JP2006035769A

JP2006035769A - 印刷装置

Info

Publication number: JP2006035769A
Application number: JP2004222428A
Authority: JP
Inventors: Yasuhiko Kondo; 康彦近藤; Makoto Sugitani; 信杉谷
Original assignee: Sumitomo Rubber Industries Ltd
Current assignee: Sumitomo Rubber Industries Ltd
Priority date: 2004-07-29
Filing date: 2004-07-29
Publication date: 2006-02-09

Abstract

【課題】ブランケットのゴム層の表面を傷つけたり汚染したりすることなしに、ゴム層に含浸された溶剤を吸収することができる溶剤吸収体を備えており、印刷を繰り返した際に、安定して、高精度で良好な印刷を行うことができる印刷装置を提供する。
【解決手段】ブランケット１のゴム層１１に当接されて溶剤を吸収する溶剤吸収体２として、ゴムを含み、かつ当該ゴムと反応性を有しない可塑剤および老化防止剤を含まないゴム材料によって形成したものを用いる。なおゴム材料は、ゴムと反応性を有する可塑剤を含んでもよい。ブランケット１がロール状に形成される場合、溶剤吸収体２はロール状または無端ベルト状に形成するのが好ましい。
【選択図】図１

Description

本発明は、特にプラズマディスプレイパネルの電極等の、微細なパターンを印刷するのに適した印刷装置に関するものである。

自己発光型で薄型のプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、構造が簡単で大型化が可能であるため、特に家庭用大型テレビ用として、今後、大きな需要が見込まれている。しかし、ＰＤＰは、現状では、他の方式の表示パネルに比べて非常に高価であり、さらなる低価格化が望まれている。
ＰＤＰを低価格化するためには、製造コストを低減することが肝要であり、製造コストを低減するためには、複数の製造工程の中でも特にコストが高くついている、電極の形成工程と、各画素間の隔壁の形成工程とを、極力、低コスト化する必要がある。

このうち、電極の形成工程においては、高精度でかつ微細な電極を形成する必要があることから、現在のところ、いわゆるフォトリソグラフ法によって電極を形成するのが一般的である。フォトリソグラフ法においては、まず、ガラス基板の表面のほぼ全面に、画像のコントラストを確保するために黒色の感光性ペーストを一定の厚みに塗布し、乾燥させて黒色ペースト層を形成する。次いで、その上に、導電性に優れた感光性の銀ペーストを塗布し、乾燥させて銀ペースト層を形成した後、露光して、上記両ペースト層の、電極の形状に対応した部分のみ硬化させ、現像して未硬化のペースト層を除去することで電極が形成される。

しかし、電極のパターンは、その線幅がおよそ数十μｍ程度であるのに対し、線間のピッチは３５０μｍ程度あるため、硬化されて電極として用いられるペースト層よりも、除去されて廃棄されるペースト層の方が著しく多いことになり、銀ペースト中に含まれる多量の銀が無駄に消費されることになる。そして、このことと、ペースト層の形成から露光、現像、乾燥までの各工程に長時間を要すること、それぞれの工程に用いる装置のイニシャルコストおよびランニングコストが高くつくこと、上記の各工程を、塵埃等が高レベルで除去されたクリーン環境下で行う必要があること、現像工程で生じる多量の廃液を、環境に影響を及ぼさないため高度に処理する必要があること、等が原因となって、電極の形成工程に要するコストが高くついてしまう。

そこで、除去したペースト層中から銀を回収して再利用することが検討される。しかし、回収された銀は不純物を多く含んでおり、それを除去して、電極形成用の銀ペーストに再利用できる高純度の銀を得るには高度な精製工程を要する。しかも現状では、除去したペースト層中から銀を回収する回収工程や、上記精製工程を実施するためのコストの方が、銀の単価より高くついてしまう。そのため、銀を回収して再利用することは、ＰＤＰの低コスト化には繋がらないのが現状である。

近時、ＰＤＰの電極等を、上記のようにコストが高くつくフォトリソグラフ法に代えて、ブランケットを用いたオフセット印刷法によって形成することが検討されている。オフセット印刷法によれば、版の表面に導電性のインキを供給して形成されるインキパターンを、最表面にゴム層を備えたブランケットの、当該ゴム層の表面に転写し、次いで、このゴム層の表面から、ガラス基板等の被印刷体の表面に再転写させることによって、被印刷体の表面に、版に忠実な形状を有する電極を印刷することができる。そのため、特に、フォトリソグラフ法等によって形成した高精度の版を使用すれば、ガラス基板上に直接に、フォトリソグラフ法によって形成した場合とほぼ同程度の、高い精度を有するＰＤＰの電極等を形成することが可能である。

