[go: up one dir, main page]

JP2006012971A - Device for peeling masking tape - Google Patents

Device for peeling masking tape Download PDF

Info

Publication number
JP2006012971A
JP2006012971A JP2004185001A JP2004185001A JP2006012971A JP 2006012971 A JP2006012971 A JP 2006012971A JP 2004185001 A JP2004185001 A JP 2004185001A JP 2004185001 A JP2004185001 A JP 2004185001A JP 2006012971 A JP2006012971 A JP 2006012971A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tape
wafer
peeling
protective tape
protective
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004185001A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Iwasaka
斉 岩坂
Yoshimasa Kanamaru
佳正 金丸
Satoshi Iwasaka
聡 岩坂
Terunobu Kuji
照信 久慈
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
APOLLO ELECTRONICS CO Ltd
Harmotec Corp
Original Assignee
APOLLO ELECTRONICS CO Ltd
Harmotec Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by APOLLO ELECTRONICS CO Ltd, Harmotec Corp filed Critical APOLLO ELECTRONICS CO Ltd
Priority to JP2004185001A priority Critical patent/JP2006012971A/en
Publication of JP2006012971A publication Critical patent/JP2006012971A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent breakage of a wafer caused by the peeling force when a masking tape is peeled from the wafer, in such a similar way whereby the peeling may be carried out with human fingers. <P>SOLUTION: A release tape T and a masking tape P in an adhesion state are folded up and turn up in a position A1 so that they are set in a state of sticking to the wafer W side. Namely, the inside of the release tape T, the portion located in the downstream (transport direction downstream of the release tape T) near the masking tape P and the pasted-up portion turns up to the surface side of the wafer W so that the turned up portion is pressed against so as to stick closely to the wear surface side. Moreover, in the above state, the masking tape P is peeled as it turns up from the wafer W in the position A1. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

この発明は、半導体ウェハ(以下ウェハと略称する)の表面を保護するために、その表面に貼着された保護テープを、剥離テープを利用して剥ぎ取る保護テープ剥離装置及び方法に関する。   The present invention relates to a protective tape peeling apparatus and method for peeling off a protective tape attached to a surface of a semiconductor wafer (hereinafter abbreviated as a wafer) by using the peeling tape.

一般に、パターン形成処理の済んだウェハの裏面を研磨(バックグラインド)する際には、予めウェハ表面に保護テープを貼り付ける。保護テープを貼り付ける際は、ウェハより幅広の保護テープをウェハ表面に貼り付けた後、ウェハ外周からはみ出している部分をウェハ外周縁に沿って切り抜取るようにする。表面全体が保護テープで保護されたウェハは、その表面側から吸盤で吸着保持して研磨処理が行われるようになっている。その後、不要になった保護テープは、ウェハ表面から剥ぎ取られることになる。   In general, when polishing the back surface of a wafer that has undergone pattern formation processing (back grinding), a protective tape is applied to the wafer surface in advance. When affixing the protective tape, a protective tape wider than the wafer is affixed to the wafer surface, and then a portion protruding from the outer periphery of the wafer is cut out along the outer peripheral edge of the wafer. A wafer whose entire surface is protected by a protective tape is subjected to a polishing process by sucking and holding it from the surface side with a suction cup. Thereafter, the protective tape that is no longer needed is peeled off from the wafer surface.

この保護テープを剥ぎ取る方法としては、剥離テープを利用する方法がある。この方法は、ウェハの表面に貼り付けられている保護テープの上に、強い粘着力を有する剥離テープを貼り付け、ウェハ上を転動しながら移動する剥離ローラによって剥離テープを巻き取ることにより、保護テープをウェハから剥ぎ取るものである。   As a method for peeling off the protective tape, there is a method using a peeling tape. In this method, a peeling tape having a strong adhesive force is stuck on the protective tape stuck on the surface of the wafer, and the peeling tape is wound up by a peeling roller that moves while rolling on the wafer. The protective tape is peeled off from the wafer.

しかしながら、剥離テープが剥離ローラによって略垂直方向に巻き取られるため、ウェハの表面と保護テープとの剥離点における剥離力は、ウェハに対して略直交する方向に作用することになる。このため、薄くて脆弱なウェハには、剥離力が直接作用し、折損が発生する虞がある。   However, since the peeling tape is wound up in a substantially vertical direction by the peeling roller, the peeling force at the peeling point between the wafer surface and the protective tape acts in a direction substantially perpendicular to the wafer. For this reason, there is a possibility that the peeling force acts directly on the thin and fragile wafer and breakage occurs.

そこで、この問題を解消したものとして、特許文献1に開示された保護テープ剥離装置がある。この保護テープ剥離装置は、図13に示すように、支持台101に支持されたウェハWの表面に貼着された保護テープPの上に剥離テープTを貼り付け、この剥離テープTの表面にエッジ部材100を接触させながら保護テープPに沿って走行させ、エッジ部材100の先端部で剥離テープTを90°以上の大きい角度で折り返して剥離させることで、保護テープPを剥離テープTと一体にウェハ表面から剥ぎ取るものである。このように、エッジ部材100の先端部で剥離テープTに傾斜角θを持たせて折り返し、このエッジ部材100を利用して保護テープPをウェハWから剥ぎ取るようになっているため、ウェハWの表面と保護テープとの剥離点における剥離力がこの傾斜角θ方向に傾き、ウェハWの破損防止を図るようにしている。   Therefore, there is a protective tape peeling device disclosed in Patent Document 1 as a solution to this problem. As shown in FIG. 13, this protective tape peeling apparatus affixes a release tape T on a protective tape P attached to the surface of a wafer W supported by a support base 101, and applies it to the surface of the release tape T. The protective tape P is integrated with the release tape T by running along the protective tape P while the edge member 100 is in contact, and peeling off the release tape T at a large angle of 90 ° or more at the tip of the edge member 100. It is peeled off from the wafer surface. As described above, since the peeling tape T is folded at the front end portion of the edge member 100 with an inclination angle θ and the protective tape P is peeled off from the wafer W using the edge member 100, the wafer W The peeling force at the peeling point between the surface of the wafer and the protective tape is inclined in the direction of the inclination angle θ to prevent damage to the wafer W.

