JP2006269052A - Optical recording medium, optical recording method, and optical recording apparatus - Google Patents
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Abstract
【課題】より信頼性のある書き損じのない高速・高密度な光記録を実現できる光記録方法、光記録装置、光記録媒体の提供。
【解決手段】光記録線速度に関する情報を有し、かつ最小記録マーク長が0.7μm以下となる記録が可能な光記録媒体に対して、少なくとも記録パワーPwとボトムパワーPbを有するパルス列を用いて所定の長さのマークを記録する際に、予めパルス数が異なる複数の光記録パルス列を光記録装置に準備しておき、その中から所望のパルス列を選択することを特徴とする光記録方法、及びこの方法を実施するための光記録装置と光記録媒体。
【選択図】図7An optical recording method, an optical recording apparatus, and an optical recording medium capable of realizing a more reliable and high-speed and high-density optical recording without writing failure.
A pulse train having at least a recording power Pw and a bottom power Pb is used for an optical recording medium having information relating to an optical recording linear velocity and capable of recording with a minimum recording mark length of 0.7 μm or less. When a mark having a predetermined length is recorded, a plurality of optical recording pulse trains having different numbers of pulses are prepared in advance in the optical recording device, and a desired pulse train is selected from the optical recording pulse method. And an optical recording apparatus and an optical recording medium for carrying out this method.
[Selection] Figure 7
Description
本発明はレーザー光を照射することにより、情報の記録が可能であるDVD−R、DVD−RW、DVD+R、DVD+RW、DVD−RAM、Blu−ray等の高速記録に利用できる光記録方法、光記録装置、光記録媒体に関する。特に、DVD−ROMと同等以上の大容量の高密度な光記録方法、光記録装置、光記録媒体に関する。更には、二層以上の多層記録層を有する超大容量の光記録方法、光記録装置、光記録媒体に関する。 The present invention relates to an optical recording method and optical recording that can be used for high-speed recording such as DVD-R, DVD-RW, DVD + R, DVD + RW, DVD-RAM, and Blu-ray, which can record information by irradiating a laser beam. The present invention relates to an apparatus and an optical recording medium. In particular, the present invention relates to a high-density optical recording method, an optical recording apparatus, and an optical recording medium having a large capacity equivalent to or greater than that of a DVD-ROM. Furthermore, the present invention relates to an ultra-high capacity optical recording method, an optical recording apparatus, and an optical recording medium having two or more multilayer recording layers.
一般的に、光記録媒体の基本層構成は、一回記録型と書き換え型に分けられる。一回記録型の光記録媒体では、基板/色素記録層/光反射層という層構造を有する。一方、書き換え型の光記録媒体では、基板/下部保護層/光記録層/上部保護層/光反射層となっている。更に、必要に応じて、下部保護層と光記録層の間、光記録層と上部保護層の間、上部保護層と光反射層の間に中間層が形成される。
これらの光記録媒体では、より多くの情報をより速く記録できるようにするため、更なる記録の高密度化や高線速度化のための光記録方法及び光記録媒体の開発が期待されている。特に高速記録技術としては、nTの記録マークを記録するために、n−1個の発光パルスによって記録することが知られている。また、24倍速以上のCD−RWの高速記録技術としては、2Tマークを1パルスで記録する技術が開発されている。この技術では、3Tは1パルス、4Tと5Tは2パルス、6Tと7Tは3パルス、8Tと9Tは4パルス、10Tと11Tは5パルスで記録するようになっている。しかし、nTマーク長の記録に対する画一的な発光パルスパターンのルールでは、良好な記録マーク、即ち、ジッターが少なくなるような形のよいマークを高速・高密度で形成することは困難であった。
これまでの光記録技術では、種々の光記録媒体に対して、発光パルス数は変えずに、
(1)発光パルス幅、(2)発光パワー、を調整することで対応してきた。
この方法でCD系及びDVD2.4倍速記録までは対応可能であった。しかし、DVDと同等の記録密度及びDVD4倍速以上の記録においては、種々の光記録媒体に対して、安定に、即ち、光記録媒体のバラツキや光記録装置のバラツキを吸収し再現性よく「良好な」記録マークを形成することが困難であった。
In general, the basic layer structure of an optical recording medium is divided into a once recording type and a rewritable type. The once recording type optical recording medium has a layer structure of substrate / dye recording layer / light reflecting layer. On the other hand, in the rewritable optical recording medium, it is substrate / lower protective layer / optical recording layer / upper protective layer / light reflecting layer. Further, if necessary, intermediate layers are formed between the lower protective layer and the optical recording layer, between the optical recording layer and the upper protective layer, and between the upper protective layer and the light reflecting layer.
In these optical recording media, development of optical recording methods and optical recording media for further higher recording density and higher linear velocity is expected in order to record more information faster. . In particular, as a high-speed recording technique, it is known that recording is performed with n-1 light emission pulses in order to record an nT recording mark. Further, as a high-speed recording technique for CD-RW of 24 times speed or higher, a technique for recording a 2T mark with one pulse has been developed. In this technique, 3T is recorded by 1 pulse, 4T and 5T are 2 pulses, 6T and 7T are 3 pulses, 8T and 9T are 4 pulses, and 10T and 11T are 5 pulses. However, with the uniform light emission pulse pattern rule for nT mark length recording, it was difficult to form a good recording mark, that is, a good shape mark with reduced jitter at high speed and high density. .
In the conventional optical recording technology, the number of light emission pulses is not changed for various optical recording media,
This has been dealt with by adjusting (1) emission pulse width and (2) emission power.
With this method, it was possible to cope with CD system and DVD 2.4-times recording. However, in recording at a recording density equivalent to that of DVD and a DVD speed of 4 × or higher, it is stable with respect to various optical recording media, that is, it absorbs variations in optical recording media and optical recording devices and has good reproducibility. It was difficult to form a recording mark.
本発明は、より信頼性のある書き損じのない高速・高密度な光記録を実現できる光記録方法、光記録装置、光記録媒体の提供を目的とする。 It is an object of the present invention to provide an optical recording method, an optical recording apparatus, and an optical recording medium that can realize more reliable and high-speed and high-density optical recording without writing loss.
上記課題は次の1)〜9)の発明(以下、本発明1〜9という)によって解決される。
1) 光記録線速度に関する情報を有し、かつ最小記録マーク長が0.7μm以下となる記録が可能な光記録媒体に対して、少なくとも記録パワーPwとボトムパワーPbを有するパルス列を用いて所定の長さのマークを記録する際に、予めパルス数が異なる複数の光記録パルス列を光記録装置に準備しておき、その中から所望のパルス列を選択することを特徴とする光記録方法。
2) 光記録線速度に関する情報を有し、かつ最小記録マーク長が0.7μm以下となる記録が可能な光記録媒体に対して、少なくとも記録パワーPwとボトムパワーPbを有するパルス列を用いて、記録マークの時間的長さが基本クロック周期Tのn倍(nは自然数)となるnTで表される長さのマークを記録する際に、予めパルス数が異なる複数の光記録パルス列を準備しておき、その中から所望のパルス列を選択することを特徴とする光記録方法。
3) パルス数が異なる複数の光記録パルス列のパルス数が、それぞれnTのマーク長に対して、n、n−1、n/2、(n−1)/2、(n+1)/2の何れかであることを特徴とする2)記載の光記録方法。
4) パルス数が異なる複数の光記録パルス列のうち、パルス数が少ないパルス列の方ほど、対応する記録線速度が大きいことを特徴とする1)〜3)の何れかに記載の光記録方法。
5) パルス数が異なる複数の光記録パルス列のうち、パルス数が少ないパルス列の方ほど、対応する記録パワーPwが小さいことを特徴とする1)〜4)の何れかに記載の光記録方法。
6) 1)〜5)の何れかに記載の光記録方法を実施することができる機能を備えたことを特徴とする光記録装置。
7) 光記録線速度に関する情報を有し、かつ最小記録マーク長が0.7μm以下となる記録が可能な光記録媒体において、少なくとも記録パワーPwとボトムパワーPbを有するパルス列を用いて、所定の長さのマークを記録でき、その際に、パルス数が異なる複数の光記録パルス列の中から所望のパルス列を選択して使用できるように設計されていることを特徴とする光記録媒体。
8) パルス数が異なる複数の光記録パルス列のパルス数が、それぞれnTのマーク長に対して、n、n−1、n/2、(n−1)/2、(n+1)/2の何れかであるように設計されていることを特徴とする7)記載の光記録媒体。
9) パルス数が異なる複数の光記録パルス列のパルス数に関する情報を有する7)又は8)記載の光記録媒体。
The above problems are solved by the following inventions 1) to 9) (hereinafter referred to as the present inventions 1 to 9).
1) Predetermined by using a pulse train having at least recording power Pw and bottom power Pb for an optical recording medium having information relating to the optical recording linear velocity and capable of recording with a minimum recording mark length of 0.7 μm or less. An optical recording method comprising: preparing a plurality of optical recording pulse trains having different numbers of pulses in an optical recording device in advance and recording a desired pulse train from the plurality of optical recording pulse trains.
