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JP2006261270A - Laminated body for flexible printed wiring board and method for producing the same - Google Patents

Laminated body for flexible printed wiring board and method for producing the same Download PDF

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JP2006261270A
JP2006261270A JP2005074499A JP2005074499A JP2006261270A JP 2006261270 A JP2006261270 A JP 2006261270A JP 2005074499 A JP2005074499 A JP 2005074499A JP 2005074499 A JP2005074499 A JP 2005074499A JP 2006261270 A JP2006261270 A JP 2006261270A
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JP
Japan
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copper foil
printed wiring
flexible printed
laminate
adhesive strength
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2005074499A
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Japanese (ja)
Inventor
Keifu Chin
勁風 陳
Sukeyuki Matsushita
祐之 松下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Chemical and Materials Co Ltd
Original Assignee
Nippon Steel Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Nippon Steel Chemical Co Ltd filed Critical Nippon Steel Chemical Co Ltd
Priority to JP2005074499A priority Critical patent/JP2006261270A/en
Publication of JP2006261270A publication Critical patent/JP2006261270A/en
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  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

【課題】 ポリイミド樹脂層と銅箔との間の初期接着力を高めると共に、熱負荷後の接着力低下を可及的に低減でき、なおかつ、耐久性に優れ、ファインピッチ配線加工にも対応できるフレキシブルプリント配線板用積層体を提供する。
【解決手段】 少なくとも表面にNi及びZnが付着された銅箔にポリイミド前駆体樹脂溶液を塗工し、酸素濃度1〜10vol%を有する雰囲気下で加熱処理することにより上記ポリイミド前駆体樹脂溶液を乾燥及び硬化させて銅箔上にポリイミド樹脂層を形成するフレキシブルプリント配線板用積層体の製造方法であって、上記で得られた積層板を150℃で168時間保持した後の銅箔の90°方向引き剥がし接着力が1.0kN/m以上を有することを特徴とするフレキシブルプリント配線板用積層体の製造方法、及びこの製造方法によって得たフレキシブルプリント配線板用積層体である。
【選択図】 なし
PROBLEM TO BE SOLVED: To increase the initial adhesive force between a polyimide resin layer and a copper foil, to reduce as much as possible the decrease in adhesive force after heat load, and to be excellent in durability and to cope with fine pitch wiring processing. Provided is a laminate for a flexible printed wiring board.
SOLUTION: A polyimide precursor resin solution is applied to a copper foil having at least Ni and Zn attached to the surface, and heat-treated in an atmosphere having an oxygen concentration of 1 to 10 vol%, whereby the polyimide precursor resin solution is obtained. It is a manufacturing method of the laminated body for flexible printed wiring boards which dries and hardens and forms a polyimide resin layer on copper foil, Comprising: 90 of copper foil after hold | maintaining the laminated board obtained above at 150 degreeC for 168 hours A method for producing a laminate for a flexible printed wiring board having a peel peel adhesive strength of 1.0 kN / m or more, and a laminate for a flexible printed wiring board obtained by this production method.
[Selection figure] None

Description

本発明は、高い初期接着力を発揮すると共に、熱負荷後であっても高い接着力を維持できるフレキシブルプリント配線板用積層板を得るための製造方法及びこの製造方法を用いて得たフレキシブルプリント配線板用積層体に関する。   The present invention provides a manufacturing method for obtaining a laminate for a flexible printed wiring board that exhibits a high initial adhesive force and can maintain a high adhesive force even after a thermal load, and a flexible print obtained by using this manufacturing method The present invention relates to a laminate for a wiring board.

近年、ますます電子機器の小型化、高密度化及び高機能化が進み、フレキシブルプリント配線板のファインピッチ微細加工への対応が求められている。そのため、フレキシブルプリント配線板を形成する導体自体の薄膜化とロープロファイル化(銅箔表面の平坦化)が要求されると同時に、導体である銅箔と絶縁体である絶縁性樹脂との接着強度がより強固であることが強く要求される。一方で、絶縁性樹脂と接する導体の表面がより平坦化されると、導体と絶縁性樹脂との界面での接着力の低下が問題となる。この接着力については、フレキシブルプリント配線板の製造直後のみならず、高密度実装の条件やフレキシブルプリント配線板の使用環境の観点から、加熱負荷や湿熱環境で長期間使用された後の接着力についても優れていることが必要であり、耐熱性や耐久性に優れたフレキシブルプリント配線板の開発が求められている。   In recent years, electronic devices have been increasingly miniaturized, densified, and highly functionalized, and there is a demand for adapting to fine pitch fine processing of flexible printed wiring boards. For this reason, it is required that the conductor itself forming the flexible printed wiring board be made thin and have a low profile (flattening of the copper foil surface), and at the same time, the adhesive strength between the copper foil as the conductor and the insulating resin as the insulator. Is strongly required to be stronger. On the other hand, when the surface of the conductor in contact with the insulating resin is further flattened, a decrease in the adhesive force at the interface between the conductor and the insulating resin becomes a problem. About this adhesive strength, not only immediately after manufacturing the flexible printed wiring board, but also after being used for a long time in a heating load or in a moist heat environment from the viewpoint of high-density mounting conditions and the usage environment of the flexible printed wiring board. Therefore, it is necessary to develop a flexible printed wiring board having excellent heat resistance and durability.

一般に、フレキシブルプリント配線板においては、接着剤層を有さずに、銅箔にポリイミド樹脂を直接コーディングして耐熱性絶縁層を形成する「2層型キャスト」によるものが、耐熱性、寸法変化率、及び絶縁信頼性等の面で優れることが知られている。更には、ファインピッチ配線に対応できるフレキシブルプリント配線板用の材料を提供するために、他の特性を落さず、導体と絶縁樹脂との接着力の向上、特に熱負荷後の接着力低下を防ぐための研究・開発が盛んに行われている。   In general, flexible printed wiring boards do not have an adhesive layer, but are based on a “two-layer cast” in which a polyimide resin is directly coated on a copper foil to form a heat-resistant insulating layer. It is known that it is excellent in terms of efficiency and insulation reliability. Furthermore, in order to provide a material for flexible printed wiring boards that can handle fine pitch wiring, the adhesive strength between the conductor and the insulating resin is improved, especially after thermal load, without lowering other characteristics. Research and development to prevent it is actively conducted.

このような状況の下、例えば、ファインピッチ配線への対応を考慮し、ポリイミドフィルム上に真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング又はめっき等の方法で導電性金属層を形成させる2層型プリント配線板が提案されている。しかしながら、これらのフレキシブルプリント配線板では、金属層(導体)とポリイミドフィルム(絶縁層)との接着力が比較的初期においては満足できるものであっても(80μmピッチ配線での銅箔の90℃引き剥がし接着力が0.6kN/m以上)、長期間使用された後であったり、加熱による負荷や湿熱環境に晒された後での接着力については、必ずしも満足できるものではない。   Under such circumstances, a two-layer printed wiring board in which a conductive metal layer is formed on a polyimide film by a method such as vacuum deposition, sputtering, ion plating, or plating in consideration of the correspondence to fine pitch wiring. Has been proposed. However, in these flexible printed wiring boards, even if the adhesive force between the metal layer (conductor) and the polyimide film (insulating layer) is relatively satisfactory at the initial stage (90 ° C of copper foil with 80 μm pitch wiring) The adhesive strength after peeling off is 0.6 kN / m or more), and after being used for a long time, or after being exposed to a load due to heating or a moist heat environment, it is not always satisfactory.

また、特許文献1(特開平1−321687号公報)では、フィルム表面に樹脂層を介して金属蒸着層を設け、この上に厚膜の金属層をめっき法で積層した「3層型めっき」にかかる技術が提案されている。しかしながら、樹脂層としてエポキシ系樹脂やアクリル系樹脂等を用いると金属層(導体)とフィルム(絶縁体)との接着力は向上されるものの、この樹脂層自体が耐熱性の点で問題がある。
また、特許文献2(特開平4−282844号公報)によれば、絶縁層としてシロキサン系ジアミンを導入したポリイミド樹脂を用いて接着力の向上がなされ、耐熱性の点においても満足できる配線板を得ているが、85℃85%RH等の湿熱条件にて長時間放置した後に200℃を越える温度のハンダ浴に浸けると金属層がはじける、いわゆるポップコーンと呼ばれる現象が起きてしまい、また、金属層との接着強度も著しく低下する。
また、特許文献3(特開平2−284923号公報)には、絶縁層として末端基に架橋性の不飽和官能基を有する末端基変性イミドオリゴマーを用いる方法が示されており、耐湿熱試験後の接着強度の低下を抑えられ、かつ、ポップコーン現象も起きにくくなるが、常温での接着強度が満足できるものではない。
Further, in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 1-321687), a “three-layer plating” in which a metal vapor deposition layer is provided on a film surface via a resin layer, and a thick metal layer is laminated thereon by a plating method. The technique concerning is proposed. However, when an epoxy resin or an acrylic resin is used as the resin layer, the adhesion between the metal layer (conductor) and the film (insulator) is improved, but the resin layer itself has a problem in terms of heat resistance. .
Further, according to Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 4-282844), a wiring board that is improved in adhesive force by using a polyimide resin into which a siloxane-based diamine is introduced as an insulating layer and that is satisfactory in terms of heat resistance is also provided. However, when left in a wet bath at 85 ° C and 85% RH for a long time and then immersed in a solder bath at a temperature exceeding 200 ° C, a metal layer repels, a so-called phenomenon called popcorn occurs. The adhesive strength with the layer is also significantly reduced.
Patent Document 3 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-284923) discloses a method using an end group-modified imide oligomer having a crosslinkable unsaturated functional group at the end group as an insulating layer. Although the decrease in the adhesive strength is suppressed and the popcorn phenomenon hardly occurs, the adhesive strength at room temperature is not satisfactory.