ところが、前述した保護テープ剥離装置では、エッジ部材100の先端が先鋭なエッジで形成されているため、剥離テープTにより保護テープPを剥離する際に、ウェハWの表面を傷つける可能性がある。
さらに、剥離力が傾斜角θ方向に傾けられることにより、ウェハに対して略直交する方向に作用する剥離力は低減されるものの、完全には無くならないでの、ウェハWの破損防止を確実に行うことができない。
特開2002−124494号公報
However, in the above-described protective tape peeling apparatus, since the tip of the edge member 100 is formed with a sharp edge, the surface of the wafer W may be damaged when the protective tape P is peeled off by the peeling tape T.
Further, the peeling force is tilted in the direction of the inclination angle θ, so that the peeling force acting in a direction substantially orthogonal to the wafer is reduced, but the wafer W is surely prevented from being damaged without completely disappearing. I can't do it.
JP 2002-124494 A

本発明は、上記問題に鑑みてなされたもので、ウェハに損傷を与えることなく表面に貼着された保護テープを確実に剥ぎ取ることができる保護テープ剥離装置及びテープ剥離方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and provides a protective tape peeling apparatus and a tape peeling method capable of reliably peeling off a protective tape adhered to a surface without damaging a wafer. Objective.

前述した課題を解決するために、本発明が提供する保護テープ剥離装置は、ウェハの表面に貼着された保護テープを剥離テープに貼り付け、前記剥離テープを引っ張ることにより、前記保護テープを前記ウェハから剥ぎ取る保護テープ剥離装置において、前記剥離テープが巻回され、前記剥離テープを送り出す送出ドラムと、前記送出ドラムから送り出された剥離テープを下流側で巻き取る巻取ドラムと、前記送出ドラムと前記巻取ドラムの間のテープ搬送路に位置し、前記剥離テープを前記保護テープに貼り付ける貼付手段と、前記剥離テープのうち、前記保護テープと接着している部分の近傍で下流側に位置する部分を、前記ウェハの表面側に折り返し、折り返された部分が前記ウエア表面側に密着するように、前記剥離テープを前記ウェハ側に押圧する押圧手段と、前記貼付手段による接着位置を順次ずらせてゆくとともに、前記巻取ドラムを回転させて前記剥離テープを下流側へ引っ張る移動剥離手段とを具備することを特徴としている。   In order to solve the above-described problems, the protective tape peeling apparatus provided by the present invention is configured to attach the protective tape attached to the surface of a wafer to the peeling tape, and pull the peeling tape to attach the protective tape. In a protective tape peeling apparatus for peeling off from a wafer, the release tape is wound and a delivery drum that feeds the release tape, a take-up drum that winds the release tape sent from the delivery drum downstream, and the delivery drum And a sticking means for attaching the release tape to the protective tape, and in the vicinity of the portion of the release tape that is bonded to the protective tape, on the downstream side The part to be positioned is folded back to the surface side of the wafer, and the peeling tape is attached to the wafer surface so that the folded part is in close contact with the wear surface side. A pressing means for pressing to the C side, and a moving peeling means for sequentially shifting the bonding position by the sticking means and rotating the winding drum to pull the peeling tape to the downstream side. .

上記構成において、前記移動剥離手段は、前記ウェハを移動させることにより前記接着位置をずらせてゆくウェハ移動手段を有することが望ましい。   In the above-described configuration, it is preferable that the moving peeling unit includes a wafer moving unit that shifts the bonding position by moving the wafer.

上記構成において、前記押圧手段は、予め定められた軌道に沿って移動する複数のローラから構成されていることが望ましい。   The said structure WHEREIN: It is desirable for the said press means to be comprised from the some roller which moves along a predetermined track | orbit.

本発明は、ウェハに損傷を与えることなく表面に貼着された保護テープを確実に剥ぎ取ることができる。   The present invention can reliably peel off the protective tape adhered to the surface without damaging the wafer.

以下、本発明における実施形態について図面を参照して説明する。
<実施形態>
本発明の実施形態に係る保護テープ剥離装置10について、図1乃至図11を参照しつつ説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
<Embodiment>
A protective tape peeling apparatus 10 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 11.

(1)保護テープ剥離装置10の構成
図1は本実施形態による保護テープ剥離装置10の概略図、図2は保護テープ剥離装置10の機能ブロック図を示している。この保護テープ剥離装置10は、ウェハ搬送ユニット20及びテープ剥離ユニット30を具備しており、このユニット20,30は、図示しない同一の基台にそれぞれ備えられている。この保護テープ剥離装置10は、ウェハWの表面に貼着された保護テープPを剥離テープTにより剥ぎ取る装置である。
(1) Configuration of Protective Tape Peeling Device 10 FIG. 1 is a schematic diagram of a protective tape peeling device 10 according to this embodiment, and FIG. 2 is a functional block diagram of the protective tape peeling device 10. The protective tape peeling apparatus 10 includes a wafer transfer unit 20 and a tape peeling unit 30. The units 20 and 30 are provided on the same base (not shown). The protective tape peeling device 10 is a device that peels off the protective tape P attached to the surface of the wafer W with the peeling tape T.

(1−1)ウェハ搬送ユニット20
ウェハ搬送ユニット20は、ウェハWを吸着する移動ステージ21と、基台に固定され、この移動ステージ21を図面水平方向に移動させる移動アクチュエータ25及び移動機構26とを有する。移動ステージ21には、ウェハWが載置される凹部21Aと、この凹部21Aの底部に穿設された複数個の吸引孔21B,21B,…とが形成されている。吸引孔21Bには、途中に電磁弁22Bが接続された配管22Aを介して吸引ポンプ22に接続されている。電磁弁22Bはコントローラ50からの信号を受けて吸気/停止/排気に切り換えられる3位置からなる。そして、凹部21AにウェハWを載置された状態で、コントローラ50からの制御信号を受けて吸引ポンプ22が起動され、電磁弁22Bを吸気位置にすることにより、この吸引孔21Bの開口部側に吸引力が発生し、この吸引力を受けたウェハWが移動ステージ21に固定される。
(1-1) Wafer transfer unit 20
The wafer transfer unit 20 includes a moving stage 21 that attracts the wafer W, and a moving actuator 25 and a moving mechanism 26 that are fixed to the base and move the moving stage 21 in the horizontal direction of the drawing. The moving stage 21 is formed with a recess 21A on which the wafer W is placed and a plurality of suction holes 21B, 21B,... Drilled in the bottom of the recess 21A. The suction hole 21B is connected to the suction pump 22 via a pipe 22A to which an electromagnetic valve 22B is connected midway. The electromagnetic valve 22B has three positions which are switched to intake / stop / exhaust in response to a signal from the controller 50. Then, the suction pump 22 is activated in response to a control signal from the controller 50 in a state where the wafer W is placed in the recess 21A, and the electromagnetic valve 22B is set to the intake position, whereby the suction hole 21B is opened. At this time, a suction force is generated, and the wafer W receiving this suction force is fixed to the moving stage 21.