2) For an optical recording medium having information on the optical recording linear velocity and capable of recording with a minimum recording mark length of 0.7 μm or less, using a pulse train having at least recording power Pw and bottom power Pb, When recording a mark having a length represented by nT in which the time length of the recording mark is n times the basic clock period T (n is a natural number), a plurality of optical recording pulse trains having different pulse numbers are prepared in advance. An optical recording method characterized in that a desired pulse train is selected from them.
3) The number of pulses of a plurality of optical recording pulse trains having different numbers of pulses is any of n, n-1, n / 2, (n-1) / 2, and (n + 1) / 2 with respect to the mark length of nT. 2) The optical recording method according to 2).
4) The optical recording method according to any one of 1) to 3), wherein, among a plurality of optical recording pulse trains having different numbers of pulses, a pulse train having a smaller number of pulses has a higher corresponding recording linear velocity.
5) The optical recording method according to any one of 1) to 4), wherein among a plurality of optical recording pulse trains having different numbers of pulses, a pulse train having a smaller number of pulses has a smaller corresponding recording power Pw.
6) An optical recording apparatus comprising a function capable of executing the optical recording method according to any one of 1) to 5).
7) In an optical recording medium having information relating to the optical recording linear velocity and capable of recording with a minimum recording mark length of 0.7 μm or less, a pulse train having at least the recording power Pw and the bottom power Pb is used. An optical recording medium characterized in that a mark having a length can be recorded, and at that time, a desired pulse train can be selected and used from a plurality of optical recording pulse trains having different numbers of pulses.
8) The number of pulses of a plurality of optical recording pulse trains having different number of pulses is any of n, n-1, n / 2, (n-1) / 2, and (n + 1) / 2 with respect to the mark length of nT. The optical recording medium according to 7), which is designed to be
9) The optical recording medium according to 7) or 8), which has information relating to the number of pulses of a plurality of optical recording pulse trains having different numbers of pulses.
以下、上記本発明について詳しく説明する。
本発明の対象となる光記録媒体は、最小記録マーク長が0.7μm以下の高密度記録が可能な媒体である。このような光記録媒体は、公知のDVD媒体と同様の方法で作製できる。例えば、DVD+RWは、0.74μmのトラックピッチを有する厚さ0.6mmのポリカーボネート基板上に、誘電体層、光記録層、反射層をスパッタリング法で形成し、もう一方の厚さ0.6mmのポリカーボネート基板を貼り合わせて得られる。HD−RWは、0.4μmのトラックピッチを有する厚さ0.6mmのポリカーボネート基板を用いて、DVD+RWと同様にして得られる。BD−REは、0.32μmのトラックピッチを有する厚さ1.1mmのポリカーボネート基板上に、反射層、誘電体層、記録層をスパッタリング法で形成し、更に記録又は再生光入射側に厚さ0.1mmのカバー層をスピンコート法で形成することにより得られる。
最小記録マーク長の下限は特になく、使用するレーザー光の波長によっても変化するが、405mnの光源を用いた場合には0.15μm程度が限界である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The optical recording medium that is the subject of the present invention is a medium capable of high-density recording with a minimum recording mark length of 0.7 μm or less. Such an optical recording medium can be produced in the same manner as a known DVD medium. For example, in DVD + RW, a dielectric layer, an optical recording layer, and a reflective layer are formed by sputtering on a 0.6 mm thick polycarbonate substrate having a track pitch of 0.74 μm, and the other thickness of 0.6 mm. It is obtained by pasting together polycarbonate substrates. HD-RW is obtained in the same manner as DVD + RW using a polycarbonate substrate having a thickness of 0.6 mm and a track pitch of 0.4 μm. In BD-RE, a reflective layer, a dielectric layer, and a recording layer are formed by sputtering on a 1.1 mm-thick polycarbonate substrate having a track pitch of 0.32 μm, and the thickness is further increased on the recording or reproducing light incident side. It is obtained by forming a 0.1 mm cover layer by spin coating.
There is no particular lower limit for the minimum recording mark length, and it varies depending on the wavelength of the laser beam used. However, when a 405 nm light source is used, the limit is about 0.15 μm.
以下の説明ではDVD+RWの8倍速記録について詳述するが、その他の高速・高密度光記録媒体に応用可能である。DVD+RWの8倍速記録では、従来の、マーク長が1T増えるに従って記録パルスが1パルス増える記録方法(1T法)では、パルスの立ち上がり、立下り時間が、パルスの発光時間に占める割合が大きくなり、正確なマーク長が形成できなくなってしまう。また、1T法では、記録に要するパワーが大きくなってしまい、光記録媒体の感度向上が必要となる。そのためマーク長が2T増えるに従って、記録パルスが1パルス増える記録方法(2T法、図1参照)が提案されている。しかし、2T法は、光記録媒体の高速記録には有利であるが、記録の信頼性という観点では1T法に劣る。特に、記録特性がよく判らない未知の光記録媒体については、適応が困難である。 In the following description, DVD + RW 8 × recording will be described in detail, but the present invention can be applied to other high-speed and high-density optical recording media. In 8-times speed recording of DVD + RW, in the conventional recording method in which the recording pulse increases by one pulse as the mark length increases by 1T (1T method), the ratio of the pulse rise and fall times to the pulse emission time increases. An accurate mark length cannot be formed. Further, in the 1T method, the power required for recording increases, and the sensitivity of the optical recording medium needs to be improved. Therefore, a recording method (2T method, see FIG. 1) is proposed in which the recording pulse increases by one pulse as the mark length increases by 2T. However, the 2T method is advantageous for high-speed recording on an optical recording medium, but is inferior to the 1T method from the viewpoint of recording reliability. In particular, it is difficult to adapt to an unknown optical recording medium whose recording characteristics are not well understood.
そこで、本発明では、より信頼性のある書き損じのない高速・高密度な光記録の実現を目標とする。つまり本発明の特徴は、種々の未知の光記録媒体に対応できるように、かつ所定のマーク長をより高速で記録できるように、複数の光記録のための発光パルスパターン(パルスストラテジ、光記録パルス列)を、予め光記録装置に準備しておく点にある。そのときの発光パルスパターンの違いは、光記録パルス列のパルス数の違いである。
例えば、図1〜図3に示したような複数のパルス列を準備する。パルス列の具体例は、米国特許5761179号、同5732062号、同6628595号、同6631109号、同6459666号、同6741547号、同6757232号明細書などに記載されている。選択の基準は、記録する光記録媒体に対して安定に記録でき、かつ記録エラー及び再生エラーが小さくなるようなパルス列を選択する。準備した複数のパルス列で試し書きをし、その信号品質を再生評価して、エラーが小さくなるパルス列を選択することもできる。また、選択の基準項目は、再生エラーだけでなく、反射率、変調度、ジッターなども採用可能である。
Therefore, the present invention aims to realize more reliable and high-speed and high-density optical recording without writing failure. That is, the feature of the present invention is that a plurality of light emission pulse patterns (pulse strategy, optical recording) can be applied to various unknown optical recording media and a predetermined mark length can be recorded at a higher speed. The pulse train) is prepared in advance in the optical recording apparatus. The difference in the light emission pulse pattern at that time is the difference in the number of pulses of the optical recording pulse train.
For example, a plurality of pulse trains as shown in FIGS. 1 to 3 are prepared. Specific examples of the pulse train are described in US Pat. Nos. 5,761,179, 5,732,062, 6,628,595, 6,663,109, 6,459,666, 6,674,547, 6,757,232 and the like. The selection criterion is to select a pulse train that can be recorded stably on the optical recording medium to be recorded and that recording errors and reproduction errors are reduced. It is also possible to test-write with a plurality of prepared pulse trains, reproduce and evaluate the signal quality, and select a pulse train with a small error. Further, as a selection criterion item, not only reproduction error but also reflectance, modulation degree, jitter, and the like can be adopted.
一例を示すと、7Tのマーク長を記録する発光パターンとして、次のような2種類のパターンを用意しておくことが効果的である。1つは、図2に示すような、1T法によるパルスストラテジの記録パターンである。このパターンでは記録マーク長の精度は向上するものの高速化が幾分犠牲になる。もう1つは、図3に示したような、記録マーク長nTに対して(n+1)/2のパルス数で構成された発光パルスパターン(パルスストラテジ)である。このパターンでは、高速化を図ると共に記録マーク長の精度が確保される。このように未知の光記録媒体に対して、発光パルス数の異なる複数の光記録パルス列を予め準備しておくことは、光記録システムの信頼性を向上させる上で有効であり、より互換信頼性の高いシステムとすることができる。。
パルス数が異なる複数の光記録パルス列を予め準備する際、よりパルス数が少ないほど、同一記録パワーでも実効的なパワーを大きくすることができるので記録感度が向上する。その結果、記録感度不足になり易い高速記録に有利となる。したがって、本発明4〜5のような構成とすることが好ましい。
As an example, it is effective to prepare the following two types of light emission patterns for recording a 7T mark length. One is a recording pattern of a pulse strategy by the 1T method as shown in FIG. In this pattern, the accuracy of the recording mark length is improved, but the speeding up is somewhat sacrificed. The other is a light emission pulse pattern (pulse strategy) composed of (n + 1) / 2 pulses for the recording mark length nT as shown in FIG. In this pattern, the speed is increased and the accuracy of the recording mark length is ensured. In this way, preparing a plurality of optical recording pulse trains having different numbers of emission pulses for an unknown optical recording medium in advance is effective in improving the reliability of the optical recording system, and more compatible reliability. The system can be high. .
