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JP2006162571A - Connector, and sensor using connector - Google Patents

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JP2006162571A
JP2006162571A JP2004358840A JP2004358840A JP2006162571A JP 2006162571 A JP2006162571 A JP 2006162571A JP 2004358840 A JP2004358840 A JP 2004358840A JP 2004358840 A JP2004358840 A JP 2004358840A JP 2006162571 A JP2006162571 A JP 2006162571A
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contact
spiral
substrate
contacts
dimension
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Application number
JP2004358840A
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Japanese (ja)
Inventor
Shuichi Chiba
秀一 千葉
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Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a connector capable of bringing an electrode part of an electronic component into sure contact with a plurality of contacts, and capable of preventing the electronic component from being affected unfavorably by static electricity, and a sensor using the connector. <P>SOLUTION: This connector is provided with a spiral contact 12A0 of projected dimension h0 in the outermost array position R0, a spiral contact 12A1 of projected dimension h1 in the first array position R1, a spiral contact 12A2 of projected dimension h2 in the second array position R2, and a spiral contact 12A3 of projected dimension h3 in the third array position R3, on a substrate 11, where h0>hi>h2>h3. A conductive plate 20 contacts with the spiral contacts in order of projected levels of the projected dimensions, starting from the largest one, to detect a micro position change of the conductive plate. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、基板から接触子の接触点までの高さが場所により相違する接続装置に係り、さらに前記接続装置を利用して荷重等の測定を可能としたセンサに関する。   The present invention relates to a connection device in which a height from a substrate to a contact point of a contact differs depending on a place, and further relates to a sensor that can measure a load or the like using the connection device.

下記の特許文献1には、半導体デバイスを接続させるスパイラル状接触子が開示されている。   Patent Document 1 below discloses a spiral contact for connecting a semiconductor device.

図6は従来のスパイラル状接触子を用いた絶縁基板の断面図である。
絶縁基板100には孔101が設けられており、孔101の内面には銅メッキが施されて導電部102が形成されている。絶縁基板100の上面(図示Z1側の面)には、導電部102に導通するスパイラル状接触子103が設けられている。また、絶縁基板100の下面(図示Z2側の面)には、導通部102に導通する接続部104が形成されている。
FIG. 6 is a cross-sectional view of an insulating substrate using a conventional spiral contact.
A hole 101 is provided in the insulating substrate 100, and a conductive part 102 is formed on the inner surface of the hole 101 by copper plating. On the upper surface (the surface on the Z1 side in the drawing) of the insulating substrate 100, a spiral contact 103 that conducts to the conductive portion 102 is provided. In addition, a connecting portion 104 that conducts to the conducting portion 102 is formed on the lower surface of the insulating substrate 100 (the surface on the Z2 side in the drawing).

下記特許文献1に記載の従来例では、個々のスパイラル状接触子103が平坦に形成されており、電極等が接触したときにスパイラル状接触子103が、孔101内に向けて変形できるようになっている。
特開2002−175859号公報
In the conventional example described in Patent Document 1 below, each spiral contact 103 is formed flat so that the spiral contact 103 can be deformed toward the inside of the hole 101 when an electrode or the like comes into contact therewith. It has become.
JP 2002-175859 A

しかし、前記特許文献1に記載の従来の接続装置では、スパイラル状接触子103が平面Hの位置で平面的に設けられているので、例えばIC(集積回路)やICパッケージなどの電子部品の接続部として使用したときに、全てのスパイラル状接触子103と、電子部品の電極部とが全て確実に接触できないことがありえる。   However, in the conventional connection device described in Patent Document 1, since the spiral contact 103 is provided in a plane at the position of the plane H, for example, an electronic component such as an IC (integrated circuit) or an IC package is connected. When used as a part, it is possible that all spiral contacts 103 and the electrode part of the electronic component cannot be reliably contacted.

また、複数のスパイラル状接触子103のいずれかがアース電位で、他のものが信号端子である場合に、電子部品を装着したときに、アース電位のスパイラル接触子103が電極部に最初に接続される保証がなく、よって、静電気が信号端子に及んだときに電子部品の内部回路を損傷するおそれがある。   In addition, when one of the plurality of spiral contacts 103 is ground potential and the other is a signal terminal, the spiral contact 103 with ground potential is first connected to the electrode portion when an electronic component is mounted. There is no guarantee that the internal circuit of the electronic component will be damaged when static electricity reaches the signal terminal.

一方、従来、微小な質量を測定する測定装置として電気的端子を使用したものがあるが、電気的端子の剛性が高いものが主であるため、きわめて軽量な質量を確実に検出できない問題があった。   On the other hand, there are conventional devices that use an electrical terminal as a measuring device for measuring a minute mass. However, there is a problem that an extremely light mass cannot be reliably detected because the electrical terminal has mainly high rigidity. It was.

本発明は上記従来の課題を解決するものであり、電子部品の電極部を複数の接触子に確実に接触させることができ、また、静電気による電子部品の悪影響も防止可能な接続装置を提供することを目的としている。   The present invention solves the above-described conventional problems, and provides a connection device that can reliably bring an electrode portion of an electronic component into contact with a plurality of contacts, and can also prevent adverse effects of the electronic component due to static electricity. The purpose is that.

また本発明は、被測定物の微小な位置の変化や、被測定物に作用する、きわめて軽量な荷重の測定が可能なセンサを提供することを目的としている。   Another object of the present invention is to provide a sensor capable of measuring a very light load acting on a measurement object and a change in a minute position of the measurement object.

本発明は、基板上に複数の渦巻き状の接触子が設けられた接続装置において、
前記接触子は前記基板からの突出寸法が相違しているものを含んでおり、前記接触子が配列している領域において、前記基板からの突出寸法の高いものが、前記基板からの突出寸法の低いものよりも外側に位置していることを特徴とするものである。
The present invention provides a connection device in which a plurality of spiral contacts are provided on a substrate.
The contacts include those having different projecting dimensions from the substrate. In the region where the contacts are arranged, the one having a higher projecting dimension from the substrate has a projecting dimension from the substrate. It is characterized by being located outside the lower one.