また、移動アクチュエータ25には、配管(図示せず)を介して圧気源(例えば、エアポンプ)が接続され、配管の途中には電磁切換弁が設けられている。この電磁切換弁はコントローラ50からの信号を受けて移動アクチュエータ25へのエアの供給/停止を行う。移動アクチュエータ25は、その可変部が移動機構26を介して移動ステージ21に連結されており、可変部の移動に伴って移動ステージ21を矢示a方向に往復動させる。これにより、移動ステージ21上のウェハWがテープ剥離ユニット30に対し矢示a方向に移動することになる。   Further, a pressure air source (for example, an air pump) is connected to the moving actuator 25 via a pipe (not shown), and an electromagnetic switching valve is provided in the middle of the pipe. This electromagnetic switching valve receives a signal from the controller 50 and supplies / stops air to the moving actuator 25. The moving actuator 25 has a variable portion connected to the moving stage 21 via a moving mechanism 26, and reciprocates the moving stage 21 in the direction of arrow a as the variable portion moves. As a result, the wafer W on the moving stage 21 moves in the direction indicated by the arrow a with respect to the tape peeling unit 30.

(1−2)保護テープ剥離ユニット30
保護テープ剥離ユニット30は、剥離テープTの一方が巻回された供給ドラム31と、剥離テープTの他方が巻き取られる巻取ドラム32とを備えている。巻取ドラム32の軸は巻取アクチュエータ32A(モータ)の軸に連結されている。巻取アクチュエータ32Aの軸は、モータによって回転し、この回転は巻取ドラム32を矢示b´方向に回動させ、剥離テープTを巻き取るようになる。
剥離テープTは、供給ドラム31側から順に配設された送出ローラ41,42、貼付ローラ43、巻上ドラム51、テープ保持ローラ52および送受ローラ53によって所定位置で折り返しながら案内されて巻取ドラム32に到達する。これらのローラ41〜43,52,53は、軸に対して回転自在に取り付けられている。巻上ドラム51は図示しない巻上アクチュエータ51Aによって剥離テープTの巻き上げ/送り出しが行われるようになっている。
また、テープ保持ローラ52は、エアによって駆動される揺動アクチュエータ52Bによってアーム52Aを介して矢示g方向に揺動される。テープ保持ローラ52は、半時計方向に揺動された場合には巻上ドラム51との間に剥離テープTを挟んで保持することになる。
(1-2) Protection tape peeling unit 30
The protective tape peeling unit 30 includes a supply drum 31 around which one side of the peeling tape T is wound, and a winding drum 32 around which the other side of the peeling tape T is wound. The shaft of the winding drum 32 is connected to the shaft of the winding actuator 32A (motor). The shaft of the take-up actuator 32A is rotated by a motor, and this rotation turns the take-up drum 32 in the direction indicated by the arrow b 'and winds the peeling tape T.
The peeling tape T is guided while being folded back at a predetermined position by sending rollers 41 and 42, a sticking roller 43, a winding drum 51, a tape holding roller 52, and a sending and receiving roller 53 arranged in this order from the supply drum 31 side. 32 is reached. These rollers 41 to 43, 52, and 53 are rotatably attached to the shaft. The hoisting drum 51 is configured such that the peeling tape T is wound / delivered by a hoisting actuator 51A (not shown).
The tape holding roller 52 is swung in the direction indicated by an arrow g via the arm 52A by a swing actuator 52B driven by air. When the tape holding roller 52 is swung counterclockwise, the tape holding roller 52 holds the peeling tape T between the winding drum 51 and the tape holding roller 52.

また、送出ローラ41,42の間にはテンショナーローラ44が配置されている。このテンショナーローラ44は、送出ローラ41の軸を回動中心として矢示c方向に揺動するアーム44Aの先端に回転自在に取り付けられている。テンショナーローラ44は、エアによって駆動される揺動アクチュエータ44Bによってアーム44Aを介して揺動されて剥離テープTに押し付けられる。揺動アクチュエータ44Bは、時計方向に回動するときにのみ作動し、半時計方向には図示しないスプリングにより所定の付勢力を発生させている。これにより、アーム44Aが半時計方向に回動した場合には、テンショナーローラ44が所定の付勢力でテープTに対して張力を発生させることになる。   A tensioner roller 44 is disposed between the delivery rollers 41 and 42. The tensioner roller 44 is rotatably attached to the tip end of an arm 44A that swings in the direction indicated by the arrow c with the axis of the delivery roller 41 as the center of rotation. The tensioner roller 44 is oscillated through the arm 44A by the oscillating actuator 44B driven by air and pressed against the peeling tape T. The swing actuator 44B operates only when it rotates in the clockwise direction, and generates a predetermined biasing force by a spring (not shown) in the counterclockwise direction. Thereby, when the arm 44A rotates counterclockwise, the tensioner roller 44 generates tension on the tape T with a predetermined urging force.

貼付ローラ43は往復動アクチュエータ43Aによって矢示d方向に略直線的に移動させられるもので、後述する部分貼着行程時に剥離テープTをウェハW側に押し付けることにより、剥離テープTを保護テープPに貼り付ける。また、貼付ローラ43には角調ローラ45が配置され、このローラ45は、貼付ローラ43の軸を回動中心として矢示e方向に揺動するアーム45Aの先端に回転自在に取り付けられている。アーム45Aは、エアによって駆動される揺動アクチュエータ45Bによって揺動され、剥離テープTにより保護テープPを剥ぎ取る際の開き角度(折曲部の開き角度)を調整するものである。
押圧ローラ46は、往復動アクチュエータ46Aによって矢示f方向に移動させられるもので、後述する折曲部形成工程及び保護テープ剥ぎ取り行程時に剥離テープTをウェハW側に押し付ける。
The sticking roller 43 is moved substantially linearly in the direction indicated by the arrow d by the reciprocating actuator 43A. By pressing the peeling tape T against the wafer W during the partial sticking process described later, the peeling tape T is attached to the protective tape P. Paste to. In addition, an angular roller 45 is disposed on the sticking roller 43, and this roller 45 is rotatably attached to the tip of an arm 45A that swings in the direction indicated by the arrow e about the axis of the sticking roller 43 as a rotation center. . The arm 45 </ b> A is swung by a swing actuator 45 </ b> B driven by air, and adjusts an opening angle (opening angle of the bent portion) when the protective tape P is peeled off by the peeling tape T.
The pressing roller 46 is moved in the direction indicated by the arrow f by the reciprocating actuator 46A, and presses the peeling tape T against the wafer W during the bending portion forming process and the protective tape peeling process described later.