When preparing a plurality of optical recording pulse trains having different numbers of pulses in advance, the smaller the number of pulses, the larger the effective power can be even with the same recording power, thereby improving the recording sensitivity. As a result, it is advantageous for high-speed recording that tends to cause insufficient recording sensitivity. Therefore, it is preferable to set it as the structure like this 4-5.
光記録媒体のIDを再生し、光記録媒体の持つ記録特性を認識してから、光記録装置が予め用意してあった複数の光記録パルス列から、所望のパルス列を選択することが効果的である。また、予め用意してある複数の光記録パルス列をテスト記録した上で、その結果から選択する方法も効果的である。これらの方法の一例をフロー図として図7に示す。
まず、光記録媒体を光記録装置にセットし、光記録媒体のIDあるいは記録ストラテジ情報を再生する。次に、予め光記録装置に準備した記録ストラテジでの対応が可能か否かを判断し、対応可能と判断された場合には最適記録ストラテジの選択を行う。一方、対応可能か否かの判断がつかない場合には、パルス数の異なる記録ストラテジでためし書きを行い、該ためし書きを再生して評価することにより、最適記録ストラテジを選択する。
なお、光記録媒体のIDには、一般に、製造メーカー、製造機種などが、ピット情報、ウオブル情報、光記録情報などとして記録されている。
一方、光記録装置が幾つかの発光パルス数の異なる光記録方法を用意した場合、光記録媒体としては、発光パルス数の異なる光記録方法に対応していることが、光記録の信頼性を向上させることに有効になる。更に、図4に示すように、光記録媒体が上記光発光パターンに関する情報を有することが、光記録装置に多くの情報を提供することができるため、光記録の信頼性を向上させるために効果的である。情報の形式は、情報ピット、記録マーク、ウオブルの変調など、種々の方式が利用可能である。
After reproducing the ID of the optical recording medium and recognizing the recording characteristics of the optical recording medium, it is effective to select a desired pulse train from a plurality of optical recording pulse trains prepared in advance by the optical recording device. is there. It is also effective to perform a test recording of a plurality of optical recording pulse trains prepared in advance and select from the results. An example of these methods is shown in FIG. 7 as a flow diagram.
First, the optical recording medium is set in the optical recording apparatus, and the ID or recording strategy information of the optical recording medium is reproduced. Next, it is determined whether or not it is possible to cope with a recording strategy prepared in advance in the optical recording apparatus. If it is determined that the correspondence is possible, an optimum recording strategy is selected. On the other hand, if it is not possible to determine whether or not it is possible to perform correspondence, a trial writing is performed with a recording strategy having a different number of pulses, and the trial recording is reproduced and evaluated to select an optimum recording strategy.
In addition, generally, the manufacturer, the manufacturing model, and the like are recorded in the ID of the optical recording medium as pit information, wobble information, optical recording information, and the like.
On the other hand, when the optical recording apparatus has prepared several optical recording methods with different numbers of light emission pulses, the optical recording medium is compatible with optical recording methods with different numbers of light emission pulses, which improves the reliability of optical recording. It becomes effective in improving. Furthermore, as shown in FIG. 4, the fact that the optical recording medium has information on the light emission pattern can provide a large amount of information to the optical recording apparatus, which is effective in improving the reliability of optical recording. Is. Various types of information formats such as information pits, recording marks, and wobble modulation can be used.
発光パルス数の異なる光記録方法に対応できる光記録媒体としては、反射層に微結晶質のAg反射膜を用いることが効果的であった。高速・高密度記録に対応するには、光記録入射光によって発生する熱が、光記録媒体の面方向に逃げないようにするため、熱伝導度の大きいAg又はAg合金が効果的である。また、面内で熱の発生・冷却が均一に生じるためには、Agの結晶粒界が影響しないように、Agの粒子をより小さくすることが効果的である。Agの粒径をより小さくする方法としては、Agの凝集を防止するように異物を存在させながら製膜することが重要となる。
具体的には、光反射膜形成過程において、膜表面へのAg原子あるいはクラスターの入射頻度と、その他の原子、分子、イオンあるいはクラスター等の入射頻度を制御することで小さくできる。より具体的には、スパッタ製膜中の共存ガス(Ar、N2、O2など)の流量を大きくして、膜表面への共存ガス入射頻度を大きくすることが効果的である。また、排気速度を小さくして製膜圧力を上げて製膜し、共存ガスの膜表面への入射頻度を大きくすることも効果的である。また、Agの膜表面への入射頻度を小さくする方法として、製膜速度を小さくするために製膜スパッタ電力の低下が効果的である。更には、Ag系光反射膜の製膜時の基板温度を下げることも効果的である。実際の製膜時にはこれら条件を調整して、Ag粒子の大きさを制御することができる。
As an optical recording medium that can cope with optical recording methods having different numbers of light emission pulses, it is effective to use a microcrystalline Ag reflection film as a reflection layer. In order to cope with high-speed and high-density recording, Ag or an Ag alloy having a high thermal conductivity is effective in order to prevent heat generated by incident light of optical recording from escaping in the surface direction of the optical recording medium. Further, in order to generate heat and cool uniformly in the surface, it is effective to make Ag particles smaller so that Ag crystal grain boundaries do not affect. As a method for reducing the particle size of Ag, it is important to form a film in the presence of foreign matter so as to prevent Ag aggregation.
Specifically, in the process of forming the light reflecting film, the incidence can be reduced by controlling the incidence of Ag atoms or clusters on the film surface and the incidence of other atoms, molecules, ions or clusters. More specifically, it is effective to increase the flow rate of the coexisting gas (Ar, N 2 , O 2, etc.) in the sputter film formation to increase the frequency of the coexisting gas incident on the film surface. It is also effective to increase the frequency of incidence of the coexisting gas on the film surface by decreasing the exhaust speed and increasing the film forming pressure. Further, as a method of reducing the incidence frequency of Ag on the film surface, it is effective to lower the film forming sputtering power in order to reduce the film forming speed. Furthermore, it is also effective to lower the substrate temperature when forming the Ag-based light reflecting film. During actual film formation, the size of Ag particles can be controlled by adjusting these conditions.
効果的なAg粒子の微細化には、Mg、Al、Si、Ca、Ti、Cr、Cu、Zn、Y、Ce、Nd、Gd、Tb、Dy、Nb、Mo、Pd、In、Sn、Ta、W、Ptなどの異物を共存させて製膜することも効果的である。Ag粒子が成長する際、粒界を構成する部分にはこれら添加物が多く含まれる。したがって、これら添加物の存在によって、Ag粒子の微細化が可能となる。
これら金属の種類の選択及び添加量は、Ag系光反射膜のスパッタ条件にも影響される。添加物を多く入れれば、Ag粒子の微細化は容易になるが、Agに期待される物性である高反射率、高熱伝導率が損なわれる。添加物を少なくした場合には、Agに期待される物性は確保されるものの、製膜条件に厳格な管理が要求される。
添加物の種類はAg系光反射膜の製膜条件に左右される。Agと合金化し易いCu、Pd、Ptであれば、Agの物性を維持したまま微細化が図れる。しかし、Agと合金を形成し易いため、粒径の微細化には製膜条件の管理が重要になる。一方、Mg、Al、Si、Ca、Ti、Cr、Zn、Nb、Mo、In、Sn、Ta、W、などは、添加量が多いとAgの物性を大きく損なうが、製膜時に共存ガスを吸着し易く粒界形成に有効に働き、Ag結晶粒子の粗大化を抑制し、Ag結晶粒子の微細化に効果的である。また、Y、Ce、Nd、Gd、Tb、Dy、Zr、Hf、In、Snなどの添加物は、Agの原子半径より大きい原子半径であり、Ag粒子の結晶成長の抑制が可能となり、Agの結晶粒径の微細化が可能となる。
For effective Ag particle miniaturization, Mg, Al, Si, Ca, Ti, Cr, Cu, Zn, Y, Ce, Nd, Gd, Tb, Dy, Nb, Mo, Pd, In, Sn, Ta It is also effective to form a film in the presence of foreign matters such as W, P, and Pt. When Ag particles grow, a portion constituting the grain boundary contains a large amount of these additives. Therefore, the presence of these additives makes it possible to refine the Ag particles.
