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JP2006037070A - Polyamide resin composition and molded product thereof - Google Patents

Polyamide resin composition and molded product thereof Download PDF

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JP2006037070A
JP2006037070A JP2005150594A JP2005150594A JP2006037070A JP 2006037070 A JP2006037070 A JP 2006037070A JP 2005150594 A JP2005150594 A JP 2005150594A JP 2005150594 A JP2005150594 A JP 2005150594A JP 2006037070 A JP2006037070 A JP 2006037070A
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JP
Japan
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polyamide
film
acid
weight
polyamide resin
Prior art date
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Pending
Application number
JP2005150594A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yutaka Yamaguchi
裕 山口
Koji Nakamura
孝治 中村
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Ube Corp
Original Assignee
Ube Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

【課題】 本発明は、静電気に起因する種々の障害を防止する帯電防止性の湿度依存性が少なく、高湿度下における滑り性に優れ、かつ、長期に亘りその効果が持続し、かつ低温度下における耐ピンホール性に優れ、かつポリアミドフィルム本来の透明性を保持したポリアミドフィルム及び二軸延伸ポリアミドフィルムなどの成形物を製造することができるポリアミド樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】 ポリアミド組成物(A)、無機フィラー(B)及びビスアミド化合物(C)を特定含むポリアミド樹脂組成物であり、
(I)ポリアミド組成物(A)は、ポリアミド樹脂(D)70〜99.5重量%及びポリアミドエラストマー組成物(E)30〜0.5重量%とを含み、
(II)ポリアミドエラストマー組成物(E)は、ポリアミドエラストマー(F)99.99重量%及び電解質塩化合物0.01〜10重量%を含むことを特徴とするポリアミド樹脂組成物。
【選択図】 なし
PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the humidity dependence of antistatic properties for preventing various troubles caused by static electricity, to be excellent in slipperiness under high humidity, to maintain its effect over a long period of time, and at low temperature An object of the present invention is to provide a polyamide resin composition that is capable of producing molded articles such as a polyamide film and a biaxially stretched polyamide film that have excellent pinhole resistance and retain the original transparency of the polyamide film.
A polyamide resin composition comprising a polyamide composition (A), an inorganic filler (B) and a bisamide compound (C),
(I) Polyamide composition (A) contains 70-99.5 wt% of polyamide resin (D) and 30-0.5 wt% of polyamide elastomer composition (E),
(II) A polyamide resin composition (E) contains 99.99% by weight of a polyamide elastomer (F) and 0.01 to 10% by weight of an electrolyte salt compound.
[Selection figure] None

Description

本発明は、湿度依存性が小さく、長期に亘り持続する帯電防止性が付与され、高湿度下における滑り性に優れ、かつ透明性、耐ピンホール性に優れるポリアミドフィルム及び延伸ポリアミドフィルム等の成形物を得ることができるポリアミド樹脂組成物と、このポリアミド樹脂組成物から製造されるポリアミドフィルム及び延伸ポリアミドフィルムと、これらフィルムとの積層フィルムに関する。   The present invention is a polyamide film and a stretched polyamide film that are less dependent on humidity, have antistatic properties that last for a long time, have excellent slipperiness under high humidity, and have excellent transparency and pinhole resistance. The present invention relates to a polyamide resin composition from which a product can be obtained, a polyamide film and a stretched polyamide film produced from the polyamide resin composition, and a laminated film of these films.

ポリアミドフィルムは一般機械物性、熱的特性、バリヤー性はもちろんのこと、包装材料分野で重要視される耐衝撃性、耐摩耗性及び耐ピンホール性に優れていることから、幅広い分野に使用されている。
しかしながら、ポリアミドフィルムは、電気抵抗率が高く、帯電しやすいため、帯電した電気を漏洩することができず、表面にほこりが付着したり、静電気に起因する種々の障害が発生する。
これらの欠点を改良する方法として、界面活性剤等を表面に塗布又は、ポリアルキレンオキサイド等の吸水性化合物やアルキルアミン等の低分子型帯電防止剤を樹脂に練り込む方法が知られている。しかし、界面活性剤、ポリアルキレンオキサイド、アルキルアミン等の帯電防止剤は、初期の帯電防止性には優れるもののブリードアウトしやすく且つ耐水性が悪いため、長期間に亘り帯電防止性効果が持続しないという欠点を有している。また、湿度に対する、帯電防止発現効果の依存性が非常に大きい。
Polyamide film is used in a wide range of fields because of its excellent mechanical properties, thermal properties, barrier properties, as well as impact resistance, wear resistance, and pinhole resistance, which are regarded as important in the packaging material field. ing.
However, since the polyamide film has a high electrical resistivity and is easily charged, the charged electricity cannot be leaked, and dust adheres to the surface or various troubles due to static electricity occur.
As a method for improving these drawbacks, a method is known in which a surface active agent or the like is applied to the surface, or a water-absorbing compound such as polyalkylene oxide or a low molecular weight antistatic agent such as alkylamine is kneaded into a resin. However, antistatic agents such as surfactants, polyalkylene oxides, and alkylamines are excellent in initial antistatic properties, but are easy to bleed out and have poor water resistance, so the antistatic effect does not last for a long time. Has the disadvantages. In addition, the dependence of the antistatic effect on humidity is very large.

特許文献1及び2には、帯電防止効果の持続性を向上させる方法として、ポリアミドとポリオキシアルキレングリコールを主成分とするポリエーテルエステルアミドエラストマーを、熱可塑性樹脂に配合する方法が提案されている。   Patent Documents 1 and 2 propose a method of blending a polyether ester amide elastomer mainly composed of polyamide and polyoxyalkylene glycol with a thermoplastic resin as a method for improving the sustainability of the antistatic effect. .

一方、ポリアミドフィルムは内容物と密着した際に、ポリオレフィン系フィルムと比較して弾性率が高く硬いため、内容物の表面形状への追従性が悪く、フィルム折り畳み部(屈曲部)において、内容物との摩擦等によりピンホールが生じ易いという問題を有していた。
さらに、近年冷凍技術が発達してきたことにより、食品包装後5℃以下の低温雰囲気で扱われることが多くなっている。上記特性中においてもこと実上最も重要視される耐ピンホール性、柔軟性についてはその温度依存性が顕著であり、5℃以下といった低温雰囲気での使用において、ピンホールによる充填物の漏れ出し等のトラブルが発生し、実用上必ずしも満足するものではなかった。ポリアミドフィルムを5℃以下といった低温雰囲気での使用を可能とするための改善方法として、特許文献3にポリアミドと、ポリエーテル成分としてポリオキシテトラメチレングリコールを用いたポリエーテルエステルアミドエラストマーかなるポリアミドフィルムが開示されている。
On the other hand, when the polyamide film is in close contact with the contents, it has a higher elastic modulus and is harder than the polyolefin-based film, so the followability to the surface shape of the contents is poor, and the contents in the film folding part (bending part) There is a problem that pinholes are likely to be generated due to friction with the material.
Furthermore, due to recent development of freezing technology, it is often handled in a low temperature atmosphere of 5 ° C. or less after food packaging. Among these properties, pinhole resistance and flexibility, which are the most important in practice, are markedly temperature-dependent. When used in a low temperature atmosphere of 5 ° C or less, the leakage of the filler due to pinholes Troubles such as the above occurred, and it was not always satisfactory in practical use. As an improvement method for enabling use of the polyamide film in a low temperature atmosphere of 5 ° C. or less, Patent Document 3 discloses a polyamide film comprising a polyamide and a polyether ester amide elastomer using polyoxytetramethylene glycol as a polyether component. Is disclosed.

特許文献4には、(A)ポリアミド樹脂70〜99.5重量%と、(B)(a)ラクタム、アミノカルボン酸及び、ジアミンとジカルボン酸の塩からなる群より選ばれる少なくとも1種のポリアミド形成単位と、脂肪族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸及び芳香族ジカルボン酸の中から選ばれる少なくとも1種のジカルボン酸からなるポリアミドハードセグメント、(b)数平均分子量300〜5000の特定構造の芳香環含有ポリエーテルよりなるソフトセグメント、及び(c)アルカリ金属及び/又はアルカリ土類金属化合物からなり、かつ(a)と(b)の合計重量に対して、(c)が0.01〜5重量%含有されてなるポリエーテルエステルアミドエラストマー30〜0.5重量%とを含むポリアミド組成物(A)よりなるポリアミドフィルムが開示されている。   Patent Document 4 discloses (A) 70-99.5% by weight of a polyamide resin and (B) (a) at least one polyamide selected from the group consisting of lactam, aminocarboxylic acid, and a salt of diamine and dicarboxylic acid. A forming unit, a polyamide hard segment composed of at least one dicarboxylic acid selected from aliphatic dicarboxylic acid, alicyclic dicarboxylic acid and aromatic dicarboxylic acid, and (b) an aromatic having a specific structure having a number average molecular weight of 300 to 5,000. A soft segment comprising a ring-containing polyether, and (c) an alkali metal and / or alkaline earth metal compound, and (c) is 0.01 to 5 with respect to the total weight of (a) and (b) Polyamide composed of a polyamide composition (A) containing 30 to 0.5% by weight of a polyetheresteramide elastomer contained by weight% Film is disclosed.

特開昭60−23435号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-23435 特開昭60−170646号公報JP-A-60-170646 特開平5−230365号公報JP-A-5-230365 特開2003−012921号公報JP 2003-012921 A

ポリアミドフィルムの滑り性を改良する方法として、シリカ、カオリン等の無機フィラーの添加によるフィルム表面へ突起を形成する方法や、ビスアミド化合物等の有機滑剤を添加する方法が知られている。無機フィラーの添加により表面突起を形成する方法は、その添加量が多い場合、フィルムの透明性が低下してしまい、包装フィルムとして商品価値を失うという問題がある。有機滑剤を添加する方法は、その添加量が多い場合、フィルムの印刷時における印刷インキの密着性の低下して印刷不良が発生し、ラミネート時における接着剤との密着性が低下してデラミが発生する。高湿度下における滑り性を改良するために、無機フィラーと有機滑剤を併用することは提案されているが、透明性、滑り性のバランスの適正化が難しい。さらには、優れた帯電防止性と透明性、高温時の滑り性を高次元にてバランスさせた高機能性ポリアミドフィルムは、工業的に得られていないのが実状であり、その開発が望まれるところである。   Known methods for improving the slipperiness of the polyamide film include a method of forming protrusions on the film surface by adding an inorganic filler such as silica and kaolin, and a method of adding an organic lubricant such as a bisamide compound. The method of forming surface protrusions by adding an inorganic filler has a problem that when the amount added is large, the transparency of the film is lowered and the commercial value is lost as a packaging film. When the amount of the organic lubricant added is large, the adhesion of the printing ink at the time of printing of the film is reduced and printing failure occurs, the adhesion with the adhesive at the time of lamination is reduced, and delamination is caused. appear. In order to improve slipperiness under high humidity, it has been proposed to use an inorganic filler and an organic lubricant in combination, but it is difficult to optimize the balance between transparency and slipperiness. Furthermore, the high-performance polyamide film that balances excellent antistatic properties, transparency, and slipperiness at high temperatures at a high level is actually not obtained industrially, and its development is desired. By the way.

本発明は、静電気に起因する種々の障害を防止する帯電防止性の湿度依存性が少なく、高湿度下における滑り性に優れ、かつ、長期に亘りその効果が持続し、かつ低温度下における耐ピンホール性に優れ、かつポリアミドフィルム本来の透明性を保持したポリアミドフィルム及び二軸延伸ポリアミドフィルム等の成形物を製造することができるポリアミド樹脂組成物を提供することである。
特に全脂肪族系のポリアミドフィルム及びこのフィルム等の成形物を提供することができる樹脂組成物の提供を目的とした。
The present invention has less anti-static humidity dependency that prevents various troubles caused by static electricity, is excellent in slipperiness under high humidity, maintains its effect over a long period of time, and is resistant to low temperatures. An object of the present invention is to provide a polyamide resin composition capable of producing a molded product such as a polyamide film and a biaxially stretched polyamide film having excellent pinhole properties and maintaining the original transparency of the polyamide film.
In particular, an object of the present invention is to provide a resin composition capable of providing a fully aliphatic polyamide film and a molded product such as this film.

本発明者らは、前述の問題点を解決するポリアミドフィルム等の成形物の開発を目的に鋭意検討した結果、ポリアミド樹脂とポリエーテルエステルアミドエラストマー及び電解質化合物、さらに無機フィラー及びビスアミド化合物を配合した組成物より得られるポリアミドフィルム及びその延伸フィルム等の成形物が帯電防止性、高湿度下における滑り性、耐ピンホール性、透明性に優れていることを見出し、本発明に到達した。   As a result of intensive studies aimed at developing a molded product such as a polyamide film that solves the above-mentioned problems, the present inventors have blended a polyamide resin, a polyetheresteramide elastomer and an electrolyte compound, and further an inorganic filler and a bisamide compound. The inventors have found that a polyamide film obtained from the composition and a molded product such as a stretched film thereof are excellent in antistatic property, slipperiness under high humidity, pinhole resistance and transparency, and have reached the present invention.

本発明の第一は、ポリアミド組成物(A)100重量部、
無機フィラー(B)0.1〜1重量部、及び
ビスアミド化合物(C)0.03〜0.3重量部を含むポリアミド樹脂組成物であり、
(I)ポリアミド組成物(A)は、ポリアミド樹脂(D)70〜99.5重量%及びポリアミドエラストマー組成物(E)30〜0.5重量%とを含み、
(II)ポリアミドエラストマー組成物(E)は、ポリアミドエラストマー(F)99.99〜90重量%及び電解質塩化合物0.01〜10重量%を含み、
(III)ポリアミドエラストマー(F)は、ポリアミドハードセグメント(a)及び数平均分子量300〜5000の下記一般式(1)で示されるポリアルキレンオキサイドを含むソフトセグメント(b)から得られるポリエーテルエステルアミドエラストマーであり、
(IV)ポリアミドエラストマー(F)のポリアミドハードセグメント(a)は、ポリアミドハードセグメント(a)100重量%に対し、ポリアミド樹脂(D)と同一のポリアミド形成単位を60重量%以上含み、かつ脂肪族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸及び芳香族ジカルボン酸の中から選ばれる少なくとも1種のジカルボン酸を含むポリアミドハードセグメント(a)であることを特徴とするポリアミド樹脂組成物を提供することである。
The first of the present invention is a polyamide composition (A) 100 parts by weight,
A polyamide resin composition containing 0.1 to 1 part by weight of an inorganic filler (B) and 0.03 to 0.3 part by weight of a bisamide compound (C),
(I) Polyamide composition (A) contains 70-99.5 wt% of polyamide resin (D) and 30-0.5 wt% of polyamide elastomer composition (E),
(II) The polyamide elastomer composition (E) contains 99.99 to 90% by weight of the polyamide elastomer (F) and 0.01 to 10% by weight of the electrolyte salt compound,
(III) The polyamide elastomer (F) is a polyether ester amide obtained from a polyamide hard segment (a) and a soft segment (b) containing a polyalkylene oxide represented by the following general formula (1) having a number average molecular weight of 300 to 5000 An elastomer,
(IV) The polyamide hard segment (a) of the polyamide elastomer (F) contains 60% by weight or more of the same polyamide forming unit as the polyamide resin (D) with respect to 100% by weight of the polyamide hard segment (a), and is aliphatic. An object of the present invention is to provide a polyamide resin composition which is a polyamide hard segment (a) containing at least one dicarboxylic acid selected from dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids and aromatic dicarboxylic acids.

Figure 2006037070
(式中、Qは炭素数2〜4のアルキレン基、nは1〜50の整数を表す。)
Figure 2006037070
(In the formula, Q represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 50.)

本発明の第二は、上記ポリアミド樹脂組成物から得られることを特徴とするポリアミド成形物を提供することである。
ポリアミド成形物は、フィルム又は延伸されたフィルムであることが好ましい。
The second of the present invention is to provide a polyamide molded product obtained from the above polyamide resin composition.
The polyamide molded product is preferably a film or a stretched film.

本発明の第一のポリアミド樹脂組成物、及び本発明の第二の成形物の好ましい態様を以下に示す。本発明では以下の好ましい態様は複数組み合わせることができる。
本発明の第一及び/又は本発明の第二では、ポリアミド樹脂(D)は、ε−カプロラクタム、ω−ドデカンラクタム、12−アミノドデカン酸、ヘキサメチレンジアミン・アジピン酸塩からなる群より選ばれる少なくとも1種のポリアミド形成単位からなる単独重合体又は共重合体であることが好ましい。
本発明の第一及び/又は本発明の第二では、ポリアミドエラストマー(F)は、
(1)ポリアミドハードセグメント(a)100重量%に対しポリアミド樹脂(D)と同一のポリアミド形成単位を60重量%以上含み、かつアジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸及び3−スルホイソフタル酸ナトリウムからなる群より選ばれる少なくとも一種のジカルボン酸を含むポリアミドハードセグメント(a)、
及び
(2)数平均分子量300〜5000の下記一般式(2)で示されるポリアルキレンオキサイドを含むソフトセグメント(b)から得られるポリエーテルエステルアミドエラストマーであることが好ましい。
Preferred embodiments of the first polyamide resin composition of the present invention and the second molded product of the present invention are shown below. In the present invention, a plurality of the following preferred embodiments can be combined.
In the first of the present invention and / or the second of the present invention, the polyamide resin (D) is selected from the group consisting of ε-caprolactam, ω-dodecanactam, 12-aminododecanoic acid, hexamethylenediamine adipate. A homopolymer or copolymer comprising at least one polyamide-forming unit is preferred.
In the first of the present invention and / or the second of the present invention, the polyamide elastomer (F) is:
(1) Polyamide hard segment (a) containing 60% by weight or more of the same polyamide-forming unit as the polyamide resin (D) with respect to 100% by weight, and adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid and 3-sulfoisophthalic acid A polyamide hard segment (a) containing at least one dicarboxylic acid selected from the group consisting of sodium,
And (2) a polyetheresteramide elastomer obtained from a soft segment (b) containing a polyalkylene oxide represented by the following general formula (2) having a number average molecular weight of 300 to 5,000.

Figure 2006037070
(式中、Rは炭素数2〜3のアルキレン基、nは1〜50の整数を表す。)
本発明の第一及び/又は本発明の第二では、無機フィラー(B)は、シリカ、カオリン及びタルクからなる群より選ばれる少なくとも一種を含むことが好ましい。
本発明の第一及び/又は本発明の第二では、ビスアミド化合物(C)は、エチレンビスステアリン酸アミド、エチレンビスベヘン酸アミド、エチレンビスオレイン酸アミド及びエチレンビスエルカ酸アミドからなる群より選ばれる少なくとも一種を含むことが好ましい。
Figure 2006037070
(In the formula, R represents an alkylene group having 2 to 3 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 50.)
In the first of the present invention and / or the second of the present invention, the inorganic filler (B) preferably contains at least one selected from the group consisting of silica, kaolin and talc.
In the first and / or second of the present invention, the bisamide compound (C) is selected from the group consisting of ethylene bis stearic acid amide, ethylene bis behenic acid amide, ethylene bis oleic acid amide and ethylene bis erucic acid amide. It is preferable to include at least one kind.