本発明の接続装置は、対象物が接触するときに、最初に突出寸法の高い接触子に接触し、次に突出寸法の低い接触子に接触するため、接触子の全てが安定して接触できるようになる。   In the connecting device of the present invention, when an object comes into contact, the first contact is made with the contact with a high projecting dimension, and then with the contact with a lower projecting dimension, so that all of the contacts can be contacted stably. It becomes like this.

特に、前記基板からの突出寸法が最も高い前記接触子が、前記領域の最外部に位置していると、あるいは、前記領域の平面形状が四角形であり、前記四角形の領域の角部に位置している前記接触子の前記基板からの突出寸法が、他の前記接触子の前記基板からの突出寸法よりも高いものであると、最初に突出寸法の高い接触子で対象物が支えられてから他の接触子に接触できるようになるため、全ての接触子を安定させて接触させることができる。   In particular, when the contact having the highest projecting dimension from the substrate is positioned at the outermost part of the region, or the planar shape of the region is a quadrangle, and is positioned at a corner of the quadrangle region. If the projecting dimension of the contact from the substrate is higher than the projecting dimension of the other contact from the substrate, the object is first supported by the contact with a higher projecting dimension. Since it becomes possible to contact other contacts, all the contacts can be brought into stable contact.

また、前記領域の外側から内側に向けて、前記接触子の前記基板からの突出寸法が段階的に低く形成されているものが好ましい。   In addition, it is preferable that the projecting dimension of the contact from the substrate is gradually reduced from the outside to the inside of the region.

上記構成では、さらに対象物を全ての接触子に対して安定させて接触させることができるようになる。   In the above configuration, the object can be further brought into stable contact with all the contacts.

また、前記基板からの突出寸法が最も高い前記接触子は、前記基板方向へ圧縮するときの弾性係数が他の前記接触子よりも大きいことが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said contactor with the largest protrusion dimension from the said board | substrate has a larger elastic coefficient than the said other contactor when compressing to the said board | substrate direction.

突出寸法の高い接触子の弾性係数が大きいと、最初に突出寸法の高い接触子が対象物に接触したときにこの接触子で対象物を確実に支えることができるようになる。   If the elastic coefficient of the contact having a high protruding dimension is large, the contact can be reliably supported by the contact when the contact having a high protruding dimension first contacts the object.

本発明の接続装置は、電子部品に設けられた個々の電極部がそれぞれの前記接触子に接続されて導通されるものとして使用できる。   The connection device of the present invention can be used as a device in which individual electrode portions provided in an electronic component are connected to the respective contact elements to be conducted.

例えば、ICまたはICパッケージのように複数の電極部を有する電子部品の個々の電極部をそれぞれ、接触子に確実に接触させることができる。   For example, each electrode part of an electronic component having a plurality of electrode parts such as an IC or an IC package can be reliably brought into contact with the contact.

この場合に、前記基板からの突出寸法が最も高い前記接触子がアース用として使用されることが好ましい。   In this case, it is preferable that the contact having the highest projecting dimension from the substrate is used for grounding.

最も突出している接触子がアース用であると、この接触子が最初に電子部品の電極部等に接触することにより、静電気によって電子部品に悪影響を与えることを防止できるようになる。   If the most projecting contact is for grounding, the contact with the electrode part or the like of the electronic component first can prevent the electronic component from being adversely affected by static electricity.

また、本発明は、前記接続装置を用い、被測定物がいずれの前記接触子に接触するかを検出することで、前記被測定物の位置の変化または前記被測定物に作用する荷重を測定可能としたことを特徴とするものである。例えば、前記センサは、μg単位の微小な差の、前記被測定物に作用する荷重の検出が可能となる。   In addition, the present invention uses the connecting device to measure a change in the position of the measurement object or a load acting on the measurement object by detecting which contact the measurement object contacts. It is characterized by being possible. For example, the sensor can detect a load acting on the object to be measured with a minute difference of μg.

前記センサとしては、前記基板からの突出寸法が最も高い前記接触子を基準電位とし、前記基準電位と他の前記接触子との電位差を測定することで、前記被測定物に作用する荷重の検出を可能としたものとして構成できる。   The sensor detects the load acting on the object to be measured by measuring the potential difference between the reference potential and another contact as the reference potential with the contact having the highest projecting dimension from the substrate. Can be configured.

本発明の接続装置では、電子部品などの対象物を安定して全ての接触子に対して接触させることが可能である。また、静電気によって電子部品に悪影響を与えることも防止できる。   In the connection device of the present invention, an object such as an electronic component can be stably brought into contact with all the contacts. Further, it is possible to prevent the electronic parts from being adversely affected by static electricity.

さらに、本発明の接続装置を使用したセンサは、距離の微小な変化や非常に小さい荷重を複数段階で正確に測定できるようになる。   Furthermore, the sensor using the connection device of the present invention can accurately measure a minute change in distance and a very small load in a plurality of stages.

図1Aは本発明の接続装置を示す平面図、図1Bは図1Aの1−1線での切断断面図、図2は基板上の個々のスパイラル接触子を示す図1Bの拡大断面図、図3はスパイラル接触子の平面図、図4は本発明の接続装置を用いたセンサを示す部分断面図、図5は本発明のセンサの回路構成の概略を示す回路図である。   1A is a plan view showing the connecting device of the present invention, FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line 1-1 of FIG. 1A, and FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of FIG. 1B showing individual spiral contacts on the substrate. 3 is a plan view of the spiral contactor, FIG. 4 is a partial sectional view showing a sensor using the connection device of the present invention, and FIG. 5 is a circuit diagram showing an outline of the circuit configuration of the sensor of the present invention.

なお、図1Bおよび図4では、各スパイラル接触子の突出寸法の差を理解しやすいように、各スパイラル接触子を三角形で示し、且つ基板からの突出寸法を誇張して記載している。   In FIG. 1B and FIG. 4, each spiral contact is indicated by a triangle, and the protrusion dimension from the substrate is exaggerated for easy understanding of the difference in protrusion dimension of each spiral contact element.

