JP2006283012A - Silicon-containing curable composition and thermally cured material therefrom - Google Patents
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- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 108
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 108
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims abstract description 88
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 84
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 43
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 claims abstract description 238
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 claims abstract description 38
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 149
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 36
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 claims description 31
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 24
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 22
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 16
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 14
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 claims description 13
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 17
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 6
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 84
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 80
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 51
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 51
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 45
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 43
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 36
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 30
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 21
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 20
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 20
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 19
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 16
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 14
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 10
- AOJFQRQNPXYVLM-UHFFFAOYSA-N pyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=[NH+]C=C1 AOJFQRQNPXYVLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 10
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical group [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 9
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 9
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- AQBLLJNPHDIAPN-LNTINUHCSA-K iron(3+);(z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound [Fe+3].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O AQBLLJNPHDIAPN-LNTINUHCSA-K 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N butyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)OC SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YCITZMJNBYYMJO-UHFFFAOYSA-N chloro(diphenyl)silicon Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)C1=CC=CC=C1 YCITZMJNBYYMJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910003471 inorganic composite material Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C=C XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GLISZRPOUBOZDL-UHFFFAOYSA-N 3-bromopropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCBr GLISZRPOUBOZDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940123457 Free radical scavenger Drugs 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 3
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 3
- CPLASELWOOUNGW-UHFFFAOYSA-N benzyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CC1=CC=CC=C1 CPLASELWOOUNGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 3
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 3
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 3
- COFLYCFUVHLITN-UHFFFAOYSA-N chloro-[4-[chloro(dimethyl)silyl]phenyl]-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C1=CC=C([Si](C)(C)Cl)C=C1 COFLYCFUVHLITN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)OCC ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C1=CC=CC=C1 MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SCPWMSBAGXEGPW-UHFFFAOYSA-N dodecyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC SCPWMSBAGXEGPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DFJDZTPFNSXNAX-UHFFFAOYSA-N ethoxy(triethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)CC DFJDZTPFNSXNAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZVJXKUWNRVOUTI-UHFFFAOYSA-N ethoxy(triphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZVJXKUWNRVOUTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 3
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 3
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 3
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- FOQJQXVUMYLJSU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(1-triethoxysilylethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(C)[Si](OCC)(OCC)OCC FOQJQXVUMYLJSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PGVSPORIGRCPMG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(1-triethoxysilylhexyl)silane Chemical compound CCCCCC([Si](OCC)(OCC)OCC)[Si](OCC)(OCC)OCC PGVSPORIGRCPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIINUVYELHEORX-UHFFFAOYSA-N triethoxy(triethoxysilylmethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C[Si](OCC)(OCC)OCC NIINUVYELHEORX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UOKUUKOEIMCYAI-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)COC(=O)C(C)=C UOKUUKOEIMCYAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJQHYEFNLXHUGV-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilylmethyl acetate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)COC(C)=O IJQHYEFNLXHUGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- AFILDYMJSTXBAR-UHFFFAOYSA-N (4-chlorophenyl)-triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=C(Cl)C=C1 AFILDYMJSTXBAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WDDWUHWNYOPDBU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxyethenylsilane Chemical compound COC(=C[SiH3])OC WDDWUHWNYOPDBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C=C MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 2
- RMCOJEZDSRZFOF-UHFFFAOYSA-N but-1-enyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=CCC RMCOJEZDSRZFOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- NQZFAUXPNWSLBI-UHFFFAOYSA-N carbon monoxide;ruthenium Chemical group [Ru].[Ru].[Ru].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-] NQZFAUXPNWSLBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- SOYVLBDERBHIME-UHFFFAOYSA-N chloro(diethyl)silicon Chemical compound CC[Si](Cl)CC SOYVLBDERBHIME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDOBWJOCPDIBRZ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](CCl)(OCC)OCC ZDOBWJOCPDIBRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C=C)OCC MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C=C ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC=C)(OCC)OCC UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZIAQVMNAXPCJQ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)COC(=O)C(C)=C UZIAQVMNAXPCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC=C LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SPSPIUSUWPLVKD-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibutyl-6-methylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=C(C)C(O)=C1CCCC SPSPIUSUWPLVKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSRJVOOOWGXUDY-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoyloxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C)=CC(CCC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C)C=2)C(C)(C)C)=C1 QSRJVOOOWGXUDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSVQDAHTGYOGRZ-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethenyl(methyl)silane Chemical compound C[SiH2]C=COC PSVQDAHTGYOGRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRYQBLWUVAJDEG-UHFFFAOYSA-N C(C)OC(=C[SiH3])OCC Chemical compound C(C)OC(=C[SiH3])OCC WRYQBLWUVAJDEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRDQGSRWHAKTFJ-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)C(C)(C)C1=CC=CC=C1.[Fe+3] Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C(C)(C)C1=CC=CC=C1.[Fe+3] XRDQGSRWHAKTFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKWLQRWUNOAJOK-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)COC=C[SiH3] Chemical compound C1(=CC=CC=C1)COC=C[SiH3] OKWLQRWUNOAJOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GXOVCATUDITLEW-UHFFFAOYSA-N ClCCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1.ClC[Si](OCC)(OCC)OCC Chemical compound ClCCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1.ClC[Si](OCC)(OCC)OCC GXOVCATUDITLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000823778 Homo sapiens Y-box-binding protein 2 Proteins 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PBHKZGYWHVXIRY-UHFFFAOYSA-K aluminum 2,2-diacetyl-3-oxobutanoate Chemical class [Al+3].CC(=O)C(C(C)=O)(C(C)=O)C([O-])=O.CC(=O)C(C(C)=O)(C(C)=O)C([O-])=O.CC(=O)C(C(C)=O)(C(C)=O)C([O-])=O PBHKZGYWHVXIRY-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane;platinum Chemical compound [Pt].C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- PLMTWHZZBPGADP-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=C)(Cl)C1=CC=CC=C1 PLMTWHZZBPGADP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAPKKYLOHNZLFM-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CO[SiH](OC)CC=C HAPKKYLOHNZLFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBWXKMBLEOLOLY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(prop-2-enyl)silicon Chemical compound CO[Si](OC)CC=C IBWXKMBLEOLOLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- NNXGLTRBCLSSQZ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-ethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[SiH](C)C=C NNXGLTRBCLSSQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABASHEIKTHCIPO-UHFFFAOYSA-N ethenyl-ethoxy-phenylsilane Chemical compound CCO[SiH](C=C)c1ccccc1 ABASHEIKTHCIPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZIWNKBIFXOXPA-UHFFFAOYSA-N ethenyl-methoxy-methylsilane Chemical compound CO[SiH](C)C=C QZIWNKBIFXOXPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUPCUOSALKMFAL-UHFFFAOYSA-N ethenyl-methoxy-phenylsilane Chemical compound CO[SiH](C=C)c1ccccc1 MUPCUOSALKMFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- BTIJJDXEELBZFS-QDUVMHSLSA-K hemin Chemical class CC1=C(CCC(O)=O)C(C=C2C(CCC(O)=O)=C(C)\C(N2[Fe](Cl)N23)=C\4)=N\C1=C/C2=C(C)C(C=C)=C3\C=C/1C(C)=C(C=C)C/4=N\1 BTIJJDXEELBZFS-QDUVMHSLSA-K 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- NKCDKXIRSMINRU-UHFFFAOYSA-N iron 3-oxobutanoic acid Chemical compound [Fe].CC(=O)CC(O)=O.CC(=O)CC(O)=O.CC(=O)CC(O)=O NKCDKXIRSMINRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940087654 iron carbonyl Drugs 0.000 description 1
- WNWBIDPJHFYYLM-UHFFFAOYSA-K iron(3+);prop-2-enoate Chemical compound [Fe+3].[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C WNWBIDPJHFYYLM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- QPPQHRDVPBTVEV-UHFFFAOYSA-N isopropyl dihydrogen phosphate Chemical compound CC(C)OP(O)(O)=O QPPQHRDVPBTVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012567 medical material Substances 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005609 naphthenate group Chemical group 0.000 description 1
- BMGNSKKZFQMGDH-FDGPNNRMSA-L nickel(2+);(z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound [Ni+2].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O BMGNSKKZFQMGDH-FDGPNNRMSA-L 0.000 description 1
- 125000005474 octanoate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004382 potting Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- DNAJDTIOMGISDS-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylsilane Chemical compound [SiH3]CC=C DNAJDTIOMGISDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 239000011232 storage material Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNHJECZULSZAQK-UHFFFAOYSA-N tetraphenylporphyrin Chemical compound C1=CC(C(=C2C=CC(N2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3N2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 YNHJECZULSZAQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000002463 transducing effect Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPMBLOQPQSYOMC-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3-methoxypropyl)silane Chemical compound COCCC[Si](OC)(OC)OC JPMBLOQPQSYOMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004078 waterproofing Methods 0.000 description 1
- 239000011995 wilkinson's catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
Description
本発明は、ケイ素含有硬化性組成物、及びこれを熱硬化させた硬化物に関する。詳しくは、安定性、透明性及び硬化性に優れ、更に、その硬化物が耐クラック性、耐熱性、耐溶剤性、耐アルカリ性、耐候性、光学特性、電気特性等の諸物性に優れたケイ素含有硬化性組成物に関する。 The present invention relates to a silicon-containing curable composition and a cured product obtained by thermally curing the composition. Specifically, silicon is excellent in stability, transparency, and curability, and the cured product has excellent physical properties such as crack resistance, heat resistance, solvent resistance, alkali resistance, weather resistance, optical characteristics, and electrical characteristics. The present invention relates to a curable composition.
有機性素材及び無機性素材を組み合わせた有機・無機複合材料は、さまざまな研究がなされており、工業的にも、有機高分子に無機充填剤を複合させたり、金属表面を有機高分子で修飾するコーティングの手法等が利用されている。これらの有機・無機複合材料では、それを構成している素材がマイクロメートルオーダー以上の大きさを持っているため、一部の物性を予想以上に向上させることはできるものの、他の多くの性能や物性は、単純に有機性素材及び無機性素材それぞれの性能や物性の加成則から予想される値を示すに過ぎない。 Various studies have been conducted on organic / inorganic composite materials combining organic and inorganic materials, and industrially, inorganic fillers are combined with organic polymers, and metal surfaces are modified with organic polymers. A coating method is used. In these organic / inorganic composite materials, the material that composes them is larger than the micrometer order, so some physical properties can be improved more than expected, but many other performances. The physical properties simply indicate values expected from the addition rules of the performance and physical properties of the organic material and the inorganic material, respectively.
一方、近年、有機性素材及び無機性素材の各素材のドメインの大きさがナノメートルオーダー、更には分子レベルで組み合わされた有機・無機複合材料が盛んに研究されている。このような材料は、各素材としての特性を併せ持つのみならず、各素材の長所を兼ね備え、更には加成則では予想ができない、各素材自体とは全く異なる新しい機能性を有する材料となることが期待される。 On the other hand, in recent years, organic / inorganic composite materials in which the sizes of domains of organic materials and inorganic materials are in the order of nanometers and are combined at the molecular level have been actively studied. Such materials not only have the characteristics of each material, but also have the advantages of each material, and also have a new functionality that is completely different from each material itself, which cannot be predicted by the additive law. There is expected.
このような有機・無機複合材料には、共有結合を介して一方の素材及び他方の素材が分子レベルで結合された化学結合型、ならびに、一方の素材をマトリックスとして、この中に他方の素材を微細に分散・複合化させた混合型がある。
単に分散・複合化させた混合型の複合材料は、両素材間の強い結合がないために分離が生じ、例えば硬化材料として使用した場合には、耐熱性、耐溶剤性等の諸物性の向上が不十分な場合があった。特に、混合型に使用される無機性素材を合成する手法としてはゾル・ゲル法がよく利用されているが、このゾル・ゲル法とは、前駆体分子の加水分解、及びそれに続く重縮合反応により、架橋した無機酸化物が低温で得られる方法である。このゾル・ゲル法で得られる無機性素材は、短期間でゲル化する等、保存安定性が悪いという問題がある。非特許文献1には、アルキルトリアルコキシシランのアルキル基の鎖長による縮合速度の相違に着目し、メチルトリメトキシシランの重縮合後に、重縮合速度の遅い長鎖アルキルトリアルコキシシランを添加して、ポリシロキサン中のシラノール基を封止すること、更には、アルミニウム触媒を用いてメチルトリメトキシシランの重縮合反応を行い、所定の分子量に到達した時点でアセチルアセトンを添加して、反応系中で配位子交換を行い、保存安定性を改良する試みが記載されている。しかし、これらの方法では、保存安定性の改善は不充分であった。
Such organic / inorganic composite materials include a chemical bond type in which one material and the other material are bonded at a molecular level via a covalent bond, and one material as a matrix, and the other material is contained therein. There is a mixed type that is finely dispersed and combined.
A mixed composite material that is simply dispersed / combined is separated because there is no strong bond between the two materials. For example, when used as a curing material, various physical properties such as heat resistance and solvent resistance are improved. There were cases where there was insufficient. In particular, the sol-gel method is often used as a method for synthesizing inorganic materials used in mixed types. This sol-gel method is the hydrolysis of precursor molecules and the subsequent polycondensation reaction. Thus, a crosslinked inorganic oxide can be obtained at a low temperature. The inorganic material obtained by this sol-gel method has a problem of poor storage stability, such as gelation in a short period of time. In Non-Patent Document 1, paying attention to the difference in condensation rate due to the chain length of the alkyl group of alkyltrialkoxysilane, a long-chain alkyltrialkoxysilane having a slow polycondensation rate is added after polycondensation of methyltrimethoxysilane. Sealing the silanol group in the polysiloxane, and further performing a polycondensation reaction of methyltrimethoxysilane using an aluminum catalyst, and adding acetylacetone when the molecular weight is reached, in the reaction system Attempts to improve storage stability by ligand exchange have been described. However, these methods have been insufficient in improving storage stability.
これに対し、化学結合型の有機・無機複合材料として、特定のケイ素含有重合体を含有する硬化性組成物が提案されている(例えば特許文献1参照)。しかし、このケイ素含有重合体を含有する硬化性組成物の性能は充分でなく、特にその硬化物の耐熱性や電気特性等は満足いくものではなかった。 On the other hand, a curable composition containing a specific silicon-containing polymer has been proposed as a chemically bonded organic / inorganic composite material (see, for example, Patent Document 1). However, the performance of the curable composition containing the silicon-containing polymer is not sufficient, and in particular, the heat resistance and electrical characteristics of the cured product are not satisfactory.
従って、本発明の目的は、安定性、透明性及び硬化性に優れ、更にその硬化物が、耐クラック性、耐熱性、耐溶剤性、耐アルカリ性、耐候性、光学特性、電気特性等の諸物性に優れた、ケイ素含有硬化性組成物を提供することにある。 Therefore, the object of the present invention is excellent in stability, transparency and curability, and the cured product has various properties such as crack resistance, heat resistance, solvent resistance, alkali resistance, weather resistance, optical characteristics, electrical characteristics, etc. An object of the present invention is to provide a silicon-containing curable composition having excellent physical properties.
本発明者らは、ケイ素含有硬化性組成物について、その硬化物の耐熱性、電気特性等を中心に鋭意検討した結果、特定の反応基を有するケイ素含有硬化性組成物を、白金系触媒及び鉄族含有錯体とともに熱硬化させることにより、優れた性能や物性を有した硬化物が得られることを知見した。 As a result of diligent investigation focusing on the heat resistance, electrical characteristics, etc. of the cured product of the silicon-containing curable composition, the present inventors have determined that a silicon-containing curable composition having a specific reactive group is a platinum-based catalyst and It was found that a cured product having excellent performance and physical properties can be obtained by thermosetting together with the iron group-containing complex.
本発明(請求項1記載の発明)は、上記知見に基づきなされたもので、下記の(A)成分、(B)成分及び(C)成分のうち少なくとも一つのケイ素含有重合体を含有(但し、(C)成分を含有しない場合は(A)成分及び(B)成分の両方を含有)し、かつ下記の(D)成分及び(E)成分を含有するケイ素含有硬化性組成物を提供するものである。
(A)成分:Si−CH=CH2 、Si−R1 −CH=CH2 及びSi−R1 −OCOC(R2 )=CH2 [式中、R1 は炭素数1〜9のアルキレン基又はフェニレン基であり、R2 は水素又はメチル基である]からなる群から選ばれる反応基(A’)を一種又は二種以上有し、Si−O−Si結合による橋かけ構造を一箇所以上有し、分子量が100〜100万であるケイ素含有重合体(但し、さらにSi−H基を有するものは除く);
(B)成分:Si−H基を有し、Si−O−Si結合による橋かけ構造を一箇所以上有し、分子量が100〜100万であるケイ素含有重合体(但し、さらに上記反応基(A’)を有するものは除く);
(C)成分:上記反応基(A’)を一種又は二種以上有し、さらにSi−H基を有し、Si−O−Si結合による橋かけ構造を一箇所以上有し、分子量が100〜100万であるケイ素含有重合体;
(D)成分:白金系触媒である硬化反応触媒;
(E)成分:鉄族含有錯体
The present invention (the invention described in claim 1) is based on the above knowledge, and contains at least one silicon-containing polymer among the following components (A), (B) and (C) (however, , (C) component is not contained, both (A) component and (B) component are contained), and a silicon-containing curable composition containing the following components (D) and (E) is provided: Is.
Component (A): Si—CH═CH 2 , Si—R 1 —CH═CH 2 and Si—R 1 —OCOC (R 2 ) ═CH 2 [wherein R 1 is an alkylene group having 1 to 9 carbon atoms. Or a phenylene group, and R 2 is hydrogen or a methyl group]. One or two or more reactive groups (A ′) selected from the group consisting of a group consisting of Si—O—Si bonds are provided at one place. A silicon-containing polymer having a molecular weight of 1,000,000 to 1,000,000 (excluding those having a Si-H group);
Component (B): A silicon-containing polymer having Si—H groups, having one or more cross-linked structures by Si—O—Si bonds, and having a molecular weight of 1,000,000 to 1,000,000 (however, the above reactive groups ( Except those having A ′);
Component (C): One or more of the above reactive groups (A ′), a Si—H group, one or more cross-linked structures with Si—O—Si bonds, and a molecular weight of 100 A silicon-containing polymer of ~ 1 million;
(D) component: a curing reaction catalyst which is a platinum-based catalyst;
(E) Component: Iron group-containing complex
また、本発明(請求項2記載の発明)は、前記(A)成分が、Si−OH、Si−R3 −OH、Si−O−R4 及びSi−X[式中、R3 は炭素数1〜9のアルキレン基又はフェニレン基であり、R4 は炭素数1〜5のアルキル基であり、Xはハロゲン原子である]からなる群から選ばれる一種又は二種以上の反応基(1’)を有するケイ素含有重合体前駆体(1)、並びに、末端に、該反応基(1’)と反応して共有結合を形成できる反応基(2’)を有する線状ポリシロキサンであるケイ素含有重合体前駆体(2)を反応させて得られたケイ素含有重合体前駆体(3)に、更に前記反応基(A’)を導入して得られたものである請求項1に記載のケイ素含有硬化性組成物を提供するものである。 Further, in the present invention (the invention according to claim 2), the component (A) is Si—OH, Si—R 3 —OH, Si—O—R 4 and Si—X [wherein R 3 is carbon. An alkylene group or a phenylene group having 1 to 9 carbon atoms, R 4 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and X is a halogen atom]. Silicon-containing polymer precursor (1) having ') and silicon that is a linear polysiloxane having a reactive group (2') that can react with the reactive group (1 ') to form a covalent bond at the terminal The silicon-containing polymer precursor (3) obtained by reacting the containing polymer precursor (2) is further obtained by introducing the reactive group (A '). A silicon-containing curable composition is provided.
