたゲートバイアス電圧がそれぞれのMISFETQ1〜Q3のゲート電極に入力されるようになっている。   The bias circuit 4b has a plurality of voltage dividing circuits. Each voltage dividing circuit includes a pair of resistors R1 and R2. Each pair of resistors R1 and R2 is connected in series between the input terminal 5c of the bias circuit 4b and a reference potential (for example, 0 V at the ground potential). And the wiring part which connects between a pair of resistance R1, R2 and the gate electrode of MISFETQ1-Q3 of each stage are electrically connected. Therefore, when the first control voltage is input to the input terminal 5c of the bias circuit 4b, the voltage is divided by the pair of resistors R1 and R2 to generate a predetermined gate bias voltage, and the generated gate bias voltage is The signals are input to the gate electrodes of the MISFETs Q1 to Q3.

次に、本実施の形態1におけるRFパワーモジュールの実装構成について説明する。図3は、本実施の形態1におけるRFパワーモジュール10を実装基板11に実装した様子を示す断面図である。図3において、例えばセラミック多層基板からなる配線基板12の主面上には、凹形状のキャビティ13が形成されている。このキャビティ13の底部には、半田14が形成されており、半田14を介してキャビティ13内に半導体チップ15が搭載されている。半導体チップ15には、例えばMISFET(Metal Insulator Semiconductor Field Effect Transistor)などが形成されている。半導体チップ15は、配線基板12上のボンディングパッドとボンディングワイヤ16によって電気接続されている。ボンディングワイヤ16は、例えば金線などから構成されている。   Next, the mounting configuration of the RF power module according to the first embodiment will be described. FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state where the RF power module 10 according to the first embodiment is mounted on the mounting substrate 11. In FIG. 3, a concave cavity 13 is formed on the main surface of a wiring substrate 12 made of, for example, a ceramic multilayer substrate. Solder 14 is formed at the bottom of the cavity 13, and a semiconductor chip 15 is mounted in the cavity 13 via the solder 14. For example, a MISFET (Metal Insulator Semiconductor Field Effect Transistor) is formed on the semiconductor chip 15. The semiconductor chip 15 is electrically connected to bonding pads on the wiring substrate 12 by bonding wires 16. The bonding wire 16 is made of, for example, a gold wire.

配線基板12は、配線を形成した複数枚の絶縁体板を積層して一体化した多層配線構造をしている。配線基板12を構成する絶縁体板は、例えばミリ波域まで誘電損失の少ないアルミナ(酸化アルミニウム、Al、比誘電率9〜9.7)などのようなセラミックからなるが、これに限定されるものではなく、例えばガラスエポキシ樹脂などを使用してもよい。 The wiring board 12 has a multilayer wiring structure in which a plurality of insulating plates on which wiring is formed are laminated and integrated. The insulating plate constituting the wiring board 12 is made of a ceramic such as alumina (aluminum oxide, Al 2 O 3 , relative dielectric constant 9 to 9.7) having a low dielectric loss up to the millimeter wave region, for example. For example, a glass epoxy resin or the like may be used.

また、配線基板12の主面には、受動部品17も搭載されている。受動部品17としては、例えば、上述した回路を構成する抵抗、コンデンサ、インダクタなどが挙げられる。   A passive component 17 is also mounted on the main surface of the wiring board 12. Examples of the passive component 17 include a resistor, a capacitor, and an inductor that constitute the above-described circuit.

キャビティ13の底部には、配線基板12の裏面(主面とは反対側の面)に達するようにビア18が形成されている。このビア18には、銅などの導電材料が充填されており、配線基板12の裏面に形成された端子19aに接続されている。すなわち、キャビティ13の底部に形成された半田14は、ビア18内の導体を通じて配線基板12の裏面にある端子19aと電気的かつ熱的に接合されている。端子19aには、基準電位(例えば接地電位で0V程度)が供給される。つまり、配線基板12の裏面にある端子19aに供給された基準電位は、ビア18を通じて半導体チップ15に供給されるようになっている。また、逆に半導体チップ15の動作時に発生した熱は、半導体チップ15の裏面から半田14とビア18を通じて配線基板12の裏面にある端子19aに伝わり放散される。なお、配線基板12の主面は、主面上に形成された半導体チップ15や受動部品17を保護するため、レジン(樹脂)22で覆われている。   A via 18 is formed at the bottom of the cavity 13 so as to reach the back surface (the surface opposite to the main surface) of the wiring substrate 12. The via 18 is filled with a conductive material such as copper, and is connected to a terminal 19 a formed on the back surface of the wiring board 12. That is, the solder 14 formed at the bottom of the cavity 13 is electrically and thermally bonded to the terminal 19 a on the back surface of the wiring board 12 through the conductor in the via 18. A reference potential (for example, about 0 V at the ground potential) is supplied to the terminal 19a. That is, the reference potential supplied to the terminal 19 a on the back surface of the wiring board 12 is supplied to the semiconductor chip 15 through the via 18. Conversely, heat generated during the operation of the semiconductor chip 15 is transmitted from the back surface of the semiconductor chip 15 to the terminals 19a on the back surface of the wiring substrate 12 through the solder 14 and the vias 18 and is dissipated. The main surface of the wiring board 12 is covered with a resin (resin) 22 in order to protect the semiconductor chip 15 and the passive component 17 formed on the main surface.