接続装置10は、基板11を有し、基板11の上面(図示Z1方向の面)11Aには渦巻き状に形成された複数のスパイラル接触子12Aが設けられている。スパイラル接触子12Aは、銅、ニッケルまたは銅とニッケルとの複合材料のような薄い導電板からエッチングプロセスで形成されたもの、または銅メッキ、ニッケルメッキ、あるいは銅メッキとニッケルメッキなどで形成されたものである。スパイラル接触子12Aは、図2および図3に示すように、前記導電板またはメッキ層により渦巻き状に形成されており、且つその巻き中心(接点部123)が基板11の表面から離れるように突状に形成されている。   The connection device 10 includes a substrate 11, and a plurality of spiral contacts 12 </ b> A formed in a spiral shape are provided on the upper surface (surface in the Z <b> 1 direction) 11 </ b> A of the substrate 11. The spiral contact 12A is formed by etching process from a thin conductive plate such as copper, nickel or a composite material of copper and nickel, or formed by copper plating, nickel plating, copper plating and nickel plating, or the like. Is. As shown in FIGS. 2 and 3, the spiral contact 12A is formed in a spiral shape by the conductive plate or the plating layer, and the winding center (contact portion 123) protrudes away from the surface of the substrate 11. It is formed in a shape.

基板11は絶縁性を有しており、その上面11Aには複数の接続部11aが互いに独立して形成されている。また上面11Aにはそれぞれの接続部11aに導通する配線部が形成されている。   The substrate 11 has an insulating property, and a plurality of connection portions 11a are formed independently of each other on the upper surface 11A. In addition, wiring portions that are electrically connected to the respective connection portions 11a are formed on the upper surface 11A.

図1Aに示すように、基板11の上面11Aにおける接続部11aの配置領域は四角形であり、個々の接続部11aは、図1Aに示す破線に沿って一定のピッチで配列している、図1Aには、接続部11aおよびその上に設けられたスパイラル接触子12Aのうちの一部のみ示しているが、実際には前記破線に沿って列を形成するように、接続部11aおよびスパイラル接触子12Aが多数個設けられている。   As shown in FIG. 1A, the arrangement region of the connecting portions 11a on the upper surface 11A of the substrate 11 is a quadrangle, and the individual connecting portions 11a are arranged at a constant pitch along the broken line shown in FIG. 1A. Although only a part of the connection part 11a and the spiral contact 12A provided on the connection part 11a is shown, the connection part 11a and the spiral contact are actually formed so as to form a line along the broken line. Many 12A are provided.

図1Aでは、配列領域のうちの最外周側の配列位置を最外周配列位置R0で示し、その内側の配列位置を第1の配列位置R1、さらにその内側の配列位置を第2の配列位置R2、最も中央部での配列位置を第3の配列位置R3として示している。   In FIG. 1A, the arrangement position on the outermost peripheral side of the arrangement area is indicated by the outermost arrangement position R0, the arrangement position on the inner side is the first arrangement position R1, and the arrangement position on the inner side is the second arrangement position R2. The arrangement position at the most central portion is shown as a third arrangement position R3.

配列位置R0〜R3に規則的に配列されている個々の接続部11aの上に、スパイラル接触子12Aが導通して設置されている。最外周配列位置R0に位置する個々の接続部11aの上には、突出寸法(図示Z1−Z2方向の寸法)が最も高いh0であるスパイラル接触子12A0が設けられ、第1の配列位置R1の接続部11aの上には、突出寸法がh1であるスパイラル接触子12A1が設けられ、第2の配列位置R2の接続部11aの上には、突出寸法がh2であるスパイラル接触子12A2が設けられ、第3の配列位置R3の接続部11aの上には、突出寸法がh3であるスパイラル接触子12A3が設けられる。   A spiral contact 12A is conductively installed on each connection portion 11a regularly arranged at the arrangement positions R0 to R3. Spiral contacts 12A0 having the highest projecting dimension (dimension in the Z1-Z2 direction in the figure) h0 are provided on the individual connecting portions 11a located at the outermost circumferential array position R0. A spiral contact 12A1 having a protruding dimension h1 is provided on the connecting portion 11a, and a spiral contact 12A2 having a protruding dimension h2 is provided on the connecting portion 11a at the second arrangement position R2. The spiral contact 12A3 having a projecting dimension h3 is provided on the connection portion 11a at the third arrangement position R3.

本発明では、スパイラル接触子12A0〜A3の突出寸法どうしの関係は、h0>h1>h2>h3となっている。すなわち、基板11の外周側から中央部に向かうにしたがって、スパイラル接触子12Aの突出寸法が低くなっている。   In the present invention, the relationship between the projecting dimensions of the spiral contacts 12A0 to A3 is h0> h1> h2> h3. In other words, the projecting dimension of the spiral contact 12A decreases from the outer peripheral side of the substrate 11 toward the center.

スパイラル接触子12Aは、図3に示すように、その外周側にリング状の枠体121を有しており、スパイラル接触子12A2においては、図2に示すように、枠体121の下面(図示Z2方向の面)が基板11の接続部11aに対し導電性接着剤などの接合手段を用いて固定されている。なお、枠体121の大きさは、接続部11aの範囲内に収まるように、接続部11aと同じ大きさか、それよりも僅かに小さな面積で形成されている。スパイラル接触子12A0,12A1および12A3においても同様に、枠体121の下面が基板11の接続部11aに対し導電性接着剤などの接合手段を用いて固定されている。   As shown in FIG. 3, the spiral contactor 12A has a ring-shaped frame body 121 on its outer peripheral side, and the spiral contactor 12A2 has a lower surface (not shown) of the frame body 121 as shown in FIG. The surface in the Z2 direction) is fixed to the connection portion 11a of the substrate 11 using a bonding means such as a conductive adhesive. Note that the size of the frame body 121 is the same size as the connection portion 11a or slightly smaller than that so as to be within the range of the connection portion 11a. Similarly, in the spiral contacts 12A0, 12A1, and 12A3, the lower surface of the frame body 121 is fixed to the connection portion 11a of the substrate 11 using a bonding means such as a conductive adhesive.