また、本発明(請求項3記載の発明)は、前記(B)成分が、前記ケイ素含有重合体前駆体(3)に、更にSi−H基を導入して得られたものである請求項1又は2に記載のケイ素含有硬化性組成物を提供するものである。
また、本発明(請求項4記載の発明)は、前記(C)成分が、前記ケイ素含有重合体前駆体(3)に、更に前記反応基(A’)及び/又はSi−H基を導入して得られたものである請求項1〜3のいずれか1項に記載のケイ素含有硬化性組成物を提供するものである。
In the present invention (the invention according to claim 3), the component (B) is obtained by further introducing Si-H groups into the silicon-containing polymer precursor (3). The silicon-containing curable composition according to 1 or 2 is provided.
In the present invention (invention according to claim 4), the component (C) further introduces the reactive group (A ′) and / or Si—H group into the silicon-containing polymer precursor (3). It provides the silicon-containing curable composition according to any one of claims 1 to 3.
また、本発明(請求項5記載の発明)は、前記(A)成分の前記反応基(A’)中のケイ素原子に結合している他の少なくとも1つの原子が酸素原子である請求項1〜4のいずれか1項に記載のケイ素含有硬化性組成物を提供するものである。
また、本発明(請求項6記載の発明)は、前記(B)成分の前記Si−H基中のケイ素原子に結合している他の少なくとも1つの原子が酸素原子である請求項1〜5のいずれか1項に記載のケイ素含有硬化性組成物を提供するものである。
また、本発明(請求項7記載の発明)は、前記(C)成分の前記反応基(A’)中のケイ素原子又は前記Si−H基中のケイ素原子に結合している他の少なくとも1つの原子が酸素原子である請求項1〜6のいずれか1項に記載のケイ素含有硬化性組成物を提供するものである。
In the present invention (invention according to claim 5), at least one other atom bonded to the silicon atom in the reactive group (A ′) of the component (A) is an oxygen atom. The silicon-containing curable composition according to any one of -4 is provided.
Further, according to the present invention (invention 6), at least one other atom bonded to the silicon atom in the Si—H group of the component (B) is an oxygen atom. The silicon-containing curable composition according to any one of the above is provided.
Further, the present invention (invention according to claim 7) is characterized in that at least one other bonded to a silicon atom in the reactive group (A ′) of the component (C) or a silicon atom in the Si—H group. One atom is an oxygen atom, The silicon-containing curable composition of any one of Claims 1-6 is provided.
また、本発明(請求項8記載の発明)は、請求項1〜7のいずれか1項に記載のケイ素含有硬化性組成物を熱硬化させてなる硬化物を提供するものである。 Moreover, this invention (invention of Claim 8) provides the hardened | cured material formed by thermosetting the silicon-containing curable composition of any one of Claims 1-7.
本発明によれば、安定性、透明性及び硬化性に優れ、更にその硬化物が、耐クラック性、耐熱性、耐溶剤性、耐アルカリ性、耐候性、光学特性、電気特性等の諸物性に優れた、ケイ素含有硬化性組成物を提供することができる。 According to the present invention, it is excellent in stability, transparency and curability, and further, the cured product has various physical properties such as crack resistance, heat resistance, solvent resistance, alkali resistance, weather resistance, optical characteristics, electrical characteristics and the like. An excellent silicon-containing curable composition can be provided.
まず、(A)成分のケイ素含有重合体(以下、ケイ素含有重合体(A)ともいう)について説明する。
(A)成分であるケイ素含有重合体は、Si−CH=CH2 、Si−R1 −CH=CH2 及びSi−R1 −OCOC(R2 )=CH2 [式中、R1 は炭素数1〜9のアルキレン基又はフェニレン基であり、R2 は水素又はメチル基である]からなる群から選ばれる反応基(A’)を一種又は二種以上有し、Si−O−Si結合による橋かけ構造を一箇所以上有し、分子量が100〜100万である。尚、該分子量は、重量平均分子量である。
First, the silicon-containing polymer (A) component (hereinafter also referred to as silicon-containing polymer (A)) will be described.
The silicon-containing polymer as component (A) is composed of Si—CH═CH 2 , Si—R 1 —CH═CH 2 and Si—R 1 —OCOC (R 2 ) ═CH 2 [wherein R 1 is carbon. An alkylene group or a phenylene group of formulas 1 to 9, and R 2 is hydrogen or a methyl group], having one or more reactive groups (A ′) selected from the group consisting of Si—O—Si bond It has one or more cross-linked structures and has a molecular weight of 100 to 1,000,000. The molecular weight is a weight average molecular weight.
R1 は、硬化物の耐熱性及び電気特性の点から、炭素数1〜3のアルキレン基が好ましい。
また、反応基(A’)は、耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、特にSi−CH=CH2 が好ましい。
また、耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、(A)成分の反応基(A’)中のケイ素原子に結合している他の少なくとも1つの原子は、酸素原子であることが好ましい。
R 1 is preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms from the viewpoint of heat resistance and electrical properties of the cured product.
The reactive group (A ′) is particularly preferably Si—CH═CH 2 from the viewpoints of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability, and handling properties.
In addition, at least one other atom bonded to the silicon atom in the reactive group (A ′) of the component (A) from the viewpoint of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability and handling properties Is preferably an oxygen atom.
(A)成分は、反応基(A’)を有するアルコキシシラン及び/又はクロロシランの加水分解・縮合反応によって、Si−O−Siのシロキサン結合を形成することにより得ることができる。また、(A)成分は、反応基(A’)を有さないアルコキシシラン及び/又はクロロシランの加水分解・縮合反応を行なって、Si−O−Siのシロキサン結合を有する重合体を得た後に、該重合体中のSi−OHやSi−Cl等の反応性の官能基を用いて、反応基(A’)を導入することによっても得ることができる。また、両者を併用して(A)成分を得てもよい。 The component (A) can be obtained by forming a Si—O—Si siloxane bond by hydrolysis / condensation reaction of alkoxysilane and / or chlorosilane having a reactive group (A ′). In addition, the component (A) is obtained after hydrolysis / condensation reaction of alkoxysilane and / or chlorosilane having no reactive group (A ′) to obtain a polymer having a Si—O—Si siloxane bond. It can also be obtained by introducing a reactive group (A ′) using a reactive functional group such as Si—OH or Si—Cl in the polymer. Moreover, you may obtain (A) component by using both together.
特に、(A)成分のケイ素含有重合体は、前記ケイ素含有重合体前駆体(1)及び前記ケイ素含有重合体前駆体(2)を反応させて得られた前記ケイ素含有重合体前駆体(3)に、更に反応基(A’)を導入して得られたものが好ましい。 In particular, the silicon-containing polymer of component (A) is the silicon-containing polymer precursor (3) obtained by reacting the silicon-containing polymer precursor (1) and the silicon-containing polymer precursor (2). ) Is preferably obtained by further introducing a reactive group (A ′).
以下に、ケイ素含有重合体前駆体(1)について説明する。
このケイ素含有重合体前駆体(1)は、ケイ素含有重合体前駆体(2)の反応基(2’)と反応して共有結合を形成できる反応基(1’)の一種類以上を一個以上有している。この反応基(1’)の例としては、Si−OH、Si−R3 −OH、Si−O−R4 、Si−X[式中、R3 は炭素数1〜9のアルキレン基又はフェニレン基であり、R4 は炭素数1〜5のアルキル基であり、Xはハロゲン原子である]を挙げることができる。この反応基(1’)は、反応性の点から、Si−OH基、Si−Cl基、Si−O−CH3 基、Si−O−C2 H5 基が好ましく、特にSi−OH基、Si−Cl基が好ましい。
Hereinafter, the silicon-containing polymer precursor (1) will be described.
The silicon-containing polymer precursor (1) includes one or more reactive groups (1 ′) that can react with the reactive groups (2 ′) of the silicon-containing polymer precursor (2) to form a covalent bond. Have. Examples of the reactive group (1 ′) include Si—OH, Si—R 3 —OH, Si—O—R 4 , Si—X [wherein R 3 is an alkylene group having 1 to 9 carbon atoms or phenylene. R 4 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and X is a halogen atom]. This reactive group (1 ′) is preferably a Si—OH group, a Si—Cl group, a Si—O—CH 3 group, or a Si—O—C 2 H 5 group, particularly a Si—OH group, from the viewpoint of reactivity. Si-Cl groups are preferred.
また、ケイ素含有重合体前駆体(1)の分子量(重量平均分子量)は、取り扱いの点で100〜50万が好ましく、500〜1万がより好ましい。 The molecular weight (weight average molecular weight) of the silicon-containing polymer precursor (1) is preferably from 100 to 500,000, more preferably from 500 to 10,000, from the viewpoint of handling.
また、ケイ素含有重合体前駆体(1)は、Si−O−Si結合による橋かけ構造を一箇所以上有している。ケイ素含有重合体前駆体(1)中の橋かけ構造は、Si−O−Si結合によって形成されていれば、はしご状(ラダー状)、かご状、環状等のいずれの橋かけ構造であってもよく、これらのはしご状、かご状、環状等の構造の全てがSi−O−Si結合で形成されていてもよく、一部がSi−O−Si結合で形成されていてもよい。もちろん、Si−O−Si結合は、複数個連続して繰り返されていてもよい。 Moreover, the silicon-containing polymer precursor (1) has one or more cross-linked structures with Si—O—Si bonds. The bridge structure in the silicon-containing polymer precursor (1) may be a ladder structure (ladder shape), a cage shape, a ring shape, or the like as long as it is formed by Si—O—Si bonds. All of these ladder-like, cage-like, and annular structures may be formed of Si—O—Si bonds, or a part thereof may be formed of Si—O—Si bonds. Of course, a plurality of Si—O—Si bonds may be repeated continuously.
また、ケイ素含有重合体前駆体(1)は、Si−CH=CH2 、Si−R1 −CH=CH2 及びSi−R1 −OCOC(R2 )=CH2 [式中、R1 は炭素数1〜9のアルキレン基又はフェニレン基であり、R2 は水素又はメチル基である]からなる群から選ばれる反応基(A’)を一種又は二種以上既に有していてもよく、又は有してなくてもよい。 In addition, the silicon-containing polymer precursor (1) includes Si—CH═CH 2 , Si—R 1 —CH═CH 2 and Si—R 1 —OCOC (R 2 ) = CH 2 [wherein R 1 is One or two or more reactive groups (A ′) selected from the group consisting of an alkylene group having 1 to 9 carbon atoms or a phenylene group, and R 2 is hydrogen or a methyl group, Or it may not have.
ケイ素含有重合体前駆体(1)は、アルコキシシラン及び/又はクロロシランの加水分解・縮合反応によって得ることができる。
加水分解・縮合反応によってケイ素含有重合体前駆体(1)を得ることのできるアルコキシシラン又はクロロシランとしては、最終的に(A)成分のケイ素含有重合体としたときの反応基(A’)を既に有するアルコキシシラン又はクロロシラン、この反応基(A’)を有さないアルコキシシラン又はクロロシランが挙げられる。
The silicon-containing polymer precursor (1) can be obtained by hydrolysis / condensation reaction of alkoxysilane and / or chlorosilane.
As the alkoxysilane or chlorosilane that can obtain the silicon-containing polymer precursor (1) by hydrolysis / condensation reaction, the reactive group (A ′) when the silicon-containing polymer of the component (A) is finally obtained is used. Alkoxysilane or chlorosilane that already has, alkoxysilane or chlorosilane that does not have this reactive group (A ′).
ケイ素含有重合体前駆体(1)を合成するために用いることができる前記の反応基(A’)を有さないアルコキシシラン及びクロロシランの例としては、アセトキシメチルトリメトキシシラン、ベンジルトリエトキシシラン、ビス(トリエトキシシリル)メタン、ビス(トリエトキシシリル)エタン、ビス(トリエトキシシリル)ヘキサン、3−ブロモプロピルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、クロロフェニルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシラン、ドデシルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、メトキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、トリルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリフェニルエトキシシラン等のアルコキシシラン、及びこれらのアルコキシシランのアルコキシ基の一部又は全部をクロロ基に置換したクロロシラン等が挙げられ、加えてこれらのアルコキシシランのアルコキシ基もしくはこれらのクロロシランのクロロ基が加水分解されてシラノール基となっているものも挙げられる。更には、これらのアルコキシシラン及びクロロシランの持つ水素原子の全部又は一部が重水素に置換されている重水素化物、あるいはフッ素原子に置換されているフッ素化物等も挙げられる。これらのアルコキシシラン及びクロロシランは、一種又は二種以上を用いることができる。特に耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン及びメチルトリメトキシシランから選択される一種又は二種以上を用いることが好ましい。また、本発明のケイ素含有硬化性組成物を光学材料等に使用する場合は、このような重水素化物あるいはフッ素化物が好ましい。 Examples of alkoxysilanes and chlorosilanes having no reactive group (A ′) that can be used to synthesize the silicon-containing polymer precursor (1) include acetoxymethyltrimethoxysilane, benzyltriethoxysilane, Bis (triethoxysilyl) methane, bis (triethoxysilyl) ethane, bis (triethoxysilyl) hexane, 3-bromopropyltrimethoxysilane, butyltrimethoxysilane, chloromethyltriethoxysilane, chlorophenyltriethoxysilane, 3- Chloropropyltrimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldimethoxylane, dodecyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, butyltrimethoxysilane, methoxypropyl Pyrtrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, octyltrimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, tetraethoxysilane, tetramethoxysilane, tolyl Alkoxy silanes such as trimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, triethylethoxysilane, triphenylethoxysilane, etc., and some or all of the alkoxy groups of these alkoxysilanes are chloro groups In addition, the alkoxy group of these alkoxysilanes or the chloro group of these chlorosilanes is added. Are decomposed include those which is a silanol group. Furthermore, deuterated compounds in which all or part of the hydrogen atoms of these alkoxysilanes and chlorosilanes are substituted with deuterium, or fluorinated compounds in which fluorine atoms are substituted are also included. These alkoxysilanes and chlorosilanes can be used alone or in combination of two or more. In particular, from the viewpoint of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability and handling properties, one or more selected from phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane and methyltrimethoxysilane should be used. preferable. Moreover, when using the silicon-containing curable composition of this invention for an optical material etc., such a deuteride or a fluorinated material is preferable.
ケイ素含有重合体前駆体(1)を合成するために用いることができる前記の反応基(A’)を既に有するアルコキシシラン及びクロロシランの例としては、(3−アクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン、(3−アクリロキシプロピル)トリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ブテニルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン、及びこれらのアルコキシシランのアルコキシ基の一部又は全部をクロロ基に置換したクロロシラン等が挙げられ、加えてこれらのアルコキシシランのアルコキシ基もしくはこれらのクロロシランのクロロ基が加水分解されてシラノール基となっているものも挙げられる。更には、これらのアルコキシシランやクロロシランの水素原子の全部又は一部が重水素に置換されている重水素化物、あるいはフッ素原子に置換されているフッ素化物等も挙げられる。これらのアルコキシシラン及びクロロシランは、一種又は二種以上を用いることができる。耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、ビニルトリメトキシシラン及び/又はメタクリロキシメチルトリメトキシシランを用いることが好ましい。また、(A)成分のケイ素含有重合体としたときの反応基(A’)中のケイ素原子に結合している他の少なくとも1つの原子が酸素原子となるように、アルコキシシラン及び/又はクロロシランを選択することが好ましい。また、本発明のケイ素含有硬化性組成物を光学材料等に使用する場合は、重水素化物あるいはフッ素化物が好ましい。 Examples of alkoxysilanes and chlorosilanes already having the reactive group (A ′) that can be used to synthesize the silicon-containing polymer precursor (1) include (3-acryloxypropyl) methyldimethoxysilane, ( 3-acryloxypropyl) trimethoxysilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, butenyltriethoxysilane, methacryloxymethyltriethoxysilane, methacryloxymethyltrimethoxysilane, methacryloxypropyltriethoxysilane, methacryloxypropyl Alkoxy silanes such as trimethoxysilane, vinylmethyldiethoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, etc. All chlorosilanes given by substituting chloro groups are cited also include those in which the alkoxy group or chloro group of these chlorosilanes of these alkoxysilanes has a hydrolyzed silanol groups in addition. Further, deuterated compounds in which all or part of the hydrogen atoms of these alkoxysilanes and chlorosilanes are substituted with deuterium, and fluorinated compounds in which fluorine atoms are substituted are also included. These alkoxysilanes and chlorosilanes can be used alone or in combination of two or more. From the viewpoints of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability and handling properties, it is preferable to use vinyltrimethoxysilane and / or methacryloxymethyltrimethoxysilane. In addition, alkoxysilane and / or chlorosilane so that at least one other atom bonded to the silicon atom in the reactive group (A ′) when the silicon-containing polymer of component (A) is an oxygen atom. Is preferably selected. Moreover, when using the silicon-containing curable composition of this invention for an optical material etc., a deuteride or a fluorinated material is preferable.
ケイ素含有重合体前駆体(1)を得るために使用される前記アルコキシシラン及び/又はクロロシランは、二種類以上を使用してもよい。また、前記アルコキシシラン及び/又はクロロシランとしては、所望によりそれらを他の金属のアルコラートや錯体で処理したものを用いることもでき、処理をしたもののみを用いてあるいは処理をしていないものと併用して、加水分解・縮合反応を行い、ケイ素含有重合体(A)にケイ素以外の元素、例えばホウ素、マグネシウム、アルミニウム、リン、チタン、鉄、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、スズ、テルル、タンタル等を組み入れることも可能である。 Two or more kinds of the alkoxysilane and / or chlorosilane used for obtaining the silicon-containing polymer precursor (1) may be used. In addition, as the alkoxysilane and / or chlorosilane, those treated with an alcoholate or complex of other metals can be used as desired, and only those treated or used together with those not treated. Then, hydrolysis / condensation reaction is performed, and an element other than silicon, such as boron, magnesium, aluminum, phosphorus, titanium, iron, zinc, zirconium, niobium, tin, tellurium, tantalum, etc. is added to the silicon-containing polymer (A). It can also be incorporated.
以下に、ケイ素含有重合体前駆体(2)について説明する。
ケイ素含有重合体前駆体(2)は、その末端に反応基(2’)を有した線状ポリシロキサンである。この反応基(2’)は、ケイ素含有重合体前駆体(1)の反応基(1’)と反応して共有結合を形成できる反応基であればよい。この反応基(2’)の例としては、Si−OH基、Si−R3 −OH基、Si−O−R4 基、Si−X基[式中、R3 は炭素数1〜9のアルキレン基又はフェニレン基であり、R4 は炭素数1〜5のアルキル基であり、Xはハロゲン原子である]が挙げられる。
Hereinafter, the silicon-containing polymer precursor (2) will be described.
The silicon-containing polymer precursor (2) is a linear polysiloxane having a reactive group (2 ′) at its terminal. This reactive group (2 ′) may be any reactive group that can react with the reactive group (1 ′) of the silicon-containing polymer precursor (1) to form a covalent bond. Examples of the reactive group (2 ′) include a Si—OH group, a Si—R 3 —OH group, a Si—O—R 4 group, a Si—X group [wherein R 3 has 1 to 9 carbon atoms. An alkylene group or a phenylene group, R 4 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and X is a halogen atom].
ケイ素含有重合前駆体(2)は、線状ポリシロキサンであり、ジアルキルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、アルキルフェニルジクロロシラン、ジアルキルジアルコキシシラン、ジフェニルジアルコキシシラン、アルキルフェニルジアルコキシシラン等の、加水分解性のアルコキシ基又はクロロ基を二つ有する二官能基性のアルコキシシラン又はクロロシランの加水分解・縮合反応によって得ることができる。 The silicon-containing polymerization precursor (2) is a linear polysiloxane and hydrolyzes dialkyldichlorosilane, diphenyldichlorosilane, alkylphenyldichlorosilane, dialkyl dialkoxysilane, diphenyl dialkoxysilane, alkylphenyl dialkoxysilane, and the like. It can be obtained by hydrolysis / condensation reaction of a bifunctional alkoxysilane or chlorosilane having two functional alkoxy groups or chloro groups.