The selection and addition amount of these metal types are also affected by the sputtering conditions of the Ag-based light reflection film. If many additives are added, the Ag particles can be easily refined, but the high reflectivity and high thermal conductivity, which are physical properties expected of Ag, are impaired. When the amount of additives is reduced, the physical properties expected of Ag are ensured, but strict management is required for the film forming conditions.
The kind of additive depends on the film forming conditions of the Ag-based light reflecting film. If Cu, Pd, and Pt, which are easily alloyed with Ag, can be miniaturized while maintaining the physical properties of Ag. However, since it is easy to form an alloy with Ag, it is important to manage the film forming conditions to reduce the particle size. On the other hand, Mg, Al, Si, Ca, Ti, Cr, Zn, Nb, Mo, In, Sn, Ta, W, and the like greatly impair the physical properties of Ag when added in large amounts. It is easy to adsorb and works effectively in forming grain boundaries, suppresses coarsening of Ag crystal particles, and is effective in making Ag crystal particles finer. Further, additives such as Y, Ce, Nd, Gd, Tb, Dy, Zr, Hf, In, and Sn have an atomic radius larger than the atomic radius of Ag, which makes it possible to suppress the crystal growth of Ag particles. The crystal grain size can be reduced.
本発明者らの検討結果から、Ag系光反射膜の粒界ノイズが記録再生信号に与える影響を無視できるレベルは、最小記録マークの1/3以下が効果的であった。この点について考察した結果、本発明者らの実験における最小記録マークの1/3は、記録するマークのチャンネルビットに対応していることが分った。チャンネルビットとは、光記録する際の情報の「0」、「1」に対応した最小単位のことであり、DVD−ROMでは、0.133μmに対応するものである。つまり、DVD−R、DVD−RW、DVD+R、DVD+RWでは、記録トラック方向における光反射層の平均的な結晶粒子の長さLagは、マークの1ビット長Lbi(=0.133μm)以下が効果的である。
Ag系光反射層の結晶粒の大きさは、チャンネルビット長以下、結晶粒径のバラツキを考慮すると、望ましくはチャンネルビット長の2/3以下が望ましい。また、光記録媒体に存在する案内溝が蛇行している場合、その蛇行(ウオブル)周期にくらべて充分小さい粒径であることも重要である。
From the results of the study by the present inventors, the level at which the influence of the grain boundary noise of the Ag-based light reflection film on the recording / reproducing signal can be ignored is 1/3 or less the minimum recording mark. As a result of considering this point, it was found that 1/3 of the minimum recording mark in the experiment by the present inventors corresponds to the channel bit of the mark to be recorded. The channel bit is a minimum unit corresponding to information “0” and “1” in optical recording, and corresponds to 0.133 μm in the DVD-ROM. That is, in DVD-R, DVD-RW, DVD + R, and DVD + RW, it is effective that the average crystal grain length Lag of the light reflecting layer in the recording track direction is 1 bit length Lbi (= 0.133 μm) or less of the mark. It is.
The size of the crystal grains of the Ag-based light reflection layer is preferably less than or equal to the channel bit length, and preferably 2/3 or less of the channel bit length in consideration of variations in crystal grain size. In addition, when the guide groove existing in the optical recording medium is meandering, it is also important that the particle diameter is sufficiently smaller than the meandering (wobble) period.
光記録装置は光記録媒体の案内溝の蛇行を正確に読み取る必要があるが、光記録装置がAg粒子の粒界をノイズとして読み取った場合、光記録媒体の正しいアドレスが読み取れなくなってしまう。特に、DVD−R、DVD−RW等のピットを伴う案内溝を有する光記録媒体では尚更読み取りが困難となってしまう。
Ag系光反射膜の結晶粒径と案内溝のウオブルとの関係では、1蛇行周期の1/10以下のAg系結晶粒径であることが望ましい。1蛇行の中で、1/10の部分にノイズが入ったとしても、その蛇行の情報は補完できるためである。更に望ましくは、1蛇行周期の1/20以下のAg系結晶粒径であることが望ましい。1蛇行の中で、1/20の部分にノイズが入ったとしても、その蛇行の情報にとって、そのノイズは無視できるためである。また、ピットを伴う場合には、ピット間隔の1/10以下、望ましくは1/20以下のAg結晶粒径とすることが望ましい。
The optical recording apparatus needs to accurately read the meander of the guide groove of the optical recording medium. However, when the optical recording apparatus reads the grain boundary of Ag particles as noise, the correct address of the optical recording medium cannot be read. In particular, optical recording media having guide grooves with pits such as DVD-R and DVD-RW are more difficult to read.
In the relationship between the crystal grain size of the Ag-based light reflecting film and the wobble of the guide groove, it is desirable that the Ag-based crystal grain size is 1/10 or less of one meander cycle. This is because even if 1/10 portion of noise is included in one meander, the meander information can be complemented. More desirably, the Ag-based crystal grain size is 1/20 or less of one meander cycle. This is because even if noise enters a 1/20 portion in one meander, the noise can be ignored for the meander information. In the case where pits are involved, the Ag crystal grain size is preferably 1/10 or less, more preferably 1/20 or less of the pit interval.
本発明者の実験結果から、基板表面に吸着する水分がAg系光反射層とAg系光反射層が形成される層の密着力に少なからず影響することが分っており、Ag系光反射層が形成される中間層のパシベーション能力の向上が、Ag系光反射膜と中間層との密着力向上に繋がることも分っている。
本発明者は、Ag系光反射層との密着力を確保し、かつAgと後述するZnS・SiO2との反応を防止するパシベーション能力を同時に満たす中間層としては、
(1)パシベーション能力を確保するために原子のパッキングが密となる侵入型化合物を形成できる物質
(2)密着力を確保するために、Ag系光反射層と中間層の濡れ性を確保できる物質
を含むことが効果的であると考えた。
そこで、パシベーション能力を確保するために侵入型化合物を形成できるTi、Zr、Nb、Taの炭化物ターゲットと、Ag系光反射層との濡れ性を確保するためにそれらの金属酸化物からなるターゲットから製膜した中間層について検討した。
検討した光記録媒体の層構成は、案内溝付情報基板/下部保護層/界面層/光記録層/上部保護層/中間層/光反射層/紫外線硬化樹脂/接着層/カバー基板とした。
From the experiment results of the present inventor, it is known that the moisture adsorbed on the substrate surface has a considerable influence on the adhesion between the Ag-based light reflecting layer and the layer on which the Ag-based light reflecting layer is formed. It has also been found that an improvement in the passivation ability of the intermediate layer on which the layer is formed leads to an improvement in the adhesion between the Ag-based light reflecting film and the intermediate layer.
The present inventor, as an intermediate layer that ensures the adhesion with the Ag-based light reflection layer and simultaneously satisfies the passivation ability to prevent the reaction between Ag and ZnS · SiO 2 described later,
(1) A substance capable of forming an interstitial compound in which the packing of atoms is dense in order to ensure the passivation ability. (2) A substance capable of ensuring the wettability of the Ag-based light reflection layer and the intermediate layer in order to ensure adhesion. It was considered effective to contain.
Therefore, from a target composed of Ti, Zr, Nb, Ta carbide targets capable of forming interstitial compounds to ensure passivation ability, and targets composed of those metal oxides to ensure wettability with Ag-based light reflection layers. The formed intermediate layer was examined.
The layer structure of the optical recording medium studied was information substrate with guide groove / lower protective layer / interface layer / optical recording layer / upper protective layer / intermediate layer / light reflecting layer / ultraviolet curable resin / adhesive layer / cover substrate.
案内溝付情報基板は、溝幅0.25μm、溝深さ27nm、ウオブル溝の周期4.26μmの案内溝を有する厚さ0.6mmのポリカーボネート基板を射出成型して準備した。
下部保護層、界面層、光記録層、上部保護層、中間層、光反射層は、順次スパッタリング法により積層した。下部保護層、界面層、上部保護層は、RFスパッタリング法により作製し、光記録層、光反射層は、DCスパッタリング法により作製した。
下部保護層には厚さ55nmの(ZnS)80(SiO2)20(モル%)、界面層には厚さ4nmのSiO2、光記録層には厚さ11nmのGe8Ga6Sb68Sn18、上部保護層には厚さ11nmの(ZnS)80(SiO2)20(モル%)、光反射層には厚さ140nmの純銀を用いた。
中間層は厚さ6nmとし、炭化物と酸化物からなる焼結ターゲットのDCあるいはRFスパッタリングで作製した。炭化物は、SiC、TiC、ZrC、NbC、TaCを検討した。酸化物は、SiO2、TiO2、ZrO2、Nb2O5、Ta2O5を検討した。
次いで、光反射層上に、室温粘度120cps、硬化後のガラス転移温度149℃となる紫外線硬化型樹脂(大日本インキ化学工業社製、SD318)をスピンコートして樹脂保護層を形成し、相変化型光記録媒体の単板ディスクを作成した。露光量は必要量の80%とした。
次いで、ポリカーボネート製の貼り合わせ基板を、室温粘度450cps、硬化後のガラス転移温度が75℃となる紫外線硬化型接着剤(日本化薬社製、DVD003)で貼り合わせて、相変化型光記録媒体(光ディスク)を得た。露光量は必要量の80%とした。
続いて、大口径LD(ビーム径75μm×1μm)を有する日立コンピュータ機器社製初期化装置を用いて、光ディスクの最高記録線速度の70%の線速度、電力1600mW、送り45μm/rで、内周から外周に向けて、線速度一定で光記録層を全面結晶化した。
An information substrate with a guide groove was prepared by injection molding a polycarbonate substrate having a thickness of 0.25 μm, a groove depth of 27 nm, and a guide groove having a wobble groove period of 4.26 μm and a thickness of 0.6 mm.