しかも、オフセット印刷法によれば、多量のインキを無駄に消費しないこと、印刷して乾燥させるだけで電極を形成できる上、１枚あたりの印刷に要する時間が短いこと、装置のイニシャルコストおよびランニングコストが低いこと、廃液等を生じないことから、電極の形成工程に要するコストを、フォトリソグラフ法に比べて著しく低減することも可能である。

ところが、ブランケット表面のゴム層は常にインキと接触していることから、印刷を繰り返すうちに、インキ中に含まれる溶剤がゴム層中に徐々に含浸され、それに伴って、インキに対するゴム層の濡れ性が徐々に変化する。そのため、印刷初期こそ、上記のように高精度の印刷が可能であるものの、印刷を繰り返すうちに、高精度で良好な印刷を行えなくなるという問題がある。

すなわち、インキ中に含まれる溶剤として、ゴム層に殆ど含浸されない、ゴム層に対する濡れ性の低い溶剤を使用すれば、印刷を繰り返しても、ゴム層のインキに対する濡れ性は殆ど変化しないため、安定した印刷を行えると考えられる。しかし、かかる濡れ性の低い溶剤を含むインキは、版からゴム層への転写性が十分でないことから、特に細線のパターンにおいて断線を生じるおそれがある。

それを防止するためには、溶剤として、ゴム層に対してある程度の濡れ性を有するものを使用しなければならない。しかし、ゴム層に対してある程度の濡れ性を有する溶剤を含むインキを使用して印刷を繰り返すと、溶剤がゴム層中に徐々に含浸される結果、ゴム層の、インキに対する濡れ性が徐々に上昇する。そして、それに伴って、細線のパターンの線幅が徐々に広くなったり、版表面の微小な汚れを転写するようになったりするだけでなく、ゴム層から被印刷体へのインキパターンの転写性が徐々に低下するようになり、安定して、高精度で良好な印刷を行えなくなる。

そこで、ゴム層を加熱して、含浸された溶剤を乾燥、除去することが検討されるが、そのためには、ゴム層を、およそ４０〜２００℃程度に加熱する必要があり、乾燥後の、表面温度の高いゴム層を版に接触させると、版が熱膨張して印刷精度が低下するという問題がある。
また、被印刷体にインキパターンを再転写後、次のインキパターンが版から転写されるまでの間のゴム層の表面に、溶剤を吸収する機能を有する溶剤吸収体を当接させて、ゴム層中に含浸された溶剤を、この溶剤吸収体によって吸収して除去することが提案されている。

例えば、特許文献１には、ブランケットのゴム層に、不織布や紙類等で形成した溶剤吸収体のベルトを当接させて、ゴム層に含浸された溶剤を吸収し、次いでこの溶剤吸収体を加熱等して、吸収した溶剤を乾燥、除去するようにした印刷装置が記載されている。
また、特許文献２には、ブランケットのゴム層に、当該ゴム層よりも軟らかいゴムの板、ロールもしくは無端ベルトや、あるいは繊維状、スポンジ状の無塵ワイパ等の溶剤吸収体を当接させて、ゴム層に含浸された溶剤を吸収し、次いで、必要に応じて、この溶剤吸収体を加熱等して、吸収した溶剤を乾燥、除去するようにした印刷装置が記載されている。
特開２０００−１５８６２０号公報（請求項５、第００３５欄〜第００３８欄、第００４６欄〜第００４７欄、図３）特開２０００−１５８６３３号公報（請求項１〜７、第００２３欄、第００２６欄〜第００３４欄、図１〜図３）

ところが、前記特許文献１に記載された不織布や紙等を構成する繊維は、ブランケットのゴム層、特に溶剤が含浸された膨潤状態のゴム層と比べて硬い上、不織布や紙等の表面から突出した繊維が、ゴム層の表面と点状または微小な線状に接触するため、摩擦によってゴム層の表面を傷つけやすく、ゴム層の表面に傷が入ると、その傷が印刷に反映されて印刷不良を生じるという問題がある。

また、特許文献２に記載された繊維状、スポンジ状の無塵ワイパ等についても同様である。繊維状、スポンジ状を維持するためにはその材質がある程度、硬くなければならない上、いずれもゴム層の表面と点状または微小な線状に接触するため、摩擦によってゴム層の表面を傷つけやすく、その傷が印刷に反映されて印刷不良を生じてしまう。
これに対し、ゴムの板、ロールあるいは無端ベルトは、特許文献２に記載されているように、その表面が軟らかいゴムによって平滑に形成され、ゴム層の表面と広い面積に亘って面接触（ロールとロールの接触も、ニップ幅等を考慮すると面接触である）するため、摩擦によってゴム層の表面を傷つけにくい。