このように構成されたRFパワーモジュール10は、端子19aや端子19bを用いて実装基板11に実装されている。例えば、端子19aは、半田20によって実装基板11の端子21と接続されている。   The RF power module 10 configured as described above is mounted on the mounting substrate 11 using the terminals 19a and 19b. For example, the terminal 19 a is connected to the terminal 21 of the mounting substrate 11 by the solder 20.

図4は、図3の一部を拡大した図である。図4に示すように、キャビティ13と対向する配線基板12の裏面領域は、キャビティ13と対向していないその他の裏面領域に比べて窪んでおり、配線基板12に反り23が生じている。これは、配線基板12を形成する際に行なわれる焼成工程で生じる。したがって、配線基板12に生じる反り23は、配線基板12の形成工程で必然的に生じてしまう。   FIG. 4 is an enlarged view of a part of FIG. As shown in FIG. 4, the back surface area of the wiring substrate 12 facing the cavity 13 is recessed as compared with other back surface areas not facing the cavity 13, and a warp 23 is generated in the wiring substrate 12. This occurs in a firing process performed when the wiring board 12 is formed. Therefore, the warp 23 generated in the wiring board 12 is inevitably generated in the process of forming the wiring board 12.

ここで、配線基板12の裏面には、複数の端子が形成されるが、配線基板12に反り23が生じると、キャビティ13と対向する裏面領域に形成される端子と、キャビティ13と対向していないその他の裏面領域に形成される端子で高さの不一致が生じる。すなわち、複数の端子は、通常、同じ形状や同じ高さで形成されるが、このとき、キャビティ13に対向する裏面領域に反り23が発生している分、キャビティ13に対向する裏面領域は、その他の裏面領域より窪んでいる。このため、キャビティ13に対向する裏面領域に形成される端子の表面の高さが、その他の裏面領域に形成される端子の表面の高さから反り23の分だけずれてしまう。すると、配線基板12を実装基板に実装する際、実装に用いる半田との距離が、キャビティ13に対向する裏面領域に形成される端子で、その他の裏面領域に形成される端子よりも広くなってしまう。したがって、キャビティ13に対向する裏面領域に形成される端子と半田との接触不良が生じやすい問題点が生じる。すなわち、キャビティ13に対向する裏面領域に形成される端子の半田濡れ性が悪くなり、実装不良を生じやすくなる。   Here, a plurality of terminals are formed on the back surface of the wiring board 12, but when a warp 23 occurs in the wiring board 12, the terminals formed in the back surface area facing the cavity 13 and the cavity 13 face each other. Inconsistencies in height occur at terminals formed in other non-back areas. That is, the plurality of terminals are usually formed in the same shape and the same height, but at this time, since the warp 23 is generated in the back surface region facing the cavity 13, the back surface region facing the cavity 13 is It is recessed from the other back area. For this reason, the height of the surface of the terminal formed in the back surface region facing the cavity 13 is shifted by the amount of the warp 23 from the height of the surface of the terminal formed in the other back surface region. Then, when the wiring board 12 is mounted on the mounting board, the distance to the solder used for mounting is a terminal formed in the back surface area facing the cavity 13 and wider than the terminals formed in the other back surface areas. End up. Therefore, there is a problem that a contact failure between the terminal formed in the back surface region facing the cavity 13 and the solder is likely to occur. That is, the solder wettability of the terminals formed in the back surface region facing the cavity 13 is deteriorated, and mounting defects are likely to occur.