The lower protective layer, the interface layer, the optical recording layer, the upper protective layer, the intermediate layer, and the light reflecting layer were sequentially laminated by a sputtering method. The lower protective layer, the interface layer, and the upper protective layer were produced by RF sputtering, and the optical recording layer and the light reflecting layer were produced by DC sputtering.
The lower protective layer to a thickness of 55nm is (ZnS) 80 (SiO 2) 20 ( mol%), SiO 2 having a thickness of 4nm is the interface layer, the thickness of 11nm on the optical recording layer Ge 8 Ga 6 Sb 68 Sn 18 , (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) having a thickness of 11 nm was used for the upper protective layer, and pure silver having a thickness of 140 nm was used for the light reflecting layer.
The intermediate layer had a thickness of 6 nm and was produced by DC or RF sputtering of a sintered target made of carbide and oxide. As the carbide, SiC, TiC, ZrC, NbC, and TaC were examined. As the oxide, SiO 2 , TiO 2 , ZrO 2 , Nb 2 O 5 , and Ta 2 O 5 were examined.
Next, an ultraviolet curable resin (SD318, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) having a room temperature viscosity of 120 cps and a glass transition temperature after curing of 149 ° C. is spin-coated on the light reflecting layer to form a resin protective layer. A single disc of a changeable optical recording medium was prepared. The exposure amount was 80% of the required amount.
Subsequently, the laminated substrate made of polycarbonate is laminated with an ultraviolet curable adhesive (Nippon Kayaku Co., Ltd., DVD003) having a room temperature viscosity of 450 cps and a glass transition temperature after curing of 75 ° C., and a phase change optical recording medium. (Optical disk) was obtained. The exposure amount was 80% of the required amount.
Subsequently, using an initialization device manufactured by Hitachi Computer Equipment Co., Ltd. having a large aperture LD (beam diameter: 75 μm × 1 μm), the linear velocity is 70% of the maximum recording linear velocity of the optical disk, the power is 1600 mW, and the feed is 45 μm / r. The entire optical recording layer was crystallized from the periphery to the periphery at a constant linear velocity.
上記光ディスクの製造変動耐久性は、次の(1)〜(3)について評価した。
(1)DCスパッタ可能性
(2)中間層製膜時の空気リーク耐久性
(3)初期化耐久性
それぞれの耐久性評価プロセス条件は、次の(1)〜(3)とした。
(1)DCスパッタでの製膜可否
(2)1E−4mbarの空気リークで中間層を作製した光ディスクに光記録した信号の80℃85%RH24時間保存後のエラー(PIエラー増加率50%増でNG)
(3)80℃85%RH24時間の加速劣化後に初期化した光ディスクの欠陥率(1E−4以上でNG)
光ディスクの記録特性は、記録後のジッターが最小となる記録パワーでの
(1)グルーブ反射率(%)
(2)感度(記録パワー、mW)
とした。
The manufacturing fluctuation durability of the optical disk was evaluated for the following (1) to (3).
(1) DC sputtering possibility (2) Air leak durability during intermediate layer deposition (3) Initialization durability The respective durability evaluation process conditions were the following (1) to (3).
(1) Whether or not film formation by DC sputtering is possible (2) Error after optical recording of optically recorded signal on optical disk with intermediate layer produced by 1E-4mbar air leak at 80 ° C 85% RH (PI error increase rate 50% increase) NG)
(3) Defect rate of optical disk initialized after accelerated deterioration at 80 ° C. and 85% RH for 24 hours (NG at 1E-4 or higher)
The recording characteristics of optical discs are as follows: (1) Groove reflectivity (%) at the recording power that minimizes jitter after recording
(2) Sensitivity (recording power, mW)
It was.
図5は、本発明のDVD系相変化型光記録媒体の一例であり、蛇行した案内溝付情報基板上に、下部保護層、相変化型光記録層、上部保護層、Ag系反射層、樹脂層及び/又は接着層、カバー基板が、この順に形成されている。性能向上のために、必要に応じて第1界面層、第2界面層、中間層が形成される。更にカバー基板上に印刷層を設けてもよい。また、カバー基板側に逆順で、同様の相変化型光記録媒体を設け、二層型とすることもできる。
図6は、本発明のDVD系二層色素型光記録媒体の一例であり、蛇行した案内溝付情報基板上に、色素型光記録層(L0)、Ag系反射層、樹脂層を形成し、もう一方の蛇行した案内溝付情報基板には逆層で、Ag系反射層、色素型光記録層(L1)を形成し貼り合せた層構造をしている。カバー基板上に印刷層を設けてもよい。
しかし、本発明は、これらの層構成に限らず、種々の光記録媒体に適用されることは言うまでもない。
FIG. 5 shows an example of a DVD phase change optical recording medium of the present invention. On a meandering information grooved information substrate, a lower protective layer, a phase change optical recording layer, an upper protective layer, an Ag based reflective layer, A resin layer and / or an adhesive layer and a cover substrate are formed in this order. In order to improve performance, a first interface layer, a second interface layer, and an intermediate layer are formed as necessary. Further, a printed layer may be provided on the cover substrate. Alternatively, the same phase change optical recording medium may be provided in the reverse order on the cover substrate side to form a two-layer type.
FIG. 6 shows an example of the DVD-based double-layer dye-type optical recording medium of the present invention. A dye-type optical recording layer (L0), an Ag-based reflective layer, and a resin layer are formed on a meandering information substrate with guide grooves. The other meandering information substrate with a guide groove has a layer structure in which an Ag-based reflective layer and a dye-type optical recording layer (L1) are formed and bonded as an opposite layer. A printed layer may be provided on the cover substrate.
However, it goes without saying that the present invention is not limited to these layer configurations and is applied to various optical recording media.
基板の材料は、通常ガラス、セラミックス、或いは樹脂であり、樹脂基板が成型性、コストの点で好適である。樹脂の例としてはポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられるが、成型性、光学特性、コストの点で優れるポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
但し、本発明の光記録媒体をDVD+Rに応用する場合には、以下のような特定の条件が付与されることが望ましい。即ち、基板に形成される案内溝の幅が0.10〜0.40μm、好適には0.15〜0.35μm、案内溝の深さが120〜200nm、好適には140〜180nmとなっていることである。案内溝の蛇行の周期は、1周期が4.3μmとなる。基板の厚さは0.55〜0.65mmが好適であり、貼り合わせ後のディスクの厚さは、1.1〜1.3mmが好適である。これらの基板溝によって、DVD−ROMドライブでの再生互換性が向上する。
また、本発明の光記録媒体をDVD+RWに応用する場合には、以下のような特定の条件が付与されることが望ましい。即ち、基板に形成される案内溝の幅が0.10〜0.40μm、好適には0.15〜0.35μm、案内溝の深さが15〜45nm、好適には20〜40nmとなっていることである。案内溝の蛇行の周期は、1周期が4.3μmとなる。基板の厚さは0.55〜0.65mmが好適であり、貼り合わせ後のディスクの厚さは、1.1〜1.3mmが好適である。これらの基板溝によって、DVD−ROMドライブでの再生互換性が向上する。
The material of the substrate is usually glass, ceramics, or resin, and the resin substrate is preferable in terms of moldability and cost. Examples of the resin include polycarbonate resin, acrylic resin, epoxy resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer resin, polyethylene resin, polypropylene resin, silicone resin, fluorine resin, ABS resin, urethane resin, etc. Polycarbonate resins and acrylic resins that are excellent in terms of moldability, optical characteristics, and cost are preferred.
However, when the optical recording medium of the present invention is applied to DVD + R, it is desirable to give the following specific conditions. That is, the width of the guide groove formed on the substrate is 0.10 to 0.40 μm, preferably 0.15 to 0.35 μm, and the depth of the guide groove is 120 to 200 nm, preferably 140 to 180 nm. It is that you are. One period of the meandering period of the guide groove is 4.3 μm. The thickness of the substrate is preferably 0.55 to 0.65 mm, and the thickness of the disk after bonding is preferably 1.1 to 1.3 mm. These substrate grooves improve reproduction compatibility with a DVD-ROM drive.