保護テープ剥離装置10には、吸引ポンプ22、移動アクチュエータ25、アクチュエータ32A,43A,44B,45B,46Aを制御するためのコントローラ50が設けられている。このコントローラ50は、各種センサ54からの信号を受けてアクチュエータをそれぞれ駆動するための制御信号を出力する。コントローラ50は、CPU、ROM(Read Only Memory)及びRAM(Random Access Memory)(いずれも図示せず)を具備しており、CPUはROMから読出した制御プログラムを実行することにより、後述する処理を行う。RAMは、CPUが各種制御プログラムを実行する際のワークエリアとして用いられる。また、コントローラ50は、電気的な制御信号を出力するため、アクチュエータとエアポンプ(吸引ポンプ)とを接続する配管の途中に設けられた電磁切換弁を電気制御することによって、アクチュエータの動作を制御するようになっている。   The protective tape peeling apparatus 10 is provided with a controller 50 for controlling the suction pump 22, the moving actuator 25, and the actuators 32A, 43A, 44B, 45B, and 46A. The controller 50 receives signals from various sensors 54 and outputs control signals for driving the actuators. The controller 50 includes a CPU, a ROM (Read Only Memory), and a RAM (Random Access Memory) (all of which are not shown). The CPU executes a control program read from the ROM, thereby performing processing to be described later. Do. The RAM is used as a work area when the CPU executes various control programs. Further, the controller 50 controls the operation of the actuator by electrically controlling an electromagnetic switching valve provided in the middle of a pipe connecting the actuator and the air pump (suction pump) in order to output an electrical control signal. It is like that.

(2)保護テープ剥離装置10の動作
次に、図3〜図10を参照しつつ、保護テープ剥離装置10による保護テープPの剥離動作について説明する。なお、図3〜図10では、便宜上ウェハ搬送ユニット20の図示は省略し、ウェハWのみを図示している。図3〜図9は、各行程におけるローラ等の状態を示した図であり、図10は剥離テープTに折曲部Bを形成してから剥離テープTにより保護テープPを剥ぎ取る状態を拡大して示した図である。また、ウェハWの矢示a方向への位置を規定するために、貼付ローラ43をウェハW側に降ろした線を位置A0とし、押圧ローラ46をウェハW側に降ろした線を位置A1とする。
(2) Operation of Protective Tape Peeling Device 10 Next, the peeling operation of the protective tape P by the protective tape peeling device 10 will be described with reference to FIGS. 3 to 10, the illustration of the wafer transfer unit 20 is omitted for the sake of convenience, and only the wafer W is illustrated. 3 to 9 are views showing the state of the roller and the like in each process, and FIG. 10 is an enlarged view of the state in which the protective tape P is peeled off by the peeling tape T after the bent portion B is formed on the peeling tape T. FIG. Further, in order to define the position of the wafer W in the direction of arrow a, a line where the sticking roller 43 is lowered to the wafer W side is a position A0, and a line where the pressing roller 46 is lowered to the wafer W side is a position A1. .

(a)ウェハ固定工程
図3は、ウェハ搬送装置(図示せず)で搬送されたウェハWを移動ステージ21に吸着固定する工程を示している。この工程では、剥離テープTは、図示の如く、送出ローラ41,42、貼付ローラ43、巻上ドラム51、テープ保持ローラ52および送受ローラ53により引き回されている。この状態では、ウェハWの保護テープPには、剥離テープTは貼り付けられていない。この工程において、ウェハWの一端が位置A0に位置する。
(A) Wafer Fixing Step FIG. 3 shows a step of sucking and fixing the wafer W transferred by a wafer transfer device (not shown) to the moving stage 21. In this step, the peeling tape T is drawn around by sending rollers 41 and 42, a sticking roller 43, a winding drum 51, a tape holding roller 52, and a sending and receiving roller 53 as shown in the figure. In this state, the peeling tape T is not attached to the protective tape P of the wafer W. In this step, one end of the wafer W is positioned at the position A0.

(b)部分貼付行程
図4及び図5は、ウェハWの一端側に剥離テープTを部分貼付する行程を示している。この行程では、図4に示すように、コントローラ50は、往復動アクチュエータ43Aを駆動させて貼付ローラ43を矢示d方向の下側に移動させる。これにより、貼付ローラ43は、剥離テープTをウェハW側に押し付けられることになる。この際、巻上ドラム51を送り出し状態にすることにより、剥離テープTが若干引き戻される。
図5及び図10(a)に示すように、貼付ローラ43をウェハWに押し付けた状態のまま、移動ステージ21を矢示a方向に位置A1までウェハWを若干移動させる。ウェハWの移動に伴い、位置A0からA1に移動した部分の保護テープPがウェハWに貼着したまま剥離テープTに貼り付けられる。
(B) Partial pasting process FIGS. 4 and 5 show a process of partially pasting the peeling tape T on one end side of the wafer W. FIG. In this process, as shown in FIG. 4, the controller 50 drives the reciprocating actuator 43A to move the sticking roller 43 downward in the direction indicated by the arrow d. Thereby, the sticking roller 43 presses the peeling tape T against the wafer W side. At this time, the peeling tape T is slightly pulled back by bringing the hoisting drum 51 into a delivery state.
As shown in FIGS. 5 and 10A, the wafer W is slightly moved to the position A <b> 1 in the direction indicated by the arrow a while the sticking roller 43 is pressed against the wafer W. As the wafer W moves, the portion of the protective tape P that has moved from the position A0 to A1 is attached to the peeling tape T while attached to the wafer W.