しかし、上記ゴム中に含まれる可塑剤がその表面に浸出し、ブランケットのゴム層との接触によってゴム層の表面を汚染して印刷不良を生じさせるという問題がある。すなわち、可塑剤がゴム層の表面に転移して当該表面を汚染すると、その濡れ性が大きく変化するため、安定して、高精度で良好な印刷を行えなくなる。
また、例えばアミン系老化防止剤等の、ゴムの表面に析出して耐オゾン性や耐候性、耐熱性等を向上させる機能を有する老化防止剤が配合されている場合には、当該老化防止剤の、ゴムの表面に析出した結晶が、異物として、ゴム層の表面に転移して当該表面を汚染して、ピンホール等の印刷不良を生じる原因となる。

本発明の目的は、ブランケットのゴム層の表面を傷つけたり汚染したりすることなしに、ゴム層に含浸された溶剤を吸収することができる溶剤吸収体を備えており、印刷を繰り返した際に、安定して、高精度で良好な印刷を行うことができる印刷装置を提供することにある。

請求項１記載の発明は、最表面にゴム層を備え、版の表面に形成したインキパターンをゴム層の表面に転写後、被印刷体の表面に再転写させる工程を繰り返し行うブランケットと、被印刷体にインキパターンを再転写後、次のインキパターンが版から転写されるまでの間のゴム層の表面に当接されて、インキパターンを形成するインキからゴム層中に含浸される溶剤を、当該ゴム層中から吸収する溶剤吸収体とを備える印刷装置において、上記溶剤吸収体が、ゴムを含み、かつ当該ゴムと反応性を有しない可塑剤および老化防止剤を含まないゴム材料によって形成されることを特徴とする印刷装置である。

請求項２記載の発明は、溶剤吸収体を形成するゴム材料が、ゴムと反応性を有する可塑剤を含んでいる請求項１記載の印刷装置である。
請求項３記載の発明は、溶剤吸収体を形成するゴムの、インキ中に含まれる溶剤に２３℃で２４時間、浸漬した際の重量変化率が＋５〜＋４００％である形成される請求項１記載の印刷装置である。

請求項４記載の発明は、ブランケットのゴム層が、シリコーンゴムによって形成される請求項１記載の印刷装置である。
請求項５記載の発明は、ブランケットが、中心軸を中心として回転されるロール状に形成され、かつ、溶剤吸収体が、ブランケットのゴム層の表面に当接しながら、その回転に合わせて回転されるロール状または無端ベルト状に形成されると共に、上記ゴム層と当接して溶剤を吸収した溶剤吸収体から溶剤を除去する溶剤除去手段を備える請求項１記載の印刷装置である。

請求項１記載の発明の印刷装置において用いる溶剤吸収体は、軟らかいゴム材料によって、従来同様に、基本的に表面が平滑で、ブランケットのゴム層の表面と広い面積に亘って面接触するように形成されるため、摩擦によってゴム層の表面を傷つけにくい。しかも、上記ゴム材料は、溶剤吸収体の表面に浸出してゴム層の表面に転移するおそれのある、ゴムと反応性を有さない可塑剤や、溶剤吸収体の表面に析出してゴム層の表面に付着するおそれのある老化防止剤を含まないことから、これらの成分によってゴム層の表面を汚染するおそれもない。

したがって請求項１記載の発明の印刷装置によれば、印刷を繰り返した際に、溶剤吸収体によって、ブランケットのゴム層の表面を傷つけたり汚染したりすることなしに、ゴム層に含浸された溶剤を吸収させながら、安定して、高精度で良好な印刷を行うことが可能となる。
請求項２記載の発明によれば、溶剤吸収体が、可塑剤を含むゴム材料によって形成されるため、ゴム材料を溶剤吸収体の形状に形成する際の加工性が向上すると共に、形成後の溶剤吸収体の柔軟性が向上して、ゴム層の表面をより一層、傷つけにくくすることができる。しかも、上記可塑剤はゴムと反応性を有しており、形成後の溶剤吸収体中においてゴム分子と一体化されるため、溶剤吸収体の表面に浸出せず、したがってゴム層の表面に転移して汚染するおそれもない。

請求項３記載の発明によれば、溶剤吸収体が、前記の溶剤吸収特性を有し、溶剤の吸収能に優れたゴムによって形成されるため、ブランケットのゴム層から、溶剤をより効率よく速やかに吸収しながら、さらに安定して、高精度で良好な印刷を行うことができる。
請求項４記載の発明によれば、ブランケットのゴム層が、化学的に安定で、種々の溶剤に対する濡れ性が低く、基本的に多量の溶剤を含浸しない上、熱的、物理的にも安定で、寸法変化等を生じにくいシリコーンゴムによって形成されるため、さらに安定して、高精度で良好な印刷を行うことができる。

請求項５記載の発明によれば、ロール状または無端ベルト状に形成され、ブランケットのゴム層の表面に当接される溶剤吸収体によって、ロール状に形成されたブランケットから、その回転に伴って連続的に、溶剤を吸収すると共に、吸収した溶剤を、溶剤吸収体の回転に伴って、溶剤除去手段によって連続的に除去することができるため、ブランケットのゴム層を、長期間に亘って、溶剤の含浸量が一定の範囲内に調整された状態に維持して、安定して、高精度で良好な印刷を行い続けることができる。