ケイ素含有重合前駆体(2)に用いることができる上記の二官能基性のアルコキシシラン又はクロロシランとしては、具体的には、ジメチルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、メチルフェニルジクロロシランが好ましく利用でき、さらに、1,4−ビス(ジメチルクロロシリル)ベンゼンのように、ベンゼン環の両末端(パラ位同士)にクロロシリル基を有する有機シランも利用することが出来る。また、これらのアルコキシシラン、クロロシラン、有機シランの持つ水素原子の全部又は一部が、重水素に置換されている重水素化物、あるいはフッ素原子に置換されているフッ素化物等も用いることができる。ケイ素含有重合前駆体(2)には、これらの一種又は二種以上を用いることができる。また、本発明のケイ素含有硬化性組成物を光学材料等に使用する場合は、これらの重水素化物あるいはフッ素化物を用いることが好ましい。 Specific examples of the bifunctional alkoxysilane or chlorosilane that can be used for the silicon-containing polymerization precursor (2) include dimethyldichlorosilane, diphenyldichlorosilane, and methylphenyldichlorosilane. Organic silanes having chlorosilyl groups at both ends of the benzene ring (para-positions), such as 1,4-bis (dimethylchlorosilyl) benzene, can also be used. In addition, deuterated compounds in which all or a part of hydrogen atoms of these alkoxysilanes, chlorosilanes, and organosilanes are substituted with deuterium, or fluorinated compounds in which fluorine atoms are substituted can be used. One or two or more of these can be used for the silicon-containing polymerization precursor (2). Moreover, when using the silicon-containing curable composition of this invention for an optical material etc., it is preferable to use these deuterated or fluorinated materials.
また、ケイ素含有重合体前駆体(2)の分子量(重量平均分子量)は100〜100万程度が好ましく、1000〜10万がさらに好ましい。また、ケイ素含有重合体前駆体(2)は、耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、ジアルキルジクロロシラン及びジフェニルジクロロシランから選択される2種類以上を混合して用いて得られたものが好ましい。 Further, the molecular weight (weight average molecular weight) of the silicon-containing polymer precursor (2) is preferably about 1,000 to 1,000,000, and more preferably 1,000 to 100,000. In addition, the silicon-containing polymer precursor (2) includes at least two types selected from dialkyldichlorosilane and diphenyldichlorosilane from the viewpoints of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability, and handling properties. What was obtained by mixing and using is preferable.
以下に、ケイ素含有重合体前駆体(1)及びケイ素含有重合体前駆体(2)の製造方法について詳述する。
ケイ素含有重合体前駆体(1)及びケイ素含有重合体前駆体(2)それぞれを得るためのアルコキシシラン及び/又はクロロシランの加水分解・縮合反応は、いわゆるゾル・ゲル反応により行えばよい。該ゾル・ゲル反応の方法としては、例えば、無溶媒もしくは溶媒中で、酸又は塩基等の触媒を使用して、加水分解・縮合反応を行う方法が挙げられる。この時用いられる溶媒は、特に限定されるものではなく、具体的には、水、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、t−ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、ジオキサン、テトラヒドロフラン等が挙げられ、これらの一種を用いることも、二種以上を混合して用いることもできる。
Below, the manufacturing method of a silicon containing polymer precursor (1) and a silicon containing polymer precursor (2) is explained in full detail.
The hydrolysis / condensation reaction of alkoxysilane and / or chlorosilane for obtaining the silicon-containing polymer precursor (1) and the silicon-containing polymer precursor (2), respectively, may be carried out by so-called sol-gel reaction. Examples of the sol-gel reaction method include a method of performing a hydrolysis / condensation reaction using a catalyst such as an acid or a base in the absence of a solvent or in a solvent. The solvent used at this time is not particularly limited, and specifically, water, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol, acetone, methyl ethyl ketone, dioxane, tetrahydrofuran These can be used, and one of these can be used, or two or more can be mixed and used.
アルコキシシラン及び/又はクロロシランの加水分解・縮合反応は、アルコキシシラン及び/又はクロロシランが、水による加水分解よりシラノール基(Si−OH基)を生成し、生成したシラノール基同士が、又はシラノール基及びアルコキシ基が縮合することにより進む。この加水分解反応を進ませるためには、反応系に適量の水を加えることが好ましい。水は、溶媒として単独で又は他の溶媒と共に加えてもよく、触媒を溶解させてから加えてもよい。また、空気中の水分、又は水以外の溶媒中に含まれる微量の水分によっても、この加水分解反応は進む。 In the hydrolysis / condensation reaction of alkoxysilane and / or chlorosilane, alkoxysilane and / or chlorosilane generates silanol groups (Si-OH groups) by hydrolysis with water, and the generated silanol groups or silanol groups and The process proceeds by condensation of the alkoxy group. In order to advance this hydrolysis reaction, it is preferable to add an appropriate amount of water to the reaction system. Water may be added as a solvent alone or together with other solvents, or may be added after dissolving the catalyst. Moreover, this hydrolysis reaction also proceeds by a minute amount of moisture contained in moisture in the air or a solvent other than water.
この加水分解・縮合反応で用いられる酸、塩基等の触媒は、加水分解・縮合反応を促進するものであれば、特に限定されず、具体的には、塩酸、リン酸、硫酸等の無機酸類;酢酸、p−トルエンスルホン酸、リン酸モノイソプロピル等の有機酸類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等の無機塩基類;トリメチルアミン、トリエチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ピリジン等のアミン化合物(有機塩基)類;テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート等のチタン化合物類;ジブチル錫ラウレート、オクチル錫酸等の錫化合物類;トリフルオロボラン等のホウ素化合物類;アルミニウムトリスアセチルアセテート等のアルミニウム化合物類;鉄、コバルト、マンガン、亜鉛等の金属の塩化物、ならびにこれらの金属のナフテン酸塩及びオクチル酸塩等の金属カルボン酸塩類等が挙げられ、これらの一種を用いることも、二種以上を併用することもできる。上記加水分解・縮合反応は、酸触媒を加えて酸性下(pH7未満)で反応を進ませた後、塩基触媒を加えて中性ないし塩基性条件として更に反応を行う方法により行うことが好ましい。 The catalyst such as acid and base used in the hydrolysis / condensation reaction is not particularly limited as long as it promotes the hydrolysis / condensation reaction, and specifically, inorganic acids such as hydrochloric acid, phosphoric acid, sulfuric acid, etc. Organic acids such as acetic acid, p-toluenesulfonic acid and monoisopropyl phosphate; inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and ammonia; trimethylamine, triethylamine, monoethanolamine, diethanolamine, pyridine, etc. Amine compounds (organic bases); titanium compounds such as tetraisopropyl titanate and tetrabutyl titanate; tin compounds such as dibutyltin laurate and octylstannic acid; boron compounds such as trifluoroborane; aluminum such as aluminum trisacetylacetate Compounds: iron, cobalt, manganese, zinc Metal chlorides, and metal carboxylates such as naphthenate and octoate salts of these metals, and the like, also the use of these kind may be used in combination of two or more. The hydrolysis / condensation reaction is preferably performed by a method in which an acid catalyst is added and the reaction is allowed to proceed under acidic conditions (less than pH 7), and then a basic catalyst is added to perform further reaction under neutral to basic conditions.
上記の加水分解・縮合反応の順序は特に限定されず、二種以上のアルコキシシラン及び/又はクロロシランの加水分解・縮合反応を行なう場合には、それぞれ単独である程度加水分解・縮合反応を行なってから、両者を混合して更に加水分解・縮合反応を行なってもよく、すべて混合して一度に加水分解・縮合反応を行なってもよい。 The order of the above hydrolysis / condensation reaction is not particularly limited, and when performing hydrolysis / condensation reaction of two or more kinds of alkoxysilane and / or chlorosilane, the hydrolysis / condensation reaction is carried out to some extent individually. These may be mixed and further subjected to hydrolysis / condensation reaction, or all may be mixed and subjected to hydrolysis / condensation reaction at once.
以下に、ケイ素含有重合体前駆体(1)及びケイ素含有重合体前駆体(2)を用いてケイ素含有重合体(A)を製造する方法について説明する。
(A)成分のケイ素含有重合体は、反応基(A’)を有さないケイ素含有重合体前駆体(1)の反応基(1’)及び反応基(A’)を有さないケイ素含有重合体前駆体(2)の反応基(2’)の間で縮合反応を行って共有結合を形成させることによって、反応基(A’)を有さないケイ素含有重合体前駆体(3)を得た後、該ケイ素含有重合体前駆体(3)に反応基(A’)を導入して得ることができる。
また、(A)成分のケイ素含有重合体は、ケイ素含有重合体前駆体(1)及び/又は(2)に反応基(A’)を予め導入しておき、それらのケイ素含有重合体前駆体(1)の反応基(1’)及びケイ素含有重合体前駆体(2)の反応基(2’)の間で縮合反応を行い、共有結合を形成させることによって得ることもできる。
もちろん、反応基(A’)を有しているケイ素含有重合体(A)に、更に追加して反応基(A’)を導入してもよい。
このように、反応基(A’)の導入反応の形式や時期は特に限定されないが、例えば、ケイ素含有重合体前駆体中のSi−OH基に対して、反応基(A’)を有する一塩素置換(モノクロロ)シラン、例えば、ジメチルビニルクロロシラン、ジフェニルビニルクロロシラン等を反応させればよい。この反応は、例えば反応温度0〜100℃で、反応時間0.1〜4時間で行うことができる。
Hereinafter, a method for producing a silicon-containing polymer (A) using the silicon-containing polymer precursor (1) and the silicon-containing polymer precursor (2) will be described.
The silicon-containing polymer of component (A) is a silicon-containing polymer having no reactive group (A ′) and no reactive group (A ′) in the silicon-containing polymer precursor (1). By performing a condensation reaction between the reactive groups (2 ′) of the polymer precursor (2) to form a covalent bond, a silicon-containing polymer precursor (3) having no reactive group (A ′) is obtained. After being obtained, it can be obtained by introducing a reactive group (A ′) into the silicon-containing polymer precursor (3).
In addition, the silicon-containing polymer of the component (A) is prepared by introducing a reactive group (A ′) in advance into the silicon-containing polymer precursor (1) and / or (2), and the silicon-containing polymer precursor. It can also be obtained by performing a condensation reaction between the reactive group (1 ′) of (1) and the reactive group (2 ′) of the silicon-containing polymer precursor (2) to form a covalent bond.
Of course, the reactive group (A ′) may be further introduced into the silicon-containing polymer (A) having the reactive group (A ′).
Thus, the type and timing of the introduction reaction of the reactive group (A ′) are not particularly limited. For example, the reactive group (A ′) has one reactive group (A ′) with respect to the Si—OH group in the silicon-containing polymer precursor. A chlorine-substituted (monochloro) silane such as dimethylvinylchlorosilane or diphenylvinylchlorosilane may be reacted. This reaction can be performed, for example, at a reaction temperature of 0 to 100 ° C. and for a reaction time of 0.1 to 4 hours.
また、ケイ素含有重合体前駆体(1)及び(2)の反応比は、耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、モル比で1:99〜99:1の範囲が好ましい。また、ケイ素含有重合体前駆体(1)及び(2)の縮合反応において、反応温度は0〜150℃が好ましく、反応時間は0.1〜4時間が好ましい。 The reaction ratio of the silicon-containing polymer precursors (1) and (2) is 1:99 to 99 in terms of molar ratio from the viewpoints of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability and handling properties. A range of: 1 is preferred. In the condensation reaction of the silicon-containing polymer precursors (1) and (2), the reaction temperature is preferably 0 to 150 ° C., and the reaction time is preferably 0.1 to 4 hours.
ケイ素含有重合体(A)の分子量は、ポリスチレン換算で、重量平均分子量が100〜100万であり、好ましくは1000〜10万である。100より小さいと、望ましい物性が得られず、100万より大きいと、ナノメートルオーダーや分子レベルでの複合化ができず、生成する硬化物が不均一になったり、不透明になったりして、充分に良好な物性が得られない。 The molecular weight of the silicon-containing polymer (A) is, in terms of polystyrene, a weight average molecular weight of 100 to 1,000,000, preferably 1,000 to 100,000. If it is less than 100, desirable physical properties cannot be obtained, and if it is greater than 1 million, it cannot be combined at the nanometer order or molecular level, and the resulting cured product becomes non-uniform or opaque, Sufficiently good physical properties cannot be obtained.
(A)成分のケイ素含有重合体が有する反応基(A’)の濃度は、硬化性及び保存安定性の点から、0.0001〜100mmol/gが好ましく、0.001〜10mmol/gがさらに好ましい。
また、(A)成分のケイ素含有重合体中の反応基(A’)の数は、ケイ素含有重合体(A)の分子量にもより、特に限定されるものではないが、ケイ素含有重合体(A)1分子当たり1個以上であり、ケイ素含有重合体(A)中のケイ素原子1個当たりでは好ましくは1個以下である。
The concentration of the reactive group (A ′) of the silicon-containing polymer (A) is preferably from 0.0001 to 100 mmol / g, more preferably from 0.001 to 10 mmol / g, from the viewpoints of curability and storage stability. preferable.
Further, the number of reactive groups (A ′) in the silicon-containing polymer of the component (A) is not particularly limited depending on the molecular weight of the silicon-containing polymer (A), but the silicon-containing polymer ( A) One or more per molecule, and preferably one or less per one silicon atom in the silicon-containing polymer (A).
また、(A)成分に用いられるケイ素含有重合体前駆体(1)及び(2)は、Si−OH基を有している場合、該Si−OH基をアルキルクロロシランと反応させることによってSi−OH基の数を調整し、保存安定性等を改善することが出来る。該アルキルクロロシランとしては、トリメチルクロロシランをはじめとする一塩素置換(モノクロロ)シランを用いることができる。また、加水分解性エステル化合物で処理することでも、Si−OH基の数を調整することができる。加水分解性エステル化合物としては、オルト蟻酸エステル、オルト酢酸エステル、テトラアルコキシメタン、炭酸エステル等を用いることができる。 Further, when the silicon-containing polymer precursors (1) and (2) used for the component (A) have Si—OH groups, Si—OH groups are reacted with alkylchlorosilanes to react with Si—OH groups. Storage stability and the like can be improved by adjusting the number of OH groups. As the alkylchlorosilane, monochlorinated (monochloro) silane such as trimethylchlorosilane can be used. Moreover, the number of Si-OH groups can be adjusted also by processing with a hydrolysable ester compound. As the hydrolyzable ester compound, orthoformate ester, orthoacetate ester, tetraalkoxymethane, carbonate ester and the like can be used.
また、本発明のケイ素含有硬化性組成物中、(A)成分のケイ素含有重合体の含有量は、耐熱性及び可撓性の点から、1〜99重量%が好ましく、10〜90重量%がより好ましい。 In addition, in the silicon-containing curable composition of the present invention, the content of the silicon-containing polymer (A) is preferably 1 to 99% by weight, preferably 10 to 90% by weight, from the viewpoint of heat resistance and flexibility. Is more preferable.
次に、(B)成分のケイ素含有重合体(以下、ケイ素含有重合体(B)ともいう)について説明する。尚、以下の説明から明らかなように、ケイ素含有重合体(B)は、前記ケイ素含有重合体(A)に準じたもので、前記反応基(A’)に代えてSi−H基を有するものである。
(B)成分のケイ素含有重合体は、Si−H基を有し、Si−O−Si結合による橋かけ構造を一箇所以上有し、分子量が100〜100万である。尚、該分子量は、重量平均分子量である。
Next, the silicon-containing polymer (B) component (hereinafter also referred to as silicon-containing polymer (B)) will be described. As will be apparent from the following description, the silicon-containing polymer (B) conforms to the silicon-containing polymer (A), and has a Si—H group instead of the reactive group (A ′). Is.
The silicon-containing polymer as the component (B) has a Si—H group, has one or more cross-linked structures with Si—O—Si bonds, and has a molecular weight of 100 to 1,000,000. The molecular weight is a weight average molecular weight.
耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、(B)成分のケイ素含有重合体のSi−H基中のケイ素原子に結合している他の少なくとも1つの原子が、酸素原子であることが好ましい。 In view of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability, and handling properties, at least one other bonded to the silicon atom in the Si-H group of the silicon-containing polymer of component (B) It is preferable that the atom is an oxygen atom.
(B)成分は、官能基Si−H基を有するアルコキシシラン及び/又はクロロシランの加水分解・縮合反応によって、Si−O−Siのシロキサン結合を形成することにより得ることができる。また、(B)成分は、Si−H基を有さないアルコキシシラン及び/又はクロロシランの加水分解・縮合反応を行なって、Si−O−Siのシロキサン結合を有する重合体を得た後に、該重合体中のSi−OHやSi−Cl等の反応性の官能基を用いて、Si−H基を導入することによっても得ることができる。また、両者を併用して(B)成分を得てもよい。 The component (B) can be obtained by forming a Si—O—Si siloxane bond by hydrolysis / condensation reaction of alkoxysilane and / or chlorosilane having a functional group Si—H group. In addition, the component (B) is obtained by performing a hydrolysis / condensation reaction of alkoxysilane and / or chlorosilane having no Si—H group to obtain a polymer having a Si—O—Si siloxane bond. It can also be obtained by introducing Si—H groups using reactive functional groups such as Si—OH and Si—Cl in the polymer. Moreover, you may obtain (B) component by using both together.
(B)成分のケイ素含有重合体は、ケイ素含有重合体前駆体(1)及びケイ素含有重合体前駆体(2)を反応させて得られたケイ素含有重合体前駆体(3)に、更にSi−H基を導入して得られたものが好ましい。 The silicon-containing polymer as component (B) is obtained by further adding Si to the silicon-containing polymer precursor (3) obtained by reacting the silicon-containing polymer precursor (1) and the silicon-containing polymer precursor (2). Those obtained by introducing a -H group are preferred.
以下に、(B)成分のケイ素含有重合体に用いるケイ素含有重合体前駆体(1)について説明する。
このケイ素含有重合体前駆体(1)は、ケイ素含有重合体前駆体(2)の反応基(2’)と反応できる反応基(1’)の一種類以上を一個以上有している。この反応基(1’)は、反応基(2’)と反応して共有結合を形成する官能基であり、その例としては、Si−OH、Si−R3 −OH、Si−O−R4 、Si−X[式中、R3 は炭素数1〜9のアルキレン基又はフェニレン基であり、R4 は炭素数1〜5のアルキル基であり、Xはハロゲン原子である]を挙げることができる。この反応基(1’)は、反応性の点から、Si−OH基、Si−Cl基、Si−O−CH3 基、Si−O−C2 H5 基が好ましく、特にSi−OH基、Si−Cl基が好ましい。
The silicon-containing polymer precursor (1) used for the silicon-containing polymer as the component (B) will be described below.
The silicon-containing polymer precursor (1) has at least one kind of reactive group (1 ′) that can react with the reactive group (2 ′) of the silicon-containing polymer precursor (2). This reactive group (1 ′) is a functional group that reacts with the reactive group (2 ′) to form a covalent bond. Examples thereof include Si—OH, Si—R 3 —OH, and Si—O—R. 4 , Si-X [wherein R 3 is an alkylene group having 1 to 9 carbon atoms or a phenylene group, R 4 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and X is a halogen atom] Can do. This reactive group (1 ′) is preferably a Si—OH group, a Si—Cl group, a Si—O—CH 3 group, or a Si—O—C 2 H 5 group, particularly a Si—OH group, from the viewpoint of reactivity. Si-Cl groups are preferred.
また、ケイ素含有重合体前駆体(1)の分子量(重量平均分子量)は、取り扱い性の点で、100〜100万が好ましく、500〜10万がより好ましい。 The molecular weight (weight average molecular weight) of the silicon-containing polymer precursor (1) is preferably from 1,000 to 1,000,000, more preferably from 500 to 100,000, from the viewpoint of handleability.
