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JP2006032528A - Single wafer stocker - Google Patents

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JP2006032528A
JP2006032528A JP2004207061A JP2004207061A JP2006032528A JP 2006032528 A JP2006032528 A JP 2006032528A JP 2004207061 A JP2004207061 A JP 2004207061A JP 2004207061 A JP2004207061 A JP 2004207061A JP 2006032528 A JP2006032528 A JP 2006032528A
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Tadahiro Omi
忠弘 大見
Hidehiro Taga
英博 多賀
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Tohoku University NUC
Taisei Corp
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Tohoku University NUC
Taisei Corp
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Abstract

【課題】 複数枚のウエハ等の平板状部材を、一枚毎に最小限のスペースで保管することができ、よって当該平板状部材の搬入出も容易となる枚葉式ストッカーを提供する。
【解決手段】 平板状部材3の搬入口11と搬出口12とが設けられたケーシング10内に、平板状部材3の移送方向の両側の上下部にそれぞれ配設された回転部材15a、15bと、これら回転部材間に架け渡された無端部材17a、17bと、両側の無端部材間の複数箇所において、移送方向を横切るように水平に架設された複数の支持部材18a、18bとからなる少なくとも2組の支持装置13a、13bを、互いの移送方向に隣接する支持部材18a、18bによって平板状部材3の移送方向両端部を支持するように間隔をおいて設置し、これら支持装置の回転部材15a、15bを逆方向に同期回転させる駆動手段を設けることにより、支持部材18a、18bによって支持した平板状部材3を昇降させるようにした。
【選択図】 図1
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a single wafer stocker in which flat members such as a plurality of wafers can be stored in a minimum space for each sheet, and hence the flat members can be easily carried in and out.
Rotating members (15a, 15b) disposed in upper and lower portions on both sides of a flat plate member (3) in a transfer direction in a casing (10) provided with a carry-in port (11) and a carry-out port (12) of the flat plate member (3). The endless members 17a and 17b spanned between the rotating members and a plurality of support members 18a and 18b horizontally spanned across the transfer direction at a plurality of positions between the endless members on both sides. The pair of support devices 13a and 13b are installed at intervals so as to support both ends in the transfer direction of the flat plate member 3 by support members 18a and 18b adjacent to each other in the transfer direction, and the rotation member 15a of these support devices. , 15b is provided with a driving means for synchronously rotating in the reverse direction, so that the flat plate member 3 supported by the support members 18a, 18b is moved up and down.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、半導体ウエハ等の平板状部材を、一枚ずつ一時保管するための枚葉式ストッカーに関するものである。   The present invention relates to a single wafer stocker for temporarily storing flat members such as semiconductor wafers one by one.

例えば、半導体用ウエハやLCD(液晶ディスプレイ)、PDP(プラズマディスプレイ)、EL(電界発光ディスプレイ)等の平板ディスプレイ用ガラス基板の製造工場等においては、上記半導体用ウエハやガラス基板等(以下、ウエハ等と称す。)を一の製造工程から他の製造工程へと搬送する過程で、時間調整等のためにこれらを一時保管しておくクリーンストッカーが設けられている。   For example, in a factory for manufacturing glass substrates for flat panel displays such as semiconductor wafers, LCDs (liquid crystal displays), PDPs (plasma displays), ELs (electroluminescent displays), etc., the semiconductor wafers, glass substrates, etc. A clean stocker is provided for temporarily storing them for time adjustment and the like in the process of transporting from one manufacturing process to another manufacturing process.

従来のこの種のクリーンストッカーは、搬入口および搬出口が設けられ、内部がクリーンエア(清浄空気)によって充満された建屋の内部の両側に、ウエハ等を収納したカセットを格納する複数段の棚が配設され、これら棚間の中央部分に、棚に対するカセットの出し入れを行うスタッカークレーンが、棚と上記搬入口および搬出口との間に走行自在に設けられるとともに、各棚の後面側に、清浄化した空気を建屋内に流動させるファンフィルターユニットが設けられたものである。   A conventional clean stocker of this type is provided with a carry-in port and a carry-out port, and a plurality of shelves for storing cassettes containing wafers and the like on both sides of the interior filled with clean air (clean air). In the central part between these shelves, a stacker crane for loading and unloading cassettes to and from the shelves is provided between the shelves and the carry-in and carry-out ports, and on the rear side of each shelf, A fan filter unit is provided for flowing purified air into the building.

ところで、上記クリーンストッカーにウエハ等を保管する場合には、図4に示すような、内部がカセットピン2によって上下方向に複数段に区切られたカセット1を用いたバッチ方式の搬送・保管形態が採用されている。
そして、ウエハ等3を上記クリーンストッカーに保管する際には、先ずその前工程において、装置から搬出された複数枚の上記ウエハ等3を、カセット1のカセットピン2間に格納して上記クリーンストッカーに搬入するとともに、当該クリーンストッカーから搬出した際には、再びこれらウエハ等3をカセット1から取り出して後工程の装置等に搬送するようになっている。
特開2003−249538公報 特開平8−340043号公報
By the way, when storing wafers or the like in the clean stocker, there is a batch type transport / storage form using a cassette 1 whose inside is divided into a plurality of stages in the vertical direction by cassette pins 2 as shown in FIG. It has been adopted.
When the wafers 3 are stored in the clean stocker, first, in the previous process, a plurality of the wafers 3 carried out from the apparatus are stored between the cassette pins 2 of the cassette 1 to store the clean stocker. In addition, when the wafer is unloaded from the clean stocker, the wafers 3 and the like 3 are again taken out from the cassette 1 and transferred to an apparatus for a subsequent process.
JP 2003-249538 A JP-A-8-340043

このようなカセット1を用いたバッチ方式の搬送・保管形態にあっては、複数枚のウエハ等3を一のカセット1内に格納して一括搬送しているため、搬送中の振動によりカセットピン2とウエハ等3が図中A部において接触・摺動し、ウエハ等3に静電気が帯電するという欠点がある。   In such a batch-type transport / storage form using the cassette 1, a plurality of wafers 3 and the like 3 are stored in the same cassette 1 and are transported in a batch. 2 and the wafer 3 are in contact with each other at the portion A in the figure, and the wafer 3 is charged with static electricity.