(c)折曲部形成行程
図6は、剥離テープTに折曲部Bを形成する行程を示している。この行程では、コントローラ50は、往復動アクチュエータ43Aを駆動させて貼付ローラ43を矢示d方向の上側に移動させると共に、往復動アクチュエータ46Aを駆動させて押圧ローラ46を矢示f方向の下側に移動させる。これにより、貼付ローラ43による剥離テープTのウェハW側への押し付けを解除し、押圧ローラ46で剥離テープTの折り返し部分を上側から押し付けて折曲部Bを形成する(図10(b)、参照)。さらに、コントローラ50は、揺動アクチュエータ45Bを駆動させてアーム45Aを矢示eの時計方向に回動させて角調ローラ45が剥離テープTを案内する。図6の場合には、剥離テープTが保護テープPに貼着されている部分と貼着されていない部分とを合わせるようになるため、折曲部Bの開き角度は殆ど零度となる。
(C) Bent Part Forming Process FIG. 6 shows a process of forming the bent part B in the peeling tape T. In this process, the controller 50 drives the reciprocating actuator 43A to move the sticking roller 43 to the upper side in the direction indicated by the arrow d, and drives the reciprocating actuator 46A to move the pressing roller 46 to the lower side in the direction indicated by the arrow f. Move to. Thereby, the pressing of the peeling tape T to the wafer W side by the sticking roller 43 is released, and the folded portion B of the peeling tape T is pressed from the upper side by the pressing roller 46 to form a bent portion B (FIG. 10B). reference). Further, the controller 50 drives the swing actuator 45B to rotate the arm 45A in the clockwise direction indicated by the arrow e, so that the angle adjusting roller 45 guides the peeling tape T. In the case of FIG. 6, since the part where the peeling tape T is stuck to the protective tape P and the part which is not stuck are matched, the opening angle of the bent part B is almost zero.

(d)保護テープ剥ぎ取り行程
図7は、剥離テープTによる保護テープを剥ぎ取る行程を示している。この行程では、コントローラ50は、ウェハWの他端が位置A1になるところまで移動ステージ21を移動させると共に、巻上アクチュエータ51Aにより巻上ドラム51を回転させて剥離テープTを巻き上げる。この際、移動ステージ21による移動速度と巻上ドラム51による剥離テープTの巻上速度とを同じ速度にする。これにより、図10(c)〜図10(e)に示すように、接着状態にある剥離テープTと保護テープPは、位置A1において折り畳まれるようにして折り返し、ウェハW側で密着する。
剥離テープTのうち、保護テープPが接着している部分の近傍で下流側(剥離テープTの搬送方向下流側)に位置する部分が、ウェハWの表面側に折り返えされ、この折り返された部分がウエア表面側に密着するように押圧ローラ46により押圧されている。そして、上記の状態においては、保護テープPが位置A1においてウェハWから折り返されるように剥離されてゆく。
(D) Process of Stripping Protective Tape FIG. 7 shows a process of stripping off the protective tape using the release tape T. In this process, the controller 50 moves the moving stage 21 until the other end of the wafer W reaches the position A1, and rotates the winding drum 51 by the winding actuator 51A to wind up the peeling tape T. At this time, the moving speed by the moving stage 21 and the winding speed of the peeling tape T by the winding drum 51 are set to the same speed. As a result, as shown in FIGS. 10C to 10E, the peelable tape T and the protective tape P in the bonded state are folded back so as to be folded at the position A1, and are in close contact with each other on the wafer W side.
Of the peeling tape T, a portion located on the downstream side (downstream in the conveyance direction of the peeling tape T) in the vicinity of the portion to which the protective tape P is bonded is folded back to the front surface side of the wafer W and folded. The pressed portion 46 is pressed by the pressing roller 46 so as to be in close contact with the wear surface side. In the above state, the protective tape P is peeled off so as to be folded from the wafer W at the position A1.

そして、図7に示すように、移動ステージ21の移動によりウェハWの他端が位置A1に至ると、ウェハWに貼着された保護テープPは剥離テープTによって完全に剥がされる。
さらに、コントローラ50は、保護テープ剥離工程の途中段階で、テンショナーローラ44を矢示cの半時計方向に付勢力させることにより、剥離テープTに張力を発生させている。
Then, as shown in FIG. 7, when the other end of the wafer W reaches the position A <b> 1 by the movement of the moving stage 21, the protective tape P adhered to the wafer W is completely peeled off by the peeling tape T.
Further, the controller 50 generates tension on the peeling tape T by energizing the tensioner roller 44 in the counterclockwise direction indicated by arrow c in the middle of the protective tape peeling process.

この処理動作は、図11に示すように、人が指で保護テープPを剥がすときと同様に、押圧ローラ46を指のように機能させることができる。図11のイメージは、指Fが、保護テープPに貼り付けた剥離テープTを折り曲げ、この折曲部をウェハW側に押し付けつつ平面方向にスライドさせて剥離テープTを剥ぎ取っていく。これにより、剥離力はほぼウェハWの平面方向に作用してウェハWの破損を防止しつつ保護テープを剥離テープに貼り付け、保護テープTをウェハWから確実に剥ぎ取る。そして、本実施形態においては、図11に示す剥離工程と同様の原理により、ウェハWに加わる剥離力はウェハWの平面に略平行な方向に作用することになり、ウェハWを破損することなく保護テープPを確実に剥ぎ取ることが可能となる。
また、折り返し後の剥離テープTの角度は、押圧ローラ46の半径Rに依存している。即ち、図13に示すように、折り返し後の剥離テープTは、円周上の各点において押圧ローラ46(半径R)の接線方向(折曲部Bの開き角度θ1,θ2)に引っ張られることになる。これにより、従来、保護テープをウェハから剥ぎ取るときに発生していたウェハに鉛直方向に働く剥離力を低減でき、ウェハWの破損を防止しつつ保護テープPをウェハWから剥ぎ取ることができる。
In this processing operation, as shown in FIG. 11, the pressing roller 46 can function like a finger in the same manner as when a person peels off the protective tape P with a finger. In the image of FIG. 11, the finger F folds the peeling tape T attached to the protective tape P, and slides the peeling tape T by sliding it in the plane direction while pressing the bent portion against the wafer W side. As a result, the peeling force acts substantially in the plane direction of the wafer W to prevent the wafer W from being damaged, and the protective tape is applied to the peeling tape, and the protective tape T is surely peeled off from the wafer W. In the present embodiment, the peeling force applied to the wafer W acts in a direction substantially parallel to the plane of the wafer W based on the same principle as the peeling step shown in FIG. The protective tape P can be reliably peeled off.
In addition, the angle of the peeling tape T after being folded depends on the radius R of the pressing roller 46. That is, as shown in FIG. 13, the peeled tape T after being folded back is pulled in the tangential direction of the pressing roller 46 (radius R) (open angles θ1, θ2 of the bent portion B) at each point on the circumference. become. Accordingly, it is possible to reduce the peeling force acting on the wafer in the vertical direction, which has conventionally occurred when the protective tape is peeled off from the wafer, and the protective tape P can be peeled off from the wafer W while preventing the wafer W from being damaged. .