更には、特許文献4(特開平11−92917)では、ポリイミドフィルムをプラズマ処理し、ニッケル、クロム及びチタンから選択した1種類以上の金属の薄膜(中間層)を形成し、さらに銅薄膜を形成することにより得られる金属ポリイミド樹脂積層体について記載している。この方法によれば、銅とポリイミドフィルムとの接着力は向上するが、銅箔膜及び中間層をエッチングする必要があるためエッチング効率が悪く、高精密化が難しいという点で問題がある。また、クロム系合金の製膜コストや廃水処理コストがかかると共に、エッチング廃液処理などが環境に大きな負担をかけるという問題もある。
特開平1−321687号公報 特開平4−282844号公報 特開平2−284923号公報 特開平11−92917号公報
Furthermore, in Patent Document 4 (Japanese Patent Laid-Open No. 11-92917), a polyimide film is subjected to plasma treatment to form a thin film (intermediate layer) of one or more kinds of metals selected from nickel, chromium and titanium, and further a copper thin film is formed. It describes about the metal polyimide resin laminated body obtained by doing. According to this method, the adhesive force between copper and the polyimide film is improved, but there is a problem in that the etching efficiency is poor and high precision is difficult because the copper foil film and the intermediate layer need to be etched. In addition, there is a problem that a chromium alloy film-forming cost and a wastewater treatment cost are incurred, and an etching waste liquid treatment places a heavy burden on the environment.
JP-A-1-321687 JP-A-4-282844 JP-A-2-284923 JP-A-11-92917

ところで、銅箔の表面にキャスティング法によりポリイミド樹脂層を形成してフレキシブルプリント配線板を作製する場合、銅箔とポリイミド樹脂層との接着力を向上させる手段として、銅箔の表面に付着させる金属の種類とその付着量を調整したり、あるいはシランカップリング剤による処理を施したりされるのが一般的である。しかしながら、接着特性、加工特性、及び電気特性等の全てのバランスを取るためには、金属種類や付着量の調整範囲が限られてしまい、また、これらを調整した場合の効果はポリイミド樹脂層を形成する樹脂の特性によってばらつきがある。そのため、金属種類やその付着量の調整のみで接着力の向上を図ることは現実的には困難である。一方、銅箔の表面をシランカップリング剤によって処理すると、接着力向上には効果があるものの、得られたフレキシブルプリント配線板の耐熱性や耐久性に悪影響を及ぼすおそれもある。   By the way, when forming a flexible printed wiring board by forming a polyimide resin layer on the surface of the copper foil by a casting method, as a means for improving the adhesive force between the copper foil and the polyimide resin layer, a metal adhered to the surface of the copper foil In general, the kind and the amount of adhesion thereof are adjusted, or treatment with a silane coupling agent is performed. However, in order to balance all of adhesive properties, processing properties, electrical properties, etc., the adjustment range of metal type and adhesion amount is limited, and the effect of adjusting these is the effect of polyimide resin layer There are variations depending on the characteristics of the resin to be formed. Therefore, it is practically difficult to improve the adhesive force only by adjusting the metal type and the amount of adhesion. On the other hand, when the surface of the copper foil is treated with a silane coupling agent, although it is effective in improving the adhesive force, it may adversely affect the heat resistance and durability of the obtained flexible printed wiring board.

本発明は、キャスティング法により銅箔の表面にポリイミド樹脂層を形成する場合に、銅箔の表面に塗工したポリイミド前駆体樹脂溶液を硬化させる硬化プロセスでの条件を最適化することによって、ポリイミド樹脂層と銅箔との間の初期接着力を高めると共に、熱負荷後の接着力低下を可及的に低減でき、なおかつ、耐久性に優れ、ファインピッチ配線加工にも対応できるフレキシブルプリント配線板用積層体を提供することを目的とする。   In the case where the polyimide resin layer is formed on the surface of the copper foil by the casting method, the present invention optimizes the conditions in the curing process of curing the polyimide precursor resin solution coated on the surface of the copper foil. A flexible printed wiring board that enhances the initial adhesion between the resin layer and the copper foil, and can reduce the decrease in adhesion after thermal load as much as possible. It also has excellent durability and can handle fine pitch wiring. It aims at providing the laminated body for use.

上記問題点を解決するために、本発明者等が詳細に検討したところ、銅箔の表面に付着されるNi濃度が増加すると加熱負荷後の接着性が改善されるが、エッチング特性に対しては好ましくない影響を及ぼすということを確認した。また、このNiが銅箔とポリイミド樹脂層との間において酸化物を形成して、このニッケル酸化物の存在によって銅箔とポリイミド樹脂層との界面が安定化されると共に、このニッケル酸化物が銅箔側からポリイミド樹脂層側へのCu(I)の拡散を防止するバリアー層として働き、ポリイミド樹脂の劣化を防ぐ役割をするという知見を得た。
そして、本発明者らは、これらの知見に基づき、表面にNi及びZnが付着された銅箔にポリイミド前駆体樹脂溶液を塗工し、所定の濃度の酸素を有する雰囲気下で加熱処理することによって得た積層体が、ポリイミド樹脂層と銅箔との間の初期接着力に優れると共に、熱負荷後の接着力の低下が可及的に低減されることを見出し、本発明を完成した。
In order to solve the above problems, the present inventors have studied in detail, and as the Ni concentration attached to the surface of the copper foil increases, the adhesion after heating load is improved. Confirmed that it had an undesirable effect. In addition, the Ni forms an oxide between the copper foil and the polyimide resin layer, and the presence of the nickel oxide stabilizes the interface between the copper foil and the polyimide resin layer, and the nickel oxide We obtained the knowledge that it works as a barrier layer that prevents diffusion of Cu (I) from the copper foil side to the polyimide resin layer side, and serves to prevent deterioration of the polyimide resin.
And based on these findings, the present inventors apply a polyimide precursor resin solution to a copper foil having Ni and Zn attached to the surface, and heat-treat in an atmosphere having a predetermined concentration of oxygen. It was found that the laminate obtained by the above was excellent in the initial adhesive force between the polyimide resin layer and the copper foil, and the decrease in the adhesive force after the thermal load was reduced as much as possible, thereby completing the present invention.

すなわち、本発明は、少なくとも表面にNi及びZnが付着された銅箔にポリイミド前駆体樹脂溶液を塗工し、酸素濃度1〜10vol%を有する雰囲気下で加熱処理することにより上記ポリイミド前駆体樹脂溶液を乾燥及び硬化させて銅箔上にポリイミド樹脂層を形成するフレキシブルプリント配線板用積層体の製造方法であって、上記で得られた積層板を150℃で168時間保持した後の銅箔の90°方向引き剥がし接着力が1.0kN/m以上を有する、フレキシブルプリント配線板用積層体の製造方法である。   That is, in the present invention, the polyimide precursor resin is applied by applying a polyimide precursor resin solution to a copper foil having at least Ni and Zn attached to the surface, and heat-treating in an atmosphere having an oxygen concentration of 1 to 10 vol%. A method for producing a laminate for a flexible printed wiring board in which a solution is dried and cured to form a polyimide resin layer on a copper foil, the copper foil after the laminate obtained above is held at 150 ° C. for 168 hours It is a manufacturing method of the laminated body for flexible printed wiring boards which has a 90 degree direction peeling adhesive force of 1.0 kN / m or more.

本発明において、銅箔については、その表面に少なくともNi及びZnが付着されたものである必要がある。好ましくは銅箔の表面におけるNiの付着量が金属ニッケル換算で2.5〜5.0μg/cm2であるのがよく、また、NiとZnの付着量割合を表すNi/(Ni+Zn)については0.70〜0.90の範囲であるのが好ましい。Niの付着量が2.5μg/cm2より少ないと、銅箔とポリイミド樹脂層との初期ピールが低下し、反対に5.0μg/cm2より多くなると、得られたフレキシブルプリント配線板用積層体に回路加工を行った後の錫めっき工程において、錫が異常析出するという現象が起こり、加工性の低下と電気信頼性不良等の問題を生じるおそれがある。また、Znの付着量については、金属亜鉛換算で0.25〜50μg/cm2、好ましくは1.0〜40μg/cm2であるのがよい。亜鉛の付着量が0.25μg/cm2より少ないと耐熱エージング後の銅箔とポリイミド樹脂層との接着強度が低下し、反対に50μg/cm2より多くなると加工段階で使用される酸などの薬液により、ポリイミド樹脂層と銅箔との界面が侵され、これらの接着強度の低下を引き起こすおそれがある。 In the present invention, the copper foil needs to have at least Ni and Zn attached to its surface. Preferably, the adhesion amount of Ni on the surface of the copper foil is 2.5 to 5.0 μg / cm 2 in terms of metallic nickel, and Ni / (Ni + Zn) representing the adhesion amount ratio of Ni and Zn A range of 0.70 to 0.90 is preferred. When the adhesion amount of Ni is less than 2.5 μg / cm 2 , the initial peel between the copper foil and the polyimide resin layer is lowered, and conversely when it is more than 5.0 μg / cm 2 , the resulting laminate for a flexible printed wiring board is obtained. In the tin plating step after circuit processing is performed on the body, a phenomenon that tin abnormally precipitates occurs, which may cause problems such as deterioration of workability and poor electrical reliability. Also, the deposition amount of Zn, 0.25~50μg / cm 2 of metal zinc terms, it's good preferably 1.0~40μg / cm 2. Adhesion amount of the zinc is decreased adhesive strength between the copper foil and the polyimide resin layer after the thermal aging less than 0.25 [mu] g / cm 2, such as an acid to be used in the processing step is more than 50 [mu] g / cm 2 on the opposite The chemical solution may erode the interface between the polyimide resin layer and the copper foil, which may cause a decrease in the adhesive strength.