また、クリーンストッカーに保管するたびに、カセット1に対するウエハ等3の収納・取り出しを行う必要があり、工程や装置が複雑化するという問題点もある。
このため、近年、これらウエハ等の搬送においては、上記従来のカセット1を用いたバッチ方式から、一枚ずつのウエハ等を搬送する、いわゆる枚葉搬送方式に移行する要請が高まっている。
In addition, every time it is stored in the clean stocker, it is necessary to store and take out the wafers 3 and the like from the cassette 1, and there is a problem that the process and apparatus become complicated.
For this reason, in recent years, in the transfer of these wafers and the like, there is an increasing demand for shifting from the batch method using the conventional cassette 1 to a so-called single wafer transfer method in which wafers or the like are transferred one by one.

しかしながら、上記従来のクリーンストッカーのように、スタッカークレーンを用いた保管形態によっては、搬送頻度がカセット1を用いた場合と比較して、数十倍にもなるためにコストが嵩むとともに、膨大な面積および容積を要するという問題点がある。   However, depending on the storage form using the stacker crane as in the above-described conventional clean stocker, the conveyance frequency is several tens of times higher than the case where the cassette 1 is used. There is a problem of requiring area and volume.

この発明は、かかる事情に鑑みなされたもので、複数枚のウエハ等の平板状部材を、一枚毎に最小限のスペースで保管することができ、よって当該平板状部材の搬入出も容易となる枚葉式ストッカーを提供することを課題とするものである。   The present invention has been made in view of such circumstances, and it is possible to store a plurality of wafers and other flat plate members with a minimum space for each one, and therefore it is easy to carry in and out the flat plate members. It is an object of the present invention to provide a single wafer stocker.

上記課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、平板状部材の搬入口と搬出口とが設けられたケーシング内に、上記平板状部材の移送方向の両側の上下部にそれぞれ配設された回転部材と、これら回転部材間に架け渡された無端部材と、両側の上記無端部材間の複数箇所において、上記移送方向を横切るように水平に架設された複数の支持部材とからなる少なくとも2組の支持装置を、互いの上記移送方向に隣接する上記支持部材によって上記平板状部材の移送方向両端部を支持するように間隔をおいて設置し、これら支持装置の上記回転部材を逆方向に同期回転させる駆動手段を設けることにより、上記支持部材によって支持した上記平板状部材を昇降させるようにしたことを特徴とするものである。   In order to solve the above-mentioned problems, the invention described in claim 1 is arranged in upper and lower portions on both sides in the transport direction of the flat plate member in a casing provided with the flat plate member inlet and outlet. A rotation member provided, an endless member spanned between the rotation members, and a plurality of support members horizontally laid across the transfer direction at a plurality of positions between the endless members on both sides. At least two sets of support devices are installed at intervals so as to support both ends in the transfer direction of the flat plate member by the support members adjacent to each other in the transfer direction, and the rotating members of these support devices are reversed. By providing drive means for synchronously rotating in the direction, the flat plate member supported by the support member is raised and lowered.

また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のケーシングの下部には、上記搬入口から搬出口に向けて上記平板状部材の両側部を支持しつつ搬送するローラと、上記平板状部材の裏面側に上記ローラと並列的に配設され、噴出する気体によって上記平板状部材を浮上させる浮上ユニットとを備えた平板状部材の搬送装置が設けられ、上記支持装置の上記無端部材および支持部材が上記ローラ間に配置されていることを特徴とするものである。   According to a second aspect of the present invention, in the lower part of the casing according to the first aspect, a roller that conveys while supporting both sides of the flat plate member from the carry-in port toward the carry-out port, and the flat plate A plate-like member conveying device provided in parallel with the roller on the back side of the plate-like member, and provided with a floating unit that floats the plate-like member by the jetting gas, and the endless member of the support device The support member is disposed between the rollers.

さらに、請求項3に記載の発明は、請求項2に記載のケーシング内には、上記搬送装置と上記隣接する支持部材とを内包する第2のケーシングが設けられ、当該第2のケーシングには、内部を分子状汚染物質が10ppb以下に除去された大気圧露点−100℃以下のクリーンドライエア(以下、超低露点空気と称す。)によって充満させる第1のクリーンドライエアの供給管と、上記浮上ユニットに、上記平板状部材の浮上用気体として上記クリーンドライエアを供給する第2のクリーンドライエアの供給管とが設けられていることを特徴とするものである。   Further, in the invention described in claim 3, the casing described in claim 2 is provided with a second casing that encloses the conveying device and the adjacent support member, and the second casing includes the second casing. A first clean dry air supply pipe filled with clean dry air (hereinafter referred to as ultra-low dew point air) having an atmospheric pressure dew point of −100 ° C. or less in which molecular contaminants have been removed to 10 ppb or less; The unit is provided with a second clean dry air supply pipe for supplying the clean dry air as a floating gas for the flat plate member.

なお、上記平板状部材が、極度に分子状汚染物質を嫌うものである場合には、上記超低露点空気として、5ppb以下の分子状汚染物質が除去されたものを用いることが一層好ましい。   If the flat plate member is extremely disliked by molecular contaminants, it is more preferable to use the ultra low dew point air from which molecular contaminants of 5 ppb or less have been removed.

