JP2006120888A - Manufacturing method of electronic parts - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 55
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 118
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 118
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 86
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 84
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 58
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 59
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 6
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 7
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 5
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 5
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 5
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 2
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 description 2
- DTCCVIYSGXONHU-CJHDCQNGSA-N (z)-2-(2-phenylethenyl)but-2-enedioic acid Chemical compound OC(=O)\C=C(C(O)=O)\C=CC1=CC=CC=C1 DTCCVIYSGXONHU-CJHDCQNGSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 ether compound Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 210000004303 peritoneum Anatomy 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
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- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
【課題】 微細ピッチの導体パターンを効率良く、しかも低コストで形成することができ
る電子部品の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の電子部品の製造方法は、基板120上に被覆膜160を配置する
第1工程(a)と、被覆膜160を部分的に除去して開口部160aを設ける第2工程(
b)と、導電性微粒子を含む流動材172を被覆膜160及び開口部160aに塗布して
開口部160aに充填する第3工程(c)と、流動材172を硬化させて導電体174を
形成する第4工程(d)と、被覆膜160基板120上から除去する第5工程(e)と、
を具備することを特徴とする。
【選択図】 図1
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an electronic component capable of forming a fine pitch conductor pattern efficiently and at low cost.
A method for manufacturing an electronic component according to the present invention includes a first step (a) of disposing a coating film 160 on a substrate 120, and a step of partially removing the coating film 160 to provide an opening 160a. 2 steps (
b), a third step (c) of applying a fluid 172 containing conductive fine particles to the coating film 160 and the opening 160a and filling the opening 160a; and curing the fluid 172 to form the conductor 174. A fourth step (d) to be formed, a fifth step (e) to be removed from the coating film 160 on the substrate 120,
It is characterized by comprising.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は電子部品の製造方法に係り、特に、回路基板や電気光学装置などを製造する場
合に好適な導体パターンの形成技術に関する。
The present invention relates to a method of manufacturing an electronic component, and more particularly to a conductor pattern forming technique suitable for manufacturing a circuit board, an electro-optical device, and the like.
従来から、回路基板を製造する方法としては、銅箔付基板をエッチングなどによりパタ
ーニングする方法、基板上にメッキ処理などで導体パターンを形成する方法、配線パター
ンを構成する導体箔を基板上に転写或いはラミネートする方法などが知られているが、こ
れらの方法では、メッキ処理、エッチング処理、フォトリソグラフィー(photolithograp
hy)工程などを用いる必要があるため、工程数が多くなり、処理内容も複雑になることか
ら製造コストが増大し、また、製造工程で生ずる廃液中に重金属が含まれるなどの理由に
より廃液処理が困難で、環境汚染をもたらす原因にもなりうるという問題があった。また
、上述の方法では、形成ピッチが数十μm以下の微細な配線パターンを形成することがき
わめて難しいという問題もある。
Conventionally, as a method of manufacturing a circuit board, a method of patterning a substrate with copper foil by etching or the like, a method of forming a conductor pattern on a substrate by plating or the like, and transferring a conductor foil constituting a wiring pattern onto the substrate Alternatively, laminating methods are known, but in these methods, plating treatment, etching treatment, photolithography (photolithograp)
hy) process is required, which increases the number of processes and complicates the process, increasing the manufacturing cost, and waste liquid treatment for reasons such as containing heavy metals in the waste liquid generated in the manufacturing process. There is a problem that it is difficult to cause environmental pollution. Further, the above-described method has a problem that it is extremely difficult to form a fine wiring pattern having a formation pitch of several tens of μm or less.
これらの問題を解決するため、配線パターンの製造工程を簡素化することができ、しか
も大規模な製造設備を必要としないインクジェット方式による回路基板の製造方法が考案
されている。例えば、特許文献1には、基板上に多数のバンクを形成し、インクジェット
ヘッドから導電性微粒子を含んだ液滴を吐出させて上記バンク間に形成された溝内に着弾
させ、その後、溝内の液滴を乾燥させ、さらに導電性微粒子を焼結させることにより配線
パターンを形成する方法が記載されている。この方法によれば、バンク間の溝を液滴の直
径よりも狭く構成した場合でも、バンクによって液滴の広がりを規制できるため、微細な
線幅の配線パターンを精度良く形成することができる。
しかしながら、特許文献1に開示されたインクジェット方式の製造方法では、微細なバ
ンクパターンを高精度に形成する必要があるだけでなく、液滴が広がらないようにバンク
に撥水性を与える必要があるため、製造工程における制約が多くなることから、製造コス
トを十分に低減することができないという問題点がある。
However, in the inkjet method manufacturing method disclosed in
また、インクジェットヘッドから導電性微粒子を含んだ液滴を配線1本1本に対応する
部分に吐出させて配線パターンを形成しているため、効率的に配線パターンを形成するこ
とが難しく、製造効率を高めるには多数のインクジェットヘッドから多数の液滴を高い精
度で同時に吐出させる必要があり、装置コストやメンテナンスコストが増大する恐れがあ
る。
In addition, since a wiring pattern is formed by discharging droplets containing conductive fine particles from an inkjet head to a portion corresponding to each wiring, it is difficult to form the wiring pattern efficiently, and the manufacturing efficiency is increased. Therefore, it is necessary to simultaneously eject a large number of droplets from a large number of inkjet heads with high accuracy, which may increase the apparatus cost and the maintenance cost.
そこで、本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、微細ピッチの導体パ
ターンを効率良く、しかも低コストで形成することができる電子部品の製造方法を提供す
ることにある。
Therefore, the present invention solves the above problems, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing an electronic component capable of forming a fine pitch conductor pattern efficiently and at low cost.
第1発明の電子部品の製造方法は、基板上に被覆膜を配置する第1工程と、前記被覆膜
を部分的に除去して開口部を設ける第2工程と、導電性微粒子を含む流動材を前記被覆膜
及び前記開口部に塗布して前記開口部に充填する第3工程と、前記流動材を硬化させて導
電体を形成する第4工程と、前記被覆膜を前記基板上から除去する第5工程と、を具備す
ることを特徴とする。
The electronic component manufacturing method of the first invention includes a first step of disposing a coating film on a substrate, a second step of partially removing the coating film to provide an opening, and conductive fine particles. A third step of applying a fluid material to the coating film and the opening and filling the opening; a fourth step of curing the fluid material to form a conductor; and applying the coating film to the substrate And a fifth step of removing from the top.
