JP2006120288A - 回路付サスペンション基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】金属基板1上に、磁気ヘッドを搭載するための領域5を設け、該領域外に、金属基板1との間に絶縁層2を介在させて導体層4を回路パターンとして設ける。該回路パターンには、磁気ヘッドの端子と接続するための接続用端子となるパターン終端部4を形成し、該パターン終端部4の端面4aを、その直下の絶縁層2の端面2aと揃わせるかまたは該端面2aよりも先端方向へ張り出させ、絶縁層2にレーザー光が照射されない構造とする。好ましくは、パターン終端部の上面に段差を形成し、該段差のうちの先端側の低い面上には2本の尾根状突起部を形成し、半田ボールの位置を安定させる。
【選択図】図1
Description
高速回転する磁気ディスク表面と、磁気ヘッドとの間の微小な間隙に生じる空気流に抗しながら、該磁気ヘッドを磁気ディスク面の方へ弾性的に押し付け、その微小な間隔を保ち続けるための部品として、回路付サスペンション基板がある。
回路付サスペンション基板の基端側は、ハードディスクドライバの装置本体側から延びるアーム部材に固定され、先端側(自由端側)には磁気ヘッドがマウントされ、基板が片持ち状態となって先端側の磁気ヘッドを弾性的に支持する構成である。
図8に示すように、金属基板100の先端部には、磁気ヘッドを搭載するための領域130が設けられ、その周囲を貫通開口140が取り巻くように形成され、これによって領域130は、金属基板100の先端部の中央において、さらに、先端側だけで片持ち状に支持された構造となっている。
また、金属基板上には、該基板の基端側(図示を省略)から磁気ヘッドの端子まで、電力・信号等を伝達するための導体層(極太線で示した回路パターン)120が絶縁層110を介して形成されている。前記回路パターン120には、磁気ヘッドの端子と接続するための接続用端子(または、端子パッド、電極パッド)となるパターン終端部121が形成されている。
なかでも、磁気ヘッドの端子の微小化、配置の狭ピッチ化に対応するための方法として、半田ボールを用いた接続方法が挙げられる。この接続方法は、先ず、図9(a)に示すように、磁気ヘッドH10の端子H11と、回路のパターン終端部(接続用端子パッド)121とを互いに直角をなすように接近させて配置し、両者の端子面に接触するように、半田ボール150を供給する。次に、該ボールにレーザー光を照射し、図9(b)に符号151で示すように溶融させ、両者を接続するという方法である。
特許文献2、3には、半田ボールを用いた接続方法や、半田ボールの供給装置(半田ボール供給素子)などが詳細に記載されている。
即ち、本発明者等の観察によれば、磁気ヘッドがさらに小型化され、双方の接続端子および半田ボールがより小さくなると、レーザー光を半田ボールだけに確実に当てること(レーザー光照射の位置決め)自体が困難となり、図10に示すように、パターン終端部120の外周縁付近などにも照射される場合が多くなる。パターン終端部120の外周縁では、図10にmで示すように、下層の絶縁層110がパターン終端部よりも外側へはみ出しているため、そのはみ出し部分mにもレーザー光が照射されることになる。
レーザー光を受けた絶縁層は熱分解し、カーボンなどの熱分解物が生じる。このような熱分解物は、磁気ヘッドの駆動に悪影響を及ぼし、また、電気信号を阻害するなどの機能上の問題を引き起こすおそれがある。
さらには、レーザー光照射の位置決め上の問題のみならず、パターン終端部120上に配置される半田ボール150の位置にバラツキがあるため、このバラツキによっても、レーザー光が半田ボールから逸れて、絶縁層に照射される場合があることがわかった。
(1)金属基板上に、磁気ヘッドを搭載するための領域が設けられ、かつ該領域外には、導体層が、金属基板との間に絶縁層を介在させて回路パターンとして設けられ、