NiとZnの付着量割合を表すNi/(Ni+Zn)については、0.70より小さい場合、換言すればZnが多い場合、後述するような、銅箔の表面におけるCu(I)の拡散防止に期待できるニッケル酸化物の連続相の形成を妨げ、接着強度におよぼす加熱処理雰囲気中の酸素濃度の効果が発現できなくなり、反対に0.90より大きくなると、適正なZn量が低下し、初期接着強度の発現が期待できなくなる。銅箔の表面に付着されたNiとZnについては、本発明における加熱処理によってそれぞれ酸化されると考えられ、この際、後述するような、銅箔の表面における種々の金属の拡散を抑制して、ポリイミド樹脂層と銅箔との界面を安定化させる働きをするのがNiの酸化物であると推測される。Znの過剰な存在はNiの酸化を妨げ、接合界面を安定化させるニッケル酸化層の形成を阻止し、Cu(I)の拡散を抑制する効果も期待できなくなる。一方、適正なZn量は接着強度を高めるためには不可欠であり、適正なNiとZnの付着量割合を表す際にNi/(Ni+Zn)が重要な指標となる。   When Ni / (Ni + Zn) representing the adhesion amount ratio of Ni and Zn is smaller than 0.70, in other words, when there is a large amount of Zn, it prevents diffusion of Cu (I) on the surface of the copper foil as described later. The formation of the expected continuous phase of nickel oxide is hindered, and the effect of oxygen concentration in the heat treatment atmosphere on the bonding strength cannot be expressed. On the other hand, when it exceeds 0.90, the appropriate amount of Zn decreases and the initial bonding Strength development cannot be expected. About Ni and Zn adhering to the surface of copper foil, it is thought that each is oxidized by the heat treatment in the present invention. At this time, the diffusion of various metals on the surface of the copper foil as described later is suppressed. It is presumed that the oxide of Ni functions to stabilize the interface between the polyimide resin layer and the copper foil. Excessive presence of Zn prevents the oxidation of Ni, prevents the formation of a nickel oxide layer that stabilizes the bonding interface, and prevents the effect of suppressing the diffusion of Cu (I). On the other hand, an appropriate amount of Zn is indispensable for increasing the adhesive strength, and Ni / (Ni + Zn) is an important index when expressing an appropriate adhesion amount ratio of Ni and Zn.

銅箔の表面にNi及びZnを付着させる手段としては、例えば電気めっき法、無電解めっき法、蒸着法、スパッタ法等を挙げることができ、金属の付着量の制御が比較的容易であることから電気めっき法を用いるのが好ましい。この際に用いるめっき浴については、少なくともNi及びZnを含んだ酸性浴であるのがよい。   As means for attaching Ni and Zn to the surface of the copper foil, for example, electroplating method, electroless plating method, vapor deposition method, sputtering method and the like can be mentioned, and control of the amount of metal adhesion is relatively easy. It is preferable to use an electroplating method. The plating bath used at this time is preferably an acidic bath containing at least Ni and Zn.

また、本発明において、銅箔の表面には上記金属以外にB、Al、P、Ti、Cr、Mn、Fe、Co、Ag、In、Zr、Sn、Nb、Mo、Ru、Rh、Pd、Pb、Ta、W、Ir及びPtから選ばれる少なくとも1種以上の金属或いはこれらの合金が付着されていてもよい。これらの金属はNi及びZnさらに上記金属からなる表面処理金属の粒径制御と接着界面の強化等の働きをすると考えられる。   In addition, in the present invention, the surface of the copper foil other than the above metals, B, Al, P, Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ag, In, Zr, Sn, Nb, Mo, Ru, Rh, Pd, At least one metal selected from Pb, Ta, W, Ir and Pt, or an alloy thereof may be attached. These metals are considered to function to control the particle size of the surface-treated metal made of Ni and Zn and the above metals and to strengthen the adhesion interface.

また、本発明において用いられる銅箔については、電解銅箔または圧延銅箔のいずれであってもよく、その厚さについては特に制限されないが、通常は5〜80μmのものが用いられ、好ましくは9〜35μmのものが用いられる。また、銅箔の表面粗さについては、ポリイミド前駆体樹脂溶液を塗工する側の表面のRzが1.0μm以下であれば、本発明の効果をより向上させることができる観点から好ましい。尚、上記Rzは、表面粗さにおける十点平均粗さ(JIS B 0601-1994)を示す。   Further, the copper foil used in the present invention may be either an electrolytic copper foil or a rolled copper foil, and the thickness thereof is not particularly limited, but usually 5 to 80 μm is used, preferably 9 to 35 μm is used. Moreover, about the surface roughness of copper foil, if Rz of the surface by which the polyimide precursor resin solution is coated is 1.0 micrometer or less, it is preferable from a viewpoint which can improve the effect of this invention more. In addition, said Rz shows the ten-point average roughness (JIS B 0601-1994) in surface roughness.

また、本発明においては、Ni及びZnが付着された銅箔の表面に対して、酸化クロム層を設けるのが好ましい。この酸化クロム層の存在によって、ポリイミド樹脂層と銅箔との接着強度をより一層向上させることができ、また、銅箔の錆の発生を抑制させることもできる。この酸化クロム層については、例えば特公昭61-33906号公報に記載されているような、一般的なクロメート処理によって形成することができる。   Moreover, in this invention, it is preferable to provide a chromium oxide layer with respect to the surface of the copper foil to which Ni and Zn were adhered. The presence of this chromium oxide layer can further improve the adhesive strength between the polyimide resin layer and the copper foil, and can also suppress the occurrence of rust on the copper foil. The chromium oxide layer can be formed by a general chromate treatment as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 61-33906.

本発明において、上記銅箔の表面(Ni及びZnが付着された側)に塗工するポリイミド前駆体樹脂溶液としては、公知のジアミンと酸無水物とを溶媒の存在下で重合して得ることができる。
例えば、用いられるテトラカルボン酸二無水物としては、無水ピロメリット酸(PMDA)、3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)、3,3',4,4'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸無水物(DSDA)、3,3',4,4'-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、4,4'-オキシジフタル酸無水物等を挙げることができ、好ましくは無水ピロメリット酸(PMDA)、3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)、3,3',4,4'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸無水物(DSDA)である。また、芳香族ジアミンとしては、2,2'−ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン(BAPP)、1,3−ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン(TPR-E)、4,4'−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル(BAPB)、4,4'-ジアミノジフェニルエーテル、2'-メトキシ4,4'-ジアミノベンズアニリド、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2'-ジメチル-4,4'-ジアミノビフェニル、3,3'-ジヒドロキシ-4,4'-ジアミノビフェニル、4,4'-ジアミノベンズアニリド等を挙げることができ、好ましくは2,2'−ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン(BAPP)、1,3−ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン(TPR-E)、4,4'−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル(BAPB)である。
これらのテトラカルボン酸二無水物や芳香族ジアミンについては、それぞれ、1種のみを使用してもよく2種以上を併用して使用することもできる。
In the present invention, the polyimide precursor resin solution to be coated on the surface of the copper foil (the side to which Ni and Zn are attached) is obtained by polymerizing a known diamine and acid anhydride in the presence of a solvent. Can do.
For example, as tetracarboxylic dianhydride used, pyromellitic anhydride (PMDA), 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), 3,3 ′, 4,4 '-Benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA), 3,3', 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic anhydride (DSDA), 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic acid Anhydride, 4,4′-oxydiphthalic anhydride, etc. can be mentioned, preferably pyromellitic anhydride (PMDA), 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA), 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic anhydride (DSDA). As aromatic diamines, 2,2′-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP), 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (TPR-E), 4, 4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl (BAPB), 4,4′-diaminodiphenyl ether, 2′-methoxy 4,4′-diaminobenzanilide, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 2 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dihydroxy-4,4'-diaminobiphenyl, 4,4'-diaminobenzanilide, etc., preferably 2,2 ' -Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP), 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (TPR-E), 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl ( BAPB).
Each of these tetracarboxylic dianhydrides and aromatic diamines may be used alone or in combination of two or more.

溶媒については、ジメチルアセトアミド、n-メチルピロリジノン、2-ブタノン、ジグライム、キシレン等が挙げられ、これらの1種若しくは2種以上を併用して使用することもできる。
重合したポリイミド前駆体樹脂溶液の粘度については、銅箔表面への濡れ性と均一な膜厚の制御および塗工の容易さの観点から、好ましくは500cps〜35,000cpsの範囲となるようにするのがよい。また、銅箔の表面に塗工するポリイミド前駆体樹脂溶液については、得られる配線板用積層体の用途にもよるが、銅箔の表面に12μm〜60μm程度の膜厚のポリイミド樹脂層が形成されるようにするのがよい。
Examples of the solvent include dimethylacetamide, n-methylpyrrolidinone, 2-butanone, diglyme, xylene and the like, and these can be used alone or in combination.
The viscosity of the polymerized polyimide precursor resin solution is preferably in the range of 500 cps to 35,000 cps from the viewpoints of wettability to the copper foil surface, uniform film thickness control, and ease of coating. It is good. Moreover, about the polyimide precursor resin solution coated on the surface of copper foil, although depending on the use of the laminated body for wiring boards obtained, the polyimide resin layer with a film thickness of about 12 μm to 60 μm is formed on the surface of the copper foil. It is good to be done.