本発明のポリアミドフィルム及び延伸ポリアミドフィルムは、本発明のポリアミドフィルムを除く他の熱可塑性樹脂の層と積層して、少なくとも2層の積層フィルムを提供することができる。
本発明のポリアミドフィルムを含む少なくとも2層の積層フィルムは、ポリアミドフィルムを最外層に配置することが好ましい。
The polyamide film and stretched polyamide film of the present invention can be laminated with other thermoplastic resin layers excluding the polyamide film of the present invention to provide a laminate film of at least two layers.
In the laminated film of at least two layers including the polyamide film of the present invention, the polyamide film is preferably disposed in the outermost layer.

本発明のポリアミド樹脂組成物は、特定の電解質塩化合物が配合されたポリエーテルエステルアミドエラストマー、無機フィラー及びビスアミド化合物を添加することにより、帯電防止性、高湿度下における滑り性が良好であるとともに、透明性、耐ピンホール性等の特性を高次元にてバランスさせたフィルム及び延伸フィルム等の成形物を製造することができる。
本発明のポリアミド樹脂組成物は、ポリアミドフィルム及び延伸フィルム等の成形物として使用することができる。
本発明のポリアミド樹脂組成物より得られるポリアミドフィルム及び延伸フィルムは単独での利用価値も高いが、該ポリアミドフィルムが最外層に配置された少なくとも2層の積層フィルムを製造するころができ、この積層フィルムも、単層のポリアミドフィルムと同様な効果を発現する。よって、静電気の発生、蓄積、また、高湿度下における滑り不足という問題のため、今まで制限されてきたポリアミドフィルムの使用範囲が拡大することとなり、その利用価値は極めて大きい。
The polyamide resin composition of the present invention has good antistatic properties and slipperiness under high humidity by adding a polyether ester amide elastomer, an inorganic filler and a bisamide compound containing a specific electrolyte salt compound. Further, it is possible to produce molded products such as films and stretched films in which characteristics such as transparency and pinhole resistance are balanced in a high dimension.
The polyamide resin composition of the present invention can be used as molded articles such as polyamide films and stretched films.
Although the polyamide film and stretched film obtained from the polyamide resin composition of the present invention have a high utility value alone, it is possible to produce a laminated film having at least two layers in which the polyamide film is disposed in the outermost layer. The film also exhibits the same effect as the single-layer polyamide film. Therefore, due to the problems of generation and accumulation of static electricity and insufficient slip under high humidity, the range of use of the polyamide film that has been limited so far is expanded, and its utility value is extremely large.

本発明のポリアミド樹脂組成物は、ポリアミド組成物(A)100重量部、無機フィラー(B)0.1〜1重量部、及びビスアミド化合物(C)0.03〜0.3重量部を含む樹脂組成物である。
樹脂組成物は、ポリアミド組成物(A)100重量部に対し、
無機フィラー(B)を0.1〜1重量部、好ましくは0.15〜0.7重量部、より好ましくは0.2〜0.5重量部の範囲で含み、
ビスアミド化合物(C)を0.03〜0.3重量部、好ましくは0.05〜0.2重量部の範囲で含む樹脂組成物である。
無機フィラー(B)の添加量が前記の値未満であると、得られるフィルムの高湿度下における滑り性改良の効果が小さく、前記の値を超えると、ポリアミドフィルム等の成形物の透明性、外観等が損なわれる。
ビスアミド化合物(C)の添加量が前記の値未満であると、本発明の効果が充分に得ることができず、また、前記の値を超えると、ポリアミドフィルム等の成形物の印刷性等が低下する。
The polyamide resin composition of the present invention comprises a polyamide composition (A) 100 parts by weight, an inorganic filler (B) 0.1-1 part by weight, and a bisamide compound (C) 0.03-0.3 part by weight. It is a composition.
The resin composition is based on 100 parts by weight of the polyamide composition (A).
Containing 0.1 to 1 part by weight of the inorganic filler (B), preferably 0.15 to 0.7 part by weight, more preferably 0.2 to 0.5 part by weight,
A resin composition containing the bisamide compound (C) in an amount of 0.03 to 0.3 parts by weight, preferably 0.05 to 0.2 parts by weight.
If the added amount of the inorganic filler (B) is less than the above value, the effect of improving the slipperiness of the resulting film under high humidity is small, and if it exceeds the above value, the transparency of the molded product such as a polyamide film, Appearance and the like are impaired.
If the addition amount of the bisamide compound (C) is less than the above value, the effect of the present invention cannot be sufficiently obtained, and if it exceeds the above value, the printability of a molded product such as a polyamide film is improved. descend.

ポリアミド組成物(A)は、ポリアミド樹脂(D)70〜99.5重量%とポリアミドエラストマー組成物(E)30〜0.5重量%からなる組成物であり、
好ましくは、ポリアミド樹脂(D)75〜98重量%とポリアミドエラストマー組成物(E)25〜2重量%である。
ポリアミド組成物(A)において、ポリアミドエラストマー組成物(E)が、前記の値未満であると、帯電防止性、耐ピンホール性の改良効果が小さく、一方、前記の値を超えると、耐熱性が悪化し、また、それに見合う効果の向上が期待できず、経済的に不利となるばかりでなく、均一な厚みのフィルム等を成形出来なくなる。
The polyamide composition (A) is a composition comprising 70 to 99.5% by weight of a polyamide resin (D) and 30 to 0.5% by weight of a polyamide elastomer composition (E),
Preferably, they are 75 to 98% by weight of the polyamide resin (D) and 25 to 2% by weight of the polyamide elastomer composition (E).
In the polyamide composition (A), if the polyamide elastomer composition (E) is less than the above values, the effect of improving antistatic properties and pinhole resistance is small, whereas if it exceeds the above values, the heat resistance In addition, it is not possible to expect an improvement in the effect commensurate with it, which is not only economically disadvantageous, but also a film having a uniform thickness cannot be formed.

ポリアミド樹脂(D)は、ラクタム、アミノカルボン酸、又はジアミンとジカルボン酸とからなるナイロン塩を原料として、溶融重合、溶液重合や固相重合等の公知の方法で重合、又は共重合することにより得ることができる。
ポリアミド樹脂(D)は、ラクタム、アミノカルボン酸、又はジアミンとジカルボン酸とからなるナイロン塩から誘導される単一重合体又は共重合体を各々単独又は混合物の形で用いることができる。
The polyamide resin (D) is polymerized or copolymerized by a known method such as melt polymerization, solution polymerization or solid phase polymerization using a lactam, an aminocarboxylic acid, or a nylon salt composed of a diamine and a dicarboxylic acid as a raw material. Obtainable.
As the polyamide resin (D), a single polymer or copolymer derived from a lactam, an aminocarboxylic acid, or a nylon salt composed of a diamine and a dicarboxylic acid can be used alone or in the form of a mixture.

ラクタムとしては、ε−カプロラクタム、ω−エナントラクタム、ω−ウンデカンラクタム、ω−ドデカンラクタム、α−ピロリドン、α−ピペリドン等の炭素数6以上のラクタムが挙げられる。
アミノカルボン酸としては、6−アミノカプロン酸、7−アミノヘプタン酸、9−アミノノナン酸、11−アミノウンデカン酸、12−アミノドデカン酸等の炭素数6以上のアミノカルボン酸が挙げられる。
Examples of the lactam include lactams having 6 or more carbon atoms such as ε-caprolactam, ω-enantolactam, ω-undecane lactam, ω-dodecane lactam, α-pyrrolidone, α-piperidone.
Examples of the aminocarboxylic acid include aminocarboxylic acids having 6 or more carbon atoms such as 6-aminocaproic acid, 7-aminoheptanoic acid, 9-aminononanoic acid, 11-aminoundecanoic acid, and 12-aminododecanoic acid.

ナイロン塩を構成するジアミンとしては、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ペプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、ウンデカメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミン、トリデカメチレンジアミン、テトラデカメチレンジアミン、ペンタデカメチレンジアミン、ヘキサデカメチレンジアミン、ヘプタデカメチレンジアミン、オクタデカメチレンジアミン、ノナデカメチレンジアミン、エイコサメチレンジアミン、2/3−メチル−1,5−ペンタンジアミン、2−メチル−1,8−オクタンジアミン、2,2,4/2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジアミン、5−メチル−1,9−ノナンジアミン等の脂肪族ジアミン、1,3/1,4−シクロヘキサンジアミン、1,3/1,4−シクロヘキサンジメチルアミン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)プロパン、ビス(3−メチル−4−アミノシクロヘキシル)メタン、ビス(3−メチル−4−アミノシクロヘキシル)プロパン、5−アミノ−2,2,4−トリメチル−1−シクロペンタンメチルアミン、5−アミノ−1,3,3−トリメチルシクロヘキサンメチルアミン(イソホロンジアミン)、ビス(アミノプロピル)ピペラジン、ビス(アミノエチル)ピペラジン、ノルボルナンジメチルアミン、トリシクロデカンジメチルアミン等の脂環式ジアミン、パラキシリレンジアミン、メタキシリレンジアミン等の芳香族ジアミン等が挙げられる。   Examples of the diamine constituting the nylon salt include ethylenediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine, peptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, decamethylenediamine, undecamethylenediamine, dodecamethylenediamine, Decamethylenediamine, tetradecamethylenediamine, pentadecamethylenediamine, hexadecamethylenediamine, heptacamethylenediamine, octadecamethylenediamine, nonadecamethylenediamine, eicosamethylenediamine, 2 / 3-methyl-1,5-pentane Fats such as diamine, 2-methyl-1,8-octanediamine, 2,2,4 / 2,4,4-trimethylhexamethylenediamine, 5-methyl-1,9-nonanediamine Group diamine, 1,3 / 1,4-cyclohexanediamine, 1,3 / 1,4-cyclohexanedimethylamine, bis (4-aminocyclohexyl) methane, bis (4-aminocyclohexyl) propane, bis (3-methyl- 4-aminocyclohexyl) methane, bis (3-methyl-4-aminocyclohexyl) propane, 5-amino-2,2,4-trimethyl-1-cyclopentanemethylamine, 5-amino-1,3,3-trimethyl Fragrances such as cycloaliphatic diamines such as cyclohexanemethylamine (isophoronediamine), bis (aminopropyl) piperazine, bis (aminoethyl) piperazine, norbornanedimethylamine, tricyclodecanedimethylamine, paraxylylenediamine, metaxylylenediamine Group diamine and the like.

ナイロン塩を構成するジカルボン酸としては、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸、トリデカンジカルボン酸、テトラデカンジカルボン酸、ペンタデカンジカルボン酸、ヘキサデカンジカルボン酸、オクタデカンジカルボン酸、エイコサンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸、1,3/1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジカルボン酸、ノルボルナンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4/1,5/2,6/2,7−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルメタン−4,4’−ジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸等が挙げられる。   Examples of the dicarboxylic acid constituting the nylon salt include adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedicarboxylic acid, dodecanedicarboxylic acid, tridecanedicarboxylic acid, tetradecanedicarboxylic acid, pentadecanedicarboxylic acid, hexadecanedicarboxylic acid, Aliphatic dicarboxylic acids such as octadecane dicarboxylic acid, eicosane dicarboxylic acid, 1,3 / 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, dicyclohexylmethane-4,4′-dicarboxylic acid, norbornane dicarboxylic acid, isophthal Examples thereof include aromatic dicarboxylic acids such as acid, terephthalic acid, 1,4 / 1,5 / 2,6 / 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, and diphenylmethane-4,4′-dicarboxylic acid.

ポリアミド樹脂(D)の具体例としては、ポリアミド6、ポリアミド7、ポリアミド11、ポリアミド12、ポリアミド46、ポリアミド66、ポリアミド69、ポリアミド6/10、ポリアミド6/11、ポリアミド6/12、ポリアミド6T、ポリアミド6I、ポリアミドMXD6、ポリアミド6/66(ポリアミド6とポリアミド66のコポリマー、以下、コポリマーは同様に記載)、ポリアミド6/69、ポリアミド6/610、ポリアミド6/611、ポリアミド6/12、ポリアミド6/612、ポリアミド6/6T、ポリアミド6/6I、ポリアミド6/66/610、ポリアミド6/66/12、ポリアミド6/66/612、ポリアミド66/6T、ポリアミド66/6I、ポリアミド6T/6I、ポリアミド66/6T/6I等が挙げられる。好ましいポリアミド樹脂(D)としては、得られる成形品の耐熱性、機械的強度、透明性や経済性、入手の容易さ等を考慮して、ポリアミド6、ポリアミド12、ポリアミド66、ポリアミド6/66、ポリアミド6/12、ポリアミド6/66/12が挙げられる。   Specific examples of the polyamide resin (D) include polyamide 6, polyamide 7, polyamide 11, polyamide 12, polyamide 46, polyamide 66, polyamide 69, polyamide 6/10, polyamide 6/11, polyamide 6/12, polyamide 6T, Polyamide 6I, polyamide MXD6, polyamide 6/66 (copolymer of polyamide 6 and polyamide 66, hereinafter the copolymer is also described), polyamide 6/69, polyamide 6/610, polyamide 6/611, polyamide 6/12, polyamide 6 / 612, polyamide 6 / 6T, polyamide 6 / 6I, polyamide 6/66/610, polyamide 6/66/12, polyamide 6/66/612, polyamide 66 / 6T, polyamide 66 / 6I, polyamide 6T / 6I, polyamide 66 / 6T 6I and the like. Preferred polyamide resins (D) include polyamide 6, polyamide 12, polyamide 66, polyamide 6/66 in consideration of heat resistance, mechanical strength, transparency, economy, availability, etc. of the obtained molded product. , Polyamide 6/12, and polyamide 6/66/12.

ポリアミド樹脂(D)は、JIS K−6920に準じて測定した相対粘度が、2.0〜5.0であることが好ましく、2.5〜4.5であることがより好ましい。ポリアミド樹脂(D)の相対粘度が前記の値未満であると、得られるポリアミドフィルム等の成形物の機械的性質が低くなる場合がある。また、前記の値を超えると、溶融時の粘度が高くなり、フィルム等の成形が困難となる場合がある。   The relative viscosity of the polyamide resin (D) measured according to JIS K-6920 is preferably 2.0 to 5.0, more preferably 2.5 to 4.5. If the relative viscosity of the polyamide resin (D) is less than the above value, the mechanical properties of the resulting molded product such as a polyamide film may be lowered. On the other hand, when the above value is exceeded, the viscosity at the time of melting increases, and it may be difficult to form a film or the like.

ポリアミド樹脂(D)は、その末端基の種類及びその濃度や分子量分布には特別の制約は無い。
分子量調節や成形加工時の溶融安定化のため、モノアミン、ジアミン、モノカルボン酸、ジカルボン酸のうちの1種あるいは2種以上を適宜組合せて添加することができる。例えば、ラウリルアミン、ステアリルアミン、ヘキサメチレンジアミン、メタキシリレンジアミン等のアミンや酢酸、ステアリン酸、安息香酸、アジピン酸、イソフタル酸、テレフタル酸等のカルボン酸等である。これら分子量調節剤の使用量は分子量調節剤の反応性や重合条件により異なるが、最終的に得ようとするポリアミドの相対粘度が前記の範囲になるように、適宜決めることができる。
The polyamide resin (D) has no particular restrictions on the type, concentration and molecular weight distribution of its end groups.
One or more of monoamines, diamines, monocarboxylic acids, and dicarboxylic acids can be added in combination as appropriate for molecular weight adjustment and melt stabilization during molding. Examples thereof include amines such as laurylamine, stearylamine, hexamethylenediamine, and metaxylylenediamine, and carboxylic acids such as acetic acid, stearic acid, benzoic acid, adipic acid, isophthalic acid, and terephthalic acid. The amount of these molecular weight regulators to be used varies depending on the reactivity of the molecular weight regulator and the polymerization conditions, but can be determined appropriately so that the relative viscosity of the finally obtained polyamide falls within the above range.

ポリアミド樹脂(D)は、さらに、JIS K−6920に規定する低分子量物の含有量の測定方法に準じて測定した水抽出量が1.0%以下であることが好ましく、0.5%以下であることがより好ましい。水抽出量が前記の値を超えると、フィルム成形等では、Tダイ付近へのオリゴマー成分の付着が著しく、これら付着物によるダイラインやフィッシュアイの発生により外観不良が生じ易い場合がある。さらに、ポリアミド樹脂(D)は、オレフィン樹脂と比較して吸湿性が大きく、吸湿したものを使用すると、原料を溶融押出しする際、加水分解が起こるためオリゴマーが発生し、フィルム等の成形物の製造が困難となる場合があるので、事前に乾燥し水分含有率が0.1重量%以下とすることが好ましい。   The polyamide resin (D) preferably further has a water extraction amount of 1.0% or less measured according to the method for measuring the content of low molecular weight substances specified in JIS K-6920, preferably 0.5% or less. It is more preferable that If the amount of water extraction exceeds the above-mentioned value, adhesion of oligomer components in the vicinity of the T-die is remarkable in film molding and the like, and appearance defects may easily occur due to the generation of die lines and fish eyes due to these deposits. Furthermore, the polyamide resin (D) has a higher hygroscopicity than the olefin resin. When a hygroscopic material is used, an oligomer is generated because the hydrolysis occurs when the raw material is melt-extruded. Since manufacture may become difficult, it is preferable to dry beforehand and to make a moisture content into 0.1 weight% or less.