前記回路パターンには、磁気ヘッドの端子と接続するための接続用端子となるパターン終端部が形成され、
該パターン終端部の端面が、その直下の絶縁層の端面と揃っているか、または該絶縁層の端面よりも先端方向へ張り出していることを特徴とする、回路付サスペンション基板。
(2)パターン終端部の終端側において、金属基板には該基板を貫通する開口部が設けられ、該開口部の内壁面が、絶縁層の終端面と揃った位置にある、上記(1)記載の回路付サスペンション基板。
(3)パターン終端部の終端側において、金属基板には該基板を貫通する開口部が設けられ、該開口部の内壁面が、絶縁層の終端面よりも絶縁層の下側へ引き込んだ位置にある、上記(1)記載の回路付サスペンション基板。
(4)パターン終端部が、その直下の絶縁層の端面よりも先端方向へ張り出した後、さらに、該絶縁層の端面を覆って下層側へと折れ曲がり、さらに、先端方向へと折れ曲がっており、これによって、パターン終端部の上面には先端側に低い面を持つ段差が形成されている、上記(3)記載の回路付サスペンション基板。
(5)パターン終端部の直下の絶縁層には、その上記端面からさらに先端方向へ突き出した2本の突起状部分が少なくとも形成されており、
該突起状部分を覆うことによって、パターン終端部の段差のうち先端側の低い面上にも、2本の尾根状突起部が形成されている、上記(4)記載の回路付サスペンション基板。
(6)該パターン終端部が、その直下の絶縁層と端面が揃っており、
該絶縁層は、先端部において上面に段差が生じるように低くなっており、この絶縁層の上面の段差を覆うことによって、パターン終端部の上面にも段差が形成されている、上記(1)〜(3)のいずれかに記載の回路付サスペンション基板。
(7)パターン終端部の直下の絶縁層の上面の段差のうち、先端側の低い面上には、段差部からさらに先端方向へ突き出した2本の尾根状突起部が少なくとも形成されており、該尾根状突起部を覆うことによって、パターン終端部の段差のうち先端側の低い面上にも、2本の尾根状突起部が形成されている、上記(6)記載の回路付サスペンション基板。
(8)絶縁層の材料が感光性樹脂であって、絶縁層の上面の段差および/または尾根状突起部が、感光性樹脂に対する光の照射量を変えることよって形成されたものである、上記(6)または(7)記載の回路付サスペンション基板。
これに対して、本発明において着目した上記問題に対する意識を持たずに、単に、従来の製造プロセスに従って、金属基板上に絶縁層を形成しその上に回路パターンを形成すると、図10に示すように、パターン終端部120の端面よりも、その直下の絶縁層110の端面の方が必ずはみ出る構造となる。これは、パターン終端部120と金属基板100とを絶縁するように、絶縁層110が設けられるからである。本発明の図1(b)の構造のように、導体層120下の導体層110および金属基板100を除去するためには、新たな除去工程を増やす必要がある。
本発明による構造によって、レーザー光がパターン終端部4の端部付近に照射されたとしても、絶縁層への直接的な照射が抑制され、熱分解物の発生が抑制される。
例えば、(イ)弾性金属が基板1の材料として用いられ、全体として帯状を呈する一種の板バネである点、(ロ)該金属基板1上に磁気ヘッドH1を搭載するための領域5が設けられ、その周囲を貫通開口6が一部を除いて取り巻くように形成され、これによって領域5が先端側だけで片持ち状に支持された構造となっている点、(ハ)領域5のさらに外側には、導体層(プリント回路パターン)3が絶縁層2を介して設けられ、基端側と先端側とを連絡している点、(ニ)回路パターン3の先端側には、磁気ヘッドの端子と接続するための接続用端子となるパターン終端部4が形成されている点、(ホ)配置された状態の磁気ヘッドの端子と、パターン終端部4とが、半田ボールによって接合可能なように、直角コーナーをなすように配置されている点などは、従来技術を参照してもよい。また図1では、導体層をさらに覆う保護膜などは図示を省略している。