この発明によれば、基板に配置した被覆膜を部分的に除去して開口部を設け、導電性微
粒子を含む流動材を前記被覆膜及び前記開口部に塗布することにより、開口部内に流動材
を充填し、その後、流動材を硬化させることにより導電体を形成した後、被覆膜を基板上
から除去することにより、被覆膜の開口部に対応する導体パターンを形成できる。このと
き、第3工程では導電性粒子を含む流動体を被覆膜及び開口部への塗布により被覆膜の開
口部に充填しているので、微細な導体パターンを形成する場合でも高い処理精度を要する
ことがなく、メッキ処理、エッチング処理、インクジェットヘッドによる液滴の吐出を実
施する場合に必要となるような稼働コストの高い装置や高価な装置を用いずに容易に実施
することができることから、製造コストを大幅に低減することができる。また、上記のよ
うな第3工程により被覆膜上に流動材やその硬化物が残留しても、第5工程において被覆
膜を除去する際に被覆膜上の流動材や導電体も同時に除去されるので、導体パターンの短
絡などを確実に防止することができ、微細なピッチで導体パターンを形成する場合でも不
良部品の発生を防止できる。
According to the present invention, the coating film disposed on the substrate is partially removed to provide an opening, and a fluid containing conductive fine particles is applied to the coating film and the opening so that the opening is formed. A conductor pattern corresponding to the opening of the coating film can be formed by filling the fluid material and then forming the conductor by curing the fluid material and then removing the coating film from the substrate. At this time, since the fluid containing conductive particles is filled in the opening of the coating film by coating the coating film and the opening in the third step, high processing accuracy is achieved even when a fine conductor pattern is formed. And can be easily carried out without using high-cost or expensive equipment such as that required for plating, etching, or droplet ejection with an inkjet head. The manufacturing cost can be greatly reduced. In addition, even if the fluidized material or its cured product remains on the coating film in the third step as described above, the fluidizing material or conductor on the coating film is also removed when the coating film is removed in the fifth step. Since they are removed at the same time, it is possible to reliably prevent a short circuit of the conductor pattern, and to prevent the occurrence of defective parts even when the conductor pattern is formed with a fine pitch.
ここで、上記基板には絶縁体又は表面に絶縁層を有する基板が用いられる。前記基板の
主要構成材料は特に限定されないが、例えばガラス、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、フ
ェノキシ樹脂、ポリエステル樹脂、スチレンマレイン酸樹脂などが挙げられる。また、前
記被覆膜としては、例えばポリイミド樹脂、アクリル樹脂等からなる樹脂フィルム、ドラ
イフィルムレジストなどが挙げられる。
Here, an insulator or a substrate having an insulating layer on the surface is used as the substrate. The main constituent material of the substrate is not particularly limited, and examples thereof include glass, polyimide resin, acrylic resin, phenoxy resin, polyester resin, and styrene maleic acid resin. Moreover, as said coating film, the resin film which consists of a polyimide resin, an acrylic resin, etc., a dry film resist, etc. are mentioned, for example.
また、導電性微粒子を含む流動材は、通常、導電性微粒子を分散媒に分散させた分散液
である。分散媒は導電性微粒子を凝集させないものであればよく、例えば水、炭化水素系
化合物、アルコール類、エーテル系化合物などが挙げられる。また、導電性微粒子は、例
えば金、銀、銅、パラジウム又はニッケルなどを含有する金属微粒子、導電性ポリマー、
超電導体の微粒子などが挙げられる。流動材の流動性は、第3工程の具体的方法に適した
ものであればよい。
The fluidizing material containing conductive fine particles is usually a dispersion in which conductive fine particles are dispersed in a dispersion medium. Any dispersion medium may be used as long as it does not cause the conductive fine particles to aggregate, and examples thereof include water, hydrocarbon compounds, alcohols, and ether compounds. The conductive fine particles include, for example, metal fine particles containing gold, silver, copper, palladium, nickel, etc., conductive polymers,
Examples include superconductor fine particles. The fluidity of the fluidizing material may be any suitable for the specific method of the third step.
本発明において、前記第1工程では、前記基板に前記被覆膜が剥離可能に貼着され、前
記第5工程では、前記基板上から前記被覆膜が剥離されることが好ましい。これにより、
被覆膜の除去を剥離によって行うことができるため、生産効率を高めることができると同
時に、製造設備は簡易なもので足り、廃液処理なども不要になるため、製造コストをさら
に低減できる。
In the present invention, preferably, in the first step, the coating film is detachably attached to the substrate, and in the fifth step, the coating film is peeled off from the substrate. This
Since the removal of the coating film can be performed by peeling, the production efficiency can be improved, and at the same time, the manufacturing equipment is simple and the waste liquid treatment is not necessary, so that the manufacturing cost can be further reduced.
第2発明の電子部品の製造方法は、基板上に被覆膜を配置する第1工程と、前記被覆膜
を部分的に除去して開口部を設ける第2工程と、導電性微粒子を含む流動材を前記被覆膜
及び前記開口部に塗布して前記開口部に充填する第3工程と、前記流動材を硬化させて導
電体を形成する第4工程と、前記被覆膜上に存在する前記流動材若しくは前記導電体を除
去する第5工程と、を具備することを特徴とする。
The method for manufacturing an electronic component of the second invention includes a first step of disposing a coating film on a substrate, a second step of partially removing the coating film to provide an opening, and conductive fine particles. A third step of applying a fluid material to the coating film and the opening and filling the opening, a fourth step of curing the fluid material to form a conductor, and existing on the coating film And a fifth step of removing the fluidizing material or the conductor.