ポリアミドエラストマー組成物(E)は、電解質塩化合物及びポリアミドエラストマー(F)を含む組成物である。ポリアミドエラストマー組成物(E)は、ポリアミドエラストマー(F)99.99〜90重量%及び電解質塩化合物0.01〜10重量%であり、ポリアミドエラストマー(F)99.98〜95重量%及び電解質塩化合物0.02〜5重量%であることが好ましく、ポリアミドエラストマー(F)99.95〜97重量%及び電解質塩化合物0.05〜3重量%であることがより好ましい。電解質塩化合物の含有量が、前記の値を超えると帯電帯電防止性能が劣り、一方上記範囲より大きいとフィルム等の成形物の表面外観が劣るものとなる。
特に、ポリアミドエラストマー(F)のソフトセグメント(b)のアルキレンオキサイドのモル数に対する電解質塩化合物中のアルカリ金属又はアルカリ土類金属のカチオンのモル数に留意が必要である。ソフトセグメント(b)のアルキレンオキサイドに対する電解質塩化合物中のアルカリ金属又はアルカリ土類金属のカチオンのモル数を飽和溶解濃度以下にすることが望ましい。飽和溶解濃度以上の場合はソフトセグメント(b)のアルキレンオキサイドに未溶解の電解質塩化合物成分は帯電防止効果に寄与しないことが考えられる。
The polyamide elastomer composition (E) is a composition containing an electrolyte salt compound and a polyamide elastomer (F). The polyamide elastomer composition (E) is composed of 99.99 to 90% by weight of polyamide elastomer (F) and 0.01 to 10% by weight of electrolyte salt compound, and 99.98 to 95% by weight of polyamide elastomer (F) and electrolyte salt. The compound is preferably 0.02 to 5% by weight, more preferably 99.95 to 97% by weight of the polyamide elastomer (F) and 0.05 to 3% by weight of the electrolyte salt compound. When the content of the electrolyte salt compound exceeds the above value, the antistatic performance is inferior. On the other hand, when the content is larger than the above range, the surface appearance of a molded article such as a film is inferior.
In particular, it is necessary to pay attention to the number of moles of alkali metal or alkaline earth metal cations in the electrolyte salt compound relative to the number of moles of alkylene oxide in the soft segment (b) of the polyamide elastomer (F). It is desirable that the number of moles of alkali metal or alkaline earth metal cation in the electrolyte salt compound with respect to the alkylene oxide of the soft segment (b) be equal to or lower than the saturated dissolution concentration. When the concentration is higher than the saturated dissolution concentration, it is considered that the electrolyte salt compound component not dissolved in the alkylene oxide of the soft segment (b) does not contribute to the antistatic effect.

ポリアミドエラストマー(F)は、ポリアミドハードセグメント(a)及び数平均分子量300〜5000の下記一般式(1)で示されるポリアルキレンオキサイドを含むソフトセグメント(b)から得られるポリエーテルエステルアミドエラストマーである。
ポリアミドエラストマー(F)のポリアミドハードセグメント(a)は、ポリアミドハードセグメント(a)100重量%中、ポリアミド樹脂(D)と同一のポリアミド形成単位を60重量%以上含み、かつ脂肪族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸及び芳香族ジカルボン酸の中から選ばれる少なくとも1種のジカルボン酸を含むポリアミドハードセグメント(a)である。
ポリアミドエラストマー(F)のソフトセグメント(b)は、数平均分子量300〜5000の下記一般式(2)で示されるポリアルキレンオキサイドが好ましい。
The polyamide elastomer (F) is a polyether ester amide elastomer obtained from a polyamide hard segment (a) and a soft segment (b) containing a polyalkylene oxide represented by the following general formula (1) having a number average molecular weight of 300 to 5,000. .
The polyamide hard segment (a) of the polyamide elastomer (F) contains 60% by weight or more of the same polyamide-forming unit as that of the polyamide resin (D) in 100% by weight of the polyamide hard segment (a), and contains an aliphatic dicarboxylic acid, a fat The polyamide hard segment (a) contains at least one dicarboxylic acid selected from cyclic dicarboxylic acids and aromatic dicarboxylic acids.
The soft segment (b) of the polyamide elastomer (F) is preferably a polyalkylene oxide represented by the following general formula (2) having a number average molecular weight of 300 to 5,000.

Figure 2006037070
(式中、Qは炭素数2〜4のアルキレン基、nは1〜50の整数を表す。)
Figure 2006037070
(In the formula, Q represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 50.)

Figure 2006037070
(式中、Rは炭素数2〜3のアルキレン基、nは1〜50の整数を表す。)
Figure 2006037070
(In the formula, R represents an alkylene group having 2 to 3 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 50.)

ポリアミドエラストマー(F)のハードセグメント(a)は、両末端にカルボキシル基を有するポリアミドであり、ポリアミド樹脂(D)と同一のポリアミド形成単位であり、前記のラクタム、アミノカルボン酸、又はジアミンとジカルボン酸とからなるナイロン塩からなる単位の含有量は、ハードセグメント(a)100重量%に対し、60重量%以上であり、70重量%以上であることが好ましく、80重量%以上であることがより好ましい。前記の値を満たすことにより、得られるフィルム等の成形物の透明性が優れ、ポリアミド樹脂(D)と同一のポリアミド形成単位が前記の値未満であると、得られるポリアミドフィルム等の成形物の透明性が劣る。   The hard segment (a) of the polyamide elastomer (F) is a polyamide having carboxyl groups at both ends, and is the same polyamide forming unit as the polyamide resin (D). The lactam, aminocarboxylic acid, or diamine and dicarboxylic acid described above are used. The content of the unit composed of the nylon salt composed of an acid is 60% by weight or more, preferably 70% by weight or more, and preferably 80% by weight or more with respect to 100% by weight of the hard segment (a). More preferred. By satisfying the above values, the resulting molded article such as film is excellent in transparency, and when the same polyamide forming unit as the polyamide resin (D) is less than the above value, The transparency is inferior.

ポリアミド形成単位とは、ポリアミド樹脂(D)を形成しているラクタム、アミノカルボン酸、又はジアミンとジカルボン酸とからなるナイロン塩、及びこれらから得られるオリゴマーを意味する。   The polyamide-forming unit means a lactam, an aminocarboxylic acid, or a nylon salt composed of a diamine and a dicarboxylic acid forming the polyamide resin (D), and an oligomer obtained therefrom.

ポリアミドエラストマー(F)のポリアミドハードセグメント(a)は、ポリアミドハードセグメント(a)100重量%中、ポリアミド樹脂(D)と同一のポリアミド形成単位を60重量%以上含みとは、
ポリアミド組成物(A)に使用するポリアミド樹脂(D)とポリアミドエラストマー(F)で、
ポリアミドエラストマー(F)のポリアミドハードセグメント(a)のポリアミド形成単位が、ポリアミド樹脂(D)のポリアミド形成単位と同一のポリアミド形成単位を60重量%以上含むことを意味する。
例えば、ポリアミド組成物(A)に使用するポリアミド樹脂(D)がポリアミド6の場合、ポリアミドエラストマー(F)のポリアミドハードセグメント(a)のポリアミド形成単位が、ポリアミド6由来又はポリアミド6と同等のポリアミド形成単位、一例としてε−カプロラクタムを、ポリアミドハードセグメント(a)100重量%に対し、60重量%以上含むことである。
また、ポリアミド組成物(A)に使用するポリアミド樹脂(D)がポリアミド6/12の場合、ポリアミドエラストマー(F)のポリアミドハードセグメント(a)のポリアミド形成単位が、ポリアミド6由来又はポリアミド6と同等のポリアミド形成単位と、ポリアミド12由来又はポリアミド12と同等のポリアミド形成単位、一例としてε−カプロラクタム及びω−ドデカンラクタムとを合わせた量が、ポリアミドハードセグメント(a)100重量%に対し、60重量%以上含むことである。
そのため、ポリアミド組成物(A)に使用するポリアミド樹脂(D)がポリアミド6の場合、ポリアミドエラストマー(F)のポリアミドハードセグメント(a)のポリアミド形成単位が、ポリアミド12由来又はポリアミド12と同等のポリアミド形成単位を、ポリアミドハードセグメント(a)100重量%に対し、40重量%を超えて含む時は、本発明には含まれない。
The polyamide hard segment (a) of the polyamide elastomer (F) contains 60% by weight or more of the same polyamide forming unit as the polyamide resin (D) in 100% by weight of the polyamide hard segment (a).
The polyamide resin (D) and the polyamide elastomer (F) used in the polyamide composition (A)
It means that the polyamide forming unit of the polyamide hard segment (a) of the polyamide elastomer (F) contains 60% by weight or more of the same polyamide forming unit as the polyamide forming unit of the polyamide resin (D).
For example, when the polyamide resin (D) used in the polyamide composition (A) is polyamide 6, the polyamide forming unit of the polyamide hard segment (a) of the polyamide elastomer (F) is derived from polyamide 6 or equivalent to polyamide 6 A forming unit, for example, ε-caprolactam is 60% by weight or more with respect to 100% by weight of the polyamide hard segment (a).
When the polyamide resin (D) used in the polyamide composition (A) is polyamide 6/12, the polyamide forming unit of the polyamide hard segment (a) of the polyamide elastomer (F) is derived from the polyamide 6 or equivalent to the polyamide 6 The amount of the polyamide-forming unit and the polyamide-forming unit derived from or equivalent to polyamide 12, for example, ε-caprolactam and ω-dodecanactam is 60% by weight based on 100% by weight of the polyamide hard segment (a). % Or more.
Therefore, when the polyamide resin (D) used in the polyamide composition (A) is polyamide 6, the polyamide forming unit of the polyamide hard segment (a) of the polyamide elastomer (F) is derived from the polyamide 12 or a polyamide equivalent to the polyamide 12 When the forming unit is contained in an amount exceeding 40% by weight based on 100% by weight of the polyamide hard segment (a), it is not included in the present invention.

ポリアミドエラストマー(F)のハードセグメント(a)のジカルボン酸は、分子量調整剤として使用し、この存在下に上記ポリアミド形成単位を常法により開環重合あるいは重縮合させることによって両末端カルボキシル基を有するポリアミドが得られる。   The dicarboxylic acid of the hard segment (a) of the polyamide elastomer (F) is used as a molecular weight modifier, and in the presence thereof, has the carboxyl groups at both ends by ring-opening polymerization or polycondensation of the polyamide-forming unit by a conventional method. Polyamide is obtained.

ポリアミドエラストマー(F)のハードセグメント(a)のジカルボン酸としては、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルメタン−4,4’−ジカルボン酸、3−スルホイソフタル酸ナトリウム、3−スルホイソフタル酸カリウム等の3−スルホイソフタル酸アルカリ金属塩等の芳香族ジカルボン酸が挙げられる。上記例示したものは単独で使用しても良く、あるいは二種類以上を適宜組合せて使用してもよい。これらのうち好ましいものは脂肪族ジカルボン酸、芳香族ジカルボン酸及び3−スルホイソフタル酸アルカリ金属塩であり、特に好ましいものはアジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸及び3−スルホイソフタル酸ナトリウムが挙げられる。   Examples of the dicarboxylic acid of the hard segment (a) of the polyamide elastomer (F) include aliphatic dicarboxylic acids such as succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedicarboxylic acid, and dodecanedicarboxylic acid. Acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, alicyclic dicarboxylic acid such as dicyclohexylmethane-4,4′-dicarboxylic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalene Examples include aromatic dicarboxylic acids such as dicarboxylic acid, diphenylmethane-4,4′-dicarboxylic acid, sodium 3-sulfoisophthalate, and alkali metal salts of 3-sulfoisophthalic acid such as potassium 3-sulfoisophthalate. What was illustrated above may be used independently, or may be used in combination of 2 or more types as appropriate. Of these, preferred are aliphatic dicarboxylic acids, aromatic dicarboxylic acids and alkali metal salts of 3-sulfoisophthalic acid, and particularly preferred are adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid and sodium 3-sulfoisophthalate. Can be mentioned.

ポリアミドエラストマー(F)のハードセグメント(a)の数平均分子量は、500〜5000であることが好ましく、500〜3000であることがより好ましい。数平均分子量が前記の値未満であると、ポリアミドエラストマー(F)自体の耐熱性が低下する場合があり、前記の値を超えると反応性が低下するためポリアミドエラストマー(F)製造時に多大な時間を要する場合がある。   The number average molecular weight of the hard segment (a) of the polyamide elastomer (F) is preferably 500 to 5000, and more preferably 500 to 3000. When the number average molecular weight is less than the above value, the heat resistance of the polyamide elastomer (F) itself may be lowered. When the number average molecular weight is more than the above value, the reactivity is lowered. May be required.

Qは、炭素数2〜4のアルキレン基であり、−CHCH−、−CHCHCH−、−CHCH(CH)−、−CHCHCHCH−が挙げられる。これらは1種又は2種以上を用いることができる。
特に、Qは、−CHCH−の場合に制電性が優れるために好ましい。
Rは、炭素数2〜3のアルキレン基であり、−CHCH−、−CHCHCH−、−CHCH(CH)−が挙げられる。これらは1種又は2種以上を用いることができる。
Q is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, -CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH (CH 3) -, - CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - Is mentioned. These can use 1 type (s) or 2 or more types.
In particular, Q is preferable because it has excellent antistatic properties in the case of —CH 2 CH 2 —.
R is an alkylene group having 2 to 3 carbon atoms, -CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH (CH 3) - and the like. These can use 1 type (s) or 2 or more types.

ポリアミドエラストマー(F)のソフトセグメント(b)において、一般式(1)又は一般式(2)で示されるポリアルキレンオキサイドの数平均分子量は300〜5000であり、500〜4000であることが好ましく、1000〜3000であることがより好ましく、1500〜3000であることがさらに好ましい。ポリアルキレンオキサイドの数平均分子量が、前記の値未満であると帯電防止性が不十分となり、前記の値を超えると、反応性が低下するためポリアミドエラストマー(F)製造時に多大な時間を要する。
ポリアミドエラストマー(F)のソフトセグメント(b)は、化学式(1)又は化学式(2)に示すnが1から50までの混合物を用いることができる。
In the soft segment (b) of the polyamide elastomer (F), the number average molecular weight of the polyalkylene oxide represented by the general formula (1) or the general formula (2) is 300 to 5000, preferably 500 to 4000, It is more preferably 1000 to 3000, and further preferably 1500 to 3000. When the number average molecular weight of the polyalkylene oxide is less than the above value, the antistatic property becomes insufficient. When the number average molecular weight exceeds the above value, the reactivity is lowered, so that a great amount of time is required for producing the polyamide elastomer (F).
As the soft segment (b) of the polyamide elastomer (F), a mixture of n of 1 to 50 represented by the chemical formula (1) or the chemical formula (2) can be used.

ポリアミドエラストマー(F)を構成するソフトセグメント(b)の使用量は、前記ハードセグメント(a)とソフトセグメント(b)の合計重量に基づいて、20〜80重量%であることが好ましく、25〜75重量%であることがより好ましい。ソフトセグメント(b)の量が前記の値未満であると、帯電防止性が劣る場合があり、ソフトセグメント(b)の量が前記の値を超えると、ポリアミドエラストマー(F)の耐熱性が低下する場合がある。   The amount of the soft segment (b) constituting the polyamide elastomer (F) is preferably 20 to 80% by weight based on the total weight of the hard segment (a) and the soft segment (b). More preferably, it is 75% by weight. When the amount of the soft segment (b) is less than the above value, the antistatic property may be inferior. When the amount of the soft segment (b) exceeds the above value, the heat resistance of the polyamide elastomer (F) is lowered. There is a case.

ポリアミドエラストマー(F)の製法は特に限定されるものではないが、例えば下記製法[1]又は製法[2]を例示することができる。
製法[1]:ポリアミド形成単位とジカルボン酸を反応させてハードセグメント(a)を形成せしめ、これにソフトセグメント(b)を加えて、高温、減圧下で重合反応を行う方法。
製法[2]:ハードセグメント(a)を形成するポリアミド形成単位及びジカルボン酸と、ソフトセグメント(b)を同時に反応槽に仕込み、水の存在下又は非存在下に、高温で加圧反応させることによって中間体を生成させ、その後減圧下でハードセグメント(a)とソフトセグメント(b)との重合反応を行う方法。
Although the manufacturing method of a polyamide elastomer (F) is not specifically limited, For example, the following manufacturing method [1] or manufacturing method [2] can be illustrated.
Production method [1]: A method in which a polyamide-forming unit and a dicarboxylic acid are reacted to form a hard segment (a), a soft segment (b) is added thereto, and a polymerization reaction is performed at high temperature and under reduced pressure.
Production method [2]: The polyamide-forming unit and dicarboxylic acid forming the hard segment (a) and the soft segment (b) are simultaneously charged into the reaction vessel and subjected to a pressure reaction at high temperature in the presence or absence of water. An intermediate is formed by the following, and then the polymerization reaction of the hard segment (a) and the soft segment (b) is performed under reduced pressure.

上記の重合反応には、通常、公知のエステル化触媒が使用される。該触媒としては、例えば三酸化アンチモン等のアンチモン系触媒、モノブチルスズオキシド等のスズ系触媒、テトラブチルチタネート等のチタン系触媒、テトラブチルジルコネート等のジルコニウム系触媒、酢酸ジルコニル、酢酸亜鉛等の有機酸金属塩系触媒等が挙げられる。触媒の使用量は、(a)と(b)の合計重量に対して、0.1〜5重量部であることが好ましい。   In the above polymerization reaction, a known esterification catalyst is usually used. Examples of the catalyst include antimony catalysts such as antimony trioxide, tin catalysts such as monobutyltin oxide, titanium catalysts such as tetrabutyl titanate, zirconium catalysts such as tetrabutyl zirconate, zirconyl acetate, and zinc acetate. Examples include organic acid metal salt-based catalysts. It is preferable that the usage-amount of a catalyst is 0.1-5 weight part with respect to the total weight of (a) and (b).

ポリアミドエラストマー(F)の相対粘度(0.5重量%、m−クレゾール溶液、25℃)は、1.2〜3.0であることが好ましく、1.3〜2.5であることがより好ましい。相対粘度が前記の値未満であると、耐熱性が悪くなる場合があり、前記の値をポリアミドエラストマー(F)の製造に長時間を要する場合がある。   The relative viscosity (0.5 wt%, m-cresol solution, 25 ° C.) of the polyamide elastomer (F) is preferably 1.2 to 3.0, more preferably 1.3 to 2.5. preferable. When the relative viscosity is less than the above value, the heat resistance may be deteriorated, and it may take a long time to produce the polyamide elastomer (F).

ポリアミドエラストマー組成物(E)に含まれる電解質塩化合物は、本発明のポリアミドフィルムの耐ピンホール性を低下させることなく、湿度依存性がほとんどなく、かつ優れた帯電防止性能を付与することができる。   The electrolyte salt compound contained in the polyamide elastomer composition (E) has almost no humidity dependency and can impart excellent antistatic performance without deteriorating the pinhole resistance of the polyamide film of the present invention. .

電解質塩化合物は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属のカチオンと、イオン解離可能なアニオンとによって構成される金属塩成分である。
アルカリ金属イオンとしては、ナトリウム、カリウム、リチウム、セシウム等が挙げられる。
アルカリ土類金属イオンとしては、マグネシウム、カルシウムが挙げられる。これらは1種又は2種以上を用いることができる。これらの中でも、イオン半径の小さいナトリウム、カリウム、リチウムが好ましく、ナトリウム、リチウムがより好ましい。
The electrolyte salt compound is a metal salt component composed of an alkali metal or alkaline earth metal cation and an ion-dissociable anion.
Examples of alkali metal ions include sodium, potassium, lithium, cesium and the like.
Examples of alkaline earth metal ions include magnesium and calcium. These can use 1 type (s) or 2 or more types. Among these, sodium, potassium, and lithium having a small ionic radius are preferable, and sodium and lithium are more preferable.

