[go: up one dir, main page]

JP2006037057A - Printing ink composition, method for letterpress reversed offset, method for forming resist pattern, method for producing electronic component and electronic component - Google Patents

Printing ink composition, method for letterpress reversed offset, method for forming resist pattern, method for producing electronic component and electronic component Download PDF

Info

Publication number
JP2006037057A
JP2006037057A JP2004223545A JP2004223545A JP2006037057A JP 2006037057 A JP2006037057 A JP 2006037057A JP 2004223545 A JP2004223545 A JP 2004223545A JP 2004223545 A JP2004223545 A JP 2004223545A JP 2006037057 A JP2006037057 A JP 2006037057A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating layer
printing ink
ink composition
substrate
transferring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004223545A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Taiji Murakami
泰治 村上
Yasuo Tsuruoka
恭生 鶴岡
Keiko Kizawa
桂子 木沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2004223545A priority Critical patent/JP2006037057A/en
Publication of JP2006037057A publication Critical patent/JP2006037057A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Printing Methods (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printing ink composition suppressing defective disconnection caused by resist breakage. <P>SOLUTION: The printing ink composition is used in a method for letterpress reversed offset comprising a coating layer-forming step of coating the top surface of a base material for forming the coating layer with the printing ink composition and forming the coating layer of the printing ink composition, a removing step of bringing the coating layer into contact with a letterpress of a prescribed shape, transferring the coating layer to protruding parts of the letterpress and removing the coating layer and a transfer step of transferring the coating layer remaining on the base material for forming the coating layer to a substrate. The printing ink composition comprises (A) a resin soluble in an organic solvent and (B) the organic solvent. The printing ink composition has ≤25.0 MPa Vickers hardness of the coating layer of the printing ink composition after forming the coating layer of the printing ink composition on the base material for forming the coating layer and then removing the solvent. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、印刷インキ組成物、凸版反転オフセット法、レジストパターンの形成法、電子部品の製造法及び電子部品に関する。   The present invention relates to a printing ink composition, a letterpress inversion offset method, a resist pattern formation method, a method for manufacturing an electronic component, and an electronic component.

表示部材、光学部材、配線版等の電子部品で用いられる微細パターン形成法は一般的にはフォトレジストを用いたフォトリソグラフィー法である。例えば、液晶ディスプレイLCDの製造プロセスの配線パターンや素子形成においては、フォトリソによるレジストの加工、エッチング等により製造されている。近年、基板の大型化に伴い、大型の露光機、現像装置、ベーク炉等の設備やこれらを設置するクリーンルームなどが必要で、設備投資も巨額なものになっている。また、1m角以上の基板はスピンコータで塗布することが困難になっている。そのため、スリットコータ等の塗布装置が用いられているが、塗膜の均一性の確保が難しい。さらに、製造コストダウンが強く要求され、上記露光機等の高価な設備を使用するフォトリソ法以外の電子部品の製造法が望まれている。フォトリソ法以外の電子部品の製造法としては電着法、印刷法が従来から提案されている。これらの中で印刷法が安価な製造法として着目されているが、従来の印刷法では表面平滑性が良好で、かつ高精細なパターン寸法及び形状を持つ配線パターンを製造することは困難であった。例えば、オフセット印刷法では印刷インキ用組成物は高粘度の着色ペーストを使用しているため、高精細なパターンや均一な塗膜面を得ることが困難であった。   A fine pattern forming method used for electronic parts such as a display member, an optical member, and a wiring plate is generally a photolithography method using a photoresist. For example, in the wiring pattern and the element formation in the manufacturing process of the liquid crystal display LCD, the liquid crystal display LCD is manufactured by processing a resist with photolithography, etching, or the like. In recent years, with the increase in size of substrates, facilities such as a large exposure machine, a developing device, a baking furnace, a clean room in which these are installed, and the capital investment has become enormous. In addition, it is difficult to apply a substrate of 1 m square or more with a spin coater. For this reason, a coating device such as a slit coater is used, but it is difficult to ensure the uniformity of the coating film. Further, there is a strong demand for reduction in manufacturing cost, and a method for manufacturing electronic components other than the photolithography method using expensive equipment such as the above exposure machine is desired. Electrodeposition methods and printing methods have been conventionally proposed as methods for producing electronic components other than the photolithographic method. Among these, the printing method has attracted attention as an inexpensive manufacturing method, but it has been difficult to manufacture a wiring pattern having good surface smoothness and high-definition pattern dimensions and shape by the conventional printing method. It was. For example, in the offset printing method, since the printing ink composition uses a high-viscosity colored paste, it is difficult to obtain a high-definition pattern or a uniform coating surface.

また、本印刷法において、インキの溶剤成分を増やすと均一な塗膜が得られやすいが、同時に形成できるレジスト膜も薄くなり、エッチング耐性が下がる問題があった。一方で、インキの溶剤成分を減らすとレジスト膜は厚くできるが、均一な塗膜が得られにくく、細線でのパターン性が悪くなる問題があった。   Further, in this printing method, when the solvent component of the ink is increased, a uniform coating film can be easily obtained, but the resist film that can be formed at the same time becomes thin, and there is a problem that the etching resistance is lowered. On the other hand, if the solvent component of the ink is reduced, the resist film can be made thicker, but there is a problem that a uniform coating film is difficult to obtain and the pattern property with fine lines is deteriorated.

特開平11−58921号公報JP-A-11-58921 特開平11−97032号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-97032

このような、電子部品で用いられる微細パターンを形成するための印刷法において、印刷インキ組成物中の樹脂成分が硬い場合、印刷インキ組成物を塗布して塗布層を形成すると該塗布層が脆くなり、該塗布層の転写時に該塗布層に割れが発生し、レジストとして使用する場合、エッチング不良等を起こしやすいという問題を本発明者らは見出した。そして、印刷インキ組成物中の適正な樹脂成分の硬さを選択することで、転写時の基板への追従性が向上し、浮きの無いパターンを形成できる条件を見出した。これにより、パタ−ン精度、形状等が良好で、ピンホール発生率が低く、安価な製造方法で、フォトリソ法で製造されたと同等の電子部品が得られる。   In such a printing method for forming a fine pattern used in an electronic component, when the resin component in the printing ink composition is hard, the coating layer becomes brittle when the coating layer is formed by applying the printing ink composition. Thus, the present inventors have found a problem that cracks occur in the coating layer during transfer of the coating layer, and that etching failure or the like is likely to occur when the coating layer is used as a resist. Then, by selecting the hardness of an appropriate resin component in the printing ink composition, the followability to the substrate at the time of transfer was improved, and conditions were found that can form a pattern without floating. As a result, an electronic component equivalent to that manufactured by the photolithography method can be obtained by an inexpensive manufacturing method with good pattern accuracy, shape, etc., low pinhole generation rate.

本発明は、印刷法で課題となるレジスト割れに起因した断線不良を抑えることができる印刷インキ用組成物を提供するものである。また、本発明は、良好なパターン精度及び形状で転写でき、耐エッチング性が高いレジストパターン形成法を提供するものである。また、本発明は、パターン精度及び形状を向上させたレジストパターンで下地のエッチング又はめっきを精度良く行うことができる電子部品の製造法を提供するものであり、フォトリソ法で製造されたと同等の電子部品を提供するものである。   This invention provides the composition for printing inks which can suppress the disconnection defect resulting from the resist crack which becomes a subject by the printing method. The present invention also provides a resist pattern forming method that can be transferred with good pattern accuracy and shape and has high etching resistance. In addition, the present invention provides a method for manufacturing an electronic component that can accurately perform etching or plating of a base with a resist pattern having improved pattern accuracy and shape, and an electronic device equivalent to that manufactured by a photolithography method. Parts are provided.

本発明は、印刷インキ組成物を塗布層形成基材上に塗布して印刷インキ組成物の塗布層を形成する塗布層形成工程と、該塗布層に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部分に該塗布層を転写して除去する除去工程と、該塗布層形成基材上に残った該塗布層を基板に転写する転写工程とを有する凸版反転オフセット法に使用する印刷インキ組成物であって、該印刷インキ組成物が(A)有機溶剤に可溶な樹脂及び(B)有機溶剤を含有してなり、塗布層形成基材上に印刷インキ組成物の塗布層を形成したのち、溶剤を除去した後の印刷インキ組成物の塗布層のビッカース硬度が25.0MPa以下である印刷インキ組成物に関する。   The present invention includes a coating layer forming step in which a printing ink composition is applied onto a coating layer forming substrate to form a coating layer of the printing ink composition, and a relief plate having a predetermined shape is brought into contact with the coating layer. A printing ink composition for use in a relief reversal offset method comprising a removal step of transferring and removing the coating layer on a convex portion and a transfer step of transferring the coating layer remaining on the coating layer-forming substrate to a substrate The printing ink composition comprises (A) a resin soluble in an organic solvent and (B) an organic solvent, and after forming a coating layer of the printing ink composition on a coating layer forming substrate. The present invention relates to a printing ink composition in which the Vickers hardness of the coating layer of the printing ink composition after removing the solvent is 25.0 MPa or less.

また、本発明は、さらに(C)可塑剤を含有してなる前記印刷インキ組成物に関する。   The present invention further relates to the printing ink composition further comprising (C) a plasticizer.

また、本発明は、印刷インキ組成物を塗布層形成基材上に塗布して印刷インキ組成物の塗布層を形成する塗布層形成工程と、該塗布層に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部分に該塗布層を転写して除去する除去工程と、該塗布層形成基材上に残った該塗布層を基板に転写する転写工程とを有する凸版反転オフセット法に使用する印刷インキ組成物であって、該印刷インキ組成物が(A)有機溶剤に可溶な樹脂、(B)有機溶剤及び(C)可塑剤を含有してなる印刷インキ組成物に関する。   The present invention also includes a coating layer forming step in which a printing ink composition is coated on a coating layer forming substrate to form a coating layer of the printing ink composition, and a relief plate having a predetermined shape is brought into contact with the coating layer. Printing ink used in a relief reversal offset method comprising a removal step of transferring and removing the coating layer on a convex portion of a relief printing, and a transfer step of transferring the coating layer remaining on the coating layer forming substrate to a substrate It is a composition, Comprising: This printing ink composition is related with the printing ink composition formed by containing (A) resin soluble in an organic solvent, (B) organic solvent, and (C) plasticizer.