(e)剥離テープ準備行程
図8及び図9は、剥離テープ準備工程を示している。この工程では、保護テープPが剥ぎ取られたウェハWをウェハ搬送装置で搬送すると共に、コントローラ50は、巻取ドラム32による剥離テープTの巻き取りを続行させたまま、往復動アクチュエータ46Aを駆動させて押圧ローラ46を矢示f方向の上側に移動させ、揺動アクチュエータ44Bを駆動させて角調ローラ45を矢示eの半時計方向に移動させる。これにより、図8に示すように、押圧ローラ46とウェハWとの間に挟まれた折曲部Bが解放されて、折曲部B付近の剥離テープTがテンショナーローラ44によって予め加えられた張力により引っ張られ、送出ローラ41,42間に位置した剥離テープTがテンショナーローラ44の付勢力に抗して「へ」の字状に折れ曲がり、貼付ローラ43に剥離テープTが掛けられる。テンショナーローラ44が、剥離テープTが張ったことを検知するまで、巻上ドラム51で剥離テープTを巻き上げ、検知されたらテンショナーローラ44を矢示cの時計方向に回動させて元の位置に戻す。
このように、保護テープ剥離装置10は、以上の処理を順次繰り返すことにより、ウェハWに貼着された保護テープPを剥離テープTに貼り付けて、保護テープPをウェハWから剥ぎ取るようになる。
(E) Release tape preparation process FIG.8 and FIG.9 has shown the release tape preparation process. In this step, the wafer W from which the protective tape P has been peeled is transferred by the wafer transfer device, and the controller 50 drives the reciprocating actuator 46A while continuing to wind the release tape T by the take-up drum 32. Then, the pressing roller 46 is moved upward in the direction indicated by the arrow f, and the swing actuator 44B is driven to move the angle adjusting roller 45 in the counterclockwise direction indicated by the arrow e. As a result, as shown in FIG. 8, the bent portion B sandwiched between the pressing roller 46 and the wafer W is released, and the release tape T near the bent portion B is applied in advance by the tensioner roller 44. The peeling tape T, which is pulled by the tension and is positioned between the delivery rollers 41 and 42, is bent into a “he” shape against the urging force of the tensioner roller 44, and the peeling tape T is applied to the sticking roller 43. Until the tensioner roller 44 detects that the peeling tape T has been stretched, the winding tape 51 is wound up by the hoisting drum 51. When the tensioner roller 44 is detected, the tensioner roller 44 is rotated in the clockwise direction indicated by the arrow c to the original position. return.
As described above, the protective tape peeling apparatus 10 applies the protective tape P attached to the wafer W to the peeling tape T by sequentially repeating the above processing, and peels the protective tape P from the wafer W. Become.

(3)実施形態の効果
本実施形態による保護テープ剥離装置10では、剥離テープTに折曲部Bを形成した上で、押圧ローラ46によりこの折曲部BをウェハW側に押し付けた状態で、巻上ドラム51及び移動ステージ21を同一速度で動作させるようになっている。これにより、移動する剥離テープTに対して折曲部Bは押圧ローラ46とウェハWとの間(位置A1)に停まり、この移動する折曲部Bを起点として保護テープPをウェハWから剥ぎ取ることになる。この際、ウェハWは押圧ローラ46に上側から押さえ付けられ、折曲部Bに位置した剥離テープTをウェハW表面の保護テープPに密着させているため、保護テープPの剥離時に発生する剥離力は、剥離テープTが引っ張られる方向(ウェハWの略水平方向)に作用することになる。これにより、保護テープPの剥離時に発生する可能性のあったウェハWの破損を確実に防止することができる。
(3) Effects of the Embodiment In the protective tape peeling apparatus 10 according to the present embodiment, the bent portion B is formed on the peeling tape T, and then the bent portion B is pressed against the wafer W by the pressing roller 46. The hoisting drum 51 and the moving stage 21 are operated at the same speed. As a result, the bent portion B stops between the pressing roller 46 and the wafer W (position A1) with respect to the moving peeling tape T, and the protective tape P is removed from the wafer W with the moving bent portion B as a starting point. It will be stripped off. At this time, the wafer W is pressed against the pressing roller 46 from above, and the peeling tape T positioned at the bent portion B is brought into close contact with the protective tape P on the surface of the wafer W. The force acts in the direction in which the peeling tape T is pulled (substantially horizontal direction of the wafer W). As a result, it is possible to reliably prevent damage to the wafer W that may occur when the protective tape P is peeled off.

しかも、本実施形態では、部分貼着工程にて保護テープPの一部に剥離テープTを予め貼着しておくだけで、その後の保護テープ剥ぎ取り行程にて保護テープPが位置A1においてウェハWから折り返されるように剥離されてゆくようになっているのに対し、従来技術では、予めウェハWの表面に剥離テープを貼り付けた上で、保護テープPを剥ぎ取っていた。このため、本実施形態では、従来技術に比べて、大幅な作業工数削減を図ることができる。   Moreover, in this embodiment, the protective tape P is simply attached to a part of the protective tape P in the partial attaching step in advance, and the protective tape P is moved to the wafer at the position A1 in the subsequent protective tape peeling process. In contrast to being peeled off from W, in the prior art, the protective tape P is peeled off after a release tape is previously applied to the surface of the wafer W. For this reason, in this embodiment, compared with a prior art, the working man-hour can be reduced significantly.