電解質塩化合物のイオン解離可能なアニオンとしては、過塩素酸、過臭素酸等の過ハロゲン酸アニオン、塩素酸、臭素酸等のハロゲン酸アニオン、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素等のハロゲンアニオン、オクチルスルホン酸、ステアリルスルホン酸等のアルキルスルホン酸アニオン、ドデシルベンゼンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等のアリールスルホン酸アニオン、ラウリル硫酸、エチル硫酸等のアルキル硫酸アニオン、硫酸アニオン、酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸アニオン、アルキルリン酸アニオン、リン酸アニオン、亜リン酸アニオン、硝酸アニオン、石炭酸アニオン、テトラフルオロホウ素、ヘキサフルオロヒ素、ヘキサフルオロリン等のハロゲン化物アニオン、トリクロロメタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、トリス(トリフルオロメタンスルホニル)メタン、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のハロゲン化アルキルを有する有機酸アニオン、チオシアン酸アニオン、テトラフェニルホウ素アニオン等が挙げられる。これらは1種又は2種以上を用いることができる。
これらの中でも、過塩素酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、トリス(トリフルオロメタンスルホニル)メタンアニオンが好ましく、過塩素酸アニオンがより好ましい。
Examples of the ion dissociable anion of the electrolyte salt compound include perhalogenate anions such as perchloric acid and perbromate, halogen acid anions such as chlorate and bromate, halogen anions such as chlorine, bromine, fluorine and iodine, octyl Alkyl sulfonate anions such as sulfonic acid and stearyl sulfonic acid, aryl sulfonic acid anions such as dodecylbenzene sulfonic acid and benzene sulfonic acid, alkyl sulfate anions such as lauryl sulfate and ethyl sulfate, carboxylic acids such as sulfate anion, acetic acid and propionic acid Anions, alkyl phosphate anions, phosphate anions, phosphite anions, nitrate anions, carboxylic acid anions, halide anions such as tetrafluoroboron, hexafluoroarsenic, hexafluorophosphorus, trichloromethanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid Bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, tris (trifluoromethanesulfonyl) methane, trichloroacetic acid, an organic acid anion having a halogenated alkyl, such as trifluoroacetic acid, thiocyanate anions, tetraphenylboron anions and the like. These can use 1 type (s) or 2 or more types.
Among these, perchloric acid, trifluoromethanesulfonic acid, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, and tris (trifluoromethanesulfonyl) methane anion are preferable, and a perchloric acid anion is more preferable.

電解質塩化合物の具体例としては、過塩素酸リチウムLiClO、過塩素酸ナトリウムNaClO、トリフルオロメタンスルホン酸リチウムLi(CFSO)、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウムLi・N(CFSO、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドナトリウムNa・N(CFSO、トリス(トリフルオロメタンスルホニル)メタンリチウムLi・C(CFSO、トリス(トリフルオロメタンスルホニル)メタンナトリウムNa・C(CFSO等が挙げられる。これらは1種又は2種以上を用いることができる。
これらの中でも、過塩素酸ナトリウム、過塩素酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸ナトリウム、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドナトリウム、トリス(トリフルオロメタンスルホニル)メタンナトリウムがさらに好ましく、過塩素酸ナトリウムが特に好ましい。
Specific examples of the electrolyte salt compound include lithium perchlorate LiClO 4 , sodium perchlorate NaClO 4 , lithium trifluoromethanesulfonate Li (CF 3 SO 3 ), bis (trifluoromethanesulfonyl) imide lithium Li · N (CF 3 SO 2 ) 2 , sodium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide Na · N (CF 3 SO 2 ) 2 , tris (trifluoromethanesulfonyl) methane lithium Li · C (CF 3 SO 2 ) 3 , tris (trifluoromethanesulfonyl) methane sodium Na · C (CF 3 SO 2 ) 3 and the like. These can use 1 type (s) or 2 or more types.
Among these, sodium perchlorate, lithium perchlorate, sodium trifluoromethanesulfonate, sodium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, and sodium tris (trifluoromethanesulfonyl) methane are more preferable, and sodium perchlorate is particularly preferable.

ポリアミドエラストマー組成物(E)において、
電解質塩化合物をポリアミドエラストマー(F)に添加する方法としては、組成物中に効果的に分散させるため、ポリアミドエラストマー(F)に予め分散させておくことが望ましく、特にポリアミドエラストマー(F)の製造時に予め添加し分散させることことが望ましい。
ここで、電解質塩化合物の存在下にポリアミドエラストマー(F)を製造するには、該エラストマーの重合前、重合中、あるいは重合後エラストマーの分離・回収前に、該電解質塩化合物を一括又は分割して添加すればよい。また、この電解質塩化合物の添加方法としては、そのまま添加してもよく、重合成分にあらかじめ溶解して添加してもよく、さらには別の溶媒に溶解して添加してもよい。
In the polyamide elastomer composition (E),
As a method of adding the electrolyte salt compound to the polyamide elastomer (F), in order to effectively disperse it in the composition, it is desirable to disperse it in the polyamide elastomer (F) in advance. Sometimes it is desirable to add and disperse beforehand.
Here, in order to produce the polyamide elastomer (F) in the presence of the electrolyte salt compound, the electrolyte salt compound is batched or divided before polymerization of the elastomer, during polymerization, or after separation and recovery of the elastomer after polymerization. Can be added. Moreover, as an addition method of this electrolyte salt compound, you may add as it is, may melt | dissolve in a polymerization component beforehand, may add, and may also melt | dissolve and add in another solvent.

ポリアミド組成物(A)の調製方法としては、ポリアミド樹脂(D)とポリアミドエラストマー組成物(E)とを公知の方法で混合又は混練することによって製造される。
ポリアミド組成物(A)は、本発明の特性を損なわない範囲でさらに必要に応じて各種添加剤を配合し、公知の方法で混合又は混練することによって製造される。例えば、タンブラーやミキサーを用いて、成形時にポリアミド樹脂原料に直接添加するドライブレンド法、成形時に使用する濃度で予めポリアミド樹脂原料に一軸又は二軸の押出機を用いて溶融混練する練り込み法、あるいは予め高濃度でポリアミド樹脂原料に一軸又は二軸の押出機を用いて練り込み、これを成形時に希釈して使用するマスターバッチ法等が挙げられる。
The polyamide composition (A) is prepared by mixing or kneading the polyamide resin (D) and the polyamide elastomer composition (E) by a known method.
The polyamide composition (A) is produced by further blending various additives as necessary within a range not impairing the characteristics of the present invention, and mixing or kneading by a known method. For example, using a tumbler or a mixer, a dry blend method that is directly added to the polyamide resin raw material at the time of molding, a kneading method in which the polyamide resin raw material is melt kneaded in advance using a uniaxial or biaxial extruder at a concentration used during molding, Or the masterbatch method etc. which knead | mix beforehand with a high concentration at the polyamide resin raw material using a uniaxial or biaxial extruder, dilute this at the time of shaping | molding, etc. are mentioned.

無機フィラー(B)は、フィルム成形時及び/又は延伸(一軸又は二軸)時に、ポリアミドフィルム表面に有効に微細突起を形成する物質であれば、公知のものの中から任意に選択して使用することができる。また、表面突起が表面に形成され、高湿度下における滑り性に優れたポリアミドフィルム等の成形物が得られるものであれば、無機フィラーの形状や粒子径は特に制限されずに用いることができる。無機フィラー(B)の形状は、粉末状、粒子状、フレーク状、板状、繊維状、針状、クロス状、マット状、その他如何なる形状のものも用いることができるが、特に粒子状や板状のものが好ましい。   The inorganic filler (B) is arbitrarily selected from known materials as long as it is a substance that effectively forms fine protrusions on the polyamide film surface during film formation and / or stretching (uniaxial or biaxial). be able to. In addition, the shape and particle diameter of the inorganic filler can be used without particular limitation as long as surface protrusions are formed on the surface and a molded article such as a polyamide film excellent in slipperiness under high humidity can be obtained. . As the shape of the inorganic filler (B), powders, particles, flakes, plates, fibers, needles, cloths, mats, and any other shapes can be used. Is preferred.

無機フィラー(B)は、本発明の特性が損なわれない限り、無機フィラー(B)の平均粒子径に限定は無いが、平均粒子径が0.5〜10μmであることが好ましい。
また、無機フィラー(B)は、フィルム等を成形する場合において、粒子径が10μmを超える粒子を実質的に含まないことが好ましく、粒子径が前記の値を超える粒子を多量に含有すると、フッシュアイゲルが発生し、フィルム外観を損ねる場合がある。一方、粒子径が前記の値未満の粒子を多量に含有すると、二次凝集し易くなり、逆にフッシュアイゲルを発生させる場合がある。また、凝集を防止できたとしても、フィルム表面の凹凸効果を得ることが難しく、滑り性が改良されない場合がある。よって、無機フィラー(B)の粒子径が本発明に適合しない場合、予め粉砕処理や分級を行うことが望ましい。特に高湿度下での滑り性に注目した場合、平均粒子径は、1〜5μmであることがより好ましい。
The inorganic filler (B) is not limited in the average particle diameter of the inorganic filler (B) as long as the characteristics of the present invention are not impaired, but the average particle diameter is preferably 0.5 to 10 μm.
In addition, when forming a film or the like, the inorganic filler (B) preferably does not substantially contain particles having a particle size exceeding 10 μm, and if a large amount of particles having a particle size exceeding the above value is contained, Eye gel may be generated and the film appearance may be impaired. On the other hand, when a large amount of particles having a particle size smaller than the above value is contained, secondary aggregation tends to occur, and on the contrary, a fish eye gel may be generated. Moreover, even if aggregation can be prevented, it is difficult to obtain the unevenness effect on the film surface, and the slipperiness may not be improved. Therefore, when the particle diameter of the inorganic filler (B) is not suitable for the present invention, it is desirable to perform pulverization and classification in advance. In particular, when paying attention to slipperiness under high humidity, the average particle diameter is more preferably 1 to 5 μm.

無機フィラー(B)としては、ゲルタイプシリカ、沈降タイプシリカ、球状シリカ、等のシリカ、タルク、カオリン、モンモリロナイト、ゼオライト、マイカ、ガラスフレーク、ウォラストナイト、チタン酸カリウム、硫酸マグネシウム、セピオライト、ゾノライト、ホウ酸アルミニウム、ガラスビーズ、ケイ酸カルシウム、炭酸カルシウム、酸化チタン、硫酸バリウム、酸化亜鉛、水酸化マグネシウム等が挙げられる。
こららの中でも、タルク、カオリン、シリカが易分散性の点から好ましく、シリカが得られるフィルムの透明性に優れ、滑り性も良好であり、より好ましい。
無機フィラー(B)は1種類のものを用いてもよいし、2種以上のものを併用してもよい。2種以上の無機フィラーを併用することは、透明性を確保しつつ、滑り性、特に高湿度下における滑り性を確保する上で好ましい態様であって、推奨される無機フィラーの配合方法である。例えば、シリカとカオリン、シリカとタルクを併用する場合が挙げられる。併用することにより、高湿度下における滑りを改良するために単独で配合される量よりも少なく、得られるフィルム等の成形物の透明性低下やフィッシュアイ発生といった問題が生じることなく、高湿度下における滑りを改良することが可能である。
As the inorganic filler (B), silica such as gel type silica, precipitated type silica, spherical silica, talc, kaolin, montmorillonite, zeolite, mica, glass flake, wollastonite, potassium titanate, magnesium sulfate, sepiolite, zonolite , Aluminum borate, glass beads, calcium silicate, calcium carbonate, titanium oxide, barium sulfate, zinc oxide, magnesium hydroxide and the like.
Among these, talc, kaolin, and silica are preferable from the viewpoint of easy dispersibility, and the film from which the silica is obtained is excellent in transparency and slipperiness, and more preferable.
One type of inorganic filler (B) may be used, or two or more types may be used in combination. The combined use of two or more inorganic fillers is a preferred embodiment for securing slipperiness, particularly slipperiness under high humidity, while ensuring transparency, and is a recommended method for blending inorganic fillers. . For example, the case where silica and kaolin, silica and talc are used in combination is exemplified. When used in combination, it is less than the amount blended alone to improve slippage under high humidity, without causing problems such as a decrease in transparency of the molded product such as film and the occurrence of fish eyes, and under high humidity. It is possible to improve the slip in

無機フィラー(B)として用いるシリカは、SiO・nHOで表される二酸化ケイ素を主成分とする。その製造方法により大別して、湿式法シリカと乾式法シリカの2つに分けられるが、本発明ではいずれも用いることができる。また、一次粒子は、いわゆるサブミクロン・オーダーで、これらの一次粒子が凝集して二次粒子あるいは三次粒子を形成したソフトシリカと呼ばれるものと、一次粒子の大きさが既に1μm以上あるハードシリカとがあるが、フィルムの延伸を実施する場合、ソフトシリカであることがより好ましい。 Silica used as the inorganic filler (B) contains silicon dioxide represented by SiO 2 · nH 2 O as a main component. The method is roughly classified into two types, that is, wet method silica and dry method silica, and any of them can be used in the present invention. The primary particles are of so-called submicron order, which is called soft silica in which these primary particles are aggregated to form secondary particles or tertiary particles, and hard silica whose primary particle size is already 1 μm or more. However, when the film is stretched, soft silica is more preferable.

使用するシリカの比表面積は、BET法で測定した値が、50m/g〜1000m/gであることが好ましく、75m/g〜800m/gであることがより好ましく、100m/g〜700m/gであることがさらに好ましい。
比表面積が前記の値未満であると、表面官能基の量が少なく、ポリアミド樹脂との相互作用が小さくなり、フィルム等の成形物とした際にシリカのみが脱離してしまい、いわゆる粉吹き状態となってフィルム製造装置等のロール汚れの原因となったり、印刷時のインクのにじみや包装内容物の汚染の原因となる場合がある。また、比表面積が前記の値を超えると、表面官能基の量が多くなりすぎ、ポリアミド樹脂と過度の相互作用を起こし、ゲルやフィッシュアイの原因となる場合がある。以上、シリカの使用について説明したが、他の無機フィラーの使用についても、同様の態様に従うことができる。
The specific surface area of silica used is a value measured by the BET method is preferably 50m 2 / g~1000m 2 / g, more preferably 75m 2 / g~800m 2 / g, 100m 2 / More preferably, it is g-700m < 2 > / g.
When the specific surface area is less than the above value, the amount of surface functional groups is small, the interaction with the polyamide resin is small, and only silica is detached when forming a molded product such as a film, so-called powder blowing state In some cases, this may cause roll stains in the film production apparatus, etc., or may cause ink bleeding during printing or contamination of the package contents. On the other hand, when the specific surface area exceeds the above value, the amount of surface functional groups is excessively increased, causing excessive interaction with the polyamide resin, which may cause gels and fish eyes. Although the use of silica has been described above, the same aspect can be followed for the use of other inorganic fillers.

無機フィラー(B)の添加量は、最終的に得られるポリアミドフィルム等の成形物が、後述するように、高湿度下において優れた滑り性を有し、かつ、透明性や表面光沢度等の光学的特性が得られる範囲であればよい。
無機フィラー(B)の添加量は、用いる無機フィラーの種類、形状及び平均粒子径等、或いはフィルム成形後の延伸の条件(延伸倍率、延伸方法等)によって異なるものであり、一概には言えないが、その添加量は、ポリアミド組成物(A)100重量部に対し、0.1〜1重量部であることが好ましく、0.15〜0.7重量部であることがより好ましく、0.2〜0.5重量部の範囲であることがさらに好ましい。無機フィラー(B)の添加量が前記の値未満であると、得られるフィルムの高湿度下における滑り性改良の効果が小さく、前記の値を超えると、ポリアミドフィルムの透明性、外観等が損なわれる。
The added amount of the inorganic filler (B) is such that the finally obtained molded product such as a polyamide film has excellent slipperiness under high humidity as described later, and has transparency and surface glossiness. Any range within which optical characteristics can be obtained is acceptable.
The amount of the inorganic filler (B) to be added varies depending on the type, shape, average particle diameter, and the like of the inorganic filler to be used, or stretching conditions (stretching ratio, stretching method, etc.) after film formation, and cannot be generally described. However, the addition amount is preferably 0.1 to 1 part by weight, more preferably 0.15 to 0.7 part by weight, based on 100 parts by weight of the polyamide composition (A). More preferably, it is in the range of 2 to 0.5 parts by weight. If the added amount of the inorganic filler (B) is less than the above value, the effect of improving the slipperiness of the resulting film under high humidity is small, and if it exceeds the above value, the transparency and appearance of the polyamide film are impaired. It is.

無機フィラー(B)は、ポリアミド組成物(A)と混合した際に、ポリアミド組成物(A)、ポリアミド樹脂(D)又はポリアミドエラストマー組成物(E)との分散性が良いことが必要である。分散性が悪いと、無機フィラーの凝集が起こって、得られるポリアミドフィルム等の成形物における透明性の低下やフィッシュアイの多発といった外観不良や、フィルムでは延伸時のボイド発生等、包装用フィルムとしての機能低下、さらには、溶融成形における生産性低下を招いてしまう等の恐れがあり好ましくない。   The inorganic filler (B) needs to have good dispersibility with the polyamide composition (A), the polyamide resin (D) or the polyamide elastomer composition (E) when mixed with the polyamide composition (A). . If the dispersibility is poor, the inorganic filler agglomerates, resulting in poor appearance such as reduced transparency and frequent fish eyes in the molded product such as polyamide film, etc. This is not preferable because there is a risk of lowering the function of the product and, further, reducing productivity in melt molding.

無機フィラー(B)は、ポリアミド組成物(A)、ポリアミド樹脂(D)又はポリアミドエラストマー組成物(E)との分散性を向上させるため、又はフィルム溶融成形時のダイスの汚れを抑制させるために、必要に応じて表面処理剤により表面処理した無機フィラーを用いることが好ましい。   The inorganic filler (B) is for improving the dispersibility with the polyamide composition (A), the polyamide resin (D) or the polyamide elastomer composition (E), or for suppressing the dirt on the die during film melt molding. If necessary, it is preferable to use an inorganic filler surface-treated with a surface treatment agent.