また、本発明は、塗布層形成基材の塗布層を形成する面が離型性を有する前記印刷インキ組成物に関する。   Moreover, this invention relates to the said printing ink composition in which the surface which forms the coating layer of a coating layer formation base material has releasability.

また、本発明は、除去工程が、塗布層に対し所定形状の凸版を押圧して凸版の凸部分に前記印刷インキ組成物の塗布層を転写して除去する前記印刷インキ組成物に関する。   The present invention also relates to the printing ink composition, wherein the removing step presses a relief plate having a predetermined shape against the application layer to transfer and remove the application layer of the printing ink composition on a convex portion of the relief plate.

また、本発明は、(A)有機溶剤に可溶な樹脂が、アルカリ溶液に可溶な樹脂を含む前記印刷インキ組成物に関する。   Moreover, this invention relates to the said printing ink composition in which (A) resin soluble in an organic solvent contains resin soluble in an alkaline solution.

また、本発明は、アルカリ溶液に可溶な樹脂が、ノボラック樹脂である前記印刷インキ組成物に関する。   Moreover, this invention relates to the said printing ink composition whose resin soluble in an alkaline solution is a novolak resin.

また、本発明は、アルカリ溶液に可溶な樹脂が、ポリヒドロキシスチレン樹脂である前記印刷インキ組成物に関する。   Moreover, this invention relates to the said printing ink composition whose resin soluble in an alkaline solution is a polyhydroxy styrene resin.

また、本発明は、前記印刷インキ組成物を塗布層形成基材上に塗布して印刷インキ組成物の塗布層を形成する塗布層形成工程と、該塗布層に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部分に該塗布層を転写して除去する除去工程と、該塗布層形成基材上に残った該塗布層を基板に転写する転写工程とを有することを特徴とする凸版反転オフセット法に関する。   The present invention also includes a coating layer forming step of coating the printing ink composition on a coating layer forming substrate to form a coating layer of the printing ink composition, and bringing a relief plate having a predetermined shape into contact with the coating layer. And a transfer step of transferring the coating layer remaining on the coating layer forming substrate to a substrate, and a transfer step of transferring the coating layer to the substrate. Regarding the law.

また、本発明は、前記印刷インキ組成物を塗布層形成基材上に塗布して印刷インキ組成物の塗布層を形成する塗布層形成工程と、該塗布層に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部分に該塗布層を転写して除去する除去工程と、該塗布層形成基材上に残った該塗布層を基板に転写する転写工程とを有することを特徴とするレジストパターンの形成法に関する。   The present invention also includes a coating layer forming step of coating the printing ink composition on a coating layer forming substrate to form a coating layer of the printing ink composition, and bringing a relief plate having a predetermined shape into contact with the coating layer. A resist pattern comprising: a removal step of transferring and removing the coating layer on the convex portion of the relief plate; and a transfer step of transferring the coating layer remaining on the coating layer-forming substrate to the substrate. It relates to the forming method.

また、本発明は、基板上に配線パターンが形成された電子部品の製造法であって、前記印刷インキ組成物を塗布層形成基材上に塗布して印刷インキ組成物の塗布層を形成する塗布層形成工程と、該塗布層に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部分に該塗布層を転写して除去する除去工程と、該塗布層形成基材上に残った該塗布層を基板に転写する転写工程と、転写された印刷インキ組成物の塗布層をレジストとしてエッチング又はめっきを行う加工工程とを有することを特徴とする電子部品の製造法に関する。   The present invention is also a method for producing an electronic component having a wiring pattern formed on a substrate, wherein the printing ink composition is applied on a coating layer forming substrate to form a coating layer of the printing ink composition. A coating layer forming step, a removing step of bringing a relief plate of a predetermined shape into contact with the coating layer and transferring and removing the coating layer on a convex portion of the relief plate, and the coating layer remaining on the coating layer forming substrate The present invention relates to a method for manufacturing an electronic component, comprising: a transfer step of transferring the substrate to a substrate; and a processing step of etching or plating using the transferred printing ink composition coating layer as a resist.

また、本発明は、前記電子部品の製造法により製造されてなる基板上に配線パターンが形成された電子部品に関する。   The present invention also relates to an electronic component in which a wiring pattern is formed on a substrate manufactured by the method for manufacturing an electronic component.

本発明の印刷インキ用組成物は、印刷法で課題となるレジスト割れに起因した断線不良を抑えることができる。また、本発明の凸版反転オフセット法は、塗膜の均一性、剥離性を向上させることができる。また、本発明のレジストパターンの形成法は、良好なパターン精度及び形状で転写でき、耐エッチング性が高い。また、本発明の電子部品の製造法は、パターン精度及び形状を向上させたレジストパターンで下地のエッチング又はめっきを精度良く行うことができ、このような製造法によってフォトリソ法と同等な電子部品を得ることができる。   The composition for printing ink of the present invention can suppress disconnection failure due to resist cracking, which is a problem in the printing method. Moreover, the relief reversal offset method of this invention can improve the uniformity and peelability of a coating film. Further, the resist pattern forming method of the present invention can be transferred with good pattern accuracy and shape, and has high etching resistance. In addition, the method of manufacturing an electronic component according to the present invention can accurately perform etching or plating of a base with a resist pattern having improved pattern accuracy and shape. By such a manufacturing method, an electronic component equivalent to a photolithography method can be obtained. Obtainable.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、本発明において、(メタ)アクリル酸とはアクリル酸又はメタクリル酸を示し、(メタ)アクリレートとはアクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味し、(メタ)アクリロイル基とはアクリロイル基又はメタクリロイル基を意味する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In the present invention, (meth) acrylic acid means acrylic acid or methacrylic acid, (meth) acrylate means acrylate or a corresponding methacrylate, and (meth) acryloyl group means acryloyl group or methacryloyl group. means.

本発明は、印刷インキ組成物を塗布層形成基材上に塗布して印刷インキ組成物の塗布層を形成する塗布層形成工程と、該塗布層に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部分に該塗布層を転写して除去する除去工程と、該塗布層形成基材上に残った該塗布層を基板に転写する転写工程とを有する凸版反転オフセット法に使用する印刷インキ組成物であって、該印刷インキ組成物が(A)有機溶剤に可溶な樹脂及び(B)有機溶剤を含有してなり、塗布層形成基材上に該印刷インキ組成物の塗布層を形成したのち、溶剤を除去した後の該塗布層のビッカース硬度が25.0MPa以下であることを特徴とする。塗布層形成基材上に本発明の印刷インキ組成物の塗布層を形成し、溶剤を除去した後の該塗布層のビッカース硬度が25.0MPa以下である。前記ビッカース硬度は10.0〜25.0MPaであることが好ましく、15.0〜25.0MPaであることがより好ましく、20.0〜25.0MPaであることが特に好ましい。なお、溶媒の除去は、印刷インキ組成物の塗膜を乾燥することにより、該塗膜の重量変化がなくなることで確認することができる。   The present invention includes a coating layer forming step in which a printing ink composition is applied onto a coating layer forming substrate to form a coating layer of the printing ink composition, and a relief plate having a predetermined shape is brought into contact with the coating layer. A printing ink composition for use in a relief reversal offset method comprising a removal step of transferring and removing the coating layer on a convex portion and a transfer step of transferring the coating layer remaining on the coating layer-forming substrate to a substrate The printing ink composition contains (A) a resin soluble in an organic solvent and (B) an organic solvent, and a coating layer of the printing ink composition is formed on a coating layer forming substrate. After that, the Vickers hardness of the coating layer after removing the solvent is 25.0 MPa or less. After the coating layer of the printing ink composition of the present invention is formed on the coating layer forming substrate and the solvent is removed, the coating layer has a Vickers hardness of 25.0 MPa or less. The Vickers hardness is preferably 10.0 to 25.0 MPa, more preferably 15.0 to 25.0 MPa, and particularly preferably 20.0 to 25.0 MPa. The removal of the solvent can be confirmed by eliminating the change in weight of the coating film by drying the coating film of the printing ink composition.

ビッカース硬度が25.0MPaを超えるとレジストが脆すぎ、レジストの浮き、割れが顕著となり、エッチング又はめっき時に問題を生じる傾向がある。また、下限としては10MPa以上であることが好ましい。ビッカース硬度の測定には、例えば、ビッカース圧子(四角錘)を装着した超微小硬度計を用い、最大荷重19.6mN、保持時間2秒で測定したものである。より詳細に述べると、本発明においてビッカース硬度の値を下げるためには、例えば、樹脂に芳香族成分を導入する、分子量の大きい樹脂を使用する、樹脂の配合量を増やす、可塑剤の配合量を少なくする等の方法が挙げられる。また、ビッカース硬度の値を上げるためには、樹脂に柔軟な成分としてエチレングリコール成分等を導入すること、分子量の小さい樹脂を使用する、樹脂の配合量を減らす、可塑剤の配合量を多くすることなどの方法が挙げられる。   When the Vickers hardness exceeds 25.0 MPa, the resist is too brittle, the resist floats and cracks become prominent, and there is a tendency to cause problems during etching or plating. Further, the lower limit is preferably 10 MPa or more. For the measurement of Vickers hardness, for example, an ultra-micro hardness meter equipped with a Vickers indenter (square weight) is used and measured with a maximum load of 19.6 mN and a holding time of 2 seconds. More specifically, in order to reduce the value of Vickers hardness in the present invention, for example, an aromatic component is introduced into the resin, a resin having a large molecular weight is used, the compounding amount of the resin is increased, the compounding amount of the plasticizer For example, a method of reducing the amount of In order to increase the value of Vickers hardness, an ethylene glycol component or the like is introduced into the resin as a flexible component, a resin having a low molecular weight is used, the compounding amount of the resin is reduced, and the compounding amount of the plasticizer is increased. And the like.