また、本発明においては、銅箔の表面にポリイミド前駆体樹脂溶液を塗工して、酸素濃度1〜10vol%、好ましくは2〜5vol%を有する雰囲気下で加熱処理することによって、上記ポリイミド前駆体樹脂溶液を乾燥及び硬化させて銅箔上にポリイミド樹脂層を形成する。加熱処理における雰囲気については、酸素濃度が上記値になるようにして、その他として、例えば窒素(N)、ヘリウム(He)、アルゴン(Ar)等を含むようにするのがよい。また、この加熱処理については、ポリイミド樹脂の種類や銅箔の大きさ等によって異なるが、一般には100〜400℃の温度範囲で、加熱時間の合計が20〜40分程度となるようにするのがよい。   In the present invention, the polyimide precursor resin solution is applied to the surface of the copper foil, and the polyimide precursor is heat-treated in an atmosphere having an oxygen concentration of 1 to 10 vol%, preferably 2 to 5 vol%. The body resin solution is dried and cured to form a polyimide resin layer on the copper foil. As for the atmosphere in the heat treatment, it is preferable that the oxygen concentration be the above value, and other examples include nitrogen (N), helium (He), argon (Ar), and the like. Moreover, about this heat processing, although it changes with the kind of polyimide resin, the magnitude | size of copper foil, etc., generally, it is made for the total of heating time to be about 20 to 40 minutes in the temperature range of 100-400 degreeC. Is good.

銅箔の表面にポリイミド前駆体樹脂溶液を塗工し、次いで加熱処理するこれらの工程は、2回以上繰り返して行ってもよい。すなわち、銅箔の表面にポリイミド前駆体樹脂溶液を塗工し、次いで所定の条件で加熱処理を行ってポリイミド前駆体樹脂溶液を乾燥及び硬化させた後、再びその表面にポリイミド前駆体樹脂溶液を塗工し、所定の加熱処理を行うようにしてもよい。なお、ポリイミド前駆体樹脂溶液を複数回塗工する場合には、同じポリイミド前駆体樹脂溶液を用いてもよく、異なるものを用いてもよい。   These steps of applying the polyimide precursor resin solution to the surface of the copper foil and then heat-treating may be repeated twice or more. That is, a polyimide precursor resin solution is applied to the surface of the copper foil, and then subjected to heat treatment under predetermined conditions to dry and cure the polyimide precursor resin solution, and then the polyimide precursor resin solution is applied to the surface again. It may be coated and subjected to a predetermined heat treatment. In addition, when applying a polyimide precursor resin solution in multiple times, the same polyimide precursor resin solution may be used and a different thing may be used.

少なくとも表面にNi及びZnが付着された銅箔を用いてこの金属付着面にポリイミド前駆体樹脂溶液を塗工し、所定の酸素分圧環境下で加熱処理を行うことで、得られる積層体の銅箔とポリイミド樹脂層との接着力が製造初期において優れると共に、長期間使用後や加熱による負荷又は湿熱環境下に晒された後であっても優れた接着力を有することについて、以下のように推測する。
本発明者らは、種々の実験を通じて、銅箔とポリイミド樹脂層との界面に形成されるNi及びZnの酸化物が接着力の向上に関係するという考えに至った。表面にNi及びZnが付着された銅箔にポリイミド前駆体樹脂溶液を塗工してこのポリイミド前駆体樹脂溶液を乾燥及び硬化させる際に、所定の酸素分圧環境下で加熱処理を行うことで、銅箔とポリイミド樹脂層との間に上記金属の酸化物が形成され、この酸化物の厚みを制御することで、銅箔とポリイミド樹脂層との密着性が改善されることを見出した。すなわち、銅箔の表面に付着されたNi及びZnが、上記加熱処理によって銅箔とポリイミド樹脂層との界面に酸化物を形成する。これらの金属の酸化物は、ポリアミック酸(ポリイミド前駆体樹脂溶液)と反応し易く、ポリイミド樹脂層と銅箔との間に強い化学結合を形成し、銅箔とポリイミド樹脂層との接着力の向上に寄与するものと考えられる。また、銅箔とポリイミド樹脂層との界面において形成された上記金属酸化物は、銅箔とポリイミド樹脂層の界面を安定化させ、ポリイミド樹脂層の劣化原因のひとつと考えられる銅箔側からポリイミド樹脂層側へのCu(I)の拡散を防ぐ働きも確認された。
By applying a polyimide precursor resin solution to this metal adhesion surface using a copper foil having Ni and Zn adhered on at least the surface, and performing a heat treatment under a predetermined oxygen partial pressure environment, The adhesive strength between the copper foil and the polyimide resin layer is excellent in the initial stage of manufacture, and has excellent adhesive strength even after being used for a long period of time or after being exposed to a load caused by heating or a moist heat environment. To guess.
Through various experiments, the present inventors have come to the idea that the oxides of Ni and Zn formed at the interface between the copper foil and the polyimide resin layer are related to the improvement in adhesion. When a polyimide precursor resin solution is applied to a copper foil with Ni and Zn attached to the surface and this polyimide precursor resin solution is dried and cured, heat treatment is performed in a predetermined oxygen partial pressure environment. It has been found that an oxide of the metal is formed between the copper foil and the polyimide resin layer, and that the adhesion between the copper foil and the polyimide resin layer is improved by controlling the thickness of the oxide. That is, Ni and Zn attached to the surface of the copper foil form an oxide at the interface between the copper foil and the polyimide resin layer by the heat treatment. These metal oxides easily react with polyamic acid (polyimide precursor resin solution), form a strong chemical bond between the polyimide resin layer and the copper foil, and have an adhesive force between the copper foil and the polyimide resin layer. It is thought that it contributes to improvement. In addition, the metal oxide formed at the interface between the copper foil and the polyimide resin layer stabilizes the interface between the copper foil and the polyimide resin layer, and the polyimide from the copper foil side, which is considered to be one of the causes of deterioration of the polyimide resin layer. The function of preventing the diffusion of Cu (I) to the resin layer side was also confirmed.

ところで、ポリイミド樹脂は酸素の存在下で高温に晒されると劣化すると考えられていることから、通常、銅箔の表面に塗工したポリアミック酸(ポリイミド前駆体樹脂溶液)を乾燥及び硬化させる際には、不活性ガス雰囲気下で行うことが一般的である。また、得られた積層板をパターン形成する際にポリイミド樹脂層と銅箔との間に存在する金属酸化物によって、ラインの表面が荒くなり、パターンの直線性に悪影響を及ぼすと考えられていることからも、上記のように不活性ガス雰囲気下で加熱処理が一般的であるとされる。   By the way, since it is thought that a polyimide resin deteriorates when exposed to a high temperature in the presence of oxygen, when polyamic acid (polyimide precursor resin solution) coated on the surface of a copper foil is dried and cured, Is generally performed in an inert gas atmosphere. In addition, it is considered that the surface of the line becomes rough due to the metal oxide existing between the polyimide resin layer and the copper foil when patterning the obtained laminate, and adversely affects the linearity of the pattern. For this reason, the heat treatment is generally performed under an inert gas atmosphere as described above.

これに対して本発明者らは、上記知見に基づき、加熱処理の雰囲気には適切な酸素濃度が存在することを見出して本発明を完成した。加熱処理の雰囲気における酸素の存在によって、銅箔とポリイミド樹脂層との界面の安定化をもたらし、銅箔とポリイミド樹脂層との接着力を向上させる。反対に、加熱処理における酸素濃度が所定濃度を超えると、銅箔とポリイミド樹脂層との界面の酸化膜の膜厚が厚くなりすぎて、銅箔とポリイミド樹脂層との密着性が低下すると共に、その酸化膜自体も脆弱であることから、結果として接着力の向上は図れないと考えられる。   On the other hand, the present inventors have found that an appropriate oxygen concentration exists in the atmosphere of the heat treatment based on the above knowledge, and completed the present invention. The presence of oxygen in the heat treatment atmosphere stabilizes the interface between the copper foil and the polyimide resin layer, and improves the adhesive force between the copper foil and the polyimide resin layer. On the contrary, when the oxygen concentration in the heat treatment exceeds a predetermined concentration, the thickness of the oxide film at the interface between the copper foil and the polyimide resin layer becomes too thick, and the adhesion between the copper foil and the polyimide resin layer decreases. Since the oxide film itself is also fragile, it is considered that the adhesive force cannot be improved as a result.

少なくとも表面にNi及びZnが付着された銅箔を用いてこの金属付着面にポリイミド前駆体樹脂溶液を塗工し、所定の酸素分圧環境下で加熱処理を行うことで、得られる積層体の銅箔とポリイミド樹脂層との接着力が製造初期において優れると共に、長期間使用後や加熱による負荷又は湿熱環境下に晒された後であっても優れた接着力を有する。このようにして得られた積層体は、耐熱性及び耐久性に優れ、ファインピッチ配線加工にも対応できることから、フレキシブルプリント配線板に好適に用いることができる。そして、本発明においては、このような積層体を簡便な制御で安価に製造することができる。   By applying a polyimide precursor resin solution to this metal adhesion surface using a copper foil having Ni and Zn adhered on at least the surface, and performing a heat treatment under a predetermined oxygen partial pressure environment, Adhesive strength between the copper foil and the polyimide resin layer is excellent in the initial stage of manufacture, and excellent adhesive strength is obtained even after long-term use or after being exposed to a load due to heating or a moist heat environment. The laminate obtained in this way is excellent in heat resistance and durability, and can be used for fine pitch wiring processing. Therefore, it can be suitably used for a flexible printed wiring board. And in this invention, such a laminated body can be manufactured cheaply by simple control.