そこで、本実施の形態1では、図4に示すように、キャビティ13に対向する裏面領域に形成される端子19aの高さを、その他の裏面領域に形成される端子19bの高さに比べて高くしている。これにより、キャビティ13に対向する裏面領域が窪んで反り23が発生しても、端子19aの表面と端子19bの表面とを揃えることができる。つまり、本実施の形態1では、意図的に端子19aを構成する導電材料の量を、端子19bを構成する導電材料の量より多くすることで、端子19aの高さを高くしている。これにより、配線基板12の反り量を補填して端子19aの表面の高さと端子19bの表面の高さを揃えるようにしている。このように、配線基板12の裏面状態に応じて、端子19aおよび端子19bを構成する導電材料の量を調整することにより、端子19aの表面と端子19bの表面とを揃えることができる。したがって、キャビティ13に対向する裏面領域に形成される端子19aと半田との接触不良を防止することができ、端子19aの半田濡れ性を確保することができる。   Therefore, in the first embodiment, as shown in FIG. 4, the height of the terminal 19a formed in the back surface region facing the cavity 13 is compared with the height of the terminal 19b formed in the other back surface region. It is high. Thereby, even if the back surface area facing the cavity 13 is recessed and the warp 23 is generated, the surface of the terminal 19a and the surface of the terminal 19b can be aligned. That is, in the first embodiment, the height of the terminal 19a is increased by intentionally increasing the amount of the conductive material constituting the terminal 19a than the amount of the conductive material constituting the terminal 19b. Thereby, the amount of warpage of the wiring board 12 is compensated so that the height of the surface of the terminal 19a and the height of the surface of the terminal 19b are made uniform. Thus, the surface of the terminal 19a and the surface of the terminal 19b can be made uniform by adjusting the amount of the conductive material constituting the terminal 19a and the terminal 19b according to the back surface state of the wiring board 12. Therefore, it is possible to prevent poor contact between the terminals 19a formed in the back surface region facing the cavity 13 and the solder, and to ensure solder wettability of the terminals 19a.

本実施の形態1では、端子19aと半田との接触不良、すなわち半田濡れ性を改善するため、配線基板12の反り自体を防止するのではなく、配線基板12の反りを前提として、端子19aと端子19bの高さを一致させるようにしている点に一つの特徴がある。つまり、配線基板12の反りを防止しなくても、その反り量を補填して端子19aと端子19bの高さを一致させるように構成すれば、反りが発生しても端子19aと半田との接触不良を防止することができる。これにより、配線基板12に反りが生じても支障はない。   In the first embodiment, in order to improve the contact failure between the terminal 19a and the solder, that is, the solder wettability, the warping of the wiring board 12 itself is not prevented, but the warping of the wiring board 12 is presupposed. One feature is that the heights of the terminals 19b are matched. In other words, even if the warpage of the wiring board 12 is not prevented, if the warp amount is compensated and the heights of the terminals 19a and 19b are made to coincide with each other, even if the warpage occurs, the terminal 19a and the solder are prevented from being warped. Contact failure can be prevented. Thereby, there is no problem even if the wiring board 12 is warped.

図5は、本実施の形態1におけるRFパワーモジュール10を実装基板11に実装した様子を示す図である。図5に示すように、キャビティ13に対向する裏面領域に窪みが形成されて反り23が発生しているが、端子19aの表面と端子19bの表面とを揃えるように構成している。このため、反り23が生じていても、端子19aと半田20とを良好に接触させることができるので、RFパワーモジュール10を確実に実装基板11に実装することができることがわかる。   FIG. 5 is a diagram illustrating a state in which the RF power module 10 according to the first embodiment is mounted on the mounting substrate 11. As shown in FIG. 5, although a recess is formed in the back surface region facing the cavity 13 and the warp 23 is generated, the surface of the terminal 19a and the surface of the terminal 19b are configured to be aligned. For this reason, even if the warp 23 is generated, the terminals 19a and the solder 20 can be satisfactorily brought into contact with each other, so that the RF power module 10 can be reliably mounted on the mounting substrate 11.

本実施の形態1におけるRFパワーモジュールは上記のように構成されており、以下に、RFパワーモジュールを構成する配線基板の製造方法について図面を参照しながら、説明する。   The RF power module according to the first embodiment is configured as described above, and a method for manufacturing a wiring board constituting the RF power module will be described below with reference to the drawings.