また、ケイ素含有重合体前駆体(1)は、Si−O−Si結合による橋かけ構造を一箇所以上有している。ケイ素含有重合体前駆体(1)中のSi−O−Si結合による橋かけ構造は、Si−O−Si結合によって形成されていれば、はしご状(ラダー状)、かご状、環状等のいずれの橋架け構造であってもよく、これらのはしご状、かご状、環状等の構造の全てがSi−O−Si結合で構成されていてもよく、一部がSi−O−Si結合で形成されていてもよい。もちろん、Si−O−Si結合は、複数個連続して繰り返されていてもよい。 Moreover, the silicon-containing polymer precursor (1) has one or more cross-linked structures with Si—O—Si bonds. In the silicon-containing polymer precursor (1), the bridge structure by Si—O—Si bonds may be any of ladder-like (ladder-like), cage-like, annular, etc., as long as it is formed by Si—O—Si bonds. The bridge structure, ladder shape, cage shape, ring shape, etc. may all be composed of Si—O—Si bonds, and part of them may be formed of Si—O—Si bonds. May be. Of course, a plurality of Si—O—Si bonds may be repeated continuously.
また、ケイ素含有重合体前駆体(1)は、Si−H基を有していてもよく、又は有していなくてもよい。 Moreover, the silicon-containing polymer precursor (1) may or may not have a Si—H group.
ケイ素含有重合体前駆体(1)は、アルコキシシラン及び/又はクロロシランの加水分解・縮合反応によって得ることができる。
加水分解・縮合反応によってケイ素含有重合体前駆体(1)を得ることのできるアルコキシシランやクロロシランとしては、Si−H基を既に有するアルコキシシラン又はクロロシラン、Si−H基を有さないアルコキシシラン又はクロロシランが挙げられる。
The silicon-containing polymer precursor (1) can be obtained by hydrolysis / condensation reaction of alkoxysilane and / or chlorosilane.
As alkoxysilane and chlorosilane that can obtain the silicon-containing polymer precursor (1) by hydrolysis / condensation reaction, alkoxysilane or chlorosilane that already has Si-H group, alkoxysilane that does not have Si-H group, or A chlorosilane is mentioned.
ケイ素含有重合体前駆体(1)を合成するために用いることができるSi−H基を有さないアルコキシシラン及びクロロシランの例としては、アセトキシメチルトリメトキシシラン、ベンジルトリエトキシシラン、ビス(トリエトキシシリル)メタン、ビス(トリエトキシシリル)エタン、ビス(トリエトキシシリル)ヘキサン、3−ブロモプロピルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、クロロフェニルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシラン、ドデシルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、メトキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、トリルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリフェニルエトキシシラン等のアルコキシシラン、及びこれらのアルコキシシランのアルコキシ基の一部又は全部をクロロ基に置換したクロロシラン等が挙げられ、加えてこれらのアルコキシシランのアルコキシ基もしくはこれらのクロロシランのクロロ基が加水分解されてシラノール基となっているものも挙げられる。更には、これらのアルコキシシラン及びクロロシランの持つ水素原子の全部又は一部が重水素に置換されている重水素化物、あるいはフッ素原子に置換されているフッ素化物等も挙げられる。これらのアルコキシシラン及びクロロシランは、一種又は二種以上を用いることができる。特に耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、フェニルトリメトキシシラン及び/又はメチルトリエトキシシランを用いることが好ましい。また、本発明のケイ素含有硬化性組成物を光学材料等に使用する場合は、重水素化物あるいはフッ素化物が好ましい。 Examples of alkoxysilanes and chlorosilanes having no Si-H groups that can be used to synthesize the silicon-containing polymer precursor (1) include acetoxymethyltrimethoxysilane, benzyltriethoxysilane, bis (triethoxy Silyl) methane, bis (triethoxysilyl) ethane, bis (triethoxysilyl) hexane, 3-bromopropyltrimethoxysilane, butyltrimethoxysilane, chloromethyltriethoxysilane, chlorophenyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxy Silane, diethyldiethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldimethoxylane, dodecyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, butyltrimethoxysilane, methoxypropyltri Toxisilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, octyltrimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, tetraethoxysilane, tetramethoxysilane, tolyltrimethoxysilane , Diphenyl dimethoxy silane, diphenyl diethoxy silane, trimethyl methoxy silane, trimethyl ethoxy silane, triethyl ethoxy silane, triphenyl ethoxy silane etc. Chlorosilane, etc., in addition, the alkoxy group of these alkoxysilanes or the chloro group of these chlorosilanes is hydrolyzed. Also include those that are a silanol group. Furthermore, deuterated compounds in which all or part of the hydrogen atoms of these alkoxysilanes and chlorosilanes are substituted with deuterium, or fluorinated compounds in which fluorine atoms are substituted are also included. These alkoxysilanes and chlorosilanes can be used alone or in combination of two or more. In particular, it is preferable to use phenyltrimethoxysilane and / or methyltriethoxysilane from the viewpoints of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability, and handling properties. Moreover, when using the silicon-containing curable composition of this invention for an optical material etc., a deuteride or a fluorinated material is preferable.
ケイ素含有重合体前駆体(1)を合成するために用いることができるSi−H基を既に有するアルコキシシラン及びクロロシランの例としては、ジメチルクロロシラン、ジエチルクロロシラン、ジフェニルクロロシラン等が挙げられる。特に耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、ジメチルクロロシランが好ましい。また、(B)成分としたときにSi−H基中のケイ素原子に結合している他の少なくとも1つの原子が酸素原子であるように、アルコキシシラン及び/又はクロロシランを選択することが好ましい。また、本発明のケイ素含有硬化性組成物を光学材料等に使用する場合は、重水素化物あるいはフッ素化物が好ましい。 Examples of alkoxysilanes and chlorosilanes already having Si-H groups that can be used to synthesize the silicon-containing polymer precursor (1) include dimethylchlorosilane, diethylchlorosilane, diphenylchlorosilane, and the like. In particular, dimethylchlorosilane is preferred from the viewpoints of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability, and handling properties. In addition, it is preferable to select alkoxysilane and / or chlorosilane so that at least one other atom bonded to the silicon atom in the Si—H group when the component (B) is an oxygen atom. Moreover, when using the silicon-containing curable composition of this invention for an optical material etc., a deuteride or a fluorinated material is preferable.
ケイ素含有重合体前駆体(1)を得るために使用される前記アルコキシシラン及び/又はクロロシランは、二種類以上を使用してもよい。また、前記アルコキシシラン及び/又はクロロシランとしては、所望によりそれらを他の元素のアルコラートや錯体で処理したものを用いることもでき、処理をしたもののみを用いてあるいは処理をしていないものと併用して、加水分解・縮合反応を行い、ケイ素含有重合体(B)にケイ素以外の元素、例えばホウ素、マグネシウム、アルミニウム、リン、チタン、鉄、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、スズ、テルル、タンタル等を組み入れることも可能である。 Two or more kinds of the alkoxysilane and / or chlorosilane used for obtaining the silicon-containing polymer precursor (1) may be used. Moreover, as said alkoxysilane and / or chlorosilane, what was processed with the alcoholate and complex of other elements as needed can also be used, and it uses together only with what was processed, or what has not been processed. Then, hydrolysis / condensation reaction is performed, and an element other than silicon, such as boron, magnesium, aluminum, phosphorus, titanium, iron, zinc, zirconium, niobium, tin, tellurium, tantalum, etc. is added to the silicon-containing polymer (B). It can also be incorporated.
以下に、(B)成分に用いるケイ素含有重合体前駆体(2)について説明する。
ケイ素含有重合体前駆体(2)は、その末端に反応基(2’)を有した線状ポリシロキサンである。反応基(2’)は、ケイ素含有重合体前駆体(1)の反応基(1’)と反応して共有結合を形成できる反応基であればよい。この反応基(2’)の例としては、Si−OH基、Si−R3 −OH基、Si−O−R4 基、Si−X基[式中、R3 は炭素数1〜9のアルキレン基又はフェニレン基であり、R4 は炭素数1〜5のアルキル基であり、Xはハロゲン原子である]が挙げられる。
The silicon-containing polymer precursor (2) used for the component (B) will be described below.
The silicon-containing polymer precursor (2) is a linear polysiloxane having a reactive group (2 ′) at its terminal. The reactive group (2 ′) may be any reactive group that can react with the reactive group (1 ′) of the silicon-containing polymer precursor (1) to form a covalent bond. Examples of the reactive group (2 ′) include a Si—OH group, a Si—R 3 —OH group, a Si—O—R 4 group, a Si—X group [wherein R 3 has 1 to 9 carbon atoms. An alkylene group or a phenylene group, R 4 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and X is a halogen atom].
ケイ素含有重合前駆体(2)は、線状ポリシロキサンであり、ジアルキルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、アルキルフェニルジクロロシラン、ジアルキルジアルコキシシラン、ジフェニルジアルコキシシラン、アルキルフェニルジアルコキシシラン等の、アルコキシ基又はクロロ基を二つ有する二官能基性の加水分解性のアルコキシシラン又はクロロシランの加水分解・縮合反応によって得ることができる。 The silicon-containing polymerization precursor (2) is a linear polysiloxane, and alkoxy groups such as dialkyldichlorosilane, diphenyldichlorosilane, alkylphenyldichlorosilane, dialkyldialkoxysilane, diphenyl dialkoxysilane, and alkylphenyl dialkoxysilane. Alternatively, it can be obtained by hydrolysis / condensation reaction of bifunctional hydrolyzable alkoxysilane having two chloro groups or chlorosilane.
ケイ素含有重合前駆体(2)に用いることができる上記の二官能基性の加水分解性のアルコキシシラン又はクロロシランとしては、具体的にはジメチルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、メチルフェニルジクロロシランが好ましく利用でき、さらに、1,4−ビス(ジメチルクロロシリル)ベンゼンのように、ベンゼン環の両末端(パラ位同士)にクロロシランを有する有機シランも利用することが出来る。また、これらのアルコキシシラン、クロロシラン、有機シランの持つ水素原子の全部又は一部が、重水素に置換されている重水素化物、あるいはフッ素原子に置換されているフッ素化物等も用いることができる。ケイ素含有重合前駆体(2)には、これらの一種又は二種以上を用いることができる。また、本発明のケイ素含有硬化性組成物を光学材料等に使用する場合は、これらの重水素化物あるいはフッ素化物を用いることが好ましい。 As the bifunctional hydrolyzable alkoxysilane or chlorosilane that can be used in the silicon-containing polymerization precursor (2), specifically, dimethyldichlorosilane, diphenyldichlorosilane, and methylphenyldichlorosilane are preferably used. Furthermore, organic silanes having chlorosilanes at both ends of the benzene rings (para positions), such as 1,4-bis (dimethylchlorosilyl) benzene, can also be used. In addition, deuterated compounds in which all or a part of hydrogen atoms of these alkoxysilanes, chlorosilanes, and organosilanes are substituted with deuterium, or fluorinated compounds in which fluorine atoms are substituted can be used. One or two or more of these can be used for the silicon-containing polymerization precursor (2). Moreover, when using the silicon-containing curable composition of this invention for an optical material etc., it is preferable to use these deuterated or fluorinated materials.
また、ケイ素含有重合前駆体(2)の分子量(重量平均分子量)は、100〜100万程度が好ましく、1000〜10万がさらに好ましい。また、ケイ素含有重合前駆体(2)は、耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、ジアルキルジクロロシラン及びジフェニルジクロロシランから選択される二種類以上混合して用いて得られたものが好ましい。 Further, the molecular weight (weight average molecular weight) of the silicon-containing polymerization precursor (2) is preferably about 1,000 to 1,000,000, and more preferably 1,000 to 100,000. The silicon-containing polymerization precursor (2) is a mixture of two or more selected from dialkyldichlorosilane and diphenyldichlorosilane from the viewpoints of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability and handling properties. What was obtained by using is preferable.
以下に、ケイ素含有重合体前駆体(1)及びケイ素含有重合体前駆体(2)の製造方法について詳述する。
(B)成分に用いられるケイ素含有重合体前駆体(1)及び(2)それぞれを得るためのアルコキシシラン及び/又はクロロシランの加水分解・縮合反応は、(A)成分に用いられるケイ素含有重合体前駆体(1)及び(2)それぞれを得るためのアルコキシシラン及び/又はクロロシランの加水分解・縮合反応と同様のいわゆるゾル・ゲル反応により行えばよい。この反応を進行させるためには、前記のように、適量の水を加えることが好ましい。また、前記の加水分解・縮合反応促進用の種々の触媒を使用してもよい。例えば、加水分解・縮合反応を促進する酸触媒を加えて、酸性下(pH7未満)で反応を進ませた後、加水分解・縮合反応を促進する塩基触媒を加えて、中性ないし塩基性下で反応を行う方法が好ましい。この加水分解・縮合反応の順序も、前記同様、特に限定されない。
Below, the manufacturing method of a silicon containing polymer precursor (1) and a silicon containing polymer precursor (2) is explained in full detail.
Hydrolysis / condensation reaction of alkoxysilane and / or chlorosilane to obtain silicon-containing polymer precursors (1) and (2) used for component (B) is a silicon-containing polymer used for component (A). What is necessary is just to perform by the so-called sol-gel reaction similar to the hydrolysis / condensation reaction of alkoxysilane and / or chlorosilane to obtain the precursors (1) and (2), respectively. In order to advance this reaction, it is preferable to add an appropriate amount of water as described above. In addition, various catalysts for promoting the hydrolysis / condensation reaction may be used. For example, an acid catalyst that promotes hydrolysis / condensation reaction is added and the reaction is allowed to proceed under acidic conditions (less than pH 7), and then a base catalyst that promotes hydrolysis / condensation reaction is added to neutral or basic reaction. A method in which the reaction is carried out is preferred. The order of the hydrolysis / condensation reaction is not particularly limited as described above.
以下に、ケイ素含有重合体前駆体(1)及びケイ素含有重合体前駆体(2)を用いてケイ素含有重合体(B)を製造する方法について説明する。
(B)成分のケイ素含有重合体は、Si−H基を有さないケイ素含有重合体前駆体(1)の反応基(1’)及びSi−H基を有さないケイ素含有重合体前駆体(2)の反応基(2’)の間で縮合反応を行って共有結合を形成させることによって、Si−H基を有さないケイ素含有重合体前駆体(3)を得た後、該ケイ素含有重合体前駆体(3)にSi−H基を導入して得ることができる。
また、(B)成分のケイ素含有重合体は、ケイ素含有重合体前駆体(1)及び/又は(2)にSi−H基を予め導入しておき、それらのケイ素含有重合体前駆体(1)の反応基(1’)及びケイ素含有重合体前駆体(2)の反応基(2’)の間で縮合反応を行い、共有結合を形成させることによって得ることもできる。
もちろん、Si−H基を有しているケイ素含有重合体(B)に、更にSi−H基を導入してもよい。
このように、Si−H基の導入反応の形式や時期は特に限定されないが、例えば、ケイ素含有重合体前駆体中のSi−OH基に対して、Si−H基を有する一塩素置換(モノクロロ)シラン、例えば、ジメチルクロロシラン、ジフェニルクロロシラン等を反応させればよい。この反応は、例えば反応温度0.1〜100℃で、反応時間0.1〜4時間で行うことができる。
Hereinafter, a method for producing a silicon-containing polymer (B) using the silicon-containing polymer precursor (1) and the silicon-containing polymer precursor (2) will be described.
The silicon-containing polymer of component (B) is a silicon-containing polymer precursor having no reactive group (1 ′) and no Si—H group in the silicon-containing polymer precursor (1) having no Si—H group. A silicon-containing polymer precursor (3) having no Si—H group is obtained by performing a condensation reaction between the reactive groups (2 ′) of (2) to form a covalent bond, and then the silicon It can be obtained by introducing Si-H groups into the containing polymer precursor (3).
In addition, the silicon-containing polymer as the component (B) is obtained by introducing Si—H groups in advance into the silicon-containing polymer precursor (1) and / or (2), and the silicon-containing polymer precursor (1). ) And a reactive group (2 ′) of the silicon-containing polymer precursor (2) to form a covalent bond.
Of course, Si-H groups may be further introduced into the silicon-containing polymer (B) having Si-H groups.
Thus, the type and timing of the Si—H group introduction reaction are not particularly limited. For example, the Si—OH group in the silicon-containing polymer precursor is substituted with a monochlorine group (monochloro group having a Si—H group). ) Silane such as dimethylchlorosilane, diphenylchlorosilane, etc. may be reacted. This reaction can be performed, for example, at a reaction temperature of 0.1 to 100 ° C. and a reaction time of 0.1 to 4 hours.
また、ケイ素含有重合体前駆体(1)及び(2)の反応比は、耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、モル比で1:99〜99:1の範囲が好ましい。また、ケイ素含有重合体前駆体(1)及び(2)の縮合反応において、反応温度は0〜150℃が好ましく、反応時間は0.1〜4時間が好ましい。 The reaction ratio of the silicon-containing polymer precursors (1) and (2) is 1:99 to 99 in terms of molar ratio from the viewpoints of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability and handling properties. A range of: 1 is preferred. In the condensation reaction of the silicon-containing polymer precursors (1) and (2), the reaction temperature is preferably 0 to 150 ° C., and the reaction time is preferably 0.1 to 4 hours.
ケイ素含有重合体(B)の重量平均分子量は、ポリスチレン換算で100〜100万であり、好ましくは1000〜10万である。100より小さいと、望ましい物性が得られず、100万より大きいと、ナノメートルオーダー及び分子レベルでの複合化ができず、生成する硬化物が不均一になったり、不透明になったりして、充分に良好な物性が得られない。 The weight average molecular weight of the silicon-containing polymer (B) is from 1,000 to 1,000,000, preferably from 1,000 to 100,000, in terms of polystyrene. If it is less than 100, desirable physical properties cannot be obtained, and if it is greater than 1 million, it cannot be combined at the nanometer order and molecular level, and the resulting cured product becomes non-uniform or opaque. Sufficiently good physical properties cannot be obtained.
最終的にケイ素含有重合体(B)が有するSi−H基の濃度は、耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、0.001〜100mmol/gが好ましく、0.01〜10mmol/gがさらに好ましい。
また、(B)成分のケイ素含有重合体中のSi−H基の数は、得られるケイ素含有重合体(B)の分子量にもより、特に限定されるものではないが、ケイ素含有重合体(B)の1分子当たり1個以上であり、ケイ素含有重合体(B)中のケイ素原子1個当たりでは好ましくは1個以下である。
Finally, the concentration of Si-H groups of the silicon-containing polymer (B) is 0.001 to 100 mmol / g from the viewpoint of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability and handling properties. Preferably, 0.01 to 10 mmol / g is more preferable.
Further, the number of Si—H groups in the silicon-containing polymer of the component (B) is not particularly limited by the molecular weight of the silicon-containing polymer (B) to be obtained, but the silicon-containing polymer ( 1 or more per molecule of B), and preferably 1 or less per silicon atom in the silicon-containing polymer (B).
また、(B)成分に用いられるケイ素含有重合体前駆体(1)及び(2)は、Si−OH基を有している場合、該Si−OH基をアルキルクロロシランと反応させることによってSi−OH基の数を調整し、保存安定性等を改善することが出来る。該アルキルクロロシランとしては、トリメチルクロロシランをはじめとする一塩素置換(モノクロロ)シランを用いることができる。また、加水分解性エステル化合物で処理することでも、Si−OH基の数を調整することができる。該加水分解性エステル化合物としては、オルト蟻酸エステル、オルト酢酸エステル、テトラアルコキシメタン、炭酸エステル等を用いることができる。 In addition, when the silicon-containing polymer precursors (1) and (2) used for the component (B) have Si—OH groups, the Si—OH group is reacted with alkylchlorosilane to react with Si— Storage stability and the like can be improved by adjusting the number of OH groups. As the alkylchlorosilane, monochlorinated (monochloro) silane such as trimethylchlorosilane can be used. Moreover, the number of Si-OH groups can be adjusted also by processing with a hydrolysable ester compound. As the hydrolyzable ester compound, orthoformate ester, orthoacetate ester, tetraalkoxymethane, carbonate ester and the like can be used.
