JP2006160599A - Lead-free glass composition and magnetic head - Google Patents
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Abstract
【課題】融着温度の低い無鉛ガラス組成物、及びこの無鉛ガラスを用いた磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量%表示でBi2 O3 :70%を超え78%以下、B2 O3 :13〜20%、ZnO:5〜7%、Na2 O:0〜5%、K2 O:0〜2%、P2O5 :0〜4%、TeO2 :0〜4%、Sb2 O3 :0〜2%、Li2O:0〜3%、SiO2:0〜6%を含有し、PbOを含まないことを特徴とする無鉛ガラス組成物。この無鉛ガラスを用いて磁気ヘッドを構成する。
【選択図】図1A lead-free glass composition having a low fusing temperature and a magnetic head using the lead-free glass are provided.
Bi 2 O 3 : more than 70% and 78% or less, B 2 O 3 : 13 to 20%, ZnO: 5 to 7%, Na 2 O: 0 to 5% , K 2 O: 0 to 2%, P 2 O 5 : 0 to 4%, TeO 2 : 0 to 4%, Sb 2 O 3 : 0 to 2%, Li 2 O: 0 to 3%, SiO 2 : A lead-free glass composition containing 0 to 6% and not containing PbO. A magnetic head is configured using this lead-free glass.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、無鉛ガラス組成物に関する。より詳しくは、フェライトやメタルなどの融着に使用される磁気ヘッド用ボンディングガラスに関し、例えば磁気ヘッドの接合に好適なボンディングガラスに関するものである。
さらに、本発明は、上記無鉛ガラスを用いた磁気ヘッドに関する。
The present invention relates to a lead-free glass composition. More specifically, the present invention relates to a bonding glass for a magnetic head used for fusing ferrite or metal, for example, a bonding glass suitable for bonding a magnetic head.
Furthermore, the present invention relates to a magnetic head using the above lead-free glass.
磁気コア材としてアモルファス磁性金属を使用する磁気ヘッドは、アモルファス金属が結晶化温度以上に加熱されると磁気特性が劣化し、出力が低下する。これを防ぐために、アモルファス金属の結晶化温度よりも低い温度で加熱する必要があり、ヘッド製造工程でガラスを融着する際にも結晶化温度よりも低温で融着しなければならない。余裕を見ると結晶化温度よりも30℃位低い温度に抑えたい。 In a magnetic head using an amorphous magnetic metal as a magnetic core material, when the amorphous metal is heated to a temperature higher than the crystallization temperature, the magnetic characteristics deteriorate and the output decreases. In order to prevent this, it is necessary to heat at a temperature lower than the crystallization temperature of the amorphous metal, and when the glass is fused in the head manufacturing process, the glass must be fused at a temperature lower than the crystallization temperature. Looking at the margin, I want to keep the temperature 30 ° C lower than the crystallization temperature.
磁気ヘッド用のアモルファス磁性金属としては、例えば、Co aZr bNb cTa d(a,b,c,dは原子%)で
79≦a≦83
2≦b≦6
10≦c≦14
1≦d≦5
a+b+c+d=100
の組成のものが使用される。このようなアモルファス磁性金属の結晶化温度は、550℃付近にあるため、磁気ヘッド用ガラスの融着温度としては、余裕をみて520℃付近以下が望ましい。従って、上記のようなアモルファス磁性金属を磁気コア材として使用する磁気ヘッドに用いる融着用ガラスとしては、融着温度が520℃付近以下のものが要求される。
As an amorphous magnetic metal for a magnetic head, for example, Co aZr bNb cTa d (a, b, c, d are atomic%) 79 ≦ a ≦ 83
2 ≦ b ≦ 6
10 ≦ c ≦ 14
1 ≦ d ≦ 5
a + b + c + d = 100
The composition of the following is used. Since the crystallization temperature of such an amorphous magnetic metal is in the vicinity of 550 ° C., the fusion temperature of the magnetic head glass is preferably about 520 ° C. or less with a margin. Therefore, a glass for fusing used in a magnetic head using the above amorphous magnetic metal as a magnetic core material is required to have a fusing temperature of about 520 ° C. or lower.
また、2回以上のガラス融着工程を経て加工が行われる磁気ヘッドでは、2回目以降の融着に用いるガラスを1回目のガラス融着工程で用いられたガラスのガラス転移点より低い温度で融着しないと、1回目で融着した融着部分の再溶融などが生じ、磁気ヘッドを所定寸法内に維持できなくなる。1回目の融着ガラスとしては、融着治具の加圧力を変化させにくい760℃程度以下の融着温度のガラスを使用したく、そのガラス転移点は高くても560℃程度である。したがって、2回目のガラス融着に用いるガラスとしては、融着温度が560℃付近未満のものが要求される。
このように各種磁気ヘッドにおいて、低温で融着できるガラスが要求されている。
Further, in a magnetic head that is processed through two or more glass fusion processes, the glass used for the second and subsequent fusions is at a temperature lower than the glass transition point of the glass used in the first glass fusion process. If it is not fused, remelting or the like of the fused portion fused at the first time occurs, and the magnetic head cannot be maintained within a predetermined dimension. As the first fused glass, it is desirable to use a glass having a fusion temperature of about 760 ° C. or less, which is difficult to change the pressure applied by the fusion jig, and its glass transition point is about 560 ° C. at the highest. Therefore, the glass used for the second glass fusing is required to have a fusing temperature of less than about 560 ° C.