この発明によれば、基板に配置した被覆膜を部分的に除去して開口部を設け、導電性微
粒子を含む流動材を被覆膜及び開口部に対して塗布することにより開口部内に充填し、流
動材を硬化させることにより導電体を形成した後、被覆膜上に存在する流動材若しくは前
記導電体を除去することにより、被覆膜の開口部に対応する導体パターンを形成できる。
このとき、導電性粒子を含む流動体を被覆膜及び開口部に対する塗布により開口部に充填
しているので、微細な導体パターンを形成する場合でも高い処理精度を要することがなく
、メッキ処理、エッチング処理、インクジェットヘッドによる液滴の吐出を行う場合に必
要となるような稼働コストの高い装置や高価な装置を用いずに容易に実施することができ
ることから、製造コストを大幅に低減することができる。また、上記のような第3工程に
より被覆膜上に流動材や導電体が残留しても、第5工程において被覆膜上の流動材や導電
体が除去されるので、導体パターンの短絡などを確実に防止することができ、微細なピッ
チで導体パターンを形成する場合でも不良部品の発生を防止できる。さらに、本発明では
、第5工程を行っても導体パターン間に被覆膜を残存させることができるため、被覆膜を
絶縁体で構成しておくことにより、別途絶縁層を形成しなくても導体パターン間の絶縁性
を確保することが可能になる。
According to this invention, the coating film disposed on the substrate is partially removed to provide an opening, and a fluid material containing conductive fine particles is applied to the coating film and the opening to fill the opening. Then, after forming the conductor by curing the fluid material, the conductor pattern corresponding to the opening of the coating film can be formed by removing the fluid material or the conductor existing on the coating film.
At this time, the fluid containing the conductive particles is filled in the opening by coating the coating film and the opening, so that high processing accuracy is not required even when a fine conductor pattern is formed. The manufacturing cost can be greatly reduced because it can be easily carried out without using high cost equipment or expensive equipment that is necessary when performing etching processing or discharging droplets with an inkjet head. it can. In addition, even if the fluid material or conductor remains on the coating film in the third step as described above, the fluid material or conductor on the coating film is removed in the fifth step, so that the conductor pattern is short-circuited. And the like, and even when the conductor pattern is formed with a fine pitch, the occurrence of defective parts can be prevented. Furthermore, in the present invention, since the coating film can remain between the conductor patterns even if the fifth step is performed, by forming the coating film with an insulator, there is no need to separately form an insulating layer. Also, it becomes possible to ensure insulation between conductor patterns.
本発明において、前記第5工程では、レーザ光の照射によって前記被覆膜上に存在する
前記流動材若しくは前記導電体が除去されることが好ましい。これによれば、機械的な手
段によって被覆膜上に存在する流動材若しくは導電体を除去する場合に較べて、導体パタ
ーンに与える影響が低減されるとともに、微細なパターンに対しても容易に対応すること
が可能になる。なお、第5工程に用いる除去方法としては、レーザ光の照射以外に、ドラ
イエッチングやプラズマ処理などを用いることも可能である。なお、この第5工程は、第
3工程と第4工程の間において流動材に対して実施されてもよく、第4工程の後において
導電体に対して行われてもよい。
In the present invention, in the fifth step, it is preferable that the fluidized material or the conductor existing on the coating film is removed by laser light irradiation. According to this, the influence on the conductor pattern is reduced as compared with the case where the fluidized material or the conductor existing on the coating film is removed by mechanical means, and it is easy even for a fine pattern. It becomes possible to respond. Note that as the removal method used in the fifth step, dry etching, plasma treatment, or the like can be used in addition to laser light irradiation. In addition, this 5th process may be implemented with respect to a fluid material between a 3rd process and a 4th process, and may be performed with respect to a conductor after a 4th process.
第1発明及び第2発明において、前記第2工程では、レーザ光の照射によって前記被覆
膜に前記開口部が形成されることが好ましい。上記各発明の第2工程において、レーザ光
の照射によって被覆膜に開口部が形成されることにより、フォトリソグラフィー工程やエ
ッチング処理のような高価な設備や廃液処理を要する方法に較べて製造コストを著しく低
減することができると同時に、微細なパターン形成にも容易に対応することが可能になる
。
In the first invention and the second invention, it is preferable that in the second step, the opening is formed in the coating film by laser light irradiation. In the second step of each of the above inventions, the opening is formed in the coating film by irradiation with laser light, so that the manufacturing cost is higher than that of expensive equipment such as a photolithography step or etching treatment or a method requiring waste liquid treatment. Can be remarkably reduced, and at the same time, it is possible to easily cope with fine pattern formation.
ここで、前記レーザ光は前記被腹膜を貫通して開口を形成できるものであればよく、例
えば、エキシマレーザ(Excimer laser)や炭酸ガスレーザ(CO2 laser)などを用い
ることが好ましい。また、前記レーザ光の照射態様としては、前記レーザ光のスポットを
開口パターンに沿って走査する方法でもよいし、開口部の形成パターンに対応するマスク
パターンを介して一括照射(パターン照射)を行う方法でもよい。
The laser beam may be any laser beam that can penetrate the peritoneum and form an opening. For example, an excimer laser or a carbon dioxide laser (CO 2 laser) is preferably used. Further, as the laser light irradiation mode, a method of scanning the laser light spot along the opening pattern may be used, or batch irradiation (pattern irradiation) is performed through a mask pattern corresponding to the opening formation pattern. The method may be used.
この場合において、前記第2工程では、前記被覆膜に前記開口部が形成されることによ
って露出した前記基板の表面が前記レーザ光の照射によって粗面化されることが望ましい
。これによれば、開口部の内部において露出した基板表面がレーザ光の照射によって粗面
化されることにより、開口部内に形成される導体パターンの基板に対する密着性を高める
ことができる。特に、第1発明の第5工程において被覆膜を剥離により除去する際に、導
体パターンの少なくとも一部が被覆膜と共に剥離されることを防止できる。このレーザ光
の照射による基板表面の粗面化処理は、開口部の形成後に引き続いてそのままで実施でき
るため、製造コストにはほとんど影響しない。
In this case, in the second step, it is desirable that the surface of the substrate exposed by forming the opening in the coating film is roughened by irradiation with the laser beam. According to this, the surface of the substrate exposed inside the opening is roughened by the irradiation of the laser beam, whereby the adhesion of the conductor pattern formed in the opening to the substrate can be enhanced. In particular, when removing the coating film by peeling in the fifth step of the first invention, it is possible to prevent at least a part of the conductor pattern from being peeled off together with the coating film. The roughening treatment of the substrate surface by the laser light irradiation can be carried out as it is after the opening is formed, so that the manufacturing cost is hardly affected.