ここで、上記超低露点空気は、例えばシリカゲル等の高い吸水性を有する円板状部材を複数段に設け、これら円板状部材を回転させつつ、外気をブロアーから上記複数段の円板状部材の一区画に通過させて、順次その露点を下げるとともに、水分を吸収した上記円板状部材を上記回転方向の他の区画において、ヒータ等により乾燥する周知の超低露点空気の供給装置によって得ることができる。   Here, the ultra-low dew point air is provided with a plurality of disk-shaped members having high water absorption, such as silica gel, for example, and the plurality of stages of disk-shaped members are rotated from the blower while rotating the disk-shaped members. Passing through one section of the member, the dew point is lowered in sequence, and the disk-shaped member that has absorbed moisture is dried by a known ultra-low dew point air supply device in other sections in the rotational direction by a heater or the like. Obtainable.

なお、上記超低露点空気の供給装置によれば、複数段に配されたシリカゲル等の円板状部材を通過する際に、空気中に含まれる有機物等の汚染物質も捕集・除去されるが、さらに最終段に所定のULPAフィルタを設置することにより、分子状汚染物質が10ppb以下に除去された清浄な上記超低露点空気を得ることができる。   According to the above ultra-low dew point air supply device, contaminants such as organic matter contained in the air are also collected and removed when passing through a disk-shaped member such as silica gel arranged in a plurality of stages. However, by installing a predetermined ULPA filter in the final stage, it is possible to obtain clean ultra-low dew point air from which molecular contaminants have been removed to 10 ppb or less.

請求項1〜3のいずれかに記載の発明によれば、先ずケーシングの搬入口から内部に導入された平板状部材を、上記支持装置の支持部材間を通して、その搬送方向の両端部を、2組の支持装置の移送方向に隣接する支持部材の上方に位置させて停止させる。次いで、上記駆動手段によって、互いの回転部材を逆方向に同期回転させることにより、互いの上記支持部材を上昇させる。   According to the invention described in any one of claims 1 to 3, first, a flat plate member introduced into the inside from the carry-in port of the casing is passed between the support members of the support device, and both ends in the transport direction are set to 2 The pair of supporting devices are stopped by being positioned above the supporting members adjacent to each other in the transfer direction. Next, the above-mentioned supporting members are raised by synchronously rotating the rotating members in opposite directions by the driving means.

これにより、上記支持部材によって平板状部材の移送方向両端部を掬い上げて上昇させる。次いで、上記支持部材の下方に位置する支持部材間に、上記ケーシングの搬入口から内部に導入された他の平板状部材を通し、同様に上記駆動手段によって、支持装置の回転部材を逆方向に同期回転させることにより、当該平板状部材の両端部を掬い上げて上昇させる。   Thereby, the both ends in the transport direction of the flat plate member are scooped up and raised by the support member. Next, another plate-like member introduced into the inside from the carry-in port of the casing is passed between the support members positioned below the support member, and the rotation member of the support device is reversed in the reverse direction by the driving means. By rotating synchronously, both end portions of the flat plate member are lifted and raised.

そして、以上の工程を繰り返すことにより、隣接する支持装置の複数の支持部材間に、複数枚の平板状部材を一枚毎、格納することができる。
また、上記支持装置間に格納してある平板状部材を搬出する際には、上述した上昇工程を繰り返して、上方の平板状部材から順次プッシャ等を用いてケーシングの搬出口に払い出したり、あるいは駆動手段によって上記回転部材を上述した上昇工程とは反対の方向に互いに逆回転させて支持部材を降下させることにより、下方の平板状部材から順次ケーシングの搬出口に送ることができる。
By repeating the above steps, a plurality of flat members can be stored one by one between a plurality of support members of adjacent support devices.
Further, when carrying out the flat plate member stored between the supporting devices, the above-described ascending process is repeated, and the upper flat plate member is sequentially discharged to the carry-out port of the casing using a pusher or the like, or By rotating the rotating member in the opposite direction to the above-described ascending process by the driving means to lower the supporting member, the rotating member can be sequentially sent from the lower flat plate member to the carry-out port of the casing.

この結果、本発明に係る枚葉式ストッカーによれば、簡易な設備によって、複数枚のウエハ等の平板状部材を、一枚毎に最小限のスペースで保管することができるとともに、従来のカセットを用いたバッチ式の搬送・保管形態と比較して、上記平板状部材の搬入出も一層容易となる。   As a result, according to the single-wafer type stocker according to the present invention, it is possible to store a plurality of wafers and other flat plate-like members with a minimum space with simple equipment, and a conventional cassette. Compared with a batch-type transport / storage form using the above, the plate-like member can be carried in and out more easily.

この際に、搬入口からケーシングの内部に平板状部材を導入する手段や、支持部材間から上記平板状部材を搬出口側に送る手段としては、各種形態の搬送手段を用いることが可能であるが、例えば請求項2に記載の発明のような平板状部材の搬送装置が好適に用いられる。この搬送装置によれば、平板状部材の両端をローラによって支持しつつ支持部材間に搬送できるとともに、浮上ユニットによって非接触により平板状部材の裏面側を支持することにより、平板状部材の裏面側に搬送痕が付くことを防止しつつ、搬送中の撓みも防ぐことができる。   At this time, various forms of conveying means can be used as means for introducing the flat plate member into the casing from the carry-in port and for sending the flat plate member between the support members to the carry-out side. However, for example, a plate-like member conveying apparatus such as that described in claim 2 is preferably used. According to this transport device, the both ends of the flat plate member can be transported between the support members while being supported by the rollers, and the back surface side of the flat plate member is supported by the floating unit in a non-contact manner. It is also possible to prevent bending during conveyance while preventing the conveyance traces from being attached to the surface.