図１は、本発明の印刷装置の、実施の形態の一例における、要部としての、ブランケット１と溶剤吸収体２とを示す図であって、同図(a)は、溶剤吸収体２をブランケット１のゴム層１１の表面に当接させた状態を示す正面図、同図(b)は、離間させた状態を示す正面図である。
また、図２(a)(b)は、上記例の印刷装置の、全体の構成と、それを用いて、ガラス基板等の平板状の被印刷体３の表面にインキパターン４を印刷する工程を説明する概略図である。

図２(a)(b)を参照して、この例の印刷装置は、上記のように、ガラス基板等の平板状の被印刷体３の表面に、インキパターン４を印刷するためのもので、ドラム状のブランケット胴５の周囲に、ロール状に配設されたブランケット１と、表面にインキパターン４が形成される平板状の凹版６と、凹版６を保持するための版定盤７と、上記被印刷体３を凹版６と同一平面上に位置させるように保持するためのワーク定盤８とを備えている。

上記印刷装置により、被印刷体３の表面にインキパターン４を印刷するためには、まず、凹版６上に形成した凹部６１内にインキを充てんしてインキパターン４を形成する。そのためには、図示していないが、例えば凹版６上の全面にインキを供給し、次いでブレード等を用いて、凹版６の凹部６１にインキを充てんしながらそれ以外のインキを除去することが行われる。

次いで、この凹版６の表面に、ブランケット１を所定の圧接力で圧接させた状態で、ブランケット胴５を、その中心軸Ｃを中心として、図２(a)中に実線の矢印で示す方向に回転させながら、同図中に黒矢印で示すように凹版６の表面に対して平行移動させることで、ブランケット１の表面（すなわちゴム層１１の表面）に、インキパターン４を転写させる〔図２(a)〕。

次いで、インキパターン４が転写されたブランケット１を、今度は被印刷体３の表面に所定の圧接力で圧接させた状態で、ブランケット胴５を、その中心軸Ｃを中心として、図２(b)中に実線の矢印で示す方向に回転させながら、同図中に黒矢印で示すように被印刷体３の表面に対して平行移動させることで、ブランケット１の表面に転写されたインキパターン４を、被印刷体３の表面に再転写させて、１回の印刷工程が終了する〔図２(b)〕。

この操作を繰り返すことにより、多数の被印刷体３の表面に、インキパターン４を連続的に印刷することができる。また、被印刷体３の表面に印刷したインキパターンを、次工程において加熱、乾燥させる等すれば、前述したＰＤＰの電極等が形成される。
図１(a)(b)を参照して、ブランケット１は、上記のように中心軸Ｃを中心として、両図中に実線の矢印で示す方向に回転されるドラム状のブランケット胴５の周囲に、ロール状に配設されており、その最表面にゴム層１１を備えている。詳しくは、ブランケット１は、ブラケット胴５に外挿される円筒状の支持体層１２の外周面に、継ぎ目のないゴム層１１を積層してロール状に形成されている。ただし、ブランケット１は、平板状の支持体層の片面にゴム層を積層した平板状のものを、ブランケット胴５の周囲に巻回して固定することによって、ブランケット胴５の周囲にロール状に配設しても良い。

ゴム層１１は、例えばエチレン-プロピレン共重合ゴム（ＥＰＭ）、エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム（ＥＰＤＭ）、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム（ＮＢＲ）、スチレン−ブタジエン共重合ゴム（ＳＢＲ）、フッ素ゴム、シリコーンゴム、およびこれらのブレンドゴム等の、インキに対する耐性に優れた種々のゴムによって形成することができるが、特に、化学的に安定で、種々の溶剤に対する濡れ性が低く、基本的に多量の溶剤を含浸しない上、熱的、物理的にも安定で、寸法変化等を生じにくいシリコーンゴムによって形成するのが好ましい。またゴム層１１は、その硬度を調整するために、各種シリカ、炭酸カルシウム、ケイソウ土、石英粉等の充てん材を含有しても良い。

溶剤吸収体２は、この例では無端ベルト状に形成されている。そして、軸線をブランケット胴５の中心軸Ｃと平行に配置した２つの従動ロール２１、２２と、１つのテンションロール２３との間に掛け渡されている。
従動ロール２１、２２は、ブランケット胴５の周囲にロール状に配設されたブランケット１の表面のゴム層１１との間に溶剤吸収体２を挟んで当接された図１(a)の当接状態と、離間された図１(b)の離間状態の２状態を取りうるように、ブランケット胴５に対して平行移動可能に配設されている。