なお、塗布層形成基材がロール形状等の平面ではない場合は、ロール形状等の塗布層形成基材への塗布とは別に、平面状の塗布層形成基材に本発明の印刷インキ組成物を塗布して、該印刷インキ組成物の塗布層を形成したのち、溶剤を除去した後の該塗布層のビッカース硬度を測定する。   In addition, when the coating layer forming substrate is not a flat surface such as a roll shape, the printing ink composition of the present invention is applied to the planar coating layer forming substrate separately from the application to the coating layer forming substrate such as a roll shape. After forming a coating layer of the printing ink composition, the Vickers hardness of the coating layer after removing the solvent is measured.

本発明における(A)有機溶剤に可溶な樹脂は、アルカリ溶液に可溶であることが好ましい。ここで、アルカリ溶液とは、塩基性化合物を含む溶液であり、塩基性化合物としては、例えば、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、メタケイ酸ナトリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド等が挙げられる。   The resin soluble in the organic solvent (A) in the present invention is preferably soluble in an alkaline solution. Here, the alkaline solution is a solution containing a basic compound. Examples of the basic compound include sodium phosphate, potassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, and sodium metasilicate. And tetramethylammonium hydroxide.

上記樹脂としては、印刷インキ組成物としたときに成膜性及び転写性を有するものが好ましく、例えば、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、アクリル樹脂、アミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂等が挙げられる。印刷インキ組成物を用い、フォトリソ法によってレジストパターンを形成する場合は、エッチング耐性の点から、ノボラック樹脂、アクリル樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂等を用いることが好ましい。これらは、単独で又は2種以上を組み合わせて使用される。   The resin preferably has a film-forming property and transferability when it is used as a printing ink composition. For example, a novolak resin, a polyhydroxystyrene resin, an acrylic resin, an amide resin, a polyester resin, a polycarbonate resin, a polyphenylene ether resin. Etc. When a printing ink composition is used and a resist pattern is formed by a photolithography method, it is preferable to use a novolak resin, an acrylic resin, a polyhydroxystyrene resin, or the like from the viewpoint of etching resistance. These are used alone or in combination of two or more.

上記ノボラック樹脂としては、例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール等とホルムアルデヒドとの重縮合体などを使用することができる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。ノボラック樹脂の重量平均分子量は1,000以上であることが好ましく、2,000以上であることがより好ましい。この重量平均分子量が1000未満ではエッチング耐性が低下する傾向がある。ノボラック樹脂の重量平均分子量の上限としては、200,000以下であることが好ましく、200,000を超えると溶剤に対する溶解性が低下する傾向がある。なお、本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算した値である。   As the novolac resin, for example, a polycondensate of phenol, cresol, xylenol or the like with formaldehyde can be used. These may be used alone or in combination of two or more. The weight average molecular weight of the novolak resin is preferably 1,000 or more, and more preferably 2,000 or more. When the weight average molecular weight is less than 1000, the etching resistance tends to be lowered. The upper limit of the weight average molecular weight of the novolak resin is preferably 200,000 or less, and if it exceeds 200,000, the solubility in a solvent tends to be lowered. The weight average molecular weight in the present invention is a value measured by gel permeation chromatography and converted using a standard polystyrene calibration curve.

上記アクリル樹脂としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、ビス・グリシジル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、含リン(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル、スチレン、スチレン誘導体、その他の重合性モノマー等の単独重合体、又は共重合体、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、シトラコン酸、無水シトラコン酸、シトラコン酸モノアルキルエステル等のカルボキシル基含有重合性モノマーと上記した(メタ)アクリル酸エステル、スチレンのスチレン誘導体、その他の重合性モノマー等との共重合体などが挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。アクリル樹脂の重量平均分子量は1,500〜200,000であることが好ましく、5,000〜100,000であることがより好ましく、10,000〜50,000であることが特に好ましい。この重量平均分子量が1,500未満ではエッチング耐性が低下する傾向があり、200,000を超えると溶剤に対する溶解性が低下する傾向がある。   Examples of the acrylic resin include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, bis-glycidyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, and trimethylolpropane. Tri (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl ( Homopolymerization of (meth) acrylates such as (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, and phosphorus-containing (meth) acrylate, styrene, styrene derivatives and other polymerizable monomers A carboxyl group-containing polymerizable monomer such as a copolymer, (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride, maleic acid monoalkyl ester, citraconic acid, citraconic anhydride, citraconic acid monoalkyl ester, and the like (Meth) acrylic acid esters, styrene derivatives of styrene, copolymers with other polymerizable monomers, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. The weight average molecular weight of the acrylic resin is preferably 1,500 to 200,000, more preferably 5,000 to 100,000, and particularly preferably 10,000 to 50,000. If the weight average molecular weight is less than 1,500, the etching resistance tends to decrease, and if it exceeds 200,000, the solubility in a solvent tends to decrease.

上記ポリヒドロキシスチレン樹脂としては、例えば、ヒドロキシスチレン、α−メチルスチレン等の単独重合体のほか、上述した重合性モノマーとの共重合体等が挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。ポリヒドロキシスチレン樹脂の重量平均分子量は1,000〜100,000であることが好ましく、2,000〜50,000であることがより好ましく、5,000〜30,000であることが特に好ましい。この重量平均分子量が1000未満ではエッチング耐性が低下する傾向があり、200,000を超えると溶剤に対する溶解性が低下する傾向がある。   Examples of the polyhydroxystyrene resin include homopolymers such as hydroxystyrene and α-methylstyrene, and copolymers with the above-described polymerizable monomers. These may be used alone or in combination of two or more. The weight average molecular weight of the polyhydroxystyrene resin is preferably 1,000 to 100,000, more preferably 2,000 to 50,000, and particularly preferably 5,000 to 30,000. If the weight average molecular weight is less than 1000, the etching resistance tends to decrease, and if it exceeds 200,000, the solubility in a solvent tends to decrease.

また、(A)有機溶剤に可溶な樹脂として、分子内に光又は熱重合性不飽和結合を有するものも使用することができる。このような樹脂としては、例えば、高酸価のカルボキシル基含有アクリル樹脂にグリシジル(メタ)アクリレート、アリルグリシジルエーテル、α−エチルグリシジル(メタ)アクリレート、クロトニルグリシジルエーテル、イタコン酸モノアルキルグリシジルエーテル等のオキシラン環とエチレン性不飽和結合を含有する化合物、アリルアルコール、2−ブテン−4−オール、フルフリルアルコール、オレイルアルコール、シンナミルアルコール、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、N−メチロールアクリルアミド等の水酸基とエチレン性不飽和結合を含有する化合物(不飽和アルコール)等を反応させた樹脂、水酸基を有するカルボキシル基含有樹脂に遊離イソシアネート基含有不飽和化合物を反応させた樹脂、エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸との付加反応物に多塩基酸無水物を反応させた樹脂、共役ジエン重合体や共役ジエン共重合体と不飽和ジカルボン酸無水物との付加反応物に水酸基含有重合性モノマーを反応させた樹脂などが挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。また、熱硬化型のエポキシ樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂等を併用することで熱硬化型の組成物とすることができる。   In addition, as the resin soluble in the organic solvent (A), a resin having a photopolymerizable unsaturated bond in the molecule can be used. Examples of such resins include glycidyl (meth) acrylate, allyl glycidyl ether, α-ethyl glycidyl (meth) acrylate, crotonyl glycidyl ether, itaconic acid monoalkyl glycidyl ether, etc. A compound containing an oxirane ring and an ethylenically unsaturated bond, allyl alcohol, 2-buten-4-ol, furfuryl alcohol, oleyl alcohol, cinnamyl alcohol, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, N- Resin obtained by reacting a hydroxyl group such as methylolacrylamide with a compound containing an ethylenically unsaturated bond (unsaturated alcohol), a carboxyl group-containing resin having a hydroxyl group and a free isocyanate group-containing unsaturated compound Resin, epoxy resin and unsaturated carboxylic acid addition reaction product, polybasic acid anhydride reaction, conjugated diene polymer or conjugated diene copolymer and unsaturated dicarboxylic acid anhydride addition reaction Examples thereof include resins obtained by reacting a product with a hydroxyl group-containing polymerizable monomer. These may be used alone or in combination of two or more. Moreover, it can be set as a thermosetting composition by using together a thermosetting epoxy resin, a urethane resin, a melamine resin, etc.

上記の光重合性不飽和結合を分子内に2個以上有するモノマーとしては、例えば、EO変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート(EOはエチレンオキシドを意味する。以下同様)、ECH変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート(ECHはエピクロロヒドリンを意味する。以下同様)、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、EO変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、ECH変性フタル酸ジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール400ジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール400ジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ECH変性1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、EO変性リン酸トリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート(POはプロピレンオキシドを意味する。以下同様)、トリス((メタ)アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。   Examples of the monomer having two or more photopolymerizable unsaturated bonds in the molecule include EO-modified bisphenol A di (meth) acrylate (EO means ethylene oxide; the same applies hereinafter), ECH-modified bisphenol A di (meta) ) Acrylate (ECH means epichlorohydrin; the same applies hereinafter), bisphenol A di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol Di (meth) acrylate, glycerol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, EO modified phosphoric acid di (meth) acrylate, ECH modified phthalic acid di (meth) acrylate, polyethylene glycol 400 di (meth) acrylate , Poly Lopylene glycol 400 di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, ECH modified 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, EO Modified tri (meth) acrylate phosphate, EO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, PO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate (PO means propylene oxide, the same applies hereinafter), tris ((meth) acryloxy) Ethyl) isocyanurate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaeryth Penta (meth) acrylate. These may be used alone or in combination of two or more.