無機フィラー(B)の表面処理剤の種類や添加量は、使用される無機フィラー(B)の種類によっても異なり適宜選択して用いることができ、例えば、シリカの場合には、一般にアミノ基あるいはエポキシ基、メルカプト基、イソシアナト基、水酸基等を含有するアルコキシシラン化合物が好適に用いることができる。
無機フィラー(B)の表面処理剤具体的としては、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノジチオプロピルトリヒドロキシシラン、γ−(ポリエチレンアミノ)プロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノプロピル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(トリメトキシシリルプロピル)−エチレンジアミン、γ−ジブチルアミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ基含有アルコキシシラン化合物、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシシラン、γ−(2−ウレイドエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン等のウレイド基含有アルコキシシラン化合物、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ基含有アルコキシシラン化合物、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン等のメルカプト基含有アルコキシシラン化合物、γ−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルエチルジメトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルエチルジエトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルトリクロロシラン等のイソシアナト基含有アルコキシシラン化合物、γ−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン等の水酸基含有アルコキシシラン化合物等が挙げられる。これらは1種又は2種以上を用いることができる。これらの中でも、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ基含有アルコキシシラン化合物が好ましい。
The type and amount of the surface treatment agent for the inorganic filler (B) can be appropriately selected and used depending on the type of the inorganic filler (B) to be used. For example, in the case of silica, an amino group or An alkoxysilane compound containing an epoxy group, mercapto group, isocyanato group, hydroxyl group or the like can be preferably used.
Specific examples of the surface treatment agent for the inorganic filler (B) include γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, and N-β- (aminoethyl). -Γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminodithiopropyltrihydroxysilane, γ- (polyethyleneamino) propyltrimethoxysilane, N-β- Amino group-containing alkoxysilane compounds such as (aminopropyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (trimethoxysilylpropyl) -ethylenediamine, γ-dibutylaminopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, γ -Ureidopropyltrime Toxicisilane, ureido group-containing alkoxysilane compounds such as γ- (2-ureidoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, β- (3, 4-epoxycyclohexyl) epoxy group-containing alkoxysilane compounds such as ethyltrimethoxysilane, mercapto group-containing alkoxysilane compounds such as γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, and γ-isocyanatopropyltriethoxysilane Γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropylmethyldimethoxysilane, γ-isocyanatopropylmethyldiethoxysilane, γ-isocyanatopropylethyldimethoxysilane, γ-i Examples include isocyanato group-containing alkoxysilane compounds such as cyanatopropylethyldiethoxysilane and γ-isocyanatopropyltrichlorosilane, and hydroxyl-containing alkoxysilane compounds such as γ-hydroxypropyltrimethoxysilane and γ-hydroxypropyltriethoxysilane. . These can use 1 type (s) or 2 or more types. Among these, amino group-containing alkoxysilane compounds such as γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, and γ-aminopropyltrimethoxysilane are preferable.

無機フィラー(B)の表面処理剤の添加量は、例えば、シリカの場合、シリカ(乾燥物基準)100重量部に対して、1〜30重量部であることが好ましく、2〜10重量部であることがより好ましく、3〜8重量部であることがさらに好ましい。表面処理剤の添加量が、前記の値未満であると、シリカとポリアミド組成物(A)、ポリアミド樹脂(D)又はポリアミドエラストマー組成物(E)との親和力が十分でなくなり、との分散性が悪くなる場合がある。一方、添加量が前記の値を越えると、添シリカのポリアミド組成物(A)、ポリアミド樹脂(D)又はポリアミドエラストマー組成物(E)との分散性向上効果はほとんど高まらないばかりか、最終的に得られるポリアミドフィルムの機械的性質を損なう場合や、フィルム等の成形物から表面処理剤がブリードアウトする等の問題が生じる場合がある。   For example, in the case of silica, the addition amount of the surface treatment agent of the inorganic filler (B) is preferably 1 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of silica (dry matter basis), and 2 to 10 parts by weight. More preferably, it is 3 to 8 parts by weight. If the addition amount of the surface treatment agent is less than the above value, the affinity between the silica and the polyamide composition (A), the polyamide resin (D) or the polyamide elastomer composition (E) becomes insufficient, and the dispersibility May get worse. On the other hand, if the addition amount exceeds the above-mentioned value, the effect of improving the dispersibility of the added silica with the polyamide composition (A), the polyamide resin (D) or the polyamide elastomer composition (E) is hardly increased, but finally In some cases, the mechanical properties of the polyamide film obtained may be impaired, or the surface treating agent may bleed out from a molded product such as a film.

無機フィラー(B)の表面処理方法は、特に限定しないが、加熱撹拌下、適量の水で希釈した前記表面処理剤の所定量を加えて表面処理する方法や、それぞれ所定量の前記表面処理剤と上述のシリカとをヘンシェルミキサー等の適当な装置で混合し、次いで所定の温度で熱処理する方法等、公知に行われる方法を適用することができる。   The surface treatment method of the inorganic filler (B) is not particularly limited, but a method of adding a predetermined amount of the surface treatment agent diluted with an appropriate amount of water under heating and stirring, and a surface treatment agent of a predetermined amount, respectively. A known method such as a method of mixing silica and the above-mentioned silica with a suitable apparatus such as a Henschel mixer and then heat-treating at a predetermined temperature can be applied.

無機フィラー(B)をポリアミド組成物(A)、ポリアミド樹脂(D)又はポリアミドエラストマー組成物(E)に添加する方法としては、ポリアミド樹脂(D)又はポリアミドエラストマー組成物(E)の重合工程で添加する重合時添加法、予め高濃度でポリアミド組成物(A)、ポリアミド樹脂(D)又はポリアミドエラストマー組成物(E)を1軸又は二軸の押出機を使用して練り込み、これを成形時に希釈して使用するいわゆるマスターバッチ法、成形に使用する添加剤濃度で予めポリアミド組成物(A)、ポリアミド樹脂(D)又はポリアミドエラストマー組成物(E)を練り込み使用する練り混み法、成形時にポリアミド組成物(A)、ポリアミド樹脂(D)又はポリアミドエラストマー組成物(E)に所定量添加するドライブレンド法等が可能であり、他の添加方法を採用しても構わない。   As a method of adding the inorganic filler (B) to the polyamide composition (A), the polyamide resin (D) or the polyamide elastomer composition (E), the polymerization step of the polyamide resin (D) or the polyamide elastomer composition (E) is used. Addition method during polymerization, polyamide composition (A), polyamide resin (D) or polyamide elastomer composition (E) is kneaded in advance at a high concentration using a single or twin screw extruder and molded The so-called masterbatch method, which is sometimes diluted and used, the kneading and mixing method in which the polyamide composition (A), the polyamide resin (D) or the polyamide elastomer composition (E) is kneaded in advance at the additive concentration used for molding, molding A drive that is sometimes added to a polyamide composition (A), a polyamide resin (D), or a polyamide elastomer composition (E). Command method are possible, it may be adopted another addition method.

ポリアミド組成物(A)、ポリアミド樹脂(D)又はポリアミドエラストマー組成物(E)と無機フィラー(B)との混合は、ペレット状態、粉末状態のポリアミド組成物(A)、ポリアミド樹脂(D)又はポリアミドエラストマー組成物(E)と無機フィラーとをヘンシェルミキサー等の高速回転混合機やコーンブレンダー、タンブラー等の低速回転混合機等を用いて室温でブレンドする方法、あるいは、該ブレンド物をさらにバンバリーミキサー、スーパーミキサー、ミキシングロール、二軸連続ミキサー、ブラベンダープラストグラフ、ニーダー、単軸押出機、二軸押出機等の装置を使用し、該ブレンド物の溶融が十分に進行しかつ分解しない温度で溶融混練する方法等、それ自体公知の方法によって行われる。   Mixing of the polyamide composition (A), the polyamide resin (D) or the polyamide elastomer composition (E) and the inorganic filler (B) is performed in the form of pellets, powdered polyamide composition (A), polyamide resin (D) or A method of blending the polyamide elastomer composition (E) and the inorganic filler at room temperature using a high-speed rotary mixer such as a Henschel mixer or a low-speed rotary mixer such as a cone blender or a tumbler, or the blended material further with a Banbury mixer , Super mixer, mixing roll, twin-screw continuous mixer, Brabender plastograph, kneader, single-screw extruder, twin-screw extruder, etc., at a temperature at which melting of the blend proceeds sufficiently and does not decompose It is carried out by a method known per se, such as a melt kneading method.

ビスアミド化合物(C)は、下記の一般式(3)及び/又は一般式(4)で表される化合物であり、式中、Rは2価の炭化水素残基、R及びRは一価の炭化水素残基、R及びRは水素原子又は一価の炭化水素残基を示す。 The bisamide compound (C) is a compound represented by the following general formula (3) and / or general formula (4), wherein R 1 is a divalent hydrocarbon residue, R 2 and R 3 are A monovalent hydrocarbon residue, R 4 and R 5 represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon residue.

Figure 2006037070
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Figure 2006037070
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一般式(3)で表されるビスアミド化合物(C)は、ジアミンとモノカルボン酸との反応によって得られ、代表的には、アルキレンビス脂肪酸アミド、アリーレンビス脂肪酸アミド等が挙げられる。原料のジアミンとしては、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、ウンデカメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミン等のアルキレンジアミン、フェニレンジアミン、ナフタレンジアミン等のアリーレンジアミン、キシリレンジアミン等のアリーレンアルキルジアミン等が挙げられる。これらは1種又は2種以上を用いることができる。原料のモノカルボン酸としては、ステアリン酸、ヘキサン酸、オクタン酸、デカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、アルキジン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、モンタン酸等が挙げられる。これらは1種又は2種以上を用いることができる。一般式(3)で表されるビスアミド化合物(C)としては、N,N’−メチレンビスステアリン酸アミド、N,N’−エチレンビスステアリン酸アミド、N,N’−エチレンビスベヘン酸アミドが好ましい。   The bisamide compound (C) represented by the general formula (3) is obtained by a reaction between a diamine and a monocarboxylic acid, and representative examples thereof include alkylene bis fatty acid amide and arylene bis fatty acid amide. The raw material diamines include ethylene diamine, propylene diamine, tetramethylene diamine, hexamethylene diamine, heptamethylene diamine, octamethylene diamine, nonamethylene diamine, decamethylene diamine, undecamethylene diamine, dodecamethylene diamine and other alkylene diamines, phenylene diamine And arylene diamines such as naphthalene diamine and arylene alkyl diamines such as xylylene diamine. These can use 1 type (s) or 2 or more types. Examples of the raw material monocarboxylic acid include stearic acid, hexanoic acid, octanoic acid, decanoic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, alkydic acid, behenic acid, oleic acid, elaidic acid, and montanic acid. These can use 1 type (s) or 2 or more types. Examples of the bisamide compound (C) represented by the general formula (3) include N, N′-methylenebisstearic acid amide, N, N′-ethylene bisstearic acid amide, and N, N′-ethylene bisbehenic acid amide. preferable.

一般式(4)で表されるビスアミド化合物(C)は、モノアミンとジカルボン酸との反応によって得られ、代表的には、ジオクタデシル二塩基酸アミド等が挙げられる。原料のモノアミンとしては、エチレンアミン、メチルアミン、ブチルアミン、ヘキシルアミン、デシルアミン、ペンタデシルアミン、オクタデシルアミン、ドデシルアミン等のアルキルアミン、アニリン、ナフチルアミン等のアリールアミン、ベンジルアミン等のアラルキルアミン、シクロヘキシルアミン等のシクロアルキルアミン等が挙げられる。これらは1種又は2種以上を用いることができる。原料のジカルボン酸としては、テレフタル酸、p−フェニレンジプロピオン酸、コハク酸、アジピン酸等等が挙げられる。これらは1種又は2種以上を用いることができる。
一般式(4)で表されるビスアミド化合物(C)としては、N,N’−ジオクタデシルアジピン酸アミドが好ましい。
ビスアミド化合物(C)は、1種又は2種以上を用いることができる。。
The bisamide compound (C) represented by the general formula (4) is obtained by a reaction between a monoamine and a dicarboxylic acid, and representative examples include dioctadecyl dibasic acid amide. The raw material monoamines include ethyleneamine, methylamine, butylamine, hexylamine, decylamine, pentadecylamine, octadecylamine, alkylamines such as dodecylamine, arylamines such as aniline and naphthylamine, aralkylamines such as benzylamine, and cyclohexylamine. And the like, and the like. These can use 1 type (s) or 2 or more types. Examples of the raw material dicarboxylic acid include terephthalic acid, p-phenylenedipropionic acid, succinic acid, adipic acid and the like. These can use 1 type (s) or 2 or more types.
As the bisamide compound (C) represented by the general formula (4), N, N′-dioctadecyladipic acid amide is preferable.
The bisamide compound (C) can use 1 type (s) or 2 or more types. .

ビスアミド化合物(C)の配合方法としては、ポリアミド組成物(A)、ポリアミド樹脂(D)又はポリアミドエラストマー組成物(E)に必要に応じて配合し、公知の方法で混合又は混練することにより製造される。例えば、タンブラーやミキサーを用いて、ポリアミド組成物(A)、ポリアミド樹脂(D)又はポリアミドエラストマー組成物(E)に直接添加するドライブレンド法、ポリアミド組成物(A)、ポリアミド樹脂(D)又はポリアミドエラストマー組成物(E)に添加し押出機又は混練機を用いて溶融混練する練り込み法、あるいは予め高濃度でポリアミド組成物(A)、ポリアミド樹脂(D)又はポリアミドエラストマー組成物(E)に添加し、これを成形時に希釈して使用するマスターバッチ法等が挙げられる。   As a blending method of the bisamide compound (C), it is prepared by blending in a polyamide composition (A), a polyamide resin (D) or a polyamide elastomer composition (E) as necessary, and mixing or kneading by a known method. Is done. For example, using a tumbler or a mixer, a dry blend method in which a polyamide composition (A), a polyamide resin (D) or a polyamide elastomer composition (E) is directly added, a polyamide composition (A), a polyamide resin (D) or A kneading method in which the polyamide elastomer composition (E) is added and melt-kneaded using an extruder or kneader, or the polyamide composition (A), polyamide resin (D) or polyamide elastomer composition (E) at a high concentration in advance. And a masterbatch method in which the product is diluted during molding and used.

本発明のポリアミド樹脂組成物、ポリアミド組成物(A)、ポリアミド樹脂(D)又はポリアミドエラストマー組成物(E)には、得られるフィルム等の成形物の特性を損なわない範囲内で、本発明で使用する無機フィラー(B)及びビスアミド化合物(C)を除く熱安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐候剤、滑剤、フィラー、核剤、可塑剤、発泡剤、ブロッキング防止剤、防雲剤、難燃剤、染料、顔料、安定剤、カップリング剤等を含有することができる。   The polyamide resin composition, polyamide composition (A), polyamide resin (D) or polyamide elastomer composition (E) of the present invention is used in the present invention within a range that does not impair the properties of the molded product such as a film obtained. Heat stabilizer except antioxidant (B) and bisamide compound (C) to be used, antioxidant, UV absorber, weathering agent, lubricant, filler, nucleating agent, plasticizer, foaming agent, antiblocking agent, anticlouding agent , Flame retardants, dyes, pigments, stabilizers, coupling agents and the like.

本発明のポリアミドフィルム等の成形物は、帯電防止効果をさらに向上させる目的で、非イオン性、カチオン性もしくは両性の界面活性剤を含有させることができる。
非イオン性界面活性剤としては、高級アルコールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物等のポリエチレングリコール型非イオン界面活性剤、ポリエチレンオキサイド、グリセリンの脂肪酸エステル、ペンタエリスリットの脂肪酸エステル、ソルビット及びソルビタンの脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪族アミド等の多価アルコール型非イオン界面活性剤等が挙げられる。
カチオン性界面活性剤としては、アルキルトリメチルアンモニウム塩等の第4級アンモニウム塩類等が挙げられる。
両性界面活性剤としては、高級アルキルアミノプロピオン酸塩等のアミノカルボン酸型両性界面活性剤、高級アルキルジメチルベタイン、高級アルキルジヒドロキシエチルベタイン等のベタイン型両性界面活性剤等が挙げられる。これらは1種又は2種以上を用いることができる。
The molded product such as the polyamide film of the present invention may contain a nonionic, cationic or amphoteric surfactant for the purpose of further improving the antistatic effect.
Nonionic surfactants include higher alcohol ethylene oxide adducts, fatty acid ethylene oxide adducts, higher alkylamine ethylene oxide adducts, polyethylene glycol type nonionic surfactants such as polypropylene glycol ethylene oxide adducts, polyethylene oxide, Examples include fatty acid esters of glycerin, fatty acid esters of pentaerythritol, fatty acid esters of sorbit and sorbitan, alkyl ethers of polyhydric alcohols, and polyhydric alcohol type nonionic surfactants such as aliphatic amides of alkanolamines.
Examples of the cationic surfactant include quaternary ammonium salts such as alkyltrimethylammonium salts.
Examples of the amphoteric surfactant include aminocarboxylic acid type amphoteric surfactants such as higher alkylaminopropionate, and betaine type amphoteric surfactants such as higher alkyldimethylbetaine and higher alkyldihydroxyethylbetaine. These can use 1 type (s) or 2 or more types.

本発明のポリアミド樹脂組成物は、フィルム等の成形物の透明性を損なわない範囲内で、オレフィン系共重合体、及びその変性物やエラストマーを含有させることができる。
特に本発明のポリアミド樹脂組成物よりポリアミドフィルムを得る場合には、耐ピンホール性をさらに向上させる目的で、フィルムの透明性を損なわない範囲内で、オレフィン系共重合体、及びその変性物やエラストマーを含有させることができる。
オレフィン系共重合体としては、エチレン/炭素数3〜10のα−オレフィン共重合体、エチレン/α,β−不飽和カルボン酸エステル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体の部分鹸化物、エチレン/α,β−不飽和カルボン酸共重合体、アイオノマー重合体等が挙げられる。これらは1種又は2種以上を用いることができる。
エラストマーとしては、本発明に規定された以外のポリエーテルエステルアミドエラストマー、ポリエステルアミドエラストマー、ポリエーテルアミドエラストマー等のポリアミド系エラストマー、両末端にポリスチレン相、ゴム中間相として水素添加型ポリオレフィンをもちポリスチレン相が架橋点を担っているブロック共重合体であるスチレン系エラストマー等が挙げられる。これらは1種又は2種以上を用いることができる。
The polyamide resin composition of the present invention can contain an olefin copolymer, a modified product thereof, and an elastomer within a range that does not impair the transparency of a molded product such as a film.
In particular, in the case of obtaining a polyamide film from the polyamide resin composition of the present invention, for the purpose of further improving pinhole resistance, an olefin copolymer, a modified product thereof, Elastomers can be included.
Examples of the olefin copolymer include ethylene / α-olefin copolymer having 3 to 10 carbon atoms, ethylene / α, β-unsaturated carboxylic acid ester copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer, ethylene / vinyl acetate. Examples thereof include a partially saponified product of a copolymer, an ethylene / α, β-unsaturated carboxylic acid copolymer, and an ionomer polymer. These can use 1 type (s) or 2 or more types.
Elastomers include those other than those specified in the present invention, such as polyether ester amide elastomers, polyester amide elastomers, polyether amide elastomers, and other polyamide-based elastomers. Polystyrene phases at both ends, hydrogenated polyolefins as rubber intermediate phases, and polystyrene phases. Styrenic elastomer which is a block copolymer carrying a cross-linking point. These can use 1 type (s) or 2 or more types.