また、上記支持装置の支持部材を上記ローラ間に配置しているので、両者の干渉も防ぐことができ、かつローラの下方に支持部材を位置させておくことにより、容易に支持部材によって平板状部材の両端部を掬い上げて上昇させることが可能となる。   Further, since the support member of the support device is disposed between the rollers, interference between the two can be prevented, and the support member is positioned below the roller, so that the support member can easily form a flat plate shape. It becomes possible to scoop and raise both ends of the member.

さらに、上記平板状部材が、上記ウエハ等である場合には、搬送中および保管中にその表裏面に水分が吸着すると、自然酸化膜成長を促進したり、その内部に金属や有機物が溶け込んで新たな汚染源となり得る。また特に、水分が付着した表面にプロセスチャンバ内において腐食性ガスが接触すると、水分層にガス分子が溶け込み、活性なイオンとなって金属表面を腐食することも知られている。   Further, when the flat plate member is the wafer or the like, when moisture is adsorbed on the front and back surfaces during transportation and storage, the growth of a natural oxide film is promoted, or the metal or organic matter is dissolved therein. It can be a new source of contamination. In particular, it is also known that when a corrosive gas comes into contact with moisture on the surface in the process chamber, gas molecules dissolve into the moisture layer and become active ions to corrode the metal surface.

また、上記圧縮空気中に含まれる微細な有機物等の汚染物質が、上記ウエハ等に付着すると、後工程において金属膜を形成した際に、絶縁抵抗が得られなくなったり、あるいは当該金属膜の剥離を招くおそれがある。
これらの弊害は、近年における上記半導体用ウエハや平板ディスプレイ用ガラス基板の大型化および細密化に伴って顕著になってきている。
In addition, when contaminants such as fine organic substances contained in the compressed air adhere to the wafer or the like, when a metal film is formed in a subsequent process, insulation resistance cannot be obtained or the metal film is peeled off. May be incurred.
These adverse effects have become remarkable with the recent increase in size and size of the semiconductor wafer and flat display glass substrate.

この点、請求項3に記載の発明によれば、上記搬送装置と支持部材とを内包する第2のケーシングを設け、この第2のケーシングに、超低露点空気を充満させるとともに、浮上ユニットにおける平板状部材の浮上用気体として上記超低露点空気を供給しているので、搬送中および保管中に、上記平板状部材に有害となる水分や有機物等の汚染物質が付着するおそれがなく、よって平板状部材の製造歩留まりや品質の向上を図ることができる。   In this regard, according to the third aspect of the present invention, the second casing that encloses the transport device and the support member is provided, and the second casing is filled with the ultra-low dew point air, and in the levitation unit. Since the ultra-low dew point air is supplied as a levitation gas for the flat plate member, there is no possibility that contaminants such as moisture and organic matter which are harmful to the flat plate member are attached during transportation and storage. The production yield and quality of the flat plate member can be improved.

図1〜図3は、本発明に係る枚葉式ストッカーを、上記ウエハ等3を保管するストッカーに適用した一実施形態を示すもので、図中符号10が外ケーシングである。
この外ケーシング10の下部両端には、搬入口11および搬出口12が形成されるとともに、内部には、第1の支持装置13a、13bと、第2の支持装置14a、14bとが設置されている。
1 to 3 show an embodiment in which a single-wafer stocker according to the present invention is applied to a stocker for storing the wafer 3 or the like. Reference numeral 10 in the figure denotes an outer casing.
A carry-in port 11 and a carry-out port 12 are formed at both lower ends of the outer casing 10, and first support devices 13a and 13b and second support devices 14a and 14b are installed therein. Yes.

これら第1の支持装置13a、13bは、上記ウエハ等3の搬送方向に向けて順次配設されたもので、それぞれ上記搬送方向の両側の上部に対向配置された一対のスプロケット(回転部材)15a、15bと、これらの下方に対向配置された一対のスプロケット(回転部材)16a、16bとを有しており、これら上下のスプロケット15a、16a間およびスプロケット15b、16b間には、チェーン(無端部材)17a、17bが架け渡されている。   The first support devices 13a and 13b are sequentially arranged in the transfer direction of the wafer 3 and the like, and a pair of sprockets (rotating members) 15a arranged opposite to the upper portions on both sides in the transfer direction. , 15b and a pair of sprockets (rotating members) 16a, 16b arranged opposite to each other, and between these upper and lower sprockets 15a, 16a and between the sprockets 15b, 16b, a chain (endless member) ) 17a and 17b are bridged.

そして、搬送方向の両側に対向するチェーン17a、17b間には、それぞれ全周にわたって等間隔に多数本の支持棒(支持部材)18a、18bが上記移送方向を横切るように水平に架設されている。ここで、第1の支持装置13a、13bは、互いに隣接する側の支持棒18a、18b間の距離が、想定される最大長さのウエハ等3の移送方向の長さ寸法よりも幾分短くなるように間隔をおいて設置されている。そして、各々の第1の支持装置13a、13bを囲むようにして、第2の支持装置14a、14bが配設されている。   A large number of support rods (support members) 18a, 18b are installed horizontally between the chains 17a, 17b facing both sides in the transport direction at equal intervals over the entire circumference so as to cross the transfer direction. . Here, in the first support devices 13a and 13b, the distance between the support rods 18a and 18b adjacent to each other is somewhat shorter than the length dimension in the transfer direction of the assumed maximum length wafer 3 or the like. It is installed at intervals. And the 2nd support apparatus 14a, 14b is arrange | positioned so that each 1st support apparatus 13a, 13b may be enclosed.