本発明のケイ素含有硬化性組成物中、(B)成分のケイ素含有重合体の含有量は、耐熱性及び力学特性の点から、1〜99重量%が好ましく、10〜90重量%がより好ましい。 In the silicon-containing curable composition of the present invention, the content of the silicon-containing polymer as the component (B) is preferably 1 to 99% by weight, more preferably 10 to 90% by weight from the viewpoint of heat resistance and mechanical properties. .
また、本発明のケイ素含有硬化性組成物において、(A)成分のケイ素含有重合体及び(B)成分のケイ素含有重合体の含有比(前者:後者、重量基準)は、硬化性、耐熱性及び力学特性の点で、1:99〜99:1が好ましく、10:90〜90:10がより好ましい。
また、本発明のケイ素含有硬化性組成物において、反応基(A’)及びSi−H基の比(前者:後者、モル基準)は、硬化性、耐熱性及び力学特性の点から、20:80〜80:20が好ましく、40:60〜60:40がより好ましい。
In the silicon-containing curable composition of the present invention, the content ratio of the silicon-containing polymer (A) and the silicon-containing polymer (B) (the former: the latter, on a weight basis) is curable and heat resistant. In view of the mechanical properties, 1:99 to 99: 1 is preferable, and 10:90 to 90:10 is more preferable.
In the silicon-containing curable composition of the present invention, the ratio of the reactive group (A ′) and the Si—H group (the former: the latter, on a molar basis) is 20: from the viewpoint of curability, heat resistance, and mechanical properties. 80-80: 20 is preferable and 40: 60-60: 40 is more preferable.
次に、(C)成分のケイ素含有重合体(以下、ケイ素含有重合体(C)ともいう)について説明する。尚、以下の説明から明らかなように、ケイ素含有重合体(C)は、前記ケイ素含有重合体(A)に準じたもので、前記反応基(A’)に加えて、Si−H基も有するものである。
(C)成分のケイ素含有重合体は、Si−CH=CH2 、Si−R1 −CH=CH2 及びSi−R1 −OCOC(R2 )=CH2 [式中、R1 は炭素数1〜9のアルキレン基又はフェニレン基であり、R2 は水素又はメチル基である]からなる群から選ばれる反応基(A’)を一種又は二種以上有し、さらにSi−H基を有し、Si−O−Si結合による橋かけ構造を一箇所以上有し、分子量が100〜100万である。尚、該分子量は、重量平均分子量である。
Next, the silicon-containing polymer (C) (hereinafter also referred to as silicon-containing polymer (C)) will be described. As will be apparent from the following description, the silicon-containing polymer (C) conforms to the silicon-containing polymer (A), and in addition to the reactive group (A ′), Si—H groups are also present. It is what you have.
The silicon-containing polymer (C) is composed of Si—CH═CH 2 , Si—R 1 —CH═CH 2 and Si—R 1 —OCOC (R 2 ) ═CH 2 [wherein R 1 is the number of carbon atoms. 1 to 9 alkylene groups or phenylene groups, and R 2 is hydrogen or a methyl group]. One or more reactive groups (A ′) selected from the group consisting of And it has one or more bridge | crosslinking structures by Si-O-Si bond, and the molecular weight is 1 million. The molecular weight is a weight average molecular weight.
R1 は、硬化物の耐熱性及び電気特性の点から、炭素数1〜3のアルキレン基が好ましい。
また、反応基(A’)は、耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、特にSi−CH=CH2 が好ましい。
また、耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、(C)成分の反応基(A’)中のケイ素原子又はSi−H基中のケイ素原子に結合している他の少なくとも1つの原子は、酸素原子であることが好ましい。
R 1 is preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms from the viewpoint of heat resistance and electrical properties of the cured product.
The reactive group (A ′) is particularly preferably Si—CH═CH 2 from the viewpoints of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability, and handling properties.
In addition, from the viewpoints of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability and handling properties, it is bonded to the silicon atom in the reactive group (A ′) of component (C) or the silicon atom in the Si—H group. The other at least one atom is preferably an oxygen atom.
(C)成分は、反応基(A’)を有するアルコキシシラン及び/又はクロロシラン、並びに、Si−H基を有するアルコキシシラン及び/又はクロロシランの加水分解・縮合反応によって、Si−O−Siのシロキサン結合を形成することにより得ることができる。もちろん、反応基(A’)及びSi−H基の両方を有するアルコキシシラン及び/又はクロロシランを使用してもよく、両方を有するものと一方のみを有するものとを併用してもよい。また、(C)成分は、反応基(A’)及び/又はSi−H基を有さないアルコキシシラン及び/又はクロロシランの加水分解・縮合反応を行なって、Si−O−Siのシロキサン結合を有し、反応基(A’)及び/又はSi−H基を有さない重合体を得た後に、該重合体中のSi−OHやSi−Cl等の反応性の官能基を用いて、反応基(A’)及び/又はSi−H基を導入することによっても得ることができる。また、これらの方法を併用して(C)成分を得てもよい。 The component (C) is composed of an alkoxysilane and / or chlorosilane having a reactive group (A ′), and a Si—O—Si siloxane by hydrolysis / condensation reaction of an alkoxysilane and / or chlorosilane having a Si—H group. It can be obtained by forming a bond. Of course, alkoxysilane and / or chlorosilane having both reactive group (A ′) and Si—H group may be used, and those having both and those having only one may be used in combination. Moreover, (C) component performs the hydrolysis and condensation reaction of the alkoxysilane which does not have a reactive group (A ') and / or Si-H group, and / or chlorosilane, and carries out the siloxane bond of Si-O-Si. Having a reactive group (A ′) and / or a polymer having no Si—H group, and using a reactive functional group such as Si—OH or Si—Cl in the polymer, It can also be obtained by introducing reactive groups (A ′) and / or Si—H groups. Moreover, you may obtain (C) component using these methods together.
特に、(C)成分のケイ素含有重合体は、ケイ素含有重合体前駆体(1)及びケイ素含有重合体前駆体(2)を反応させて得られたケイ素含有重合体前駆体(3)に、更に反応基(A’)及び/又はSi−H基を導入して得られたものが好ましい。 In particular, the silicon-containing polymer of component (C) is obtained by reacting the silicon-containing polymer precursor (3) obtained by reacting the silicon-containing polymer precursor (1) and the silicon-containing polymer precursor (2). Furthermore, what was obtained by introduce | transducing a reactive group (A ') and / or Si-H group is preferable.
以下に、(C)成分に用いるケイ素含有重合体前駆体(1)について説明する。 The silicon-containing polymer precursor (1) used for the component (C) will be described below.
このケイ素含有重合体前駆体(1)は、ケイ素含有重合体前駆体(2)の反応基(2’)と反応できる反応基(1’)の一種類以上を一個以上有している。この反応基(1’)は、反応基(2’)と反応して共有結合を形成する官能基であり、その例としては、Si−OH、Si−R3 −OH、Si−O−R4 、Si−X[式中、R3 は炭素数1〜9のアルキレン基又はフェニレン基であり、R4 は炭素数1〜5のアルキル基であり、Xはハロゲン原子である]を挙げることができる。この反応基(1’)は、反応性の点から、Si−OH基、Si−Cl基、Si−O−CH3 基、Si−O−C2 H5 基が好ましく、特にSi−OH基、Si−Cl基が好ましい。 The silicon-containing polymer precursor (1) has at least one kind of reactive group (1 ′) that can react with the reactive group (2 ′) of the silicon-containing polymer precursor (2). This reactive group (1 ′) is a functional group that reacts with the reactive group (2 ′) to form a covalent bond. Examples thereof include Si—OH, Si—R 3 —OH, and Si—O—R. 4 , Si-X [wherein R 3 is an alkylene group having 1 to 9 carbon atoms or a phenylene group, R 4 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and X is a halogen atom] Can do. This reactive group (1 ′) is preferably a Si—OH group, a Si—Cl group, a Si—O—CH 3 group, or a Si—O—C 2 H 5 group, particularly a Si—OH group, from the viewpoint of reactivity. Si-Cl groups are preferred.
また、ケイ素含有重合体前駆体(1)の分子量(重量平均分子量)は、取り扱い性の点で、100〜100万程度が好ましく、500〜10万がより好ましい。 Further, the molecular weight (weight average molecular weight) of the silicon-containing polymer precursor (1) is preferably about 1,000 to 1,000,000, more preferably 500 to 100,000, from the viewpoint of handleability.
また、ケイ素含有重合体前駆体(1)は、Si−O−Si結合による橋かけ構造を一箇所以上有している。ケイ素含有重合体前駆体(1)中のSi−O−Si結合による橋かけ構造は、Si−O−Si結合によって形成されていれば、はしご状(ラダー状)、かご状、環状等のいずれの橋かけ構造であってもよく、これらのはしご状、かご状、環状等の構造の全てがSi−O−Si結合で構成されていてもよく、一部がSi−O−Si結合で形成されていてもよい。もちろん、Si−O−Si結合は、複数個連続して繰り返されていてもよい。 Moreover, the silicon-containing polymer precursor (1) has one or more cross-linked structures with Si—O—Si bonds. In the silicon-containing polymer precursor (1), the bridge structure by Si—O—Si bonds may be any of ladder-like (ladder-like), cage-like, annular, etc., as long as it is formed by Si—O—Si bonds. The bridge structure, ladder shape, cage shape, ring shape, etc. may all be composed of Si—O—Si bonds, and part of them may be formed of Si—O—Si bonds. May be. Of course, a plurality of Si—O—Si bonds may be repeated continuously.
また、ケイ素含有重合体前駆体(1)は、Si−CH=CH2 、Si−R1 −CH=CH2 及びSi−R1 −OCOC(R2 )=CH2 [式中、R1 は炭素数1〜9のアルキレン基又はフェニレン基であり、R2 は水素又はメチル基である]からなる群から選ばれる反応基(A’)を一種又は二種以上有していてもよく、又は有してなくてもよい。また、ケイ素含有重合体前駆体(1)は、Si−H基を有していてもよく、又は有していなくてもよい。 In addition, the silicon-containing polymer precursor (1) includes Si—CH═CH 2 , Si—R 1 —CH═CH 2 and Si—R 1 —OCOC (R 2 ) = CH 2 [wherein R 1 is It is a C1-C9 alkylene group or a phenylene group, and R < 2 > is hydrogen or a methyl group], and may have one or more reactive groups (A ') selected from the group consisting of, or It may not have. Moreover, the silicon-containing polymer precursor (1) may or may not have a Si—H group.
ケイ素含有重合体前駆体(1)は、アルコキシシラン及び/又はクロロシランの加水分解・縮合反応によって得ることができる。
加水分解・縮合反応によってケイ素含有重合体前駆体(1)を得ることのできるアルコキシシランやクロロシランとしては、反応基(A’)及びSi−H基のいずれも有さないアルコキシシラン又はクロロシラン、反応基(A’)及び/もしくはSi−H基を有するアルコキシシラン又はクロロシランが挙げられる。
The silicon-containing polymer precursor (1) can be obtained by hydrolysis / condensation reaction of alkoxysilane and / or chlorosilane.
As alkoxysilane and chlorosilane that can obtain the silicon-containing polymer precursor (1) by hydrolysis / condensation reaction, alkoxysilane or chlorosilane having neither reactive group (A ′) nor Si—H group, reaction Examples include alkoxysilane or chlorosilane having a group (A ′) and / or a Si—H group.
本発明のケイ素含有重合体前駆体(1)を合成するために用いることができる反応基(A’)及びSi−H基のいずれも有さないアルコキシシラン及びクロロシランの例としては、アセトキシメチルトリメトキシシラン、ベンジルトリエトキシシラン、ビス(トリエトキシシリル)メタン、ビス(トリエトキシシリル)エタン、ビス(トリエトキシシリル)ヘキサン、3−ブロモプロピルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、クロロフェニルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシラン、ドデシルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、メトキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、トリルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリフェニルエトキシシラン等のアルコキシシラン、及びこれらのアルコキシシランのアルコキシ基の一部又は全部をクロロ基に置換したクロロシラン等が挙げられ、加えてこれらのアルコキシシランのアルコキシ基もしくはこれらのクロロシランのクロロ基が加水分解されてシラノール基となっているものも挙げられる。更には、これらのアルコキシシランやクロロシランの持つ水素原子の全部又は一部が重水素に置換されている重水素化物、あるいはフッ素原子に置換されているフッ素化物等も挙げられる。これらのアルコキシシラン及びクロロシランは、一種又は二種以上を用いることができる。特に耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、フェニルトリメトキシシラン及び/又はメチルトリエトキシシランを用いることが好ましい。また、本発明のケイ素含有硬化性組成物を光学材料等に使用する場合は、重水素化物あるいはフッ素化物が好ましい。 Examples of alkoxysilanes and chlorosilanes that have no reactive groups (A ′) and Si—H groups that can be used to synthesize the silicon-containing polymer precursor (1) of the present invention include acetoxymethyltri Methoxysilane, benzyltriethoxysilane, bis (triethoxysilyl) methane, bis (triethoxysilyl) ethane, bis (triethoxysilyl) hexane, 3-bromopropyltrimethoxysilane, butyltrimethoxysilane, chloromethyltriethoxysilane Chlorophenyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldimethoxylane, dodecyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, butyltrimethyl Xysilane, methoxypropyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, octyltrimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, tetraethoxysilane, tetramethoxy Silane, tolyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, triethylethoxysilane, triphenylethoxysilane, and other alkoxysilanes, and some or all of the alkoxy groups of these alkoxysilanes Chlorosilane substituted with chloro group, etc., in addition to the alkoxy group of these alkoxysilanes or Chloro group Roshiran also include those that are a hydrolyzed to silanol groups. Furthermore, deuterated compounds in which all or part of the hydrogen atoms of these alkoxysilanes and chlorosilanes are substituted with deuterium, or fluorinated compounds in which fluorine atoms are substituted are also included. These alkoxysilanes and chlorosilanes can be used alone or in combination of two or more. In particular, it is preferable to use phenyltrimethoxysilane and / or methyltriethoxysilane from the viewpoints of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability, and handling properties. Moreover, when using the silicon-containing curable composition of this invention for an optical material etc., a deuteride or a fluorinated material is preferable.
反応基(A’)を既に有するアルコキシシラン及びクロロシランの例としては、(3−アクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン、(3−アクリロキシプロピル)トリメトキシシラン、アリルジメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ブテニルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキプロピルトリメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン、及びこれらのアルコキシシランのアルコキシ基の一部又は全部をクロロ基に置換したクロロシラン等が挙げられ、加えてこれらのアルコキシシランのアルコキシ基又はこれらのクロロシランのクロロ基が加水分解されてシラノール基となっているものも挙げられる。更には、これらのアルコキシシランやクロロシランの水素原子の全部又は一部が重水素に置換されている重水素化物、あるいはフッ素原子に置換されているフッ素化物等も挙げられる。これらのアルコキシシラン及びクロロシランは、一種又は二種以上を用いることができる。耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点からトリエトキシビニルシラン及び/又はトリメトキシビニルシランを用いることが好ましい。また、反応基(A’)中のケイ素原子に結合している他の少なくとも1つの原子が酸素原子となるように、アルコキシシラン及び/又はクロロシランを選択することが好ましい。また、本発明のケイ素含有硬化性組成物を光学材料等に使用する場合は、重水素化物あるいはフッ素化物が好ましい。 Examples of alkoxysilanes and chlorosilanes already having a reactive group (A ′) include (3-acryloxypropyl) methyldimethoxysilane, (3-acryloxypropyl) trimethoxysilane, allyldimethoxysilane, allyltrimethoxysilane, allyl Triethoxysilane, butenyltriethoxysilane, methacryloxymethyltriethoxysilane, methacryloxymethyltrimethoxysilane, methacryloxypropyltriethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinylmethyldiethoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane, vinyl Examples include alkoxysilanes such as triethoxysilane and vinyltrimethoxysilane, and chlorosilanes in which some or all of the alkoxy groups of these alkoxysilanes are substituted with chloro groups. Also include those in which the alkoxy group or chloro group of these chlorosilanes of these alkoxysilanes has a hydrolyzed silanol groups in addition. Further, deuterated compounds in which all or part of the hydrogen atoms of these alkoxysilanes and chlorosilanes are substituted with deuterium, and fluorinated compounds in which fluorine atoms are substituted are also included. These alkoxysilanes and chlorosilanes can be used alone or in combination of two or more. From the viewpoints of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability and handling properties, it is preferable to use triethoxyvinylsilane and / or trimethoxyvinylsilane. Moreover, it is preferable to select alkoxysilane and / or chlorosilane so that at least one other atom bonded to the silicon atom in the reactive group (A ′) is an oxygen atom. Moreover, when using the silicon-containing curable composition of this invention for an optical material etc., a deuteride or a fluorinated material is preferable.
ケイ素含有重合体前駆体(1)を合成するために用いることができるSi−H基を既に有するアルコキシシラン及びクロロシランの例としては、ジメチルクロロシラン、ジエチルクロロシラン、ジフェニルクロロシラン等が挙げられる。特に耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、ジメチルクロロシランが好ましい。また、(C)成分としたときにSi−H基中のケイ素原子に結合している他の少なくとも1つの原子が酸素原子であるように、アルコキシシラン及び/又はクロロシランを選択することが好ましい。また、本発明のケイ素含有硬化性組成物を光学材料等に使用する場合は、アルコキシシランやクロロシランの重水素化物又はフッ素化物が好ましい。 Examples of alkoxysilanes and chlorosilanes already having Si-H groups that can be used to synthesize the silicon-containing polymer precursor (1) include dimethylchlorosilane, diethylchlorosilane, diphenylchlorosilane, and the like. In particular, dimethylchlorosilane is preferred from the viewpoints of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability, and handling properties. Moreover, it is preferable to select alkoxysilane and / or chlorosilane so that at least one other atom bonded to the silicon atom in the Si—H group is an oxygen atom when the component (C) is used. Moreover, when using the silicon-containing curable composition of this invention for an optical material etc., the deuterated or fluorinated thing of alkoxysilane or chlorosilane is preferable.
ケイ素含有重合体前駆体(1)を合成するために用いることができる反応基(A’)及びSi−H基の両方を既に有するアルコキシシラン又はクロロシランの例としては、ジメトキシビニルシラン、ジエトキシビニルシラン、メチルメトキシビニルシラン、フェニルメトキシビニルシラン、メチルエトキシビニルシラン、フェニルエトキシビニルシラン、ジメトキシアリルシラン、ジエトキシアリルシラン、メチルメトキシアリルシラン、フェニルメトキシアリルシラン、メチルエトキシアリルシラン、フェニルエトキシアリルシラン、及びこれらのアルコキシシランのアルコキシ基の一部又は全部をクロロ基に置換したクロロシラン等が挙げられ、加えてアルコキシシランのアルコキシ基もしくはクロロシランのクロロ基が加水分解されてシラノール基となっているものも挙げられる。更には、これらのアルコキシシラン及びクロロシランの持つ水素原子の全部又は一部が重水素に置換されている重水素化物、あるいはフッ素原子に置換されているフッ素化物等も挙げられる。これらのアルコキシシラン及びクロロシランは、一種又は二種以上を用いることが出来る。特に耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性、ハンドリング性等の点から、メチルメトキシビニルシラン、フェニルメトキシビニルシラン、ジメトキシビニルシラン、これらのアルコキシ基をクロロ基に置換したシラン化合物が好ましい。 Examples of alkoxysilanes or chlorosilanes that already have both reactive groups (A ′) and Si—H groups that can be used to synthesize the silicon-containing polymer precursor (1) include dimethoxyvinylsilane, diethoxyvinylsilane, Methyl methoxy vinyl silane, phenyl methoxy vinyl silane, methyl ethoxy vinyl silane, phenyl ethoxy vinyl silane, dimethoxy allyl silane, diethoxy allyl silane, methyl methoxy allyl silane, phenyl methoxy allyl silane, methyl ethoxy allyl silane, phenyl ethoxy allyl silane, and some alkoxy groups of these alkoxy silanes Or, chlorosilane or the like in which all are substituted with chloro groups, and in addition, the alkoxy group of alkoxysilane or the chloro group of chlorosilane is hydrolyzed. Also include those that are a silanol group. Furthermore, deuterated compounds in which all or part of the hydrogen atoms of these alkoxysilanes and chlorosilanes are substituted with deuterium, or fluorinated compounds in which fluorine atoms are substituted are also included. These alkoxysilanes and chlorosilanes can be used alone or in combination of two or more. In particular, from the viewpoints of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability, handling properties, and the like, methylmethoxyvinylsilane, phenylmethoxyvinylsilane, dimethoxyvinylsilane, and silane compounds in which these alkoxy groups are substituted with chloro groups are preferable.