Thus, in various magnetic heads, a glass that can be fused at a low temperature is required.
更に、融着ガラスに要求される条件として、磁気コア材との熱膨張係数の適合化も重要で、ガラスの熱膨張係数が酸化物磁性材料や金属磁性材料の熱膨張係数(約100×10-7〜140×10-7〔℃−1〕程度)と大きく異なると、磁気コアを接合した時に残留応力が累積されてガラスクラックなどが発生しやすく、ガラスが圧縮応力に対して強いことを考慮すると、融着ガラスとしては、酸化物磁性材料や金属磁性材料の熱膨張係数より少し小さめの熱膨張係数が90×10-7〜110×10-7〔℃−1〕程度のものが好ましい。しかしながら、一般に融着温度の低いガラスは熱膨張係数が大きく、逆に融着温度の高いガラスは熱膨張係数が小さくなる傾向にあるので組成を変えて両者のバランスを取ることが必要である。 Furthermore, as a condition required for the fused glass, it is also important to adapt the thermal expansion coefficient with the magnetic core material. The thermal expansion coefficient of the glass is that of the oxide magnetic material or metal magnetic material (about 100 × 10 × 10). -7 to 140 × 10 −7 [° C. −1 ]), when the magnetic core is joined, residual stress is accumulated and glass cracks are likely to occur, and the glass is strong against compressive stress. Considering the above, it is preferable that the fused glass has a thermal expansion coefficient of about 90 × 10 −7 to 110 × 10 −7 [° C. −1 ], which is slightly smaller than the thermal expansion coefficient of the oxide magnetic material or the metal magnetic material. . However, generally, a glass having a low fusing temperature has a large coefficient of thermal expansion, and conversely, a glass having a high fusing temperature tends to have a low coefficient of thermal expansion. Therefore, it is necessary to change the composition to balance the two.
一方、磁気ヘッドに使用する融着ガラスには、低融化させるためにPbOが含まれていて、より低い温度で使用する場合にはPbOが多量に含まれている。特許文献1にはPbOを含有した磁気ヘッド用のガラス組成物が開示されている。しかし鉛は環境管理物質であるため、環境問題や廃棄処分の問題があり、鉛を含まない無鉛化低融点ガラスが求められている。また、鉛系ガラスと同様に、磁気コアの材質、ガラスを融着させる場所、形状によって異なる熱膨張係数と融着温度を制御できることが要求される。 On the other hand, the fused glass used for the magnetic head contains PbO for lowering the melting temperature, and contains a large amount of PbO when used at a lower temperature. Patent Document 1 discloses a glass composition for a magnetic head containing PbO. However, since lead is an environmental management substance, there are environmental problems and disposal problems, and there is a need for lead-free low-melting glass that does not contain lead. Further, like the lead-based glass, it is required to be able to control the thermal expansion coefficient and the fusing temperature depending on the material of the magnetic core, the place where the glass is fused, and the shape.
しかし、無鉛ガラスは鉛が主成分のガラスよりも低融化することが困難である。P2 O5 系の非鉛ガラスは、特許文献2などで公開されているが、線径の極めて小さいロッド状に形成できなかったり、雰囲気制御しなければガラスにならなかったり、結晶が析出したりする。
本発明は、上述の点に鑑み、磁気ヘッド用ガラスに求められる特性を満足し、作業環境および廃棄物処理に問題のない無鉛系のガラス組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は、このような無鉛系のガラスを用いた磁気ヘッドを提供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide a lead-free glass composition that satisfies the characteristics required for glass for a magnetic head and has no problems in the working environment and waste disposal.
Another object of the present invention is to provide a magnetic head using such lead-free glass.
本発明者らは上記課題を達成するために、作業環境および廃棄物処理に問題のないBi2 O3、B2 O3 、ZnOなどの酸化物に着目し、鉛を含まずに鉛系と同等以上の特性を持つ安定なガラス組成物を見出した。 In order to achieve the above-mentioned problems, the present inventors have focused on oxides such as Bi 2 O 3 , B 2 O 3 , and ZnO that have no problem in the working environment and waste disposal, and do not contain lead. The present inventors have found a stable glass composition having characteristics equivalent to or better.
すなわち、本発明の無鉛ガラス組成物は、酸化物基準の質量%表示でBi2 O3:70%を超え78%以下、B2 O3 :13〜20%、ZnO:5〜7%、Na2 O:0〜5%、K2 O:0〜2%、P2O5 :0〜4%、TeO2 :0〜4%、Sb2 O3 :0〜2%、Li2O:0〜3%、SiO2:0〜6%の組成で構成され、PbOを含有しないものである。 That is, lead-free glass composition of the present invention, the oxide basis of weight percentages in Bi 2 O 3: 78% more than 70% or less, B 2 O 3: 13~20% , ZnO: 5~7%, Na 2 O: 0 to 5%, K 2 O: 0 to 2%, P 2 O 5 : 0 to 4%, TeO 2 : 0 to 4%, Sb 2 O 3 : 0 to 2%, Li 2 O: 0 to 3%, SiO 2: consists of 6% of the composition, but containing no PbO.