パターン終端部の先端方向とは、パターン終端部の根元部分から終端面に向う方向である。図1(a)に示す例では、パターン終端部の先端方向は、当該回路付サスペンション基板全体としての先端方向とは逆の方向を向いている。
この構成によって、図1(b)に示すように、レーザー光が半田ボールから逸脱して周囲に照射されても、絶縁層2の端部に照射されることが抑制される。
感光性ポリイミドの具体例、その製造方法、その感光性を利用したパターン形成技術などは、従来公知の技術を利用してよく、特許文献1、4にも詳細に記載されている。
導体層は、単一層とするだけでなく、パターン終端部などに半田付けに好ましい材料層を表層として付与するなど、必要に応じて種々の多層構造としてもよい。
絶縁層2の終端面2aに対する、開口部の内壁面1aの引き込み量は、0μm〜200μm程度が好ましく、特に10μm〜100μmが好ましい。
図2は、図1(b)に示したパターン終端部を得るまでの工程の一例を概略的に示した図である。同図の加工例では、図2(a)に示すように、金属基板1上に絶縁層2が積層され、次に、図2(b)に示すように、絶縁層2が所定のパターンへと加工される。絶縁層2のパターン加工は、レジスト(図示せず)を用いたエッチングや、感光性樹脂の場合には現像によるパターニングなどである。さらに、図2(c)に示すように、メッキ用のレジストR1が表裏に付与され、図2(d)に示すように、レジストR1の無い露出部分にメッキによって導体層4が形成され、図2(e)に示すように、該レジストR1が全て除去される。さらに、図2(f)に示すように、金属基板1の裏面側から開口部6b1が形成され(該開口部をエッチング除去するためのレジスト付与のプロセスなどは、図示を省略している)、図2(g)に示すように、上面側全体を絶縁層用のレジストR2で覆い、開口部6b1の側から絶縁層2をエッチング除去し、図2(h)に示すように、レジストR2を除去して、目的のパターン終端部を得る。
上記工程中において、例えば、めっき法によって絶縁層上に導体層を形成するために、該絶縁層上にスパッタリングなどによってCr層を下層としCu層を上層とする2層の下地層を成膜するなど、種々の改善を加えてもよい。
図4は、導体層の上面に段差を設けた例を示す図である。該段差によって、半田ボールが意図せぬ位置へと移動することが抑制され、レーザー照射が半田ボールから逸脱することも少なくなる。
図4(a)の態様では、パターン終端部4が、その直下の絶縁層2の端面2aよりも先端方向(図の左側の方向)へ張り出した後、該絶縁層2の端面2aを覆って下層側へと折れ曲がり、さらに、先端方向へと折れ曲がり、貫通開口上に片持ち梁として張り出した端子となっている。また、この2つの折れ曲がりによって、パターン終端部の上面には、先端側に低い面4cを持つ段差(4bが段差において下方に向う面である)が形成されている。
このような段差構造は、単純に導体層の上面からエッチングして薄くしただけの段差構造と比べて、貫通開口6b上に張り出した端子の先端部分が十分に厚い。従って、端子の先端部が、段差構造でありながらも機械的強度を有しており、半田ボールを用いた接続に対しても、信頼性の高い端子となる。
絶縁層2は、先端部において一段低くなっており、上面に段差を有している(2cが低くなった面である)。この絶縁層2の段差を覆うことによって、その影響を受けて、パターン終端部4の上面にも段差が形成されており、低くなった面4cが形成されている。
この態様は、導体層の下側に絶縁層が沿っているので、片持ち状態として突き出した端子部に高い剛性が与えられており、好ましい態様である。
また、図4(b)の例では、導体層の下側に絶縁層が沿っているので、同図に一点鎖線1bで示すように、金属基板をさらに端子の先端方向へと張り出させ、端子にさらなる剛性を与える好ましい態様とすることが可能となる。
階調露光とは、階調露光マスクを用いて光の照射量を段階的に調整し、それによって硬化後の層の絶縁層の厚さに段階的な差を生じさせる技術である。