ケイ素含有重合体前駆体(1)を得るために使用される前記アルコキシシラン及び/又はクロロシランは、二種類以上を使用してもよい。また、前記アルコキシシラン及び/又はクロロシランとしては、所望によりそれらを他の元素のアルコラートや錯体で処理したものを用いることもでき、処理をしたもののみを用いてあるいは処理をしていないものと併用して、加水分解・縮合反応を行い、ケイ素含有重合体(C)にケイ素以外の元素、例えばホウ素、マグネシウム、アルミニウム、リン、チタン、鉄、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、スズ、テルル、タンタル等を組み入れることも可能である。 Two or more kinds of the alkoxysilane and / or chlorosilane used for obtaining the silicon-containing polymer precursor (1) may be used. Moreover, as said alkoxysilane and / or chlorosilane, what was processed with the alcoholate and complex of other elements as needed can also be used, and it uses together only with what was processed, or what has not been processed. Then, a hydrolysis / condensation reaction is performed, and an element other than silicon, for example, boron, magnesium, aluminum, phosphorus, titanium, iron, zinc, zirconium, niobium, tin, tellurium, tantalum, etc. is added to the silicon-containing polymer (C). It can also be incorporated.
以下に、(C)成分に用いるケイ素含有重合体前駆体(2)について説明する。
ケイ素含有重合体前駆体(2)は、その末端に反応基(2’)を有した線状ポリシロキサンである。反応基(2’)は、ケイ素含有重合体前駆体(1)の反応基(1’)と反応して共有結合を形成できる反応基であればよい。この反応基(2’)の例としては、Si−OH基、Si−R3 −OH基、Si−O−R4 基、Si−X基[式中、R3 は炭素数1〜9のアルキレン基又はフェニレン基であり、R4 は炭素数1〜5のアルキル基であり、Xはハロゲン原子である]が挙げられる。
The silicon-containing polymer precursor (2) used for the component (C) will be described below.
The silicon-containing polymer precursor (2) is a linear polysiloxane having a reactive group (2 ′) at its terminal. The reactive group (2 ′) may be any reactive group that can react with the reactive group (1 ′) of the silicon-containing polymer precursor (1) to form a covalent bond. Examples of the reactive group (2 ′) include a Si—OH group, a Si—R 3 —OH group, a Si—O—R 4 group, a Si—X group [wherein R 3 has 1 to 9 carbon atoms. An alkylene group or a phenylene group, R 4 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and X is a halogen atom].
ケイ素含有重合前駆体(2)は、線状ポリシロキサンであり、ジアルキルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、アルキルフェニルジクロロシラン、ジアルキルジアルコキシシラン、ジフェニルジアルコキシシラン、アルキルフェニルジアルコキシシラン等の、アルコキシ基又はクロロ基を二つ有する二官能基性の加水分解性のアルコキシシラン又はクロロシランの加水分解・縮合反応によって得ることができる。 The silicon-containing polymerization precursor (2) is a linear polysiloxane, and alkoxy groups such as dialkyldichlorosilane, diphenyldichlorosilane, alkylphenyldichlorosilane, dialkyldialkoxysilane, diphenyl dialkoxysilane, and alkylphenyl dialkoxysilane. Alternatively, it can be obtained by hydrolysis / condensation reaction of bifunctional hydrolyzable alkoxysilane having two chloro groups or chlorosilane.
ケイ素含有重合前駆体(2)に用いることができる上記の二官能基性のアルコキシシラン又はクロロシランとしては、具体的には、ジメチルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、メチルフェニルジクロロシランが好ましく利用でき、さらに、1,4−ビス(ジメチルクロロシリル)ベンゼンのように、ベンゼン環の両末端(パラ位同士)にクロロシランを有する有機シランも利用することが出来る。また、これらのアルコキシシラン、クロロシラン、有機シランの持つ水素原子の全部又は一部が重水素に置換されている重水素化物、あるいはフッ素原子に置換されているフッ素化物等も用いることができる。ケイ素含有重合前駆体(2)には、これらの一種又は二種以上を用いることができる。また、本発明のケイ素含有硬化性組成物を光学材料等に使用する場合は、これらの重水素化物あるいはフッ素化物が好ましい。 Specific examples of the bifunctional alkoxysilane or chlorosilane that can be used for the silicon-containing polymerization precursor (2) include dimethyldichlorosilane, diphenyldichlorosilane, and methylphenyldichlorosilane. Organic silanes having chlorosilanes at both ends (para positions) of the benzene ring, such as 1,4-bis (dimethylchlorosilyl) benzene, can also be used. In addition, deuterated compounds in which all or a part of hydrogen atoms of these alkoxysilanes, chlorosilanes, and organosilanes are substituted with deuterium, or fluorinated compounds in which fluorine atoms are substituted can be used. One or two or more of these can be used for the silicon-containing polymerization precursor (2). Moreover, when using the silicon-containing curable composition of this invention for an optical material etc., these deuterides or fluorinated compounds are preferable.
ケイ素含有重合前駆体(2)は、分子量100〜100万程度が好ましく、1000〜10万がさらに好ましい。また、ケイ素含有重合前駆体(2)は、耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、ジアルキルジクロロシラン及びジフェニルジクロロシランから選択される二種類以上を混合して用いて得られたものが好ましい。 The silicon-containing polymerization precursor (2) preferably has a molecular weight of about 100 to 1,000,000, more preferably 1,000 to 100,000. In addition, the silicon-containing polymerization precursor (2) is a mixture of two or more selected from dialkyldichlorosilane and diphenyldichlorosilane from the viewpoints of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability and handling properties. What was obtained by using as a thing is preferable.
以下に、ケイ素含有重合体前駆体(1)及びケイ素含有重合体前駆体(2)の製造方法について詳述する。
(C)成分に用いられるケイ素含有重合体前駆体(1)及び(2)それぞれを得るためのアルコキシシラン及び/又はクロロシランの加水分解・縮合反応は、(A)成分に用いられるケイ素含有重合体前駆体(1)及び(2)それぞれを得るためのアルコキシシラン及び/又はクロロシランの加水分解・縮合反応と同様のいわゆるゾル・ゲル反応により行えばよい。この反応を進行させるためには、前記のように、適量の水を加えることが好ましい。また、前記の加水分解・縮合反応促進用の種々の触媒を使用してもよい。例えば、加水分解・縮合反応を促進する酸触媒を加えて、酸性下(pH7未満)で反応を進ませた後、加水分解・縮合反応を促進する塩基触媒を加えて、中性ないし塩基性下で反応を行う方法が好ましい。この加水分解・縮合反応の順序も、前記同様、特に限定されない。
Below, the manufacturing method of a silicon containing polymer precursor (1) and a silicon containing polymer precursor (2) is explained in full detail.
Hydrolysis / condensation reaction of alkoxysilane and / or chlorosilane to obtain silicon-containing polymer precursors (1) and (2) used in component (C) is a silicon-containing polymer used in component (A). What is necessary is just to perform by the so-called sol-gel reaction similar to the hydrolysis / condensation reaction of alkoxysilane and / or chlorosilane to obtain the precursors (1) and (2), respectively. In order to advance this reaction, it is preferable to add an appropriate amount of water as described above. In addition, various catalysts for promoting the hydrolysis / condensation reaction may be used. For example, an acid catalyst that promotes hydrolysis / condensation reaction is added and the reaction is allowed to proceed under acidic conditions (less than pH 7), and then a base catalyst that promotes hydrolysis / condensation reaction is added to neutral or basic reaction. A method in which the reaction is carried out is preferred. The order of the hydrolysis / condensation reaction is not particularly limited as described above.
以下に、ケイ素含有重合体前駆体(1)及びケイ素含有重合体前駆体(2)を用いてケイ素含有重合体(C)を製造する方法について説明する。
(C)成分のケイ素含有重合体は、反応基(A’)及びSi−H基を有さないケイ素含有重合体前駆体(1)の反応基(1’)並びに反応基(A’)及びSi−H基を有さないケイ素含有重合体前駆体(2)の反応基(2’)の間で縮合反応を行い、共有結合を形成させることによって、反応基(A’)及びSi−H基を有さないケイ素含有重合体前駆体(3)を得た後、該ケイ素含有重合体前駆体(3)にSi−H基及び反応基(A’)を導入して得ることができる。
また、(C)成分のケイ素含有重合体は、ケイ素含有重合体前駆体(1)及び/又は(2)に、反応基(A’)又はSi−H基のいずれかを導入した後、ケイ素含有重合体前駆体(1)及び(2)の縮合反応を行い、共有結合を形成させることによって、反応基(A’)及びSi−H基の一方のみを有するケイ素含有重合体前駆体(3)を得た後、該ケイ素含有重合体前駆体(3)に、まだ導入されていないSi−H基又は反応基(A’)のいずれかを導入して得ることもできる。
また、(C)成分のケイ素含有重合体は、反応基(A’)及びSi−H基を有するケイ素含有重合体前駆体(1)の反応基(1’)並びに反応基(A’)及びSi−H基を有するケイ素含有重合体前駆体(2)の反応基(2’)の間で縮合反応を行い、共有結合を形成させることによっても得ることができる。また、反応基(A’)又はSi−H基の一方のみを有するケイ素含有重合体前駆体(1)の反応基(1’)、並びにケイ素含有重合体前駆体(1)が有していない反応基(A’)又はSi−H基を有するケイ素含有重合体前駆体(2)の反応基(2’)の間で縮合反応を行い、共有結合を形成させることによっても得ることができる。
もちろん、反応基(A’)及びSi−H基を有しているケイ素含有重合体(C)に、更に反応基(A’)及び/又はSi−H基を導入してもよい。
このように、反応基(A’)及びSi−H基導入反応の形式や時期は特に限定されない。例えば、反応基(A’)は、ケイ素含有重合体前駆体中のSi−OH基に対して、ジメチルビニルクロロシラン、ジフェニルクロロシラン等の反応基(A’)を有する一塩素置換(モノクロロ)シランを反応させることにより導入することができ、Si−H基は、ケイ素含有重合体前駆体中のSi−OH基に対して、ジメチルクロロシラン、ジフェニルクロロシラン等のSi−H基を有する一塩素置換(モノクロロ)シランを反応させることにより導入することができる。これらの反応は、ケイ素含有重合体(A)及び(B)についての説明において述べた条件(反応温度、反応時間)で行うことができる。
Hereinafter, a method for producing a silicon-containing polymer (C) using the silicon-containing polymer precursor (1) and the silicon-containing polymer precursor (2) will be described.
The silicon-containing polymer of component (C) includes a reactive group (A ′) and a reactive group (1 ′) and reactive group (A ′) of the silicon-containing polymer precursor (1) having no Si—H group. By performing a condensation reaction between the reactive groups (2 ′) of the silicon-containing polymer precursor (2) having no Si—H group to form a covalent bond, the reactive group (A ′) and the Si—H are formed. After obtaining a silicon-containing polymer precursor (3) having no group, it can be obtained by introducing a Si—H group and a reactive group (A ′) into the silicon-containing polymer precursor (3).
In addition, the silicon-containing polymer of component (C) is obtained by introducing either reactive group (A ′) or Si—H group into silicon-containing polymer precursor (1) and / or (2), The silicon-containing polymer precursor (3) having only one of the reactive group (A ′) and the Si—H group by performing a condensation reaction of the containing polymer precursors (1) and (2) to form a covalent bond. ), And then the silicon-containing polymer precursor (3) can be obtained by introducing either a Si—H group or a reactive group (A ′) that has not yet been introduced.
Further, the silicon-containing polymer of component (C) includes the reactive group (1 ′) and the reactive group (A ′) of the silicon-containing polymer precursor (1) having a reactive group (A ′) and an Si—H group. It can also be obtained by performing a condensation reaction between the reactive groups (2 ′) of the silicon-containing polymer precursor (2) having a Si—H group to form a covalent bond. Further, the reactive group (1 ′) of the silicon-containing polymer precursor (1) having only one of the reactive group (A ′) or the Si—H group, and the silicon-containing polymer precursor (1) do not have. It can also be obtained by performing a condensation reaction between reactive groups (2 ′) of the silicon-containing polymer precursor (2) having a reactive group (A ′) or Si—H group to form a covalent bond.
Of course, a reactive group (A ′) and / or a Si—H group may be further introduced into the silicon-containing polymer (C) having a reactive group (A ′) and a Si—H group.
Thus, the type and timing of the reactive group (A ′) and Si—H group introduction reaction are not particularly limited. For example, the reactive group (A ′) is a monochlorinated (monochloro) silane having a reactive group (A ′) such as dimethylvinylchlorosilane or diphenylchlorosilane with respect to the Si—OH group in the silicon-containing polymer precursor. The Si—H group can be introduced by reaction, and the Si—H group in the silicon-containing polymer precursor is substituted with a monochlorine (monochloro group) having a Si—H group such as dimethylchlorosilane or diphenylchlorosilane. ) It can be introduced by reacting silane. These reactions can be performed under the conditions (reaction temperature, reaction time) described in the description of the silicon-containing polymers (A) and (B).
また、ケイ素含有重合体前駆体(1)及び(2)の反応比は、耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、モル比で、1:99〜99:1が好ましい。また、ケイ素含有重合体前駆体(1)及び(2)の縮合反応において、反応温度は0〜150℃が好ましく、反応時間は0.1〜4時間が好ましい。 In addition, the reaction ratio of the silicon-containing polymer precursors (1) and (2) is from 1:99 to a molar ratio in terms of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability, and handling properties. 99: 1 is preferred. In the condensation reaction of the silicon-containing polymer precursors (1) and (2), the reaction temperature is preferably 0 to 150 ° C., and the reaction time is preferably 0.1 to 4 hours.
本発明で用いられるケイ素含有重合体(C)の重量平均分子量は、ポリスチレン換算で100〜100万であり、好ましくは1000〜10万である。100より小さいと、望ましい物性が得られず、100万より大きいと、ナノメートルオーダー及び分子レベルでの複合化ができず、生成する硬化物が不均一になったり、不透明になったりして、充分に良好な物性が得られない。 The weight average molecular weight of the silicon-containing polymer (C) used in the present invention is from 1,000 to 1,000,000, preferably from 1,000 to 100,000, in terms of polystyrene. If it is less than 100, desirable physical properties cannot be obtained, and if it is greater than 1 million, it cannot be combined at the nanometer order and molecular level, and the resulting cured product becomes non-uniform or opaque. Sufficiently good physical properties cannot be obtained.
(C)成分のケイ素含有重合体が有する反応基(A’)の濃度は、硬化性及び保存安定性の点から、0.0001〜100mmol/gが好ましく、更には0.001〜10mmol/gが好ましい。また、(C)成分のケイ素含有重合体が有する反応基Si−H基の濃度は、硬化性及び保存安定性の点から、0.0001〜100mmol/gが好ましく、更には0.001〜10mmol/gが好ましい。 The concentration of the reactive group (A ′) of the silicon-containing polymer (C) is preferably 0.0001 to 100 mmol / g, more preferably 0.001 to 10 mmol / g, from the viewpoint of curability and storage stability. Is preferred. The concentration of the reactive group Si-H group contained in the silicon-containing polymer of component (C) is preferably 0.0001 to 100 mmol / g, more preferably 0.001 to 10 mmol, from the viewpoint of curability and storage stability. / G is preferred.
また、(C)成分のケイ素含有重合体中の反応基(A’)の数は、硬化性及び保存安定性の点から、ケイ素含有重合体(C)1分子当たり平均1個以上であり、ケイ素含有重合体(C)中のケイ素原子1個当たりでは1個以下が好ましい。また、(C)成分のケイ素含有重合体中の反応基Si−H基の数は、ケイ素含有重合体1分子当たり平均1個以上であり、ケイ素含有重合体(C)中のケイ素原子1個当たりでは1個以下が好ましい。 In addition, the number of reactive groups (A ′) in the silicon-containing polymer of component (C) is one or more on average per molecule of silicon-containing polymer (C) from the viewpoint of curability and storage stability. One or less is preferable per one silicon atom in the silicon-containing polymer (C). In addition, the number of reactive group Si—H groups in the silicon-containing polymer of component (C) is one or more on average per molecule of silicon-containing polymer, and one silicon atom in silicon-containing polymer (C). The number is preferably 1 or less.
また、(C)成分に用いられるケイ素含有重合体前駆体(1)及び(2)は、Si−OH基を有している場合、該Si−OH基をアルキルクロロシランと反応させることによってSi−OH基の数を調整し、保存安定性等を改善することが出来る。該アルキルクロロシランとしては、トリメチルクロロシランをはじめとする一塩素置換(モノクロロ)シランを用いることができる。また、加水分解性エステル化合物で処理することでも、Si−OH基の数を調整することができる。該加水分解性エステル化合物としては、オルト蟻酸エステル、オルト酢酸エステル、テトラアルコキシメタン、炭酸エステル等を用いることができる。 Further, when the silicon-containing polymer precursors (1) and (2) used for the component (C) have Si—OH groups, the Si—OH groups are reacted with alkylchlorosilanes to react with Si— Storage stability and the like can be improved by adjusting the number of OH groups. As the alkylchlorosilane, monochlorinated (monochloro) silane such as trimethylchlorosilane can be used. Moreover, the number of Si-OH groups can be adjusted also by processing with a hydrolysable ester compound. As the hydrolyzable ester compound, orthoformate ester, orthoacetate ester, tetraalkoxymethane, carbonate ester and the like can be used.
本発明のケイ素含有硬化性組成物中の(C)成分は、(A)成分及び(B)成分の両者を含有する場合は含有されていなくてもよいが、その含有量は、(C)成分中の反応基(A’)及び官能基Si−H基の数や、(A)成分及び/又は(B)成分を含有する場合は、それらの有する反応基(A’)及び/又は官能基Si−H基の数等を考慮して適宜選択すればよい。(A)成分及び(B)成分の両者を含有しない場合は、(C)成分の好ましい含有量は、後述する(D)成分の好ましい含有量及び(E)成分の好ましい含有量を除いた量である。(A)成分及び/又は(B)成分を含有する場合は、(C)成分の含有量は、ケイ素含有重合体における反応基(A’)及びSi−H基の比(前者:後者、モル基準)が、20:80〜80:20、特に40:60〜60:40となる範囲から選択することが好ましく、その場合、(C)成分の含有量は好ましくは0〜99重量%の範囲から上記モル比を満たすように選択する。 The component (C) in the silicon-containing curable composition of the present invention may not be contained when both the component (A) and the component (B) are contained, but the content thereof is (C) The number of reactive groups (A ′) and functional groups Si—H groups in the component, and when they contain the component (A) and / or the component (B), those reactive groups (A ′) and / or functional groups What is necessary is just to select suitably considering the number of group Si-H groups. When both (A) component and (B) component are not contained, the preferable content of (C) component is the amount excluding the preferable content of (D) component and the preferable content of (E) component described later. It is. When the component (A) and / or the component (B) is contained, the content of the component (C) is the ratio of the reactive group (A ′) and the Si—H group in the silicon-containing polymer (the former: the latter, the mole). Is selected from the range of 20:80 to 80:20, particularly 40:60 to 60:40, in which case the content of component (C) is preferably in the range of 0 to 99% by weight. Is selected so as to satisfy the above molar ratio.