また、好ましくは、酸化物基準の質量%表示でBi2 O3 :72〜77%、B2 O3 :14〜20%、ZnO:6〜7%、Na2 O:0〜4%、TeO2 :0〜2%、Sb2O3 :0〜2%、Li2 O:0〜2%からなり、Na2O+TeO2 +Sb2 O3 +Li2 O:0.5〜4%であることを特徴とする無鉛ガラス組成物である。ここでは、K2O=0%、P2O5=0%、SiO2=0%とするのが好ましい。 Preferably, Bi 2 O 3 : 72 to 77%, B 2 O 3 : 14 to 20%, ZnO: 6 to 7%, Na 2 O: 0 to 4%, TeO in terms of mass% based on oxide. 2: 0~2%, Sb 2 O 3: 0~2%, Li 2 O: consists 0~2%, Na 2 O + TeO 2 + Sb 2 O 3 + Li 2 O: that it is 0.5 to 4% A lead-free glass composition. Here, it is preferable that K 2 O = 0%, P 2 O 5 = 0%, and SiO 2 = 0%.
Bi2 O3 は無鉛ガラス組成物の主要成分であり、軟化点や粘性を下げる効果がある。この含有量は70%を超え78%以下(これ以降、%とは特に断りのない限り質量%を意味する)である。磁気ヘッド用ボンディングガラスは通常、ロッド状に線引きして使用するのであるが、Bi2 O3の含有量が78%を超えるとガラスが不安定になって線引時にガラス表面に析出物が突出するようになり、70%以下では作業温度が高くなり本発明の要求するぬれ性を実現できない。Bi2 O3 のより好ましい含有量は72〜77%の範囲である。 Bi 2 O 3 is a main component of the lead-free glass composition and has an effect of lowering the softening point and viscosity. This content is more than 70% and 78% or less (hereinafter,% means mass% unless otherwise specified). Bonding glass for magnetic heads is usually drawn in a rod shape, but if the Bi 2 O 3 content exceeds 78%, the glass becomes unstable and precipitates protrude from the glass surface during drawing. Therefore, if it is 70% or less, the working temperature becomes high and the wettability required by the present invention cannot be realized. A more preferable content of Bi 2 O 3 is in the range of 72 to 77%.
B2 O3 はガラスの形成成分としての効果を持ち、この含有量は13〜20%である。B2 O3 の含有量が20%を超えると融着温度が高くなり、13%未満ではガラスが不安定になって失透しやすくなる。確実な失透防止を考慮するとB2 O3 のより好ましい含有量は、14〜20%の範囲である。 B 2 O 3 has an effect as a glass forming component, and its content is 13 to 20%. If the content of B 2 O 3 exceeds 20%, the fusing temperature becomes high, and if it is less than 13%, the glass becomes unstable and tends to devitrify. In consideration of sure prevention of devitrification, the more preferable content of B 2 O 3 is in the range of 14 to 20%.
ZnOは、無鉛ガラスの主要成分でありガラスを安定化させるのに効果がある。この含有量は5〜7%である。ZnOの含有量が7%を超えると融着温度が上昇して濡れ性が劣化し本発明の要求するぬれ性を実現できず、5%未満ではガラスが不安定になって失透しやすくなる。ZnOのより好ましい含有量は、6〜7%の範囲である。 ZnO is a main component of lead-free glass and is effective in stabilizing the glass. This content is 5-7%. If the ZnO content exceeds 7%, the fusing temperature rises and wettability deteriorates, so that the wettability required by the present invention cannot be realized, and if it is less than 5%, the glass becomes unstable and tends to devitrify. . A more preferable content of ZnO is in the range of 6 to 7%.
Na2 Oは、ガラスの溶融を促進する効果があり融着温度を下げるが、大量に含有するとガラスの信頼性を下げ、熱膨張が大きくなる。よってこの含有量は0〜5%とした。Na2 Oの含有量が5%を超えるとガラスの耐水性が大幅に下がり、またガラスが不安定になって線引できなくなる。Na2 Oの好ましい含有量は0〜4%の範囲であり、Na2Oが特に効果を発揮するより好ましい含有量は、0.5〜4%の範囲である。 Na 2 O has an effect of accelerating the melting of the glass and lowers the fusing temperature. However, when contained in a large amount, the reliability of the glass is lowered and the thermal expansion is increased. Therefore, this content was 0 to 5%. When the content of Na 2 O exceeds 5%, the water resistance of the glass is greatly lowered, and the glass becomes unstable and cannot be drawn. The preferable content of Na 2 O is in the range of 0 to 4%, and the more preferable content of Na 2 O that exhibits the effect is in the range of 0.5 to 4%.
K2 Oは、Na2 Oと同じアルカリ金属酸化物であるので融着温度を下げる効果があるが、大量に含有するとガラスの信頼性を下げ、熱膨脹が大きくなる。この含有量は0〜2%である。K2Oの含有量が2%を超えるとガラスの耐水性が大幅に下がり、またガラスが不安定になって線引きできなくなる。 Since K 2 O is the same alkali metal oxide as Na 2 O, it has an effect of lowering the fusion temperature. However, when it is contained in a large amount, the reliability of the glass is lowered and the thermal expansion is increased. This content is 0 to 2%. When the content of K 2 O exceeds 2%, the water resistance of the glass is significantly lowered, and the glass becomes unstable and cannot be drawn.
P2 O5 はガラスの網目構造を形成する。この含有量は0〜4%である。P2O5 の含有量が4%を超えるとガラスの融着温度が上昇して濡れ性が劣化し、本発明の要求するぬれ性を実現できなくなる。P2O5 を含有しなくてもガラス化する場合はP2 O5 を含有しなくてもよい。 P 2 O 5 forms a glass network structure. This content is 0-4%. If the content of P 2 O 5 exceeds 4%, the glass fusing temperature rises and wettability deteriorates, and the wettability required by the present invention cannot be realized. If vitrification without containing P 2 O 5 may not contain P 2 O 5.