これら第2の支持装置14a、14bにおいては、それぞれ上記搬送方向の両側であって、かつ上記スプロケット15a、15bの上方に、これらを間に挟むようにして2組ずつのスプロケット(回転部材)19a〜19dが対向配置されている。他方、上記スプロケット16a、16bの下方であって、かつ2組のスプロケット19a〜19dの直下には、それぞれ2組ずつのスプロケット(回転部材)20a〜20dが設けられている。   In these second support devices 14a and 14b, two sets of sprockets (rotating members) 19a to 19d are provided on both sides in the transport direction and above the sprockets 15a and 15b, respectively, so as to sandwich them. Are arranged opposite to each other. On the other hand, two sets of sprockets (rotating members) 20a to 20d are provided below the sprockets 16a and 16b and directly below the two sets of sprockets 19a to 19d, respectively.

そして、各々の第2の支持装置14a(14b)における上下2組のスプロケット19a(19b)、19c(19d)、20a(20b)、20c(20d)間に、それぞれチェーン(無端部材)21a(21b)が巻回されている。また、搬送方向の両側に対向するチェーン21a、21b間には、それぞれ全周にわたって等間隔に多数本の支持棒(支持部材)22a、22bが上記移送方向を横切るように水平に架設されている。   Then, chains (endless members) 21a (21b) between the upper and lower two sets of sprockets 19a (19b), 19c (19d), 20a (20b), and 20c (20d) in each second support device 14a (14b). ) Is wound. In addition, a large number of support rods (support members) 22a and 22b are installed horizontally between the chains 21a and 21b facing both sides in the transport direction at equal intervals over the entire circumference so as to cross the transfer direction. .

これら第2の支持装置14a、14bは、互いに隣接する側の支持棒22a、22b間の距離が、想定される最小長さのウエハ等3の移送方向の長さ寸法よりも幾分短くなるように、間隔をおいて設置されている。
また、後述する搬送装置の高さ位置に、第1の支持装置13a、13bおよび第2の支持装置14a、14bにおける支持棒18a、18b、22a、22bの高さを検出するためのセンサー(図示せず)が設けられている。
These second support devices 14a and 14b are such that the distance between the support rods 22a and 22b on the adjacent sides is somewhat shorter than the length dimension in the transfer direction of the assumed minimum length of the wafer 3 or the like. Are installed at intervals.
Further, a sensor for detecting the height of the support rods 18a, 18b, 22a, 22b in the first support devices 13a, 13b and the second support devices 14a, 14b at the height position of the transfer device described later (FIG. Not shown).

そして、第1の支持装置13a、13aおよび第2の支持装置14a、14bには、それぞれ上記センサーと連動して、スプロケット(15a、16a)、(15b、16b)、(19a、19c、20a、20c)、(19b、19d、20b、20d)を同期的に回転駆動するための図示されないサーボモータ(駆動手段)が設けられている。   The first support devices 13a, 13a and the second support devices 14a, 14b are linked to the sensors, respectively, and sprockets (15a, 16a), (15b, 16b), (19a, 19c, 20a, 20c), (19b, 19d, 20b, 20d) are provided with servo motors (drive means) (not shown) for synchronously driving the rotation.

ここで、このサーボモータは、第1の支持装置13a、13aについては、スプロケット15a、16aとスプロケット15b、16bとを同期的かつ逆方向に回転させるように制御されている。また、同様に上記サーボモータは、第2の支持装置14a、14bについては、スプロケット19a、19c、20a、20cと、スプロケット19b、19d、20b、20dとを同期的かつ逆方向に回転させるように制御されている。   Here, the servo motor is controlled so that the first support devices 13a and 13a rotate the sprockets 15a and 16a and the sprockets 15b and 16b synchronously and in the opposite directions. Similarly, for the second support devices 14a and 14b, the servo motor rotates the sprockets 19a, 19c, 20a and 20c and the sprockets 19b, 19d, 20b and 20d synchronously and in the reverse direction. It is controlled.

そしてさらに、外ケーシング10の内部には、第1の支持装置13a、13bの上下のスプロケット15a、16a、15b、16b間において、第1の支持装置13a、13bの隣接する支持棒18a、18bおよび第2の支持装置14a、14bの隣接する支持棒22a、22bのみを内包する内ケーシング(第2のケーシング)25が設けられている。そして、この内ケーシング25の側面および上面には、これら支持棒18a、18b、22a、22bの貫通を許容するスリット26が形成されている。   Further, in the outer casing 10, between the upper and lower sprockets 15a, 16a, 15b, 16b of the first support devices 13a, 13b, the support rods 18a, 18b adjacent to the first support devices 13a, 13b and An inner casing (second casing) 25 that includes only the supporting rods 22a and 22b adjacent to the second supporting devices 14a and 14b is provided. A slit 26 that allows the support rods 18a, 18b, 22a, and 22b to pass therethrough is formed on the side surface and the upper surface of the inner casing 25.

また、この内ケーシング25内には、内部を分子状汚染物質が10ppb以下に除去された大気圧露点−100℃以下のクリーンドライエア(超低露点空気)によって充満させる超低露点空気の供給管(第1のクリーンドライエアの供給管、図示を略す。)が接続されている。
他方、内ケーシング25の下部には、前工程の装置等から搬入口11に導入され、第1および第2の支持装置13a、13b、14a、14bの下部を通じて搬出口12から次工程の装置等に至るウエハ等3の搬送装置30が連続的に設けられている。
In addition, in the inner casing 25, an ultra-low dew point air supply pipe is filled with clean dry air (ultra low dew point air) having an atmospheric pressure dew point of −100 ° C. or less from which molecular contaminants are removed to 10 ppb or less. A first clean dry air supply pipe (not shown) is connected.
On the other hand, the lower part of the inner casing 25 is introduced into the carry-in port 11 from the device in the previous process and the like, and the device in the next process from the carry-out port 12 through the lower portions of the first and second support devices 13a, 13b, 14a, 14b. 3 is continuously provided.