図2および図3に示すように、スパイラル接触子12Aの枠体121にはその内側の一部を基端部122aとし、自由端側の先端が枠体121の中心方向に向かって渦巻き状に延びる弾性部122が一体形成されている。弾性部122の自由端側の先端には、広い面積からなる接点部123が設けられている。そして、スパイラル接触子12Aは接点部123が枠体121から凸状に突出する形状で形成されており、図示Z1−Z2方向に弾性変形することができるようになっている。   As shown in FIGS. 2 and 3, a part of the inner side of the frame 121 of the spiral contact 12 </ b> A serves as a base end part 122 a, and the tip on the free end side spirals toward the center of the frame 121. An extending elastic portion 122 is integrally formed. A contact portion 123 having a large area is provided at the free end of the elastic portion 122. The spiral contact 12A is formed in a shape in which the contact portion 123 protrudes from the frame 121 and can be elastically deformed in the Z1-Z2 direction shown in the figure.

基端部122aと接点部123との図示Z1−Z2方向の距離をスパイラル接触子12Aの突出寸法をhとする。したがって、スパイラル接触子12A0〜A3のそれぞれの基端部122aと接点部123との図示Z1−Z2方向の距離が、h0,h1,h2,h3である。   The distance between the base end portion 122a and the contact portion 123 in the Z1-Z2 direction shown in the figure is the projecting dimension of the spiral contact 12A. Therefore, the distance in the Z1-Z2 direction between the base end portion 122a and the contact portion 123 of each of the spiral contacts 12A0 to A3 is h0, h1, h2, and h3.

スパイラル接触子12Aの弾性部122は、基端部122aから接点部123に至るまでの間において同じ断面積、すなわち一定の板厚寸法および一定の幅寸法で形成されている。   The elastic portion 122 of the spiral contact 12A is formed with the same cross-sectional area from the base end portion 122a to the contact portion 123, that is, a constant plate thickness dimension and a constant width dimension.

本発明では、スパイラル接触子12A0〜A3の突出寸法h0〜h3は、微小な差で異なっているが、スパイラル接触子12A0〜A3の基端部122aから接点部123までの弾性部122に沿った距離は同一の一定の距離となっている。このため、高さ寸法に応じて、最大径D0などの寸法が異なる寸法のスパイラル接触子12Aを製造することなく、最大径D0などの寸法が同じ寸法であるスパイラル接触子12Aを用いて、突出寸法が異なるスパイラル接触子12A0〜A3を容易に形成することができる。   In the present invention, the projecting dimensions h0 to h3 of the spiral contacts 12A0 to A3 are different by a minute difference, but are along the elastic portion 122 from the base end portion 122a to the contact portion 123 of the spiral contacts 12A0 to A3. The distance is the same constant distance. For this reason, the spiral contact 12A having the same dimension such as the maximum diameter D0 is projected using the spiral contact 12A having the same dimension such as the maximum diameter D0 without manufacturing the spiral contact 12A having a dimension different from the maximum diameter D0. Spiral contacts 12A0 to A3 having different dimensions can be easily formed.

なお、本発明と異なり、スパイラル接触子12A0〜A3の突出寸法h0〜h3の差が微小ではなく、所定の大きさの突出寸法差であり、そのような突出寸法差を有する複数の突出寸法のスパイラル接触子を形成する場合には、上記と異なり、スパイラル接触子の基端部122aから接点部123までの弾性部122に沿った長さ、スパイラル接触子の最大径D0、あるいは弾性部122の太さなどを、各スパイラル接触子の突出寸法に応じて変化させる必要がある。   Unlike the present invention, the difference between the projecting dimensions h0 to h3 of the spiral contacts 12A0 to A3 is not a minute, but a projecting dimension difference of a predetermined size, and a plurality of projecting dimensions having such projecting dimension differences. When forming a spiral contact, unlike the above, the length along the elastic part 122 from the base end part 122a of the spiral contactor to the contact part 123, the maximum diameter D0 of the spiral contactor, or the elastic part 122 It is necessary to change the thickness and the like according to the protruding dimension of each spiral contact.

スパイラル接触子12Aは、図2に示すように、基端部122aを支点として接点部123を含む弾性部122が片持ち支持されている。そして、スパイラル接触子12Aは、上方から押圧されると、弾性部122が収縮する方向(図示Z2方向)に弾性変形させられる。このとき、接点部123側は渦巻きの中心側に位置してほぼ剛体と化しているため、弾性部122は基端部122a側から先に弾性変形させられる。   As shown in FIG. 2, the spiral contact 12 </ b> A is cantilevered with an elastic portion 122 including a contact portion 123 with a base end portion 122 a as a fulcrum. When the spiral contactor 12A is pressed from above, the spiral contactor 12A is elastically deformed in the direction in which the elastic part 122 contracts (Z2 direction in the drawing). At this time, since the contact part 123 side is located on the center side of the spiral and is substantially rigid, the elastic part 122 is elastically deformed first from the base end part 122a side.

接続装置10には、IC(集積回路)単体またはICがパッケージ内に組み込まれたICユニットなどの電子部品が設置される。この電子部品の底面には、複数の電極部が設けられ、個々の電極部がそれぞれのスパイラル接触子12Aに対向できるように配置されている。   The connection device 10 is provided with an electronic component such as an IC (integrated circuit) alone or an IC unit in which the IC is incorporated in a package. A plurality of electrode portions are provided on the bottom surface of the electronic component, and the individual electrode portions are arranged so as to face each spiral contact 12A.

電子部品がスパイラル接触子12A上に設置された状態で、個々のスパイラル接触子12Aが弾性変形して、電子部品の電極部とスパイラス接触子12Aとが確実に接触して導通される。電子部品は図示しない保持手段により保持されて、基板11上に電子部品が動くことなく位置決めされて実装される。また、前記保持手段による保持を解除することによって、電子部品を交換することも可能である。   In a state where the electronic component is installed on the spiral contact 12A, each spiral contact 12A is elastically deformed, and the electrode part of the electronic component and the spiral contact 12A are reliably in contact with each other. The electronic component is held by holding means (not shown), and the electronic component is positioned and mounted on the substrate 11 without moving. Further, it is possible to replace the electronic component by releasing the holding by the holding means.