TeO2 は、Bi2 O3 の一部と置換することにより、ガラスの融着温度を比較的上昇させずに耐水性、耐アルカリ性を向上させる効果がある。この含有量は0〜4%である。TeO2の含有量が4%を超えるとガラスが不安定になり、融着時のガラス中に析出物が発生し易くなって、ガラスの濡れが悪くなったり、析出部にクラックが入ったりする。TeO2の好ましい含有量は0〜2%の範囲であり、TeO2が特に効果を発揮するより好ましい含有量は、0.5〜2%の範囲である。 TeO 2 has an effect of improving water resistance and alkali resistance without relatively increasing the glass fusing temperature by substituting part of Bi 2 O 3 . This content is 0-4%. If the content of TeO 2 exceeds 4%, the glass becomes unstable, and precipitates are likely to be generated in the glass at the time of fusion, so that the glass becomes poorly wet or cracks are formed in the precipitate. . The preferred content of TeO 2 is in the range of 0-2%, preferably content than TeO 2 is particularly effective is in the range of 0.5% to 2%.
Sb2 O3 は、Bi2 O3の一部と置換することにより、ガラスの融着温度を比較的上昇させずに耐水性、耐アルカリ性を向上させる効果がある。この含有量は0〜2%である。Sb2O3 の含有量が2%を超えるとガラスが不安定になり、融着時のガラス中に析出物が発生し易くなって、ガラスの濡れが悪くなったり、析出部にクラックが入ったりする。Sb2O3の好ましい含有量は0〜2%の範囲であり、Sb2O3 が特に効果を発揮するより好ましい含有量は、0.5〜2%の範囲である。 Sb 2 O 3 has an effect of improving water resistance and alkali resistance without relatively increasing the glass fusing temperature by substituting part of Bi 2 O 3 . This content is 0 to 2%. If the content of Sb 2 O 3 exceeds 2%, the glass becomes unstable, and precipitates are likely to be generated in the glass at the time of fusing, resulting in poor wetting of the glass or cracks in the precipitation part. Or Preferred content of Sb 2 O 3 is in the range of 0-2%, preferably content than Sb 2 O 3 is particularly effective is in the range of 0.5% to 2%.
Li2 Oは、Na2 OやK2 Oと同じアルカリ金属酸化物であるので融着温度を下げる効果があるが、大量に含有するとガラスの信頼性を下げ、熱膨脹が大きくなる。この含有量は0〜3%である。Li2Oの含有量が3%を超えるとガラスの耐水性が大幅に下がり、またガラスが不安定になって線引できなくなる。Li2 Oの好ましい含有量は、0〜2%の範囲であり、Li2Oが特に効果を発揮するより好ましい含有量は、0.5〜2%の範囲である。 Li 2 O is the same alkali metal oxide as Na 2 O and K 2 O, and thus has an effect of lowering the fusion temperature. However, when contained in a large amount, the reliability of the glass is lowered and the thermal expansion is increased. This content is 0 to 3%. When the content of Li 2 O exceeds 3%, the water resistance of the glass is greatly lowered, and the glass becomes unstable and cannot be drawn. The preferable content of Li 2 O is in the range of 0 to 2%, and the more preferable content of Li 2 O that exhibits the effect is in the range of 0.5 to 2%.
SiO2は、ガラスの網目構造を形成する。この含有量は0〜6%である。SiO2の含有量が6%を超えるとガラスの融着温度が上昇して濡れ性が劣化し、本発明の要求するぬれ性を実現できなくなる。SiO2を含有しなくてもガラス化する場合はSiO2を含有しなくてもよい。 SiO 2 forms a glass network structure. This content is 0-6%. If the SiO 2 content exceeds 6%, the glass fusing temperature rises and wettability deteriorates, and the wettability required by the present invention cannot be realized. If vitrification without containing SiO 2 may not contain SiO 2.
本発明の磁気ヘッドは、上記組成による無鉛ガラスを、例えばヘッドの空隙部充填材、接合材、絶縁材などに用いて構成する。 The magnetic head of the present invention is constituted by using lead-free glass having the above composition as, for example, a gap filling material, a bonding material, and an insulating material of the head.
本発明の磁気ヘッドは、上記の無鉛ガラスが摺動面に露出しないように、巻線溝に連続してギャップデプスを規制する狭小溝内に充填して構成することができる。
本発明の磁気ヘッドは、好ましくは磁気コア材としてアモルファス磁性金属薄膜を有する積層膜で形成した磁気ヘッドに適用する。
The magnetic head of the present invention can be configured by filling the narrow groove continuously restricting the gap depth so that the lead-free glass is not exposed on the sliding surface.
The magnetic head of the present invention is preferably applied to a magnetic head formed of a laminated film having an amorphous magnetic metal thin film as a magnetic core material.