以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、以下の実施例において、特に断りのない限り各種評価については下記によるものである。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail based on an Example, this invention is not limited to these. In the following examples, unless otherwise noted, various evaluations are as follows.

[接着力の測定]
銅箔と絶縁層との間の接着力は、銅箔上にポリイミド樹脂層を形成した後、線幅0.1mmに回路加工を行い、東洋精機株式会社製引張試験機(ストログラフ−M1)を用いて、銅箔を90°方向に引き剥がし測定した。本明細書で記載する初期接着力とは積層体を製造した後に熱処理せず、そのままの状態で測定した接着力を意味する。また、初期接着力を測定した積層体を大気雰囲気の環境の下で150℃に保持する耐熱試験を行い、この耐熱試験から48時間後、96時間後、及び168時間後の接着力を測定した。
[Measurement of adhesive strength]
The adhesive strength between the copper foil and the insulating layer is that after forming a polyimide resin layer on the copper foil, circuit processing is performed to a line width of 0.1 mm, and a tensile tester manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. (Strograph-M1) The copper foil was peeled off in the 90 ° direction and measured. The initial adhesive force described in this specification means an adhesive force measured as it is without heat treatment after the laminate is manufactured. In addition, a heat resistance test was performed in which the laminate with the initial adhesive strength measured was held at 150 ° C. in an atmospheric environment, and the adhesive strength was measured 48 hours, 96 hours, and 168 hours after the heat resistance test. .

次に、下記実施例及び比較例で用いたポリイミド樹脂の前駆体ポリアミック酸溶液の合成ついて詳しく説明する。   Next, the synthesis of the polyimide resin precursor polyamic acid solution used in the following Examples and Comparative Examples will be described in detail.

[合成例1]
熱電対及び攪拌機を備えると共に窒素導入が可能な反応容器にn-メチルピロリジノンを入れ、この反応容器を容器に入った氷水に浸けた後、反応容器に無水ピロメリット酸(以下PMDA)を投入し、その後、4,4'-ジアミノジフェニルエーテル、(以下DAPE)と2'-メトキシ4,4'-ジアミノベンズアニリド(以下MABA)を投入した。モノマーの投入総量が15wt%であって、各ジアミンのモル比率がMABA:DAPE=60:40となり、酸無水物とジアミンのモル比が0.98:1.0となるように投入した。その後、更に攪拌を続け、反応容器内の温度が室温から±5℃の範囲となった時に反応容器を氷水から外した。室温のまま3時間攪拌を続け、得られたポリアミック酸の溶液粘度は15,000cpsであった。
[Synthesis Example 1]
Put n-methylpyrrolidinone in a reaction vessel equipped with a thermocouple and stirrer and capable of introducing nitrogen, immerse this reaction vessel in ice water, and then add pyromellitic anhydride (PMDA) to the reaction vessel. Thereafter, 4,4′-diaminodiphenyl ether (hereinafter referred to as DAPE) and 2′-methoxy 4,4′-diaminobenzanilide (hereinafter referred to as MABA) were added. The total amount of monomers was 15 wt%, the molar ratio of each diamine was MABA: DAPE = 60: 40, and the molar ratio of acid anhydride to diamine was 0.98: 1.0. Thereafter, stirring was further continued, and the reaction vessel was removed from the ice water when the temperature in the reaction vessel was in the range of room temperature to ± 5 ° C. Stirring was continued for 3 hours at room temperature, and the solution viscosity of the resulting polyamic acid was 15,000 cps.

[合成例2]
熱電対及び攪拌機を備えると共に窒素導入が可能な反応容器にn-メチルピロリジノンを入れ、この反応容器を容器に入った氷水に浸けた後、反応容器にPMDA/3,4'3,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(以下BTDA)を投入し、その後、4,4'-ジアミノジフェニルエーテル、(以下DAPE)を投入した。モノマーの投入総量が15wt%であって、各酸無水物のモル比率がBTDA:PMDA=70:30となり、酸無水物とジアミンのモル比が1.03:1.0となるように投入した。その後、更に攪拌を続け、反応容器内の温度が室温から±5℃の範囲となった時に反応容器を氷水から外した。室温のまま3時間攪拌を続け、得られたポリアミック酸の溶液粘度は3,200cpsであった。
[Synthesis Example 2]
A reaction vessel equipped with a thermocouple and a stirrer and into which nitrogen can be introduced is charged with n-methylpyrrolidinone. The reaction vessel is immersed in ice water, and then the reaction vessel is charged with PMDA / 3,4'3,4'- Biphenyltetracarboxylic dianhydride (hereinafter referred to as BTDA) was charged, and then 4,4′-diaminodiphenyl ether (hereinafter referred to as DAPE) was charged. The total amount of monomers added was 15 wt%, the molar ratio of each acid anhydride was BTDA: PMDA = 70: 30, and the molar ratio of acid anhydride to diamine was 1.03: 1.0. Thereafter, stirring was further continued, and the reaction vessel was removed from the ice water when the temperature in the reaction vessel was in the range of room temperature to ± 5 ° C. Stirring was continued for 3 hours at room temperature, and the solution viscosity of the resulting polyamic acid was 3,200 cps.

[合成例3]
熱電対及び攪拌機を備えると共に窒素導入が可能な反応容器にn-メチルピロリジノンを入れ、この反応容器を容器に入った氷水に浸けた後、反応容器に3,3',4,4'-ジフェニルスルフォンテトラカルボン酸二無水物(以下DSDA)とPMDAを投入し、その後、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン(以下TPE-R)を投入した。モノマーの投入総量が15wt%であり、各酸無水物のモル比率がDSDA:PMDA=90:10となり、酸無水物とジアミンのモル比が1.03:1.0となるよう投入した。その後、更に攪拌を続け、反応容器内の温度が室温から±5℃の範囲となった時に反応容器を氷水から外した。室温のまま3時間攪拌を続けられたポリアミック酸の溶液粘度は3,200cpsであった。
[Synthesis Example 3]
Place n-methylpyrrolidinone in a reaction vessel equipped with a thermocouple and a stirrer and capable of introducing nitrogen, immerse this reaction vessel in ice water and then put 3,3 ', 4,4'-diphenyl in the reaction vessel. Sulfonetetracarboxylic dianhydride (hereinafter referred to as DSDA) and PMDA were charged, and then 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (hereinafter referred to as TPE-R) was charged. The total amount of monomers charged was 15 wt%, the molar ratio of each acid anhydride was DSDA: PMDA = 90: 10, and the molar ratio of acid anhydride to diamine was 1.03: 1.0. Thereafter, stirring was further continued, and the reaction vessel was removed from the ice water when the temperature in the reaction vessel was in the range of room temperature to ± 5 ° C. The solution viscosity of polyamic acid which was kept stirring at room temperature for 3 hours was 3,200 cps.

[合成例4]
熱電対及び攪拌機を備えると共に窒素導入が可能な反応容器にN,N-ジメチルアセトアミドを入れ、この反応容器に4,4'-ジアミノ-2,2'-ジメチルビフェニル(DADMB)および1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン(DAB)を容器中で撹拌しながら溶解させた。次に3,3' 4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物およびピロメリット酸二無水物を加えた。各ジアミンのモル比率がDADMB:BAB=90:10となり、各酸無水物のモル比率がBPDA:PMDA=20:79となるように投入した。その後、3時間撹拌を続け、無水ピロメリット酸(以下PMDA)を投入し、その後、4,4'-ジアミノジフェニルエーテル、(以下DAPE)と2'-メトキシ4,4'-ジアミノベンズアニリド(以下MABA)を投入した。モノマーの投入総量が15wt%であって、各ジアミンのモル比率がMABA:DAPE=60:40となり、酸無水物とジアミンのモル比が0.98:1.0となるように投入した。その後、更に攪拌を続け、反応容器内の温度が室温から±5℃の範囲となった時に反応容器を氷水から外した。室温のまま3時間攪拌を続け、得られたポリアミック酸の溶液粘度は15,000cpsであった。
[Synthesis Example 4]
A reaction vessel equipped with a thermocouple and a stirrer and capable of introducing nitrogen was charged with N, N-dimethylacetamide, and 4,4′-diamino-2,2′-dimethylbiphenyl (DADMB) and 1,3- Bis (4-aminophenoxy) benzene (DAB) was dissolved in the vessel with stirring. Then 3,3 '4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and pyromellitic dianhydride were added. The molar ratio of each diamine was DADMB: BAB = 90: 10, and the molar ratio of each acid anhydride was BPDA: PMDA = 20: 79. Thereafter, stirring was continued for 3 hours, and pyromellitic anhydride (hereinafter PMDA) was added, and then 4,4′-diaminodiphenyl ether (hereinafter DAPE) and 2′-methoxy 4,4′-diaminobenzanilide (hereinafter MABA). ). The total amount of monomers was 15 wt%, the molar ratio of each diamine was MABA: DAPE = 60: 40, and the molar ratio of acid anhydride to diamine was 0.98: 1.0. Thereafter, stirring was further continued, and the reaction vessel was removed from the ice water when the temperature in the reaction vessel was in the range of room temperature to ± 5 ° C. Stirring was continued for 3 hours at room temperature, and the solution viscosity of the resulting polyamic acid was 15,000 cps.