In addition, when the optical recording medium of the present invention is applied to DVD + RW, it is desirable that the following specific conditions are given. That is, the width of the guide groove formed on the substrate is 0.10 to 0.40 μm, preferably 0.15 to 0.35 μm, and the depth of the guide groove is 15 to 45 nm, preferably 20 to 40 nm. It is that you are. One period of the meandering period of the guide groove is 4.3 μm. The thickness of the substrate is preferably 0.55 to 0.65 mm, and the thickness of the disk after bonding is preferably 1.1 to 1.3 mm. These substrate grooves improve reproduction compatibility with a DVD-ROM drive.
相変化型光記録媒体の下部又は上部保護層の材料としては、SiO、SiO2、ZnO、SnO2、Al2O3、TiO2、In2O3、MgO、ZrO2などの酸化物;Si3N4、AlN、TiN、BN、ZrNなどの窒化物;ZnS、TaS4などの硫化物;SiC、TaC、B4C、WC、TiC、ZrCなどの炭化物;ダイヤモンド状カーボン;或いはそれらの混合物が挙げられる。中でも(ZnS)85(SiO2)15、(ZnS)80(SiO2)20、(ZnS)75(SiO2)25(何れもモル%)などのZnSとSiO2を含んだ物質が好ましく、特に熱膨張変化、高温・室温変化の熱ダメージを伴う相変化型光記録層と基板の間に位置する下部保護層としては、光学定数、熱膨張係数、弾性率が最適化されている(ZnS)80(SiO2)20(モル%)が望ましい。
下部保護層の膜厚は、反射率、変調度や記録感度に大きく影響するので、下部保護層の膜厚に対して、ディスク反射率が極小値となる膜厚とすることが望ましい。この膜厚領域では記録感度が良好であり、熱ダメージのより小さいパワーで記録が可能になり、オーバーライト性能の向上が図られる。DVDの記録再生波長において良好な信号特性を得るためには、下部保護層に(ZnS)80(SiO2)20(モル%)を用いた場合、45〜65nmとすることが好適である。45nmより薄いと、基板への熱ダメージが大きくなり、溝形状の変形が起こる。また、65nmより厚いと、ディスク反射率が高くなり、感度が低下する。
Examples of the material for the lower or upper protective layer of the phase change optical recording medium include oxides such as SiO, SiO 2 , ZnO, SnO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , In 2 O 3 , MgO, and ZrO 2 ; Si 3 N 4 , AlN, TiN, BN, ZrN and other nitrides; ZnS, TaS 4 and other sulfides; SiC, TaC, B 4 C, WC, TiC, ZrC and other carbides; Diamond-like carbon; or a mixture thereof Is mentioned. Among these, materials containing ZnS and SiO 2 such as (ZnS) 85 (SiO 2 ) 15 , (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 , (ZnS) 75 (SiO 2 ) 25 (both mol%) are preferable, Optical constant, thermal expansion coefficient, and elastic modulus are optimized for the lower protective layer located between the phase change optical recording layer and the substrate with thermal damage due to thermal expansion change and high temperature / room temperature change (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) is desirable.
Since the film thickness of the lower protective layer greatly affects the reflectivity, the degree of modulation, and the recording sensitivity, it is desirable to set the film thickness so that the disk reflectivity becomes a minimum value with respect to the film thickness of the lower protective layer. In this film thickness region, the recording sensitivity is good, recording is possible with a power with less heat damage, and the overwriting performance is improved. In order to obtain good signal characteristics at the DVD recording / reproducing wavelength, when (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) is used for the lower protective layer, the thickness is preferably 45 to 65 nm. If the thickness is less than 45 nm, thermal damage to the substrate increases and the groove shape is deformed. On the other hand, if it is thicker than 65 nm, the disk reflectivity increases and the sensitivity decreases.
更に、相変化型光記録媒体の硫黄フリー上部保護層としては、クラックの発生を抑制することが効果的である酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、酸化ニオブ、窒化珪素、窒化アルミニウム、ZnSなどの光記録媒体の製造に適したスパッタ速度を有する材料が望ましい。本発明では、これらの好適な材料を主成分として用いるが、ここでいう主成分とは50モル%を超えることを意味する。
本発明で用いる材料としては、膜の柔軟性という点で、2価の結合回転自由度の高い酸素によるネットワークが可能なSi、Al、Ti、Zn、Zr、Mo、Ta、Nb、Wの酸化物の添加が好ましい。しかし、これらの上部保護層材料においても、厚膜化すると、膜自身の内部応力や光記録層及びAg又はAg合金反射層との間の熱応力によってクラックを発生し易い。
また、上部保護層を多層化することによって、上部保護層の界面を形成し、熱伝導を妨げて熱蓄積構造とすることで、光記録の感度向上を図ることができる。したがって、上部保護層の膜厚は、4〜24nmが好適である。4nmより薄いと、上部保護層の機能である蓄熱が充分にできなくなり、現存の半導体レーザーでの記録が困難になる。また、24nmより厚くなると、先に述べたようにクラックを発生する。より望ましい上部保護層の膜厚は、8〜20nmである。
Further, as the sulfur-free upper protective layer of the phase change optical recording medium, it is effective to suppress the occurrence of cracks, such as zinc oxide, indium oxide, tin oxide, niobium oxide, silicon nitride, aluminum nitride, ZnS, etc. A material having a sputtering rate suitable for manufacturing an optical recording medium is desirable. In the present invention, these suitable materials are used as the main component, and the main component referred to here means exceeding 50 mol%.
As materials used in the present invention, oxidation of Si, Al, Ti, Zn, Zr, Mo, Ta, Nb, and W capable of forming a network with oxygen having a high degree of freedom of divalent bond rotation in terms of film flexibility. The addition of products is preferred. However, even in these upper protective layer materials, when the film thickness is increased, cracks are likely to occur due to internal stress of the film itself and thermal stress between the optical recording layer and the Ag or Ag alloy reflecting layer.
Further, by increasing the number of upper protective layers, the interface of the upper protective layers is formed, and the heat conduction is hindered to form a heat storage structure, whereby the sensitivity of optical recording can be improved. Therefore, the thickness of the upper protective layer is preferably 4 to 24 nm. If the thickness is less than 4 nm, heat storage as a function of the upper protective layer cannot be sufficiently performed, and recording with an existing semiconductor laser becomes difficult. On the other hand, if the thickness exceeds 24 nm, cracks are generated as described above. A more desirable thickness of the upper protective layer is 8 to 20 nm.
また、相変化型光記録媒体は、下部保護層/光記録層/上部保護層/光反射層がスパッタリングによる連続製膜によって製造されている。この際、最も製膜時間を必要とするのは、他の層に比べて膜厚が大きい下部保護層又は光反射層の製膜である。従って、ロスなく効率的に、上部保護層を作製するためには、上部保護層は、下部保護層又は光反射層の製膜時間と同等か或いはそれよりも短い製膜時間で、所定の膜厚が形成できるような製膜条件が望まれる。下部保護層にZnS・SiO2、反射層にAg又はAg合金を用い、スパッタ時間7秒以下を目標とすると、上部保護層の製膜速度は少なくとも1nm/s以上、好ましくは3nm/s以上が必要である。
一方、4〜24nmの極力薄い膜を形成しようとした場合、あまり製膜速度が大きいと、スパッタリング製膜におけるプラズマの発生の立ち上がり時間の閉める割合が大きくなり、ディスク毎の膜厚バラツキが大きくなり、ディスク特性としては感度のバラツキを大きくしてしまう。ディスク毎の上部保護層の膜厚バラツキを小さくするためには、限界製膜速度は10nm/s以下、好ましくは8nm/s以下である。
In the phase change type optical recording medium, the lower protective layer / optical recording layer / upper protective layer / light reflecting layer are produced by continuous film formation by sputtering. In this case, the film formation time of the lower protective layer or the light reflection layer having a larger film thickness than that of the other layers requires the longest film formation time. Therefore, in order to efficiently produce the upper protective layer without loss, the upper protective layer is formed in a predetermined film with a film formation time that is equal to or shorter than the film formation time of the lower protective layer or the light reflecting layer. Film forming conditions that can form a thickness are desired. When ZnS · SiO 2 is used for the lower protective layer, Ag or Ag alloy is used for the reflective layer, and the target sputtering time is 7 seconds or less, the film forming speed of the upper protective layer is at least 1 nm / s or more, preferably 3 nm / s or more. is necessary.
On the other hand, when trying to form a 4 to 24 nm thin film as much as possible, if the film forming speed is too high, the rate at which the rise time of plasma generation in sputtering film formation closes increases and the film thickness variation from disk to disk increases. As a disc characteristic, the sensitivity varies greatly. In order to reduce the film thickness variation of the upper protective layer for each disk, the critical film forming speed is 10 nm / s or less, preferably 8 nm / s or less.