上記範囲での組成の融着ガラスは、磁気ヘッドの空隙部充填材、接合材料、絶縁材料として使用すれば、低温での融着が可能となり、アモルファス磁性金属を用いた磁気ヘッドや、ガラス緩みによる寸法逸脱を防ぐためにできるだけ低温での融着を必要とする複数回のガラス融着工程のある磁気ヘッドの複数回目の融着工程に適用して高い効果が得られる。 Fused glass with a composition in the above range can be fused at low temperatures if used as a gap filling material, bonding material, or insulating material for magnetic heads. Magnetic heads using amorphous magnetic metals and loose glass In order to prevent dimensional deviation due to the above, a high effect can be obtained by applying to a plurality of fusing steps of a magnetic head having a plurality of fusing steps that require fusing at as low a temperature as possible.
本発明に係る無鉛ガラス組成物によれば、鉛成分を含有しないことから、作業環境の改善につながり、さらに廃棄物処理に困らない効果を奏する。
また、磁気ヘッド用の融着ガラスとして用いる場合、本発明のガラスは鉛成分を含有しないにもかかわらず、アモルファス磁性金属を結晶化させない程度の低温で融着を行なうことが可能であり、高性能の磁気ヘッドを製造することが可能である。
また、本発明に係る無鉛ガラス組成物は、例えば線径が0.15mm±0.02mmの細さの線引きが可能になり、磁気ヘッドの製造に適用して好適ならしめる。
According to the lead-free glass composition according to the present invention, since it does not contain a lead component, it leads to an improvement of the working environment, and further has an effect that is not troublesome for waste disposal.
In addition, when used as a fused glass for magnetic heads, the glass of the present invention can be fused at a low temperature that does not cause crystallization of amorphous magnetic metal even though it does not contain a lead component. It is possible to manufacture a high performance magnetic head.
The lead-free glass composition according to the present invention can be drawn with a wire diameter of 0.15 mm ± 0.02 mm, for example, and can be suitably applied to the manufacture of a magnetic head.
本発明に係る磁気ヘッドによれば、上述の無鉛ガラスを用いて構成されるので、製造に際して作業環境を改善することができ、また、廃棄処理でも環境を汚染させることがない。
また、本発明に係る磁気ヘッドによれば、線引き加工された上述の無鉛ガラスを用いることにより、無鉛ガラスが摺動面に露出しないように、巻線溝に連続してギャップデプスを規制する狭小溝内に充填させた磁気ヘッドを提供できる。
また、結晶化温度より低い融着温度を有する無鉛ガラスを用い、磁気コアとしてアモルファス磁性金属薄膜を有する積層膜で形成するときは、高性能のアモルファス金属積層型の磁気ヘッドを提供することができる。
According to the magnetic head of the present invention, since the lead-free glass described above is used, the working environment can be improved during manufacture, and the environment is not contaminated even during disposal.
In addition, according to the magnetic head according to the present invention, by using the lead-free glass described above that has been drawn, the narrowness that regulates the gap depth continuously to the winding groove so that the lead-free glass is not exposed to the sliding surface. A magnetic head filled in the groove can be provided.
In addition, when a lead-free glass having a fusing temperature lower than the crystallization temperature is used and a laminated film having an amorphous magnetic metal thin film as a magnetic core is formed, a high-performance amorphous metal laminated magnetic head can be provided. .
以下、本発明の実施の形態について説明する。 Embodiments of the present invention will be described below.
先ず、本実施の形態に係る無鉛ガラス組成物について説明する。無鉛ガラスを構成する各成分を表1(実施例)、表2(比較例)に示す割合で混合して1100〜1300℃で溶解後、線引き作業を行い、ロッド状の無鉛ガラスを作製した。単位は質量%である。尚、比較例に載せたガラスは、本発明の請求範囲から外れる組成の無鉛ガラスならびに現在使用されている鉛系ガラスである。 First, the lead-free glass composition according to the present embodiment will be described. Each component constituting the lead-free glass was mixed at a ratio shown in Table 1 (Example) and Table 2 (Comparative Example) and melted at 1100 to 1300 ° C., and then a drawing operation was performed to produce a rod-shaped lead-free glass. The unit is mass%. In addition, the glass mounted in the comparative example is the lead-free glass of the composition which remove | deviates from the claim of this invention, and the lead glass currently used.
表1、表2で得られた各ガラスについて、熱膨張係数(100℃〜350℃)及びガラス転移点と融着温度を測定した。結果を表3に示す。なお、融着温度とは粘度が103 Pa・secになる温度を表す。 About each glass obtained by Table 1, Table 2, the thermal expansion coefficient (100 to 350 degreeC), the glass transition point, and the fusion temperature were measured. The results are shown in Table 3. The fusing temperature represents a temperature at which the viscosity becomes 10 3 Pa · sec.
表1の組成から得られた実施例のガラスのうち各試料1〜39はすべてガラス化し、結晶化や失透はみられなかった。
また、熱膨張係数(100℃〜350℃において)は86×10-7〜118×10-7〔/℃〕、ガラス転移点は353℃〜462℃、融着温度は500℃〜555℃となった。
Among the glasses of Examples obtained from the compositions shown in Table 1, all the samples 1 to 39 were vitrified, and no crystallization or devitrification was observed.
The coefficient of thermal expansion (at 100 ° C. to 350 ° C.) is 86 × 10 −7 to 118 × 10 −7 [/ ° C.], the glass transition point is 353 ° C. to 462 ° C., and the fusion temperature is 500 ° C. to 555 ° C. became.