また、テンションロール２３は、従動ロール２１、２２と共に平行移動可能に配設されていると共に、図示しない付勢手段によって、両図中に白矢印で示すように、従動ロール２１、２２から離間する方向に常時、付勢されており、それによって、各ロール２１〜２３間に掛け渡した溶剤吸収体２に所定の張力を付与している。
そのため、図１(a)の当接状態では、溶剤吸収体２は、従動ロール２１、２２間に掛け渡された領域において、テンションロール２３から付与された張力によって、所定の圧接力で、ブランケット１のゴム層１１の表面に圧接される。そして、この圧接状態において、溶剤吸収体２は、ブランケット胴５の回転に伴って、図中に実線の矢印で示す方向に従動回転しながら、ゴム層１１に含浸された溶剤を吸収する。

溶剤吸収体２がゴム層１１から吸収した溶剤は、溶剤吸収体２の、従動ロール２２とテンションロール２３との間に掛け渡された領域に配設された溶剤除去手段２４によって、溶剤吸収体２から除去される。溶剤除去手段２４としては、例えば溶剤吸収体２を加熱して溶剤を蒸発させるヒータや、溶剤吸収体２に当接して溶剤を吸収する別の溶剤吸収体等が挙げられる。

上記溶剤吸収体２は、前述した印刷工程が行われている間、つまり図２(a)の転写から図２(b)の再転写までの間は、各ロール２１〜２３をブランケット胴５に対して離間する方向に平行移動させることによって、図１(b)に示す離間状態とされる。そして、印刷工程のインターバルの間、つまり再転写の終了後、次の転写が開始されるまでの間は、各ロール２１〜２３をブランケット胴５の方向に平行移動させることによって、図１(a)に示す当接状態とされる。

そして、この当接状態において、溶剤吸収体２は、ブランケット胴５の回転に伴って従動回転しながら、転写工程でゴム層１１の表面に転写されたインキパターン４から当該ゴム層１１中に含浸された溶剤を連続的に吸収する。また、吸収された溶剤は、溶剤吸収体２の従動回転に伴って、溶剤除去手段２４によって連続的に除去される。そのため、溶剤吸収体２の、ブランケット胴５の回転に伴って従動回転して、ゴム層１１の表面に新たに当接される部分は、常に溶剤が除去された、溶剤吸収能に優れた状態が維持される。

したがって、印刷工程のインターバルごとに、ゴム層１１の表面に溶剤吸収体２を当接させて溶剤を吸収する作業を行うことによって、ブランケットのゴム層を、長期間に亘って、溶剤の含浸量が一定の範囲内に調整された状態に維持して、安定して、高精度で良好な印刷を行い続けることができる。
溶剤吸収体２は、ゴムを含み、かつ当該ゴムと反応性を有しない可塑剤および老化防止剤を含まないゴム材料によって形成される。

溶剤吸収体２を形成するゴムとしては、天然ゴムや各種の合成ゴムがいずれも使用可能であり、合成ゴムとしては、例えばブタジエンゴム（ＢＲ）、スチレン−ブタジエン共重合ゴム（ＳＢＲ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム（ＮＢＲ）、エチレン−プロピレン共重合ゴム（ＥＰＭ）、エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム（ＥＰＤＭ）、シリコーンゴム等が挙げられる。また、シリコーンゴムとしては、加硫前に固形であるミラブル型シリコーンゴムの他、加硫もしくは硬化前に液状を呈する室温硬化型（ＲＴＶ）の液状シリコーンゴム（１液型または２液型）等を用いることもできる。

このうち、天然ゴム、ＢＲ、ＳＢＲ、ＮＢＲ等の、分子中に二重結合を有するゴムは、本質的に耐光性が低いため、老化防止剤を含まない場合は光劣化が懸念される。ＥＰＤＭのうちジエン分の多いものも同様である。しかし、溶剤吸収体２は、その使用条件下において強い光に曝されることは殆どないと考えられるので、これらのゴムを含み、かつ当該ゴムと反応性を有しない可塑剤および老化防止剤を含まないゴム材料を使用して溶剤吸収体２を形成しても実用上、差し支えはない。しかし、ＣＲやＥＰＭ、シリコーンゴム等の、分子中に二重結合を有しないゴムや、ＥＰＤＭのうちジエン分の少ないものを用いれば、溶剤吸収体２の耐久性をさらに向上できる。

ゴム材料は、ゴムと反応性を有しない可塑剤を含んではいけないため、ゴム材料を溶剤吸収体の形状に形成する際の加工性や、形成後の溶剤吸収体の柔軟性を考慮すると、ゴムとしては、前記液状シリコーンゴムを使用するのが好ましい。また、加硫前に固形である通常のゴムの場合は、分子量の小さいムーニー粘度の低いものを使用するのも有効である。