また、本発明における(A)有機溶剤に可溶な樹脂の配合量は印刷インキ組成物全量に対して1〜50重量%であることが好ましく、3〜30重量%であることがより好ましく、5〜20重量%であることが特に好ましい。(A)有機溶剤に可溶な樹脂の配合量が50重量%を超えると転写性が低下する傾向があり、1重量%未満であると印刷インキ組成物の塗布層の厚さが薄くなりすぎ、エッチング耐性が低下する傾向がある。なお、本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算した値である。   In addition, the amount of the resin soluble in the organic solvent (A) in the present invention is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 3 to 30% by weight, based on the total amount of the printing ink composition. It is particularly preferably 5 to 20% by weight. (A) When the blending amount of the resin soluble in the organic solvent exceeds 50% by weight, the transferability tends to decrease, and when it is less than 1% by weight, the thickness of the coating layer of the printing ink composition becomes too thin. Etching resistance tends to decrease. The weight average molecular weight in the present invention is a value measured by gel permeation chromatography and converted using a standard polystyrene calibration curve.

本発明における(B)有機溶剤としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、イソペンタン、イソヘキサン、イソオクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロペンタン等の非極性の炭化水素系の有機溶剤などが挙げられる。もちろんこれらの混合系溶剤を使用することも可能である。また、エクソン化学株式会社のISOPAR H、ISOPAR H Fluid、ISOPAR G、ISOPAR L、ISOPAR L Fluid(以上、商品名)等の市販の溶媒を使用することも可能である。塗膜の乾燥性という点からは沸点100℃以下の低沸点の炭化水素系溶剤が好ましい。一般のオフセット印刷に使用される炭化水素系溶剤は版上の疎水面と親水面へのインキの付着をコントロールするために使用されているが、本発明者らは均一な塗膜を得るために炭化水素系溶剤を使用することが好ましいことを見いだした。   Examples of the organic solvent (B) in the present invention include nonpolar hydrocarbon organic solvents such as pentane, hexane, heptane, octane, decane, dodecane, isopentane, isohexane, isooctane, cyclohexane, methylcyclohexane, and cyclopentane. Is mentioned. Of course, it is also possible to use these mixed solvents. It is also possible to use commercially available solvents such as ISOPAR H, ISOPAR H Fluid, ISOPAR G, ISOPAR L, ISOPAR L Fluid (hereinafter, trade names) manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd. From the viewpoint of the drying property of the coating film, a low boiling hydrocarbon solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower is preferable. Hydrocarbon solvents used for general offset printing are used to control the adhesion of ink to the hydrophobic and hydrophilic surfaces on the plate, but the present inventors have obtained a uniform coating film. We have found that it is preferable to use hydrocarbon solvents.

また、炭化水素系溶剤以外の溶剤としては、例えば、沸点100℃未満の低沸点のエステル系溶剤、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤等が挙げられる。エステル系溶剤としては、例えば、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸i−プロピル、酢酸n−プロピル、酢酸i−ブチル、酢酸n−ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル等が挙げられる。アルコール系溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、セカンダリブタノール、ターシャリブタノール等が挙げられる。ケトン系溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。これらの溶剤は塗膜の乾燥性に重要で、沸点100〜250℃の高沸点の溶剤では塗膜の乾燥性が低下する傾向がある。また、炭化水素系溶剤単独では各種樹脂との相溶性が乏しいためエステル系溶剤、アルコ−ル系溶剤又はケトン系溶剤との組み合わせが好ましい。   Examples of solvents other than hydrocarbon solvents include low boiling ester solvents having a boiling point of less than 100 ° C., alcohol solvents, and ketone solvents. Examples of ester solvents include methyl formate, ethyl formate, propyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, i-propyl acetate, n-propyl acetate, i-butyl acetate, n-butyl acetate, methyl propionate, and ethyl propionate. Etc. Examples of the alcohol solvent include methanol, ethanol, propanol, isopropanol, secondary butanol, tertiary butanol and the like. Examples of the ketone solvent include acetone and methyl ethyl ketone. These solvents are important for the drying property of the coating film, and when the solvent has a high boiling point of 100 to 250 ° C., the drying property of the coating film tends to decrease. Further, since the hydrocarbon solvent alone is poorly compatible with various resins, a combination with an ester solvent, an alcohol solvent or a ketone solvent is preferable.

また、一方で基板への転写を向上させるために沸点100〜250℃の高沸点のアルキレングリコール化合物やアルキレングリコールエーテル化合物等を加えることができる。アルキレングリコール化合物としては、例えば、ジエンチレングリコール、プロピレングリコール等が挙げられる。また、アルキレングリコールエーテル化合物等としては、例えば、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールイソプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール−t−ブチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールプロピルエーテルアセテート、トリエチレングリコールイソプロピルエーテルアセテート、トリエチレングリコールブチルエーテルアセテート、トリエチレングリコール−t−ブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等を挙げることができる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。
(B)有機溶剤の配合量は印刷インキ組成物全量に対して50〜99重量%であることが好ましく、70〜97重量%であることがより好ましく、80〜95重量%特に好ましい。(B)有機溶剤の配合量が99重量%を超えると印刷インキ組成物の塗布層の厚さが薄くなりすぎ、エッチング耐性が低下する傾向があり、50重量%未満であると転写性が低下する傾向がある。
On the other hand, in order to improve the transfer to the substrate, a high-boiling alkylene glycol compound or alkylene glycol ether compound having a boiling point of 100 to 250 ° C. can be added. Examples of the alkylene glycol compound include diethylene glycol and propylene glycol. Examples of the alkylene glycol ether compound include diethylene glycol ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, and diethylene glycol methyl. Ether acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol propyl ether acetate, diethylene glycol isopropyl ether acetate, diethylene glycol butyl ether acetate, diethylene glycol-t-butyl ether acetate, triethylene glycol methyl ether Teracetate, Triethylene glycol ethyl ether acetate, Triethylene glycol propyl ether acetate, Triethylene glycol isopropyl ether acetate, Triethylene glycol butyl ether acetate, Triethylene glycol-t-butyl ether acetate, Dipropylene glycol dimethyl ether, Dipropylene glycol monobutyl ether, etc. Can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
(B) The blending amount of the organic solvent is preferably 50 to 99% by weight, more preferably 70 to 97% by weight, particularly preferably 80 to 95% by weight based on the total amount of the printing ink composition. (B) If the blending amount of the organic solvent exceeds 99% by weight, the thickness of the coating layer of the printing ink composition tends to be too thin and the etching resistance tends to decrease, and if it is less than 50% by weight, the transferability decreases. Tend to.

ただし、高沸点のアルキレングリコール化合物やアルキレングリコールエーテル化合物等を用いる場合の添加量は印刷インキ組成物の全体量に対して50重量%以下、好ましくは40重量%以下がよい。添加量が50重量%を超えると基板への転写性が低下する傾向があり、下限としては1%以上が好ましい。   However, the amount added when using a high-boiling alkylene glycol compound or alkylene glycol ether compound is 50% by weight or less, preferably 40% by weight or less, based on the total amount of the printing ink composition. When the addition amount exceeds 50% by weight, the transferability to the substrate tends to be lowered, and the lower limit is preferably 1% or more.

また、本発明の印刷インキ組成物は、印刷インキ組成物を塗布層形成基材上に塗布して印刷インキ組成物の塗布層を形成する塗布層形成工程と、該塗布層に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部分に該塗布層を転写して除去する除去工程と、該塗布層形成基材上に残った前記印刷インキ組成物の塗布層を基板に転写する転写工程とを有する凸版反転オフセット法に使用する印刷インキ組成物であって、該印刷インキ組成物が(A)有機溶剤に可溶な樹脂、(B)有機溶剤及び(C)可塑剤を含有してなることを特徴とする。   Further, the printing ink composition of the present invention comprises a coating layer forming step of coating the printing ink composition on a coating layer forming substrate to form a coating layer of the printing ink composition, and a predetermined shape with respect to the coating layer. A removing step of transferring and removing the coating layer on the convex portion of the relief plate by contacting the relief plate, and a transferring step of transferring the coating layer of the printing ink composition remaining on the coating layer forming substrate to the substrate A printing ink composition used for a letterpress reversal offset method comprising: (A) a resin soluble in an organic solvent, (B) an organic solvent, and (C) a plasticizer. It is characterized by.

(C)可塑剤とは、樹脂の可とう性を上げるための成分であり、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリシリコン等が挙げられ、ガラス基板やシリコン基板との密着性向上の見地からポリシリコンが好ましい。この可塑剤によって樹脂の可とう性を上げることにより、印刷インキ組成物層と基板との密着性を向上させ、パターンの割れを抑える効果がある。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。   (C) A plasticizer is a component for increasing the flexibility of a resin. Examples thereof include polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polysilicon. Polyethylene is used from the viewpoint of improving adhesion to a glass substrate or a silicon substrate. Silicon is preferred. By increasing the flexibility of the resin with this plasticizer, there is an effect of improving the adhesion between the printing ink composition layer and the substrate and suppressing cracking of the pattern. These may be used alone or in combination of two or more.

また、(C)可塑剤の配合量は印刷インキ組成物全量に対して0.01〜20重量%であることが好ましく、0.05〜15重量%であることがより好ましく、0.1〜10重量%であることが特に好ましい。(C)可塑剤の配合量が20重量%を超えるとエッチング耐性が低下する傾向があり、0.01重量%未満であると転写性が低下する傾向がある。   The blending amount of the plasticizer (C) is preferably 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 0.1% by weight based on the total amount of the printing ink composition. Particularly preferred is 10% by weight. (C) When the amount of the plasticizer exceeds 20% by weight, the etching resistance tends to decrease, and when it is less than 0.01% by weight, the transferability tends to decrease.