更に、相変化型光記録媒体の製造プロセスにおける初期化条件、特にパワーマージンを確保するためには、上部保護層とAg又はAg合金を主成分とする光反射層との界面に、Ag−O結合が形成されていることが効果的であった、Ag−O結合はXPSなどの分析方法で確認された。AlN、Si3N4を上部保護層に用いた場合でも、基板からの脱ガスや残像ガスから酸素が供給されるため、Ag−O結合の形成が確認された。しかし、上部保護層に酸化物を用いた場合に比べてAg−O結合量が相対的に少なく、初期化の際のパワーマージンが小さくなる傾向にあった。 Further, in order to ensure the initialization conditions in the manufacturing process of the phase change type optical recording medium, particularly the power margin, Ag-O is provided at the interface between the upper protective layer and the light reflecting layer mainly composed of Ag or Ag alloy. The formation of a bond was effective, and the Ag—O bond was confirmed by an analytical method such as XPS. Even when AlN or Si 3 N 4 was used for the upper protective layer, formation of an Ag—O bond was confirmed because oxygen was supplied from the degassed substrate or afterimage gas. However, the amount of Ag—O bonds is relatively small as compared with the case where an oxide is used for the upper protective layer, and the power margin during initialization tends to be small.
相変化型光記録層材料は、Sbを60〜90原子%含む相変化物質が好適である。具体例としては、Sbを60〜90原子%含むInSb、GaSb、GeSb、GeSbSn、GaGeSb、GeSbTe、GaGeSbSn、AgInSbTe、GeInSbTe、GeGaSbTeなどが挙げられる。これら相変化物質でDVD+RW媒体を作製した場合の、Sb組成比とDVD互換或いはCD互換を可能とする最小記録マークを記録できる時間の関係から、記録層のSb量が60原子%以上の場合に記録時間を短くできることが分っている。即ち、記録消去の際の光記録層の溶融時間を短くすることができ、光記録層及び上部保護層の熱ダメージを低減できる。また、Sb量が60原子%以上の場合には、光記録媒体の溶融初期結晶化も高速で出来るため、熱ダメージが低減される。更に、Sb量70原子%以上では、初期化線速度を10m/s以上にすることが可能であり、熱ダメージをより低減することができる。しかし、Sbが90原子%を超えると、種々の元素を添加したとしてもマークの高温高湿度信頼性に劣るため好ましくない。
相変化型光記録層の厚さは8〜14nmが望ましい。8nmより薄いと80℃85%RHの高温高湿での記録マークの結晶化が早くなり寿命が問題となる。一方、14nmを超えると、光記録消去の際に熱の発生が大きくなり、上部保護層への熱ダメージが顕著になり、上部保護層のクラック発生を誘発してしまう。
The phase change optical recording layer material is preferably a phase change material containing 60 to 90 atomic percent of Sb. Specific examples include InSb, GaSb, GeSb, GeSbSn, GaGeSb, GeSbTe, GaGeSbSn, AgInSbTe, GeInSbTe, and GeGaSbTe containing 60 to 90 atomic percent of Sb. From the relationship between the Sb composition ratio and the time required to record the minimum recording mark that enables DVD compatibility or CD compatibility when a DVD + RW medium is manufactured using these phase change materials, the Sb content of the recording layer is 60 atomic% or more. We know that the recording time can be shortened. That is, the melting time of the optical recording layer at the time of recording / erasing can be shortened, and the thermal damage of the optical recording layer and the upper protective layer can be reduced. Further, when the Sb amount is 60 atomic% or more, since the melt initial crystallization of the optical recording medium can be performed at high speed, thermal damage is reduced. Furthermore, when the Sb content is 70 atomic% or more, the initialization linear velocity can be 10 m / s or more, and thermal damage can be further reduced. However, if Sb exceeds 90 atomic%, even if various elements are added, the high temperature and high humidity reliability of the mark is inferior.
The thickness of the phase change optical recording layer is desirably 8 to 14 nm. If it is thinner than 8 nm, the crystallization of the recording mark at a high temperature and high humidity of 80 ° C. and 85% RH is accelerated, and the lifetime becomes a problem. On the other hand, if the thickness exceeds 14 nm, heat generation becomes large at the time of optical recording erasure, thermal damage to the upper protective layer becomes remarkable, and cracks in the upper protective layer are induced.
相変化型光記録媒体の下部保護層、光記録層、上部保護層、Ag又はAg合金からなる光反射層の作製方法としては、プラズマCVD、プラズマ処理、イオンプレーティング、光CVDなどが利用できるが、光記録媒体の製造で汎用されているスパッタが有効である。その代表的作製条件は、圧力10−2〜10−4mbar、スパッタ電力0.1〜5.0kW/200mmφ、製膜速度0.1〜50nm/sである。
色素記録層としては、従来から知られているシアニン色素、アゾ色素、フタロシアニン色素、スクアリリウム色素等が利用される。金属錯体の場合に効果的なのは、Ag系光記録媒体とのマッチングとして、本発明にあるようにTi、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、Wから選ばれる元素を含むことが効果的である。
Plasma CVD, plasma treatment, ion plating, optical CVD, etc. can be used as a method for producing the lower protective layer, optical recording layer, upper protective layer, and light reflecting layer made of Ag or an Ag alloy of the phase change optical recording medium. However, sputtering widely used in the production of optical recording media is effective. The typical production conditions are a pressure of 10 −2 to 10 −4 mbar, a sputtering power of 0.1 to 5.0 kW / 200 mmφ, and a film forming speed of 0.1 to 50 nm / s.
As the dye recording layer, conventionally known cyanine dyes, azo dyes, phthalocyanine dyes, squarylium dyes, and the like are used. In the case of a metal complex, it is effective to contain an element selected from Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, and W as in the present invention as a matching with an Ag-based optical recording medium. It is effective.
樹脂保護層としては、スピンコート法で作製した紫外線硬化型樹脂が好適である。厚さは3〜15μmが適当である。3μmより薄いと、オーバーコート層上に印刷層を設ける場合にエラーの増大が認められることがある。一方、15μmより厚くすると、内部応力が大きくなってしまい、ディスクの機械特性に大きく影響してしまう。
ハードコート層を設ける場合には、スピンコート法で作製した紫外線硬化型樹脂が一般的である。その厚さは、2〜6μmが適当である。2μmより薄くすると、十分な耐擦傷性が得られない。6μmより厚くすると、内部応力が大きくなってしまい、ディスクの機械特性に大きく影響してしまう。その硬度は、布で擦っても大きな傷が付かない鉛筆硬度H以上とする必要がある。必要に応じて導電性の材料を混入させ、帯電防止を図って埃等の付着を防止することも効果的である。
印刷層は、耐擦傷性の確保、ブランド名などのレーベル印刷、インクジェットプリンタに対するインク受容層の形成などを目的としており、紫外線硬化型樹脂をスクリーン印刷法にて形成するのが好適である。その厚さは、3〜50μmが適当である。3μmより薄いと、層形成時にムラが生じてしまうし、50μmより厚くすると、内部応力が大きくなってしまい、ディスクの機械特性に大きく影響してしまう。
As the resin protective layer, an ultraviolet curable resin produced by a spin coating method is suitable. A thickness of 3 to 15 μm is appropriate. If the thickness is less than 3 μm, an increase in error may be observed when a printed layer is provided on the overcoat layer. On the other hand, if it is thicker than 15 μm, the internal stress increases, which greatly affects the mechanical properties of the disk.
When providing a hard coat layer, an ultraviolet curable resin produced by a spin coat method is generally used. The thickness is suitably 2 to 6 μm. If it is thinner than 2 μm, sufficient scratch resistance cannot be obtained. If it is thicker than 6 μm, the internal stress increases, which greatly affects the mechanical properties of the disk. The hardness needs to be not less than the pencil hardness H that does not cause a large scratch even when rubbed with a cloth. It is also effective to mix a conductive material as necessary to prevent electrification by preventing electrification.
The printed layer is used for the purpose of ensuring scratch resistance, label printing such as a brand name, and forming an ink receiving layer for an inkjet printer, and it is preferable to form an ultraviolet curable resin by a screen printing method. The thickness is suitably 3 to 50 μm. If the thickness is less than 3 μm, unevenness occurs when forming the layer, and if the thickness is more than 50 μm, the internal stress increases, which greatly affects the mechanical properties of the disk.