表2の組成から得られた比較例のガラスについて説明する。
試料40は従来の鉛含有の低融点ガラスである。
試料41は無鉛ガラスであるが、本発明の目的である融着温度が520℃以下、または560℃未満よりも融着温度が高く、本発明の趣旨に反する。
試料42は無鉛ガラスであるが、B2O3の含有量が13%未満であり、線引時に失透してしまい、うまく融着できなくなる。
試料43は無鉛ガラスであるが、B2O3の含有量が13%未満であり、かつBi2O3の含有量が78%を超え、線引時にガラス表面に析出物が突出し、うまく融着できなくなる。
The glass of the comparative example obtained from the composition of Table 2 is demonstrated.
Sample 40 is a conventional low-melting glass containing lead.
Sample 41 is lead-free glass, but the fusion temperature, which is the object of the present invention, is higher than 520 ° C. or less than 560 ° C., which is contrary to the spirit of the present invention.
Although the sample 42 is lead-free glass, the content of B 2 O 3 is less than 13%, and it is devitrified at the time of drawing and cannot be fused well.
Sample 43 is lead-free glass, but the content of B 2 O 3 is less than 13%, and the content of Bi 2 O 3 exceeds 78%. Precipitates protrude from the glass surface during drawing and melt well. I can't wear it.
次に、図面を用いて上述のガラス組成物を補強充填材として使用した本発明に係る磁気ヘッドの実施の形態を説明する。
図1は、本発明に係る磁気ヘッドをアモルファス金属薄膜積層ヘッドに適用した実施の形態を示す。本実施の形態に係る磁気ヘッド1は、両面を例えば非磁性セラミックからなるガード材8で挟まれるように積層アモルファス金属薄膜2による磁気コアを配置して構成される。すなわち、ガード材8となる非磁性セラミック基板に結晶化温度が550℃のCo81Zr4Nb12Ta3〔原子%〕のアモルファス金属磁性薄膜と非磁性薄膜(例えばCr薄膜)を交互に多層にスパッタして積層アモルファス金属薄膜2を形成する。この積層アモルファス金属薄膜2を有する一対の磁気コア半体3L及び3R同士を対向させ、金属磁性薄膜2面をギャップ膜を介して突合わせて磁気ギャップ部gを形成する。ギャップ膜は例えば金(Au)で形成し、10MPaの圧力と250℃の温度をかけて接合する。さらに融着用のガラスロッドを巻線溝6内の磁気ギャップg側に挿入し溶融させて補強用ガラス5として充填して磁気ヘッド1が構成される。この場合、線引きされたガラスロッドは巻線溝6に連続してギャップデプスを規制する狭小溝6a内に挿入され最終的に融着ガラス5として充填される。この融着ガラス5は磁気記録媒体、例えば磁気テープの摺動面9に露出することはない。この融着ガラス5により、磁気コア半体3L,3R同士の接合が補強される。さらに磁気ギャップgの周辺部分に曲率を形成して摺動面9が形成される。なお、融着ガラス5はフロントギャップ側とバックギャップ側に設けられる。バックギャップ側ではガラス接合溝7内に融着ガラス5が充填される。
Next, an embodiment of a magnetic head according to the present invention using the above glass composition as a reinforcing filler will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 shows an embodiment in which a magnetic head according to the present invention is applied to an amorphous metal thin film laminated head. The magnetic head 1 according to the present embodiment is configured by arranging magnetic cores made of a laminated amorphous metal
そして、本実施の形態においては、融着ガラス5として表1の実施例のガラス、好ましくはアモルファス磁性金属を結晶化させない溶融温度520℃以下のガラスを用いる。
例えば、融着ガラス5として表1の実施例の試料37の無鉛ガラスを使用した本実施の形態の磁気ヘッドと、表2の比較例の試料40の鉛含有ガラスを使用した磁気ヘッドを作製して比較した。試料37の無鉛ガラスを用いた本実施の形態の磁気ヘッド1は、試料40のガラスを使用した比較例の磁気ヘッドと比較して、電気特性や作業過程での問題は全く見られず、無鉛ガラスでも鉛ガラスと同様の磁気ヘッドを作製することができた。
In the present embodiment, the glass of the example in Table 1 is used as the fusing
For example, the magnetic head of the present embodiment using the lead-free glass of the
図2は、図1のアモルファス金属薄膜積層ヘッドの具体例である。本実施の形態に係る磁気ヘッド11は、摺動面9の磁気テープとの当たり幅を狭くするように段差10を形成し、磁気テープへのヘッド当たりが良好になるように構成される。また、磁気コアの両側にガード材8と共に巻線用の切り欠き12を形成し、この切り欠き12と巻線溝6を通してコイル13が巻回される。その他の、構成は図1と同様であるので、同一符号を付して重複説明を省略する。
この構成においても、表1の実施例に示す無鉛ガラス、好ましくはアモルファス磁性金属が結晶化しない融着温度520℃以下の無鉛ガラスを用いることにより、アモルファス金属磁性薄膜が結晶化せず、しかも線引きしてギャップG側の狭小溝6a内にガラス5を充填させることができ、環境に配慮した高性能の磁気ヘッドを提供できる。