(4)変形例
前記実施形態では、各アクチュエータをエアの供給によって駆動する構成としたが、電動アクチュエータによって構成してもよいことは勿論である。
(4) Modified Example In the above embodiment, each actuator is driven by supplying air. However, it is needless to say that the actuator may be configured by an electric actuator.

また、前記実施形態では、テープ剥離ユニット30に対してウェハ搬送ユニット20が移動する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、逆にウェハ搬送ユニット20に対してテープ剥離ユニット30が移動してもよい。要するに、相対移動するような構成であればよい。   In the above embodiment, the case where the wafer transport unit 20 moves relative to the tape transport unit 30 has been described. However, the present invention is not limited to this, and conversely, the tape transport unit 30 moves relative to the wafer transport unit 20. May be. In short, any configuration that allows relative movement is acceptable.

さらに、前記実施形態では、保護テープPの一部に剥離テープTを予め貼着した上で、剥離テープTを巻き上げるとことにより、位置A1において保護テープPがウェハWから折り返されるように剥離されてゆくようになっていたが、折り返される部分で貼着テープTに保護テープPを順次貼り付けて剥離するようにしてもよい。   Further, in the above-described embodiment, the protective tape P is peeled off from the wafer W at the position A1 by preliminarily attaching the release tape T to a part of the protective tape P and then winding up the release tape T. However, the protective tape P may be sequentially attached to the adhesive tape T and peeled off at the folded portion.

さらにまた、押圧ローラ46は、ウェハWの厚さ寸法・強度、剥離テープTの粘着力・弾性力・保護テープPの厚さ、粘着力等をパラメータとして、その押圧力を調整するようにしてもよい。   Furthermore, the pressing roller 46 adjusts the pressing force by using the thickness dimension / strength of the wafer W, the adhesive force / elastic force of the peeling tape T, the thickness of the protective tape P, the adhesive force, etc. as parameters. Also good.

本発明の実施形態にかかる保護テープ剥離装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the protective tape peeling apparatus concerning embodiment of this invention. 同装置の機能ブロックを示す図である。It is a figure which shows the functional block of the apparatus. 同装置によるウェハ固定工程を示す図である。It is a figure which shows the wafer fixing process by the same apparatus. 同装置による部分貼付行程を示す図である。It is a figure which shows the partial sticking process by the apparatus. 図5に続く部分貼付行程を示す図である。It is a figure which shows the partial sticking process following FIG. 同装置による折曲部形成行程を示す図である。It is a figure which shows the bending part formation process by the apparatus. 同装置による保護テープ剥ぎ取り行程を示す図である。It is a figure which shows the protective tape peeling process by the apparatus. 同装置による剥離テープ準備工程を示す図である。It is a figure which shows the peeling tape preparation process by the apparatus. 図8に続く剥離テープ準備工程を示す図である。It is a figure which shows the peeling tape preparation process following FIG. 折曲部形成行程及び保護テープ剥ぎ取り行程の詳細を示す拡大図である。It is an enlarged view which shows the detail of a bending part formation process and a protective tape stripping process. 本発明の保護テープ剥離装置による動作をイメージした図である。It is the figure which imaged the operation | movement by the protective tape peeling apparatus of this invention. 本発明による保護テープをウェハから剥ぎ取る部分を拡大して示した図である。It is the figure which expanded and showed the part which peels off the protection tape by this invention from a wafer. 従来技術の保護テープ剥離装置による保護テープの剥ぎ取り動作を示した図である。It is the figure which showed the peeling operation | movement of the protective tape by the protective tape peeling apparatus of a prior art.

符号の説明Explanation of symbols

10…保護テープ剥離装置、
20…ウェハ搬送ユニット、
21…移動ステージ
30…テープ剥離ユニット、
31…供給ドラム、
32…巻取ドラム、
43…貼付ローラ、
44…テンショナーローラ、
45…角調ローラ、
46…押圧ローラ、
51…巻上ドラム
W…ウェハ、
T…剥離テープ、
P…保護テープ。

10 ... protective tape peeling device,
20 ... Wafer transfer unit,
21 ... Moving stage 30 ... Tape peeling unit,
31 ... Supply drum,
32 ... take-up drum,
43 ... Affixing roller,
44 ... Tensioner roller,
45 ... Ring tone roller,
46 ... Pressing roller,
51 ... Hoisting drum W ... Wafer,
T ... release tape,
P: protective tape.

Claims (3)

ウェハの表面に貼着された保護テープを剥離テープに貼り付け、前記剥離テープを引っ張ることにより、前記保護テープを前記ウェハから剥ぎ取る保護テープ剥離装置において、
前記剥離テープが巻回され、前記剥離テープを送り出す送出ドラムと、
前記送出ドラムから送り出された剥離テープを下流側で巻き取る巻取ドラムと、
前記送出ドラムと前記巻取ドラムの間のテープ搬送路に位置し、前記剥離テープを前記保護テープに貼り付ける貼付手段と、
前記剥離テープのうち、前記保護テープと接着している部分の近傍で下流側に位置する部分を、前記ウェハの表面側に折り返し、折り返された部分が前記ウエア表面側に密着するように、前記剥離テープを前記ウェハ側に押圧する押圧手段と、
前記貼付手段による接着位置を順次ずらせてゆくとともに、前記巻取ドラムを回転させて前記剥離テープを下流側へ引っ張る移動剥離手段と
を具備することを特徴とする保護テープ剥離装置。
In the protective tape peeling apparatus that peels off the protective tape from the wafer by applying the protective tape attached to the surface of the wafer to the peeling tape and pulling the peeling tape.
A feeding drum around which the release tape is wound and delivering the release tape;
A take-up drum for winding the release tape sent from the feed drum on the downstream side;
An affixing means located in a tape transport path between the delivery drum and the take-up drum, and affixing the release tape to the protective tape;
Of the peeling tape, the portion located downstream in the vicinity of the portion that is bonded to the protective tape is folded back to the surface side of the wafer, and the folded portion is in close contact with the wear surface side. Pressing means for pressing the release tape toward the wafer;
A protective tape peeling apparatus comprising: a moving peeling means that sequentially shifts the bonding position by the sticking means and rotates the winding drum to pull the peeling tape downstream.
前記移動剥離手段は、前記ウェハを移動させることにより前記接着位置をずらせてゆくウェハ移動手段を有することを特徴とする請求項1記載の保護テープ剥離装置。   2. The protective tape peeling apparatus according to claim 1, wherein the moving peeling means has a wafer moving means for shifting the bonding position by moving the wafer. 前記押圧手段は、予め定められた軌道に沿って移動する複数のローラから構成されていることを特徴とする請求項1または2記載の保護テープ剥離装置。

The protective tape peeling apparatus according to claim 1 or 2, wherein the pressing means includes a plurality of rollers that move along a predetermined track.