上記第1発明及び第2発明において、前記第3工程では、前記被覆膜をスクリーンとし
て用いたスクリーン印刷が施されることが好ましい。流動材の塗布態様としては種々考え
られるが、被覆膜をスクリーンとしたスクリーン印刷を用いることにより、設備コストも
抑制でき、迅速かつ容易に流動材を開口部内に充填することが可能になる。また、流動材
をスキージなどにより開口部内に押し込むことになるので、高密度の導体パターンを形成
することが可能になり、基板に対する密着性、電気抵抗の低減などを図ることも可能にな
る。
In the first invention and the second invention, it is preferable that in the third step, screen printing using the coating film as a screen is performed. Although various application modes of the fluidizing material are conceivable, by using screen printing using a coating film as a screen, the equipment cost can be suppressed, and the fluidizing material can be quickly and easily filled into the opening. Further, since the fluidizing material is pushed into the opening by a squeegee or the like, a high-density conductor pattern can be formed, and adhesion to the substrate and reduction of electrical resistance can be achieved.
また、上記第1発明及び第2発明において、前記第3工程では、前記基板が前記流動材
中に浸漬されることが好ましい。流動材の塗布態様として基板を流動材中に浸漬させるこ
とにより、設備コストも抑制でき、迅速かつ容易に流動材を開口部内に充填することが可
能になる。
In the first and second aspects of the invention, it is preferable that the substrate is immersed in the fluidizing material in the third step. By immersing the substrate in the fluidized material as the fluidized material application mode, the equipment cost can be suppressed, and the fluidized material can be filled in the opening portion quickly and easily.
次に、添付図面を参照して本発明に係る電子部品の製造方法の実施形態について詳細に
説明する。以下に説明する各実施形態では、回路基板(例えば、フレキシブル配線基板)
の製造方法を例として説明するが、本発明に係る電子部品としては、上記回路基板に限ら
ず、ガラス基板上に配線パターンを形成してなる液晶パネルや、セラミック基板上に導体
パターンを有するセラミックコンデンサなどのセラミックス電子部品であってもよいなど
、本発明は各種の電子部品の製造方法として広く適用できるものである。
Next, an embodiment of a method for manufacturing an electronic component according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In each embodiment described below, a circuit board (for example, a flexible wiring board)
As an example, the electronic component according to the present invention is not limited to the circuit board, but is a liquid crystal panel in which a wiring pattern is formed on a glass substrate, or a ceramic having a conductor pattern on a ceramic substrate. The present invention can be widely applied as a method for manufacturing various electronic components, such as ceramic electronic components such as capacitors.
[第1実施形態]
図1は、本発明に係る第1実施形態の第1工程(a)乃至第6工程(f)を順次模式的
に示す概略縦断面図である。本実施形態は、基板上に導体パターンを有する回路基板の製
造方法であり、最初に、図1(a)に示すように、第1工程において基板120の表面上
に被覆膜160が配置される。具体的には基板120上に被覆膜160が貼着される。こ
の工程は、公知のラミネータなどを用いることによって容易に実施できる。
[First embodiment]
FIG. 1 is a schematic longitudinal cross-sectional view schematically showing sequentially the first step (a) to the sixth step (f) of the first embodiment according to the present invention. This embodiment is a method for manufacturing a circuit board having a conductor pattern on a substrate. First, as shown in FIG. 1A, a
ここで、基板120は表面が絶縁性を有するものであればよく、絶縁基板若しくは表面
に絶縁層を有する基板を用いることができる。例えば、ガラス、セラミックス、アクリル
樹脂若しくはポリイミド樹脂のような絶縁樹脂で構成されたものを用いることができる。
また、基板120は可撓性を有するフレキシブル基板であってもよいし、ソリッド基板で
あってもよい。
Here, the
The
被覆膜160としては、例えばアクリル樹脂やポリイミド樹脂等からなる樹脂フィルム
を用いることができる。被覆膜160の厚さは、後述する導体パターンの厚さと実質的に
同等、或いは、それ以上であることが好ましい。導体パターンの厚さは導体パターンの幅
や電気抵抗率によっても変わるが、例えば、30μm程度のピッチで形成される配線パタ
ーンを設ける場合、一般的に3〜10μm程度である。この被覆膜160は基板120に
対して剥離可能な状態で貼着される。例えば、図示例のように粘着層140を介して基板
120上に固定される。この場合、予め粘着層140を片面に設けてなる被覆膜160を
用いることが好ましい。また、粘着層140を用いる代わりに、基板120と被覆膜16
0とを熱溶着などの方法により直接貼着してもよい。この場合でも、被覆膜160を機械
的に剥離可能な状態とすることが望ましい。
As the
You may stick 0 directly by methods, such as heat welding. Even in this case, it is desirable to make the
次に、図1(b)に示すように、第2工程において、レーザ光162を照射することに
よって被覆膜160に配線パターンに対応する形状の開口部160aを形成する。ここで
、レーザ光162は被覆膜160を穿孔可能なエネルギーを備えたものであればよい。こ
の場合、レーザ光源としては、例えば、エキシマレーザや炭酸ガスレーザなどを用いるこ
とができる。レーザ光162の照射態様としては、開口部の形成パターンに沿ってレーザ
光を走査してもよいし、開口部の形成パターンに対応する開口パターンを備えたマスクを
介してレーザ光162を照射してもよい。
Next, as shown in FIG. 1B, in the second step, an opening 160a having a shape corresponding to the wiring pattern is formed in the
この第2工程においては、被覆膜160に開口部160aが形成された後に、この開口
部160aによって露出した基板120の表面にもレーザ光162を照射し続けることに
よって、基板120の表面を粗面化することが望ましい。これにより、後述するように被
覆膜160の開口部160a内に後述する導電体が形成された際に、基板120と当該導
電体との密着性を高めることができる。
In the second step, after the opening 160a is formed in the
次に、図1(c)に示すように、第3工程において、導電性微粒子を含んだ流動材17
2を被覆膜160の開口部160aの中に充填する。具体的には、流動材172を被覆膜
160及び開口部160a上に塗布し、スキージ170によって流動材172を開口部1
60a内に圧入していく。すなわち、この工程では被覆膜160をスクリーンとして用い
たスクリーン印刷を行う。
Next, as shown in FIG.1 (c), in the 3rd process, the fluidized material 17 containing electroconductive fine particles 17 is shown.