FIG. 2 is a specific example of the amorphous metal thin film laminated head of FIG. The
Even in this configuration, the lead-free glass shown in the examples of Table 1, preferably the lead-free glass having a fusion temperature of 520 ° C. or less at which the amorphous magnetic metal does not crystallize, the amorphous metal magnetic thin film does not crystallize and is drawn. Thus, the
図3は、本発明に係る磁気ヘッドをメタルインギャップ(MIG)型の磁気ヘッドに適用した他の実施の形態を示す。本実施の形態に係る磁気ヘッド21は、フェライトコア半体22L及び22Rの突合わせ面に高透磁率の結晶金属磁性薄膜23を成膜し、結晶金属磁性薄膜23間にギャップ膜を介して磁気ギャップgが形成されるように、両フェライトコア半体22L及び22Rを接合して構成される。この場合、摺動面26に露出されるフロントギャップ側に設ける融着ガラスには信頼性の高い(耐アルカリ性で評価される)無鉛ガラス24を用い、バックギャップ側に設ける融着ガラスには表1の融着温度の低い無鉛ガラス25を用いる。これら異なる2種類の無鉛ガラス24及び25は同時に融着される。フロントギャップ側はガラスを流す距離が短く、バックギャップ側はガラスを流す距離が長い。このため、摺動面26に露出するフロントギャップ側の無鉛ガラス24は信頼性の高い(融着温度は高い)ガラス、例えば表2の比較例の試料41とするが、摺動面に露出しないバックギャップ側の無鉛ガラス25は表1の融着温度の低い無鉛ガラス、例えば実施例の試料2とすることにより、長い距離を流して融着でき、確実な接合を行なうことが可能となる。
本実施の形態の磁気ヘッド21によれば、信頼性が高く且つ記録用ヘッドに適し、しかも環境に配慮されたMIG型の磁気ヘッドを提供することができる。
FIG. 3 shows another embodiment in which the magnetic head according to the present invention is applied to a metal-in-gap (MIG) type magnetic head. In the
According to the
図4は、本発明に係る磁気ヘッドをデータカートリッジ用磁気ヘッドに適用した他の実施の形態を示す。本実施の形態に係る磁気ヘッド31は、3つの磁気コア部材をギャップ膜を介して融着ガラスで接合し、再生用ギャップg1と記録用ギャップg2を有して構成される。この磁気ヘッド31は、先ず、再生ギャップg1側のフェライトヘッド34の第1及び第2のフェライトコア34A及び34Bを,例えばSiO2:48.0wt%、B2 O3 :18.0wt%、Na2 O:12.0wt%、BaO:12.0wt%、Fe2O3 :5.6wt%、ZnO:4.4wt%の組成の高融点の無鉛ガラス36(熱膨張係数90×10-7/℃、ガラス転移点560℃)を用いて高温(760℃)で融着させる。フェライトヘッド34側の1回目の融着ガラス36として、上記組成のガラスを用いるのは、融着後の寸法精度を重視するため、融着治具が劣化しない程度(760℃程度以下)の融着温度を有し、然も、2回目以降の融着(MIG側の融着)も考慮して、出来るだけ高いガラス転移点を有し、更にフェライト等への侵食拡散反応が少ない様に成すためである。
FIG. 4 shows another embodiment in which the magnetic head according to the present invention is applied to a magnetic head for a data cartridge. The
次に、そのガラス36を溶かさない温度、即ち、上記組成ガラスのガラス転移点(560℃)より低い融着温度を有する表1の実施例のガラス、例えば表1の試料1(融着温度545℃)の無鉛低融点ガラス37を用いて、記録側ギャップg2の融着を行なう。すなわち、第2のフェライトコア34Bと、フェライトコア38のギャップ面側に高透磁率の結晶金属磁性膜39を成膜した第3の磁気コア34Cとを無鉛ガラス37を用いて接合して記録用ギャップg2を形成し、MIGヘッド35を形成する。
このMIGヘッド35側の融着ガラス37として、表1の試料1の無鉛低融点ガラスを用いると、再生ギャップg1側のガラス36を緩ませないような低温で融着が行なえる。
Next, the glass of the example in Table 1 having a melting temperature lower than the glass transition point (560 ° C.) of the glass composition, for example, sample 1 in Table 1 (fusion temperature 545). The recording-side gap g2 is fused using a lead-free low-melting
If the lead-free low-melting glass of Sample 1 in Table 1 is used as the fusing
本実施の形態の磁気ヘッド31によれば、2回のガラス融着工程を有する記録ヘッドと再生ヘッドからなる高信頼性の複合磁気ヘッドを提供することができる。しかも2回の融着工程で用いるガラスはいずれも無鉛ガラスであるため、環境に考慮した磁気ヘッドとなる。
According to the
1、11、21、31・・磁気ヘッド、2・・積層アモルファス金属磁性薄膜、3L,3R・・磁気コア半体、g・・磁気ギャップ、5・・融着ガラス、6・・巻線溝、6a・・狭小溝、7・・ガラス接合溝、8・・ガード材、9・・摺動面、10・・段差、12・・切り欠き、13・・コイル、22L.22R・・フェライトコア、23・・結晶金属磁性膜、24、25・・無鉛ガラス、26・・摺動面、34・・フェライトヘッド、34A,34Bフェライトコア、34C・・磁気コア、35・・MIGヘッド、36・・1回目の融着ガラス、37・・2回目の融着ガラス、38・・フェライトコア、39・・結晶金属磁性薄膜
1, 11, 21, 31 ...