JP2004185001A 2004-06-23 2004-06-23 Device for peeling masking tape Pending JP2006012971A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004185001A JP2006012971A (en) 2004-06-23 2004-06-23 Device for peeling masking tape

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004185001A JP2006012971A (en) 2004-06-23 2004-06-23 Device for peeling masking tape

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006012971A true JP2006012971A (en) 2006-01-12

Family

ID=35779867

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004185001A Pending JP2006012971A (en) 2004-06-23 2004-06-23 Device for peeling masking tape

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006012971A (en)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009060039A (en) * 2007-09-03 2009-03-19 Hitachi Setsubi Eng Co Ltd Method of sticking adhesive tape for peeling protection sheet of plate-like member such as semiconductor wafer and method of peeling protection sheet
JP2009123963A (en) * 2007-11-15 2009-06-04 Lintec Corp Sheet peeling apparatus and peeling method
JP2009277864A (en) * 2008-05-14 2009-11-26 Lintec Corp Sheet peeling device and method of peeling
WO2010026910A1 (en) * 2008-09-04 2010-03-11 リンテック株式会社 Sheet peeling apparatus and sheet peeling method
JP2011233698A (en) * 2010-04-27 2011-11-17 Lintec Corp Sheet peeling apparatus and peeling method
JP2011233697A (en) * 2010-04-27 2011-11-17 Lintec Corp Sheet peeling apparatus and peeling method
JP2015170751A (en) * 2014-03-07 2015-09-28 株式会社ディスコ Protective tape peeling device
JP2021068789A (en) * 2019-10-21 2021-04-30 株式会社東京精密 Sheet peeling device
JP2023073970A (en) * 2021-11-16 2023-05-26 サムス カンパニー リミテッド Film peeling device, delamination module including the same, and semiconductor manufacturing equipment
CN116456884A (en) * 2021-03-29 2023-07-18 株式会社藤仓 Cleaning tool and cleaning method
TWI905372B (en) * 2021-02-04 2025-11-21 韓商韓美半導體有限公司 Apparatus for detaching a masking tape

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009060039A (en) * 2007-09-03 2009-03-19 Hitachi Setsubi Eng Co Ltd Method of sticking adhesive tape for peeling protection sheet of plate-like member such as semiconductor wafer and method of peeling protection sheet
JP2009123963A (en) * 2007-11-15 2009-06-04 Lintec Corp Sheet peeling apparatus and peeling method
JP2009277864A (en) * 2008-05-14 2009-11-26 Lintec Corp Sheet peeling device and method of peeling
US8171977B2 (en) 2008-09-04 2012-05-08 Lintec Corporation Sheet peeling apparatus and peeling method
WO2010026910A1 (en) * 2008-09-04 2010-03-11 リンテック株式会社 Sheet peeling apparatus and sheet peeling method
JP2010062357A (en) * 2008-09-04 2010-03-18 Lintec Corp Sheet peeling device and peeling method
KR20110050658A (en) * 2008-09-04 2011-05-16 린텍 가부시키가이샤 Sheet Peeling Apparatus and Peeling Method
CN102144287A (en) * 2008-09-04 2011-08-03 琳得科株式会社 Sheet peeling apparatus and sheet peeling method
KR101579783B1 (en) * 2008-09-04 2015-12-24 린텍 가부시키가이샤 Sheet peeling apparatus
JP2011233697A (en) * 2010-04-27 2011-11-17 Lintec Corp Sheet peeling apparatus and peeling method
JP2011233698A (en) * 2010-04-27 2011-11-17 Lintec Corp Sheet peeling apparatus and peeling method
JP2015170751A (en) * 2014-03-07 2015-09-28 株式会社ディスコ Protective tape peeling device
JP2021068789A (en) * 2019-10-21 2021-04-30 株式会社東京精密 Sheet peeling device
JP7319889B2 (en) 2019-10-21 2023-08-02 株式会社東京精密 Sheet peeling device
TWI905372B (en) * 2021-02-04 2025-11-21 韓商韓美半導體有限公司 Apparatus for detaching a masking tape
CN116456884A (en) * 2021-03-29 2023-07-18 株式会社藤仓 Cleaning tool and cleaning method
JP2023073970A (en) * 2021-11-16 2023-05-26 サムス カンパニー リミテッド Film peeling device, delamination module including the same, and semiconductor manufacturing equipment

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI446471B (en) Method for adhering adhesive tape to semiconductor wafer, method for peeling protective tape from semiconductor wafer, and device using the same
CN101847571B (en) Protective tape separating method and protective tape separating apparatus using the same
EP1742255B1 (en) Sheet peeling apparatus and peeling method
JP4323443B2 (en) Peeling apparatus and peeling method
JP2006012971A (en) Device for peeling masking tape
JP5465944B2 (en) How to apply protective tape
JP2001233542A (en) Sheet peeling apparatus and method
JP2003124146A (en) Protective sheet peeling method and apparatus
JP2008066684A (en) Device for mounting substrate to dicing frame
JPH10258818A (en) Method and apparatus for sticking label
JP4861949B2 (en) Sheet pasting device
JP4079679B2 (en) Unnecessary semiconductor wafer removal method and apparatus
JP5002547B2 (en) Sheet peeling apparatus and peeling method
JP5390203B2 (en) Labeling device
JP2011233697A (en) Sheet peeling apparatus and peeling method
JP2002222779A (en) Tape sticking device and method therefor
JP5203895B2 (en) Sheet peeling apparatus and peeling method
JP6543118B2 (en) Sheet sticking apparatus and sticking method
JP5827524B2 (en) Sheet sticking device and sheet sticking method
JP4498085B2 (en) Protective tape cutting method and apparatus using the same
JP4822989B2 (en) Substrate bonding method and apparatus using the same
JP7133432B2 (en) Sheet sticking device and sheet sticking method
JP4317122B2 (en) Adhesive film application device
JP7792693B2 (en) Peeling Mechanism
JPH11208986A (en) Protective sheet separating device