電子部品を設置する際に、まず最外周配列位置R0に位置する最も高い突出寸法h0のスパイラル接触子12A0によって電子部品が支えられるため、この状態で電子部品が傾きにくくなり、その後に、第1の配列位置R1に位置する突出寸法がh1であるスパイラル接触子12A1、第2の配列位置R2に位置する突出寸法がh2であるスパイラル接触子12A2に順番に接触し、最後に第3の配列位置R3に位置する突出寸法がh3であるスパイラル接触子12A3に接触する。   When installing the electronic component, the electronic component is first supported by the spiral contact 12A0 having the highest projecting dimension h0 located at the outermost peripheral arrangement position R0. The spiral contact 12A1 with the projecting dimension h1 located at the array position R1, and the spiral contact 12A2 with the projecting dimension h2 located at the second array position R2 are sequentially contacted, and finally the third array position. Contact is made with the spiral contact 12A3 having a protrusion dimension h3 located at R3.

したがって、電子部品の電極部は、安定して全てのスパイラル接触子に接触できるようになる。   Therefore, the electrode part of the electronic component can come into contact with all spiral contacts stably.

なお、最外周配列位置R0に位置する最も突出寸法が高いスパイラル接触子12A0の弾性部122の断面積を他のスパイラル接触子よりも大きくするなどして、スパイラル接触子12A0の圧縮方向での弾性係数を他のスパイラル接触子よりも大きくすることが可能である。このように構成することにより、電子部品が設置されたときに、最初に剛性の高い最外周のスパイラル接触子12A0で支えられてから、それよりも内側のスパイラル接触子に接触するようになり、電子部品の全ての電極部がスパイラル接触子に安定して接触できるようになる。   It should be noted that the elasticity of the spiral contact 12A0 in the compression direction is increased by making the cross-sectional area of the elastic portion 122 of the spiral contact 12A0 having the highest projecting dimension located at the outermost peripheral arrangement position R0 larger than other spiral contacts. It is possible to make the coefficient larger than other spiral contacts. By comprising in this way, when an electronic component is installed, after it is first supported by the outermost spiral contact 12A0 having high rigidity, it comes into contact with the spiral contact on the inner side, All electrode parts of the electronic component can come into stable contact with the spiral contact.

なお、前記実施の形態の変形例として、最外周配列位置R0に位置するスパイラル接触子12A0の突出寸法のみを高くし、それよりも内側に位置する全てのスパイラル接触子をスパイラル接触子12A0よりも低く、且つ全て同じ突出寸法としてもよい。   As a modification of the above embodiment, only the protruding dimension of the spiral contact 12A0 located at the outermost peripheral array position R0 is increased, and all spiral contacts located inside the spiral contact 12A0 are set higher than the spiral contact 12A0. Low and all may have the same protruding dimension.

あるいは、四角形に配置されている最外周配列位置R0のうちの4つの角部のそれぞれに位置するスパイラル接触子の突出寸法hのみを最も高くし、それ以外のスパイラル接触子の突出寸法を前記角部のスパイラル接触子の突出寸法よりも低くし、または前記角部に位置するスパイラル接触子の突出寸法と前記角部に位置するスパイラル接触子に近接した数個のスパイラル接触子の突出寸法を最も高くしてもよい。これに加えて、前記角部に位置するスパイラル接触子の弾性係数を他のスパイラル接触子の弾性係数よりも大きくしてもよい。   Alternatively, only the protrusion dimension h of the spiral contact located at each of the four corners of the outermost circumferential array position R0 arranged in a quadrangle is the highest, and the protrusion dimension of the other spiral contact is set to the angle. The protrusion dimension of the spiral contactor located at the corner and the protrusion dimension of several spiral contacts adjacent to the spiral contact located at the corner are the smallest. May be higher. In addition, the elastic coefficient of the spiral contact located at the corner may be larger than the elastic coefficient of the other spiral contacts.

前記いずれかの構成とすることにより、電子部品を最外周のスパイラル接触子12A0または前記4つの角部に位置するスパイラル接触子によって最初に支えられながら他のスパイラル接触子に接触するようになり、安定した接触を実現できる。   By adopting any one of the configurations, the electronic component comes into contact with the other spiral contact while being initially supported by the outermost spiral contact 12A0 or the spiral contact located at the four corners, Stable contact can be realized.

また、前記のいずれかにおいて、最も突出寸法の高いスパイラル接触子の少なくとも1つをアース用(グラウンド端子)として基準電位とし、他のスパイラル接触子を信号伝達用として使用することが好ましい。電子部品が設置されたときに最初にアース用のスパイラル接触子が、電子部品のグラウンド電極部に接触することにより、基板11の周辺の静電気によってICなどの電子部品に悪影響を及ぼすのを防止できる。   In any of the above, it is preferable that at least one of the spiral contacts having the highest projecting dimension is used as a reference potential for grounding (ground terminal), and the other spiral contact is used for signal transmission. When the electronic component is first installed, the grounding spiral contactor is brought into contact with the ground electrode portion of the electronic component, thereby preventing adverse effects on the electronic component such as an IC due to static electricity around the substrate 11. .

次に、前記接続装置10を使用したセンサについて説明する。
図4に示すように、基板11の最外周配列位置R0に設けられた接続部11aは電源装置Eの−側の出力端子(接地端子)に接続されている。すなわち、最も大きい突出寸法h0を有するスパイラル接触子12A0は接地されている。
Next, a sensor using the connection device 10 will be described.
As shown in FIG. 4, the connection portion 11 a provided at the outermost peripheral arrangement position R <b> 0 of the substrate 11 is connected to the negative output terminal (ground terminal) of the power supply device E. That is, the spiral contact 12A0 having the largest protrusion dimension h0 is grounded.