本発明のポリアミド樹脂組成物は、溶融成形性に優れ、成形加工性に優れるために、フィルム等の成形物を製造することができる。
本発明のポリアミド樹脂組成物は、射出成形、押出成形、ブロー成形等の成形方法により、フィルム状、フィラメント状、板状、シート状、棒状等の種々の形状の成形物を得ることができる。
本発明のポリアミド樹脂組成物は、湿度依存性が小さく、長期に亘り持続する帯電防止性が付与され、高湿度下における滑り性に優れ、かつ透明性に優れる。特に本発明のポリアミド樹脂組成物は、耐ピンホール性に優れるためにフィルム及びシートに成形して用いることが好ましい。
本発明のポリアミド樹脂組成物は、成形物の外面の一部又は全部に被覆すること又は外面の一部又は全部に配置することが、帯電防止性が付与され、高湿度下における滑り性に優れる成形物を得ることができるために好ましい。
本発明のポリアミド樹脂組成物より得られる成形物は、食品用部材、電気部品、電子部品、電気機器、電子機器等、及びこれらの移送や保管等の収納用材料や包装用材料に用いることができる。
Since the polyamide resin composition of the present invention is excellent in melt moldability and excellent moldability, it is possible to produce molded articles such as films.
The polyamide resin composition of the present invention can obtain molded products having various shapes such as a film shape, a filament shape, a plate shape, a sheet shape, and a rod shape by a molding method such as injection molding, extrusion molding, and blow molding.
The polyamide resin composition of the present invention has low humidity dependency, imparts antistatic properties that last for a long time, is excellent in slipperiness under high humidity, and is excellent in transparency. In particular, the polyamide resin composition of the present invention is preferably used after being formed into a film and a sheet because of excellent pinhole resistance.
The polyamide resin composition of the present invention is coated with a part or all of the outer surface of the molded product or disposed on a part or all of the outer surface, is imparted with antistatic properties and is excellent in slipperiness under high humidity. It is preferable because a molded product can be obtained.
The molded product obtained from the polyamide resin composition of the present invention can be used for food materials, electrical parts, electronic parts, electrical equipment, electronic equipment, etc., and storage materials and packaging materials for transporting and storing them. it can.

本発明のポリアミド樹脂組成物は、公知のフィルム製造方法を適用して、製膜することができる。例えば、本発明のポリアミド樹脂組成物を押出機で溶融混練し、T−ダイ或いはコートハンガーダイによりフラットフィルム状に押出し、キャスティングロール面上にキャスティング、冷却してフィルムを製造するキャスティング法、リング状ダイにより筒状に溶融押出したチューブ状物を空冷あるいは水冷してフィルムを製造するチューブラー法等を挙げることが出来、未延伸のフィルムを得ることができる。
さらに未延伸のフィルムは一軸又は二軸で、同時又は逐次で延伸することにより、延伸ポリアミドフィルムを得ることができる。例えば、キャスティング法によって製造するフィルムは、未延伸シートをテンター式同時二軸延伸機で縦横同時に延伸するテンター式同時二軸延伸法、Tダイより溶融押出しした未延伸シートをロール式延伸機で縦方向に延伸した後、テンター式延伸機で横方向に延伸する逐次二軸延伸法が挙げられる。環状ダイより成形したチューブ状シートを気体の圧力でインフレーション式に縦横同時に延伸するチューブラー延伸法が挙げられる。延伸工程はポリアミドフィルムの製造に引続き、連続して実施しても良いし、ポリアミドフィルムを一旦巻き取り、別工程として延伸を実施しても良い。
The polyamide resin composition of the present invention can be formed by applying a known film production method. For example, a casting method in which the polyamide resin composition of the present invention is melt kneaded with an extruder, extruded into a flat film shape with a T-die or a coat hanger die, cast on a casting roll surface, and cooled to produce a film, ring-shaped A tubular method for producing a film by air-cooling or water-cooling a tubular material melt-extruded into a cylinder by a die can be used, and an unstretched film can be obtained.
Furthermore, an unstretched film is uniaxial or biaxial, and a stretched polyamide film can be obtained by stretching simultaneously or sequentially. For example, a film produced by the casting method is a tenter simultaneous biaxial stretching method in which an unstretched sheet is stretched simultaneously in the longitudinal and transverse directions with a tenter-type simultaneous biaxial stretching machine, and an unstretched sheet melt-extruded from a T-die is stretched in a roll-type stretching machine. An example is a sequential biaxial stretching method in which the film is stretched in the direction and then stretched in the transverse direction with a tenter type stretching machine. There is a tubular stretching method in which a tubular sheet formed from an annular die is stretched simultaneously in the longitudinal and lateral directions by gas pressure. The stretching step may be carried out continuously following the production of the polyamide film, or the polyamide film may be wound once and then stretched as a separate step.

本発明のポリアミド樹脂組成物より製造されるポリアミドフィルムは、延伸して使用することことができる。フィルムの延伸倍率、延伸温度等の延伸条件は使用用途によって異なるが、通常、一軸延伸の場合、延伸倍率は、1.5〜5.0倍であることが好ましく、1.8〜3.5倍であることがより好ましい。また、テンター式二軸延伸法、チューブラー法の場合、延伸倍率は、縦方向1.5〜4.0倍、横方向1.5〜4.0倍であることが好ましく、縦方向、横方向とも2.5〜4.0倍であることがより好ましい。延伸温度は、30〜210℃であることが好ましく、50〜200℃であることがより好ましい。   The polyamide film produced from the polyamide resin composition of the present invention can be used after being stretched. Stretching conditions such as the stretching ratio and stretching temperature of the film vary depending on the intended use. Usually, in the case of uniaxial stretching, the stretching ratio is preferably 1.5 to 5.0 times, and preferably 1.8 to 3.5. More preferably, it is double. In the case of the tenter-type biaxial stretching method and the tubular method, the stretching ratio is preferably 1.5 to 4.0 times in the longitudinal direction and 1.5 to 4.0 times in the transverse direction. It is more preferable that the direction is 2.5 to 4.0 times. The stretching temperature is preferably 30 to 210 ° C, and more preferably 50 to 200 ° C.

上記方法により延伸されたフィルムは、引続き熱処理をすることにより常温における寸法安定性を付与することができる。この場合の熱処理温度は、110℃を下限としてポリアミド樹脂(D)の融点より5℃低い温度を上限とする範囲を選択するのがよく、これにより常温寸法安定性のよい、任意の熱収縮率をもった延伸フィルムを得ることができる。本発明のポリアミドフィルムは、熱収縮性が乏しいか、あるいは実質的に有していないものが望ましい。よって、延伸後に行なわれる熱処理条件において、熱固定温度は150℃以上であることが好ましく、180〜220℃であることがより好ましく、緩和率は、幅方向に20%以内であることが好ましく、3〜10%であることがより好ましい。
熱処理操作により、充分に熱固定された延伸フィルムは、常法に従い、冷却して巻き取る。
The film stretched by the above method can be given dimensional stability at room temperature by subsequent heat treatment. The heat treatment temperature in this case is preferably selected in a range with 110 ° C. as the lower limit and 5 ° C. lower than the melting point of the polyamide resin (D) as the upper limit. A stretched film having the above can be obtained. The polyamide film of the present invention preferably has poor heat shrinkage or substantially does not have it. Therefore, in the heat treatment conditions performed after stretching, the heat setting temperature is preferably 150 ° C. or higher, more preferably 180 to 220 ° C., and the relaxation rate is preferably within 20% in the width direction. More preferably, it is 3 to 10%.
The stretched film that has been sufficiently heat-set by the heat treatment operation is cooled and wound up according to a conventional method.

さらにポリアミドフィルム及びこの延伸フィルムは、印刷性、ラミネート、粘着剤付与性を高めるため、コロナ放電処理、プラズマ処理、火炎処理、酸処理等の表面処理を行うことができる。また、必要に応じて、このような処理がなされた後、印刷、ラミネート、粘着剤塗布、ヒートシール等の二次加工工程を経てそれぞれの目的とする用途に使用することができる。   Further, the polyamide film and the stretched film can be subjected to surface treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, flame treatment, acid treatment, etc. in order to enhance printability, lamination, and adhesive application. Moreover, after performing such a process as needed, it can be used for each intended use through secondary processing steps such as printing, laminating, adhesive application, and heat sealing.

本発明のポリアミド樹脂組成物より製造されるポリアミドフィルム及びこの延伸フィルムは、帯電防止性、高湿度下における滑り性、透明性、耐ピンホール性に優れ、単独での利用することができるが、さらに他の熱可塑性樹脂フィルムと積層することにより、さらに多くのフィルム特性を付加させることが可能である。具体的にはポリアミドフィルム及びこの延伸フィルムの少なくとも片面に熱可塑性樹脂層を積層して積層フィルムとして用いることもでき、本発明のポリアミドフィルム及びこの延伸フィルムを最外層に配置した積層フィルムは、帯電防止性、滑り性の観点から好ましい。   The polyamide film produced from the polyamide resin composition of the present invention and this stretched film are excellent in antistatic properties, slipperiness under high humidity, transparency, and pinhole resistance, and can be used alone. Furthermore, it is possible to add more film characteristics by laminating with other thermoplastic resin films. Specifically, a polyamide film and a stretched film can be used as a laminated film by laminating a thermoplastic resin layer on at least one side of the stretched film. It is preferable from the viewpoint of prevention and slipperiness.

本発明のポリアミド樹脂組成物より製造されるポリアミドフィルム及びこの延伸フィルムを1層含む積層フィルムは、本発明のポリアミドフィルム及びこの延伸フィルムの片面又は両面に他の基材を積層することにより製造することができる。積層フィルムの積層方法は、例えば本発明のポリアミドフィルム及びこの延伸フィルムに熱可塑性樹脂を溶融押出する方法、熱可塑性樹脂等のフィルム又はシートに本発明のポリアミドフィルムの樹脂組成物を溶融押出する方法、本発明のポリアミドフィルムの樹脂組成物と他の熱可塑性樹脂とを共押出する方法、本発明のポリアミドフィルム及びこの延伸フィルムと他の熱可塑性樹脂等のフィルムとを有機チタン化合物、イソシアネート化合物、ポリエステル系化合物、ポリウレタン化合物等の公知の接着剤を用いてドライラミネートする方法等が挙げられる。   The polyamide film produced from the polyamide resin composition of the present invention and the laminated film containing one layer of this stretched film are produced by laminating another substrate on one or both sides of the polyamide film of the present invention and this stretched film. be able to. The laminated film is laminated by, for example, the polyamide film of the present invention and a method of melt-extruding a thermoplastic resin to the stretched film, or a method of melt-extruding the resin composition of the polyamide film of the present invention to a film or sheet of thermoplastic resin or the like. , A method of co-extrusion of a resin composition of a polyamide film of the present invention and another thermoplastic resin, a polyamide film of the present invention and a stretched film and a film of another thermoplastic resin, etc., an organic titanium compound, an isocyanate compound, Examples of the method include dry lamination using a known adhesive such as a polyester compound and a polyurethane compound.

本発明のポリアミド樹脂組成物より製造されるポリアミドフィルム及びこの延伸フィルムと積層される熱可塑性樹脂としては高密度ポリエチレン(HDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)、プロピレン単独重合体、プロピレン/プロピレンを除く炭素数2〜10のα−オレフィン共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン/酢酸ビニル共重合体鹸化物(EVOH)、エチレン/アクリル酸共重合体(EAA)、エチレン/メタクリル酸共重合体(EMAA)、エチレン/アクリル酸メチル共重合体(EMA)、エチレン/メタクリル酸メチル共重合体(EMMA)、エチレン/アクリル酸エチル共重合体(EEA)等のポリオレフィン系樹脂及び、これらのアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、メサコン酸、シトラコン酸、グルタコン酸、シス−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エンドビシクロ−[2,2,1]−5−ヘプテン−2,3−ジカルボン酸等のカルボキシル基及びその金属塩(Na、Zn、K、Ca、Mg)、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、エンドビシクロ−[2,2,1]−5−ヘプテン−2,3−ジカルボン酸無水物等の酸無水物基、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、エタクリル酸グリシジル、イタコン酸グリシジル、シトラコン酸グリシジル等のエポキシ基等の官能基が含有された、上記ポリオレフィン系樹脂、 ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンイソフタレート(PEI)、PET/PEI共重合体、ポリアリレート(PAR)、ポリブチレンナフタレート(PBN)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、液晶ポリエステル(LCP)等のポリエステル系樹脂、ポリアセタール(POM)、ポリフェニレンオキシド(PPO)等のポリエーテル系樹脂、ポリサルホン(PSF)、ポリエーテルスルホン(PES)等のポリサルホン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド(PPS)、ポリチオエーテルサルホン(PTES)等のポリチオエーテル系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリアリルエーテルケトン(PAEK)等のポリケトン系樹脂、、ポリアクリロニトリル(PAN)、ポリメタクリロニトリル、アクリロニトリル/スチレン共重合体(AS)、メタクリロニトリル/スチレン共重合体、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体(ABS)、メタクリロニトリル/スチレン/ブタジエン共重合体(MBS)等のポリニトリル系樹脂、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)、ポリメタクリル酸エチル(PEMA)等のポリメタクリレート系樹脂、ポリ酢酸ビニル(PVAc)等のポリビニルエステル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン(PVDC)、ポリ塩化ビニル(PVC)、塩化ビニル/塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニリデン/メチルアクリレート共重合体等のポリ塩化ビニル系樹脂、酢酸セルロース、酪酸セルロース等のセルロース系樹脂、ポリビニリデンフルオライド(PVDF)、ポリフッ化ビニル(PVF)、エチレン/テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE)、エチレン/クロロトリフルオロエチレン共重合体(ECTFE)、テトラフルオロエチレン/ヘキサフルオロプロピレン共重合体(TFE/HFP,FEP)、テトラフルオロエチレン/ヘキサフルオロプロピレン/ビニリデンフルオライド共重合体(TFE/HFP/VDF,THV)、テトラフルオロエチレン/フルオロ(アルキルビニルエーテル)共重合体(PFA)等のフッ素系樹脂、ポリカーボネート(PC)等のポリカーボネート系樹脂、熱可塑性ポリイミド(PI)、ポリアミドイミド(PAI)、ポリエーテルイミド等のポリイミド系樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、ポリエステルエラストマー、ポリウレタンエラストマー等が挙げられる。また、本発明において規定されたポリアミド樹脂(D)を積層することも可能であり、フィルム強度、ガスバリア性の観点から、ポリメタキシリレンアジパミド(ポリアミドMXD6)やエチレン/酢酸ビニル共重合体鹸化物(EVOH)を積層することが好ましい。   As the polyamide film produced from the polyamide resin composition of the present invention and the thermoplastic resin laminated with the stretched film, high density polyethylene (HDPE), low density polyethylene (LDPE), linear low density polyethylene (LLDPE), Propylene homopolymer, α-olefin copolymer having 2 to 10 carbon atoms excluding propylene / propylene, ethylene / vinyl acetate copolymer (EVA), saponified ethylene / vinyl acetate copolymer (EVOH), ethylene / acrylic Acid copolymer (EAA), ethylene / methacrylic acid copolymer (EMAA), ethylene / methyl acrylate copolymer (EMA), ethylene / methyl methacrylate copolymer (EMMA), ethylene / ethyl acrylate copolymer Polyolefin resins such as coalesced (EEA) and acrylic acids thereof Methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, crotonic acid, mesaconic acid, citraconic acid, glutaconic acid, cis-4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, endobicyclo- [2,2,1] -5 Carboxyl groups such as heptene-2,3-dicarboxylic acid and metal salts thereof (Na, Zn, K, Ca, Mg), maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride, endobicyclo- [2,2,1] Contains functional groups such as epoxy groups such as acid anhydride groups such as -5-heptene-2,3-dicarboxylic acid anhydride, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl ethacrylate, glycidyl itaconate, glycidyl citraconic acid, etc. In addition, the above-mentioned polyolefin resin, polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene terephthalate (PE ), Polyethylene isophthalate (PEI), PET / PEI copolymer, polyarylate (PAR), polybutylene naphthalate (PBN), polyethylene naphthalate (PEN), liquid crystalline polyester (LCP) and other polyester resins, polyacetal ( POM), polyether resins such as polyphenylene oxide (PPO), polysulfone resins such as polysulfone (PSF) and polyethersulfone (PES), polythioether resins such as polyphenylene sulfide (PPS) and polythioether sulfone (PTES) Resins, polyketone resins such as polyetheretherketone (PEEK), polyallyletherketone (PAEK), polyacrylonitrile (PAN), polymethacrylonitrile, acrylonitrile / styrene copolymer AS), methacrylonitrile / styrene copolymer, acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer (ABS), polynitrile resins such as methacrylonitrile / styrene / butadiene copolymer (MBS), polymethyl methacrylate (PMMA) , Polymethacrylate resins such as polyethyl methacrylate (PEMA), polyvinyl ester resins such as polyvinyl acetate (PVAc), polyvinylidene chloride (PVDC), polyvinyl chloride (PVC), vinyl chloride / vinylidene chloride copolymer , Polyvinyl chloride resins such as vinylidene chloride / methyl acrylate copolymer, cellulose resins such as cellulose acetate and cellulose butyrate, polyvinylidene fluoride (PVDF), polyvinyl fluoride (PVF), ethylene / tetrafluoroethylene copolymer Coalescence ( ETFE), polychlorotrifluoroethylene (PCTFE), ethylene / chlorotrifluoroethylene copolymer (ECTFE), tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer (TFE / HFP, FEP), tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene / Vinylidene fluoride copolymer (TFE / HFP / VDF, THV), tetrafluoroethylene / fluoro (alkyl vinyl ether) copolymer (PFA) and other fluororesins, polycarbonate (PC) and other polycarbonate resins, thermoplastic Examples include polyimide resins such as polyimide (PI), polyamideimide (PAI), and polyetherimide, thermoplastic polyurethane resins, polyester elastomers, and polyurethane elastomers. It is also possible to laminate the polyamide resin (D) defined in the present invention. From the viewpoint of film strength and gas barrier properties, polymetaxylylene adipamide (polyamide MXD6) or ethylene / vinyl acetate copolymer saponification It is preferable to laminate a product (EVOH).