本発明の印刷インキ組成物を紫外線で硬化させる場合には、光開始剤を使用することが好ましい。この光開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、N,N′−テトラエチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベンゾフェノン、ベンジル、2,2−ジエトキシアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−1−プロパン、t−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2,3−ジクロロアントラキノン、3−クロル−2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,10−フェナントラキノン、1,2−ベンゾアントラキノン、1,4−ジメチルアントラキノン、2−フェニルアントラキノン、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体等が挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。   When the printing ink composition of the present invention is cured with ultraviolet rays, it is preferable to use a photoinitiator. Examples of the photoinitiator include benzophenone, N, N′-tetraethyl-4,4′-diaminobenzophenone, 4-methoxy-4′-dimethylaminobenzophenone, benzyl, 2,2-diethoxyacetophenone, benzoin, and benzoin. Methyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyldimethyl ketal, α-hydroxyisobutylphenone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino- 1-propane, t-butylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2,3-dichloroanthraquinone, 3-chloro-2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 1,4-naphthoquinone, 9,1 - phenanthraquinone, 1,2-anthraquinone, 1,4-dimethyl anthraquinone, 2-phenyl anthraquinone, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenyl imidazole dimer, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

また、基板との密着性を向上させるためにビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基等を有したシランカップリング剤やイソプロピルトリメタクリロイルチタネート、ジイソプロピルイソステアロイル−4−アミノベンゾイルチタネート等のチタネートカップリング剤を、膜の平滑性を向上させるために界面活性剤(フッ素系、シリコン系、炭化水素系等)を使用することができ、その他、紫外線吸収剤、酸化防止剤等の各種添加剤を必要に応じて適宜使用することができる。   Also, titanate cups such as silane coupling agents, isopropyl trimethacryloyl titanate, diisopropylisostearoyl-4-aminobenzoyl titanate having vinyl group, epoxy group, amino group, mercapto group, etc. to improve adhesion to the substrate Surfactants (fluorine-based, silicon-based, hydrocarbon-based, etc.) can be used to improve the smoothness of the film, and other additives such as ultraviolet absorbers and antioxidants can be used. It can be appropriately used as necessary.

次に印刷インキ組成物の印刷方法の一例を図1に則して説明する。図1に示すように印刷インキ組成物1はキャップコータ7等を使用してロール形状の塗布層形成基材3上に塗布し、印刷インキ組成物1の塗布層を形成する。この塗布層形成基材3の塗布層を形成する面は離型性を有することが好ましい。   Next, an example of the printing method of a printing ink composition is demonstrated according to FIG. As shown in FIG. 1, the printing ink composition 1 is applied onto a roll-shaped coating layer forming substrate 3 using a cap coater 7 or the like to form a coating layer of the printing ink composition 1. The surface of the coating layer forming substrate 3 on which the coating layer is formed preferably has releasability.

キャップコータ7は毛管現象を利用して印刷インキ組成物1を供給する。数分間風乾させた後、ロール状又は平板状凸板5を接触させ、不要な印刷インキ組成物1の塗布層を転写除去する。この凸板5の接触は押圧であることが好ましい。その後、残った印刷インキ組成物1の塗布層をロール形状の塗布層形成基材3から基板6面に転写させ所望のパターンを得る。   The cap coater 7 supplies the printing ink composition 1 using capillary action. After air-drying for several minutes, the roll-shaped or flat convex plate 5 is brought into contact, and an unnecessary coating layer of the printing ink composition 1 is transferred and removed. The contact of the convex plate 5 is preferably pressing. Thereafter, the remaining coating layer of the printing ink composition 1 is transferred from the roll-shaped coating layer forming substrate 3 to the surface of the substrate 6 to obtain a desired pattern.

凸版5としては、例えば、水現像ナイロン系感光性樹脂凸版(東洋紡プリンタイト;東洋紡績株式会社製商品名)等の感光性樹脂を用いことができる。さらに、凸版5には目的とする形状のパターンの逆パターンを形成する。凸部に印刷インキ組成物1の塗布層を転写除去するので表面張力の大きな組成としたり、印刷インキ組成物1の塗布層との接触面積を大きくするため凸部を粗化したりすることが好ましい。表面張力を大きくするには、例えば、構成樹脂に極性基を多量に含ませる。また、転写除去した印刷インキ組成物1の塗布層は、例えば、ブレード等で擦り取ったり、多孔性の紙等に押し当て除去したり、溶剤で洗浄除去したり、これらを組み合わせて除去することができる。塗布層形成基材3上に残った印刷インキ組成物1の層の基板6への転写は、塗布層形成基材3を形成する面の離型性能に影響されるが、形成するパターンの方向により影響される場合がある。時間的に縦方向に転写される場合、縦方向の線は途切れることなく転写されるが、横方向の線は転写性に劣る傾向があるので縦方向、斜め方向の線が多くなるようにし、横方向の線が少ないパターンとしたほうが好ましい。例えば、格子パターンでは、その格子を回転し、縦方向にひし形状に転写されるように凸版5の形状に工夫をこらし、基板6に転写された印刷インキ組成物1の層は格子パターンとなるよう角度を変えて製品取りする等を行うこともできる。これをしなくとも、離型性面の離型性能を調整することにより解決されることもあり、印刷インキ組成物1に充填材等を配合する等により解決することもある。   As the relief plate 5, for example, a photosensitive resin such as a water-developable nylon photosensitive resin relief plate (Toyobo Printite; Toyobo Co., Ltd., trade name) can be used. Further, a reverse pattern of a pattern having a target shape is formed on the relief plate 5. Since the coating layer of the printing ink composition 1 is transferred to and removed from the convex portions, it is preferable that the composition has a large surface tension, or the convex portions are roughened to increase the contact area with the coating layer of the printing ink composition 1. . In order to increase the surface tension, for example, a large amount of polar groups are contained in the constituent resin. Moreover, the coating layer of the printing ink composition 1 that has been transferred and removed may be removed by, for example, scraping with a blade or the like, pressing and removing it onto porous paper or the like, or washing and removing with a solvent. Can do. Although the transfer of the layer of the printing ink composition 1 remaining on the coating layer forming substrate 3 to the substrate 6 is affected by the release performance of the surface on which the coating layer forming substrate 3 is formed, the direction of the pattern to be formed May be affected. When transferring in the vertical direction temporally, the vertical line is transferred without interruption, but the horizontal line tends to be inferior in transferability, so that the vertical and diagonal lines increase, It is preferable to use a pattern with few horizontal lines. For example, in the lattice pattern, the lattice of the printing ink composition 1 transferred to the substrate 6 becomes a lattice pattern by rotating the lattice and devising the shape of the relief plate 5 so as to be transferred in a rhombus shape in the vertical direction. It is also possible to take products at different angles. Even without this, the problem may be solved by adjusting the mold release performance of the mold release surface, or may be solved by blending a filler or the like with the printing ink composition 1.

塗布層形成基材3の塗布層を形成する面は、離型性を有する面であることが好ましく、例えば、ロール表面に離型処理を施したロール状のものや、フィルム自体が離型性を有するもの、また、離型処理を施したフィルム等が挙げられる。   The surface on which the coating layer of the coating layer forming substrate 3 is formed is preferably a surface having releasability. For example, a roll having a release surface applied to the roll surface, or the film itself is releasable. And a film subjected to a release treatment.

塗布層形成基材3がフィルムである場合、連続した塗布層を形成することができ生産性を向上させることができる。フィルムの場合、連続して塗布層を形成でき図1の主胴2の表面に沿わすことにより、次工程の除去工程、転写工程を行うことができる。   When the coating layer forming substrate 3 is a film, a continuous coating layer can be formed and productivity can be improved. In the case of a film, a coating layer can be formed continuously and along the surface of the main cylinder 2 of FIG. 1, the removal process and transfer process of the next process can be performed.

ロール表面に離型処理を施したロール状のものとしては、例えば、金属、ゴム、樹脂、セラミック製のロールに離型剤で離型処理したもの、離型処理層を設けたもの等が挙げられる。離型処理層として表面張力の小さい、例えば、フッ素系樹脂、シリコン樹脂、ポリオレフィン系樹脂やオリゴマー等で被覆した層を有するもの、金属複合酸化物層、セラミック層等をメッキ、蒸着、プラズマ、焼付け等により形成したものなどが挙げられる。中でも、柔軟性で離型性に優れたシリコン樹脂で作製されたロールやシリコン樹脂を被覆したロールが好ましい。   Examples of roll-shaped rolls that have been subjected to release treatment on the roll surface include, for example, metal, rubber, resin, ceramic rolls that have been released with a release agent, and those that have a release treatment layer. It is done. Plating, vapor deposition, plasma, baking, etc. with a low surface tension, such as a layer coated with a fluorine resin, silicon resin, polyolefin resin or oligomer, metal composite oxide layer, ceramic layer, etc. And the like formed by, for example. Among these, a roll made of a silicon resin that is flexible and excellent in releasability and a roll coated with a silicon resin are preferable.

フィルム自体が離型性を有するものとしては、例えば、フッ素系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等の表面張力が小さい樹脂フィルムが挙げられ、具体的には、ポリテトラフルオロエチレン、ポリトリフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられる。これらのフィルムは、表面張力が20〜30dyne/cmであることが好ましい。表面張力は、例えば、滴容法による表面張力・界面張力測定ユニット等によって測定することができる。   Examples of the film having releasability include a resin film having a low surface tension such as a fluororesin and a polyolefin resin. Specifically, polytetrafluoroethylene, polytrifluoroethylene, polyethylene, Examples include polypropylene. These films preferably have a surface tension of 20 to 30 dyne / cm. The surface tension can be measured by, for example, a surface tension / interfacial tension measuring unit by a drop volume method.