一方、図4および図5に示すように、第1の配列位置R1〜第3の配列位置R3に設けられた個々の接続部11aには所定の抵抗値からなる外付け抵抗rの一端がそれぞれ接続されている。個々の外付け抵抗rの他方の端部は入力ラインLinに接続されており、入力ラインLinを介して電源装置Eの+側の出力端子(+端子)に接続されている。すなわち、入力ラインLinを介して電源電圧Vccを第1の配列位置R1〜第3の配列位置R3に設けられた各接続部11aに印加することができるようになっている。   On the other hand, as shown in FIGS. 4 and 5, one end of the external resistor r having a predetermined resistance value is connected to each connection portion 11 a provided at the first array position R1 to the third array position R3. It is connected. The other end of each external resistor r is connected to the input line Lin, and is connected to the + side output terminal (+ terminal) of the power supply device E via the input line Lin. That is, the power supply voltage Vcc can be applied to each connection portion 11a provided at the first arrangement position R1 to the third arrangement position R3 via the input line Lin.

また、第1の配列位置R1〜第3の配列位置R3に設けられた接続部11aからは検出ラインL1out〜L3outがそれぞれ接続されており、各検出ラインL1out〜L3outはコネクタを介して接続装置10の外部に引き出されている。なお、外付け抵抗r、入力ラインLinおよび検出ラインL1out〜L3outは、基板11の下面に設けられており、図示しないスルーホールを介して第1の配列位置R1〜第3の配列位置R3に設けられた接続部11aに接続されている。   Further, detection lines L1out to L3out are respectively connected from the connecting portions 11a provided in the first arrangement position R1 to the third arrangement position R3, and each of the detection lines L1out to L3out is connected via a connector. Has been pulled out of. The external resistor r, the input line Lin, and the detection lines L1out to L3out are provided on the lower surface of the substrate 11, and are provided at the first arrangement position R1 to the third arrangement position R3 through a through hole (not shown). Connected to the connecting portion 11a.

図5に示すように、検出ラインL1out〜L3outの端部は、例えばマルチプレクサなどの切り換え手段31に入力されており、切り換え手段31を介してA/D変換手段32に接続されている。そして、A/D変換手段32の出力はCPUを主体とする制御部33に入力されている。   As shown in FIG. 5, end portions of the detection lines L1out to L3out are input to a switching unit 31 such as a multiplexer, for example, and are connected to the A / D conversion unit 32 via the switching unit 31. The output of the A / D conversion means 32 is input to a control unit 33 mainly composed of a CPU.

制御部33は、切り換え手段31を一定の切り換えのタイミング(サンプリング周期)で所定の順番にしたがって切り換えさせる指令を与える。切り換え手段31は検出ラインL1out〜L3outを所定の順番にしたがって一つづつ選択するため、スパイラル接触子12A1〜A3の検出電圧(アナログ量)V1out〜V3outが順次A/D変換手段32に入力される。そして、制御部33は前記所定の変換のタイミング(サンプリング周期)にしたがってA/D変換手段32を駆動する。これにより、スパイラル接触子12A1〜A3の検出電圧(アナログ量)V1out〜V3outがデジタル出力に変換され、変換後のデジタル出力が順次制御部33に与えられる。   The control unit 33 gives a command for switching the switching unit 31 according to a predetermined order at a certain switching timing (sampling period). Since the switching means 31 selects the detection lines L1out to L3out one by one in a predetermined order, the detection voltages (analog quantities) V1out to V3out of the spiral contacts 12A1 to A3 are sequentially input to the A / D conversion means 32. . Then, the control unit 33 drives the A / D conversion means 32 according to the predetermined conversion timing (sampling period). Thereby, the detection voltages (analog amounts) V1out to V3out of the spiral contacts 12A1 to A3 are converted into digital outputs, and the converted digital outputs are sequentially given to the control unit 33.

図4に示すように、基板11の上方には、導電性の導電プレート20が設けられており、この導電プレート20は、図示しない案内機構によって、基板11の上面に対して垂直方向(図示Z1−Z2方向)へ無負荷またはほとんど無負荷で昇降できるようになっている。そして、導電プレート20上に被測定物Wが設置される。   As shown in FIG. 4, a conductive conductive plate 20 is provided above the substrate 11, and this conductive plate 20 is perpendicular to the upper surface of the substrate 11 (Z1 in the drawing) by a guide mechanism (not shown). -Z2 direction) can be moved up and down with no load or almost no load. Then, the object to be measured W is installed on the conductive plate 20.

このセンサでは、導電プレート20の垂直方向への微小な移動量、またはきわめて小さい、例えばμg単位で相違する、被測定物Wに作用する荷重の測定、または前記荷重別の選別が可能である。   With this sensor, it is possible to measure the amount of movement of the conductive plate 20 in the vertical direction, or to measure the load acting on the object W to be measured, which is very small, for example, in units of μg, or to sort by the load.

導電プレート20が下降すると、導電プレート20が、まず、突出寸法が最も大きいスパイラル接触子12A0に接点部123を介して平面H0の位置で接触する。このとき、スパイラル接触子12A0が接地されているため、導電プレート20もスパイラル接触子12A0を介して接地される。しかし、スパイラル接触子12A1〜12A3とは接触しておらず、離間している。このため、スパイラル接触子12A1〜12A3の検出ラインL1out〜L3outから得られる検出電圧V1out〜V3outは全て電源電圧Vcc(検出電圧(Vcc,Vcc,Vcc))であり、制御部33には検出電圧(Vcc,Vcc,Vcc)がデジタル出力に変換された後の、検出電圧(Vcc,Vcc,Vcc)に相当するデジタル出力が与えられる。以下では、スパイラル接触子12A1〜12A3の検出ラインL1out〜L3outから得られる検出電圧V1out〜V3outを、前記のように検出電圧(V1out,V2out,V3out)として表す。   When the conductive plate 20 is lowered, the conductive plate 20 first comes into contact with the spiral contact 12A0 having the largest protruding dimension at the position of the plane H0 through the contact portion 123. At this time, since the spiral contact 12A0 is grounded, the conductive plate 20 is also grounded via the spiral contact 12A0. However, the spiral contacts 12A1 to 12A3 are not in contact with each other and are separated. For this reason, all the detection voltages V1out to V3out obtained from the detection lines L1out to L3out of the spiral contacts 12A1 to 12A3 are the power supply voltage Vcc (detection voltages (Vcc, Vcc, Vcc)), A digital output corresponding to the detected voltage (Vcc, Vcc, Vcc) after the conversion of Vcc, Vcc, Vcc) to a digital output is given. Hereinafter, the detection voltages V1out to V3out obtained from the detection lines L1out to L3out of the spiral contacts 12A1 to 12A3 are expressed as detection voltages (V1out, V2out, V3out) as described above.