2 is filled into the opening 160 a of the
Press fit into 60a. That is, in this step, screen printing using the
ここで、導電性微粒子を含んだ流動材172は、水、炭化水素系化合物、アルコール類
、エーテル系化合物のような分散媒(溶媒)中に、金、銀、銅、パラジウム又はニッケル
などを含有する金属微粒子、導電性ポリマー、超電導体の微粒子のような導電性微粒子を
均一に分散させてなる流動体である。導電性微粒子としては、高密度で電気抵抗の低い導
体パターンを形成する上で、1〜100nm程度の粒径を有するナノ粒子であることが望
ましい。例えば、金の微粒子を含む流動材としては真空冶金株式会社の「パーフェクトゴ
ールド」(商品名)、銀の微粒子を含む流動材としては同社の「パーフェクトシルバー」
(商品名)がある。
Here, the fluidizing
(Product name).
なお、この流動材172の導電性粒子の濃度やその流動性或いは粘度は、形成すべき導
体パターンの電気抵抗率、基板との密着性、印刷時の開口部160aに対する充填性など
を勘案して適宜設定される。また、スキージ170は合成樹脂又は合成ゴムなどの如き弾
性変形可能な材質で構成されることが好ましい。なお、この第2工程においては、流動材
172の開口部160aへの充填性を高めるとともに被覆膜160の表面上における流動
材172の残存量を低減する上で上記のスキージ170を用いることが好ましいが、スキ
ージ170に限らず、印刷ローラなどのスクリーン印刷可能な種々の充填具を用いること
も可能である。
The concentration of the conductive particles of the
次に、図1(d)に示すように、第4工程において、被覆膜160の開口部160a内
に充填された流動材172を硬化させる。流動材172の硬化処理は、溶媒を揮発させる
ための単なる乾燥処理でもよいが、上記導電性微粒子の焼結体を形成するための焼結処理
であることが望ましい。この焼成温度は金属の導電性微粒子を用いる場合、例えば、約1
50〜300℃程度の温度で数分〜数十分程度行う。これによって導電性を有する導電体
174が形成される。
Next, as shown in FIG. 1D, in the fourth step, the fluidizing
It is performed for several minutes to several tens of minutes at a temperature of about 50 to 300 ° C. As a result, a
次に、図1(e)に示すように、第5工程において、基板120上から被覆膜160を
除去する。本実施形態では、被覆膜160を機械的に基板120から剥離する。このとき
、開口部160a内の導電体174と被覆膜160上の導電体174の離反に要する応力
は、開口部160a内の導電体174と基板120との間の密着力よりも小さく、その結
果、被覆膜160とともに被覆膜160上に存在する導電体174が一括して除去され、
開口部160a内に形成された導電体174のみが基板120上に残る。そして、この基
板120上に残留した導電体174により導体パターン180が構成される。
Next, as shown in FIG. 1E, the
Only the
最後に、図1(f)に示すように、第6工程において、基板120に形成された導体パ
ターン180のうちの一部である配線部180aを絶縁レジストなどの絶縁体176によ
って被覆するとともに、端子部180bをメッキ処理などにより金等の導電体で構成され
る表面膜178によって被覆する。これによって、配線パターン180の配線部180a
においては隣接配線間の短絡が防止され、端子部180bにおいては他の電子部品(半導
体IC、他の回路基板、液晶パネルなど)に対する良好な導電コンタクト性を実現できる
。なお、この第6工程は必要に応じて適宜に実施されるもので、上記の態様に限定される
ものではなく、また、第6工程自体を設けなくても構わない。
Finally, as shown in FIG. 1 (f), in the sixth step, the wiring portion 180a, which is a part of the
In this case, short circuit between adjacent wirings is prevented, and good electrical contact property with respect to other electronic components (semiconductor IC, other circuit board, liquid crystal panel, etc.) can be realized in the
上述したように、本実施形態の電子部品の製造方法においては、基板120上に被覆膜
160を固定した後にレーザ光162によって被覆膜160に開口部160aを形成して
いるので、フォトリソグラフィー技術を用いたパターニング方法のように多数の工程を要
することがなく、しかも廃液処理が不要になるため、製造コストを大幅に低減できる。し
かも、レーザ光162による開口部160aの形成は、数μm程度の微細なピッチにも十
分に対応でき、しかも、開口部形状の精度も容易に高めることができる。したがって、導
体パターン180の微細化にも容易に対応でき、かつ、導体パターン180の高精度化を
図ることができる。
As described above, in the method of manufacturing an electronic component according to the present embodiment, since the opening 160a is formed in the
また、本実施形態では、導電性微粒子を含む流動材172を被覆膜160及び開口部1
60aへの塗布により開口部160a内に充填するようにしているので、開口部160a
の形成パターンが微細であっても高い精度が不要で、高価な装置を用いる必要もないこと
から、低コストで、容易かつ短時間に導体パターン180を形成することができる。特に
、被覆膜160をスクリーンとしたスクリーン印刷によって流動材172を開口部160
a内に充填することにより、流動材172を確実に、かつ、高密度に充填することができ
るため、導体パターン180のパターン精度を高めることができるとともに、導体パター
ン180の電気抵抗の低減を図ることが可能になる。
In this embodiment, the fluidizing
Since the opening 160a is filled by application to 60a, the opening 160a
Even if the formation pattern is fine, high accuracy is not required and it is not necessary to use an expensive apparatus. Therefore, the
By filling in a, the fluidizing
さらに、本実施形態においては、導電体174を形成した後に、第5工程において基板
120から被覆膜160を剥離することにより、被覆膜160上に存在する導電体174
を被覆膜160とともに一括して除去できるので、容易かつ迅速に導体パターン180を
完成させることができる。
Furthermore, in this embodiment, after the
Can be removed together with the
[第2実施形態]
次に、図2を参照して、本発明に係る第2実施形態の電子部品の製造方法を説明する。
図2は、本発明に係る第2実施形態の第1工程(a)乃至第6工程(f)を順次模式的に
示す概略縦断面図である。なお、本実施形態において第1実施形態と同一部分については
その旨を示すに留め、それらの説明は省略する。
[Second Embodiment]
Next, with reference to FIG. 2, the manufacturing method of the electronic component of 2nd Embodiment which concerns on this invention is demonstrated.