本発明のポリアミド樹脂組成物より製造されるポリアミドフィルム、この延伸フィルム又はこのフィルムの層を含む積層フィルムは、さらに熱可塑性樹脂の層以外に、紙、金属、金属箔、織布、不織布、金属綿状、木材等を積層することができる。   The polyamide film produced from the polyamide resin composition of the present invention, this stretched film, or a laminated film including a layer of this film, in addition to the thermoplastic resin layer, paper, metal, metal foil, woven fabric, non-woven fabric, metal Cotton, wood, etc. can be laminated.

本発明のポリアミド樹脂組成物より製造されるポリアミドフィルム及びこの延伸フィルムの厚みは、用途により適宜選択すればよく特に制限されないが、ポリアミドフィルムの厚さは、厚ければポリアミドフィルムの強度は向上するが、透明性や耐ピンホール性は低下するので、これらを勘案すれば、ポリアミドフィルムの厚みは、5〜100μmであることが好ましく、10〜80μmであることがより好ましく、10〜60μmであることがさらに好ましい。また、積層フィルムの場合、ポリアミドフィルム層の厚みとして、2〜100μmであることが好ましく、5〜80μmであることがより好ましく、5〜60μmであることがさらに好ましい。   The thickness of the polyamide film produced from the polyamide resin composition of the present invention and the stretched film is not particularly limited as long as it is appropriately selected depending on the application. However, if the thickness of the polyamide film is large, the strength of the polyamide film is improved. However, since transparency and pinhole resistance are lowered, the thickness of the polyamide film is preferably 5 to 100 μm, more preferably 10 to 80 μm, and more preferably 10 to 60 μm in consideration of these. More preferably. In the case of a laminated film, the thickness of the polyamide film layer is preferably 2 to 100 μm, more preferably 5 to 80 μm, and further preferably 5 to 60 μm.

本発明のポリアミド樹脂組成物より製造されるポリアミドフィルム、この延伸フィルム及びこれらの積層フィルムは、食品包装用、電子・電気部品、電気・電子機器等の包装用、収納用等に用いることができる。   The polyamide film produced from the polyamide resin composition of the present invention, the stretched film, and the laminated film thereof can be used for food packaging, packaging of electronic / electrical parts, electrical / electronic equipment, etc., storage, etc. .

以下において実施例及び比較例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明の要旨を越えない限り以下の例に限定されるものではない。実施例において使用したポリアミド樹脂、ポリエーテルエステルアミドエラストマー、無機フィラー、ビスアミド化合物及び評価フィルム作成方法、各種の評価方法を示す。   In the following, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to the following examples without departing from the gist of the present invention. The polyamide resin, polyether ester amide elastomer, inorganic filler, bisamide compound, evaluation film preparation method, and various evaluation methods used in the examples are shown.

[使用したポリアミド樹脂]
(D)ポリアミド樹脂
(D−1)ポリアミド6(宇部興産(株)製 UBE NYLON 1022B、相対粘度3.35)
(D−2)ポリアミド6/66(宇部興産(株)製 UBE NYLON 5034B、相対粘度4.05)
(D−3)ポリアミド12(宇部興産(株)製 UBESTA 3030XA、相対粘度2.24)
[Polyamide resin used]
(D) Polyamide resin (D-1) Polyamide 6 (UBE NYLON 1022B, relative viscosity 3.35 manufactured by Ube Industries, Ltd.)
(D-2) Polyamide 6/66 (UBE NYLON 5034B, relative viscosity 4.05 manufactured by Ube Industries, Ltd.)
(D-3) Polyamide 12 (UBESTA 3030XA, Ube Industries, Ltd., relative viscosity 2.24)

[使用したポリアミドエラストマー組成物]
(E−1)ポリエーテルエステルアミドエラストマー組成物(チバスペシャリティケミカル株式会社製 イルガスタットP22、ε−カプロラクタム、アジピン酸及びポリエチレンオキサイドから得られるポリエーテルエステルアミドエラストマーで、過塩素酸ナトリウム含有する、過塩素酸ナトリウム含有量は2.8重量%)
(E−2)ポリエーテルエステルアミドエラストマー組成物(チバスペシャリティケミカル株式会社製 イルガスタットP18、ω−ドデカンラクタム、アジピン酸及びポリエチレンオキサイドから得られるポリエーテルエステルアミドエラストマーで、過塩素酸ナトリウム含有する、過塩素酸ナトリウム含有量は2.8重量%)
[Polyamide elastomer composition used]
(E-1) Polyetheresteramide elastomer composition (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., a polyetheresteramide elastomer obtained from irgastat P22, ε-caprolactam, adipic acid and polyethylene oxide, containing sodium perchlorate, Sodium chlorate content is 2.8% by weight)
(E-2) polyether ester amide elastomer composition (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., irgastat P18, polyether ester amide elastomer obtained from ω-dodecane lactam, adipic acid and polyethylene oxide, containing sodium perchlorate, (The sodium perchlorate content is 2.8% by weight)

[使用したポリアミドエラストマー]
(E−3)ポリエーテルエステルアミドエラストマー(ダイセル・デグッサ株式会社製VestamidoE40−S3、ω−ドデカンラクタム、ドデカンジカルボン酸及びポリテトラメチレンオキサイドから得られるポリエーテルエステルアミドエラストマー)
[Polyamide elastomer used]
(E-3) Polyether ester amide elastomer (polyester ester amide elastomer obtained from Daicel Degussa Co., Ltd. Vestamido E40-S3, ω-dodecane lactam, dodecanedicarboxylic acid and polytetramethylene oxide)

[使用した無機フィラー]
(B−1)シリカマスターチップの製造
内容積70リットルの撹拌機付き耐圧力反応容器に20kgのε−カプロラクタム、2kgの水、及び1000gのγ−アミノプロピルトリエトキシシランで表面処理したシリカ(日本シリカ(株)製、ニプシルE220A、平均粒子径約2μm)を投入し、100℃に保持して、この温度で反応系内が均一になるまで撹拌した。引き続き、撹拌しながら260℃に加熱し、圧力1.5MPaを1時間維持し、さらに1時間かけて常圧まで放圧し、さらに1時間重合した。重合が終了した時点で、反応容器の下部ノズルからストランド状に取り出した反応物を水槽に導入して冷却し、カッティングして、前記ゲルタイプシリカが均一に分散したポリアミド樹脂ペレットを得た。次いでこのペレットを95℃の熱水浸漬し、未反応モノマー等を除去した後、減圧乾燥し、相対粘度2.57のシリカマスターチップを得た(以下、このシリカマスターチップを(B−1)という)。
[Inorganic filler used]
(B-1) Manufacture of silica master chip Silica surface-treated with 20 kg of ε-caprolactam, 2 kg of water, and 1000 g of γ-aminopropyltriethoxysilane in a pressure-resistant reaction vessel with an internal volume of 70 liters equipped with a stirrer (Japan) Silica Co., Ltd. product, Nipsil E220A, average particle diameter of about 2 μm) was added and maintained at 100 ° C., and stirred at this temperature until the reaction system became uniform. Subsequently, the mixture was heated to 260 ° C. with stirring, maintained at a pressure of 1.5 MPa for 1 hour, further released to normal pressure over 1 hour, and further polymerized for 1 hour. When the polymerization was completed, the reaction product taken out in a strand form from the lower nozzle of the reaction vessel was introduced into a water bath, cooled, and cut to obtain polyamide resin pellets in which the gel type silica was uniformly dispersed. Subsequently, this pellet was immersed in hot water at 95 ° C. to remove unreacted monomers, and then dried under reduced pressure to obtain a silica master chip having a relative viscosity of 2.57 (hereinafter, this silica master chip was referred to as (B-1) Called).

(B−2)シリカマスターチップの製造
(B−1)シリカマスターチップの製造において、ε−カプロラクタムをω−ドデカンラクタムに変更した以外は、(B−1)シリカマスターチップの製造と同様の方法にて、相対粘度1.70のシリカマスターチップを得た(以下、このシリカマスターチップを(B−2)という)。
(B-2) Manufacture of silica master chip (B-1) In the manufacture of silica master chip, the same method as (B-1) manufacture of silica master chip except that ε-caprolactam was changed to ω-dodecanactam Thus, a silica master chip having a relative viscosity of 1.70 was obtained (hereinafter, this silica master chip is referred to as (B-2)).

(B−3)カオリンマスターチップの製造
(B−1)シリカマスターチップの製造において、γ−アミノプロピルトリエトキシシランで表面処理したシリカ(日本シリカ(株)製、ニプシルE220A、平均粒子径約2μm)をカオリン(水澤化学(株)製、シルトンAMT25、平均粒子径約2.5μm)に変更した以外は、(B−1)シリカマスターチップの製造と同様の方法にて、相対粘度2.54のカオリンマスターチップを得た(以下、このカオリンマスターチップを(B−3)という)。
(B-3) Production of kaolin master chip (B-1) Silica surface-treated with γ-aminopropyltriethoxysilane (manufactured by Nippon Silica Co., Ltd., Nipsil E220A, average particle size of about 2 μm) ) Was changed to kaolin (manufactured by Mizusawa Chemical Co., Ltd., Shilton AMT25, average particle size of about 2.5 μm) in the same manner as in the production of (B-1) silica master chip, with a relative viscosity of 2.54. The kaolin master chip was obtained (hereinafter, this kaolin master chip is referred to as (B-3)).

[使用したビスアミド化合物]
(C−1)ビスアミドマスターチップの製造
ポリアミド6(宇部興産(株)製、UBE NYLON 1011FB、相対粘度:2.20)に、エチレンビスステアリン酸アミド(日本化成(株)製、スリパックスE)を3%ドライブレンドした後、これを二軸溶融混練機((株)日本製鋼所製、型式:TEX44)に供給し、シリンダー温度200〜250℃で溶融混練し、溶融樹脂をストランド状に押出した後、これを水槽に導入し、冷却、カット、真空乾燥して、ビスアミドマスターチップを得た(以下、このビスアミドマスターチップを(C−1)という)。
[Bisamide compounds used]
(C-1) Manufacture of bisamide master chip Polyamide 6 (Ube Industries, UBE NYLON 1011FB, relative viscosity: 2.20) and ethylenebisstearic acid amide (Nippon Kasei Co., Ltd., SLIPAX E) After 3% dry blending, this was supplied to a biaxial melt kneader (manufactured by Nippon Steel Works, model: TEX44), melt kneaded at a cylinder temperature of 200 to 250 ° C., and the molten resin was extruded into a strand shape Thereafter, this was introduced into a water tank, cooled, cut and vacuum dried to obtain a bisamide master chip (hereinafter, this bisamide master chip is referred to as (C-1)).

(C−2)ビスアミドマスターチップの製造
(C−1)ビスアミドマスターチップの製造において、ポリアミド6(宇部興産(株)製、UBE NYLON 1011FB、相対粘度2.20)をポリアミド12(宇部興産(株)製、UBESTA 3014B、相対粘度1.67)に変更した以外は、(C−1)ビスアミドマスターチップの製造と同様の方法にて、ビスアミドマスターチップを得た(以下、このビスアミドマスターチップを(C−2)という)。
(C-2) Manufacture of bisamide master chip (C-1) In manufacture of bisamide master chip, polyamide 6 (manufactured by Ube Industries, UBE NYLON 1011FB, relative viscosity 2.20) was replaced with polyamide 12 (Ube Industries, Ltd.) (C-1) A bisamide master chip was obtained in the same manner as in the production of the bisamide master chip except that the viscosity was changed to UBESTA 3014B (relative viscosity 1.67). C-2)).

(C−3)ビスアミドマスターチップの製造
(C−1)ビスアミドマスターチップの製造において、エチレンビスステアリン酸アミド(日本化成(株)製、スリパックスE)をエチレンビスベヘン酸アミド(日本化成(株)製、スリパックスB)に変更した以外は、(C−1)ビスアミドマスターチップの製造と同様の方法にて、ビスアミドマスターチップを得た(以下、このビスアミドマスターチップを(C−3)という)。
(C-3) Manufacture of bisamide master chip (C-1) In the manufacture of bisamide master chip, ethylenebisstearic acid amide (Nihon Kasei Co., Ltd., Sripax E) was replaced with ethylene bisbehenic acid amide (Nippon Kasei Co., Ltd.). A bisamide master chip was obtained in the same manner as in the production of (C-1) bisamide master chip except that the product was changed to Slipax B) (hereinafter, this bisamide master chip is referred to as (C-3)).

[帯電防止性]
1)表面固有抵抗
評価フィルムを23℃、相対湿度50%で3日間状態調節したのち、絶縁抵抗計(横河ヒューレット・パッカード(株)製、4329A型)を用いて、23℃、相対湿度50%の雰囲気下、印加電圧500V、30秒の条件にて表面固有抵抗を測定した。表面固有抵抗が1014以下の場合、帯電防止性に優れると判断した。
[Antistatic property]
1) Surface Specific Resistance After conditioning the evaluation film at 23 ° C. and 50% relative humidity for 3 days, using an insulation resistance meter (Yokogawa Hewlett-Packard Co., Ltd., Model 4329A), 23 ° C. and relative humidity 50 The surface resistivity was measured under the conditions of applied voltage 500V and 30 seconds in a% atmosphere. When the surface resistivity was 10 14 or less, it was judged that the antistatic property was excellent.

2)帯電圧半減期
評価フィルムを23℃、相対湿度60%で3日間状態調節したのち、スタチックオネストメータ(シシド静電気(株)製、H−0110)を用いて、23℃、相対湿度50%の雰囲気下、印加電圧10kV、試料間距離20mmの条件にて、帯電圧半減期を測定した。帯電圧半減期が10秒以下の場合、帯電防止性に優れると判断した。
2) Electrostatic half-life After the conditioning film was conditioned at 23 ° C. and 60% relative humidity for 3 days, it was measured at 23 ° C. and 50% relative humidity using a static Honestometer (manufactured by Sisid Electric Co., Ltd., H-0110). % Atmosphere was measured under the conditions of an applied voltage of 10 kV and a distance between samples of 20 mm. When the charged half-life was 10 seconds or less, it was judged that the antistatic property was excellent.

[透明性]
透明性の尺度であるヘイズはASTM D−1003に準じ、直読ヘイズコンピューター(スガ試験機製、HGM−2DP)を使用して、評価フィルムを測定した。ヘイズの値が8.0%以下の場合、透明性に優れると判断した。
[transparency]
The haze, which is a measure of transparency, was measured according to ASTM D-1003 using a direct reading haze computer (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., HGM-2DP). When the haze value was 8.0% or less, it was judged that the transparency was excellent.

[耐ピンホール性(繰り返し屈曲疲労テスト)]
評価フィルムを恒温槽付ゲルボフレックステスター(理学工業(株)製)により、MIL−E−131Cに準じ、0℃下で1000回の屈曲テストを行った後、そのフィルムに生じるピンホールの個数をピンホール探知器(サンコウ電子(株)製)を使用して測定した。ピンホール数が10個以下の場合、耐ピンホール性に優れると判断した。
[Pinhole resistance (repeated bending fatigue test)]
The number of pinholes generated in the film after an evaluation film was subjected to a bending test 1000 times at 0 ° C. according to MIL-E-131C using a gelbo flex tester with a thermostat (manufactured by Rigaku Corporation). Was measured using a pinhole detector (manufactured by Sanko Electronics Co., Ltd.). When the number of pinholes was 10 or less, it was judged that the pinhole resistance was excellent.

[滑り性(動摩擦係数)]
ASTM D−1894に準じ、23℃、50%RH及び23℃、80%RHにおいて、フィルム/相手材料フィルムの動摩擦係数をそれぞれ測定する。ただし、測定雰囲気(湿度)による動摩擦係数の変化を求めるために、ポリアミドフィルム試料部分を恒温恒湿器中に置いて測定した。測定は5回行い、その平均値として求めた。また、湿度80%RH雰囲気下での動摩擦係数が0.35以下の場合、高湿度下における滑り性に優れると判断した。
[Slipperiness (coefficient of dynamic friction)]
According to ASTM D-1894, the dynamic coefficient of friction of the film / particulate material film is measured at 23 ° C., 50% RH, 23 ° C., and 80% RH, respectively. However, in order to determine the change of the dynamic friction coefficient depending on the measurement atmosphere (humidity), the polyamide film sample portion was placed in a constant temperature and humidity chamber. The measurement was performed 5 times, and the average value was obtained. Moreover, when the dynamic friction coefficient in the humidity 80% RH atmosphere was 0.35 or less, it was judged that it was excellent in the slipperiness in high humidity.

(実施例1)
表1に示す割合にて、ポリアミド樹脂(D−1)とポリエーテルエステルアミドエラストマー(E−1)を二軸押出機((株)日本製鋼所製、TEX30型)に供給し、押出機設定温度250℃、スクリュー回転数100rpmの条件で、溶融混練して、造粒し、乾燥した。このペレット100重量部に対して、シリカマスターチップ(B−1)、ビスアミドマスターチップ(C−1)を添加し、無機フィラー、ビスアミド化合物が表1の割合になるよう配合した組成物を使用して、円形ダイを備えた40mmφの押出機にて、押出温度260℃にて溶融させ、20℃の水により冷却しながら、引き取りを行い、実質的に無定形で配向していないチューブラー状のポリアミド未延伸フィルムを得た。引き続き、気体の圧力でインフレーション式に縦横同時に延伸するチューブラー延伸法にて、延伸温度180℃、延伸倍率(縦、横ともに)3.0倍にて延伸を行った。その後、チューブ状フィルムの端を切り開き、フラット状のフィルムをテンター内に導入し、幅方向に弛緩処理を行ないつつ、210℃にて熱固定処理を行なった。フィルム両端をクリップから解放し、耳部をトリミングして巻き取り、厚み15μmの二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。得られた二軸延伸ポリアミドフィルムの物性測定結果を表1に示す。
Example 1
Polyamide resin (D-1) and polyetheresteramide elastomer (E-1) are supplied to a twin-screw extruder (manufactured by Nippon Steel Works, TEX30 type) at the ratio shown in Table 1, and the extruder is set. The mixture was melt kneaded, granulated, and dried under the conditions of a temperature of 250 ° C. and a screw rotation speed of 100 rpm. A composition prepared by adding silica master chip (B-1) and bisamide master chip (C-1) to 100 parts by weight of the pellets and blending the inorganic filler and the bisamide compound in the proportions shown in Table 1 is used. In a 40 mmφ extruder equipped with a circular die, it is melted at an extrusion temperature of 260 ° C. and taken up while being cooled with water at 20 ° C. A polyamide unstretched film was obtained. Subsequently, stretching was performed at a stretching temperature of 180 ° C. and a stretching ratio (both longitudinal and lateral) of 3.0 times by a tubular stretching method in which a longitudinal and lateral stretching was simultaneously performed in an inflation type with a gas pressure. Then, the end of the tubular film was cut open, the flat film was introduced into the tenter, and heat-fixed at 210 ° C. while performing relaxation treatment in the width direction. Both ends of the film were released from the clip, and the ears were trimmed and wound to obtain a biaxially stretched polyamide film having a thickness of 15 μm. The physical property measurement results of the obtained biaxially stretched polyamide film are shown in Table 1.