また、ゴム材料に、加硫時にゴムと反応して、形成後の溶剤吸収体中においてゴム分子と一体化される、ゴムと反応性を有する可塑剤を含ませることも、ゴム材料を溶剤吸収体の形状に形成する際の加工性や、形成後の溶剤吸収体の柔軟性を向上するために有効である。
かかる、ゴムと反応性を有する可塑剤としては、ゴムの種類に応じて選択される各種可塑剤を変性させて、その分子中に、ゴムと反応性を有する官能基（例えばカルボキシル基、アクリル基、水酸基等）を導入したものが挙げられる。また、ゴムと反応性を有する可塑剤のもとになる各種可塑剤としては、例えばシリコーンゴムやＥＰＤＭ等の極性の低いゴムに適した、パラフィン系オイル、シリコーンオイル、プロセスオイル等の極性の低い可塑剤や、あるいはＮＢＲ、ＣＲ等の極性の高いゴムに適した、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジブチル等のエステル型可塑剤等が挙げられる。

無端ベルト状の溶剤吸収体２は、上記のゴム材料からなる単層構造を有していてもよいし、織布等で形成した基材の片面に、ゴム材料からなるゴム層を積層した積層構造を有していてもよい。このうち、積層構造を有する溶剤吸収体２は、基材の片面に固形のゴム材料からなるシートを積層した後、加圧、加熱してゴムを加硫させるか、あるいは、基材の片面に液状のゴム材料を塗布した後、加圧、加熱してゴムを加硫させることによって製造される。

なお、溶剤吸収体２は、無端ベルト状以外にも、例えばロール状、板状等に形成することもできる。ロール状の溶剤吸収体は、無端ベルト状のものと同様にして使用することができる。また、板状のものは、図２(a)(b)で説明した版６や被印刷体３と同一平面となるように並べておき、インキパターン４を非印刷体３に再転写した後のブランケット１を、この板状の溶剤吸収体の表面に所定の圧接力で圧接させた状態で、ブランケット胴５を、その中心軸Ｃを中心として回転させながら、溶剤吸収体の表面に対して平行移動させることで、ゴム層１１中に含浸された溶剤を、溶剤吸収体によって吸収することができる。

溶剤吸収体２を形成するゴム、すなわち、無端ベルト状で単層構造の溶剤吸収体それ自体や、無端ベルト状で積層構造の溶剤吸収体の、ゴム材料によって形成された部分、ロール状や板状の溶剤吸収体の、ゴム材料によって形成された部分は、インキ中に含まれる溶剤に２３℃で２４時間、浸漬した際の重量変化率が＋５〜＋４００％であるのが好ましい。重量変化率が＋５％未満では、溶剤吸収体２の、溶剤を吸収する能力が不十分で、ゴム層１１から、溶剤を効率よく速やかに吸収できないおそれがあり、かかる溶剤吸収体２を使用してゴム層１１から溶剤を十分に吸収するには、溶剤吸収体２をゴム層１１の表面に当接させている時間、すなわち印刷工程間のインターバルを長く取る必要があるため、ＰＤＰの電極等の生産性が低下するおそれがある。また、重量変化率が＋４００％を超える場合には、溶剤吸収体２が過度に膨潤して軟化したり破断したりするおそれがある。なお、重量変化率は、上記の範囲内でも特に、＋１０〜＋３００％であるのが好ましい。

溶剤吸収体２は、その表面のゴム硬さが、ブランケットのゴム層１１のゴム硬さ以下であることが好ましい。これにより、ゴム層１１の表面をさらに傷つけにくくすることができる。

以下に本発明を、実施例、比較例に基づいて説明する。
実施例１：
インキとしては、アクリル樹脂、銀粉末、ガラスフリット、および溶剤としての酢酸ブチルカルビトールを配合し、３本ロールで混練したペースト状の導電性インキを用いた。
印刷装置は、図２(a)(b)に示す構成とし、そのうちブランケット１としては、付加反応架橋型のＲＴＶ型液状シリコーンゴムを硬化させた後、表面を研磨して形成された、厚みが３００μｍ、ゴム硬さ（ＪＩＳ−Ａ）が４０°で、かつ表面の１０点平均粗さが０．１μｍであるゴム層１１を有するものを用いた。また、版６としては、線幅が８０μｍ、線間のピッチが３５０μｍのストライプパターンに対応した凹部６１を備えた平板状のものを用いた。

さらに、溶剤吸収体２としては、図１(a)(b)に示す無端ベルト状で、かつ織布製の基材の片面に、シリコーンゴムの層を有する積層構造を備えたものを用いた。積層構造の溶剤吸収体２は、上記基材の片面に、シリコーンゴムと反応性を有しない可塑剤および老化防止剤を含まない、付加反応架橋型のＲＴＶ型液状シリコーンゴムを塗布し、無端ベルト状に繋いだ状態でシリコーンゴムを硬化させて形成した。シリコーンゴムの層の、表面のゴム硬さ（ＪＩＳ−Ａ）は３０°であった。またシリコーンゴムの層のサンプルを採取して、酢酸ブチルカルビトールに２３℃で２４時間、浸漬した際の重量変化率は＋１３％であった。