まず、図6に示すように、例えば、多層セラミック構造からなる配線基板30を用意する。この配線基板30の主面(図6の下面)には、キャビティ31が形成されており、このキャビティ31から配線基板30の裏面(図6の上面)に達するビア32が形成されている。ビア32には、導電材料が充填されている。このように構成された配線基板30を焼成する。配線基板30の焼成は、例えば焼成温度が900℃、焼成時間が12時間で温風エアーを導入することにより行われる。この焼成工程により、キャビティ31に対向する裏面領域に窪みが形成され、配線基板30に反り33が発生する。   First, as shown in FIG. 6, for example, a wiring board 30 having a multilayer ceramic structure is prepared. A cavity 31 is formed on the main surface (the lower surface in FIG. 6) of the wiring substrate 30, and vias 32 are formed from the cavity 31 to the back surface (the upper surface in FIG. 6) of the wiring substrate 30. The via 32 is filled with a conductive material. The wiring board 30 thus configured is fired. The wiring substrate 30 is fired by introducing hot air with a firing temperature of 900 ° C. and a firing time of 12 hours, for example. By this firing step, a recess is formed in the back surface region facing the cavity 31, and a warp 33 is generated in the wiring substrate 30.

次に、図7に示すように、反り33が発生した配線基板30の裏面に、端子を形成するための印刷マスク34を配置する。印刷マスク34は、端子を形成する領域に開口部が形成されるようにパターニングされている。この印刷マスク34は平坦であり、反り33が発生している配線基板30の裏面に配置されても平坦性は損なわれない。すなわち、反り33が発生していない配線基板30の裏面領域とは密着し、反り33が発生している配線基板30の裏面領域とは密着しておらず、隙間が存在する。   Next, as shown in FIG. 7, a print mask 34 for forming terminals is disposed on the back surface of the wiring board 30 where the warp 33 has occurred. The print mask 34 is patterned so that an opening is formed in a region where a terminal is formed. The printing mask 34 is flat, and even if it is disposed on the back surface of the wiring board 30 where the warp 33 is generated, the flatness is not impaired. That is, it is in close contact with the back surface region of the wiring board 30 where the warp 33 is not generated, and is not in close contact with the back surface region of the wiring substrate 30 where the warp 33 is generated, and there is a gap.

続いて、図8に示すように、スキージ35を用いて、印刷マスク34上に導電材料36を印刷する。この工程で、印刷マスク34に形成されている開口部に導電材料36が充填される。このとき、反り33が発生している裏面領域の開口部には、反り33が発生していない裏面領域の開口部に比べてより多くの導電材料が埋め込まれる。すなわち、それぞれの開口部に印刷マスク34の高さまで導電材料が埋め込まれるように自動的に調整される。   Subsequently, as shown in FIG. 8, the conductive material 36 is printed on the print mask 34 using the squeegee 35. In this step, the opening formed in the printing mask 34 is filled with the conductive material 36. At this time, a larger amount of conductive material is embedded in the opening in the back surface region where the warp 33 is generated than in the opening in the back surface region where the warp 33 is not generated. That is, adjustment is automatically made so that the conductive material is embedded in each opening up to the height of the printing mask 34.

そして、印刷マスク34を除去した後、配線基板30を乾燥させる。この乾燥工程は、例えば、乾燥温度が50℃〜80℃、乾燥時間が60分程度で実施される。配線基板30の乾燥は、導電材料内のバインダを気化させるために行われる。乾燥工程を経ることにより、図9に示すような端子37aおよび端子37bを形成することができる。ここで、端子37aおよび端子37bを構成する導電材料は、印刷マスク34によって同じ高さまで充填されているので、端子37aの表面と端子37bの表面とは揃っている。   And after removing the printing mask 34, the wiring board 30 is dried. This drying step is performed, for example, at a drying temperature of 50 to 80 ° C. and a drying time of about 60 minutes. The wiring substrate 30 is dried to vaporize the binder in the conductive material. By passing through a drying process, the terminal 37a and the terminal 37b as shown in FIG. 9 can be formed. Here, since the conductive material constituting the terminal 37a and the terminal 37b is filled to the same height by the printing mask 34, the surface of the terminal 37a and the surface of the terminal 37b are aligned.