FIG. 2 is a schematic vertical cross-sectional view schematically showing sequentially the first step (a) to the sixth step (f) of the second embodiment according to the present invention. In the present embodiment, the same parts as those in the first embodiment are only shown to that effect, and the description thereof is omitted.
本実施形態では、図2(a)で示す第1工程で用いる被覆膜260を感光性材料で構成
し、第2工程でフォトリソグラフィー法によって被覆膜260に開口部260aを形成す
る。ここで、第1工程で被覆膜260をドライフィルムレジスト(dry film resist)で
構成する場合には、被覆膜260は上記第1実施形態と同様に貼着(具体的には熱圧着)
されることにより基板上に固定される。ただし、スピンコーティングなどによって液状レ
ジストを基板120上に塗布しても構わない。また、本実施形態の第2工程では、図2(
b)に示すように、被覆膜260を導体パターン(配線パターン)に対応する露光マスク
242を介して露光処理を施し、その後、現像処理を行うことにより開口部260aが形
成される。
In this embodiment, the
Is fixed on the substrate. However, the liquid resist may be applied onto the
As shown in b), the
ここで、被覆膜260は感光性ポリマーからなるレジストであり、光が照射された部分
が現像後に溶解して喪失するポジ型レジストでもよいし、光が照射された部分が現像後に
残存するネガ型レジストでもよい。
Here, the
また、この第2実施形態の第3工程、第5工程及び第6工程は、被覆膜160が260
に代わった点を除いて、第1実施形態とそれぞれ同様に実施することができる。
In the third, fifth and sixth steps of the second embodiment, the
Except for the point replaced with, it can be implemented in the same manner as in the first embodiment.
本実施形態の第4工程では、図2(d)で示すように導電体174が形成された基板1
20の表面に対してドライエッチングを施すことにより、被覆膜260を除去する。例え
ば、反応性ドライエッチングを用いて導電体724に較べて被覆膜260を優先的に除去
することにより、マスクなしで開口部260a内の導電体174を残したまま、被覆膜2
60を被覆膜260上の導電体174とともに除去することができる。もちろん、マスク
を用いて被覆膜260を選択的に除去しても構わない。
In the fourth step of the present embodiment, the
The
60 can be removed together with the
上述した第2実施形態の電子部品の製造方法では、被覆膜260に対してフォトリソグ
ラフィー法によって開口部260aを形成するが、導電体をエッチングしたり、メッキ処
理によって導電体を形成したりするわけではないので、重金属を含む廃液を生ずることが
ないから、廃液処理が不要となり、環境汚染の恐れもない。
In the electronic component manufacturing method of the second embodiment described above, the opening 260a is formed on the
また、この第2実施形態においては、被覆膜260として薄膜状のドライフィルムレジ
ストを使用していることにより、液状レジストを使用した場合に比べて、基板上に配置さ
せた後の乾燥処理が不要となるため、製造工数を低減できる。
Moreover, in this 2nd Embodiment, since the thin film-shaped dry film resist is used as the
[第3実施形態]
次に、図3を参照して、本発明に係る第3実施形態の電子部品の製造方法を説明する。
図3は、本発明に係る第3実施形態の第2工程(b)乃至第6工程(f)を順次模式的に
示す概略縦断面図である。この第3実施形態の第1工程から第6工程までのうち、第1工
程、第2工程、及び、第4工程乃至第6工程は第1実施形態とそれぞれ同様であるので、
それらの説明は省略する。また、各構成要素についても同一部分には第1実施形態と同一
符号を付し、それらの説明は省略する。
[Third embodiment]
Next, with reference to FIG. 3, the manufacturing method of the electronic component of 3rd Embodiment which concerns on this invention is demonstrated.
FIG. 3 is a schematic longitudinal sectional view schematically showing the second step (b) to the sixth step (f) of the third embodiment according to the present invention in order. Of the first to sixth steps of the third embodiment, the first step, the second step, and the fourth to sixth steps are the same as those of the first embodiment.
Those explanations are omitted. Further, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals as those in the first embodiment, and the description thereof is omitted.
本実施形態の第3工程では、図3(c)に示すように、容器370などに収容された導
電性微粒子を含む流動材172の中に、開口部160aを形成してなる被覆膜160が設
けられた基板120を浸漬させ、その後、基板120を引き上げることによって、被覆膜
160の開口160aの中に流動材172が充填された状態になるようにしている。
In the third step of the present embodiment, as shown in FIG. 3C, a
ここで、上記の容器370は基板120の全体を全て流動材172内に浸漬できるだけ
のサイズ(面積及び深さ)を有するものとし、基板120全体が同時に流動材172内に
浸漬されることが最も望ましいが、少なくとも開口部160aの全てが結果として流動材
172中に浸漬されればよい。また、流動材172は、開口部160aが微細なパターン
で構成されていても、開口部160a内に流動材172が完全に充填されるように比較的
高い流動性(低い粘度)を有するものであることが好ましい。開口部160aの開口幅が
微細である場合には、毛細管現象によって流動材172が開口部160aの中に充填され
るようにしてもよい。
Here, the
上述した第3実施形態の電子部品の製造方法においては、開口部160aを流動材17
2内に浸漬させることにより、流動材172を開口部160aの中に充填する作業をより
迅速かつ効率的に行うことができる。なお、精度を要する装置や高価な装置を要しない点
は第1実施形態と同様である。
In the electronic component manufacturing method according to the third embodiment described above, the opening 160a is formed in the fluidizing material 17.
By immersing in 2, the operation of filling the
なお、本実施形態では第1実施形態と同様にレーザ光によって開口部160aを形成し
ているが、基板上の被覆膜に開口部を形成する方法は特に限定されず、第2実施形態と同
様にフォトリソグラフィー法を用いて開口部を形成しても構わない。
In this embodiment, the opening 160a is formed by laser light as in the first embodiment. However, the method of forming the opening in the coating film on the substrate is not particularly limited, and the second embodiment and the second embodiment. Similarly, the opening may be formed using a photolithography method.