上記の導電性インキと印刷装置とを使用して、印刷のインターバルの間、ブランケット１のゴム層１１の表面に溶剤吸収体２を当接させて溶剤を吸収させながら、また、溶剤除去手段２４としてのヒータによって溶剤吸収体２を加熱して、吸収した溶剤を蒸発させながら、被印刷体３としての、ＰＤＰの前面板（ガラス基板、対角４２インチ）の表面に、版６の凹部６１に対応したストライプパターンを印刷する操作を１０，０００枚、連続して行ったところ、いずれも、４２インチの面内で±１０μｍ以内という高い印刷精度を維持することができた。

実施例２：
溶剤吸収体２として、図１(a)(b)に示す無端ベルト状で、かつ織布製の基材の片面に、ＮＢＲの層を有する積層構造を備えたものを用いた。積層構造の溶剤吸収体２は、上記基材の片面に、ＮＢＲと反応性を有しない可塑剤および老化防止剤を含まないＮＢＲのシートを積層し、無端ベルト状に繋いだ状態でＮＢＲを加硫させて形成した。ＮＢＲの層の、表面のゴム硬さ（ＪＩＳ−Ａ）は４０°であった。またＮＢＲの層のサンプルを採取して、酢酸ブチルカルビトールに２３℃で２４時間、浸漬した際の重量変化率は＋１２０％であった。

上記の溶剤吸収体２を使用したこと以外は実施例１と同様にして、印刷のインターバルの間、ブランケット１のゴム層１１の表面に溶剤吸収体２を当接させて溶剤を吸収させながら、また、溶剤除去手段２４としてのヒータによって溶剤吸収体２を加熱して、吸収した溶剤を蒸発させながら、被印刷体３としての、ＰＤＰの前面板（ガラス基板、対角４２インチ）の表面に、版６の凹部６１に対応したストライプパターンを印刷する操作を、実施例１と同じ枚数、連続して行ったところ、いずれも、４２インチの面内で±１０μｍ以内という高い印刷精度を維持することができた。

実施例３：
溶剤吸収体２として、図１(a)(b)に示す無端ベルト状で、かつ織布製の基材の片面に、ＮＢＲの層を有する積層構造を備えたものを用いた。積層構造の溶剤吸収体２は、上記基材の片面に、ＮＢＲ１００重量部と、当該ＮＢＲと反応性を有する可塑剤としてのフタル酸ジアリルエステル〔ダイセル化学工業(株)製の反応性希釈剤〕２０重量部とを含み、かつＮＢＲと反応性を有しない可塑剤および老化防止剤を含まないゴム材料のシートを積層し、無端ベルト状に繋いだ状態でＮＢＲを加硫させて形成した。シート形成時の作業性は、実施例２に比べて向上し、より短時間でシート化することができた。ＮＢＲの層の、表面のゴム硬さ（ＪＩＳ−Ａ）は３０°であった。またＮＢＲの層のサンプルを採取して、酢酸ブチルカルビトールに２３℃で２４時間、浸漬した際の重量変化率は＋１１０％であった。

実施例４：
溶剤吸収体２として、図１(a)(b)に示す無端ベルト状で、かつ織布製の基材の片面に、天然ゴムの層を有する積層構造を備えたものを用いた。積層構造の溶剤吸収体２は、上記基材の片面に、天然ゴム１００重量部と、当該天然ゴムと反応性を有する可塑剤としての、末端にＯＨ基を有する液状イソプレン〔(株)クラレ製のＬＩＲ−３０〕１５重量部とを含み、かつ天然ゴムと反応性を有しない可塑剤および老化防止剤を含まないゴム材料のシートを積層し、無端ベルト状に繋いだ状態で天然ゴムを加硫させて形成した。シート形成時の作業性は、実施例２に比べて向上し、より短時間でシート化することができた。天然ゴムの層の、表面のゴム硬さ（ＪＩＳ−Ａ）は３０°であった。また天然ゴムの層のサンプルを採取して、酢酸ブチルカルビトールに２３℃で２４時間、浸漬した際の重量変化率は＋４０％であった。

比較例１：
溶剤吸収体２として、図１(a)(b)に示す無端ベルト状で、かつ織布製の基材の片面に、ＮＢＲの層を有する積層構造を備えたものを用いた。積層構造の溶剤吸収体２は、上記基材の片面に、ＮＢＲ１００重量部と、当該ＮＢＲと反応性を有しない可塑剤としてのフタル酸ジオクチル１５重量部とを含むゴム材料のシートを積層し、無端ベルト状に繋いだ状態でＮＢＲを加硫させて形成した。シート形成時の作業性は、実施例２に比べて向上し、より短時間でシート化することができた。ＮＢＲの層の、表面のゴム硬さ（ＪＩＳ−Ａ）は４０°であった。またＮＢＲの層のサンプルを採取して、酢酸ブチルカルビトールに２３℃で２４時間、浸漬した際の重量変化率は＋１００％であった。