離型処理は、例えば、離型剤により処理したものであり、離型剤としては、例えば、流動パラフィン、ポリオレフィンワックス、それらの部分酸化物、フッ化物、塩化物等の鉱油系離型剤、ステアリン酸、オレイン酸等の脂肪酸系離型剤、動植物油、天然ワックス等の油脂系離型剤、エチレングリコール脂肪酸エステル、ソルビトール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル等の脂肪酸エステル系離型剤、ポリオキシアルキレングリコール、グリコール類、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、高級脂肪族酸系アルコール等のアルコール系離型剤、ポリオキシエチレンアルキレンアミド、脂肪酸アマイド系等のアミド系離型剤、ポリオキシアルキレンリン酸エステル等のリン酸エステル系離型剤、ステアリン酸カルシウム、オレイン酸ナトリウム等の金属石鹸系離型剤などが挙げられ、これらは耐熱性に劣るのでシリコン系の離型剤やフッ素系の離型剤を併用することが好ましい。このように、シリコン系の離型剤又はフッ素系の離型剤を併用するとことで耐熱性及び離型性を高くすることができる傾向がある。このような、シリコン系の離型剤又はフッ素系の離型剤としては、例えば、ジメチルシリコンオイル、ジメチルシリコンゴム、シリコンレジン、有機変性シリコン、ポリテトラフルオロエチレン等が挙げられる。   The mold release treatment is, for example, a treatment with a mold release agent. Examples of the mold release agent include mineral oil-based mold release agents such as liquid paraffin, polyolefin wax, partial oxides thereof, fluorides and chlorides, Fatty acid release agents such as stearic acid and oleic acid, fat release agents such as animal and vegetable oils and natural waxes, fatty acid ester release agents such as ethylene glycol fatty acid esters, sorbitol fatty acid esters, polyoxyethylene fatty acid esters, poly Alcohol release agents such as oxyalkylene glycol, glycols, polyoxyethylene higher alcohol ether, higher aliphatic acid alcohol, amide release agents such as polyoxyethylene alkylene amide and fatty acid amide, polyoxyalkylene phosphoric acid Phosphate release agents such as esters, calcium stearate , And metal soap-based releasing agent such as sodium oleate and the like, which is preferably used in combination a releasing agent and a fluorine-based release agent silicon because poor heat resistance. Thus, there is a tendency that heat resistance and releasability can be increased by using a silicon release agent or a fluorine release agent in combination. Examples of such a silicon release agent or fluorine release agent include dimethyl silicone oil, dimethyl silicone rubber, silicone resin, organically modified silicone, polytetrafluoroethylene, and the like.

印刷インキ組成物1と離型性面のSP値(ソルビリティ・パラメータ)は離れていることが好ましく、具体的には、2以上離れていることが特に好ましい。SP値は、組成物等の場合には測定が困難であるので、例えば、Polym.Eng.Sci.,Vol.14の147〜154頁に記載されているFedorsの方法に準じて計算される値[単位:(MJ/m3)1/2]等をもちいる。SP値(ソルビリティ・パラメーター)は、一般に溶解性パラメーターと呼ばれるもので、樹脂の親水性又は疎水性の度合いを示す尺度であり、樹脂間の相溶性を判断する上でも重要な尺度となる。シリコン系離型剤では、ジメチルポリシロキサンの表面張力が、20〜21.5dyne/cmであるので、これをベースポリマーとして種々の樹脂と組み合わせてブレンド、共重合させることにより離型性を調整した離型剤とすることができる。離型剤の移行防止の観点からは、例えば、ペイントタイプのメチルフェニルシリコンオイル、長鎖アルキル変性オイル、フッ素化合物とシリコンポリマーの混合物、フッ素変性シリコン等を用いることもできる。また、シリコン系離型剤には、シリコンオイル(ベース樹脂として、ジメチルシリコン、ジメチル/シリコンレジン、変性シリコンオイル、フェニル基/長鎖アルキル基含有シリコンオイル)、硬化型(ベースポリマーとして、ジメチルシリコン系(縮合反応、付加反応型)、メチルシリコンワニス)がある。   The SP value (solubility parameter) between the printing ink composition 1 and the releasable surface is preferably separated, and specifically, it is particularly preferably 2 or more. Since the SP value is difficult to measure in the case of a composition or the like, see, for example, Polym. Eng. Sci. , Vol. 14 is used in accordance with the method of Fedors described on pages 147 to 154 [unit: (MJ / m3) 1/2]. The SP value (solubility parameter) is generally called a solubility parameter, and is a scale indicating the degree of hydrophilicity or hydrophobicity of a resin, and is an important scale for judging compatibility between resins. In the case of silicon mold release agent, the surface tension of dimethylpolysiloxane is 20 to 21.5 dyne / cm. Therefore, the release property was adjusted by blending and copolymerizing with various resins as a base polymer. It can be a mold release agent. From the viewpoint of preventing the release agent from migrating, for example, paint-type methylphenyl silicone oil, long-chain alkyl-modified oil, a mixture of a fluorine compound and a silicone polymer, fluorine-modified silicone, and the like can also be used. Silicone mold release agents include silicone oil (dimethyl resin, dimethyl / silicone resin, modified silicone oil, phenyl group / long chain alkyl group-containing silicone oil as base resin), and curable type (dimethylsilicone as base polymer). System (condensation reaction, addition reaction type), methyl silicon varnish).

塗布層の厚みが薄いほど印刷インキがはじきやすくなる。また、はじき、ピンホール等をなくすためには、塗布層形成基材3の塗布層を形成する面の表面張力を高めにすることや表面を粗化することが好ましい。この粗化は、面の表面の粗化でも、下地の粗化を利用したものでもよく、多孔性としたものでもよい。このようなものとしては、例えば、シリコン樹脂製のブランケットが好適である。   The thinner the coating layer, the easier it is to repel the printing ink. In order to eliminate repelling, pinholes, etc., it is preferable to increase the surface tension of the surface on which the coating layer of the coating layer forming substrate 3 is formed or to roughen the surface. This roughening may be roughening the surface of the surface, using roughening of the base, or porous. For example, a blanket made of silicon resin is suitable.

上記印刷インキ組成物1を転写する基板6としては、用途により選択されるが、例えば、白板ガラス、青板ガラス、シリカコート青板ガラス等の透明ガラス板、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂等の合成樹脂製シート、フィルム又は板、アルミニウム板、銅板、ニッケル板、ステンレス板等の金属板、その他セラミック板、光電変換素子を有する半導体基板などが挙げられる。後の工程でエッチングを行う場合等は、例えば、銅張積層板等の表面に金属層を有する基板であることが好ましい。   The substrate 6 to which the printing ink composition 1 is transferred is selected depending on the application. For example, a transparent glass plate such as white plate glass, blue plate glass, silica coated blue plate glass, polyester resin, polycarbonate resin, acrylic resin, vinyl chloride. Examples thereof include a synthetic resin sheet such as a resin, a film or plate, an aluminum plate, a copper plate, a nickel plate, a metal plate such as a stainless plate, other ceramic plates, and a semiconductor substrate having a photoelectric conversion element. When etching is performed in a later step, for example, a substrate having a metal layer on the surface of a copper clad laminate or the like is preferable.

このようにして形成された印刷インキ組成物1の塗布層の厚みは、用途によって適宜定まるが、エッチング耐性の点からは0.1〜10μmであることが好ましく、0.2〜5μmであることがより好ましい。   The thickness of the coating layer of the printing ink composition 1 thus formed is appropriately determined depending on the use, but is preferably 0.1 to 10 μm and preferably 0.2 to 5 μm from the viewpoint of etching resistance. Is more preferable.

基板6上に形成された印刷インキ組成物1の塗布層は100〜150℃で1〜15分間程度熱処理することによって充分に乾燥させる。必要に応じ、光硬化及び/又は熱硬化させることもできる。   The coating layer of the printing ink composition 1 formed on the substrate 6 is sufficiently dried by heat treatment at 100 to 150 ° C. for about 1 to 15 minutes. If necessary, it can be photocured and / or thermally cured.

次いで、基板6に形成された印刷インキ組成物1の塗布層のパターンをレジストとし、公知の方法でエッチング又はめっきを行うことにより基板6上に回路のパターンを形成することができる。本発明の印刷インキ組成物は薄膜形成に適することからエッチング法に適用することが好ましい。   Next, the pattern of the coating layer of the printing ink composition 1 formed on the substrate 6 is used as a resist, and a circuit pattern can be formed on the substrate 6 by performing etching or plating by a known method. Since the printing ink composition of the present invention is suitable for forming a thin film, it is preferably applied to an etching method.

次に、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はこれらによって制限されるものではない。
(実施例1)
1Lスケールの四つ口フラスコにクレゾールノボラック樹脂(明和化成社製 重量平均分子量5,000、p−クレゾール:m−クレゾール=60:40(モル比))125gを量りとった。ポリエチレングリコール(重量平均分子量600)25g、酢酸エチル600g、2−アセトキシ−1−メトキシプロパン(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)250g、ジエチレングリコール50gを添加し、窒素雰囲気下、6時間攪拌して樹脂を溶解させた。2ミクロンフッ素樹脂フィルターで加圧ろ過し、印刷インキ組成物を得た。
EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not restrict | limited by these.
Example 1
125 g of cresol novolak resin (Maywa Kasei Co., Ltd., weight average molecular weight 5,000, p-cresol: m-cresol = 60: 40 (molar ratio)) was weighed into a 1 L four-necked flask. Add 25 g of polyethylene glycol (weight average molecular weight 600), 600 g of ethyl acetate, 250 g of 2-acetoxy-1-methoxypropane (propylene glycol monomethyl ether acetate) and 50 g of diethylene glycol, and stir in a nitrogen atmosphere for 6 hours to dissolve the resin. It was. The ink was filtered under pressure with a 2 micron fluororesin filter to obtain a printing ink composition.