この搬送装置30は、天井および両側面が閉じられた搬送路ケーシング31内に、ウエハ等3の両端部を支持しつつ搬出口12側へと搬送するローラコンベア32と、このローラコンベア32のガイド付き搬送ローラ32a間の所定間隔をおいた2箇所に、ウエハ等3を裏面側から非接触で支持する浮上ユニット33とが設けられることにより概略構成されている。   The transport device 30 includes a roller conveyor 32 that transports the wafer 3 and the like 3 to the carry-out port 12 side in a transport path casing 31 that is closed on the ceiling and both sides, and a guide for the roller conveyor 32. A floating unit 33 that supports the wafer 3 or the like 3 in a non-contact manner from the back surface side is provided at two locations with a predetermined interval between the attached conveying rollers 32a.

ここで、各浮上ユニット33は、図3に示すように、平面視長方形の金属製の筐体からなるチャンバー34の上面に、多孔質セラミック板35が取り付けられるとともに、チャンバー34の下面に、上記超低露点空気の供給管(第2のクリーンドライエアの供給管)36が接続されたものである。そして、独立した複数の浮上ユニット33が、搬送ローラ32aと並行に2列を形成するように配置されている。   Here, as shown in FIG. 3, each floating unit 33 has a porous ceramic plate 35 attached to the upper surface of a chamber 34 made of a metal casing having a rectangular shape in plan view, and the lower surface of the chamber 34 has the above-mentioned An ultra-low dew point air supply pipe (second clean dry air supply pipe) 36 is connected. A plurality of independent levitation units 33 are arranged so as to form two rows in parallel with the transport roller 32a.

さらに、搬送ローラ32aと浮上ユニット33との間および浮上ユニット33間には、それぞれ上記搬送方向に帯板状に延在して搬送路ケーシング31の下面を構成するとともに、超低露点空気による浮上効果を向上させるための塞ぎ部材37が介装されている。なお、ローラコンベア32の駆動源となるモータは、搬送路ケーシング31の外部に設けられている。   Furthermore, between the conveyance roller 32a and the levitation unit 33 and between the levitation units 33, each extends in the form of a strip in the conveyance direction to form the lower surface of the conveyance path casing 31 and float by ultra-low dew point air. A blocking member 37 for improving the effect is interposed. A motor that is a driving source of the roller conveyor 32 is provided outside the conveyance path casing 31.

以上の構成からなる枚葉式ストッカーにおいては、上記超低露点空気の供給管から供給される超低露点空気によって内ケーシング25内に超低露点空気を連続的に導入することにより、内ケーシング25および搬送路ケーシング31内を超低露点空気の雰囲気下に保持する。この状態で、超低露点空気の供給管36から浮上ユニット33に供給される超低露点空気によって、ウエハ等3との間に0.1〜0.2mmの空気膜を形成することにより、当該ウエハ等3を裏面側から非接触で支持しつつ、ローラコンベア32によって前工程の装置等からウエハ等3を内ケーシング25内に搬入する。   In the single wafer stocker having the above-described configuration, the inner casing 25 is continuously introduced by introducing the ultra-low dew point air into the inner casing 25 by the ultra-low dew point air supplied from the ultra-low dew point air supply pipe. In addition, the inside of the conveyance path casing 31 is held in an atmosphere of ultra-low dew point air. In this state, by forming an air film of 0.1 to 0.2 mm between the wafer 3 and the like by the ultra-low dew point air supplied from the ultra-low dew point air supply pipe 36 to the levitation unit 33, While supporting the wafer 3 or the like 3 from the back surface side in a non-contact manner, the wafer or the like 3 is carried into the inner casing 25 by the roller conveyor 32 from the apparatus or the like of the previous process.

この際に、高さ検出センサーからの検出信号に基づいて、サーボモータを駆動し、スプロケット15a、16a、15b、16b、19a〜d、20a〜dを回転させることにより、それぞれの支持棒18a、22aを、搬送装置30の搬送ローラ32a上面よりも、幾分下方に位置させておく。   At this time, based on the detection signal from the height detection sensor, the servomotor is driven to rotate the sprockets 15a, 16a, 15b, 16b, 19a to d, and 20a to d, thereby supporting the support rods 18a, 22a is positioned somewhat below the upper surface of the conveying roller 32a of the conveying device 30.

次いで、ウエハ等3の搬送方向両端部が、第1の支持装置13a、13bの隣接する支持棒18a、18b上に位置した際に、ローラコンベア32による搬送を停止し、サーボモータを作動させて、支持棒18a、18b、22a、22bの移動速度が一定になるようにスプロケット15a、16a、15b、16b、19a〜d、20a〜dを同期的に回転させる。   Next, when both ends of the wafer 3 or the like in the conveyance direction are positioned on the adjacent support bars 18a and 18b of the first support devices 13a and 13b, the conveyance by the roller conveyor 32 is stopped and the servo motor is operated. The sprockets 15a, 16a, 15b, 16b, 19a to d and 20a to d are rotated synchronously so that the moving speeds of the support rods 18a, 18b, 22a and 22b are constant.

この時に、図1中左方の第1および第2の支持装置13a、14aについては、スプロケット15a、16a、19a、19c、20a、20cを反時計回り方向に回転させ、同図中右方の第1および第2の支持装置13b、14bについては、スプロケット15b、16b、19b、19d、20b、20dを時計回り方向に回転させる。すると、ウエハ等3は、合計4本の支持棒18a、18b、22a、22bによって裏面側から掬い上げられて上昇する。   At this time, for the first and second support devices 13a, 14a on the left in FIG. 1, the sprockets 15a, 16a, 19a, 19c, 20a, 20c are rotated counterclockwise, For the first and second support devices 13b and 14b, the sprockets 15b, 16b, 19b, 19d, 20b, and 20d are rotated in the clockwise direction. Then, the wafer 3 is lifted up from the back side by the total of four support rods 18a, 18b, 22a, and 22b and then lifted.