その後、導電プレート20が下降すると、スパイラル接触子12A0が均一に収縮し、導電プレート20が所定の距離s1(=h0−h1)だけ下降すると、図4において(ii)に示すように、導電プレート20がスパイラル接触子12A1と接点部123を介して接触する。このとき、接地された導電プレート20がスパイラル接触子12A1と接触するため、スパイラル接触子12A1の検出ラインL1outから得られる検出電圧V1outは、電源電圧Vccから0へと変化する。そして、導電プレート20は、スパイラル接触子12A2,12A3とは接触していないため、制御部33には検出電圧(0,Vcc,Vcc)に相当するデジタル出力が与えられる。そして、このデジタル出力の変化が制御部33で検知されることによって、導電プレート20が、スパイラル接触子12A1と接触し、基板11の接続部11aの位置を基準として高さh1のところに位置していることが検知される。また、導電プレート20がスパイラル接触子12A1と接触して初めて、検出電圧V1outは電源電圧Vccから0へと変化する。このため、導電プレート20とスパイラル接触子12A0との接触が検知されて、検出電圧V1outが電源電圧Vccから0へと変化する前、すなわち、制御部33に検出電圧(Vcc,Vcc,Vcc)に相当するデジタル出力が与えられているときは、導電プレート20が、基板11の接続部11aの位置を基準として高さh0とh1との間(領域T1)に位置していると判断される。   Thereafter, when the conductive plate 20 is lowered, the spiral contact 12A0 is uniformly contracted, and when the conductive plate 20 is lowered by a predetermined distance s1 (= h0-h1), as shown in (ii) in FIG. 20 contacts the spiral contact 12 </ b> A <b> 1 via the contact portion 123. At this time, since the grounded conductive plate 20 comes into contact with the spiral contact 12A1, the detection voltage V1out obtained from the detection line L1out of the spiral contact 12A1 changes from the power supply voltage Vcc to 0. Since the conductive plate 20 is not in contact with the spiral contacts 12A2 and 12A3, a digital output corresponding to the detected voltage (0, Vcc, Vcc) is given to the control unit 33. When the change in the digital output is detected by the control unit 33, the conductive plate 20 comes into contact with the spiral contact 12A1 and is positioned at the height h1 with respect to the position of the connection portion 11a of the substrate 11. Is detected. Also, the detection voltage V1out changes from the power supply voltage Vcc to 0 only after the conductive plate 20 comes into contact with the spiral contact 12A1. Therefore, before the contact between the conductive plate 20 and the spiral contact 12A0 is detected and the detection voltage V1out changes from the power supply voltage Vcc to 0, that is, the detection voltage (Vcc, Vcc, Vcc) is supplied to the control unit 33. When the corresponding digital output is given, it is determined that the conductive plate 20 is located between the heights h0 and h1 (region T1) with respect to the position of the connection portion 11a of the substrate 11.

その後、導電プレート20がさらに下降すると、スパイラル接触子12A0および12A1が下方へ収縮し、導電プレート20はスパイラル接触子12A0および12A1と接触した状態で、XY平面(水平面)から傾くことなく、水平姿勢を保った状態で下方へ移動させられる。このとき、制御部33には、継続して検出電圧(0,Vcc,Vcc)に相当するデジタル出力が与えられている。よって、導電プレート20が、基板11の接続部11aの位置を基準として高さh1とh2との間(領域T2)に位置していると判断される。   Thereafter, when the conductive plate 20 is further lowered, the spiral contacts 12A0 and 12A1 contract downward, and the conductive plate 20 is in a horizontal position without being inclined from the XY plane (horizontal plane) while being in contact with the spiral contacts 12A0 and 12A1. It can be moved downward while keeping At this time, the control unit 33 is continuously provided with a digital output corresponding to the detected voltage (0, Vcc, Vcc). Therefore, it is determined that the conductive plate 20 is located between the heights h1 and h2 (region T2) with respect to the position of the connection portion 11a of the substrate 11.

その後、導電プレート20が所定の距離s2(=h1−h2)だけ下方へ移動させられると、図4の(iii)に示すように、導電プレート20が全てのスパイラル接触子12A2と接点部123を介して接触する。このとき、接地された導電プレート20がスパイラル接触子12A2と接触するため、スパイラル接触子12A2の検出ラインL2outから得られる検出電圧V2outは、電源電圧Vccから0へと変化する。そして、導電プレート20はスパイラル接触子12A3とは接触していないため、制御部33には検出電圧(0,0,Vcc)に相当するデジタル出力が与えられる。そして、このデジタル出力の変化が制御部33で検知されることによって、導電プレート20が、スパイラル接触子12A2と接触し、基板11の接続部11aの位置を基準として高さh2のところに位置していることが検知される。   After that, when the conductive plate 20 is moved downward by a predetermined distance s2 (= h1-h2), the conductive plate 20 moves all the spiral contacts 12A2 and the contact portions 123 as shown in (iii) of FIG. Contact through. At this time, since the grounded conductive plate 20 comes into contact with the spiral contact 12A2, the detection voltage V2out obtained from the detection line L2out of the spiral contact 12A2 changes from the power supply voltage Vcc to 0. Since the conductive plate 20 is not in contact with the spiral contact 12A3, a digital output corresponding to the detection voltage (0, 0, Vcc) is given to the control unit 33. Then, when the change in the digital output is detected by the control unit 33, the conductive plate 20 comes into contact with the spiral contact 12 </ b> A <b> 2 and is positioned at a height h <b> 2 with respect to the position of the connection portion 11 a of the substrate 11. Is detected.