(実施例2〜3)
実施例1において、ポリアミド樹脂(D−1)とポリエーテルエステルアミドエラストマー(E−1)の配合割合を表1に示す割合に変更した以外は、実施例1と同様の方法にて二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。得られた二軸延伸ポリアミドフィルムの物性測定結果を表1に示す。
(Examples 2-3)
In Example 1, biaxial stretching was carried out in the same manner as in Example 1 except that the blending ratio of the polyamide resin (D-1) and the polyether ester amide elastomer (E-1) was changed to the ratio shown in Table 1. A polyamide film was obtained. The physical property measurement results of the obtained biaxially stretched polyamide film are shown in Table 1.

(実施例4)
実施例1において、ポリアミド樹脂(D−1)をポリアミド樹脂(D−2)に変更した以外は、実施例1と同様の方法にて二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。得られた二軸延伸ポリアミドフィルムの物性測定結果を表1に示す。
Example 4
A biaxially stretched polyamide film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the polyamide resin (D-1) was changed to the polyamide resin (D-2) in Example 1. The physical property measurement results of the obtained biaxially stretched polyamide film are shown in Table 1.

(実施例5)
実施例1において、ポリアミド樹脂(D−1)をポリアミド樹脂(D−3)に、ポリエーテルエステルアミドエラストマー(E−1)を(E−2)に、シリカマスターチップ(B−1)を(B−2)に、ビスアミドマスターチップ(C−1)を(C−2)に、押出温度を240℃に変更した以外は、実施例1と同様の方法に二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。得られた二軸延伸ポリアミドフィルムの物性測定結果を表1に示す。
(Example 5)
In Example 1, the polyamide resin (D-1) is changed to the polyamide resin (D-3), the polyetheresteramide elastomer (E-1) is changed to (E-2), and the silica master chip (B-1) is changed to ( A biaxially stretched polyamide film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the bisamide master chip (C-1) was changed to (C-2) and the extrusion temperature was changed to 240 ° C. in B-2). The physical property measurement results of the obtained biaxially stretched polyamide film are shown in Table 1.

(実施例6〜7)
実施例1において、シリカマスターチップ(B−1)の配合割合を変え、無機フィラーの添加量を表1に示す割合に変更した以外は、実施例1と同様の方法にて二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。得られた二軸延伸ポリアミドフィルムの物性測定結果を表1に示す。
(Examples 6 to 7)
In Example 1, the compounding ratio of the silica master chip (B-1) was changed, and the addition amount of the inorganic filler was changed to the ratio shown in Table 1, and the biaxially stretched polyamide film was prepared in the same manner as in Example 1. Got. The physical property measurement results of the obtained biaxially stretched polyamide film are shown in Table 1.

(実施例8〜9)
実施例1において、ビスアミドマスターチップ(C−1)の配合割合を変え、ビスアミド化合物の添加量を表1に示す割合に変更した以外は、実施例1と同様の方法にて二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。得られた二軸延伸ポリアミドフィルムの物性測定結果を表1に示す。
(Examples 8 to 9)
A biaxially stretched polyamide film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the blending ratio of the bisamide master chip (C-1) was changed and the addition amount of the bisamide compound was changed to the ratio shown in Table 1. Got. The physical property measurement results of the obtained biaxially stretched polyamide film are shown in Table 1.

(実施例10)
実施例1において、シリカマスターチップ(B−1)をカオリンマスターチップ(B−3)に変更した以外は、実施例1と同様の方法にて二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。得られた二軸延伸ポリアミドフィルムの物性測定結果を表1に示す。
(Example 10)
A biaxially stretched polyamide film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the silica master chip (B-1) was changed to the kaolin master chip (B-3) in Example 1. The physical property measurement results of the obtained biaxially stretched polyamide film are shown in Table 1.

(実施例11)
実施例1において、ビスアミドマスターチップ(C−1)を(C−3)に変更した以外は、実施例1と同様の方法にて二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。得られた二軸延伸ポリアミドフィルムの物性測定結果を表1に示す。
(Example 11)
A biaxially stretched polyamide film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the bisamide master chip (C-1) was changed to (C-3) in Example 1. The physical property measurement results of the obtained biaxially stretched polyamide film are shown in Table 1.

(実施例12)
実施例1において、シリカマスターチップ(B−1)とカオリンマスターチップ(B−3)を併用し、無機フィラーの添加量を表1に示す割合に変更した以外は、実施例1と同様の方法にて二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。得られた二軸延伸ポリアミドフィルムの物性測定結果を表1に示す。
(Example 12)
In Example 1, the same method as in Example 1 except that the silica master chip (B-1) and the kaolin master chip (B-3) were used in combination, and the addition amount of the inorganic filler was changed to the ratio shown in Table 1. A biaxially stretched polyamide film was obtained. The physical property measurement results of the obtained biaxially stretched polyamide film are shown in Table 1.

(実施例13)
実施例1において、ビスアミドマスターチップ(C−1)と(C−3)を併用し、ビスアミド化合物の添加量を表1に示す割合に変更した以外は、実施例1と同様の方法にて二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。得られた二軸延伸ポリアミドフィルムの物性測定結果を表1に示す。
(Example 13)
In Example 1, bisamide master chips (C-1) and (C-3) were used in combination, and the addition amount of the bisamide compound was changed to the ratio shown in Table 1, and the same procedure as in Example 1 was repeated. An axially stretched polyamide film was obtained. The physical property measurement results of the obtained biaxially stretched polyamide film are shown in Table 1.

Figure 2006037070
Figure 2006037070

(比較例1)
実施例1において、ポリエーテルエステルアミドエラストマー(E−1)を配合しない以外は、実施例1と同様の方法にて、二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。得られた二軸延伸ポリアミドフィルムの物性測定結果を表2に示す。
(Comparative Example 1)
In Example 1, a biaxially stretched polyamide film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the polyetheresteramide elastomer (E-1) was not blended. Table 2 shows the physical property measurement results of the obtained biaxially stretched polyamide film.

(比較例2〜3)
実施例1において、ポリアミド樹脂(D−1)とポリエーテルエステルアミドエラストマー(E−1)の配合割合を表1に示す割合に変更した以外は、実施例1と同様の方法にて二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。得られた二軸延伸ポリアミドフィルムの物性測定結果を表2に示す。
(Comparative Examples 2-3)
In Example 1, biaxial stretching was carried out in the same manner as in Example 1 except that the blending ratio of the polyamide resin (D-1) and the polyether ester amide elastomer (E-1) was changed to the ratio shown in Table 1. A polyamide film was obtained. Table 2 shows the physical property measurement results of the obtained biaxially stretched polyamide film.

(比較例4)
実施例1において、ポリエーテルエステルアミドエラストマー(E−1)を(E−3)に変更した以外は、実施例1と同様の方法にて二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。得られた二軸延伸ポリアミドフィルムの物性測定結果を表2に示す。
(Comparative Example 4)
A biaxially stretched polyamide film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the polyether ester amide elastomer (E-1) was changed to (E-3) in Example 1. Table 2 shows the physical property measurement results of the obtained biaxially stretched polyamide film.

(比較例5)
実施例1において、ポリエーテルエステルアミドエラストマー(E−1)を(E−2)に変更した以外は、実施例1と同様の方法にて二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。得られた二軸延伸ポリアミドフィルムの物性測定結果を表2に示す。
(Comparative Example 5)
A biaxially stretched polyamide film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the polyetheresteramide elastomer (E-1) was changed to (E-2) in Example 1. Table 2 shows the physical property measurement results of the obtained biaxially stretched polyamide film.

(比較例6)
実施例1において、シリカマスターチップ(B−1)を使用しない以外は、実施例1と同様の方法にて二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。得られた二軸延伸ポリアミドフィルムの物性測定結果を表2に示す。
(Comparative Example 6)
In Example 1, a biaxially stretched polyamide film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silica master chip (B-1) was not used. Table 2 shows the physical property measurement results of the obtained biaxially stretched polyamide film.

(比較例7)
実施例1において、ビスアミドマスターチップ(C−1)を使用しない以外は、実施例1と同様の方法にて二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。得られた二軸延伸ポリアミドフィルムの物性測定結果を表2に示す。
(Comparative Example 7)
In Example 1, a biaxially stretched polyamide film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the bisamide master chip (C-1) was not used. Table 2 shows the physical property measurement results of the obtained biaxially stretched polyamide film.

(比較例8〜9)
実施例1において、シリカマスターチップ(B−1)の配合割合を変え、無機フィラーの添加量を表2に示す割合に変更した以外は、実施例1と同様の方法にて二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。得られた二軸延伸ポリアミドフィルムの物性測定結果を表2に示す。
(Comparative Examples 8-9)
A biaxially stretched polyamide film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the blending ratio of the silica master chip (B-1) was changed and the amount of inorganic filler added was changed to the ratio shown in Table 2. Got. Table 2 shows the physical property measurement results of the obtained biaxially stretched polyamide film.

(比較例10)
実施例1において、ビスアミドマスターチップ(C−1)の配合割合を変え、ビスアミド化合物の添加量を表2に示す割合に変更した以外は、実施例1と同様の方法にて二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。得られた二軸延伸ポリアミドフィルムの物性測定結果を表2に示す。
(Comparative Example 10)
A biaxially stretched polyamide film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the blending ratio of the bisamide master chip (C-1) was changed and the addition amount of the bisamide compound was changed to the ratio shown in Table 2. Got. Table 2 shows the physical property measurement results of the obtained biaxially stretched polyamide film.

Figure 2006037070
Figure 2006037070

(実施例14)
表3に示す割合にて、ポリアミド樹脂(D−1)とポリエーテルエステルアミドエラストマー(E−1)を二軸押出機((株)日本製鋼所製、TEX30型)に供給し、押出機設定温度250℃、スクリュー回転数100rpmの条件で、溶融混練して、造粒し、乾燥した。このペレット100重量部に対して、シリカマスターチップ(B−1)及びビスアミドマスターチップ(C−1)を添加し、無機フィラー、ビスアミド化合物が表3の割合になるよう配合した原料ポリアミド樹脂組成物と、ポリアミド樹脂(D−1)を使用して、円形3層ダイを備えた40mmφの押出機にて、押出温度260℃にて溶融させ、20℃の水により冷却しながら、引き取りを行い、実質的に無定形で配向していないチューブラー状の積層ポリアミド未延伸フィルムを得た。引き続き、気体の圧力でインフレーション式に縦横同時に延伸するチューブラー延伸法にて、延伸温度180℃、延伸倍率(縦、横ともに)3.0倍にて延伸を行った。その後、チューブ状フィルムの端を切り開き、フラット状のフィルムをテンター内に導入し、幅方向に弛緩処理を行ないつつ、210℃にて熱固定処理を行なった。フィルム両端をクリップから解放し、耳部をトリミングして巻き取り、(外層)/(中間層)/(内層)の構成が、原料ポリアミド樹脂組成物/ポリアミド樹脂(D−1)/原料ポリアミド樹脂組成物(層厚み4μm/7μm/4μm)の3層の積層二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。得られた積層二軸延伸ポリアミドフィルムの物性測定結果を表3に示す。
(Example 14)
Polyamide resin (D-1) and polyether ester amide elastomer (E-1) are supplied to a twin screw extruder (manufactured by Nippon Steel Works, TEX30 type) at the ratio shown in Table 3, and the extruder is set. The mixture was melt kneaded, granulated, and dried under the conditions of a temperature of 250 ° C. and a screw rotation speed of 100 rpm. Raw material polyamide resin composition in which silica master chip (B-1) and bisamide master chip (C-1) are added to 100 parts by weight of the pellets, and the inorganic filler and bisamide compound are blended in the proportions shown in Table 3. And using a polyamide resin (D-1), in a 40 mmφ extruder equipped with a circular three-layer die, melted at an extrusion temperature of 260 ° C., and cooled with water at 20 ° C. A tubular laminated polyamide unstretched film which was substantially amorphous and not oriented was obtained. Subsequently, stretching was performed at a stretching temperature of 180 ° C. and a stretching ratio (both longitudinal and lateral) of 3.0 times by a tubular stretching method in which a longitudinal and lateral stretching was simultaneously performed in an inflation type with a gas pressure. Then, the end of the tubular film was cut open, the flat film was introduced into the tenter, and heat-fixed at 210 ° C. while performing relaxation treatment in the width direction. Both ends of the film are released from the clip, the ears are trimmed and wound up, and the composition of (outer layer) / (intermediate layer) / (inner layer) is raw material polyamide resin composition / polyamide resin (D-1) / raw material polyamide resin A three-layer laminated biaxially stretched polyamide film of the composition (layer thickness 4 μm / 7 μm / 4 μm) was obtained. Table 3 shows the physical property measurement results of the obtained laminated biaxially stretched polyamide film.

Figure 2006037070
Figure 2006037070

Claims (9)

ポリアミド組成物(A)100重量部、
無機フィラー(B)0.1〜1重量部、及び
ビスアミド化合物(C)0.03〜0.3重量部を含むポリアミド樹脂組成物であり、
(I)ポリアミド組成物(A)は、ポリアミド樹脂(D)70〜99.5重量%及びポリアミドエラストマー組成物(E)30〜0.5重量%とを含み、
(II)ポリアミドエラストマー組成物(E)は、ポリアミドエラストマー(F)99.99〜90重量%及び電解質塩化合物0.01〜10重量%を含み、
(III)ポリアミドエラストマー(F)は、ポリアミドハードセグメント(a)及び数平均分子量300〜5000の下記一般式(1)で示されるポリアルキレンオキサイドを含むソフトセグメント(b)から得られるポリエーテルエステルアミドエラストマーであり、
(IV)ポリアミドエラストマー(F)のポリアミドハードセグメント(a)は、ポリアミドハードセグメント(a)100重量%に対し、ポリアミド樹脂(D)と同一のポリアミド形成単位を60重量%以上含み、かつ脂肪族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸及び芳香族ジカルボン酸の中から選ばれる少なくとも1種のジカルボン酸を含むポリアミドハードセグメント(a)であることを特徴とするポリアミド樹脂組成物。
Figure 2006037070
(式中、Qは炭素数2〜4のアルキレン基、nは1〜50の整数を表す。)
100 parts by weight of the polyamide composition (A),
A polyamide resin composition containing 0.1 to 1 part by weight of an inorganic filler (B) and 0.03 to 0.3 part by weight of a bisamide compound (C),
(I) Polyamide composition (A) contains 70-99.5 wt% of polyamide resin (D) and 30-0.5 wt% of polyamide elastomer composition (E),
(II) The polyamide elastomer composition (E) contains 99.99 to 90% by weight of the polyamide elastomer (F) and 0.01 to 10% by weight of the electrolyte salt compound,
(III) The polyamide elastomer (F) is a polyether ester amide obtained from a polyamide hard segment (a) and a soft segment (b) containing a polyalkylene oxide represented by the following general formula (1) having a number average molecular weight of 300 to 5000 An elastomer,
(IV) The polyamide hard segment (a) of the polyamide elastomer (F) contains 60% by weight or more of the same polyamide forming unit as that of the polyamide resin (D) with respect to 100% by weight of the polyamide hard segment (a), and is aliphatic. A polyamide resin composition comprising a polyamide hard segment (a) containing at least one dicarboxylic acid selected from dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids and aromatic dicarboxylic acids.
Figure 2006037070
(In the formula, Q represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 50.)
ポリアミド樹脂(D)が、ε−カプロラクタム、ω−ドデカンラクタム、12−アミノドデカン酸、ヘキサメチレンジアミン・アジピン酸塩からなる群より選ばれる少なくとも1種のポリアミド形成単位からなる単独重合体又は共重合体であることを特徴とする請求項1記載のポリアミド樹脂組成物。   A homopolymer or copolymer of polyamide resin (D) comprising at least one polyamide-forming unit selected from the group consisting of ε-caprolactam, ω-dodecanlactam, 12-aminododecanoic acid, hexamethylenediamine adipate The polyamide resin composition according to claim 1, which is a coalescence. ポリアミドエラストマー(F)が、
[1]ポリアミドハードセグメント(a)100重量%に対しポリアミド樹脂(D)と同一のポリアミド形成単位を60重量%以上含み、かつアジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸及び3−スルホイソフタル酸ナトリウムからなる群より選ばれる少なくとも一種のジカルボン酸を含むポリアミドハードセグメント(a)、
及び
[2]数平均分子量300〜5000の下記一般式(2)で示されるポリアルキレンオキサイドを含むソフトセグメント(b)から得られるポリエーテルエステルアミドエラストマーであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のポリアミド樹脂組成物。
Figure 2006037070
(式中、Rは炭素数2〜3のアルキレン基、nは1〜50の整数を表す。)
Polyamide elastomer (F)
[1] Polyamide hard segment (a) containing 60% by weight or more of the same polyamide forming unit as that of the polyamide resin (D) with respect to 100% by weight, and adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid and 3-sulfoisophthalic acid A polyamide hard segment (a) containing at least one dicarboxylic acid selected from the group consisting of sodium,
And [2] a polyetheresteramide elastomer obtained from a soft segment (b) containing a polyalkylene oxide represented by the following general formula (2) having a number average molecular weight of 300 to 5,000: Item 3. The polyamide resin composition according to Item 2.
Figure 2006037070
(In the formula, R represents an alkylene group having 2 to 3 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 50.)
無機フィラー(B)が、シリカ、カオリン及びタルクからなる群より選ばれる少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のポリアミド樹脂組成物。   The polyamide resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the inorganic filler (B) contains at least one selected from the group consisting of silica, kaolin and talc. ビスアミド化合物(C)が、エチレンビスステアリン酸アミド、エチレンビスベヘン酸アミド、エチレンビスオレイン酸アミド及びエチレンビスエルカ酸アミドからなる群より選ばれる少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のポリアミド樹脂組成物。   The bisamide compound (C) contains at least one selected from the group consisting of ethylene bis stearic acid amide, ethylene bis behenic acid amide, ethylene bis oleic acid amide and ethylene bis erucic acid amide. The polyamide resin composition according to any one of the above. 請求項1〜5に記載のポリアミド樹脂組成物から得られる成形物。   A molded product obtained from the polyamide resin composition according to claim 1. 成形物が、フィルムであることを特徴とする請求項6に記載の成形物。   The molded product according to claim 6, wherein the molded product is a film. 成形物が、延伸されたフィルムであることを特徴とする請求項6に記載の成形物。   The molded article according to claim 6, wherein the molded article is a stretched film. 請求項7及び請求項8に記載のフィルムの成形物の層と、熱可塑性樹脂の層との少なくとも2層を有することを特徴とする積層フィルム。

A laminated film comprising at least two layers of a molded product layer of the film according to claim 7 and claim 8 and a thermoplastic resin layer.

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