また、本発明のケイ素含有硬化性組成物において、ケイ素含有重合体の合計含有量は、その好ましい上限が、後述する(D)成分の好ましい含有量及び(E)成分の好ましい含有量を除いた量であり、その好ましい下限が5重量%である。 Moreover, in the silicon-containing curable composition of the present invention, the total content of the silicon-containing polymer has a preferable upper limit excluding a preferable content of the component (D) and a preferable content of the component (E) described later. The preferred lower limit is 5% by weight.
次に、本発明の必須の構成成分である(D)成分の白金系触媒について説明する。
(D)成分の白金系触媒は、硬化反応触媒である。(D)成分の白金系触媒は、白金、パラジウム及びロジウムの一種以上の金属を含有し、ヒドロシリル化反応を促進する触媒であり、公知のものを用いることができる。ヒドロシリル化反応用の触媒として用いられる該白金系触媒としては、白金−カルボニルビニルメチル錯体、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、白金−シクロビニルメチルシロキサン錯体、白金−オクチルアルデヒド錯体等が挙げられるほか、これらの触媒における白金を、同じく白金系金属であるパラジウム又はロジウムに代えた化合物が挙げられ、これらは一種で用いてもよく又は二種以上を併用してもよい。硬化性の点から、白金を含有するものが好ましく、具体的には、白金−カルボニルビニルメチル錯体が特に好ましい。また、クロロトリストリフェニルホスフィンロジウム(I) 等の、上記白金系金属を含有するいわゆるWilkinson触媒も、(D)成分の白金系触媒に含まれる。
Next, the platinum catalyst of component (D), which is an essential component of the present invention, will be described.
The (D) component platinum-based catalyst is a curing reaction catalyst. The platinum-based catalyst of component (D) is a catalyst that contains one or more metals of platinum, palladium, and rhodium and promotes the hydrosilylation reaction, and a known one can be used. Examples of the platinum catalyst used as a catalyst for hydrosilylation include platinum-carbonylvinylmethyl complex, platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex, platinum-cyclovinylmethylsiloxane complex, platinum-octylaldehyde complex, etc. The compounds in which platinum in these catalysts is replaced with palladium or rhodium, which are also platinum-based metals, may be used, and these may be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of curability, those containing platinum are preferred, and specifically, platinum-carbonylvinylmethyl complexes are particularly preferred. In addition, so-called Wilkinson catalysts containing the above platinum-based metals, such as chlorotristriphenylphosphine rhodium (I), are also included in the platinum catalyst of component (D).
本発明のケイ素含有硬化性組成物中の(D)成分の含有量は、硬化性及び保存安定性の点で、0.000001〜5重量%が好ましく、0.0001〜1.0重量%がより好ましい。5重量%より多いとケイ素含有硬化性組成物の安定性が乏しくなる傾向があり、0.000001重量%より少ないと熱を加えても硬化しない。 The content of the component (D) in the silicon-containing curable composition of the present invention is preferably 0.000001 to 5% by weight, and 0.0001 to 1.0% by weight in terms of curability and storage stability. More preferred. If the amount is more than 5% by weight, the stability of the silicon-containing curable composition tends to be poor, and if it is less than 0.000001% by weight, it does not cure even when heat is applied.
次に、本発明の必須の構成成分である(E)成分の鉄族含有錯体について説明する。
(E)成分の鉄族含有錯体は、耐熱性(5%重量減少温度)を向上させるものである。(E)成分の鉄族含有錯体は、鉄、ルテニウム及びオスミウムのいずれか一種以上を含有する錯体であれば特に限定されないが、その具体例としては、鉄(III) アセチルアセトネート、ヘミン誘導体、鉄(III) ジフェニルプロパンジオネート、鉄(III) アクリレート、鉄(III) メソ−テトラフェニルポルフィリンクロライド、鉄(III) トリフルオロペンタンジオネート、鉄カルボニル錯体、ルテニウムカルボニル錯体等が挙げられる。耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、鉄(III) アセチルアセトネートが好ましい。
Next, the iron group-containing complex of the component (E), which is an essential component of the present invention, will be described.
The iron group-containing complex (E) improves the heat resistance (5% weight loss temperature). The (E) component iron group-containing complex is not particularly limited as long as it is a complex containing at least one of iron, ruthenium, and osmium. Specific examples thereof include iron (III) acetylacetonate, hemin derivatives, Examples thereof include iron (III) diphenylpropane dionate, iron (III) acrylate, iron (III) meso-tetraphenylporphyrin chloride, iron (III) trifluoropentanedionate, iron carbonyl complex, ruthenium carbonyl complex and the like. Iron (III) acetylacetonate is preferred from the viewpoints of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability and handling properties.
本発明のケイ素含有硬化性組成物中の(E)成分の鉄族含有錯体の含有量は、耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、0.0001重量%〜20重量%が好ましく、0.001重量%〜1重量%がさらに好ましい。 The content of the iron group-containing complex of the component (E) in the silicon-containing curable composition of the present invention is 0.0001 in terms of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability, and handling properties. % By weight to 20% by weight is preferable, and 0.001% by weight to 1% by weight is more preferable.
また、(D)成分の白金系触媒と(E)成分の鉄族含有錯体との含有比は、耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点で、重量比(前者:後者)で1000:1〜1:1000が好ましく、100:1〜1:100がさらに好ましい。 In addition, the content ratio of the platinum catalyst of component (D) to the iron group-containing complex of component (E) is a weight ratio in terms of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability, and handling properties. (The former: the latter) is preferably 1000: 1 to 1: 1000, more preferably 100: 1 to 1: 100.
また、本発明のケイ素含有硬化性組成物には、任意成分として、(F)成分のフリーラジカルスカベンジャーを配合してもよい。該フリーラジカルスカベンジャーは、酸化防止剤、安定剤等の抗酸化性物質であればよく、その具体例としては、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ジブチルヒドロキシトルエン(BHT)、2,6−ジ−t−ブチル−パラクレゾール(DBPC)等が挙げられる。 Moreover, you may mix | blend the free radical scavenger of (F) component as an arbitrary component with the silicon-containing curable composition of this invention. The free radical scavenger may be any antioxidant substance such as an antioxidant or a stabilizer, and specific examples thereof include triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4- Hydroxyphenyl) propionate], dibutylhydroxytoluene (BHT), 2,6-di-t-butyl-paracresol (DBPC) and the like.
本発明のケイ素含有硬化組成物中の(F)成分のフリーラジカルスカベンジャーの含有量は、耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリング性の点から、0.1重量%〜50重量%が好ましく、1重量%〜30重量%がさらに好ましい。 The content of the free radical scavenger of the component (F) in the silicon-containing cured composition of the present invention is 0.1% by weight from the viewpoints of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability, and handling properties. -50% by weight is preferable, and 1% by weight to 30% by weight is more preferable.
また、本発明のケイ素含有硬化性組成物には、(A)〜(E)成分の他に、本発明の目的とする性能を損なわない範囲で、任意成分として、(F)成分以外にもその他の公知の各種樹脂、充填剤、添加剤等を配合することができる。また、(A)成分、(B)成分及び(C)成分のいずれか一種以上に、各種の有機官能基を結合させ、更なる機能付与をすることもできる。また、本発明のケイ素含有硬化性組成物又はその硬化物をマトリックスとし、この中に他の有用な化合物を分散させた高機能複合材料を作製することもできる。 In addition to the components (A) to (E), the silicon-containing curable composition of the present invention includes any components other than the component (F) as long as they do not impair the intended performance of the present invention. Other known various resins, fillers, additives and the like can be blended. Moreover, various organic functional groups can be bonded to any one or more of the component (A), the component (B), and the component (C) to further impart functions. In addition, a highly functional composite material in which the silicon-containing curable composition of the present invention or a cured product thereof is used as a matrix and other useful compounds are dispersed therein can also be produced.
任意に配合できる各種樹脂の例としては、ポリイミド樹脂、ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコール樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。
任意に配合できる充填剤の例としては、コロイダルシリカ、シリカフィラー、シリカゲル、マイカやモンモリロナイト等の鉱物、酸化アルミニウムや酸化亜鉛、二酸化ケイ素微粉末等の金属酸化物や金属酸化物微粉末、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、炭化ケイ素等のセラミックス等が挙げられ、これらを有機変性処理等により改質したものでもよい。
任意に配合できる添加剤の例としては、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、熱伝導性物質等が挙げられる。
Examples of various resins that can be arbitrarily blended include polyimide resins, polyalkylene glycol resins such as polyethylene glycol and polypropylene glycol, polyurethane resins, epoxy resins, phenol resins, polyester resins, melamine resins, and polyamide resins.
Examples of fillers that can be optionally blended include colloidal silica, silica filler, silica gel, minerals such as mica and montmorillonite, metal oxides such as aluminum oxide, zinc oxide, and silicon dioxide fine powder, silicon oxide fine powder, silicon nitride And ceramics such as aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, etc., which may be modified by organic modification treatment or the like.
Examples of the additive that can be optionally blended include an ultraviolet absorber, an antistatic agent, an antioxidant, a thermally conductive substance, and the like.
本発明のケイ素含有硬化性組成物は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分のうちの少なくとも一つのケイ素含有重合体(ただし(C)成分を含有しない場合は、(A)成分及び(B)成分の両方)、(D)成分の白金系触媒、及び(E)成分の鉄族含有錯体が混合されてなるもので、加熱することにより硬化させることができる。硬化させる方法は、それらの成分を使用直前に混合し、加熱により硬化させる方法、あらかじめ全部の成分を混合しておき、使用するときに加熱により硬化させる方法等、いずれでもよい。 The silicon-containing curable composition of the present invention comprises at least one silicon-containing polymer of the components (A), (B), and (C) (provided that (A) Both the component and the component (B)), the platinum catalyst of the component (D), and the iron group-containing complex of the component (E) are mixed and can be cured by heating. The curing method may be any of a method in which those components are mixed immediately before use and cured by heating, a method in which all components are mixed in advance and cured by heating when used.
硬化させる際の加熱温度は、0〜300℃が好ましく、硬化反応時間(加熱時間)は1〜6時間が好ましい。これら好適な硬化反応条件下で硬化反応を行なうことにより、本発
明のケイ素含有硬化性組成物から、一層優れた性能を有する硬化物を得ることができる。
The heating temperature for curing is preferably 0 to 300 ° C., and the curing reaction time (heating time) is preferably 1 to 6 hours. By performing a curing reaction under these suitable curing reaction conditions, a cured product having even better performance can be obtained from the silicon-containing curable composition of the present invention.
本発明のケイ素含有硬化性組成物を硬化させてなる硬化物は、耐熱性、耐クラック性、電気特性等の性能に特に優れている。
耐熱性については、硬化物の5重量%の重量減少をきたす温度が380℃以上、特に400℃以上であることが好ましいが、本発明のケイ素含有硬化性組成物からは、このような好ましい耐熱性を有する硬化物を得ることができる。
また、本発明のケイ素含有硬化性組成物からは、クラックの発生のない硬化物を得ることができる。
また、電気特性については、25℃にて2マイクロアンペアのリーク電流が30000ボルト以上でないと発生しないことが好ましく、300℃にて2マイクロアンペアのリーク電流が13000ボルト以上でないと発生しないことが好ましいが、本発明のケイ素含有硬化性組成物からは、このような優れた電気特性を有する硬化物を得ることができる。
A cured product obtained by curing the silicon-containing curable composition of the present invention is particularly excellent in performance such as heat resistance, crack resistance, and electrical characteristics.
Regarding the heat resistance, it is preferable that the temperature causing a weight loss of 5% by weight of the cured product is 380 ° C. or higher, particularly 400 ° C. or higher. However, from the silicon-containing curable composition of the present invention, A cured product having properties can be obtained.
Moreover, the hardened | cured material which does not generate | occur | produce a crack can be obtained from the silicon-containing curable composition of this invention.
As for electrical characteristics, it is preferable that the leakage current of 2 microamperes is not more than 30000 volts at 25 ° C., and it is preferable that the leakage current of 2 microamperes is not more than 13000 volts at 300 ° C. However, a cured product having such excellent electrical properties can be obtained from the silicon-containing curable composition of the present invention.
本発明のケイ素含有硬化性組成物は、白金系触媒である硬化反応触媒(D)及び鉄族含有錯体(E)の効果により、反応基(A’)及びSi−H基の反応による硬化反応が速やかに進行するため、得られた硬化物は優れた物性を有する。特に耐熱性、耐クラック性及び電気特性に優れるほか、耐溶剤性、耐アルカリ性、耐候性、硬度、耐汚染性、難燃性、耐湿性、ガスバリヤ性、可撓性、伸びや強度、電気絶縁性、低誘電率性等の、力学特性、光学特性、電気特性等にも優れた材料を得ることができる。 The silicon-containing curable composition of the present invention has a curing reaction due to the reaction of the reactive group (A ′) and the Si—H group due to the effects of the curing reaction catalyst (D) and the iron group-containing complex (E) which are platinum-based catalysts. Proceeds rapidly, and thus the obtained cured product has excellent physical properties. Excellent heat resistance, crack resistance and electrical properties, especially solvent resistance, alkali resistance, weather resistance, hardness, contamination resistance, flame resistance, moisture resistance, gas barrier properties, flexibility, elongation and strength, electrical insulation In addition, it is possible to obtain a material excellent in mechanical properties, optical properties, electrical properties and the like such as properties and low dielectric constant properties.
さらに、本発明のケイ素含有硬化性組成物は、均一で透明なため、紫外線等の光の透過性も良く、光反応性の触媒を添加することで、光硬化させることも可能である。光硬化させる場合には、もちろん光反応性のモノマーや樹脂を更に配合してもよいし、(A)成分、(B)成分及び(C)成分のいずれか一種以上が光反応性基を有していてもよい。 Furthermore, since the silicon-containing curable composition of the present invention is uniform and transparent, it has good light transmittance such as ultraviolet rays, and can be photocured by adding a photoreactive catalyst. When photocuring, of course, a photoreactive monomer or resin may be further blended, and at least one of the (A) component, the (B) component, and the (C) component has a photoreactive group. You may do it.
本発明のケイ素含有硬化性組成物は、保存安定性、透明性、ハンドリング性、硬化性等に優れ、その硬化物は、耐クラック性、耐熱性、耐溶剤性、耐アルカリ性、耐候性、光学特性、電気特性等の諸物性に優れており、本発明のケイ素含有硬化性組成物及びその硬化物は、その優れた性能を生かした材料として、電気電子材料、封止材、塗料、接着剤、フィルム、建材等の用途に好適に使用できる。 The silicon-containing curable composition of the present invention is excellent in storage stability, transparency, handling properties, curability, etc., and the cured product has crack resistance, heat resistance, solvent resistance, alkali resistance, weather resistance, optical properties, etc. The silicon-containing curable composition and the cured product of the present invention are excellent in various physical properties such as characteristics and electrical properties. It can be suitably used for applications such as films and building materials.
具体的には、電気・電子材料分野における表示材料・光材料・記録材料・半導体等の封止材料、高電圧絶縁材料、絶縁・防振・防水・防湿を目的としたポッティング・シーリング材、プラスチック部品の試作母型、コーティング材料、層間絶縁膜、絶縁用パッキング、熱収縮ゴムチューブ、O−リング、表示デバイス用シール剤・保護材、光導波路、光ファイバー保護材、光学レンズ、光学機器用接着剤、高耐熱性接着剤、高放熱性材料、高耐熱シール材、太陽電池・燃料電池用部材、電池用固体電解質、絶縁被覆材、複写機用感光ドラム、ガス分離膜に応用できる。また、土木・建材分野におけるコンクリート保護材、ライニング、土壌注入剤、シーリング剤、蓄冷熱材、ガラスコーティング等へ応用することもできる。さらに、医療用材料分野において、チューブ、シール材、コーティング材料、滅菌処理装置用シール材、コンタクトレンズ、酸素富化膜等に応用することも可能である。 Specifically, sealing materials such as display materials, optical materials, recording materials, and semiconductors in the field of electrical and electronic materials, high-voltage insulating materials, potting and sealing materials for the purpose of insulation, vibration proofing, waterproofing, and moisture proofing, plastics Prototype mold for parts, coating material, interlayer insulation film, insulation packing, heat shrink rubber tube, O-ring, sealant / protective material for display device, optical waveguide, optical fiber protective material, optical lens, adhesive for optical equipment It can be applied to high heat-resistant adhesives, high heat dissipation materials, high heat-resistant sealing materials, members for solar cells and fuel cells, solid electrolytes for batteries, insulating coating materials, photosensitive drums for copying machines, and gas separation membranes. It can also be applied to concrete protective materials, linings, soil injecting agents, sealing agents, cold storage materials, glass coatings, etc. in the civil engineering / building materials field. Furthermore, in the medical material field, the present invention can be applied to tubes, sealing materials, coating materials, sterilization device sealing materials, contact lenses, oxygen-enriched membranes, and the like.
以下、実施例等により本発明を更に説明するが、本発明はこれらの実施例等によって限定されるものではない。尚、以下の実施例等における「部」や「%」は、重量基準によるものである。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example etc. demonstrate this invention further, this invention is not limited by these Examples. Note that “parts” and “%” in the following examples and the like are based on weight.
[合成例1]
フェニルトリメトキシシラン75部及びメチルトリエトキシシラン25部を混合し、更に0.4%のリン酸水溶液86部を加えて、10〜15℃に保って3時間攪拌した。この反応液にエタノール80部を加え、水酸化ナトリウム水溶液でこの反応液を中和した後、60℃にて30分間攪拌した。反応後、900部のトルエンを加えながらエタノール及び水を留去することで(共沸)、ケイ素含有重合体前駆体(1)を得た。GPCによる分析の結果、得られたケイ素含有重合体前駆体(1)の重量平均分子量(Mw)は5,000であった。
[Synthesis Example 1]
75 parts of phenyltrimethoxysilane and 25 parts of methyltriethoxysilane were mixed, and further 86 parts of 0.4% phosphoric acid aqueous solution was added, and the mixture was kept at 10 to 15 ° C. and stirred for 3 hours. 80 parts of ethanol was added to the reaction solution, and the reaction solution was neutralized with an aqueous sodium hydroxide solution, and then stirred at 60 ° C. for 30 minutes. After the reaction, ethanol and water were distilled off while adding 900 parts of toluene (azeotropic) to obtain a silicon-containing polymer precursor (1). As a result of analysis by GPC, the obtained silicon-containing polymer precursor (1) had a weight average molecular weight (Mw) of 5,000.
[合成例2]
ジクロロジメチルシラン90部及びジクロロジフェニルシラン9部を混合し、100部のイオン交換水中に滴下した。この反応液から水層を取り除いた後、なお残存している溶媒(水)を留去しながら250℃にて2時間重合させた。得られた反応液にピリジンを20部加え、これに更にジクロロジメチルシラン20部を加えて30分間攪拌した。その後、得られた溶液を250℃にて加熱しながら減圧して、低分子量成分及びピリジン塩酸塩を除き、ケイ素含有重合体前駆体(2)を得た。GPCによる分析の結果、このケイ素含有重合体前駆体(2)の分子量(Mw)は、50,000であった。
[Synthesis Example 2]
90 parts of dichlorodimethylsilane and 9 parts of dichlorodiphenylsilane were mixed and dropped into 100 parts of ion exchange water. After removing the aqueous layer from the reaction solution, polymerization was carried out at 250 ° C. for 2 hours while distilling off the remaining solvent (water). 20 parts of pyridine was added to the obtained reaction solution, and 20 parts of dichlorodimethylsilane was further added thereto, followed by stirring for 30 minutes. Thereafter, the resulting solution was depressurized while being heated at 250 ° C. to remove the low molecular weight component and pyridine hydrochloride to obtain a silicon-containing polymer precursor (2). As a result of analysis by GPC, the molecular weight (Mw) of this silicon-containing polymer precursor (2) was 50,000.