階調露光マスクとは、光を透過させない材料からなるマスク層の任意の領域に、ドット状やストライプ状のパターンにて微細な光透過孔を集合させて設けたもの(換言すると、網状やストライプ状などのパターンにてマスク層を形成したもの)であって、該光透過孔の大きさや集合の密度など、光透過孔の配置パターンを選択することで、感光性樹脂に照射される光量を任意に変化させ得るマスクである。
このような階調露光マスクを形成するには、例えば、石英ガラス板上に、クロム薄膜を光透過部と遮光部とからなる縞状(網状)パターンとなるように蒸着する方法などが挙げられる。クロム薄膜の無い部分(光透過部)の光透過率は約100%であり、クロム薄膜が在る部分(遮光部)の光透過率は約0%である。両者の面積比率、光透過孔の大きさ、集合密度などを調整することによって、縞状(網状)パターンとしたマスク領域は、その領域全体としての光透過率を任意の値とすることができ、よって階調露光が可能になる。
感光性ポリアミド酸(感光性ポリイミド前駆体)の液状物を、金属基板上に塗布、乾燥して感光性ポリアミド酸膜(層)とする。
感光性ポリアミド酸膜に対し、階調露光マスクを用いることによって、照射される光量の強弱関係が(完全に除去すべき部分;照射せず)<(層厚を薄くすべき部分)<(元の層のまま全く除去しない部分)となるように階調露光を施す。
上記のように階調露光を施した後、該膜を120〜180℃の温度で約2〜10分程度加熱し、次いで、現像を行うと、現像液により、全く照射されなかった部分(非露光部)は完全に除去され、縞状パターンマスクによって弱い光が照射された部分は薄く残り、マスクが全く無く強い光が照射された部分は、元の厚さのままの層として残り、段差が得られる。
これを加熱(硬化加熱)すると、図4(b)に示すように、段差を持ったポリイミド絶縁層が得られる。
感光性樹脂の露光に用いる光の波長、光源、現像液などは、従来公知の技術を参照すればよい。
図5(a)は、当該態様によるパターン終端部付近全体の外観を示した斜視図であり、図5(b)は、説明のために、パターン終端部の先端部分を切り欠いて、絶縁層の先端部分の構造を見せた斜視図である。
この態様では、図5(b)に示すように、パターン終端部4の直下の絶縁層2に、その端面2aからさらに先端方向へ突き出した2本の突起状部分2dが設けられている。
パターン終端部4の先端部分は、図6(a)に示すように、絶縁層2の端面2aよりも先端方向へ張り出した後、該絶縁層2の端面2aを覆って下層側へと折れ曲がり、さらに、先端方向へと折れ曲がり、片持ち梁として張り出した端子となっている。この折れ曲がりによって、パターン終端部4の上面には、先端側に低い面4cを持つ段差(4bが段差において下方に向う面)が形成されている。この点は、図4(a)の段差構造と同様である。
このような金属製の微細な尾根状突起部を、切削やエッチングなどによって導体層上面から彫り込んで形成することは困難である。当該プロセスのように、下層の絶縁層に2条の突起状部分を設け、その突起状部分の凹凸を覆うことでその影響によって、パターン終端部にも2本の尾根状突起部を形成する方法は、金属端子面、電極面に、任意のパターンの凹凸を形成するための方法として有用である。
図7(a)に示す態様では、図4(b)の態様と同様に、パターン終端部4が片持ち梁として張り出しているが、その下面に沿って直下の絶縁層2も張り出している。パターン終端部4の端面4aと、絶縁層2の端面2aとは、互いに揃っている。
図7(b)に示すように、絶縁層2は、先端部において上面に段差が生じるように低くなっており、この絶縁層の上面の段差の影響を受けて、パターン終端部の上面にも段差が形成されている。さらに、絶縁層2の上面の段差のうち、先端側の低い面2c上には、段差部からさらに先端方向へ突き出した2本の尾根状突起部2dが形成されている。