この印刷インキ組成物を、図1に示すようにキャップコ−タ7を用いて塗布層形成基材3であるシリコン樹脂製ブランケット上に塗布し、2〜3分間乾燥させて膜厚0.3μmの印刷インキ組成物1の塗布層を形成した。その後、凸版5を有する版胴4を用いて不要部分の塗布層を除去し、ガラス基板面に転写し、ガラス基板面に転写されたパタ−ンの精度、形状を顕微鏡で観察したところ、50ミクロン幅レジストのストライプパターンを形成できた。これとは別に、塗布層の外観(むら、はじき等)を観察するために、凸版5を有する版胴4を用いた塗布層の不要部分の除去工程を省略し、膜厚0.3μmの印刷インキ組成物1の塗布層を形成後、直接ガラス基板に転写し塗膜外観の観察を目視及び顕微鏡で観察を行ったところ、塗膜外観にははじき及びむらはなかった。   As shown in FIG. 1, this printing ink composition is applied onto a silicon resin blanket as a coating layer forming substrate 3 using a cap coater 7 and dried for 2 to 3 minutes to obtain a film thickness of 0.3 μm. The coating layer of the printing ink composition 1 was formed. Thereafter, an unnecessary portion of the coating layer was removed using the plate cylinder 4 having the relief plate 5, transferred to the glass substrate surface, and the accuracy and shape of the pattern transferred to the glass substrate surface were observed with a microscope. A micron-width resist stripe pattern could be formed. Apart from this, in order to observe the appearance (unevenness, repellency, etc.) of the coating layer, the step of removing unnecessary portions of the coating layer using the plate cylinder 4 having the relief plate 5 is omitted, and printing with a film thickness of 0.3 μm is performed. After forming the coating layer of the ink composition 1, it was directly transferred to a glass substrate, and the appearance of the coating film was observed visually and with a microscope. As a result, the coating film appearance was not repelled or uneven.

また、これらとは別に、前記塗布層をTFT電極用下地ゲート膜基板(Mo/Al Nd)面に転写し、レジストパターンを形成後、リン酸/硝酸/酢酸水溶液で基板をエッチングした(40℃、2分間)ところ、50ミクロン幅の配線を形成できた。
さらに、ビッカース硬度を測定するために、別途、上記で得られた印刷インキ組成物1をシリコン樹脂製ブランケット上に、膜厚30μmになるように3000rpmでスピンコーティングにより塗布した。その後、120℃で3分間乾燥させた後に、ビッカース圧子(四角錘)を装着した島津製作所製超微小硬度計DUH−201を用い、最大荷重19.6mN、保持時間2秒でビッカース硬度を測定したところ、23.8MPaであった。
Separately, the coating layer was transferred to the surface of the TFT electrode base gate film substrate (Mo / Al Nd) to form a resist pattern, and then the substrate was etched with an aqueous solution of phosphoric acid / nitric acid / acetic acid (40 ° C. (2 minutes) However, a wiring having a width of 50 microns could be formed.
Furthermore, in order to measure the Vickers hardness, the printing ink composition 1 obtained above was separately applied on a silicon resin blanket by spin coating at 3000 rpm so as to have a film thickness of 30 μm. Then, after drying at 120 ° C. for 3 minutes, the Vickers hardness was measured at a maximum load of 19.6 mN and a holding time of 2 seconds using a Shimadzu ultra-micro hardness meter DUH-201 equipped with a Vickers indenter (square weight). As a result, it was 23.8 MPa.

(比較例1)
ポリエチレングリコールを加えずに、実施例1と同様の条件で評価した。いずれも塗膜外観にははじき、むらがなかった。50ミクロン幅レジストのストライプパターンを形成できた。このレジストのビッカース硬度は30.5MPaだった。このレジストパターンを用いて、TFT電極用下地ゲート膜基板(Mo/Al Nd)をリン酸/硝酸/酢酸水溶液でエッチングした(40℃、2分間)。パターン形状をSEMで観察したところ、パターンのエッジ部分に浮きが見られ、その部分でのオーバーエッチングが見られた。
(Comparative Example 1)
Evaluation was performed under the same conditions as in Example 1 without adding polyethylene glycol. In all cases, the appearance of the coating film repelled and was not uneven. A stripe pattern of 50 micron width resist could be formed. This resist had a Vickers hardness of 30.5 MPa. Using this resist pattern, the base gate film substrate for TFT electrode (Mo / Al Nd) was etched with phosphoric acid / nitric acid / acetic acid aqueous solution (40 ° C., 2 minutes). When the pattern shape was observed by SEM, floating was observed at the edge portion of the pattern, and over-etching was observed at that portion.

印刷インキ組成物を用いて基板に印刷インキ組成物を転写する工程を説明する概略図。Schematic explaining the process of transferring a printing ink composition to a board | substrate using a printing ink composition.

符号の説明Explanation of symbols

1:印刷インキ組成物
2:主胴
3:塗布層形成基材(シリコン樹脂製ブランケット)
4:版胴
5:凸板
6:基板
7:キャップコータ

1: Printing ink composition 2: Main cylinder 3: Coating layer forming substrate (silicone resin blanket)
4: Plate cylinder 5: Convex plate 6: Substrate 7: Cap coater

Claims (12)

印刷インキ組成物を塗布層形成基材上に塗布して印刷インキ組成物の塗布層を形成する塗布層形成工程と、該塗布層に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部分に該塗布層を転写して除去する除去工程と、該塗布層形成基材上に残った該塗布層を基板に転写する転写工程とを有する凸版反転オフセット法に使用する印刷インキ組成物であって、
該印刷インキ組成物が(A)有機溶剤に可溶な樹脂及び(B)有機溶剤を含有してなり、塗布層形成基材上に該印刷インキ組成物の塗布層を形成したのち、溶剤を除去した後の該塗布層のビッカース硬度が25.0MPa以下である印刷インキ組成物。
A coating layer forming step of forming a coating layer of the printing ink composition by applying the printing ink composition onto the coating layer forming substrate; A printing ink composition used for a relief reversal offset method having a removal step of transferring and removing a coating layer, and a transfer step of transferring the coating layer remaining on the coating layer forming substrate to a substrate,
The printing ink composition comprises (A) a resin soluble in an organic solvent and (B) an organic solvent, and after forming a coating layer of the printing ink composition on a coating layer forming substrate, the solvent is added. The printing ink composition whose Vickers hardness of this application layer after removing is 25.0 Mpa or less.
さらに(C)可塑剤を含有してなる請求項1記載の印刷インキ組成物。   The printing ink composition according to claim 1, further comprising (C) a plasticizer. 印刷インキ組成物を塗布層形成基材上に塗布して印刷インキ組成物の塗布層を形成する塗布層形成工程と、該塗布層に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部分に該塗布層を転写して除去する除去工程と、該塗布層形成基材上に残った該塗布層を基板に転写する転写工程とを有する凸版反転オフセット法に使用する印刷インキ組成物であって、
該印刷インキ組成物が(A)有機溶剤に可溶な樹脂、(B)有機溶剤及び(C)可塑剤を含有してなる印刷インキ組成物。
A coating layer forming step of forming a coating layer of the printing ink composition by applying the printing ink composition onto the coating layer forming substrate; A printing ink composition used for a relief reversal offset method having a removal step of transferring and removing a coating layer, and a transfer step of transferring the coating layer remaining on the coating layer forming substrate to a substrate,
A printing ink composition comprising the printing ink composition comprising (A) a resin soluble in an organic solvent, (B) an organic solvent, and (C) a plasticizer.
塗布層形成基材の塗布層を形成する面が離型性を有する請求項1〜3いずれか1項に記載の印刷インキ組成物。   The printing ink composition of any one of Claims 1-3 in which the surface which forms the coating layer of a coating layer formation base material has releasability. 除去工程が、塗布層に対し所定形状の凸版を押圧して凸版の凸部分に前記印刷インキ組成物の塗布層を転写して除去する請求項1〜4いずれか1項に記載の印刷インキ組成物。   5. The printing ink composition according to claim 1, wherein the removing step presses the relief plate having a predetermined shape against the application layer to transfer and remove the application layer of the printing ink composition onto the convex portion of the relief plate. object. (A)有機溶媒に可溶な樹脂が、アルカリ溶液に可溶な樹脂を含む請求項1〜5いずれか1項に記載の印刷インキ組成物。   (A) The printing ink composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the resin soluble in an organic solvent contains a resin soluble in an alkaline solution. アルカリ溶液に可溶な樹脂が、ノボラック樹脂である請求項6記載の印刷インキ組成物。   The printing ink composition according to claim 6, wherein the resin soluble in the alkaline solution is a novolak resin. アルカリ溶液に可溶な樹脂が、ポリヒドロキシスチレン樹脂である請求項6記載の印刷インキ組成物。   The printing ink composition according to claim 6, wherein the resin soluble in the alkaline solution is a polyhydroxystyrene resin. 請求項1〜8いずれか1項記載の印刷インキ組成物を塗布層形成基材上に塗布して印刷インキ組成物の塗布層を形成する塗布層形成工程と、該塗布層に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部分に該塗布層を転写して除去する除去工程と、該塗布層形成基材上に残った該塗布層を基板に転写する転写工程とを有することを特徴とする凸版反転オフセット法。   A coating layer forming step of coating the printing ink composition according to any one of claims 1 to 8 on a coating layer forming substrate to form a coating layer of the printing ink composition, and a predetermined shape with respect to the coating layer A removing step of transferring and removing the coating layer on a convex portion of the relief plate by bringing the relief plate into contact; and a transferring step of transferring the coating layer remaining on the coating layer-forming substrate to the substrate. The letterpress inversion offset method. 請求項1〜8いずれか1項記載の印刷インキ組成物を塗布層形成基材上に塗布して印刷インキ組成物の塗布層を形成する塗布層形成工程と、該塗布層に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部分に該塗布層を転写して除去する除去工程と、該塗布層形成基材上に残った該塗布層を基板に転写する転写工程とを有することを特徴とするレジストパターンの形成法。   A coating layer forming step of coating the printing ink composition according to any one of claims 1 to 8 on a coating layer forming substrate to form a coating layer of the printing ink composition, and a predetermined shape with respect to the coating layer A removing step of transferring and removing the coating layer on a convex portion of the relief plate by bringing the relief plate into contact; and a transferring step of transferring the coating layer remaining on the coating layer-forming substrate to the substrate. Forming a resist pattern. 基板上に配線パターンが形成された電子部品の製造法であって、
請求項1〜8いずれか1項記載の印刷インキ組成物を塗布層形成基材上に塗布して印刷インキ組成物の塗布層を形成する塗布層形成工程と、該塗布層に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部分に該塗布層を転写して除去する除去工程と、該塗布層形成基材上に残った該塗布層を基板に転写する転写工程と、転写された印刷インキ組成物の塗布層をレジストとしてエッチング又はめっきを行う加工工程とを有することを特徴とする電子部品の製造法。
A method of manufacturing an electronic component having a wiring pattern formed on a substrate,
A coating layer forming step of coating the printing ink composition according to any one of claims 1 to 8 on a coating layer forming substrate to form a coating layer of the printing ink composition, and a predetermined shape with respect to the coating layer A removing step of transferring and removing the coating layer on the convex portion of the relief plate by contacting the relief plate, a transferring step of transferring the coating layer remaining on the coating layer forming substrate to the substrate, and the transferred printing ink And a processing step of etching or plating using a coating layer of the composition as a resist.
請求項11記載の電子部品の製造法により製造されてなる基板上に配線パターンが形成された電子部品。