Claims (5)
ことを特徴とする無鉛ガラス組成物。 Bi 2 O 3 in mass% based on oxide: 78% greater than 70% or less, B 2 O 3: 13~20% , ZnO: 5~7%, Na 2 O: 0~5%, K 2 O : 0~2%, P 2 O 5 : 0~4%, TeO 2: 0~4%, Sb 2 O 3: 0~2%, Li 2 O: 0~3%, SiO 2: 0~6% A lead-free glass composition comprising:
Na2 O+TeO2 +Sb2 O3 +Li2O:0.5〜4%である
ことを特徴とする請求項1記載の無鉛ガラス組成物。 Bi 2 O 3 : 72 to 77%, B 2 O 3 : 14 to 20%, ZnO: 6 to 7%, Na 2 O: 0 to 4%, TeO 2 : 0 to 2 in terms of mass% based on oxide %, Sb 2 O 3 : 0 to 2%, Li 2 O: 0 to 2%,
The lead-free glass composition according to claim 1, wherein Na 2 O + TeO 2 + Sb 2 O 3 + Li 2 O: 0.5 to 4%.
ことを特徴とする磁気ヘッド。 A magnetic head comprising the lead-free glass according to claim 1.
ことを特徴とする請求項3記載の磁気ヘッド。 The magnetic head according to claim 3, wherein the lead-free glass is filled in a narrow groove that continuously restricts the gap depth so that the lead-free glass is not exposed to the sliding surface.
ことを特徴とする請求項4記載の磁気ヘッド。
The magnetic head according to claim 4, wherein the magnetic core is formed of a laminated film having an amorphous magnetic metal thin film.
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008105865A (en) * | 2006-10-23 | 2008-05-08 | Ohara Inc | Optical glass |
| CN102147453A (en) * | 2010-02-05 | 2011-08-10 | 日本电产三协株式会社 | Magnetic sensor device |
| JP2015505792A (en) * | 2011-11-02 | 2015-02-26 | フエロ コーポレーション | Microwave sealing of inorganic substrates using low melting glass systems |
| US9011720B2 (en) | 2012-03-30 | 2015-04-21 | Corning Incorporated | Bismuth borate glass encapsulant for LED phosphors |
| EP2489643A4 (en) * | 2009-10-15 | 2015-08-26 | Asahi Glass Co Ltd | GLASS FOR DIFFUSION LAYER IN ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DIODE ELEMENT, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DIODE ELEMENT USING THE SAME |
| US10017849B2 (en) | 2012-11-29 | 2018-07-10 | Corning Incorporated | High rate deposition systems and processes for forming hermetic barrier layers |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0648767A (en) * | 1992-07-06 | 1994-02-22 | Okaya Electric Ind Co Ltd | Varistor, surge absorbing element, formation of protective film and bismuth borosilicate-based glass composition |
| JP2002241143A (en) * | 2001-02-09 | 2002-08-28 | Ngk Insulators Ltd | Sealing composition |
| JP2003034550A (en) * | 2001-07-24 | 2003-02-07 | Asahi Glass Co Ltd | Lead-free glass, glass frit, glass paste, electronic circuit components and electronic circuits |
| JP2004142982A (en) * | 2002-10-23 | 2004-05-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Gap bonded glass for magnetic head and magnetic head |
-
2005
- 2005-11-08 JP JP2005323866A patent/JP2006160599A/en active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0648767A (en) * | 1992-07-06 | 1994-02-22 | Okaya Electric Ind Co Ltd | Varistor, surge absorbing element, formation of protective film and bismuth borosilicate-based glass composition |
| JP2002241143A (en) * | 2001-02-09 | 2002-08-28 | Ngk Insulators Ltd | Sealing composition |
| JP2003034550A (en) * | 2001-07-24 | 2003-02-07 | Asahi Glass Co Ltd | Lead-free glass, glass frit, glass paste, electronic circuit components and electronic circuits |
| JP2004142982A (en) * | 2002-10-23 | 2004-05-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Gap bonded glass for magnetic head and magnetic head |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008105865A (en) * | 2006-10-23 | 2008-05-08 | Ohara Inc | Optical glass |
| US7867934B2 (en) * | 2006-10-23 | 2011-01-11 | Ohara, Inc. | Optical glass |
| EP2489643A4 (en) * | 2009-10-15 | 2015-08-26 | Asahi Glass Co Ltd | GLASS FOR DIFFUSION LAYER IN ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DIODE ELEMENT, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DIODE ELEMENT USING THE SAME |
| CN102147453A (en) * | 2010-02-05 | 2011-08-10 | 日本电产三协株式会社 | Magnetic sensor device |
| JP2011163832A (en) * | 2010-02-05 | 2011-08-25 | Nidec Sankyo Corp | Magnetic sensor device |
| CN102147453B (en) * | 2010-02-05 | 2015-02-11 | 日本电产三协株式会社 | Magnetic sensor device |
| JP2015505792A (en) * | 2011-11-02 | 2015-02-26 | フエロ コーポレーション | Microwave sealing of inorganic substrates using low melting glass systems |
| US9011720B2 (en) | 2012-03-30 | 2015-04-21 | Corning Incorporated | Bismuth borate glass encapsulant for LED phosphors |
| US20150197445A1 (en) * | 2012-03-30 | 2015-07-16 | Corning Incorporated | Bismuth borate glass encapsulant for led phosphors |
| US9624124B2 (en) * | 2012-03-30 | 2017-04-18 | Corning Incorporated | Bismuth borate glass encapsulant for LED phosphors |
| US10023492B2 (en) | 2012-03-30 | 2018-07-17 | Corning Incorporated | Bismuth borate glass encapsulant for LED phosphors |
| US10017849B2 (en) | 2012-11-29 | 2018-07-10 | Corning Incorporated | High rate deposition systems and processes for forming hermetic barrier layers |
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