[合成例5]
熱電対及び攪拌機を備えると共に窒素導入が可能な反応容器にn-メチルピロリジノンを入れ、この反応容器を容器に入った氷水に浸けた後、反応容器に無水ピロメリット酸(以下PMDA)を投入し、その後、4,4'-ジアミノジフェニルエーテル、(以下DAPE)と2'-メトキシ4,4'-ジアミノベンズアニリド(以下MABA)を投入した。モノマーの投入総量が15wt%であって、各ジアミンのモル比率がMABA:DAPE=60:40となり、酸無水物とジアミンのモル比が0.98:1.0となるように投入した。その後、更に攪拌を続け、反応容器内の温度が室温から±5℃の範囲となった時に反応容器を氷水から外した。室温のまま3時間攪拌を続け、得られたポリアミック酸の溶液粘度は15,000cpsであった。
[Synthesis Example 5]
Put n-methylpyrrolidinone in a reaction vessel equipped with a thermocouple and stirrer and capable of introducing nitrogen, immerse this reaction vessel in ice water, and then add pyromellitic anhydride (PMDA) to the reaction vessel. Thereafter, 4,4′-diaminodiphenyl ether (hereinafter referred to as DAPE) and 2′-methoxy 4,4′-diaminobenzanilide (hereinafter referred to as MABA) were added. The total amount of monomers was 15 wt%, the molar ratio of each diamine was MABA: DAPE = 60: 40, and the molar ratio of acid anhydride to diamine was 0.98: 1.0. Thereafter, stirring was further continued, and the reaction vessel was removed from the ice water when the temperature in the reaction vessel was in the range of room temperature to ± 5 ° C. Stirring was continued for 3 hours at room temperature, and the solution viscosity of the resulting polyamic acid was 15,000 cps.

Ni/Zn系表面金属処理が施されてNi及びZnが表面に付着された銅箔A(厚み18μm、Rz=0.71μm、Ni付着量7.4μg/cm2 、Ni/(Ni+Zn)=0.81)の当該表面に合成例1に示したポリアミック酸のジメチルアセトアミド溶液(12〜18%)を塗布して乾燥させた後、さらに合成例4に示したポリアミック酸溶液を用いて、硬化後のポリイミド膜厚が40μmになるようにバーコーターを用いて均一に塗布した。
次いで、ポリアミック酸を塗工した銅箔Aを120℃〜150℃の温度で30分間大気オープンで乾燥させた後、窒素と酸素の混合ガス中の酸素濃度が精密流量計で2%(vol%)になるように雰囲気を制御した小型真空電気炉(株式会社美和製作所製、MT-1100A+G、真空到達度60Pa、以下同様)を用いて160℃×20分、250℃×30分、350℃×10分の加熱処理を行い硬化させて積層体を得た。
Copper foil A having a Ni / Zn-based surface metal treatment and Ni and Zn adhered to the surface (thickness 18 μm, Rz = 0.71 μm, Ni adhesion amount 7.4 μg / cm 2 , Ni / (Ni + Zn) = 0 .81) is applied on the surface with a dimethylacetamide solution of polyamic acid shown in Synthesis Example 1 (12 to 18%) and dried, and then cured using the polyamic acid solution shown in Synthesis Example 4. The polyimide film was uniformly coated using a bar coater so that the polyimide film thickness was 40 μm.
Next, after the copper foil A coated with polyamic acid was dried at 120 ° C. to 150 ° C. for 30 minutes in an open atmosphere, the oxygen concentration in the mixed gas of nitrogen and oxygen was 2% (vol%) with a precision flow meter. ) 160 ° C. × 20 minutes, 250 ° C. × 30 minutes, 350 using a small vacuum electric furnace (Miwa Seisakusho Co., Ltd., MT-1100A + G, vacuum attainment level 60 Pa, the same applies below) with controlled atmosphere A laminate was obtained by curing by heating at 10 ° C. for 10 minutes.

上記で得られた積層体における銅箔に1mm幅のパターンを加工し、この銅箔を90°方向に引き剥がして90度ピール強度を測定したところ、初期接着力が2.30kN/mであった。また、この積層体について耐熱試験を行い、各時間経過後の接着力を測定したところ、168時間経過後が1.62kN/mであった。初期接着力と耐熱試験による接着力とをまとめたグラフを図1に示す。   A pattern of 1 mm width was processed on the copper foil in the laminate obtained above, the copper foil was peeled off in the 90 ° direction, and the 90 ° peel strength was measured. The initial adhesive strength was 2.30 kN / m. It was. Moreover, when the laminated body was subjected to a heat resistance test and the adhesive strength after each time passed was measured, it was 1.62 kN / m after 168 hours passed. A graph summarizing the initial adhesive strength and the adhesive strength by the heat resistance test is shown in FIG.

また、得られた積層体について、レーザー顕微鏡を用いて銅箔の裏面の酸化スケールを色調で確認した。銅箔のレジスト面に相当する面の酸化度合が回路加工時のライン直線性に影響を与えると考えられることから、加熱処理して得た積層体の銅箔のレジスト面について色調観察を行って酸化スケールを確認したところ、熱処理前との色調の変化は認められなかった。更には、回路加工時のラインの直線性を確認するため、レーザー顕微鏡(倍率2000倍)を用いて評価したところ、良好な直線性を示すことが分かった(図2)。なお、図2に示したレーザー顕微鏡写真において、比較的太く写った色の濃い2本が回路部分の銅箔であり、この2本の回路に挟まれた中央およびそれぞれの回路の端に写った比較的細い色の薄い部分がポリイミド樹脂の露出部分である。   Moreover, about the obtained laminated body, the oxidation scale of the back surface of copper foil was confirmed with the color tone using the laser microscope. Since the oxidation degree of the surface corresponding to the resist surface of the copper foil is thought to affect the line linearity during circuit processing, color tone observation is performed on the resist surface of the copper foil of the laminate obtained by heat treatment. When the oxide scale was confirmed, no change in color tone before the heat treatment was observed. Furthermore, in order to confirm the linearity of the line at the time of circuit processing, when it evaluated using the laser microscope (2000-times multiplication factor), it turned out that favorable linearity is shown (FIG. 2). In the laser micrograph shown in FIG. 2, two relatively dark colored pieces are copper foils of the circuit portion, and are shown at the center between the two circuits and at the end of each circuit. The thin part of the relatively thin color is the exposed part of the polyimide resin.

窒素と酸素の混合ガス中の酸素濃度を5vol%にして加熱処理を行う以外は実施例1と同様にして積層体を製造した。
得られた積層体における銅箔に1mm幅のパターンを加工して90度ピール強度を測定したところ、初期接着力が1.97kN/mであった。また、この積層体について耐熱試験を行い、各時間経過後の接着力を測定したところ、168時間経過後が1.64kN/mであった。初期接着力と耐熱試験による接着力とをまとめたグラフを図1に示す。
A laminate was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the heat treatment was performed with the oxygen concentration in the mixed gas of nitrogen and oxygen being 5 vol%.
When the pattern of 1 mm width was processed into the copper foil in the obtained laminate and the 90-degree peel strength was measured, the initial adhesive strength was 1.97 kN / m. Moreover, when the heat resistance test was done about this laminated body and the adhesive force after each time progress was measured, it was 1.64 kN / m after 168 time progress. A graph summarizing the initial adhesive strength and the adhesive strength by the heat resistance test is shown in FIG.

窒素と酸素の混合ガス中の酸素濃度を10vol%にして加熱処理を行う以外は実施例1と同様にして積層体を製造した。
得られた積層体における銅箔に1mm幅のパターンを加工して90度ピール強度を測定したところ、初期接着力が1.84kN/mであった。また、この積層体について耐熱試験を行い、各時間経過後の接着力を測定したところ、168時間経過後が1.62kN/mであった。初期接着力と耐熱試験による接着力とをまとめたグラフを図1に示す。
A laminate was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the heat treatment was performed with the oxygen concentration in the mixed gas of nitrogen and oxygen being 10 vol%.
When the pattern of 1 mm width was processed into the copper foil in the obtained laminate and the 90-degree peel strength was measured, the initial adhesive strength was 1.84 kN / m. Moreover, when the heat resistance test was done about this laminated body and the adhesive force after each time progress was measured, it was 1.62 kN / m after 168 time progress. A graph summarizing the initial adhesive strength and the adhesive strength by the heat resistance test is shown in FIG.

Ni/Zn系表面金属処理が施されてNi及びZnが表面に付着された銅箔B(厚み18μm、Rz=1.1μm、Ni付着量15μg/cm2、Ni/(Ni+Zn)=0.40)の当該表面に合成例2に示したポリアミック酸のジメチルアセトアミド溶液(12〜18%)を塗布して乾燥させた後、さらに合成例5に示したポリアミック酸溶液を用いて、硬化後のポリイミド膜厚が40μmになるようにバーコーターを用いて均一に塗布した。
次いで、120℃〜150℃まで30分間大気オープンで乾燥させた後、窒素と酸素の混合ガス中の酸素濃度が精密流量計で2%(vol%)になるように雰囲気を制御した小型真空電気炉を用いて、160℃×20分、250℃×30分、350℃×10分の加熱処理を行い硬化させて積層体を得た。
得られた積層体における銅箔に1mm幅のパターンを加工して90度ピール強度を測定したところ、初期接着力が1.46kN/mであった。また、この積層体について耐熱試験を行い、各時間経過後の接着力を測定したところ、168時間経過後が1.38kN/mであった。初期接着力と耐熱試験による接着力とをまとめたグラフを図3に示す。
Copper foil B with Ni / Zn surface metal treatment applied and Ni and Zn adhered to the surface (thickness 18 μm, Rz = 1.1 μm, Ni adhesion amount 15 μg / cm 2 , Ni / (Ni + Zn) = 0.40 ) Is applied to the surface of the polyamic acid dimethylacetamide solution (12-18%) shown in Synthesis Example 2 and dried, and then cured using the polyamic acid solution shown in Synthesis Example 5 to cure the polyimide. It applied uniformly using the bar coater so that a film thickness might be set to 40 micrometers.
Next, after drying by air open for 30 minutes from 120 ° C to 150 ° C, small vacuum electric whose atmosphere is controlled so that the oxygen concentration in the mixed gas of nitrogen and oxygen becomes 2% (vol%) with a precision flow meter Using a furnace, heat treatment was performed at 160 ° C. for 20 minutes, 250 ° C. for 30 minutes, and 350 ° C. for 10 minutes to obtain a laminate.
When the pattern of 1 mm width was processed into the copper foil in the obtained laminate and the 90-degree peel strength was measured, the initial adhesive strength was 1.46 kN / m. Moreover, when the heat resistance test was done about this laminated body and the adhesive force after each time progress was measured, it was 1.38 kN / m after 168 time progress. A graph summarizing the initial adhesive strength and the adhesive strength by the heat resistance test is shown in FIG.