[第4実施形態]
次に、図4を参照して、本発明に係る第4実施形態の電子部品の製造方法を説明する。
図4は、本発明に係る第4実施形態の第4工程(d)乃至第6工程(f)を順次模式的に
示す概略縦断面図である。この第4実施形態は第1工程から第6工程までを有するが、こ
のうち、第1工程乃至第3工程及び第6工程は第1実施形態とそれぞれ同一であるので、
それらの説明は省略する。また、各構成要素についても第1実施形態と同一部分について
は同一符号を付し、それらの説明は省略する。
[Fourth embodiment]
Next, with reference to FIG. 4, the manufacturing method of the electronic component of 4th Embodiment which concerns on this invention is demonstrated.
FIG. 4 is a schematic longitudinal sectional view schematically sequentially showing the fourth step (d) to the sixth step (f) of the fourth embodiment according to the present invention. Although this 4th Embodiment has from the 1st process to the 6th process, since among these, the 1st process thru / or the 3rd process and the 6th process are the same as the 1st embodiment, respectively.
Those explanations are omitted. In addition, the same reference numerals are given to the same components as those in the first embodiment, and description thereof is omitted.
この第4実施形態の第4工程では、図4(d)に示すように、レーザ光462によって
被覆膜160上に存在する導電体174を除去する。これによって、導電体174間の短
絡が防止され、基板120上に導体パターン180が形成される。
In the fourth step of the fourth embodiment, as shown in FIG. 4D, the
ここで、レーザ光462は第1実施形態のレーザ光162と同様のものでよく、エキシ
マレーザや炭酸ガスレーザなどのレーザ光源を用いることができる。また、レーザ光46
2は、被覆膜160上に存在する導電材174に対して主として照射されてもよく、或い
は、導体パターン180が形成される領域全体に亘ってほぼ均一に導電材174に照射さ
れてもよい。いずれの場合でも、被覆膜160上の導電体174は除去され、開口部16
0a内に充填された導電体174のみが残る。また、上記レーザ光462の照射により、
導電体174だけでなく、その下の被覆膜160の一部が除去されるようにしても構わな
い。このようにすると、被覆膜160上の導電体174を残留させることなく確実に除去
することができる。
Here, the
2 may be mainly irradiated to the
Only the
Not only the
なお、第4工程において、レーザ光の照射の代わりに、ドライエッチング(反応性ドラ
イエッチング)やプラズマ処理を用いてもよい。反応性ドライエッチングやプラズマ処理
では、CF4などの反応性ガスを用いることによって導電体174を容易に除去できる。
In the fourth step, dry etching (reactive dry etching) or plasma treatment may be used instead of laser light irradiation. In reactive dry etching or plasma treatment, the
上述した第4実施形態の電子部品の製造方法においては、レーザ光462を照射するこ
とによって被覆膜160上の導電体174を除去することにより、被覆膜160全体を基
板120から剥離させる場合に比べて、開口部160a内に充填された導電体174が被
覆膜160と共に除去されてしまう恐れがなくなるので、製造の歩留まりを高めることが
でき、また、より微細な導体パターンも容易に形成できる。また、この実施形態の場合、
基板120上には被覆膜160が残されるので、この被覆膜160を配線パターン180
内の絶縁被覆(の少なくとも一部)として用いることができ、その後に被覆される別途の
絶縁体176を不要とすることができ、或いは、その被覆量を低減することが可能になる
。
In the electronic component manufacturing method of the fourth embodiment described above, when the
Since the
It can be used as (at least a part of) the inner insulation coating, and a
なお、この第4実施形態の第1工程乃至第3工程は第1実施形態と同様に実施されるが
、第2実施形態と同様に実施してもよい。また、第4実施形態の第3工程を第3実施形態
の第3工程と同様に実施しても構わない。
In addition, although the 1st process thru | or 3rd process of this 4th Embodiment are implemented similarly to 1st Embodiment, you may implement similarly to 2nd Embodiment. Moreover, you may implement the 3rd process of 4th Embodiment similarly to the 3rd process of 3rd Embodiment.
[電子部品]
次に、図5を参照して、本発明に係る上記製造方法によって製造された電子部品の一例
であるフレキシブル基板及び液晶パネルについて説明する。この液晶パネル500はパネ
ル本体520とフレキシブル基板540とを有している。また、フレキシブル基板540
はパネル本体520に実装され、パネル本体520の後述する電極に導電接続された配線
パターン540aを備えるとともに、その基板面上に他の電子部品(半導体ICチップ)
542が実装された状態となっている。この電子部品542は、例えば、パネル本体52
0を駆動する液晶ドライバICである。
[Electronic parts]
Next, with reference to FIG. 5, a flexible substrate and a liquid crystal panel, which are examples of electronic components manufactured by the manufacturing method according to the present invention, will be described. The
Is mounted on the
542 is mounted. The
This is a liquid crystal driver IC that drives 0.
パネル本体520は、ガラスやプラスチックなどで構成される基板521と522を図
示しないシール材などを介して貼り合わせてなり、基板521と522の間に図示しない
液晶が封入されている。また、基板521の表面上にはフレキシブル基板540が実装さ
れる入力端子部を備えた複数の配線を含む配線パターン523が形成され、この配線パタ
ーン523内の各配線は、上記液晶に電界を印加するための図示しない複数の電極にそれ
ぞれ導電接続されている。そして、これらの電極によって液晶に電界を適宜の態様で印加
することにより、駆動領域500A内の各画素がそれぞれ所定の光学変調作用を果たすよ
うになっている。
The panel
上記基板521上に配線パターン523を有する構造は、上記第1実施形態乃至第4実
施形態にて開示されたいずれかの製造方法によって製造されたものである。これによって
、パネル本体520を低いコストで製造することが可能になる。また、パネル本体の精細
度が高くなっても、本実施形態の製造方法を用いることによって高密度で微細な配線パタ
ーン523を確実に形成できる。
The structure having the
フレキシブル基板540は、ポリイミド樹脂などで構成される可撓性基板上に配線パタ
ーン540aが形成されてなるものであり、上記第1実施形態乃至第4実施形態にて開示
されたいずれかの製造方法によって製造されたものである。この配線パターン540a内
の各配線は、上記配線パターン523内の各配線の入力端子に導電接続されている。また
、このフレキシブル基板540において、配線パターン540aのうち、上記入力端子に
導電接続される部分と、上記電子部品542に導電接続される部分は上記の端子部180
bとして構成され、また、それ以外の部分は上記配線部180aとして絶縁被覆された状
態とされる。
The
It is configured as b, and other portions are insulatively covered as the wiring portion 180a.