次いで、上下方向の支持棒18a、18b、22a、22bの1ピッチ分を上昇させた後に、一旦サーボモータを停止させるとともに、ローラコンベア32を作動させて、同様に下方の支持棒18a、18b、22a、22b間に次のウエハ等3を位置させる。
そして、以上の工程を繰り返すことにより、内ケーシング25内の上方に向けて複数枚のウエハ等3を支持棒18a、18b、22a、22b間に一枚ずつ収納し、保管する。
Next, after raising one pitch of the support rods 18a, 18b, 22a, 22b in the vertical direction, the servo motor is once stopped and the roller conveyor 32 is operated, and the lower support rods 18a, 18b, The next wafer 3 or the like is positioned between 22a and 22b.
Then, by repeating the above steps, a plurality of wafers 3 and the like 3 are stored and supported one by one between the support rods 18a, 18b, 22a, and 22b upward in the inner casing 25.

このようにして、上記枚葉式ストッカーに格納たウエハ等3を搬出する際には、上記サーボモータによって、スプロケットを上述した上昇工程とは反対の方向、すなわち図1中左方の第1および第2の支持装置13a、14aについては、スプロケット15a、16a、19a、19c、20a、20cを時計回り方向に回転させ、同図中右方の第1および第2の支持装置13b、14bについては、スプロケット15b、16b、19b、19d、20b、20dを反時計回り方向に回転させる。   Thus, when unloading the wafer 3 or the like stored in the single wafer stocker, the servo motor causes the sprocket to move in the direction opposite to the above-described ascending step, that is, the first and the left in FIG. As for the second support devices 13a and 14a, the sprockets 15a, 16a, 19a, 19c, 20a and 20c are rotated in the clockwise direction, and the first and second support devices 13b and 14b on the right side in FIG. The sprockets 15b, 16b, 19b, 19d, 20b, and 20d are rotated counterclockwise.

これにより、ウエハ等3を支持している支持棒18a、18b、22a、22bが降下する。そこで、最下方のウエハ等3を搬送装置30の搬送ローラ32a上に載置して、搬出口12側へと搬出することを順次繰り返すことにより、当該枚葉ストッカーに格納してある複数枚のウエハ等3を、搬送装置25によって後工程の装置等へと搬送して行くことができる。   As a result, the support bars 18a, 18b, 22a, 22b supporting the wafer 3 are lowered. Therefore, by sequentially repeating the placement of the lowermost wafer 3 or the like 3 on the transfer roller 32a of the transfer apparatus 30 and the transfer to the carry-out port 12 side, a plurality of sheets stored in the single wafer stocker are stored. The wafer 3 or the like 3 can be transferred to a subsequent process apparatus or the like by the transfer device 25.

このように、上記枚葉式ストッカーによれば、簡易な設備によって、複数枚のウエハ等3を、一枚毎に最小限のスペースで保管することができるとともに、従来のカセットを用いたバッチ式の搬送・保管形態と比較して、当該ウエハ等3の搬入出も一層容易となる。   Thus, according to the single wafer stocker, a plurality of wafers 3 and the like 3 can be stored in a minimum space for each piece with simple equipment, and a batch type using a conventional cassette. Compared with the transfer / storage mode, it becomes easier to carry in and out the wafer 3 and the like.

加えて、外ケーシング10内に、搬送装置30との取り合い部分と、隣接してウエハ等3を支持している支持棒18a、18b、22a、22bとを内包する内ケーシング25を設け、この内ケーシング25に、超低露点空気を充満させるとともに、浮上ユニット33におけるウエハ等3の浮上用気体として上記超低露点空気を供給しているので、搬送中および保管中に、ウエハ等3に有害となる水分や有機物等の汚染物質が付着するおそれがなく、よってウエハ等3の製造歩留まりや品質の向上を図ることもできる。   In addition, the outer casing 10 is provided with an inner casing 25 that includes a portion to be engaged with the transfer device 30 and support rods 18a, 18b, 22a, and 22b that support the wafer 3 and the like adjacent thereto. The casing 25 is filled with ultra-low dew point air, and the above-mentioned ultra-low dew point air is supplied as a floating gas for the wafer 3 etc. in the levitation unit 33, which is harmful to the wafer etc. 3 during transportation and storage. Therefore, there is no risk of adhering contaminants such as moisture and organic matter, so that the production yield and quality of the wafer 3 can be improved.

なお、上記実施の形態においては、本発明をウエハ等3の保管に用いる枚葉式ストッカーに適用した場合に付いてのみ説明したが、これに限定されるものではなく、本発明は、各種の平板状部材の保管に適用することが可能である。
また、スプロケットに無端部材としてチェーン17a、17b、21a、21bを架け渡した場合について説明したが、上記チェーンに代えて、ワイヤやベルト等を用いることもできる。
In the above embodiment, the present invention has been described only when applied to a single wafer stocker used for storing wafers 3 and the like. However, the present invention is not limited to this. It is possible to apply to storage of a flat member.
Moreover, although the case where the chain 17a, 17b, 21a, 21b was spanned over the sprocket as an endless member was described, it replaces with the said chain and a wire, a belt, etc. can also be used.