Ni/Zn系表面金属処理が施されてNi及びZnが表面に付着された銅箔C(厚み18μm、Rz=0.6μm、Ni付着量14μg/cm2、Ni/(Ni+Zn)=0.79)の当該表面に合成例3に示したポリアミック酸のジメチルアセトアミド溶液(12〜18%)を塗布して乾燥させた後、さらに合成例4に示したポリアミック酸溶液を用いて、硬化後のポリイミド膜厚が40μmになるようにバーコーターを用いて均一に塗布した。
次いで、120℃〜150℃まで30分間大気オープンで乾燥させた後、窒素と酸素の混合ガス中の酸素濃度が精密流量計で2%(vol%)になるように雰囲気を制御した小型真空電気炉を用いて160℃×20分、250℃×30分、350℃×10分の加熱処理を行い硬化させて積層体を得た。
得られた積層体における銅箔に1mm幅のパターンを加工して90度ピール強度を測定したところ、初期接着力が1.14kN/mであった。また、この積層体について耐熱試験を行い、各時間経過後の接着力を測定したところ、168時間経過後が0.88kN/mであった。初期接着力と耐熱試験による接着力とをまとめたグラフを図4に示す。
Copper foil C with Ni / Zn-based surface metal treatment and Ni and Zn adhered to the surface (thickness 18 μm, Rz = 0.6 μm, Ni adhesion amount 14 μg / cm 2 , Ni / (Ni + Zn) = 0.79) ) Is coated with a dimethylacetamide solution (12 to 18%) of the polyamic acid shown in Synthesis Example 3 and dried, and then further cured using the polyamic acid solution shown in Synthesis Example 4 to cure the polyimide. It applied uniformly using the bar coater so that a film thickness might be set to 40 micrometers.
Next, after drying by air open for 30 minutes from 120 ° C to 150 ° C, small vacuum electric whose atmosphere is controlled so that the oxygen concentration in the mixed gas of nitrogen and oxygen becomes 2% (vol%) with a precision flow meter Using a furnace, heat treatment was performed at 160 ° C. for 20 minutes, 250 ° C. for 30 minutes, and 350 ° C. for 10 minutes to obtain a laminate.
When the pattern of 1 mm width was processed into the copper foil in the obtained laminate and the 90-degree peel strength was measured, the initial adhesive strength was 1.14 kN / m. Moreover, when the heat resistance test was done about this laminated body and the adhesive force after each time progress was measured, it was 0.88 kN / m after 168 time progress. A graph summarizing the initial adhesive strength and the adhesive strength by the heat resistance test is shown in FIG.

[比較例1]
実施例1と同様にして、銅箔Aの表面に、合成例1及び4に示したポリアミック酸溶液を用いて硬化後のポリイミド膜厚が40μmになるようにバーコーターを用いて均一に塗布した。
次に120℃〜150℃まで30分間大気オープンで乾燥させた後、窒素雰囲気下において小型真空電気炉を用いて160℃×20分、250℃×30分、350℃×10分の加熱処理を行い硬化させて積層体を得た。
得られた積層体における銅箔に1mm幅のパターンを加工して、初期の90度ピール強度(初期接着力)、及び耐熱試験による接着力を測定したところ、いずれも急激な低下が確認された。結果を図1に示す。
[Comparative Example 1]
In the same manner as in Example 1, the surface of the copper foil A was uniformly applied using a bar coater so that the polyimide film thickness after curing was 40 μm using the polyamic acid solution shown in Synthesis Examples 1 and 4. .
Next, after drying by air open for 30 minutes from 120 ° C to 150 ° C, heat treatment at 160 ° C for 20 minutes, 250 ° C for 30 minutes, 350 ° C for 10 minutes using a small vacuum electric furnace in a nitrogen atmosphere. And cured to obtain a laminate.
A 1 mm wide pattern was processed on the copper foil in the obtained laminate, and the initial 90 degree peel strength (initial adhesive strength) and the adhesive strength by the heat resistance test were measured. . The results are shown in FIG.

[比較例2]
窒素と酸素の混合ガス中の酸素濃度を1vol%にした雰囲気下で小型真空電気炉を用いて160℃×20分、250℃×30分、350℃×10分の加熱処理を行う以外は比較例1と同様にして積層体を得た。
得られた積層体における銅箔に1mm幅のパターンを加工して、初期の90度ピール強度(初期接着力)、及び耐熱試験による接着力を測定したところ、いずれも急激な低下が確認された。結果を図1に示す。
[Comparative Example 2]
Comparison except that heat treatment is performed at 160 ° C for 20 minutes, 250 ° C for 30 minutes, and 350 ° C for 10 minutes using a small vacuum electric furnace in an atmosphere where the oxygen concentration in the mixed gas of nitrogen and oxygen is 1 vol%. A laminate was obtained in the same manner as in Example 1.
A 1 mm wide pattern was processed on the copper foil in the obtained laminate, and the initial 90 degree peel strength (initial adhesive strength) and the adhesive strength by the heat resistance test were measured. . The results are shown in FIG.

[比較例3]
窒素と酸素の混合ガス中の酸素濃度を20vol%にした雰囲気下で小型真空電気炉を用いて160℃×20分、160℃×30分、350℃×10分の加熱処理を行う以外は比較例1と同様にして積層体を得た。
上記で得られた積層体における銅箔に1mm幅のパターンを加工し、この銅箔を90°方向に引き剥がして90度ピール強度を測定したところ、初期接着力が1.7kN/mであった。また、この積層体について耐熱試験を行い、各時間経過後の接着力を測定したところ、168時間経過後が1.2kN/mであった。図1に初期接着力と耐熱試験による接着力とをまとめたグラフが示されているが、耐熱試験96時間経過後の接着力の低下が確認され、また、銅箔裏側の酸化も激しく、図5に示したように、レーザー顕微鏡(倍率2000倍)を用いて回路加工時のラインの直線性を評価したが、優れた直線性は得られなかいことが分かった。なお、図5に示したレーザー顕微鏡写真において、比較的太く写った色の濃い2本が回路部分の銅箔であり、この2本の回路に挟まれた中央及びそれぞれの回路の端に写った比較的細い色の薄い部分がポリイミド樹脂の露出部分である。
[Comparative Example 3]
Compared to heat treatment at 160 ° C for 20 minutes, 160 ° C for 30 minutes, and 350 ° C for 10 minutes using a small vacuum electric furnace in an atmosphere where the oxygen concentration in the mixed gas of nitrogen and oxygen is 20 vol%. A laminate was obtained in the same manner as in Example 1.
When a 1 mm width pattern was processed on the copper foil in the laminate obtained above, the copper foil was peeled off in the 90 ° direction and the 90 ° peel strength was measured. The initial adhesive strength was 1.7 kN / m. It was. Moreover, when the heat resistance test was done about this laminated body and the adhesive force after each time passage was measured, it was 1.2 kN / m after 168 hours passage. FIG. 1 shows a graph summarizing the initial adhesive strength and the adhesive strength obtained from the heat resistance test. The decrease in the adhesive strength after 96 hours of the heat resistance test was confirmed, and the oxidation on the back side of the copper foil was severe. As shown in FIG. 5, the linearity of the line during circuit processing was evaluated using a laser microscope (magnification 2000 times), and it was found that excellent linearity was not obtained. In the laser micrograph shown in FIG. 5, the two relatively thick colored copper foils are the copper foils of the circuit portion, and are shown at the center between the two circuits and at the ends of the respective circuits. The thin part of the relatively thin color is the exposed part of the polyimide resin.

[比較例4]
実施例4と同様にして、銅箔Bの表面に、合成例2及び5に示したポリアミック酸溶液を使用して硬化後のポリイミド膜厚が40μmになるようにバーコーターを用いて均一に塗布した。
次に120℃〜150℃まで30分間大気オープンで乾燥させた後、窒素雰囲気下で小型真空電気炉を用いて160℃×20分、250℃×30分、350℃×10分の加熱処理を行い硬化させて積層体を得た。
得られた積層体における銅箔に1mm幅のパターンを加工して、初期の90度ピール強度(初期接着力)、及び耐熱試験による接着力を測定したところ、いずれも急激な低下が確認された。結果を図3に示す。
[Comparative Example 4]
In the same manner as in Example 4, using the polyamic acid solution shown in Synthesis Examples 2 and 5 uniformly on the surface of the copper foil B, using a bar coater so that the polyimide film thickness after curing is 40 μm. did.
Next, after drying at 120 ° C. to 150 ° C. for 30 minutes in an open atmosphere, heat treatment is performed at 160 ° C. × 20 minutes, 250 ° C. × 30 minutes, 350 ° C. × 10 minutes using a small vacuum electric furnace in a nitrogen atmosphere. And cured to obtain a laminate.
A 1 mm wide pattern was processed on the copper foil in the obtained laminate, and the initial 90-degree peel strength (initial adhesive strength) and the adhesive strength according to the heat resistance test were measured. . The results are shown in FIG.