上記の溶剤吸収体２を使用したこと以外は実施例１と同様にして、印刷のインターバルの間、ブランケット１のゴム層１１の表面に溶剤吸収体２を当接させて溶剤を吸収させながら、また、溶剤除去手段２４としてのヒータによって溶剤吸収体２を加熱して、吸収した溶剤を蒸発させながら、被印刷体３としての、ＰＤＰの前面板（ガラス基板、対角４２インチ）の表面に、版６の凹部６１に対応したストライプパターンを印刷する操作を、実施例１と同じ枚数、連続して行ったところ、溶剤吸収体２のＮＢＲの層の表面にブリードしたフタル酸ジオクチルがゴム層１１の表面を汚染して濡れ性を上昇させた結果、ゴム層１１からＰＤＰの前面板へのインキの転写性が低下した。そして、部分的にインキが転写されない個所が生じて、断線やピンホールが発生した。

比較例２：
溶剤吸収体２として、図１(a)(b)に示す無端ベルト状で、かつ織布製の基材の片面に、天然ゴムの層を有する積層構造を備えたものを用いた。積層構造の溶剤吸収体２は、上記基材の片面に、天然ゴム１００重量部と、当該天然ゴムと反応性を有しない可塑剤としてのナフテン系オイル２０重量部と、アミン系の老化防止剤１重量部とを含むゴム材料のシートを積層し、無端ベルト状に繋いだ状態で天然ゴムを加硫させて形成した。シート形成時の作業性は、実施例２に比べて向上し、より短時間でシート化することができた。天然ゴムの層の、表面のゴム硬さ（ＪＩＳ−Ａ）は４０°であった。また天然ゴムの層のサンプルを採取して、酢酸ブチルカルビトールに２３℃で２４時間、浸漬した際の重量変化率は＋２０％であった。

上記の溶剤吸収体２を使用したこと以外は実施例１と同様にして、印刷のインターバルの間、ブランケット１のゴム層１１の表面に溶剤吸収体２を当接させて溶剤を吸収させながら、また、溶剤除去手段２４としてのヒータによって溶剤吸収体２を加熱して、吸収した溶剤を蒸発させながら、被印刷体３としての、ＰＤＰの前面板（ガラス基板、対角４２インチ）の表面に、版６の凹部６１に対応したストライプパターンを印刷する操作を、実施例１と同じ枚数、連続して行ったところ、表面にブリードしたナフテン系オイルがゴム層１１の表面を汚染した。また、天然ゴムの層の表面に析出したアミン系老化防止剤の結晶が、異物として、ゴム層１１の表面に付着して、ピンホールが発生した。

本発明の印刷装置の、実施の形態の一例における、要部としての、ブランケットと溶剤吸収体とを示す図であって、同図(a)は、溶剤吸収体をブランケットのゴム層の表面に当接させた状態を示す正面図、同図(b)は、離間させた状態を示す正面図である。同図(a)(b)は、それぞれ上記例の印刷装置の、全体の構成と、それを用いて、ガラス基板等の平板状の被印刷体の表面にインキパターンを印刷する工程を説明する概略図である。

符号の説明

１ブランケット
１１ゴム層
２溶剤吸収体
２４溶剤除去手段
３被印刷体
４インキパターン
６版
Ｃ中心軸

Claims

最表面にゴム層を備え、版の表面に形成したインキパターンをゴム層の表面に転写後、被印刷体の表面に再転写させる工程を繰り返し行うブランケットと、被印刷体にインキパターンを再転写後、次のインキパターンが版から転写されるまでの間のゴム層の表面に当接されて、インキパターンを形成するインキからゴム層中に含浸される溶剤を、当該ゴム層中から吸収する溶剤吸収体とを備える印刷装置において、上記溶剤吸収体が、ゴムを含み、かつ当該ゴムと反応性を有しない可塑剤および老化防止剤を含まないゴム材料によって形成されることを特徴とする印刷装置。
溶剤吸収体を形成するゴム材料が、ゴムと反応性を有する可塑剤を含んでいる請求項１記載の印刷装置。
溶剤吸収体を形成するゴムの、インキ中に含まれる溶剤に２３℃で２４時間、浸漬した際の重量変化率が＋５〜＋４００％である形成される請求項１記載の印刷装置。
ブランケットのゴム層が、シリコーンゴムによって形成される請求項１記載の印刷装置。
ブランケットが、中心軸を中心として回転されるロール状に形成され、かつ、溶剤吸収体が、ブランケットのゴム層の表面に当接しながら、その回転に合わせて回転されるロール状または無端ベルト状に形成されると共に、上記ゴム層と当接して溶剤を吸収した溶剤吸収体から溶剤を除去する溶剤除去手段を備える請求項１記載の印刷装置。