このようにして、端子37aの表面と端子37bの表面が揃った配線基板30を製造することができる。本実施の形態1の一つの特徴は、先に配線基板30の焼成工程を行った後に、印刷マスク34を用いて端子37aおよび端子37bを形成した点にある。つまり、従来のように、印刷マスクを用いて端子を形成した後に焼成すると、端子を形成した時点では、複数の端子の表面は揃っているが、焼成することにより、配線基板に反りが発生し、複数の端子間で表面の高さがばらつくことになる。しかし、本実施の形態1では、先に配線基板30の焼成を行って反り33を発生させる。その後、反り33が発生した配線基板30に印刷マスク34を使用して端子37aおよび端子37bを形成する。このとき、配線基板30に反り33が発生していても、印刷マスク34は平坦であり、この印刷マスク34の高さまで導電材料が埋め込まれるように調整されるので、形成される端子37aの表面と端子37bの表面とを揃えることができる。   In this way, the wiring board 30 in which the surface of the terminal 37a and the surface of the terminal 37b are aligned can be manufactured. One feature of the first embodiment is that the terminal 37a and the terminal 37b are formed by using the printing mask 34 after the firing process of the wiring board 30 is performed first. In other words, as in the conventional case, when the terminals are formed using the printing mask and then fired, the surfaces of the plurality of terminals are aligned at the time of forming the terminals, but the wiring board warps by firing. The surface height varies between the terminals. However, in the first embodiment, the wiring substrate 30 is first fired to generate the warp 33. Thereafter, the terminal 37a and the terminal 37b are formed on the wiring board 30 where the warp 33 has occurred using the printing mask 34. At this time, even if the warp 33 is generated in the wiring board 30, the printing mask 34 is flat and is adjusted so that the conductive material is embedded up to the height of the printing mask 34. Therefore, the surface of the terminal 37a to be formed And the surface of the terminal 37b can be aligned.

その後、上述したようにして製造された配線基板30のキャビティ31内に半田を形成し、その半田を介して半導体チップを搭載する。また、配線基板30の主面上に受動部品も搭載する。そして、半導体チップと配線基板30を、例えば金線などのボンディングワイヤで接続した後、配線基板30の主面を樹脂封止する。続いて、配線基板30を個片化することにより、RFパワーモジュールを製造することができる。製造されたRFパワーモジュールは、配線基板30に形成された端子37aおよび端子37bによって実装基板に実装される。このとき、本実施の形態1によれば、端子37aの表面と端子37bの表面が揃っているので、RFパワーモジュールを確実に実装基板へ実装することができる。   Thereafter, solder is formed in the cavity 31 of the wiring board 30 manufactured as described above, and a semiconductor chip is mounted via the solder. A passive component is also mounted on the main surface of the wiring board 30. Then, after the semiconductor chip and the wiring board 30 are connected by a bonding wire such as a gold wire, for example, the main surface of the wiring board 30 is resin-sealed. Subsequently, the RF power module can be manufactured by separating the wiring board 30 into individual pieces. The manufactured RF power module is mounted on the mounting board by the terminals 37 a and 37 b formed on the wiring board 30. At this time, according to the first embodiment, since the surface of the terminal 37a and the surface of the terminal 37b are aligned, the RF power module can be reliably mounted on the mounting substrate.

本実施の形態1によれば、製造工程を追加せずに製造工程を入れ替えるだけなので、工程の複雑化を招くことなく、端子37aの表面と端子37bの表面を揃えることができる。   According to the first embodiment, since the manufacturing process is simply replaced without adding the manufacturing process, the surface of the terminal 37a and the surface of the terminal 37b can be aligned without causing the process to be complicated.

(実施の形態2)
前記実施の形態1では、配線基板の製造工程を入れ替えて配線基板を製造する例について説明したが、本実施の形態2では、配線基板の製造工程を追加する例について、図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 2)
In the first embodiment, the example of manufacturing the wiring board by replacing the manufacturing process of the wiring board has been described. In the second embodiment, an example of adding the manufacturing process of the wiring board will be described with reference to the drawings. To do.

まず、例えば、多層セラミック構造からなる配線基板40を用意する。この配線基板40の主面(図10の下面)には、キャビティ41が形成されており、このキャビティ41から配線基板40の裏面(図10の上面)に達するビア42が形成されている。ビア42には、導電材料が充填されている。次に、図10に示すように、配線基板40の裏面に印刷マスク43を配置する。印刷マスク43には、端子を形成する領域に開口部が形成されるようにパターニングされている。   First, for example, a wiring board 40 having a multilayer ceramic structure is prepared. A cavity 41 is formed on the main surface (lower surface in FIG. 10) of the wiring substrate 40, and vias 42 are formed from the cavity 41 to the back surface (upper surface in FIG. 10) of the wiring substrate 40. The via 42 is filled with a conductive material. Next, as shown in FIG. 10, a print mask 43 is disposed on the back surface of the wiring board 40. The printing mask 43 is patterned so that an opening is formed in a region where a terminal is to be formed.