[比較例5]
実施例4と同様にして、銅箔Bの表面に、合成例2及び5に示したポリアミック酸溶液を使用して硬化後のポリイミド膜厚が40μmになるようにバーコーターを用いて均一に塗布した。
次に120℃〜150℃まで30分間大気オープンで乾燥させた後、窒素と酸素の混合ガス中の酸素濃度が精密流量計で20%(vol%)になるように雰囲気を制御した小型真空電気炉を用いて160℃×20分、250℃×30分、350℃×10分の加熱処理を行い硬化させて積層体を得た。
得られた積層体における銅箔に1mm幅のパターンを加工して、初期の90度ピール強度(初期接着力)、及び耐熱試験による接着力を測定したところ、いずれも急激な低下が確認された。結果を図3に示す。
[Comparative Example 5]
In the same manner as in Example 4, using the polyamic acid solution shown in Synthesis Examples 2 and 5 uniformly on the surface of the copper foil B, using a bar coater so that the polyimide film thickness after curing is 40 μm. did.
Next, after drying by air open from 120 ° C to 150 ° C for 30 minutes, the atmosphere is controlled so that the oxygen concentration in the mixed gas of nitrogen and oxygen becomes 20% (vol%) with a precision flow meter. Using a furnace, heat treatment was performed at 160 ° C. for 20 minutes, 250 ° C. for 30 minutes, and 350 ° C. for 10 minutes to obtain a laminate.
A 1 mm wide pattern was processed on the copper foil in the obtained laminate, and the initial 90-degree peel strength (initial adhesive strength) and the adhesive strength according to the heat resistance test were measured. . The results are shown in FIG.

[比較例6]
実施例5と同様にして、銅箔Cの表面に、合成例3及び5に示したポリアミック酸溶液を使用して硬化後のポリイミド膜厚が40μmになるようにバーコーターを用いて均一に塗布した。
次に120℃〜150℃まで30分間大気オープンで乾燥させた後、窒素雰囲気下で小型真空電気炉を用いて160℃×20分、250℃×30分、350℃×10分の加熱処理を行い硬化させて積層体を得た。
得られた積層体における銅箔に1mm幅のパターンを加工して、初期の90度ピール強度(初期接着力)、及び耐熱試験による接着力を測定したところ、耐熱ピールの急激な低下は見られなかったが初期接着力及び耐熱試験後の接着力はいずれも低いものであった。結果を図4に示す。
[Comparative Example 6]
In the same manner as in Example 5, using the polyamic acid solution shown in Synthesis Examples 3 and 5 on the surface of copper foil C, uniformly apply using a bar coater so that the polyimide film thickness after curing is 40 μm. did.
Next, after drying at 120 ° C. to 150 ° C. for 30 minutes in an open atmosphere, heat treatment is performed at 160 ° C. × 20 minutes, 250 ° C. × 30 minutes, 350 ° C. × 10 minutes using a small vacuum electric furnace in a nitrogen atmosphere. And cured to obtain a laminate.
A 1mm width pattern was processed on the copper foil in the resulting laminate, and the initial 90 degree peel strength (initial adhesive strength) and the adhesive strength by the heat resistance test were measured. Although there was no, the initial adhesive strength and the adhesive strength after the heat resistance test were both low. The results are shown in FIG.

[比較例7]
実施例5と同様にして、銅箔Cの表面に、合成例3及び5に示したポリアミック酸溶液を使用して硬化後のポリイミド膜厚が40μmになるようにバーコーターを用いて均一に塗布した。
次に120℃〜150℃まで30分間大気オープンで乾燥させた後、窒素と酸素の混合ガス中の酸素濃度が精密流量計で20%(vol%)になるように雰囲気を制御した小型真空電気炉を用いて160℃×20分、250℃×30分、350℃×10分の加熱処理を行い硬化させて積層体を得た。
得られた積層体における銅箔に1mm幅のパターンを加工して、初期の90度ピール強度(初期接着力)、及び耐熱試験による接着力を測定したところ、耐熱ピールの急激な低下は見られなかったが、レーザー顕微鏡(倍率2000倍)を用いて回路加工時のラインの直線性を評価した結果、優れた直線性は得られなかいことが分かった。
[Comparative Example 7]
In the same manner as in Example 5, using the polyamic acid solution shown in Synthesis Examples 3 and 5 on the surface of copper foil C, uniformly apply using a bar coater so that the polyimide film thickness after curing is 40 μm. did.
Next, after drying by air open from 120 ° C to 150 ° C for 30 minutes, the atmosphere is controlled so that the oxygen concentration in the mixed gas of nitrogen and oxygen becomes 20% (vol%) with a precision flow meter. Using a furnace, heat treatment was performed at 160 ° C. for 20 minutes, 250 ° C. for 30 minutes, and 350 ° C. for 10 minutes to obtain a laminate.
A 1mm width pattern was processed on the copper foil in the obtained laminate, and the initial 90 degree peel strength (initial adhesive strength) and the adhesive strength by the heat resistance test were measured. However, as a result of evaluating the linearity of the line during circuit processing using a laser microscope (magnification 2000 times), it was found that excellent linearity was not obtained.

本発明における積層体の製造方法によれば、上記のような積層体を低コストで、簡便に提供することができ、キャスティング、ラミネート、スパッタリング、スピンコート法等のフレキシブルプリント配線板の各種製造方法への適用が可能である。   According to the method for producing a laminate in the present invention, the laminate as described above can be easily provided at low cost, and various production methods for flexible printed wiring boards such as casting, laminating, sputtering, and spin coating methods. Application to is possible.

図1は、実施例1〜3及び比較例1〜3に係る積層体について、初期接着力及び耐熱試験における接着力を示すグラフである。FIG. 1 is a graph showing initial adhesive strength and adhesive strength in a heat resistance test for the laminates according to Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3. 図2は、実施例1における積層体について、回路加工時のラインの直線性を確認するためのレーザー顕微鏡写真である。FIG. 2 is a laser micrograph for confirming the linearity of the line during circuit processing of the laminate in Example 1. 図3は、実施例4及び比較例4〜5に係る積層体について、初期接着力及び耐熱試験における接着力を示すグラフである。FIG. 3 is a graph showing the initial adhesive strength and the adhesive strength in the heat resistance test for the laminates according to Example 4 and Comparative Examples 4 to 5. 図4は、実施例5及び比較例6〜7に係る積層体について、初期接着力及び耐熱試験における接着力を示すグラフである。FIG. 4 is a graph showing the initial adhesive strength and the adhesive strength in the heat resistance test of the laminates according to Example 5 and Comparative Examples 6-7. 図5は、比較例3における積層体について、回路加工時のラインの直線性を確認するためのレーザー顕微鏡写真である。FIG. 5 is a laser micrograph for confirming the linearity of the line during circuit processing of the laminate in Comparative Example 3.

Claims (4)

少なくとも表面にNi及びZnが付着された銅箔にポリイミド前駆体樹脂溶液を塗工し、酸素濃度1〜10vol%を有する雰囲気下で加熱処理することにより上記ポリイミド前駆体樹脂溶液を乾燥及び硬化させて銅箔上にポリイミド樹脂層を形成するフレキシブルプリント配線板用積層体の製造方法であって、上記で得られた積層板を150℃で168時間保持した後の銅箔の90°方向引き剥がし接着力が1.0kN/m以上を有することを特徴とするフレキシブルプリント配線板用積層体の製造方法。   A polyimide precursor resin solution is applied to a copper foil having at least Ni and Zn attached to the surface, and the polyimide precursor resin solution is dried and cured by heat treatment in an atmosphere having an oxygen concentration of 1 to 10 vol%. A method for producing a laminate for a flexible printed wiring board in which a polyimide resin layer is formed on a copper foil, and the copper foil after the laminate obtained above is held at 150 ° C. for 168 hours is peeled off in the 90 ° direction. The manufacturing method of the laminated body for flexible printed wiring boards characterized by having adhesive strength of 1.0 kN / m or more. 銅箔の表面におけるNiの付着量が2.5〜5.0μg/cm2であり、NiとZnの付着量割合を表すNi/(Ni+Zn)が0.70〜0.90である請求項1に記載のフレキシブルプリント配線板用積層体の製造方法。 The Ni adhesion amount on the surface of the copper foil is 2.5 to 5.0 µg / cm 2 , and Ni / (Ni + Zn) representing the adhesion amount ratio of Ni and Zn is 0.70 to 0.90. The manufacturing method of the laminated body for flexible printed wiring boards as described in any one of. ポリイミド前駆体樹脂溶液を塗工する側の銅箔の表面が、表面粗さRz1.0μm以下である請求項1又は2に記載のフレキシブルプリント配線板用積層体の製造方法。   The method for producing a laminate for a flexible printed wiring board according to claim 1 or 2, wherein the surface of the copper foil on the side on which the polyimide precursor resin solution is applied has a surface roughness Rz of 1.0 µm or less. 請求項1〜3に記載のフレキシブルプリント配線板用積層体の製造方法を用いて得たフレキシブルプリント配線板用積層板であって、150℃で168時間保持した後の銅箔の90°方向引き剥がし接着力が1.0kN/m以上であることと特徴とするフレキシブルプリント配線板用積層体。   It is a laminated board for flexible printed wiring boards obtained using the manufacturing method of the laminated body for flexible printed wiring boards of Claims 1-3, Comprising: 90 degree direction pulling of the copper foil after hold | maintaining at 150 degreeC for 168 hours A laminate for a flexible printed wiring board, wherein the peel adhesive strength is 1.0 kN / m or more.
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