本実施形態における電子部品に相当する液晶パネル500、或いは、パネル本体520
及びフレキシブル基板540を製造する場合には、上記製造方法を適用することにより、
配線パターン523,540aを低コストで形成できるとともに、製造効率の向上及び歩
留まりの向上を図ることができる。また、微細なピッチでも確実かつ精度良く形成できる
ので、液晶パネル500の高精細化にも容易に対応できる。
The
And when manufacturing the
The
なお、本発明に適用可能な電子部品としては、上述のもの以外に、有機エレクトロルミ
ネッセンスパネル、プラズマディスプレイパネル、電気泳動表示装置などの電気光学装置
、さらには、各種の半導体装置(半導体ICなど)、セラミック電子部品などが挙げられ
る。
As electronic components applicable to the present invention, in addition to those described above, electro-optical devices such as organic electroluminescence panels, plasma display panels, and electrophoretic display devices, and various semiconductor devices (semiconductor ICs, etc.) And ceramic electronic components.
図6は、本発明に係る製造方法によって製造した電子部品を搭載した電子機器を示す概
略斜視図である。この電子機器(携帯電話)1000は、操作部1001と、表示部10
02とを有し、表示部1002の内部には回路基板1100が配置されている。回路基板
1100上には上記の液晶パネル500が実装され、表示部1002の表面から上記液晶
パネル500の駆動領域(表示領域)500Aが視認されるように構成されている。なお
、電子機器1000としては、図示例の携帯電話に限らず、携帯型情報端末、電子時計、
テレビジョン装置、モニタ装置などの各種電子機器が挙げられる。
FIG. 6 is a schematic perspective view showing an electronic device on which an electronic component manufactured by the manufacturing method according to the present invention is mounted. The electronic device (mobile phone) 1000 includes an
02, and a
Various electronic devices such as a television device and a monitor device can be given.
尚、本発明は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しな
い範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
Note that the present invention is not limited to the illustrated examples described above, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.
120…基板、140…粘着層、160,260…被覆膜、160a、260a…開口部
、162、462…レーザ光、170…スキージ、172…流動材、174…導電体、1
76…絶縁体、178…表面膜、180…導体パターン、180a…配線部、180b…
端子部、370…容器、500…液晶パネル、500A…駆動領域、520…パネル本体
、523,540a…配線パターン、540…フレキシブル基板、542…電子部品、1
000…電子機器、1001…操作部、1002…表示部、1100…回路基板
DESCRIPTION OF
76 ... Insulator, 178 ... Surface film, 180 ... Conductor pattern, 180a ... Wiring part, 180b ...
Terminal part, 370 ... Container, 500 ... Liquid crystal panel, 500A ... Driving region, 520 ... Panel body, 523, 540a ... Wiring pattern, 540 ... Flexible substrate, 542 ... Electronic component, 1
000 ... electronic device, 1001 ... operation unit, 1002 ... display unit, 1100 ... circuit board
Claims (8)
前記被覆膜を部分的に除去して開口部を設ける第2工程と、
導電性微粒子を含む流動材を前記被覆膜及び前記開口部に塗布して前記開口部に充填す
る第3工程と、
前記流動材を硬化させて導電体を形成する第4工程と、
前記被覆膜を前記基板上から除去する第5工程と、
を具備することを特徴とする電子部品の製造方法。 A first step of disposing a coating film on the substrate;
A second step of partially removing the coating film and providing an opening;
A third step of applying a fluid material containing conductive fine particles to the coating film and the opening and filling the opening;
A fourth step of curing the fluidizing material to form a conductor;
A fifth step of removing the coating film from the substrate;
The manufacturing method of the electronic component characterized by comprising.
前記第5工程では、前記基板上から前記被覆膜が剥離される
ことを特徴とする請求項1に記載の電子部品の製造方法。 In the first step, the coating film is detachably attached to the substrate,
The method for manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein in the fifth step, the coating film is peeled off from the substrate.
前記被覆膜を部分的に除去して開口部を設ける第2工程と、
導電性微粒子を含む流動材を前記被覆膜及び前記開口部に塗布して前記開口部に充填す
る第3工程と、
前記流動材を硬化させて導電体を形成する第4工程と、
前記被覆膜上に存在する前記流動材若しくは前記導電体を除去する第5工程と、
を具備することを特徴とする電子部品の製造方法。 A first step of disposing a coating film on the substrate;
A second step of partially removing the coating film and providing an opening;
A third step of applying a fluid containing conductive fine particles to the coating film and the opening and filling the opening;
A fourth step of curing the fluidizing material to form a conductor;
A fifth step of removing the fluidizing material or the conductor present on the coating film;
The manufacturing method of the electronic component characterized by comprising.
は前記導電体が除去されることを特徴とする請求項3に記載の電子部品の製造方法。 4. The method of manufacturing an electronic component according to claim 3, wherein in the fifth step, the fluidizing material or the conductor existing on the coating film is removed by laser light irradiation. 5.
を特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の電子部品の製造方法。 5. The method of manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein, in the second step, the opening is formed in the coating film by laser light irradiation. 6.
の表面が前記レーザ光の照射によって粗面化されることを特徴とする請求項5に記載の電
子部品の製造方法。 6. The electronic component according to claim 5, wherein, in the second step, the surface of the substrate exposed by forming the opening in the coating film is roughened by irradiation with the laser beam. Manufacturing method.
とを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein in the third step, screen printing is performed using the coating film as a screen.
至6のいずれか一項に記載の電子部品の製造方法。
The method of manufacturing an electronic component according to any one of claims 1 to 6, wherein in the third step, the substrate is immersed in the fluidizing material.
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|---|---|---|---|
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009539252A (en) * | 2006-06-02 | 2009-11-12 | イーストマン コダック カンパニー | Nanoparticle patterning process |
| JP2014103315A (en) * | 2012-11-21 | 2014-06-05 | Fujitsu Ltd | Conductive pattern structure and conductive pattern forming method |
| JP2018026410A (en) * | 2016-08-08 | 2018-02-15 | ローム株式会社 | CHIP COMPONENT, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND CIRCUIT MODULE PROVIDED WITH CHIP COMPONENT |
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-
2004
- 2004-10-22 JP JP2004307750A patent/JP2006120888A/en not_active Withdrawn
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