この尾根状突起部2dの影響を受けて、パターン終端部の段差のうち先端側の低い面4c上には、2本の尾根状突起部4dが形成されている。
本発明でいう「2本の尾根状突起部」とは、尾根状突起部の数を2本だけに限定するものではなく、半田ボールを支持するための主たる尾根状突起部を少なくとも2本持っていることを意味する。この2本の尾根状突起部に加えて、半田ボールの保持に寄与する第3、第4の尾根状突起部が適宜存在してもよい。
また例えば、1つの半田接続部において、半田ボールを2個使用するような場合、3本の尾根状突起部を形成すれば、それらの間に2本の溝が得られ、それぞれの溝に半田ボールを保持できる。このような3本の尾根状突起部を有する変形態様であっても、半田ボールを支持する2本の尾根状突起部を2組含んだ態様と等価である。
図4〜図7の例では、説明のために、各部を直角、平行として単純化した形状を例としているが、階調露光の技術を利用してさらに多段階の構造としてもよい。
また、本発明では、好ましい端子構造として、パターン終端部の表面にも、半田ボールを配置位置を安定させるための種々の段差を設けている。この構造によって、レーザー光を半田ボールに命中し易くなっている。
2 絶縁層
3 導体層
4 パターン終端部
5 磁気ヘッドを搭載するための領域
6 貫通開口
7 半田ボール
Claims (8)
- 金属基板上に、磁気ヘッドを搭載するための領域が設けられ、かつ該領域外には、導体層が、金属基板との間に絶縁層を介在させて回路パターンとして設けられ、
前記回路パターンには、磁気ヘッドの端子と接続するための接続用端子となるパターン終端部が形成され、
該パターン終端部の端面が、その直下の絶縁層の端面と揃っているか、または該絶縁層の端面よりも先端方向へ張り出していることを特徴とする、回路付サスペンション基板。 - パターン終端部の終端側において、金属基板には該基板を貫通する開口部が設けられ、該開口部の内壁面が、絶縁層の終端面と揃った位置にある、請求項1記載の回路付サスペンション基板。
- パターン終端部の終端側において、金属基板には該基板を貫通する開口部が設けられ、該開口部の内壁面が、絶縁層の終端面よりも絶縁層の下側へ引き込んだ位置にある、請求項1記載の回路付サスペンション基板。
- パターン終端部が、その直下の絶縁層の端面よりも先端方向へ張り出した後、さらに、該絶縁層の端面を覆って下層側へと折れ曲がり、さらに、先端方向へと折れ曲がっており、これによって、パターン終端部の上面には先端側に低い面を持つ段差が形成されている、請求項3記載の回路付サスペンション基板。
- パターン終端部の直下の絶縁層には、その上記端面からさらに先端方向へ突き出した2本の突起状部分が少なくとも形成されており、
該突起状部分を覆うことによって、パターン終端部の段差のうち先端側の低い面上にも、2本の尾根状突起部が形成されている、請求項4記載の回路付サスペンション基板。 - 該パターン終端部が、その直下の絶縁層と端面が揃っており、
該絶縁層は、先端部において上面に段差が生じるように低くなっており、この絶縁層の上面の段差を覆うことによって、パターン終端部の上面にも段差が形成されている、請求項1〜3のいずれかに記載の回路付サスペンション基板。 - パターン終端部の直下の絶縁層の上面の段差のうち、先端側の低い面上には、段差部からさらに先端方向へ突き出した2本の尾根状突起部が少なくとも形成されており、該尾根状突起部を覆うことによって、パターン終端部の段差のうち先端側の低い面上にも、2本の尾根状突起部が形成されている、請求項6記載の回路付サスペンション基板。
- 絶縁層の材料が感光性樹脂であって、絶縁層の上面の段差および/または尾根状突起部が、感光性樹脂に対する光の照射量を変えることよって形成されたものである、請求項6または7記載の回路付サスペンション基板。
Priority Applications (5)
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