接着層には、紫外線硬化型樹脂、ホットメルト接着剤、シリコーン樹脂などの接着剤を用いることができる。これらの材料は、オーバーコート層又は印刷層上に、材料に応じてスピンコート、ロールコート、スクリーン印刷法などの方法により塗布し、紫外線照射、加熱、加圧等の処理を行なって反対面のディスクと貼り合わせる。反対面のディスクは、同様の単板ディスクでも透明基板のみでも良く、反対面ディスクの貼り合わせ面については、接着層の材料を塗布してもしなくても良い。また、接着層としては、粘着シートを用いることもできる。接着層の膜厚は特に制限されるものではないが、材料の塗布性、硬化性、ディスクの機械特性の影響を考慮すると、5〜100μm、好適には7〜80μmである。接着面の範囲は特に制限されるものではないが、DVD及び/又はCD互換が可能な書き換え型ディスクに応用する場合、高速記録を可能とするためには、接着強度を確保するために、内周端の位置がφ15〜40mm、好適にはφ15〜30mmであることが望ましい。 For the adhesive layer, an adhesive such as an ultraviolet curable resin, a hot melt adhesive, or a silicone resin can be used. These materials are applied on the overcoat layer or the printing layer by a method such as spin coating, roll coating, or screen printing according to the material, and subjected to treatment such as ultraviolet irradiation, heating, and pressurization, so that the opposite surface is coated. Affix with the disc. The disk on the opposite surface may be the same single plate disk or a transparent substrate alone, and the adhesive layer material may or may not be applied to the bonding surface of the opposite disk. Moreover, as an adhesive layer, an adhesive sheet can also be used. The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but it is 5 to 100 μm, preferably 7 to 80 μm, considering the effects of material applicability, curability, and disk mechanical properties. The range of the adhesive surface is not particularly limited, but when applied to a rewritable disc capable of DVD and / or CD compatibility, in order to ensure high-speed recording, it is necessary to ensure the adhesive strength. It is desirable that the position of the peripheral end is φ15 to 40 mm, preferably φ15 to 30 mm.
本発明によれば、より信頼性のある書き損じのない高速・高密度な光記録を実現できる光記録方法、光記録装置、光記録媒体を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide an optical recording method, an optical recording apparatus, and an optical recording medium capable of realizing a more reliable and high-speed and high-density optical recording without writing loss.
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited by these Examples.
実施例1
溝幅0.25μm、溝深さ27nm、ウオブル溝の周期4.26μmの案内溝を有する厚さ0.6mmのポリカーボネート基板を射出成型し、10分間の室温放置後、その上に、下部保護層、界面層、相変化型光記録層、上部保護層、中間層、光反射層を順次スパッタリング法により積層した。基板の内周には、推奨記録ストラテジとして、nTのマーク長記録に対して、パルス数(n−1)/2,n/2がウオブルの位相変調方式で記録されている。
下部保護層には厚さ55nmの(ZnS)80(SiO2)20(モル%)、界面層には厚さ4nmのSiO2、相変化型光記録層には厚さ11nmのGe8Ga6Sb68Sn18、上部保護層には厚さ8nmの(ZnS)80(SiO2)20(モル%)、中間層には厚さ6nmのTi44C26O30、光反射層には厚さ140nmのCu−0.5重量%−純度99.5重量%のAgの光反射層を用いた。
その結果、ポリカーボネート基板/(ZnS)80(SiO2)20(モル%):55nm/SiO2:4nm/Ge8Ga6Sb68Sn18:11nm/(ZnS)80(SiO2)20(モル%):8nm/Ti44C26O30:4nm/Cu−0.5重量%−純度99.5重量%のAg:140nmという層構成を形成した。
このとき、Ag−Cu反射層は、窒素5%のArによるスパッタにより作製し、Ag粒径の増大を極力抑えた。
次いで、光反射層上に、室温粘度120cps、硬化後のガラス転移温度149℃となる紫外線硬化型樹脂(大日本インキ化学工業社製、SD318)をスピンコートして樹脂保護層を形成し、相変化型光記録媒体の単板ディスクを作成した。
次いで、ポリカーボネート製の貼り合わせ基板を、室温粘度450cps、硬化後のガラス転移温度が75℃となる紫外線硬化型接着剤(日本化薬社製、DVD003)で貼り合わせて、相変化型光記録媒体を得、更に80℃85%RHに24時間放置した。
続いて、大口径LD(ビーム径75μm×1μm)を有する日立コンピュータ機器社製初期化装置を用いて、線速度20m/s、電力1600mW、送り45μm/rで、内周から外周に向けて、線速度一定で光記録層を全面結晶化した。
一方、本発明の光記録装置は、(n−1)/2のパルス数からなるパルス列と、(n−1)のパルス数からなるパルス列の2種類の光記録パルス列を予め用意した。この光記録装置は、上記光記録媒体を未知のものと認識するように調整した。
上記光記録媒体を上記光記録装置にセットし、記録パワーPwを20mW、バイアスパワーPbを0.1mWとして動作を確認したところ、未知の光記録媒体と認識し、記録線速度を14m/sに下げて、(n−1)のパルス数でより安定な記録動作を行い、エラーのない記録が実行できた。最小記録マーク長は、0.4μmであった。
Example 1
A 0.6 mm thick polycarbonate substrate having a guide groove with a groove width of 0.25 μm, a groove depth of 27 nm, and a wobble groove period of 4.26 μm is injection-molded and left at room temperature for 10 minutes. The interface layer, the phase change optical recording layer, the upper protective layer, the intermediate layer, and the light reflecting layer were sequentially laminated by the sputtering method. On the inner periphery of the substrate, as a recommended recording strategy, the number of pulses (n-1) / 2 and n / 2 are recorded by the wobble phase modulation method for nT mark length recording.
The lower protective layer is 55 nm thick (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%), the interface layer is 4 nm thick SiO 2 , and the phase change optical recording layer is 11 nm thick Ge 8 Ga 6. Sb 68 Sn 18 , (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) having a thickness of 8 nm for the upper protective layer, Ti 44 C 26 O 30 having a thickness of 6 nm for the intermediate layer, and a thickness for the light reflecting layer A light reflecting layer of 140 nm Cu-0.5 wt% -purity 99.5 wt% Ag was used.
As a result, polycarbonate substrate / (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%): 55 nm / SiO 2 : 4 nm / Ge 8 Ga 6 Sb 68 Sn 18 : 11 nm / (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) ): 8 nm / Ti 44 C 26 O 30 : 4 nm / Cu—0.5 wt% —Purity 99.5 wt% Ag: 140 nm layer structure was formed.
At this time, the Ag—Cu reflective layer was produced by sputtering with Ar of 5% nitrogen, and the increase in Ag particle size was suppressed as much as possible.
Next, an ultraviolet curable resin (SD318, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) having a room temperature viscosity of 120 cps and a glass transition temperature after curing of 149 ° C. is spin-coated on the light reflecting layer to form a resin protective layer. A single disc of a changeable optical recording medium was prepared.
Subsequently, the laminated substrate made of polycarbonate is laminated with an ultraviolet curable adhesive (Nippon Kayaku Co., Ltd., DVD003) having a room temperature viscosity of 450 cps and a glass transition temperature after curing of 75 ° C., and a phase change optical recording medium. And left at 80 ° C. and 85% RH for 24 hours.
Subsequently, using an initialization device manufactured by Hitachi Computer Equipment Co., Ltd. having a large aperture LD (beam diameter 75 μm × 1 μm), linear velocity 20 m / s, power 1600 mW, feed 45 μm / r, from the inner periphery to the outer periphery, The entire optical recording layer was crystallized at a constant linear velocity.
On the other hand, the optical recording apparatus of the present invention prepared in advance two types of optical recording pulse trains, a pulse train composed of (n-1) / 2 pulses and a pulse train composed of (n-1) pulses. This optical recording apparatus was adjusted to recognize the optical recording medium as unknown.
When the optical recording medium was set in the optical recording apparatus and the operation was confirmed with a recording power Pw of 20 mW and a bias power Pb of 0.1 mW, it was recognized as an unknown optical recording medium and the recording linear velocity was set to 14 m / s. It was lowered, and a more stable recording operation was performed with the number of pulses of (n−1), and recording without error could be executed. The minimum recording mark length was 0.4 μm.
実施例2
実施例1と同じ光記録媒体と光記録装置を用い、光記録媒体には、記録に適したパルス列が、(n−1)/2,n/2のパルス数からなるパルス列であるとの情報を持たせた。
上記光記録媒体を上記光記録装置にセットし、記録パワーPwを35mW、バイアスパワーPbを0.1mWとして動作を確認したところ、既知の光記録媒体と認識し、記録線速度を28m/sとし、(n−1)/2のパルス数でより安定な記録動作を行い、エラーのない高速記録が実行できた。最小記録マーク長は、0.4μmであった。
Example 2
Information that the same optical recording medium and optical recording apparatus as in Example 1 are used, and that the pulse train suitable for recording is a pulse train composed of (n−1) / 2 and n / 2 pulses on the optical recording medium. Was held.
When the optical recording medium was set in the optical recording apparatus and the operation was confirmed with a recording power Pw of 35 mW and a bias power Pb of 0.1 mW, it was recognized as a known optical recording medium and the recording linear velocity was set to 28 m / s. , (N-1) / 2 pulses, more stable recording operation was performed, and high-speed recording without errors could be performed. The minimum recording mark length was 0.4 μm.
T 基本クロック周期
Pw 記録パワー
Pe 消去パワー
Pb ボトムパワー
T Basic clock period Pw Recording power Pe Erase power Pb Bottom power
Claims (9)
The optical recording medium according to claim 7 or 8, comprising information on the number of pulses of a plurality of optical recording pulse trains having different numbers of pulses.
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