[合成例3]
トルエンを溶媒として、合成例1で得られたケイ素含有重合体前駆体(1)を5部、ピリジンを10部、トリメチルクロロシランを1.5部加えて、室温にて30分間攪拌した。この溶液に、合成例2で得られたケイ素含有重合体前駆体(2)100部を加え、更に攪拌しながら4時間共重合を行い、イオン交換水を加えてこの共重合反応を止めた。水洗によってピリジン塩酸塩等を除き、ケイ素含有重合体前駆体(3)を得た。GPCによる分析の結果、分子量 (Mw)は92,000であった。
[Synthesis Example 3]
Using toluene as a solvent, 5 parts of the silicon-containing polymer precursor (1) obtained in Synthesis Example 1, 10 parts of pyridine, and 1.5 parts of trimethylchlorosilane were added and stirred at room temperature for 30 minutes. To this solution, 100 parts of the silicon-containing polymer precursor (2) obtained in Synthesis Example 2 was added, copolymerization was further performed for 4 hours with stirring, and ion exchange water was added to stop the copolymerization reaction. The silicon-containing polymer precursor (3) was obtained by removing pyridine hydrochloride and the like by washing with water. As a result of analysis by GPC, the molecular weight (Mw) was 92,000.
[合成例4]
トルエンを溶媒として、合成例3で得られたケイ素含有重合体前駆体(3)50部及びピリジン5部を加え、均一に混合した後、この混合物を半分に分割した。
上記混合物の一方に、ジメチルビニルクロロシラン5部を加え、室温にて30分間、さらに70℃にて30分間攪拌した後、イオン交換水で水洗することでピリジン塩酸塩を除き、ケイ素含有重合体(A)を得た。得られたケイ素含有重合体(A)は、Si−CH=CH2 基を有し、Si−O−Si結合による橋かけ構造を一箇所以上有し、分子量(Mw)が93,000であった。
また、上記混合物の他方に、ジメチルクロロシラン5部を加え、室温にて30分間、さらに70℃にて30分間攪拌した後、イオン交換水で水洗することでピリジン塩酸塩を除き、ケイ素含有重合体(B)を得た。得られたケイ素含有重合体(B)は、Si−H基を有し、Si−O−Si結合による橋かけ構造を一箇所以上有し、分子量(Mw)が93,000であった。
[Synthesis Example 4]
Using toluene as a solvent, 50 parts of the silicon-containing polymer precursor (3) obtained in Synthesis Example 3 and 5 parts of pyridine were added and mixed uniformly, and then the mixture was divided in half.
One part of the above mixture was added with 5 parts of dimethylvinylchlorosilane, stirred for 30 minutes at room temperature and further for 30 minutes at 70 ° C., and then washed with ion-exchanged water to remove pyridine hydrochloride, and a silicon-containing polymer ( A) was obtained. The obtained silicon-containing polymer (A) had a Si—CH═CH 2 group, had one or more bridged structures by Si—O—Si bonds, and had a molecular weight (Mw) of 93,000. It was.
In addition, 5 parts of dimethylchlorosilane was added to the other of the above mixture, and after stirring at room temperature for 30 minutes and further at 70 ° C. for 30 minutes, pyridine hydrochloride was removed by washing with ion-exchanged water to remove the silicon-containing polymer. (B) was obtained. The obtained silicon-containing polymer (B) had an Si—H group, had one or more bridged structures by Si—O—Si bonds, and had a molecular weight (Mw) of 93,000.
[合成例5]
トルエンを溶媒として、合成例3で得られたケイ素含有重合体前駆体(3)50部及びピリジン5部を加え、さらにジメチルクロロシラン5部及びジメチルビニルクロロシラン5部を加え、室温にて30分間、さらに70℃にて30分間攪拌した後、イオン交換水で水洗することでピリジン塩酸塩を除き、ケイ素含有重合体(C)を得た。得られたケイ素含有重合体(C)は、Si−CH=CH2 基及びSi−H基を有し、Si−O−Si結合による橋かけ構造を一箇所以上有し、分子量(Mw)が93,000であった。
[Synthesis Example 5]
Using toluene as a solvent, 50 parts of the silicon-containing polymer precursor (3) obtained in Synthesis Example 3 and 5 parts of pyridine were added, 5 parts of dimethylchlorosilane and 5 parts of dimethylvinylchlorosilane were further added, and 30 minutes at room temperature. Furthermore, after stirring for 30 minutes at 70 ° C., pyridine hydrochloride was removed by washing with ion-exchanged water to obtain a silicon-containing polymer (C). The obtained silicon-containing polymer (C) has a Si—CH═CH 2 group and a Si—H group, has one or more cross-linked structures by Si—O—Si bonds, and has a molecular weight (Mw). 93,000.
[実施例1]
合成例で得られたケイ素含有重合体(A)50部とケイ素含有重合体(B)50部とを混合したものに、硬化反応触媒(D)として白金−カルボニルビニルメチル錯体0.005部、及び鉄族含有錯体(E)として鉄(III) アセチルアセトネート0.002部を混合して、ケイ素含有硬化性組成物−1を得た。これを250℃にて3時間硬化反応させ、硬化物−1を得た。
[Example 1]
To a mixture of 50 parts of the silicon-containing polymer (A) obtained in the synthesis example and 50 parts of the silicon-containing polymer (B), 0.005 part of a platinum-carbonylvinylmethyl complex as a curing reaction catalyst (D), And 0.002 part of iron (III) acetylacetonate was mixed as an iron group containing complex (E), and silicon-containing curable composition-1 was obtained. This was subjected to a curing reaction at 250 ° C. for 3 hours to obtain a cured product-1.
[実施例2]
合成例で得られたケイ素含有重合体(A)50部とケイ素含有重合体(B)50部とを混合したものに、硬化反応触媒(D)として白金−カルボニルビニルメチル錯体0.005部、及び鉄族含有錯体(E)として鉄(III) アセチルアセトネート0.01部を混合して、ケイ素含有硬化性組成物−2を得た。これを250℃にて3時間硬化反応させ、硬化物−2を得た。
[Example 2]
To a mixture of 50 parts of the silicon-containing polymer (A) obtained in Synthesis Example and 50 parts of the silicon-containing polymer (B), 0.005 part of a platinum-carbonylvinylmethyl complex as a curing reaction catalyst (D), And 0.01 part of iron (III) acetylacetonate was mixed as an iron group containing complex (E), and silicon-containing curable composition-2 was obtained. This was subjected to a curing reaction at 250 ° C. for 3 hours to obtain a cured product-2.
[実施例3]
合成例で得られたケイ素含有重合体(A)50部とケイ素含有重合体(B)50部とを混合したものに、硬化反応触媒(D)として白金−カルボニルビニルメチル錯体0.005部、及び鉄族含有錯体(E)として鉄(III) アセチルアセトネート0.05部を混合して、ケイ素含有硬化性組成物−3を得た。これを250℃にて3時間硬化反応させ、硬化物−3を得た。
[Example 3]
To a mixture of 50 parts of the silicon-containing polymer (A) obtained in the synthesis example and 50 parts of the silicon-containing polymer (B), 0.005 part of a platinum-carbonylvinylmethyl complex as a curing reaction catalyst (D), And 0.05 part of iron (III) acetylacetonate was mixed as an iron group containing complex (E), and the silicon containing curable composition-3 was obtained. This was subjected to a curing reaction at 250 ° C. for 3 hours to obtain a cured product-3.
[実施例4]
合成例で得られたケイ素含有重合体(A)50部とケイ素含有重合体(B)50部とを混合したものに、硬化反応触媒(D)として白金−カルボニルビニルメチル錯体0.005部、及び鉄族含有錯体(E)として鉄(III) アセチルアセトネート0.1部を混合して、ケイ素含有硬化性組成物−4を得た。これを250℃にて3時間硬化反応させ、硬化物−4を得た。
[Example 4]
To a mixture of 50 parts of the silicon-containing polymer (A) obtained in the synthesis example and 50 parts of the silicon-containing polymer (B), 0.005 part of a platinum-carbonylvinylmethyl complex as a curing reaction catalyst (D), And 0.1 part of iron (III) acetylacetonate was mixed as an iron group containing complex (E), and silicon-containing curable composition-4 was obtained. This was subjected to a curing reaction at 250 ° C. for 3 hours to obtain a cured product-4.
[実施例5]
合成例で得られたケイ素含有重合体(A)50部とケイ素含有重合体(B)50部とを混合したものに、硬化反応触媒(D)として白金−カルボニルビニルメチル錯体0.005部、及び鉄族含有錯体(E)として鉄(III) アセチルアセトネート0.25部を混合して、ケイ素含有硬化性組成物−5を得た。これを250℃にて3時間硬化反応させ、硬化物−5を得た。
[Example 5]
To a mixture of 50 parts of the silicon-containing polymer (A) obtained in the synthesis example and 50 parts of the silicon-containing polymer (B), 0.005 part of a platinum-carbonylvinylmethyl complex as a curing reaction catalyst (D), And 0.25 part of iron (III) acetylacetonate was mixed as an iron group containing complex (E), and silicon-containing curable composition-5 was obtained. This was subjected to a curing reaction at 250 ° C. for 3 hours to obtain a cured product-5.
[実施例6]
合成例で得られたケイ素含有重合体(A)50部とケイ素含有重合体(B)50部とを混合したものに、硬化反応触媒(D)としてクロロトリストリフェニルホスフィンロジウム(I)0.005部、及び鉄族含有錯体(E)として鉄(III) アセチルアセトネート0.05部を混合して、ケイ素含有硬化性組成物−6を得た。これを250℃にて3時間硬化反応させ、硬化物−6を得た。
[Example 6]
To a mixture of 50 parts of the silicon-containing polymer (A) obtained in the synthesis example and 50 parts of the silicon-containing polymer (B), chlorotristriphenylphosphine rhodium (I) 0. 005 parts and 0.05 part of iron (III) acetylacetonate as an iron group-containing complex (E) were mixed to obtain a silicon-containing curable composition-6. This was subjected to a curing reaction at 250 ° C. for 3 hours to obtain a cured product-6.
[実施例7]
合成例で得られたケイ素含有重合体(A)50部とケイ素含有重合体(B)50部とを混合したものに、硬化反応触媒(D)として白金−カルボニルビニルメチル錯体0.005部、及び鉄族含有錯体(E)としてルテニウムカルボニル錯体0.05部を混合して、ケイ素含有硬化性組成物−7を得た。これを250℃にて3時間硬化反応させ、硬化物−7を得た。
[Example 7]
To a mixture of 50 parts of the silicon-containing polymer (A) obtained in the synthesis example and 50 parts of the silicon-containing polymer (B), 0.005 part of a platinum-carbonylvinylmethyl complex as a curing reaction catalyst (D), And 0.05 part of ruthenium carbonyl complexes were mixed as an iron group containing complex (E), and silicon-containing curable composition-7 was obtained. This was subjected to a curing reaction at 250 ° C. for 3 hours to obtain a cured product-7.
[実施例8]
合成例で得られたケイ素含有重合体(C)100部に、硬化反応触媒(D)として白金−カルボニルビニルメチル錯体0.005部、及び鉄族含有錯体(E)として鉄(III) アセチルアセトネート0.05部を混合して、ケイ素含有硬化性組成物−8を得た。これを250℃にて3時間硬化反応させ、硬化物−8を得た。
[Example 8]
To 100 parts of the silicon-containing polymer (C) obtained in the synthesis example, 0.005 part of a platinum-carbonylvinylmethyl complex as a curing reaction catalyst (D) and iron (III) acetylacetate as an iron group-containing complex (E) 0.05 part of the acidate was mixed to obtain a silicon-containing curable composition-8. This was subjected to a curing reaction at 250 ° C. for 3 hours to obtain a cured product-8.
[比較例1]
合成例で得られたケイ素含有重合体(A)50部とケイ素含有重合体(B)50部とを混合したものに、硬化反応触媒(D)として白金−カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合し、250℃にて3時間硬化反応させ、得られた硬化物を比較硬化物−1とした。
[Comparative Example 1]
To a mixture of 50 parts of the silicon-containing polymer (A) obtained in the synthesis example and 50 parts of the silicon-containing polymer (B), 0.005 part of a platinum-carbonylvinylmethyl complex is used as a curing reaction catalyst (D). The mixture was mixed and subjected to a curing reaction at 250 ° C. for 3 hours, and the resulting cured product was designated as comparative cured product-1.
[比較例2]
合成例で得られたケイ素含有重合体(A)50部とケイ素含有重合体(B)50部とを混合したものに、硬化反応触媒(D)としてクロロトリストリフェニルホスフィンロジウム(I)0.005部を混合し、250℃にて3時間硬化反応させ、得られた硬化物を比較硬化物−2とした。
[Comparative Example 2]
To a mixture of 50 parts of the silicon-containing polymer (A) obtained in the synthesis example and 50 parts of the silicon-containing polymer (B), chlorotristriphenylphosphine rhodium (I) 0. 005 parts were mixed and cured at 250 ° C. for 3 hours, and the resulting cured product was designated as comparative cured product-2.
[比較例3]
合成例で得られたケイ素含有重合体(A)50部とケイ素含有重合体(B)50部とを混合したものに、硬化反応触媒(D)として白金−カルボニルビニルメチル錯体0.005部、及びニッケル(II)アセチルアセトネート0.01部を混合し、250℃にて3時間硬化反応させ、得られた硬化物を比較硬化物−3とした。
[Comparative Example 3]
To a mixture of 50 parts of the silicon-containing polymer (A) obtained in the synthesis example and 50 parts of the silicon-containing polymer (B), 0.005 part of a platinum-carbonylvinylmethyl complex as a curing reaction catalyst (D), Then, 0.01 part of nickel (II) acetylacetonate was mixed and cured at 250 ° C. for 3 hours, and the resulting cured product was designated as comparative cured product-3.
<耐熱性試験>
前記実施例1〜8及び比較例1〜3で得られた硬化物−1〜8及び比較硬化物−1〜3それぞれについて、耐熱性試験を行なった。また、市販品のシリコーンゴムから得た比較硬化物−4についても耐熱性試験を行なった。
耐熱性試験は、それぞれの硬化物を空気中で10℃/分の昇温速度で加熱していき、その重量が5%減少する温度を測定することにより行った。
この結果を表1に示す。表1の結果より、本発明のケイ素含有硬化性組成物から得られた硬化物は、(E)成分を用いずに硬化させた硬化物よりも、耐熱性が高いことがわかった。
<Heat resistance test>
A heat resistance test was performed for each of the cured products -1 to 8 and comparative cured products -1 to 3 obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3. Moreover, the heat resistance test was done also about the comparative hardened | cured material-4 obtained from the commercially available silicone rubber.
The heat resistance test was performed by heating each cured product in air at a heating rate of 10 ° C./min and measuring the temperature at which the weight was reduced by 5%.
The results are shown in Table 1. From the results of Table 1, it was found that the cured product obtained from the silicon-containing curable composition of the present invention had higher heat resistance than the cured product cured without using the component (E).
<電気特性(リーク電流)試験>
40mm角のアルミ板に、内径が20mm、高さが20mmのガラス製円筒管の一方を縦に密着固定し、ガラス製円筒管のほぼ半分までケイ素含有硬化性組成物を加えた後、銅線を内径3mmのセラミックス管に通したものを、ガラス製円筒管中縦方向に、アルミ板から銅線先端までの距離が2mmになるようにケイ素含有硬化性組成物中に浸し、次いで200℃にて6時間かけて硬化させて試験サンプルを得た。この硬化させた試験サンプルをオーブン内に入れ、銅線をプラス極に、アルミ板をマイナス極に設置して電圧をかけていき、25℃及び300℃それぞれの温度条件にて、リーク電流が2マイクロアンペアに達した時の電圧(V)を測定した。
試験は、前記実施例1〜3及び8それぞれで得られたケイ素含有硬化性組成物1〜3及び8について行った。また、市販品のシリコーンゴムについても、比較例4として試験を行った。
この結果を表2に示す。尚、表2中の「30000↑」は、30000ボルトを超えたことを示す。
<Electrical characteristics (leakage current) test>
After fixing one side of a glass cylindrical tube having an inner diameter of 20 mm and a height of 20 mm to a 40 mm square aluminum plate, and adding the silicon-containing curable composition to almost half of the glass cylindrical tube, a copper wire Is immersed in a silicon-containing curable composition so that the distance from the aluminum plate to the tip of the copper wire is 2 mm in the vertical direction in the glass cylindrical tube, and then at 200 ° C. And cured for 6 hours to obtain a test sample. The cured test sample is put in an oven, and a copper wire is placed on the positive electrode and an aluminum plate is placed on the negative electrode, and voltage is applied. At each temperature condition of 25 ° C. and 300 ° C., the leakage current is 2 The voltage (V) when the microampere was reached was measured.
The test was conducted on the silicon-containing curable compositions 1 to 3 and 8 obtained in Examples 1 to 3 and 8, respectively. Further, a commercially available silicone rubber was also tested as Comparative Example 4.
The results are shown in Table 2. In Table 2, “30000 ↑” indicates that it exceeded 30000 volts.
Claims (8)
(A)成分:Si−CH=CH2 、Si−R1 −CH=CH2 及びSi−R1 −OCOC(R2 )=CH2 [式中、R1 は炭素数1〜9のアルキレン基又はフェニレン基であり、R2 は水素又はメチル基である]からなる群から選ばれる反応基(A’)を一種又は二種以上有し、Si−O−Si結合による橋かけ構造を一箇所以上有し、分子量が100〜100万であるケイ素含有重合体(但し、さらにSi−H基を有するものは除く);
(B)成分:Si−H基を有し、Si−O−Si結合による橋かけ構造を一箇所以上有し、分子量が100〜100万であるケイ素含有重合体(但し、さらに上記反応基(A’)を有するものは除く);
(C)成分:上記反応基(A’)を一種又は二種以上有し、さらにSi−H基を有し、Si−O−Si結合による橋かけ構造を一箇所以上有し、分子量が100〜100万であるケイ素含有重合体;
(D)成分:白金系触媒である硬化反応触媒;
(E)成分:鉄族含有錯体 Contains at least one silicon-containing polymer among the following (A) component, (B) component, and (C) component (however, when (C) component is not included, both (A) component and (B) component) And a silicon-containing curable composition containing the following components (D) and (E).
Component (A): Si—CH═CH 2 , Si—R 1 —CH═CH 2 and Si—R 1 —OCOC (R 2 ) ═CH 2 [wherein R 1 is an alkylene group having 1 to 9 carbon atoms. Or a phenylene group, and R 2 is hydrogen or a methyl group], having one or more reactive groups (A ′) selected from the group consisting of one group and a cross-linked structure with a Si—O—Si bond. A silicon-containing polymer having a molecular weight of 1,000,000 to 1,000,000 (excluding those having a Si-H group);
Component (B): A silicon-containing polymer having Si—H groups, having one or more cross-linked structures by Si—O—Si bonds, and having a molecular weight of 1,000,000 to 1,000,000 (however, the above reactive groups ( Except those having A ′);
Component (C): One or more of the above reactive groups (A ′), a Si—H group, one or more cross-linked structures with Si—O—Si bonds, and a molecular weight of 100 A silicon-containing polymer of ~ 1 million;
(D) component: a curing reaction catalyst which is a platinum-based catalyst;
(E) Component: Iron group-containing complex
Hardened | cured material formed by thermosetting the silicon-containing curable composition of any one of Claims 1-7.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006061798A JP2006283012A (en) | 2005-03-08 | 2006-03-07 | Silicon-containing curable composition and thermally cured material therefrom |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005063737 | 2005-03-08 | ||
| JP2006061798A JP2006283012A (en) | 2005-03-08 | 2006-03-07 | Silicon-containing curable composition and thermally cured material therefrom |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006283012A true JP2006283012A (en) | 2006-10-19 |
Family
ID=37405244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006061798A Pending JP2006283012A (en) | 2005-03-08 | 2006-03-07 | Silicon-containing curable composition and thermally cured material therefrom |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2006283012A (en) |
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| RD01 | Notification of change of attorney |
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| A521 | Written amendment |
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|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090127 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110523 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
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| A02 | Decision of refusal |
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