続いて、図11に示すように、スキージ44を使用して導電材料45を印刷する。このとき、配線基板40には、反りは発生していない。そして、図12に示すように、乾燥処理を施して端子46aおよび端子46bを形成した後、配線基板40を焼成する。この焼成工程において、配線基板40に反り47が発生し、端子46aの表面と端子46bの表面がずれる。   Subsequently, as shown in FIG. 11, the conductive material 45 is printed using the squeegee 44. At this time, the wiring board 40 is not warped. Then, as shown in FIG. 12, after the drying process is performed to form the terminals 46a and 46b, the wiring board 40 is fired. In this firing step, a warp 47 is generated in the wiring board 40, and the surface of the terminal 46a and the surface of the terminal 46b are shifted.

次に、図13に示すように、再び前述した印刷マスク43を配線基板40の裏面上に配置する。すなわち、印刷マスク43の開口部が端子46a、46b上にくるように印刷マスク43を再配置する。このとき、印刷マスク43の開口部と端子46bとは密着する。一方、配線基板40のキャビティ41と対向する裏面領域には、反り47が形成されているので、印刷マスク43の開口部と端子46aの間には隙間が存在する。   Next, as shown in FIG. 13, the above-described print mask 43 is again arranged on the back surface of the wiring board 40. That is, the print mask 43 is rearranged so that the opening of the print mask 43 is on the terminals 46a and 46b. At this time, the opening of the printing mask 43 and the terminal 46b are in close contact. On the other hand, since the warp 47 is formed in the back surface area facing the cavity 41 of the wiring board 40, there is a gap between the opening of the print mask 43 and the terminal 46a.

続いて、図14に示すように、スキージ48を使用して導電材料49を印刷する。このとき、反り47が発生している裏面領域の開口部には、反り47が発生していない裏面領域の開口部に比べてより多くの導電材料が埋め込まれる。すなわち、それぞれの開口部に印刷マスク43の高さまで導電材料が埋め込まれるように自動的に調整される。   Subsequently, as shown in FIG. 14, a conductive material 49 is printed using a squeegee 48. At this time, a larger amount of conductive material is embedded in the opening in the back region where the warp 47 is generated than in the opening in the back region where the warp 47 is not generated. That is, adjustment is automatically made so that the conductive material is embedded in each opening up to the height of the print mask 43.

そして、印刷マスク43を除去した後、配線基板40を乾燥させる。この乾燥工程を経ることにより、図15に示すような端子50aおよび端子50bを形成することができる。ここで、端子50aおよび端子50bを構成する導電材料は、再配置した印刷マスク43によって同じ高さまで充填されているので、端子50aの表面と端子50bの表面とは揃っている。   Then, after removing the printing mask 43, the wiring board 40 is dried. Through this drying step, the terminals 50a and 50b as shown in FIG. 15 can be formed. Here, since the conductive material constituting the terminal 50a and the terminal 50b is filled to the same height by the rearranged print mask 43, the surface of the terminal 50a and the surface of the terminal 50b are aligned.

このようにして、端子50aの表面と端子50bの表面が揃った配線基板40を製造することができる。本実施の形態2の一つの特徴は、焼成工程の後に印刷マスク43を再び再配置して導電材料を印刷していることにある。つまり、焼成工程の後に印刷マスク43を用いた導電材料印刷工程を追加している点に本実施の形態2の一つの特徴がある。これにより、焼成工程で反り47が発生しても、端子50aの表面と端子50bの表面とを揃えることができる。   In this way, the wiring board 40 in which the surface of the terminal 50a and the surface of the terminal 50b are aligned can be manufactured. One feature of the second embodiment is that the conductive material is printed by rearranging the print mask 43 after the firing step. That is, one of the features of the second embodiment is that a conductive material printing process using the printing mask 43 is added after the baking process. Thereby, even if the curvature 47 generate | occur | produces in a baking process, the surface of the terminal 50a and the surface of the terminal 50b can be arrange | equalized.

本実施の形態2によれば、従来と同様の製造工程に加えて、同じ印刷マスク43を使用した導電材料印刷工程を焼成工程の後に追加することで実現できるので、従来の製造工程とは別個の新規な工程を追加するよりも簡単に実施することができる。   According to the second embodiment, in addition to the conventional manufacturing process, a conductive material printing process using the same printing mask 43 can be realized after the baking process, so that it is separate from the conventional manufacturing process. This is easier than adding a new process.