The electronic component by which the wiring pattern was formed on the board | substrate manufactured by the manufacturing method of the electronic component of Claim 11.

JP2004223545A 2004-07-30 2004-07-30 Printing ink composition, method for letterpress reversed offset, method for forming resist pattern, method for producing electronic component and electronic component Pending JP2006037057A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004223545A JP2006037057A (en) 2004-07-30 2004-07-30 Printing ink composition, method for letterpress reversed offset, method for forming resist pattern, method for producing electronic component and electronic component

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004223545A JP2006037057A (en) 2004-07-30 2004-07-30 Printing ink composition, method for letterpress reversed offset, method for forming resist pattern, method for producing electronic component and electronic component

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006037057A true JP2006037057A (en) 2006-02-09

Family

ID=35902391

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004223545A Pending JP2006037057A (en) 2004-07-30 2004-07-30 Printing ink composition, method for letterpress reversed offset, method for forming resist pattern, method for producing electronic component and electronic component

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006037057A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008015842A1 (en) 2006-08-03 2008-02-07 Asahi Glass Company, Limited Process for producing mold
JP2008201953A (en) * 2007-02-21 2008-09-04 Hitachi Chem Co Ltd Resist composition
JP2011057820A (en) * 2009-09-09 2011-03-24 Dic Corp Ink composition for forming fine pattern
WO2012138139A3 (en) * 2011-04-05 2013-01-10 주식회사 엘지화학 Printing composition and printing method using same
WO2012138138A3 (en) * 2011-04-05 2013-01-10 주식회사 엘지화학 Printing composition and printing method using same
WO2016195025A1 (en) * 2015-06-05 2016-12-08 昭和電工株式会社 Composition for forming insulating protective film by offset printing

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04283274A (en) * 1991-03-11 1992-10-08 Asahi Chem Ind Co Ltd Ink composition for gravure printing
JPH05188592A (en) * 1992-01-09 1993-07-30 Taiyo Ink Seizo Kk Photosensitive resin composition for forming circuit pattern
JPH0750473A (en) * 1991-09-21 1995-02-21 Taiyo Ink Mfg Ltd Formation of solder resist pattern
JPH09100431A (en) * 1995-05-31 1997-04-15 Usa Government Soybean oil-based intaglio ink and its manufacturing method
JP2000289320A (en) * 1999-04-02 2000-10-17 Mitsumura Printing Co Ltd Imaging device
JP2001500917A (en) * 1996-09-24 2001-01-23 ヴィデオジェット システムズ インターナショナル インコーポレイテッド Binder resin for ink composition
JP2002189290A (en) * 2000-09-29 2002-07-05 Nippon Zeon Co Ltd Radiation-sensitive resin composition for forming insulating film and insulating film for organic electroluminescence device
JP2004107450A (en) * 2002-09-17 2004-04-08 Sekisui Chem Co Ltd Photocurable resin for sealant and liquid crystal display element or organic EL element
JP2004186111A (en) * 2002-12-06 2004-07-02 Sony Corp Polymer organic EL material composition

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04283274A (en) * 1991-03-11 1992-10-08 Asahi Chem Ind Co Ltd Ink composition for gravure printing
JPH0750473A (en) * 1991-09-21 1995-02-21 Taiyo Ink Mfg Ltd Formation of solder resist pattern
JPH05188592A (en) * 1992-01-09 1993-07-30 Taiyo Ink Seizo Kk Photosensitive resin composition for forming circuit pattern
JPH09100431A (en) * 1995-05-31 1997-04-15 Usa Government Soybean oil-based intaglio ink and its manufacturing method
JP2001500917A (en) * 1996-09-24 2001-01-23 ヴィデオジェット システムズ インターナショナル インコーポレイテッド Binder resin for ink composition
JP2000289320A (en) * 1999-04-02 2000-10-17 Mitsumura Printing Co Ltd Imaging device
JP2002189290A (en) * 2000-09-29 2002-07-05 Nippon Zeon Co Ltd Radiation-sensitive resin composition for forming insulating film and insulating film for organic electroluminescence device
JP2004107450A (en) * 2002-09-17 2004-04-08 Sekisui Chem Co Ltd Photocurable resin for sealant and liquid crystal display element or organic EL element
JP2004186111A (en) * 2002-12-06 2004-07-02 Sony Corp Polymer organic EL material composition

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008015842A1 (en) 2006-08-03 2008-02-07 Asahi Glass Company, Limited Process for producing mold
JP2008201953A (en) * 2007-02-21 2008-09-04 Hitachi Chem Co Ltd Resist composition
JP2011057820A (en) * 2009-09-09 2011-03-24 Dic Corp Ink composition for forming fine pattern
WO2012138139A3 (en) * 2011-04-05 2013-01-10 주식회사 엘지화학 Printing composition and printing method using same
WO2012138138A3 (en) * 2011-04-05 2013-01-10 주식회사 엘지화학 Printing composition and printing method using same
JP2014516371A (en) * 2011-04-05 2014-07-10 エルジー・ケム・リミテッド Printing composition and printing method using the same
JP2014516372A (en) * 2011-04-05 2014-07-10 エルジー・ケム・リミテッド Printing composition and printing method using the same
TWI462977B (en) * 2011-04-05 2014-12-01 Lg Chemical Ltd Composition for printing and printing method using the same
US9574095B2 (en) 2011-04-05 2017-02-21 Lg Chem, Ltd. Composition for printing and printing method using the same
WO2016195025A1 (en) * 2015-06-05 2016-12-08 昭和電工株式会社 Composition for forming insulating protective film by offset printing
JPWO2016195025A1 (en) * 2015-06-05 2018-03-22 昭和電工株式会社 Composition for forming an insulating protective film by offset printing
KR102056657B1 (en) * 2015-06-05 2019-12-17 쇼와 덴코 가부시키가이샤 Composition for forming insulating protective film by offset printing

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006124546A (en) Printing ink composition, method for forming resist pattern, method for producing electronic part and electronic part
US8541162B2 (en) High resolution, solvent resistant, thin elastomeric printing plates
US8372577B2 (en) Photosensitive resin compositions and photosensitive dry films using the same
US20080000373A1 (en) Printing form precursor and process for preparing a stamp from the precursor
JP2008202022A (en) Curable composition for optical nanoimprint lithography and pattern forming method using the same
JP2006037058A (en) Printing ink composition, letterpress reversal offset method, resist pattern formation method, electronic component manufacturing method, and electronic component
JP2006037060A (en) Printing ink composition, method for letterpress reversed offset, method for forming resist pattern, method for producing electronic component and electronic component
JP2006037059A (en) Printing ink composition, method for letterpress reversed offset, method for forming resist pattern, method for producing electronic component and electronic component
JP2008084984A (en) Photo-curable composition for photo-nanoimprint lithography and pattern formation method using the same
JP2006037057A (en) Printing ink composition, method for letterpress reversed offset, method for forming resist pattern, method for producing electronic component and electronic component
JP2009073958A (en) Curable composition for nanoimprint lithography, method for producing cured product using the same, and cured product
JP2005054104A (en) Printing ink composition for forming colored image, method for producing color filter using the same and color filter
JP2006045294A (en) Printing ink composition, coating film, its forming method, electronic component and its manufacturing method
JP6683208B2 (en) Photosensitive resin composition and photosensitive resin plate original plate
KR20160108160A (en) Etching resist composition and dry film
EP3885831B1 (en) Water-developable flexographic printing original plate
JP2005246712A (en) Resist pattern forming method, electronic component manufacturing method, and electronic component
JP2008056884A (en) Printing ink composition and method for producing color filter using the composition
JP2005331966A (en) Polymeric film having controlled viscosity response to temperature and shear
JP7740226B2 (en) Photosensitive flexo printing plate original plate
JP2005246790A (en) Resist pattern forming method, electronic component manufacturing method and electronic component
JP2023059827A (en) Photosensitive resin composition and plating method
JP2005133010A (en) Printing ink composition for forming colored image, method for producing color filter by using the same and color filter
JP5195337B2 (en) Etching resist ink and resist pattern forming method using the same
EP4628989A1 (en) Laminate for producing water-developable flexographic printing original plate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070626

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20101125

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101202

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110331