その後、導電プレート20が下降すると、上記原理によって、導電プレート20が、基板11の接続部11aの位置を基準として、高さh2とh3との間(領域T3)に位置していること、または高さh3のところに位置していること、および基板11と高さh3のところとの間(領域T4)に位置していることが検知される。   Thereafter, when the conductive plate 20 is lowered, the conductive plate 20 is positioned between the heights h2 and h3 (region T3) based on the position of the connecting portion 11a of the substrate 11 according to the above principle, or It is detected that it is located at the height h3 and located between the substrate 11 and the height h3 (region T4).

本発明では、上記構造および原理によって、導電プレート20の微小な移動量を検出でき、または被測定物Wに作用する、微小に異なる荷重を検出できる。   In the present invention, it is possible to detect a minute amount of movement of the conductive plate 20 or to detect a minutely different load acting on the workpiece W by the above structure and principle.

なお、本発明では、スパイラル接触子12A0〜12A3が設けられる配列位置R0〜R3の形状は、図1Aに示すような四角形の形状には限定されず、導電プレート20がXY平面から傾くことなく、水平姿勢を保った状態で接触できれば、同心円状などに配置されていてもよい。   In the present invention, the shape of the array positions R0 to R3 where the spiral contacts 12A0 to 12A3 are provided is not limited to the square shape as shown in FIG. 1A, and the conductive plate 20 is not inclined from the XY plane. As long as it can contact in the state where the horizontal posture is maintained, it may be arranged concentrically.

本発明の接続装置を示す平面図、The top view which shows the connection apparatus of this invention, 図1Aの1−1線での切断断面図、FIG. 1A is a cross-sectional view taken along line 1-1 in FIG. 基板上の個々のスパイラル接触子を示す図1Bの拡大断面図、FIG. 1B is an enlarged cross-sectional view of the individual spiral contacts on the substrate. スパイラル接触子の平面図、Top view of spiral contact, 本発明の接続装置を用いたセンサを示す部分断面図、The fragmentary sectional view which shows the sensor using the connection apparatus of this invention, 本発明のセンサの回路構成の概略を示す回路図、The circuit diagram which shows the outline of the circuit structure of the sensor of this invention, 従来のスパイラル状接触子を用いた絶縁基板の断面図Sectional view of an insulating substrate using a conventional spiral contact

符号の説明Explanation of symbols

10 接続装置
11 基板
12A,12A0,12A1,12A2,12A3 スパイラル接触子
20 導電プレート
R0 最外周配列位置
R1 第1の配列位置
R2 第2の配列位置
R3 第3の配列位置
W 被測定物
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Connection apparatus 11 Board | substrate 12A, 12A0, 12A1, 12A2, 12A3 Spiral contact 20 Conductive plate R0 Outermost periphery arrangement position R1 1st arrangement position R2 2nd arrangement position R3 3rd arrangement position W

Claims (9)

基板上に複数の渦巻き状の接触子が設けられた接続装置において、
前記接触子は前記基板からの突出寸法が相違しているものを含んでおり、前記接触子が配列している領域において、前記基板からの突出寸法の高いものが、前記基板からの突出寸法の低いものよりも外側に位置していることを特徴とする接続装置。
In the connection device provided with a plurality of spiral contacts on the substrate,
The contacts include those having different projecting dimensions from the substrate. In the region where the contacts are arranged, the one having a higher projecting dimension from the substrate has a projecting dimension from the substrate. A connecting device characterized in that it is located outside the lower one.
前記基板からの突出寸法が最も高い前記接触子が、前記領域の最外部に位置している請求項1記載の接続装置。   The connection device according to claim 1, wherein the contact having the highest projecting dimension from the substrate is located at the outermost part of the region. 前記領域の平面形状が四角形であり、前記四角形の領域の角部に位置している前記接触子の前記基板からの突出寸法が、他の前記接触子の前記基板からの突出寸法よりも高い請求項1記載の接続装置。   The planar shape of the region is a quadrangle, and the protruding dimension of the contact located at the corner of the rectangular region is higher than the protruding dimension of the other contact from the substrate. Item 1. The connection device according to Item 1. 前記領域の外側から内側に向けて、前記接触子の前記基板からの突出寸法が段階的に低く形成されている請求項1記載の接続装置。   The connection device according to claim 1, wherein a protruding dimension of the contact from the substrate is gradually reduced from the outside to the inside of the region. 前記基板からの突出寸法が最も高い前記接触子は、前記基板方向へ圧縮するときの弾性係数が他の前記接触子よりも大きい請求項1ないし4のいずれかに記載の接続装置。   5. The connection device according to claim 1, wherein the contact having the highest projecting dimension from the substrate has a larger elastic coefficient than the other contacts when compressed in the direction of the substrate. 電子部品に設けられた個々の電極部がそれぞれの前記接触子に接続されて導通される請求項1ないし5のいずれかに記載の接続装置。   The connection device according to claim 1, wherein each electrode portion provided in the electronic component is connected to each contactor to be conducted. 前記基板からの突出寸法が最も高い前記接触子がアース用として使用される請求項6記載の接続装置。   The connecting device according to claim 6, wherein the contact having the highest projecting dimension from the substrate is used for grounding. 請求項1ないし5のいずれかの接続装置を用い、被測定物がいずれの前記接触子に接触するかを検出することで、前記被測定物の位置の変化または前記被測定物に作用する荷重を測定可能としたことを特徴とするセンサ。   A load acting on the object to be measured or a change in the position of the object to be measured by detecting which of the contacts contacts the object to be measured using the connection device according to claim 1. A sensor characterized by being capable of measuring. 前記基板からの突出寸法が最も高い前記接触子を基準電位とし、前記基準電位と他の前記接触子との電位差を測定することで、前記被測定物に作用する荷重の検出を可能とした請求項8記載のセンサ。   The contact that has the highest projecting dimension from the substrate is used as a reference potential, and the potential acting on the object to be measured can be detected by measuring a potential difference between the reference potential and the other contact. Item 9. The sensor according to Item 8.
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