以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。   As mentioned above, the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiment. However, the present invention is not limited to the embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

前記実施の形態では、多層構造の配線基板に適用する例について説明したが、これに限らず、単層構造の配線基板にも適用することができる。また、前記実施の形態では、主にキャビティに対向する裏面領域に反りが形成される場合を例にとって説明したが、反りの位置は上記した場合に限らず、配線基板の所定領域に反りがある場合に幅広く適用することができる。   In the above-described embodiment, the example applied to the wiring board having a multilayer structure has been described. Further, in the above-described embodiment, the case where the warp is mainly formed in the back surface region facing the cavity has been described as an example. However, the position of the warp is not limited to the above, and there is a warp in a predetermined region of the wiring board. Can be widely applied to the case.

本発明は、半導体装置あるいは配線基板を製造する製造業に幅広く利用することができる。   The present invention can be widely used in the manufacturing industry for manufacturing semiconductor devices or wiring boards.

本発明の実施の形態1におけるRFパワーモジュールを構成する増幅回路を示す回路ブロック図である。It is a circuit block diagram which shows the amplifier circuit which comprises the RF power module in Embodiment 1 of this invention. 電力増幅回路およびバイアス回路の回路構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the circuit structure of a power amplifier circuit and a bias circuit. 実施の形態1におけるRFパワーモジュールを実装基板に実装した様子を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a mode that the RF power module in Embodiment 1 was mounted in the mounting board | substrate. 図3の一部を拡大した断面図である。It is sectional drawing to which a part of FIG. 3 was expanded. 実施の形態1におけるRFパワーモジュールを実装基板に実装した様子を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a mode that the RF power module in Embodiment 1 was mounted in the mounting board | substrate. 実施の形態1における配線基板の製造工程を示す断面図である。5 is a cross-sectional view showing a manufacturing step of the wiring board in the first embodiment. FIG. 図6に続く配線基板の製造工程を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a manufacturing step of the wiring board that follows FIG. 6. 図7に続く配線基板の製造工程を示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view showing a manufacturing step of the wiring board that follows FIG. 7. 図8に続く配線基板の製造工程を示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing a manufacturing step of the wiring board following that of FIG. 8; 実施の形態2における配線基板の製造工程を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of a wiring board in a second embodiment. 図10に続く配線基板の製造工程を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a manufacturing step of the wiring board following that of FIG. 10; 図11に続く配線基板の製造工程を示す断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view showing a manufacturing step of the wiring board following that of FIG. 11; 図12に続く配線基板の製造工程を示す断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view showing a manufacturing step of the wiring board following that of FIG. 12; 図13に続く配線基板の製造工程を示す断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view showing a manufacturing step of the wiring board following that of FIG. 13; 図14に続く配線基板の製造工程を示す断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view showing a manufacturing step of the wiring board following that of FIG. 14;

符号の説明Explanation of symbols

1 増幅回路
2 電力増幅回路
2a〜2c 増幅段
2d〜2f 整合回路
3 電力増幅回路
3a〜3c 増幅段
3d〜3f 整合回路
4 周辺回路
4a 制御回路
4b バイアス回路
4c 電源制御回路
4d バイアス電圧生成回路
5a 入力端子
5b 入力端子
5c 入力端子
6a 出力端子
6b 出力端子
10 RFパワーモジュール
11 実装基板
12 配線基板
13 キャビティ
14 半田
15 半導体チップ
16 ボンディングワイヤ
17 受動部品
18 ビア
19a 端子
19b 端子
20 半田
21 端子
22 レジン
23 反り
30 配線基板
31 キャビティ
32 ビア
33 反り
34 印刷マスク
35 スキージ
36 導電材料
37a 端子
37b 端子
40 配線基板
41 キャビティ
42 ビア
43 印刷マスク
44 スキージ
45 導電材料
46a 端子
46b 端子
47 反り
48 スキージ
49 導電材料
50a 端子
50b 端子
Q1〜Q3 MISFET
Vdd1 第1電源電圧
R1 抵抗
R2 抵抗
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Amplifier circuit 2 Power amplifier circuit 2a-2c Amplification stage 2d-2f Matching circuit 3 Power amplifier circuit 3a-3c Amplification stage 3d-3f Matching circuit 4 Peripheral circuit 4a Control circuit 4b Bias circuit 4c Power supply control circuit 4d Bias voltage generation circuit 5a Input terminal 5b Input terminal 5c Input terminal 6a Output terminal 6b Output terminal 10 RF power module 11 Mounting board 12 Wiring board 13 Cavity 14 Solder 15 Semiconductor chip 16 Bonding wire 17 Passive component 18 Via 19a terminal 19b terminal 20 Solder 21 terminal 22 Resin 23 Warpage 30 Wiring board 31 Cavity 32 Via 33 Warpage 34 Print mask 35 Squeegee 36 Conductive material 37a Terminal 37b Terminal 40 Wiring board 41 Cavity 42 Via 43 Print mask 44 Squeegee 45 Conductive material 46a Terminal 46b Terminal 47 Warpage 48 Squeegee 49 Conductive material 50a Terminal 50b Terminal Q1-Q3 MISFET
Vdd1 First power supply voltage R1 resistance R2 resistance