さらに、上記実施の形態においては、搬入口11および搬出口12をケーシングの下部に設け、一旦格納したウエハ等3を取り出す場合には、上記サーボモータによって、スプロケットを上述した上昇工程とは反対の方向に回転させて、支持棒18a、18b、22a、22bが降下させることにより、下方のウエハ等3から順次搬出口に送るようにしたが、これに限るものではなく、搬入口11を下部に設けるとともに、搬出口12を上部に設け、支持棒間に格納してあるウエハ等3を搬出する際に、上述した上昇工程を繰り返して、上方のウエハ等3から順次プッシャ等を用いて搬出口12に払い出すようにすることも可能である。   Further, in the above embodiment, when the carry-in port 11 and the carry-out port 12 are provided in the lower part of the casing and the wafer 3 or the like once stored is taken out, the above-described lifting process of the sprocket is reversed by the servo motor. The support rods 18a, 18b, 22a, and 22b are moved downward in order to be sequentially sent from the lower wafers 3 to the carry-out port. However, the present invention is not limited to this. In addition to providing the carry-out port 12 at the top, when carrying out the wafer 3 stored between the support rods, the above-described ascending process is repeated to sequentially carry out the carry-out port from the upper wafer etc. 3 using a pusher or the like. It is also possible to pay out to 12.

本発明に係る枚葉式ストッカーの一実施形態を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows one Embodiment of the single wafer type stocker concerning this invention. 図1の平面図である。It is a top view of FIG. 図1の搬送装置の横断面図である。It is a cross-sectional view of the conveying apparatus of FIG. 従来のウエハ等の搬送に用いられているカセットを示す正面図である。It is a front view which shows the cassette currently used for conveyance of the conventional wafer etc.

符号の説明Explanation of symbols

10 外ケーシング(ケーシング)
11 搬入口
12 搬出口
13a、13b 第1の支持装置
14a、14b 第2の支持装置
15a、15b、16a、16b、19a、19b、19c、19d、20a、20b、20c、20d スプロケット(回転部材)
17a、17b、21a、21b チェーン(無端部材)
18a、18b、22a、22b 支持棒(支持部材)
25 内ケーシング(第2のケーシング)
30 搬送装置
32 ローラコンベア
32a 搬送ローラ
33 浮上ユニット
36 超低露点空気の供給管(第2のクリーンドライエアの供給管)
10 Outer casing (casing)
11 carry-in port 12 carry-out port 13a, 13b first support device 14a, 14b second support device 15a, 15b, 16a, 16b, 19a, 19b, 19c, 19d, 20a, 20b, 20c, 20d sprocket (rotating member)
17a, 17b, 21a, 21b Chain (endless member)
18a, 18b, 22a, 22b Support rod (support member)
25 Inner casing (second casing)
30 Conveying Device 32 Roller Conveyor 32a Conveying Roller 33 Floating Unit 36 Ultra Low Dew Point Air Supply Pipe (Second Clean Dry Air Supply Pipe)

Claims (3)

平板状部材の搬入口と搬出口とが設けられたケーシング内に、上記平板状部材の移送方向の両側の上下部にそれぞれ配設された回転部材と、これら回転部材間に架け渡された無端部材と、両側の上記無端部材間の複数箇所において、上記移送方向を横切るように水平に架設された複数の支持部材とからなる少なくとも2組の支持装置を、互いの上記移送方向に隣接する上記支持部材によって上記平板状部材の移送方向両端部を支持するように間隔をおいて設置し、これら支持装置の上記回転部材を逆方向に同期回転させる駆動手段を設けることにより、上記支持部材によって支持した上記平板状部材を昇降させるようにしたことを特徴とする枚葉式ストッカー。   Rotating members respectively disposed on the upper and lower sides on both sides of the plate-shaped member in the transfer direction in the casing provided with the plate-like member carrying-in port and carrying-out port, and endlessly spanned between these rotating members At least two sets of support devices each including a member and a plurality of support members laid horizontally so as to cross the transfer direction at a plurality of locations between the endless members on both sides are adjacent to each other in the transfer direction. The supporting member is supported by the supporting member by providing a driving means for rotating the rotating member of the supporting device in the reverse direction by installing the supporting member at intervals so as to support both ends in the transport direction of the flat plate member. A single wafer stocker characterized in that the flat plate-like member is moved up and down. 上記ケーシングの下部には、上記搬入口から搬出口に向けて上記平板状部材の両側部を支持しつつ搬送するローラと、上記平板状部材の裏面側に上記ローラと並列的に配設され、噴出する気体によって上記平板状部材を浮上させる浮上ユニットとを備えた平板状部材の搬送装置が設けられ、上記支持装置の上記無端部材および支持部材が上記ローラ間に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の枚葉式ストッカー。   In the lower part of the casing, a roller that conveys while supporting both sides of the flat plate member from the carry-in port toward the carry-out port, and a roller arranged in parallel with the back surface side of the flat plate member, A flat plate member conveying device including a floating unit that levitates the flat plate member with a jetting gas is provided, and the endless member and the support member of the support device are disposed between the rollers. The single wafer stocker according to claim 1. 上記ケーシング内には、上記搬送装置と上記隣接する支持部材とを内包する第2のケーシングが設けられ、当該第2のケーシングには、内部を分子状汚染物質が10ppb以下に除去された大気圧露点−100℃以下のクリーンドライエアによって充満させる第1のクリーンドライエアの供給管と、上記浮上ユニットに、上記平板状部材の浮上用気体として上記クリーンドライエアを供給する第2のクリーンドライエアの供給管とが設けられていることを特徴とする請求項2に記載の枚葉式ストッカー。   The casing is provided with a second casing that encloses the transport device and the adjacent support member, and the second casing has an atmospheric pressure in which molecular contaminants are removed to 10 ppb or less. A first clean dry air supply pipe to be filled with clean dry air having a dew point of −100 ° C. or less; a second clean dry air supply pipe for supplying the clean dry air to the floating unit as a floating gas for the flat plate member; The single-wafer type stocker according to claim 2, wherein:
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102011078614A1 (en) 2011-07-04 2013-01-10 Siltronic Ag Apparatus and method for temporarily storing a plurality of disk-shaped workpieces
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