Claims (5)

(a)配線基板と、
(b)前記配線基板の主面とは反対側の面に形成された複数の端子と、
(c)前記配線基板の主面に搭載された半導体チップとを備え、
前記配線基板に反りが発生しても、前記複数の端子を構成する導電材料の量をそれぞれ調整することにより、前記複数の端子の表面を揃えることを特徴とする半導体装置。
(A) a wiring board;
(B) a plurality of terminals formed on a surface opposite to the main surface of the wiring board;
(C) a semiconductor chip mounted on the main surface of the wiring board;
Even if the wiring substrate is warped, the surfaces of the plurality of terminals are made uniform by adjusting the amounts of the conductive materials constituting the plurality of terminals.
(a)主面にキャビティを有する配線基板と、
(b)前記配線基板の主面とは反対側の面に形成された複数の端子と、
(c)前記キャビティ内に搭載された半導体チップとを備え、
前記配線基板の前記キャビティと対向する領域に反りが発生しても、前記複数の端子を構成する導電材料の量をそれぞれ調整することにより、前記複数の端子の表面を揃えることを特徴とする半導体装置。
(A) a wiring board having a cavity on the main surface;
(B) a plurality of terminals formed on a surface opposite to the main surface of the wiring board;
(C) a semiconductor chip mounted in the cavity,
Even if warpage occurs in a region facing the cavity of the wiring board, the surface of the plurality of terminals is made uniform by adjusting the amount of the conductive material constituting the plurality of terminals, respectively. apparatus.
(a)主面にキャビティを有する多層配線基板と、
(b)前記多層配線基板の主面とは反対側の面に形成された複数の端子と、
(c)前記キャビティ内に搭載された半導体チップとを備え、
前記多層配線基板に反りが発生しても、前記複数の端子を構成する導電材料の量をそれぞれ調整することにより、前記複数の端子の表面を揃えることを特徴とする半導体装置。
(A) a multilayer wiring board having a cavity on the main surface;
(B) a plurality of terminals formed on a surface opposite to the main surface of the multilayer wiring board;
(C) a semiconductor chip mounted in the cavity,
A semiconductor device characterized in that even if warpage occurs in the multilayer wiring board, the surfaces of the plurality of terminals are made uniform by adjusting the amounts of the conductive materials constituting the plurality of terminals, respectively.
(a)主面にキャビティを有する配線基板を焼成する工程と、
(b)前記(a)工程後、前記配線基板の主面とは反対側の面に印刷マスクを配置する工程と、
(c)前記(b)工程後、前記印刷マスクをマスクにして導電材料を印刷することにより、複数の端子を形成する工程とを備えることを特徴とする配線基板の製造方法。
(A) a step of firing a wiring substrate having a cavity on the main surface;
(B) After the step (a), a step of disposing a print mask on a surface opposite to the main surface of the wiring board;
(C) After the step (b), the method includes a step of forming a plurality of terminals by printing a conductive material using the printing mask as a mask.
(a)主面にキャビティを有する配線基板の主面とは反対側の面に印刷マスクを配置する工程と、
(b)前記(a)工程後、前記印刷マスクをマスクにして導電材料を印刷する工程と、
(c)前記(b)工程後、前記配線基板を焼成する工程と、
(d)前記(c)工程後、前記印刷マスクを前記配線基板に再び配置する工程と、
(e)前記(d)工程後、前記印刷マスクをマスクにして導電材料を印刷することにより、複数の端子を形成する工程とを備えることを特徴とする配線基板の製造方法。
(A) a step of disposing a print mask on a surface opposite to the main surface of the wiring board having a cavity on the main surface;
(B) After the step (a), a step of printing a conductive material using the printing mask as a mask;
(C) after the step (b), firing the wiring board;
(D) After the step (c), the step of arranging the print mask again on the wiring board;
(E) After the step (d), the method includes: forming a plurality of terminals by printing a conductive material using the printing mask as a mask.
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